JP2022539239A - メトロロジにおける補正不能誤差 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2019年7月4日に出願された欧州出願第19184407.5号および2019年8月28日に出願された欧州出願第19193962.8号の優先権を主張し、それらの全体が本明細書に援用される。
検査装置を使用する際には、「ピュアフォーカス」の値がトータルフォーカス誤差から抽出されてもよい。これは、トータルフォーカス誤差から既知のスキャナ寄与因子を減算することによって行うことができる。スキャナ寄与因子は、主としてレベリング補正不能誤差(NCE)であり、とくに、基板の上面がスリットの長さに匹敵する空間スケールで走査方向に沿って高さ変動を示している場合においてウェハテーブルの動きがこの表面に追従できる限界によってもたらされる作動誤差である。スリットは、典型的に、x方向にフィールド幅全体を、y方向に数mmをカバーしながら、基板上に露光される。y方向における走査動作がフィールド全体を網羅することを可能にする。その結果、(ウェハステージが唯一のアクチュエータであって、像面自体は歪み得ないと仮定すると、)線形プロファイルをx方向に作動させることができるにすぎず、y方向には所望の非線形プロファイルの「移動平均」となる。
1.基板に関するパラメータの複数の値を備える第1及び第2の計測データ間の差を決定する装置であって、前記基板は、デバイストポロジーを備える複数のフィールドを含み、
前記パラメータのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから除去し、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得することと、
前記フィールド間成分および前記第2の計測データに基づいて、前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することと、を有する方法を実施するコンピュータプログラムコードを実行するように構成されたプロセッサを備える装置。
2.前記第1の計測データは、レベルセンサによって取得される前記基板上に造られたフィーチャの高さに関するデータZLSを備える、項1に記載の装置。
3.前記フィールド内成分は、フィールド内の1つ又は複数のデバイスのトポロジーに関するデータを備える、項2に記載の装置。
4.前記フィールド内成分を決定することは、前記パラメータの1つ又は複数の特徴を入力とする1つ又は複数のアルゴリズムに基づく、項1または2に記載の装置。
5.前記パラメータの1つまたは複数の特徴は、前記装置又はさらなる装置によって測定される、項4に記載の装置。
6.前記フィールド内成分は、前記第1の計測データに基づいて少なくとも部分的に決定される、項1から5のいずれかに記載の装置。
7.前記プロセッサは、前記第1の計測データを取得するように前記装置を制御するようにさらに構成される、項1から6のいずれかに記載の装置。
8.前記第2の計測データの前記複数の値は、前記基板内又は前記基板上に造られた計測ターゲットから計測されたものである、項1から7のいずれかに記載の装置。
9.前記第2の計測データの前記複数の値は、前記基板上のフィールド間及び/又はダイ間のスクライブレーンで計測されたものである、項8に記載の装置。
10.前記第2の計測データは、回折に基づくフォーカスを用いて取得されるトータルフォーカス誤差データを備える、項1から9のいずれかに記載の装置。
11.前記第1及び第2の計測データ間の差を決定することは、レベリング補正不能誤差の推定値を前記第1の計測データに基づいて決定するために、前記フィールド間成分からリソグラフィ露光装置内のウェハテーブルの作動高さZEXPを減算することを備える、項1から10のいずれかに記載の装置。
12.前記第1及び第2の計測データ間の差を決定することは、前記第1の計測データに基づいて推定されたレベリング補正不能誤差を前記第2の計測データから減算することをさらに備える、項11に記載の装置。
13.前記パラメータは、フォーカス誤差を備える、項1から12のいずれかに記載の装置。
14.前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することは、前記第1の計測データのスクライブレーンに特有な表現を取得するために、前記第1の計測データのフィールド間成分から既知の作動プロファイルを減算することを備える、項1から13のいずれかに記載の装置。
15.前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することは、前記第2の計測データと前記第1の計測データのスクライブレーンに特有な表現との差を決定することをさらに備える、項14に記載の装置。
16.第1の計測データを取得するための装置および/または第2の計測データを取得するための装置をさらに備える、項1から15のいずれかに記載の装置。
17.項1から16のいずれかに記載の装置を備えるリソグラフィ装置。
18.基板に関するパラメータの複数の値を備える第1及び第2の計測データ間の差を決定する方法であって、前記基板は、デバイストポロジーを備える複数のフィールドを含み、
前記パラメータのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得するために除去することと、
前記フィールド間成分および前記第2の計測データに基づいて、前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することと、を備える方法。
19.リソグラフィ装置についてスクライブレーンフォーカス誤差寄与度の推定値を第1及び第2の計測データに基づいて決定する装置であって、
前記第1の計測データは、基板のフィールドにわたる複数の高さ値を備え、前記基板は、スクライブレーンとデバイストポロジーを含むダイとを備える複数のフィールドを含み、
前記第2の計測データは、前記スクライブレーン内で測定された前記リソグラフィ装置のフォーカスに関するパラメータの複数の値を備えており、
前記第1の計測データのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得するために除去することと、
前記第1の計測データのフィールド間成分と、前記第1の計測データに基づく前記リソグラフィ装置の作動による前記基板の測定され又は予想された動きとの差として、前記第1の計測のスクライブレーンフォーカス誤差寄与度を決定することと、を有する方法を実施するコンピュータプログラムコードを実行するように構成されたプロセッサを備える装置。
20.前記プロセッサは、前記第1の計測データにおいて観測されない効果によって引き起こされるリソグラフィ装置のフォーカス誤差の推定値を決定するために、前記第2の計測データから前記第1の計測のスクライブレーンフォーカス誤差寄与度を除去するようにさらに構成される、項19に記載の装置。
21.前記プロセッサは、前記第1の計測データを、前記第1の計測データにおいて観測されない効果によって引き起こされるリソグラフィ装置のフォーカス誤差の決定された推定値と組み合わせるようにさらに構成される、項20に記載の装置。
Claims (15)
- 基板に関するパラメータの複数の値を備える第1及び第2の計測データ間の差を決定する装置であって、前記基板は、デバイストポロジーを備える複数のフィールドを含み、
前記パラメータのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから除去し、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得することと、
前記フィールド間成分および前記第2の計測データに基づいて、前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することと、を有する方法を実施するコンピュータプログラムコードを実行するように構成されたプロセッサを備える装置。 - 前記第1の計測データは、レベルセンサによって取得される前記基板上に造られたフィーチャの高さに関するデータZLSを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記フィールド内成分は、フィールド内の1つ又は複数のデバイスのトポロジーに関するデータを備える、請求項2に記載の装置。
- 前記フィールド内成分を決定することは、前記パラメータの1つ又は複数の特性を入力とする1つ又は複数のアルゴリズムに基づく、請求項1または2に記載の装置。
- 前記パラメータの1つまたは複数の特性は、前記装置又はさらなる装置によって測定される、請求項4に記載の装置。
- 前記フィールド内成分は、前記第1の計測データに基づいて少なくとも部分的に決定される、請求項1に記載の装置。
- 前記第2の計測データの前記複数の値は、前記基板内又は前記基板上に造られた計測ターゲットから計測されたものである、請求項1に記載の装置。
- 前記第2の計測データの前記複数の値は、前記基板上のフィールド間及び/又はダイ間のスクライブレーンで計測されたものである、請求項7に記載の装置。
- 前記第1及び第2の計測データ間の差を決定することは、レベリング補正不能誤差の推定値を前記第1の計測データに基づいて決定するために、前記フィールド間成分からリソグラフィ露光装置内のウェハテーブルの作動高さZEXPを減算することを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記第1及び第2の計測データ間の差を決定することは、前記第1の計測データに基づいて推定されたレベリング補正不能誤差を前記第2の計測データから減算することをさらに備える、請求項9に記載の装置。
- 前記パラメータは、フォーカス誤差を備える、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することは、前記第1の計測データのスクライブレーンに特有な表現を取得するために、前記第1の計測データのフィールド間成分から既知の作動プロファイルを減算することを備える、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することは、前記第2の計測データと前記第1の計測データのスクライブレーンに特有な表現との差を決定することをさらに備える、請求項12に記載の装置。
- 基板に関するパラメータの複数の値を備える第1及び第2の計測データ間の差を決定する方法であって、前記基板は、デバイストポロジーを備える複数のフィールドを含み、
前記パラメータのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得するために除去することと、
前記フィールド間成分および前記第2の計測データに基づいて、前記第1の計測データと前記第2の計測データとの差を決定することと、を備える方法。 - リソグラフィ装置についてスクライブレーンフォーカス誤差寄与度の推定値を第1及び第2の計測データに基づいて決定する装置であって、
前記第1の計測データは、基板のフィールドにわたる複数の高さ値を備え、前記基板は、スクライブレーンとデバイストポロジーを含むダイとを備える複数のフィールドを含み、
前記第2の計測データは、前記スクライブレーン内で測定された前記リソグラフィ装置のフォーカスに関するパラメータの複数の値を備えており、
前記第1の計測データのフィールド内成分を決定することと、
決定されたフィールド内成分を前記第1の計測データから、前記第1の計測データのフィールド間成分を取得するために除去することと、
前記第1の計測データのフィールド間成分と、前記第1の計測データに基づく前記リソグラフィ装置の作動による前記基板の測定され又は予想された動きとの差として、前記第1の計測のスクライブレーンフォーカス誤差寄与度を決定することと、を有する方法を実施するコンピュータプログラムコードを実行するように構成されたプロセッサを備える装置。
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