JP2023027031A - 中敷 - Google Patents

Abstract

【課題】産前、産後のトラブルに対応しながら、中足趾節関節(ＭＰ関節)に適合した独自の屈曲誘導溝によって蹴り出しをサポートすることによって、歩行運動効率を高め疲れにくい歩行を実現する中敷を得る。【解決手段】産前用の中敷であって、足に接触する表面側に、足の３アーチを整える凸部が形成されており、後足部対応領域２３０の中央付近の高さを前足部対応領域２１０よりも高く形成しており、少なくとも、第５中足骨の骨底中央付近と前記後足部対応領域２３０の中央付近Ｐｒとを通り後端又に至る略直線ラインＬＳから当該中敷の外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域ＳＭを形成しており、さらに、裏面に、第３中足骨から第１中足骨の範囲となるＭＰ関節ラインに略沿う略直線状の屈曲誘導溝Ｒａを形成する。【選択図】図１

Description

本発明は、中敷に関する。

人間の足はとても複雑な生物学的メカニズムを有する。人が歩くとき踵への衝撃によっ て足にかかる負荷は通常その人の体重の約１．５倍である。走ったりバックパック等の追 加の重量を運んだりしている場合、足にかかる負荷は体重の３倍を超える。
また、特に日本人は、真っ直ぐに歩くことが苦手な民族である。真っ直ぐ歩く又は走行できれば、脚、身体に負担が少ないし、かつスマートである。
インソールは、足の多くの骨、筋肉、靭帯および腱は、衝撃力を吸収／消滅させたり、体重および他の重量を運んだり、推進力を提供したりすることができる。このため、近年は、様々な種類のインソールが販売されている。
例えば、特許文献１は、激しい活動時にも、クッション性及び用靴中敷は十分なサポートや足の屈曲や捩じれをコントロールすることが開示されている。
このコントロールのために、底面には前足部領域内に窪み領域を形成して、母趾球の屈曲方向が進行方向に、できるだけ屈曲させるような構造にしている。
スマートに歩く、安全に歩くもしくはスマートに走行するという願望は、妊婦（産前、産後）でも変わらない。また、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等の症状がある人であってもその願望は変わらない。
近年は、産前、産後用の履き物用中敷が販売されている。例えば、特許文献１は、出産に向けて骨盤の産道を確保するために、女性ホルモンのはたらきによって骨盤の結合が緩んでくると共に、同時に全身の骨格の結合も緩んでしまう。

また胎児の成長も相まって 体重増加の要因も付加されて下肢や腰の痛みなどの問題が発生する。
さらに、腹部が膨隆することにより、立位および歩行時のバランスも悪くなり、後方へ転倒する危険性も増加する。

また、左右の足の間隔を広くしてバランスを取ろうとするため、この肢位を保持する筋肉に負担がかかるという点等を解決した産前用の中敷（産前用のインソールともいう）である。

具体的には、足の骨格の３つのアーチ（横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチ）を整えるために横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部、外側縦アーチ用凸部がインソールの表面に施されている。
これらの凸部によって関節の緩みによる足骨格を補正すると共に、前足部対応領域を後足部対応領域よりも高くして後方へ転倒する危険性を低下させている。

また、特許文献１の中敷は、足の後足部（踵骨を含む）の周壁を高くしている。
これらの、機能を有することによって、左右の足の間隔を広くしてバランスを取らなくてもよいようにし、この肢位を保持する筋肉の負担を軽減させている。

一方、産後は、出産に向けて緩んだ足の骨格をそのまま放置していれば、崩れた骨格のままになってしまい、出産後も腰から下の整形外科的問題を継続して生じることになる。

このため、産後用の中敷（インソール）は、理想的な足骨格を得るために３つのアーチ（横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチ）を整えるための凸形状をしっかりと施し、かつ踵骨の部分を産前用の中敷（インソール）より低くして、妊娠前の正常な状態にいち早く回復できるようにすることが開示されている。

特開２０１８－５１５２０５号公報 特許第３９６１９７０号公報

前述したように、人は歩行時にまず膝が前にでて足を踏み出し、踵が地面についたあと足の小指側から親指側に抜ける軌跡で地面に設置するが、膝が外側に向いているために、外股の歩行となりがちである。この歩行形態は、特に、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）に顕著に表れる。
例えば、従来技術による産前用のインソールでは、お腹の子供が大きくなってくると、体を反るように歩くため、後ろ体重になり、後ろに倒れないようにするために、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。
しかしながら、足の踵後部の形状は、人により異なり、踵が踵下から上に急に立ち上がっている場合もあり、インソールの踵部コーナの後端部のＲを足の踵部の形状に合わせて成型することは容易ではない。
従って、踵部コーナの後端部のＲは緩やかになるように成型しているのが現状であり、結果として足の踵部がこのＲの部分に載りあがり、靴の後ろのアッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになる。

さらに、お腹が大きくなってくると、足のつま先を内側に向けていると歩きづらくなるので、必ず外股に開かないとバランスが取れないので、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。特に、妊娠後期は外股になる。

つまり、妊娠初期から、中期、後期で身体バランスが変わると、足角（つま先の向き）も変化する。
外股で歩くということは、次のことが問題になる。
（Ａ）体を左右に揺らしながら歩くようになる。
（Ｂ）重心が左右に動くので、歩行が不安定になる。
（Ｃ）筋肉に負担がかかる。

一方、産後用の中敷（インソール）は、前足部に対応する部分と踵部に対応する部分を同程度の高さに成型している。
しかしながら、産後はヒールが高い靴を履くことが多いので、転倒に注意しなければならない。

さらに、足は、踵と母趾球と小趾球の３ポイントを支持して３アーチを保つことが重要である。しかし、実際は荷重をかけると第５中足骨底も地面側に着くので、実は４か所で支持している。
一方、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールであっても、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。結果として、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになり、つま先を圧迫したり、靴が抜けやすくなる。
また、外股に開かないとバランスが取れない人は、例え、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールを用いたとしても、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。
本願発明は以上の課題等を鑑みてなされたものであり、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる中敷を得ることを目的とする。

産前用は、お腹の子供が大きくなってくると、体を反るように歩くため、後ろ体重になり、後ろに倒れないようにするために、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。
しかしながら、足の踵後部の形状は、人により異なり、踵が踵下から上に急に立ち上がっている場合もあり、インソールの踵部コーナの後端部のＲを足の踵部の形状に合わせて成型することは容易ではない。
従って、踵部コーナの後端部のＲは緩やかになるように成型しているのが現状であり、結果として足の踵部がこのＲの部分に載りあがり、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになる。

さらに、お腹が大きくなってくると、足のつま先を内側に向けていると歩きづらくなるので、必ず外股に開かないとバランスが取れないので、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。特に、妊娠後期は外股になる。

つまり、妊娠初期から、中期、後期で身体バランスが変わると、足角（つま先の向き）も変化する。
外股で歩くということは、次のことが問題になる。
（Ａ）体を左右に揺らしながら歩くようになる。
（Ｂ）重心が左右に動くので、歩行が不安定になる。
（Ｃ）筋肉に負担がかかる。

一方、産後用の中敷（インソール）は、前足部に対応する部分と踵部に対応する部分を同程度の高さに成型している。
しかしながら、産後はヒールが高い靴を履くことが多い。

さらに、足は、踵と母趾球と小趾球の３ポイントを支持して3アーチを保つことが重要である。しかし、実際は荷重をかけると第５中足骨骨底も地面側に着くので、実は４か所で支持している。
従って、荷重を集中させない構造が望ましい。
一方、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールであっても、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。結果として、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになり、つま先を圧迫したり、靴が抜けやすくなる。
また、外股に開かないとバランスが取れない方は、例え、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールを用いたとしても、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。
本願発明は以上の課題等を鑑みてなされたものであり、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる中敷を得ることを目的とする。

本発明の中敷はは、足に接触する表面側に、足のアーチを整える凸部が形成された中敷であって、
表面側の第３中足骨骨頭が載置される領域の真裏となる第３中足骨骨頭裏箇所と、母趾球が載置される領域の真裏の母趾球裏領域の直後に対向する内縁の裏側の箇所との間に、直線状の屈曲誘導溝を形成している、ことを特徴とする

以上のように本発明によれば、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる。
産前、産後のトラブルに対応しながら、中足趾節関節(ＭＰ関節)に適合した独自の屈曲誘導溝によって蹴り出しをサポートすることによって、歩行運動効率を高め疲れにくい歩行を実現することができる中敷が得られている。

本実施の形態１の産前用インソール２００の斜視図である。 産前用インソール２００の裏面の平面図である。 踵側方向(Q方向）から見た場合の説明図である。 産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー３００の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。 産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合の効果を説明する説明図である。 産前用インソール２００の詳細説明図である。 図６（ｂ）の各断面の説明図である。 本実施の形態２の産後用インソール４００の斜視図である。 産後用インソール４００の裏面の平面図である。 産後用インソール４００を踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合の説明図である。 産後用インソール４００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー５１０の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。 産後用インソール４００の詳細説明図である。 図１２（ｂ）の各断面の説明図である。 図５を補足する説明図である。 外反母趾対策、偏平足対策用インソールの上面図である。 中足骨頭対策、偏平足対策用のインソールの上面図である。 膝痛対策、腰痛対策用のインソールの上面図である。 Ｏ脚対策、足底筋膜炎対策用のインソールの上面図である。 外反母趾対策用インソール６００の詳細説明図である。 図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。 偏平足対策用インソール７００の詳細説明図である。 図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。 中足骨痛対策用インソール８００の詳細説明図である。 図２３の中足骨痛対策用インソール８００を踵方向から見た場合と各部の断面図の説明図である。 モートン対策用インソール９００の詳細説明図である。 図２４の中足骨痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 膝痛対策用インソール１０００の詳細説明図である。 図２７の 膝痛対策用インソール１０００を踵方向（例えば、ＦＢ５）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 腰痛対策用インソール１１００の詳細説明図である。 図２９の腰痛対策用インソール１１００を踵方向（例えば、ＦＢ６）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 Ｏ脚用インソール１２００の詳細説明図である。 Ｏ脚用インソール１２００を踵方向（例えば、ＦＢ７）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 足底筋膜炎用インソール１３００の詳細説明図である。 図３３の足底筋膜炎用インソール１３００を踵方向（例えば、ＦＢ８）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 実施の形態４の足底筋膜炎用インソール１４００の説明図である。 足底筋膜保護用凹部ＴＤの拡大斜視図である。 実施の形態５のウォーキング用インソール１５００の裏面図である。 本実施の形態のウォーキング用インソール１５００を裏側から見た場合の平面図である。 ウォーキング用インソール１５００の断面図である。 図３８のＪ－Ｊ断面図である。 実施の形態６のランニング用インソール１６００の裏面図である。 本実施の形態のランニング用インソール１６００を裏側から見た場合の平面図である。。 実施の形態６のランニング用インソール１７００の説明図である。 本実施の形態の屈曲誘導溝Ｒａを設けたインソールを靴に入れて歩行した場合の足の動きの説明図である。

本発明は、中敷全般に適用可能であるが、特に、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）に優れた効果を有している。以下に示す実施の形態は、本発明の技術的思想（構造、配置）を具体化したものや方法を例示したものであり、本発明の技術的思想は、以下に開示する実施形態や実施例に限定されるものではない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内において、種々の変更を加えることができる。
特に、図面は模式的なものであり、現実のものとは異なることに留意すべきである。
以下においては、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる本発明の実施形態の一例にかかる中敷として、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）の順に説明する。
以下の実施形態では産前用、産後用等の特殊な用途中敷を例示して説明しているが、本発明は、一般の中敷にも適用可能である。従来技術に係る一般用途の中敷に対して、以下の説明する各実施例の「屈曲誘導溝」の構成を付加することに、本発明に係る中敷きを得ることができる。

まず、実施の形態１は産前用インソールとして説明し、実施の形態２は産後用インソールとして説明する。また、産前用インソール及び産後用インソールは単層でも多層でも構わないが、以下においては多層構造を用いて説明する。
本実施の形態は、足トラブル(個別に)に対応しながら、中足趾節関節(ＭＰ関節)に適合した屈曲誘導溝によって蹴り出しをサポートすることによって、歩行運動効率を高め疲れにくい歩行を実現する。

＜実施の形態１：産前用インソール（中敷）＞
図１は本発明の実施の形態１の産前用インソール２００の斜視図である。図１については足の斜視図を産前用インソール２００の上側に記載して説明する。靴については図１では図示しない。さらに、後述する下層部材、上層部材、表層部材を圧着して産前用インソール２００を形成しているが、図１においては下層部材、上層部材、表層部材については番号を付加しない。

足は、図１に示すように、前足部２０と、中足部２２と、後足部２３とに分けられる。
一方、産前用インソール２００は、足の前足部２０を含んで載置される領域を前足部対応領域２１０と記載する。
また、中足部２２に対応する領域を中足部対応領域２２０と記載し、後足部２３に対応する領域を後足部対応領域２３０と記載する。

また、図１においては、下層部材の先端形状Ｔ、母趾球対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＢを一点鎖線で示す。また、横アーチ用凸部Ｇ、第５中足骨の中央付近から骨底付近が載置される領域を第５中足骨窪み領域Ｍ（破線）と記載する。
この第５中足骨窪み領域Ｍは当該インソールの外縁と横アーチ用凸部Ｇとによって第５中足骨の中央付近から骨底付近を包み込む。また、第５中足骨窪み領域Ｍは、第５中足骨の骨底に加わる足の荷重を集中させないためであり、この意義については後述する。

さらに、当該インソールの裏面側に形成された屈曲誘導溝Ｒａを示す。この屈曲誘導溝Ｒａは、切り込んで形成してもよいが（総称して屈曲誘導部分と称する）、本実施の形態では溝として説明する。

また、踵部対応領域の中心付近の位置を踵部対応領域中心Ｐｒとして記載し、当該インソールの先端と、後端とを通る直線を中敷中心線Ｌｉとして記載する。
なお、踵部対応領域中心Ｐｒは前足部対応領域２１０より高くされており、後ろに倒れないようにしている。具体的な高低差については後述する。
さらに、表面側の後足部２３から中足部２２にかけて、外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域ＳＭが形成されている。この外側傾斜領域ＳＭが始まるラインを外側傾斜領域開始ラインＬＳと記載する。

外側傾斜領域開始ラインＬＳは、図1及び図２に示すように、概略的には小趾球対応領域ＳＢの後端付近に対向する当該インソールの外縁（ＫＤ）から第５中足骨窪み領域を通って踵部対応領域中心Ｐｒ付近を通って後端２００Ｂ′に至る略直線状のラインである。

図２は産前用インソール２００の裏面の平面図である。図２においては、足裏を見た場合の骨格等を示して説明する。図１と同一な符号については説明を省略する。
また、図２においては、母趾球対応領域ＢＣの中心付近と小趾球対応領域ＳＢの中心付近とを通る直線を母趾球小趾球横断直線Ｌｂと記載する。なお、以下に説明する各図において、同一符号のものについては説明を省略する。

この母趾球小趾球横断直線Ｌｂと当該インソールの外縁とが交わる点（小趾球対応領域ＳＢの中央付近に対向する外縁の端）を外縁箇所ＫＢとし、内縁と交わる点（母趾球対応領域ＢＣの中央付近に対向する内縁の端）を内縁ＫＡとして示す。
また、図２に示す踵部対応領域中心Ｐｒと「２００Ｃ」とを通る直線をヒール中心線Ｌａと称する。
また、当該インソールの後端は、２００Ｂと記載し、先端は２００Ａと記載する。
また、踵部対応領域の踵部対応領域中心Ｐｒを横切る直線を踵部対応領域中心横断線ＬＰｒとして示す。
次に足骨格について説明する。
（足骨格）
なお、実施の形態では、足の骨格は解剖学的な名称を用いないで、義肢装具等の製造業界で使用している名称で説明し、本実施の形態で用いる骨の名称を下記に記載する。
前足部２０は、第１基節骨４１と、第２基節骨４２と、第３基節骨４３と、第４基節骨４４と、第５基節骨４５等（他の骨には番号を付さない）を含む範囲であり、前足部対応領域２１０に載置される。
中足部２２は、第１中足骨５１と、第２中足骨５２と、第３中足骨５３と、第４中足骨５４と、第５中足骨５５と、第１楔状骨６１と、第２楔状骨６２と、第３楔状骨６３と、立方骨７１と舟状骨７３とを含む範囲であり、中足部対応領域２２０に該当する。

後足部２３は、距骨７７と踵骨７５とを含む範囲であり、後足部対応領域２３０に該当する。なお、踵骨７５の後ろの出ている部分を踵骨突起部７６と記載する。
次に、図２に示している下層部材２５０について説明する。なお、図２には中足趾節関節(ＭＰ関節)のラインを「ＭＰ」と記載している。

（下層部材２５０）
図２には裏面であり、下層部材２５０に上層部材２６０を圧着していることを示している。下層部材２５０の先端は「Ｔ」と記載している。
産前用インソール２００の下層部材２５０の先端の形状は、図２に示すような先端形状Ｔとなっている。すなわち先端形状Ｔは、足の外側となる外縁箇所ＫＢから小趾球対応領域ＳＢの後端付近（第５中足骨５５の骨頭の後端）を廻り込み、さらに第３中足骨５３の骨頭及び第２中足骨５２の骨頭の後端付近を廻り込んで、母趾球ＢＣの後端付近（第１中足骨５１の骨頭の後端）を略直線状に通って足の内側となる内縁箇所ＫＢに至る山波形状にされている。
つまり、下層部材２５０の先端形状ＴのＬａと外縁との間の範囲は、中足趾節関節(ＭＰ関節) の少し下側の位置で該関節に略沿って伸びている。したがって、屈曲誘導溝Ｒａによる足の蹴り出しを、より容易にサポートすることになる。

また、下層部材２５０の裏面の踵骨突起部７６に対応する領域は、円状に窪みが形成されている（以下、裏面側円状窪２５０Ａという）。この裏面側円状窪２５０Ａには衝撃吸収体（図示せず）が貼り付けられる。なお、図２には、表面の外側傾斜領域開始ラインＬＳ（ＫＤ～２００Ｂ´）を破線で記載している。
また、図２には、第５中足骨５５の骨底付近を「Ｄ（点線）：第４の荷重ポイントともいう」と記載している。
次に、屈曲誘導溝Ｒａについて説明する。

（屈曲誘導溝Ｒａ）
屈曲誘導溝Ｒａは、前足部対応領域２１０の裏面の図２に示す位置に形成されている。中敷が上層部材と下層部材とで構成されているときには、上層部材２６０の裏面に形成される。
具体的には、第３中足骨５３の骨頭付近に対応する領域付近（以下、第３中足骨骨頭対応領域付近Ｐａという）から母趾球対応領域ＢＣの後端領域付近を通って当該インソールの内縁Ｐｂに至る略直線状に形成した溝である（下層部材２５０の先端形状Ｔと母趾球対応領域ＢＣの間を通っている）。

この屈曲誘導溝Ｒａは、母趾球小趾球横断直線Ｌｂに対しての傾斜角度θｉは、５度～２５度（好ましくは１２度～１５度）程度である。また、中足趾節関節(ＭＰ関節)と比較すると、屈曲誘導溝Ｒａは中足趾節関節(MP関節)のラインの一部と概略沿っているともいえる。

内股、中間の人、外股の人がいるが、仮に妊娠していないときは、内股とか中間でも、お腹が大きくなってくると必ず外股に開かないとバランスが取れない。
だんだん内股から、中間に、そして外股になってくる。そのときに、進行方向に対して折れる方向というのは、この角度方向である。
進行方向に対して直角に交わる線と中心線Ｌｉが交わる角度である足角は、歩行中の進行方向に対する足部の角度である。足角は、重要なアライメント要素であり７度～１３度外旋が正常であるとされている。女性の通常期の足角は０度～５度であるが、妊娠後期になると外股になりつま先が外側に向いているので、もっと大きくなり、５度～１５度位になる。

従って、母趾球対応領域ＢＣの後ろ付近となる領域に斜め溝「屈曲誘導溝Ｒａ」を入れると、中敷が親指側の方（やや内側方向）に屈曲しやすくなるので、内側に蹴り出ししやすくなり、歩くのにも楽で、疲れにくくなる。
屈曲誘導溝Ｒａが屈曲抵抗を低減し、内側への蹴り出しをサポ
ートするため、外側傾斜領域ＳＭによる効果も同時に働いて相乗効果を上げる。

なお、第３中足骨骨頭対応領域付近Ｐａは、第２中足骨５２の骨頭の後ろ又は第３中足骨５３の骨頭の後ろ付近の間であってもよい。

（踵側から見た場合）
次に、産前用インソール２００を踵側方向(Ｑ方向）から見た場合を、図３を用いて説明する。踵側方向(Ｑ方向）から見た場合は図３に示すように、産前用インソール２００では、踵部の最後端のエッジ部（図３の中央部）は高さが低くなっている。
図３においては、ヒール中心線Ｌａを縦に記載する。また、２００Ｂ´から上下に垂直に伸びる縦直線を外側傾斜後端縦ラインＬｆと記載する。また、産前用インソール２００の表面を破線（以下、表面Ｗと記載する）で示す。

次に、具体的な寸法を例記する。但し、足のサイズを２３ｃｍの場合として説明する。なお、寸法については足の横幅、履く靴等で相違するので、以下に述べる寸法は一例である。
踵側方向(Q方向）から見た場合において、踵部対応領域中心Ｐｒから外縁までの間はａｍｍ（３３ｍｍ～３８ｍｍ：好ましくは３５ｍｍ）、後端２００Ｂ´から内縁までの間はｂｍｍ（１８ｍｍ～２３ｍｍ：好ましくは２０ｍｍ）であり、踵部対応領域中心Ｐｒと後端２００Ｂ´との間は、ｆｍｍ（３ｍｍ～８ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。

また、外縁側の高さはｈａ（１９ｍｍ～２４ｍｍ：好ましくは２１ｍｍ）、内縁側の高さはｈｂ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１６ｍｍ）であり、踵部対応領域中心Ｐｒの高さｈｃは、裏面からｈｃｍｍ（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。つまり、高さは偏っている。

次に、本実施の形態の産前用インソール２００を用いた場合の効果について図４及び図５を用いて以下に説明する。なお、図５は中敷中心線Ｌｉ付近での長手方向の断面を示している。

（産前用インソール２００を用いた場合の効果）
但し、屈曲誘導溝Ｒａの効果については、後述する。
図４は産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー３００の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。なお、図４には靴の中底３２０と、本底３４０とを示す。これらは、材質はゴム材、等が好ましい。

図４に示すように、産前用インソール２００は後端部の高さが低くなっており、図５に示すように、靴の踵のアッパー３００と足の踵部がしっかりフィットするので、歩いているときに足が抜けることがない。したがって、安全である。
次に、産前用インソール２００をさらに詳細に説明する。

（産前用インソール２００の詳細）
図６は産前用インソール２００の詳細説明図である。図６（ｂ）は上面図であり、図６（ａ）は足外側方向から見た場合の側面図であり、図６（ｃ）は足内側方向から見た場合の側面図である。これらの図においても上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。

また、第５中足骨持ち上げ領域ＨＭと記載し、表皮の表面をＷと記載する。また、前足部対応領域の高さをｈｇ（５ｍｍ程度）と記載する。また、図６（ｂ）においては、外側傾斜領域ＳＭを点ハッチで示している。この外側傾斜領域ＳＭによって、歩行に伴う重心を内側に誘導する効果をさらに上げていると共に、屈曲誘導溝Ｒａとの効果が合わさってさらに効果が上がる。

図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、下層部材２５０と上層部材２６０とクッション部材２７０とが圧着されて、クッション部材２７０の上に表皮２８０が張り付けられている。下層部材２５０と上層部材２６０とクッション部材２７０とは厚みを異ならせたものを圧着しており、下層部材２５０が最も硬度が高くされている。

図６（ｂ）に示すように、前足部対応領域２１０よりも後足部対応領域２３０の方が高くされているので、後ろに倒れないようにされている。
なお、横アーチ用凸部Ｇの頂点ＰＡ付近の高さは、この頂点ＰＡに対向する外縁の箇所の高さ程度にされている。
また、横アーチ用凸部Ｇの第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域２１０の高さより僅かに高い程度にされており、

次に、図６（ｂ）の各断面を、図７を用いて説明する。図７においても、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図７（ａ）には図６（ｂ）のＡ―Ａ断面を示し、図７（ｂ）には図６（ｂ）のＢ―Ｂ断面を示し、図７（ｃ）には図６（ｂ）のＣ―Ｃ断面を示し、図７（ｄ）には図６（ｂ）のＤ―Ｄ断面を示し、図７（ｅ）には図６（ｂ）のＥ―Ｅ断面を示す。

Ｅ―Ｅ断面からＡ－Ａ断面の順に説明する。
図７（ｅ）に示すように、Ｅ－Ｅ断面は、下層部材２５０の裏側に張り付けられた衝撃吸収体２５５が存在している。
また、Ｅ－Ｅ断面において下層部材２５０は、外縁の方向は、ヒール中心線Ｌａ（Ｐｒ）付近から略直線的に増加してＳＭの一部を成している。一方、内縁の方向はフラットになって内縁付近で立ち上がった断面になっている。

そして、中足部対応領域２２０、後足部対応領域２３０を囲むコーナの基となる中間層部が圧着されている。Ｅ－Ｅ断面においては、外縁側を「２４５Ａ」と記載し、内縁側を「２４５Ｂ」と記載している。

つまり、この中間層部材２４５の「２４５Ａ」と、下層部材２５０とでＥ－Ｅ断面における外側傾斜領域ＳＭの一部を形成している。
なお、下層部材２５０又は上層部材２６０で中足部対応領域２２０、後足部対応領域２３０を囲むコーナの基となるようにしても構わないが、中間層部材２４５を設けた方が弾力性及びクッション性が出る。

図７（ｄ）のＤ－Ｄ断面では、中間層部材２４５が内縁と外縁とに渡っている。そして、下層部材２５０及び中間層部材２４５は外縁に向かうに従って高さを増して外側傾斜領域ＳＭの一部を形成している。なお、図７（ｄ）のＤ－Ｄ断面での外縁の高さｈａｂは１８ｍｍ（１６ｍｍ～２１ｍｍ：好ましくは１８ｍｍ）であり、内縁の高さｈｂｂは、１９ｍｍ（１７ｍｍ～２２ｍｍ：好ましくは１９ｍｍ）である。

図７（ｃ）のＣ－Ｃ断面は、第５中足骨窪み領域Ｍにおける第５中足骨５５の骨底付近に対応する領域の断面を含んでおり、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分であるので、第５中足骨５５の骨底が包み込まれるようになる。また、内縁側は内側縦アーチ用凸部の頂点付近である。

すなわち、内縁側が高い。具体的にはｈｂｃ（１８ｍｍ～２３ｍｍ：好ましくは１９．５ｍｍ）である。また、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（４ｍｍ～７ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。なお、この部分は最も深い部分であるので、前方には第５中足骨持ち上げ領域ＨＭが見えている（一点線で示す）。また、このＣ－Ｃ断面での内縁の高さはｈａｃ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）である。

一方、図７（ｂ）のＢ－Ｂ断面は横アーチ用凸部Ｇの頂点ＰＡ付近の断面であり、第５中足骨窪み領域Ｍが薄くなって第５中足骨持ち上げ領域ＨＭとなっている。つまり、第５中足骨５５の中央付近から第５中足骨５５の骨頭の後端の範囲を盛り上げていることになる。なお、内縁の高さはｈｂｄ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）であり、外縁の高さはｈａｄ（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。
つまり、Ｂ－Ｂ断面～Ｅ－Ｅ断面及び図６（ａ）並びに図１を参酌すると、面側に第５中足骨５５の中央付近と後足部対応領域２３０の中央付近とを通り後端に至る外側傾斜領域開始ラインＬＳ（略直線ラインともいう）から外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域ＳＭを形成している。

そして、図７（ａ）のＡ－Ａ断面では、前足部対応領域２１０の部分の断面であり、両縁の高さはｈｇ（４ｍｍ～９ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。上層部材２６０が靴の中底に接する面となっている。つまり、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（４ｍｍ～７ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）、前足部対応領域２１０の高さ程度である（少し低くしてもよい）。

従って、本実施の形態の産前用インソール２００を靴に用いて歩いた場合は、体を左右に揺らしながら歩くことがないので歩行が不安定にならない。この結果、筋肉にかかる負担を抑えられるので、産前用のインソールとして最適である。

＜実施の形態２：産後用＞
図８は本実施の形態２の産後用インソール４００の斜視図である。図１と同様に足の斜視図を上側に記載している。
図８においては、産後用インソール４００の下層部材の先端形状をＴＢ、母趾球対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＢを一点線で示す。また、産前用と区別するために、横アーチ用凸部を「ＧＢ」、第５中足骨窪み領域を「Ｍａ」と記載する。また、産後用インソール４００は裏面に実施の形態と同様に屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

また、産後用インソール４００の踵部対応領域の中心付近である踵部対応領域中心を産前用と区別して説明するために、「Ｐｆ」と記載し、当該インソールの先端４００Ａと後端４００Ｂとを通る中敷中心線を「Ｌｆ」と記載している。また、その他もできるだけ産前用と区別するために異なる符合（番号含む）を用いて説明する。
なお、産後用インソール４００の踵部対応領域中心Ｐｆ及び前足部対応領域２１０の高さは同程度にされており、外側傾斜領域ＳＭは形成されていない。つまり、後足部対応領域（２３０）は略平坦状である。

図９は産後用インソール４００の裏面の平面図である。図９に示すように、下層部材４５０の先端形状ＴＢは、内縁Ｔａから第１中足骨５１の骨頭の後端付近までを略直線的に通り、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭の後端付近を通って、第５中足骨５５の中央付近の外縁側よりを通って、第５中足骨５５の骨底を廻り込んで内縁Ｔａに至る崖山形状にされている。従って、第５中足骨５５及びその骨底が痛くならない。

次に、産後用インソール４００を踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合を、図１０を用いて説明する。
（踵側から見た場合）
踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合は図１０に示すように、産後用インソール４００は、踵部コーナの後端部は実施の形態１と同様に高さが低くなっており、産前用インソール２００に対して横アーチ用凸部ＧＢが高く(例えば、１３ｍｍ程度）、かつ大きくなっているので、この横アーチ用凸部ＧＢが見えることを示している。

次に、具体的な寸法を例記する。踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合において、踵部対応領域中心横断線ＬＰｒが通る外縁の点ＰＡｒの高さはｈｂ１（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１３ｍｍ）であり、内縁の点ＰＢｒは同程度の高さｈａ１である。また、Ｐｆの高さはｈｆ（：８ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは９ｍｍ）であり、産前用インソール２００よりも低い。

従って、本実施の形態の産後用インソール４００を靴に用いて歩いた場合は、筋肉にかかる負担を抑えられるので、産後用のインソールとして最適である。

次に、本実施の形態２の産後用インソール４００を用いた場合の効果について図１１を用いて以下に説明する。

（産後用インソール４００を用いた場合の効果）
但し、屈曲誘導溝Ｒａの効果については、後述する。産後用は、ヒール高さが普通（例えば、３．５ｃｍｍ）の靴を用いる場合とし、「５００」番を付して説明する。
図１１は産後用インソール４００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー５１０の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。なお、図１１には靴の中底５２０と、本底５３０とを示す。

図１１に示すように、産後用インソール４００は後端部の高さが低くなっており、実施の形態１と同様にアッパー５１０と足の踵部がしっかりフィットするので、歩いているときに足が抜けることがない。したがって、安全である。
次に、産後用インソール４００をさらに詳細に説明する。

（産後用インソール４００の詳細）
図１２は産後用インソール４００の詳細説明図である。図１２（ｂ）は上面図であり、図１２（ａ）は足外側方向から見た場合の側面図であり、図１２（ｃ）は足内側方向から見た場合の側面図である。これらの図においても上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。

また、図１２（ａ）及び図１２（ｃ）には、図１２（ｂ）のＬｆにおける表皮の表面をＷＢと記載している。また、前足部対応領域の高さｈｇ１とＰｆの高さは同程度になっている。さらに、図１２（ｂ）には横アーチ用凸部ＧＢ、内側縦アーチ用凸部ＧＢＣ、外側縦アーチ用凸部ＧＢＤを示す。
なお、この横アーチ用凸部ＧＢの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間であり、その高さは、この横アーチ用凸部ＧＢの頂点に対向する内縁の箇所と同程度の高さにされている。
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、下層部材４５０と上層部材４６０とクッション部材４７０とが圧着されて、クッション部材４７０の上に表皮４８０が張り付けられている。
また、図１２（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＧＢの頂点は、この頂点に対抗する内縁の箇所と同程度の高さにされている。

図１２（ａ）及び図１２（ｃ）に示すように、前足部対応領域及び踵部対応領域の高さは同程度である。また、後足部対応領域は平坦である。
次に、図１２（ｂ）の各断面を、図１３を用いて説明する。図１３においても、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図１３（ａ）には図１２（ｂ）のＡａ―Ａａ断面を示し、図１３（ｂ）には図１２（ｂ）のＢａ―Ｂａ断面を示し、図１３（ｃ）には図１２（ｂ）のＣａ―Ｃａ断面を示し、図１３（ｄ）には図１２（ｂ）のＤａ―Ｄａ断面を示し、図１３（ｅ）には図１２（ｂ）のＥａ―Ｅａ断面を示す。

Ｅａ―Ｅａ断面からＡａ－Ａａ断面の順に説明する。
図１３（ｅ）に示すように、Ｅａ－Ｅａ断面は、下層部材４５０の裏側に設けられた裏面側円状窪に張り付けられた衝撃吸収体４４０が存在している。
なお、Ｅａ－Ｅａ断面においては、外縁側を「４５０Ａ」と記載し、内縁側を「４５０Ｂ」と記載している。

外縁側の高さはｈａ２、内縁の高さｈｂ２は各々、１０ｍｍ～１５ｍｍ（好ましくは１２ｍｍ）であり、Ｐｆの高さはｈｐｆ（１０ｍｍ程度）である。
図１３（ｄ）のＤａ－Ｄａ断面では、外縁の高さはｈａ３（９ｍｍ～１４ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）であり、内縁の高さはｈｂ３（８ｍｍ～１４ｍｍ：好ましくは１１ｍｍ）である。

図１３（ｃ）のＣａ－Ｃａ断面は、第５中足骨窪み領域Ｍａの断面を含んでおり、第５中足骨窪み領域Ｍａにおいて最も深い付近の部分であり、実施の形態１（産前）と同様に、第５中足骨５５の骨底が包み込まれるようになる。具体的には、外縁側の高さはｈａ４（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは８ｍｍ）であり、内縁側の高さはｈｂ４（１２ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）である。

また、第５中足骨窪み領域Ｍａにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（５ｍｍ～８ｍｍ：好ましくは６ｍｍ）である。なお、この部分は最も深い部分であるので、前方には第５中足骨持ち上げ領域ＨＭが見えている（一点線で示す）。
また、

図１３（ｂ）のＢａ－Ｂａ断面は横アーチ用凸部ＧＢの頂点付近の断面であり、第５中足骨窪み領域Ｍａが浅くなって第５中足骨持ち上げ領域ＨＭとなっている（例えば１０ｍｍ程度）。つまり、第５中足骨５５の中央付近から第５中足骨５５の骨頭の後端の範囲を盛り上げていることになる。

なお、内縁の高さはｈｂ５（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）であり、外縁の高さはｈａ５（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。

そして、図１３（ａ）のＡａ－Ａａ断面では、前足部対応領域２１０の部分の断面であり、両縁の高さはｈｇ１（４ｍｍ～９ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。上層部材４６０が靴の中底に接する面となっている。つまり、第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域２１０の高さ程度にされている。

また、産後用の場合は、Ｍａを有することで、第５の中足骨の骨底である第4の荷重点をしっかりと確保している。

すなわち、荷重がかかった時に、この第４の荷重部位（第５中足骨骨底：Ｄ）を荷重が集中しないように（第５中足骨骨底が載る箇所は、なるべく薄くなるように仕上げる）している。

上記の図５はアッパー３００と足の踵部がしっかりフィットすることを示した図であるが、その詳細については説明が不足していたので図１４を用いてさらに詳細に説明する。
図１４は、右足用の産前用インソール２００を右足用の靴に入れて、この右足をこの産前用インソール２００に置いた場合に、足内側方向から見た図である。

但し、図１４においては、産前用インソール２００は図５と同様に図１に示す産前用インソール２００の中敷中心線Ｌｉでの断面で示す。
また、足内側方向から見た場合の右足用の産前用インソール２００の踵部コーナでの内縁（一点線）と、外縁を示しており、内縁が外縁よりも高いことを示している。

上記の説明のように、産前用インソール２００は後端である２００Ｂの高さが低くなっている。具体的には、図１４に示すように、後足部コーナの内縁（内側縁ともいう）と、外縁（外側縁ともいう）が２００Ｂに向かって下がり出す箇所（線ＬｐＢで示す）は、踵部対応領域中心ＰｒからＬＢｒ（１８ｍｍ～２５ｍｍ：好ましくは２０ｍｍ程度）である。
なお、産前又は産後用のインソールはバレーシューズに用いてもよい。

＜実施の形態３＞
インソールの裏面側に上記の屈曲誘導溝Ｒａ（深さは１ｍｍ～２・５ｍｍ：好ましくは１．５ｍｍ）を形成した、外反母趾対策、偏平足対策、外反母趾対策用中敷、偏平足対策用中敷、中足骨骨頭痛対策用中敷、モートン対策用中敷、膝痛対策用中敷、Ｏ脚対策用中敷、足底筋膜炎対策用中敷と、この他にウォーキング、ランニング用等のインソールについて以下に説明する。
なお、屈曲誘導溝Ｒａは、深さは１ｍｍ～２．５ｍｍ（好ましくは１．５ｍｍ）、長さが４５ｍｍ～６５ｍｍ（インソール長が２３０ｍｍの場合は、５０ｍｍ程度が好ましい）、幅が３ｍｍ～５．５ｍｍ程度（インソール長が２３０ｍｍの場合は、３ｍｍ程度が好ましい）である。

［外反母趾対策、・・・足底筋膜対策の上面図］
図１５は外反母趾対策、偏平足対策用インソールの上面図である。図１５（ａ）には外反母趾対策用インソール６００の上面図を示し、図１５（ｂ）には偏平足対策用インソール７００の上面図を示す。
図１６は中足骨頭対策、偏平足対策用のインソールの上面図である。図１６（ａ）には中足骨頭痛対策用インソール８００の上面図を示し、図１６（ｂ）にはモートン対策用インソール９００の上面図を示す。

図１７は膝痛対策、腰痛対策用のインソールの上面図である。図１７（ａ）には膝痛対策用インソール１０００の上面図を示し、図１７（ｂ）には腰痛対策用インソール１１００の上面図を示す。
図１８はＯ脚対策、足底筋膜炎対策用のインソールの上面図である。図１８（ａ）にはＯ脚対策用インソール１１００の上面図を示し、図１８（ｂ）には足底筋膜炎対策用インソール１３００の上面図を示す。

これらの図において、屈曲誘導溝Ｒａは裏面側に形成されていることを示すために、点線で記載している。また、足の輪郭を「Ｆ」と記載し、踵部対応領域に踵部が載る窪みの輪郭をＩＢａ（以下、踵部載置輪郭ＩＢａと称する）。
また、本実施の形態では産前、産後と区別して説明するために、横アーチ用凸部は横アーチ用凸部ＣＡと記載し、内側縦アーチ用凸部は内側縦アーチ用凸部ＣＢと記載し、外側縦アーチ用凸部は外側縦アーチ用凸部ＣＤと記載する。

また、中足趾節関節(ＭＰ関節)において、第１中足骨５１の骨頭（第1中足骨骨頭ともいう）と第１基節骨４１の骨底（第１基節骨骨底ともいう）との間、第２中足骨５２の骨頭（第２中足骨骨頭ともいう）と第２基節骨４２の骨底（第２基節骨骨底ともいう）との間を通る部分を本実施の形態では、ＭＰ主屈折ライン部と称し、図においては「ＭＰｅ」と記載する。

（外反母趾対策）
外反母趾は、足の親指が人差し指の方向に「く」の字に曲がる症状のことである。すなわち、第１基節骨が押されて中足趾節関節が外反することで外反母趾が誘発される。
このため足の横アーチを持ち上げて中足骨間を狭めることによって、これを矯正または予防する。同時に他の部分の骨格の崩れを防止するために足の３つのアーチである横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチを整える凸形状が施されていることが重要である。
一方、スマートに歩く又はスマートに走行をするために裏面側に上記の屈曲誘導溝Ｒａを形成していると共に、足の前ずれ及び靴抜けを防止するために後端部分を低く形成している。

以下に図１５（ａ）を用いて外反母趾対策用インソール６００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１５（ａ）には上層部材を外反母趾用上層部材６２０と記載する。また、下層部材については後述する図１９で説明する。
なお、外反母趾用上層部材６２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１５（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１５（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦａ：先端縁に示す」と記載する。

図１５（ａ）に示すように、表面側には足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。なお、「ＣＡ」、「ＣＢ」、「ＣＤ」の引出線の黒丸は、その頂点付近を指している。
「ＣＡ」の黒丸の前足部対応領域側の第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間が横アーチ用凸部ＣＡの頂点である。
また、「ＣＢ」の黒丸に対向する内縁の箇所が内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点である。さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤの黒丸に対抗する内縁の箇所が外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点である。
横アーチ用凸部ＣＡは、第２中足骨５２の骨頭の直後付近と、第３中足骨５３の骨頭の直後付近との間に頂点（図示せず）を設けた、しずく型である。
この横アーチ用凸部ＣＡの大きさは、幅が例えば４０～６０ｍｍの第１中足骨５１と、第２中足骨５２とにかからない程度で、長さが例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点の高さが例えば１５～１７ｍｍ程度である。

内側縦アーチ用凸部ＣＢは、足内側となる内縁の箇所に形成されている。
具体的には、例えば木の葉を半分にしたような形であり、大きさは、幅が例えば３５～５５ｍｍ（内縁から第２楔状骨６２の内側程度）である。
また、長さは例えば８０～１１０ｍｍ（第１中足骨５１の骨頭付近から踵骨７５の内側（載距突起付近）であり、頂点の高さは例えば１４～１６ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。
さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤは、外縁の踵骨７５の前側辺りに形成されている。
具体的には、例えば内側縦アーチ用凸部ＣＢより小さい形状であり、大きさは、幅が例えば１０～１８ｍｍで、長さが例えば３５～４０ｍｍで、頂点の高さが例えば１０～１２ｍｍ程度である。これらの凸部は互いに滑らかな曲面でつながっている。

すなわち、横アーチ用凸部ＣＡは、頂点の高さが、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点の高さと同程度（少し低）であり、外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点よりも高くなっている。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
この屈曲誘導溝Ｒａは、具体的には第３中足骨骨頭が載置される領域の真裏となる第３中足骨骨頭裏箇所と、母趾球が載置される領域の真裏の母趾球裏領域の直後に対向する内縁の裏側の箇所との間に形成された直線状の溝である
つまり、この屈曲誘導溝Ｒａは、第３中足骨５３の骨頭に対応する箇所Ｐａから斜めに直線状に第１中足骨５１の骨頭の直後を通って内縁の箇所Ｐｂに至っている。

また、中足趾節関節(ＭＰ関節)は、内縁の端の点を「Ｋｍ２」と記載し、外縁の端の点を「Ｋｍ１」と記載している。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。
さらに、後足部対応領域を囲むコーナを外反母趾用後足部コーナ６００ｃと記載し、外縁のコーナを外反母趾用外側コーナ６００ａと記載し、内縁のコーナを外反母趾用内側コーナ６００ｂと記載している。なお、外反母趾用後足部コーナ６００ｃの後端は低い。

（偏平足）
扁平足とは、足の裏の「土踏まず」の構造が潰れて、足の裏が略平らになる状態のことを指すと言われている。「土踏まず」とは、体重を効率よく支えるアーチ状の構造のことである。進行すると足が変形して歩行障害を引き起こすこともある。
すなわち、扁平足とは内側縦アーチが低下して足全体が外反する。このため内側縦アーチの頂点を構成する舟状骨を中心として第１中足骨頭付近から踵骨の載距突起の後方付近の下に、これを支える膨隆部を形成することによってこれを矯正または予防することができる。
以下に図１５（ｂ）を用いて偏平足対策用インソール７００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
具体的には、横アーチ用凸部ＣＡは、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点及び外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点より低い。図１５（ｂ）には上層部材を偏平足用上層部材７２０と記載する。また、下層部材については後述する図２０で説明する。

なお、１５（ｂ）においても、表皮を図示しない。
また、図１５（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｂ：先端縁に示す」と記載する。
図１５（ｂ）に示すように、図１５（ａ）と同様に、表面側には足の３アーチを整えるための、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが形成されている。
この横アーチ用凸部ＣＡは、第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域の高さより僅かに高い程度にされており、外縁方向の縁を前足部対応領域の高さ程度にした偏平足対策用傾斜面である。
横アーチ用凸部ＣＡのＩＦｂの先端縁は、第５中足骨５５に掛からないようにされて、第５中足骨５５の骨底を廻り込んで外縁に至っている。
また、後足部対応領域を囲むコーナを偏平足用後足部コーナ７００ｃと記載し、外縁のコーナを偏平足用外側コーナ７００ａと記載し、内縁のコーナを偏平足対策用内側コーナ７００ｂと記載している。なお、偏平足用後足部コーナ７００ｃの後端は低い。

（中足骨頭痛対策）
足の親指ではなく第２指の付け根に慢性的な痛みを中足骨頭痛と称している。中足骨頭痛とはリウマチなどにより中足趾節関節が破壊され、足の横アーチが低下して第２および第３中足骨頭に圧力が集中して疼痛を生じる。このため、この部分が第１および第５中足骨頭部分よりも低くなるように凹形状で除圧することによって、これを矯正または予防する。同時に他の部分の骨格の崩れを防止するために３つのアーチ（横アーチ・内側縦アーチ・外側縦アーチ）を整える凸形状が施されていることが重要である。

図１６（ａ）を用いて中足骨痛対策用インソール８００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１６（ａ）には上層部材を中足骨頭用上層部材８２０と記載し、詳細は後述する。
なお、中足骨頭用上層部材８２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１６（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１６（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｃ：先端縁に示す」と記載する。
図１６（ａ）においては、中足骨頭痛対策用インソール８００は、ＩＦｃの形状が特殊であるので、他と区別して横アーチ用凸部を中足骨頭通用横アーチ用凸部ＣＡａと称して説明する。

図１６（ａ）に示すように、表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、中足骨頭通用横アーチ用凸部ＣＡａと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。この中足骨頭通用横アーチ用凸部ＣＡａの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間である。
また、第１中足骨５１の骨頭と第１基節骨４１の骨底との部分に対応する領域と、第５中足骨５５の骨頭と第５基節骨４５の骨底との部分に対応する領域は、中足骨頭用上層部材８２０の前足部対応領域の上面よりも、例えば段差２～５ｍｍとなる凸部（以下、凸領域部という）にされている。

すなわち、図１６（ａ）に示すように、ＩＦｃは、第１基節骨４１の骨底の上側付近を通って、第１中足骨５１の骨頭の内側を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の中央付近（骨頭より）を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭を斜めに通って、第５中足骨５５の骨頭の内側を通って第５基節骨４５の骨底付近を廻り込んで外縁に至る略Ｕ字形状にされている。つまり、中央分が後ろ側に凹んでいる。

中足骨頭通用横アーチ用凸部ＣＡａは、第２中足骨５２の骨頭の直後付近と、第３中足骨５３の骨頭の直後付近との間に頂点（図示せず）を設けた、しずく型である。
大きさは、幅が例えば４０～６０ｍｍの第１中足骨５１と、第２中足骨５２とにかからない程度で、長さが例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点の高さが例えば１２～１５ｍｍ程度である。
内側縦アーチ用凸部ＣＢは、具体的には、例えば木の葉を半分にしたような形であり、大きさは、幅が例えば３５～５５ｍｍ（内縁から第２楔状骨６２の内側程度）である。

また、長さは例えば８０～１１０ｍｍ（第１中足骨５１の骨頭付近から踵骨７５の内側（載距突起付近）であり、頂点の高さは例えば１５～１７ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤは、外縁の踵骨７５の前側辺りに、形成されている。
具体的には、例えば内側縦アーチ用凸部ＣＢより小さい形状であり、大きさは、幅が例えば１０～１８ｍｍで、長さが例えば３５～４０ｍｍで、頂点の高さが例えば１０～１２ｍｍ程度である。これらの凸部は互いに滑らかな曲面でつながっている。

すなわち、中足骨頭通用横アーチ用凸部ＣＡａは、頂点の高さが、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点の高さより少し低く、外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点よりも高くなっている。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａの作用効果については後述する。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。
なお、先端の輪郭線「ＩＦａ」を略Ｕ字形状としたが、特許第３９７７７７１号公報の図７のような形状であってもよい。つまり、少なくとも第２中足骨５２の骨頭、第３中足骨５３の骨頭に掛からない形状であればよい。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１６（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを中足骨頭痛用後足部コーナ８００ｃと記載し、外縁のコーナを中足骨痛用外側コーナ８００ａと記載し、内縁のコーナを中足骨痛用内側コーナ８００ｂと記載している。なお、偏平足用後足部コーナ７００ｃの後端は低い。

（モートン対策）
モートン病とは、第３中足骨５３と第４中足骨５４との骨頭間で交差し癒合する神経が、狭い靴を履くことなどによって圧迫を受けるために生じる絞扼性神経障害である。
このため、第３中足骨５３と第４中足骨５４との骨頭間を広げるように横アーチ用凸部ＣＡを保持することにより、神経圧迫を取り除くことで疼痛を軽減させる。
図１６（ｂ）を用いてモートン対策用インソール９００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。

図１６（ｂ）には上層部材をモートン用上層部材９２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、モートン用上層部材９２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、表皮については記載しない。
また、図１６（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｄ：先端縁に示す」と記載する。

図１６（ｂ）に示すように、表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡ（しずく型）と、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。
この横アーチ用凸部ＣＡ（しずく型）は、幅が例えば４０～６０ｍｍで第１中足骨５１の骨頭と第５中足骨５５にかからない程度である。
長さは、例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点（第３中足骨の骨頭の少し後ろの箇所と第４中足骨の骨頭の少し後ろの箇所）の高さが例えば１４～１６ｍｍ程度で、足の横アーチを多少突き上げる程度にされている。
すなわち、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、第３中足骨骨頭の直後付近と第４中足骨骨頭の直後付近との間であり、その高さは、内側縦アーチ凸部の頂点と同程度の高さである。

これにより、神経圧迫を取り除くことで疼痛を軽減させることができる。
内側縦アーチ用凸部ＣＢは、頂点の高さは例えば１５～１７ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦｄ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。

さらに、後足部対応領域を囲むコーナをモートン用後足部コーナ９００ｃと記載し、外縁のコーナをモートン用外側コーナ９００ａと記載し、内縁のコーナをモートン用内側コーナ９００ｂと記載している。また、上記と同様に、モートン用後足部コーナ９００ｃの後端は低い。
なお、先端の輪郭線「ＩＦｄ」は特許第３９７７７７１号公報の図１３のような形状であっても構わない。
（膝痛対策）
膝痛とは変形性膝関節症などにより、膝関節内側半月板が破壊され膝関節は内反し、疼痛を生じる。
このため後足部を外反させて矯正するために、第５中足骨５５の中央付近から踵骨７５中央付近に渡って長い傾斜面を形成して、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節内側裂隙を広げるようにしてこれを矯正または予防する。
図１７（ａ）を用いて 膝痛対策用インソール１０００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。

図１７（ａ）には上層部材を膝痛用上層部材１０２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、上記と同様に、膝痛用上層部材１０２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１７（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１７（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｅ：先端縁に示す」と記載する。

表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。これらの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間である。
また、これらの凸部は主に上層部材によって形成されるが、上層部材については後述する。図１７（ａ）では、その輪郭線の先端を「ＩＦｅ」として記載している。
先端縁ＩＦｅは、図１７（ａ）に示すように、第１中足骨５１の骨頭の内側を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近を通って外縁に至る形状である。

また、下層部材の裏面には、後足部を外反させて矯正するために、図示しない膝痛対策用裏側傾斜領域（図示せず）が形成されている。この膝痛対策用裏側傾斜領域については後述する。
この膝痛対策用傾斜面によって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節内側裂隙を広げるようにしてこれを矯正または予防することが可能となっている。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１７（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを膝通対策用後足部コーナ１０００ｃと記載し、外縁のコーナを膝通対策用外側コーナ１０００ａと記載し、内縁のコーナを膝通対策用内側コーナ９００ｂと記載している。膝通対策用後足部コーナ１０００ｃの後端は低い。また、上層部材の形状は、特許第３９７７７７１号公報の図７と同様な形状であってもよい。

（腰痛対策）
腰痛とはさまざまな原因で発生するが、特に骨盤が前傾して腰椎の前弯が増強すると疼痛が増加する。このため前足部よりも後足部を低くすることにより、骨盤を後傾させて疼痛を軽減させる。
図１７（ｂ）を用いて腰痛対策用インソール１１００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１７（ｂ）には上層部材を腰痛用上層部材１１２０と記載する。また、下層部材については後述する。なお、表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１７（ｂ）においては表皮については記載しない。
また、図１７（ｂ）においては、下層部材は表皮によって隠れているが、その輪郭線を「ＩＦｆ：先端縁に示す」と記載する。
表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。これらの内で、幅、長さ及び横アーチ用凸部ＣＡを除く頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。

横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さは、６ｍｍ程度（サイズが２３ｍｍの場合）である。
先端縁ＩＦｆは、図１７（ｂ）に示すように、内縁の第１基節骨４１の骨底に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第５中足骨５５に掛からないようにして第５中足骨５５の骨底を廻り込んで第５基節骨４５の骨頭に対向する外縁の点に至る形状にされている。
また、横アーチ用凸部ＣＡの第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間の高さは、偏平足用の高さより僅かに高い程度にして、外縁方向の縁の高さを前足部対応領域の高さ程度にした腰痛対策用傾斜面である。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１７（ｂ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを腰痛用後足部コーナ１１００ｃと記載し、外縁のコーナを腰痛用外側コーナ１１００ａと記載し、内縁のコーナを腰痛用内側コーナ１０００ｂと記載している。腰痛用後足部コーナ１０００ｃの後端は低い。
また、上層部材の形状は、特許第３９７７７７１号公報の図１１と同様な形状であってもよい。

（Ｏ脚対策）
Ｏ脚とは両膝関節が内反した状態で、美観上の問題や膝関節内側に過大な負荷がかかることによって変形性膝関節症などに進行する可能性のある状態である。
このため中足部から後足部を外反させて矯正するために、裏面の内縁の立方骨７１の中央付近に対向する点から踵部の後端にかけて傾斜領域（Ｏ脚用傾斜領域：図示せず）を形成する。これによって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導する

図１８（ａ）を用いてＯ脚対策インソール１２００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１８（ａ）には上層部材を膝痛用上層部材１２２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、膝痛用上層部材１２２０の上面には表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１８（ａ）においては表皮については記載しない。

また、図１８（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｇ：先端縁に示す」と記載する。
表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。
但し、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、４ｍｍ～５ｍｍ程度（サイズが２３０ｍｍの場合）である。
先端縁ＩＦｇは、図１８（ａ）に示すように、内縁の第１中足骨５１の骨頭に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近より少し下を通って、この中央付近に対向する外縁に至る形状である。

また、下層部材には、後足部を外反させて矯正するために、図示しない傾斜面（Ｏ脚用傾斜領域）が形成されている。
すなわち、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導するための、Ｏ脚用傾斜領域が形成されている。
なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１８（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナをＯ脚対策用後足部コーナ１２２０ｃと記載し、外側コーナをＯ脚対策用外側コーナ１２２０ａと記載し、内側コーナをＯ脚対策用内側コーナ１２２０ｂと記載している。
上記のＯ脚用傾斜領域は、特許第６４６７１４１号公報の図２、図４、図５の傾斜領域にするのが好ましい。
すなわち、裏側において、中足部対応領域の後端付近の足の内側の位置から後足部対応領域の後端の足の内側よりの位置までを結ぶ直線（Ｌａ）に対向する後足部対応領域の足の外側までの範囲に傾斜領域を施す。
この傾斜領域は、直線（Ｌａ）から足の外側に向かって次第に厚みが増加され、足の外側となる面の高さは、この足の外側の面に対向する足の内側の面に対して３割程度高する。

（足底筋膜炎対策）
足底筋膜炎・踵骨棘は、足底筋膜に繰り返し張力がかかることによって、主に踵骨付着部や足底筋膜内側に疼痛を生じ、さらには足底筋膜が付着する踵骨底部に骨棘を生じ疼痛を発する。このため骨棘を生じた部位を凹形状で除圧し、足底筋膜に不要な張力がかからないようにする。

図１８（ｂ）を用いて足底筋膜炎インソール１３００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１８（ｂ）には上層部材を足底筋膜用上層部材１３２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、足底筋膜用上層部材１３２０の上面には表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１８（ｂ）においては表皮については記載しない。
また、図１８（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｈ：先端縁に示す」と記載する。

表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。
但し、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、６ｍｍ～８ｍｍ程度である。先端縁ＩＦｈは、図１８（ｂ）に示すように、内縁の第１中足骨５１の骨頭に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近より少し下を通って、この中央付近に対向する外縁に至る形状である。

また、後足部対応領域には、長円状の窪み（以下、足底筋膜縁対策用窪部Ｔａと称する）が形成されている。この足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは、円、楕円若しくは足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは、特許第６６０９２２２号公報のように、銅鐸形状であっても良い。
この足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは、足の踵骨の踵骨隆起付近から放射状に出る足底筋膜の筋膜起点部を保護するためのものである。
また、下層部材は、特許第３９７７７７１号公報の図５のような形状であっても構わない。
なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１８（ｂ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを足底筋膜炎用後足部コーナ１３００ｃと記載し、外側コーナを足底筋膜炎用外側コーナ１３００ａと記載し、内側コーナを足底筋膜炎用内側コーナ１３００ｂと記載している。なお、足底筋膜炎用後足部コーナ１３００ｃの後端は低い。

［各インソールの詳細］
次に、外反母趾対策用インソール、偏平足対策用インソール、中足骨骨頭痛対策用インソール、モートン対策用インソール、膝痛対策用インソール、Ｏ脚対策用インソール、足底筋膜炎対策用インソールの詳細構造を説明する。
（外反母趾対策用インソール６００の詳細）
図１９は外反母趾対策用インソール６００の詳細説明図である。図２０は図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。
図１９（ａ）は外反母趾対策用インソール６００の裏面図であり、図１９（ｂ）は図１９（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図１９（ｃ）は図１９（ａ）のＡ７－Ａ７方向からの断面図である。このＡ７－Ａ７は、外反母趾対策用インソール６００の先端６００Ａと後端２００Ｂとを結ぶ直線であり、外反母趾インソール中敷中心線Ｌａａとも称する。なお、
上記の図と同一符号については説明を省略する。

図１９（ａ）、図１９（ｂ）、図１９（ｃ）に示すように、外反母趾下層部材６１０（ウレタン）の上に外反母趾用上層部材６２０が圧着されている。
また、図１９（ａ）の点線線は、外反母趾下層部材６１０が外側コーナ、内側コーナ、踵コーナを形成するために表側に曲げられたラインであり、ＡＬａと記載する。
また、図１９（ａ）には表側の母趾球領域対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＣを一点線で記載している。また、屈曲誘導溝Ｒａは裏面に形成されているので、実線で記載している。
また、裏面における母趾球領域対応領域ＢＣの中心と小趾球対応領域ＳＣの中心とを通る直線をＬｂｃと記載している。

屈曲誘導溝Ｒａは、母趾球小趾球横断直線Ｌｂｃに対しての傾斜角度θｉは、産前、産後と同様に、５度～２５度である（３０度～３２度の場合もある）。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ１と記載している。
図１９（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄａ１０（１４ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側方向から見た場合の踵部付近の高さはｄａ８（１３ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１６．５ｍｍ）と記載している。
そして、後端６００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端６００Ｂに至っている。ＩＰａから後端６００Ｂまでは、３８ｍｍ程度である。

また、図１９（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄａ１（例えば、１．５ｍｍ～３．０ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さはｄａ３（例えば、９．７７ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄａ７（例えば、３．６７ｍｍ）であり、ほぼ前足対応領域と前足部対応領域の高さは同程度である。
また、後端６００Ｂの高さｄａ９（例えば、４．０ｍｍ）であり、非常に低い。
なお、図１９（ｃ）に示すように、図１９（ａ）のＡ７－Ａ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄａ５（例えば、１２ｍｍ）である。

次に、図２０を用いて図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図２０（ａ）は図１９（ｂ）のＦＢ１方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２０（ａ）に示すように、後端６００Ｂの高さは非常に低いので（ｄａ９：例えば４．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２０（ｂ）は図１９（ｂ）のＡ１－Ａ１断面で前方見た場合の断面図である。図２０（ｂ）に示すように、図１９（ｂ）のＡ１－Ａ１断面の付近は前足部対応領域の部分であり、外反母趾下層部材６１０は存在しないので、高さｄａ２は、１．５ｍｍ～２．３ｍｍ：好ましくは２．１７ｍｍ）である。
図２０（ｃ）の図１９（ｂ）のＡ２－Ａ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので外反母趾下層部材６１０が存在し、かつ横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄａ４は８．５ｍｍ程度（８．０ｍｍ～９．０ｍｍ：好ましくは８．５ｍｍ）である（横アーチ用凸部ＣＡの頂点部分が少し見える）。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
さらに、図１５（ｂ）に示すように、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されていることを説明したが、Ａ２－Ａ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域の断面を含むので、図２０（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡと外縁との間は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である（第５中足骨窪み領域Ｍ）。
図２０（ｄ）は図１９（ｂ）のＡ３－Ａ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので厚みも薄くなり、その高さｄａ６（４．５ｍｍ～５．０ｍｍ：好ましくは４．８ｍｍ）である。このため、横アーチ用凸部ＣＡが大きく見える。

図２０（ｅ）は、図１９（ｂ）のＡ４－Ａ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端６００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄａ１２（３．５ｍｍ～４．０ｍｍ：好ましくは３．６９ｍｍ）となっている。このため、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（偏平足対策用インソール７００の詳細）
図２１は偏平足対策用インソール７００の詳細説明図である。図２２は図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。
図２１（ａ）は偏平足対策用インソール７００の裏面図であり、図２１（ｂ）は図２１（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２１（ｃ）は図２１（ａ）のＢ７－Ｂ７方向からの断面図である。このＢ７－Ｂ７は、偏平足対策用インソール７００の先端７００Ａと後端７００Ｂとを結ぶ直線であり、偏平足用インソール中敷中心線Ｌａｂとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２１（ａ）、図２１（ｂ）、図２１（ｃ）に示すように、偏平足用下層部材７１０（ウレタン）の上に偏平足用上層部材７２０が圧着されている。
また、図２１（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ２と記載している。
図２１（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｂ１０（１４ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｂ８（１３ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１６．５ｍｍ）と記載している。そして、後端７００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端７００Ｂに至っている。ＩＰａから後端７００Ｂまでは、３８ｍｍ程度である。

また、図２１（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｂ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｂ３（例えば、６．８２ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄｂ７（例えば、３．６ｍｍ）であり、後端７００Ｂの高さｄｂ９（例えば、４．０ｍｍ）である。なお、図２１（ｃ）に示すように、図２０（ａ）のＢ７－Ｂ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｂ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２２を用いて図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２２（ａ）は図２１９（ｂ）のＦＢ２方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２２（ａ）に示すように、後端７００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｂ９：例えば４．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。但し、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点は高さが低いので、内縁からは斜め状になっている。

図２２（ｂ）は図２１（ｂ）のＢ１－Ｂ１断面で前方見た場合の断面図である。図２２（ｂ）に示すように、図２１（ｂ）のＢ１－Ｂ１断面の付近は前足部対応領域の部分であり、偏平足用下層部材７１０は存在しないので、高さｄｂ２は、２．１７ｍｍ程度である。
図２２（ｃ）の図２１（ｂ）のＢ２－Ｂ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので偏平足用下層部材７１０が存在し、かつ横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄｂ４は６．６ｍｍ程度（６．０ｍｍ～７．０ｍｍ：好ましくは６．６ｍｍ）である（横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える）。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。

さらに、上記の図１６（ａ）においては、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦｂ」が形成されていることを説明したが、Ｂ２－Ｂ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域の断面を含むので、図２２（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡと外縁との間は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である（第５中足骨窪み領域Ｍ）。

図２２（ｄ）は図２１（ｂ）のＢ３－Ｂ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｂ２－Ｂ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｂ６（４．５ｍｍ～５．０ｍｍ：好ましくは５．５ｍｍ）である。しかし、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さは低いので横アーチ用凸部ＣＡは少し見える程度である。

図２２（ｅ）は、図２１（ｂ）のＢ４－Ｂ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端７００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｂ１２（３．５ｍｍ～４．０ｍｍ：好ましくは３．６ｍｍ）となっている。このため、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さが低くても、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（中足骨痛対策用インソール８００の詳細）
図２３は中足骨痛対策用インソール８００の詳細説明図である。図２４は図２３の中足骨痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図である。
図２３（ａ）は中足骨痛対策用インソール８００の裏面図であり、図２３（ｂ）は図２３（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２３（ｃ）は図２３（ａ）のＣ７－Ｃ７方向からの断面図である。このＣ７－Ｃ７は、中足骨痛対策用インソール８００の先端８００Ａと後端８００Ｂとを結ぶ直線であり、中足骨痛対策用インソール中敷中心線Ｌａｃとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２３（ａ）、図２３（ｂ）、図２３（ｃ）に示すように、中足骨痛対策用インソール８００（ウレタン）の上に中足骨頭痛用上層部材８２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２３（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ３と記載している。
図２３（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｃ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｃ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端８００ＢからＬＥｃ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端８００Ｂに至っている。ＩＰａから後端８００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。なお、小趾球対応領域ＳＢ付近の段差の部分はＣＡｅと記載している。

また、図２３（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｃ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｃ３（例えば、１０．５６ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄｃ６（例えば、２．２４ｍｍ）であり、後端８００Ｂの高さｄｃ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２３（ｃ）に示すように、図２３（ａ）のＣ７－Ｃ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｃ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２４を用いて図２３の中足骨痛対策用インソール８００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。また、横アーチ用凸部については、図２４においては、ＣＡａと記載する。
図２４（ａ）は図２３（ｂ）のＦＢ３方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２４（ａ）に示すように、後端８００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｃ９：例えば３．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡａが見えている。
図２４（ｂ）は図２３（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面で前方見た場合の断面図である。図２４（ｂ）に示すように、図２３（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面の付近は中足部対応領域の部分であるが、中足骨痛対策用インソール下層部材８１０の先端縁ＩＦｃは、、中央分が後ろ側に凹んだ略Ｕ字形状にされているので、内側、外側のみに中足骨痛対策用インソール下層部材８１０が存在している。図２４（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面における中足骨痛対策用インソール上層部材８２０の厚みは薄く、その高さｄｃ２は、２．１１ｍｍ程度である。

図２４（ｃ）は図２３（ｂ）のＣ２－Ｃ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので中足骨痛対策用インソール下層部材８１０が存在し、かつ横アーチ用凸部ＣＡａの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄｃ４は１０．４ｍｍ程度）である（横アーチ用凸部ＣＡａ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢの高さは高い）。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。

図２４（ｄ）は図２３（ｂ）のＣ３－Ｃ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｃ２－Ｃ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｂ６（３．０ｍｍ）である。中足骨痛対策用インソール８００の横アーチ用凸部ＣＡａも大きく見える。
図２４（ｅ）は、図２３（ｂ）のＣ４－Ｃ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端８００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｃ１２（２．３ｍｍ）となっている。このため、横アーチ用凸部ＣＡａ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（モートン対策用インソール９００の詳細）
図２５はモートン対策用インソール９００の詳細説明図である。図２６は図２４の中足骨痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図である。
図２５（ａ）はモートン対策用インソール９００の裏面図であり、図２５（ｂ）は図２５（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２５（ｃ）は図２５（ａ）のＤ７－Ｄ７方向からの断面図である。このＤ７－Ｄ７は、モートン対策用インソール９００の先端９００Ａと後端９００Ｂとを結ぶ直線であり、モートン対策用インソール中敷中心線Ｌａｄとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２５（ａ）、図２５（ｂ）、図２５（ｃ）に示すように、モートン対策用インソール９００（ウレタン）の上にモートン用上層部材９２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２５（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ４と記載している。
図２５（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｄ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｄ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端９００ＢからＬＥｄ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端９００Ｂに至っている。ＩＰａから後端９００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。

また、図２５（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｄ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｄ３（例えば、９．３ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｄ６（例えば、２．５ｍｍ）であり、後端９００Ｂの高さｄｄ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２５（ｃ）に示すように、図２５（ａ）のＤ７－Ｄ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｄ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。

次に、図２６を用いて図２５のモートン対策用インソール９００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図２６（ａ）は図２５（ｂ）のＦＢ４方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２６（ａ）に示すように、後端９００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｄ９：例えば３．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２６（ｂ）は図２５（ｂ）のＤ１－Ｄ１断面で前方見た場合の断面図である。図２６（ｂ）に示すように、図２５（ｂ）のＤ１－Ｄ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｄ１は１．５ｍｍ程度である。

図２６（ｃ）は図２５（ｂ）のＤ２－Ｄ２断面で前方見た場合の断面図である。図２６（ｂ）に示すように、図２５（ｂ）のＤ２－Ｄ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、モートン用下層部材９１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので、厚みもあり、その高さもｄｄ４（８．５ｍｍ）程度である。
さらに、モートン用下層部材９１０の先端縁ＩＦｄは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｄ２－Ｄ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域（第５中足骨窪み領域Ｍ）の断面を含む。
このため、図２６（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図２６（ｄ）は図２５（ｂ）のＤ３－Ｄ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｄ２－Ｄ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｄ６（６．０ｍｍ）である。なお、Ｄ２－Ｄ２断面よりは少し薄くなっているので、横アーチ用凸部ＣＡも見える。
図２６（ｅ）は、図２５（ｂ）のＤ４－Ｄ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端９００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｄ１２（３．０ｍｍ）となっている。このため、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（ 膝痛対策用インソール１０００の詳細）
図２７は 膝痛対策用インソール１０００の詳細説明図である。図２８は図２７の 膝痛対策用インソール１０００を踵方向（例えば、ＦＢ５）から見た場合と各部の断面図である。
図２７（ａ）は 膝痛対策用インソール１０００の裏面図であり、図２７（ｂ）は図２７（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２７（ｃ）は図２７（ａ）のＥ７－Ｅ７方向からの断面図である。このＥ７－Ｅ７は、 膝痛対策用インソール１０００の先端１０００Ａと後端１０００Ｂとを結ぶ直線であり、膝痛用インソール中敷中心線Ｌａｅとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２７（ａ）、図２７（ｂ）、図２７（ｃ）に示すように、 膝痛対策用インソール１０００（ウレタン）の上に膝痛用上層部材１０２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２７（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ５と記載している。
図２７（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｅ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｅ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１０００ＢからＬＥｄ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端１０００Ｂに至っている。ＩＰａから後端１０００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。

また、図２７（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｅ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｅ３（例えば、９．３ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｅ６（例えば、２．５ｍｍ）であり、後端１０００Ｂの高さｄｅ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２７（ｃ）に示すように、図２７（ａ）のＥ７－Ｅ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｅ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２８を用いて図２７の 膝痛対策用インソール１０００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２８（ａ）は図２７（ｂ）のＦＢ５方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２７（ｃ）に示すように、後端１０００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｅ９：例えば３．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２８（ｂ）は図２７（ｂ）のＥ１－Ｅ１断面で前方見た場合の断面図である。図２８（ｂ）に示すように、Ｅ１－Ｅ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｅ１は１．５ｍｍ程度である。
図２８（ｃ）は図２７（ｂ）のＥ２－Ｅ２断面で前方見た場合の断面図である。Ｅ２－Ｅ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、膝痛用インソール下層部材１０１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので、厚みもあり、その高さもｄｅ４（１０．０ｍｍ）程度である。

さらに、膝痛用インソール下層部材１０１０の先端縁ＩＦｅは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｅ２－Ｅ２断面は、この第５中足骨５５が載置される第５中足骨窪み領域Ｍ（図示せず）の断面を含む。
このため、図２８（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図２８（ｄ）は図２７（ｂ）のＥ３－Ｅ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｅ２－Ｅ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｅ６（６．０ｍｍ）である。なお、Ｅ２－Ｅ２断面よりは少し薄くなっているので、横アーチ用凸部ＣＡも見える。

また、後足部を外反させて矯正するために、第５中足骨５５の中央付近に対向する外縁の箇所から踵骨７５の中央付近を通って後端に至る領域は、長い傾斜面が形成させられている。このため、Ｅ３－Ｅ３断面の外縁は高さが例えば、１３．０ｍｍ程度となっている。
図２８（ｅ）は、図２７（ｂ）のＥ４－Ｅ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｅ１２（７．０ｍｍ）となっている。

（腰痛対策用インソール１１００の詳細）
図２９は腰痛対策用インソール１１００の詳細説明図である。図３０は図２９の腰痛対策用インソール１１００を踵方向（例えば、ＦＢ６）から見た場合と各部の断面図である。
図２９（ａ）は腰痛対策用インソール１１００の裏面図であり、図２９（ｂ）は図２９（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２９（ｃ）は図２９（ａ）のＦ７－Ｆ７方向からの断面図である。このＦ７－Ｆ７は、腰痛対策用インソール１１００の先端１１００Ａと後端１１００Ｂとを結ぶ直線であり、腰痛対策用インソール中敷中心線Ｌａｆとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２９（ａ）、図２９（ｂ）、図２９（ｃ）に示すように、腰痛対策用インソール１１００（ウレタン）の上に腰痛対策用インソール上層部材１１２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２９（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ６と記載している。
図２９（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｆ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｆ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１１００ＢからＬＥｄ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端１１００Ｂに至っている。ＩＰａから後端１１００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。

また、図２９（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｆ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｆ３（例えば、６．０ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｆ６（例えば、５．０ｍｍ）であり、後端１１００Ｂの高さｄｆ９（例えば、７．２ｍｍ）である。なお、図２９（ｃ）に示すように、図２９（ａ）のＦ７－Ｆ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｆ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。

次に、図２９を用いて図２８の腰痛対策用インソール１１００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図３０（ａ）は図２９（ｂ）のＦＢ６方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２９（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｆ９：例えば７．２ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。

図３０（ｂ）は図２９（ｂ）のＦ１－Ｆ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｆ１－Ｆ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｆ２は１．５ｍｍ程度である。
図３０（ｃ）は図２９（ｂ）のＦ２－Ｆ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｆ２－Ｆ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、腰痛対策用インソール下層部材１１１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点は低いので、その高さもｄｆ４（６．０ｍｍ）程度である。
さらに、腰痛対策用インソール下層部材１１１０の先端縁ＩＦｆは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｆ２－Ｆ２断面は、この第５中足骨５５が載置される第５中足骨窪み領域Ｍの断面を含む。

このため、図３０（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図３０（ｄ）は図２９（ｂ）のＦ３－Ｆ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｆ２－Ｆ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｆ６（６．２ｍｍ）である。
図３０（ｅ）は、図２９（ｂ）のＦ４－Ｆ４断面から前方を見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｆ１２（４．５ｍｍ）となっている。つまり、後足部を低くすることにより、骨盤を後傾させて疼痛を軽減させている。

（Ｏ脚用インソール１２００の詳細）
図３１はＯ脚用インソール１２００の詳細説明図である。図３２は図３１のＯ脚用インソール１２００を踵方向（例えば、ＦＢ７）から見た場合と各部の断面図である。
図３１（ａ）はＯ脚用インソール１２００の裏面図であり、図３１（ｂ）は図３１（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図３１（ｃ）は図３０（ａ）のＧ７－Ｇ７方向からの断面図である。このＧ７－Ｇ７は、Ｏ脚用インソール１２００の先端１２００Ａと後端１２００Ｂとを結ぶ直線であり、Ｏ脚用インソール中敷中心線Ｌａｇとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３１（ａ）、図３１（ｂ）、図３１（ｃ）に示すように、Ｏ脚用インソール１２００（ウレタン）の上にＯ脚用インソール上層部材１２２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図３１（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ７と記載している。
図３１（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｇ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｇ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１２００ＢからＬＥｄ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端１２００Ｂに至っている。ＩＰａから後端１２００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。

また、図３１（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｇ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｇ３（例えば、５．０ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｇ６（例えば、５．８ｍｍ）であり、後端１２００Ｂの高さｄｇ９（例えば、７．５ｍｍ）である。
なお、図３１（ｃ）に示すように、図３１（ａ）のＥ７－Ｅ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｇ５（例えば、１５．５ｍｍ）である。
外側コーナの高さがｄｇ５（例えば、１５．５ｍｍ）と高いのは、中足部から後足部を外反させて矯正するために、裏面の内縁の立方骨７１の中央付近に対向する箇所から踵部の後端にかけて傾斜領域（Ｏ脚用傾斜領域：図示せず）を形成しているためである。これによって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導する。
次に、図３２を用いて図３１のＯ脚用インソール１２００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３２（ａ）は図３１（ｂ）のＦＢ７方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２９（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｆ９：例えば７．２ｍｍ）、図３２（ａ）に示すように横アーチ用凸部ＣＡが見えている。また、Ｏ脚用傾斜領域策用傾斜面のＯＮ線が立方骨７１の中央付近に対向する箇所から斜めに踵骨中央付近（やや内側）を通って後端に至っているので、外縁側が高くなっている。

図３２（ｂ）は図３１（ｂ）のＧ１－Ｇ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｇ１－Ｇ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｇ２は１．５ｍｍ程度である。
図３２（ｃ）は図３１（ｂ）のＧ２－Ｇ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｇ２－Ｇ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、Ｏ脚用インソール下層部材１２１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点は腰痛より少し低いので、その高さもｄｇ４（５．７ｍｍ）程度である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。

図３２（ｄ）は図３１（ｂ）のＧ３－Ｇ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｇ２－Ｇ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｇ６（５．０ｍｍ）である。
図３２（ｅ）は、図３１（ｂ）のＧ４－Ｇ４断面から前方を見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｇ１２（６．０ｍｍ）となっている。
すなわち、外縁側にはＯ脚用傾斜領域策用傾斜面Ｃｇが形成されているので、Ｇ３－Ｇ３断面～Ｇ４－Ｇ４断面に渡って、外縁側が高さ（例えば、ｄｇ５）がある厚みが形成されている。

（足底筋膜炎用インソール１３００の詳細）
図３３は足底筋膜炎用インソール１３００の詳細説明図である。図３４は図３３の足底筋膜炎用インソール１３００を踵方向（例えば、ＦＢ８）から見た場合と各部の断面図である。
図３３（ａ）は足底筋膜炎用インソール１３００の裏面図であり、図３３（ｂ）は図３３（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図３３（ｃ）は図３３（ａ）のＨ７－Ｈ７方向からの断面図である。このＨ７－Ｈ７は、足底筋膜炎用インソール１３００の先端１３００Ａと後端１３００Ｂとを結ぶ直線であり、足底筋膜炎用インソール中敷中心線Ｌａｈとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３３（ａ）、図３３（ｂ）、図３３（ｃ）に示すように、足底筋膜炎用インソール上層部材１３１０（ウレタン）の上に足底筋膜炎用インソール上層部材１３２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図３３（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ８と記載している。
図３３（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｈ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｈ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１３００ＢからＬＥｄ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＩＰａの後方）から高さが低下させられて後端１３００Ｂに至っている。ＩＰａから後端１３００Ｂまでは、３６ｍｍ程度である。

また、図３３（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｈ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｈ３（例えば、６．３７ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｈ６（例えば、２．４４ｍｍ）であり、後端１３００Ｂの高さｄｈ９（例えば、５．５ｍｍ）である。
なお、図３３（ｃ）に示すように、図３３（ａ）のＨ７－Ｈ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｈ５（例えば、１４．５ｍｍ）である。

次に、図３４を用いて図３３の足底筋膜炎用インソール１３００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図３４（ａ）は図３３（ｂ）のＦＢ８方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図３３（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｈ９：例えば５．５ｍｍ）、図３４（ａ）に示すように横アーチ用凸部ＣＡが見えている。

図３４（ｂ）は図３３（ｂ）のＨ１－Ｈ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｈ１－Ｈ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｈ２は２．１１ｍｍ程度である。
図３４（ｃ）は図３３（ｂ）のＨ２－Ｈ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｈ２－Ｈ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、足底筋膜炎用インソール下層部材１３１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点は高さはｄｈ４（６．２５ｍｍ）程度である。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図３４（ｄ）は図３３（ｂ）のＨ３－Ｈ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分はＴａが存在するので、Ｈ２－Ｈ２断面よりは少し薄くなり、その高さはｄｅ６（４．４９ｍｍ）である。
図３４（ｅ）は、図３３（ｂ）のＨ４－Ｈ４断面から前方を見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｈ１２（４．５４ｍｍ）となっている。

＜実施の形態４＞
上記の足底筋膜炎用インソール１３００の足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは長円として説明したが、例えば、特許第６６０９２２２号公報のような銅鐸形状であってもよい。この特許第６６０９２２２号公報に対して、屈曲誘導溝Ｒａを裏面に施し、後端を上記の実施携帯と同様に低くした例を、図３５を用いて説明する。
図３５は実施の形態４の足底筋膜炎用インソール１４００の説明図である。なお、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図３５（ａ）には足底筋膜炎用インソール１４００の斜視図を示し、図３５（ｂ）には足底筋膜炎用インソール１４００の先端１４００Ａと後端１４００Ｂとを結ぶ直線（図示せず）での断面を示す。但し、図３５（ｂ）は内側方向から見た場合である。

図３５（ａ）に示す足底筋膜炎用インソール１４００は、足底筋膜炎用下層部材１３１０と足底筋膜炎用中層部材１１２０と表層部材１４３０とを圧着成型している。
横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの高さを上記の凸部より高くして開帳足対策用、外反母趾対策用、姿勢維持対策用、扁平足対策用としている。さらに、足底筋膜炎用凹部ＴＤが成型されている。

このインソールの材質は、下層部材１４１０及び中層部材１４２０が軟弾性部材である。具体的にはウレタン樹脂、エラストマー、コルクゴム、ＥＶＡ樹脂材等である。
本実施の形態ではウレタン樹脂（以下単にウレタンという）として説明する。
また、表層部材１４３０は不織布又は布、革、人工被覆等である。本実施の形態では布として説明する。
なお、前述の下層部材１４１０は中層部材１４２０と同じ素材であるが、中層部材１４２０よりも圧縮率を高くしている（硬く感じる）。このため、下層部材１４１０から適度の反発力が与えられることになる。

また、図３５（ａ）に示すように、踵側には銅鐸形状の足底筋膜保護用凹部ＴＤを成型している。また、これらは滑らかな曲面で繋がるように成型されている。
この足底筋膜保護用凹部ＴＤは、楕円穴Ｔｄａが足の踵骨隆起部に対応する領域に形成されている。
また、図３５（ｂ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡは後端側に向かうに従って高さが次第に低下している。
さらに、後端１４００Ｂは高さが低くされており、その高さは横アーチ用凸部ＣＡの後側の後足部の先端当たりの高さである。
前述の足底筋膜保護用凹部ＴＤの詳細について図３６を用いて説明する。図３６は足底筋膜保護用凹部ＴＤの拡大斜視図である。但し、楕円穴Ｔｄａを点線で示し、筋膜起点部対応領域ＢＴを点線で示す。また、筋膜起点部から放射状に延びる足底筋膜Ｋを記載している。

図３６に示すように、足底筋膜保護用凹部ＴＤは、筋膜起点部対応領域ＢＴ付近は横幅が３３．０ｍｍ程度であり、横アーチ用凸部側が３６．０ｍｍである。すなわち、横アーチ用凸部に向かうに従って次第に横幅が広がる形状である。これを本実施の形態では銅鐸形状と称している。また、横アーチ用凸部側に向かうに従って、高さは次第に増加している。

このため、足をこのインソールに載置した場合は、踵骨の周囲が足底筋膜保護用凹部ＴＤを除く後足部対応領域２３０の周囲の頂（凸）に載るので、足底筋膜Ｋの筋膜起点部が痛くなることがない。つまり、足底筋膜炎による痛みがとれることになる。

＜実施の形態５＞
上記の屈曲誘導溝Ｒａは、特許第６９９４６８１号公報のインソールに設けてもよい。また、後端を低くしてもよいし、低くしないでそのままにしてもよい。
本実施の形態は、この屈曲誘導溝Ｒａを設けた特許第６９９４６８１号公報の右側インソールをウォーキング用インソールとして説明する（後端は低くしてもよい）。
図３７は、実施の形態５のウォーキング用インソール１５００の裏面図である。表面には上記と同様に、内側縦アーチ用凸部と横アーチ用凸部と外側縦アーチ用凸部とが形成されている（図示せず）。

さらに、表面側には、外側傾斜領域が形成されている。この外側傾斜領域は、少なくとも、第５中足骨の中央付近から第５中足骨骨底の中央付近を通って後足部対応領域の中央付近を通る略直線状のラインと外縁との間が、外縁に向かうに従って次第に高さが増加させられた長手方向に長い斜面に形成されている。
なお、前足部（図示せず）に対応する前足部対応領域は、つま先側及び両縁に向かうに従って反っている（図４０参照）。

図３７に示すように、ウォーキング用インソール１５００を構成する下層部材の裏側には、母趾球対応領域（図示せず）を略囲んで、先端に至る略逆Ｓ字状の幅１．８ｍｍ程度の溝（以下、略逆Ｓ字状溝ＳＧｉという）が形成されている。
また、略逆Ｓ字状溝ＳＧｉの母趾球対応領域となる範囲から、略放射状に外縁に向かって形成されている。これらの溝は、外縁においては約１０ｍｍ程度の間隔にされている。

さらに、図３７に示すように、ウォーキング用補強部材１５７０が下層部材１５１０の裏面に圧着されている。このウォーキング用補強部材１５７０は、踵骨の中央付近に対応する領域が卵形状に穴抜きされている（以下、ウォーキング用補強部材踵部穴部１５８０という）。
また、ウォーキング用補強部材１５７０の前縁となる中足部対応領域２２０付近の足外側となる前縁（以下、ウォーキング用補強部材足外縁ＷＴａという）は、ウォーキング用第５中足骨（図示せず）が当たらないような形状にされている。
さらに、屈曲誘導溝Ｒａが裏面に形成されている。

また、ウォーキング用インソール１５００は、ウレタンフォームのウォーキング用下層部材１５１０と、ウレタンフォームのウォーキング用上層部材１５２０と、ウォーキング用表皮部材１５３０と、最下層となるウォーキング用補強部材１５７０とよりなる多層構造体である（図３９、図４０参照）。
なお、ウレタンフォームの他に、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の熱可塑性合性樹脂の発泡体又はブタンジェンラバー等のラバー素材の発泡体であってもよい。
また、本実施の形態のウォーキング用インソール１５００は、芯材を下層部材と上層部材との間に設けている。なお、この芯材は、無くても構わないが、本実施の形態では芯材を内蔵しているとして説明する。

図３８は本実施の形態のウォーキング用インソール１５００を裏側から見た場合の平面図である。但し、足Ｆは一部を実線で記載している。また、表面側に形成されてる凸部も実線で示し、下層部材と上層部材の間の芯も実線で記載する。
図３８に示すように、ウォーキング用インソール１５００は、ウォーキング用下層部材１５１０（図示せず）とウォーキング用上層部材１５２０（図示せず）との間にウォーキング用芯材ＪＳを設けている。
図３８に示すように、ウォーキング用芯材ＪＳは、母趾球に係る領域は広い、略「う」の字状の帯である。
すなわち、ウォーキング時には、足の荷重がウォーキング用芯材ＪＳを通って親指側に抜けていくことになる。
また、母趾球の直後には、屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、足の着地時には内側に膝のベクトルを向けさせることができるので、まっすぐにスムーズに歩けることになる。
また、ウォーキング用外側縦アーチ用凸部（以下、ウォーキング用外側傾斜領域ＷＳｉという）は、後足部に設けられているウォーキング用補強部材踵部穴部１５８０の中央付近にまで及んでいるので、足裏の外側を押上げる。

次に断面図を用いて以下に説明する。
図３９（ｂ）は図３８のウォーキング用インソール１５００のＢｊ－Ｂｊ断面であり、図３９（ａ）は図３８のＤｊ－Ｄｊ断面図である。また、図４０は図３８のＪ－Ｊ断面図である。
図３９（ｂ）及び図３９（ａ）に示すように、ウォーキング用外側傾斜領域ＷＳｉは外側縁に向かって次第に傾斜が増加させられた、長手方向に長い斜面である。
＜実施の形態６＞
本実施の形態は、この屈曲誘導溝Ｒａを設けた特許第７１１３４８１号公報の左側のインソールをランニング用インソール１６００として説明する（後端は低くしてもよい）。
図４１は、実施の形態６のランニング用インソール１６００の裏面図である。表面には上記と同様に、内側縦アーチ用凸部と横アーチ用凸部と外側縦アーチ用凸部とが形成されているが図示しない。
さらに、ランニング用インソール１６００を構成する下層部材の裏側には、母趾球対応領域（図示せず）の直後には屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

また、図４１に示すように裏側は、ランニング用下層部材１６１０における拇指球対応領域ＢＣを略囲んで、先端に至る略逆Ｓ字状溝ＳＧｉが形成されている。
さらに、ランニング用補強部材１６７０がランニング用下層部材１６１０の裏面に圧着されている。この左足側補強部材１６１０は、踵骨（図示せず）の中央付近に対応する領域が卵形状に穴抜きされている（以下、ランニング用補強部材踵部穴部１６８０という）。

また、ランニング用補強部材１６７０の前縁となるランニング用補強部材足外縁Ｗｔｂは、ランニング用第５中足骨（図示せず）が当たらないような形状にされている。
さらに、後述する図４２に示すように、ランニング用芯材は、母趾球対応領域の裏の手前付近までに至っている。
また、ランニング用補強部材１６７０のつま先側の先端縁は、第５中足骨５３６に当たらない形状にされている。
さらに、屈曲誘導溝Ｒａが裏面に形成されている。

また、ランニング用インソール１６００は、ウレタンフォームのランニング用下層部材１６１０と、ウレタンフォームのウォーキング用上層部材１６２０（図示せず）と、ランニング用表皮部材１６３０（図示せず）と、最下層となるランニング用補強部材１６７０とよりなる多層構造体である（図４１（ｂ）、図４１（ｃ）参照）。
また、本実施の形態のランニング用インソール１６００は、芯材を下層部材と上層部材との間に設けている。なお、この芯材は、無くても構わないが、本実施の形態では芯材を内蔵しているとして説明する。
図４２は本実施の形態のランニング用インソール１６００を裏側から見た場合の平面図である。但し、足Ｆは一部を実線で記載している。また、表面側に形成されてる凸部も実線で示し、下層部材と上層部材の間の芯も実線で記載する。
図４２に示すように、ランニング用インソール１６００は、ランニング用下層部材１６１０（図示せず）とランニング用上層部材１６２０（図示せず）との間に、ランニング用芯材ＫＳを設けている。
すなわち、ランニング時には、足の荷重がランニング用芯材ＫＳを通って親指側に抜けていくことになる。
また、母趾球の直後には、屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、足の着地時には内側に膝のベクトルを向けさせることができるので、まっすぐにスムーズに走行できることになる。

図４１はランニング用インソール１６００の説明図である。図４１（ａ）はランニング用インソールを上から見た場合の平面図である。図４１（ａ）に示すように側擂鉢状凹部ＲＨが表面に形成されており、この直後に屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

図４１（ｂ）は図４１（ａ）のＲｊ－Ｒｊ断面図であり、図４１（ｃ）は図４１（ａ）のＲｋ－Ｒｋ断面図である。なお、ランニング用表皮部材１６３０については図４１（ｂ）及び図４１（ｃ）には記載しない。
図４１（ｃ）に示すように、踵部であるＲｋ－Ｒｋ断面においては、ウォーキングのような外側傾斜領域（外側縦アーチ用凸部）が存在していないことを示している。さらに、ランニング用は図４１（ｃ）に示すように表面側に、母趾球を受け入れる窪み部ＨＲを設けている。この窪み部ＲＨの裏面の直後には屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。また、窪み部ＲＨには、板状の柔らかい緩衝材（図示せず）を圧着してもよい。

＜実施の形態６＞
図４２は実施の形態６のランニング用インソール１７００の説明図である。図４２（ａ）はランニング用インソール１７００の斜視図である。図４２（ｂ）は図４２（ａ）の一部を断面で示した斜視図である。

窪み部ＲＨは、底ＲＨａ（楕円又は円）と、この底ＲＨａに連なる側壁ＲＨｂとを有する。図示の例において、窪み部ＲＨの底ＲＨａは楕円又は円形状を呈する平坦な面からなる。窪み部ＲＨは、楕円形の長径の場合は、内側縁から外側縁に向けて伸びているのが好ましい。窪み部ＲＨの側壁ＲＨｂは、底ＲＨａからすり鉢状に末広がりに伸びている。
すなわち、窪み部ＲＨに足の母指球が受入られるとき、母指球は窪み部ＲＨの底ＲＨａ上に載り、 また、側壁ＲＨｂによりその周囲を部分的に取り囲まれて側壁ＲＨｂに接する。 従って、歩行時や走行時、足の蹴り出しに際して、足の母指球がずれない。
また、屈曲誘導溝Ｒａによって、足の膝の向きを内側方向に向けさせることが可能である。
すなわち、表面側には、足の裏側の母趾球に対応する領域に、主に走行を補助する窪み部が形成され、さらに、横アーチ用凸部と内側縦アーチ用凸とが形成された中敷であって、
前記窪み部は、
小円状の底面を曲面状の周壁で囲んで上縁を円状にした擂鉢形状にされており、
さらに、
足が載置された場合の、前記窪み部の周壁の母趾球後ろ面が当接する周壁部分を延長した斜面を有する盛り上がり部を前記窪み部の後ろ直後に連設しており、
盛り上がり部（３６）が形成されている範囲は、内縁と横ア ー チ用凸部との間で、かつ内側縦アーチ用凸部の頂点より前側となる、足が載置された場合の第１中足骨の骨頭と第１中足骨の中央付近との間となっており、
さらに、この範囲に形成された盛り上がり部は、
上から見た場合の形状が、斜面を有して略三角形状に形成されており、
さらに、裏面に屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、蹴り出し時に、この斜面によって足の母趾球の後ろ面に反発力を与えると共に、ベクトルを内側に向けさせることができる。このため、真っすぐに蹴り出しができるのでランニングがスマートで身体に負担がかからない。
なお、斜面の頂点は、横アーチ用凸部の頂点以下の所定高さにされている。
なお、芯材は、合成樹脂を含浸させた織布又は不織布等により構成されている。芯材の厚みは、１．０ｍｍ以下であり、長さ方向の曲げ剛性値は３１Ｎ・ｃｍ程度であり、幅方向の曲げ剛性値は１７Ｎ・ｃｍである。曲げ剛性値は、所定の測定条件（測定器：オルゼン型ステックネステスター、環境温度２０°Ｃ、環境相対湿度：６５％ＲＨ、偏位角度：４０°）の下で測定された。

上記の屈曲誘導溝Ｒａを下層部材の裏面の母趾球対応領域ＢＣ直後に形成したことで、実際の蹴出方向は、小趾球から母趾球側を着地させたときの荷重方向と、前進に伴う勢いの方向とを合成した方向となるので、歩行ライン及び膝進行方向に略平行となる。
従って、膝、足首を捩じるようしなくとも、足の着地の時点で膝進行方向に略平行になる。このため、膝、足首等をはじめ体に負担をかけることなく蹴り出すことができるので姿勢を崩すことなく歩行ができる。また、従来のように蛇行軌跡にならないので、歩行、走行がスマートである。

なお、靴の中板は特許第６７６７１５８号公報の中板を用いるのが好ましい。
つまり、足の後足部に対応する領域である後足部対応領域が前足部に対応する前足部対 応領域に対して高くされた中板の裏側である接地面側に、補強板が圧着成型された中底であって、
前記補強板は、先辺が裏側から見て略「へ」の字状であり、前記先辺の頂点は、前記中板上の、足の第３中足骨の骨頭の領域と足の第４中足骨の骨頭の領域との間付近となる所定位置にあり、さらに、前記先辺は、前記頂点を起点にして、足の内側となる足内側方向辺と、足の外側となる足外側方向辺とよりなり、前記所定位置の前記頂点は、前記中板の、足の母趾球に対応することになる母趾球対応領域の中央付近と、足の小趾球に対応することになる小趾球対応領域の中央付近とを通る横直線ライン上にあり、前記足内側方向辺は、 前記所定位置の前記頂点から前記横直線ラインに対して、挟角が７度～１２度で、足の第１中足骨の骨頭の直後となる領域を通って内側の縁に至る直線状にされており、
前記足外側方向辺は、前記先辺の頂点から第４中足骨の骨頭に対応する領域、第５中足骨の骨頭に対応する領域を通って外側の縁に至っている中底であることが望ましい。

なお、芯材は、合成樹脂のみによって構成しても構わない。
さらに、上記実施の形態では多層構造として説明したが単層であってもよい。但し、芯材は単層の場合は設けないのが好ましい
上記の各実子の形態では、溝を上層部材の裏面に設けるとして説明したが、この上層部材の上面に設けてもよい。
また、靴は本底の裏面に内股用、中間用、外股用の溝、全部が入っているのを用いるのが好ましい。

また、本実施の形態のインソールは、ウレタン製が好ましく、表皮はポリエステルや綿、ウール等が好ましい。
また、ウレタンフォームの他に、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の熱可塑性合性樹脂の発泡体又はブタンジェンラバー等のラバー素材の発泡体であってもよい。
なお、補強シェルは、厚さ１．０～３．０ｍｍで曲げ弾性率が１５０～３，０００ＭＰaのプラスチック又は強化繊維からなる。

２００ 産前用インソール
２１０ 前足部対応領域
２２０ 中足部対応領域
２３０ 後足部対応領域
ＢＣ 母趾球対応領域
ＳＢ 小趾球対応領域
Ｍ 第５中足骨窪み領域
Ｒａ 屈曲誘導溝

本発明は、中敷に関する。

人間の足はとても複雑な生物学的メカニズムを有する。人が歩くとき踵への衝撃によって足にかかる負荷は通常その人の体重の約１．５倍である。走ったりバックパック等の追加の重量を運んだりしている場合、足にかかる負荷は体重の３倍を超える。
また、特に日本人は、真っ直ぐに歩くことが苦手な民族である。真っ直ぐ歩く又は走行できれば、脚、身体に負担が少ないし、かつスマートである。
インソールは、足の多くの骨、筋肉、靭帯および腱は、衝撃力を吸収／消滅させたり、体重および他の重量を運んだり、推進力を提供したりすることができる。このため、近年は、様々な種類のインソールが販売されている。
例えば、特許文献１は、激しい活動時にも、クッション性及び用靴中敷は十分なサポートや足の屈曲や捩じれをコントロールすることが開示されている。
このコントロールのために、底面には前足部領域内に窪み領域を形成して、母趾球の屈曲方向が進行方向に、できるだけ屈曲させるような構造にしている。
スマートに歩く、安全に歩くもしくはスマートに走行するという願望は、妊婦（産前、産後）でも変わらない。また、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等の症状がある人であってもその願望は変わらない。
近年は、産前、産後用の履き物用中敷が販売されている。例えば、特許文献１は、出産に向けて骨盤の産道を確保するために、女性ホルモンのはたらきによって骨盤の結合が緩んでくると共に、同時に全身の骨格の結合も緩んでしまう。

また胎児の成長も相まって 体重増加の要因も付加されて下肢や腰の痛みなどの問題が発生する。
さらに、腹部が膨隆することにより、立位および歩行時のバランスも悪くなり、後方へ転倒する危険性も増加する。

また、左右の足の間隔を広くしてバランスを取ろうとするため、この肢位を保持する筋肉に負担がかかるという点等を解決した産前用の中敷（産前用のインソールともいう）である。

具体的には、足の骨格の３つのアーチ（横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチ）を整えるために横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部、外側縦アーチ用凸部がインソールの表面に施されている。
これらの凸部によって関節の緩みによる足骨格を補正すると共に、前足部対応領域を後足部対応領域よりも高くして後方へ転倒する危険性を低下させている。

また、特許文献１の中敷は、足の後足部（踵骨を含む）の周壁を高くしている。
これらの、機能を有することによって、左右の足の間隔を広くしてバランスを取らなくてもよいようにし、この肢位を保持する筋肉の負担を軽減させている。

一方、産後は、出産に向けて緩んだ足の骨格をそのまま放置していれば、崩れた骨格のままになってしまい、出産後も腰から下の整形外科的問題を継続して生じることになる。

このため、産後用の中敷（インソール）は、理想的な足骨格を得るために３つのアーチ（横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチ）を整えるための凸形状をしっかりと施し、かつ踵骨の部分を産前用の中敷（インソール）より低くして、妊娠前の正常な状態にいち早く回復できるようにすることが開示されている。

特開２０１８－５１５２０５号公報 特許第３９６１９７０号公報

前述したように、人は歩行時にまず膝が前にでて足を踏み出し、踵が地面についたあと足の小指側から親指側に抜ける軌跡で地面に設置するが、膝が外側に向いているために、外股の歩行となりがちである。この歩行形態は、特に、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）に顕著に表れる。
例えば、従来技術による産前用のインソールでは、お腹の子供が大きくなってくると、体を反るように歩くため、後ろ体重になり、後ろに倒れないようにするために、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。
しかしながら、足の踵後部の形状は、人により異なり、踵が踵下から上に急に立ち上がっている場合もあり、インソールの踵部コーナの後端部のＲを足の踵部の形状に合わせて成型することは容易ではない。
従って、踵部コーナの後端部のＲは緩やかになるように成型しているのが現状であり、結果として足の踵部がこのＲの部分に載りあがり、靴の後ろのアッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになる。

さらに、お腹が大きくなってくると、足のつま先を内側に向けていると歩きづらくなるので、必ず外股に開かないとバランスが取れないので、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。特に、妊娠後期は外股になる。

つまり、妊娠初期から、中期、後期で身体バランスが変わると、足角（つま先の向き）も変化する。
外股で歩くということは、次のことが問題になる。
（Ａ）体を左右に揺らしながら歩くようになる。
（Ｂ）重心が左右に動くので、歩行が不安定になる。
（Ｃ）筋肉に負担がかかる。

一方、産後用の中敷（インソール）は、前足部に対応する部分と踵部に対応する部分を同程度の高さに成型している。
しかしながら、産後はヒールが高い靴を履くことが多いので、転倒に注意しなければならない。

さらに、足は、踵と母趾球と小趾球の３ポイントを支持して３アーチを保つことが重要である。しかし、実際は荷重をかけると第５中足骨底も地面側に着くので、実は４か所で支持している。
一方、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールであっても、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。結果として、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになり、つま先を圧迫したり、靴が抜けやすくなる。
また、外股に開かないとバランスが取れない人は、例え、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールを用いたとしても、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。
本願発明は以上の課題等を鑑みてなされたものであり、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがあっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる中敷を得ることを目的とする。

産前用は、お腹の子供が大きくなってくると、体を反るように歩くため、後ろ体重になり、後ろに倒れないようにするために、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。
しかしながら、足の踵後部の形状は、人により異なり、踵が踵下から上に急に立ち上がっている場合もあり、インソールの踵部コーナの後端部のＲを足の踵部の形状に合わせて成型することは容易ではない。
従って、踵部コーナの後端部のＲは緩やかになるように成型しているのが現状であり、結果として足の踵部がこのＲの部分に載りあがり、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになる。

さらに、お腹が大きくなってくると、足のつま先を内側に向けていると歩きづらくなるので、必ず外股に開かないとバランスが取れないので、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。特に、妊娠後期は外股になる。

つまり、妊娠初期から、中期、後期で身体バランスが変わると、足角（つま先の向き）も変化する。
外股で歩くということは、次のことが問題になる。
（Ａ）体を左右に揺らしながら歩くようになる。
（Ｂ）重心が左右に動くので、歩行が不安定になる。
（Ｃ）筋肉に負担がかかる。

一方、産後用の中敷（インソール）は、前足部に対応する部分と踵部に対応する部分を同程度の高さに成型している。
しかしながら、産後はヒールが高い靴を履くことが多い。

さらに、足は、踵と母趾球と小趾球の３ポイントを支持して3アーチを保つことが重要である。しかし、実際は荷重をかけると第５中足骨骨底も地面側に着くので、実は４か所で支持している。
従って、荷重を集中させない構造が望ましい。
一方、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールであっても、踵部を高くして、踵部分はカップ状に成型した踵部コーナにしている。結果として、アッパーとの間に隙間が生じる。つまり、足が少し前方に出ることになり、つま先を圧迫したり、靴が抜けやすくなる。
また、外股に開かないとバランスが取れない方は、例え、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等用のインソールを用いたとしても、次第に内股から、中間に、そして外股で歩くことになる。
本願発明は以上の課題等を鑑みてなされたものであり、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがあっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる中敷を得ることを目的とする。

本発明の中敷は、足に接触する表面側に、足のアーチを整える凸部が形成された中敷であって、
表面側の第３中足骨骨頭が載置される領域の真裏となる第３中足骨骨頭裏箇所と、母趾球が載置される領域の真裏の母趾球裏領域の直後に対向する内縁の裏側の箇所との間に、直線状の屈曲誘導溝を形成している、ことを特徴とする

以上のように本発明によれば、産前、産後の他、外反母趾、偏平足、モートン、・・・、Ｏ脚等のトラブルがあっても、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる。
産前、産後のトラブルに対応しながら、中足趾節関節(ＭＰ関節)に適合した独自の屈曲誘導溝によって蹴り出しをサポートすることによって、歩行運動効率を高め疲れにくい歩行を実現することができる中敷が得られている。

本実施の形態１の産前用インソール２００の斜視図である。 産前用インソール２００の裏面の平面図である。 踵側方向(Q方向）から見た場合の説明図である。 産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー３００の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。 産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合の効果を説明する説明図である。 産前用インソール２００の詳細説明図である。 図６（ｂ）の各断面の説明図である。 本実施の形態２の産後用インソール４００の斜視図である。 産後用インソール４００の裏面の平面図である。 産後用インソール４００を踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合の説明図である。 産後用インソール４００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー５１０の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。 産後用インソール４００の詳細説明図である。 図１２（ｂ）の各断面の説明図である。 図５を補足する説明図である。 外反母趾対策、偏平足対策用インソールの上面図である。 中足骨骨頭対策、偏平足対策用のインソールの上面図である。 膝痛対策、腰痛対策用のインソールの上面図である。 Ｏ脚対策、足底筋膜炎対策用のインソールの上面図である。 外反母趾対策用インソール６００の詳細説明図である。 図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。 偏平足対策用インソール７００の詳細説明図である。 図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。 中足骨骨頭痛対策用インソール８００の詳細説明図である。 図２３の中足骨骨頭痛対策用インソール８００を踵方向から見た場合と各部の断面図の説明図である。 モートン対策用インソール９００の詳細説明図である。 図２４の中足骨骨頭痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 膝痛対策用インソール１０００の詳細説明図である。 図２７の膝痛対策用インソール１０００を踵方向（例えば、ＦＢ５）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 腰痛対策用インソール１１００の詳細説明図である。 図２９の腰痛対策用インソール１１００を踵方向（例えば、ＦＢ６）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 Ｏ脚対策用インソール１２００の詳細説明図である。 Ｏ脚対策用インソール１２００を踵方向（例えば、ＦＢ７）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 足底筋膜炎対策用インソール１３００の詳細説明図である。 図３３の足底筋膜炎対策用インソール１３００を踵方向（例えば、ＦＢ８）から見た場合と各部の断面図の説明図である。 実施の形態４の足底筋膜炎対策用インソール１４００の説明図である。 足底筋膜保護用凹部ＴＤの拡大斜視図である。 実施の形態５のウォーキング用インソール１５００の裏面図である。 本実施の形態のウォーキング用インソール１５００を裏側から見た場合の平面図である。 ウォーキング用インソール１５００の断面図である。 図３８のＪ－Ｊ断面図である。 実施の形態６のランニング用インソール１６００の裏面図である。 本実施の形態のランニング用インソール１６００を裏側から見た場合の平面図である。。 実施の形態６のランニング用インソール１６００の説明図である。 本実施の形態の屈曲誘導溝Ｒａを設けたインソールを靴に入れて歩行した場合の足の動きの説明図である。

本発明は、中敷全般に適用可能であるが、特に、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）に優れた効果を有している。以下に示す実施の形態は、本発明の技術的思想（構造、配置）を具体化したものや方法を例示したものであり、本発明の技術的思想は、以下に開示する実施形態や実施例に限定されるものではない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された事項の範囲内において、種々の変更を加えることができる。
特に、図面は模式的なものであり、現実のものとは異なることに留意すべきである。
以下においては、歩行運動効率を高めてスマートに歩行、走行できる本発明の実施形態の一例にかかる中敷として、産前用中敷、産後用中敷、外反母趾用中敷、偏平足用中敷、モートン用中敷、・・・、Ｏ脚用中敷（等）の順に説明する。
以下の実施形態では産前用、産後用等の特殊な用途中敷を例示して説明しているが、本発明は、一般の中敷にも適用可能である。従来技術に係る一般用途の中敷に対して、以下の説明する各実施例の「屈曲誘導溝」の構成を付加することに、本発明に係る中敷きを得ることができる。

まず、実施の形態１は産前用インソールとして説明し、実施の形態２は産後用インソールとして説明する。また、産前用インソール及び産後用インソールは単層でも多層でも構わないが、以下においては多層構造を用いて説明する。
本実施の形態は、足トラブル(個別に)に対応しながら、中足趾節関節(ＭＰ関節)に適合した屈曲誘導溝によって蹴り出しをサポートすることによって、歩行運動効率を高め疲れにくい歩行を実現する。

＜実施の形態１：産前用インソール（中敷）＞
図１は本発明の実施の形態１の産前用インソール２００の斜視図である。図１については足の斜視図を産前用インソール２００の上側に記載して説明する。靴については図１では図示しない。さらに、後述する下層部材、上層部材、表層部材を圧着して産前用インソール２００を形成しているが、図１においては下層部材、上層部材、表層部材については番号を付加しない。

足は、図１に示すように、前足部２０と、中足部２２と、後足部２３とに分けられる。
一方、産前用インソール２００は、足の前足部２０を含んで載置される領域を前足部対応領域２１０と記載する。
また、中足部２２に対応する領域を中足部対応領域２２０と記載し、後足部２３に対応する領域を後足部対応領域２３０と記載する。

また、図１においては、下層部材の先端形状Ｔ、母趾球対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＢを一点鎖線で示す。また、横アーチ用凸部Ｇ、第５中足骨の中央付近から骨底付近が載置される領域を第５中足骨窪み領域Ｍ（破線）と記載する。
この第５中足骨窪み領域Ｍは当該インソールの外縁と横アーチ用凸部Ｇとによって第５中足骨の中央付近から骨底付近を包み込む。また、第５中足骨窪み領域Ｍは、第５中足骨の骨底に加わる足の荷重を集中させないためであり、この意義については後述する。

さらに、当該インソールの裏面側に形成された屈曲誘導溝Ｒａを示す。この屈曲誘導溝ａは、切り込んで形成してもよいが（総称して屈曲誘導部分と称する）、本実施の形態では溝として説明する。

また、踵部対応領域の中心付近の位置を踵部対応領域中心Ｐｒとして記載し、当該インソールの先端と、後端とを通る直線を中敷中心線Ｌｉとして記載する。
なお、踵部対応領域中心Ｐｒは前足部対応領域２１０より高くされており、後ろに倒れないようにしている。具体的な高低差については後述する。
さらに、表面側の後足部２３から中足部２２にかけて、外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域ＳＭが形成されている。この外側傾斜領域ＳＭが始まるラインを外側傾斜領域開始ラインＬＳと記載する。

外側傾斜領域開始ラインＬＳは、図1及び図２に示すように、概略的には小趾球対応領域ＳＢの後端付近に対向する当該インソールの外縁（ＫＤ）から第５中足骨窪み領域を通って踵部対応領域中心Ｐｒ付近を通って後端２００Ｂ′に至る略直線状のラインである。

図２は産前用インソール２００の裏面の平面図である。図２においては、足裏を見た場合の骨格等を示して説明する。図１と同一な符号については説明を省略する。
また、図２においては、母趾球対応領域ＢＣの中心付近と小趾球対応領域ＳＢの中心付近とを通る直線を母趾球小趾球横断直線Ｌｂと記載する。なお、以下に説明する各図において、同一符号のものについては説明を省略する。

この母趾球小趾球横断直線Ｌｂと当該インソールの外縁とが交わる点（小趾球対応領域ＳＢの中央付近に対向する外縁の端）を外縁箇所ＫＢとし、内縁と交わる点（母趾球対応領域ＢＣの中央付近に対向する内縁の端）を内縁ＫＡとして示す。
また、図２に示す踵部対応領域中心Ｐｒと「２００Ｃ」とを通る直線をヒール中心線Ｌａと称する。
また、当該インソールの後端は、２００Ｂと記載し、先端は２００Ａと記載する。
また、踵部対応領域の踵部対応領域中心Ｐｒを横切る直線を踵部対応領域中心横断線ＬＰｒとして示す。
次に足骨格について説明する。
（足骨格）
なお、実施の形態では、足の骨格は解剖学的な名称を用いないで、義肢装具等の製造業界で使用している名称で説明し、本実施の形態で用いる骨の名称を下記に記載する。
前足部２０は、第１基節骨４１と、第２基節骨４２と、第３基節骨４３と、第４基節骨４４と、第５基節骨４５等（他の骨には番号を付さない）を含む範囲であり、前足部対応領域２１０に載置される。
中足部２２は、第１中足骨５１と、第２中足骨５２と、第３中足骨５３と、第４中足骨５４と、第５中足骨５５と、第１楔状骨６１と、第２楔状骨６２と、第３楔状骨６３と、立方骨７１と舟状骨７３とを含む範囲であり、中足部対応領域２２０に該当する。

後足部２３は、距骨７７と踵骨７５とを含む範囲であり、後足部対応領域２３０に該当する。なお、踵骨７５の後ろの出ている部分を踵骨突起部７６と記載する。
次に、図２に示している下層部材２５０について説明する。なお、図２には中足趾節関節(ＭＰ関節)のラインを「ＭＰ」と記載している。

（下層部材２５０）
図２には裏面であり、下層部材２５０に上層部材２６０を圧着していることを示している。下層部材２５０の先端は「Ｔ」と記載している。
産前用インソール２００の下層部材２５０の先端の形状は、図２に示すような先端形状Ｔとなっている。すなわち先端形状Ｔは、足の外側となる外縁箇所ＫＢから小趾球対応領域ＳＢの後端付近（第５中足骨５５の骨頭の後端）を廻り込み、さらに第３中足骨５３の骨頭及び第２中足骨５２の骨頭の後端付近を廻り込んで、母趾球対応領域ＢＣの後端付近（第１中足骨５１の骨頭の後端）を略直線状に通って足の内側となる内縁箇所ＫＣに至る山波形状にされている。
つまり、下層部材２５０の先端形状ＴのＬａと外縁との間の範囲は、中足趾節関節(ＭＰ関節) の少し下側の位置で該関節に略沿って伸びている。したがって、屈曲誘導溝Ｒａによる足の蹴り出しを、より容易にサポートすることになる。

また、下層部材２５０の裏面の踵骨突起部７６に対応する領域は、円状に窪みが形成されている（以下、裏面側円状窪２５０Ａという）。この裏面側円状窪２５０Ａには衝撃吸収体（図示せず）が貼り付けられる。なお、図２には、表面の外側傾斜領域開始ラインＬＳ（ＫＤ～２００Ｂ´）を破線で記載している。
また、図２には、第５中足骨５５の骨底付近を「Ｄ（点線）：第４の荷重ポイントともいう」と記載している。
次に、屈曲誘導溝Ｒａについて説明する。

（屈曲誘導溝Ｒａ）
屈曲誘導溝Ｒａは、前足部対応領域２１０の裏面の図２に示す位置に形成されている。中敷が上層部材と下層部材とで構成されているときには、上層部材２６０の裏面に形成される。
具体的には、第３中足骨５３の骨頭付近に対応する領域付近（第３中足骨骨頭対応領域付近Ｐａともいう）から母趾球対応領域ＢＣの後端領域付近を通って当該インソールの内縁Ｐｂに至る略直線状に形成した溝である（下層部材２５０の先端形状Ｔと母趾球対応領域ＢＣの間を通っている）。

この屈曲誘導溝Ｒａは、母趾球小趾球横断直線Ｌｂに対しての傾斜角度θｉは、５度～２５度（好ましくは１２度～１５度）程度である。また、中足趾節関節(ＭＰ関節)と比較すると、屈曲誘導溝Ｒａは中足趾節関節(MP関節)のラインの一部と概略沿っているともいえる。

内股、中間の人、外股の人がいるが、仮に妊娠していないときは、内股とか中間でも、お腹が大きくなってくると必ず外股に開かないとバランスが取れない。
だんだん内股から、中間に、そして外股になってくる。そのときに、進行方向に対して折れる方向というのは、この角度方向である。
進行方向に対して直角に交わる線と中敷中心線Ｌｉが交わる角度である足角は、歩行中の進行方向に対する足部の角度である。足角は、重要なアライメント要素であり７度～１３度外旋が正常であるとされている。女性の通常期の足角は０度～５度であるが、妊娠後期になると外股になりつま先が外側に向いているので、もっと大きくなり、５度～１５度位になる。

従って、母趾球対応領域ＢＣの後ろ付近となる領域に斜め溝「屈曲誘導溝Ｒａ」を入れると、中敷が親指側の方（やや内側方向）に屈曲しやすくなるので、内側に蹴り出ししやすくなり、歩くのにも楽で、疲れにくくなる。
屈曲誘導溝Ｒａが屈曲抵抗を低減し、内側への蹴り出しをサポートするため、外側傾斜領域ＳＭによる効果も同時に働いて相乗効果を上げる。

なお、第３中足骨骨頭対応領域付近Ｐａは、第２中足骨５２の骨頭の後ろ又は第３中足骨５３の骨頭の後ろ付近の間であってもよい。

（踵側から見た場合）
次に、産前用インソール２００を踵側方向(Ｑ方向）から見た場合を、図３を用いて説明する。踵側方向(Ｑ方向）から見た場合は図３に示すように、産前用インソール２００では、踵部の最後端のエッジ部（図３の中央部）は高さが低くなっている。
図３においては、ヒール中心線Ｌａを縦に記載する。また、２００Ｂ´から上下に垂直に伸びる縦直線を外側傾斜後端縦ラインＬｆと記載する。また、産前用インソール２００の表面を破線（以下、表面Ｗと記載する）で示す。

次に、具体的な寸法を例記する。但し、足のサイズを２３ｃｍの場合として説明する。なお、寸法については足の横幅、履く靴等で相違するので、以下に述べる寸法は一例である。
踵側方向(Q方向）から見た場合において、踵部対応領域中心Ｐｒから外縁までの間はａｍｍ（３３ｍｍ～３８ｍｍ：好ましくは３５ｍｍ）、後端２００Ｂ´から内縁までの間はｂｍｍ（１８ｍｍ～２３ｍｍ：好ましくは２０ｍｍ）であり、踵部対応領域中心Ｐｒと後端２００Ｂ´との間は、ｆｍｍ（３ｍｍ～８ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。

また、外縁側の高さはｈａ（１９ｍｍ～２４ｍｍ：好ましくは２１ｍｍ）、内縁側の高さはｈｂ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１６ｍｍ）であり、踵部対応領域中心Ｐｒの高さｈｃは、裏面からｈｃｍｍ（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。つまり、高さは偏っている。

次に、本実施の形態の産前用インソール２００を用いた場合の効果について図４及び図５を用いて以下に説明する。なお、図５は中敷中心線Ｌｉ付近での長手方向の断面を示している。

（産前用インソール２００を用いた場合の効果）
但し、屈曲誘導溝Ｒａの効果については、後述する。
図４は産前用インソール２００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー３００の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。なお、図４には靴の中底３２０と、本底３４０とを示す。これらは、材質はゴム材、等が好ましい。

図４に示すように、産前用インソール２００は後端部の高さが低くなっており、図５に示すように、靴の踵のアッパー３００と足の踵部がしっかりフィットするので、歩いているときに足が抜けることがない。したがって、安全である。
次に、産前用インソール２００をさらに詳細に説明する。

（産前用インソール２００の詳細）
図６は産前用インソール２００の詳細説明図である。図６（ｂ）は上面図であり、図６（ａ）は足外側方向から見た場合の側面図であり、図６（ｃ）は足内側方向から見た場合の側面図である。これらの図においても上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。

また、第５中足骨持ち上げ領域ＨＭと記載し、表皮の表面をＷと記載する。また、前足部対応領域の高さをｈｇ（５ｍｍ程度）と記載する。また、図６（ｂ）においては、外側傾斜領域ＳＭを点ハッチで示している。この外側傾斜領域ＳＭによって、歩行に伴う重心を内側に誘導する効果をさらに上げていると共に、屈曲誘導溝Ｒａとの効果が合わさってさらに効果が上がる。

図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、下層部材２５０と上層部材２６０とクッション部材２７０とが圧着されて、クッション部材２７０の上に表皮２８０が張り付けられている。下層部材２５０と上層部材２６０とクッション部材２７０とは厚みを異ならせたものを圧着しており、下層部材２５０が最も硬度が高くされている。

図６（ｂ）に示すように、前足部対応領域２１０よりも後足部対応領域２３０の方が高くされているので、後ろに倒れないようにされている。
なお、横アーチ用凸部Ｇの頂点ＰＡ付近の高さは、この頂点ＰＡに対向する外縁の箇所の高さ程度にされている。
また、横アーチ用凸部Ｇの第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域２１０の高さより僅かに高い程度にされている。

次に、図６（ｂ）の各断面を、図７を用いて説明する。図７においても、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図７（ａ）には図６（ｂ）のＡ―Ａ断面を示し、図７（ｂ）には図６（ｂ）のＢ―Ｂ断面を示し、図７（ｃ）には図６（ｂ）のＣ―Ｃ断面を示し、図７（ｄ）には図６（ｂ）のＤ―Ｄ断面を示し、図７（ｅ）には図６（ｂ）のＥ―Ｅ断面を示す。

Ｅ―Ｅ断面からＡ－Ａ断面の順に説明する。
図７（ｅ）に示すように、Ｅ－Ｅ断面は、下層部材２５０の裏側に張り付けられた衝撃吸収体２５５が存在している。
また、Ｅ－Ｅ断面において下層部材２５０は、外縁の方向は、ヒール中心線Ｌａ（Ｐｒ）付近から略直線的に増加してＳＭの一部を成している。一方、内縁の方向はフラットになって内縁付近で立ち上がった断面になっている。

そして、中足部対応領域２２０、後足部対応領域２３０を囲むコーナの基となる中間層部が圧着されている。Ｅ－Ｅ断面においては、外縁側を「２４５Ａ」と記載し、内縁側を「２４５Ｂ」と記載している。

つまり、この中間層部材２４５の「２４５Ａ」と、下層部材２５０とでＥ－Ｅ断面における外側傾斜領域ＳＭの一部を形成している。
なお、下層部材２５０又は上層部材２６０で中足部対応領域２２０、後足部対応領域２３０を囲むコーナの基となるようにしても構わないが、中間層部材２４５を設けた方が弾力性及びクッション性が出る。

図７（ｄ）のＤ－Ｄ断面では、中間層部材２４５が内縁と外縁とに渡っている。そして、下層部材２５０及び中間層部材２４５は外縁に向かうに従って高さを増して外側傾斜領域ＳＭの一部を形成している。なお、図７（ｄ）のＤ－Ｄ断面での外縁の高さｈａｂは１８ｍｍ（１６ｍｍ～２１ｍｍ：好ましくは１８ｍｍ）であり、内縁の高さｈｂｂは、１９ｍｍ（１７ｍｍ～２２ｍｍ：好ましくは１９ｍｍ）である。

図７（ｃ）のＣ－Ｃ断面は、第５中足骨窪み領域Ｍにおける第５中足骨５５の骨底付近に対応する領域の断面を含んでおり、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分であるので、第５中足骨５５の骨底が包み込まれるようになる。また、内縁側は内側縦アーチ用凸部の頂点付近である。

すなわち、内縁側が高い。具体的にはｈｂｃ（１８ｍｍ～２３ｍｍ：好ましくは１９．５ｍｍ）である。また、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（４ｍｍ～７ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。なお、この部分は最も深い部分であるので、前方には第５中足骨持ち上げ領域ＨＭが見えている（一点線で示す）。また、このＣ－Ｃ断面での内縁の高さはｈａｃ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）である。

一方、図７（ｂ）のＢ－Ｂ断面は横アーチ用凸部Ｇの頂点ＰＡ付近の断面であり、第５中足骨窪み領域Ｍが薄くなって第５中足骨持ち上げ領域ＨＭとなっている。つまり、第５中足骨５５の中央付近から第５中足骨５５の骨頭の後端の範囲を盛り上げていることになる。なお、内縁の高さはｈｂｄ（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）であり、外縁の高さはｈａｄ（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。
つまり、Ｂ－Ｂ断面～Ｅ－Ｅ断面及び図６（ａ）並びに図１を参酌すると、面側に第５中足骨５５の中央付近と後足部対応領域２３０の中央付近とを通り後端に至る外側傾斜領域開始ラインＬＳ（略直線ラインともいう）から外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域ＳＭを形成している。

そして、図７（ａ）のＡ－Ａ断面では、前足部対応領域２１０の部分の断面であり、両縁の高さはｈｇ（４ｍｍ～９ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。上層部材２６０が靴の中底に接する面となっている。つまり、第５中足骨窪み領域Ｍにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（４ｍｍ～７ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）、前足部対応領域２１０の高さ程度である（少し低くしてもよい）。

従って、本実施の形態の産前用インソール２００を靴に用いて歩いた場合は、体を左右に揺らしながら歩くことがないので歩行が不安定にならない。この結果、筋肉にかかる負担を抑えられるので、産前用のインソールとして最適である。

＜実施の形態２：産後用＞
図８は本実施の形態２の産後用インソール４００の斜視図である。図１と同様に足の斜視図を上側に記載している。
図８においては、産後用インソール４００の下層部材（４５０）の先端形状をＴＢ、母趾球対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＢを一点線で示す。また、産前用と区別するために、横アーチ用凸部を「ＧＢ」、第５中足骨窪み領域を「Ｍａ」と記載する。また、産後用インソール４００は裏面に実施の形態と同様に屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

また、産後用インソール４００の踵部対応領域の中心付近である踵部対応領域中心を産前用と区別して説明するために、「Ｐｆ」と記載し、当該インソールの先端４００Ａと後端４００Ｂとを通る中敷中心線を「Ｌｆ」と記載している。また、その他もできるだけ産前用と区別するために異なる符合（番号含む）を用いて説明する。
なお、産後用インソール４００の踵部対応領域中心Ｐｆ及び前足部対応領域２１０の高さは同程度にされており、外側傾斜領域ＳＭは形成されていない。つまり、後足部対応領域（２３０）は略平坦状である。

図９は産後用インソール４００の裏面の平面図である。図９に示すように、下層部材４５０の先端形状ＴＢは、内縁Ｔａから第１中足骨５１の骨頭の後端付近までを略直線的に通り、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭の後端付近を通って、第５中足骨５５の中央付近の外縁側よりを通って、第５中足骨５５の骨底を廻り込んで内縁Ｔａに至る崖山形状にされている。従って、第５中足骨５５及びその骨底が痛くならない。

次に、産後用インソール４００を踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合を、図１０を用いて説明する。
（踵側から見た場合）
踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合は図１０に示すように、産後用インソール４００は、踵部コーナの後端部は実施の形態１と同様に高さが低くなっており、産前用インソール２００に対して横アーチ用凸部ＧＢが高く(例えば、１３ｍｍ程度）、かつ大きくなっているので、この横アーチ用凸部ＧＢが見えることを示している。

次に、具体的な寸法を例記する。踵側方向(ＱＢ方向）から見た場合において、踵部対応領域中心横断線ＬＰｒが通る外縁の点ＰＡｒの高さはｈｂ１（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１３ｍｍ）であり、内縁の点ＰＢｒは同程度の高さｈａ１である。また、Ｐｆの高さはｈｆ（８ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは９ｍｍ）であり、産前用インソール２００よりも低い。

従って、本実施の形態の産後用インソール４００を靴に用いて歩いた場合は、筋肉にかかる負担を抑えられるので、産後用のインソールとして最適である。

次に、本実施の形態２の産後用インソール４００を用いた場合の効果について図１１を用いて以下に説明する。

（産後用インソール４００を用いた場合の効果）
但し、屈曲誘導溝Ｒａの効果については、後述する。産後用は、ヒール高さが普通（例えば、３．５ｃｍｍ）の靴を用いる場合とし、「５００」番を付して説明する。
図１１は産後用インソール４００を靴に用いて足を入れた場合において、アッパー５１０の踵部の後ろ側を取り除いて踵方向から見た場合の説明図である。なお、図１１には靴の中底５２０と、本底５３０とを示す。

図１１に示すように、産後用インソール４００は後端部の高さが低くなっており、実施の形態１と同様にアッパー５１０と足の踵部がしっかりフィットするので、歩いているときに足が抜けることがない。したがって、安全である。
次に、産後用インソール４００をさらに詳細に説明する。

（産後用インソール４００の詳細）
図１２は産後用インソール４００の詳細説明図である。図１２（ｂ）は上面図であり、図１２（ａ）は足外側方向から見た場合の側面図であり、図１２（ｃ）は足内側方向から見た場合の側面図である。これらの図においても上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。

また、図１２（ａ）及び図１２（ｃ）には、図１２（ｂ）のＬｆにおける表皮の表面をＷＢと記載している。また、前足部対応領域の高さｈｇ１とＰｆの高さは同程度になっている。さらに、図１２（ｂ）には横アーチ用凸部ＧＢ、内側縦アーチ用凸部ＧＢＣ、外側縦アーチ用凸部ＧＢＤを示す。
なお、この横アーチ用凸部ＧＢの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間であり、その高さは、この横アーチ用凸部ＧＢの頂点に対向する内縁の箇所と同程度の高さにされている。
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、下層部材４５０と上層部材４６０とクッション部材４７０とが圧着されて、クッション部材４７０の上に表皮４８０が張り付けられている。
また、図１２（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＧＢの頂点は、この頂点に対抗する内縁の箇所と同程度の高さにされている。

図１２（ａ）及び図１２（ｃ）に示すように、前足部対応領域及び踵部対応領域の高さは同程度である。また、後足部対応領域は平坦である。
次に、図１２（ｂ）の各断面を、図１３を用いて説明する。図１３においても、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図１３（ａ）には図１２（ｂ）のＡａ―Ａａ断面を示し、図１３（ｂ）には図１２（ｂ）のＢａ―Ｂａ断面を示し、図１３（ｃ）には図１２（ｂ）のＣａ―Ｃａ断面を示し、図１３（ｄ）には図１２（ｂ）のＤａ―Ｄａ断面を示し、図１３（ｅ）には図１２（ｂ）のＥａ―Ｅａ断面を示す。

Ｅａ―Ｅａ断面からＡａ－Ａａ断面の順に説明する。
図１３（ｅ）に示すように、Ｅａ－Ｅａ断面は、下層部材４５０の裏側に設けられた裏面側円状窪に張り付けられた衝撃吸収体４４０が存在している。
なお、Ｅａ－Ｅａ断面においては、外縁側を「４５０Ａ」と記載し、内縁側を「４５０Ｂ」と記載している。

外縁側の高さはｈａ２、内縁の高さｈｂ２は各々、１０ｍｍ～１５ｍｍ（好ましくは１２ｍｍ）であり、Ｐｆの高さはｈｐｆ（１０ｍｍ程度）である。
図１３（ｄ）のＤａ－Ｄａ断面では、外縁の高さはｈａ３（９ｍｍ～１４ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）であり、内縁の高さはｈｂ３（８ｍｍ～１４ｍｍ：好ましくは１１ｍｍ）である。

図１３（ｃ）のＣａ－Ｃａ断面は、第５中足骨窪み領域Ｍａの断面を含んでおり、第５中足骨窪み領域Ｍａにおいて最も深い付近の部分であり、実施の形態１（産前）と同様に、第５中足骨５５の骨底が包み込まれるようになる。具体的には、外縁側の高さはｈａ４（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは８ｍｍ）であり、内縁側の高さはｈｂ４（１２ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）である。

また、第５中足骨窪み領域Ｍａにおいて最も深い付近の部分の高さはｈｍ（５ｍｍ～８ｍｍ：好ましくは６ｍｍ）である。なお、この部分は最も深い部分であるので、前方には第５中足骨持ち上げ領域ＨＭが見えている（一点線で示す）。

図１３（ｂ）のＢａ－Ｂａ断面は横アーチ用凸部ＧＢの頂点付近の断面であり、第５中足骨窪み領域Ｍａが浅くなって第５中足骨持ち上げ領域ＨＭとなっている（例えば１０ｍｍ程度）。つまり、第５中足骨５５の中央付近から第５中足骨５５の骨頭の後端の範囲を盛り上げていることになる。

なお、内縁の高さはｈｂ５（１３ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ）であり、外縁の高さはｈａ５（１０ｍｍ～１５ｍｍ：好ましくは１２ｍｍ）である。

そして、図１３（ａ）のＡａ－Ａａ断面では、前足部対応領域２１０の部分の断面であり、両縁の高さはｈｇ１（４ｍｍ～９ｍｍ：好ましくは５ｍｍ）である。上層部材４６０が靴の中底に接する面となっている。つまり、第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域２１０の高さ程度にされている。

また、産後用の場合は、Ｍａを有することで、第５の中足骨の骨底である第4の荷重点をしっかりと確保している。

すなわち、荷重がかかった時に、この第４の荷重部位（第５中足骨骨底：Ｄ）を荷重が集中しないように（第５中足骨骨底が載る箇所は、なるべく薄くなるように仕上げる）している。

上記の図５はアッパー３００と足の踵部がしっかりフィットすることを示した図であるが、その詳細については説明が不足していたので図１４を用いてさらに詳細に説明する。図１４は、右足用の産前用インソール２００を右足用の靴に入れて、この右足をこの産前用インソール２００に置いた場合に、足内側方向から見た図である。

但し、図１４においては、産前用インソール２００は図５と同様に図１に示す産前用インソール２００の中敷中心線Ｌｉでの断面で示す。
また、足内側方向から見た場合の右足用の産前用インソール２００の踵部コーナでの内縁（一点線）と、外縁を示しており、内縁が外縁よりも高いことを示している。

上記の説明のように、産前用インソール２００は後端である２００Ｂの高さが低くなっている。具体的には、図１４に示すように、後足部コーナの内縁（内側縁ともいう）と、外縁（外側縁ともいう）が２００Ｂに向かって下がり出す箇所（線ＬｐＢで示す）は、踵部対応領域中心ＰｒからＬＢｒ（１８ｍｍ～２５ｍｍ：好ましくは２０ｍｍ程度）である。
なお、産前又は産後用のインソールはバレーシューズに用いてもよい。

＜実施の形態３＞
インソールの裏面側に上記の屈曲誘導溝Ｒａ（深さは１ｍｍ～２．５ｍｍ：好ましくは１．５ｍｍ）を形成した、外反母趾対策、偏平足対策、外反母趾対策用中敷、偏平足対策用中敷、中足骨骨頭痛対策用中敷、モートン対策用中敷、膝痛対策用中敷、Ｏ脚対策用中敷、足底筋膜炎対策用中敷と、この他にウォーキング、ランニング用等のインソールについて以下に説明する。
なお、屈曲誘導溝Ｒａは、深さは１ｍｍ～２．５ｍｍ（好ましくは１．５ｍｍ）、長さが４５ｍｍ～６５ｍｍ（インソール長が２３０ｍｍの場合は、５０ｍｍ程度が好ましい）、幅が３ｍｍ～５．５ｍｍ程度（インソール長が２３０ｍｍの場合は、３ｍｍ程度が好ましい）である。

［外反母趾対策、・・・足底筋膜対策の上面図］
図１５は外反母趾対策、モートン対策用インソールの上面図である。図１５（ａ）には外反母趾対策用インソール６００の上面図を示し、図１５（ｂ）には偏平足対策用インソール７００の上面図を示す。
図１６は中足骨骨頭痛対策、偏平足対策用のインソールの上面図である。図１６（ａ）には中足骨骨頭痛対策用インソール８００の上面図を示し、図１６（ｂ）にはモートン対策用インソール９００の上面図を示す。

図１７は膝痛対策、腰痛対策用のインソールの上面図である。図１７（ａ）には膝痛対策用インソール１０００の上面図を示し、図１７（ｂ）には腰痛対策用インソール１１００の上面図を示す。
図１８はＯ脚対策、足底筋膜炎対策用のインソールの上面図である。図１８（ａ）にはＯ脚対策用インソール１２００の上面図を示し、図１８（ｂ）には足底筋膜炎対策用インソール１３００の上面図を示す。

これらの図において、屈曲誘導溝Ｒａは裏面側に形成されていることを示すために、点線で記載している。また、足の輪郭を「Ｆ」と記載し、踵部対応領域に踵部が載る窪みの輪郭をＩＢａ（以下、踵部載置輪郭ＩＢａと称する）。
また、本実施の形態では産前、産後と区別して説明するために、横アーチ用凸部は横アーチ用凸部ＣＡと記載し、内側縦アーチ用凸部は内側縦アーチ用凸部ＣＢと記載し、外側縦アーチ用凸部は外側縦アーチ用凸部ＣＤと記載する。

また、中足趾節関節(ＭＰ関節)において、第１中足骨５１の骨頭（第1中足骨骨頭ともいう）と第１基節骨４１の骨底（第１基節骨骨底ともいう）との間、第２中足骨５２の骨頭（第２中足骨骨頭ともいう）と第２基節骨４２の骨底（第２基節骨骨底ともいう）との間を通る部分を本実施の形態では、ＭＰ主屈折ライン部と称し、図においては「ＭＰｅ」と記載する。

（外反母趾対策）
外反母趾は、足の親指が人差し指の方向に「く」の字に曲がる症状のことである。すなわち、第１基節骨が押されて中足趾節関節が外反することで外反母趾が誘発される。
このため足の横アーチを持ち上げて中足骨間を狭めることによって、これを矯正または予防する。同時に他の部分の骨格の崩れを防止するために足の３つのアーチである横アーチ、内側縦アーチ、外側縦アーチを整える凸形状が施されていることが重要である。
一方、スマートに歩く又はスマートに走行をするために裏面側に上記の屈曲誘導溝Ｒａを形成していると共に、足の前ずれ及び靴抜けを防止するために後端部分を低く形成している。

以下に図１５（ａ）を用いて外反母趾対策用インソール６００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１５（ａ）には上層部材を外反母趾用上層部材６２０と記載する。また、下層部材については後述する図１９で説明する。
なお、外反母趾用上層部材６２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１５（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１５（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦａ：先端縁に示す」と記載する。

図１５（ａ）に示すように、表面側には足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。なお、「ＣＡ」、「ＣＢ」、「ＣＤ」の引出線の黒丸は、その頂点付近を指している。
「ＣＡ」の黒丸の前足部対応領域側の第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間が横アーチ用凸部ＣＡの頂点である。
また、「ＣＢ」の黒丸に対向する内縁の箇所が内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点である。さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤの黒丸に対抗する内縁の箇所が外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点である。
横アーチ用凸部ＣＡは、第２中足骨５２の骨頭の直後付近と、第３中足骨５３の骨頭の直後付近との間に頂点（図示せず）を設けた、しずく型である。
この横アーチ用凸部ＣＡの大きさは、幅が例えば４０～６０ｍｍの第１中足骨５１と、第２中足骨５２とにかからない程度で、長さが例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点の高さが例えば１５～１７ｍｍ程度である。

内側縦アーチ用凸部ＣＢは、足内側となる内縁の箇所に形成されている。
具体的には、例えば木の葉を半分にしたような形であり、大きさは、幅が例えば３５～５５ｍｍ（内縁から第２楔状骨６２の内側程度）である。
また、長さは例えば８０～１１０ｍｍ（第１中足骨５１の骨頭付近から踵骨７５の内側（載距突起付近）であり、頂点の高さは例えば１４～１６ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。
さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤは、外縁の踵骨７５の前側辺りに形成されている。
具体的には、例えば内側縦アーチ用凸部ＣＢより小さい形状であり、大きさは、幅が例えば１０～１８ｍｍで、長さが例えば３５～４０ｍｍで、頂点の高さが例えば１０～１２ｍｍ程度である。これらの凸部は互いに滑らかな曲面でつながっている。

すなわち、横アーチ用凸部ＣＡは、頂点の高さが、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点の高さと同程度（少し低）であり、外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点よりも高くなっている。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
この屈曲誘導溝Ｒａは、具体的には第３中足骨骨頭が載置される領域の真裏となる第３中足骨骨頭裏箇所と、母趾球が載置される領域の真裏の母趾球裏領域の直後に対向する内縁の裏側の箇所との間に形成された直線状の溝である
つまり、この屈曲誘導溝Ｒａは、第３中足骨５３の骨頭に対応する箇所Ｐａから斜めに直線状に第１中足骨５１の骨頭の直後を通って内縁の箇所Ｐｂに至っている。

また、中足趾節関節(ＭＰ関節)は、内縁の端の点を「Ｋｍ２」と記載し、外縁の端の点を「Ｋｍ１」と記載している。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。
さらに、後足部対応領域を囲むコーナを外反母趾用後足部コーナ６００ｃと記載し、外縁のコーナを外反母趾用外側コーナ６００ａと記載し、内縁のコーナを外反母趾用内側コーナ６００ｂと記載している。なお、外反母趾用後足部コーナ６００ｃの後端は低い。

（偏平足）
偏平足とは、足の裏の「土踏まず」の構造が潰れて、足の裏が略平らになる状態のことを指すと言われている。「土踏まず」とは、体重を効率よく支えるアーチ状の構造のことである。進行すると足が変形して歩行障害を引き起こすこともある。
すなわち、偏平足とは内側縦アーチが低下して足全体が外反する。このため内側縦アーチの頂点を構成する舟状骨を中心として第１中足骨骨頭付近から踵骨の載距突起の後方付近の下に、これを支える膨隆部を形成することによってこれを矯正または予防することができる。
以下に図１５（ｂ）を用いて偏平足対策用インソール７００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
具体的には、横アーチ用凸部ＣＡは、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点及び外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点より低い。図１５（ｂ）には上層部材を偏平足用上層部材７２０と記載する。また、下層部材については後述する図２０で説明する。

なお、１５（ｂ）においても、表皮を図示しない。
また、図１５（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｂ：先端縁に示す」と記載する。
図１５（ｂ）に示すように、図１５（ａ）と同様に、表面側には足の３アーチを整えるための、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが形成されている。
この横アーチ用凸部ＣＡは、第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域の高さより僅かに高い程度にされており、外縁方向の縁を前足部対応領域の高さ程度にした偏平足対策用傾斜面である。
横アーチ用凸部ＣＡのＩＦｂの先端縁は、第５中足骨５５に掛からないようにされて、第５中足骨５５の骨底を廻り込んで外縁に至っている。
また、後足部対応領域を囲むコーナを偏平足用後足部コーナ７００ｃと記載し、外縁のコーナを偏平足用外側コーナ７００ａと記載し、内縁のコーナを偏平足用内側コーナ７００ｂと記載している。なお、偏平足用後足部コーナ７００ｃの後端は低い。

（中足骨骨頭痛対策）
足の親指ではなく第２指の付け根に慢性的な痛みを中足骨骨頭痛と称している。中足骨骨頭痛とはリウマチなどにより中足趾節関節が破壊され、足の横アーチが低下して第２および第３中足骨骨頭に圧力が集中して疼痛を生じる。このため、この部分が第１および第５中足骨骨頭部分よりも低くなるように凹形状で除圧することによって、これを矯正または予防する。同時に他の部分の骨格の崩れを防止するために３つのアーチ（横アーチ・内側縦アーチ・外側縦アーチ）を整える凸形状が施されていることが重要である。

図１６（ａ）を用いて中足骨骨頭痛対策用インソール８００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１６（ａ）には上層部材を中足骨骨頭痛用上層部材８２０と記載し、詳細は後述する。
なお、中足骨骨頭痛用上層部材８２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１６（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１６（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｃ：先端縁に示す」と記載する。
図１６（ａ）においては、中足骨骨頭痛対策用インソール８００は、ＩＦｃの形状が特殊であるので、他と区別して横アーチ用凸部を中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａと称して説明する。

図１６（ａ）に示すように、表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。この中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間である。
また、第１中足骨５１の骨頭と第１基節骨４１の骨底との部分に対応する領域と、第５中足骨５５の骨頭と第５基節骨４５の骨底との部分に対応する領域は、中足骨骨頭痛用上層部材８２０の前足部対応領域の上面よりも、例えば段差２～５ｍｍとなる凸部（以下、凸領域部という）にされている。

すなわち、図１６（ａ）に示すように、ＩＦｃは、第１基節骨４１の骨底の上側付近を通って、第１中足骨５１の骨頭の内側を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の中央付近（骨頭より）を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭を斜めに通って、第５中足骨５５の骨頭の内側を通って第５基節骨４５の骨底付近を廻り込んで外縁に至る略Ｕ字形状にされている。つまり、中央分が後ろ側に凹んでいる。

中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａは、第２中足骨５２の骨頭の直後付近と、第３中足骨５３の骨頭の直後付近との間に頂点（図示せず）を設けた、しずく型である。
大きさは、幅が例えば４０～６０ｍｍの第１中足骨５１と、第２中足骨５２とにかからない程度で、長さが例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点の高さが例えば１２～１５ｍｍ程度である。
内側縦アーチ用凸部ＣＢは、具体的には、例えば木の葉を半分にしたような形であり、大きさは、幅が例えば３５～５５ｍｍ（内縁から第２楔状骨６２の内側程度）である。

また、長さは例えば８０～１１０ｍｍ（第１中足骨５１の骨頭付近から踵骨７５の内側（載距突起付近）であり、頂点の高さは例えば１５～１７ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。さらに、外側縦アーチ用凸部ＣＤは、外縁の踵骨７５の前側辺りに、形成されている。
具体的には、例えば内側縦アーチ用凸部ＣＢより小さい形状であり、大きさは、幅が例えば１０～１８ｍｍで、長さが例えば３５～４０ｍｍで、頂点の高さが例えば１０～１２ｍｍ程度である。これらの凸部は互いに滑らかな曲面でつながっている。

すなわち、中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａは、頂点の高さが、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点の高さより少し低く、外側縦アーチ用凸部ＣＤの頂点よりも高くなっている。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａの作用効果については後述する。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。
なお、先端の輪郭線「ＩＦｃ」を略Ｕ字形状としたが、特許第３９７７７７１号公報の図７のような形状であってもよい。つまり、少なくとも第２中足骨５２の骨頭、第３中足骨５３の骨頭に掛からない形状であればよい。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１６（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを中足骨骨頭痛用後足部コーナ８００ｃと記載し、外縁のコーナを中足骨骨頭痛用外側コーナ８００ａと記載し、内縁のコーナを中足骨骨頭痛用内側コーナ８００ｂと記載している。なお、中足骨骨頭痛用後足部コーナ８００ｃの後端は低い。

（モートン対策）
このため、第３中足骨５３と第４中足骨５４との骨頭間を広げるように横アーチ用凸部ＣＡを保持することにより、神経圧迫を取り除くことで疼痛を軽減させる。
図１６（ｂ）を用いてモートン対策用インソール９００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。

図１６（ｂ）には上層部材をモートン用上層部材９２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、モートン用上層部材９２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、表皮については記載しない。
また、図１６（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｄ：先端縁に示す」と記載する。

図１６（ｂ）に示すように、表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡ（しずく型）と、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。
この横アーチ用凸部ＣＡ（しずく型）は、幅が例えば４０～６０ｍｍで第１中足骨５１の骨頭と第５中足骨５５にかからない程度である。
長さは、例えば６０～８０ｍｍ程度で、頂点（第３中足骨の骨頭の少し後ろの箇所と第４中足骨の骨頭の少し後ろの箇所）の高さが例えば１４～１６ｍｍ程度で、足の横アーチを多少突き上げる程度にされている。
すなわち、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、第３中足骨骨頭の直後付近と第４中足骨骨頭の直後付近との間であり、その高さは、内側縦アーチ凸部の頂点と同程度の高さである。

これにより、神経圧迫を取り除くことで疼痛を軽減させることができる。
内側縦アーチ用凸部ＣＢは、頂点の高さは例えば１５～１７ｍｍ程度（２３０ｍｍのサイズでは、１３ｍｍ程度）である。
なお、裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦｄ」が形成されている。すなわち、走行、歩行時において第５中足骨５５の骨底が痛くならないようにしている。

さらに、後足部対応領域を囲むコーナをモートン用後足部コーナ９００ｃと記載し、外縁のコーナをモートン用外側コーナ９００ａと記載し、内縁のコーナをモートン用内側コーナ９００ｂと記載している。また、上記と同様に、モートン用後足部コーナ９００ｃの後端は低い。
なお、先端の輪郭線「ＩＦｄ」は特許第３９７７７７１号公報の図１３のような形状であっても構わない。
（膝痛対策）
膝痛とは変形性膝関節症などにより、膝関節内側半月板が破壊され膝関節は内反し、疼痛を生じる。
このため後足部を外反させて矯正するために、第５中足骨５５の中央付近から踵骨７５中央付近に渡って長い傾斜面を形成して、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節内側裂隙を広げるようにしてこれを矯正または予防する。
図１７（ａ）を用いて 膝痛対策用インソール１０００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。

図１７（ａ）には上層部材を膝痛用上層部材１０２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、上記と同様に、膝痛用上層部材１０２０は表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１７（ａ）においては表皮については記載しない。
また、図１７（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｅ：先端縁に示す」と記載する。

表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。これらの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間である。
また、これらの凸部は主に上層部材によって形成されるが、上層部材については後述する。図１７（ａ）では、その輪郭線の先端を「ＩＦｅ」として記載している。
先端縁ＩＦｅは、図１７（ａ）に示すように、第１中足骨５１の骨頭の内側を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近を通って外縁に至る形状である。

また、下層部材の裏面には、後足部を外反させて矯正するために、図示しない膝痛対策用裏側傾斜領域（図示せず）が形成されている。この膝痛対策用裏側傾斜領域については後述する。
この膝痛対策用傾斜面によって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節内側裂隙を広げるようにしてこれを矯正または予防することが可能となっている。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１７（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを膝痛用後足部コーナ１０００ｃと記載し、外縁のコーナを膝痛対策用外側コーナ１０００ａと記載し、内縁のコーナを膝痛対策用内側コーナ１０００ｂと記載している。膝痛用後足部コーナ１０００ｃの後端は低い。また、上層部材の形状は、特許第３９７７７７１号公報の図７と同様な形状であってもよい。

（腰痛対策）
腰痛とはさまざまな原因で発生するが、特に骨盤が前傾して腰椎の前弯が増強すると疼痛が増加する。このため前足部よりも後足部を低くすることにより、骨盤を後傾させて疼痛を軽減させる。
図１７（ｂ）を用いて腰痛対策用インソール１１００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１７（ｂ）には上層部材を腰痛用上層部材１１２０と記載する。また、下層部材については後述する。なお、表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１７（ｂ）においては表皮については記載しない。
また、図１７（ｂ）においては、下層部材は表皮によって隠れているが、その輪郭線を「ＩＦｆ：先端縁に示す」と記載する。
表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。これらの内で、幅、長さ及び横アーチ用凸部ＣＡを除く頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。

横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さは、６ｍｍ程度（サイズが２３ｍｍの場合）である。
先端縁ＩＦｆは、図１７（ｂ）に示すように、内縁の第１基節骨４１の骨底に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第５中足骨５５に掛からないようにして第５中足骨５５の骨底を廻り込んで第５基節骨４５の骨頭に対向する外縁の点に至る形状にされている。
また、横アーチ用凸部ＣＡの第２中足骨５２の中央付近と第３中足骨５３の中央付近との間の高さは、偏平足用の高さより僅かに高い程度にして、外縁方向の縁の高さを前足部対応領域の高さ程度にした腰痛対策用傾斜面である。

なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１７（ｂ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを腰痛用後足部コーナ１１００ｃと記載し、外縁のコーナを腰痛用外側コーナ１１００ａと記載し、内縁のコーナを腰痛用内側コーナ１１００ｂと記載している。腰痛用後足部コーナ１１００ｃの後端は低い。
また、上層部材の形状は、特許第３９７７７７１号公報の図１１と同様な形状であってもよい。

（Ｏ脚対策）
Ｏ脚とは両膝関節が内反した状態で、美観上の問題や膝関節内側に過大な負荷がかかることによって変形性膝関節症などに進行する可能性のある状態である。
このため中足部から後足部を外反させて矯正するために、裏面の内縁の立方骨７１の中央付近に対向する点から踵部の後端にかけて傾斜領域（Ｏ脚用傾斜領域：図示せず）を形成する。これによって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導する

図１８（ａ）を用いてＯ脚対策用インソール１２００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１８（ａ）には上層部材をＯ脚用上層部材１２２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、Ｏ脚用上層部材１２２０の上面には表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１８（ａ）においては表皮については記載しない。

また、図１８（ａ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｇ：先端縁に示す」と記載する。
表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。
但し、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、４ｍｍ～５ｍｍ程度（サイズが２３０ｍｍの場合）である。
先端縁ＩＦｇは、図１８（ａ）に示すように、内縁の第１中足骨５１の骨頭に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近より少し下を通って、この中央付近に対向する外縁に至る形状である。

また、下層部材には、後足部を外反させて矯正するために、図示しない傾斜面（Ｏ脚用傾斜領域）が形成されている。
すなわち、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導するための、Ｏ脚用傾斜領域が形成されている。
なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１８（ａ）においては、後足部対応領域を囲むコーナをＯ脚用後足部コーナ１２００ｃと記載し、外側コーナをＯ脚用外側コーナ１２００ａと記載し、内側コーナをＯ脚用内側コーナ１２００ｂと記載している。
上記のＯ脚用傾斜領域は、特許第６４６７１４１号公報の図２、図４、図５の傾斜領域にするのが好ましい。
すなわち、裏側において、中足部対応領域の後端付近の足の内側の位置から後足部対応領域の後端の足の内側よりの位置までを結ぶ直線（Ｌａ）に対向する後足部対応領域の足の外側までの範囲に傾斜領域を施す。
この傾斜領域は、直線（Ｌａ）から足の外側に向かって次第に厚みが増加され、足の外側となる面の高さは、この足の外側の面に対向する足の内側の面に対して３割程度高する。

（足底筋膜炎対策）
足底筋膜炎・踵骨棘は、足底筋膜に繰り返し張力がかかることによって、主に踵骨付着部や足底筋膜内側に疼痛を生じ、さらには足底筋膜が付着する踵骨底部に骨棘を生じ疼痛を発する。このため骨棘を生じた部位を凹形状で除圧し、足底筋膜に不要な張力がかからないようにする。

図１８（ｂ）を用いて足底筋膜炎対策用インソール１３００を説明する。同図において上記と同一符号のものは説明を省略する。
図１８（ｂ）には上層部材を足底筋膜炎用上層部材１３２０と記載する。また、下層部材については後述する。
なお、足底筋膜炎用上層部材１３２０の上面には表皮（不織布、天然皮革などの表素材）が全表面に圧着されているが、図１８（ｂ）においては表皮については記載しない。
また、図１８（ｂ）においては、下層部材が見えるわけではないが、その輪郭線を「ＩＦｈ：先端縁に示す」と記載する。

表面側には上記と同様に、足の３アーチを整える、横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤとが隆起して形成されている。内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの、幅、長さ及び頂点の高さは図１５（ａ）と同程度である。
但し、横アーチ用凸部ＣＡの頂点は、６ｍｍ～８ｍｍ程度である。先端縁ＩＦｈは、図１８（ｂ）に示すように、内縁の第１中足骨５１の骨頭に対向する箇所から第１中足骨５１の骨頭の直後を廻り込んで、第２中足骨５２及び第３中足骨５３の骨頭直後付近を廻り込んで、第４中足骨５４の骨頭後ろを斜めに通って、第５中足骨５５の中央付近より少し下を通って、この中央付近に対向する外縁に至る形状である。

また、後足部対応領域には、長円状の窪み（以下、足底筋膜縁対策用窪部Ｔａと称する）が形成されている。この足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは、円、楕円若しくは、特許第６６０９２２２号公報のように、銅鐸形状であっても良い。
この足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは、足の踵骨の踵骨隆起付近から放射状に出る足底筋膜の筋膜起点部を保護するためのものである。
また、下層部材は、特許第３９７７７７１号公報の図５のような形状であっても構わない。
なお、上記と同様に裏面側の、中足趾節関節(ＭＰ関節)のＭＰ主屈折ライン部ＭＰｅに対向する屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。この作用効果については後述する。
また、図１８（ｂ）においては、後足部対応領域を囲むコーナを足底筋膜炎用後足部コーナ１３００ｃと記載し、外側コーナを足底筋膜炎用外側コーナ１３００ａと記載し、内側コーナを足底筋膜炎用内側コーナ１３００ｂと記載している。なお、足底筋膜炎用後足部コーナ１３００ｃの後端は低い。

［各インソールの詳細］
次に、外反母趾対策用インソール、偏平足対策用インソール、中足骨骨頭痛対策用インソール、モートン対策用インソール、膝痛対策用インソール、Ｏ脚対策用インソール、足底筋膜炎対策用インソールの詳細構造を説明する。
（外反母趾対策用インソール６００の詳細）
図１９は外反母趾対策用インソール６００の詳細説明図である。図２０は図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。
図１９（ａ）は外反母趾対策用インソール６００の裏面図であり、図１９（ｂ）は図１９（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図１９（ｃ）は図１９（ａ）のＡ７－Ａ７方向からの断面図である。このＡ７－Ａ７は、外反母趾対策用インソール６００の先端６００Ａと後端２００Ｂとを結ぶ直線であり、外反母趾インソール中敷中心線Ｌａａとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図１９（ａ）、図１９（ｂ）、図１９（ｃ）に示すように、外反母趾下層部材６１０（ウレタン）の上に外反母趾用上層部材６２０が圧着されている。
また、図１９（ａ）の点線は、外反母趾下層部材６１０が外側コーナ、内側コーナ、踵コーナを形成するために表側に曲げられたラインであり、ＡＬａと記載する。
また、図１９（ａ）には表側の母趾球対応領域ＢＣ、小趾球対応領域ＳＢを一点線で記載している。また、屈曲誘導溝Ｒａは裏面に形成されているので、実線で記載している。
また、裏面における母趾球対応領域ＢＣの中心と小趾球対応領域ＳＢの中心とを通る直線をＬｂｃと記載している。

屈曲誘導溝Ｒａは、母趾球小趾球横断直線Ｌｂｃに対しての傾斜角度θｉは、産前、産後と同様に、５度～２５度である（３０度～３２度の場合もある）。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ１と記載している。
図１９（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄａ１０（１４ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側方向から見た場合の踵部付近の高さはｄａ８（１３ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１６．５ｍｍ）と記載している。
そして、後端６００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端６００Ｂに至っている。ＰＩａから後端６００Ｂまでは、３８ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図１９（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄａ１（例えば、１．５ｍｍ～３．０ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さはｄａ３（例えば、９．７７ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄａ７（例えば、３．６７ｍｍ）であり、ほぼ前足対応領域と前足部対応領域の高さは同程度である。
また、後端６００Ｂの高さｄａ９（例えば、４．０ｍｍ）であり、非常に低い。
なお、図１９（ｃ）に示すように、図１９（ａ）のＡ７－Ａ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄａ５（例えば、１２ｍｍ）である。

次に、図２０を用いて図１９の外反母趾対策用インソール６００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図２０（ａ）は図１９（ｂ）のＦＢ１方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２０（ａ）に示すように、後端６００Ｂの高さは非常に低いので（ｄａ９：例えば４．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２０（ｂ）は図１９（ｂ）のＡ１－Ａ１断面で前方見た場合の断面図である。図２０（ｂ）に示すように、図１９（ｂ）のＡ１－Ａ１断面の付近は前足部対応領域の部分であり、外反母趾下層部材６１０は存在しないので、高さｄａ２は、１．５ｍｍ～２．３ｍｍ：好ましくは２．１７ｍｍ）である。
図２０（ｃ）の図１９（ｂ）のＡ２－Ａ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので外反母趾下層部材６１０が存在し、かつ横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄａ４は８．５ｍｍ程度（８．０ｍｍ～９．０ｍｍ：好ましくは８．５ｍｍ）である（横アーチ用凸部ＣＡの頂点部分が少し見える）。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
さらに、図１５（ｂ）に示すように、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦａ」が形成されていることを説明したが、Ａ２－Ａ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域の断面を含むので、図２０（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡと外縁との間は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である（第５中足骨窪み領域Ｍ）。
図２０（ｄ）は図１９（ｂ）のＡ３－Ａ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので厚みも薄くなり、その高さｄａ６（４．５ｍｍ～５．０ｍｍ：好ましくは４．８ｍｍ）である。このため、横アーチ用凸部ＣＡが大きく見える。

図２０（ｅ）は、図１９（ｂ）のＡ４－Ａ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端６００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄａ１２（３．５ｍｍ～４．０ｍｍ：好ましくは３．６９ｍｍ）となっている。このため、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（偏平足対策用インソール７００の詳細）
図２１は偏平足対策用インソール７００の詳細説明図である。図２２は図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図である。
図２１（ａ）は偏平足対策用インソール７００の裏面図であり、図２１（ｂ）は図２１（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２１（ｃ）は図２１（ａ）のＢ７－Ｂ７方向からの断面図である。このＢ７－Ｂ７は、偏平足対策用インソール７００の先端７００Ａと後端７００Ｂとを結ぶ直線であり、偏平足用インソール中敷中心線Ｌａｂとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２１（ａ）、図２１（ｂ）、図２１（ｃ）に示すように、偏平足用下層部材７１０（ウレタン）の上に偏平足用上層部材７２０が圧着されている。
また、図２１（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ２と記載している。
図２１（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｂ１０（１４ｍｍ～１８ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｂ８（１３ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１６．５ｍｍ）と記載している。そして、後端７００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端７００Ｂに至っている。ＰＩａから後端７００Ｂまでは、３８ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図２１（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｂ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｂ３（例えば、６．８２ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄｂ７（例えば、３．６ｍｍ）であり、後端７００Ｂの高さｄｂ９（例えば、４．０ｍｍ）である。なお、図２１（ｃ）に示すように、図２０（ａ）のＢ７－Ｂ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｂ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２２を用いて図２１の偏平足対策用インソール７００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２２（ａ）は図２１９（ｂ）のＦＢ２方向（踵方向）から見た場合の正面図である。
図２２（ａ）に示すように、後端７００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｂ９：例えば４．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。但し、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点は高さが低いので、内縁からは斜め状になっている。

図２２（ｂ）は図２１（ｂ）のＢ１－Ｂ１断面で前方見た場合の断面図である。図２２（ｂ）に示すように、図２１（ｂ）のＢ１－Ｂ１断面の付近は前足部対応領域の部分であり、偏平足用下層部材７１０は存在しないので、高さｄｂ２は、２．１７ｍｍ程度である。
図２２（ｃ）の図２１（ｂ）のＢ２－Ｂ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので偏平足用下層部材７１０が存在し、かつ横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄｂ４は６．６ｍｍ程度（６．０ｍｍ～７．０ｍｍ：好ましくは６．６ｍｍ）である（横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える）。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。

さらに、上記の図１６（ａ）においては、第５中足骨５５の骨底を囲むように、先端の輪郭線「ＩＦｂ」が形成されていることを説明したが、Ｂ２－Ｂ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域の断面を含むので、図２２（ｃ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡと外縁との間は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である（第５中足骨窪み領域Ｍ）。

図２２（ｄ）は図２１（ｂ）のＢ３－Ｂ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｂ２－Ｂ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｂ６（４．５ｍｍ～５．０ｍｍ：好ましくは５．５ｍｍ）である。しかし、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さは低いので横アーチ用凸部ＣＡは少し見える程度である。

図２２（ｅ）は、図２１（ｂ）のＢ４－Ｂ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端７００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｂ１２（３．５ｍｍ～４．０ｍｍ：好ましくは３．６ｍｍ）となっている。
このため、偏平足対策用インソール７００の横アーチ用凸部ＣＡの頂点の高さが低くても、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（中足骨骨頭痛対策用インソール８００の詳細）
図２３は中足骨骨頭痛対策用インソール８００の詳細説明図である。図２４は図２３の中足骨骨頭痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図である。
図２３（ａ）は中足骨骨頭痛対策用インソール８００の裏面図であり、図２３（ｂ）は図２３（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２３（ｃ）は図２３（ａ）のＣ７－Ｃ７方向からの断面図である。このＣ７－Ｃ７は、中足骨骨頭痛対策用インソール８００の先端８００Ａと後端８００Ｂとを結ぶ直線であり、中足骨骨頭痛用インソール中敷中心線Ｌａｃとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２３（ａ）、図２３（ｂ）、図２３（ｃ）に示すように、中足骨骨頭痛対策用インソール８００（ウレタン）の上に中足骨骨頭痛用上層部材８２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２３（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ３と記載している。
図２３（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｃ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｃ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端８００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端８００Ｂに至っている。ＰＩａから後端８００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。なお、図２３（ｃ）には小趾球対応領域ＳＢ付近の段差の部分はＣＡｅと記載している。

また、図２３（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｃ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｃ３（例えば、１０．５６ｍｍ）であり、踵部対応領域の高さｄｃ６（例えば、２．２４ｍｍ）であり、後端８００Ｂの高さｄｃ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２３（ｃ）に示すように、図２３（ａ）のＣ７－Ｃ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｃ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２４を用いて図２３の中足骨骨頭痛対策用インソール８００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。また、横アーチ用凸部については、図２４においては、ＣＡａと記載する。
図２４（ａ）は図２３（ｂ）のＦＢ３方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２４（ａ）に示すように、後端８００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｃ９：例えば３．０ｍｍ）、中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａが見えている。
図２４（ｂ）は図２３（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面で前方見た場合の断面図である。図２４（ｂ）に示すように、図２３（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面の付近は中足部対応領域の部分であるが、中足骨骨頭痛用下層部材８１０の先端縁ＩＦｃは、、中央分が後ろ側に凹んだ略Ｕ字形状にされているので、内側、外側のみに中足骨骨頭痛用下層部材８１０が存在している。
図２４（ｂ）のＣ１－Ｃ１断面における中足骨骨頭痛用上層部材８２０の厚みは薄く、その高さｄｃ２は、２．１１ｍｍ程度である。

図２４（ｃ）は図２３（ｂ）のＣ２－Ｃ２断面で前方見た場合の断面図である。この部分は中足部対応領域の部分であるので中足骨骨頭痛用下層部材８１０が存在し、かつ中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａの頂点付近であるので厚みもあり、その高さｄｃ４は１０．４ｍｍ程度）である（中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢの高さは高い）。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内
縁は高い。

図２４（ｄ）は図２３（ｂ）のＣ３－Ｃ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｃ２－Ｃ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｂ６（３．０ｍｍ）である。中足骨骨頭痛対策用インソール８００の中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａも大きく見える。
図２４（ｅ）は、図２３（ｂ）のＣ４－Ｃ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端８００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｃ１２（２．３ｍｍ）となっている。このため、中足骨骨頭痛用横アーチ用凸部ＣＡａ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（モートン対策用インソール９００の詳細）
図２５はモートン対策用インソール９００の詳細説明図である。図２６は図２４の中足骨骨頭痛対策用インソール８００を踵方向（例えば、ＦＢ３）から見た場合と各部の断面図である。
図２５（ａ）はモートン対策用インソール９００の裏面図であり、図２５（ｂ）は図２５（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２５（ｃ）は図２５（ａ）のＤ７－Ｄ７方向からの断面図である。このＤ７－Ｄ７は、モートン対策用インソール９００の先端９００Ａと後端９００Ｂとを結ぶ直線であり、モートン用インソール中敷中心線Ｌａｄとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２５（ａ）、図２５（ｂ）、図２５（ｃ）に示すように、モートン対策用インソール９００（ウレタン）の上にモートン用上層部材９２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２５（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ４と記載している。
図２５（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｄ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｄ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端９００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端９００Ｂに至っている。ＰＩａから後端９００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図２５（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｄ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｄ３（例えば、９．３ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｄ６（例えば、２．５ｍｍ）であり、後端９００Ｂの高さｄｄ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２５（ｃ）に示すように、図２５（ａ）のＤ７－Ｄ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｄ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。

次に、図２６を用いて図２５のモートン対策用インソール９００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図２６（ａ）は図２５（ｂ）のＦＢ４方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２６（ａ）に示すように、後端９００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｄ９：例えば３．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２６（ｂ）は図２５（ｂ）のＤ１－Ｄ１断面で前方見た場合の断面図である。図２６（ｂ）に示すように、図２５（ｂ）のＤ１－Ｄ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｄ１は１．５ｍｍ程度である。

図２６（ｃ）は図２５（ｂ）のＤ２－Ｄ２断面で前方見た場合の断面図である。図２６（ｂ）に示すように、図２５（ｂ）のＤ２－Ｄ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、モートン用下層部材９１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので、厚みもあり、その高さもｄｄ４（８．５ｍｍ）程度である。
さらに、モートン用下層部材９１０の先端縁ＩＦｄは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｄ２－Ｄ２断面は、この第５中足骨５５が載置される領域（第５中足骨窪み領域Ｍ）の断面を含む。
このため、図２６（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図２６（ｄ）は図２５（ｂ）のＤ３－Ｄ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｄ２－Ｄ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｄ６（６．０ｍｍ）である。なお、Ｄ２－Ｄ２断面よりは少し薄くなっているので、横アーチ用凸部ＣＡも見える。
図２６（ｅ）は、図２５（ｂ）のＤ４－Ｄ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域のＰＩａと、後端９００Ｂとの間の部分であるので、厚みも薄く、その高さはｄｄ１２（３．０ｍｍ）となっている。このため、横アーチ用凸部ＣＡ及び内側縦アーチ用凸部ＣＢが大きく見える。

（膝痛対策用インソール１０００の詳細）
図２７は膝痛対策用インソール１０００の詳細説明図である。図２８は図２７の膝痛対策用インソール１０００を踵方向（例えば、ＦＢ５）から見た場合と各部の断面図である。
図２７（ａ）は膝痛対策用インソール１０００の裏面図であり、図２７（ｂ）は図２７（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２７（ｃ）は図２７（ａ）のＥ７－Ｅ７方向からの断面図である。このＥ７－Ｅ７は、膝痛対策用インソール１０００の先端１０００Ａと後端１０００Ｂとを結ぶ直線であり、膝痛用インソール中敷中心線Ｌａｅとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２７（ａ）、図２７（ｂ）、図２７（ｃ）に示すように、膝痛対策用インソール１０００（ウレタン）の上に膝痛用上層部材１０２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２７（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ５と記載している。
図２７（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｅ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｅ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１０００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端１０００Ｂに至っている。ＰＩａから後端１０００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図２７（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｅ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｅ３（例えば、９．３ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｅ６（例えば、２．５ｍｍ）であり、後端１０００Ｂの高さｄｅ９（例えば、３．４ｍｍ）である。なお、図２７（ｃ）に示すように、図２７（ａ）のＥ７－Ｅ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｅ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。
次に、図２８を用いて図２７の 膝痛対策用インソール１０００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２８（ａ）は図２７（ｂ）のＦＢ５方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２７（ｃ）に示すように、後端１０００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｅ９：例えば３．０ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。
図２８（ｂ）は図２７（ｂ）のＥ１－Ｅ１断面で前方見た場合の断面図である。図２８（ｂ）に示すように、Ｅ１－Ｅ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｅ１は１．５ｍｍ程度である。
図２８（ｃ）は図２７（ｂ）のＥ２－Ｅ２断面で前方見た場合の断面図である。Ｅ２－Ｅ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、膝痛用下層部材１０１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるので、厚みもあり、その高さもｄｅ４（１０．０ｍｍ）程度である。

さらに、膝痛用下層部材１０１０の先端縁ＩＦｅは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｅ２－Ｅ２断面は、この第５中足骨５５が載置される第５中足骨窪み領域Ｍ（図示せず）の断面を含む。
このため、図２８（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図２８（ｄ）は図２７（ｂ）のＥ３－Ｅ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｅ２－Ｅ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｅ６（６．０ｍｍ）である。なお、Ｅ２－Ｅ２断面よりは少し薄くなっているので、横アーチ用凸部ＣＡも見える。

また、後足部を外反させて矯正するために、第５中足骨５５の中央付近に対向する外縁の箇所から踵骨７５の中央付近を通って後端に至る領域は、長い傾斜面が形成させられている。このため、Ｅ３－Ｅ３断面の外縁は高さが例えば、１３．０ｍｍ程度となっている。
図２８（ｅ）は、図２７（ｂ）のＥ４－Ｅ４断面で前方見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｅ１２（７．０ｍｍ）となっている。

（腰痛対策用インソール１１００の詳細）
図２９は腰痛対策用インソール１１００の詳細説明図である。図３０は図２９の腰痛対策用インソール１１００を踵方向（例えば、ＦＢ６）から見た場合と各部の断面図である。
図２９（ａ）は腰痛対策用インソール１１００の裏面図であり、図２９（ｂ）は図２９（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図２９（ｃ）は図２９（ａ）のＦ７－Ｆ７方向からの断面図である。このＦ７－Ｆ７は、腰痛対策用インソール１１００の先端１１００Ａと後端１１００Ｂとを結ぶ直線であり、腰痛対策用インソール中敷中心線Ｌａｆとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図２９（ａ）、図２９（ｂ）、図２９（ｃ）に示すように、腰痛対策用インソール１１００（ウレタン）の上に腰痛用上層部材１１２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図２９（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ６と記載している。
図２９（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｆ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｆ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１１００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端１１００Ｂに至っている。ＰＩａから後端１１００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図２９（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｆ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｆ３（例えば、６．０ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｆ６（例えば、５．０ｍｍ）であり、後端１１００Ｂの高さｄｆ９（例えば、７．２ｍｍ）である。なお、図２９（ｃ）に示すように、図２９（ａ）のＦ７－Ｆ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｆ５（例えば、１１．５ｍｍ）である。

次に、図２９を用いて図２８の腰痛対策用インソール１１００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図３０（ａ）は図２９（ｂ）のＦＢ６方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２９（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｆ９：例えば７．２ｍｍ）、横アーチ用凸部ＣＡが見えている。

図３０（ｂ）は図２９（ｂ）のＦ１－Ｆ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｆ１－Ｆ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｆ２は１．５ｍｍ程度である。
図３０（ｃ）は図２９（ｂ）のＦ２－Ｆ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｆ２－Ｆ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、腰痛用下層部材１１１０が存在する。
また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点は低いので、その高さもｄｆ４（６．０ｍｍ）程度である。
さらに、腰痛用下層部材１１１０の先端縁ＩＦｆは、第５中足骨５５の骨底を囲むようにされているので、Ｆ２－Ｆ２断面は、この第５中足骨５５が載置される第５中足骨窪み領域Ｍの断面を含む。

このため、図３０（ｃ）に示すように、第５中足骨窪み領域Ｍの部分は厚みも薄く、その高さは３．０ｍｍ程度（２．８ｍｍ～３．５ｍｍ：好ましくは３．０ｍｍ）である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。
図３０（ｄ）は図２９（ｂ）のＦ３－Ｆ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｆ２－Ｆ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｆ６（６．２ｍｍ）である。
図３０（ｅ）は、図２９（ｂ）のＦ４－Ｆ４断面から前方を見た場合の断面図である。
この部分の高さはｄｆ１２（４．５ｍｍ）となっている。つまり、後足部を低くすることにより、骨盤を後傾させて疼痛を軽減させている。

（Ｏ脚対策用インソール１２００の詳細）
図３１はＯ脚対策用インソール１２００の詳細説明図である。図３２は図３１のＯ脚対策用インソール１２００を踵方向（例えば、ＦＢ７）から見た場合と各部の断面図である。
図３１（ａ）はＯ脚対策用インソール１２００の裏面図であり、図３１（ｂ）は図３１（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図３１（ｃ）は図３０（ａ）のＧ７－Ｇ７方向からの断面図である。このＧ７－Ｇ７は、Ｏ脚対策用インソール１２００の先端１２００Ａと後端１２００Ｂとを結ぶ直線であり、Ｏ脚用インソール中敷中心線Ｌａｇとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３１（ａ）、図３１（ｂ）、図３１（ｃ）に示すように、Ｏ脚対策用インソール１２００（ウレタン）の上にＯ脚用上層部材１２２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図３１（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ７と記載している。
図３１（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｇ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｇ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１２００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端１２００Ｂに至っている。ＰＩａから後端１２００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図３１（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｇ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｇ３（例えば、５．０ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｇ６（例えば、５．８ｍｍ）であり、後端１２００Ｂの高さｄｇ９（例えば、７．５ｍｍ）である。
なお、図３１（ｃ）に示すように、図３１（ａ）のＥ７－Ｅ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｇ５（例えば、１５．５ｍｍ）である。
外側コーナの高さがｄｇ５（例えば、１５．５ｍｍ）と高いのは、中足部から後足部を外反させて矯正するために、裏面の内縁の立方骨７１の中央付近に対向する箇所から踵部の後端にかけて傾斜領域（Ｏ脚用傾斜領域：図示せず）を形成しているためである。これによって、下腿全体を内倒れさせるような外力を加え、膝関節を外反方向に誘導する。次に、図３２を用いて図３１のＯ脚対策用インソール１２００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３２（ａ）は図３１（ｂ）のＦＢ７方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図２９（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｆ９：例えば７．２ｍｍ）、図３２（ａ）に示すように横アーチ用凸部ＣＡが見えている。また、Ｏ脚用斜面の線が立方骨７１の中央付近に対向する箇所から斜めに踵骨中央付近（やや内側）を通って後端に至っているので、外縁側が高くなっている。

図３２（ｂ）は図３１（ｂ）のＧ１－Ｇ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｇ１－Ｇ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｇ２は１．５ｍｍ程度である。
図３２（ｃ）は図３１（ｂ）のＧ２－Ｇ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｇ２－Ｇ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、Ｏ脚用下層部材１２１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点は腰痛より少し低いので、その高さもｄｇ４（５．７ｍｍ）程度である。
また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内側縦アーチ用凸部ＣＢの内縁は高い。

図３２（ｄ）は図３１（ｂ）のＧ３－Ｇ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分は後足部対応領域に近い部分であるので、Ｇ２－Ｇ２断面よりは少し薄くなり、その高さｄｇ６（５．０ｍｍ）である。
図３２（ｅ）は、図３１（ｂ）のＧ４－Ｇ４断面から前方を見た場合の断面図である。
この部分の高さはｄｇ１２（６．０ｍｍ）となっている。
すなわち、外縁側にはＯ脚用斜面Ｃｇが形成されているので、Ｇ３－Ｇ３断面～Ｇ４－Ｇ４断面に渡って、外縁側が高さ（例えば、ｄｇ５）がある厚みが形成されている。

（足底筋膜炎対策用インソール１３００の詳細）
図３３は足底筋膜炎対策用インソール１３００の詳細説明図である。図３４は図３３の足底筋膜炎対策用インソール１３００を踵方向（例えば、ＦＢ８）から見た場合と各部の断面図である。
図３３（ａ）は足底筋膜炎対策用インソール１３００の裏面図であり、図３３（ｂ）は図３３（ａ）の内側方向から見た場合の側面図である。また、図３３（ｃ）は図３３（ａ）のＨ７－Ｈ７方向からの断面図である。このＨ７－Ｈ７は、足底筋膜炎対策用インソール１３００の先端１３００Ａと後端１３００Ｂとを結ぶ直線であり、足底筋膜炎用インソール中敷中心線Ｌａｈとも称する。なお、上記の図と同一符号については説明を省略する。

図３３（ａ）、図３３（ｂ）、図３３（ｃ）に示すように、足底筋膜炎用下層部材１３１０（ウレタン）の上に足底筋膜炎用上層部材１３２０（ウレタン）が圧着されている。
また、図３３（ａ）に示すように、裏面には上記と同様な屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。さらに、踵方向から見る方向をＦＢ８と記載している。
図３３（ｂ）には、内側方向を見た場合の内側コーナが最大となる高さをｄｈ１０（１４ｍｍ～１７ｍｍ：好ましくは１５ｍｍ程度）と記載している。また、内側から見た場合の踵部付近の高さはｄｈ８（１０ｍｍ～１３ｍｍ：好ましくは１２．０ｍｍ）と記載している。そして、後端１３００ＢからＬＥｂ（７ｍｍ～１２ｍｍ：好ましくは１０ｍｍ）の箇所Ｅｂ付近（ＰＩａの後方）から高さが低下させられて後端１３００Ｂに至っている。ＰＩａから後端１３００Ｂまでは、３６ｍｍ程度（ＬＰＥ）である。

また、図３３（ｃ）に示すように、前足対応領域の高さは、ｄｈ１（例えば、１．５ｍｍ）で横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近の高さはｄｈ３（例えば、６．３７ｍｍ）である。
また、踵部対応領域の高さｄｈ６（例えば、２．４４ｍｍ）であり、後端１３００Ｂの高さｄｈ９（例えば、５．５ｍｍ）である。
なお、図３３（ｃ）に示すように、図３３（ａ）のＨ７－Ｈ７方向から見ているので、外側コーナの上面ＡＵが見えている。この外側コーナの高さはｄｈ５（例えば、１４．５ｍｍ）である。

次に、図３４を用いて図３３の足底筋膜炎対策用インソール１３００を踵方向から見た場合と各部の断面図について説明する。但し、上記の図と同一符号については説明を省略する。
図３４（ａ）は図３３（ｂ）のＦＢ８方向（踵方向）から見た場合の正面図である。図３３（ｃ）に示すように、後端１１００Ｂの高さ非常に低いので（ｄｈ９：例えば５．５ｍｍ）、図３４（ａ）に示すように横アーチ用凸部ＣＡが見えている。

図３４（ｂ）は図３３（ｂ）のＨ１－Ｈ１断面から前方を見た場合の断面図である。Ｈ１－Ｈ１断面の付近は前足部対応領域の部分であるので、厚みが薄く、その高さｄｈ２は２．１１ｍｍ程度である。
図３４（ｃ）は図３３（ｂ）のＨ２－Ｈ２断面から前方を見た場合の断面図である。Ｈ２－Ｈ２断面の付近は中足部対応領域の部分であり、足底筋膜炎用下層部材１３１０が存在する。また、横アーチ用凸部ＣＡの頂点付近であるが、その頂点の高さはｄｈ４（６．２５ｍｍ）程度である。

また、内側縦アーチ用凸部ＣＢの頂点付近でもあるので、内縁は高い。
図３４（ｄ）は図３３（ｂ）のＨ３－Ｈ３断面で前方見た場合の断面図である。この部分はＴａが存在するので、Ｈ２－Ｈ２断面よりは少し薄くなり、その高さはｄｅ６（４．４９ｍｍ）である。
図３４（ｅ）は、図３３（ｂ）のＨ４－Ｈ４断面から前方を見た場合の断面図である。この部分の高さはｄｈ１２（４．５４ｍｍ）となっている。

＜実施の形態４＞
上記の足底筋膜炎対策用インソール１３００の足底筋膜縁対策用窪部Ｔａは長円として説明したが、例えば、特許第６６０９２２２号公報のような銅鐸形状であってもよい。この特許第６６０９２２２号公報に対して、屈曲誘導溝Ｒａを裏面に施し、後端を上記の実施形態と同様に低くした例を、図３５を用いて説明する。
図３５は実施の形態４の足底筋膜炎対策用インソール１４００の説明図である。なお、上記の図と同一符号のものについては説明を省略する。
図３５（ａ）には足底筋膜炎対策用インソール１４００の斜視図を示し、図３５（ｂ）には足底筋膜炎対策用インソール１４００の先端１４００Ａと後端１４００Ｂとを結ぶ直線（図示せず）での断面を示す。但し、図３５（ｂ）は内側方向から見た場合である。

図３５（ａ）に示す足底筋膜炎対策用インソール１４００は、足底筋膜炎用下層部材１４１０と足底筋膜炎用中層部材１４２０と表層部材１４３０とを圧着成型している。
横アーチ用凸部ＣＡと、内側縦アーチ用凸部ＣＢと、外側縦アーチ用凸部ＣＤの高さを上記の凸部より高くして開帳足対策用、外反母趾対策用、姿勢維持対策用、偏平足対策用としている。さらに、足底筋膜保護用凹部ＴＤが成型されている。

このインソールの材質は、足底筋膜炎用下層部材１４１０及び足底筋膜炎用中層部材１４２０が軟弾性部材である。具体的にはウレタン樹脂、エラストマー、コルクゴム、ＥＶＡ樹脂材等である。
本実施の形態ではウレタン樹脂（以下単にウレタンという）として説明する。
また、表層部材１４３０は不織布又は布、革、人工被覆等である。本実施の形態では布として説明する。
なお、前述の足底筋膜炎用下層部材１４１０は足底筋膜炎用中層部材１４２０と同じ素材であるが、足底筋膜炎用中層部材１４２０よりも圧縮率を高くしている（硬く感じる）。このため、下層部材１４１０から適度の反発力が与えられることになる。

また、図３５（ａ）に示すように、踵側には銅鐸形状の足底筋膜保護用凹部ＴＤを成型している。また、これらは滑らかな曲面で繋がるように成型されている。
この足底筋膜保護用凹部ＴＤは、楕円穴Ｔｄａが足の踵骨隆起部に対応する領域に形成されている。
また、図３５（ｂ）に示すように、横アーチ用凸部ＣＡは後端側に向かうに従って高さが次第に低下している。
さらに、後端１４００Ｂは高さが低くされており、その高さは横アーチ用凸部ＣＡの後側の後足部の先端当たりの高さである。
前述の足底筋膜保護用凹部ＴＤの詳細について図３６を用いて説明する。図３６は足底筋膜保護用凹部ＴＤの拡大斜視図である。但し、楕円穴Ｔｄａを点線で示し、筋膜起点部対応領域を点線で示す。また、筋膜起点部から放射状に延びる足底筋膜Ｋを記載している。

図３６に示すように、足底筋膜保護用凹部ＴＤは、筋膜起点部対応領域付近は横幅が３３．０ｍｍ程度であり、横アーチ用凸部側が３６．０ｍｍである。すなわち、横アーチ用凸部に向かうに従って次第に横幅が広がる形状である。これを本実施の形態では銅鐸形状と称している。また、横アーチ用凸部側に向かうに従って、高さは次第に増加している。

このため、足をこのインソールに載置した場合は、踵骨の周囲が足底筋膜保護用凹部ＴＤを除く後足部対応領域２３０の周囲の頂（凸）に載るので、足底筋膜Ｋの筋膜起点部が痛くなることがない。つまり、足底筋膜炎による痛みがとれることになる。

＜実施の形態５＞
上記の屈曲誘導溝Ｒａは、特許第６９９４６８１号公報のインソールに設けてもよい。
また、後端を低くしてもよいし、低くしないでそのままにしてもよい。
本実施の形態は、この屈曲誘導溝Ｒａを設けた特許第６９９４６８１号公報の右側インソールをウォーキング用インソールとして説明する（後端は低くしてもよい）。
図３７は、実施の形態５のウォーキング用インソール１５００の裏面図である。表面には上記と同様に、内側縦アーチ用凸部と横アーチ用凸部と外側縦アーチ用凸部とが形成されている（図示せず）。

さらに、表面側には、外側傾斜領域が形成されている。この外側傾斜領域は、少なくとも、第５中足骨の中央付近から第５中足骨骨底の中央付近を通って後足部対応領域の中央付近を通る略直線状のラインと外縁との間が、外縁に向かうに従って次第に高さが増加させられた長手方向に長い斜面に形成されている。
なお、前足部（図示せず）に対応する前足部対応領域は、つま先側及び両縁に向かうに従って反っている（図４０参照）。

図３７に示すように、ウォーキング用インソール１５００を構成する下層部材の裏側には、母趾球対応領域（図示せず）を略囲んで、先端に至る略逆Ｓ字状の幅１．８ｍｍ程度の溝（以下、略逆Ｓ字状溝ＳＧｉという）が形成されている。
また、略逆Ｓ字状溝ＳＧｉの母趾球対応領域となる範囲から、略放射状に外縁に向かって形成されている。これらの溝は、外縁においては約１０ｍｍ程度の間隔にされている。

さらに、図３７に示すように、ウォーキング用補強部材１５７０がウォーキング用下層部材１５１０の裏面に圧着されている。このウォーキング用補強部材１５７０は、踵骨の中央付近に対応する領域が卵形状に穴抜きされている（以下、ウォーキング用補強部材踵部穴部１５８０という）。
また、ウォーキング用補強部材１５７０の前縁となる中足部対応領域２２０付近の足外側となる前縁（以下、ウォーキング用補強部材足外縁ＷＴａという）は、ウォーキング用第５中足骨（図示せず）が当たらないような形状にされている。
さらに、屈曲誘導溝Ｒａが裏面に形成されている。

また、ウォーキング用インソール１５００は、ウレタンフォームのウォーキング用下層部材１５１０と、ウレタンフォームのウォーキング用上層部材１５２０と、ウォーキング用表皮部材１５３０と、最下層となるウォーキング用補強部材１５７０とよりなる多層構造体である（図３９、図４０参照）。
なお、ウレタンフォームの他に、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の熱可塑性合性樹脂の発泡体又はブタンジェンラバー等のラバー素材の発泡体であってもよい。
また、本実施の形態のウォーキング用インソール１５００は、芯材を下層部材と上層部材との間に設けている。なお、この芯材は、無くても構わないが、本実施の形態では芯材を内蔵しているとして説明する。

図３８は本実施の形態のウォーキング用インソール１５００を裏側から見た場合の平面図である。但し、足Ｆは一部を実線で記載している。また、表面側に形成されてる凸部も実線で示し、下層部材と上層部材の間の芯も実線で記載する。
図３８に示すように、ウォーキング用インソール１５００は、ウォーキング用下層部材１５１０（図示せず）とウォーキング用上層部材１５２０（図示せず）との間にウォーキング用芯材ＪＳを設けている。
図３８に示すように、ウォーキング用芯材ＪＳは、母趾球に係る領域は広い、略「う」の字状の帯である。
すなわち、ウォーキング時には、足の荷重がウォーキング用芯材ＪＳを通って親指側に抜けていくことになる。
また、母趾球の直後には、屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、足の着地時には内側に膝のベクトルを向けさせることができるので、まっすぐにスムーズに歩けることになる。
また、ウォーキング用外側縦アーチ用凸部（以下、ウォーキング用外側傾斜領域ＷＳｉという）は、後足部に設けられているウォーキング用補強部材踵部穴部１５８０の中央付近にまで及んでいるので、足裏の外側を押上げる。

次に断面図を用いて以下に説明する。
図３９（ｂ）は図３８のウォーキング用インソール１５００のＢｊ－Ｂｊ断面であり、図３９（ａ）は図３８のＤｊ－Ｄｊ断面図である。また、図４０は図３８のＪ－Ｊ断面図である。
図３９（ｂ）及び図３９（ａ）に示すように、ウォーキング用外側傾斜領域ＷＳｉは外側縁に向かって次第に傾斜が増加させられた、長手方向に長い斜面である。
＜実施の形態６＞
本実施の形態は、この屈曲誘導溝Ｒａを設けた特許第７１１３４８１号公報の左側のインソールをランニング用インソール１６００として説明する（後端は低くしてもよい）。
図４１は、実施の形態６のランニング用インソール１６００の裏面図である。表面には上記と同様に、内側縦アーチ用凸部と横アーチ用凸部と外側縦アーチ用凸部とが形成されているが図示しない。
さらに、ランニング用インソール１６００を構成する下層部材の裏側には、母趾球対応領域（図示せず）の直後には屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

また、図４１に示すように裏側は、ランニング用下層部材１６１０における母趾球対応領域ＢＣを略囲んで、先端に至る略逆Ｓ字状溝ＳＧｉが形成されている。
さらに、ランニング用補強部材１６７０がランニング用下層部材１６１０の裏面に圧着されている。このランニング用下層部材１６１０は、踵骨（図示せず）の中央付近に対応する領域が卵形状に穴抜きされている（以下、ランニング用補強部材踵部穴部１６８０という）。

また、ランニング用補強部材１６７０の前縁となるランニング用補強部材足外縁Ｗｔｂは、ランニング用第５中足骨（図示せず）が当たらないような形状にされている。
さらに、後述する図４２に示すように、ランニング用芯材は、母趾球対応領域の裏の手前付近までに至っている。
また、ランニング用補強部材１６７０のつま先側の先端縁は、第５中足骨に当たらない形状にされている。
さらに、屈曲誘導溝Ｒａが裏面に形成されている。

また、ランニング用インソール１６００は、ウレタンフォームのランニング用下層部材１６１０と、ウレタンフォームのランニング用上層部材１６２０（図示せず）と、ランニング用表皮部材１６３０（図示せず）と、最下層となるランニング用補強部材１６７０とよりなる多層構造体である（図４１（ｂ）、図４１（ｃ）参照）。
また、本実施の形態のランニング用インソール１６００は、芯材を下層部材と上層部材との間に設けている。なお、この芯材は、無くても構わないが、本実施の形態では芯材を内蔵しているとして説明する。
図４２は本実施の形態のランニング用インソール１６００を裏側から見た場合の平面図である。但し、足Ｆは一部を実線で記載している。また、表面側に形成されてる凸部も実線で示し、下層部材と上層部材の間の芯も実線で記載する。
図４２に示すように、ランニング用インソール１６００は、ランニング用下層部材１６１０（図示せず）とランニング用上層部材１６２０（図示せず）との間に、ランニング用芯材ＫＳを設けている。
すなわち、ランニング時には、足の荷重がランニング用芯材ＫＳを通って親指側に抜けていくことになる。
また、母趾球の直後には、屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、足の着地時には内側に膝のベクトルを向けさせることができるので、まっすぐにスムーズに走行できることになる。

図４１はランニング用インソール１６００の説明図である。図４１（ａ）はランニング用インソールを上から見た場合の平面図である。図４１（ａ）に示すように窪み部ＲＨが表面に形成されており、この直後に屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。

図４１（ｂ）は図４１（ａ）のＲｊ－Ｒｊ断面図であり、図４１（ｃ）は図４１（ａ）のＲｋ－Ｒｋ断面図である。なお、ランニング用表皮部材１６３０については図４１（ｂ）及び図４１（ｃ）には記載しない。
図４１（ｃ）に示すように、踵部であるＲｋ－Ｒｋ断面においては、ウォーキングのような外側傾斜領域（外側縦アーチ用凸部）が存在していないことを示している。さらに、ランニング用は図４１（ｃ）に示すように表面側に、母趾球を受け入れる窪み部ＨＲを設けている。この窪み部ＲＨの裏面の直後には屈曲誘導溝Ｒａが形成されている。また、窪み部ＲＨには、板状の柔らかい緩衝材（図示せず）を圧着してもよい。

＜実施の形態６＞
図４３は実施の形態６のランニング用インソール１６００の説明図である。図４３（ａ）はランニング用インソール１６００の斜視図である。図４３（ｂ）は図４３（ａ）の一部を断面で示した斜視図である。

窪み部ＲＨは、底ＲＨａ（楕円又は円）と、この底ＲＨａに連なる側壁ＲＨｂとを有する。図示の例において、窪み部ＲＨの底ＲＨａは楕円又は円形状を呈する平坦な面からなる。窪み部ＲＨは、楕円形の長径の場合は、内側縁から外側縁に向けて伸びているのが好ましい。窪み部ＲＨの側壁ＲＨｂは、底ＲＨａからすり鉢状に末広がりに伸びている。
すなわち、窪み部ＲＨに足の母趾球が受入られるとき、母趾球は窪み部ＲＨの底ＲＨａ上に載り、 また、側壁ＲＨｂによりその周囲を部分的に取り囲まれて側壁ＲＨｂに接する。
従って、歩行時や走行時、足の蹴り出しに際して、足の母趾球がずれない。
また、屈曲誘導溝Ｒａによって、足の膝の向きを内側方向に向けさせることが可能である。
すなわち、表面側には、足の裏側の母趾球に対応する領域に、主に走行を補助する窪み部が形成され、さらに、横アーチ用凸部と内側縦アーチ用凸とが形成された中敷であって、
前記窪み部は、
小円状の底面を曲面状の周壁で囲んで上縁を円状にした擂鉢形状にされており、
さらに、
足が載置された場合の、前記窪み部の周壁の母趾球後ろ面が当接する周壁部分を延長した斜面を有する盛り上がり部を前記窪み部の後ろ直後に連設しており、
盛り上がり部が形成されている範囲は、内縁と横アーチ用凸部との間で、かつ内側縦アーチ用凸部の頂点より前側となる、足が載置された場合の第１中足骨の骨頭と第１中足骨の中央付近との間となっており、
さらに、この範囲に形成された盛り上がり部は、
上から見た場合の形状が、斜面を有して略三角形状に形成されており、
さらに、裏面に屈曲誘導溝Ｒａが形成されているので、蹴り出し時に、この斜面によって足の母趾球の後ろ面に反発力を与えると共に、ベクトルを内側に向けさせることができる。
このため、真っすぐに蹴り出しができるのでランニングがスマートで身体に負担がかからない。
なお、斜面の頂点は、横アーチ用凸部の頂点以下の所定高さにされている。
また、芯材は、合成樹脂を含浸させた織布又は不織布等により構成されている。芯材の厚みは、１．０ｍｍ以下であり、長さ方向の曲げ剛性値は３１Ｎ・ｃｍ程度であり、幅方向の曲げ剛性値は１７Ｎ・ｃｍである。曲げ剛性値は、所定の測定条件（測定器：オルゼン型ステックネステスター、環境温度２０°Ｃ、環境相対湿度：６５％ＲＨ、偏位角度：４０°）の下で測定された。

上記の屈曲誘導溝Ｒａを下層部材の裏面の母趾球対応領域ＢＣ直後に形成したことで、実際の蹴出方向は、小趾球から母趾球側を着地させたときの荷重方向と、前進に伴う勢いの方向とを合成した方向となるので、歩行ライン及び膝進行方向に略平行となる。
従って、膝、足首を捩じるようしなくとも、足の着地の時点で膝進行方向に略平行になる。このため、膝、足首等をはじめ体に負担をかけることなく蹴り出すことができるので姿勢を崩すことなく歩行ができる。また、従来のように蛇行軌跡にならないので、歩行、走行がスマートである。

なお、靴の中板は特許第６７６７１５８号公報の中板を用いるのが好ましい。
つまり、足の後足部に対応する領域である後足部対応領域が前足部に対応する前足部対応領域に対して高くされた中板の裏側である接地面側に、補強板が圧着成型された中底であって、
前記補強板は、先辺が裏側から見て略「へ」の字状であり、前記先辺の頂点は、前記中板上の、足の第３中足骨の骨頭の領域と足の第４中足骨の骨頭の領域との間付近となる所定位置にあり、さらに、前記先辺は、前記頂点を起点にして、足の内側となる足内側方向辺と、足の外側となる足外側方向辺とよりなり、前記所定位置の前記頂点は、前記中板の、足の母趾球に対応することになる母趾球対応領域の中央付近と、足の小趾球に対応することになる小趾球対応領域の中央付近とを通る横直線ライン上にあり、前記足内側方向辺は、 前記所定位置の前記頂点から前記横直線ラインに対して、挟角が７度～１２度で、足の第１中足骨の骨頭の直後となる領域を通って内側の縁に至る直線状にされており、
前記足外側方向辺は、前記先辺の頂点から第４中足骨の骨頭に対応する領域、第５中足骨の骨頭に対応する領域を通って外側の縁に至っている中底であることが望ましい。

なお、芯材は、合成樹脂のみによって構成しても構わない。
さらに、上記実施の形態では多層構造として説明したが単層であってもよい。但し、芯材は単層の場合は設けないのが好ましい
上記の各実子の形態では、溝を上層部材の裏面に設けるとして説明したが、この上層部材の上面に設けてもよい。
また、靴は本底の裏面に内股用、中間用、外股用の溝、全部が入っているのを用いるのが好ましい。

また、本実施の形態のインソールは、ウレタン製が好ましく、表皮はポリエステルや綿、ウール等が好ましい。
また、ウレタンフォームの他に、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等の熱可塑性合性樹脂の発泡体又はブタンジェンラバー等のラバー素材の発泡体であってもよい。
なお、補強シェルは、厚さ１．０～３．０ｍｍで曲げ弾性率が１５０～３，０００ＭＰaのプラスチック又は強化繊維からなる。

２００ 産前用インソール
２１０ 前足部対応領域
２２０ 中足部対応領域
２３０ 後足部対応領域
ＢＣ 母趾球対応領域
ＳＢ 小趾球対応領域
Ｍ 第５中足骨窪み領域
Ｒａ 屈曲誘導溝

Claims (15)

1. 足に接触する表面側に、足のアーチを整える凸部が形成された中敷であって、
   表面側の第３中足骨骨頭が載置される領域の真裏となる第３中足骨骨頭裏箇所と、母趾球が載置される領域の真裏の母趾球裏領域の直後に対向する内縁の裏側の箇所との間に、直線状の屈曲誘導溝を形成している、ことを特徴とする中敷。
2. 後足部コーナの後端が、横アーチ用凸部における中敷中心線上の横アーチ用凸部の後部付近の高さ程度にされており、
   内縁及び外縁は、
   ヒール中心と前記後端との間の所定箇所に対向する位置から下がり出して前記後端に至っている、ことを特徴とする請求項１記載の中敷。
3. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）よりも高くしており、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨（５２）の中央付近と第３中足骨（５３）の中央付近との間であり、
   その高さは、この横アーチ用凸部の頂点に対向する外縁の箇所の高さ以下にされており、
   第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域の高さより僅かに高い程度にされており、
   さらに、表面側に第５中足骨（５５）の中央付近と前記後足部対応領域（２３０）の中央付近とを通り後端に至る略直線ラインから外縁に向かうに従って曲線状に高さが増加する長い外側傾斜領域を形成しており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さ程度にされており、
   さらに、
   裏面に、前記屈曲誘導溝を形成して産前用とした、請求項１記載の中敷。
4. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨（５２）の中央付近と第３中足骨（５３）の中央付近との間であり、
   その高さは、この横アーチ用凸部の頂点に対向する内縁の箇所と同程度の高さにされており、
   第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間に対応する箇所の高さは、この箇所に対向する外側コーナの箇所と同程度にされており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域の高さ程度にされており、
   さらに、
   裏面側に、前記屈曲誘導溝を形成して、産後用とした、ことを特徴とする請求項1記載の中敷。
5. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間であり、
   その高さは、内側縦アーチ凸部の頂点と同程度の高さにされており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さ程度にされており、
   さらに、
   裏面側に、前記屈曲誘導溝を形成して、外反母趾対策用とした、ことを特徴とする請求項1記載の中敷。
6. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
   前記横アーチ用凸部の第２中足骨骨頭と第３中足骨骨頭との間に対応する箇所の高さは前足部対応領域の高さより僅かに高い程度にされており、外縁方向の縁を前記前足部対応領域の高さ程度にした偏平足対策用傾斜面であり、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さと同程度にされており、
   さらに、
   裏面に、前記屈曲誘導溝を形成して、産前用とした、請求項１記載の中敷。
7. 表面側に前足部対応領域よりも高い段差の凸領域部が形成されており、
   前記凸領域部は、
   第２中足骨骨（５２）の中央付近と第３中足骨（５３）の中央付近との間に対応する中足骨痛領域を除いて母趾球対応領域及び小趾球対応領域を凸部に形成して、前記中足骨痛領域の直後に横アーチ用部を形成しており、さらに、
   この曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して前記足のアーチを整える凸部を形成しており、
   表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨の中央付近と第３中足骨の中央付近との間であり、その高さは、内側縦アーチ凸部の頂点よりも高くされており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さより僅かに高い程度にされており、
   さらに、
   裏面側に、前記屈曲誘導溝を形成して、中足骨痛対策用とした、ことを特徴とする請求項1記載の中敷
8. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第３中足骨骨頭の直後付近と第４中足骨骨頭の直後付近との間であり、
   その高さは、内側縦アーチ凸部の頂点と同程度の高さにされており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さ程度にされており、
   さらに、
   裏面側に、前記屈曲誘導溝を形成して、外反母趾対策用とした、ことを特徴とする請求項1記載の中敷。
9. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
   踵部対応領域の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）と同程度にしており、
   前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨（５２）の中央付近と第３中足骨（５３）の中央付近との間であり、
   その高さは、内側縦アーチ用凸部の頂点と同程度の高さにされており、
   外側コーナは、第５中足骨（５５）の中央付近に対向する外縁の箇所から次第に高さが増加させられており、
   さらに、裏面側の第５中足骨骨頭に対向する外縁の裏側の箇所から後足部対応領域（２３０）の裏側の中央付近を通り後端に至る範囲が外縁に向かうに従って高さが直線状に増加する長い膝痛対策用裏側傾斜領域を形成しており、
   第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）よりも僅かに高くされており、
   さらに、
   裏面に、前記屈曲誘導溝を形成して膝痛対策用とした、請求項１記載の中敷。
10. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
    表面側の後足部対応領域（２３０）の中央付近の高さを前足部対応領域（２１０）の高さと同程度に形成して、この後足部対応領域（２３０）を略平坦状にして後足部コーナで囲んでおり、
    前記横アーチ用凸部の第２中足骨の中央付近と第３中足骨の中央付近の間の高さは、偏平足用の高さより僅かに高い程度にして、その外縁方向の縁の高さを前記前足部対応領域の高さ程度にした腰痛対策用傾斜面であり、
    第５中足骨骨底対応領域は、前足部対応領域（２１０）の高さと同程度にされており、
    さらに、
    裏面に、前記屈曲誘導溝（Ｒａ）を形成して腰痛対策用とした、請求項１記載の中敷。
11. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、さらに、後足部コーナ及び裏面にＯ脚対策用傾斜領域が形成されており、
    踵部対応領域は、前記Ｏ脚対策用傾斜領域を除く領域の高さが前足部対応領域の高さと同程度にされており、
    前記Ｏ脚対策用傾斜領域は、
    第５中足骨骨頭の裏面の箇所から前記踵部対応領域の中央付近を通って後端に至る直線と、この直線に対抗する外縁との範囲が前記直線から次第に下方側に高さが増加させられて形成されており、
    前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間であり、その高さは、前足部対応領域より僅かに高い程度にされており、
    さらに、
    裏面に、前記屈曲誘導溝を形成して、Ｏ脚対策用とした、請求項１記載の中敷。
12. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、さらに、後足部コーナ及び後足部対応領域に足底筋膜炎対策用凹部が形成されており、
    前記足底筋膜炎対策用凹部は、
    足の踵骨の踵骨隆起に対応する領域が所定の円状に凹んでおり、
    前記横アーチ用凸部の頂点は、第２中足骨骨頭の直後付近と第３中足骨骨頭の直後付近との間であり、その高さは、前足部対応領域より僅かに高い程度にされており、後足部対応領域の手前付近から次第に高さが低下させられており、
    さらに、
    裏面に、前記屈曲誘導溝を形成して足底筋膜炎対策用とした、請求項１又は2記載の中敷。
13. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
    表面側の外縁の領域に外側傾斜領域を成しており、
    この外側傾斜領域は、
    第５中足骨の中央付近から第５中足骨骨底の中央付近を通って後足部対応領域の中央付近を通る略直線状のラインと外縁との間が、この外縁に向かうに従って次第に高さが増 加させられた長手方向に長い斜面に形成されており、さらに、
    裏面に、前記屈曲誘導溝を形成してウォーキング用とした、請求項１記載の中敷。
14. 足のアーチを整える凸部は、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して形成しており、
    後足部対応領域が略平坦状に形成されており、さらに、拇指球対応領域には、「お椀」型に窪ませた擂鉢状凹部が形成されており、
    さらに、
    裏面に、前記屈曲誘導溝を形成してランニング用とした、請求項１記載の中敷。
    いる、ことを特徴とするゴルフ用インソール。
15. 上層部材と下層部材と表層部材とを圧着して形成しており、
    この下層部材は、上層部材よりも硬度があり、曲面的な横アーチ用凸部、内側縦アーチ用凸部及び外側縦アーチ凸部を連接して前記足のアーチを整える凸部を形成しており、前記下層部材の裏面に、前記屈曲誘導溝を形成している、ことを特徴とする請求項１記載の中敷。
    
    

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