JP2023013314A - Piezoelectric vibrator and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

To provide a crystal vibrator in which frequency fluctuation can be suppressed, and a method for manufacturing the same.SOLUTION: A piezoelectric vibrator (1) includes a piezoelectric vibration element (10) having a piezoelectric piece (11) and excitation electrodes (14a and 14b) configured so as to apply a voltage to the piezoelectric piece (11), a base member (30) mounted with the piezoelectric vibration element (10), conductive holding members (36a and 36b) for electrically connecting the piezoelectric vibration element (10) and the base member (30), a lid member (40) for storing the piezoelectric vibration element (10) in an internal space provided between the base member (30) and the lid member (40), and a joint member (50) for joining the base member (30) and the lid member (40), wherein in the internal space, a resin member (70) as a supply source of a resin film (CT) for coating a foreign matter existing in the internal space is provided in at least one of the base member (30) and the lid member (40).SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、圧電振動子及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a piezoelectric vibrator and its manufacturing method.

移動通信端末、通信基地局、家電などの各種電子機器において、タイミングデバイス、センサ、発振器などの様々な用途に圧電振動子が用いられている。 Piezoelectric vibrators are used for various purposes such as timing devices, sensors, and oscillators in various electronic devices such as mobile communication terminals, communication base stations, and home appliances.

圧電振動子の一例として、特許文献1には、矩形状の基板と、基板の上面の外周縁に沿って設けられた枠体と、基板の上面に設けられた電極パッドと、電極パッドに実装された水晶素子と、水晶素子を気密封止するための蓋体と、基板の上面に設けられた粘着層とを備える水晶デバイスが開示されている。 As an example of a piezoelectric vibrator, Patent Document 1 discloses a rectangular substrate, a frame body provided along the outer peripheral edge of the upper surface of the substrate, electrode pads provided on the upper surface of the substrate, and mounting on the electrode pads. A crystal device is disclosed that includes a crystal element mounted on a substrate, a lid for hermetically sealing the crystal element, and an adhesive layer provided on the upper surface of a substrate.

特開2018-74227号公報JP 2018-74227 A

特許文献1に記載の水晶デバイスによれば、基板の上面に設けた粘着層に異物を付着させることができるため、水晶素子の直下の異物が水晶素子へ付着することによって生じ得る周波数変動が抑制される。しかしながら、例えば、水晶素子に付着した異物が基板の粘着層以外の領域又は蓋体に飛散した場合や、異物が蓋体に付着している場合等には、異物を補足することが困難であり、水晶素子への異物の着脱によって周波数変動が生じる場合があった。 According to the crystal device described in Patent Document 1, foreign matter can be attached to the adhesive layer provided on the upper surface of the substrate, so that frequency fluctuation that can occur due to adhesion of foreign matter directly below the crystal element to the crystal element is suppressed. be done. However, for example, when foreign matter adhering to the crystal element scatters to a region other than the adhesive layer of the substrate or the lid, or when foreign matter adheres to the lid, it is difficult to capture the foreign matter. Also, there are cases where frequency fluctuation occurs due to attachment and detachment of foreign matter to and from the crystal element.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、周波数変動が抑制可能な圧電振動子及びその製造方法を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a piezoelectric vibrator capable of suppressing frequency fluctuations and a method of manufacturing the same.

本発明の一態様に係る圧電振動子は、圧電片及び圧電片に電圧を印加可能に構成された励振電極を有する圧電振動素子と、圧電振動素子が搭載されたベース部材と、圧電振動素子とベース部材とを電気的に接続する導電性保持部材と、ベース部材との間に設けられた内部空間に圧電振動素子を収容する蓋部材と、ベース部材と蓋部材とを接合する接合部材と、を備え、内部空間において、ベース部材及び蓋部材の少なくとも一方には、内部空間に存在する異物を被覆するための樹脂膜の供給源となる樹脂部材が設けられている。 A piezoelectric vibrator according to an aspect of the present invention includes a piezoelectric vibrating element having a piezoelectric piece and an excitation electrode configured to apply a voltage to the piezoelectric piece, a base member on which the piezoelectric vibrating element is mounted, and a piezoelectric vibrating element. a conductive holding member that electrically connects with the base member; a lid member that accommodates the piezoelectric vibrating element in an internal space provided between the base member and the base member; a bonding member that bonds the base member and the lid member; In the internal space, at least one of the base member and the lid member is provided with a resin member serving as a supply source of a resin film for covering foreign matter present in the internal space.

本発明の他の一態様に係る圧電振動子の製造方法は、ベース部材を準備することと、蓋部材を準備することと、ベース部材及び蓋部材の少なくとも一方に樹脂部材を設けることと、ベース部材に圧電振動素子を搭載することと、ベース部材及び蓋部材の一方に他方を搭載することと、ベース部材と蓋部材との間の内部空間に収容された樹脂部材を供給源として、内部空間に存在する異物を被覆するために樹脂膜を形成することと、を含む。 A method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to another aspect of the present invention includes preparing a base member; preparing a lid member; providing a resin member on at least one of the base member and the lid member; By mounting the piezoelectric vibrating element on the member, by mounting one of the base member and the lid member on the other, and by using the resin member accommodated in the internal space between the base member and the lid member as a supply source, the inner space and forming a resin film to cover foreign matter present in the.

本発明によれば、周波数変動が抑制可能な圧電振動子及びその製造方法が提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a piezoelectric vibrator capable of suppressing frequency fluctuations and a method of manufacturing the same.

第1実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す分解斜視図である。1 is an exploded perspective view schematically showing the configuration of a crystal resonator according to a first embodiment; FIG. 第1実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a crystal resonator according to a first embodiment; FIG. 第1実施形態に係るベース部材及び水晶振動素子の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing configurations of a base member and a crystal vibrating element according to the first embodiment; 第1実施形態に係る水晶振動子の製造方法を概略的に示すフローチャートである。4 is a flow chart schematically showing a method for manufacturing a crystal resonator according to the first embodiment; 第2実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a crystal oscillator according to a second embodiment; 第3実施形態に係るベース部材及び水晶振動素子の構成を概略的に示す平面図である。It is a top view showing roughly composition of a base member concerning a 3rd embodiment, and a crystal oscillating element.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。各実施形態の図面は例示であり、各部の寸法や形状は模式的なものであり、本願発明の技術的範囲を当該実施形態に限定して解するべきではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The drawings of each embodiment are examples, and the dimensions and shapes of each part are schematic, and the technical scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments.

各々の図面には、各々の図面相互の関係を明確にし、各部材の位置関係を理解する助けとするために、便宜的にX軸、Y’軸及びZ’軸からなる直交座標系を付すことがある。X軸、Y’軸及びZ’軸は水晶片の一例であるATカット型水晶の構造を特定するために用いられる直交座標系を示したものである。X軸、Y’軸及びZ’軸は各図面において互いに対応している。X軸、Y’軸及びZ’軸は、それぞれ、後述の水晶片11の結晶軸(Crystallographic Axes)に関係している。具体的には、水晶結晶の電気軸(極性軸)をX軸とし、水晶結晶の機械軸をY軸とし、水晶結晶の光学軸をZ軸とする直交座標系において、Y’軸及びZ’軸は、それぞれ、Y軸及びZ軸をX軸の周りにY軸からZ軸の方向に35度15分±1分30秒回転させた軸に相当する。 An orthogonal coordinate system consisting of the X-axis, Y'-axis and Z'-axis is attached to each drawing for convenience in order to clarify the relationship between each drawing and to help understand the positional relationship of each member. Sometimes. The X-axis, Y'-axis, and Z'-axis indicate an orthogonal coordinate system used to specify the structure of an AT-cut crystal, which is an example of a crystal piece. The X-axis, Y'-axis and Z'-axis correspond to each other in each drawing. The X-axis, Y'-axis, and Z'-axis are related to crystallographic axes of the crystal piece 11, which will be described later. Specifically, in an orthogonal coordinate system in which the electric axis (polar axis) of the quartz crystal is the X-axis, the mechanical axis of the quartz crystal is the Y-axis, and the optical axis of the quartz crystal is the Z-axis, the Y′-axis and Z′-axis The axes correspond to the Y-axis and Z-axis, respectively, rotated about the X-axis from the Y-axis in the direction of the Z-axis by 35 degrees 15 minutes±1 minute 30 seconds.

<第1実施形態>
まず、図1~図3を参照しつつ、本発明の第1実施形態に係る水晶振動子1の構成について説明する。図1は、第1実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す分解斜視図である。図2は、第1実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す断面図である。図3は、第1実施形態に係るベース部材及び水晶振動素子の構成を概略的に示す平面図である。なお、図2は、図1に示した水晶振動子1のII-II線に沿った断面図である。
<First embodiment>
First, the configuration of a crystal oscillator 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. FIG. 1 is an exploded perspective view schematically showing the configuration of the crystal resonator according to the first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the crystal resonator according to the first embodiment. FIG. 3 is a plan view schematically showing the configuration of the base member and the crystal vibrating element according to the first embodiment. 2 is a cross-sectional view of the crystal resonator 1 shown in FIG. 1 along line II-II.

水晶振動子(Quartz Crystal Resonator Unit)1は、水晶振動素子(Quartz Crystal Resonator)10と、ベース部材30と、一対の導電性保持部材を構成する第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bと、蓋部材40と、接合部材50と、樹脂部材70と、を備えている。水晶振動素子10は、ベース部材30と蓋部材40との間に設けられた内部空間に収容されている。すなわち、ベース部材30及び蓋部材40は、水晶振動素子10を収容するための保持器を構成している。保持器の内部空間において、水晶振動素子10は、例えば真空状態で封止されているが、窒素や希ガスなどの不活性ガスが充填された状態で封止されてもよい。図1及び図2に示した例では、ベース部材30が平板状を成しており、蓋部材40の凹部49に水晶振動素子10が収容されている。但し、水晶振動素子10のうち少なくとも励振される部分が保持器に収容されれば、ベース部材30及び蓋部材40の形状は上記に限定されるものではない。例えば、ベース部材30は、蓋部材40の側に水晶振動素子10の少なくとも一部を収容する凹部を有してもよい。 A quartz crystal resonator unit 1 includes a quartz crystal resonator 10, a base member 30, a first conductive holding member 36a and a second conductive holding member which constitute a pair of conductive holding members. A member 36b, a lid member 40, a joint member 50, and a resin member 70 are provided. The crystal oscillator 10 is housed in an internal space provided between the base member 30 and the lid member 40 . That is, the base member 30 and the lid member 40 constitute a retainer for housing the crystal vibrating element 10 . In the inner space of the holder, the crystal resonator element 10 is sealed, for example, in a vacuum state, but may be sealed in a state filled with an inert gas such as nitrogen or rare gas. In the example shown in FIGS. 1 and 2 , the base member 30 has a flat plate shape, and the crystal vibrating element 10 is housed in the concave portion 49 of the lid member 40 . However, the shapes of the base member 30 and the lid member 40 are not limited to the above, as long as at least the portion of the crystal vibrating element 10 to be excited is accommodated in the retainer. For example, the base member 30 may have a recess that accommodates at least part of the crystal vibrating element 10 on the lid member 40 side.

水晶振動素子10は、圧電効果により電気エネルギーと機械エネルギーとに変換可能な電気機械エネルギー変換素子である。水晶振動素子10は、薄片状の水晶片(Quartz Crystal Element)11と、一対の励振電極を構成する第1励振電極14a及び第2励振電極14bと、一対の引出電極を構成する第1引出電極15a及び第2引出電極15bと、一対の接続電極を構成する第1接続電極16a及び第2接続電極16bとを備えている。 The crystal vibrating element 10 is an electromechanical energy conversion element capable of converting electrical energy and mechanical energy by a piezoelectric effect. The crystal vibrating element 10 includes a flaky crystal element 11, a first excitation electrode 14a and a second excitation electrode 14b forming a pair of excitation electrodes, and a first extraction electrode forming a pair of extraction electrodes. 15a and a second extraction electrode 15b, and a first connection electrode 16a and a second connection electrode 16b forming a pair of connection electrodes.

水晶片11は、互いに対向する上面11A及び下面11Bを有している。上面11Aは、ベース部材30に対向する側とは反対側、すなわち後述する蓋部材40の天壁部41に対向する側、に位置している。下面11Bは、ベース部材30に対向する側に位置している。上面11A及び下面11Bは、水晶片11の一対の主面に相当する。 The crystal piece 11 has an upper surface 11A and a lower surface 11B facing each other. The upper surface 11A is located on the side opposite to the side facing the base member 30, that is, the side facing the ceiling wall portion 41 of the lid member 40, which will be described later. The lower surface 11B is located on the side facing the base member 30 . The upper surface 11A and the lower surface 11B correspond to a pair of principal surfaces of the crystal piece 11. As shown in FIG.

水晶片11は、例えば、ATカット型の水晶結晶である。ATカット型の水晶結晶は、X軸及びZ’軸によって特定される面と平行な面(以下、「XZ’面」とする。他の軸によって特定される面についても同様である。)が主面となり、Y’軸と平行な方向が厚みとなるように形成される。一例として、上面11Aを平面視したときの水晶片11の外縁は、X軸と平行な方向(以下、「X軸方向」とする。他の軸と平行な方向についても同様とする。)に延在する長辺と、Z’軸方向に延在する短辺とを有している。 The crystal piece 11 is, for example, an AT-cut crystal. An AT-cut quartz crystal has a plane parallel to the plane specified by the X-axis and Z'-axis (hereinafter referred to as "XZ' plane"; the same applies to planes specified by other axes). The main surface is formed so that the direction parallel to the Y' axis becomes the thickness. As an example, when the upper surface 11A is viewed in plan, the outer edge of the crystal piece 11 is in a direction parallel to the X-axis (hereinafter referred to as “X-axis direction”; the same applies to directions parallel to other axes.). It has long sides that extend and short sides that extend in the Z′-axis direction.

ATカット型の水晶片11を用いた水晶振動素子10は、広い温度範囲で高い周波数安定性を有する。ATカット型の水晶片11を用いた水晶振動素子10では、厚みすべり振動モード(Thickness Shear Vibration Mode)が主要振動として用いられる。水晶片11のカット角度は、ATカット以外の異なるカットを適用してもよい。例えばBTカット、GTカット、SCカットなどを適用してよい。 The crystal vibrating element 10 using the AT-cut crystal blank 11 has high frequency stability over a wide temperature range. In the crystal vibrating element 10 using the AT-cut crystal blank 11, a thickness shear vibration mode is used as a main vibration. A different cut other than the AT cut may be applied to the cut angle of the crystal piece 11 . For example, BT cut, GT cut, SC cut, etc. may be applied.

水晶片11の上面11Aを平面視したとき、水晶片11は、電気機械エネルギー変換が行われる励振部17と、励振部17の外側に位置する周辺部18とを有している。励振部17は、矩形状の島状に設けられ、枠状の周辺部18に囲まれている。励振部17は上面17A及び下面17Bを有し、周辺部18は上面18A及び下面18Bを有している。上面17A,18Aは水晶片11の上面11Aの一部であり、下面17B,18Bは水晶片11の下面11Bの一部である。 When the upper surface 11A of the crystal piece 11 is viewed in plan, the crystal piece 11 has an excitation portion 17 where electromechanical energy conversion is performed, and a peripheral portion 18 located outside the excitation portion 17 . The excitation unit 17 is provided in a rectangular island shape and surrounded by a frame-shaped peripheral portion 18 . The excitation section 17 has an upper surface 17A and a lower surface 17B, and the peripheral section 18 has an upper surface 18A and a lower surface 18B. The upper surfaces 17A and 18A are part of the upper surface 11A of the crystal piece 11, and the lower surfaces 17B and 18B are parts of the lower surface 11B of the crystal piece 11. FIG.

水晶片11は、励振部17の厚みが周辺部18の厚みよりも大きい、いわゆるメサ型構造である。メサ型構造を有する水晶片11によれば、水晶振動素子10からの振動漏れが抑制できる。また、外部応力が励振部17に伝搬することで生じる周波数変動が抑制できる。水晶片11は両面メサ型構造であり、上面11A及び下面11Bの両側において、励振部17が周辺部18から突出している。励振部17と周辺部18との間の境界領域は、厚みが連続的に変化するテーパ形状を成している。言い換えると、励振部17及び周辺部18のそれぞれの上面17Aと上面18Aとを繋ぐ面、及び、下面17Bと下面18Bとを繋ぐ面は、傾きが一様な傾斜面である。 The crystal blank 11 has a so-called mesa structure in which the excitation portion 17 is thicker than the peripheral portion 18 . The crystal blank 11 having the mesa structure can suppress vibration leakage from the crystal vibrating element 10 . Further, frequency fluctuation caused by external stress propagating to the excitation unit 17 can be suppressed. The crystal piece 11 has a double-sided mesa structure, and excitation portions 17 protrude from a peripheral portion 18 on both sides of the upper surface 11A and the lower surface 11B. A boundary region between the excitation portion 17 and the peripheral portion 18 has a tapered shape in which the thickness continuously changes. In other words, the surfaces connecting the upper surfaces 17A and 18A and the surfaces connecting the lower surfaces 17B and 18B of the excitation portion 17 and the peripheral portion 18 are uniformly inclined surfaces.

なお、励振部17及び周辺部18の構造は上記に限定されるものではない。例えば、励振部17及び周辺部18は、それぞれ、水晶片11のZ’軸方向に沿った全幅に亘って帯状に形成されてもよい。また、励振部17と周辺部18との間の境界領域は、厚みの変化が不連続な階段形状を成してもよい。当該境界領域は、厚みの変化量が連続的に変化するコンベックス構造、又は厚みの変化量が不連続に変化するベベル構造であってもよい。また、水晶片11は、励振部17の厚みが周辺部18の厚みよりも小さい、いわゆる逆メサ型構造であってもよい。水晶片11は、励振部17の厚みと周辺部18の厚みとが略等しい平板状であってもよい。 The structures of the excitation section 17 and the peripheral section 18 are not limited to those described above. For example, the excitation portion 17 and the peripheral portion 18 may each be formed in a strip shape over the entire width of the crystal piece 11 along the Z′-axis direction. Also, the boundary region between the excitation portion 17 and the peripheral portion 18 may have a stepped shape in which the change in thickness is discontinuous. The boundary region may have a convex structure in which the amount of change in thickness changes continuously, or a bevel structure in which the amount of change in thickness changes discontinuously. Further, the crystal blank 11 may have a so-called inverted mesa structure in which the thickness of the excitation portion 17 is smaller than the thickness of the peripheral portion 18 . The crystal piece 11 may have a flat plate shape in which the thickness of the excitation portion 17 and the thickness of the peripheral portion 18 are substantially equal.

第1励振電極14a及び第2励振電極14bは、励振部17の中央部に設けられている。第1励振電極14aは、励振部17の上面17Aに設けられ、第2励振電極14bは、励振部17の下面17Bに設けられている。第1励振電極14aと第2励振電極14bとは、励振部17を挟んで互いに対向し、励振部17に対して電圧を印加可能に構成されている。 The first excitation electrode 14 a and the second excitation electrode 14 b are provided in the central portion of the excitation section 17 . The first excitation electrode 14 a is provided on the upper surface 17 A of the excitation section 17 , and the second excitation electrode 14 b is provided on the lower surface 17 B of the excitation section 17 . The first excitation electrode 14 a and the second excitation electrode 14 b face each other with the excitation section 17 interposed therebetween, and are configured to be able to apply a voltage to the excitation section 17 .

第1引出電極15a及び第2引出電極15bは、励振部17から周辺部18に亘って設けられている。第1引出電極15aは、励振部17の上面17Aにおいて第1励振電極14aに接続され、周辺部18において第1接続電極16aに接続されている。第2引出電極15bは、励振部17の下面17Bにおいて第2励振電極14bに接続され、周辺部18において第2接続電極16bに接続されている。 The first extraction electrode 15 a and the second extraction electrode 15 b are provided from the excitation section 17 to the peripheral section 18 . The first extraction electrode 15 a is connected to the first excitation electrode 14 a on the upper surface 17 A of the excitation section 17 and connected to the first connection electrode 16 a on the peripheral section 18 . The second extraction electrode 15b is connected to the second excitation electrode 14b on the lower surface 17B of the excitation section 17 and to the second connection electrode 16b on the peripheral section 18 .

第1接続電極16a及び第2接続電極16bは、周辺部18の下面18Bに設けられている。第1接続電極16a及び第2接続電極16bは、周辺部18のうち、第1励振電極14a及び第2励振電極14bに対してX軸方向の負方向(矢印の向きとは反対方向)側に位置する領域に設けられている。また、第1接続電極16a及び第2接続電極16bはZ’軸方向に並んでおり、第2接続電極16bは第1接続電極16aよりもZ’軸方向の負方向側に位置している。第1接続電極16aは、第1引出電極15aを介して第1励振電極14aに電気的に接続されている。第2接続電極16bは、第2引出電極15bを介して第2励振電極14bに電気的に接続されている。 The first connection electrode 16 a and the second connection electrode 16 b are provided on the bottom surface 18 B of the peripheral portion 18 . The first connection electrode 16a and the second connection electrode 16b are arranged on the negative side of the X-axis direction (direction opposite to the direction of the arrow) with respect to the first excitation electrode 14a and the second excitation electrode 14b in the peripheral portion 18. located area. The first connection electrode 16a and the second connection electrode 16b are arranged in the Z'-axis direction, and the second connection electrode 16b is located on the negative side of the Z'-axis direction with respect to the first connection electrode 16a. The first connection electrode 16a is electrically connected to the first excitation electrode 14a through the first extraction electrode 15a. The second connection electrode 16b is electrically connected to the second excitation electrode 14b via the second extraction electrode 15b.

第1励振電極14a、第1引出電極15a及び第1接続電極16aは、連続しており一体的に形成されている。第2励振電極14b、第2引出電極15b及び第2接続電極16bも同様である。これら水晶振動素子10の電極は、例えば、水晶片11との密着性が良好な材料で設けられた下地層と、化学的安定性が良好な材料で設けられた表面層とを含む導電性の多層膜である。下地層は例えばクロム(Cr)層であり、最表層は例えば金(Au)層である。 The first excitation electrode 14a, the first extraction electrode 15a, and the first connection electrode 16a are continuous and integrally formed. The same applies to the second excitation electrode 14b, the second extraction electrode 15b, and the second connection electrode 16b. The electrodes of these crystal vibrating elements 10 are conductive electrodes including, for example, a base layer made of a material with good adhesion to the crystal piece 11 and a surface layer made of a material with good chemical stability. It is a multilayer film. The underlying layer is, for example, a chromium (Cr) layer, and the outermost layer is, for example, a gold (Au) layer.

ベース部材30は、基体31と、一対の電極パッドを構成する第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bと、一対の貫通電極を構成する第1貫通電極34a及び第2貫通電極34bと、第1外部電極35a~第4外部電極35dとを備えている。 The base member 30 includes a substrate 31, a first electrode pad 33a and a second electrode pad 33b forming a pair of electrode pads, a first through electrode 34a and a second through electrode 34b forming a pair of through electrodes, and a 1 external electrode 35a to fourth external electrode 35d.

基体31は、上面31A及び下面31Bを有する板状の絶縁体である。基体31は、例えば絶縁性セラミック(アルミナなど)の焼結材である。リフロー等の熱履歴によってベース部材30から水晶振動素子10に作用する熱応力を抑制する観点から、基体31は耐熱性材料によって構成されることが好ましい。基体31は、水晶片11に近い熱膨張率を有する材料(例えば水晶)によって設けられてもよい。 The base 31 is a plate-shaped insulator having an upper surface 31A and a lower surface 31B. The substrate 31 is, for example, a sintered material of insulating ceramics (alumina, etc.). It is preferable that the substrate 31 is made of a heat-resistant material from the viewpoint of suppressing the thermal stress acting on the crystal vibrating element 10 from the base member 30 due to thermal history such as reflow. The substrate 31 may be made of a material (such as crystal) having a coefficient of thermal expansion close to that of the crystal piece 11 .

第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bは、基体31の上面31Aに設けられている。第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bは、ベース部材30に水晶振動素子10を電気的に接続するための端子である。第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bは、例えば、表面にAu層を含む導電性の多層膜である。 The first electrode pad 33 a and the second electrode pad 33 b are provided on the upper surface 31 A of the base 31 . The first electrode pad 33 a and the second electrode pad 33 b are terminals for electrically connecting the crystal vibrating element 10 to the base member 30 . The first electrode pad 33a and the second electrode pad 33b are, for example, a conductive multilayer film including an Au layer on its surface.

第1貫通電極34a及び第2貫通電極34bは、基体31をZ’軸方向に貫通している。第1貫通電極34aは、第1電極パッド33aと第1外部電極35aとを電気的に接続している。第2貫通電極34bは、第2電極パッド33bと第2外部電極35bとを電気的に接続している。 The first through electrode 34a and the second through electrode 34b penetrate the base 31 in the Z'-axis direction. The first through electrode 34a electrically connects the first electrode pad 33a and the first external electrode 35a. The second through electrode 34b electrically connects the second electrode pad 33b and the second external electrode 35b.

第1外部電極35a~第4外部電極35dは、基体31の下面31Bに設けられている。第1外部電極35a及び第2外部電極35bは、水晶振動子1を外部基板に電気的に接続するための端子である。第3外部電極35c及び第4外部電極35dは、例えば電気信号等が入出力されないダミー電極であるが、蓋部材40を接地させて蓋部材40の電磁シールド機能を向上させる接地電極であってもよい。 The first to fourth external electrodes 35 a to 35 d are provided on the lower surface 31 B of the base 31 . The first external electrode 35a and the second external electrode 35b are terminals for electrically connecting the crystal resonator 1 to an external substrate. The third external electrode 35c and the fourth external electrode 35d are dummy electrodes to which, for example, electrical signals are not input/output. good.

第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bは、水晶振動素子10を励振可能に保持している。言い換えると、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bは、励振部17がベース部材30及び蓋部材40に接触しないように、水晶振動素子10を保持している。また、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bは、水晶振動素子10とベース部材30とを電気的に接続している。具体的には、第1導電性保持部材36aが第1電極パッド33aと第1接続電極16aとを電気的に接続し、第2導電性保持部材36bが第2電極パッド33bと第2接続電極16bとを電気的に接続している。 The first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b hold the crystal vibrating element 10 so that it can be excited. In other words, the first conductive holding member 36 a and the second conductive holding member 36 b hold the crystal vibrating element 10 so that the excitation section 17 does not contact the base member 30 and the lid member 40 . Also, the first conductive holding member 36 a and the second conductive holding member 36 b electrically connect the crystal vibrating element 10 and the base member 30 . Specifically, the first conductive holding member 36a electrically connects the first electrode pad 33a and the first connection electrode 16a, and the second conductive holding member 36b connects the second electrode pad 33b and the second connection electrode. 16b are electrically connected.

第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bは、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等を含む導電性接着剤の硬化物である。第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bの主成分は、例えばシリコーン樹脂である。第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bは導電性粒子を含んでおり、当該導電性粒子としては例えば銀(Ag)を含む金属粒子が用いられる。 The first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b are cured conductive adhesives containing thermosetting resin, photo-setting resin, or the like. A main component of the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b is, for example, silicone resin. The first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b contain conductive particles, and metal particles containing silver (Ag), for example, are used as the conductive particles.

第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bの主成分は、硬化性樹脂であればシリコーン樹脂に限定されるものではなく、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などであってもよい。また、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bの導電性は、銀粒子による付与に限定されるものではなく、その他の金属、導電性セラミック、導電性有機材料などによって付与されてもよい。第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bの主成分が導電性高分子であってもよい。 The main component of the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b is not limited to silicone resin as long as it is a curable resin, and may be, for example, epoxy resin or acrylic resin. Further, the conductivity of the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b is not limited to being imparted by silver particles, and may be imparted by other metals, conductive ceramics, conductive organic materials, and the like. may The main component of the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b may be a conductive polymer.

蓋部材40は、ベース部材30との間に水晶振動素子10を収容する内部空間を形成する。蓋部材40はベース部材30の側に開口する凹部49を有しており、本実施形態における内部空間は、凹部49の内側の空間に相当する。蓋部材40は、平板状の天壁部41と、天壁部41の外縁からベース部材30に向かって延在する側壁部42とを有している。蓋部材40の凹部49は、天壁部41と側壁部42とによって形成されている。蓋部材40はさらに、側壁部42のベース部材30側の先端部に接続されており且つ基体31の上面31Aに沿って外側に延在するフランジ部43を有している。基体31の上面31Aを平面視したとき、フランジ部43は、水晶振動素子10を囲むように枠状に延在している。 The lid member 40 forms an internal space that accommodates the crystal vibrating element 10 between itself and the base member 30 . The lid member 40 has a recess 49 that opens toward the base member 30 , and the internal space in this embodiment corresponds to the space inside the recess 49 . The lid member 40 has a flat top wall portion 41 and side wall portions 42 extending from the outer edge of the top wall portion 41 toward the base member 30 . The recessed portion 49 of the lid member 40 is formed by the ceiling wall portion 41 and the side wall portion 42 . The lid member 40 further has a flange portion 43 connected to the tip of the side wall portion 42 on the base member 30 side and extending outward along the upper surface 31A of the base 31 . When the upper surface 31</b>A of the base 31 is viewed from above, the flange portion 43 extends like a frame so as to surround the crystal vibrating element 10 .

蓋部材40の材質は、望ましくは導電材料であり、さらに望ましくは気密性の高い金属材料である。蓋部材40が導電材料で構成されることによって、内部空間への電磁波の出入りを低減する電磁シールド機能が蓋部材40に付与される。熱応力の発生を抑制する観点から、蓋部材40の材質は、基体31に近い熱膨張率を有する材料であることが望ましく、例えば常温付近での熱膨張率がガラスやセラミックと広い温度範囲で一致するFe-Ni-Co系合金である。 The material of the lid member 40 is desirably a conductive material, more desirably a highly airtight metal material. Since the cover member 40 is made of a conductive material, the cover member 40 is provided with an electromagnetic shielding function that reduces the entry and exit of electromagnetic waves into the internal space. From the viewpoint of suppressing the generation of thermal stress, the material of the lid member 40 is desirably a material having a coefficient of thermal expansion close to that of the base 31. For example, the coefficient of thermal expansion near room temperature is glass or ceramic, which can be used over a wide temperature range. It is a matching Fe--Ni--Co based alloy.

接合部材50は、ベース部材30及び蓋部材40の各全周に亘って設けられ、矩形の枠状をなしている。ベース部材30の上面31Aを平面視したとき、第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bは接合部材50の内側に配置されており、接合部材50は水晶振動素子10を囲むように設けられている。接合部材50は、ベース部材30と蓋部材40とを接合し、内部空間に相当する凹部49を封止している。具体的には、接合部材50は、基体31とフランジ部43とを接合している。 The joint member 50 is provided over the entire circumferences of the base member 30 and the lid member 40 and has a rectangular frame shape. When the upper surface 31A of the base member 30 is viewed in plan, the first electrode pads 33a and the second electrode pads 33b are arranged inside the bonding member 50, and the bonding member 50 is provided so as to surround the crystal vibrating element 10. there is The joining member 50 joins the base member 30 and the lid member 40 and seals the recess 49 corresponding to the internal space. Specifically, the joining member 50 joins the base 31 and the flange portion 43 .

接合部材50は、例えば、基体31の上面31Aに設けられたモリブデン(Mo)からなるメタライズ層と、メタライズ層とフランジ部43との間に設けられた金錫(Au-Sn)系の共晶合金からなる金属半田層とによって設けられている。接合部材50の材質は上記に限定されるものではないが、水晶振動素子10の周波数特性の変動を抑制する観点から透湿性が低いことが望ましく、ガス透過性が低いことがさらに望ましい。また、接合部材50を介して蓋部材40を接地電位に電気的に接続するためには、接合部材50が導電性を有することが望ましい。 The joining member 50 includes, for example, a metallized layer made of molybdenum (Mo) provided on the upper surface 31A of the base 31, and a gold-tin (Au—Sn)-based eutectic layer provided between the metallized layer and the flange portion 43. It is provided by a metal solder layer made of an alloy. Although the material of the bonding member 50 is not limited to the above, it preferably has low moisture permeability from the viewpoint of suppressing fluctuations in the frequency characteristics of the crystal oscillator 10, and more preferably has low gas permeability. Moreover, in order to electrically connect the lid member 40 to the ground potential via the joint member 50, it is desirable that the joint member 50 has conductivity.

接合部材50は上記の金属接合に限定されるものではない。接合部材50は、例えば樹脂系接着剤やガラス系接着剤によって設けられてもよい。接合部材50を接着剤によって設ける場合、接合部材50は、導電性接着剤によって設けられてもよく、絶縁性接着剤によって設けられてもよい。また、ベース部材30と蓋部材40とは、シーム溶接によって接合されてもよい。 The bonding member 50 is not limited to the metal bonding described above. The joining member 50 may be provided by, for example, a resin-based adhesive or a glass-based adhesive. When the joining member 50 is provided with an adhesive, the joining member 50 may be provided with a conductive adhesive or an insulating adhesive. Also, the base member 30 and the lid member 40 may be joined by seam welding.

樹脂部材70は、内部空間に存在する異物DSを被覆するための樹脂膜CTの供給源となる。具体的には、樹脂部材70から飛散した樹脂材料が、内部空間の内壁、すなわち、水晶振動素子10、ベース部材30、蓋部材40、接合部材50等の内部空間に露出する表面に堆積し、樹脂膜CTを当該表面に形成する。樹脂膜CTによって被覆された異物DSはその位置が固定される。このため、例えば、落下等によって水晶振動子1に衝撃が作用した場合や、異物DSが付着した水晶振動素子10が励振された場合であっても、異物DSの水晶振動素子10への付着又は水晶振動素子10からの脱落は抑制される。 The resin member 70 serves as a supply source of the resin film CT for covering the foreign matter DS present in the internal space. Specifically, the resin material scattered from the resin member 70 deposits on the inner wall of the internal space, that is, the surfaces of the crystal oscillator 10, the base member 30, the lid member 40, the bonding member 50, etc. exposed to the internal space, A resin film CT is formed on the surface. The position of the foreign matter DS covered with the resin film CT is fixed. For this reason, for example, even if a shock is applied to the crystal resonator 1 by being dropped or the like, or if the crystal resonator element 10 to which the foreign matter DS is attached is excited, the foreign matter DS may adhere to the crystal resonator element 10 or Falling off from the crystal vibrating element 10 is suppressed.

樹脂部材は、内部空間においてベース部材30及び蓋部材40の少なくとも一方に設けられていればよく、樹脂部材70は、ベース部材30に設けれている。図3に示すように、平面視において、樹脂部材70は、水晶振動素子10の外側の領域に設けられており、水晶振動素子10の振動を阻害しない。樹脂部材70は、接合部材50から離間しており、平面視において水晶振動素子10と接合部材50との間の領域に設けられている。また、樹脂部材70は、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bから離間している。 The resin member may be provided on at least one of the base member 30 and the lid member 40 in the internal space, and the resin member 70 is provided on the base member 30 . As shown in FIG. 3 , in plan view, the resin member 70 is provided in a region outside the crystal vibrating element 10 and does not interfere with the vibration of the crystal vibrating element 10 . The resin member 70 is spaced apart from the bonding member 50 and provided in a region between the crystal vibrating element 10 and the bonding member 50 in plan view. Further, the resin member 70 is separated from the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b.

樹脂部材70は、例えば、シリコーン樹脂や、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、等を主成分とする非導電性の樹脂材料によって形成される。樹脂部材70は加熱によって樹脂膜CTを供給可能であれば、その材料を上記に限定されるものではない。樹脂部材70から飛散する樹脂膜CTの原料は、例えば、樹脂部材70を設けるときに発生した未反応モノマーやオリゴマー等、又は、樹脂部材70の熱分解によって発生した低分子量ポリマーやオリゴマー等である。なお、接合部材50が樹脂によって設けられる場合、樹脂部材70の耐熱性は、接合部材50の耐熱性より低いことが望ましい。これによれば、封止性を損なうことなく、樹脂部材70から樹脂膜CTの原料を供給することができる。 The resin member 70 is made of, for example, a non-conductive resin material whose main component is silicone resin, epoxy resin, acrylic resin, or the like. The material of the resin member 70 is not limited to the above as long as the resin film CT can be supplied by heating. Raw materials of the resin film CT scattered from the resin member 70 are, for example, unreacted monomers, oligomers, etc. generated when the resin member 70 is provided, or low molecular weight polymers, oligomers, etc. generated by thermal decomposition of the resin member 70. . If the joint member 50 is made of resin, it is desirable that the heat resistance of the resin member 70 is lower than that of the joint member 50 . According to this, the raw material of the resin film CT can be supplied from the resin member 70 without impairing the sealing performance.

樹脂部材70は、4つの樹脂片71,72,73,74を含んでいる。樹脂片71は水晶振動素子10に対してX軸正方向側に位置し、樹脂片72は水晶振動素子10に対してX軸負方向側に位置し、樹脂片73は水晶振動素子10に対してZ’軸正方向側に位置し、樹脂片74は水晶振動素子10に対してZ’軸負方向側に位置している。すなわち、平面視において、樹脂片71と樹脂片72とは水晶振動素子10の互いに対向する短辺にそれぞれ隣接し、樹脂片73と樹脂片74とは水晶振動素子10の互いに対向する長辺にそれぞれ隣接している。 The resin member 70 includes four resin pieces 71,72,73,74. The resin piece 71 is positioned on the X-axis positive direction side with respect to the crystal resonator element 10 , the resin piece 72 is positioned on the X-axis negative direction side with respect to the crystal resonator element 10 , and the resin piece 73 is positioned with respect to the crystal resonator element 10 . , and the resin piece 74 is positioned on the Z′-axis negative direction side with respect to the crystal vibrating element 10 . That is, in a plan view, the resin pieces 71 and 72 are adjacent to the short sides of the crystal oscillator 10 that face each other, and the resin pieces 73 and 74 are adjacent to the long sides of the crystal oscillator 10 that face each other. adjacent to each other.

樹脂膜CTのムラを低減するため、樹脂膜CTの供給源となる複数の樹脂片71~74は、水晶振動素子10の周囲に均等に配置されている。言い換えると、平面視において水晶振動素子10を囲む周方向において、複数の樹脂片71~74のうち互いに隣接する樹脂片の間隔は略等しい。具体的には、樹脂片71と樹脂片73との間隔、樹脂片73と樹脂片72との間隔、樹脂片72と樹脂片74との間隔、及び、樹脂片74と樹脂片71との間隔は、互いに略等しい。さらに樹脂膜CTのムラを低減するため、樹脂片71及び樹脂片72のそれぞれは、水晶振動子1のZ’軸方向における中央部に設けられ、樹脂片73及び樹脂片74のそれぞれは、水晶振動子1のX軸方向における中央部に設けられている。 In order to reduce unevenness of the resin film CT, the plurality of resin pieces 71 to 74 serving as the supply source of the resin film CT are evenly arranged around the crystal vibrating element 10 . In other words, the intervals between adjacent resin pieces among the plurality of resin pieces 71 to 74 are substantially equal in the circumferential direction surrounding the crystal vibrating element 10 in plan view. Specifically, the distance between the resin piece 71 and the resin piece 73, the distance between the resin piece 73 and the resin piece 72, the distance between the resin piece 72 and the resin piece 74, and the distance between the resin piece 74 and the resin piece 71 are approximately equal to each other. Furthermore, in order to reduce the unevenness of the resin film CT, the resin pieces 71 and 72 are provided at the central portion of the crystal oscillator 1 in the Z′-axis direction, and the resin pieces 73 and 74 are each provided on the crystal unit. It is provided in the central portion of the vibrator 1 in the X-axis direction.

なお、樹脂部材70に含まれる樹脂片の数は4つに限定されるものではない。樹脂片の数は3つ以下でもよく、5つ以上でもよい。但し、樹脂片のすくなくとも1つは、望ましくは、水晶振動素子10における導電性保持部材36a,36bとは反対側に設けられている。例えば、樹脂部材70は図3に示した樹脂片71のみから成ってもよく、図3に示した樹脂片72を除く樹脂片71,73,74を含んでもよい。これらの場合、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bも樹脂膜CTの供給源とすることで、樹脂片72を省略することによる省スペース化を図りつつ、樹脂膜CTのムラを低減することができる。樹脂部材70は、水晶振動素子10の角部の近傍に配置された樹脂片を含んでもよい。 Note that the number of resin pieces included in the resin member 70 is not limited to four. The number of resin pieces may be three or less, or five or more. However, at least one of the resin pieces is desirably provided on the opposite side of the crystal vibrating element 10 from the conductive holding members 36a and 36b. For example, the resin member 70 may consist of only the resin piece 71 shown in FIG. 3, or may include the resin pieces 71, 73, and 74 except for the resin piece 72 shown in FIG. In these cases, by using the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b as the supply source of the resin film CT, the resin pieces 72 are omitted, thereby saving space and increasing the capacity of the resin film CT. Unevenness can be reduced. The resin member 70 may include resin pieces arranged near the corners of the crystal vibrating element 10 .

次に、図4を参照しつつ、第1実施形態に係る水晶振動子1の製造方法について説明する。図4は、第1実施形態に係る水晶振動子の製造方法を概略的に示すフローチャートである。 Next, a method for manufacturing the crystal resonator 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a flow chart schematically showing a method for manufacturing a crystal resonator according to the first embodiment.

まず、ベース部材30を準備する(S10)。 First, the base member 30 is prepared (S10).

ベース部材30は、例えば、セラミック粉末を焼結して形成される。一例として、アルミナのグリーンシートに貫通孔を形成、貫通孔に電極材料を充填する。次に、グリーンシートに金属膜を印刷(スクリーン印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など)し、グリーンシート、電極材料及び金属膜を焼結する。これにより、アルミナのグリーンシートは基体31となり、電極材料は貫通電極34a,34bとなり、金属膜は接合部材50のメタライズ層、電極パッド33a,33b及び外部電極35a~35dとなる。金属膜の成膜方法は上記の印刷法に限定されるものではなく、各種の塗布法(キャスト、ディスペンスなど)、及び各種の湿式メッキ法(無電解メッキ、溶融メッキ、電気メッキなど)などのウェットプロセスによって形成されてもよい。 The base member 30 is formed by sintering ceramic powder, for example. As an example, a through hole is formed in an alumina green sheet, and the through hole is filled with an electrode material. Next, a metal film is printed on the green sheet (screen printing, inkjet printing, gravure printing, flexographic printing, etc.), and the green sheet, electrode material and metal film are sintered. As a result, the alumina green sheet becomes the substrate 31, the electrode material becomes the through electrodes 34a and 34b, and the metal film becomes the metallized layers of the joining member 50, the electrode pads 33a and 33b, and the external electrodes 35a to 35d. The method of forming a metal film is not limited to the above printing method, and various coating methods (casting, dispensing, etc.), and various wet plating methods (electroless plating, hot dipping, electroplating, etc.). It may be formed by a wet process.

基体31は、インゴットから切り出したウェハによって形成されてもよい。金属膜は、PVD(Physical Vapor Deposition)やCVD(Chemical Vapor Depositon)などの各種の気相成長法を一例とするドライプロセスによって形成されてもよい。接合部材50のメタライズ層、電極パッド33a,33b及び外部電極35a~35dのそれぞれの少なくとも一部は、グリーンシートの焼結後に形成されてもよい。 The substrate 31 may be formed by a wafer cut from an ingot. The metal film may be formed by dry processes such as PVD (Physical Vapor Deposition) and CVD (Chemical Vapor Deposition). At least part of each of the metallized layers of the joining member 50, the electrode pads 33a and 33b, and the external electrodes 35a to 35d may be formed after sintering the green sheets.

次に、蓋部材40を準備する(S20)。 Next, the lid member 40 is prepared (S20).

蓋部材40は、例えば、金属板のプレス加工によって形成される。一例として、Fe-Ni-Co系合金からなる金属板を用意する。次に、金属板をパンチで押し込んで凹状に変形させ、天壁部41、側壁部42及びフランジ部43の形状を形成する。 The lid member 40 is formed, for example, by pressing a metal plate. As an example, a metal plate made of an Fe--Ni--Co alloy is prepared. Next, the metal plate is pressed by a punch to be deformed into a concave shape, and the shapes of the top wall portion 41, the side wall portion 42 and the flange portion 43 are formed.

蓋部材40は、セラミック基板や水晶基板等にエッチング加工によって凹部49を設けることで形成されてもよい。 The lid member 40 may be formed by providing a concave portion 49 by etching a ceramic substrate, a crystal substrate, or the like.

次に、水晶振動素子10を搭載する(S30)。 Next, the crystal oscillator 10 is mounted (S30).

まず、水晶振動素子を準備する。水晶の結晶体をスライスして水晶ウェハを形成する。水晶ウェハには、化学機械研磨などの平坦化処理や、リンス液による洗浄処理など、適宜必要な処理が実施されてもよい。次に、水晶ウェハの一部を除去加工し、互いに連結した複数の水晶片の輪郭を形成する。次に、複数の水晶片のそれぞれの一部を除去加工し、複数の水晶片のそれぞれをメサ型構造に加工する。除去加工は、例えばフォトリソグラフィを利用したエッチングによって行われるが、プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)などの他の処理方法によって実施されてもよい。 First, a crystal oscillator is prepared. A quartz crystal is sliced to form a quartz wafer. The crystal wafer may be appropriately subjected to necessary processing such as planarization processing such as chemical mechanical polishing, cleaning processing using a rinse liquid, and the like. Next, a portion of the crystal wafer is removed to form the contours of a plurality of interconnected crystal pieces. Next, a part of each of the plurality of crystal pieces is removed, and each of the plurality of crystal pieces is processed into a mesa structure. The removal process is performed, for example, by etching using photolithography, but may be performed by other processing methods such as plasma CVM (Chemical Vaporization Machining).

次に、複数の水晶片のそれぞれの表面に金属膜を設け、フォトリソグラフィを利用したエッチングによって金属膜の一部を除去加工し、金属膜から電極を形成する。なお、電極の形成方法はエッチングに限定されるものではなく、電極はリフトオフによって形成されてもよい。 Next, a metal film is provided on the surface of each of the plurality of crystal pieces, a portion of the metal film is removed by etching using photolithography, and an electrode is formed from the metal film. The method for forming the electrodes is not limited to etching, and the electrodes may be formed by lift-off.

最後に、水晶振動素子を個片化する。複数の水晶片を連結する部分には、周囲よりも厚みの薄い薄肉部分が形成されており、曲げ応力を加えることで薄肉部分が亀裂の起点となり、複数の水晶片を連結する部分が割断される。薄肉部分は、例えば、複数の水晶片の輪郭を形成する工程や、複数の水晶片のそれぞれをメサ型構造に加工する工程におけるエッチングを利用して形成される。薄肉部分は、スクライブツールによって形成されてもよい。なお、水晶振動素子は、レーザーカッターやダイシングソーなどによる切断によって個片化されてもよい。 Finally, the crystal vibrating element is singulated. A thin portion, which is thinner than the surrounding area, is formed in the portion where the multiple crystal pieces are connected, and when bending stress is applied, the thin portion becomes the starting point of a crack, and the portion that connects the multiple crystal pieces is broken. be. The thin portion is formed, for example, by using etching in a step of forming the contours of the plurality of crystal pieces or a step of processing each of the plurality of crystal pieces into a mesa structure. The thinned portion may be formed by a scribing tool. Note that the crystal vibrating element may be separated into individual pieces by cutting with a laser cutter, a dicing saw, or the like.

次に、水晶振動素子10をベース部材30に接合する。ます、熱硬化性樹脂を含む導電性接着剤ペーストを準備する。次に、昇温していないホットプレートの上にベース部材30を載置する。次に、ベース部材30の第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bのそれぞれの上に導電性接着剤ペーストを塗布する。次に、水晶振動素子10の先端がベース部材30に接触しないように、導電性接着剤ペーストの上に水晶振動素子10を載置する。次に、ホットプレートで加熱して導電性接着剤ペーストを硬化させて第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bを形成する。これにより、ベース部材30の第1電極パッド33a及び第2電極パッド33bのそれぞれと、水晶振動素子10の第1接続電極16a及び第2接続電極16bのそれぞれとを接合する。 Next, the crystal vibrating element 10 is bonded to the base member 30 . First, prepare a conductive adhesive paste containing a thermosetting resin. Next, the base member 30 is placed on a hot plate that has not been heated. Next, a conductive adhesive paste is applied onto each of the first electrode pads 33 a and the second electrode pads 33 b of the base member 30 . Next, the crystal oscillator 10 is placed on the conductive adhesive paste so that the tip of the crystal oscillator 10 does not come into contact with the base member 30 . Next, the conductive adhesive paste is cured by heating with a hot plate to form the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b. Thereby, the first electrode pads 33a and the second electrode pads 33b of the base member 30 and the first connection electrodes 16a and the second connection electrodes 16b of the crystal vibrating element 10 are respectively joined.

なお、導電性接着剤ペーストの上に水晶振動素子10を載置する前に、導電性接着剤ペーストの粘度を調整するための予備加熱を行ってもよい。また、導電性接着剤ペーストの樹脂組成物は、熱硬化性樹脂の組成物に限定されず、光(UV)硬化性樹脂の組成物を含んでもよい。この場合、本工程S40では、導電性接着剤ペーストに光(UV)を照射する工程を含んでもよい。 Note that preheating may be performed to adjust the viscosity of the conductive adhesive paste before placing the crystal oscillator 10 on the conductive adhesive paste. Moreover, the resin composition of the conductive adhesive paste is not limited to a thermosetting resin composition, and may include a light (UV) curable resin composition. In this case, step S40 may include a step of irradiating the conductive adhesive paste with light (UV).

樹脂部材70を設ける工程では、例えば、まず、水晶振動素子10を搭載する前のベース部材30に、熱硬化性樹脂を含む非導電性の樹脂系接着剤ペーストを塗布する。次に、加熱によって導電性接着剤ペーストを硬化させて、樹脂部材70を形成する。樹脂部材70となる樹脂系接着剤ペーストを硬化させる加熱処理は、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bとなる導電性接着剤ペーストを硬化させる加熱処理と同時に行われる。 In the step of providing the resin member 70, for example, first, a non-conductive resin-based adhesive paste containing a thermosetting resin is applied to the base member 30 before mounting the crystal vibrating element 10 thereon. Next, the conductive adhesive paste is cured by heating to form the resin member 70 . The heat treatment for curing the resin-based adhesive paste that forms the resin member 70 is performed simultaneously with the heat treatment for curing the conductive adhesive paste that forms the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b.

樹脂部材70を硬化させる加熱処理は、第1導電性保持部材36a及び第2導電性保持部材36bを硬化させる加熱処理の前又は後に行われてもよい。また、樹脂部材70は、ベース部材30に水晶振動素子10を搭載した後に設けられてもよい。樹脂部材70は、光硬化性樹脂を含む樹脂系接着剤ペーストによって形成されてもよい。 The heat treatment for curing the resin member 70 may be performed before or after the heat treatment for curing the first conductive holding member 36a and the second conductive holding member 36b. Alternatively, the resin member 70 may be provided after the crystal vibrating element 10 is mounted on the base member 30 . The resin member 70 may be made of a resin-based adhesive paste containing a photocurable resin.

次に、水晶振動素子10を収容する(S40)。 Next, the crystal vibrating element 10 is housed (S40).

まず、蓋部材40を収納トレイに入れる。収納トレイには、蓋部材40がほぼ隙間なく収納可能な有底の開口部が設けられている。天壁部41の天壁上面41Aを開口部の底に向けて、蓋部材を開口部に収納する。 First, the lid member 40 is placed in the storage tray. The storage tray is provided with a bottomed opening in which the lid member 40 can be stored almost without gaps. The top wall upper surface 41A of the top wall portion 41 is directed toward the bottom of the opening, and the lid member is accommodated in the opening.

次に、フランジ部43のフランジ下面43Bの上に、金属半田を設ける。金属半田は、金錫(Au-Sn)系の共晶合金である。なお、金属半田は、ベース部材30に設けられたメタライズ層の上に設けられていてもよい。 Next, metal solder is provided on the flange lower surface 43B of the flange portion 43 . The metal solder is a gold-tin (Au—Sn)-based eutectic alloy. Note that the metal solder may be provided on the metallized layer provided on the base member 30 .

次に、ベース部材を収納トレイに入れる。水晶振動素子10を蓋部材40側に向けて、水晶振動素子10が搭載されたベース部材30を開口部に収納する。このとき、蓋部材40の金属半田に、ベース部材30のメタライズ層が重なる。 Next, the base member is placed in the storage tray. The base member 30 on which the crystal oscillator 10 is mounted is housed in the opening with the crystal oscillator 10 facing the lid member 40 side. At this time, the metallized layer of the base member 30 overlaps the metal solder of the lid member 40 .

次に、ベース部材30と蓋部材40とを接合する(S50)。 Next, the base member 30 and the lid member 40 are joined together (S50).

金属半田を加熱して軟化させ、軟化した金属半田を冷却して固化させる。固化した金属半田はベース部材30のメタライズ層とともに接合部材50を形成し、ベース部材30と蓋部材40とを接合して内部空間に相当する凹部49を封止する。工程S50における加熱処理は、本発明に係る「第1加熱処理」の一例に相当する。 The metal solder is heated to soften, and the softened metal solder is cooled to solidify. The solidified metal solder forms the joint member 50 together with the metallized layer of the base member 30, joins the base member 30 and the lid member 40, and seals the recess 49 corresponding to the internal space. The heat treatment in step S50 corresponds to an example of the "first heat treatment" according to the present invention.

次に、樹脂膜CTを形成する(S60)。 Next, a resin film CT is formed (S60).

封止された水晶振動子1を加熱し、樹脂部材70から樹脂膜CTの原料を供給する。具体的には、樹脂部材70から樹脂膜CTの原料を飛散させ、当該原料を内部空間の露出面に堆積させて樹脂膜CTを成膜する。樹脂膜CTは、水晶振動素子10、ベース部材30、蓋部材40及び接合部材50を覆う。工程S60における加熱処理は、本発明に係る「第2加熱処理」の一例に相当する。 The sealed crystal oscillator 1 is heated, and the raw material for the resin film CT is supplied from the resin member 70 . Specifically, the raw material of the resin film CT is scattered from the resin member 70 and deposited on the exposed surface of the internal space to form the resin film CT. The resin film CT covers the crystal vibrating element 10 , the base member 30 , the lid member 40 and the bonding member 50 . The heat treatment in step S60 corresponds to an example of the "second heat treatment" according to the present invention.

なお、本実施形態において、第1加熱処理と第2加熱処理とは異なる加熱処理であるとして説明したが、第1加熱処理と第2加熱処理とは同一加熱処理であってもよい。すなわち、一回の加熱処理で、ベース部材30と蓋部材40とを接合するとともに、樹脂膜CTを形成してもよい。 Although the first heat treatment and the second heat treatment are different heat treatments in the present embodiment, the first heat treatment and the second heat treatment may be the same heat treatment. In other words, the base member 30 and the lid member 40 may be bonded and the resin film CT may be formed in one heat treatment.

最後に、水晶振動子1を収納トレイから取り出す。 Finally, the crystal oscillator 1 is taken out from the storage tray.

なお、ベース部材30を準備する工程S10と、蓋部材40を準備する工程S20と、水晶振動素子10を準備する工程との順番は、上記に限定されるものではない。工程S10は、工程S20の後に実施されてもよく、水晶振動素子10を準備する工程の後に実施されてもよい。工程S20は、水晶振動素子10を準備する工程の後に実施されてもよい。 The order of the step S10 of preparing the base member 30, the step S20 of preparing the lid member 40, and the step of preparing the crystal vibrating element 10 is not limited to the above. Step S<b>10 may be performed after step S<b>20 or after the step of preparing crystal oscillator 10 . Step S<b>20 may be performed after the step of preparing crystal oscillator 10 .

また、樹脂部材70となる樹脂系接着剤ペーストは、水晶振動素子10を収容する工程S40の後に硬化させてもよい。例えば、ベース部材30と蓋部材40とを接合する工程S50の接合部材50を硬化させる加熱処理を利用して、樹脂部材70となる樹脂系接着剤ペーストを加熱して硬化させてもよい。このような場合、樹脂部材70の硬化工程において樹脂膜CTを形成してもよい。 Moreover, the resin-based adhesive paste that forms the resin member 70 may be cured after the step S40 of housing the crystal vibrating element 10 . For example, the heat treatment for curing the bonding member 50 in the step S50 of bonding the base member 30 and the lid member 40 may be used to heat and cure the resin-based adhesive paste that forms the resin member 70 . In such a case, the resin film CT may be formed in the step of curing the resin member 70 .

以上のように、第1実施形態では、異物DSを被覆するための樹脂膜CTの供給源となる樹脂部材70がベース部材30に設けられている。これによれば、異物DSの水晶振動素子10への付着又は水晶振動素子10からの脱落が抑制されることにより、周波数変動が抑制される。 As described above, in the first embodiment, the base member 30 is provided with the resin member 70 that serves as the supply source of the resin film CT for covering the foreign matter DS. According to this, the adhesion of the foreign matter DS to the crystal vibrating element 10 or the falling off from the crystal vibrating element 10 is suppressed, thereby suppressing the frequency fluctuation.

樹脂部材70は、平面視において水晶振動素子10の外側の領域に設けられているため、水晶振動素子10と樹脂部材70との干渉による振動特性の劣化が生じない。 Since the resin member 70 is provided in the region outside the crystal vibrating element 10 in plan view, deterioration of vibration characteristics due to interference between the crystal vibrating element 10 and the resin member 70 does not occur.

樹脂部材70は複数の樹脂片71~74からなり、平面視において複数の樹脂片71~74は水晶振動素子10の周囲に均等に配置さているため、樹脂膜CTのムラを低減することができる。 The resin member 70 is composed of a plurality of resin pieces 71 to 74, and since the plurality of resin pieces 71 to 74 are evenly arranged around the crystal vibrating element 10 in plan view, unevenness of the resin film CT can be reduced. .

なお、複数の樹脂片71~74の少なくとも1つは、平面視において水晶振動素子10における導電性保持部材36a,36bとは反対側に設けられている。したがって、たとえ平面視において水晶振動素子10における導電性保持部材36a,36b側の樹脂片を省略したとしても、導電性保持部材36a,36bも樹脂膜CTの供給源として利用することで、樹脂膜CTのムラを低減することができる。つまり、樹脂片の一部省略によって小型化しつつ周波数変動を抑制することができる。 At least one of the plurality of resin pieces 71 to 74 is provided on the opposite side of the crystal vibrating element 10 from the conductive holding members 36a and 36b in plan view. Therefore, even if the resin pieces on the side of the conductive holding members 36a and 36b in the crystal vibrating element 10 are omitted in plan view, the conductive holding members 36a and 36b can also be used as supply sources for the resin film CT. CT unevenness can be reduced. In other words, frequency fluctuation can be suppressed while downsizing is achieved by partly omitting the resin pieces.

以下に、本発明の他の実施形態に係る水晶振動子1の構成について説明する。なお、下記の実施形態では、上記の第1実施形態と共通の事柄については記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については逐次言及しない。 The configuration of a crystal oscillator 1 according to another embodiment of the present invention will be described below. In addition, in the following embodiment, the description of matters common to the first embodiment will be omitted, and only the points of difference will be described. In particular, similar actions and effects due to similar configurations will not be mentioned successively.

<第2実施形態>
図5を参照しつつ、第2実施形態に係る水晶振動子2の構成について説明する。図5は、第2実施形態に係る水晶振動子の構成を概略的に示す断面図である。
<Second embodiment>
The configuration of the crystal resonator 2 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a crystal oscillator according to the second embodiment.

本実施形態において、樹脂部材270は、蓋部材40の天壁部41に設けられている。なお、樹脂部材270は、蓋部材40の側壁部42に設けられてもよい。 In this embodiment, the resin member 270 is provided on the ceiling wall portion 41 of the lid member 40 . Note that the resin member 270 may be provided on the side wall portion 42 of the lid member 40 .

<第3実施形態>
図6を参照しつつ、第2実施形態に係る水晶振動子3の構成について説明する。図6は、第3実施形態に係るベース部材及び水晶振動素子の構成を概略的に示す平面図である。
<Third Embodiment>
The configuration of the crystal resonator 3 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a plan view schematically showing the configuration of a base member and a crystal vibrating element according to the third embodiment.

平面視において、樹脂部材370は、水晶振動素子10を囲む枠状に設けられている。なお、樹脂部材370は水晶振動素子10を囲む領域において、水晶振動素子10又は接合部材50に沿って設けられていれば、その形状は枠状に限定されるものではない。例えば、樹脂部材370は、水晶振動素子10の角部に沿ってL字状に設けられてもよく、水晶振動素子10における導電性保持部材36a,36bの側とは反対側においてU字状に設けられてもよい。 In plan view, the resin member 370 is provided in a frame shape surrounding the crystal vibrating element 10 . The shape of the resin member 370 is not limited to a frame shape as long as the resin member 370 is provided along the crystal vibrating element 10 or the bonding member 50 in the region surrounding the crystal vibrating element 10 . For example, the resin member 370 may be provided in an L shape along the corners of the crystal vibrating element 10, and may be formed in a U shape on the opposite side of the crystal vibrating element 10 from the side of the conductive holding members 36a and 36b. may be provided.

以下に、本発明の実施形態の一部又は全部を付記する。なお、本発明は以下の付記に限定されるものではない。 Some or all of the embodiments of the present invention are described below. In addition, the present invention is not limited to the following additional remarks.

本発明の一態様によれば、圧電片及び圧電片に電圧を印加可能に構成された励振電極を有する水晶振動素子と、水晶振動素子が搭載されたベース部材と、水晶振動素子とベース部材とを電気的に接続する導電性保持部材と、ベース部材との間に設けられた内部空間に水晶振動素子を収容する蓋部材と、ベース部材と蓋部材とを接合する接合部材と、を備え、内部空間において、ベース部材及び蓋部材の少なくとも一方には、内部空間に存在する異物を被覆するための樹脂膜の供給源となる樹脂部材が設けられている、水晶振動子が提供される。 According to one aspect of the present invention, there are provided: a crystal resonator element having a piezoelectric piece and an excitation electrode configured to apply a voltage to the piezoelectric piece; a base member on which the crystal resonator element is mounted; the crystal resonator element and the base member; a conductive holding member that electrically connects the base member, a cover member that accommodates the crystal oscillator in an internal space provided between the base member and the base member, and a joining member that joins the base member and the cover member; A crystal oscillator is provided in which at least one of the base member and the lid member in the internal space is provided with a resin member serving as a supply source of a resin film for covering foreign matter present in the internal space.

一態様として、平面視において、樹脂部材は、水晶振動素子の外側の領域に設けられている。 As one aspect, in plan view, the resin member is provided in a region outside the crystal vibrating element.

一態様として、樹脂部材は、複数の樹脂片を含む。 As one aspect, the resin member includes a plurality of resin pieces.

一態様として、平面視において、複数の樹脂片は、水晶振動素子の周囲に均等に配置されている。 As one aspect, in plan view, the plurality of resin pieces are evenly arranged around the crystal vibrating element.

一態様として、平面視において、複数の樹脂片の少なくとも1つは、水晶振動素子における導電性保持部材とは反対側に設けられている。 As one mode, in a plan view, at least one of the plurality of resin pieces is provided on the opposite side of the crystal vibrating element to the conductive holding member.

一態様として、平面視において、樹脂部材は、水晶振動素子の少なくとも一部を囲むL字状、U字状又は枠状に設けられている。 As one aspect, in a plan view, the resin member is provided in an L-shape, a U-shape, or a frame shape surrounding at least a portion of the crystal vibrating element.

一態様として、樹脂部材は、接合部材から離間している。 As one aspect, the resin member is spaced apart from the joining member.

本発明の他の一態様によれば、ベース部材を準備することと、蓋部材を準備することと、ベース部材及び蓋部材の少なくとも一方に樹脂部材を設けることと、ベース部材に水晶振動素子を搭載することと、ベース部材及び蓋部材の一方に他方を搭載することと、ベース部材と蓋部材との間の内部空間に収容された樹脂部材を供給源として、内部空間に存在する異物を被覆するために樹脂膜を形成することと、を含む、水晶振動子の製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, preparing a base member; preparing a lid member; providing a resin member in at least one of the base member and the lid member; Mounting, mounting one of the base member and the lid member on the other, and covering the foreign matter present in the interior space by using the resin member accommodated in the interior space between the base member and the lid member as a supply source. and forming a resin film to form a crystal oscillator.

一態様として、ベース部材と蓋部材との接合部材を加熱する第1加熱処理と、樹脂部材を供給源として樹脂膜を形成する第2加熱処理とを含む。 One aspect includes a first heat treatment for heating a joining member between a base member and a lid member, and a second heat treatment for forming a resin film using a resin member as a supply source.

一態様として、第1加熱処理と第2加熱処理とは、同一加熱処理である。 As one aspect, the first heat treatment and the second heat treatment are the same heat treatment.

一態様として、第1加熱処理と第2加熱処理とは、異なる加熱処理である。 As one aspect, the first heat treatment and the second heat treatment are different heat treatments.

なお、本発明に係る実施形態は、水晶振動子に限定されるものではなく、他の圧電振動子(Piezoelectric Resonator Unit)にも適用可能である。本実施形態に係る圧電振動子に好適に用いられる圧電片としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)や窒化アルミニウムなどの圧電セラミック、ニオブ酸リチウムやタンタル酸リチウムなどの圧電単結晶、を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく適宜選択可能である。 It should be noted that the embodiments according to the present invention are not limited to crystal resonators, and can also be applied to other piezoelectric resonators (Piezoelectric Resonator Unit). Piezoelectric pieces suitably used in the piezoelectric vibrator according to this embodiment include, for example, piezoelectric ceramics such as lead zirconate titanate (PZT) and aluminum nitride, and piezoelectric single crystals such as lithium niobate and lithium tantalate. However, it is not limited to these and can be selected as appropriate.

本発明に係る実施形態は、タイミングデバイス、発音器、発振器、荷重センサなど、圧電効果により電気機械エネルギー変換を行うデバイスであれば、特に限定されることなく適宜適用可能である。 Embodiments according to the present invention are applicable to any device, such as a timing device, a sound generator, an oscillator, a load sensor, or the like, which performs electromechanical energy conversion by means of a piezoelectric effect, without particular limitation.

以上説明したように、本発明の一態様によれば、周波数変動が抑制可能な圧電振動子及びその製造方法が提供できる。 As described above, according to one aspect of the present invention, it is possible to provide a piezoelectric vibrator capable of suppressing frequency fluctuation and a method for manufacturing the same.

なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更/改良され得るとともに、本発明にはその等価物も含まれる。即ち、各実施形態に当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、各実施形態が備える各要素及びその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。 In addition, the embodiment described above is intended to facilitate understanding of the present invention, and is not intended to limit and interpret the present invention. The present invention may be modified/improved without departing from its spirit, and the present invention also includes equivalents thereof. In other words, any embodiment appropriately modified in design by a person skilled in the art is also included in the scope of the present invention as long as it has the features of the present invention. For example, each element provided in each embodiment and its arrangement, material, condition, shape, size, etc. are not limited to those illustrated and can be changed as appropriate. Moreover, each element provided in each embodiment can be combined as long as it is technically possible, and a combination thereof is also included in the scope of the present invention as long as it includes the features of the present invention.

1…水晶振動子、
10…水晶振動素子、
11…水晶片、
14a,14b…励振電極、
15a,15b…引出電極、
16a,16b…接続電極、
17…励振部、
18…周辺部、
30…ベース部材、
36a,36b…導電性保持部材
40…蓋部材、
50…接合部材
70…樹脂部材、
71,72,73,74…樹脂片、
CT…樹脂膜、
DS…異物。
1 ... crystal oscillator,
10 ... crystal oscillator,
11... crystal piece,
14a, 14b... excitation electrodes,
15a, 15b... Extraction electrodes,
16a, 16b ... connection electrodes,
17 ... excitation unit,
18... Peripheral part,
30 ... Base member,
36a, 36b... Conductive holding member 40... Lid member,
50... Joining member 70... Resin member,
71, 72, 73, 74... resin pieces,
CT: resin film,
DS: foreign matter.

Claims (12)

圧電片及び前記圧電片に電圧を印加可能に構成された励振電極を有する圧電振動素子と、
前記圧電振動素子が搭載されたベース部材と、
前記圧電振動素子と前記ベース部材とを電気的に接続する導電性保持部材と、
前記ベース部材との間に設けられた内部空間に前記圧電振動素子を収容する蓋部材と、
前記ベース部材と前記蓋部材とを接合する接合部材と、
を備え、
前記内部空間において、前記ベース部材及び前記蓋部材の少なくとも一方には、前記内部空間に存在する異物を被覆するための樹脂膜の供給源となる樹脂部材が設けられている、
圧電振動子。
a piezoelectric vibration element having a piezoelectric piece and an excitation electrode configured to apply a voltage to the piezoelectric piece;
a base member on which the piezoelectric vibration element is mounted;
a conductive holding member that electrically connects the piezoelectric vibrating element and the base member;
a lid member that accommodates the piezoelectric vibrating element in an internal space provided between the base member;
a joining member that joins the base member and the lid member;
with
In the internal space, at least one of the base member and the lid member is provided with a resin member serving as a supply source of a resin film for covering foreign matter present in the internal space.
piezoelectric vibrator.
平面視において、前記樹脂部材は、前記圧電振動素子の外側の領域に設けられている、
請求項1に記載の圧電振動子。
In plan view, the resin member is provided in a region outside the piezoelectric vibrating element,
The piezoelectric vibrator according to claim 1.
前記樹脂部材は、複数の樹脂片を含む、
請求項2に記載の圧電振動子。
The resin member includes a plurality of resin pieces,
The piezoelectric vibrator according to claim 2.
平面視において、前記複数の樹脂片は、前記圧電振動素子の周囲に均等に配置されている、
請求項3に記載の圧電振動子。
In plan view, the plurality of resin pieces are evenly arranged around the piezoelectric vibrating element,
The piezoelectric vibrator according to claim 3.
平面視において、前記複数の樹脂片の少なくとも1つは、前記圧電振動素子における前記導電性保持部材とは反対側に設けられている、
請求項3又は4に記載の圧電振動子。
In plan view, at least one of the plurality of resin pieces is provided on a side of the piezoelectric vibrating element opposite to the conductive holding member,
The piezoelectric vibrator according to claim 3 or 4.
平面視において、前記樹脂部材は、前記圧電振動素子の少なくとも一部を囲むL字状、U字状又は枠状に設けられている、
請求項2に記載の圧電振動子。
In plan view, the resin member is provided in an L-shape, a U-shape, or a frame shape surrounding at least a portion of the piezoelectric vibrating element.
The piezoelectric vibrator according to claim 2.
前記樹脂部材は、前記接合部材から離間している、
請求項1から6のいずれか1項に記載の圧電振動子。
The resin member is separated from the joining member,
The piezoelectric vibrator according to any one of claims 1 to 6.
前記圧電振動素子は、前記圧電片として水晶片を用いる水晶振動素子である、
請求項1から7のいずれか1項に記載の圧電振動子。
The piezoelectric vibrating element is a crystal vibrating element using a crystal piece as the piezoelectric piece,
The piezoelectric vibrator according to any one of claims 1 to 7.
ベース部材を準備することと、
蓋部材を準備することと、
前記ベース部材及び前記蓋部材の少なくとも一方に樹脂部材を設けることと、
前記ベース部材に圧電振動素子を搭載することと、
前記ベース部材及び前記蓋部材の一方に他方を搭載することと、
前記ベース部材と前記蓋部材との間の内部空間に収容された前記樹脂部材を供給源として、前記内部空間に存在する異物を被覆するために樹脂膜を形成することと、
を含む、
圧電振動子の製造方法。
providing a base member;
providing a lid member;
providing a resin member on at least one of the base member and the lid member;
mounting a piezoelectric vibration element on the base member;
mounting one of the base member and the lid member on the other;
forming a resin film to cover foreign matter present in the internal space using the resin member accommodated in the internal space between the base member and the lid member as a supply source;
including,
A method for manufacturing a piezoelectric vibrator.
前記ベース部材と前記蓋部材との接合部材を加熱する第1加熱処理と、
前記樹脂部材を供給源として前記樹脂膜を形成する第2加熱処理と
を含む、
請求項9に記載の圧電振動子の製造方法。
a first heat treatment for heating a joining member between the base member and the lid member;
a second heat treatment for forming the resin film using the resin member as a supply source;
10. The method of manufacturing the piezoelectric vibrator according to claim 9.
前記第1加熱処理と前記第2加熱処理とは、同一加熱処理である、
請求項10に記載の圧電振動子の製造方法。
The first heat treatment and the second heat treatment are the same heat treatment,
11. The method of manufacturing the piezoelectric vibrator according to claim 10.
前記第1加熱処理と前記第2加熱処理とは、異なる加熱処理である、
請求項10に記載の圧電振動子の製造方法。
The first heat treatment and the second heat treatment are different heat treatments,
11. The method of manufacturing the piezoelectric vibrator according to claim 10.
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