JP2023000755A - マススペクトル処理装置及びマススペクトル処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ポリマーは、あるモノマー単位が繰り返される構造を有する。そのため、ポリマーの質量は、主に、モノマーの数(つまり重合度)と両末端基の質量とによって特徴付けられる。質量分析システムでは、イオン化のためにカチオン化剤が用いられることもある。そのため、マススペクトル上で観測されるポリマーの質量は、一般的に、以下の式(1)のように表現される。
(ポリマーの質量)=(モノマーの質量)×(重合度)+(末端基の質量)+(カチオン化剤の質量)・・・(1)
ケンドリックマスディフェクト解析法(以下、「KMD解析法」と称する)は、繰り返し構造を有するポリマーのマススペクトル上に等間隔に現れるピーク群を、KMDプロットと呼ばれる図によって可視化する方法である。KMDプロットの横軸は、質量の整数成分に関連する値を示し、縦軸は、質量の小数部分に関連する値を示す。小数部分に関連する値をプロットする必要があるため、質量精度が重要となる。そのため、KMD解析法では、フーリエ変換型質量分析計や飛行時間型質量分析計(例えば、10m以上の飛行時間を有する装置)によって得られるデータが用いられる。
KM=M×Mri/Mr・・・(2)
An=Mr×n+Me+Mc・・・(3)
KM=Mri×n+(Me+Mc)Mri/Mr・・・(4)
KMD=NKM-KM・・・(5)
KMD=1-Round{(Me+Mc)Mri/Mr}・・・(6)
RKM=KM/Mri-Floor(KM/Mri)・・・(7)
RKM={n+(Me+Mc)/Mr}-Floor(n+(Me+Mc)/Mr)
・・・(8)
RKM=(Me+Mc)/Mr-Floor((Me+Mc)/Mr)・・・(9)
図7を参照して、実施形態に係る質量分析システム10について説明する。図7は、質量分析システム10の構成を示すブロック図である。
以下、図8を参照して、実施例1に係る処理について説明する。図8は、実施例1に係る処理の流れを示すフローチャートである。
以下、図11を参照して、実施例2に係る処理について説明する。図11は、実施例2に係る処理の流れを示すフローチャートである。
以下、実施例3について説明する。質量分析法では、一般的に、分子量が大きくなるに従い質量誤差が大きくなる。すなわち、KMDのばらつきが大きくなる。
以下、実施例4について説明する。実施例4では、同位体ピークの分布が考慮されたRKMの許容範囲が設定される。
以下、実施例5について説明する。
以下、実施例6について説明する。
Claims (13)
- 合成高分子を含む試料のマススペクトルに対してピーク判定を行うことで、ピークリストを作成するリスト作成部と、
前記ピークリストに含まれる複数のピークのそれぞれについて、指定されたモノマーについてのKM(ケンドリックマス)を計算し、前記KMを前記モノマーの整数質量で除した場合における小数点以下の部分であるRKM、又は、NKM(ノミナルケンドリックマス)を前記モノマーの整数質量で除した場合における余りであるRKMを算出する解析部と、
前記ピークリストに含まれる複数のピークであって、起点ピークのRKMに対する許容範囲を含むグループ化条件を満たす複数のピークを、グループ化するグループ化部と、
を含むことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1に記載のマススペクトル処理装置において、
前記解析部は、更に、前記ピークリストに含まれる複数のピークのそれぞれについて、前記モノマーについてのKMD(ケンドリックマスディフェクト)を計算し、
前記グループ化部は、前記ピークリストに含まれる複数のピークであって、前記起点ピークのKMDに対する許容範囲と前記起点ピークのRKMに対する許容範囲とを含むグループ化条件を満たす複数のピークを、グループ化する、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1に記載のマススペクトル処理装置において、
前記解析部は、前記KMの整数部分であるNKMとRKMとの2軸で定義される座標系に前記ピークリストに含まれる複数のピークを複数のピーク点としてプロットすることでNKM-RKMプロットを作成し、
前記NKM-RKMプロットは、ディスプレイに表示される、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項2に記載のマススペクトル処理装置において、
前記解析部は、前記KMの整数部分であるNKMとKMDとの2軸で定義される座標系に前記ピークリストに含まれる複数のピークを複数のピーク点としてプロットすることでKMDプロットを作成し、RKMとKMDとの2軸で定義される座標系に前記ピークリストに含まれる複数のピークを複数のピーク点としてプロットすることでRKM-KMDプロットを作成し、
前記KMDプロットと前記RKM-KMDプロットは、ディスプレイに表示される、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
前記グループ化部は、前記ピークリストに基づいて表示用ピークリストを作成し、前記表示用ピークリストにおいて、グループ毎にグループに含まれるピーク群の色を異ならせる、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
グループ毎に、グループに含まれる各ピークのイオン強度に基づいて、グループのポリマー指標を演算する指標演算部を更に含む、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
前記解析部は、前記ピークリストからグループ化されたピークを削除し、その削除後のピークリストを対象としてグループ化を行い、その削除及びグループ化の処理を繰り返して実行することで、複数のグループを形成する、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項2に記載のマススペクトル処理装置において、
前記起点ピークのKMDに対する許容範囲は、分子量に応じて大きくなる、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
前記起点ピークはモノアイソトピックピークであり、
前記グループ化部は、分子量が大きくなるに従い、RKMの許容範囲を大きくする、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
前記起点ピークは、前記試料の同位体ピークの中でイオン強度が最大のピークであり、
前記グループ化部は、分子量が大きくなるに従い、RKMの許容範囲を大きくする、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1から請求項10のいずれか一項に記載のマススペクトル処理装置において、
前記グループ化部は、グループ化されたピークの数の下限値に従って、グループ化されたピークが、ポリマーのピークであるか否かを判定する、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 合成高分子を含む試料のマススペクトルに対してピーク判定を行うことで、ピークリストを作成し、
前記ピークリストに含まれる複数のピークのそれぞれについて、指定されたモノマーについてのKM(ケンドリックマス)を計算し、前記KMを前記モノマーの整数質量で除した場合における小数点以下の部分であるRKM、又は、NKM(ノミナルケンドリックマス)を前記モノマーの整数質量で除した場合における余りであるRKMを算出し、
前記ピークリストに含まれる複数のピークであって、起点ピークのRKMに対する許容範囲を含むグループ化条件を満たす複数のピークを、グループ化する、
ことを特徴とするマススペクトル処理方法。 - 請求項12に記載のマススペクトル処理方法において、更に、
前記ピークリストに含まれる複数のピークのそれぞれについて、前記モノマーについてのKMD(ケンドリックマスディフェクト)を計算し、
前記ピークリストに含まれる複数のピークであって、前記起点ピークのKMDに対する許容範囲と前記起点ピークのRKMに対する許容範囲とを含むグループ化条件を満たす複数のピークを、グループ化する、
ことを特徴とするマススペクトル処理方法。
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