JP2023000610A - Processing device - Google Patents

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grinding
fluid
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祥光 根本
Yoshimitsu Nemoto
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Abstract

To suppress adhesion of a processed waste to an exposed holding surface.SOLUTION: In a first grinding device 1 including a first chuck table 21 for sucking and holding a workpiece on a suction surface 610, and a grinding mechanism 3 for grinding the workpiece sucked and held on the suction surface 610, the suction surface 610 has at least a first suction surface 611 for sucking and holding a lower surface 112 of a first workpiece 11 and a second suction surface 612 for sucking and holding a lower surface 122 of a second workpiece 12. When the first suction surface 611 is made to communicate with a suction source 7 and the first workpiece 11 sucked and held on the first suction surface 611 is ground, a fluid is jetted from the second suction surface 612 by a fluid jet mechanism 101. Thereby, adhesion of the processing waste to the exposed second suction surface 612 can be suppressed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、加工装置に関する。 The present invention relates to processing equipment.

特許文献1に開示のように研削装置は、少なくとも2つ異なる大きさの被加工物を吸引保持する事が可能なチャックテーブルを備え、チャックテーブルが吸引保持した被加工物を研削砥石で研削している。 As disclosed in Patent Document 1, a grinding apparatus includes a chuck table capable of sucking and holding at least two different sizes of workpieces, and grinds the workpieces sucked and held by the chuck table with a grinding wheel. ing.

チャックテーブルは、面積の小さい被加工物を保持しているときに、面積の大きい被加工物を保持する保持面を露出させている。 The chuck table exposes a holding surface for holding a large-area workpiece while holding a small-area workpiece.

特開2013-226607号公報JP 2013-226607 A

そのため、面積の小さい被加工物を保持面に保持して研削加工した際に生じる加工屑が、その被加工物の周囲に露出している保持面に付着するという問題がある。
したがって、小さい被加工物を研削している際に、露出している保持面に加工屑が付着することを抑制させたいという課題がある。
As a result, there is a problem that when a workpiece having a small area is held on the holding surface and ground, the machining waste generated adheres to the holding surface exposed around the workpiece.
Therefore, when grinding a small workpiece, there is a problem that it is desirable to suppress the adhesion of processing waste to the exposed holding surface.

本発明の第1の加工装置は、吸引面で被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、該吸引面は、少なくとも第1被加工物の下面を吸引保持する第1吸引面と、第2被加工物の下面を吸引保持する第2吸引面とを備え、該第1吸引面が吸引保持した該第1被加工物を加工する際に、該第2吸引面のうち、該第1被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させ、該第2吸引面が吸引保持した該第2被加工物を加工する際に、該第1吸引面のうち、該第2被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させる、流体噴出機構を備える。
本発明の第2の加工装置は、少なくとも2つの被加工物を各々吸引保持する少なくとも2つの第3吸引面を有するチャックテーブルと、該第3吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、少なくとも2つの該第3吸引面のうちのどちらか一方のみ吸引源を連通させ吸引保持した被加工物を加工する際に、他方の吸引面から流体を噴出させる流体噴出機構を備える。
上記した第1あるいは第2の加工装置において、該流体噴出機構によって噴出される流体は、水とエアとの混合流体であって、該加工機構は、下面で被加工物を研削する研削砥石を備え、該流体噴出機構によって噴出された混合流体で研削加工中に被加工物に接触していない該研削砥石の下面を洗浄してもよい。
A first processing apparatus of the present invention is a processing apparatus comprising a chuck table that sucks and holds a workpiece on a suction surface, and a machining mechanism that processes the workpiece sucked and held on the suction surface, The suction surface includes a first suction surface for sucking and holding at least the lower surface of the first workpiece, and a second suction surface for sucking and holding the lower surface of the second workpiece, wherein the first suction surface sucks and holds the lower surface of the second workpiece. When processing the first workpiece, the fluid is ejected from a portion of the second suction surface where the first workpiece is not suctioned and held, and the second suction surface sucks and holds the first workpiece. A fluid ejecting mechanism is provided for ejecting fluid from a portion of the first suction surface that does not hold the second workpiece by suction when machining the second workpiece.
A second machining apparatus of the present invention includes a chuck table having at least two third suction surfaces for sucking and holding at least two workpieces, and machining the workpiece sucked and held on the third suction surfaces. and a machining mechanism, wherein when machining a workpiece suction-held with a suction source communicated with only one of the at least two third suction surfaces, a fluid is discharged from the other suction surface. A fluid ejection mechanism for ejecting is provided.
In the first or second processing apparatus described above, the fluid ejected by the fluid ejection mechanism is a mixed fluid of water and air, and the processing mechanism includes a grinding wheel for grinding the workpiece on its lower surface. The lower surface of the grinding wheel which is not in contact with the workpiece during grinding may be washed with the mixed fluid ejected by the fluid ejecting mechanism.

第1の加工装置では、第1吸引面が吸引保持した第1被加工物を加工機構によって研削加工する際に、流体噴出機構によって第2吸引面から流体を噴出させている。従って、この流体により、研削砥石の下面を洗浄することができる。これにより、第1被加工物の加工時に露出している第2吸引面に、第1被加工物の加工中に発生する加工屑が付着することを抑制できる。
第2の加工装置では、第3吸引面が吸引保持した被加工物を加工機構によって研削加工する際に、流体噴出機構によって第4吸引面から流体を噴出させている。従って、この流体により、研削砥石の下面を洗浄することができる。これにより、被加工物の加工時に露出している第4吸引面に、被加工物の加工中に発生する加工屑が付着するのを抑制できる。
In the first machining apparatus, when the first workpiece sucked and held by the first suction surface is ground by the machining mechanism, the fluid is ejected from the second suction surface by the fluid ejection mechanism. This fluid can thus clean the underside of the grinding wheel. As a result, it is possible to suppress the attachment of processing waste generated during processing of the first workpiece to the second suction surface exposed during processing of the first workpiece.
In the second machining apparatus, when the machining mechanism grinds the workpiece sucked and held by the third suction surface, the fluid ejection mechanism ejects the fluid from the fourth suction surface. This fluid can thus clean the underside of the grinding wheel. As a result, it is possible to suppress the attachment of processing waste generated during processing of the workpiece to the fourth suction surface exposed during processing of the workpiece.

第1研削装置の斜視図である。It is a perspective view of a first grinding device. 第1チャックテーブル、第1被加工物、及び研削機構の断面図である。It is a sectional view of a 1st chuck table, a 1st workpiece, and a grinding mechanism. 第1チャックテーブル21の上面図である。4 is a top view of the first chuck table 21; FIG. 第2チャックテーブルの上面図である。FIG. 4 is a top view of a second chuck table; 第3チャックテーブルの上面図である。FIG. 11 is a top view of a third chuck table; 第4チャックテーブルの上面図である。FIG. 11 is a top view of a fourth chuck table; (a)は、第1被加工物が吸引保持された第5チャックテーブルの上面図であり、(b)は、第2被加工物が吸引保持された第5チャックテーブルの上面図である。(a) is a top view of a fifth chuck table on which a first workpiece is held by suction, and (b) is a top view of a fifth chuck table on which a second workpiece is held by suction. 第6チャックテーブルの上面図である。FIG. 11 is a top view of a sixth chuck table; 第7チャックテーブルの上面図である。FIG. 11 is a top view of a seventh chuck table; 第2研削装置の説明図である。It is explanatory drawing of a 2nd grinding apparatus.

図1に示す第1研削装置1は、研削機構3によって、直方体状の第1被加工物11及び円板状の第2被加工物12を含む被加工物を研削する装置である。第1研削装置1は、Y軸方向に延設されたベース10と、ベース10の+Y方向側に立設されたコラム100とを備えている。 A first grinding device 1 shown in FIG. 1 is a device that grinds workpieces including a rectangular parallelepiped first workpiece 11 and a disk-shaped second workpiece 12 by a grinding mechanism 3 . The first grinding device 1 includes a base 10 extending in the Y-axis direction and a column 100 standing on the +Y direction side of the base 10 .

第1研削装置1は、ベース10上に、吸引面610で被加工物を吸引保持する第1チャックテーブル21を備えている。第1チャックテーブル21は、ポーラス部材を有する円板状の吸引部60と、吸引部60を支持する枠体69とを備えている。 The first grinding device 1 has a first chuck table 21 on the base 10 that sucks and holds the workpiece with a suction surface 610 . The first chuck table 21 includes a disk-shaped suction portion 60 having a porous member and a frame 69 that supports the suction portion 60 .

吸引部60は、略直方体状の第1吸引部61と、第1吸引部61の外側に配置された円弧柱状(横断面が円弧と直線とに囲われた弓形状を有する)の4つの第2吸引部62とを備えている。 The suction unit 60 includes a substantially rectangular parallelepiped first suction unit 61 and four arc columnar (having an arcuate cross section surrounded by a circular arc and a straight line) disposed outside the first suction unit 61 . 2 suction part 62 .

図2に示すように、第1吸引部61と第2吸引部62とは、枠体69に立設された4枚の仕切り板698(図2においては、そのうちの2枚が示されている)によって仕切られている。 As shown in FIG. 2, the first suction portion 61 and the second suction portion 62 are formed by four partition plates 698 (two of them are shown in FIG. 2) erected on the frame 69. ).

吸引部60の上面である吸引面610は、枠体69の上面690に面一に形成されている。吸引面610は、その中心200を頂点とする円錐面状に形成されている。吸引面610は、図3に示すように、少なくとも、第1被加工物11の下面112(図1参照)を吸引保持する略四角形状の第1吸引面611と、第2被加工物12の下面122(図1参照)を吸引保持する略弓形状の4つの第2吸引面612とを備えている。第2吸引面612は、第1吸引面611の四辺に沿って配置されている。第1吸引面611は、第1吸引部61の上面であり、各第2吸引面612は、各第2吸引部62の上面である。第1チャックテーブル21は、第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)で第2被加工物12の下面122を吸引保持する。 A suction surface 610 that is the upper surface of the suction portion 60 is formed flush with the upper surface 690 of the frame 69 . The suction surface 610 is formed in a conical shape with its center 200 as its apex. As shown in FIG. 3, the suction surface 610 includes at least a substantially rectangular first suction surface 611 for sucking and holding the lower surface 112 (see FIG. 1) of the first workpiece 11, It is provided with four generally arcuate second suction surfaces 612 that suction and hold the lower surface 122 (see FIG. 1). The second suction surface 612 is arranged along the four sides of the first suction surface 611 . The first suction surface 611 is the upper surface of the first suction portion 61 , and each second suction surface 612 is the upper surface of each second suction portion 62 . The first chuck table 21 sucks and holds the lower surface 122 of the second workpiece 12 with a first suction surface 611 and a second suction surface 612 (suction surface 610).

第1チャックテーブル21は、図2に示すように、枠体69を支持する基台699を備えている。枠体69の外周には、複数のネジ貫通孔697が形成されており、基台699における、枠体69のネジ貫通孔697に対応する位置には、ネジ穴695が形成されている。第1チャックテーブル21においては、枠体69のネジ貫通孔697とネジ穴695とにネジ696が螺合しており、枠体69が基台699にネジ留めされている。 The first chuck table 21 includes a base 699 that supports the frame 69, as shown in FIG. A plurality of screw through holes 697 are formed in the outer periphery of the frame 69 , and screw holes 695 are formed in the base 699 at positions corresponding to the screw through holes 697 of the frame 69 . In the first chuck table 21 , screws 696 are screwed into screw through holes 697 and screw holes 695 of the frame 69 , and the frame 69 is screwed to the base 699 .

図1に示すように、第1チャックテーブル21の周囲には、カバー108、及び、カバー108に伸縮自在に連結された蛇腹109が配設されている。図示しない水平移動機構によって、第1チャックテーブル21がY軸方向に移動すると、カバー108が、第1チャックテーブル21とともにY軸方向に移動して、蛇腹109が伸縮する。 As shown in FIG. 1, around the first chuck table 21, a cover 108 and a bellows 109 connected to the cover 108 so as to extend and contract are provided. When the first chuck table 21 is moved in the Y-axis direction by a horizontal movement mechanism (not shown), the cover 108 moves in the Y-axis direction together with the first chuck table 21, and the bellows 109 expands and contracts.

第1研削装置1は、第1研削装置1の諸々の機構の制御を行う制御部19を備えている。 The first grinding device 1 includes a control section 19 that controls various mechanisms of the first grinding device 1 .

第1研削装置1は、図2に示すように、流体噴出機構101を備えている。流体噴出機構101は、第1吸引面611及び第2吸引面612から流体を噴出させる機構である。流体噴出機構101は、吸引源7とエア供給源8と水供給源9とを備えている。 The 1st grinding device 1 is provided with the fluid ejection mechanism 101, as shown in FIG. The fluid ejection mechanism 101 is a mechanism for ejecting fluid from the first suction surface 611 and the second suction surface 612 . The fluid ejection mechanism 101 includes a suction source 7 , an air supply source 8 and a water supply source 9 .

また、流体噴出機構101は、第1流路51を備えている。第1流路51は、枠体69及び基台699を通過するように延びており、枠体69に形成された円形状の第1凹部691を通じて第1吸引部61に接続されている。 The fluid ejection mechanism 101 also includes a first flow path 51 . The first flow path 51 extends through the frame 69 and the base 699 and is connected to the first suction portion 61 through a circular first recess 691 formed in the frame 69 .

流体噴出機構101は、第1流路51に接続された第1配管510を備えている。第1配管510は、基台699の外部に配設されており、第1吸引配管571、第1エア配管581、及び第1水配管591に分岐している。第1吸引配管571、第1エア配管581、及び第1水配管591は、それぞれ、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に接続されている。 The fluid ejection mechanism 101 has a first pipe 510 connected to the first flow path 51 . The first pipe 510 is arranged outside the base 699 and branches into a first suction pipe 571 , a first air pipe 581 and a first water pipe 591 . The first suction pipe 571, the first air pipe 581, and the first water pipe 591 are connected to the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9, respectively.

流体噴出機構101は、第1吸引配管571における吸引源7と第1流路51との間に設けられた第1吸引バルブ71を備えている。第1吸引バルブ71を開くと、第1吸引面611が吸引源7に連通され、吸引源7の吸引力が、第1配管510及び第1流路51を通じて第1吸引部61の第1吸引面611に伝達される。第1被加工物11が第1吸引面611に載置されている状態で、第1吸引バルブ71を開くことにより、第1チャックテーブル21は、第1吸引面611で第1被加工物11を吸引保持する。 The fluid ejection mechanism 101 includes a first suction valve 71 provided between the suction source 7 and the first flow path 51 in the first suction pipe 571 . When the first suction valve 71 is opened, the first suction surface 611 communicates with the suction source 7 , and the suction force of the suction source 7 is applied to the first suction portion 61 through the first pipe 510 and the first flow path 51 . It is transmitted to surface 611 . By opening the first suction valve 71 while the first workpiece 11 is placed on the first suction surface 611 , the first chuck table 21 moves the first workpiece 11 on the first suction surface 611 . to hold the suction.

流体噴出機構101は、第1エア配管581におけるエア供給源8と第1流路51との間に設けられた第1エアバルブ81を備えている。第1エアバルブ81を開くと、第1吸引面611がエア供給源8に連通され、エア供給源8から供給されるエアが、第1配管510及び第1流路51を通って、第1吸引部61の第1吸引面611から噴出する。 The fluid ejection mechanism 101 includes a first air valve 81 provided between the air supply source 8 and the first flow path 51 in the first air pipe 581 . When the first air valve 81 is opened, the first suction surface 611 is communicated with the air supply source 8, and the air supplied from the air supply source 8 passes through the first pipe 510 and the first flow path 51 to the first suction surface 611. It is ejected from the first suction surface 611 of the portion 61 .

流体噴出機構101は、第1水配管591における水供給源9と第1流路51との間に設けられた第1水バルブ91を備えている。第1水バルブ91を開くと、第1吸引面611が水供給源9に連通され、水供給源9から供給される水が、第1配管510及び第1流路51を通って、第1吸引部61の第1吸引面611から噴出する。 The fluid ejection mechanism 101 includes a first water valve 91 provided between the water supply source 9 and the first flow path 51 in the first water pipe 591 . When the first water valve 91 is opened, the first suction surface 611 is communicated with the water supply source 9, and the water supplied from the water supply source 9 passes through the first pipe 510 and the first flow path 51 to the first It is ejected from the first suction surface 611 of the suction portion 61 .

また、第1エアバルブ81と第1水バルブ91とをともに開くと、第1吸引面611が、エア供給源8及び水供給源9に連通され、エア供給源8から供給されるエアと水供給源9から供給される水とが第1配管510内にて混合されて、第1吸引部61の第1吸引面611から、水とエアとの混合流体が噴出する。 Further, when both the first air valve 81 and the first water valve 91 are opened, the first suction surface 611 is communicated with the air supply source 8 and the water supply source 9, and the air and water supplied from the air supply source 8 are supplied. The water supplied from the source 9 is mixed in the first pipe 510 , and a mixed fluid of water and air is ejected from the first suction surface 611 of the first suction portion 61 .

さらに、流体噴出機構101は、第2流路52を備えている。第2流路52は、枠体69及び基台699を通過するように延びており、第1凹部691を囲うようにして枠体69に形成された環状の第2凹部692を通じて、第2吸引部62に接続されている。 Furthermore, the fluid ejection mechanism 101 has a second flow path 52 . The second flow path 52 extends so as to pass through the frame 69 and the base 699 , and passes through an annular second recess 692 formed in the frame 69 so as to surround the first recess 691 . 62.

流体噴出機構101は、基台699の外部に配設され、第2流路52に接続された第2配管520を備えている。第2配管520は、第2吸引配管572、第2エア配管582、及び第2水配管592に分岐している。第2吸引配管572、第2エア配管582、及び第2水配管592は、それぞれ、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に接続されている。 The fluid ejection mechanism 101 includes a second pipe 520 arranged outside the base 699 and connected to the second flow path 52 . The second pipe 520 branches into a second suction pipe 572 , a second air pipe 582 and a second water pipe 592 . The second suction pipe 572, the second air pipe 582, and the second water pipe 592 are connected to the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9, respectively.

流体噴出機構101は、第2吸引配管572に設けられた第2吸引バルブ72、第2エア配管582に設けられた第2エアバルブ82、及び第2水配管592に設けられた第2水バルブ92を備えている。 The fluid ejection mechanism 101 includes a second suction valve 72 provided in the second suction pipe 572, a second air valve 82 provided in the second air pipe 582, and a second water valve 92 provided in the second water pipe 592. It has

第2吸引バルブ72を開くと、第2吸引面612が吸引源7に連通され、吸引源7の吸引力が、第2配管520及び第2流路52を通じて第2吸引部62の第2吸引面612に伝達される。第2被加工物12が第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)に載置されている状態で、第1吸引バルブ71及び第2吸引バルブ72を開くことにより、第1チャックテーブル21は、第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)で第2被加工物12を吸引保持する。 When the second suction valve 72 is opened, the second suction surface 612 communicates with the suction source 7 , and the suction force of the suction source 7 is applied to the second suction portion 62 through the second pipe 520 and the second flow path 52 . transmitted to surface 612 . By opening the first suction valve 71 and the second suction valve 72 while the second workpiece 12 is placed on the first suction surface 611 and the second suction surface 612 (suction surface 610), the first The chuck table 21 sucks and holds the second workpiece 12 with a first suction surface 611 and a second suction surface 612 (suction surface 610).

第2エアバルブ82を開くと、第2吸引面612がエア供給源8に連通され、エア供給源8から供給されるエアが、第2配管520及び第2流路52を通って、第2吸引部62の第2吸引面612から噴出する。 When the second air valve 82 is opened, the second suction surface 612 communicates with the air supply source 8, and the air supplied from the air supply source 8 passes through the second pipe 520 and the second flow path 52 to the second suction surface 612. It is ejected from the second suction surface 612 of the portion 62 .

第2水バルブ92を開くと、第2吸引面612が水供給源9に連通され、水供給源9から供給される水が、第2配管520及び第2流路52を通って、第2吸引部62の第2吸引面612から噴出する。 When the second water valve 92 is opened, the second suction surface 612 communicates with the water supply source 9, and the water supplied from the water supply source 9 passes through the second pipe 520 and the second flow path 52 to the second It is ejected from the second suction surface 612 of the suction portion 62 .

第2エアバルブ82と第2水バルブ92とをともに開くと、第2吸引面612がエア供給源8及び水供給源9に連通され、エア供給源8から供給されるエアと水供給源9から供給される水とが第2配管520内にて混合されて、第2吸引部62の第2吸引面612から、水とエアとの混合流体が噴出する。 When both the second air valve 82 and the second water valve 92 are opened, the second suction surface 612 communicates with the air supply source 8 and the water supply source 9, and the air supplied from the air supply source 8 and the water supply source 9 The supplied water is mixed in the second pipe 520 , and a mixed fluid of water and air is ejected from the second suction surface 612 of the second suction portion 62 .

流体噴出機構101に備えられる各々のバルブは、一例として電磁弁であり、制御部19によって開閉制御される。なお、各々のバルブは、流量を調整可能に全閉から全開の間で開く量を制御するフローコントローラであってもよい。 Each valve provided in the fluid ejection mechanism 101 is, for example, an electromagnetic valve, and is controlled to be opened/closed by the controller 19 . Each valve may be a flow controller that controls the amount of opening between fully closed and fully open so that the flow rate can be adjusted.

第1配管510及び第2配管520には、配管内にかかる圧力を測定する圧力計53が配設されている。 The first pipe 510 and the second pipe 520 are provided with pressure gauges 53 for measuring the pressure applied inside the pipes.

第1研削装置1は、図1に示すように、吸引面610に吸引保持された被加工物を研削する研削機構3を備えている。研削機構3は、加工機構の一例に相当する。研削機構3は、コラム100の-Y方向側の側面に配設された昇降機構36に昇降可能に支持されている。 As shown in FIG. 1, the first grinding device 1 includes a grinding mechanism 3 that grinds a workpiece suction-held on a suction surface 610 . The grinding mechanism 3 corresponds to an example of a processing mechanism. The grinding mechanism 3 is supported by an elevating mechanism 36 arranged on the side surface of the column 100 on the -Y direction side so as to be able to move up and down.

研削機構3は、Z軸方向の回転軸35を有するスピンドル30と、スピンドル30を回転可能に支持するハウジング31と、スピンドル30の上端に連結されスピンドル30を回転駆動するスピンドルモータ32と、スピンドル30の下端に固定されたマウント33と、マウント33の下面に装着された研削ホイール34とを備えている。研削ホイール34は、基台341と、基台341の下面に環状に配置された略直方体状の複数の第1研削砥石340とを備えている。第1研削砥石340の下面342は、第1被加工物11の上面110及び第2被加工物12の上面120に接触する研削面である。すなわち、第1研削砥石340は、その下面342で第1被加工物11及び第2被加工物12を研削する。 The grinding mechanism 3 includes a spindle 30 having a rotating shaft 35 in the Z-axis direction, a housing 31 that rotatably supports the spindle 30, a spindle motor 32 that is connected to the upper end of the spindle 30 and drives the spindle 30 to rotate, the spindle 30 It has a mount 33 fixed to its lower end and a grinding wheel 34 attached to the lower surface of the mount 33 . The grinding wheel 34 includes a base 341 and a plurality of substantially rectangular parallelepiped first grinding wheels 340 annularly arranged on the lower surface of the base 341 . A lower surface 342 of the first grinding wheel 340 is a grinding surface that contacts the upper surface 110 of the first workpiece 11 and the upper surface 120 of the second workpiece 12 . That is, the first grinding wheel 340 grinds the first workpiece 11 and the second workpiece 12 with its lower surface 342 .

昇降機構36は、Z軸方向の回転軸45を有するボールネジ360と、ボールネジ360に対して平行に配設された一対のガイドレール361と、回転軸45を軸にしてボールネジ360を回転させるZ軸モータ362と、内部のナットがボールネジ360に螺合して側部がガイドレール361に摺接する昇降板363と、昇降板363に連結され研削機構3を支持するホルダ364とを備えている。 The lifting mechanism 36 includes a ball screw 360 having a rotating shaft 45 in the Z-axis direction, a pair of guide rails 361 arranged parallel to the ball screw 360, and a Z-axis for rotating the ball screw 360 around the rotating shaft 45. It comprises a motor 362 , an elevating plate 363 having an internal nut screwed onto the ball screw 360 and having a side portion in sliding contact with the guide rail 361 , and a holder 364 connected to the elevating plate 363 and supporting the grinding mechanism 3 .

昇降機構36では、Z軸モータ362によってボールネジ360が駆動されて、ボールネジ360が回転軸45を軸にして回転すると、昇降板363が、ガイドレール361に案内されて、ホルダ364とともにZ軸方向に昇降移動する。これに伴って、ホルダ364に保持されている研削機構3がZ軸方向に昇降移動する。 In the elevating mechanism 36, the ball screw 360 is driven by the Z-axis motor 362, and when the ball screw 360 rotates about the rotating shaft 45, the elevating plate 363 is guided by the guide rail 361 and moves in the Z-axis direction together with the holder 364. move up and down. Along with this, the grinding mechanism 3 held by the holder 364 moves up and down in the Z-axis direction.

第1研削装置1では、第1被加工物11を、以下のように研削する。まず、図2に示した流体噴出機構101のすべてのバルブが閉じている状態で、作業者が、第1チャックテーブル21の第1吸引面611に第1被加工物11を載置する。そして、制御部19が、第1吸引バルブ71を開けて、第1吸引面611を吸引源7に連通させる。これにより、吸引源7による吸引力が、第1配管510及び第1流路51を通じて第1吸引面611に伝達され、第1チャックテーブル21が、第1吸引面611で第1被加工物11の下面112を吸引保持する。 The first grinding device 1 grinds the first workpiece 11 as follows. First, the operator places the first workpiece 11 on the first suction surface 611 of the first chuck table 21 while all the valves of the fluid ejection mechanism 101 shown in FIG. 2 are closed. Then, the controller 19 opens the first suction valve 71 to communicate the first suction surface 611 with the suction source 7 . As a result, the suction force of the suction source 7 is transmitted to the first suction surface 611 through the first pipe 510 and the first flow path 51 , and the first chuck table 21 moves the first workpiece 11 on the first suction surface 611 . The lower surface 112 of is held by suction.

次に、制御部19は、図示しない水平移動機構によって第1チャックテーブル21を水平方向に移動させ、第1吸引面611に吸引保持された第1被加工物11を研削機構3の下方に位置づける。このとき、第1研削砥石340の下面342が、第1吸引面611に保持された第1被加工物11の中心111に重なるような位置関係にする。 Next, the controller 19 horizontally moves the first chuck table 21 by a horizontal movement mechanism (not shown) to position the first workpiece 11 sucked and held by the first suction surface 611 below the grinding mechanism 3 . . At this time, the positional relationship is such that the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 overlaps the center 111 of the first workpiece 11 held by the first suction surface 611 .

また、制御部19は、図示しない回転機構によって第1チャックテーブル21を回転させて、第1チャックテーブル21の第1吸引面611に保持された第1被加工物11を回転させるとともに、スピンドルモータ32によって、回転軸35を軸にして第1研削砥石340を回転させる。 Further, the control unit 19 rotates the first chuck table 21 by a rotation mechanism (not shown) to rotate the first workpiece 11 held on the first suction surface 611 of the first chuck table 21, and rotates the spindle motor. 32 rotates the first grinding wheel 340 about the rotation axis 35 .

そして、第1吸引面611に保持された第1被加工物11及び第1研削砥石340が回転している状態で、制御部19は、昇降機構36によって第1研削砥石340を-Z方向に下降させる。これにより、第1研削砥石340の下面342が第1被加工物11の上面110に接触する。さらに、制御部19が、第1研削砥石340を-Z方向に下降させることにより、第1研削砥石340によって第1被加工物11を研削加工する。 Then, while the first workpiece 11 and the first grinding wheel 340 held on the first suction surface 611 are rotating, the control unit 19 moves the first grinding wheel 340 in the -Z direction using the lifting mechanism 36. lower. This brings the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 into contact with the upper surface 110 of the first workpiece 11 . Further, the control unit 19 causes the first grinding wheel 340 to grind the first workpiece 11 by lowering the first grinding wheel 340 in the -Z direction.

また、制御部19は、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を第1研削砥石340によって研削加工する際に、第2吸引面612から水とエアとの混合流体を噴出させる。そして、流体噴出機構101によって第2吸引面612から噴出された混合流体で、第1被加工物11の研削加工中に第1被加工物11に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 Further, when the first workpiece 11 sucked and held by the first suction surface 611 is ground by the first grinding wheel 340, the control unit 19 ejects a mixed fluid of water and air from the second suction surface 612. Let Then, the mixed fluid ejected from the second suction surface 612 by the fluid ejection mechanism 101 is applied to the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 11 during grinding of the first workpiece 11 . to wash.

具体的には、制御部19は、第1研削砥石340の下降開始時に、流体噴出機構101の第2エアバルブ82及び第2水バルブ92を開ける。これにより、第2吸引面612がエア供給源8及び水供給源9に連通され、第2吸引面612から水とエアとの混合流体が噴出する。そして、第2吸引面612から噴出された混合流体が、第1研削砥石340の下面342に吹き付けられる。こうして、第1研削装置1では、第1被加工物11の研削加工中に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から噴出された混合流体で、研削加工中に第1被加工物11に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 Specifically, the control unit 19 opens the second air valve 82 and the second water valve 92 of the fluid ejection mechanism 101 when the first grinding wheel 340 starts to descend. As a result, the second suction surface 612 is communicated with the air supply source 8 and the water supply source 9, and the mixed fluid of water and air is ejected from the second suction surface 612. FIG. Then, the mixed fluid ejected from the second suction surface 612 is sprayed onto the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 . Thus, in the first grinding device 1, the mixed fluid ejected from the second suction surface 612 by the fluid ejection mechanism 101 during the grinding of the first workpiece 11 is applied to the first workpiece 11 during the grinding. The bottom surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact is cleaned.

以上のように、第1研削装置1では、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から混合流体を噴出させている。従って、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄することができる。これにより、第1被加工物11の加工時に露出している第2吸引面612に、第1被加工物11が研削された加工屑が付着することを抑制できる。
また、第2吸引面612から流体を噴出させることで、第1被加工物11の加工中に第1研削砥石340から脱落した砥粒と加工屑とが、第2吸引面612に衝突するのを、抑制している。従って、この砥粒の第2吸引面612への衝突により第2吸引面612が凹むことを抑制できる。なお、砥粒と加工屑とは、第1研削砥石340の回転による遠心力が付与されることによって第2吸引面612へ衝突している。このため、第2被加工物12を研削加工する際に、第2吸引面612を含む吸引面610によって第2被加工物12を吸引保持して、第2被加工物12を均一な厚み精度にすることができる。
As described above, in the first grinding device 1 , when the first workpiece 11 sucked and held by the first suction surface 611 is ground by the grinding mechanism 3 , the fluid ejection mechanism 101 mixes from the second suction surface 612 by the fluid ejection mechanism 101 . It is ejecting fluid. Therefore, the mixed fluid can clean the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 . As a result, it is possible to suppress the adhesion of processing waste obtained by grinding the first workpiece 11 to the second suction surface 612 exposed during machining of the first workpiece 11 .
In addition, by ejecting the fluid from the second suction surface 612 , the abrasive grains and processing scraps dropped from the first grinding wheel 340 during machining of the first workpiece 11 can be prevented from colliding with the second suction surface 612 . is suppressed. Therefore, it is possible to prevent the second suction surface 612 from being dented due to the collision of the abrasive grains with the second suction surface 612 . Abrasive grains and processing waste collide with the second suction surface 612 due to the centrifugal force applied by the rotation of the first grinding wheel 340 . Therefore, when grinding the second workpiece 12, the second workpiece 12 is held by suction by the suction surface 610 including the second suction surface 612, and the second workpiece 12 can be ground with uniform thickness accuracy. can be

なお、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から第1研削砥石340に噴出される流体は、混合流体に限らず、水あるいはエアでもよい。 When the first workpiece 11 sucked and held by the first suction surface 611 is ground by the grinding mechanism 3, the fluid ejected from the second suction surface 612 to the first grinding wheel 340 by the fluid ejection mechanism 101 is , water or air may be used instead of the mixed fluid.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図4に示すように、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面620を備える第2チャックテーブル22を備えていてもよい。枠体69の外周には、枠体69を基台699(図2参照)に装着する際にネジ696に螺合される、ネジ貫通孔697が形成されている。 As shown in FIG. 4, instead of the first chuck table 21, the first grinding apparatus 1 includes a second chuck table 22 having a suction surface 620 flush with the upper surface 690 of the frame 69. good too. A screw through hole 697 is formed in the outer periphery of the frame 69 so that a screw 696 is screwed when the frame 69 is attached to the base 699 (see FIG. 2).

この吸引面620は、円板状の第1被加工物421の下面を吸引保持する円形状の第1吸引面621を備えている。また、吸引面620は、直方体状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する第2吸引面622を、備えている。さらに、吸引面620は、円板状の第3被加工物(不図示)の下面を吸引保持する第3吸引面623を備えている。 The suction surface 620 has a circular first suction surface 621 that suction-holds the lower surface of the disk-shaped first workpiece 421 . The suction surface 620 also includes a second suction surface 622 that suction-holds the lower surface of a second rectangular parallelepiped workpiece (not shown). Furthermore, the suction surface 620 includes a third suction surface 623 that suction-holds the lower surface of a third disk-shaped workpiece (not shown).

第1吸引面621、第2吸引面622、及び第3吸引面623は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面621~623と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面621~623に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面621~623ごとに切り替えることができる。 The first suction surface 621, the second suction surface 622, and the third suction surface 623 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (see FIG. 2). reference). Valves (not shown) are arranged between the suction surfaces 621 to 623 and the suction source 7, air supply source 8, and water supply source 9, respectively. By controlling these valves, the state in which the suction source 7, the air supply source 8 and the water supply source 9 are in communication with the suction surfaces 621 to 623 and the state in which they are not in communication can be changed for each of the suction surfaces 621 to 623. can be switched to

この構成の第1研削装置1では、第1吸引面621が吸引保持した第1被加工物421を研削機構3によって研削加工する際に、第2吸引面622及び第3吸引面623を、エア供給源8及び水供給源9に連通させ、第2吸引面622及び第3吸引面623から水とエアとの混合流体を噴出させる。こうして、第1研削装置1では、流体噴出機構101によって噴出された混合流体で第1被加工物421に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 In the first grinding device 1 having this configuration, when the first workpiece 421 sucked and held by the first suction surface 621 is ground by the grinding mechanism 3, the second suction surface 622 and the third suction surface 623 are ground by air. It communicates with the supply source 8 and the water supply source 9 , and jets a mixed fluid of water and air from the second suction surface 622 and the third suction surface 623 . Thus, in the first grinding device 1 , the mixed fluid ejected by the fluid ejection mechanism 101 cleans the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 421 .

また、第1吸引面621及び第2吸引面622によって上記の第2被加工物を吸引保持して研削加工する際に、第3吸引面623をエア供給源8及び水供給源9に連通させ、第3吸引面623から水とエアとの混合流体を噴出させて、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄してもよい。 Further, when the second workpiece is ground by suction and holding by the first suction surface 621 and the second suction surface 622, the third suction surface 623 is communicated with the air supply source 8 and the water supply source 9. Alternatively, a mixed fluid of water and air may be ejected from the third suction surface 623 to wash the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 with this mixed fluid.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図5に示すような、枠体69の上面690に対して面一に形成された吸引面630を備える、第3チャックテーブル23を備えていてもよい。 Instead of the first chuck table 21, the first grinding apparatus 1 includes a third chuck table 23 having a suction surface 630 flush with the upper surface 690 of the frame 69 as shown in FIG. may be provided.

この吸引面630は、四角形状の第1被加工物431の下面を吸引保持する四角形状の第1吸引面631を備えている。また、吸引面630は、第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する4つの第2吸引面632を備えている。ここで、第2被加工物は、たとえばオリエンテーションフラットウェーハである。4つの第2吸引面632は、第1吸引面631の四辺に沿って配置されており、3つの弓形状面638と、1つの台形状面639とから構成されている。台形状面639は、2つの円弧と異なる長さの略平行な2直線とによって囲まれた略等脚台形状を有している。
さらに、吸引面630は、図示しない第3被加工物の下面を吸引保持する弓形状の第3吸引面633を備えている。第3被加工物は、たとえばノッチウェーハである。第3吸引面633は、台形状面639を挟み第1吸引面631の反対側に配置されている。
The suction surface 630 includes a square first suction surface 631 that sucks and holds the lower surface of a square first workpiece 431 . The suction surface 630 also includes four second suction surfaces 632 that suction and hold the lower surface of the second workpiece (not shown). Here, the second workpiece is, for example, an orientation flat wafer. The four second suction surfaces 632 are arranged along the four sides of the first suction surface 631 and consist of three arcuate surfaces 638 and one trapezoidal surface 639 . The trapezoidal surface 639 has a substantially isosceles trapezoidal shape surrounded by two arcs and two substantially parallel straight lines of different lengths.
Furthermore, the suction surface 630 has a bow-shaped third suction surface 633 that suction-holds the lower surface of the third workpiece (not shown). The third workpiece is, for example, a notch wafer. The third suction surface 633 is arranged on the opposite side of the first suction surface 631 with the trapezoidal surface 639 interposed therebetween.

第1吸引面631、第2吸引面632、及び第3吸引面633は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面631~633と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面631~633に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面631~633ごとに切り替えることができる。 The first suction surface 631, the second suction surface 632, and the third suction surface 633 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (FIG. 2). reference). Valves (not shown) are arranged between the suction surfaces 631 to 633 and the suction source 7, air supply source 8, and water supply source 9, respectively. By controlling these valves, the state in which the suction source 7, the air supply source 8 and the water supply source 9 are in communication with the suction surfaces 631 to 633 and the state in which they are not in communication can be changed for each of the suction surfaces 631 to 633. can be switched to

この構成の第1研削装置1では、第1吸引面631が吸引保持した第1被加工物431を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面632及び第3吸引面633から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物431に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 In the first grinding device 1 having this configuration, when the first workpiece 431 sucked and held by the first suction surface 631 is ground, the fluid is mixed from the second suction surface 632 and the third suction surface 633 by the fluid ejection mechanism 101 . The fluid is ejected, and the ejected mixed fluid cleans the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 431 during the grinding process.

また、第1吸引面631及び第2吸引面632で、上記の第2被加工物(オリエンテーションフラットウェーハ)を吸引保持して研削加工する際に、第3吸引面633をエア供給源8及び水供給源9に連通させ、第3吸引面633から水とエアとの混合流体を噴出させて、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄してもよい。 Further, when the second workpiece (orientation flat wafer) is sucked and held by the first suction surface 631 and the second suction surface 632 and ground, the third suction surface 633 is used for the air supply source 8 and water. A mixed fluid of water and air may be ejected from the third suction surface 633 by communicating with the supply source 9, and the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 may be washed with this mixed fluid.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図6に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面640を備える、第4チャックテーブル24を備えていてもよい。 Instead of the first chuck table 21, the first grinding apparatus 1 has a fourth chuck table 24 having a suction surface 640 flush with the upper surface 690 of the frame 69 as shown in FIG. may

この吸引面640は、第1被加工物441(オリエンテーションフラットウェーハ)の下面を吸引保持する第1吸引面641を備えている。また、吸引面640は、図示しない第2被加工物(ノッチウェーハ)の下面を吸引保持する弓形状の第2吸引面642を備えている。 This suction surface 640 has a first suction surface 641 that suction-holds the lower surface of the first workpiece 441 (orientation flat wafer). In addition, the suction surface 640 includes a bow-shaped second suction surface 642 that suction-holds the lower surface of the second workpiece (notch wafer) (not shown).

第1吸引面641及び第2吸引面642は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面641及び第2吸引面642と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面641及び第2吸引面642に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面641、642ごとに切り替えることができる。 The first suction surface 641 and the second suction surface 642 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (see FIG. 2). Between the first suction surface 641 and the second suction surface 642 and the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9, valves (not shown) are arranged. By controlling these valves, the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 communicate with the first suction surface 641 and the second suction surface 642, and do not communicate with each other. The suction surfaces 641 and 642 can be switched individually.

この構成の第1研削装置1では、第1吸引面641が吸引保持した第1被加工物441を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面642から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物441に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 In the first grinding apparatus 1 having this configuration, when grinding the first workpiece 441 sucked and held by the first suction surface 641, the fluid ejection mechanism 101 ejects the mixed fluid from the second suction surface 642, The ejected mixed fluid cleans the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 441 during grinding.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図7(a)に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面650を備える、第5チャックテーブル25を備えていてもよい。 The first grinding apparatus 1 includes a fifth chuck table 25 having a suction surface 650 flush with the upper surface 690 of the frame 69 as shown in FIG. 7(a) instead of the first chuck table 21. may be provided.

この吸引面650は、長方形状の第1被加工物451の下面を吸引保持する長方形状の第1吸引面651を2つ備えている。第1吸引面651は、長方形の第1面658と、第1面658の各短辺に隣接配置された長方形の2つの第2面659とから構成される。また、吸引面650は、図7(b)に示す略正方形の第2被加工物452の下面を吸引保持する第2吸引面652を備えている。第2吸引面652は、2つの第1面658の間に配置された長方形の第3面653と、該第1面658を挟み該第3面653の反対側に配置された長方形の2つの第4面654と、2つの第1面658とから構成される。 The suction surface 650 includes two rectangular first suction surfaces 651 that suction and hold the lower surface of the rectangular first workpiece 451 . The first suction surface 651 is composed of a rectangular first surface 658 and two rectangular second surfaces 659 adjacent to each short side of the first surface 658 . Moreover, the suction surface 650 includes a second suction surface 652 that suction-holds the lower surface of a substantially square second workpiece 452 shown in FIG. 7(b). The second suction surface 652 includes a rectangular third surface 653 arranged between the two first surfaces 658 and two rectangular surfaces arranged on the opposite side of the third surface 653 with the first surface 658 interposed therebetween. It consists of a fourth surface 654 and two first surfaces 658 .

第1吸引面651及び第2吸引面652を構成する第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654に連通している状態と、連通していない状態とを、第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654ごとに切り替えることができる。
なお、図7(a)に示すように、第1吸引面651に第1被加工物451を吸引保持させ研削加工する際は、第2吸引面652のうち、第1被加工物451を吸引保持していない部分である第3面653と第4面654とから流体を噴出させる。また、図7(b)に示すように、第2吸引面652に第2被加工物452を吸引保持させ研削加工する際は、第1吸引面651のうち、第2被加工物452を吸引保持していない部分である第2面659から流体を噴出させる。
このように、研削加工中に被加工物を保持していない露出している吸引面から流体を噴出させ、吸引面に加工屑などが付着することを防止する。
A first surface 658, a second surface 659, a third surface 653, and a fourth surface 654 that constitute the first suction surface 651 and the second suction surface 652 are the suction source 7, the air supply source 8, and the fluid ejection mechanism 101. and a water supply source 9 (see FIG. 2). Valves (not shown) are arranged between the first surface 658, the second surface 659, the third surface 653 and the fourth surface 654 and the suction source 7, the air supply source 8 and the water supply source 9. there is By controlling these valves, the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 communicate with the first surface 658, the second surface 659, the third surface 653, and the fourth surface 654. , and non-communication states can be switched for each of the first surface 658 , the second surface 659 , the third surface 653 and the fourth surface 654 .
As shown in FIG. 7A, when the first workpiece 451 is sucked and held on the first suction surface 651 and ground, the first workpiece 451 is sucked from the second suction surface 652. Fluid is ejected from the third surface 653 and the fourth surface 654 that are not held. Further, as shown in FIG. 7(b), when the second suction surface 652 sucks and holds the second workpiece 452 for grinding, the second workpiece 452 is sucked from the first suction surface 651. Fluid is ejected from the second surface 659, which is the portion not held.
In this manner, the fluid is ejected from the exposed suction surface that does not hold the workpiece during the grinding process, thereby preventing the adherence of processing chips and the like to the suction surface.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図8に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面660を備える、第6チャックテーブル26を備えていてもよい。 Instead of the first chuck table 21, the first grinding apparatus 1 has a sixth chuck table 26 having a suction surface 660 flush with the upper surface 690 of the frame 69 as shown in FIG. may

この吸引面660は、長方形状の第1被加工物461の下面を吸引保持する長方形状の第1吸引面661を備えている。また、吸引面660は、略正方形状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する2つの第2吸引面662を備えている。2つの第2吸引面662は、第1吸引面661を挟むように配置されている。 The suction surface 660 includes a first rectangular suction surface 661 that suction-holds the lower surface of the first rectangular workpiece 461 . In addition, the suction surface 660 includes two second suction surfaces 662 for suctioning and holding the lower surface of a substantially square-shaped second workpiece (not shown). The two second suction surfaces 662 are arranged so as to sandwich the first suction surface 661 .

第1吸引面661及び第2吸引面662は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面661及び第2吸引面662と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面661及び第2吸引面662に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面661、662ごとに切り替えることができる。 The first suction surface 661 and the second suction surface 662 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (see FIG. 2). Between the first suction surface 661 and the second suction surface 662 and the suction source 7, the air supply source 8 and the water supply source 9, valves (not shown) are arranged. By controlling these valves, the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 communicate with the first suction surface 661 and the second suction surface 662, and do not communicate with each other. The suction surfaces 661 and 662 can be switched individually.

この構成の第1研削装置1では、第1吸引面661が吸引保持した第1被加工物461を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面662から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物461に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 In the first grinding apparatus 1 having this configuration, when grinding the first workpiece 461 sucked and held by the first suction surface 661, the fluid ejection mechanism 101 ejects the mixed fluid from the second suction surface 662, The jetted mixed fluid cleans the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 461 during grinding.

第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図9に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面670を備える、第7チャックテーブル27を備えていてもよい。 Instead of the first chuck table 21, the first grinding apparatus 1 includes a seventh chuck table 27 having a suction surface 670 flush with the upper surface 690 of the frame 69 as shown in FIG. may

この吸引面670は、略正方形状の第1被加工物971の下面を吸引保持する略正方形状の第1吸引面671を備えている。また、吸引面670は、略正方形状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する四角環状の第2吸引面672を備えている。 The suction surface 670 includes a substantially square first suction surface 671 that suction-holds the lower surface of a substantially square first workpiece 971 . In addition, the suction surface 670 includes a quadrangular ring-shaped second suction surface 672 that suction-holds the lower surface of a substantially square-shaped second workpiece (not shown).

第1吸引面671及び第2吸引面672は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面671及び第2吸引面672と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面671及び第2吸引面672に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面671、672ごとに切り替えることができる。 The first suction surface 671 and the second suction surface 672 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (see FIG. 2). Between the first suction surface 671 and the second suction surface 672 and the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9, valves (not shown) are arranged. By controlling these valves, the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 communicate with the first suction surface 671 and the second suction surface 672, and do not communicate with each other. The suction surfaces 671 and 672 can be switched individually.

この構成の第1研削装置1では、第1吸引面671が吸引保持した第1被加工物971を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面672から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物971に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。 In the first grinding apparatus 1 having this configuration, when grinding the first workpiece 971 sucked and held by the first suction surface 671, the fluid ejection mechanism 101 ejects the mixed fluid from the second suction surface 672, The jetted mixed fluid cleans the lower surface 342 of the first grinding wheel 340 that is not in contact with the first workpiece 971 during grinding.

図10には、被加工物17をクリープフィード研削する第2研削装置2が示されている。第2研削装置2は、図1に示した第1研削装置1の構成において、第1チャックテーブル21に代えて、第8チャックテーブル28を備えている。また、第2研削装置2に備えられる研削機構3は、第1研削砥石340に代えて、クリープフィード研削用の第2研削砥石370を備えている。さらに、第2研削装置2は、第8チャックテーブル28をY軸方向に水平移動させるクリープフィード研削送り機構104を備えている。
なお、第2研削装置2は、被加工物17をインフィード研削してもよい。
FIG. 10 shows the second grinding device 2 for creep-feed grinding the workpiece 17 . The second grinding device 2 includes an eighth chuck table 28 instead of the first chuck table 21 in the configuration of the first grinding device 1 shown in FIG. The grinding mechanism 3 provided in the second grinding device 2 includes a second grinding wheel 370 for creep feed grinding instead of the first grinding wheel 340 . Further, the second grinding device 2 includes a creep feed grinding feed mechanism 104 that horizontally moves the eighth chuck table 28 in the Y-axis direction.
Note that the second grinding device 2 may perform infeed grinding of the workpiece 17 .

第8チャックテーブル28は、円板状の基台40と、直方体状の被加工物17を各々吸引保持する長方形状の第1吸引面401、第2吸引面402、第3吸引面403、及び第4吸引面404を有している。 The eighth chuck table 28 includes a disk-shaped base 40, a rectangular first suction surface 401, a second suction surface 402, a third suction surface 403, and a rectangular parallelepiped workpiece 17. It has a fourth suction surface 404 .

吸引面401~404は、基台40の上面400において、等しい間隔を空けてY軸方向に並べられており、各吸引面401~404の長辺がX軸方向に平行になるように配置されている。第8チャックテーブル28においては、吸引面401~404のうちの任意の2つの吸引面で、少なくとも2つの被加工物17を吸引保持することができる。 The suction surfaces 401 to 404 are arranged in the Y-axis direction at equal intervals on the upper surface 400 of the base 40, and arranged so that the long sides of the suction surfaces 401 to 404 are parallel to the X-axis direction. ing. In the eighth chuck table 28, at least two workpieces 17 can be sucked and held by any two of the suction surfaces 401 to 404. FIG.

また、吸引面401~404は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面401~404と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面401~404に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面401~404ごとに切り替えることができる。 Also, the suction surfaces 401 to 404 are configured to communicate with the suction source 7, the air supply source 8, and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 (see FIG. 2). Valves (not shown) are arranged between the suction surfaces 401 to 404 and the suction source 7, air supply source 8, and water supply source 9, respectively. By controlling these valves, the state in which the suction source 7, the air supply source 8 and the water supply source 9 are in communication with the suction surfaces 401 to 404 and the state in which they are not in communication can be changed for each of the suction surfaces 401 to 404. can be switched to

第2研削装置2では、一例として、以下のように被加工物17を研削加工する。まず、一方の吸引面である第3吸引面403に被加工物17が載置された状態で、制御部19が、第3吸引面403と吸引源7との間のバルブを開いて、第3吸引面403を吸引源7に連通させる。これにより、第8チャックテーブル28は、第3吸引面403で被加工物17を吸引保持する。
さらに、制御部19は、研削機構3の第2研削砥石370の下面372を被加工物17の上面170よりも低い高さに位置づけるとともに、第2研削砥石370を回転させる。
そして、制御部19は、クリープフィード研削送り機構104によって、第3吸引面403で被加工物17を保持している第8チャックテーブル28を、回転する第2研削砥石370に対して水平移動させ、第2研削砥石370を被加工物17に接触させる。こうして、第2研削装置2では、研削機構3によって、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17をクリープフィード研削する。
As an example, the second grinding device 2 grinds the workpiece 17 as follows. First, in a state where the workpiece 17 is placed on the third suction surface 403 which is one of the suction surfaces, the control unit 19 opens the valve between the third suction surface 403 and the suction source 7 to 3 Connect the suction surface 403 to the suction source 7 . Thereby, the eighth chuck table 28 sucks and holds the workpiece 17 on the third suction surface 403 .
Furthermore, the control unit 19 positions the lower surface 372 of the second grinding wheel 370 of the grinding mechanism 3 at a height lower than the upper surface 170 of the workpiece 17 and rotates the second grinding wheel 370 .
Then, the control unit 19 causes the creep feed grinding feed mechanism 104 to horizontally move the eighth chuck table 28 holding the workpiece 17 on the third suction surface 403 with respect to the rotating second grinding wheel 370 . , the second grinding wheel 370 is brought into contact with the workpiece 17 . Thus, in the second grinding device 2, the grinding mechanism 3 creep-feed grinds the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403. As shown in FIG.

ここで、制御部19は、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17をクリープフィード研削加工する際に、流体噴出機構101によって、他方の面である第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404を、流体噴出機構101のエア供給源8及び水供給源9に連通させる。これにより、制御部19は、流体噴出機構101によって、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404から混合流体を噴出させる。そして、制御部19は、流体噴出機構101によって噴出された混合流体で、被加工物17のクリープフィード研削加工中に被加工物17に接触していない第2研削砥石370の下面372を洗浄する。 Here, when creep feed grinding is performed on the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403, the control unit 19 causes the first suction surface 401 and the second suction surface 401, which are the other surfaces, to be ground by the fluid ejection mechanism 101. The surface 402 and the fourth suction surface 404 communicate with the air supply source 8 and the water supply source 9 of the fluid ejection mechanism 101 . Thereby, the control unit 19 causes the fluid ejection mechanism 101 to eject the mixed fluid from the first suction surface 401 , the second suction surface 402 , and the fourth suction surface 404 . Then, the control unit 19 cleans the lower surface 372 of the second grinding wheel 370, which is not in contact with the workpiece 17 during the creep feed grinding of the workpiece 17, with the mixed fluid ejected by the fluid ejection mechanism 101. .

以上のように、第2研削装置2では、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404から混合流体を噴出させている。従って、この混合流体によって第2研削砥石370の下面372を洗浄することができる。これにより、被加工物17の加工時に露出している第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404に、第1被加工物11の加工中に発生する加工屑が付着することを抑制できる。また、吸引面401、402、及び404から流体を噴出させることで、被加工物17の加工中に第2研削砥石370から脱落した砥粒と被加工物から排出された加工屑とが、吸引面401、402、及び404に衝突することを、抑制することもできる。従って、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404に被加工物17を吸引保持してクリープフィード研削することができる。 As described above, in the second grinding device 2 , when the grinding mechanism 3 grinds the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403 , the fluid ejection mechanism 101 causes the first suction surface 401 and the second suction surface 401 to grind. The mixed fluid is ejected from the suction surface 402 and the fourth suction surface 404 . Therefore, the mixed fluid can clean the lower surface 372 of the second grinding wheel 370 . As a result, the chips generated during the machining of the first workpiece 11 adhere to the first suction surface 401, the second suction surface 402, and the fourth suction surface 404 exposed during machining of the workpiece 17. can be suppressed. In addition, by ejecting the fluid from the suction surfaces 401, 402, and 404, the abrasive grains dropped from the second grinding wheel 370 during machining of the workpiece 17 and the shavings discharged from the workpiece are sucked. Collision with surfaces 401, 402, and 404 can also be suppressed. Therefore, the workpiece 17 can be sucked and held by the first suction surface 401, the second suction surface 402, and the fourth suction surface 404 for creep feed grinding.

なお、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって他方の吸引面401、402、及び404から第2研削砥石370に噴出される流体は、混合流体に限らず、水のみあるいはエアのみでもよい。 When the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403 is ground by the grinding mechanism 3, the fluid ejecting mechanism 101 ejects fluid from the other suction surfaces 401, 402, and 404 onto the second grinding wheel 370. The fluid to be used is not limited to the mixed fluid, and may be only water or only air.

また、第2研削装置2では、第1吸引面401及び第3吸引面403に被加工物17を吸引保持して、第2吸引面402及び第4吸引面404から流体を噴出させながら、研削機構3の第2研削砥石370によって、各々の被加工物17をクリープフィード研削加工することもできる。つまり、第2研削装置2では、研削機構3によって、複数の被加工物17を一度にクリープフィード研削加工しながら、露出している吸引面から混合流体を噴出して第2研削砥石370の下面372を洗浄できる。
なお、第2吸引面402に被加工物17を吸引保持させないことで、第1吸引面401が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削する際の第2研削砥石370の下面372の高さと、第3吸引面403が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削する際の第2研削砥石370の下面372の高さとを変更することができる。つまり、第1吸引面401が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削したとき、第3吸引面403が吸引保持している被加工物17に第2研削砥石370が接触しないため、研削砥石の高さ変更が可能になる。
In addition, in the second grinding device 2, the workpiece 17 is held by suction on the first suction surface 401 and the third suction surface 403, and the fluid is ejected from the second suction surface 402 and the fourth suction surface 404 to grind the workpiece 17. Each workpiece 17 may also be creep-feed ground by the second grinding wheel 370 of mechanism 3 . That is, in the second grinding device 2 , the grinding mechanism 3 is used to creep-feed grind a plurality of workpieces 17 at once, while ejecting the mixed fluid from the exposed suction surface to grind the lower surface of the second grinding wheel 370 . 372 can be washed.
By not allowing the second suction surface 402 to suck and hold the workpiece 17, the lower surface 372 of the second grinding wheel 370 when the workpiece 17 sucked and held by the first suction surface 401 is subjected to creep-feed grinding. The height and the height of the lower surface 372 of the second grinding wheel 370 when creep-feed grinding the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403 can be changed. That is, when the workpiece 17 sucked and held by the first suction surface 401 is subjected to creep-feed grinding, the second grinding wheel 370 does not come into contact with the workpiece 17 sucked and held by the third suction surface 403. It is possible to change the height of the grinding wheel.

なお、第1研削装置1及び第2研削装置2は、加工装置の一例に相当する。第1研削装置1及び第2研削装置2は、CMP装置(化学機械研磨装置)、ドライ研磨装置、また、バイト切削装置であってもよい。
また、吸引面から噴出した流体によって、CMP装置の研磨パッド、ドライ研磨装置の研磨パッド、バイト切削装置のバイトを洗浄してもよい。
In addition, the 1st grinding device 1 and the 2nd grinding device 2 are equivalent to an example of a processing apparatus. The first grinding device 1 and the second grinding device 2 may be a CMP device (chemical mechanical polishing device), a dry polishing device, or a cutting tool.
Further, the fluid ejected from the suction surface may be used to clean the polishing pad of the CMP apparatus, the polishing pad of the dry polishing apparatus, and the cutting tool of the cutting tool.

1:第1研削装置 2:第2研削装置 3:研削機構
7:吸引源 8:エア供給源 9:水供給源
11:第1被加工物 110:上面 111:中心 112:下面
12:第2被加工物 120:上面 122:下面
17:被加工物 170:上面 19:制御部
21~28:チャックテーブル 69:枠体
610:吸引面 611:第1吸引面 612:第2吸引面
401:第1吸引面 402:第2吸引面 403:第3吸引面 404:第4吸引面
101:流体噴出機構
1: First Grinding Device 2: Second Grinding Device 3: Grinding Mechanism 7: Suction Source 8: Air Supply Source 9: Water Supply Source 11: First Workpiece 110: Upper Surface 111: Center 112: Lower Surface 12: Second Surface Workpiece 120: Upper surface 122: Lower surface 17: Workpiece 170: Upper surface 19: Control unit 21 to 28: Chuck table 69: Frame 610: Suction surface 611: First suction surface 612: Second suction surface 401: Third 1 Suction Surface 402: Second Suction Surface 403: Third Suction Surface 404: Fourth Suction Surface 101: Fluid Ejection Mechanism

Claims (3)

吸引面で被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、
該吸引面は、少なくとも第1被加工物の下面を吸引保持する第1吸引面と、第2被加工物の下面を吸引保持する第2吸引面とを備え、
該第1吸引面が吸引保持した該第1被加工物を加工する際に、該第2吸引面のうち、該第1被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させ、
該第2吸引面が吸引保持した該第2被加工物を加工する際に、該第1吸引面のうち、該第2被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させる、
流体噴出機構を備える、加工装置。
A machining apparatus comprising: a chuck table for sucking and holding a workpiece on a suction surface; and a machining mechanism for machining the workpiece sucked and held on the suction surface,
The suction surface includes at least a first suction surface for sucking and holding the lower surface of the first workpiece, and a second suction surface for sucking and holding the lower surface of the second workpiece,
when machining the first workpiece sucked and held by the first suction surface, ejecting fluid from a portion of the second suction surface not holding the first workpiece by suction;
When processing the second workpiece sucked and held by the second suction surface, a portion of the first suction surface not sucking and holding the second workpiece ejects fluid;
A processing device comprising a fluid ejection mechanism.
少なくとも2つの被加工物を各々吸引保持する少なくとも2つの第3吸引面を有するチャックテーブルと、該第3吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、
少なくとも2つの該第3吸引面のうちのどちらか一方のみ吸引源を連通させ吸引保持した被加工物を加工する際に、他方の吸引面から流体を噴出させる流体噴出機構を備える、加工装置。
A machining apparatus comprising: a chuck table having at least two third suction surfaces for sucking and holding at least two workpieces; and a machining mechanism for machining the workpiece sucked and held on the third suction surfaces. hand,
A processing apparatus comprising a fluid ejecting mechanism for ejecting fluid from the other of the at least two third suction surfaces when machining a workpiece that is suction-held with a suction source connected to only one of the at least two third suction surfaces.
該流体噴出機構によって噴出される流体は、水とエアとの混合流体であって、
該加工機構は、下面で被加工物を研削する研削砥石を備え、
該流体噴出機構によって噴出された混合流体で研削加工中に被加工物に接触していない該研削砥石の下面を洗浄する、請求項1または2記載の加工装置。
The fluid jetted by the fluid jetting mechanism is a mixed fluid of water and air,
The processing mechanism includes a grinding wheel that grinds the workpiece on the lower surface,
3. The processing apparatus according to claim 1, wherein the mixed fluid ejected by said fluid ejecting mechanism cleans the lower surface of said grinding wheel that is not in contact with the workpiece during grinding.
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