JP2023028162A - Substrate and substrate manufacturing method - Google Patents

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Abstract

To improve the strength of a substrate and to provide a manufacturing method for the substrate.SOLUTION: A rolled metal layer includes a rolled metal circuit made of a rolled conductor, a reinforcing structure made of the rolled conductor, and an insulator made of an insulating resin, and the rolled metal circuit and the reinforcing structure are provided in the same plane, and the reinforcing structure includes a rolled metal layer that reinforces the mechanical strength of the substrate and is placed around the rolled metal circuit and separated by the insulator. According to the present invention, the rolled metal circuit made of the rolled conductor and the reinforcing structure made of the rolled conductor are provided on the same plane and separated by the insulating resin, thereby increasing the rigidity, which is the mechanical strength of the substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、基板を構成する回路層の強度を上げ、基板全体の機械的強度を上げる。 The present invention increases the strength of the circuit layers that make up the substrate, and increases the mechanical strength of the entire substrate.

特許文献1には、導体(銅箔)を一方の側からハーフエッチングをし、ハーフエッチングした部分に絶縁樹脂が充填され、その後、他方の面から導体をハーフエッチングして、絶縁樹脂を充填した基板が記載されている。 In Patent Document 1, a conductor (copper foil) is half-etched from one side, the half-etched portion is filled with insulating resin, and then the conductor is half-etched from the other side and filled with insulating resin. A substrate is described.

特開2010-278379号公報JP 2010-278379 A

特許文献1に記載された基板では、ハーフエッチングで設けられた導体の凹みに絶縁樹脂が充填されている。よって、従来のプリント板のように、ガラス繊維で作成されたシート体と絶縁樹脂とからなる基材を有していないため、基板の剛性を高くしにくく、基板が割れて破損したり、基板が曲がることにより回路の断線が発生したりする虞がある。 In the substrate described in Patent Document 1, the recesses of the conductors provided by half-etching are filled with an insulating resin. Therefore, unlike conventional printed boards, it does not have a base material consisting of a sheet body made of glass fiber and an insulating resin. There is a possibility that a disconnection of the circuit may occur due to the bending of the wire.

そこで、本発明の課題は、基板の機械的強度を向上させること及びその基板の製造方法の提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to improve the mechanical strength of a substrate and to provide a method for manufacturing the substrate.

本発明者は、上記の課題について鋭意検討した結果、圧延導電体からなる圧延金属体回路と、圧延導電体からなる補強構造体とを同一平面内に設け、絶縁樹脂で隔て配置することで、基板の機械的強度の向上が図れることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies on the above problem, the inventors of the present invention provided a rolled metal circuit made of a rolled conductor and a reinforcing structure made of a rolled conductor on the same plane, and separated them with an insulating resin. The inventors have found that the mechanical strength of the substrate can be improved, and completed the present invention.

上記課題を解決するための本発明の基板は、圧延導電体からなる圧延金属体回路と、圧延導電体からなる補強構造体と、絶縁樹脂からなる絶縁体と、を備える圧延金属層を有し、圧延金属体回路と補強構造体は、同一の平面内に設けられており、補強構造体は、基板の機械的強度を補強するものでありかつ圧延金属体回路の周囲を囲むように絶縁体で隔てられて配置された圧延金属層を有することを特徴とするものである。
本発明の基板によれば、補強構造体が圧延金属体回路と同一の平面に設けられることにより、基板の機械的強度を向上できる効果がある。
A substrate of the present invention for solving the above problems has a rolled metal layer comprising a rolled metal circuit made of a rolled conductor, a reinforcing structure made of a rolled conductor, and an insulator made of an insulating resin. The rolled metal circuit and the reinforcing structure are provided in the same plane, and the reinforcing structure reinforces the mechanical strength of the substrate and is surrounded by an insulator so as to surround the rolled metal circuit. and having rolled metal layers spaced apart by .
According to the substrate of the present invention, since the reinforcing structure is provided on the same plane as the rolled metal circuit, there is an effect that the mechanical strength of the substrate can be improved.

さらに、本発明の基板の一実施態様としては、補強構造体は、平面方向に広がるように網状であることを特徴とする。
この基板によれば、補強構造体は、平面方向に広がるように網状であることから、平面方向の寸法が伸縮することを抑制することができ、基板の全体の反りを抑制できる効果がある。
Furthermore, as one embodiment of the substrate of the present invention, the reinforcing structure is characterized in that it has a mesh shape extending in a planar direction.
According to this substrate, since the reinforcing structure has a mesh shape extending in the plane direction, it is possible to suppress the expansion and contraction of the dimension in the plane direction, thereby suppressing the warping of the entire substrate.

さらに、本発明の基板の一実施態様としては、補強構造体は、平面方向に広がるように板状の連続体(本明細書内では、ベタ状とも表現される)であることを特徴とする。
この基板によれば、補強構造体は、平面方向に広がるように板状の連続体であることから、基板の全体の剛性をより向上させることができる。
Furthermore, as one embodiment of the substrate of the present invention, the reinforcing structure is characterized by being a plate-like continuous body (also referred to as a solid shape in this specification) extending in a plane direction. .
According to this substrate, since the reinforcing structure is a plate-like continuous body extending in the planar direction, it is possible to further improve the rigidity of the entire substrate.

さらに、本発明の基板の一実施態様としては、圧延金属体回路は、平面方向に延びる圧延金属体平面回路と、圧延金属体平面回路の一端の側に設けられた板厚方向に延びる圧延金属体層間回路とを有し、圧延金属体平面回路と圧延金属体層間回路とが同一の圧延金属体から形成され、接続面のない導電体で形成されたことを特徴とする。
この基板によれば、圧延金属体平面回路と圧延金属体層間回路とに接続面がないことから、接続面が存在することによる電気抵抗がない。よって、電気が流れても接続面が存在することによる発熱を抑制できる効果がある。
また、圧延金属体平面回路と圧延金属体層間回路とに接続面がないことから、熱が繰り返し流され、熱膨張が繰り返された場合であっても、接続面から回路が剥離することがない。
Further, as an embodiment of the substrate of the present invention, the rolled metal circuit comprises a rolled metal circuit extending in the plane direction and a rolled metal circuit provided at one end of the rolled metal circuit and extending in the plate thickness direction. The flat circuit of the rolled metal body and the circuit between the rolled metal bodies are formed from the same rolled metal body, and are formed of a conductor having no connection surface.
According to this substrate, since there is no connecting surface between the flat circuit of the rolled metal and the inter-layer circuit of the rolled metal, there is no electrical resistance due to the presence of the connecting surface. Therefore, even if electricity flows, there is an effect that heat generation due to the presence of the connection surface can be suppressed.
In addition, since there is no connecting surface between the flat circuit of the rolled metal and the inter-layer circuit of the rolled metal, even if heat is repeatedly applied and thermal expansion is repeated, the circuit will not separate from the connecting surface. .

さらに、本発明の基板の一実施態様としては、圧延金属体回路は、積層回路と連結されており、積層回路は、平面方向に延びる電解金属体平面回路と、電解金属体平面回路の一端の側に設けられた板厚方向に延びる電解金属体層間回路とを有し、電解金属体平面回路と電解金属体層間回路とが同一の電解金属体から形成され、接続面のない導電体で形成されたことを特徴とする。
この基板によれば、電解金属体平面回路と電解金属体層間回路とに接続面がないことから、接続面が存在することによる電気抵抗がない。よって、電気が流れても発熱を抑制できる効果がある。
また、電解金属体平面回路と電解金属体層間回路とに接続面がないことから、熱が繰り返し流され、熱膨張が繰り返された場合であっても、接続面から回路が剥離することがない。
Further, as one embodiment of the substrate of the present invention, the rolled metal body circuit is connected to a laminated circuit, and the laminated circuit comprises an electrolytic metal body planar circuit extending in a plane direction and one end of the electrolytic metal body planar circuit. The electrolytic metal body planar circuit and the electrolytic metal body interlayer circuit are formed from the same electrolytic metal body, and are formed of a conductor having no connection surface. characterized by being
According to this substrate, since there is no connection surface between the electrolytic metal body planar circuit and the electrolytic metal body interlayer circuit, there is no electrical resistance due to the existence of the connection surface. Therefore, there is an effect that even if electricity flows, heat generation can be suppressed.
In addition, since there is no connecting surface between the electrolytic metal planar circuit and the electrolytic metal interlayer circuit, even if heat is repeatedly applied and thermal expansion is repeated, the circuit will not separate from the connecting surface. .

さらに、本発明の基板を有する電子機器の一実施態様としては、圧延金属体回路と電子部品とが、電気が流れるように接続されたことを特徴とする。
この基板を有する電子機器によれば、補強構造体が圧延金属体回路と同一の平面に設けられることにより、基板の剛性を向上させた電子機器とすることができる。
Furthermore, an embodiment of an electronic device having a substrate according to the present invention is characterized in that a rolled metal circuit and an electronic component are connected so that electricity can flow.
According to the electronic device having this substrate, the rigidity of the substrate can be improved by providing the reinforcing structure on the same plane as the rolled metal circuit.

さらに、本発明の基板を有する電子機器の一実施態様としては、圧延金属体回路と電子部品とが、熱が流れるように接続されたことを特徴とする。
この基板を有する電子機器によれば、基板の全体の剛性を向上させることができ、さらに、電子部品が動作した際に発生した熱が圧延金属体回路に移動することで、電子部品の温度を低く保つことができる効果がある。
Further, an embodiment of an electronic device having a substrate according to the present invention is characterized in that a rolled metal circuit and an electronic component are connected so as to allow heat to flow.
According to an electronic device having this substrate, the rigidity of the substrate as a whole can be improved, and heat generated when the electronic component operates is transferred to the rolled metal circuit, thereby reducing the temperature of the electronic component. There is an effect that can be kept low.

さらに、本発明の基板を有する電子機器の一実施態様としては、電子部品と電解金属層と圧延金属体回路とが熱が流れるように接続されたことを特徴とする。
この基板を有する電子機器によれば、基板の全体の剛性を向上させることができ、さらに、電子部品が動作した際に発生した熱が、電解金属層と圧延金属体回路に移動することで、電子部品の温度を低く保つことができる効果がある。
Furthermore, one embodiment of the electronic device having the substrate of the present invention is characterized in that the electronic component, the electrolytic metal layer and the rolled metal circuit are connected so as to allow heat to flow.
According to an electronic device having this substrate, the rigidity of the substrate as a whole can be improved. There is an effect that the temperature of the electronic parts can be kept low.

さらに、本発明の基板を有する電子機器の一実施態様としては、電解金属層が基板の表面に露出しており、圧延金属体回路の反対の側に熱を放出することを特徴とする。
この基板を有する電子機器によれば、基板の全体の剛性を向上させることができ、さらに、電子部品が動作した際に発生した熱が、基板の表面に露出した電解金属層から圧延金属体回路の反対の側に熱を放出するため、電子部品の温度を低く保つことができる効果がある。
Further, in one embodiment of the electronic device having the substrate of the present invention, the electrolytic metal layer is exposed on the surface of the substrate and is characterized by releasing heat to the opposite side of the rolled metal circuit.
According to an electronic device having this substrate, the rigidity of the substrate as a whole can be improved, and heat generated when the electronic component operates is transferred from the electrolytic metal layer exposed on the surface of the substrate to the rolled metal circuit. Since heat is radiated to the opposite side, there is an effect that the temperature of the electronic parts can be kept low.

さらに、本発明の基板を有する電子機器の一実施態様としては、熱が圧延金属体回路から絶縁体を経由して補強構造体に流れることを特徴とする。
この基板を有する電子機器によれば、基板の全体の剛性を向上させることができ、さらに、電子部品が動作した際に発生した熱が圧延金属体回路から絶縁体を経由して補強構造体に移動することで、電子部品の温度を低く保つことができる効果がある。
Furthermore, one embodiment of an electronic device having a substrate according to the present invention is characterized in that heat flows from the rolled metal circuit through the insulator to the reinforcing structure.
According to an electronic device having this substrate, the rigidity of the substrate as a whole can be improved, and heat generated when the electronic component operates is transferred from the rolled metal circuit to the reinforcing structure via the insulator. By moving, there is an effect that the temperature of the electronic parts can be kept low.

上記課題を解決するための基板の製造方法は、圧延導電体準備工程と、第一レジスト作成工程と、第一エッチング工程と、第一絶縁樹脂充填工程と、第二レジスト作成工程と、第二エッチング工程と、を、含むことを特徴とする。
本発明の基板の製造方法によれば、補強構造体が圧延金属体回路と同一平面に設けられることから、基板の剛性を向上させた基板の製造方法とすることができる。
A substrate manufacturing method for solving the above problems includes a rolled conductor preparation step, a first resist forming step, a first etching step, a first insulating resin filling step, a second resist forming step, a second and an etching step.
According to the substrate manufacturing method of the present invention, since the reinforcing structure is provided on the same plane as the rolled metal circuit, the substrate manufacturing method can improve the rigidity of the substrate.

本発明によれば、圧延導電体からなる圧延金属体回路と、圧延導電体からなる補強構造体とを同一平面内に設け、絶縁樹脂で隔て配置することで、基板の剛性の向上することを見出し、本発明を完成した。 According to the present invention, a rolled metal circuit made of a rolled conductor and a reinforcing structure made of a rolled conductor are provided on the same plane and separated by an insulating resin, thereby improving the rigidity of the substrate. He found the headline and completed the present invention.

(A)図は、本発明の第1の実施態様の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。(B)図は、(A)図のA-A断面を示す概略図である。FIG. (A) is a schematic diagram showing a state in which the substrate of the first embodiment of the present invention is cut in the thickness direction. (B) is a schematic diagram showing a cross section taken along line AA in FIG. (A). 本発明の第1の実施態様の基板の製造工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the substrate according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施態様の基板の製造工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the substrate according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施態様の基板の製造工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the substrate according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施態様の基板の製造工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of the substrate according to the first embodiment of the present invention; (A)図は、本発明の第1の実施態様の変形例の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。(B)図は、(A)図のA-A断面を示す概略図である。(A) is a schematic diagram showing a state in which a substrate of a modification of the first embodiment of the present invention is cut in the thickness direction. (B) is a schematic diagram showing a cross section taken along line AA in FIG. (A). (A)図は、本発明の第2の実施態様の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。(B)図は、(A)図のA-A断面を示す概略図である。(A) is a schematic diagram showing a state in which a substrate according to a second embodiment of the present invention is cut in the thickness direction. (B) is a schematic diagram showing a cross section taken along line AA in FIG. (A). 本発明の第3の実施態様の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut|disconnected the board|substrate of the 3rd embodiment of this invention in the board|plate thickness direction. 本発明の第3の実施態様の基板の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the board|substrate of the 3rd embodiment of this invention. 本発明の第4の実施態様の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut|disconnected the board|substrate of the 4th embodiment of this invention in the board|plate thickness direction. 本発明の第4の実施態様の基板を板厚方向に切断した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut|disconnected the board|substrate of the 4th embodiment of this invention in the board|plate thickness direction. 本発明の第1の実施態様の変形例の基板を平面方向に切断した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut|disconnected the board|substrate of the modification of the 1st embodiment of this invention in the plane direction. 本発明の第2の実施態様の変形例の基板を平面方向に切断した状態を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut|disconnected the board|substrate of the modification of the 2nd embodiment of this invention in the plane direction. 本発明の第1の実施態様の基板に電子部品を設置した状態を示す概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which electronic components are installed on a substrate according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第4の実施態様の変形例の基板を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a substrate of a modification of the fourth embodiment of the present invention; 図15の板厚方向に切断されたA-A断面を示す概要図である。FIG. 16 is a schematic view showing an AA cross section cut in the thickness direction of FIG. 15;

以下、図面を参照しつつ、本発明に係る基板及びその製造方法の実施態様を詳細に説明する。
なお、実施態様に記載する基板及び基板の製造方法については、本発明に係る基板及び基板の製造方法を説明するために例示したに過ぎず、これに限定されるものではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of a substrate and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
It should be noted that the substrate and the method for manufacturing the substrate described in the embodiments are merely exemplified for explaining the substrate and the method for manufacturing the substrate according to the present invention, and the present invention is not limited to this.

本発明の基板は、導電体と絶縁体とを有し、基板の回路である導電体と電子部品とが、電気が流れるように接続されて電子機器を構成する。
本発明の基板は、補強構造体が圧延金属体回路と同一の平面に設けられることにより、基板の剛性を向上させた電子機器とすることができる。
本発明の基板の回路である導電体は、圧延された導電体とメッキ処理にて作成された導電体とからなる。導電体は、絶縁体よりも電気を流すことができる物質であれば特に限定されない。なお、以下、圧延された導電体を圧延導電体と呼ぶことがある。また、メッキ処理にて作成された導電体を電解導電体と呼ぶことがある。また、本明細書では、電解導電体で形成された回路を含む層を電解金属層とする。
The substrate of the present invention has a conductor and an insulator, and the conductor, which is the circuit of the substrate, and the electronic component are connected so as to allow electricity to flow to constitute an electronic device.
The substrate of the present invention can be an electronic device with improved rigidity of the substrate by providing the reinforcing structure on the same plane as the rolled metal circuit.
The conductor, which is the circuit of the substrate of the present invention, consists of a rolled conductor and a conductor prepared by plating. The conductor is not particularly limited as long as it can conduct electricity better than the insulator. In addition, hereinafter, the rolled conductor may be referred to as a rolled conductor. A conductor produced by plating is sometimes called an electrolytic conductor. Further, in this specification, a layer including a circuit formed of an electrolytic conductor is referred to as an electrolytic metal layer.

圧延導電体とは、原料となる導電体の鋳塊が、回転している二本のロールの間に挿入され、鋳塊が押しつぶされながら引き延ばされ、目的の厚みまで薄くして製造された導電体である。具体的には、圧延銅板又は圧延アルミニウム板が該当する。なお、本発明では、圧延板に限定されず、圧延された銅の塊、圧延されたアルミニウムの塊を用いることも可能である。 Rolled conductors are manufactured by inserting an ingot of conductor, which is the raw material, between two rotating rolls, stretching the ingot while crushing it, and thinning it to the desired thickness. It is a good conductor. Specifically, a rolled copper plate or a rolled aluminum plate corresponds. Note that the present invention is not limited to the rolled plate, and it is also possible to use a rolled copper ingot or a rolled aluminum ingot.

電解導電体とは、メッキ処理にて作成された導電体であれば、特に限定されないが、具体的には、銅メッキ処理が例示できる。 The electrolytic conductor is not particularly limited as long as it is a conductor produced by plating, but a specific example thereof is copper plating.

圧延された導電体は、圧延の方向(板状の導電体を使用した場合、基板の平面(X-Y軸)方向)に延びた層状の金属組織となる。また、基板の作成の過程における熱処理により、等軸に近い結晶粒となる特徴がみられる。
一方、メッキ処理にて形成された電解導電体は、厚さ方向(Z軸方向)に柱状の金属組織である特徴を有する。
圧延導電体と電解導電体では、これらの特徴の違いを有する。よって、同じ物質であっても、これらの特徴の違いから、圧延導電体の方が電解導電体よりも基板の剛性を向上させる効果を有する。
A rolled conductor has a layered metal structure extending in the direction of rolling (when a plate-shaped conductor is used, the plane (XY axis) direction of the substrate). Also, due to the heat treatment in the process of manufacturing the substrate, the crystal grains are almost equiaxed.
On the other hand, an electrolytic conductor formed by plating is characterized by a columnar metal structure in the thickness direction (Z-axis direction).
A rolled conductor and an electrolytic conductor have these differences in characteristics. Therefore, even if the materials are the same, the rolled conductor has the effect of improving the rigidity of the substrate more than the electrolytic conductor due to the difference in these characteristics.

[第1の実施態様]
〈基板〉
図1を参照し、発明を実施するための態様に係る基板の構造について説明する。本発明の基板1は、導電体と絶縁体とを含む回路層を有する。
本発明の基板1は、回路層が複数重ねられて設けられており、回路層とは、圧延金属層2と電解金属層3;4とが該当する。
圧延金属層2の表面に電解金属層3;4が設けられ、本発明の基板1となる。
[First embodiment]
<substrate>
With reference to FIG. 1, the structure of the substrate according to the mode for carrying out the invention will be described. The substrate 1 of the present invention has a circuit layer containing conductors and insulators.
The substrate 1 of the present invention is provided with a plurality of stacked circuit layers, and the circuit layers correspond to the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layers 3 and 4 .
Electrolytic metal layers 3 and 4 are provided on the surface of the rolled metal layer 2 to form the substrate 1 of the present invention.

≪圧延金属層≫
圧延金属層2は、圧延された導電体からなる圧延金属体回路21と、圧延された導電体からなる補強構造体22と、絶縁樹脂からなる絶縁体23とを有する。なお、本明細書中では、圧延金属層2は、中敷きとも表現される。
圧延金属体回路21は、電気が流される役割を果たし、電解金属層3を介して電子部品と連結される。圧延金属体回路21と補強構造体22は、同一の平面内(図1のX-Y軸方向)に設けられており、補強構造体22は、圧延金属体回路21の周囲を連続して囲むように絶縁体23で隔てられて配置される。また、圧延金属体回路21と補強構造体22は、同一の圧延導電体から製造されている。
≪Rolled metal layer≫
The rolled metal layer 2 has a rolled metal circuit 21 made of a rolled conductor, a reinforcing structure 22 made of a rolled conductor, and an insulator 23 made of insulating resin. In this specification, the rolled metal layer 2 is also expressed as an insole.
The rolled metal circuit 21 plays a role through which electricity flows, and is connected to electronic components via the electrolytic metal layer 3 . The rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22 are provided on the same plane (XY axis direction in FIG. 1), and the reinforcing structure 22 continuously surrounds the rolled metal circuit 21. are separated by an insulator 23 as shown in FIG. Also, the rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22 are manufactured from the same rolled conductor.

補強構造体22が、圧延金属体回路21を連続して取り囲むように配置されていることから、補強構造体22がない場合と比較して、圧延金属層2の剛性が向上する。よって、圧延金属層2を有する基板1の全体の剛性を向上させる効果がある。この効果は、圧延金属体回路21と補強構造体22とが圧延導電体であり、同一の層内に設けられていることで、良好な効果を発揮する。
さらに、補強構造体22が、圧延金属体回路21を取り囲むように配置されていることから、圧延金属体回路21に電気が流され、熱が発生した際に、取り囲むように配置された補強構造体22に熱が伝わることで、圧延金属体回路21で生じた熱を放熱する効果もある。なお、熱は、電気が供給された電子部品から生じたり、圧延金属体回路21と接続した電解金属層3;4との接続面による抵抗から生じたりするものを含む。
Since the reinforcing structure 22 is arranged so as to continuously surround the rolled metal circuit 21, the rigidity of the rolled metal layer 2 is improved compared to the case where the reinforcing structure 22 is not provided. Therefore, there is an effect of improving the rigidity of the entire substrate 1 having the rolled metal layer 2 . This effect is achieved by the fact that the rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22 are rolled conductors and are provided in the same layer.
Furthermore, since the reinforcing structure 22 is arranged so as to surround the rolled metal circuit 21, the reinforcing structure arranged so as to surround the rolled metal circuit 21 when electricity is supplied to the rolled metal circuit 21 and heat is generated. Conducting heat to the body 22 also has the effect of dissipating the heat generated in the rolled metal body circuit 21 . Note that the heat includes heat generated from electronic components to which electricity is supplied, and heat generated from resistance due to connection surfaces with the electrolytic metal layers 3 and 4 connected to the rolled metal circuit 21 .

〔圧延金属体回路〕
圧延金属体回路21は、圧延金属体平面回路211と、圧延金属体層間回路212と、圧延金属体層間回路213とを有する。
[Rolled metal circuit]
The rolled metal circuit 21 has a rolled metal planar circuit 211 , a rolled metal interlayer circuit 212 , and a rolled metal interlayer circuit 213 .

圧延金属体回路21は、平面方向(図1のX-Y軸方向)に延びる圧延金属体平面回路211と、圧延金属体平面回路211の一端の側に設けられた板厚方向(図1のZ軸方向)に延びる圧延金属体層間回路212とを有する。圧延金属体平面回路211と圧延金属体層間回路212とが同一の圧延金属体から形成され、接続面のない導電体で形成される。
言い換えると、圧延金属体平面回路と211圧延金属体層間回路212とが接続面のない一体の導電体で形成された状態である。
圧延金属体平面回路211と圧延金属体層間回路212との間には、平面方向及び板厚方向に接続面のない構造である。よって、接続面が存在することによる電気抵抗がなく、電気が流れても接続面が存在することによる発熱を抑制できる効果がある。また、接続面から剥離して、接続不良を抑制できる効果もある。
The rolled metal circuit 21 includes a rolled metal flat circuit 211 extending in the plane direction (XY axis direction in FIG. 1) and a plate thickness direction (in FIG. 1) provided at one end of the rolled metal flat circuit 211. and a rolled metal interlayer circuit 212 extending in the Z-axis direction). The rolled metal planar circuit 211 and the rolled metal interlayer circuit 212 are formed from the same rolled metal, and are formed of conductors without connecting surfaces.
In other words, the rolled metal plane circuit 211 and the rolled metal interlayer circuit 212 are formed of a single conductor without connecting surfaces.
Between the rolled metal plane circuit 211 and the rolled metal interlayer circuit 212, there is no connecting surface in the planar direction and the plate thickness direction. Therefore, there is no electrical resistance due to the presence of the connection surface, and even if electricity flows, heat generation due to the presence of the connection surface can be suppressed. In addition, there is also an effect that it is possible to suppress poor connection by peeling off from the connection surface.

また、圧延金属体回路21は、平面方向に延びる圧延金属体平面回路211と、圧延金属体平面回路211の他端の側に設けられた板厚方向に延びる圧延金属体層間回路213とを有する。圧延金属体平面回路211と圧延金属体層間回路213とが同一の圧延金属体から形成され、接続面のない導電体で形成される。
言い換えると、圧延金属体平面回路211と圧延金属体層間回路213とが接続面のない一体の導電体で形成された状態である。
圧延金属体平面回路211と圧延金属体層間回路213との間には、平面方向及び板厚方向に接続面のない構造である。よって、接続面が存在することによる電気抵抗がなく、電気が流れても接続面が存在することによる発熱を抑制できる効果がある。また、接続面から剥離して、接続不良を抑制できる効果もある。
Further, the rolled metal circuit 21 has a rolled metal flat circuit 211 extending in the plane direction, and a rolled metal interlayer circuit 213 provided on the other end side of the rolled metal flat circuit 211 and extending in the plate thickness direction. . The rolled metal plane circuit 211 and the rolled metal interlayer circuit 213 are formed from the same rolled metal, and are formed of conductors having no connecting surfaces.
In other words, the rolled metal plane circuit 211 and the rolled metal layer-to-layer circuit 213 are formed of a single conductor without connecting surfaces.
Between the rolled metal plane circuit 211 and the rolled metal interlayer circuit 213, there is no connecting surface in the planar direction and the plate thickness direction. Therefore, there is no electrical resistance due to the presence of the connection surface, and even if electricity flows, heat generation due to the presence of the connection surface can be suppressed. In addition, there is also an effect that it is possible to suppress poor connection by peeling off from the connection surface.

〔補強構造体〕
補強構造体22は、圧延金属体回路21と同一の平面に設けられることにより、圧延金属層2の剛性を向上させる機能を有する。
補強構造体22は、基板の機械的強度を補強するものである。なお、機械的強度とは、基板の剛性のことをいう。さらに、補強構造体22を有することにより、基板の反りを抑制し又は熱膨張による平面方向の寸法の変化を抑制する効果もある。また、補強構造体22は、圧延金属体回路21に電気が流された際に生じた熱を受け取ることで、圧延金属体回路21を放熱させる役割も果たす。
[Reinforcing structure]
The reinforcement structure 22 has the function of improving the rigidity of the rolled metal layer 2 by being provided on the same plane as the rolled metal circuit 21 .
The reinforcing structure 22 reinforces the mechanical strength of the substrate. Note that the mechanical strength refers to the rigidity of the substrate. Furthermore, by having the reinforcing structure 22, there is also an effect of suppressing warping of the substrate or suppressing a change in dimension in the plane direction due to thermal expansion. Further, the reinforcing structure 22 also serves to dissipate heat from the rolled metal circuit 21 by receiving heat generated when electricity is applied to the rolled metal circuit 21 .

補強構造体22が、圧延金属体回路21と同一の平面に設けられることにより、補強構造体22がないと比較して、圧延金属層2の剛性が向上する効果がある。補強構造体22の形状等は特に限定されないが、圧延金属体回路21と同じ厚み(高さ)であれば、強度の向上の点で好ましい。 By providing the reinforcing structure 22 on the same plane as the rolled metal circuit 21, there is an effect that the rigidity of the rolled metal layer 2 is improved as compared with the case where the reinforcing structure 22 is not provided. The shape of the reinforcing structure 22 is not particularly limited, but if it has the same thickness (height) as the rolled metal circuit 21, it is preferable in terms of strength improvement.

補強構造体22は、複数の第1構造体部221と、複数の第2構造体部222と、複数の交差部223とを有する。言い換えると、補強構造体22は、平面方向に広がるように網状となった構造である。
第1構造体部221は、平面上の一方の方向(図1のX軸方向)に延びる圧延導電体である。
第2構造体部222は、一方の方向と交差する方向(図1のY軸方向)に延びる圧延導電体である。
交差部223は、第1構造体部221と第2構造体部222との交点である。交差部223は、接続面のない一体の圧延導電体からなり、第1構造体部221と第2構造体部222との間には、平面方向及び板厚方向に接続面のない構造である。
複数の第1構造体部221と複数の第2構造体部222とで囲まれた隙間部分には、絶縁体23が充填された状態である。言い換えると、補強構造体22が網状に形成され、網目の隙間部分に絶縁体23が充填された構造となっている。
The reinforcing structure 22 has a plurality of first structure portions 221 , a plurality of second structure portions 222 and a plurality of crossing portions 223 . In other words, the reinforcing structure 22 is a net-like structure extending in the plane direction.
The first structure portion 221 is a rolled conductor extending in one direction (the X-axis direction in FIG. 1) on a plane.
The second structure portion 222 is a rolled conductor extending in a direction intersecting one direction (Y-axis direction in FIG. 1).
The intersection portion 223 is the intersection point between the first structure portion 221 and the second structure portion 222 . The intersecting portion 223 is made of a single rolled conductor with no connection surface, and between the first structure portion 221 and the second structure portion 222, there is no connection surface in the planar direction and the plate thickness direction. .
Insulators 23 are filled in gaps surrounded by the plurality of first structure portions 221 and the plurality of second structure portions 222 . In other words, the reinforcing structure 22 is formed in a mesh shape, and the gaps in the mesh are filled with the insulator 23 .

補強構造体22は、平面方向に広がるように網状となった構造の場合、基板1の圧延導電体の熱膨張率と絶縁体の熱膨張率とを比較すると、圧延導電体の熱膨張率よりも絶縁体の熱膨張率の方が大きい。よって、基板1の全体に熱が加えられた場合において、補強構造体22を網状の構造とすることにより、補強構造体22がない場合と比較して、平面方向の寸法が伸縮することを抑制することができる。よって、基板1の全体の反りを抑制できる効果がある。
また、補強構造体22を網状とすることで、平面方向に広がるように板状の連続体(ベタ状)とする場合に比べ、基板を軽量化することができる。
When the reinforcing structure 22 has a net-like structure extending in the plane direction, the coefficient of thermal expansion of the rolled conductor of the substrate 1 and the coefficient of thermal expansion of the insulator are higher than that of the rolled conductor. However, the coefficient of thermal expansion of the insulator is larger than that of the insulator. Therefore, when heat is applied to the entire substrate 1, by forming the reinforcing structure 22 into a net-like structure, expansion and contraction of the dimensions in the plane direction are suppressed compared to the case where the reinforcing structure 22 is not provided. can do. Therefore, there is an effect that the warpage of the entire substrate 1 can be suppressed.
Further, by forming the reinforcing structure 22 in a mesh shape, the weight of the substrate can be reduced as compared with the case where the reinforcing structure 22 is formed in a plate-like continuous body (solid shape) so as to extend in the plane direction.

なお、補強構造体22は、平面方向に広がるように網状となった構造の場合を例示したが、図6に示すように、平面方向に広がるように板状の連続体(ベタ状)の補強構造体301としてもよい。
この構造の補強構造体301とすることにより、圧延金属層2を有する基板全体の剛性が高くなる効果がある。また、圧延金属体の熱膨張率と絶縁体の熱膨張率の違いによる寸法の変化を小さくできることから、基板の寸法精度を高くできる効果がある。基板の寸法精度とは、基板の温度が上昇または低下した場合における平面方向の基板寸法と、基板の温度が常温(25℃)の場合における平面方向の基板寸法とを比較し、その差が小さいことを基板寸法が高いという。基板の寸法精度が高い場合、基板の温度変化が生じても、平面方向の伸縮が小さいことから、回路の断線や基板の反りを抑制できる効果がある。
なお、網目状の補強構造体22と、平面方向に広がるように板状の連続体である補強構造体301とが組み合わされてもよい。
Although the reinforcing structure 22 has a net-like structure extending in the plane direction, as shown in FIG. A structure 301 may be used.
The reinforcement structure 301 having this structure has the effect of increasing the rigidity of the entire substrate having the rolled metal layer 2 . In addition, since the dimensional change due to the difference between the coefficient of thermal expansion of the rolled metal body and the coefficient of thermal expansion of the insulator can be reduced, there is an effect that the dimensional accuracy of the substrate can be increased. The dimensional accuracy of the substrate is defined as the substrate dimension in the plane direction when the temperature of the substrate rises or falls, and the substrate dimension in the plane direction when the temperature of the substrate is normal temperature (25° C.), and the difference between them is small. This is called a large substrate size. When the dimensional accuracy of the substrate is high, even if the temperature of the substrate changes, the expansion and contraction in the planar direction is small, which is effective in suppressing disconnection of the circuit and warping of the substrate.
Note that the mesh-like reinforcing structure 22 may be combined with the reinforcing structure 301, which is a plate-like continuous body extending in the plane direction.

また、補強構造体22は、圧延金属体回路21を取り囲むように絶縁体23で隔てられて配置される。補強構造体22が、圧延金属体回路21を取り囲むように配置されることにより、圧延金属体回路21に電気が流された際に生じた熱が、補強構造体22に向かって平面方向に均等に広がり、補強構造体22に熱が移動する。よって、圧延金属体回路21を均等に放熱させる効果がある。よって、圧延金属体回路21の熱膨張の平面方向の偏りを抑制でき、基板1の反りの抑制することができる。 Further, the reinforcing structure 22 is arranged so as to surround the rolled metal circuit 21 while being separated by an insulator 23 . By arranging the reinforcing structure 22 so as to surround the rolled metal circuit 21, the heat generated when electricity is applied to the rolled metal circuit 21 is evenly distributed toward the reinforcing structure 22 in the plane direction. , and the heat is transferred to the reinforcing structure 22 . Therefore, there is an effect of uniformly dissipating heat from the rolled metal circuit 21 . Therefore, unevenness of the thermal expansion of the rolled metal circuit 21 in the planar direction can be suppressed, and warpage of the substrate 1 can be suppressed.

なお、図1のB図に示すように、一方の方向の距離224は、補強構造体22と圧延金属体回路21とにおける、平面上の一方の方向(図1のX軸方向)の距離である。
言い換えると、一方の方向の距離224は、圧延金属体回路21と第2構造体部222との距離である。
また、他方の方向の距離225は、補強構造体22と圧延金属体回路21とにおける、平面上の一方の方向と交差する方向(図1のY軸方向)の距離である。
言い換えると、他方の方向の距離225は、圧延金属体回路21と第1構造体部221との距離である。
一方の方向の距離224と、他方の方向の距離225との距離は特に限定されない。しかしながら、圧延金属体回路21に電気が流された場合に、補強構造体22と絶縁性を確保できる距離かつ熱が絶縁体23を経由して補強構造体22に伝わる距離であることが好ましい。
Incidentally, as shown in FIG. 1B, the distance 224 in one direction is the distance in one direction (X-axis direction in FIG. 1) on the plane between the reinforcing structure 22 and the rolled metal circuit 21. be.
In other words, the distance 224 in one direction is the distance between the rolled metal circuit 21 and the second structure portion 222 .
The distance 225 in the other direction is the distance in the direction (Y-axis direction in FIG. 1) intersecting the one direction on the plane between the reinforcing structure 22 and the rolled metal circuit 21 .
In other words, the distance 225 in the other direction is the distance between the rolled metal circuit 21 and the first structure portion 221 .
The distance between the distance 224 in one direction and the distance 225 in the other direction is not particularly limited. However, it is preferable that the distance be such that insulation from the reinforcing structure 22 can be ensured when electricity is applied to the rolled metal circuit 21 and that heat is transferred to the reinforcing structure 22 via the insulator 23 .

圧延金属体回路21と補強構造体22との絶縁性を確保する観点から、一方の方向の距離224及び/又は他方の方向の距離225は、15μm以上が適用可能である。
また、圧延金属体回路21と補強構造体22との熱の伝わりやすさの観点から、一方の方向の距離224及び/又は他方の方向の距離225は、300μm以下が適用可能である。
なお、圧延金属体回路21と補強構造体22との絶縁性を確保する観点及び熱の伝わりの観点の両方の観点から、一方の方向の距離224及び/又は他方の方向の距離225は、下限値として好ましくは、25μm以上、さらに好ましくは40μm以上、最も好ましくは50μm以上が適用でき、上限値として、好ましくは200μm以下、さらに好ましくは170μm以下、最も好ましくは150μm以下が適用できる。
From the viewpoint of ensuring insulation between the rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22, the distance 224 in one direction and/or the distance 225 in the other direction is 15 μm or more.
Also, from the viewpoint of ease of heat transfer between the rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22, the distance 224 in one direction and/or the distance 225 in the other direction can be 300 μm or less.
Note that from the viewpoint of both ensuring insulation between the rolled metal circuit 21 and the reinforcing structure 22 and from the viewpoint of heat transfer, the distance 224 in one direction and/or the distance 225 in the other direction is The value is preferably 25 μm or more, more preferably 40 μm or more, most preferably 50 μm or more, and the upper limit is preferably 200 μm or less, more preferably 170 μm or less, and most preferably 150 μm or less.

また、一方の方向の距離224と他方の方向の距離225距離との比は、特に限定されないが、一方の方向の距離224と他方の方向の距離225距離が、25μm以上200μm以下の場合、2:1~1:2が適用可能である。
なお、一方の方向の距離224と他方の方向の距離225距離との比は、1.5:1~1:1.5が好ましく、より好ましくは、1.3:1~1:1.3であり、最も好ましくは、1.1:1~1:1.1以上である。
一方の方向の距離224と他方の方向の距離225の比が、同じ又は近似することにより、圧延金属体回路21から平面方向に均等に熱が補強構造体22に移る。よって、圧延金属体回路21が、平面方向に均等に放熱させやすくする効果がある。
Also, the ratio of the distance 224 in one direction to the distance 225 in the other direction is not particularly limited. :1 to 1:2 are applicable.
The ratio of the distance 224 in one direction and the distance 225 in the other direction is preferably 1.5:1 to 1:1.5, more preferably 1.3:1 to 1:1.3. and most preferably from 1.1:1 to 1:1.1 or more.
The ratio of the distance 224 in one direction to the distance 225 in the other direction is the same or similar so that heat is evenly transferred from the rolled metal circuit 21 to the reinforcement structure 22 in the planar direction. Therefore, there is an effect that the rolled metal circuit 21 facilitates uniform heat dissipation in the planar direction.

また、補強構造体22の体積は、圧延金属体回路21の体積以上であることが好ましい。補強構造体22が圧延金属体回路21で発生した熱を多く受け取ることができ、圧延金属体回路21の放熱効果を大きくすることができる。
さらに、補強構造体22の体積は、圧延金属体回路21の体積と後述する電解金属層3;4の導電体の体積とを足した体積より大きいことが、より好ましい。基板1の回路の全体に流される電気により、回路の全体で生じた熱を補強構造体22が多く受け取ることができるためより好ましい。
Moreover, the volume of the reinforcing structure 22 is preferably equal to or greater than the volume of the rolled metal circuit 21 . The reinforcing structure 22 can receive much heat generated in the rolled metal circuit 21, and the heat radiation effect of the rolled metal circuit 21 can be increased.
Furthermore, it is more preferable that the volume of the reinforcing structure 22 is larger than the sum of the volume of the rolled metal circuit 21 and the volume of the conductors of the electrolytic metal layers 3 and 4, which will be described later. It is more preferable because the reinforcing structure 22 can receive a large amount of heat generated in the entire circuit by the electricity flowing through the entire circuit of the substrate 1 .

〔絶縁体〕
絶縁体23は、導電体を流れる電気を絶縁する機能を有する。
絶縁体23は、インク状又は粉状の熱硬化性樹脂を用いることができる。インク状又は粉状の熱硬化性樹脂は、フィラーの入ったものが好ましい。フィラーは、導電性を有しないフィラーであり、インク状の熱硬化性樹脂よりも熱伝導率のよいフィラーを用いることが好ましい。
〔Insulator〕
The insulator 23 has a function of insulating electricity flowing through the conductor.
Ink or powder thermosetting resin can be used for the insulator 23 . The ink-like or powder-like thermosetting resin preferably contains a filler. The filler is a filler that does not have electrical conductivity, and it is preferable to use a filler that has a higher thermal conductivity than the ink-like thermosetting resin.

絶縁体23は、図4のC図に示すように、絶縁樹脂231と絶縁樹脂232と絶縁樹脂233と絶縁樹脂234とを有する。なお、本発明では、圧延金属層2の絶縁体23は、基板1を補強するためのガラス繊維で編まれた平面方向に広がるシート状の補強部材を有しない。なお、フィラーと呼ばれる絶縁樹脂の強度を向上させる目的で添加される添加剤は、含有してもよい。
絶縁樹脂231は、圧延導電体に設けられた凹み部51に、板厚方向(図1のZ軸方向)の一方の側から充填された絶縁樹脂である。また、絶縁樹脂232は、圧延導電体に設けられた凹み部52に、板厚方向の他方の側から充填された絶縁樹脂である。
絶縁樹脂231と絶縁樹脂232には平面方向に延びる接続面235を有する。また、接続面235は、補強構造体22の板厚方向の中央部分に有する。
絶縁樹脂233は、圧延金属体平面回路211の一方の側の面(上面側)に設けられる凹み部53及び補強構造体22の一方の側の面に設けられる凹み部55に充填された絶縁樹脂である。絶縁樹脂233は、絶縁樹脂231と板厚方向に延びる接続面236を有する。
絶縁樹脂234は、圧延金属体平面回路211の他方の側の面(下面側)に設けられる凹み部54及び補強構造体22の他方の側の面に設けられる凹み部56に充填された絶縁樹脂である。絶縁樹脂234は、絶縁樹脂232と板厚方向に延びる接続面237を有する。
The insulator 23 has an insulating resin 231, an insulating resin 232, an insulating resin 233, and an insulating resin 234, as shown in FIG. 4C. In the present invention, the insulator 23 of the rolled metal layer 2 does not have a sheet-shaped reinforcing member that is woven with glass fibers and spreads in the plane direction for reinforcing the substrate 1 . An additive called a filler that is added for the purpose of improving the strength of the insulating resin may be contained.
The insulating resin 231 is an insulating resin that fills the concave portion 51 provided in the rolled conductor from one side in the plate thickness direction (the Z-axis direction in FIG. 1). The insulating resin 232 is an insulating resin that fills the concave portion 52 provided in the rolled conductor from the other side in the plate thickness direction.
The insulating resin 231 and the insulating resin 232 have a connecting surface 235 extending in the plane direction. Moreover, the connecting surface 235 is provided at the central portion of the reinforcing structure 22 in the plate thickness direction.
The insulating resin 233 is the insulating resin that fills the recessed portion 53 provided on one side surface (upper surface side) of the rolled metal planar circuit 211 and the recessed portion 55 provided on one side surface of the reinforcing structure 22 . is. The insulating resin 233 has a connecting surface 236 extending in the plate thickness direction with the insulating resin 231 .
The insulating resin 234 is the insulating resin that fills the recessed portion 54 provided on the other side surface (lower surface side) of the rolled metal planar circuit 211 and the recessed portion 56 provided on the other side surface of the reinforcing structure 22 . is. The insulating resin 234 has a connection surface 237 extending in the plate thickness direction with the insulating resin 232 .

≪電解金属層≫
電解金属層3及び電解金属層4は、圧延金属層2の表面に積層された回路である。
電解金属層3及び4は、メッキ処理にて作成された導電体である電解導電体である。なお、電解導電体であれば、導電体の種類は特に限定されないが、銅メッキ処理が好適に使用できる。
電解金属層3の電解導電体は、圧延金属体層間回路212と、電気が流れるように接続される。また、電解金属層4の電解導電体は、圧延金属体層間回路213と、電気が流れるように接続される。
電解金属層3は、平面方向に延びる電解金属体平面回路31を備える。また、電解金属層4は、平面方向に延びる電解金属体平面回路41を備える。
電解金属体平面回路31は、基板1の板厚方向の最も外側に位置し、電子部品と電気が流れるように接触して接続されたりする。電解金属体平面回路31と反対の側の面の電解金属体平面回路41は、基板1の板厚方向の最も外側に位置し、電子部品と電気が流れるように接続されたりする。
圧延金属体回路21と電子部品とは、電解金属体平面回路31又は電解金属体平面回路41を経由して電気が流れるように接続された状態となる。
≪Electrolytic metal layer≫
The electrolytic metal layer 3 and the electrolytic metal layer 4 are circuits laminated on the surface of the rolled metal layer 2 .
The electrolytic metal layers 3 and 4 are electrolytic conductors, which are conductors created by plating. The type of conductor is not particularly limited as long as it is an electrolytic conductor, but copper plating can be preferably used.
The electrolytic conductor of the electrolytic metal layer 3 is electrically connected to the rolled metal interlayer circuit 212 . Also, the electrolytic conductor of the electrolytic metal layer 4 is electrically connected to the rolled metal interlayer circuit 213 .
The electrolytic metal layer 3 comprises an electrolytic metal body planar circuit 31 extending in the planar direction. The electrolytic metal layer 4 also includes an electrolytic metal body planar circuit 41 extending in the planar direction.
Electrolytic metal body planar circuit 31 is located on the outermost side of substrate 1 in the plate thickness direction, and is in contact with and connected to electronic components so that electricity can flow. The electrolytic metal body planar circuit 41 on the side opposite to the electrolytic metal body planar circuit 31 is located on the outermost side in the plate thickness direction of the substrate 1 and is electrically connected to electronic components.
The rolled metal circuit 21 and the electronic component are connected to each other through the electrolytic metal planar circuit 31 or the electrolytic metal planar circuit 41 so that electricity can flow.

[基板の製造方法]
次に図2を参照し、本発明の基板1の製造方法について説明する。
まず、圧延導電体5が準備される。この工程を圧延導電体準備工程とする。
[Substrate manufacturing method]
Next, referring to FIG. 2, a method for manufacturing the substrate 1 of the present invention will be described.
First, a rolled conductor 5 is prepared. This step is referred to as a rolling conductor preparation step.

次に、図2(A)図に示すように、圧延導電体5の表面にエッチングレジストが設けられる。圧延導電体5の一方の側の面に、補強構造体22となる部分と、圧延金属体回路21となる部分とをエッチングレジスト57で覆う工程を行う。この工程を、第一レジスト作成工程とする。
なお、第一レジスト作成工程では、圧延導電体5の他方の側の面の全体もエッチングレジスト57で保護される。
Next, as shown in FIG. 2A, the surface of the rolled conductor 5 is provided with an etching resist. A step of covering the part to be the reinforcing structure 22 and the part to be the rolled metal circuit 21 with an etching resist 57 is performed on one side surface of the rolled conductor 5 . This step is referred to as a first resist forming step.
In addition, in the first resist forming step, the entire surface of the rolled conductor 5 on the other side is also protected by the etching resist 57 .

次に第一レジスト作成工程のエッチングレジスト57で覆われた状態において、圧延導電体5がエッチングされる。この工程を第一エッチング工程とする。この工程により、圧延導電体5の一方の側の面に凹み51が形成される。そして第一レジスト工程で設けられたエッチングレジスト57が除去され、図2(B)に示す状態となる。 Next, the rolled conductor 5 is etched while covered with the etching resist 57 of the first resist forming step. This step is referred to as a first etching step. By this step, a recess 51 is formed in one side surface of the rolled conductor 5 . Then, the etching resist 57 provided in the first resist step is removed, resulting in the state shown in FIG. 2(B).

次に、図2(C)示すように、一方の側の凹み部51に絶縁樹脂231が充填される工程が行われる。この工程を第一絶縁樹脂充填工程とする。
なお、第一絶縁樹脂充填工程の後に、絶縁樹脂231と圧延導電体5が平らな面となるように、一方の側の面が整面処理される。この工程を第一整面工程とする。
Next, as shown in FIG. 2C, a step of filling the recessed portion 51 on one side with an insulating resin 231 is performed. This step is referred to as a first insulating resin filling step.
After the step of filling the first insulating resin, one surface is smoothed so that the insulating resin 231 and the rolled conductor 5 are flat. This step is referred to as a first surface leveling step.

図3(A)図に示すように、圧延導電体5の他方の側の面に、補強構造体22となる部分と、圧延金属体回路21となる部分とをエッチングレジスト58で覆う工程を行う。この工程を、第二レジスト作成工程とする。
なお、第二レジスト作成工程では、圧延導電体5の一方の側の面の全体もエッチングレジスト58で保護される。
As shown in FIG. 3A, on the other surface of the rolled conductor 5, a step of covering the portion to be the reinforcing structure 22 and the portion to be the rolled metal circuit 21 with an etching resist 58 is performed. . This step is referred to as a second resist forming step.
In addition, in the second resist forming step, the entire surface of one side of the rolled conductor 5 is also protected by the etching resist 58 .

次に第二レジスト作成工程のエッチングレジスト58で覆われた状態において、圧延導電体5がエッチングされる。この工程を第二エッチング工程とする。この工程により、圧延導電体5の他方の側の面に凹み部52が形成される。そして第二レジスト工程で設けられたエッチングレジスト58が除去され、図3(B)に示す状態となる。なお、凹み部52は、絶縁樹脂231が露出した状体となるようにエッチングがされる。また、この工程により、圧延金属体回路中間体214と網状の補強構造体中間体226が形成される。 Next, the rolled conductor 5 is etched while covered with the etching resist 58 of the second resist forming step. This step is referred to as a second etching step. By this step, a recessed portion 52 is formed on the surface of the rolled conductor 5 on the other side. Then, the etching resist 58 provided in the second resist step is removed, resulting in the state shown in FIG. 3(B). The recessed portion 52 is etched so that the insulating resin 231 is exposed. Also, by this process, the rolled metal circuit intermediate 214 and the net-like reinforcing structure intermediate 226 are formed.

次に、図3(C)に示すように、他方の側の凹み部52に絶縁樹脂232が充填される工程が行われる。この工程を第二絶縁樹脂充填工程とする。この工程により、圧延金属層中間体24となる。
なお、第二絶縁樹脂充填工程の後に、絶縁樹脂232と圧延導電体5が平らな面となるように、他方の側の面が整面処理される。この工程を第二整面工程とする。
Next, as shown in FIG. 3C, a step of filling the recessed portion 52 on the other side with an insulating resin 232 is performed. This step is referred to as a second insulating resin filling step. Through this step, the rolled metal layer intermediate 24 is obtained.
After the second insulating resin filling step, the surface on the other side is smoothed so that the insulating resin 232 and the rolled conductor 5 are flat. This step is referred to as a second surface leveling step.

次に、図4(A)に示すように、圧延金属体回路中間体214の一方の側の面に、圧延金属体層間回路212となる部分が、エッチングレジスト59で覆われる。また、圧延金属体回路中間体214の他方の側の面に、圧延金属体層間回路213となる部分が、エッチングレジスト59で覆われる。この工程を第三レジスト作成工程とする。 Next, as shown in FIG. 4(A), the portion to be the rolled metal interlayer circuit 212 on one side surface of the rolled metal circuit intermediate 214 is covered with an etching resist 59 . Also, the part to be the rolled metal interlayer circuit 213 on the other side surface of the rolled metal circuit intermediate 214 is covered with the etching resist 59 . This process is referred to as a third resist forming process.

次に第三レジスト作成工程のエッチングレジスト59で覆われた状態において、圧延導電体5がハーフエッチングされる。この工程を第三エッチング工程とする。
この工程により、図4(B)に示すように、圧延金属体回路中間体214に凹み部53と凹み部54が設けられ、圧延金属体回路21が形成される。また、補強構造体中間体226に凹み部55と凹み部56とが設けられ、補強構造体22が形成される。
Next, the rolled conductor 5 is half-etched while covered with the etching resist 59 of the third resist forming step. This step is referred to as a third etching step.
By this step, as shown in FIG. 4B, the rolled metal circuit intermediate 214 is provided with the recesses 53 and 54, and the rolled metal circuit 21 is formed. Further, the reinforcing structure intermediate body 226 is provided with the recessed portion 55 and the recessed portion 56 to form the reinforcing structure 22 .

次に、凹み部53と凹み部55とに絶縁樹脂233が充填されかつ凹み部54と凹み部56とに絶縁樹脂234が充填される工程が行われる。この工程を第三絶縁樹脂充填工程とする。この工程により、圧延金属層2が形成され、図4(C)に示す状態となる。
なお、第三絶縁樹脂充填工程の後に、一方の側の面の絶縁樹脂233と圧延金属体層間回路212とが平らな面となるように、一方の側の面が整面処理される。また、他方の側の面の絶縁樹脂234と圧延金属体層間回路213とが平らな面となるように、他方の側の面が整面処理される。この工程を第三整面工程とする。
Next, a step of filling the recesses 53 and 55 with the insulating resin 233 and filling the recesses 54 and 56 with the insulating resin 234 is performed. This step is referred to as a third insulating resin filling step. By this process, the rolled metal layer 2 is formed, and the state shown in FIG. 4(C) is obtained.
After the third insulating resin filling step, the surface on one side is smoothed so that the insulating resin 233 on the one side and the rolled metal interlayer circuit 212 are flat. In addition, the surface on the other side is smoothed so that the insulating resin 234 on the other side and the rolled metal interlayer circuit 213 are flat. This process is referred to as a third surface leveling process.

次に、図5(A)に示すように、圧延金属層2の表面にメッキ処理により、電解導電体6が設けられる。この工程を最外層メッキ工程とする。 Next, as shown in FIG. 5A, an electrolytic conductor 6 is provided on the surface of the rolled metal layer 2 by plating. This process is referred to as the outermost layer plating process.

次に図5(B)に示すように、電解導電体に最外層の回路となる部分がエッチングレジスト65で覆われる。この工程を最外層レジスト作成工程とする。
そして、最外層レジスト作成工程のエッチングレジスト65で覆われた状態において、電解導電体6がエッチングされる。一方の側の面に最外層である電解金属体平面回路31が形成され、電解金属層3となる。また、他方の側の面に最外層である電解金属体平面回路34が形成され、電解金属層4となる。その後、エッチングレジスト65が除去され、図1(A)に示す基板1となる。
その後、ソルダーレジストが設けられ、表面の保護された基板1が作成される。
Next, as shown in FIG. 5B, the outermost circuit portion of the electrolytic conductor is covered with an etching resist 65 . This step is referred to as the outermost layer resist forming step.
Then, the electrolytic conductor 6 is etched while covered with the etching resist 65 in the outermost layer resist forming step. An electrolytic metal planar circuit 31 as the outermost layer is formed on one side surface to form the electrolytic metal layer 3 . On the other side, an electrolytic metal body planar circuit 34 as the outermost layer is formed to form the electrolytic metal layer 4 . After that, the etching resist 65 is removed, and the substrate 1 shown in FIG. 1(A) is obtained.
After that, a solder resist is applied to form the substrate 1 with its surface protected.

[第2の実施形態]
〈基板〉
図7を参照し、発明を実施するための態様に係る基板の構造について説明する。なお、第1の実施形態の基板1と同じ構造のものは同一の符号とし、説明を省略する。本発明の基板12は、第1の実施形態の基板1の補強構造体の形状が相違する。
本実施態様では、補強構造体25は、圧延金属体回路21の周囲を連続して囲むように配置され、第1の実施態様の補強構造体22のように平面方向に広がる網状の補強構造体となっていない。
本実施の形態であっても、圧延金属層2に補強構造体25を有していることから、補強構造体25がない場合と比較して、圧延金属層2の剛性を向上させる効果がある。また、第1の実施形態と同様に、圧延金属体回路21の放熱性も有する。
[基板の製造]
基板の製造方法については、第一レジスト作成工程と第二のレジスト作成工程において、補強構造体25の形状となるように、エッチングレジストを設けることで、第1の製造方法と同様に製造することができる。
[Second embodiment]
<substrate>
With reference to FIG. 7, the structure of the substrate according to the mode for carrying out the invention will be described. The same reference numerals are assigned to the same structures as those of the substrate 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. The substrate 12 of the present invention differs from the substrate 1 of the first embodiment in the shape of the reinforcing structure.
In this embodiment, the reinforcement structure 25 is arranged so as to continuously surround the rolled metal circuit 21, and is a net-like reinforcement structure extending in the plane direction like the reinforcement structure 22 of the first embodiment. It is not.
Even in the present embodiment, since the rolled metal layer 2 has the reinforcing structure 25, there is an effect of improving the rigidity of the rolled metal layer 2 compared to the case where the reinforcing structure 25 is not provided. . In addition, it has the heat dissipation property of the rolled metal circuit 21 as in the first embodiment.
[Substrate manufacturing]
Regarding the manufacturing method of the substrate, in the first resist forming process and the second resist forming process, etching resists are provided so as to form the shape of the reinforcing structure 25, so that the substrate is manufactured in the same manner as in the first manufacturing method. can be done.

[第3の実施形態]
図8を参照し、発明を実施するための態様に係る基板13の構造について説明する。なお、第1の実施形態の基板1と同じ構造のものは、同一の符号とし、説明を省略する。本発明の基板13は、第1の実施形態の基板1の圧延金属体回路21に変えて、圧延金属体回路26を有する。
また、電解金属層7と電解金属層8とを備える点が、第1の実施態様と異なる。
また、電解金属層3と電解金属層4は基板13の最も外側に配置された状態である。
[Third Embodiment]
Referring to FIG. 8, the structure of the substrate 13 according to the mode for carrying out the invention will be described. The same reference numerals are given to the same structures as those of the substrate 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. The substrate 13 of the present invention has a rolled metal circuit 26 instead of the rolled metal circuit 21 of the substrate 1 of the first embodiment.
Moreover, it differs from the first embodiment in that an electrolytic metal layer 7 and an electrolytic metal layer 8 are provided.
Also, the electrolytic metal layer 3 and the electrolytic metal layer 4 are arranged on the outermost side of the substrate 13 .

〔圧延金属体回路〕
圧延金属体回路26は、板厚方向に延びる圧延金属体層間回路261を有する。言い換えると、圧延金属体回路26は、第1の実施態様の圧延金属体回路21の圧延金属体平面回路211に相当する構造を有していない。
[Rolled metal circuit]
The rolled metal circuit 26 has a rolled metal interlayer circuit 261 extending in the plate thickness direction. In other words, the rolled metal circuit 26 does not have a structure corresponding to the rolled metal planar circuit 211 of the rolled metal circuit 21 of the first embodiment.

〔電解金属層〕
電解金属層7は、電解導電体71からなる電解金属体層間回路72と絶縁体73を有する。絶縁体73は絶縁樹脂76であり、第1の実施態様の絶縁樹脂と同じものが使用できる。
電解金属層7は、圧延金属層2と電解金属層3との間に配置される。電解金属体層間回路72は、圧延金属体回路26及び電解金属層3の電解金属体平面回路31に渡って、電気が流れるように接続される。
また、電解金属体層間回路72と圧延金属体回路26の接続面は、平面方向に接続面を有するが、板厚方向に接続面を有しない状態である。電解金属体層間回路72と電解金属体平面回路31は、平面方向に接続面を有するが、板厚方向に接続面を有しない状態である。
[Electrolytic metal layer]
The electrolytic metal layer 7 has an electrolytic metal interlayer circuit 72 made of an electrolytic conductor 71 and an insulator 73 . The insulator 73 is an insulating resin 76, and the same insulating resin as in the first embodiment can be used.
Electrolytic metal layer 7 is arranged between rolled metal layer 2 and electrolytic metal layer 3 . The electrolytic metal interlayer circuit 72 is electrically connected across the rolled metal circuit 26 and the electrolytic metal planar circuit 31 of the electrolytic metal layer 3 .
Further, the connection surface between the electrolytic metal layer-to-layer circuit 72 and the rolled metal circuit 26 has a connection surface in the planar direction, but does not have a connection surface in the plate thickness direction. The electrolytic metal interlayer circuit 72 and the electrolytic metal planar circuit 31 have connection surfaces in the planar direction, but do not have connection surfaces in the plate thickness direction.

電解金属層8は、電解導電体81からなる電解金属体層間回路82と絶縁体83を有する。絶縁体83は絶縁樹脂86であり、第1の実施態様の絶縁樹脂と同じものが使用できる。
電解金属層8は、圧延金属層2と電解金属層4との間に配置される。電解金属体層間回路82は、圧延金属体回路26及び電解金属層4の電解金属体平面回路41に渡って、電気が流れるように接続される。
また、電解金属体層間回路82と圧延金属体回路26の接続面は、平面方向に接続面を有するが、板厚方向に接続面を有しない状態である。電解金属体層間回路82と電解金属体平面回路41は、平面方向に接続面を有するが、板厚方向に接続面を有しない状態である。
[基板の製造方法]
図9を参照し、本実施態様の基板13の製造方法について説明する。本実施態様の基板13の製造方法は、第1の実施態様の基板1の製造方法と同様に、圧延導電体準備工程から第二整面工程まで同じ工程を行う。
本実施態様では、第1の実施態様の圧延金属層中間体24の状態が、圧延金属層2に該当する。つまり、第二整面工程の後の状態において、圧延金属体回路26が作成された状態となる。
図9(A)に示すように、圧延金属層2の表面にメッキ処理により、電解導電体71及び81が設けられる。この工程を内部メッキ工程とする。
次に圧延金属体回路26を覆うように、電解導電体71及び81にエッチングレジスト74が設けられる。この工程を第四レジスト作成工程とする。
次に、第四レジスト作成工程のエッチングレジスト74で覆われた状態において、電解導電体71及び81がエッチングされる。この工程を第四エッチング工程とする。
この工程により、図9(B)に示すように、電解導電体71及び81に凹み部75と凹み部85が設けられ、電解金属体層間回路72及び82が形成される。
The electrolytic metal layer 8 has an electrolytic metal interlayer circuit 82 made of an electrolytic conductor 81 and an insulator 83 . The insulator 83 is an insulating resin 86, and the same insulating resin as in the first embodiment can be used.
Electrolytic metal layer 8 is arranged between rolled metal layer 2 and electrolytic metal layer 4 . The electrolytic metal interlayer circuit 82 is electrically connected across the rolled metal circuit 26 and the electrolytic metal planar circuit 41 of the electrolytic metal layer 4 .
Further, the connection surface between the electrolytic metal layer-to-layer circuit 82 and the rolled metal circuit 26 has a connection surface in the planar direction, but does not have a connection surface in the plate thickness direction. The electrolytic metal interlayer circuit 82 and the electrolytic metal planar circuit 41 have connection surfaces in the planar direction, but do not have connection surfaces in the plate thickness direction.
[Substrate manufacturing method]
A method for manufacturing the substrate 13 of this embodiment will be described with reference to FIG. In the method of manufacturing the substrate 13 of this embodiment, the same steps from the rolling conductor preparation step to the second surface leveling step are performed in the same manner as in the method of manufacturing the substrate 1 of the first embodiment.
In this embodiment, the state of the rolled metal layer intermediate 24 of the first embodiment corresponds to the rolled metal layer 2 . In other words, the rolled metal circuit 26 is formed after the second surface leveling step.
As shown in FIG. 9A, electrolytic conductors 71 and 81 are provided on the surface of the rolled metal layer 2 by plating. This process is called an internal plating process.
Next, an etching resist 74 is provided on the electrolytic conductors 71 and 81 so as to cover the rolled metal circuit 26 . This step is referred to as a fourth resist forming step.
Next, the electrolytic conductors 71 and 81 are etched while covered with the etching resist 74 of the fourth resist forming step. This step is referred to as a fourth etching step.
By this step, as shown in FIG. 9B, the electrolytic conductors 71 and 81 are provided with recesses 75 and 85 to form the electrolytic metal interlayer circuits 72 and 82 .

次に、凹み部75に絶縁樹脂76が充填され、凹み部85に絶縁樹脂86が充填される工程が行われる。この工程を第四絶縁樹脂充填工程とする。この工程により、電解金属層7及び電解金属層8が形成され、図9(C)に示す状態となる。
なお、第四絶縁樹脂充填工程の後に、一方の側の面の絶縁樹脂76と電解金属体層間回路72とが平らな面となるように、一方の側の面が整面処理される。また、他方の側の面の絶縁樹脂86と電解金属体層間回路82とが平らな面となるように、他方の側の面が整面処理される。この工程を第四整面工程とする。
その後、第1の実施態様の最外層メッキ工程が行われ、電解金属層7及び電解金属層8の表面に電解導電体6が設けられる。続いて、最外層レジスト作成工程から最外層レジスト作成工程が行われ、電解金属体平面回路31及び電解金属体平面回路34が形成され、電解金属層3及び電解金属層4となり、基板13が製造される。
Next, a step of filling the recessed portion 75 with the insulating resin 76 and filling the recessed portion 85 with the insulating resin 86 is performed. This step is referred to as a fourth insulating resin filling step. By this process, the electrolytic metal layer 7 and the electrolytic metal layer 8 are formed, resulting in the state shown in FIG. 9(C).
After the fourth insulating resin filling step, one surface is smoothed so that the insulating resin 76 on the one surface and the electrolytic metal interlayer circuit 72 are flat. In addition, the surface on the other side is smoothed so that the insulating resin 86 and the electrolytic metal interlayer circuit 82 on the other side are flat surfaces. This step is referred to as a fourth surface leveling step.
After that, the outermost layer plating step of the first embodiment is performed, and the electrolytic conductor 6 is provided on the surface of the electrolytic metal layer 7 and the electrolytic metal layer 8 . Subsequently, the outermost layer resist forming process is carried out from the outermost layer resist forming process, the electrolytic metal body planar circuit 31 and the electrolytic metal body planar circuit 34 are formed, the electrolytic metal layer 3 and the electrolytic metal layer 4 are formed, and the substrate 13 is manufactured. be done.

[第4の実施態様]
図10を参照し、発明を実施するための態様に係る基板14の構造について説明する。なお、第1の実施形態の基板1と同じ構造のものは、同一の符号とし、説明を省略する。本発明の基板14は、電解金属層9;10を有する。また、電解金属層3;4が最も外側に配置される。
[Fourth embodiment]
Referring to FIG. 10, the structure of substrate 14 according to aspects for carrying out the invention will be described. The same reference numerals are given to the same structures as those of the substrate 1 of the first embodiment, and the description thereof is omitted. The substrate 14 of the present invention has an electrolytic metal layer 9;10. Also, the electrolytic metal layers 3; 4 are arranged on the outermost side.

基板14の圧延金属体回路21は、電解金属層9と連結されており、電解金属層9は、平面方向に延びる電解金属体平面回路91と、電解金属体平面回路91の一端の側に設けられた板厚方向に延びる電解金属体層間回路92とを有し、電解金属体平面回路91と電解金属体層間回路92とが同一の電解金属体から形成され、接続面のない導電体で形成されたことを特徴としている。 The rolled metal body circuit 21 of the substrate 14 is connected to the electrolytic metal layer 9, and the electrolytic metal layer 9 is provided on the side of one end of the electrolytic metal body planar circuit 91 extending in the plane direction and the electrolytic metal body planar circuit 91. The electrolytic metal body plane circuit 91 and the electrolytic metal body interlayer circuit 92 are formed from the same electrolytic metal body, and are formed of a conductor having no connecting surface. It is characterized by being

[電解金属層]
電解金属層9は、圧延金属層2と電解金属層3の間に設けられ、平面方向に延びる電解金属体平面回路91と板厚方向に延びる電解金属体層間回路92と絶縁体93とを有する。電解金属体層間回路92は、電解金属体平面回路91の一端の側に設けられる。
電解金属体平面回路91と電解金属体層間回路92は、同一の電解金属体から形成され、接続面のない導電体として形成される。言い換えると、電解金属体平面回路91と電解金属体層間回路92は、接続面のない一体の電解導電体94で形成される。
電解金属体平面回路91と電解金属体層間回路92は、接続面がないことから、電気抵抗がない。よって、接続面が存在することによる電気抵抗がなく、電気が流れても接続面が存在することによる発熱を抑制できる効果がある。また、接続面から剥離して、接続不良を抑制できる効果もある。
電解金属体平面回路91の他端側は、圧延金属体回路26と電気が流れるように接続される。また、電解金属体層間回路92は、電解金属体平面回路31と電気が流れるように接続される。なお、絶縁体93は、絶縁樹脂として、第1の実施形態の絶縁樹脂と同じものが使用できる。
[Electrolytic metal layer]
The electrolytic metal layer 9 is provided between the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layer 3, and has an electrolytic metal planar circuit 91 extending in the plane direction, an electrolytic metal interlayer circuit 92 extending in the plate thickness direction, and an insulator 93. . Electrolytic metal interlayer circuit 92 is provided on one end side of electrolytic metal planar circuit 91 .
The electrolytic metal body plane circuit 91 and the electrolytic metal body interlayer circuit 92 are formed from the same electrolytic metal body, and are formed as conductors without connection surfaces. In other words, the electrolytic metal planar circuit 91 and the electrolytic metal interlayer circuit 92 are formed of an integral electrolytic conductor 94 without connecting surfaces.
Since the electrolytic metal body plane circuit 91 and the electrolytic metal body interlayer circuit 92 do not have a connecting surface, they have no electric resistance. Therefore, there is no electrical resistance due to the presence of the connection surface, and even if electricity flows, heat generation due to the presence of the connection surface can be suppressed. In addition, there is also an effect that it is possible to suppress poor connection by peeling off from the connection surface.
The other end of the electrolytic metal plane circuit 91 is electrically connected to the rolled metal circuit 26 . Further, the electrolytic metal interlayer circuit 92 is electrically connected to the electrolytic metal planar circuit 31 . The same insulating resin as used in the first embodiment can be used as the insulating resin for the insulator 93 .

電解金属層10は、圧延金属層2と電解金属層4の間に設けられ、平面方向に延びる電解金属体平面回路101と板厚方向に延びる電解金属体層間回路102と絶縁体103とを有する。電解金属体層間回路102は、電解金属体平面回路101の一端の側に設けられる。
電解金属体平面回路101と電解金属体層間回路102は、同一の電解金属体から形成され、接続面のない導電体として形成される。言い換えると、電解金属体平面回路101と電解金属体層間回路102は、接続面のない一体の電解導電体104で形成される。
電解金属体平面回路101と電解金属体層間回路102は、接続面がないことから、電気抵抗がない。よって、接続面が存在することによる電気抵抗がなく、電気が流れても接続面が存在することによる発熱を抑制できる効果がある。また、接続面から剥離して、接続不良を抑制できる効果もある。
電解金属体平面回路101の他端側は、圧延金属体回路26と電気が流れるように接続される。また、電解金属体層間回路102は、電解金属体平面回路41と電気が流れるように接続される。なお、絶縁体103は、絶縁樹脂として、第1の実施形態の絶縁樹脂と同じものが使用できる。
The electrolytic metal layer 10 is provided between the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layer 4, and has an electrolytic metal planar circuit 101 extending in the plane direction, an electrolytic metal interlayer circuit 102 extending in the plate thickness direction, and an insulator 103. . The electrolytic metal interlayer circuit 102 is provided on one end side of the electrolytic metal planar circuit 101 .
The electrolytic metal body plane circuit 101 and the electrolytic metal body interlayer circuit 102 are formed from the same electrolytic metal body, and are formed as conductors without connection surfaces. In other words, the electrolytic metal plane circuit 101 and the electrolytic metal interlayer circuit 102 are formed of the integral electrolytic conductor 104 without connecting surfaces.
Since the electrolytic metal body planar circuit 101 and the electrolytic metal body interlayer circuit 102 do not have a connection surface, they have no electrical resistance. Therefore, there is no electrical resistance due to the presence of the connection surface, and even if electricity flows, heat generation due to the presence of the connection surface can be suppressed. In addition, there is also an effect that it is possible to suppress poor connection by peeling off from the connection surface.
The other end of the electrolytic metal plane circuit 101 is electrically connected to the rolled metal circuit 26 . Further, the electrolytic metal interlayer circuit 102 is electrically connected to the electrolytic metal planar circuit 41 . The same insulating resin as used in the first embodiment can be used as the insulating resin for the insulator 103 .

電解金属層9及び/又は10とすることにより、板厚方向に配置された平面方向に延びる平面回路どうしを接続する際に、板厚方向に貫通するスルーホールを設ける必要がない。よって、回路設計の自由度が向上する効果がある。言い換えると、接続を望まない他の層の回路を避けるように、スルーホールを設計する必要がなくなる。 By forming the electrolytic metal layers 9 and/or 10, it is not necessary to provide a through hole penetrating in the thickness direction when connecting planar circuits extending in the thickness direction and extending in the planar direction. Therefore, there is an effect that the degree of freedom in circuit design is improved. In other words, there is no need to design through-holes to avoid circuits on other layers where no connection is desired.

本実施の形態では、電解金属層9が、圧延金属層2と電解金属層3の間に設けられ、かつ、電解金属層10が、圧延金属層2と電解金属層4の間に設けられた場合の基板14を例示した。しかしながら、本実施態様と第3の実施態様を組み合わせてもよい。具体的には、図11に示すように、電解金属層9が、電解金属層7と電解金属層3の間に設けられ、かつ、電解金属層10が、電解金属層8と電解金属層4の間に設けられた場合の基板15としてもよい。 In the present embodiment, the electrolytic metal layer 9 is provided between the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layer 3, and the electrolytic metal layer 10 is provided between the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layer 4. The substrate 14 in the case is exemplified. However, this embodiment and the third embodiment may be combined. Specifically, as shown in FIG. 11, electrolytic metal layer 9 is provided between electrolytic metal layer 7 and electrolytic metal layer 3, and electrolytic metal layer 10 is provided between electrolytic metal layer 8 and electrolytic metal layer 4. It may be the substrate 15 when provided between.

[その他の変形例]
本発明は、第1の実施形態から第4の実施態様を組み合わせて適用することが可能である。
第1の実施態様から第4の実施態様では、補強構造体22;25が圧延金属体回路21;26の周囲を連続して取り囲むように配置された場合を例示した。しかしながら、図12及び図13に示すように、補強構造体22;25が部分的に離れて圧延金属体回路21;26の周囲を取り囲むように配置されて状態であってよい。かかる場合であっても、基板1;14の剛性は向上するうえ、圧延金属体回路21;26の放熱の効果は有する。
しかしながら、補強構造体22;26が部分的に離れている場合、互いに向かい合うように配置されていることが望ましい。また、補強構造体22;26が部分的に離れている場合は、圧延金属体回路21;26の体積よりも、部分的に離れた補強構造体22;26を足した体積が同じ又は大きくすることが好ましい。この体積の関係とすることにより、圧延金属体回路21;26の放熱の効果を向上させることができる。
[Other Modifications]
The present invention can be applied by combining the first to fourth embodiments.
In the first to fourth embodiments, the reinforcing structures 22; 25 are arranged so as to continuously surround the rolled metal circuit 21; However, as shown in FIGS. 12 and 13, the reinforcement structures 22; 25 may be partially spaced apart and arranged to surround the perimeter of the rolled metal body circuit 21; Even in such a case, the rigidity of the substrates 1; 14 is improved, and the rolled metal circuit 21; 26 has the effect of dissipating heat.
However, if the reinforcing structures 22; 26 are partially separated, they are preferably arranged facing each other. When the reinforcing structures 22; 26 are partially separated, the volume of the partially separated reinforcing structures 22; 26 is equal to or larger than the volume of the rolled metal circuit 21; 26. is preferred. With this volume relationship, the heat dissipation effect of the rolled metal circuit 21; 26 can be improved.

第1の実施形態から第4の実施態様では、一方の面に電解金属層3;7:9を設け、他方の面に電解金属層4;8;10を設けた場合を例示したが、一方の面と他方の面との電解金属層の数が同じであっても、異なっていてもよい。
また、第4の実施態様において、一方の面に電解金属層9が1層設けられた場合を例示したが、電解金属層9が、2層、3層、4層以上のように複数層設けられてもよい。また、他方の面に電解金属層10が1層設けられた場合を例示したが、電解金属層10が、2層、3層、4層以上のように複数層設けられてもよい。図15及び図16は、第4の実施態様の変形例を示す図であり、電解金属層9及び10が2層設けられた場合の基板16を示す図である。なお、図16は絶縁樹脂が除去された状態における図15の一部分を示しており、圧延導電体からなる回路と電解導電体からなる回路の一部分を示している。
In the first to fourth embodiments, the electrolytic metal layer 3; 7: 9 is provided on one surface and the electrolytic metal layer 4; 8; 10 is provided on the other surface. The number of electrolytic metal layers on one side and the other side may be the same or different.
In addition, in the fourth embodiment, the case where one electrolytic metal layer 9 is provided on one surface is exemplified. may be Moreover, although the case where one electrolytic metal layer 10 is provided on the other surface is illustrated, the electrolytic metal layer 10 may be provided in multiple layers such as two layers, three layers, four layers or more. 15 and 16 are diagrams showing a modification of the fourth embodiment, showing a substrate 16 in which two electrolytic metal layers 9 and 10 are provided. FIG. 16 shows a part of FIG. 15 from which the insulating resin has been removed, showing a part of the circuit made of rolled conductors and the circuit made of electrolytic conductors.

本発明は、圧延金属層に補強構造体を設けることで基板全体の剛性を向上させる発明である。よって、ガラス繊維で編まれた平面方向に広がるシート状の補強部材を有する電解金属層が圧延金属層に組み合わされた基板であっても、本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention improves the rigidity of the entire substrate by providing a reinforcing structure in the rolled metal layer. Therefore, the technical scope of the present invention includes a substrate in which an electrolytic metal layer having a sheet-shaped reinforcing member that is woven with glass fibers and spreads in the plane direction is combined with a rolled metal layer.

第1の実施形態では、圧延金属体回路21と電子部品とが電気が流れるように接続される場合で説明したが、図14において、圧延金属体回路21と電子部品302とが電気が流れないように基板に配置されてもよい。
この場合、図示しない他の回路から電子部品302に電気が供給される。
電子部品302と電解金属層3とが接触して配置され、電子部品302が動作した際の熱303が、電解金属層3を経由して圧延金属体回路21に移動するように電子部品302が配置されている。そして、圧延金属体回路21から前記絶縁体23を経由して補強構造体22に熱304が流れるようにすることで、電子部品302の温度を低く保つことができる。
In the first embodiment, the case where the rolled metal circuit 21 and the electronic component are connected so as to allow electricity to flow has been described. may be arranged on the substrate as follows.
In this case, electricity is supplied to the electronic component 302 from another circuit (not shown).
The electronic component 302 and the electrolytic metal layer 3 are placed in contact with each other, and the electronic component 302 is arranged such that heat 303 generated when the electronic component 302 operates moves to the rolled metal circuit 21 via the electrolytic metal layer 3. are placed. By allowing heat 304 to flow from the rolled metal circuit 21 to the reinforcing structure 22 via the insulator 23, the temperature of the electronic component 302 can be kept low.

また、電子部品302が取り付けられた状態の基板において、電子部品302の側の平面方向から見た場合、電解金属層3は、基板の外側の空間に露出した部分305を有することが好ましい。言い換えると、電解金属層3の露出した部分305は、電子部品302よりも平面方向の外側に広がる状態となっている。
電子部品302の取り付けられた基板が、電解金属層3の露出した部分305を有することにより、電子部品302で生じた熱303が、矢印306に示すように、圧延金属体回路21の板厚方向の反対の側に放出される。よって、放熱効果を高め、電子部品302の温度をより低く保つことができる。
つまり、電解金属層3が基板の表面に露出しており、圧延金属体回路21の反対の側に熱303を放出する特徴を有する。
In addition, when viewed from the plane direction of the electronic component 302 side of the substrate with the electronic component 302 attached, the electrolytic metal layer 3 preferably has a portion 305 exposed to the space outside the substrate. In other words, the exposed portion 305 of the electrolytic metal layer 3 is in a state of extending outward in the planar direction from the electronic component 302 .
Since the board on which the electronic component 302 is mounted has an exposed portion 305 of the electrolytic metal layer 3, the heat 303 generated by the electronic component 302 is dissipated in the thickness direction of the rolled metal circuit 21 as indicated by an arrow 306. is released on the opposite side of the Therefore, the heat radiation effect can be enhanced and the temperature of the electronic component 302 can be kept lower.
That is, the electrolytic metal layer 3 is exposed on the surface of the substrate and has the characteristic of releasing heat 303 to the opposite side of the rolled metal circuit 21 .

なお、ヒートシンクのような放熱部材が、露出した部分305に接触して設けられてもよい。かかる場合であっても、電子部品302で生じた熱303は、露出した部分305から圧延金属体回路21の板厚方向の反対の側(矢印306)に放出される効果を有する。
また、第2の実施形態から第4の実施形態においても同様に適用可能である。
A heat dissipation member such as a heat sink may be provided in contact with the exposed portion 305 . Even in such a case, the heat 303 generated by the electronic component 302 has the effect of being released from the exposed portion 305 to the opposite side (arrow 306) of the rolled metal circuit 21 in the plate thickness direction.
Moreover, it can be similarly applied to the second to fourth embodiments.

実施の形態1では、基板1は圧延金属層2と電解金属層3とを有する場合を説明したが、電解金属層3を有しない圧延金属層2を基板としもよく、電子部品302と圧延金属体回路21が接続された電子機器とし、電子部品302と圧延金属体回路21との間に電気が流れるようにしたり、電子部品302で発生した熱が圧延金属体回路21に流れるようにしたりしてもよい。 In Embodiment 1, the substrate 1 has the rolled metal layer 2 and the electrolytic metal layer 3, but the rolled metal layer 2 without the electrolytic metal layer 3 may be used as the substrate, and the electronic component 302 and the rolled metal layer may be used as the substrate. The electronic device to which the body circuit 21 is connected is such that electricity flows between the electronic component 302 and the rolled metal body circuit 21, or heat generated in the electronic component 302 flows to the rolled metal body circuit 21. may

本発明の電子機器は、本発明の基板を備える電子機器であり、その用途は特に限定されないが、例えば、自動車、航空機、無人航空機、携帯電話、スマートフォン、パーソナルコンピューター、LEDモジュール、パワー半導体モジュールなどが挙げられる。この電子機器によれば、基板の剛性を向上させることができる。さらに、放熱効果の高い基板とすることができることから、基板の反りを抑制し、導電体どうしの接続不良を抑制することができる。 The electronic device of the present invention is an electronic device comprising the substrate of the present invention, and its use is not particularly limited, but examples include automobiles, aircraft, unmanned aircraft, mobile phones, smartphones, personal computers, LED modules, power semiconductor modules, and the like. is mentioned. According to this electronic device, the rigidity of the substrate can be improved. Furthermore, since the substrate can have a high heat radiation effect, warpage of the substrate can be suppressed, and poor connection between the conductors can be suppressed.

1は基板、2は圧延金属層、3は電解金属層、4は電解金属層、5は圧延導電体、6は電解導電体、7は電解金属層、8は電解金属層、9は電解金属層、10は電解金属層、12は基板、13は基板、14は基板、15は基板、16は基板、21は圧延金属体回路、22は補強構造体、23は絶縁体、24は圧延金属層中間体、25は補強構造体、26は圧延金属体回路、31は電解金属体平面回路、34は電解金属体平面回路、41は電解金属体平面回路、51は凹み部、52は凹み部、53は凹み部、54は凹み部、55は凹み部、56は凹み部、57はエッチングレジスト、58はエッチングレジスト、59はエッチングレジスト、65はエッチングレジスト、71は電解導電体、72は電解金属体層間回路、73は絶縁体、74はエッチングレジスト、75は凹み部、76は絶縁樹脂、81は電解導電体、82は電解金属体層間回路、83は絶縁体、85は凹み部、86は絶縁樹脂、91は電解金属体平面回路、92は電解金属体層間回路、93は絶縁体、94は電解導電体、101は電解金属体平面回路、102は電解金属体層間回路、103は絶縁体、104は電解導電体、211は圧延金属体平面回路、212は圧延金属体層間回路、213は圧延金属体層間回路、214は圧延金属体回路中間体、221は第1構造体部、222は第2構造体部、223は交差部、224は距離、225は距離、226は補強構造体中間体、231は絶縁樹脂、232は絶縁樹脂、233は絶縁樹脂、234は絶縁樹脂、235は接続面、236は接続面、237は接続面、261は圧延金属体層間回路、301は補強構造体、302は電子部品、303は熱、304は熱、305は露出した部分、306は矢印。 1 is a substrate, 2 is a rolled metal layer, 3 is an electrolytic metal layer, 4 is an electrolytic metal layer, 5 is a rolled conductor, 6 is an electrolytic conductor, 7 is an electrolytic metal layer, 8 is an electrolytic metal layer, and 9 is an electrolytic metal. Layers 10 electrolytic metal layer 12 substrate 13 substrate 14 substrate 15 substrate 16 substrate 21 rolled metal body circuit 22 reinforcing structure 23 insulator 24 rolled metal 25 is a reinforcing structure, 26 is a rolled metal circuit, 31 is an electrolytic metal circuit, 34 is an electrolytic metal circuit, 41 is an electrolytic metal circuit, 51 is a recess, and 52 is a recess. , 53 is a recess, 54 is a recess, 55 is a recess, 56 is a recess, 57 is an etching resist, 58 is an etching resist, 59 is an etching resist, 65 is an etching resist, 71 is an electrolytic conductor, and 72 is an electrolytic 75 is a recessed portion; 76 is an insulating resin; 81 is an electrolytic conductor; 91 is an electrolytic metal body plane circuit; 92 is an electrolytic metal body interlayer circuit; 93 is an insulator; 94 is an electrolytic conductor; 211 is a rolled metal planar circuit; 212 is a rolled metal interlayer circuit; 213 is a rolled metal interlayer circuit; 214 is a rolled metal circuit intermediate; is the second structure portion, 223 is the crossing portion, 224 is the distance, 225 is the distance, 226 is the reinforcing structure intermediate body, 231 is the insulating resin, 232 is the insulating resin, 233 is the insulating resin, 234 is the insulating resin, and 235 is the insulating resin. 236 is a connection surface, 237 is a connection surface, 261 is a rolled metal interlayer circuit, 301 is a reinforcing structure, 302 is an electronic component, 303 is heat, 304 is heat, 305 is an exposed portion, and 306 is an arrow.

Claims (11)

圧延導電体からなる圧延金属体回路と、圧延導電体からなる補強構造体と、絶縁樹脂からなる絶縁体と、を備える圧延金属層を有し、
前記圧延金属体回路と前記補強構造体は、同一の平面内に設けられており、
前記補強構造体は、基板の機械的強度を補強するものでありかつ前記圧延金属体回路の周囲を囲むように絶縁体で隔てられて配置された前記圧延金属層を有することを特徴とする、基板。
Having a rolled metal layer comprising a rolled metal circuit made of a rolled conductor, a reinforcing structure made of a rolled conductor, and an insulator made of an insulating resin,
The rolled metal circuit and the reinforcing structure are provided in the same plane,
The reinforcing structure reinforces the mechanical strength of the substrate, and includes the rolled metal layer arranged with an insulator surrounding the rolled metal circuit, substrate.
前記補強構造体は、平面方向に広がるように網状であることを特徴とする、請求項1記載の基板。 2. The substrate of claim 1, wherein the reinforcing structure is mesh-like so as to extend in a planar direction. 前記補強構造体は、平面方向に広がるように板状の連続体であることを特徴とする、請求項1記載の基板。 2. The substrate according to claim 1, wherein said reinforcing structure is a plate-like continuous body extending in a plane direction. 前記圧延金属体回路は、平面方向に延びる圧延金属体平面回路と、
前記圧延金属体平面回路の一端の側に設けられた板厚方向に延びる圧延金属体層間回路とを有し、
前記圧延金属体平面回路と前記圧延金属体層間回路とが同一の圧延金属体から形成され、接続面のない導電体で形成されたことを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の基板。
The rolled metal circuit includes a rolled metal planar circuit extending in a plane direction,
a rolled metal interlayer circuit extending in a plate thickness direction provided on one end side of the rolled metal planar circuit;
4. The rolled metal planar circuit and the rolled metal interlayer circuit are formed from the same rolled metal, and are formed of conductors having no connecting surfaces, according to any one of claims 1 to 3. The substrate described in .
前記圧延金属体回路は、電解金属層と連結されており、
前記電解金属層は、平面方向に延びる電解金属体平面回路と、
前記電解金属体平面回路の一端の側に設けられた板厚方向に延びる電解金属体層間回路とを有し、
前記電解金属体平面回路と前記電解金属体層間回路とが同一の電解金属体から形成され、接続面のない導電体で形成されたことを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の基板。
The rolled metal body circuit is connected with an electrolytic metal layer,
The electrolytic metal layer includes an electrolytic metal body planar circuit extending in a planar direction, and
an electrolytic metal interlayer circuit extending in a plate thickness direction provided on one end side of the electrolytic metal planar circuit;
5. The electrolytic metal body planar circuit and the electrolytic metal body interlayer circuit are formed from the same electrolytic metal body, and are formed from a conductor having no connection surface, according to any one of claims 1 to 4. The substrate described in .
前記圧延金属体回路と電子部品とが、電気が流れるように接続されたことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の基板を有する、電子機器。 6. An electronic device having the substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the rolled metal circuit and the electronic component are electrically connected. 前記圧延金属体回路と電子部品とが、熱が流れるように接続されたことを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の基板を有する、電子機器。 An electronic device having the substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein the rolled metal circuit and the electronic component are connected so as to allow heat to flow. 電子部品と前記電解金属層と前記圧延金属体回路とが熱が流れるように接続されたことを特徴とする請求項5に記載の基板を有する、電子機器。 6. An electronic device having the substrate according to claim 5, wherein the electronic component, the electrolytic metal layer, and the rolled metal circuit are connected so as to allow heat to flow. 前記電解金属層が基板の表面に露出しており、圧延金属体回路の反対の側に熱を放出することを特徴とする請求項8に記載の基板を有する、電子機器。 9. An electronic device having a substrate as claimed in claim 8, wherein the electrolytic metal layer is exposed on the surface of the substrate and dissipates heat to the opposite side of the rolled metal circuit. 前記熱が、前記圧延金属体回路から前記絶縁体を経由して前記補強構造体に流れることを特徴とする請求項7~9のいずれか一項に記載の基板を有する、電子機器。 An electronic device having the substrate according to any one of claims 7 to 9, wherein the heat flows from the rolled metal circuit through the insulator to the reinforcing structure. 圧延導電体準備工程と、
第一レジスト作成工程と、
第一エッチング工程と、
第一絶縁樹脂充填工程と、
第二レジスト作成工程と、
第二エッチング工程と、
を、含むことを特徴とする、圧延金属体回路と補強構造体とが同一の平面内に設けられた基板の製造方法。

a rolled conductor preparation step;
a first resist creating step;
a first etching step;
a first insulating resin filling step;
a second resist forming step;
a second etching step;
A method of manufacturing a substrate in which a rolled metal body circuit and a reinforcing structure are provided in the same plane, comprising:

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