JP2022539871A - 多孔質炭素質真空チャンバライナ - Google Patents
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Abstract
Description
別の態様では、本発明は、内部及び内部のライナを含む真空チャンバに関する。ライナは内部に曝される表面を有しており、表面は多孔質無機炭素質材料からなる。
Claims (19)
- 真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部空間に曝される表面を有するライナと、を備え、前記表面は多孔質無機炭素質材料からなる、装置。 - 前記多孔質無機炭素質材料は、開放細孔構造を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記表面は、10ミクロンを超える細孔サイズを有するマクロポーラス表面開口を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、500から1,000ミクロンの範囲の厚さを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、18から97パーセントの範囲の多孔度を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記ライナは、
前記ライナの第1面上の前記表面と、
前記ライナの第2面上の第2の表面と、
前記第1の表面と前記第2の表面との間の厚さと、を含み、
前記多孔質無機炭素質材料は、開放細孔構造を有し、前記開放細孔構造は、前記第1の表面から前記第2の表面まで延びる、請求項1に記載の装置。 - 前記多孔質無機炭素質材料は、織られた炭素又はグラファイト繊維である、請求項1に記載の装置。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、無機炭素質発泡体である、請求項1に記載の装置。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、グラファイト発泡体である、請求項1に記載の装置。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、炭化ケイ素発泡体である、請求項1に記載の装置。
- 内部及び前記内部のライナを含む真空チャンバであって、前記ライナは前記内部に曝される表面を有し、前記表面は多孔質無機炭素質材料からなる、真空チャンバ。
- 前記多孔質無機炭素質材料は、開放細孔構造を有する、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記表面は、10ミクロンを超える細孔サイズを有するマクロポーラス表面開口を含む、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記ライナは、
前記ライナの第1面上の前記表面と、
前記ライナの第2面上の第2の表面と、
前記第1の表面と前記第2の表面との間の厚さと、を含み、
前記多孔質無機炭素質材料は、開放細孔構造を有し、前記開放細孔構造は、前記第1の表面から前記第2の表面まで延びる、請求項11に記載の真空チャンバ。 - ライナを含む真空チャンバを有する装置を使用する方法であって、前記方法は、
前記真空チャンバ内でイオンビームを生成すること、又は
前記真空チャンバ内で破片粒子を生成すること、又は
前記真空チャンバ内でイオンビーム及び破片粒子を生成すること、を含み、
前記ライナは前記真空チャンバの内部空間に曝される表面であって、多孔質無機炭素質材料からなる表面を有し、
前記装置を使用する前記方法の間、前記イオンビーム又は前記破片粒子は前記ライナの表面に接触する、方法。 - 前記イオンビームは前記ライナに直交して向けられており、前記ライナ表面に衝突するイオンは粒子破片を生成し、
前記イオンによって生成される粒子破片の量は、多孔質無機炭素質材料からなる前記表面を有さないライナに衝突する前記イオンによって生成される粒子破片の量よりも少ない、請求項15に記載の方法。 - 前記方法は、前記真空チャンバの前記内部空間に入る粒子破片を生成することを含み、
前記粒子破片は前記ライナに接触し、前記ライナによって捕捉され、前記真空チャンバの前記内部空間から除去される、請求項15に記載の方法。 - 前記ライナは、多孔質表面を有さないライナによって除去される粒子破片の量よりも多い量の粒子破片を前記内部空間から除去する、請求項15に記載の方法。
- イオンを基板に注入することを含み、前記基板は基板表面にフォトレジストを含み、前記方法は、前記イオンビームによって前記フォトレジストに由来する粒子破片を生成するように、前記イオンビームを前記フォトレジストに向けることを含む、請求項15に記載の方法。
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