JP2023038400A - 精製ガスの製造方法、ドライアイスの製造方法、精製ガスの製造装置およびドライアイスの製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】消費エネルギーを抑制して高濃度の炭酸ガスを含む精製ガスを取り出すことが可能な精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置、ならびに精製ガスからのドライアイスの製造方法およびドライアイスの製造装置を提供すること。【解決手段】炭酸ガスを含む精製ガスの製造方法であって、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、前記中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える精製ガスの製造方法。【選択図】図3
Description
本開示は、精製ガスの製造方法、ドライアイスの製造方法、精製ガスの製造装置およびドライアイスの製造装置に関する。
近年、地球温暖化ガスの削減のために、工場等から排出される排ガス中の炭酸ガス(CO2)を回収し、再利用する方法が検討されている。その中で、ドライアイスは取扱いが簡単な冷却剤であり、食品の低温輸送以外にも多くの分野で幅広く利用されている。一方、回収した炭酸ガスは、例えば、90体積%以上といった高濃度に濃縮することで有効利用することができる。
例えば、特許文献1(特開平5-116927号公報)および特許文献2(特開2010-208891号公報)では、排ガス中の水分を除去後、固化温度まで冷却することで直接炭酸ガスをドライアイス化している。また、特許文献3(特開2011-250759号公報)では、吸着や膜分離によって炭酸ガスを濃縮後、固化温度まで冷却することでドライアイス化しており、特許文献4(特開2004-085099号公報)では、温度圧力スイング吸着によって炭酸ガスを濃縮後、液化することで炭酸ガスをドライアイス化している。
特許文献1~3では、固化温度まで冷却することで直接炭酸ガスをドライアイス化している。しかし、低濃度の炭酸ガスを直接固化させる場合、回収できる炭酸ガスの量に対し、原料となる排ガスが多量に必要となるため、大きな設備が必要となる。また、多量の排ガスから少量のドライアイスしか製造することができず、エネルギー効率もよくない。
また、特許文献4では、温度スイング吸着と圧力スイング吸着を組み合わせ温度圧力スイング吸着によって炭酸ガスを濃縮している。温度スイング吸着では、加温再生および冷却の工程が必要となり、熱のやり取りに時間を要し、吸着塔の切り替え周期が長くなるため、1塔あたりのガス処理量が増え、吸着塔が圧力スイング吸着に比べて大きくなる。さらに、加温には熱源が必要となるため、熱を供給する電気ヒータ等の機器を備えなければならず、熱源に要するエネルギーが大きくなる。一方、圧力スイング吸着では、炭酸ガスの回収前に吸着剤を充填した吸着塔内に製品炭酸ガスを流すことで、吸着塔内の空隙中に存在する不純物を取り除くパージ工程が必要となる。このパージ工程では、パージガス用のブロワが必要となるため大きな設備が必要となる。また、ブロワを設置することで設備電力が増大するため、エネルギー効率もよくない。
本開示の目的は、消費エネルギーを抑制して高濃度の炭酸ガスを含む精製ガスを取り出すことが可能な精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置、ならびに精製ガスからのドライアイスの製造方法およびドライアイスの製造装置を提供することである。
〔1〕炭酸ガスを含む精製ガスの製造方法であって、
炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、
前記中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える精製ガスの製造方法。
炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、
前記中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える精製ガスの製造方法。
〔2〕前記対象ガス中の炭酸ガスの濃度は、3体積%以上70体積%以下である、〔1〕に記載の精製ガスの製造方法。
〔3〕前記中間ガス中の炭酸ガスの濃度は、50体積%以上80体積%以下である、〔1〕または〔2〕に記載の精製ガスの製造方法。
〔4〕前記精製ガス中の炭酸ガスの濃度は、95体積%以上である、〔1〕から〔3〕のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
〔5〕前記第1濃縮工程および前記第2濃縮工程は、前記第1吸着塔および前記第2吸着塔内の不純物を排出するパージ工程を有しない、〔1〕から〔4〕のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
〔6〕2つ以上の前記第1吸着塔および2つ以上の前記第2吸着塔を用いる、〔1〕から〔5〕のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
〔7〕前記第2濃縮工程は、前記第1濃縮工程よりも高圧で炭酸ガスを濃縮する、〔1〕から〔6〕のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
〔8〕〔1〕から〔7〕のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法により前記精製ガスを得る工程と、
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する液化工程と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得るドライアイス化工程と、を備える、ドライアイスの製造方法。
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する液化工程と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得るドライアイス化工程と、を備える、ドライアイスの製造方法。
〔9〕前記液化工程の前に、前記精製ガス中の水分を除去する除湿工程を備える、〔8〕に記載のドライアイスの製造方法。
〔10〕前記ドライアイス化工程は、ドライアイスを成形する成形工程を備える、〔8〕または〔9〕に記載のドライアイスの製造方法。
〔11〕炭酸ガスを含む精製ガスの製造装置であって、
炭酸ガスを含む対象ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第1吸着塔を含み、前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮装置と、
前記中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔または前記中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる膜分離装置を含み、前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮装置と、を備える精製ガスの製造装置。
炭酸ガスを含む対象ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第1吸着塔を含み、前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮装置と、
前記中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔または前記中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる膜分離装置を含み、前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮装置と、を備える精製ガスの製造装置。
〔12〕2つ以上の前記第1吸着塔および2つ以上の前記第2吸着塔を備える、〔11〕に記載の精製ガスの製造装置。
〔13〕〔11〕または〔12〕に記載の精製ガスの製造装置と、
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する冷凍機と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを生成するドライアイス化装置と、を備える、ドライアイスの製造装置。
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する冷凍機と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを生成するドライアイス化装置と、を備える、ドライアイスの製造装置。
〔14〕液化炭酸ガスを生成する前に水分を除去する除湿部をさらに備える、〔13〕に記載のドライアイスの製造装置。
〔15〕前記ドライアイス化装置は、ドライアイスを成形する成形装置を含む、〔13〕または〔14〕に記載のドライアイスの製造装置。
本開示によれば、消費エネルギーを抑制して高濃度の炭酸ガスを含む精製ガスを取り出すことが可能な精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置、ならびに精製ガスからのドライアイスの製造方法およびドライアイスの製造装置を提供することができる。
以下、本開示の実施形態が説明される。ただし以下の説明は特許請求の範囲を限定するものではない。
<精製ガスの製造方法>
本開示に係る精製ガスの製造方法は、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、
中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える。
本開示に係る精製ガスの製造方法は、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、
中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える。
図1は、本実施形態における精製ガスの製造方法の概略フローチャートである。以下、精製ガスの製造方法の各工程について説明する。なお、本開示では第1濃縮工程と第2濃縮工程の2段階による精製ガスの製造方法を説明しているが、2段階に限定されるものではなく、さらに濃縮工程を備えていてもよい。
(第1濃縮工程)
第1濃縮工程とは、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する工程である。本工程は、(1)吸着工程と、(2)真空排気工程と、(3)復圧工程と、を含む。
第1濃縮工程とは、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する工程である。本工程は、(1)吸着工程と、(2)真空排気工程と、(3)復圧工程と、を含む。
本明細書において「対象ガス」とは、少なくとも炭酸ガスを含むガスを示す。対象ガス中の炭酸ガスの濃度は、3体積%以上70体積%以下であることが好ましく、5体積%以上50体積%以下であることがより好ましく、10体積%以上50体積%以下であることがさらにより好ましい。対象ガスは、炭酸ガスを含む限り、他のガスを含んでもよい。対象ガスとして、例えば、工場や農場等からの排ガスを用いてもよい。対象ガスは、例えば外部から取り入れられ、第1吸着塔へと導入される。なお、対象ガスとして排ガスを用いる場合、排ガス中に含まれる窒素酸化物(NOx)、硫黄酸化物(SOx)等の有害物質は、適切な処理により除去されることが好ましい。
本明細書において「中間ガス」とは、対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高いガスを示す。対象ガス中の炭酸ガスの濃度は、50体積%以上80体積%以下であることが好ましく、60体積%以上80体積%以下であることがより好ましい。中間ガスは、炭酸ガスを含む限り、他のガスを含んでもよい。
(1)吸着工程
本工程は、第1吸着塔に対象ガスを導入し、炭酸ガスを吸着する工程である。第1吸着塔には、対象ガスに含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填される。吸着剤としては、例えば、シリカゲル、活性アルミナ、活性炭、ゼオライト、金属有機構造体(MOF:Metal Organic Framework)、固体アミン等が挙げられる。また、第1吸着塔では、対象ガス中に含まれる水分が吸着されてもよい。複数の吸着剤が組み合わされて第1吸着塔に充填されてもよい。
本工程は、第1吸着塔に対象ガスを導入し、炭酸ガスを吸着する工程である。第1吸着塔には、対象ガスに含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填される。吸着剤としては、例えば、シリカゲル、活性アルミナ、活性炭、ゼオライト、金属有機構造体(MOF:Metal Organic Framework)、固体アミン等が挙げられる。また、第1吸着塔では、対象ガス中に含まれる水分が吸着されてもよい。複数の吸着剤が組み合わされて第1吸着塔に充填されてもよい。
本工程では、2つ以上の第1吸着塔を用いることが好ましい。2つ以上の第1吸着塔を用いることで、連続的に吸着工程が実施される。なお、連続的に吸着工程は実施されないが、本工程は、1つの第1吸着塔のみを用いることでも実施することができる。
本工程は、例えば、5kPaG以上0.1MPaG未満の圧力下で行ってもよい。
(2)真空排気工程
本工程は、吸着工程後のガスを真空ポンプで減圧して中間ガスを回収する工程である。本工程は、負圧まで減圧され、例えば、-60kPaGよりも高真空圧まで減圧してもよい。このように減圧することで、効率的に中間ガスを回収することができる。
本工程は、吸着工程後のガスを真空ポンプで減圧して中間ガスを回収する工程である。本工程は、負圧まで減圧され、例えば、-60kPaGよりも高真空圧まで減圧してもよい。このように減圧することで、効率的に中間ガスを回収することができる。
(3)復圧工程
本工程は、真空排気工程後の第1吸着塔の圧力を戻す工程である。本工程は、例えば、大気圧のガスを導入することで実施される。大気圧のガスとしては、例えば、対象ガス、吸着工程で炭酸ガスを除去した後に第1吸着塔より排出される排出ガス等を用いてもよい。
本工程は、真空排気工程後の第1吸着塔の圧力を戻す工程である。本工程は、例えば、大気圧のガスを導入することで実施される。大気圧のガスとしては、例えば、対象ガス、吸着工程で炭酸ガスを除去した後に第1吸着塔より排出される排出ガス等を用いてもよい。
(4)その他
第1濃縮工程では、第1吸着塔内の炭酸ガス以外の成分を排出するパージ工程を有しないことが好ましい。ここで、「パージ工程」とは、吸着工程と真空排気工程との間で、炭酸ガスを第1吸着塔内に流し、第1吸着塔内の空隙に存在する炭酸ガス以外の成分(窒素ガス等)を取り除く工程である。パージ工程を有する場合、第1吸着塔に炭酸ガス用のブロワが必要になり、設備が大型化し、消費エネルギーが増加する。また、パージ工程を実施しなくても、後述する第2濃縮工程においてさらに炭酸ガスが濃縮されることから、パージ工程を実施しないことで、消費エネルギーを削減することができる。
第1濃縮工程では、第1吸着塔内の炭酸ガス以外の成分を排出するパージ工程を有しないことが好ましい。ここで、「パージ工程」とは、吸着工程と真空排気工程との間で、炭酸ガスを第1吸着塔内に流し、第1吸着塔内の空隙に存在する炭酸ガス以外の成分(窒素ガス等)を取り除く工程である。パージ工程を有する場合、第1吸着塔に炭酸ガス用のブロワが必要になり、設備が大型化し、消費エネルギーが増加する。また、パージ工程を実施しなくても、後述する第2濃縮工程においてさらに炭酸ガスが濃縮されることから、パージ工程を実施しないことで、消費エネルギーを削減することができる。
(第2濃縮工程)
第2濃縮工程とは、炭酸ガスを含む中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する工程である。吸着剤により精製ガスを生成する場合、本工程は、(1)吸着工程と、(2)均圧工程と、(3)大気排気行程と、(4)真空排気工程と、(5)復圧工程と、を含む。また、膜分離により精製ガスを生成する場合、本工程は、分離工程を含む。
第2濃縮工程とは、炭酸ガスを含む中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する工程である。吸着剤により精製ガスを生成する場合、本工程は、(1)吸着工程と、(2)均圧工程と、(3)大気排気行程と、(4)真空排気工程と、(5)復圧工程と、を含む。また、膜分離により精製ガスを生成する場合、本工程は、分離工程を含む。
本明細書において「精製ガス」とは、中間ガスよりも炭酸ガスの濃度の高いガスを示す。対象ガス中の炭酸ガスの濃度は、95体積%以上であることが好ましく、98体積%以上であることがより好ましい。精製ガスは、炭酸ガスを含む限り、他のガスを含んでもよい。
(1)吸着剤による方法
(i)吸着工程
本工程は、中間ガスに含まれる炭酸ガスを吸着する工程である。第2吸着塔には、中間ガス中に含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填される。吸着剤としては、例えば、シリカゲル、活性アルミナ、活性炭、ゼオライト、MOF、固体アミン等が挙げられる。複数の吸着剤が組み合わされて第2吸着塔に充填されてもよい。
(i)吸着工程
本工程は、中間ガスに含まれる炭酸ガスを吸着する工程である。第2吸着塔には、中間ガス中に含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填される。吸着剤としては、例えば、シリカゲル、活性アルミナ、活性炭、ゼオライト、MOF、固体アミン等が挙げられる。複数の吸着剤が組み合わされて第2吸着塔に充填されてもよい。
本工程では、2つ以上の第2吸着塔を用いることが好ましく、3つ以上の第2吸着塔を用いることがより好ましい。2つ以上の第2吸着塔を用いることで、連続的に吸着工程が実施される。なお、連続的に吸着工程は実施されないが、本工程は、1つの第2吸着塔のみを用いることでも実施することができる。
本工程は、中間ガスを圧縮して行う必要があり、0.1MPaG以上まで圧縮することが好ましい。圧縮を行わない場合、第2吸着塔に吸着される炭酸ガスの量が低下する。また、本工程は、第1濃縮工程における吸着工程よりも高圧で実施することが好ましい。
(ii)均圧工程
本工程は、吸着工程後の第2吸着塔と他の第2吸着塔との間でガスを移動させて均圧する工程である。吸着工程が終了した直後の第2吸着塔内は加圧状態であるため、回収工程が終了した直後で減圧状態の他の第2吸着塔との間でガスを移動させて、両者を均圧する。
本工程は、吸着工程後の第2吸着塔と他の第2吸着塔との間でガスを移動させて均圧する工程である。吸着工程が終了した直後の第2吸着塔内は加圧状態であるため、回収工程が終了した直後で減圧状態の他の第2吸着塔との間でガスを移動させて、両者を均圧する。
(iii)大気排気工程
本工程は、均圧工程を経た状態である第2吸着塔からガスを排出することにより、第2吸着塔の圧力を大気圧まで減圧する工程である。なお、排出したガスは大気中に放出せず、再度第2吸着塔に導入してもよい。
本工程は、均圧工程を経た状態である第2吸着塔からガスを排出することにより、第2吸着塔の圧力を大気圧まで減圧する工程である。なお、排出したガスは大気中に放出せず、再度第2吸着塔に導入してもよい。
(iv)真空排気行程
本工程は、大気排気工程後のガスを真空ポンプで減圧することで精製ガスを回収する工程である。本工程は、負圧まで減圧され、例えば、-60kPaGよりも高真空圧まで減圧してもよい。このように減圧することで、効率的に精製ガスを回収することができる。
本工程は、大気排気工程後のガスを真空ポンプで減圧することで精製ガスを回収する工程である。本工程は、負圧まで減圧され、例えば、-60kPaGよりも高真空圧まで減圧してもよい。このように減圧することで、効率的に精製ガスを回収することができる。
(v)復圧工程
本工程は、真空排気工程後の第2吸着塔の圧力を戻す工程である。本工程は、例えば、大気圧のガスを導入することで実施される。大気圧のガスとしては、例えば、吸着工程で炭酸ガスを除去した後に第2吸着塔より排出される排出ガス等を用いてもよい。
(vi)その他
第2濃縮工程を吸着により行う場合、第1濃縮工程と同様第1吸着塔内の炭酸ガス以外の成分を排出するパージ工程を有しないことが好ましい。なお、上述の第1濃縮工程と同様の内容であり、説明を省略する。
本工程は、真空排気工程後の第2吸着塔の圧力を戻す工程である。本工程は、例えば、大気圧のガスを導入することで実施される。大気圧のガスとしては、例えば、吸着工程で炭酸ガスを除去した後に第2吸着塔より排出される排出ガス等を用いてもよい。
(vi)その他
第2濃縮工程を吸着により行う場合、第1濃縮工程と同様第1吸着塔内の炭酸ガス以外の成分を排出するパージ工程を有しないことが好ましい。なお、上述の第1濃縮工程と同様の内容であり、説明を省略する。
(2)膜分離による方法
本方法では、炭酸ガスを選択的に透過させる分離膜に中間ガスを導入し、炭酸ガスを分離する分離工程を含む。本工程は、中間ガスを圧縮して導入し、膜間の分圧差により分離が進行する。本工程は、0.2MPaG以上まで圧縮することが好ましい。
本方法では、炭酸ガスを選択的に透過させる分離膜に中間ガスを導入し、炭酸ガスを分離する分離工程を含む。本工程は、中間ガスを圧縮して導入し、膜間の分圧差により分離が進行する。本工程は、0.2MPaG以上まで圧縮することが好ましい。
本開示では、消費エネルギーの観点から、第2濃縮工程は、吸着剤による方法を用いることが好ましい。
<ドライアイスの製造方法>
本開示に係るドライアイスの製造方法は、上述の方法により精製ガスを得る工程と、
精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する液化工程と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得るドライアイス化工程と、を備える。
本開示に係るドライアイスの製造方法は、上述の方法により精製ガスを得る工程と、
精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する液化工程と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得るドライアイス化工程と、を備える。
また、精製ガスを得る工程と液化工程の間に、精製ガス中の水分を除去する除湿工程を備えることが好ましい。さらに、ドライアイス化工程は、生成したドライアイスを成形する成形工程を備えることが好ましい。
図2は、本実施形態におけるドライアイスの製造方法の概略フローチャートである。以下、ドライアイスの製造方法の各工程について説明する。なお、精製ガスを得る工程は、上述の<精製ガスの製造方法>の内容と同様であるため、説明を省略する。
(1)除湿工程
本工程は、精製ガス中の水分を除去する工程である。除湿方法は、特に限定されないが、例えば、除湿剤を充填した吸着容器、除湿膜による方法等が挙げられる。除湿膜としては、高分子膜等が挙げられる。
本工程は、精製ガス中の水分を除去する工程である。除湿方法は、特に限定されないが、例えば、除湿剤を充填した吸着容器、除湿膜による方法等が挙げられる。除湿膜としては、高分子膜等が挙げられる。
(2)液化工程
本工程は、精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する工程である。冷却方法は、-20℃以下の温度で2.1MPaG以上の圧力下で行うことが好ましい。汎用の冷凍機は被冷却体を-20℃程度まで冷却可能であり、-20℃で炭酸ガスを液化炭酸ガスにするためには、2.1MPaG以上の圧力とする必要があるためである。
本工程は、精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する工程である。冷却方法は、-20℃以下の温度で2.1MPaG以上の圧力下で行うことが好ましい。汎用の冷凍機は被冷却体を-20℃程度まで冷却可能であり、-20℃で炭酸ガスを液化炭酸ガスにするためには、2.1MPaG以上の圧力とする必要があるためである。
(3)ドライアイス化工程
本工程は、液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得る工程である。上述の条件で生成した液化炭酸ガスを大気圧まで減圧し固化させることで、ドライアイスを得ることができる。
本工程は、液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得る工程である。上述の条件で生成した液化炭酸ガスを大気圧まで減圧し固化させることで、ドライアイスを得ることができる。
また、ドライアイスの成形方法は、特に限定されないが、例えば、ドライアイス製造機に炭酸ガスを導入し、該製造機内で炭酸ガスを減圧して固化させ、固化したドライアイスを圧縮することによって製造することができる。また、ドライアイス製造機の種類によって、ブロック状、ペレット状、粉末状等の各種形状に成形することができる。
<精製ガスの製造装置>
本開示に係る精製ガスの製造装置は、炭酸ガスを含む対象ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第1吸着塔を含み、対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮装置と、
中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔または中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる炭酸ガス分離膜を含み、中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮装置と、を備える。
本開示に係る精製ガスの製造装置は、炭酸ガスを含む対象ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第1吸着塔を含み、対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮装置と、
中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔または中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる炭酸ガス分離膜を含み、中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮装置と、を備える。
図3は、本実施形態における精製ガスの製造装置の構成の一例を示す概略図である。以下、精製ガスの製造装置について説明する。なお、上述の<精製ガスの製造方法>において説明した内容と重複する説明は省略する。また、本開示では第1濃縮装置と第2濃縮装置の2段構成による精製ガスの製造装置を説明しているが、2段構成に限定されるものではなく、さらに濃縮装置を備えていてもよい。
(第1濃縮装置)
第1濃縮装置1は、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔10を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する装置である。すなわち、第1濃縮装置1は真空再生型圧力スイング吸着装置である。
第1濃縮装置1は、炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔10を用いた真空再生型圧力スイング吸着により対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する装置である。すなわち、第1濃縮装置1は真空再生型圧力スイング吸着装置である。
第1吸着塔10には、対象ガスに含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填されている。対象ガスは、対象ガス導出配管11を介して第1ブロワ12により第1吸着塔10に導出され、対象ガスに含まれる炭酸ガスが吸着剤に吸着する。その後、吸着したガスを第1真空ポンプ13で減圧することで、中間ガスが得られる。なお、吸着されなかったガスは排出ガスとして排出される。
上述の通り、第1濃縮装置1は第1吸着塔10を2塔以上備えていることが好ましい。図3においては、第1濃縮装置1は2つの第1吸着塔(第1吸着塔10a、第1吸着塔10b)により構成されており、第1吸着塔10aと第1吸着塔10bに対象ガスが交互に導出されることで、連続的に中間ガスを生成することができる。
(第2濃縮装置)
第2濃縮装置2は、中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔20または中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる膜分離装置を含み、前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する装置である。図3では、第2濃縮装置2は真空再生型圧力スイング吸着装置である。
第2濃縮装置2は、中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔20または中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる膜分離装置を含み、前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する装置である。図3では、第2濃縮装置2は真空再生型圧力スイング吸着装置である。
(1)真空再生型圧力スイング吸着装置
第2吸着塔20には、中間ガスに含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填されている。中間ガスは、中間ガス導出配管21を介して第2ブロワ22により第2吸着塔20に導出され、中間ガスに含まれる炭酸ガスが吸着剤に吸着する。その後、吸着したガスを第2真空ポンプ23で減圧することで、精製ガスが得られる。なお、吸着されなかったガスは排出ガスとして排出されるか、または中間ガスに合流させて再度第2吸着塔20に導入される。
第2吸着塔20には、中間ガスに含まれる炭酸ガスを回収するための吸着剤が充填されている。中間ガスは、中間ガス導出配管21を介して第2ブロワ22により第2吸着塔20に導出され、中間ガスに含まれる炭酸ガスが吸着剤に吸着する。その後、吸着したガスを第2真空ポンプ23で減圧することで、精製ガスが得られる。なお、吸着されなかったガスは排出ガスとして排出されるか、または中間ガスに合流させて再度第2吸着塔20に導入される。
上述の通り、第2濃縮装置2は第2吸着塔20を2塔以上備えていることが好ましい。図3においては、第2濃縮装置2は2つの第2吸着塔(第2吸着塔20a、第2吸着塔20b)により構成されており、第2吸着塔20aと第2吸着塔20bに中間ガスが交互に導出されることで、連続的に中間ガスを生成することができる。
(2)膜分離装置
膜分離装置(図示せず)には、中間ガスに含まれる炭酸ガスを選択的に透過させるための分離膜モジュールが設置されている。中間ガスは、中間ガス圧縮機により分離膜モジュールに導出され、中間ガスに含まれる炭酸ガスが分離膜により分離され、精製ガスが得られる。
膜分離装置(図示せず)には、中間ガスに含まれる炭酸ガスを選択的に透過させるための分離膜モジュールが設置されている。中間ガスは、中間ガス圧縮機により分離膜モジュールに導出され、中間ガスに含まれる炭酸ガスが分離膜により分離され、精製ガスが得られる。
<ドライアイスの製造装置>
本開示に係るドライアイスの製造装置は、上述の精製ガスの製造装置と、
精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する冷凍機と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを生成するドライアイス化装置と、を備える。
本開示に係るドライアイスの製造装置は、上述の精製ガスの製造装置と、
精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する冷凍機と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを生成するドライアイス化装置と、を備える。
また、精製ガスの製造後液化炭酸ガスを生成する前に水分を除去する除湿部を備えることが好ましい。さらに、ドライアイス化装置は、生成したドライアイスを成形する成形装置を備えることが好ましい。
以下、ドライアイスの製造装置について説明する。なお、精製ガスの製造装置に関しては、上述の<精製ガスの製造装置>の内容と同様であるため、説明を省略する。
(1)除湿部
除湿部によって、精製ガス中の水分が除去される。除湿部は、特に限定されず、例えば、除湿剤が充填された吸着容器や除湿膜が設置されている。
除湿部によって、精製ガス中の水分が除去される。除湿部は、特に限定されず、例えば、除湿剤が充填された吸着容器や除湿膜が設置されている。
(2)冷凍機
冷凍機によって、精製ガスが冷却されて液化炭酸ガスが生成される。圧縮機により2.1MPaG以上まで昇圧後、冷凍機で-20℃以下の温度に冷却すればよい。冷凍機は、特に限定されず、-20℃以下に冷却できるものであればよい。
冷凍機によって、精製ガスが冷却されて液化炭酸ガスが生成される。圧縮機により2.1MPaG以上まで昇圧後、冷凍機で-20℃以下の温度に冷却すればよい。冷凍機は、特に限定されず、-20℃以下に冷却できるものであればよい。
(3)ドライアイス化装置
ドライアイス化装置によって、液化炭酸ガスが固化されてドライアイスが生成される。ドライアイス化装置は、液化炭酸ガスを固化できるものであればよい。
ドライアイス化装置によって、液化炭酸ガスが固化されてドライアイスが生成される。ドライアイス化装置は、液化炭酸ガスを固化できるものであればよい。
また、ドライアイス化装置は、液化炭酸ガスの固化(ドライアイスの生成)からドライアイスの成形までを1台で実施できるものが好ましい。ドライアイス化装置としては、例えば、ブロックドライアイス製造機、ペレットドライアイス製造機、パウダードライアイス製造機等が挙げられる。
以下、実施例が説明される。ただし以下の例は、特許請求の範囲を限定するものではない。
<実施例1>
第1濃縮装置および第2濃縮装置共に真空再生型圧力スイング吸着装置である精製ガスの製造装置が準備された。炭酸ガスの濃度が10体積%である対象ガスが準備された。上述の精製ガスの製造方法に従い、精製ガスが製造された。第1濃縮装置および第2濃縮装置の条件は以下の通りである。第1濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としてはゼオライトを、水分吸着剤としては活性アルミナを、それぞれ用い、第2濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としては活性アルミナを用いた。なお、パージ工程は実施されていない。
第1濃縮装置および第2濃縮装置共に真空再生型圧力スイング吸着装置である精製ガスの製造装置が準備された。炭酸ガスの濃度が10体積%である対象ガスが準備された。上述の精製ガスの製造方法に従い、精製ガスが製造された。第1濃縮装置および第2濃縮装置の条件は以下の通りである。第1濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としてはゼオライトを、水分吸着剤としては活性アルミナを、それぞれ用い、第2濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としては活性アルミナを用いた。なお、パージ工程は実施されていない。
(第1濃縮装置の条件)
対象ガス流量:1000NL/min
吸着圧力 :10kPaG
再生圧力 :-90kPaG
温度 :40℃
(第2濃縮装置の条件)
中間ガス流量:60NL/min
吸着圧力 :0.1MPaG
再生圧力 :-90kPaG
温度 :40℃
製造された精製ガスを用いて、上述のドライアイスの製造方法に従い、ドライアイス100kgが製造された。ドライアイスの製造に用いた条件は以下の通りである。除湿部としてはゼオライトを用いた。
対象ガス流量:1000NL/min
吸着圧力 :10kPaG
再生圧力 :-90kPaG
温度 :40℃
(第2濃縮装置の条件)
中間ガス流量:60NL/min
吸着圧力 :0.1MPaG
再生圧力 :-90kPaG
温度 :40℃
製造された精製ガスを用いて、上述のドライアイスの製造方法に従い、ドライアイス100kgが製造された。ドライアイスの製造に用いた条件は以下の通りである。除湿部としてはゼオライトを用いた。
(ドライアイスの製造条件)
液化圧力:2MPaG
液化温度:-20℃
<実施例2>
第1濃縮装置として実施例1と同様の装置が、第2濃縮装置として膜分離装置が準備された。第1濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第2濃縮装置の条件は以下の通りである。また、準備された対象ガスと、ドライアイスの製造に用いた装置および条件は実施例1と同様である(以下比較例1および2においても同様である)。
液化圧力:2MPaG
液化温度:-20℃
<実施例2>
第1濃縮装置として実施例1と同様の装置が、第2濃縮装置として膜分離装置が準備された。第1濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第2濃縮装置の条件は以下の通りである。また、準備された対象ガスと、ドライアイスの製造に用いた装置および条件は実施例1と同様である(以下比較例1および2においても同様である)。
(第2濃縮装置の条件)
中間ガス流量:60NL/min
圧力 :0.7MPaG
温度 :30℃
<比較例1>
第1濃縮装置として実施例1と同様の装置が、第2濃縮装置として圧力スイング吸着装置が準備された。第1濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第2濃縮装置の条件は以下の通りである。第2濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としては活性アルミナを用いた。
中間ガス流量:60NL/min
圧力 :0.7MPaG
温度 :30℃
<比較例1>
第1濃縮装置として実施例1と同様の装置が、第2濃縮装置として圧力スイング吸着装置が準備された。第1濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第2濃縮装置の条件は以下の通りである。第2濃縮装置における炭酸ガス吸着剤としては活性アルミナを用いた。
(第2濃縮装置の条件)
中間ガス流量:60NL/min
吸着圧力 :0.7MPaG
再生圧力 :大気圧
温度 :40℃
<比較例2>
第1濃縮装置として実施例2の膜分離装置と同様の装置が、第2濃縮装置として実施例1の第2濃縮装置と同様の装置が準備された。第2濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第1濃縮装置の条件は以下の通りである。なお、ドライアイスの製造工程における液化圧力は2.3MPaGであった。
中間ガス流量:60NL/min
吸着圧力 :0.7MPaG
再生圧力 :大気圧
温度 :40℃
<比較例2>
第1濃縮装置として実施例2の膜分離装置と同様の装置が、第2濃縮装置として実施例1の第2濃縮装置と同様の装置が準備された。第2濃縮装置の条件は実施例1と同様である。第1濃縮装置の条件は以下の通りである。なお、ドライアイスの製造工程における液化圧力は2.3MPaGであった。
(第1濃縮装置の条件)
中間ガス流量:30NL/min
圧力 :0.5MPaG
温度 :25℃
<評価>
(炭酸ガスの濃度)
各実施例および各比較例において、第1濃縮装置により得られた中間ガス中の炭酸ガスの濃度および第2濃縮装置により得られた精製ガス中の炭酸ガスの濃度を、それぞれ測定した。測定には、ガスクロマトグラフィー((株)島津製作所製、型番:GC-2014AF)を用いた。結果を表1の「CO2濃度」の各欄に示す。
中間ガス流量:30NL/min
圧力 :0.5MPaG
温度 :25℃
<評価>
(炭酸ガスの濃度)
各実施例および各比較例において、第1濃縮装置により得られた中間ガス中の炭酸ガスの濃度および第2濃縮装置により得られた精製ガス中の炭酸ガスの濃度を、それぞれ測定した。測定には、ガスクロマトグラフィー((株)島津製作所製、型番:GC-2014AF)を用いた。結果を表1の「CO2濃度」の各欄に示す。
(炭酸ガスの排出量評価)
各実施例および各比較例について、炭酸ガスの排出量評価を行った。これは、第1濃縮工程~ドライアイス化工程における消費エネルギーと電力における炭酸ガス排出量から算出される評価値である。排出量評価は、以下の式(1)を用いて求められる。
各実施例および各比較例について、炭酸ガスの排出量評価を行った。これは、第1濃縮工程~ドライアイス化工程における消費エネルギーと電力における炭酸ガス排出量から算出される評価値である。排出量評価は、以下の式(1)を用いて求められる。
排出量評価=電力(kW)×CO2係数(kg/kW)/CO2回収量(kg)・・・式(1)
式(1)中、CO2係数は0.47とする。また、各実施例および各比較例について、ドライアイスの回収量は100kgであることから、式(1)中のCO2回収量は100kgとする。
式(1)中、CO2係数は0.47とする。また、各実施例および各比較例について、ドライアイスの回収量は100kgであることから、式(1)中のCO2回収量は100kgとする。
結果を表1の「排出量評価」の欄に示す。この値が1より小さければ、炭酸ガスの排出量より回収量が上回っていることを示し、1より大きければ炭酸ガスの回収量より排出量が上回っていることを示す。本実施例では、評価値が1に近いほど良好であることとした。
<結果>
表1に示されるように、実施例1および2において、それぞれ98体積%および99体積%の炭酸ガスを含有する精製ガスを得ることができた。また、炭酸ガスの排出量評価は、実施例1および2において、2.1および2.3であり、1に近い値を示した。
表1に示されるように、実施例1および2において、それぞれ98体積%および99体積%の炭酸ガスを含有する精製ガスを得ることができた。また、炭酸ガスの排出量評価は、実施例1および2において、2.1および2.3であり、1に近い値を示した。
一方、比較例1では、88体積%の炭酸ガスを含有する精製ガスを得ることができたが、これは実施例に比べて劣る結果となった。また、炭酸ガスの排出量評価は6.9と実施例に比べて高い結果となった。
比較例2では、実施例と同等の98体積%の炭酸ガスを含有する精製ガスを得ることができた。一方、炭酸ガスの排出量評価は6.4と実施例に比べて高い結果となった。
以上の結果より、炭酸ガスの排出量評価は実施例1が最も低い値を示し、良好であることがわかる。
このように、本開示に記載の精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置を用いることによって、消費エネルギーを抑制して高濃度の炭酸ガスを含む精製ガスを取り出すことができる。また、本開示に記載のドライアイスの製造方法およびドライアイスの製造装置を用いることによって、該精製ガスからドライアイスを製造することもできる。そのため、地球温暖化ガスを削減することができ、持続可能な開発目標(SDGs)の一部活動に貢献することができる。なお、電力は再生可能エネルギーを使用してもよい。
なお、従来技術のように、対象ガス中の水分を除去後、固化温度まで冷却することで直接炭酸ガスをドライアイス化した場合、上記の炭酸ガスの排出量評価は約10になるものと推察される。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 第1濃縮装置、2 第2濃縮装置、10,10a,10b 第1吸着塔、11 対象ガス導出配管、12 第1ブロワ、13 第1真空ポンプ、20,20a,20b 第2吸着塔、21 中間ガス導出配管、22 第2ブロワ、23 第2真空ポンプ。
Claims (15)
- 炭酸ガスを含む精製ガスの製造方法であって、
炭酸ガスを含む対象ガスから炭酸ガスを吸着する第1吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着により前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮工程と、
前記中間ガスから炭酸ガスを吸着する第2吸着塔を用いた真空再生型圧力スイング吸着または膜分離により前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮工程と、を備える精製ガスの製造方法。 - 前記対象ガス中の炭酸ガスの濃度は、3体積%以上70体積%以下である、請求項1に記載の精製ガスの製造方法。
- 前記中間ガス中の炭酸ガスの濃度は、50体積%以上80体積%以下である、請求項1または請求項2に記載の精製ガスの製造方法。
- 前記精製ガス中の炭酸ガスの濃度は、95体積%以上である、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
- 前記第1濃縮工程および前記第2濃縮工程は、前記第1吸着塔および前記第2吸着塔内の不純物を排出するパージ工程を有しない、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
- 2つ以上の前記第1吸着塔および2つ以上の前記第2吸着塔を用いる、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
- 前記第2濃縮工程は、前記第1濃縮工程よりも高圧で炭酸ガスを濃縮する、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法。
- 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の精製ガスの製造方法により前記精製ガスを得る工程と、
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する液化工程と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを得るドライアイス化工程と、を備える、ドライアイスの製造方法。 - 前記液化工程の前に、前記精製ガス中の水分を除去する除湿工程を備える、請求項8に記載のドライアイスの製造方法。
- 前記ドライアイス化工程は、ドライアイスを成形する成形工程を備える、請求項8または請求項9に記載のドライアイスの製造方法。
- 炭酸ガスを含む精製ガスの製造装置であって、
炭酸ガスを含む対象ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第1吸着塔を含み、前記対象ガスよりも炭酸ガスの濃度の高い中間ガスを生成する第1濃縮装置と、
前記中間ガス中の炭酸ガスを真空再生型圧力スイング吸着により吸着する第2吸着塔または前記中間ガス中の炭酸ガスを選択的に透過させる膜分離装置を含み、前記中間ガスよりもさらに炭酸ガスの濃度の高い精製ガスを生成する第2濃縮装置と、を備える精製ガスの製造装置。 - 2つ以上の前記第1吸着塔および2つ以上の前記第2吸着塔を備える、請求項11に記載の精製ガスの製造装置。
- 請求項11または請求項12に記載の精製ガスの製造装置と、
前記精製ガスを冷却して液化炭酸ガスを生成する冷凍機と、
液化炭酸ガスを固化させてドライアイスを生成するドライアイス化装置と、を備える、ドライアイスの製造装置。 - 液化炭酸ガスを生成する前に水分を除去する除湿部をさらに備える、請求項13に記載のドライアイスの製造装置。
- 前記ドライアイス化装置は、ドライアイスを成形する成形装置を含む、請求項13または請求項14に記載のドライアイスの製造装置。
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