JP2022525850A - 流体供給リング、並びに関連する装置及び方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】 流体供給リング（５）、基材コーティング装置（１）、及び方法が、基材（２）を触媒成分によりコーティングするために提供される。流体供給リング（５）は、流体供給リングの中央ボアと境界を接する内面（４５）を備える環状本体（４０）を備えている。流体供給ポート（４７）は液体を受容し、環状本体の内面の複数の出口開口（５０）は、液体を基材コーティング装置（１）のピストン面（２３）に吐出する。環状本体（４０）の周囲に少なくとも途中まで延びる分配チャネル（５１）は、流体供給ポート（４７）と複数の出口開口（５０）との間に流体連通を提供する。【選択図】図２

Description

本開示は、流体供給リング、基材コーティング装置、及び基材を触媒成分によりコーティングする方法に関する。コーティングされた基材は、内燃エンジンによって発生された排ガスから汚染物質を処理又は除去するための排出制御デバイスで使用することができる。

コーティングされたモノリス基材を備える排出制御デバイスが毎年多数製造されている。このようなデバイスの主な使用のうちの１つは、発電所によって、又は内燃エンジン、特に、乗り物の内燃エンジンによって発生された排ガスなどの、排ガスを処理するためのものである。モノリス基材は、排ガスを基材内のチャネル壁上のコーティングと接触させる複数のチャネルを含む。このコーティングは、人間の健康に有害である、又は環境に優しくない排ガスの構成成分を捕捉し、酸化させ、及び／又は還元することができる。モノリス基材はまた、内燃エンジンによって発生された煤などの、煤（即ち、粒子状物質）を除去することができるフィルタ基材とすることができる。

排ガスの浄化のための基材は、通例、排ガスの通過流のための通路を設けられたモノリス基材を含み得る。基材には、触媒コーティングであり得るコーティングを設けることができる。コーティングは、基材の通路を通過するウォッシュコートとして基材に適用することができる。コーティングを基材に適用するための様々な方法が知られている。１つのこのような方法は、ウォッシュコートを基材の第１の面（例えば、上面）に適用し、基材の反対側の第２の面（例えば、下面）を少なくとも部分的真空に曝し、通路を通過するウォッシュコートの運動を達成することを含む。コーティング後に、基材を乾燥し、か焼してもよい。

基材はフロースルー基材として構成することができ、各通路は基材の第１及び第２の面の両方において開放しており、通路は基材の全長を貫いて延びる。その結果、基材の第１の面を通って通路内に入る排気ガスは、排気ガスが基材の第２の面から出るまで、同じ通路で基材を通過する。代替的に、基材は、いくつかの通路が基材の第１の面において栓塞されており、他の通路が基材の第２の面において栓塞されている、フィルタ基材として構成することができる。このような構成では、基材の第１の面を通って第１の通路に入った排ガスは、基材に沿って途中までその第１の通路に沿って流れ、その後、基材のフィルタリング壁を通過して第２の通路に入る。その後、排気ガスは上記第２の通路に沿って進み、基材の第２の面から出ていく。このような機構は当技術分野においてウォールフロー型フィルタとして知られるようになっている。

コーティングされたフィルタ基材又は製品は、例えば、酸化触媒（例えば、触媒化煤フィルタ［catalysed soot filter、ＣＳＦ］）、選択触媒還元（selective catalytic reduction、ＳＣＲ）触媒（例えば、このとき、製品は選択触媒還元フィルタ［selective catalytic reduction filter、ＳＣＲＦ］触媒と呼ばれ得る）、ＮＯｘ吸蔵材組成物（例えば、このとき、製品はリーンＮＯｘ捕捉フィルタ［lean NOx trap filter、ＬＮＴＦ］と呼ばれ得る）、三元触媒組成物（例えば、このとき、製品はガソリン微粒子フィルタ［gasoline particulate filter、ＧＰＦ］と呼ばれ得る）、アンモニアスリップ触媒［ammonia slip catalyst、ＡＳＣ］、又はこれらのうちの２つ以上の組み合わせ（例えば、選択触媒還元（ＳＣＲ）触媒及びアンモニアスリップ触媒［ＡＳＣ］を含むフィルタ基材）を含むフィルタ基材であり得る。

基材は、１回の注入においてコーティングすることができ、ここでは基材が単一の向きのまま留まっている単一のステップでウォッシュコートを基材に適用することができる。代替的に、基材は２回の注入においてコーティングしてもよい。例えば、１回目の注入では、基材は、第１の面が最上部にある第１の向きになっており、第２の面は最下部にある。コーティングが第１の面に適用され、基材の長さ部分をコーティングする。その後、基材は、第２の面が最上部になるよう、逆さまにされる。次に、１回目の注入によってコーティングされなかった基材の部分をコーティングするために、コーティングが第２の面に適用される。有利には、２回注入プロセスは、異なるコーティングが基材の各端部に適用されることを可能する。

基材の最良の性能をもたらすために、コーティングされた基材の表面積が最大化されるよう基材が十分にコーティングされることを確実にすることが有益であり得る。しかし、基材の部分が（例えば、２回注入プロセスにおいて）２つ以上のウォッシュコート層によってコーティングされないことを確実にすることも有益であり得る。なぜなら、これは、基材内における圧力損失の増大をもたらし得るからである。したがって、ウォッシュコートを基材に適用するプロセスにより、基材の確実で制御可能なコーティングプロファイルを達成することが望ましい。

欧州特許第３００３５８２号は、複数のチャネルを備える基材を、触媒成分を含むウォッシュコート液によりコーティングする方法について記載しており、この方法は、（ａ）基材を垂直に保持することと、（ｂ）基材の下端部にあるチャネルの開放端を通して液体を基材に導入することと、（ｃ）基材の下端部が液体により部分的に充填された後、液体を基材に導入しながら、基材の上端部にあるチャネルの開放端に真空を適用することと、を含む。

このような方法を実施するための例示的な基材コーティング装置が、欧州特許第３００３５８２号の図１に示されており、基材ホルダ３と、ピストン装置４と、側部投与ポート７と、真空発生器６と、を備える。

基材ホルダ３は、基材２を垂直に保持するのに好適であり、基材２は複数のチャネルを備える形式のものである。基材ホルダ３は、基材２のそれぞれの上端部及び下端部を支持する、膨張可能な上部シールブラダ１０及び膨張可能な下部シールブラダ１１を備える。ピストン装置４は、基材の下端部にある複数のチャネルの開放端を介して、又はそれを通して、触媒成分を含む液体を押し込む又は注入することによって、基材２の下端部に導入するために設けられている。真空発生器６は、基材２の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用するために設けられている。側部投与ポート７は、ピストン装置４のピストン２０に液体を供給するのに好適である。

この構成では、側部投与ポート７は、ピストン２０の上方の送達チャンバ２１に触媒成分を含む液体が吐出される単一のポートを備える。

ピストン装置が、触媒成分を含むウォッシュコート液を押し込む又は注入することによってウォッシュコート液を導入した時に、触媒成分を含むウォッシュコート液がピストン上に均一に分散されていない場合、基材のコーティングが不均一になることがある。例えば、基材のコーティングプロファイルは、基材のいくつかのチャネルが他のチャネルよりも多くの触媒成分によりコーティングされる場合に不均一になることがある。例えば、これにより、コーティングプロファイルの前縁部が平坦でなくなることがある。２回注入プロセスの特定の場合では、コーティングプロファイルの前縁部が平坦でないと、基材の一部分が十分にコーティングされず、基材の他の部分は２つ以上のウォッシュコート層によってコーティングされることになる場合がある。

本開示は、流体供給リングを備える基材コーティング装置、及び基材を触媒成分でコーティングするための方法について説明する。本方法は、欧州特許第３００３５８２号に記載されている方法のうちの１つ以上のステップを含み得る。しかしながら、基材コーティング装置及び方法は、そのような方法における使用に限定されない。更に、本開示の基材コーティング装置及び流体供給リングは、基材を触媒成分によりコーティングする他の方法での適用例を見出すことができる。

第１の態様において、本開示は、基材コーティング装置のピストン面上に触媒成分を含む液体を供給するための流体供給リングであって、
流体供給リングの中央ボアと境界を接する内面を備える環状本体と、
液体を受容するための流体供給ポートと、
液体をピストン面に吐出するための、環状本体の内面にある複数の出口開口と、
環状本体の周囲に少なくとも途中まで延びる分配チャネルであって、流体供給ポートと複数の出口開口との間に流体連通を提供する分配チャネルと、
を備える流体供給リングを提供する。

こうして、環状本体の内面に複数の出口開口を、液体をピストン面に吐出するために設けることにより、ピストン面上での液体の拡散の均一性を向上させることができる。更に、複数の出口開口を使用することにより、ピストン面に液体をより大きな速度で供給できるので、かつ／又は、基材のチャネルへ液体を押し込む又は注入する前にピストン面にわたって液体が均一に拡散するのに要する時間がより短くなるので、基材コーティング装置のサイクル時間をより短くすることが可能になる。

複数の出口開口は、内面の少なくとも２つの四分円に、任意選択的に、内面の少なくとも３つの四分円に、任意選択的に、内面の４つの四分円全てに設けてもよく、任意選択的に、複数の出口開口は、内面全体の周囲に配置してもよく、任意選択的に、複数の開口は、内面全体の周囲に等間隔に配置してもよい。

このようにして内面の周囲に出口開口を分散することにより、ピストン面上での液体の拡散の均一性を更に改善することができる。

流体供給リングは、分配チャネルから複数の出口開口への流体連通を提供する複数の出口チャネルを更に備え、任意選択的に、上記出口チャネルから上記出口開口を通って吐出される液体がピストン面に向かって下向きに方向付けられるように、複数の出口チャネルの少なくとも一部分、任意選択的に全てが、それぞれの出口開口において下向きに方向付けられてもよく、任意選択的に、上記出口チャネルの第１の部分は、第１の角度で下向きに方向付けられており、かつ、上記出口チャネルの第２の部分は、第２の角度で下向きに方向付けられてもよく、任意選択的に、上記出口チャネルの第３の部分は、第３の角度で下向きに方向付けられてもよい。

複数の出口チャネルを下向きに方向付けることは、環状本体の内面の境界の間に液体を収容するのを補助することによって、ピストン面からの液体の損失を防止するのを補助することができる。更に、複数の出口チャネルを第１の角度及び第２の角度で下向きに、かつ、任意選択的に第３の角度にも方向付けることにより、ピストン面の第１及び第２のゾーン、及び任意選択的に第３のゾーンを液体の標的にすることによって、ピストン面上での液体の拡散の均一性を改善することができる。例えば、ピストン面の中央ゾーン及び／又は中間ソーン及び／又は外周ゾーンを、液体の標的にすることができる。これは、具体的には、例えばピストン面の中央ゾーンにおける、ピストン面の未コーティング部分を防止することを補助することができる。

いくつかの実施形態では、上記出口チャネルから上記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルを、それぞれの出口開口において、全て時計回りに、又は全て反時計回りに方向付けることができる。

上記出口チャネルの第１の部分は、半径方向に対して第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよく、上記出口チャネルの第２の部分は、半径方向に対して第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよい。

半径方向に対して少なくとも第１の角度で、かつ半径方向に対して第２の角度で傾斜した出口チャネルを設けることにより、ピストン面上での液体の拡散の均一性を改善することができる。

いくつかの実施形態では、上記出口チャネルから上記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第１のサブセットを、それぞれの出口開口において、時計回りに方向付けてもよい。更に、上記出口チャネルから上記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、反時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第２のサブセットを、それぞれの出口開口において、反時計回りに方向付けてもよい。更に、上記出口チャネルから上記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、実質的に半径方向にピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第３のサブセットを、それぞれの出口開口において、半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けてもよい。

それぞれの出口において時計回りに方向付けられるいくつかの出口チャネルと、それぞれの出口において反時計回りに方向付けられるいくつかの出口チャネルとを設けることにより、ピストン面上での液体の拡散の均一性を改善することができる。例えば、液体の逆方向に回転する流れは、互いに衝突して、ピストン面にわたる液体の拡散度を増大させ得る。それぞれの出口開口において半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられるいくつかの出口チャネルを任意選択で設けることにより、ピストン面上での液体の拡散の均一性を更に高めることができる。例えば、このような出口チャネルを設けることにより、ピストン面の中央ゾーンへの液体の流れを改善することができる。それぞれの出口開口において半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられる複数の出口チャネルの第３のサブセットを設けることは、環状本体の内径が２００ｍｍを上回る場合に好ましい場合がある。内径が２００ｍｍ以下の環状本体の場合、複数の出口チャネルの第１のサブセット及び第２のサブセットのみを設けることが好ましい場合がある。

時計回り又は反時計回りに方向付けられる複数の出口チャネルの第１及び／又は第２のサブセットは、最初に、ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けてもよい。

半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられる複数の出口チャネルの第３のサブセットは、ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けられる上記第３のサブセットの第１の部分と、ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けられる上記第３のサブセットの第２の部分と、を備えてもよい。

流体供給ポートを、流体供給リングの外周に配置してもよく、任意選択的に、流体供給ポートは、環状本体の外面を通って延びて分配チャネルと連通する供給チャネルを備えてもよく、任意選択的に、供給チャネルとの交差位置における分配チャネルは、非開口セクションを備え、それによって、供給チャネルから分配チャネルに入る液体の全てを横向きに偏向させることができる。

第２の態様では、本開示は、基材コーティング装置であって、
基材を垂直に保持するための基材ホルダであって、基材は複数のチャネルを備える形式のものである、基材ホルダと、
基材の下端部にある複数のチャネルの開放端を介して、又はそれを通して、触媒成分を含む液体を押し込む又は注入することによって、基材の下端部に導入するためのピストンと、
基材の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用するための真空発生器と、
ピストンの面に液体を供給するための、第１の態様に記載の流体供給リングと、
を備える基材コーティング装置を提供する。

流体供給リングは、基材を垂直に保持するために基材ホルダの下方に取り付けてもよく、任意選択的に、ピストンは送達チャンバ内で往復運動可能であってもよく、流体供給リングは、送達チャンバの上端部に、又はその上方に取り付けてもよく、任意選択的に、流体供給リングは、基材を垂直に保持するために、送達チャンバと基材ホルダの下部との間に取り付けてもよい。

第３の態様では、本開示は、触媒成分を含む液体により基材をコーティングする方法であって、基材は複数のチャネルを含む形式のものであり、本方法は、
（ａ）基材を垂直に保持することと、
（ｂ）第１の態様に記載の流体供給リングを使用して、ピストンの面に液体を供給することと、
（ｃ）ピストンを用いて基材の下端部にある複数のチャネルの開放端を通して液体を押し込む又は注入することによって、液体を基材に導入することと、
（ｄ）基材の下端部が液体により部分的に充填された後、ステップ（ｃ）において液体を基材に導入している間に、基材の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用することと、
を含む方法を提供する。

ステップ（ｂ）において、液体は、流体供給リングの少なくとも２つの四分円から、任意選択的に、流体供給リングの少なくとも３つの四分円から、任意選択的に、流体供給リングの４つの四分円の全てから、供給される。

ステップ（ｂ）において、液体は、ピストン面に向かって下向きに方向付けてもよく、任意選択的に、液体の第１の部分を、第１の角度で下向きに方向付けてもよく、液体の第２の部分を、第２の角度で下向きに方向付けてもよく、任意選択的に、液体の第３の部分を、第３の角度で下向きに方向付けてもよい。

いくつかの実施形態では、ステップ（ｂ）において、液体は、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りにピストン面上へと方向付けてもよく、任意選択的に、ステップ（ｂ）において、液体の第１の部分は、第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよく、液体の第２の部分は、第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよい。

いくつかの実施形態では、液体のうちの第１の体積が、最初に、ピストン面上へと時計回りに方向付けられてもよく、かつ／又は液体のうちの第２の体積が、最初に、ピストン面上へと反時計回りに方向付けられてもよく、かつ／又は液体のうちの第３の体積が、最初に、ピストン面上へと実質的に半径方向に方向付けられてもよい。液体のうちの第１の体積及び／又は第２の体積が、最初に、ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けられてもよい。最初にピストン面上へと半径方向に方向付けられる第３の体積の液体の第１の部分もまた、ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けてもよく、最初にピストン面上へと半径方向に方向付けられ得る第３の体積の液体の第２の部分は、ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けてもよい。

次に、添付の図面を参照して本開示の実施形態を例としてのみ説明する。
図１は、先行技術の基材コーティング装置の図である。 図２は、流体供給リングを備える本開示に係る基材コーティング装置のサブアセンブリの斜視図である。 図３は、図２のサブアセンブリの断面図である。 図４は、図３とは異なる平面上で切り取られた図２のサブアセンブリの一部分の断面図である。 図５は、ピストン装置を備える本開示に係る基材コーティング装置のサブアセンブリの断面図である。 図６は、基材コーティング装置の流体供給リングの内側リングの平面図である。 図６ａは、図６の一部分の拡大図である。 図７は、図６の内側リングの断面図である。 図８ａは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。 図８ｂは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。 図８ｃは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。 図８ｄは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。 図８ｅは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。 図８ｆは、図６の内側リングの一部分の更なる断面図である。

燃焼エンジンによって発生された排ガス中の汚染物質の処理又は除去のための排出制御デバイスは、当技術分野において周知である。このようなデバイスは、典型的には、触媒成分によりコーティングされた基材を含む。本開示は、そのようなデバイスを準備する際に使用するための特定の適用例を見出す。

本開示は、基材コーティング装置及び方法を使用して、触媒成分を含む液体により基材をコーティングすることに関する。「触媒成分」は、排気の汚染物質成分（例えば、ＣＯ、ＨＣ、又はＮＯｘ）に関与する反応において触媒活性である化学化合物又は材料であることに限定されないことを理解されたい。用語「触媒成分」は、触媒又は排出制御デバイスに含めるためにウォッシュコートに通常適用される任意の成分を包含する。例えば、触媒成分は、ＮＯｘ又は炭化水素を貯蔵又は吸収することができる材料を指すことができる。しかしながら、「触媒成分」自体が触媒活性であることが好ましい。

触媒成分を含む液体は当業者に既知であり、白金化合物、パラジウム化合物、及びロジウム化合物などの白金族金属化合物の水溶液、ＮＯｘを吸収するための化合物を基材上に堆積させるためのアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物の水溶液、並びに、遷移金属、例えば、鉄、銅、バナジウム、セリウムの化合物、及び遷移金属触媒促進化合物など、他の成分；アルミナ、セリア、チタニア、ジルコニア、シリカ－アルミナ、及びゼオライトなど、上記の白金族金属又は遷移金属のうちの１つ以上を任意選択的に担持する粒子状触媒担持材料を含むウォッシュコートスラリー；並びに、担持金属化合物と上記金属化合物の水溶液との組み合わせを含有するウォッシュコートスラリーを含む。このような液体はまた、触媒活性を改善するための有機化合物増粘剤、得られる触媒の意図される目的に適合する配合物の化学、並びに／又は液体の粘度及びレオロジーを含むことができる。液体は溶液又は懸濁液あり得るが、一般に、液体は懸濁液である。

基材コーティング装置１及び方法は、欧州特許第３００３５８２号に記載されており、その内容は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。欧州特許第３００３５８２号の基材コーティング装置の主要部分は、図１に示されており、基材ホルダ３と、ピストン装置４と、流体供給リング１５と、真空発生器６と、を備える。流体供給リング１５には単一の側部投与ポート７が設けられており、この側部投与ポートを通して触媒成分を含む液体が、ピストン２０の上方の送達チャンバ２１に吐出される。

本開示によれば、本発明者らは、基材コーティング装置及び方法で使用するための新規の流体供給リング５を開発した。新規の流体供給リング５は、欧州特許第３００３５８２号に記載されている形式の基材コーティング装置１及び方法における流体供給リング１５の代わりに使用することができる。しかしながら、新規の流体供給リング５は、当業者には理解されるような他の基材コーティング装置及び方法の一部として使用することができ、したがって、欧州特許第３００３５８２号の装置及び方法における使用には限定されない。

以下に、単なる例として、新規の流体供給リング５を、欧州特許第３００３５８２号に記載されている一般的な形式の基材コーティング装置１及び方法の一部として使用するために説明する。基材コーティング装置１及び方法の他の部分のより完全な説明のために、当業者は、欧州特許第３００３５８２号の教示を対象とする。

機能レベルにおいて、基材ホルダ３は、好ましくは、基材２を垂直に保持し、この基材２は、複数のチャネルを備える形式のものである。ピストン２０は、基材２の下端部にある複数のチャネルの開放端を介して、又はそれを通して、触媒成分を含む液体を押し込む又は注入することによって、基材２の下端部に導入するように機能する。真空発生器６は、基材２の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用するように機能する。「流体供給リング」５と以下で称する新規の流体供給リング５は、ピストン２０のピストン面２３上に液体を供給するように単純に機能する。

基材ホルダ３は、基材２のそれぞれの上端部及び下端部を支持する欧州特許第３００３５８２号に記載されている形式の、膨張可能な上部シールブラダ１０（上部の膨張可能なカラーとも呼ばれる）及び／又は膨張可能な下部シールブラダ１１（下部の膨張可能なカラーとも呼ばれる）を備えてもよい。膨張可能な上部シールブラダ１０及び膨張可能な下部シールブラダ１１は、基材２の外面と接触及び／又は係合することができる。各々が、基材２の周囲に液体密シール又は気密シールを形成し得る。膨張可能な上部シールブラダ１０及び膨張可能な下部シールブラダ１１は、１つ以上のハウジングによって支持することができる（例えば、１つ以上のハウジングの内壁によって支持することができる）。全ての基材が従来の円形断面を有するわけではなく、いくつかは楕円形又は「レーストラック」、歪んだ楕円形、又は他の非対称断面を有してもよい。基材がどのような断面を有していようとも、従来の方法又は技術を使用して、基材を受容するための好適な形状のハウジングを採用することが可能である。膨張可能な下部シールブラダ１１は、液体が基材２の下端部に導入されている間、基材２を定位置に保持することができる。また、基材２の側部で外面を液体がコーティングすることを防止するバリアを提供することができる。

図５に示すように、ピストン装置４は、ピストン２０と、ピストン２０が内部で往復運動するハウジングと、を備えることができる。図４に示すように、ハウジングは、シリンダシェル２５と、シリンダシェル２５内に配置されたシリンダライナー２６と、を備えることができる。シリンダシェル２５及び／又はシリンダライナー２６は、ピストン２０が部分的に又は完全にスィープすることのできる送達チャンバ２１を全体的に又は部分的に画定することができる。ピストン２０は、ピストン本体２２と、ピストンロッド２４と、を備えることができる。ピストン本体２２の上面は、ピストン面２３を画定することができる。ピストン面２３は、ポリマーなど、可撓性で非多孔性の疎水性材料を含んでもよい。ピストン面２３は、ポリエステルであるポリマーを典型的に含んでもよく、あるいはそのようなポリマーからなる。ポリエステルは、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートを含む、又はポリエチレンテレフタレートからなる。シリンダライナー２６は、非多孔性で滑らかな薬品耐性がある材料を含み得る。例として、ステンレス鋼、ポリウレタン、及びポリエステルが挙げられる。

送達チャンバ２１は、典型的には、行程容積を有する。送達チャンバ２１は、好ましくはシリンダである。用語「シリンダ」は、ピストン本体及びシリンダボアが円形断面であることを示唆するが、ピストン本体２２及びシリンダボアの形状は、基材２の断面形状によって定められ得る。例えば、基材２の断面が楕円形である場合、ピストン本体２２及びシリンダボアの断面もまた楕円形である。ピストン本体２２、シリンダシェル２５及びシリンダライナー２６は、円形断面を有することが好ましい。

真空発生器６は、欧州特許第３００３５８２号に記載されている形式の構成を有してもよい。図１に示すように、真空発生器６は、基材２の上端部と係合する漏斗を画定するフローコーン３５を備えることができる。フローコーン３５は、一般に、基材２の上端部を受容するために、より広い端部を有する。膨張可能な上部シールブラダ１０は、基材２の上端部とフローコーン３５との間にシールを形成することができる。真空発生器６は、導管によってフローコーンに接続された真空ポンプを備えることができる。

流体供給リング５は、典型的には、基材ホルダ３の下方に取り付けられている。流体供給リング５は、送達チャンバ２１の上端部に、又はその上方に取り付けてもよい。流体供給リング５は、送達チャンバ２１と基材ホルダ３の下部との間に取り付けてもよい。

図２～図４に示すように、流体供給リング５は、流体供給リング５の中央ボア４６と境界を接する内面４５を備える環状本体４０を備えている。流体供給リング５は、液体を受容するための流体供給ポート４７と、液体をピストン面に吐出するための、環状本体４０の内面４５にある複数の出口開口５０と、流体供給ポート４７と複数の出口開口５０との間に流体連通を提供する、環状本体４０の周囲に少なくとも途中まで延びる分配チャネル５１と、を更に備える。

環状本体４０は、単一部品、例えば、一体成型ブロック又は機械加工されたブロックから形成することができる。代替的に、環状本体４０は、図３の実施例に示すように、共に組み付けられた複数の部品から形成してもよい。例えば、環状本体４０は、分配チャネル５１を画定するように共に連結される第１の部品及び第２の部品を備えてもよい。第１の部品は、外側リング４１であり得る。外側リング４１は、分配チャネル５１の外壁を画定することができる。外側リング４１はまた、分配チャネル５１の上部壁を画定することができる。第２の部品は、例えば、図６～図７に示すような内側リング４２であり得る。内側リング４２は、分配チャネル５１の内壁を画定することができる。内側リング４２はまた、分配チャネル５１の下部壁を画定することができる。流体供給リング５は、第１の部品を第２の部品に封止するための１つ以上のシール、例えばＯリングシール４４を備えることができる。複数の部品を共に保持するために、１つ以上の固定具、例えば、図３に見ることができるボルト４８を設けることができる。

環状本体４０は、図３に示すように、基材２の側壁に対して更なる流体シールを提供することができる内部リップシール４３を含んでもよい。内部リップシール４３は、基部リング４１上に保持することができる。基部リング４１は、内部リップシール４３を収容するための凹部を備えてもよい。

好ましくは、環状本体４０は、実質的に円形、又は円形である。例えば、基材２の断面が円形ではない場合、代替的な形状を使用してもよい。

環状本体４０は、内面４５から延びる上面と、内面４５から延びる下面と、を備えることができる。上面及び下面は平坦であり得る。外面は、上面と下面との間に延びることができる。

流体供給ポート４７は、好ましくは、単一の流体供給ポートであり、流体供給リング５の外周に配置することができる。流体供給ポート４７は、環状本体４０の外面を通って延びて分配チャネル５１と連通する供給チャネル４９を備えることができる。

図４に示すように、流体供給リングは、流体供給リング５を基材コーティング装置１の残部と位置合わせするための１つ以上の位置決めピン５３を更に備えてもよい。１つ以上の位置決めピン５３は、環状本体４０の上面及び／又は下面から延びることができる。

環状本体は、一定の範囲の内径を有し得る。例えば、内径は、２５０ｍｍ～３５０ｍｍであってよい。例示的な内径の例として、２６７ｍｍ～２７７ｍｍ（１０．５インチ）、３０５ｍｍ（１２インチ）、及び３３０ｍｍ（１３インチ）が挙げられる。

流体供給リング５を基材コーティング装置１の残部に連結するために、複数の固定具を設けることができる。例えば、図２に示すように、複数の垂直ボルト穴は、分配チャネル５１の半径方向外側に位置する環状本体４０を通って延びて、固定ボルト５５を受容することができる。

環状本体４０は、金属、好ましくは鋼、より好ましくはステンレス鋼から形成してもよい。

分配チャネル５１は、環状本体４０の２つ以上の四分円を通って、例えば９０°超にわたって延びることができる。分配チャネル５１は、環状本体４０の３つ以上の四分円を通って、例えば１８０°超にわたって延びることができる。好ましくは、分配チャネル５１は、環状本体４０の４つの四分円全てを通って、例えば２７０°にわたって延びることができる。最も好ましくは、分配チャネル５１は、環状本体４０の周囲全体に、例えば３６０°を含めて３６０°まで延びる。

分配チャネル５１は、環状本体４０の内部にボアを備えてもよく、又はボアから形成してもよい。代替的に、分配チャネル５１は、使用時に基材コーティング装置１の相補面に対して、例えばピストン装置４の面に対して整合される環状本体４０の下面に、開放チャネルを備えてもよく、又は開放チャネルから形成してもよい。後者の場合、流体供給リング５は、基材コーティング装置１の相補面に対して封止するための１つ以上のシール、例えばＯリングシールを更に備えてもよい。

複数の出口開口５０は、内面４５の少なくとも２つの四分円に、好ましくは、内面４５の少なくとも３つの四分円に、最も好ましくは、内面４５の４つの四分円全てに設けることができる。複数の出口開口５０は、内面４５全体の周囲に配置してもよく、内面４５全体の周囲に等間隔で配置してもよい。

２６個以上の出口開口５０、任意選択的に３１個以上の出口開口５０、任意選択的に４１個以上の出口開口５０、任意選択的に５１個以上の出口開口５０を設けることができる。いくつかの例では、複数の出口開口５０は、２８個の開口、又は４８個の開口、又は６０個の開口から形成してもよい。

流体供給リングは、分配チャネル５１から複数の出口開口５０への流体連通を提供する複数の出口チャネル５２を更に備えることができる。好ましくは、各出口開口５０には、単一の出口チャネル５２によって供給される。出口チャネル５２は、湾曲してもよい。代替的に、好ましくは、出口チャネル５２は各々、直線状であってもよい。各出口チャネル５２の内径は、１．０～３．０ｍｍ、好ましくは１．５～３．０ｍｍ、より好ましくは２．０～２．５ｍｍであり得る。複数の出口チャネル５２は全て、同じ内径を有してもよく、あるいは代替的に、複数の出口チャネル５２のうちの一部分が異なる内径を有してもよい。

上記出口開口５０を通って上記出口チャネル５２から吐出される液体がピストン面２３に向かって下向きに方向付けられるように、複数の出口チャネル５２のうちの少なくとも一部分、任意選択的に全てを、それぞれの出口開口５０において、下向きに方向付けることができる。

上記出口チャネル５２は、水平に対して２５°～５０°の角度αで、任意選択的に水平に対して３０°～４５°の角度αで、任意選択的に水平に対して３０°～４０°の角度αで下向きに方向付けることができる。

いくつかの実施例では、上記出口チャネル５２の第１の部分は、第１の角度αで下向きに方向付けられ、上記出口チャネル５２の第２の部分は、第２の角度αで下向きに方向付けられ、任意選択的に、上記出口チャネル５２の第３の部分は、第３の角度αで下向きに方向付けられる。例えば、図８ａ～図８ｆに示すように、出口チャネル５２ａ及び５２ｂは、第１の角度αで下向きに方向付けられ、出口チャネル５２ｅ及び５２ｆは、第２の角度αで下向きに方向付けられ、出口チャネル５２ｃ及び５２ｄは、第３の角度αで下向きに方向付けられる。

第３の角度αは、第２の角度αよりも大きくてもよく、任意選択的に、第２の角度αは、第１の角度αよりも大きくてもよい。いくつかの実施例では、第１の角度αは３０°である。いくつかの実施例では、第２の角度αは３３°である。いくつかの実施例では、第３の角度αは３７°である。

いくつかの実施例では、上記出口チャネル５２から上記出口開口５０を通って吐出される液体が、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りにピストン面２３上へと方向付けられるように、複数の出口チャネル５２を、それぞれの出口開口５０において、全て時計回りに、又は全て反時計回りに方向付けることができる。複数の出口チャネル５２は、半径方向に対して１０°～４０°の角度βで、任意選択的に、半径方向に対して１０°～３５°の角度で方向付けることができる。いくつかの実施形態では、上記出口チャネル５２の第１の部分は、半径方向に対して第１の角度βで時計回り又は反時計回りに方向付けてもよく、上記出口チャネル５２の第２の部分は、半径方向に対して第２の角度βで時計回り又は反時計回りに方向付けてもよい。第１の角度βは、半径方向に対して１０°～１５°、任意選択的に１０°であってもよく、かつ／又は第２の角度βは、半径方向に対して３０°～４０°、任意選択的に３４°であってもよい。

いくつかの実施例では、上記出口チャネル５２から上記出口開口５０を通って吐出される液体が、最初に、時計回りにピストン面２３上へと方向付けられるように、複数の出口チャネル５２の第１のサブセットを、それぞれの出口開口５０において、時計回りに方向付けることができる。１つのそのような例を図６、図６ａ、及び図７に示す。複数の出口チャネル５２の第１のサブセットは、半径方向に対して１０°～５５°の範囲から選択される、任意選択的に半径方向に対して１０°、３４°、３５°、５２°の角度βの群から選択される１つ以上の角度βで時計回りに方向付けることができる。

上記出口チャネル５２から上記出口開口５０を通って吐出される液体が、最初に、反時計回りにピストン面２３上へと方向付けられるように、複数の出口チャネル５２の第２のサブセットを、それぞれの出口開口５０において、反時計回りに方向付けることができる。複数の出口チャネル５２の第２のサブセットは、半径方向に対して１０°～５５°の範囲から選択される、任意選択的に半径方向に対して１０°、３４°、３５°、５２°の角度βの群から選択される１つ以上の角度βで反時計回りに方向付けることができる。

上記出口チャネル５２から上記出口開口５０を通って吐出される液体が、最初に、実質的に半径方向にピストン面２３上へと方向付けられるように、複数の出口チャネル５２の第３のサブセットを、それぞれの出口開口５０において、半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けてもよい。

時計回りに方向付けられる複数の出口チャネル５２の第１のサブセットは、複数の出口チャネル５２の１／４～１／２を備えてもよく、又は複数の出口チャネル５２の１／４～１／２から形成してもよい。反時計回りに方向付けられる複数の出口チャネル５２の第２のサブセットは、複数の出口チャネル５２の１／４～１／２を備えてもよく、又は複数の出口チャネル５２の１／４～１／２から形成してもよい。半径方向に方向付けられる複数の出口チャネル５２の第３のサブセットは、複数の出口チャネル５２の１／４～１／３を備えてもよく、又は複数の出口チャネル５２の１／４～１／３から形成してもよい。

時計回り又は反時計回りに方向付けられる複数の出口チャネル５２の第１及び／又は第２のサブセットは、最初に、ピストン面２３の外周ゾーン３２内で旋回するように方向付けてもよい。

半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられる複数の出口チャネル５２の第３のサブセットは、ピストン面２３の中央ゾーン３０を標的とするように第１の角度αで下向きに方向付けられる上記第３のサブセットの第１の部分と、ピストン面２３の中間ゾーン３１を標的とするように、第１の角度よりも大きな第２の角度αで下向きに方向付けられる上記第３のサブセットの第２の部分と、を備えてもよい。第１の角度αは、半径方向に対して２５°～３５°、任意選択的に２９°、３１°又は３５°であってもよく、かつ／又は第２の角度αは、半径方向に対して３５°～５０°、任意選択的に３７°又は４５°であってもよい。

供給チャネル４９との交差位置における分配チャネル５１は、非開口セクションを備え、それによって、供給チャネル４９から分配チャネル５１に入る液体の全てを横向きに偏向させることができる。

使用時に、流体供給リング５を含む基材コーティング装置１を使用して、複数のチャネルを含む形式の基材２をコーティングすることができる。本方法は、
（ａ）基材２を垂直に保持することと、
（ｂ）流体供給リング５を使用して、ピストン２０の面に液体を供給することと、
（ｃ）ピストン２０を用いて基材２の下端部にある複数のチャネルの開放端を通して液体を押し込む又は注入することによって、液体を基材２に導入することと、
（ｄ）基材２の下端部が液体により部分的に充填された後、ステップ（ｃ）において液体を基材に導入している間に、基材２の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用することと、
を含む。

本開示の方法を使用して、チャネルの全長にわたって、又はチャネルの長さの一部のみ（すなわち、チャネルの軸方向長さ未満）にわたって、液体により基材２をコーティングすることができる。

実際には、本開示の方法は、典型的には、本明細書に記載される装置のように、基材コーティング装置１を使用することなどによって、繰り返し実行される。

典型的には、本方法のステップ（ａ）は、基材ホルダ３を使用して基材２を垂直に保持することを含む。一般に、本方法のステップ（ａ）は、基材２を実質的に垂直に保持することを含む。

手動で又は自動的に、基材２を基材ホルダ３に挿入することができる。基材コーティング装置１は、基材２を基材ホルダ３に挿入する（例えば、自動的に挿入する）ための「ピックアンドプレース（pick-and-place）」デバイス（例えば、ロボット式「ピックアンドプレース」デバイス）を備えてもよい。

典型的には、方法のステップ（ｂ）は、ピストン２０が後退（下降）位置にある間に、流体供給リング５を使用して、送達チャンバ２１内に、かつピストン面２３上に液体を吐出することを含む。典型的には、液体は、単一の流体供給ポート４７を通じて分配チャネル５１に供給される。流体供給ポート４７の上流には、貯蔵容器、ポンプ、バルブ、体積測定センサ、ピストン面２３に供給される所定量の液体及び／又は液体の体積流量を制御するための重量／質量センサのうちの１つ以上を設けることができる。

分配チャネル５１に流入する液体は、分配チャネル５１の周囲を流れるように迂回する。液体の全てが、分配チャネル５１の周囲で一方向に流れてもよい。しかしながら、好ましくは、液体が分岐し、液体の一部分が、分配チャネル５１の周囲を時計回りに流れ、一部分が分配チャネル５１の周囲を反時計回りに流れる。液体は、ピストン面２３に、流体供給リング５の少なくとも２つの四分円から、任意選択的に、流体供給リング５の少なくとも３つの四分円から、任意選択的に、流体供給リング５の４つの四分円の全てから、供給することができる。

液体は、複数の出口チャネル５２及び出口開口５０を通って、ピストン面２３上へと分配チャネル５１を流出する。

複数の出口チャネル５２及び出口開口５０を通る液体の吐出は、ピストン面２３に向かって下向きに方向付けることができる。液体は、水平に対して２５°～５０°の角度αで、任意選択的に水平に対して３０°～４５°の角度αで、任意選択的に水平に対して３０°～４０°の角度αで下向きに方向付けてもよい。

液体の第１の部分を、第１の角度αで下向きに方向付けてもよく、液体の第２の部分を、第２の角度αで下向きに方向付けてもよく、任意選択的に、液体の第３の部分を、第３の角度αで下向きに方向付けてもよい。第１の角度αは、第２の角度αよりも大きくてもよく、任意選択的に、第３の角度αは、第２の角度αよりも大きくてもよい。

いくつかの実施例では、液体は、例えば、出口チャネル５２の全てを時計回り又は反時計回りのいずれかに傾斜させることによって、最初に全て時計回りに、又は最初に全て反時計回りにピストン面へと方向付けることができる。液体は、半径方向に対して１０°～４０°の角度で、任意選択的に、半径方向に対して１０°～３５°の角度で方向付けることができる。液体の第１の部分を、第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよく、液体の第２の部分を、第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けてもよい。第１の角度は、半径方向に対して１０°～１５°、任意選択的に１０°であってもよく、かつ／又は第２の角度は、半径方向に対して３０°～４０°、任意選択的に３４°であってもよい。

図６及び図７は、液体がピストン面２３へ２つ以上の方向で方向付けられる代替例を示す。液体のうちの第１の体積が、最初に、図８ｅに示すように、出口チャネル５２ｅによって供給される出口開口５０ｅを通してピストン面２３に時計回りに方向付けられる。追加的に又は代替的に、液体のうちの第２の体積が、最初に、図８ｆに示すように、出口チャネル５２ｆによって供給される出口開口５０ｆを通してピストン面２３に反時計回りに方向付けられる。追加的に又は代替的に、液体のうちの第３の体積が、最初に、図８ａ～図８ｄに示すように、出口チャネル５２ａ～５２ｄによって供給される出口開口５０ａ～５０ｄを通してピストン面２３に実質的に半径方向に方向付けられる。

液体のうちの第１の体積及び／又は第２の体積は、最初に、ピストン面２３の外周ゾーン３２内で旋回するように方向付けられる。

また、最初にピストン面２３上へと半径方向に方向付けられる液体の第３の体積の第１の部分を、ピストン面２３の中央ゾーン３０を標的とするように第１の角度αで下向きに方向付けることができる。出口チャネル５２ａ及び５０ｂによって供給される出口開口５０ａ及び５０ｂを使用してもよく、この機能のために使用してもよい。また、最初にピストン面２３上へと半径方向に方向付けられる液体の第３の体積の第２の部分を、ピストン面２３の中間ゾーン３１を標的とするように、第１の角度αよりも大きい第２の角度αで下向きに方向付けることができる。出口チャネル５２ｃ及び５０ｄによって供給される出口開口５０ｃ及び５０ｄを使用してもよく、この機能のために使用してもよい。第１の角度αは、半径方向に対して２５°～３５°、任意選択的に２９°、３１°又は３５°であってもよく、かつ／又は第２の角度αは、半径方向に対して３５°～５０°、任意選択的に３７°又は４５°であってもよい。

ステップ（ｃ）において、液体を基材２に押し込む又は注入することによって、基材２の下端部にあるチャネルの開放端を通して、重力に逆らって液体を基材２に導入する。重力に逆らって液体を基材に導入することは、より広いウォッシュコート処理ウィンドウを提供するのを補助することが分かった。液体は、所定の長さまでチャネルの壁に均一にコーティングすることができ、チャネルのコーティング長さの差は、５ｍｍ以下、典型的には２ｍｍ以下（例えば、１ｍｍ以下）である。

好ましくは、連続的に（例えば、停止することなく）液体を基材に導入する。

典型的には、方法のステップ（ｃ）は、基材２の下端部にあるチャネルの開放端を通して、所定量の液体を基材２に導入することを含む。所定量とは、液体の予め定めた体積及び／又は予め定めた質量であり得る。

好ましくは、ピストン２０を使用して液体を基材２に導入する。ピストン２０は、液体を基材２に迅速に押し込む又は注入するために使用することができる。

一般に、ピストン２０は、（ｉ）ピストン２０が後退している第１の位置と、（ｉｉ）ピストン２０が、好ましくはピストンの表面（すなわちピストン面２３）が基材２の下端部と当接する第２の位置との間で、シリンダシェル２５及びシリンダライナー２６内で往復運動する。

シリンダシェル２５及びシリンダライナー２６内で後退しているピストンは、行程容積を有する送達チャンバ２１を画定する。典型的には、行程容積は、基材２に導入される液体の体積以上である。行程容積は、基材２に導入される液体の所定体積（すなわち総体積）と同様又は同じであることが好ましい。

一般に、送達チャンバ２１内の液体の全て又は実質的に全ては、ピストン２０が第１の位置から第２の位置に移動したときに、基材２に導入される。送達チャンバ２１は、典型的には、液体の全体積が基材２に導入され、ピストン２０が基材２の下端部に当接したときには、空になる。

一般に、本方法のステップ（ｄ）は、基材２の下端部が液体により部分的に充填された後又は部分的に充填されると、液体を基材２に導入している間に、好ましくは、所定量の液体が基材２に導入されるまで、基材２の上端部にあるチャネルの開放端に連続的に真空を適用することを含む。真空は、０．５～１０秒、好ましくは１～７．５秒（例えば２～５秒）など、０．２５～１５秒にわたって連続的に適用することができる。

基材２に液体が導入された後、基材２を乾燥及び／又はか焼することができる。好適な乾燥条件及びか焼条件は、液体の組成及び基材２の種類に依存する。このような条件は、当技術分野において既知である。

本方法及び本装置を使用して、「ゾーンに分けられた」又は「層状の」触媒、あるいはコーティングされた基材２を製造することができる。

コーティングされた基材２を乾燥及び／又はか焼した後、典型的には、触媒成分を含む第２の液体によりモノリス基材をコーティングするために、本方法を反復することができる。１回目の通過後、２回目の通過で、同じ基材２を異なる液体によりコーティングすることができる。第２の液体は、典型的には、基材２に適用又は導入された第１の液体とは異なる組成を有する。第１の液体と同じ端部から第２の液体を基材２に導入することができる。代替的に、第１の液体とは反対側の端部から第２の液体を基材２に導入することができる。このような方法は、ウォールフローフィルタなどのフィルタリングモノリス基材をコーティングするのに特に有用である。

排出制御デバイス用の基材は、当技術分野において周知であり、一般に、任意のそのような基材２は、発明の方法において、又は本発明の装置と共に使用することができる。基材２は、パーシャルフィルタ基材であり得る（例えば、国際公開第０１／８０９７８号又は欧州特許第１０５７５１９号に開示されているパーシャルフィルタ基材を参照されたい）。典型的には、パーシャルフィルタ基材は、（例えば、煤粒子などの粒子状物質のための）収集要素と、複数のチャネル（すなわち、排ガスを流すため）とを有し、各チャネルは、少なくとも１つの開放端を有する（好ましくは、各チャネルは、２つの開放端を有する（すなわち、各チャネルは両端が開いている））。

一般に、パーシャルフィルタ基材は、チャネルの境界を画定する複数の壁を有する。典型的には、収集要素は、複数の壁内の複数の偏向部である。各壁は、偏向部を有していなくても、あるいは１つ以上の偏向部を有していてもよい。各偏向部は、基材を通って流れる排ガス中の任意の粒子状物質に対する障害物として作用する。各偏向部は、フラップ又はウイング状の形状を有してもよく、典型的には、各偏向部は、壁の平面から（例えば、壁の平面に対して一定の角度で）外向きに突出している。基材の壁の開口部と各偏向部を組み合わせることが好ましい。壁の各開口部により、１つのチャネルから隣接するチャネルに排ガスが流れることが可能になる。

一般に、基材２がモノリス基材であることが好ましい。本明細書で使用する場合、用語「モノリス基材」は、基材２の長さに沿って長手方向に延びる複数のチャネルを有する基材を指し、各チャネルは、（すなわち、排ガスを流すため）を少なくとも１つの開放端を有する。モノリス基材は、フロースルーモノリス基材であってよい。モノリスは、ウォールフローフィルタなどのフィルタリングモノリス基材であってもよい。

一般に、基材２は、セラミック材料又は金属材料である。基材２がセラミック材料である場合、典型的には、セラミック材料は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、チタン酸アルミニウム、アルミナ、コーディエライト（ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３－ＭｇＯ）、ムライト、ポルサイト、及びサーメット（例えば、Ａｌ２Ｏ３／Ｆｅ、Ａｌ２Ｏ３／Ｎｉ又はＢ４Ｃ／Ｆｅ、あるいは、これらのうちの任意の２つ以上のセグメントを含む複合体）からなる群から選択することができる。基材２が金属材料である場合、典型的には、金属材料は、Ｆｅ－Ｃｒ－Ａｌ合金、Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ合金、及びステンレス鋼合金からなる群から選択される。

定義
基材２又は基材ホルダの保持に関して本明細書で使用される、用語「垂直に」は、基材２の中心軸が、垂直から±５°、好ましくは、垂直からの±０（すなわち、測定誤差における完全に垂直）など、垂直から±３°である配置を指す。

出口チャネル５２の方向、又は出口開口５０から吐出される液体の方向に関して本明細書で使用する場合、用語「下向き」は、高いほうから低いほうへの方向、特に、重力位置エネルギーを減少させる方向を指す。

出口チャネル５２の方向、又は出口開口５０から吐出される液体の方向に関して本明細書で使用する場合、用語「時計回り」及び「反時計回り」は、基材コーティング装置１の上方から下向き方向に見たときの基材コーティング装置１の中心垂直軸を中心とした回転を指す。

出口チャネル５２の方向、又は出口開口５０から吐出される液体の方向に関して本明細書で使用する場合、「半径方向に対して」と言及される任意の角度は、水平面内で、かつ、出口開口５０から環状本体４０の中心まで延びる半径方向線と、出口開口５０から出口チャネル５２の軸に沿って環状本体４０の内部に突出する線との間で出口開口５０において測定される角度を指す。

本明細書で使用する場合、「真空」に対する任意の言及は、大気圧よりも低い圧力を指す。用語「真空」は、物質が完全に含まれない空間の文字通りの意味で解釈されるべきではない。基材２に適用される真空の強度は、液体の組成及び使用される基材２の種類に依存する。真空は、閉塞しないように基材２のセルを取り除くのに十分な強さでなければならない。このような真空強度又は低減された圧力は、当技術分野において周知である。

本明細書で使用する場合、用語「所定量」は、所望のコーティング仕様など、特定の製品特性を得るのに十分な、基材２に導入するための液体の総量を指す。この量は、所望の製品特性を達成するために必要とされる液体の総量を発見するために、日常的な実験においてオフラインで決定されるという意味で、「所定」である。このような所定量は、容易に決定することができ、当技術分野における基材をコーティングするための他の方法又は装置使用して求めることができる（例えば、国際公開第９９／４７２６０号及び国際公開第２０１１／０８０５２５号を参照されたい）。

基材に導入される送達チャンバ内の液体の量に関して本明細書で使用する場合、用語「実質的に全て」は、液体の体積又は重量の、好ましくは体積の９９％以上（例えば９９．５％以上）を指す。

流体供給リング５の例示的な構成を、以下の表にまとめる。

本開示の更なる態様及び実施形態を以下の節に記載する。

節１． 基材コーティング装置のピストン面上に触媒成分を含む液体を供給するための流体供給リングであって、
流体供給リングの中央ボアと境界を接する内面を備える環状本体と、
液体を受容するための流体供給ポートと、
液体をピストン面に吐出するための、環状本体の内面にある複数の出口開口と、
環状本体の周囲に少なくとも途中まで延びる分配チャネルであって、流体供給ポートと複数の出口開口との間に流体連通を提供する分配チャネルと、
を備える、流体供給リング。

節２． 複数の出口開口は、内面の少なくとも２つの四分円に、任意選択的に、内面の少なくとも３つの四分円に、任意選択的に、内面の４つの四分円全てに設けられている、節１に記載の流体供給リング。

節３． 複数の出口開口は、内面全体の周囲に配置されており、任意選択的に、複数の開口は、内面全体の周囲に等間隔に配置されている、節１又は節２に記載の流体供給リング。

節４． 複数の開口は、２６個以上の出口開口、任意選択的に３１個以上の出口開口、任意選択的に４１個以上の出口開口、任意選択的に５１個以上の出口開口を備え、任意選択的に、複数の開口は、２８個の開口、又は４８個の開口、又は６０個の開口から形成される、節１～３のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節５． 分配チャネルから複数の出口開口への流体連通を提供する複数の出口チャネルを更に備え、任意選択的に、複数の出口チャネルは、１．０～３．０ｍｍ、好ましくは１．５～３．０ｍｍ、より好ましくは２．０～２．５ｍｍの内径を有する、節１～４のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節６． 前記出口開口を通って前記出口チャネルから吐出される液体がピストン面に向かって下向きに方向付けられるように、複数の出口チャネルのうちの少なくとも一部分、任意選択的に全てが、それぞれの出口開口において、下向きに方向付けられる、節５に記載の流体供給リング。

節７． 前記出口チャネルは、水平に対して２５°～５０°の角度で、任意選択的に水平に対して３０°～４５°の角度で、任意選択的に水平に対して３０°～４０°の角度で下向きに方向付けられる、節６に記載の流体供給リング。

節８． 前記出口チャネルの第１の部分は、第１の角度で下向きに方向付けられ、前記出口チャネルの第２の部分は、第２の角度で下向きに方向付けられ、任意選択的に、前記出口チャネルの第３の部分は、第３の角度で下向きに方向付けられる、節６又は節７に記載の流体供給リング。

節９． 第３の角度は、第２の角度よりも大きく、任意選択的に、第２の角度は、第１の角度よりも大きい、節８に記載の流体供給リング。

節１０． 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルは、それぞれの出口開口において、全て時計回りに、又は全て反時計回りに方向付けられる、節１～９のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節１１． 複数の出口チャネルは、半径方向に対して１０°～４０°の角度で、任意選択的に、半径方向に対して１０°～３５°の角度で方向付けられる、節１０に記載の流体供給リング。

節１２． 前記出口チャネルの第１の部分は、半径方向に対して第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられており、前記出口チャネルの第２の部分は、半径方向に対して第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられている、節１０又は節１１に記載の流体供給リング。

節１３． 第１の角度は、半径方向に対して１０°～１５°、任意選択的に１０°であってもよく、かつ／又は第２の角度は、半径方向に対して３０°～４０°、任意選択的に３４°である、節１２に記載の流体供給リング。

節１４． 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第１のサブセットは、それぞれの出口開口において、時計回りに方向付けられる、節１～９のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節１５． 複数の出口チャネルの第１のサブセットは、半径方向に対して１０°～５５°の範囲から選択される、任意選択的に半径方向に対して１０°、３４°、３５°、５２°の角度の群から選択される１つ以上の角度で時計回りに方向付けられる、節１４に記載の流体供給リング。

節１６． 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、反時計回りにピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第２のサブセットは、それぞれの出口開口において、反時計回りに方向付けられる、節１～９又は１４～１５のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節１７． 複数の出口チャネルの第２のサブセットは、半径方向に対して１０°～５５°の範囲から選択される、任意選択的に半径方向に対して１０°、３４°、３５°、５２°の角度の群から選択される１つ以上の角度で反時計回りに方向付けられる、節１６に記載の流体供給リング。

節１８． 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、実質的に半径方向にピストン面上へと方向付けられるように、複数の出口チャネルの第３のサブセットは、それぞれの出口開口において、半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられる、節１～９又は１４～１７のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節１９． 時計回りに方向付けられる複数の出口チャネルの第１のサブセットは、複数の出口チャネルの１／４～１／２を備える、節１４～１８のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２０． 反時計回りに方向付けられる複数の出口チャネルの第２のサブセットは、複数の出口チャネルの１／４～１／２を備える、節１６～１９のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２１． 半径方向に方向付けられる複数の出口チャネルの第３のサブセットは、複数の出口チャネルの１／４～１／３を備える、節１８～２０のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２２． 時計回り又は反時計回りに方向付けられる複数の出口チャネルの第１及び／又は第２のサブセットは、最初に、ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けられる、節１４～２１のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２３． 半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられる複数の出口チャネルの第３のサブセットは、ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けられる前記第３のサブセットの第１の部分と、ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けられる前記第３のサブセットの第２の部分と、を備える、節１８～２２のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２４． 第１の角度は、半径方向に対して２５°～３５°、任意選択的に２９°、３１°又は３５°であり、かつ／又は第２の角度は、半径方向に対して３５°～５０°、任意選択的に３７°又は４５°である、節２３に記載の流体供給リング。

節２５． 分配チャネルは、環状本体の周囲全体に延びる、節１～２４のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２６． 環状本体は、分配チャネルを画定するように共に連結される第１の部品及び第２の部品を備える、節１～２５のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節２７． 流体供給リングは、第１の部品を第２の部品に封止するための１つ以上のシールを備える、節２６に記載の流体供給リング。

節２８． １つ以上のシールは、Ｏリングシールを含む、節２７に記載の流体供給リング。

節２９． 分配チャネルは、環状本体の内部にボアを備える、節１～２８のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３０． 分配チャネルは、使用時に基材コーティング装置の相補面に対して整合される環状本体の下面に、開放チャネルを備える、節１～２８のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３１． 基材コーティング装置の相補面に対して封止するための１つ以上のシールを更に備える、節３０に記載の流体供給リング。

節３２． １つ以上のシールは、Ｏリングシールを含む、節３１に記載の流体供給リング。

節３３． 環状本体は、実質的に円形、又は円形である、節１～３２のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３４． 環状本体は、内面から延びる上面と、内面から延びる下面と、を備える、節１～３３のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３５． 上面及び下面は平坦である、節３４に記載の流体供給リング。

節３６． 上面と下面との間に延びる外面を更に備える、節３４～３５のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３７． 流体供給ポートは、単一の流体供給ポートである、節１～３６のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３８． 流体供給ポートは、流体供給リングの外周に配置されている、節１～３７のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節３９． 流体供給ポートは、環状本体の外面を通って延びて分配チャネルと連通する供給チャネルを備える、節１～３８のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４０． 供給チャネルとの交差位置における分配チャネルは、非開口セクションを備え、それによって、供給チャネルから分配チャネルに流入する液体の全てを横向きに偏向させる、節１～３９のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４１． 流体供給リングを基材コーティング装置と位置合わせするための１つ以上の位置決めピンを更に備える、節１～４０のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４２． １つ以上の位置決めピンは、環状本体の上面及び／又は下面から延びる、節４１に記載の流体供給リング。

節４３． 環状本体は、２５０ｍｍ～３５０ｍｍ、任意選択的に内径２６７ｍｍ～２７７ｍｍ（１０．５インチ）、３０５ｍｍ（１２インチ）、又は３３０ｍｍ（１３インチ）の内径を有する、節１～４２のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４４． 環状本体は、流体供給リングを基材コーティング装置に連結するための複数の固定開口を備え、任意選択的に、複数の固定開口は、複数の垂直ボルト穴を含み、複数の垂直ボルト孔は、環状本体を通って延び、かつ分配チャネルの半径方向外側に配置されている、節１～４３のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４５． 環状本体は、金属、任意選択的に鋼、任意選択的にステンレス鋼から形成されている、節１～４４のいずれか１つに記載の流体供給リング。

節４６． 基材コーティング装置であって、
基材を垂直に保持するための基材ホルダであって、基材は複数のチャネルを備える形式のものである、基材ホルダと、
基材の下端部にある複数のチャネルの開放端を介して、又はそれを通して、触媒成分を含む液体を押し込む又は注入することによって、触媒成分を含む液体を基材の下端部に導入するためのピストンと、
基材の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用するための真空発生器と、
ピストンの面に液体を供給するための、請節１～４５のいずれか１つに記載の流体供給リングと、
を備える基材コーティング装置。

節４７． 流体供給リングは、基材を垂直に保持するために基材ホルダの下方に取り付けられている、節４６に記載の基材コーティング装置。

節４８． ピストンは送達チャンバ内で往復運動可能であり、流体供給リングは、送達チャンバの上端部に、又はその上方に取り付けられている、節４６又は節４７に記載の基材コーティング装置。

節４９． 流体供給リングは、基材を垂直に保持するために、送達チャンバと基材ホルダの下部との間に取り付けられている、節４８に記載の基材コーティング装置。

節５０． 触媒成分を含む液体により基材をコーティングする方法であって、基材は複数のチャネルを含む形式のものであり、方法は、
（ａ）基材を垂直に保持することと、
（ｂ）節１～４５のいずれか１つに記載の流体供給リングを使用して、ピストンの面に液体を供給することと、
（ｃ）ピストンを用いて基材の下端部にある複数のチャネルの開放端を通して液体を押し込む又は注入することによって、液体を基材に導入することと、
（ｄ）基材の下端部が液体により部分的に充填された後、ステップ（ｃ）において液体を基材に導入している間に、基材の上端部にある複数のチャネルの開放端に真空を適用することと、
を含む、方法。

節５１． ステップ（ｂ）において、流体供給リングの少なくとも２つの四分円から、任意選択的に、流体供給リングの少なくとも３つの四分円から、任意選択的に、流体供給リングの４つの四分円の全てから、
液体を供給する、節５０に記載の方法。

節５２． ステップ（ｂ）において、液体は、ピストン面に向かって下向きに方向付けられる、節５０又は５１に記載の方法。

節５３． 液体は、水平に対して２５°～５０°の角度で、任意選択的に水平に対して３０°～４５°の角度で、任意選択的に水平に対して３０°～４０°の角度で下向きに方向付けられる、節５２に記載の方法。

節５４． ステップ（ｂ）において、液体の第１の部分が、第１の角度で下向きに方向付けられ、液体の第２の部分が、第２の角度で下向きに方向付けられ、任意選択的に、液体の第３の部分が、第３の角度で下向きに方向付けられる、請求項５２又は５３に記載の方法。

節５５． 第１の角度は、第２の角度よりも大きく、任意選択的に、第３の角度は、第２の角度よりも大きい、節５４に記載の方法。

節５６． ステップ（ｂ）において、液体は、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りにピストン面上へと方向付けられる、節５０～５６のいずれか１つに記載の方法。

節５７． 液体は、半径方向に対して１０°～４０°の角度で、任意選択的に、半径方向に対して１０°～３５°の角度で方向付けられる、節５６に記載の流体供給リング。

節５８． ステップ（ｂ）において、液体の第１の部分が、第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられ、液体の第２の部分が、第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられる、節５０～５７のいずれか１つに記載の方法。

節５９． 第１の角度は、半径方向に対して１０°～１５°、任意選択的に１０°であり、かつ／又は第２の角度は、半径方向に対して３０°～４０°、任意選択的に３４°である、節５８に記載の方法。

節６０． 液体のうちの第１の体積が、最初に、ピストン面上へと時計回りに方向付けられる、節５０～５５のいずれか１つに記載の方法。

節６１． 液体のうちの第２の体積が、最初に、ピストン面上へと反時計回りに方向付けられる、節５０～５５又は節６０のいずれか１つに記載の方法。

節６２． 液体のうちの第３の体積が、最初に、ピストン面上へと実質的に半径方向に方向付けられる、節５０～５５又は６０～６１のいずれか１つに記載の方法。

節６３． 液体のうちの第１の体積及び／又は第２の体積が、最初に、ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けられる、節６０～６２のいずれか１つに記載の方法。

節６４． 最初にピストン面上へと半径方向に方向付けられる第３の体積の液体の第１の部分もまた、ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けられ、最初にピストン面上へと半径方向に方向付けられる第３の体積の液体の第２の部分は、ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けられる、節６２又は６３に記載の方法。

節６５． 第１の角度は、半径方向に対して２５°～３５°、任意選択的に２９°、３１°又は３５°であり、かつ／又は第２の角度は、半径方向に対して３５°～５０°、任意選択的に３７°又は４５°である、節６４に記載の方法。

Claims (20)

1. 基材コーティング装置のピストン面上に触媒成分を含む液体を供給するための流体供給リングであって、
   前記流体供給リングの中央ボアと境界を接する内面を備える環状本体と、
   液体を受容するための流体供給ポートと、
   前記液体を前記ピストン面に吐出するための、前記環状本体の前記内面にある複数の出口開口と、
   前記流体供給ポートと前記複数の出口開口との間に流体連通を提供する、前記環状本体の周囲に少なくとも途中まで延びる分配チャネルと、
   を備える流体供給リング。
2. 前記複数の出口開口は、前記内面の少なくとも２つの四分円に、任意選択的に、前記内面の少なくとも３つの四分円に、任意選択的に、前記内面の４つの四分円全てに設けられており、任意選択的に、前記複数の出口開口は、前記内面全体の周囲に配置されており、任意選択的に、前記複数の開口は、前記内面全体の周囲に等間隔に配置されている、請求項１に記載の流体供給リング。
3. 前記分配チャネルから前記複数の出口開口への流体連通を提供する複数の出口チャネルを更に備え、任意選択的に、前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が前記ピストン面に向かって下方に方向付けられるように、前記複数の出口チャネルの少なくとも一部分、任意選択的に全てが、それぞれの出口開口において下向きに方向付けられており、任意選択的に、前記出口チャネルの第１の部分は、第１の角度で下向きに方向付けられており、かつ、前記出口チャネルの第２の部分は、第２の角度で下向きに方向付けられており、任意選択的に、前記出口チャネルの第３の部分は、第３の角度で下向きに方向付けられている、請求項１又は請求項２に記載の流体供給リング。
4. 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りに前記ピストン面上へと方向付けられるように、前記複数の出口チャネルは、それぞれの出口開口において、全て時計回りに、又は全て反時計回りに方向付けられている、請求項３に記載の流体供給リング。
5. 前記出口チャネルの第１の部分は、半径方向に対して第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられており、前記出口チャネルの第２の部分は、半径方向に対して第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられている、請求項４に記載の流体供給リング。
6. 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、時計回りに前記ピストン面上へと方向付けられるように、前記複数の出口チャネルの第１のサブセットは、それぞれの出口開口において、時計回りに方向付けられている、請求項１～３のいずれか一項に記載の流体供給リング。
7. 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、反時計回りに前記ピストン面上へと方向付けられるように、前記複数の出口チャネルの第２のサブセットは、それぞれの出口開口において、反時計回りに方向付けられている、請求項１～３又は６のいずれか一項に記載の流体供給リング。
8. 前記出口チャネルから前記出口開口を通って吐出される液体が、最初に、実質的に半径方向に前記ピストン面上へと方向付けられるように、前記複数の出口チャネルの第３のサブセットは、それぞれの出口開口において、前記半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられている、請求項１～３又は６～７のいずれか一項に記載の流体供給リング。
9. 時計回り又は反時計回りに方向付けられている前記複数の出口チャネルの前記第１及び／又は第２のサブセットは、最初に、前記ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けられる、請求項６～８のいずれか一項に記載の流体供給リング。
10. 半径方向に対して０°～１０°、好ましくは０°～４°の角度で方向付けられた前記複数の出口チャネルの前記第３のサブセットは、前記ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けられる前記第３のサブセットの第１の部分と、前記ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、前記第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けられる前記第３のサブセットの第２の部分と、を備える、請求項８～９のいずれか一項に記載の流体供給リング。
11. 前記流体供給ポートは、前記流体供給リングの外周に配置されており、任意選択的に、前記流体供給ポートは、前記環状本体の外面を通って延びて前記分配チャネルと連通する供給チャネルを備え、任意選択的に、前記供給チャネルとの交差位置における前記分配チャネルは、非開口セクションを備え、それによって、前記供給チャネルから前記分配チャネルに入る液体の全てを横向きに偏向させる、請求項１～１０のいずれか一項に記載の流体供給リング。
12. 基材コーティング装置であって、
    基材を垂直に保持するための基材ホルダであって、前記基材は複数のチャネルを備える形式のものである、基材ホルダと、
    前記基材の下端部にある前記複数のチャネルの開放端を介して、又はそれを通して、触媒成分を含む液体を押し込む又は注入することによって、前記液体を前記基材の下端部に導入するためのピストンと、
    前記基材の上端部にある前記複数のチャネルの開放端に真空を適用するための真空発生器と、
    前記ピストンの面に前記液体を供給するための、請求項１～１１のいずれか一項に記載の流体供給リングと、
    を備える、基材コーティング装置。
13. 前記流体供給リングは、前記基材を垂直に保持するために前記基材ホルダの下方に取り付けられており、任意選択的に、前記ピストンは送達チャンバ内で往復運動可能であり、前記流体供給リングは、前記送達チャンバの上端部に、又はその上方に取り付けられており、任意選択的に、流体供給リングは、基材を垂直に保持するために、前記送達チャンバと前記基材ホルダの下部との間に取り付けられている、請求項１２に記載の基材コーティング装置。
14. 触媒成分を含む液体により基材をコーティングする方法であって、前記基材は複数のチャネルを含む形式のものであり、前記方法は、
    （ａ）前記基材を垂直に保持することと、
    （ｂ）請求項１～１１のいずれか一項に記載の前記流体供給リングを使用して、ピストンの面に液体を供給することと、
    （ｃ）前記ピストンを用いて前記基材の下端部にある前記複数のチャネルの開放端を通して前記液体を押し込む又は注入することによって、前記液体を前記基材に導入することと、
    （ｄ）前記基材の前記下端部が前記液体により部分的に充填された後、ステップ（ｃ）において前記液体を前記基材に導入している間に、前記基材の上端部にある前記複数のチャネルの開放端に真空を適用することと、
    を含む、方法。
15. ステップ（ｂ）において、前記液体は、前記流体供給リングの少なくとも２つの四分円から、任意選択的に、前記流体供給リングの少なくとも３つの四分円から、任意選択的に、流体供給リングの４つの四分円の全てから、供給される、請求項１４に記載の方法。
16. ステップ（ｂ）において、前記液体は、前記ピストン面に向かって下向きに方向付けられ、任意選択的に、前記液体の第１の部分が、第１の角度で下向きに方向付けられ、前記液体の第２の部分が、第２の角度で下向きに方向付けられ、任意選択的に、前記液体の第３の部分が、第３の角度で下向きに方向付けられる、請求項１４又は１５に記載の方法。
17. ステップ（ｂ）において、前記液体は、最初に、全て時計回りに、又は最初に、全て反時計回りに前記ピストン面上へと方向付けられ、任意選択的に、ステップ（ｂ）において、前記液体の第１の部分が、第１の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられ、前記液体の第２の部分が、第２の角度で時計回り又は反時計回りに方向付けられる、請求項１４～１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記液体のうちの第１の体積が、最初に、前記ピストン面上へと時計回りに方向付けられ、かつ／又は
    前記液体のうちの第２の体積が、最初に、前記ピストン面上へと反時計回りに方向付けられ、かつ／又は
    前記液体のうちの第３の体積が、最初に、前記ピストン面上へと実質的に半径方向に方向付けられる、
    請求項１４～１６のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記液体のうちの前記第１の体積及び／又は前記第２の体積は、最初に、前記ピストン面の外周ゾーン内で旋回するように方向付けられる、請求項１８に記載の方法。
20. 最初に前記ピストン面上へと半径方向に方向付けられる前記液体の前記第３の体積の第１の部分もまた、前記ピストン面の中央ゾーンを標的とするように第１の角度で下向きに方向付けられ、最初に前記ピストン面上へと半径方向に方向付けられる前記液体の前記第３の体積の第２の部分は、前記ピストン面の中間ゾーンを標的とするように、前記第１の角度よりも大きな第２の角度で下向きに方向付けられる、請求項１８又は請求項１９に記載の方法。
    

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