JP2023037996A - Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board - Google Patents

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Michimasa Takahashi
貴之 古野
Takayuki Furuno
貴久 平澤
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Abstract

To provide a printed wiring board having stable performance.SOLUTION: A printed wiring board has a resin insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a conductor layer formed on the first surface. The conductor layer is formed of a first metal layer formed on the first surface, a second metal layer formed on the first metal layer, and a third metal layer formed on the second metal layer. The first metal layer and the third metal layer are formed of copper. The second metal layer is formed of metal other than copper.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本明細書によって開示される技術は、プリント配線板に関する。 The technology disclosed by this specification relates to printed wiring boards.

特許文献1は、絶縁基板と絶縁基板上に形成された渦巻状のコイルパターンとを有するコイルシートを開示する。特許文献1のコイルシートの製造方法は、絶縁基板上に渦巻状の下層の導体パターンを形成することと、導体パターン上に電解めっき膜を追加で形成すること、とを含む。 Patent Document 1 discloses a coil sheet having an insulating substrate and a spiral coil pattern formed on the insulating substrate. The coil sheet manufacturing method of Patent Document 1 includes forming a spiral lower-layer conductor pattern on an insulating substrate, and additionally forming an electrolytic plating film on the conductor pattern.

特開2009-246363号公報JP 2009-246363 A

[特許文献1の課題]
特許文献1の技術では、絶縁基板上に導体パターンが形成された後で、導体パターン上に電解めっき膜が形成される。この手法によると完成するコイルパターンの厚みにバラツキが生じると考えられる。コイルパターンを構成する配線間のギャップにバラツキが生じると考えられる。
[Problem of Patent Document 1]
In the technique disclosed in Patent Document 1, an electrolytic plating film is formed on the conductor pattern after the conductor pattern is formed on the insulating substrate. It is thought that this method causes variations in the thickness of the completed coil pattern. It is considered that the gaps between the wires forming the coil pattern are uneven.

本発明のプリント配線板は、第1面と前記第1面と反対側の第2面とを有する樹脂絶縁層と、前記第1面上に形成されている導体層、とを有する。前記導体層は、前記第1面上に形成されている第1金属層と前記第1金属層上に形成されている第2金属層と前記第2金属層上に形成されている第3金属層で形成されている。前記第1金属層と前記第3金属層は銅で形成されている。前記第2金属層は銅以外の金属で形成されている。 A printed wiring board of the present invention has a resin insulating layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a conductor layer formed on the first surface. The conductor layer includes a first metal layer formed on the first surface, a second metal layer formed on the first metal layer, and a third metal layer formed on the second metal layer. made up of layers. The first metal layer and the third metal layer are made of copper. The second metal layer is made of metal other than copper.

本発明の実施形態のプリント配線板では、導体層は、銅で形成されている第1金属層と第3金属層の間に銅以外の金属で形成されている第2金属層が配置される3層構造を備える。そのため、実施形態の導体層を用いて導体回路が形成される場合、銅の層のみで構成される従来の導体層を用いる場合に比べて、形成される導体回路間のギャップのバラツキ、厚みのバラツキを小さくし得る。安定した性能のプリント配線板が得られる。 In the printed wiring board of the embodiment of the present invention, the conductor layer has a second metal layer made of a metal other than copper disposed between a first metal layer made of copper and a third metal layer. It has a three-layer structure. Therefore, when a conductor circuit is formed using the conductor layer of the embodiment, the gap between the conductor circuits to be formed varies and the thickness of the conductor circuit increases compared to the case of using a conventional conductor layer composed only of a copper layer. Variation can be reduced. A printed wiring board with stable performance can be obtained.

本発明のプリント配線板の製造方法は、第1面と前記第1面と反対側の第2面とを有する樹脂絶縁層の前記第1面上に第1金属層を形成することと、前記第1金属層上に第1開口を有する第2金属層を形成することと、前記第2金属層と前記第1開口から露出する前記第1金属層上に第3金属層を形成することと、前記第3金属層上に、前記第1開口の直上に位置する第2開口を有する金属製のマスクを形成することと、前記第2開口から露出する前記第3金属層と前記第1開口から露出する前記第1金属層を選択的に除去することで前記第1金属層と前記第2金属層と前記第3金属層で形成される導体層を形成すること、とを含む。前記第1金属層と前記第3金属層は銅で形成されていて、前記第2金属層と前記金属製のマスクは銅以外の金属で形成されている。 A method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises forming a first metal layer on the first surface of a resin insulation layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface; forming a second metal layer having a first opening on the first metal layer; and forming a third metal layer on the second metal layer and the first metal layer exposed through the first opening. forming a metal mask having a second opening located immediately above the first opening on the third metal layer; and the third metal layer and the first opening exposed from the second opening. and forming a conductor layer formed of the first metal layer, the second metal layer and the third metal layer by selectively removing the first metal layer exposed from. The first metal layer and the third metal layer are made of copper, and the second metal layer and the metal mask are made of a metal other than copper.

本発明の実施形態のプリント配線板の製造方法によると、第2開口から露出する第3金属層と第1開口から露出する第1金属層を選択的に除去することで導体層が形成される。銅の層のみで構成される金属層の一部を除去することで導体層を形成する従来の方法に比べて、導体層に含まれる導体回路間のギャップのバラツキ、厚みのバラツキを小さくし得る。安定した性能のプリント配線板が得られる。 According to the printed wiring board manufacturing method of the embodiment of the present invention, the conductor layer is formed by selectively removing the third metal layer exposed from the second opening and the first metal layer exposed from the first opening. . Compared to the conventional method of forming a conductor layer by removing part of a metal layer consisting of only a copper layer, variations in the gap and thickness between conductor circuits included in the conductor layer can be reduced. . A printed wiring board with stable performance can be obtained.

実施形態のプリント配線板を模式的に示す平面図。1 is a plan view schematically showing a printed wiring board according to an embodiment; FIG. 実施形態のプリント配線板を模式的に示す底面図。FIG. 2 is a bottom view schematically showing the printed wiring board of the embodiment; 実施形態のプリント配線板の一部を模式的に示す断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Sectional drawing which shows typically some printed wiring boards of embodiment. 図3の一部の拡大説明図。FIG. 4 is an enlarged explanatory view of part of FIG. 3; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment; 実施形態のプリント配線板の製造方法を模式的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the embodiment;

[実施形態]
図1は実施形態のプリント配線板2を示す平面図である。図2は図1のプリント配線板2を示す底面図である。図1と図2に示されるように、プリント配線板2は、樹脂絶縁層10と、樹脂絶縁層10の第1面10a上に形成されている導体層20と、樹脂絶縁層10の第2面10b上に形成されている導体層30とを有する。実施形態のプリント配線板2は、円筒状に巻くことでモータ用コイル基板として利用される。形成されたモータ用コイル基板を円筒状のヨークの内側に配置し、モータ用コイル基板の内側に回転軸と磁石を配置することによりモータが形成される(図示省略)。
[Embodiment]
FIG. 1 is a plan view showing a printed wiring board 2 of the embodiment. FIG. 2 is a bottom view showing the printed wiring board 2 of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2 , printed wiring board 2 includes resin insulation layer 10 , conductor layer 20 formed on first surface 10 a of resin insulation layer 10 , second layer 20 of resin insulation layer 10 . and a conductor layer 30 formed on the surface 10b. The printed wiring board 2 of the embodiment is used as a motor coil substrate by being wound into a cylindrical shape. A motor is formed by arranging the formed motor coil substrate inside a cylindrical yoke and arranging a rotating shaft and a magnet inside the motor coil substrate (not shown).

樹脂絶縁層10は、ポリイミド、ポリアミド等の絶縁性を有する樹脂を用いて形成される。樹脂絶縁層10は可撓性を有している。樹脂絶縁層はフレキシブル基板を形成することができる。樹脂絶縁層10は第1面10aと第2面10bを有している。樹脂絶縁層10の厚みは10μm以上100μm以下の範囲であり、例えば12.5μmである。 Resin insulating layer 10 is formed using an insulating resin such as polyimide or polyamide. Resin insulation layer 10 has flexibility. The resin insulation layer can form a flexible substrate. Resin insulation layer 10 has first surface 10a and second surface 10b. The thickness of resin insulation layer 10 is in the range of 10 μm or more and 100 μm or less, for example, 12.5 μm.

導体層20、30は例えば銅等の導体を用いて形成されている。導体層20、30は、渦巻状に形成されているコイルである。図1に示されるように、第1面10a上に形成されている導体層20は、外周から内周に向かって右回りの渦巻状に形成されている。導体層20の外周側端部24には、導体層20と外部を接続する接続コード(図示省略)を接続するための接続端子が形成されている。導体層20の内周側端部22には、樹脂絶縁層10の第1面10aと第2面10bの間を貫通する貫通孔16が形成されている。貫通孔16内にはビア導体45が形成されている。貫通孔16及びビア導体45については後で図3を参照して詳しく説明される。ビア導体45により、第1面10a上の導体層20と第2面10b上の導体層30とが電気的に接続されている。 The conductor layers 20 and 30 are formed using a conductor such as copper. The conductor layers 20 and 30 are spirally formed coils. As shown in FIG. 1, the conductor layer 20 formed on the first surface 10a is spirally formed clockwise from the outer circumference toward the inner circumference. A connection terminal for connecting a connection cord (not shown) for connecting the conductor layer 20 to the outside is formed on the outer peripheral side end portion 24 of the conductor layer 20 . A through hole 16 is formed in the inner peripheral side end portion 22 of the conductor layer 20 so as to penetrate between the first surface 10 a and the second surface 10 b of the resin insulation layer 10 . A via conductor 45 is formed in the through hole 16 . Through holes 16 and via conductors 45 will be described later in detail with reference to FIG. Via conductors 45 electrically connect conductor layer 20 on first surface 10a and conductor layer 30 on second surface 10b.

図2に示されるように、第2面10b上に形成されている導体層30は、外周から内周に向かって左回りの渦巻状に形成されている。導体層30の外周側端部34には、導体層30と外部を接続する接続コード(図示省略)を接続するための接続端子が形成されている。導体層30の内周側端部32は、上記のビア導体45を介して導体層20の内周側端部22と電気的に接続されている。 As shown in FIG. 2, the conductor layer 30 formed on the second surface 10b is formed in a counterclockwise spiral shape from the outer circumference to the inner circumference. A connection terminal for connecting a connection cord (not shown) for connecting the conductor layer 30 to the outside is formed on the outer peripheral side end portion 34 of the conductor layer 30 . The inner peripheral side end portion 32 of the conductor layer 30 is electrically connected to the inner peripheral side end portion 22 of the conductive layer 20 through the via conductors 45 described above.

導体層20、30は、同じ面から見て同じ巻き方向の渦巻状に形成されている。第1面10aと第2面10b上の導体層20、30は、電気的に直列に接続された1つのコイルとして機能している。図示は省略されるが、第1面10aと導体層20上は樹脂絶縁層で覆われている。同様に第2面10bと導体層30上は樹脂絶縁層で覆われている。 The conductor layers 20 and 30 are spirally formed in the same winding direction when viewed from the same plane. The conductor layers 20 and 30 on the first surface 10a and the second surface 10b function as one coil electrically connected in series. Although not shown, the first surface 10a and the conductor layer 20 are covered with a resin insulating layer. Similarly, the second surface 10b and the conductor layer 30 are covered with a resin insulation layer.

図3はプリント配線板2の一部の断面図である。図3は、図1と図2のIII-III間の断面図である。図3が参照されることで導体層20、30の構造が詳しく説明される。図3に示されるように、導体層20は、コイル(図1)を構成する第1導体回路20aと、第1導体回路20aの隣の第2導体回路20bと、第2導体回路20bの隣の第3導体回路20cと、第3導体回路20cの隣の内周側端部22とを有する。第1導体回路20a、第2導体回路20b、第3導体回路20c、内周側端部22は、連続する1本の配線の異なる部分である。同様に導体層30は、コイル(図2)を構成する第1導体回路30aと、第1導体回路30aの隣の第2導体回路30bと、第2導体回路30bの隣の第3導体回路30cと、第3導体回路30cの隣の内周側端部32とを有する。第1導体回路30a、第2導体回路30b、第3導体回路30c、内周側端部32は、連続する1本の配線の異なる部分である。 FIG. 3 is a cross-sectional view of part of the printed wiring board 2. As shown in FIG. 3 is a cross-sectional view between III-III of FIGS. 1 and 2. FIG. The structure of the conductor layers 20, 30 will be described in detail with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the conductor layer 20 includes a first conductor circuit 20a forming the coil (FIG. 1), a second conductor circuit 20b adjacent to the first conductor circuit 20a, and a conductor circuit 20b adjacent to the second conductor circuit 20b. and an inner peripheral side end portion 22 adjacent to the third conductive circuit 20c. The first conductive circuit 20a, the second conductive circuit 20b, the third conductive circuit 20c, and the inner peripheral end 22 are different parts of one continuous wire. Similarly, the conductor layer 30 includes a first conductor circuit 30a forming a coil (FIG. 2), a second conductor circuit 30b adjacent to the first conductor circuit 30a, and a third conductor circuit 30c adjacent to the second conductor circuit 30b. and an inner peripheral end 32 adjacent to the third conductive circuit 30c. The first conductive circuit 30a, the second conductive circuit 30b, the third conductive circuit 30c, and the inner peripheral side end portion 32 are different portions of one continuous wiring.

導体層20は、銅箔12と、第1金属層40と、第2金属層50と、第3金属層60とを有する。導体層30は、銅箔14と、第1金属層41と、第2金属層51と、第3金属層61とを有する。上記の通り、内周側端部22の下の銅箔12と樹脂絶縁層10には貫通孔16が設けられている。貫通孔16内にはビア導体45が設けられる。ビア導体45により導体層20の内周側端部22と導体層30の内周側端部32とが電気的に接続される。 The conductor layer 20 has a copper foil 12 , a first metal layer 40 , a second metal layer 50 and a third metal layer 60 . The conductor layer 30 has a copper foil 14 , a first metal layer 41 , a second metal layer 51 and a third metal layer 61 . As described above, the through holes 16 are provided in the copper foil 12 and the resin insulation layer 10 under the inner peripheral end portion 22 . A via conductor 45 is provided in the through hole 16 . The via conductor 45 electrically connects the inner peripheral side end portion 22 of the conductor layer 20 and the inner peripheral side end portion 32 of the conductive layer 30 .

以下では導体層20の構成要素が説明される。銅箔12は、樹脂絶縁層10の第1面10a上に形成されている銅の薄膜である。銅箔12は樹脂絶縁層10の第1面10a上に予め形成されている。銅箔12は無電解めっき膜であってもよい。銅箔12の厚みは5μm以上20μm以下の範囲であり、例えば9μmである。 The components of the conductor layer 20 are described below. Copper foil 12 is a copper thin film formed on first surface 10 a of resin insulation layer 10 . Copper foil 12 is formed in advance on first surface 10 a of resin insulation layer 10 . The copper foil 12 may be an electroless plated film. The thickness of the copper foil 12 ranges from 5 μm to 20 μm, for example, 9 μm.

第1金属層40は、銅箔12上に形成される金属層である。第1金属層40は銅によって形成される。第1金属層の一部は貫通孔16内に充填されてビア導体45を形成する。第1金属層40の厚みは10μm以上100μm以下の範囲であり、例えば25μmである。 The first metal layer 40 is a metal layer formed on the copper foil 12 . The first metal layer 40 is made of copper. A portion of the first metal layer is filled in through hole 16 to form via conductor 45 . The thickness of the first metal layer 40 ranges from 10 μm to 100 μm, for example, 25 μm.

第2金属層50は、第1金属層40上に形成される金属層である。第2金属層50は銅以外の金属で形成されている。第2金属層50は例えばニッケルによって形成される。第2金属層50はスズによって形成されてもよい。第2金属層50は第1金属層40よりも薄い。第2金属層50の厚みは5μm以上30μm以下の範囲であり、例えば10μmである。 The second metal layer 50 is a metal layer formed on the first metal layer 40 . The second metal layer 50 is made of metal other than copper. The second metal layer 50 is made of nickel, for example. The second metal layer 50 may be made of tin. The second metal layer 50 is thinner than the first metal layer 40 . The thickness of the second metal layer 50 ranges from 5 μm to 30 μm, for example, 10 μm.

第3金属層60は、第2金属層50上に形成される金属層である。第3金属層60は銅によって形成される。第3金属層60は第1金属層40よりも厚い。第3金属層60の厚みは20μm以上150μm以下の範囲であり、例えば40μmである。 The third metal layer 60 is a metal layer formed on the second metal layer 50 . The third metal layer 60 is made of copper. The third metal layer 60 is thicker than the first metal layer 40 . The thickness of the third metal layer 60 ranges from 20 μm to 150 μm, for example, 40 μm.

図4は、図3中の第1導体回路20aと第2導体回路20b部分の拡大図である。第1導体回路20aを形成する第1金属層40と第2導体回路20bを形成する第1金属層40との間の間隔は第1間隔G1である。第1導体回路20aを形成する第2金属層50と第2導体回路20bを形成する第2金属層50との間の間隔は第2間隔G2である。第3導体回路20cを形成する第3金属層60と第2導体回路20bを形成する第3金属層60との間の間隔は第3間隔G3である。図4に示されるように、第2間隔G2は、第1間隔G1と第3間隔G3よりも小さい。第1間隔G1は第3間隔G3よりも小さい。各間隔G1~G3の差はプリント配線板2を製造する際に選択的エッチングが行われることで生じる。第2導体回路20bと第3導体回路20cの間の間隔についても同様のことが言える。第3導体回路20cと内周側端部22の間の間隔についても同様のことが言える。プリント配線板2の製造方法は後で詳しく説明する。 FIG. 4 is an enlarged view of the first conductor circuit 20a and the second conductor circuit 20b portion in FIG. The gap between the first metal layer 40 forming the first conductive circuit 20a and the first metal layer 40 forming the second conductive circuit 20b is a first gap G1. The gap between the second metal layer 50 forming the first conductor circuit 20a and the second metal layer 50 forming the second conductor circuit 20b is a second gap G2. The distance between the third metal layer 60 forming the third conductor circuit 20c and the third metal layer 60 forming the second conductor circuit 20b is a third distance G3. As shown in FIG. 4, the second spacing G2 is smaller than the first spacing G1 and the third spacing G3. The first spacing G1 is smaller than the third spacing G3. The difference between the intervals G1 to G3 is caused by selective etching when the printed wiring board 2 is manufactured. The same applies to the spacing between the second conductive circuit 20b and the third conductive circuit 20c. The same can be said for the distance between the third conductive circuit 20c and the inner peripheral edge 22. As shown in FIG. A method for manufacturing the printed wiring board 2 will be described later in detail.

以下では導体層30の構成要素が説明される。図3に示されるように、銅箔14は、樹脂絶縁層10の第2面10b上に形成されている銅の薄膜である。銅箔14は樹脂絶縁層10の第2面10b上に予め形成されている。銅箔14は無電解めっき膜であってもよい。銅箔14の厚みは銅箔12とほぼ同じである。 The components of the conductor layer 30 are described below. As shown in FIG. 3 , copper foil 14 is a copper thin film formed on second surface 10 b of resin insulation layer 10 . Copper foil 14 is formed in advance on second surface 10 b of resin insulation layer 10 . The copper foil 14 may be an electroless plated film. The thickness of copper foil 14 is substantially the same as that of copper foil 12 .

第1金属層41は、銅箔14上に形成される金属層である。第1金属層41は銅によって形成される。第1金属層41の厚みは第1金属層40とほぼ同じである。 The first metal layer 41 is a metal layer formed on the copper foil 14 . The first metal layer 41 is made of copper. The thickness of the first metal layer 41 is substantially the same as that of the first metal layer 40 .

第2金属層51は、第1金属層41上に形成される金属層である。第2金属層51は銅以外の金属で形成されている。第2金属層51は例えばニッケルによって形成される。第2金属層51はスズによって形成されてもよい。第2金属層51の厚みは第2金属層50とほぼ同じである。 The second metal layer 51 is a metal layer formed on the first metal layer 41 . The second metal layer 51 is made of metal other than copper. The second metal layer 51 is made of nickel, for example. The second metal layer 51 may be made of tin. The thickness of the second metal layer 51 is substantially the same as that of the second metal layer 50 .

第3金属層61は、第2金属層51上に形成される金属層である。第3金属層61は銅によって形成される。第3金属層61は第1金属層41よりも厚い。第3金属層61の厚みは第3金属層60とほぼ同じである。 The third metal layer 61 is a metal layer formed on the second metal layer 51 . The third metal layer 61 is made of copper. The third metal layer 61 is thicker than the first metal layer 41 . The thickness of the third metal layer 61 is substantially the same as that of the third metal layer 60 .

第1導体回路30aと第2導体回路の間の間隔、第2導体回路30bと第3導体回路30cの間の間隔、第3導体回路20cと内周側端部22の間の間隔については、上記の図4の第1導体回路20aと第2導体回路20bの間の間隔と同様のことが言える。 Regarding the spacing between the first conductive circuit 30a and the second conductive circuit, the spacing between the second conductive circuit 30b and the third conductive circuit 30c, and the spacing between the third conductive circuit 20c and the inner peripheral side end 22, The same can be said for the spacing between the first conductive circuit 20a and the second conductive circuit 20b in FIG. 4 above.

実施形態では、導体層20、30は銅で形成されている第1金属層40、41と第3金属層60、61の間にニッケル(またはスズ)で形成されている第2金属層50、51が配置される3層構造を備えている。そのため、導体層20、30に第1導体回路20a、30a、第2導体回路20b、30b等の導体回路が形成される場合、銅の層のみで構成される従来の導体層を用いる場合に比べて、形成される導体回路間のギャップのバラツキ、厚みのバラツキが小さい。安定した性能のプリント配線板2が得られる。 In the embodiment, the conductor layers 20, 30 are formed of copper, and the second metal layer 50 is formed of nickel (or tin) between the first metal layers 40, 41 and the third metal layers 60, 61; It has a three-layer structure in which 51 is arranged. Therefore, when conductor circuits such as the first conductor circuits 20a and 30a and the second conductor circuits 20b and 30b are formed on the conductor layers 20 and 30, compared to the case of using a conventional conductor layer composed only of copper layers, Therefore, variations in gaps and thicknesses between formed conductor circuits are small. A printed wiring board 2 with stable performance can be obtained.

図4に示されるように、第2間隔G2は第1間隔G1と第3間隔G3よりも小さい。第1間隔G1は第3間隔G3よりも小さい。そのため、銅の層のみで構成される従来の導体層を用いて導体回路を形成する場合に比べて、各導体回路の間隔が小さく形成される。その結果、従来よりも高い占積率の導体層20、30を有するプリント配線板2が得られる。安定した性能のプリント配線板2が得られる。プリント配線板2を用いてモータが形成される場合にも高い性能が発揮される。 As shown in FIG. 4, the second spacing G2 is smaller than the first spacing G1 and the third spacing G3. The first spacing G1 is smaller than the third spacing G3. Therefore, compared to the case where the conductor circuits are formed using a conventional conductor layer composed only of copper layers, the intervals between the conductor circuits are formed smaller. As a result, printed wiring board 2 having conductor layers 20 and 30 with a higher space factor than in the past can be obtained. A printed wiring board 2 with stable performance can be obtained. High performance is exhibited even when a motor is formed using the printed wiring board 2 .

実施形態では、第3金属層60、61は第1金属層40、41より厚い。第3金属層60、61を厚くすることで高い占積率の導体層20、30を有するプリント配線板2が得られる。 In embodiments, the third metal layers 60,61 are thicker than the first metal layers 40,41. By increasing the thickness of the third metal layers 60 and 61, the printed wiring board 2 having the conductor layers 20 and 30 with a high space factor can be obtained.

[実施形態のプリント配線板2の製造方法]
図5A~図5Kは実施形態のプリント配線板2の製造方法を示す。図5A~図5Kは断面図である。図5Aは、樹脂絶縁層10と、第1面10a上に予め設けられた銅箔12と、第2面10b上に予め設けられた銅箔14とを示す。樹脂絶縁層10は銅箔12、14付きのフレキシブル基板である。この時点では銅箔12、14は第1面10a、第2面10bの全面を覆っている。
[Manufacturing Method of Printed Wiring Board 2 of Embodiment]
5A to 5K show a method for manufacturing the printed wiring board 2 of the embodiment. 5A-5K are cross-sectional views. FIG. 5A shows resin insulation layer 10, copper foil 12 previously provided on first surface 10a, and copper foil 14 previously provided on second surface 10b. The resin insulation layer 10 is a flexible substrate with copper foils 12 and 14 attached. At this point, the copper foils 12 and 14 cover the entire surfaces of the first surface 10a and the second surface 10b.

銅箔12の上方からレーザーが照射される。図5Bに示されるように、銅箔12と樹脂絶縁層10を貫通する貫通孔16が形成される。銅による電解めっきが行われる。図5Cに示されるように、銅箔12上に銅による第1金属層40が形成される。銅箔14上に銅による第1金属層41が形成される。第1金属層40の一部は貫通孔16内を充填し、ビア導体45を形成する。ビア導体45は銅箔14と電気的に接続されている。 A laser is irradiated from above the copper foil 12 . As shown in FIG. 5B, through-holes 16 are formed through copper foil 12 and resin insulation layer 10 . Electroplating with copper is performed. A first metal layer 40 of copper is formed on the copper foil 12, as shown in FIG. 5C. A first metal layer 41 of copper is formed on the copper foil 14 . A portion of the first metal layer 40 fills the inside of the through hole 16 to form a via conductor 45 . Via conductors 45 are electrically connected to copper foil 14 .

図5Dに示されるように、第1金属層40上にめっきレジスト70が形成される。めっきレジスト70は、第1導体回路20a、第2導体回路20b、第3導体回路20c、内周側端部22が形成されるべき位置(図3参照)に開口72を有している。開口72は第1金属層40を露出する。同様に第1金属層41上にめっきレジスト71が形成される。めっきレジスト71は、第1導体回路30a、第2導体回路30b、第3導体回路30c、内周側端部32が形成されるべき位置(図3参照)に開口73を有している。開口73は第1金属層41を露出する。 A plating resist 70 is formed on the first metal layer 40, as shown in FIG. 5D. The plating resist 70 has openings 72 at positions where the first conductive circuit 20a, the second conductive circuit 20b, the third conductive circuit 20c, and the inner peripheral side edge 22 are to be formed (see FIG. 3). Opening 72 exposes first metal layer 40 . A plating resist 71 is similarly formed on the first metal layer 41 . The plating resist 71 has openings 73 at positions where the first conductive circuit 30a, the second conductive circuit 30b, the third conductive circuit 30c, and the inner peripheral side edge 32 are to be formed (see FIG. 3). Opening 73 exposes first metal layer 41 .

ニッケルによる電解めっきが行われる。図5Eに示されるように、めっきレジスト70から露出する第1金属層40上にニッケルによる第2金属層50が形成される。同様にめっきレジスト71から露出する第1金属層41上にニッケルによる第2金属層51が形成される。 Electroplating with nickel is performed. A second metal layer 50 of nickel is formed on the first metal layer 40 exposed from the plating resist 70, as shown in FIG. 5E. Similarly, a second metal layer 51 made of nickel is formed on the first metal layer 41 exposed from the plating resist 71 .

図5Fに示されるように、めっきレジスト70、71が除去される。第2金属層50には第1金属層40を露出する開口52が形成される。第2金属層51には第1金属層41を露出する開口53が形成される。 As shown in FIG. 5F, the plating resists 70, 71 are removed. An opening 52 is formed in the second metal layer 50 to expose the first metal layer 40 . An opening 53 is formed in the second metal layer 51 to expose the first metal layer 41 .

銅による電解めっき(パネルめっき)が行われる。図5Gに示されるように、第2金属層50と第2金属層50から露出する第1金属層40を覆う第3金属層60が形成される。開口52は第3金属層60の一部によって充填される。同様に第2金属層51と第2金属層51から露出する第1金属層41を覆う第3金属層61が形成される。開口53は第3金属層61の一部によって充填される。第3金属層60、61は銅の層である。第3金属層60、61は第1金属層40、41よりも厚く形成される。 Electroplating (panel plating) with copper is performed. As shown in FIG. 5G, a third metal layer 60 is formed covering the second metal layer 50 and the first metal layer 40 exposed from the second metal layer 50 . Opening 52 is filled with a portion of third metal layer 60 . Similarly, a third metal layer 61 covering the second metal layer 51 and the first metal layer 41 exposed from the second metal layer 51 is formed. The opening 53 is filled with a portion of the third metal layer 61 . The third metal layers 60, 61 are layers of copper. The third metal layers 60,61 are formed thicker than the first metal layers 40,41.

図5Hに示されるように、第3金属層60上にめっきレジスト80が形成される。めっきレジスト80は、第1導体回路20a、第2導体回路20b、第3導体回路20c、内周側端部22が形成されるべき位置(図3参照)に開口82を有している。開口82は第3金属層60を露出する。同様に第3金属層61上にめっきレジスト81が形成される。めっきレジスト81は、第1導体回路30a、第2導体回路30b、第3導体回路30c、内周側端部32が形成されるべき位置(図3参照)に開口83を有している。開口83は第3金属層60を露出する。めっきレジスト80、81の幅は、めっきレジスト70、71(図5D)よりも広い。 A plating resist 80 is formed on the third metal layer 60, as shown in FIG. 5H. The plating resist 80 has openings 82 at positions where the first conductive circuit 20a, the second conductive circuit 20b, the third conductive circuit 20c, and the inner peripheral side edge 22 are to be formed (see FIG. 3). Opening 82 exposes third metal layer 60 . A plating resist 81 is similarly formed on the third metal layer 61 . The plating resist 81 has openings 83 at positions where the first conductive circuit 30a, the second conductive circuit 30b, the third conductive circuit 30c, and the inner peripheral side edge 32 are to be formed (see FIG. 3). Opening 83 exposes third metal layer 60 . The width of the plating resists 80, 81 is wider than the plating resists 70, 71 (FIG. 5D).

図5Iに示されるように、めっきレジスト80から露出する第3金属層60上にスズによるマスク90が形成される。同様にめっきレジスト81から露出する第3金属層61上にスズによるマスク91が形成される。マスク90、91は電解めっきによって形成される。改変例では、マスク90、91はニッケルによって形成されてもよい。マスク90、91は銅以外の金属で形成されればよい。 A tin mask 90 is formed on the third metal layer 60 exposed from the plating resist 80, as shown in FIG. 5I. Similarly, a tin mask 91 is formed on the third metal layer 61 exposed from the plating resist 81 . Masks 90 and 91 are formed by electrolytic plating. Alternatively, the masks 90, 91 may be made of nickel. The masks 90 and 91 may be made of metal other than copper.

図5Jに示されるように、めっきレジスト80、81が除去される。マスク90には第3金属層60を露出する開口92が形成される。マスク91には第3金属層61を露出する開口93が形成される。マスク90、91に形成される開口92、93の幅は、第2金属層50、51に形成される開口52、53の幅よりも広い。開口92は開口52の直上に形成されている。開口93は開口53の直上(第2面10bから見て直上)に形成されている。 As shown in FIG. 5J, the plating resists 80, 81 are removed. An opening 92 is formed in the mask 90 to expose the third metal layer 60 . An opening 93 is formed in the mask 91 to expose the third metal layer 61 . The width of the openings 92,93 formed in the masks 90,91 is wider than the width of the openings 52,53 formed in the second metal layers 50,51. Opening 92 is formed directly above opening 52 . The opening 93 is formed directly above the opening 53 (directly above when viewed from the second surface 10b).

選択的エッチングが行われることにより、開口92から露出する第3金属層60と、開口52から露出する第1金属層40と銅箔12が選択的に除去される。同様に、選択的エッチングが行われることにより、開口93から露出する第3金属層61と、開口53から露出する第1金属層41と銅箔14が選択的に除去される。この結果、図5Kに示されるように、第1導体回路20a、第2導体回路20b、第3導体回路20c、内周側端部22を有する導体層20が形成される。第1導体回路30a、第2導体回路30b、第3導体回路30c、内周側端部32を有する導体層30が形成される。 By performing selective etching, the third metal layer 60 exposed from the openings 92 and the first metal layer 40 and the copper foil 12 exposed from the openings 52 are selectively removed. Similarly, selective etching is performed to selectively remove the third metal layer 61 exposed from the openings 93 and the first metal layer 41 and the copper foil 14 exposed from the openings 53 . As a result, as shown in FIG. 5K, a conductor layer 20 having a first conductor circuit 20a, a second conductor circuit 20b, a third conductor circuit 20c, and an inner peripheral side edge 22 is formed. A conductor layer 30 having a first conductor circuit 30a, a second conductor circuit 30b, a third conductor circuit 30c, and an inner peripheral side edge 32 is formed.

選択的エッチングは、例えばアルカリ系エッチング液を用いるウェットエッチングである。アルカリ系エッチング液は例えばメック株式会社製の銅除去剤(型番SF-5420。商品名「メックブライト」)等である。選択的エッチングでは、銅製の第3金属層60と第1金属層40と銅箔12が選択的に除去されるが、ニッケル製の第2金属層50とスズ製のマスク90は除去されない。 Selective etching is wet etching using, for example, an alkaline etchant. The alkaline etchant is, for example, a copper remover manufactured by MEC Co., Ltd. (model number SF-5420, trade name “Mec Bright”). The selective etching selectively removes the third metal layer 60 made of copper, the first metal layer 40 and the copper foil 12, but does not remove the second metal layer 50 made of nickel and the mask 90 made of tin.

上記の通り、マスク90、91に形成される開口92、93の幅は、第2金属層50、51に形成される開口52、53の幅よりも広い(図5J参照)。そのため、選択的エッチングの際に、開口92、93から露出する第3金属層60、61は多くのエッチング液と接触する。開口92、93から露出する第3金属層60、61はより多く除去される。一方、開口52、53から露出する第1金属層40、41と銅箔12、14は比較的少ないエッチング液と接触する。開口52、53から露出する第1金属層40、41と銅箔12、14は少なく除去される。この結果、図4に示されるように、第2間隔G2は、第1間隔G1と第3間隔G3よりも小さくなる。第1間隔G1は第3間隔G3よりも小さくなる。 As mentioned above, the width of the openings 92, 93 formed in the masks 90, 91 is wider than the width of the openings 52, 53 formed in the second metal layers 50, 51 (see Figure 5J). Therefore, during selective etching, the third metal layers 60, 61 exposed from the openings 92, 93 come into contact with a large amount of etchant. More of the third metal layers 60, 61 exposed through the openings 92, 93 are removed. On the other hand, the first metal layers 40, 41 and the copper foils 12, 14 exposed through the openings 52, 53 come into contact with a relatively small amount of the etchant. A small amount of the first metal layers 40, 41 and the copper foils 12, 14 exposed through the openings 52, 53 are removed. As a result, as shown in FIG. 4, the second gap G2 is smaller than the first gap G1 and the third gap G3. The first spacing G1 is smaller than the third spacing G3.

その後、マスク90、91が除去される。マスク90、91は、例えばスズを選択的に除去する選択的エッチングによって除去される。この結果、実施形態のプリント配線板2(図3)が得られる。 Masks 90 and 91 are then removed. Masks 90, 91 are removed, for example, by a selective etch that selectively removes tin. As a result, the printed wiring board 2 (FIG. 3) of the embodiment is obtained.

実施形態の製造方法によると、マスク90、91の開口92、93から露出する第3金属層60、61と第2金属層50、51の開口から露出する第1金属層40、41と銅箔12、14を選択的に除去することで導体層20、30が形成される。銅の層のみで構成される金属層の一部を除去することで導体層を形成する従来の方法に比べて、導体層20、30に含まれる導体回路間のギャップのバラツキ、厚みのバラツキが小さい。安定した性能のプリント配線板2が得られる。実施形態の開口52、53が請求項の「第1開口」の一例である。開口92、93が請求項の「第2開口」の一例である。 According to the manufacturing method of the embodiment, the third metal layers 60 and 61 exposed from the openings 92 and 93 of the masks 90 and 91, the first metal layers 40 and 41 exposed from the openings of the second metal layers 50 and 51, and the copper foil By selectively removing 12, 14, conductor layers 20, 30 are formed. Compared to the conventional method of forming a conductor layer by removing a part of a metal layer composed only of a copper layer, variations in the gap and thickness between the conductor circuits included in the conductor layers 20 and 30 are reduced. small. A printed wiring board 2 with stable performance can be obtained. The openings 52 and 53 of the embodiment are an example of the "first opening" in the claims. The openings 92 and 93 are an example of the "second opening" in the claims.

[実施形態の第1改変例]
第1改変例では、選択エッチングが行われた後で(図5K)、マスク90、91が除去されることなく残存される。第1改変例では、各導体回路上にマスク90、91が残ったプリント配線板2が得られる(図5K参照)。
[First modification of the embodiment]
In a first variant, the masks 90, 91 are left unremoved after selective etching has taken place (FIG. 5K). In a first modification, a printed wiring board 2 is obtained with masks 90, 91 remaining on each conductor circuit (see FIG. 5K).

[実施形態の第2改変例]
第2改変例では、第3金属層60、61上にめっきレジスト80、81が形成された後で(図5H)、めっきレジスト80、81から露出する第3金属層60、61上にマスク90、91(図5I)が形成される前に、銅による電解めっきが行われる。これにより、めっきレジスト80、81から露出する第3金属層60、61上にさらに銅の電解めっき膜が形成される。この結果、マスク90、91(図5I)が形成される前に、めっきレジスト80、81から露出する第3金属層60の厚みが増加する。
[Second modification of the embodiment]
In a second modification, after the plating resists 80, 81 are formed on the third metal layers 60, 61 (FIG. 5H), a mask 90 is applied on the third metal layers 60, 61 exposed from the plating resists 80, 81. , 91 (FIG. 5I) are electroplated with copper. As a result, an electroplated copper film is further formed on the third metal layers 60 and 61 exposed from the plating resists 80 and 81 . As a result, the thickness of third metal layer 60 exposed from plating resists 80, 81 increases before masks 90, 91 (FIG. 5I) are formed.

[実施形態の第3改変例]
第3改変例では、第3金属層60、61の厚みは第1金属層40、41の厚み以下である。
[Third modified example of the embodiment]
In a third modification, the thickness of the third metal layers 60,61 is less than or equal to the thickness of the first metal layers 40,41.

[実施形態の第4改変例]
第4改変例では、導体層20と導体層30のうちの一方が省略される。第4改変例では、第1面10aと第2面10bの一方にのみ導体層が形成される。
[Fourth modification of the embodiment]
In the fourth modification, one of the conductor layer 20 and the conductor layer 30 is omitted. In the fourth modified example, a conductor layer is formed only on one of the first surface 10a and the second surface 10b.

2:プリント配線板
10:樹脂絶縁層
20、30:導体層
20a、30a:第1導体回路
20b、30b:第2導体回路
40、41:第1金属層
50、51:第2金属層
52、53:開口
60、61:第3金属層
90、91:マスク
92、93:開口
G1:第1間隔
G2:第2間隔
G3:第3間隔
2: printed wiring board 10: resin insulation layers 20, 30: conductor layers 20a, 30a: first conductor circuits 20b, 30b: second conductor circuits 40, 41: first metal layers 50, 51: second metal layer 52, 53: openings 60, 61: third metal layers 90, 91: masks 92, 93: openings G1: first spacing G2: second spacing G3: third spacing

Claims (14)

第1面と前記第1面と反対側の第2面とを有する樹脂絶縁層と、
前記第1面上に形成されている導体層、とを有するプリント配線板であって、
前記導体層は、前記第1面上に形成されている第1金属層と前記第1金属層上に形成されている第2金属層と前記第2金属層上に形成されている第3金属層で形成されていて、前記第1金属層と前記第3金属層は銅で形成されていて、前記第2金属層は銅以外の金属で形成されている。
a resin insulation layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A printed wiring board having a conductor layer formed on the first surface,
The conductor layer includes a first metal layer formed on the first surface, a second metal layer formed on the first metal layer, and a third metal layer formed on the second metal layer. The first metal layer and the third metal layer are made of copper, and the second metal layer is made of a metal other than copper.
請求項1のプリント配線板であって、前記導体層は第1導体回路と前記第1導体回路の隣に形成されている第2導体回路を含み、前記第1導体回路を形成する前記第1金属層と前記第2導体回路を形成する前記第1金属層との間の間隔は第1間隔であって、前記第1導体回路を形成する前記第2金属層と前記第2導体回路を形成する前記第2金属層との間の間隔は第2間隔であって、前記第1導体回路を形成する前記第3金属層と前記第2導体回路を形成する前記第3金属層との間の間隔は第3間隔であって、前記第2間隔は前記第1間隔と前記第3間隔より小さい。 2. The printed wiring board of claim 1, wherein said conductor layer includes a first conductor circuit and a second conductor circuit formed adjacent to said first conductor circuit, said first conductor circuit forming said first conductor circuit. The distance between the metal layer and the first metal layer forming the second conductor circuit is a first distance, and the second metal layer forming the first conductor circuit and the second conductor circuit are formed. and the second metal layer forming the first conductor circuit and the third metal layer forming the second conductor circuit. The spacing is a third spacing, the second spacing being less than the first spacing and the third spacing. 請求項1のプリント配線板であって、前記第3金属層は前記第1金属層より厚い。 2. The printed wiring board of claim 1, wherein said third metal layer is thicker than said first metal layer. 請求項1のプリント配線板であって、前記第2金属層はニッケルまたはスズによって形成されている。 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein said second metal layer is made of nickel or tin. 請求項1のプリント配線板であって、前記導体層は渦巻状に形成されるコイルを含む。 2. The printed wiring board of claim 1, wherein the conductor layer includes a spirally formed coil. 第1面と前記第1面と反対側の第2面とを有する樹脂絶縁層の前記第1面上に第1金属層を形成することと、
前記第1金属層上に第1開口を有する第2金属層を形成することと、
前記第2金属層と前記第1開口から露出する前記第1金属層上に第3金属層を形成することと、
前記第3金属層上に、前記第1開口の直上に位置する第2開口を有する金属製のマスクを形成することと、
前記第2開口から露出する前記第3金属層と前記第1開口から露出する前記第1金属層を選択的に除去することで前記第1金属層と前記第2金属層と前記第3金属層で形成される導体層を形成すること、とを含むプリント配線板の製造方法であって、
前記第1金属層と前記第3金属層は銅で形成されていて、前記第2金属層と前記金属製のマスクは銅以外の金属で形成されている。
forming a first metal layer on the first surface of a resin insulation layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
forming a second metal layer having a first opening on the first metal layer;
forming a third metal layer on the second metal layer and the first metal layer exposed through the first opening;
forming a metal mask having a second opening positioned immediately above the first opening on the third metal layer;
the first metal layer, the second metal layer, and the third metal layer by selectively removing the third metal layer exposed from the second opening and the first metal layer exposed from the first opening; A printed wiring board manufacturing method comprising:
The first metal layer and the third metal layer are made of copper, and the second metal layer and the metal mask are made of a metal other than copper.
請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記導体層は第1導体回路と前記第1導体回路の隣に形成されている第2導体回路を含み、前記第1導体回路を形成する前記第1金属層と前記第2導体回路を形成する前記第1金属層との間の間隔は第1間隔であって、前記第1導体回路を形成する前記第2金属層と前記第2導体回路を形成する前記第2金属層との間の間隔は第2間隔であって、前記第1導体回路を形成する前記第3金属層と前記第2導体回路を形成する前記第3金属層との間の間隔は第3間隔であって、前記第2間隔は前記第1間隔と前記第3間隔より小さい。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein said conductor layer includes a first conductor circuit and a second conductor circuit formed adjacent to said first conductor circuit to form said first conductor circuit. The distance between the first metal layer and the first metal layer forming the second conductor circuit is a first distance, and the second metal layer forming the first conductor circuit and the second conductor The distance between the second metal layer forming the circuit is a second distance, and the third metal layer forming the first conductive circuit and the third metal layer forming the second conductive circuit is a third interval, said second interval being less than said first interval and said third interval. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記第2開口の幅は前記第1開口の幅より広い。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein the width of said second opening is wider than the width of said first opening. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記第3金属層は前記第1金属層より厚い。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein said third metal layer is thicker than said first metal layer. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記第2金属層はニッケルまたはスズによって形成されている。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein said second metal layer is made of nickel or tin. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記金属製のマスクはニッケルまたはスズによって形成されている。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein said metal mask is made of nickel or tin. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記選択的に除去することの後に前記金属製のマスクを除去することを有する。 7. The method of manufacturing a printed wiring board of claim 6, further comprising removing said metal mask after said selectively removing. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記選択的に除去することはアルカリ系エッチング液を用いる処理を含む。 7. The method of manufacturing a printed wiring board of claim 6, wherein said selectively removing includes treatment with an alkaline etchant. 請求項6のプリント配線板の製造方法であって、前記導体層は渦巻状に形成されるコイルを含む。 7. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 6, wherein said conductor layer includes a spirally formed coil.
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