JP2023000610A - Processing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、加工装置に関する。 The present invention relates to processing equipment.
特許文献1に開示のように研削装置は、少なくとも2つ異なる大きさの被加工物を吸引保持する事が可能なチャックテーブルを備え、チャックテーブルが吸引保持した被加工物を研削砥石で研削している。
As disclosed in
チャックテーブルは、面積の小さい被加工物を保持しているときに、面積の大きい被加工物を保持する保持面を露出させている。 The chuck table exposes a holding surface for holding a large-area workpiece while holding a small-area workpiece.
そのため、面積の小さい被加工物を保持面に保持して研削加工した際に生じる加工屑が、その被加工物の周囲に露出している保持面に付着するという問題がある。
したがって、小さい被加工物を研削している際に、露出している保持面に加工屑が付着することを抑制させたいという課題がある。
As a result, there is a problem that when a workpiece having a small area is held on the holding surface and ground, the machining waste generated adheres to the holding surface exposed around the workpiece.
Therefore, when grinding a small workpiece, there is a problem that it is desirable to suppress the adhesion of processing waste to the exposed holding surface.
本発明の第1の加工装置は、吸引面で被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、該吸引面は、少なくとも第1被加工物の下面を吸引保持する第1吸引面と、第2被加工物の下面を吸引保持する第2吸引面とを備え、該第1吸引面が吸引保持した該第1被加工物を加工する際に、該第2吸引面のうち、該第1被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させ、該第2吸引面が吸引保持した該第2被加工物を加工する際に、該第1吸引面のうち、該第2被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させる、流体噴出機構を備える。
本発明の第2の加工装置は、少なくとも2つの被加工物を各々吸引保持する少なくとも2つの第3吸引面を有するチャックテーブルと、該第3吸引面に吸引保持された被加工物を加工する加工機構と、を備える加工装置であって、少なくとも2つの該第3吸引面のうちのどちらか一方のみ吸引源を連通させ吸引保持した被加工物を加工する際に、他方の吸引面から流体を噴出させる流体噴出機構を備える。
上記した第1あるいは第2の加工装置において、該流体噴出機構によって噴出される流体は、水とエアとの混合流体であって、該加工機構は、下面で被加工物を研削する研削砥石を備え、該流体噴出機構によって噴出された混合流体で研削加工中に被加工物に接触していない該研削砥石の下面を洗浄してもよい。
A first processing apparatus of the present invention is a processing apparatus comprising a chuck table that sucks and holds a workpiece on a suction surface, and a machining mechanism that processes the workpiece sucked and held on the suction surface, The suction surface includes a first suction surface for sucking and holding at least the lower surface of the first workpiece, and a second suction surface for sucking and holding the lower surface of the second workpiece, wherein the first suction surface sucks and holds the lower surface of the second workpiece. When processing the first workpiece, the fluid is ejected from a portion of the second suction surface where the first workpiece is not suctioned and held, and the second suction surface sucks and holds the first workpiece. A fluid ejecting mechanism is provided for ejecting fluid from a portion of the first suction surface that does not hold the second workpiece by suction when machining the second workpiece.
A second machining apparatus of the present invention includes a chuck table having at least two third suction surfaces for sucking and holding at least two workpieces, and machining the workpiece sucked and held on the third suction surfaces. and a machining mechanism, wherein when machining a workpiece suction-held with a suction source communicated with only one of the at least two third suction surfaces, a fluid is discharged from the other suction surface. A fluid ejection mechanism for ejecting is provided.
In the first or second processing apparatus described above, the fluid ejected by the fluid ejection mechanism is a mixed fluid of water and air, and the processing mechanism includes a grinding wheel for grinding the workpiece on its lower surface. The lower surface of the grinding wheel which is not in contact with the workpiece during grinding may be washed with the mixed fluid ejected by the fluid ejecting mechanism.
第1の加工装置では、第1吸引面が吸引保持した第1被加工物を加工機構によって研削加工する際に、流体噴出機構によって第2吸引面から流体を噴出させている。従って、この流体により、研削砥石の下面を洗浄することができる。これにより、第1被加工物の加工時に露出している第2吸引面に、第1被加工物の加工中に発生する加工屑が付着することを抑制できる。
第2の加工装置では、第3吸引面が吸引保持した被加工物を加工機構によって研削加工する際に、流体噴出機構によって第4吸引面から流体を噴出させている。従って、この流体により、研削砥石の下面を洗浄することができる。これにより、被加工物の加工時に露出している第4吸引面に、被加工物の加工中に発生する加工屑が付着するのを抑制できる。
In the first machining apparatus, when the first workpiece sucked and held by the first suction surface is ground by the machining mechanism, the fluid is ejected from the second suction surface by the fluid ejection mechanism. This fluid can thus clean the underside of the grinding wheel. As a result, it is possible to suppress the attachment of processing waste generated during processing of the first workpiece to the second suction surface exposed during processing of the first workpiece.
In the second machining apparatus, when the machining mechanism grinds the workpiece sucked and held by the third suction surface, the fluid ejection mechanism ejects the fluid from the fourth suction surface. This fluid can thus clean the underside of the grinding wheel. As a result, it is possible to suppress the attachment of processing waste generated during processing of the workpiece to the fourth suction surface exposed during processing of the workpiece.
図1に示す第1研削装置1は、研削機構3によって、直方体状の第1被加工物11及び円板状の第2被加工物12を含む被加工物を研削する装置である。第1研削装置1は、Y軸方向に延設されたベース10と、ベース10の+Y方向側に立設されたコラム100とを備えている。
A
第1研削装置1は、ベース10上に、吸引面610で被加工物を吸引保持する第1チャックテーブル21を備えている。第1チャックテーブル21は、ポーラス部材を有する円板状の吸引部60と、吸引部60を支持する枠体69とを備えている。
The
吸引部60は、略直方体状の第1吸引部61と、第1吸引部61の外側に配置された円弧柱状(横断面が円弧と直線とに囲われた弓形状を有する)の4つの第2吸引部62とを備えている。
The
図2に示すように、第1吸引部61と第2吸引部62とは、枠体69に立設された4枚の仕切り板698(図2においては、そのうちの2枚が示されている)によって仕切られている。
As shown in FIG. 2, the
吸引部60の上面である吸引面610は、枠体69の上面690に面一に形成されている。吸引面610は、その中心200を頂点とする円錐面状に形成されている。吸引面610は、図3に示すように、少なくとも、第1被加工物11の下面112(図1参照)を吸引保持する略四角形状の第1吸引面611と、第2被加工物12の下面122(図1参照)を吸引保持する略弓形状の4つの第2吸引面612とを備えている。第2吸引面612は、第1吸引面611の四辺に沿って配置されている。第1吸引面611は、第1吸引部61の上面であり、各第2吸引面612は、各第2吸引部62の上面である。第1チャックテーブル21は、第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)で第2被加工物12の下面122を吸引保持する。
A
第1チャックテーブル21は、図2に示すように、枠体69を支持する基台699を備えている。枠体69の外周には、複数のネジ貫通孔697が形成されており、基台699における、枠体69のネジ貫通孔697に対応する位置には、ネジ穴695が形成されている。第1チャックテーブル21においては、枠体69のネジ貫通孔697とネジ穴695とにネジ696が螺合しており、枠体69が基台699にネジ留めされている。
The first chuck table 21 includes a
図1に示すように、第1チャックテーブル21の周囲には、カバー108、及び、カバー108に伸縮自在に連結された蛇腹109が配設されている。図示しない水平移動機構によって、第1チャックテーブル21がY軸方向に移動すると、カバー108が、第1チャックテーブル21とともにY軸方向に移動して、蛇腹109が伸縮する。
As shown in FIG. 1, around the first chuck table 21, a
第1研削装置1は、第1研削装置1の諸々の機構の制御を行う制御部19を備えている。
The
第1研削装置1は、図2に示すように、流体噴出機構101を備えている。流体噴出機構101は、第1吸引面611及び第2吸引面612から流体を噴出させる機構である。流体噴出機構101は、吸引源7とエア供給源8と水供給源9とを備えている。
The
また、流体噴出機構101は、第1流路51を備えている。第1流路51は、枠体69及び基台699を通過するように延びており、枠体69に形成された円形状の第1凹部691を通じて第1吸引部61に接続されている。
The
流体噴出機構101は、第1流路51に接続された第1配管510を備えている。第1配管510は、基台699の外部に配設されており、第1吸引配管571、第1エア配管581、及び第1水配管591に分岐している。第1吸引配管571、第1エア配管581、及び第1水配管591は、それぞれ、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に接続されている。
The
流体噴出機構101は、第1吸引配管571における吸引源7と第1流路51との間に設けられた第1吸引バルブ71を備えている。第1吸引バルブ71を開くと、第1吸引面611が吸引源7に連通され、吸引源7の吸引力が、第1配管510及び第1流路51を通じて第1吸引部61の第1吸引面611に伝達される。第1被加工物11が第1吸引面611に載置されている状態で、第1吸引バルブ71を開くことにより、第1チャックテーブル21は、第1吸引面611で第1被加工物11を吸引保持する。
The
流体噴出機構101は、第1エア配管581におけるエア供給源8と第1流路51との間に設けられた第1エアバルブ81を備えている。第1エアバルブ81を開くと、第1吸引面611がエア供給源8に連通され、エア供給源8から供給されるエアが、第1配管510及び第1流路51を通って、第1吸引部61の第1吸引面611から噴出する。
The
流体噴出機構101は、第1水配管591における水供給源9と第1流路51との間に設けられた第1水バルブ91を備えている。第1水バルブ91を開くと、第1吸引面611が水供給源9に連通され、水供給源9から供給される水が、第1配管510及び第1流路51を通って、第1吸引部61の第1吸引面611から噴出する。
The
また、第1エアバルブ81と第1水バルブ91とをともに開くと、第1吸引面611が、エア供給源8及び水供給源9に連通され、エア供給源8から供給されるエアと水供給源9から供給される水とが第1配管510内にて混合されて、第1吸引部61の第1吸引面611から、水とエアとの混合流体が噴出する。
Further, when both the
さらに、流体噴出機構101は、第2流路52を備えている。第2流路52は、枠体69及び基台699を通過するように延びており、第1凹部691を囲うようにして枠体69に形成された環状の第2凹部692を通じて、第2吸引部62に接続されている。
Furthermore, the
流体噴出機構101は、基台699の外部に配設され、第2流路52に接続された第2配管520を備えている。第2配管520は、第2吸引配管572、第2エア配管582、及び第2水配管592に分岐している。第2吸引配管572、第2エア配管582、及び第2水配管592は、それぞれ、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に接続されている。
The
流体噴出機構101は、第2吸引配管572に設けられた第2吸引バルブ72、第2エア配管582に設けられた第2エアバルブ82、及び第2水配管592に設けられた第2水バルブ92を備えている。
The
第2吸引バルブ72を開くと、第2吸引面612が吸引源7に連通され、吸引源7の吸引力が、第2配管520及び第2流路52を通じて第2吸引部62の第2吸引面612に伝達される。第2被加工物12が第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)に載置されている状態で、第1吸引バルブ71及び第2吸引バルブ72を開くことにより、第1チャックテーブル21は、第1吸引面611及び第2吸引面612(吸引面610)で第2被加工物12を吸引保持する。
When the
第2エアバルブ82を開くと、第2吸引面612がエア供給源8に連通され、エア供給源8から供給されるエアが、第2配管520及び第2流路52を通って、第2吸引部62の第2吸引面612から噴出する。
When the
第2水バルブ92を開くと、第2吸引面612が水供給源9に連通され、水供給源9から供給される水が、第2配管520及び第2流路52を通って、第2吸引部62の第2吸引面612から噴出する。
When the
第2エアバルブ82と第2水バルブ92とをともに開くと、第2吸引面612がエア供給源8及び水供給源9に連通され、エア供給源8から供給されるエアと水供給源9から供給される水とが第2配管520内にて混合されて、第2吸引部62の第2吸引面612から、水とエアとの混合流体が噴出する。
When both the
流体噴出機構101に備えられる各々のバルブは、一例として電磁弁であり、制御部19によって開閉制御される。なお、各々のバルブは、流量を調整可能に全閉から全開の間で開く量を制御するフローコントローラであってもよい。
Each valve provided in the
第1配管510及び第2配管520には、配管内にかかる圧力を測定する圧力計53が配設されている。
The
第1研削装置1は、図1に示すように、吸引面610に吸引保持された被加工物を研削する研削機構3を備えている。研削機構3は、加工機構の一例に相当する。研削機構3は、コラム100の-Y方向側の側面に配設された昇降機構36に昇降可能に支持されている。
As shown in FIG. 1, the
研削機構3は、Z軸方向の回転軸35を有するスピンドル30と、スピンドル30を回転可能に支持するハウジング31と、スピンドル30の上端に連結されスピンドル30を回転駆動するスピンドルモータ32と、スピンドル30の下端に固定されたマウント33と、マウント33の下面に装着された研削ホイール34とを備えている。研削ホイール34は、基台341と、基台341の下面に環状に配置された略直方体状の複数の第1研削砥石340とを備えている。第1研削砥石340の下面342は、第1被加工物11の上面110及び第2被加工物12の上面120に接触する研削面である。すなわち、第1研削砥石340は、その下面342で第1被加工物11及び第2被加工物12を研削する。
The grinding
昇降機構36は、Z軸方向の回転軸45を有するボールネジ360と、ボールネジ360に対して平行に配設された一対のガイドレール361と、回転軸45を軸にしてボールネジ360を回転させるZ軸モータ362と、内部のナットがボールネジ360に螺合して側部がガイドレール361に摺接する昇降板363と、昇降板363に連結され研削機構3を支持するホルダ364とを備えている。
The
昇降機構36では、Z軸モータ362によってボールネジ360が駆動されて、ボールネジ360が回転軸45を軸にして回転すると、昇降板363が、ガイドレール361に案内されて、ホルダ364とともにZ軸方向に昇降移動する。これに伴って、ホルダ364に保持されている研削機構3がZ軸方向に昇降移動する。
In the elevating
第1研削装置1では、第1被加工物11を、以下のように研削する。まず、図2に示した流体噴出機構101のすべてのバルブが閉じている状態で、作業者が、第1チャックテーブル21の第1吸引面611に第1被加工物11を載置する。そして、制御部19が、第1吸引バルブ71を開けて、第1吸引面611を吸引源7に連通させる。これにより、吸引源7による吸引力が、第1配管510及び第1流路51を通じて第1吸引面611に伝達され、第1チャックテーブル21が、第1吸引面611で第1被加工物11の下面112を吸引保持する。
The
次に、制御部19は、図示しない水平移動機構によって第1チャックテーブル21を水平方向に移動させ、第1吸引面611に吸引保持された第1被加工物11を研削機構3の下方に位置づける。このとき、第1研削砥石340の下面342が、第1吸引面611に保持された第1被加工物11の中心111に重なるような位置関係にする。
Next, the
また、制御部19は、図示しない回転機構によって第1チャックテーブル21を回転させて、第1チャックテーブル21の第1吸引面611に保持された第1被加工物11を回転させるとともに、スピンドルモータ32によって、回転軸35を軸にして第1研削砥石340を回転させる。
Further, the
そして、第1吸引面611に保持された第1被加工物11及び第1研削砥石340が回転している状態で、制御部19は、昇降機構36によって第1研削砥石340を-Z方向に下降させる。これにより、第1研削砥石340の下面342が第1被加工物11の上面110に接触する。さらに、制御部19が、第1研削砥石340を-Z方向に下降させることにより、第1研削砥石340によって第1被加工物11を研削加工する。
Then, while the
また、制御部19は、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を第1研削砥石340によって研削加工する際に、第2吸引面612から水とエアとの混合流体を噴出させる。そして、流体噴出機構101によって第2吸引面612から噴出された混合流体で、第1被加工物11の研削加工中に第1被加工物11に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
Further, when the
具体的には、制御部19は、第1研削砥石340の下降開始時に、流体噴出機構101の第2エアバルブ82及び第2水バルブ92を開ける。これにより、第2吸引面612がエア供給源8及び水供給源9に連通され、第2吸引面612から水とエアとの混合流体が噴出する。そして、第2吸引面612から噴出された混合流体が、第1研削砥石340の下面342に吹き付けられる。こうして、第1研削装置1では、第1被加工物11の研削加工中に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から噴出された混合流体で、研削加工中に第1被加工物11に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
Specifically, the
以上のように、第1研削装置1では、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から混合流体を噴出させている。従って、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄することができる。これにより、第1被加工物11の加工時に露出している第2吸引面612に、第1被加工物11が研削された加工屑が付着することを抑制できる。
また、第2吸引面612から流体を噴出させることで、第1被加工物11の加工中に第1研削砥石340から脱落した砥粒と加工屑とが、第2吸引面612に衝突するのを、抑制している。従って、この砥粒の第2吸引面612への衝突により第2吸引面612が凹むことを抑制できる。なお、砥粒と加工屑とは、第1研削砥石340の回転による遠心力が付与されることによって第2吸引面612へ衝突している。このため、第2被加工物12を研削加工する際に、第2吸引面612を含む吸引面610によって第2被加工物12を吸引保持して、第2被加工物12を均一な厚み精度にすることができる。
As described above, in the
In addition, by ejecting the fluid from the
なお、第1吸引面611が吸引保持した第1被加工物11を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面612から第1研削砥石340に噴出される流体は、混合流体に限らず、水あるいはエアでもよい。
When the
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図4に示すように、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面620を備える第2チャックテーブル22を備えていてもよい。枠体69の外周には、枠体69を基台699(図2参照)に装着する際にネジ696に螺合される、ネジ貫通孔697が形成されている。
As shown in FIG. 4, instead of the first chuck table 21, the first
この吸引面620は、円板状の第1被加工物421の下面を吸引保持する円形状の第1吸引面621を備えている。また、吸引面620は、直方体状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する第2吸引面622を、備えている。さらに、吸引面620は、円板状の第3被加工物(不図示)の下面を吸引保持する第3吸引面623を備えている。
The
第1吸引面621、第2吸引面622、及び第3吸引面623は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面621~623と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面621~623に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面621~623ごとに切り替えることができる。
The
この構成の第1研削装置1では、第1吸引面621が吸引保持した第1被加工物421を研削機構3によって研削加工する際に、第2吸引面622及び第3吸引面623を、エア供給源8及び水供給源9に連通させ、第2吸引面622及び第3吸引面623から水とエアとの混合流体を噴出させる。こうして、第1研削装置1では、流体噴出機構101によって噴出された混合流体で第1被加工物421に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
In the
また、第1吸引面621及び第2吸引面622によって上記の第2被加工物を吸引保持して研削加工する際に、第3吸引面623をエア供給源8及び水供給源9に連通させ、第3吸引面623から水とエアとの混合流体を噴出させて、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄してもよい。
Further, when the second workpiece is ground by suction and holding by the
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図5に示すような、枠体69の上面690に対して面一に形成された吸引面630を備える、第3チャックテーブル23を備えていてもよい。
Instead of the first chuck table 21, the first
この吸引面630は、四角形状の第1被加工物431の下面を吸引保持する四角形状の第1吸引面631を備えている。また、吸引面630は、第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する4つの第2吸引面632を備えている。ここで、第2被加工物は、たとえばオリエンテーションフラットウェーハである。4つの第2吸引面632は、第1吸引面631の四辺に沿って配置されており、3つの弓形状面638と、1つの台形状面639とから構成されている。台形状面639は、2つの円弧と異なる長さの略平行な2直線とによって囲まれた略等脚台形状を有している。
さらに、吸引面630は、図示しない第3被加工物の下面を吸引保持する弓形状の第3吸引面633を備えている。第3被加工物は、たとえばノッチウェーハである。第3吸引面633は、台形状面639を挟み第1吸引面631の反対側に配置されている。
The
Furthermore, the
第1吸引面631、第2吸引面632、及び第3吸引面633は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面631~633と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面631~633に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面631~633ごとに切り替えることができる。
The
この構成の第1研削装置1では、第1吸引面631が吸引保持した第1被加工物431を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面632及び第3吸引面633から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物431に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
In the
また、第1吸引面631及び第2吸引面632で、上記の第2被加工物(オリエンテーションフラットウェーハ)を吸引保持して研削加工する際に、第3吸引面633をエア供給源8及び水供給源9に連通させ、第3吸引面633から水とエアとの混合流体を噴出させて、この混合流体によって第1研削砥石340の下面342を洗浄してもよい。
Further, when the second workpiece (orientation flat wafer) is sucked and held by the
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図6に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面640を備える、第4チャックテーブル24を備えていてもよい。
Instead of the first chuck table 21, the first
この吸引面640は、第1被加工物441(オリエンテーションフラットウェーハ)の下面を吸引保持する第1吸引面641を備えている。また、吸引面640は、図示しない第2被加工物(ノッチウェーハ)の下面を吸引保持する弓形状の第2吸引面642を備えている。
This
第1吸引面641及び第2吸引面642は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面641及び第2吸引面642と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面641及び第2吸引面642に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面641、642ごとに切り替えることができる。
The
この構成の第1研削装置1では、第1吸引面641が吸引保持した第1被加工物441を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面642から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物441に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
In the first
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図7(a)に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面650を備える、第5チャックテーブル25を備えていてもよい。
The first
この吸引面650は、長方形状の第1被加工物451の下面を吸引保持する長方形状の第1吸引面651を2つ備えている。第1吸引面651は、長方形の第1面658と、第1面658の各短辺に隣接配置された長方形の2つの第2面659とから構成される。また、吸引面650は、図7(b)に示す略正方形の第2被加工物452の下面を吸引保持する第2吸引面652を備えている。第2吸引面652は、2つの第1面658の間に配置された長方形の第3面653と、該第1面658を挟み該第3面653の反対側に配置された長方形の2つの第4面654と、2つの第1面658とから構成される。
The
第1吸引面651及び第2吸引面652を構成する第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654に連通している状態と、連通していない状態とを、第1面658、第2面659、第3面653、及び第4面654ごとに切り替えることができる。
なお、図7(a)に示すように、第1吸引面651に第1被加工物451を吸引保持させ研削加工する際は、第2吸引面652のうち、第1被加工物451を吸引保持していない部分である第3面653と第4面654とから流体を噴出させる。また、図7(b)に示すように、第2吸引面652に第2被加工物452を吸引保持させ研削加工する際は、第1吸引面651のうち、第2被加工物452を吸引保持していない部分である第2面659から流体を噴出させる。
このように、研削加工中に被加工物を保持していない露出している吸引面から流体を噴出させ、吸引面に加工屑などが付着することを防止する。
A
As shown in FIG. 7A, when the
In this manner, the fluid is ejected from the exposed suction surface that does not hold the workpiece during the grinding process, thereby preventing the adherence of processing chips and the like to the suction surface.
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図8に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面660を備える、第6チャックテーブル26を備えていてもよい。
Instead of the first chuck table 21, the first
この吸引面660は、長方形状の第1被加工物461の下面を吸引保持する長方形状の第1吸引面661を備えている。また、吸引面660は、略正方形状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する2つの第2吸引面662を備えている。2つの第2吸引面662は、第1吸引面661を挟むように配置されている。
The
第1吸引面661及び第2吸引面662は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面661及び第2吸引面662と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面661及び第2吸引面662に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面661、662ごとに切り替えることができる。
The
この構成の第1研削装置1では、第1吸引面661が吸引保持した第1被加工物461を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面662から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物461に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
In the first
第1研削装置1は、第1チャックテーブル21に代えて、図9に示すような、枠体69の上面690に面一に形成された吸引面670を備える、第7チャックテーブル27を備えていてもよい。
Instead of the first chuck table 21, the first
この吸引面670は、略正方形状の第1被加工物971の下面を吸引保持する略正方形状の第1吸引面671を備えている。また、吸引面670は、略正方形状の第2被加工物(不図示)の下面を吸引保持する四角環状の第2吸引面672を備えている。
The
第1吸引面671及び第2吸引面672は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。第1吸引面671及び第2吸引面672と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が第1吸引面671及び第2吸引面672に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面671、672ごとに切り替えることができる。
The
この構成の第1研削装置1では、第1吸引面671が吸引保持した第1被加工物971を研削加工する際に、流体噴出機構101によって第2吸引面672から混合流体を噴出して、噴出された混合流体で研削加工中に第1被加工物971に接触していない第1研削砥石340の下面342を洗浄する。
In the first
図10には、被加工物17をクリープフィード研削する第2研削装置2が示されている。第2研削装置2は、図1に示した第1研削装置1の構成において、第1チャックテーブル21に代えて、第8チャックテーブル28を備えている。また、第2研削装置2に備えられる研削機構3は、第1研削砥石340に代えて、クリープフィード研削用の第2研削砥石370を備えている。さらに、第2研削装置2は、第8チャックテーブル28をY軸方向に水平移動させるクリープフィード研削送り機構104を備えている。
なお、第2研削装置2は、被加工物17をインフィード研削してもよい。
FIG. 10 shows the
Note that the
第8チャックテーブル28は、円板状の基台40と、直方体状の被加工物17を各々吸引保持する長方形状の第1吸引面401、第2吸引面402、第3吸引面403、及び第4吸引面404を有している。
The eighth chuck table 28 includes a disk-shaped
吸引面401~404は、基台40の上面400において、等しい間隔を空けてY軸方向に並べられており、各吸引面401~404の長辺がX軸方向に平行になるように配置されている。第8チャックテーブル28においては、吸引面401~404のうちの任意の2つの吸引面で、少なくとも2つの被加工物17を吸引保持することができる。
The suction surfaces 401 to 404 are arranged in the Y-axis direction at equal intervals on the upper surface 400 of the
また、吸引面401~404は、流体噴出機構101の吸引源7、エア供給源8及び水供給源9に連通可能に構成されている(図2参照)。各々の吸引面401~404と、吸引源7、エア供給源8、及び水供給源9との間には、図示しないバルブが配設されている。それらのバルブを制御することにより、吸引源7、エア供給源8及び水供給源9が吸引面401~404に連通している状態と、連通していない状態とを、吸引面401~404ごとに切り替えることができる。
Also, the suction surfaces 401 to 404 are configured to communicate with the
第2研削装置2では、一例として、以下のように被加工物17を研削加工する。まず、一方の吸引面である第3吸引面403に被加工物17が載置された状態で、制御部19が、第3吸引面403と吸引源7との間のバルブを開いて、第3吸引面403を吸引源7に連通させる。これにより、第8チャックテーブル28は、第3吸引面403で被加工物17を吸引保持する。
さらに、制御部19は、研削機構3の第2研削砥石370の下面372を被加工物17の上面170よりも低い高さに位置づけるとともに、第2研削砥石370を回転させる。
そして、制御部19は、クリープフィード研削送り機構104によって、第3吸引面403で被加工物17を保持している第8チャックテーブル28を、回転する第2研削砥石370に対して水平移動させ、第2研削砥石370を被加工物17に接触させる。こうして、第2研削装置2では、研削機構3によって、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17をクリープフィード研削する。
As an example, the
Furthermore, the
Then, the
ここで、制御部19は、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17をクリープフィード研削加工する際に、流体噴出機構101によって、他方の面である第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404を、流体噴出機構101のエア供給源8及び水供給源9に連通させる。これにより、制御部19は、流体噴出機構101によって、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404から混合流体を噴出させる。そして、制御部19は、流体噴出機構101によって噴出された混合流体で、被加工物17のクリープフィード研削加工中に被加工物17に接触していない第2研削砥石370の下面372を洗浄する。
Here, when creep feed grinding is performed on the
以上のように、第2研削装置2では、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404から混合流体を噴出させている。従って、この混合流体によって第2研削砥石370の下面372を洗浄することができる。これにより、被加工物17の加工時に露出している第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404に、第1被加工物11の加工中に発生する加工屑が付着することを抑制できる。また、吸引面401、402、及び404から流体を噴出させることで、被加工物17の加工中に第2研削砥石370から脱落した砥粒と被加工物から排出された加工屑とが、吸引面401、402、及び404に衝突することを、抑制することもできる。従って、第1吸引面401、第2吸引面402、及び第4吸引面404に被加工物17を吸引保持してクリープフィード研削することができる。
As described above, in the
なお、第3吸引面403が吸引保持した被加工物17を研削機構3によって研削加工する際に、流体噴出機構101によって他方の吸引面401、402、及び404から第2研削砥石370に噴出される流体は、混合流体に限らず、水のみあるいはエアのみでもよい。
When the
また、第2研削装置2では、第1吸引面401及び第3吸引面403に被加工物17を吸引保持して、第2吸引面402及び第4吸引面404から流体を噴出させながら、研削機構3の第2研削砥石370によって、各々の被加工物17をクリープフィード研削加工することもできる。つまり、第2研削装置2では、研削機構3によって、複数の被加工物17を一度にクリープフィード研削加工しながら、露出している吸引面から混合流体を噴出して第2研削砥石370の下面372を洗浄できる。
なお、第2吸引面402に被加工物17を吸引保持させないことで、第1吸引面401が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削する際の第2研削砥石370の下面372の高さと、第3吸引面403が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削する際の第2研削砥石370の下面372の高さとを変更することができる。つまり、第1吸引面401が吸引保持している被加工物17をクリープフィード研削したとき、第3吸引面403が吸引保持している被加工物17に第2研削砥石370が接触しないため、研削砥石の高さ変更が可能になる。
In addition, in the
By not allowing the
なお、第1研削装置1及び第2研削装置2は、加工装置の一例に相当する。第1研削装置1及び第2研削装置2は、CMP装置(化学機械研磨装置)、ドライ研磨装置、また、バイト切削装置であってもよい。
また、吸引面から噴出した流体によって、CMP装置の研磨パッド、ドライ研磨装置の研磨パッド、バイト切削装置のバイトを洗浄してもよい。
In addition, the
Further, the fluid ejected from the suction surface may be used to clean the polishing pad of the CMP apparatus, the polishing pad of the dry polishing apparatus, and the cutting tool of the cutting tool.
1:第1研削装置 2:第2研削装置 3:研削機構
7:吸引源 8:エア供給源 9:水供給源
11:第1被加工物 110:上面 111:中心 112:下面
12:第2被加工物 120:上面 122:下面
17:被加工物 170:上面 19:制御部
21~28:チャックテーブル 69:枠体
610:吸引面 611:第1吸引面 612:第2吸引面
401:第1吸引面 402:第2吸引面 403:第3吸引面 404:第4吸引面
101:流体噴出機構
1: First Grinding Device 2: Second Grinding Device 3: Grinding Mechanism 7: Suction Source 8: Air Supply Source 9: Water Supply Source 11: First Workpiece 110: Upper Surface 111: Center 112: Lower Surface 12: Second Surface Workpiece 120: Upper surface 122: Lower surface 17: Workpiece 170: Upper surface 19:
Claims (3)
該吸引面は、少なくとも第1被加工物の下面を吸引保持する第1吸引面と、第2被加工物の下面を吸引保持する第2吸引面とを備え、
該第1吸引面が吸引保持した該第1被加工物を加工する際に、該第2吸引面のうち、該第1被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させ、
該第2吸引面が吸引保持した該第2被加工物を加工する際に、該第1吸引面のうち、該第2被加工物を吸引保持していない部分から流体を噴出させる、
流体噴出機構を備える、加工装置。 A machining apparatus comprising: a chuck table for sucking and holding a workpiece on a suction surface; and a machining mechanism for machining the workpiece sucked and held on the suction surface,
The suction surface includes at least a first suction surface for sucking and holding the lower surface of the first workpiece, and a second suction surface for sucking and holding the lower surface of the second workpiece,
when machining the first workpiece sucked and held by the first suction surface, ejecting fluid from a portion of the second suction surface not holding the first workpiece by suction;
When processing the second workpiece sucked and held by the second suction surface, a portion of the first suction surface not sucking and holding the second workpiece ejects fluid;
A processing device comprising a fluid ejection mechanism.
少なくとも2つの該第3吸引面のうちのどちらか一方のみ吸引源を連通させ吸引保持した被加工物を加工する際に、他方の吸引面から流体を噴出させる流体噴出機構を備える、加工装置。 A machining apparatus comprising: a chuck table having at least two third suction surfaces for sucking and holding at least two workpieces; and a machining mechanism for machining the workpiece sucked and held on the third suction surfaces. hand,
A processing apparatus comprising a fluid ejecting mechanism for ejecting fluid from the other of the at least two third suction surfaces when machining a workpiece that is suction-held with a suction source connected to only one of the at least two third suction surfaces.
該加工機構は、下面で被加工物を研削する研削砥石を備え、
該流体噴出機構によって噴出された混合流体で研削加工中に被加工物に接触していない該研削砥石の下面を洗浄する、請求項1または2記載の加工装置。 The fluid jetted by the fluid jetting mechanism is a mixed fluid of water and air,
The processing mechanism includes a grinding wheel that grinds the workpiece on the lower surface,
3. The processing apparatus according to claim 1, wherein the mixed fluid ejected by said fluid ejecting mechanism cleans the lower surface of said grinding wheel that is not in contact with the workpiece during grinding.
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