JP2023026805A - Heat-conductive silicone composition and heat-conductive silicone cured material - Google Patents

Heat-conductive silicone composition and heat-conductive silicone cured material Download PDF

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    • C08L83/06Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups

Abstract

To provide a heat-conductive silicone composition capable of suppressing viscosity increase of a composition when exposed to a high temperature for a long time, or capable of suppressing its hardness increase when a cured material of the composition is exposed to a high temperature for a long time.SOLUTION: A heat-conductive silicone composition comprise (A) an organopolysiloxane represented by the following general formula (1), (B) an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (2), and (C) at least one heat-conductive filler selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and allotropes of carbon, wherein a total amount of components (A) and (B) is 3 to 90 mass% of all composition, and an amount of component (C) is 10 to 97 mass% of the total composition. R3bSiO(4-b)/2 (2)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、熱伝導性シリコーン組成物及び熱伝導性シリコーン硬化物に関する。 The present invention relates to a thermally conductive silicone composition and a cured thermally conductive silicone.

電子部品パッケージやパワーモジュールに共通する課題として、動作中の発熱及びそれによる性能の低下が広く知られており、これを解決するための手段として様々な放熱技術が用いられている。とりわけ、発熱部の付近に冷却部材を配置して両者を密接させたうえで、冷却部材から効率的に放熱する技術が一般的である。 Heat generation during operation and resulting deterioration in performance are widely known as problems common to electronic component packages and power modules, and various heat dissipation techniques are used as means for solving this problem. In particular, a technique of arranging a cooling member in the vicinity of the heat-generating part, bringing them into close contact with each other, and efficiently dissipating heat from the cooling member is common.

その際、発熱部と冷却部材との間に隙間があると、熱伝導率の悪い空気が介在することにより伝熱性が低下し、発熱部材の温度が十分に下がらなくなってしまう。このような空気の介在を防ぎ、熱伝導を向上させるため、熱伝導率がよく、部材の表面に追随性のある放熱材料、例えば放熱グリースや放熱シートが用いられている(例えば、特許文献1~9)。 At that time, if there is a gap between the heat-generating part and the cooling member, heat transfer is lowered due to the interposition of air with poor thermal conductivity, and the temperature of the heat-generating member cannot be lowered sufficiently. In order to prevent such intervening air and improve heat conduction, a heat-dissipating material with good thermal conductivity and conformability to the surface of the member, such as heat-dissipating grease and heat-dissipating sheet, is used (for example, Patent Document 1 ~9).

実際の電子部品パッケージやパワーモジュールの熱対策としては、薄く圧縮可能であり発熱部と冷却部材との隙間への侵入性に優れる放熱グリースが、放熱性能の観点から好適である。一方で放熱グリースは、発熱部での発熱と冷却を反復する熱履歴による膨張・収縮に起因する流れ出し(ポンピングアウト)を発生する場合があるが、付加硬化型の放熱グリースを採用し、所望の厚みに圧縮後に加熱硬化させることでポンピングアウトを発生しづらくし、電子部品パッケージやパワーモジュールの信頼性を高めることもできる(例えば、特許文献10)。 As a heat countermeasure for actual electronic component packages and power modules, thermal grease that is thin and compressible and has excellent penetrability into the gap between the heat-generating part and the cooling member is suitable from the viewpoint of heat radiation performance. On the other hand, heat dissipation grease may cause pumping out due to expansion and contraction due to the heat history of repeated heat generation and cooling in the heat generating part. By heat-hardening after compressing to a thickness, it is possible to make pumping-out difficult to occur and improve the reliability of electronic component packages and power modules (for example, Patent Document 10).

近年、電子部品パッケージやパワーモジュールの高出力・高性能化、自動運転車両用半導体やIoTといった新しいアプリケーションへ対応するため、放熱グリースには一層の高熱伝導率化の要求がある。高熱伝導率化達成のためには熱伝導性充填剤を多量に配合する必要があるが、多量の熱伝導性充填剤を配合した放熱グリースが発熱部に長期間実装されると、非硬化型の場合には粘度が上昇、硬化型の場合には硬度が上昇し、発熱部から剥離してしまい電子部品パッケージやパワーモジュールの信頼性を低下させるおそれがある。 In recent years, there has been a demand for even higher thermal conductivity for heat dissipation grease in order to respond to new applications such as high output and high performance electronic component packages and power modules, semiconductors for self-driving vehicles, and IoT. In order to achieve high thermal conductivity, it is necessary to add a large amount of thermally conductive filler. In the case of (2), the viscosity increases, and in the case of the curable type, the hardness increases, and there is a risk that the adhesive will peel off from the heat-generating portion and reduce the reliability of the electronic component package or power module.

上記の背景から、多量の熱伝導性充填剤を配合して高熱伝導率を有しながらも、高温に長時間曝された場合の組成物の粘度または硬化物の硬度上昇を抑制可能な熱伝導性シリコーン組成物が求められている。 Based on the above background, we have developed a heat conductive material that can suppress the increase in the viscosity of the composition or the hardness of the cured product when exposed to high temperatures for a long time while having high thermal conductivity by blending a large amount of thermally conductive filler. There is a need for flexible silicone compositions.

特開2002-327116号公報JP-A-2002-327116 特開2004-130646号公報JP-A-2004-130646 特開2009-234112号公報JP 2009-234112 A 特開2009-209230号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-209230 特開2010-095730号公報JP 2010-095730 A 特開2008-031336号公報JP 2008-031336 A 特開2007-177001号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-177001 特開2008-260798号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-260798 特開2009-209165号公報JP 2009-209165 A 特開2016-053140号公報JP 2016-053140 A

従って、本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、高温に長時間曝された場合の組成物の粘度上昇を抑制可能であるか、又は、組成物の硬化物が高温に長時間曝された場合にその硬度上昇を抑制可能な熱伝導性シリコーン組成物を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of suppressing the viscosity increase of the composition when exposed to high temperatures for a long time, or the cured product of the composition is exposed to high temperatures for a long time. An object of the present invention is to provide a thermally conductive silicone composition capable of suppressing an increase in hardness when it is used.

上記課題を解決するために、本発明では、
(A)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、

Figure 2023026805000001
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、Rは、オキシラン環を有する基であり、Xは、ヘテロ原子を含んでもよい炭素原子数1~20のアルキレン基であり、aは5~200の整数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表されるオルガノポリシロキサン、
SiO(4-b)/2 (2)
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、bは1.8~2.2の数である)、及び
(C)金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属窒化物、金属炭化物、及び炭素の同素体からなる群より選ばれる少なくとも1種の熱伝導性充填剤、
を含有し、
(A)成分及び(B)成分の合計の配合量が、組成物全体に対し3~90質量%であり、
(C)成分の配合量が、組成物全体に対し10~97質量%のものであることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物を提供する。 In order to solve the above problems, in the present invention,
(A) an organopolysiloxane represented by the following general formula (1);
Figure 2023026805000001
(In the formula, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, R 2 is a group having an oxirane ring, and X may contain a heteroatom. an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a is an integer of 5 to 200.)
(B) an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (2);
R 3 b SiO (4-b)/2 (2)
(wherein R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and b is a number from 1.8 to 2.2), and (C) a metal , at least one thermally conductive filler selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and carbon allotropes;
contains
The total amount of component (A) and component (B) is 3 to 90% by mass with respect to the entire composition,
Provided is a thermally conductive silicone composition in which the amount of component (C) is 10 to 97% by mass based on the total composition.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物であれば、高温に長時間曝された場合の組成物の粘度上昇又は硬化物の硬度上昇を抑制可能である。そのため、実装される電子部品パッケージやパワーモジュールの信頼性を向上することができる。 With the thermally conductive silicone composition of the present invention, it is possible to suppress an increase in the viscosity of the composition or an increase in the hardness of the cured product when exposed to high temperatures for a long period of time. Therefore, the reliability of the mounted electronic component package or power module can be improved.

また、本発明は、前記(B)成分が、1分子中に少なくとも2個の炭素原子数2~18の脂肪族不飽和炭化水素基を有し、さらに、
(D)1分子中に2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(B)成分中の脂肪族不飽和炭化水素基の個数の合計に対するケイ素原子に結合した水素原子の個数が0.5~5となる量、及び
(E)白金族金属触媒:有効量
を含むことができる。
Further, in the present invention, the component (B) has at least two aliphatic unsaturated hydrocarbon groups having 2 to 18 carbon atoms in one molecule, and
(D) Organohydrogenpolysiloxane having two or more silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule: Hydrogen atoms bonded to silicon atoms relative to the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups in component (B) and (E) a platinum group metal catalyst: an effective amount.

この場合、本発明の熱伝導性シリコーン組成物は付加硬化型となり、この付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物を硬化して得られる熱伝導性シリコーン硬化物は、高温に長時間曝された場合の硬度上昇を抑制可能である。そのため、実装される電子部品パッケージやパワーモジュールの信頼性を向上することができる。 In this case, the thermally conductive silicone composition of the present invention becomes addition-curable, and the cured thermally conductive silicone product obtained by curing this addition-curable thermally conductive silicone composition does not react well when exposed to high temperatures for a long period of time. It is possible to suppress the increase in hardness of Therefore, the reliability of the mounted electronic component package or power module can be improved.

前記付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物は、さらに、(F)アセチレン化合物、窒素化合物、有機リン化合物、オキシム化合物及び有機クロロ化合物からなる群より選択される1種以上の付加硬化反応制御剤を含有することが好ましい。 The addition curing thermally conductive silicone composition further contains (F) one or more addition curing reaction controllers selected from the group consisting of acetylene compounds, nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, oxime compounds and organic chloro compounds. It is preferable to contain.

このような付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物によれば、保存安定性および作業性を向上することができる。 Storage stability and workability can be improved with such an addition-curable thermally conductive silicone composition.

また本発明では、前記付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物の硬化物であることを特徴とする熱伝導性シリコーン硬化物を提供する。 The present invention also provides a cured thermally conductive silicone product, which is a cured product of the addition-curable thermally conductive silicone composition.

本発明の熱伝導性シリコーン硬化物は、高温に長時間曝された場合の硬度上昇が小さく、放熱材料として有効である。 The thermally conductive silicone cured product of the present invention exhibits little increase in hardness when exposed to high temperatures for a long period of time, and is effective as a heat dissipation material.

以上のように、本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、非硬化型の場合には高温に長時間曝された場合の組成物の粘度上昇を抑制することができ、また、硬化型の場合には本発明の熱伝導性シリコーン組成物から得られる熱伝導性シリコーン硬化物は、高温に長時間曝された場合の硬度上昇が小さい。このため、非硬化型、硬化型いずれの熱伝導性シリコーン組成物であっても高い信頼性が求められる電子部品パッケージやパワーモジュールに使用する放熱材料として好適である。 As described above, the thermally conductive silicone composition of the present invention can suppress an increase in the viscosity of the composition when exposed to high temperatures for a long period of time in the case of the non-curable type, and In particular, the cured thermally conductive silicone material obtained from the thermally conductive silicone composition of the present invention exhibits a small increase in hardness when exposed to high temperatures for a long period of time. For this reason, both non-curable and curable thermally conductive silicone compositions are suitable as heat-dissipating materials for use in electronic component packages and power modules that require high reliability.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、オキシラン環を有するオルガノポリシロキサン、所定の構造のオルガノポリシロキサン及び熱伝導性充填剤を所定の割合で含有する熱伝導性シリコーン組成物が、高温に長時間曝された場合の組成物の粘度上昇を抑制可能であり、また、高温に長時間曝された場合の硬度上昇の小さい硬化物を与えることを見出し、本発明を成すに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found a thermally conductive polysiloxane containing an organopolysiloxane having an oxirane ring, an organopolysiloxane having a predetermined structure, and a thermally conductive filler in a predetermined ratio. The present inventors have found that a silicone composition can suppress an increase in the viscosity of the composition when exposed to high temperatures for a long period of time and provide a cured product with a small increase in hardness when exposed to high temperatures for a long period of time. came to form

即ち、本発明は
(A)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、

Figure 2023026805000002
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、Rは、オキシラン環を有する基であり、Xは、ヘテロ原子を含んでもよい炭素原子数1~20のアルキレン基であり、aは5~200の整数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表されるオルガノポリシロキサン、
SiO(4-b)/2 (2)
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、bは1.8~2.2の数である)、及び
(C)金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属窒化物、金属炭化物、及び炭素の同素体からなる群より選ばれる少なくとも1種の熱伝導性充填剤、
を含有し、
(A)成分及び(B)成分の合計の配合量が、組成物全体に対し3~90質量%であり、
(C)成分の配合量が、組成物全体に対し10~97質量%のものであることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物を提供する。 That is, the present invention provides (A) an organopolysiloxane represented by the following general formula (1),
Figure 2023026805000002
(In the formula, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, R 2 is a group having an oxirane ring, and X may contain a heteroatom. an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a is an integer of 5 to 200.)
(B) an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (2);
R 3 b SiO (4-b)/2 (2)
(wherein R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and b is a number from 1.8 to 2.2), and (C) a metal , at least one thermally conductive filler selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and carbon allotropes;
contains
The total amount of component (A) and component (B) is 3 to 90% by mass with respect to the entire composition,
Provided is a thermally conductive silicone composition in which the amount of component (C) is 10 to 97% by mass based on the total composition.

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Although the present invention will be described in detail below, the present invention is not limited thereto.

熱伝導性シリコーン組成物
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、後述する(A)成分、(B)成分、及び(C)成分を含有し、(A)成分及び(B)成分の合計の配合量が、組成物全体に対し3~90質量%であり、(C)成分の配合量が、組成物全体に対し10~97質量%のものであることを特徴とする。この熱伝導性シリコーン組成物は、上記(A)~(C)成分、及び必要に応じて加える他の成分の構成及びその比率を調整することで、後述するように非硬化型にも、硬化型にもすることもできる。
例えば、(B)成分が、1分子中に少なくとも2個の炭素原子数2~18の脂肪族不飽和炭化水素基を有し、さらに、(D)1分子中に2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(B)成分中の脂肪族不飽和炭化水素基の個数の合計に対するケイ素原子に結合した水素原子の個数が0.5~5となる量、及び(E)白金族金属触媒:有効量、を含むものである場合には、付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物とすることができる。
以下、各成分について説明する。
Thermally Conductive Silicone Composition The thermally conductive silicone composition of the present invention contains components (A), (B), and (C), which will be described later. The blending amount is 3 to 90% by mass of the entire composition, and the blending amount of component (C) is 10 to 97% by mass of the entire composition. By adjusting the composition and ratio of the above components (A) to (C) and other components added as necessary, this thermally conductive silicone composition can be a non-curable type or a curable type as described later. It can also be a mold.
For example, component (B) has at least two aliphatic unsaturated hydrocarbon groups having 2 to 18 carbon atoms in one molecule, and (D) has two or more silicon atoms in one molecule. Organohydrogenpolysiloxane having bonded hydrogen atoms: an amount such that the number of hydrogen atoms bonded to silicon atoms is 0.5 to 5 relative to the total number of aliphatic unsaturated hydrocarbon groups in component (B), and (E) a platinum group metal catalyst: when it contains an effective amount, it can be an addition-curable thermally conductive silicone composition.
Each component will be described below.

[(A)成分]
(A)成分は、下記一般式(1)で表される、オキシラン環含有基(エポキシ基)を有するオルガノポリシロキサンであり、後述する熱伝導性充填剤の表面を処理することにより組成物への熱伝導性充填剤の高充填化を補助する役割を担う成分である。

Figure 2023026805000003
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、Rは、オキシラン環を有する基であり、Xは、ヘテロ原子を含んでもよい炭素原子数1~20のアルキレン基であり、aは5~200の整数である。) [(A) component]
Component (A) is an organopolysiloxane having an oxirane ring-containing group (epoxy group) represented by the following general formula (1). It is a component that plays a role in assisting high filling of the thermally conductive filler.
Figure 2023026805000003
(In the formula, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, R 2 is a group having an oxirane ring, and X may contain a heteroatom. an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a is an integer of 5 to 200.)

前記Rとしては、好ましくは炭素原子数1~10、さらに好ましくは炭素原子数1~8の、非置換又は置換の1価炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、又はこれらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えば、クロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等が挙げられる。特にはメチル基であることが好ましい。 R 1 is preferably an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms. For example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group; Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group and phenylpropyl group; substituted with a halogen atom, a cyano group, etc., such as a chloromethyl group, a chloropropyl group, a bromoethyl group, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group, and the like. A methyl group is particularly preferred.

なお、上記Rは非置換または置換の1価炭化水素基であって、Rが結合するケイ素原子は、Rを構成する炭素原子と直接結合している。つまり、Rはアルコキシ基やアリーロキシ基とならず、これら基と明確に区別される。 The above R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and the silicon atom to which R 1 is bonded is directly bonded to the carbon atom constituting R 1 . That is, R 1 does not become an alkoxy group or an aryloxy group, and is clearly distinguished from these groups.

前記Rのオキシラン環を有する基は特に限定されないが、オキシラン(エチレンオキサイド)や、オキシラン環を1つ以上有する直鎖、分岐又は環状の炭化水素から水素原子を1つ取り除いた基が挙げられる。前記炭化水素は、更にハロゲン原子、シアノ基、フェニル基などの芳香族基などの置換基で置換されていてもよい。
このようなオキシラン環を有する炭化水素基としては、例えば、エポキシプロパン、1,2-エポキシブタン、2,3-エポキシブタン、3-メチル-1,2-エポキシブタン、などのエポキシアルカン、エポキシシクロペンタン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタン、エポキシシクロオクタン、エポキシシクロノナン、エポキシシクロデカン、エポキシシクロウンデカン、エポキシシクロドデカンなどのエポキシシクロアルカン、エポキシシクロペンテン、エポキシシクロヘキセン、エポキシシクロヘプテンなどのエポキシシクロアルケン、エポキシエチルベンゼン、1-フェニル-1,2-エポキシプロパンなどの芳香族含有炭化水素のエポキシドから水素原子を1つ取り除いた基が挙げられる。
また、オキシラン環を有する基は、その中に2つ以上のオキシラン環を有してもよく、さらに、酸素原子や窒素原子などのヘテロ原子で置換されていてもよいし、ヘテロ原子が炭素-炭素結合間や炭素-水素結合間に介在してもよい。このようなオキシラン環を有する基としては、ジエポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘキサノール、エポキシシクロヘキサノン、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロパンジオールモノグリシジルエーテルなどのグリシジルエーテル類、エポキシピペリジンなどから水素原子を1つ取り除いた基が挙げられる。
The group having an oxirane ring for R 2 is not particularly limited, but includes oxirane (ethylene oxide) and a group obtained by removing one hydrogen atom from a linear, branched or cyclic hydrocarbon having one or more oxirane rings. . The hydrocarbon may be further substituted with a substituent such as a halogen atom, a cyano group, an aromatic group such as a phenyl group, and the like.
Examples of hydrocarbon groups having such an oxirane ring include epoxyalkanes such as epoxypropane, 1,2-epoxybutane, 2,3-epoxybutane, 3-methyl-1,2-epoxybutane, epoxycyclo epoxycycloalkanes such as pentane, epoxycyclohexane, epoxycycloheptane, epoxycyclooctane, epoxycyclononane, epoxycyclodecane, epoxycycloundecane and epoxycyclododecane; epoxycycloalkenes such as epoxycyclopentene, epoxycyclohexene and epoxycycloheptene; Examples include groups obtained by removing one hydrogen atom from epoxides of aromatic-containing hydrocarbons such as epoxyethylbenzene and 1-phenyl-1,2-epoxypropane.
In addition, the group having an oxirane ring may have two or more oxirane rings in it, and further may be substituted with a heteroatom such as an oxygen atom or a nitrogen atom, or the heteroatom may be a carbon- It may intervene between carbon bonds or between carbon-hydrogen bonds. Examples of groups having such an oxirane ring include glycidyl ethers such as diepoxycyclohexane, epoxycyclohexanol, epoxycyclohexanone, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, ethylene glycol monoglycidyl ether, propanediol monoglycidyl ether, and epoxy piperidine. A group obtained by removing one hydrogen atom from is exemplified.

前記Rのオキシラン環を有する基としては、例えば下記式(3)及び(4)で示されるものが挙げられる。

Figure 2023026805000004
Examples of the group having an oxirane ring for R 2 include those represented by the following formulas (3) and (4).
Figure 2023026805000004

Xは、ヘテロ原子を含んでもよい炭素原子数1~20、好ましくは炭素原子数1~8のアルキレン基であり、Xの構造は直鎖状、分岐鎖状等、特に限定されるものではないが、好ましくは直鎖状である。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子や硫黄原子などが挙げられる。Xとして、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル基、アミド基などを有してもよいアルキレン基が挙げられ、具体的には、下記に示すものが例示できる。 X is an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, preferably 1 to 8 carbon atoms, and the structure of X is not particularly limited and may be linear, branched, or the like. is preferably linear. Heteroatoms include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and the like. Examples of X include an alkylene group which may have an ether bond, a thioether bond, an ester group, an amide group, etc. Specific examples thereof include those shown below.

-(CH
(xは1~20の整数である。)
-CHCHCHOCH
-( CH2 ) x-
(x is an integer from 1 to 20.)
-CH2CH2CH2OCH2- _ _ _

-X基全体としては、例えば3-グリシドキシプロピル基、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチル基、5,6-エポキシヘキシル基、9,10-エポキシデシル基などが挙げられる。 The R 2 -X group as a whole includes, for example, a 3-glycidoxypropyl group, a 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl group, a 5,6-epoxyhexyl group, a 9,10-epoxydecyl group, and the like. .

aは、5~200、好ましくは10~100の整数である。aの値が5より小さいと、(A)成分が組成物からブリードしやすくなり、信頼性が低下するおそれがある。また、200より大きいと、熱伝導性充填剤との濡れ性が不足するおそれがある。 a is an integer of 5-200, preferably 10-100. If the value of a is less than 5, the component (A) tends to bleed out of the composition, possibly reducing reliability. On the other hand, if it is more than 200, the wettability with the thermally conductive filler may be insufficient.

(A)成分は1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。 (A) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.

(A)成分は、上記一般式(1)で表されるオキシラン環を有するオルガノポリシロキサンであり、ケイ素原子に結合する1価炭化水素基(R)はアルコキシ基やアリーロキシ基とならず、エポキシ基含有シランカップリング剤とは異なる。エポキシ基含有シランカップリング剤は、水単独又は水とアルコールでは加水分解が進まないため触媒が必要であるが、(A)成分は、アルコキシ基を含まずとも、また、触媒(加水分解触媒やエポキシ開環触媒)が共存しなくとも、熱伝導性充填剤の表面を処理することが可能である。このため(A)成分は、組成物への熱伝導性充填剤の高充填化を補助する役割を十分に担うことができる。 Component (A) is an organopolysiloxane having an oxirane ring represented by the above general formula (1), and the monovalent hydrocarbon group (R 1 ) bonded to the silicon atom is neither an alkoxy group nor an aryloxy group, It is different from epoxy group-containing silane coupling agents. Epoxy group-containing silane coupling agents require a catalyst because hydrolysis does not proceed with water alone or with water and alcohol. It is possible to treat the surface of the thermally conductive filler without the coexistence of an epoxy ring-opening catalyst. For this reason, the component (A) can sufficiently play a role of assisting high filling of the thermally conductive filler in the composition.

[(B)成分]
(B)成分は、下記平均組成式(2)で表されるオルガノポリシロキサンであり、本発明の熱伝導性シリコーン組成物の粘度を調整し、粘着性を付与する。また、後述する(D)成分を配合する場合には架橋を形成するベースオイルとしての役割を担う成分である。
[(B) component]
Component (B) is an organopolysiloxane represented by the following average compositional formula (2), which adjusts the viscosity of the thermally conductive silicone composition of the present invention and imparts tackiness. Moreover, when blending the component (D), which will be described later, it is a component that plays a role as a base oil that forms crosslinks.

SiO(4-b)/2 (2)
(式中、Rは独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、bは1.8~2.2の数である)
R 3 b SiO (4-b)/2 (2)
(Wherein, R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and b is a number of 1.8 to 2.2)

は、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、好ましくは炭素原子数1~10、さらに好ましくは炭素原子数1~8の、非置換又は置換の1価炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、又はこれらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えば、クロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等が挙げられる。 R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, unsubstituted or substituted is a monovalent hydrocarbon group. For example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group; Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group and phenylpropyl group; substituted with a halogen atom, a cyano group, etc., such as a chloromethyl group, a chloropropyl group, a bromoethyl group, a trifluoropropyl group, a cyanoethyl group, and the like.

また、Rは、炭素原子数2~18の脂肪族不飽和炭化水素基でもよい。脂肪族不飽和炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、及びオクテニル基等のアルケニル基等が挙げられる。 R 3 may also be an aliphatic unsaturated hydrocarbon group having 2 to 18 carbon atoms. The aliphatic unsaturated hydrocarbon group includes alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group and octenyl group.

以上の中でも、Rとしては、特にはメチル基、ビニル基であることが好ましい。 Among these groups, R 3 is preferably a methyl group or a vinyl group.

bは、1.8~2.2の数であり、作業性の観点から1.9~2.1の数であることが好ましい。 b is a number of 1.8 to 2.2, preferably a number of 1.9 to 2.1 from the viewpoint of workability.

(B)成分の25℃での動粘度は特に限定されるものではないが、好ましくは60~1,000,000mm/s、より好ましくは100~100,000mm/sである。動粘度が60mm/s以上であれば、シリコーン組成物の物理的特性が良好であり、1,000,000mm/s以下であれば、シリコーン組成物の伸展性が良好になる。
本発明において、動粘度は、オストワルド粘度計により測定した25℃における値である(以下、同じ)。
The kinematic viscosity of component (B) at 25° C. is not particularly limited, but is preferably 60 to 1,000,000 mm 2 /s, more preferably 100 to 100,000 mm 2 /s. When the kinematic viscosity is 60 mm 2 /s or more, the physical properties of the silicone composition are good, and when it is 1,000,000 mm 2 /s or less, the spreadability of the silicone composition is good.
In the present invention, kinematic viscosity is a value at 25° C. measured with an Ostwald viscometer (same below).

(B)成分は、上記性質を有するものであればその分子構造は特に限定されず、直鎖状構造、分岐鎖状構造、一部分岐状構造又は環状構造を有する直鎖状構造等が挙げられる。特には、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状構造を有するのが好ましい。該直鎖状構造を有するオルガノポリシロキサンは、部分的に分岐状構造又は環状構造を有していてもよい。なお、(B)成分は、オキシラン環(エポキシ基)を有さない。この点で、(A)成分と(B)成分は明確に区別される。 The molecular structure of the component (B) is not particularly limited as long as it has the properties described above. . In particular, it preferably has a linear structure in which the main chain consists of repeating diorganosiloxane units and both ends of the molecular chain are blocked with triorganosiloxy groups. The organopolysiloxane having a linear structure may partially have a branched structure or a cyclic structure. In addition, the (B) component does not have an oxirane ring (epoxy group). In this respect, the (A) component and the (B) component are clearly distinguished.

(B)成分は1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。 (B) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types as appropriate.

(A)成分及び(B)成分の合計の配合量は、組成物全体に対し3~90質量%であり、7~20質量%が好ましい。90質量%以下であれば熱伝導性に優れたものとなり、3質量%以上であれば作業性が良好なものとなる。一方、上記範囲以外では熱伝導性が不十分であったり、作業性が悪かったりする。 The total blending amount of components (A) and (B) is 3 to 90% by mass, preferably 7 to 20% by mass, based on the total composition. If it is 90% by mass or less, excellent thermal conductivity will be obtained, and if it is 3% by mass or more, workability will be good. On the other hand, if the content is outside the above range, the thermal conductivity may be insufficient, or the workability may be poor.

[(C)成分]
(C)成分は、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属窒化物、金属炭化物、及び炭素の同素体からなる群より選ばれる1種以上の熱伝導性充填剤である。例えば、アルミニウム、銀、銅、金属ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム(アルミナ)、二酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化鉄、水酸化アルミニウム、水酸化セリウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、ダイヤモンド、グラファイト、カーボンナノチューブ、グラフェン等が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上を適宜組み合わせて用いることができ、大粒子成分と小粒子成分を組み合わせたもの(異なる平均粒径を有する成分の組み合わせ)であることが好ましい。
[(C) component]
Component (C) is one or more thermally conductive fillers selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and allotropes of carbon. For example, aluminum, silver, copper, metallic silicon, zinc oxide, magnesium oxide, aluminum oxide (alumina), silicon dioxide, cerium oxide, iron oxide, aluminum hydroxide, cerium hydroxide, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, diamond , graphite, carbon nanotubes, graphene, and the like. These can be used singly or in combination of two or more, preferably a combination of a large particle component and a small particle component (combination of components having different average particle sizes).

大粒子成分の平均粒径は、0.1~300μmの範囲が好ましく、より好ましくは10~200μmの範囲、更に好ましくは10~150μmの範囲である。小粒子成分の平均粒径は、0.01μm~10μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1~5μmである。このような範囲であれば、組成物の粘度が高くなりすぎず、伸展性に優れ、また、得られる組成物が均一なものとなる。 The average particle size of the large particle component is preferably in the range of 0.1 to 300 μm, more preferably in the range of 10 to 200 μm, still more preferably in the range of 10 to 150 μm. The average particle diameter of the small particle component is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm. Within such a range, the viscosity of the composition does not become too high, the spreadability of the composition is excellent, and the resulting composition is uniform.

大粒子成分と小粒子成分の割合は特に限定されず、9:1~1:9(質量比)の範囲が好ましい。また、大粒子成分及び小粒子成分の形状は、球状、不定形状、針状等、特に限定されるものではない。 The ratio of the large particle component and the small particle component is not particularly limited, and is preferably in the range of 9:1 to 1:9 (mass ratio). Moreover, the shapes of the large particle component and the small particle component are not particularly limited, and may be spherical, irregular, acicular, or the like.

なお、平均粒径は、例えば、レーザー光回折法による粒度分布測定における体積基準の平均値(メジアン径)として求めることができる。 The average particle diameter can be obtained as a volume-based average value (median diameter) in particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method, for example.

(C)成分の配合量は、組成物全体に対し10~97質量%であり、40~95質量%が好ましく、70~90質量%がより好ましい。97質量%より多いと、組成物が伸展性の乏しいものとなるし、10質量%より少ないと熱伝導性に乏しいものとなる。 The amount of component (C) is 10 to 97% by mass, preferably 40 to 95% by mass, more preferably 70 to 90% by mass, based on the total composition. If it is more than 97% by mass, the composition will have poor extensibility, and if it is less than 10% by mass, it will have poor thermal conductivity.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、上記(B)成分が、1分子中に少なくとも2個の炭素原子数2~18の脂肪族不飽和炭化水素基を有する場合、上記成分の他に、必要に応じてさらに下記(D)成分および(E)成分を添加することにより、付加硬化型の熱伝導性シリコーン組成物とすることができる。以下、このような組成物を付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物ともいう。 In the thermally conductive silicone composition of the present invention, when the above component (B) has at least two aliphatic unsaturated hydrocarbon groups having 2 to 18 carbon atoms in one molecule, in addition to the above components, By adding the following components (D) and (E) as necessary, an addition-curable thermally conductive silicone composition can be obtained. Hereinafter, such a composition is also referred to as an addition curing thermally conductive silicone composition.

[(D)成分]
(D)成分は、ケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を1分子中に2個以上、特に好ましくは2~100個、さらに好ましくは2~50個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、分子中のSiH基が、上記(B)成分が脂肪族不飽和炭化水素基を有する場合に、白金族金属触媒(後述の(E)成分)の存在下に付加反応(ヒドロシリル化)し、架橋構造を形成できるものであればよい。
[(D) component]
Component (D) is an organohydrogenpolysiloxane having 2 or more silicon-bonded hydrogen atoms (SiH groups) per molecule, particularly preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50. In the organohydrogenpolysiloxane, the SiH groups in the molecule are added in the presence of a platinum group metal catalyst (component (E) described later) when the component (B) has an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. Any material can be used as long as it can react (hydrosilylate) to form a crosslinked structure.

前記オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、上記性質を有するものであればその分子構造は特に限定されず、直鎖状構造、分岐鎖状構造、環状構造、一部分岐状構造又は環状構造を有する直鎖状構造等が挙げられる。好ましくは直鎖状構造、環状構造である。 The molecular structure of the organohydrogenpolysiloxane is not particularly limited as long as it has the properties described above. structure and the like. A linear structure and a cyclic structure are preferred.

該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、25℃での動粘度が、好ましくは1~1,000mm/s、より好ましくは10~300mm/sである。前記動粘度が1mm/s以上であれば、シリコーン組成物の物理的特性が低下するおそれがなく、1,000mm/s以下であれば、シリコーン組成物の伸展性が乏しいものとなるおそれがない。 The organohydrogenpolysiloxane has a kinematic viscosity at 25° C. of preferably 1 to 1,000 mm 2 /s, more preferably 10 to 300 mm 2 /s. If the kinematic viscosity is 1 mm 2 / s or more, the physical properties of the silicone composition may not deteriorate. There is no

前記オルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子に結合した有機基としては、脂肪族不飽和炭化水素基以外の非置換又は置換の1価炭化水素基が挙げられる。特には、炭素原子数1~12、好ましくは炭素原子数1~10の、非置換又は置換の1価炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基、2-フェニルエチル基、2-フェニルプロピル基等のアラルキル基、これらの水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基、エポキシ環含有有機基(グリシジル基又はグリシジルオキシ基置換アルキル基)等で置換したもの、例えば、クロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基、2-グリシドキシエチル基、3-グリシドキシプロピル基、及び4-グリシドキシブチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、3-グリシドキシプロピル基が好ましい。 Examples of the organic groups bonded to the silicon atoms of the organohydrogenpolysiloxane include unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups other than aliphatic unsaturated hydrocarbon groups. In particular, it is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon radical having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms. For example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group and dodecyl group, aryl groups such as phenyl group, aralkyl groups such as 2-phenylethyl group and 2-phenylpropyl group, these hydrogen Those in which some or all of the atoms are substituted with halogen atoms such as fluorine, bromine, and chlorine, cyano groups, epoxy ring-containing organic groups (glycidyl groups or glycidyloxy group-substituted alkyl groups), etc., such as chloromethyl group and chloropropyl bromoethyl, trifluoropropyl, cyanoethyl, 2-glycidoxyethyl, 3-glycidoxypropyl, and 4-glycidoxybutyl groups. Among these, a methyl group and a 3-glycidoxypropyl group are preferred.

なお、エポキシ環含有有機基を持つオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、SiH基を有するから、SiH基を有さない上記(A)及び(B)成分と明確に区別される。 Organohydrogenpolysiloxane having an epoxy ring-containing organic group has SiH groups, and is therefore clearly distinguished from the components (A) and (B), which do not have SiH groups.

該オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1種単独でも2種以上を混合して使用してもよい。 The organohydrogenpolysiloxane may be used alone or in combination of two or more.

(D)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、(B)成分中の脂肪族不飽和炭化水素基の個数の合計に対する(D)成分中のSiH基の個数が0.5~5となる量、好ましくは0.7~4.5となる量、より好ましくは1~4となる量である。(D)成分の量が上記下限値以上であれば付加反応が十分に進行して架橋が十分になる。また、上記上限値以下であれば、架橋構造が不均一となったり、組成物の保存性が著しく悪化したりすることもない。 The amount of component (D) organohydrogenpolysiloxane to be blended is such that the number of SiH groups in component (D) relative to the total number of aliphatic unsaturated hydrocarbon groups in component (B) is 0.5 to 5. , preferably 0.7 to 4.5, more preferably 1 to 4. If the amount of component (D) is at least the above lower limit, the addition reaction will proceed sufficiently to achieve sufficient cross-linking. Moreover, when the content is equal to or less than the above upper limit, the crosslinked structure does not become non-uniform, and the storage stability of the composition is not significantly deteriorated.

[(E)成分]
(E)成分は白金族金属触媒であり、上記脂肪族不飽和炭化水素基を有する(B)成分と上記(D)成分との付加反応を促進するために機能する。白金族金属触媒は、付加反応に用いられる従来公知のものを使用することができる。例えば白金系、パラジウム系、ロジウム系の触媒が挙げられるが、中でも比較的入手しやすい白金又は白金化合物が好ましい。例えば、白金の単体、白金黒、塩化白金酸、白金-オレフィン錯体、白金-アルコール錯体、白金配位化合物等が挙げられる。白金族金属触媒は1種単独でも2種以上を組み合わせて使用してもよい。
[(E) Component]
Component (E) is a platinum group metal catalyst and functions to promote the addition reaction between component (B) having an aliphatic unsaturated hydrocarbon group and component (D). As the platinum group metal catalyst, conventionally known ones used for addition reactions can be used. For example, platinum-based, palladium-based, and rhodium-based catalysts can be used, but platinum or platinum compounds, which are relatively easily available, are preferred. Examples thereof include simple platinum, platinum black, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-alcohol complexes, and platinum coordination compounds. The platinum group metal catalysts may be used singly or in combination of two or more.

(E)成分の配合量は触媒としての有効量、即ち、付加反応を促進して本発明の熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物を硬化させるために必要な有効量であればよい。好ましくは、組成物全体に対し、白金族金属原子に換算した質量基準で0.1~500ppm、より好ましくは1~200ppm、さらに好ましくは10~100ppmである。触媒の量が上記下限値以上であれば触媒としての効果が十分得られる。また上記上限値以下であれば経済的である。 Component (E) may be added in an effective amount as a catalyst, that is, in an effective amount necessary to accelerate the addition reaction and cure the thermally conductive addition-curable silicone composition of the present invention. It is preferably 0.1 to 500 ppm, more preferably 1 to 200 ppm, and still more preferably 10 to 100 ppm based on the mass of platinum group metal atoms, relative to the entire composition. If the amount of the catalyst is at least the above lower limit, the effect as a catalyst can be sufficiently obtained. Moreover, if it is below the said upper limit, it will be economical.

[(F)成分]
本発明の付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物は、(F)アセチレン化合物、窒素化合物、有機リン化合物、オキシム化合物及び有機クロロ化合物からなる群より選択される1種以上の付加硬化反応制御剤を含有することが好ましい。
[(F) component]
The addition curable thermally conductive silicone composition of the present invention contains (F) one or more addition curing reaction inhibitors selected from the group consisting of acetylene compounds, nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, oxime compounds and organic chloro compounds. It is preferable to contain.

(F)成分は室温でのヒドロシリル化反応の進行を抑える反応制御剤であり、シェルフライフ、ポットライフを延長させるために添加することができる。該反応制御剤は、付加硬化型シリコーン組成物に使用される従来公知の反応制御剤を使用することができる。これには、例えば、アセチレンアルコール類(例えば、エチニルメチルデシルカルビノール、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール)等のアセチレン化合物、トリブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール等の各種窒素化合物(オキシム化合物を除く)、トリフェニルホスフィン等の有機リン化合物、オキシム化合物、有機クロロ化合物等が挙げられる。 Component (F) is a reaction control agent that suppresses the progress of the hydrosilylation reaction at room temperature, and can be added to prolong shelf life and pot life. As the reaction control agent, conventionally known reaction control agents used for addition curing silicone compositions can be used. These include, for example, acetylene compounds such as acetylene alcohols (eg, ethynylmethyldecylcarbinol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol), tributylamine, tetra Examples include various nitrogen compounds (excluding oxime compounds) such as methylethylenediamine and benzotriazole, organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine, oxime compounds, and organic chloro compounds.

(F)成分を配合する場合の配合量は、(B)成分のうち脂肪族不飽和炭化水素基を有する成分の合計100質量部に対し、0.05~5質量部が好ましく、より好ましくは0.1~2質量部である。反応制御剤の量が0.05質量部以上であれば、所望とする十分なシェルフライフ、ポットライフが得られ、また、5質量部以下であれば、シリコーン組成物の硬化性が低下するおそれがない。 When the component (F) is blended, the blending amount is preferably 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass with respect to the total 100 parts by mass of the component (B) having an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. It is 0.1 to 2 parts by mass. If the amount of the reaction control agent is 0.05 parts by mass or more, the desired sufficient shelf life and pot life can be obtained, and if it is 5 parts by mass or less, the curability of the silicone composition may decrease There is no

また反応制御剤は、シリコーン組成物への分散性を良くするために、オルガノ(ポリ)シロキサンやトルエン等で希釈して使用してもよい。 Also, the reaction control agent may be diluted with organo(poly)siloxane, toluene, or the like in order to improve its dispersibility in the silicone composition.

[その他の成分]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、さらに、必要に応じて上記(A)~(F)成分と異なるその他の成分を含むことができる。例えば、熱伝導性充填剤の充填性を向上する目的や、組成物に接着性を付与する目的で、加水分解性オルガノポリシロキサンや各種変成シリコーン、加水分解性オルガノシランを配合してもよい。さらに、組成物の粘度を調整するための溶剤を配合してもよい。さらに、シリコーン組成物の劣化を防ぐために、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール等の、従来公知の酸化防止剤を必要に応じて含有してもよい。さらに、染料、顔料、難燃剤、沈降防止剤、又はチクソ性向上剤等を、必要に応じて配合することができる。なお、上記加水分解性オルガノポリシロキサン、変成シリコーン及び加水分解性オルガノシランは、上記(A)、(B)及び(D)成分のいずれとも異なる。
[Other ingredients]
The thermally conductive silicone composition of the present invention may further contain other components different from the components (A) to (F) above, if necessary. For example, hydrolyzable organopolysiloxanes, various modified silicones, and hydrolyzable organosilanes may be blended for the purpose of improving the filling properties of the thermally conductive filler or imparting adhesiveness to the composition. Furthermore, a solvent may be added to adjust the viscosity of the composition. Furthermore, in order to prevent deterioration of the silicone composition, conventionally known antioxidants such as 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol may be contained as necessary. Furthermore, dyes, pigments, flame retardants, anti-settling agents, thixotropic agents, etc. can be blended as needed. The above hydrolyzable organopolysiloxane, modified silicone and hydrolyzable organosilane are different from any of the above components (A), (B) and (D).

シリコーン組成物を作製する工程
本発明におけるシリコーン組成物の製造方法について説明する。本発明におけるシリコーン組成物の製造方法は特に限定されるものではないが、上述の(A)~(C)成分、ならびに必要によりこれらに加えて(D)~(F)成分およびその他の成分を、例えば、トリミックス、ツウィンミックス、プラネタリーミキサー(いずれも(株)井上製作所製混合機の登録商標)、ウルトラミキサー(みずほ工業(株)製混合機の登録商標)、ハイビスミックス(プライミクス株式会社製混合機の登録商標)等の混合機等を用いて混合する方法が挙げられる。
Step of Preparing the Silicone Composition The method of preparing the silicone composition of the present invention will now be described. Although the method for producing the silicone composition of the present invention is not particularly limited, the above-described components (A) to (C) and, if necessary, components (D) to (F) and other components may be used. , For example, Trimix, Twinmix, Planetary Mixer (both registered trademarks of mixers manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.), Ultra Mixer (registered trademarks of mixers manufactured by Mizuho Industry Co., Ltd.), Hibismix (Primex Co., Ltd. A method of mixing using a mixer or the like such as a registered trademark of a mixer manufactured by the company.

また本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、加熱しながら混合してもよい。加熱条件は特に制限されるものでないが、温度は通常25~220℃、好ましくは40~200℃、特に好ましくは50~170℃であり、時間は通常3分~24時間、好ましくは5分~12時間、特に好ましくは10分~6時間である。また加熱時に脱気を行ってもよい。 Moreover, the thermally conductive silicone composition of the present invention may be mixed while being heated. The heating conditions are not particularly limited, but the temperature is usually 25 to 220° C., preferably 40 to 200° C., particularly preferably 50 to 170° C., and the time is usually 3 minutes to 24 hours, preferably 5 minutes to 12 hours, particularly preferably 10 minutes to 6 hours. Further, degassing may be performed during heating.

(D)~(F)成分を混合する場合は、予め(A)~(C)成分を25~220℃で加熱混合し、その後、(D)~(F)成分を混合することが好ましい。また、いずれか又は両方の混合時に脱気を行ってもよい。 When the components (D) to (F) are mixed, it is preferred that the components (A) to (C) are heated and mixed in advance at 25 to 220° C., and then the components (D) to (F) are mixed. Moreover, degassing may be performed at the time of mixing either or both.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、25℃にて測定される絶対粘度が、好ましくは10~1,000Pa・s、より好ましくは20~700Pa・s、さらに好ましくは30~500Pa・sである。絶対粘度が、10Pa・s以上であれば、形状保持が容易となり、熱伝導性充填剤の沈降を抑制することができ、作業性が悪くなるおそれがない。また絶対粘度が1,000Pa・s以下であれば、吐出や塗布が容易となる等、作業性が悪くなるおそれがない。前記絶対粘度は、上述した各成分の配合量を調整することにより得ることができる。前記絶対粘度は、例えばマルコム粘度計(タイプPC-1T)を用いて25℃で測定できる。 The thermally conductive silicone composition of the present invention has an absolute viscosity measured at 25° C. of preferably 10 to 1,000 Pa·s, more preferably 20 to 700 Pa·s, still more preferably 30 to 500 Pa·s. be. When the absolute viscosity is 10 Pa·s or more, shape retention is facilitated, sedimentation of the thermally conductive filler can be suppressed, and workability is not deteriorated. Further, if the absolute viscosity is 1,000 Pa·s or less, there is no possibility that workability will be deteriorated, such as easy discharge and application. The absolute viscosity can be obtained by adjusting the blending amount of each component described above. The absolute viscosity can be measured at 25° C. using, for example, a Malcolm viscometer (type PC-1T).

また本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、通常、0.5~20W/m・Kの熱伝導率を有することができる。なお熱伝導率はホットディスク法で測定した25℃での値である。 Also, the thermally conductive silicone composition of the present invention can generally have a thermal conductivity of 0.5 to 20 W/m·K. Note that the thermal conductivity is a value at 25° C. measured by the hot disk method.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、以上のように、各成分の構成及びその比率を調整することで、非硬化型にも、硬化型にもすることもできる。非硬化型熱伝導性シリコーン組成物は、高温に長時間曝された場合の組成物の粘度上昇を抑制可能である。また、硬化型熱伝導性シリコーン組成物は、その硬化物が高温に長時間曝された場合の硬度上昇を小さくすることができる。 As described above, the thermally conductive silicone composition of the present invention can be made into a non-curable type or a curable type by adjusting the composition of each component and their ratio. A non-curable thermally conductive silicone composition can suppress an increase in viscosity of the composition when exposed to high temperatures for a long period of time. In addition, the curable thermally conductive silicone composition can reduce the increase in hardness when the cured product is exposed to high temperatures for a long period of time.

このように本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、多量の熱伝導性充填剤を配合した放熱グリースが発熱部に長期間実装されても、非硬化型の場合には組成物の粘度が上昇せず、硬化型の場合には硬化物の硬度が上昇しないため、形成された熱伝導体が発熱部から剥離してしまうことはなく、電子部品パッケージやパワーモジュールの信頼性を十分に維持できる。 As described above, even if the thermally conductive silicone composition of the present invention contains a large amount of thermally conductive filler and is mounted on the heat generating part for a long period of time, the viscosity of the composition increases in the case of the non-curing type. In the case of a curable type, the hardness of the cured product does not increase, so the formed thermal conductor does not separate from the heat generating part, and the reliability of electronic component packages and power modules can be sufficiently maintained. .

以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、動粘度はオストワルド粘度計による25℃での値である。平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における体積基準の平均値(メジアン径)である。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. The kinematic viscosity is a value at 25° C. measured by an Ostwald viscometer. The average particle diameter is a volume-based average value (median diameter) in particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method.

下記実施例および比較例に用いられている(A)~(F)成分を下記に示す。 Components (A) to (F) used in the following examples and comparative examples are shown below.

(A)成分
A-1:下記式(5)で示されるオルガノポリシロキサン(25℃における動粘度=35mm/s)

Figure 2023026805000005
(A) Component A-1: Organopolysiloxane represented by the following formula (5) (kinematic viscosity at 25° C.=35 mm 2 /s)
Figure 2023026805000005

A-2:下記式(6)で示されるオルガノポリシロキサン(25℃における動粘度=30mm/s)

Figure 2023026805000006
A-2: Organopolysiloxane represented by the following formula (6) (kinematic viscosity at 25° C.=30 mm 2 /s)
Figure 2023026805000006

A-3:下記式(7)で示されるオルガノポリシロキサン(25℃における動粘度=70mm/s)

Figure 2023026805000007
A-3: Organopolysiloxane represented by the following formula (7) (kinematic viscosity at 25° C.=70 mm 2 /s)
Figure 2023026805000007

A-4(比較例):下記式(8)で示されるオルガノポリシロキサン
(25℃における動粘度=30mm/s)

Figure 2023026805000008
A-4 (Comparative Example): Organopolysiloxane represented by the following formula (8) (kinematic viscosity at 25° C.=30 mm 2 /s)
Figure 2023026805000008

(B)成分
B-1:両末端がトリメチルシリル基で封鎖され、25℃における動粘度が2,000mm/sのジメチルポリシロキサン
B-2:両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖され、25℃における動粘度が600mm/sのジメチルポリシロキサン
B-3:両末端がトリメチルシリル基で封鎖され、分子鎖中にビニル基を2個有する25℃における動粘度が600mm/sのジメチルポリシロキサン
(B) Component B-1: Dimethylpolysiloxane having both ends capped with trimethylsilyl groups and a kinematic viscosity of 2,000 mm 2 /s at 25°C B-2: Both ends capped with dimethylvinylsilyl groups, 25°C Dimethylpolysiloxane B-3 having a kinematic viscosity of 600 mm 2 /s at 25° C.: A dimethylpolysiloxane having both ends blocked with trimethylsilyl groups and having two vinyl groups in the molecular chain and having a kinematic viscosity of 600 mm 2 /s at 25° C.

B-4:両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖され、25℃における動粘度が400mm/sのジメチルポリシロキサン
B-5:両末端がジメチルビニルシリル基で封鎖され、25℃における動粘度が30mm/sのジメチルポリシロキサン
B-4: Dimethylpolysiloxane having both ends blocked with dimethylvinylsilyl groups and a kinematic viscosity at 25°C of 400 mm 2 /s B-5: Both ends blocked with dimethylvinylsilyl groups and a kinematic viscosity at 25°C of 30 mm 2 /s dimethylpolysiloxane

(C)成分
C-1:平均粒径20μmのアルミニウム粉末:平均粒径2μmのアルミニウム粉末=60:40(質量比)の混合物
C-2:平均粒径0.3μmの酸化亜鉛粉末
C-3:平均粒径75μmの酸化アルミニウム粉末:平均粒径45μmの酸化アルミニウム粉末:平均粒径10μmの酸化アルミニウム粉末:平均粒径1μmの酸化アルミニウム粉末=22:22:22:34(質量比)の混合物
C-4:平均粒径60μmの窒化アルミニウム粉末、平均粒径20μmの窒化アルミニウム粉末、平均粒径1μmの窒化アルミニウム粉末=50:20:30(質量比)の混合物
(C) Component C-1: Aluminum powder with an average particle size of 20 µm: Aluminum powder with an average particle size of 2 µm = 60:40 (mass ratio) C-2: Zinc oxide powder with an average particle size of 0.3 µm C-3 : Aluminum oxide powder with an average particle size of 75 µm: Aluminum oxide powder with an average particle size of 45 µm: Aluminum oxide powder with an average particle size of 10 µm: Aluminum oxide powder with an average particle size of 1 µm = 22:22:22:34 (mass ratio) mixture C-4: A mixture of aluminum nitride powder with an average particle size of 60 µm, aluminum nitride powder with an average particle size of 20 µm, and aluminum nitride powder with an average particle size of 1 µm = 50:20:30 (mass ratio)

(D)成分
D-1:下記式(9)で示されるメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサン
(25℃における動粘度=30mm/s)

Figure 2023026805000009
(D) Component D-1: Methylhydrogendimethylpolysiloxane represented by the following formula (9) (kinematic viscosity at 25°C = 30 mm 2 /s)
Figure 2023026805000009

D-2:下記式(10)で示されるメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサン
(25℃における動粘度=40mm/s)

Figure 2023026805000010
D-2: Methylhydrogendimethylpolysiloxane represented by the following formula (10) (kinematic viscosity at 25°C = 40 mm 2 /s)
Figure 2023026805000010

D-3:下記式(11)で示されるメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサン
(25℃における動粘度=130mm/s)

Figure 2023026805000011
D-3: Methylhydrogendimethylpolysiloxane represented by the following formula (11) (kinematic viscosity at 25°C = 130 mm 2 /s)
Figure 2023026805000011

D-4:下記式(12)で示されるメチルハイドロジェンジメチルポリシロキサン
(25℃における動粘度=25mm/s)

Figure 2023026805000012
D-4: Methylhydrogendimethylpolysiloxane represented by the following formula (12) (kinematic viscosity at 25°C = 25 mm 2 /s)
Figure 2023026805000012

(E)成分
E-1:白金-ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体を上記B-2と同じジメチルポリシロキサンに溶解した溶液(白金原子含有量:1質量%)
(E) Component E-1: A solution of a platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex dissolved in the same dimethylpolysiloxane as B-2 above (platinum atom content: 1% by mass)

(F)成分
F-1:下記式(13)で示される1-エチニル-1-シクロヘキサノール

Figure 2023026805000013
(F) Component F-1: 1-ethynyl-1-cyclohexanol represented by the following formula (13)
Figure 2023026805000013

F-2:下記式(14)で示されるエチニルメチルデシルカルビノール

Figure 2023026805000014
F-2: ethynylmethyldecylcarbinol represented by the following formula (14)
Figure 2023026805000014

熱伝導性シリコーン組成物の調製
上記(A)~(F)成分を、下記表1に示す配合量で、下記に示す方法で配合して熱伝導性シリコーン組成物(非硬化型及び付加硬化型)を調製した。
Preparation of Thermally Conductive Silicone Composition Components (A) to (F) above are blended in the amounts shown in Table 1 below, using the method shown below, to form a thermally conductive silicone composition (non-curing type and addition-curing type). ) was prepared.

(非硬化型熱伝導性シリコーン組成物)
[実施例1,2、比較例1]
5リットルのプラネタリーミキサー(井上製作所(株)製)に、(A)、(B)および(C)成分を加え、170℃で脱気しながら1時間混合した。40℃以下になるまで冷却した後、25℃混合し、非硬化型熱伝導性シリコーン組成物を調製した。
(Non-curing thermally conductive silicone composition)
[Examples 1 and 2, Comparative Example 1]
Components (A), (B) and (C) were added to a 5-liter planetary mixer (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.) and mixed at 170° C. for 1 hour while being degassed. After cooling to 40° C. or less, the mixture was mixed at 25° C. to prepare a non-curable thermally conductive silicone composition.

(付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物)
[実施例3~7、比較例2~4]
5リットルのプラネタリーミキサー(井上製作所(株)製)に、(A)、(B)および(C)成分を加え、170℃で脱気しながら1時間混合した。40℃以下になるまで冷却した後、(F)、(E)および(D)成分を加え、25℃で混合し、付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物を調製した。なお、SiH/SiViは(B)成分中のアルケニル基の個数の合計に対する(D)成分のSiH基の個数の合計の比である。
(Addition-curable thermally conductive silicone composition)
[Examples 3 to 7, Comparative Examples 2 to 4]
Components (A), (B) and (C) were added to a 5-liter planetary mixer (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.) and mixed at 170° C. for 1 hour while being degassed. After cooling to 40°C or less, components (F), (E) and (D) were added and mixed at 25°C to prepare an addition curing thermally conductive silicone composition. SiH/SiVi is the ratio of the total number of SiH groups in component (D) to the total number of alkenyl groups in component (B).

得られた組成物の絶対粘度、熱伝導率および硬化物の硬度を下記の方法に従い測定した結果を表1に示した。 Table 1 shows the results of measuring the absolute viscosity, thermal conductivity and hardness of the cured product of the resulting composition according to the following methods.

[絶対粘度]
各シリコーン組成物の絶対粘度を、マルコム粘度計(タイプPC-1T)を用いて25℃で測定した(ロータAで10rpm、ズリ速度6[1/s])。
また、実施例1,2および比較例1の非硬化型の熱伝導性シリコーン組成物について、各組成物を100mlガラスビーカーに充填し、150℃の環境に250時間曝した後の絶対粘度を測定した。
[Absolute viscosity]
The absolute viscosity of each silicone composition was measured at 25° C. using a Malcolm viscometer (type PC-1T) (rotor A, 10 rpm, shear rate 6 [1/s]).
In addition, the non-curable thermally conductive silicone compositions of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were filled in a 100 ml glass beaker and exposed to an environment of 150° C. for 250 hours before measuring the absolute viscosity. bottom.

[熱伝導率]
各組成物をキッチンラップで包み、熱伝導率を京都電子工業(株)製TPS-2500Sを用いてホットディスク法(ISO 22007-2)で測定した。
[Thermal conductivity]
Each composition was wrapped in kitchen wrap, and thermal conductivity was measured by the hot disk method (ISO 22007-2) using TPS-2500S manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

[硬度]
実施例3~7および比較例2~4の付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物を150℃で1時間加熱硬化して作成した6mm厚の硬化物を2枚重ねた試験片について、150℃の環境に250時間曝した前後の硬度をアスカーC硬度計を用いて測定した。
[hardness]
The addition-curable thermally conductive silicone compositions of Examples 3 to 7 and Comparative Examples 2 to 4 were cured by heating at 150°C for 1 hour. The hardness before and after exposure to the environment for 250 hours was measured using an Asker C hardness tester.

Figure 2023026805000015
Figure 2023026805000015

表1の結果より、本発明の要件を満たす実施例1~7の熱伝導性シリコーン組成物(実施例1,2は非硬化型、実施例3-7は付加硬化型)では、多量の熱伝導性充填剤を配合することで高熱伝導率を有しながらも、150℃で250時間保持後の粘度または硬度上昇が小さいことがわかる。即ち、電子部品パッケージやパワーモジュール実装時に高い信頼性が得られる。 From the results in Table 1, the thermally conductive silicone compositions of Examples 1 to 7 (Examples 1 and 2 are non-curing types, Examples 3-7 are addition-curing types) satisfying the requirements of the present invention show that a large amount of heat It can be seen that the increase in viscosity or hardness after being held at 150° C. for 250 hours is small, even though the addition of the conductive filler results in high thermal conductivity. That is, high reliability can be obtained when electronic component packages or power modules are mounted.

一方、(A-1)~(A-3)成分(本発明の(A)成分)を含まない比較例1~4の熱伝導性シリコーン組成物では、150℃で250時間保持後の粘度または硬度上昇が大きいことがわかる。即ち、電子部品パッケージやパワーモジュール実装時の信頼性が低下する恐れがある。 On the other hand, in the thermally conductive silicone compositions of Comparative Examples 1 to 4, which did not contain components (A-1) to (A-3) (component (A) of the present invention), the viscosity after holding at 150°C for 250 hours was It can be seen that the increase in hardness is large. That is, there is a possibility that the reliability at the time of electronic component package or power module mounting is lowered.

従って、本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、非硬化型の場合は高温に長時間曝された場合であっても組成物の粘度上昇を抑制可能であり、また硬化型の場合は高温に長時間曝された場合であっても硬化物の硬度上昇を抑制可能である。このような特性を有するため、高い信頼性が求められる電子部品パッケージやパワーモジュールに使用する放熱グリースとして特に好適に利用することができる。 Therefore, the thermally conductive silicone composition of the present invention, in the case of the non-curing type, can suppress the viscosity increase of the composition even when exposed to high temperatures for a long period of time, and in the case of the curable type, it is possible to suppress the increase in viscosity even when exposed to high temperatures. Even if it is exposed for a long time, it is possible to suppress the increase in hardness of the cured product. Due to such properties, it can be particularly suitably used as a heat dissipation grease for use in electronic component packages and power modules that require high reliability.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments. The above-described embodiment is an example, and any device having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibiting the same effect is the present invention. included in the technical scope of

Claims (4)

(A)下記一般式(1)で表されるオルガノポリシロキサン、
Figure 2023026805000016
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、Rは、オキシラン環を有する基であり、Xは、ヘテロ原子を含んでもよい炭素原子数1~20のアルキレン基であり、aは5~200の整数である。)
(B)下記平均組成式(2)で表されるオルガノポリシロキサン、
SiO(4-b)/2 (2)
(式中、Rは、独立に非置換または置換の炭素原子数1~18の1価炭化水素基であり、bは1.8~2.2の数である)、及び
(C)金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属窒化物、金属炭化物、及び炭素の同素体からなる群より選ばれる少なくとも1種の熱伝導性充填剤、
を含有し、
(A)成分及び(B)成分の合計の配合量が、組成物全体に対し3~90質量%であり、
(C)成分の配合量が、組成物全体に対し10~97質量%のものであることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物。
(A) an organopolysiloxane represented by the following general formula (1);
Figure 2023026805000016
(In the formula, R 1 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, R 2 is a group having an oxirane ring, and X may contain a heteroatom. an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a is an integer of 5 to 200.)
(B) an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (2);
R 3 b SiO (4-b)/2 (2)
(wherein R 3 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and b is a number from 1.8 to 2.2), and (C) a metal , at least one thermally conductive filler selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, metal carbides, and carbon allotropes;
contains
The total amount of component (A) and component (B) is 3 to 90% by mass with respect to the entire composition,
A thermally conductive silicone composition, wherein component (C) is contained in an amount of 10 to 97% by mass based on the total composition.
前記(B)成分が、1分子中に少なくとも2個の炭素原子数2~18の脂肪族不飽和炭化水素基を有し、さらに、
(D)1分子中に2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(B)成分中の脂肪族不飽和炭化水素基の個数の合計に対するケイ素原子に結合した水素原子の個数が0.5~5となる量、及び
(E)白金族金属触媒:有効量
を含むものであることを特徴とする請求項1に記載の熱伝導性シリコーン組成物。
The component (B) has at least two aliphatic unsaturated hydrocarbon groups having 2 to 18 carbon atoms in one molecule, and
(D) Organohydrogenpolysiloxane having two or more silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule: Hydrogen atoms bonded to silicon atoms relative to the total number of unsaturated aliphatic hydrocarbon groups in component (B) 2. The thermally conductive silicone composition according to claim 1, comprising an amount such that the number of atoms is 0.5 to 5, and (E) a platinum group metal catalyst: an effective amount.
さらに、(F)アセチレン化合物、窒素化合物、有機リン化合物、オキシム化合物及び有機クロロ化合物からなる群より選択される1種以上の付加硬化反応制御剤を含有することを特徴とする請求項2に記載の熱伝導性シリコーン組成物。 3. The composition according to claim 2, further comprising (F) one or more addition curing reaction inhibitors selected from the group consisting of acetylene compounds, nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, oxime compounds and organic chloro compounds. A thermally conductive silicone composition. 請求項2又は請求項3に記載の熱伝導性シリコーン組成物の硬化物であることを特徴とする熱伝導性シリコーン硬化物。 A cured thermally conductive silicone product, which is a cured product of the thermally conductive silicone composition according to claim 2 or 3.
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