JP2022516588A - Display panel, its manufacturing method, and display device - Google Patents

Display panel, its manufacturing method, and display device Download PDF

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Abstract

本開示は表示パネルに関する。前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板上に位置する複数の発光ユニットと、前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層とを備えてもよい。前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含んでもよい。前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接してもよい。This disclosure relates to a display panel. The display panel may include a display board, a plurality of light emitting units located on the display board, and a first organic layer that covers the plurality of light emitting units. The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit may include a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. The first organic layer may be in direct contact with the plurality of light emitting units.

Description

本開示は、表示技術に関し、特に、表示パネル、その製造方法、及び表示装置に関する。 The present disclosure relates to display technology, and more particularly to display panels, methods of manufacturing the same, and display devices.

ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）ディスプレイや量子ドット発光ディスプレイ等のフレキシブルディスプレイとストレッチャブルディスプレイでは、フルスクリーンを実現するためにベゼルの最小化を図る傾向が見られる。フルスクリーンを実現するにあたり、フレキシブルディスプレイは最適なディスプレイであると考えられている。このため、表示パネルメーカーの多くは、リジッドディスプレイではなく、フレキシブルディスプレイの量産ラインに莫大な投資を行っている。 In flexible displays and stretchable displays such as OLED (organic light emitting diode) displays and quantum dot light emitting displays, there is a tendency to minimize the bezel in order to realize a full screen. Flexible displays are considered to be the best display for achieving full screen. For this reason, many display panel manufacturers are investing enormously in mass production lines for flexible displays rather than rigid displays.

そこで、本開示の一例は表示パネルである。前記表示パネルは、表示基板と、前記表示基板上に位置する複数の発光ユニットと、前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層とを備えてもよい。前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含んでもよい。前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接してもよい。 Therefore, an example of the present disclosure is a display panel. The display panel may include a display board, a plurality of light emitting units located on the display board, and a first organic layer that covers the plurality of light emitting units. The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit may include a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. The first organic layer may be in direct contact with the plurality of light emitting units.

本開示のもう１つの例は表示装置である。前記表示装置は、本開示の一実施形態における表示パネルを備えてもよい。 Another example of the present disclosure is a display device. The display device may include a display panel according to an embodiment of the present disclosure.

本開示のもう１つの例は表示パネルの製造方法である。当該方法は、複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含んでもよい。前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含んでもよい。前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接してもよい。 Another example of the present disclosure is a method of manufacturing a display panel. The method may include providing a display board on which a plurality of light emitting units are arranged and forming a first organic layer covering the plurality of light emitting units. The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit may include a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. The first organic layer may be in direct contact with the plurality of light emitting units.

本明細書に付した特許請求の範囲において、本発明の主題を具体的に示し明確に請求した。本発明の上述した内容及びその他の目的、特徴並びに利点は、添付の図面とあわせ、以下の詳しい説明から明らかである。 Within the scope of the claims attached to the present specification, the subject matter of the present invention is specifically indicated and clearly claimed. The above-mentioned contents and other purposes, features and advantages of the present invention will be apparent from the following detailed description together with the accompanying drawings.

図１は、関連技術における表示パネルの概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a display panel in a related technique. 図２は、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a display panel according to some embodiments of the present disclosure. 図３ａは、本開示のいくつかの実施形態における第１の有機層の三次元構成図である。FIG. 3a is a three-dimensional configuration diagram of the first organic layer in some embodiments of the present disclosure. 図３ｂは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。FIG. 3b is a schematic configuration diagram of a display panel in some embodiments of the present disclosure. 図４ａは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの断面構成図である。FIG. 4a is a cross-sectional configuration diagram of a display panel according to some embodiments of the present disclosure. 図４ｂは、本開示のいくつかの実施形態における第１の無機層の力解析図である。FIG. 4b is a force analysis diagram of the first inorganic layer in some embodiments of the present disclosure. 図４ｃは、本開示のいくつかの実施形態における、第１の無機層をｙ軸方向へ伸長させた前後を示した模式図である。FIG. 4c is a schematic view showing before and after the first inorganic layer is extended in the y-axis direction in some embodiments of the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure. 図５ａ～５ｇは、本開示が想定するいくつかの実施形態における表示パネルを製造する作製工程を図示したものである。5a-5g illustrate the manufacturing process for manufacturing display panels in some embodiments envisioned by the present disclosure.

当業者が理解しやすいように、添付の図面および実施形態を参照しつつ、本開示についてさらに詳細に説明する。本開示の説明全体を通じて図１～５ｇを参照する。図面を参照する際、同様の構造および要素は、全体を通じて同様の参照番号で示す。 The present disclosure will be described in more detail with reference to the accompanying drawings and embodiments for the convenience of those skilled in the art. Reference is made to FIGS. 1-5g throughout the description of the present disclosure. When referring to drawings, similar structures and elements are referred to by similar reference numbers throughout.

本明細書では、「第１の」、「第２の」等の用語を接頭辞として付す場合がある。しかし、これらの接頭辞は用語を区別するために追加するものにすぎず、順序や重要度といった具体的な意味を持たない。本開示の説明において、特に限定しない限り、「複数」とは２つ以上を意味する。 In the present specification, terms such as "first" and "second" may be prefixed. However, these prefixes are only added to distinguish terms and have no specific meaning such as order or importance. In the description of the present disclosure, "plurality" means two or more, unless otherwise specified.

本明細書の説明において、「いくつかの実施形態」、「一実施形態」、「例示的実施例」、「例示」、「具体的な例示」、「いくつかの例示」等の用語を参照する場合、実施形態又は実施例に関連づけて記載された具体的な特徴、構造、材料又は特性が、本開示の少なくともいくつかの実施形態又は実施例に含まれていることを示すことを意図する。用語の例示的な表現は、必ずしも同一の実施形態又は実施例を指すとは限らない。さらに、記載された具体的な特徴、構造、材料又は特性は、１つ以上の実施形態又は実施例に適切な方法により含まれる場合がある。「約」という用語により修飾される数は、かかる数がその１０％変化する可能性があることを意味する。 In the description of the present specification, reference is made to terms such as "some embodiments", "one embodiment", "exemplary examples", "exemplifications", "concrete examples", and "some examples". If so, it is intended to indicate that the specific features, structures, materials or properties described in connection with the embodiment or example are included in at least some of the embodiments or examples of the present disclosure. .. Illustrative expressions of terms do not necessarily refer to the same embodiment or embodiment. In addition, the specific features, structures, materials or properties described may be included in one or more embodiments or embodiments in a manner appropriate to them. A number modified by the term "about" means that such a number can vary by 10%.

本明細書の説明において「発光ユニット」という用語は、有機発光ユニット、無機発光ユニット又は量子ドット発光ユニットを意味する場合がある。 In the description of the present specification, the term "light emitting unit" may mean an organic light emitting unit, an inorganic light emitting unit, or a quantum dot light emitting unit.

本明細書の説明において「距離」という用語は、２つの表面又は１つの点から１つの表面までの距離等、２つの対象の間の最短距離を意味する場合がある。 As used herein, the term "distance" may mean the shortest distance between two objects, such as the distance between two surfaces or one point to one surface.

図１は、関連技術における表示パネルの概略構成図である。図１に示すように、表示パネルは、表示基板１００と、表示基板１００に配置された複数の表示ユニット１０１と、表示ユニット１０１を覆う第１の無機層１０２と、第１の無機層１０２を覆う有機層１０３と、有機層１０３を覆う第２の無機層１０４とを備える。これらの無機層及び有機層は、表示基板１００を水及び酸素の浸透から保護するのに用いられる。しかし、無機層１０２及び１０４は非常に薄くしばしば大きな応力を受けるため、これらの無機層は表示パネルを方向１０６に伸長する横方向の応力下で破損しやすい。その結果、表示パネル外の酸素及び水が破損ラインに沿って複数の表示ユニット１０１のいくつかに浸透して、表示パネルの寿命を大幅に縮めてしまう。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a display panel in a related technique. As shown in FIG. 1, the display panel includes a display board 100, a plurality of display units 101 arranged on the display board 100, a first inorganic layer 102 covering the display unit 101, and a first inorganic layer 102. It includes an organic layer 103 that covers the organic layer 103, and a second inorganic layer 104 that covers the organic layer 103. These inorganic and organic layers are used to protect the display substrate 100 from the infiltration of water and oxygen. However, since the inorganic layers 102 and 104 are very thin and often subject to high stresses, these inorganic layers are prone to breakage under lateral stress extending the display panel in direction 106. As a result, oxygen and water outside the display panel permeate some of the plurality of display units 101 along the damage line, significantly shortening the life of the display panel.

これに対し、図２は、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。図２に示すように、表示パネルは、表示基板２００と、複数の発光ユニット２０７を定義する画素定義層２０６と、複数の発光ユニット２０７を覆う第１の有機層２０１とを備える。表示基板２００は、駆動回路、信号線及び電気素子等を備える。第１の有機層２０１の発光ユニット２０７の反対側に位置する表面は、複数の凸部Ｍと、複数の凹部Ｌとを含む。第１の有機層２０１は、複数の発光ユニット２０７と、画素定義層２０６とに直接接する。 On the other hand, FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a display panel in some embodiments of the present disclosure. As shown in FIG. 2, the display panel includes a display substrate 200, a pixel definition layer 206 that defines a plurality of light emitting units 207, and a first organic layer 201 that covers the plurality of light emitting units 207. The display board 200 includes a drive circuit, a signal line, an electric element, and the like. The surface of the first organic layer 201 located on the opposite side of the light emitting unit 207 includes a plurality of convex portions M and a plurality of concave portions L. The first organic layer 201 is in direct contact with the plurality of light emitting units 207 and the pixel definition layer 206.

本開示の実施形態において、表示パネルが横方向に伸長すると、第１の有機層の表面における複数の凸部と複数の凹部とにより、第１の有機層は横方向の応力の一部を効果的に緩和できる。 In embodiments of the present disclosure, when the display panel extends laterally, the first organic layer exerts some of the lateral stress due to the plurality of protrusions and recesses on the surface of the first organic layer. Can be relaxed.

いくつかの実施形態において、第１の有機層２０１は、ポリジメチルシロキサン、ポリイミド、シリコーン樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、ゴム及びそれらの誘導体、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む。 In some embodiments, the first organic layer 201 is at least one material selected from the group consisting of polydimethylsiloxane, polyimide, silicone resin, polyurethane, acrylic resin, rubber and derivatives thereof, and mixtures thereof. including.

図３ａは、本開示のいくつかの実施形態における第１の有機層２０１の三次元構成図である。図３ａに示すように、複数の凸部Ｍ及び複数の凹部Ｌは、第２の方向に対して実質的に垂直である第１の方向及び第２の方向に交互に配置される。いくつかの実施形態において、図３ａに示すように、複数の凸部Ｍはそれぞれ、複数の凹部Ｌに連続的に遷移する。つまり、第１の有機層の表面では、曲率が凸部から凹部へ実質的に連続的かつ緩やかに遷移し、凸部と凹部の間に平坦面がない。 FIG. 3a is a three-dimensional configuration diagram of the first organic layer 201 in some embodiments of the present disclosure. As shown in FIG. 3a, the plurality of convex portions M and the plurality of concave portions L are arranged alternately in the first direction and the second direction which are substantially perpendicular to the second direction. In some embodiments, as shown in FIG. 3a, each of the plurality of protrusions M continuously transitions to the plurality of recesses L. That is, on the surface of the first organic layer, the curvature changes substantially continuously and gently from the convex portion to the concave portion, and there is no flat surface between the convex portion and the concave portion.

いくつかの実施形態において、図３ａに示すように、複数の凸部Ｍ及び複数の凹部Ｌは、平面Ｐに対して約１μｍから約５μｍの範囲にある実質的に同一幅を有する。平面Ｐは第１の有機層の平坦面である。凸部の幅は、凸部の山頂部から平面Ｐまでの垂直距離であると定義される。凹部の幅は、凹部の谷底部から平面Ｐまでの垂直距離であると定義される。 In some embodiments, as shown in FIG. 3a, the plurality of protrusions M and the plurality of recesses L have substantially the same width in the range of about 1 μm to about 5 μm with respect to the plane P. The plane P is a flat surface of the first organic layer. The width of the convex portion is defined as the vertical distance from the peak of the convex portion to the plane P. The width of the recess is defined as the vertical distance from the valley bottom of the recess to the plane P.

図３ｂは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの概略構成図である。複数の凸部のうちの１つの山頂部から画素定義層２０６の上面までの第１の距離ｈ１は約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、約５μｍから約９μｍの範囲にあることが好ましく、約６μｍから約８μｍの範囲にあることがさらに好ましい。複数の凹部のうちの１つの谷底部から画素定義層２０６の上面までの第２の距離ｈ２は約１μｍから約８μｍの範囲にあり、約２μｍから約６μｍの範囲にあることが好ましい。さらに、第１の距離ｈ１は第２の距離ｈ２より大きい。いくつかの実施形態において、２つの隣接する凸部Ｍの山頂部同士の距離は、２つの隣接する凹部Ｌの谷底部同士の距離と実質的に同一であり、３個の隣接する発光ユニットから８０個の隣接する発光ユニットの長さの間にある。例えば、この範囲は約２μｍから約１０００μｍであり、約８０μｍから約１２０μｍの範囲にあることが好ましい。 FIG. 3b is a schematic configuration diagram of a display panel in some embodiments of the present disclosure. The first distance h1 from the top of one of the plurality of protrusions to the upper surface of the pixel definition layer 206 is in the range of about 3 μm to about 11 μm, preferably in the range of about 5 μm to about 9 μm, and is preferably about. It is more preferably in the range of 6 μm to about 8 μm. The second distance h2 from the bottom of one of the plurality of recesses to the upper surface of the pixel definition layer 206 is in the range of about 1 μm to about 8 μm, preferably in the range of about 2 μm to about 6 μm. Further, the first distance h1 is larger than the second distance h2. In some embodiments, the distance between the peaks of the two adjacent protrusions M is substantially the same as the distance between the valley bottoms of the two adjacent recesses L, from the three adjacent light emitting units. Between the lengths of 80 adjacent light emitting units. For example, this range is from about 2 μm to about 1000 μm, preferably in the range of about 80 μm to about 120 μm.

いくつかの実施形態において、第１の距離ｈ１は約６μｍである。 In some embodiments, the first distance h1 is about 6 μm.

いくつかの実施形態において、第２の距離ｈ２は約２μｍである。 In some embodiments, the second distance h2 is about 2 μm.

いくつかの実施形態において、ダム構造Ｎの上面から画素定義層２０６の上面までの距離ｈ５は約１．２μｍから約２．８μｍの範囲にあり、例えば、約２．０μｍである。 In some embodiments, the distance h5 from the top surface of the dam structure N to the top surface of the pixel definition layer 206 ranges from about 1.2 μm to about 2.8 μm, for example about 2.0 μm.

いくつかの実施形態において、図２に示すように、表示パネルは、第１の無機層２０２と、第２の有機層２０３と、第２の無機層２０４と、第３の有機層２０５とをさらに備える。第１の有機層２０１と、第１の無機層２０２と、第２の有機層２０３と、第２の無機層２０４と、第３の有機層２０５とは、表示基板２００から離れる方向に順に配置される。表示基板２００における第１の有機層２０１の正射影は、表示基板２００における複数の発光ユニット２０７の正射影を覆う。表示基板２００における第１の無機層２０２の正射影は、表示基板２００における第１の有機層２０１の正射影を覆う。 In some embodiments, as shown in FIG. 2, the display panel comprises a first inorganic layer 202, a second organic layer 203, a second inorganic layer 204, and a third organic layer 205. Further prepare. The first organic layer 201, the first inorganic layer 202, the second organic layer 203, the second inorganic layer 204, and the third organic layer 205 are arranged in order away from the display substrate 200. Will be done. The orthographic projection of the first organic layer 201 on the display substrate 200 covers the orthographic projection of the plurality of light emitting units 207 on the display substrate 200. The orthographic projection of the first inorganic layer 202 on the display substrate 200 covers the orthographic projection of the first organic layer 201 on the display substrate 200.

いくつかの実施形態において、第１の無機層２０２及び第２の無機層２０４はいずれもＳｉＮｘ、ＳｉＯ２、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＳ、ＺｎＯ及びＺＳＭゼオライトからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む。ＺＳＭゼオライトは、ＺｎＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＭｇＯの構造を含む。 In some embodiments, the first inorganic layer 202 and the second inorganic layer 204 are both at least one selected from the group consisting of SiNx, SiO 2 , SiC, Al 2O 3 , ZnS, ZnO and ZSM zeolite. Includes one material. The ZSM zeolite contains a ZnO / Al2O3 / MgO structure.

いくつかの実施形態において、第１の有機層２０１のヤング率は第２の有機層２０３のヤング率を上回らない。 In some embodiments, the Young's modulus of the first organic layer 201 does not exceed the Young's modulus of the second organic layer 203.

いくつかの実施形態において、第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面が複数の凸部及び複数の凹部を含むため、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層とが第１の有機層上に順に配置されて、第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面に一致する。つまり、第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層とが、第１の有機層の表面上の複数の凸部及び複数の凹部の形状と一致する。 In some embodiments, the first inorganic layer, the second organic layer, and the second, because the surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit contains a plurality of protrusions and a plurality of recesses. The two inorganic layers are sequentially arranged on the first organic layer and correspond to a surface located on the opposite side of the light emitting unit of the first organic layer. That is, the first inorganic layer, the second organic layer, and the second inorganic layer match the shapes of the plurality of convex portions and the plurality of concave portions on the surface of the first organic layer.

第１の無機層を例にとれば、表示パネルが横方向に伸長すると、第１の有機層は第１の無機層の応力の一部を効果的に緩和して、第１の無機層の水／酸素を遮断する能力を維持することができる。その結果、表示基板の寿命が延長される。 Taking the first inorganic layer as an example, when the display panel extends laterally, the first organic layer effectively relieves a part of the stress of the first inorganic layer, and the first inorganic layer The ability to block water / oxygen can be maintained. As a result, the life of the display board is extended.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第１の無機層の厚みは約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer comprises SiNx or SiON, the thickness of the first inorganic layer ranges from about 700 nm to about 1400 nm, for example about 800 nm.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第１の無機層の厚みは約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer comprises SiO 2 , and the thickness of the first inorganic layer ranges from about 50 nm to about 400 nm, eg, about 200 nm.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第１の無機層の厚みは約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer contains Al 2 O 3 , and the thickness of the first inorganic layer ranges from about 50 nm to about 300 nm, eg, about 120 nm.

いくつかの実施形態において、第２の有機層の厚みは約２μｍから約４μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。 In some embodiments, the thickness of the second organic layer ranges from about 2 μm to about 4 μm, eg, about 2 μm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の厚みは約０．０５μｍから約３μｍの範囲にある。 In some embodiments, the thickness of the second inorganic layer ranges from about 0.05 μm to about 3 μm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第２の無機層の厚みは約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer comprises SiNx or SiON, the thickness of the second inorganic layer ranges from about 700 nm to about 1400 nm, for example about 800 nm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第２の無機層の厚みは約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer comprises SiO 2 , and the thickness of the second inorganic layer ranges from about 50 nm to about 400 nm, eg, about 200 nm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第２の無機層の厚みは約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer contains Al 2 O 3 , and the thickness of the second inorganic layer ranges from about 50 nm to about 300 nm, eg, about 120 nm.

いくつかの実施形態において、図３ｂに示すように、第３の有機層は、表示基板と反対側に実質的に平坦な上面を有する。第２の無機層も複数の凸部と複数の凹部とを含む。第３の有機層の表示基板と反対側に位置する上面から第２の無機層の複数の凹部のうちの１つの谷底部までの距離ｈ３は、約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、約４μｍから９μｍの範囲、例えば、約６μｍであることが好ましい。第３の有機層の表示基板と反対側に位置する上面から第２の無機層の複数の凸部のうちの１つの山頂部までの距離ｈ４は、約１μｍから約８μｍの範囲にあり、約２μｍから約６μｍの範囲、例えば、約２μｍであることが好ましい。 In some embodiments, as shown in FIG. 3b, the third organic layer has a substantially flat top surface on the opposite side of the display substrate. The second inorganic layer also contains a plurality of protrusions and a plurality of recesses. The distance h3 from the upper surface located on the opposite side of the display substrate of the third organic layer to the valley bottom of one of the plurality of recesses of the second inorganic layer is in the range of about 3 μm to about 11 μm, and is about 4 μm. It is preferably in the range of 9 μm to, for example, about 6 μm. The distance h4 from the upper surface located on the opposite side of the display substrate of the third organic layer to the peak of one of the plurality of convex portions of the second inorganic layer is in the range of about 1 μm to about 8 μm, and is about. It is preferably in the range of 2 μm to about 6 μm, for example about 2 μm.

図４ａは、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの、表示基板に垂直な平面の断面構成図であり、４０４は表示パネルを伸長する横方向の応力の方向を表し、４００は表示パネルの長さを表し、４０１は表示パネルの幅を表し、４０２は表示パネルの厚みを表す。図４ａ～４ｃに示すように、第１の有機層２０１の表示基板２００と垂直な平面における断面の、表示基板の反対側に位置する一方の側は、正弦波状を有し、これは、第１の有機層２０１上に配置された第１の無機層２０２が表示パネルの長さ方向４００及び幅方向４０１の両方において正弦波状を有することを意味する。 4a is a sectional view of the display panel in some embodiments of the present disclosure in a plane perpendicular to the display substrate, where 404 represents the direction of lateral stress extending the display panel and 400 is the display panel. Represents the length of, 401 represents the width of the display panel, and 402 represents the thickness of the display panel. As shown in FIGS. 4a-4c, one side of the first organic layer 201 in a plane perpendicular to the display substrate 200, located on the opposite side of the display substrate, has a sinusoidal shape, which is the first. It means that the first inorganic layer 202 arranged on the organic layer 201 of 1 has a sine wave shape in both the length direction 400 and the width direction 401 of the display panel.

図４ａに示すように、ｘ軸と平行である方向４０４に横方向に表示パネルを伸長すると、表示パネルがｘ軸方向に伸長し、ｙ軸及びｚ軸の両方向における長さが収縮する。 As shown in FIG. 4a, when the display panel is extended laterally in the direction 404 parallel to the x-axis, the display panel is extended in the x-axis direction and its length in both the y-axis and z-axis contracts.

図４ｂは、特定の理論に拘束されない、本開示のいくつかの実施形態における第１の無機層の力解析図である。図４ｂに示すように、表示パネルを方向４０４に横方向に伸長すると、第１の無機層２０２は、ｘ軸方向において、波形４０５から波形４０６へ遷移する。図４ａ及び４ｂに示すように、表示パネルは、両端における力Ｆ及び力Ｆ’により、方向４０４に横方向に伸長される。波形４０５における点Ａ及びＢは説明の便宜上設けたものである。点Ａ及びＢは、凹部の谷底部に対して対称である。 FIG. 4b is a force analysis diagram of the first inorganic layer in some embodiments of the present disclosure, which is not bound by a particular theory. As shown in FIG. 4b, when the display panel is extended laterally in the direction 404, the first inorganic layer 202 transitions from the waveform 405 to the waveform 406 in the x-axis direction. As shown in FIGS. 4a and 4b, the display panel is laterally extended in direction 404 by forces F and forces F'at both ends. Points A and B in the waveform 405 are provided for convenience of explanation. Points A and B are symmetrical with respect to the valley bottom of the recess.

点Ａにおける力Ｆは、波形４０５の接線方向及び法線方向の力ｆ１及びｆ２にそれぞれ分解できる。点Ｂにおける力Ｆ’は、波形４０５の接線方向及び法線方向の力ｆ３及びｆ４にそれぞれ分解できる。図４ｂに示すように、力Ｆの大きさは力Ｆ’の大きさと実質的に等しい。力ｆ１の大きさは力ｆ３のそれと実質的に等しい。力ｆ２の大きさは力ｆ４のそれと実質的に等しい。力ｆ１は第１の無機層を平坦化する力であり、力ｆ２はアークを上方に移動させない力である。伸長している間、力Ｆと力ｆ１の間の角度は小さくなるが、力Ｆと力ｆ２の間の角度は大きくなる。曲率が大きいほど第１の無機層の伸長力は大きく、波形の曲率を適切に選択することで第１の無機層は適切な伸長力を持ち得る。 The force F at the point A can be decomposed into the tangential and normal forces f1 and f2 of the waveform 405, respectively. The force F'at the point B can be decomposed into the tangential and normal forces f3 and f4 of the waveform 405, respectively. As shown in FIG. 4b, the magnitude of the force F is substantially equal to the magnitude of the force F'. The magnitude of the force f1 is substantially equal to that of the force f3. The magnitude of the force f2 is substantially equal to that of the force f4. The force f1 is a force that flattens the first inorganic layer, and the force f2 is a force that does not move the arc upward. During the extension, the angle between the force F and the force f1 becomes smaller, but the angle between the force F and the force f2 becomes larger. The larger the curvature, the larger the stretching force of the first inorganic layer, and the first inorganic layer can have an appropriate stretching force by appropriately selecting the curvature of the waveform.

一方、ｙ軸方向においては、図４ｃに示すように、表示パネルが方向４０４に横方向に伸長すると、第１の無機層２０２の波形は、波形４０５’から波形４０６’に遷移する。図４ｃに示すように、波形４０６’の２つの隣接する山頂部又は谷底部同士の距離はそれぞれ、波形４０５’の２つの隣接する山頂部又は谷底部同士の距離より小さい。つまり、第１の無機層はｙ軸方向に収縮する。 On the other hand, in the y-axis direction, as shown in FIG. 4c, when the display panel extends laterally in the direction 404, the waveform of the first inorganic layer 202 transitions from the waveform 405'to the waveform 406'. As shown in FIG. 4c, the distance between the two adjacent peaks or valley bottoms of the waveform 406'is smaller than the distance between the two adjacent peaks or valley bottoms of the waveform 405', respectively. That is, the first inorganic layer shrinks in the y-axis direction.

いくつかの実施形態において、図２に示すように、表示パネルはダム構造Ｎをさらに備える。ダム構造Ｎは複数の発光ユニット２０７を囲む円形構造であってもよい。ダム構造は、第１の有機層と、第２の有機層と、第３の有機層とがはみ出るのを回避するように構成されてもよい。 In some embodiments, the display panel further comprises a dam structure N, as shown in FIG. The dam structure N may have a circular structure surrounding the plurality of light emitting units 207. The dam structure may be configured to prevent the first organic layer, the second organic layer, and the third organic layer from protruding from each other.

いくつかの実施形態において、図２に示すように、第１の無機層２０２及び／又は第２の無機層２０４はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。 In some embodiments, as shown in FIG. 2, the first inorganic layer 202 and / or the second inorganic layer 204 extends to the dam structure N and directly covers the upper surface of the dam structure N.

図２に示すように、第１の有機層の縁部から表示基板の縁部までの最短距離２０８は、約５００μｍから約２０００μｍの範囲にある。第１の有機層の縁部からダム構造の第１の有機層に面する前縁部までの最短距離２１０は約５００μｍを上回らない。表示エリア外における、画素定義層２０６の上面に対する第１の無機層２０２のバンク角ｂは、０から９０度の範囲にある。表示エリア外における、画素定義層２０６の上面と平行な平面に対する第２の無機層２０４のバンク角ａは、０から９０度の範囲にある。 As shown in FIG. 2, the shortest distance 208 from the edge of the first organic layer to the edge of the display board is in the range of about 500 μm to about 2000 μm. The shortest distance 210 from the edge of the first organic layer to the leading edge of the dam structure facing the first organic layer does not exceed about 500 μm. The bank angle b of the first inorganic layer 202 with respect to the upper surface of the pixel definition layer 206 outside the display area is in the range of 0 to 90 degrees. The bank angle a of the second inorganic layer 204 with respect to a plane parallel to the upper surface of the pixel definition layer 206 outside the display area is in the range of 0 to 90 degrees.

いくつかの実施形態において、表示基板２００は、ポリイミド及びその誘導体、ゴム、シリコーン、ポリウレタン、並びにアクリル樹脂からなる群から選択される材料を含む。 In some embodiments, the display substrate 200 comprises a material selected from the group consisting of polyimides and derivatives thereof, rubber, silicones, polyurethanes, and acrylic resins.

いくつかの実施形態において、表示パネルの横方向における最大伸長率は約４％から約８％の範囲にあり、約５％から約７％の範囲、例えば、約５％であることが好ましい。 In some embodiments, the lateral maximum elongation of the display panel is in the range of about 4% to about 8%, preferably in the range of about 5% to about 7%, for example about 5%.

本開示のもう１つの例は表示装置である。表示装置は、本開示の任意の実施形態における表示パネルを備える。 Another example of the present disclosure is a display device. The display device comprises a display panel according to any embodiment of the present disclosure.

いくつかの実施形態において、当該表示装置は円偏光子をさらに備える。当該円偏光子は、少なくとも表示パネルの屋外表示品質を改善するように構成されてもよい。 In some embodiments, the display device further comprises a circular polarizing element. The circular deflector may be configured to at least improve the outdoor display quality of the display panel.

本開示のもう１つの例は表示パネルの製造方法である。当該方法は、複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含んでもよい。第１の有機層の発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、第１の有機層は複数の発光ユニットと直接接する。 Another example of the present disclosure is a method of manufacturing a display panel. The method may include providing a display board on which a plurality of light emitting units are arranged and forming a first organic layer covering the plurality of light emitting units. The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit includes a plurality of convex portions and a plurality of concave portions, and the first organic layer is in direct contact with the plurality of light emitting units.

いくつかの実施形態において、複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することは、第１の有機材料のフィルムを形成するステップと、第１の有機材料のフィルム上に複数の凹部を形成するステップと、第１の有機材料のフィルム上に、複数の凹部の間に位置する複数の凸部を形成するステップとを含む。 In some embodiments, forming a first organic layer covering a plurality of light emitting units is a step of forming a film of the first organic material and a plurality of recesses on the film of the first organic material. It includes a step of forming and a step of forming a plurality of protrusions located between the plurality of recesses on the film of the first organic material.

いくつかの実施形態において、当該方法は、複数の発光ユニットを形成するステップの前に、画素定義層を形成するステップをさらに含む。画素定義層は、複数の発光ユニットを定義する。 In some embodiments, the method further comprises forming a pixel definition layer prior to forming the plurality of light emitting units. The pixel definition layer defines a plurality of light emitting units.

いくつかの実施形態において、表示パネルを製造する方法は、ダム構造を形成するステップをさらに含む。ダム構造は、複数の発光ユニットを囲む。ダム構造を形成するステップは、第１の有機層を形成する前であってもよい。 In some embodiments, the method of manufacturing a display panel further comprises the step of forming a dam structure. The dam structure surrounds multiple light emitting units. The step of forming the dam structure may be before forming the first organic layer.

以下では、図５ａから５ｇを参照しつつ、本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの製造方法について説明する。 Hereinafter, a method of manufacturing a display panel according to some embodiments of the present disclosure will be described with reference to FIGS. 5a to 5g.

いくつかの実施形態において、図５ａに示すように、複数の発光ユニット２０７が配置された表示基板２００を提供する。複数の発光ユニット２０７は、画素定義層２０６により定義される。表示基板２００上にパターニング処理を施してダム構造Ｎを形成する。ダム構造Ｎは、複数の発光ユニット２０７を囲む。 In some embodiments, as shown in FIG. 5a, a display board 200 in which a plurality of light emitting units 207 are arranged is provided. The plurality of light emitting units 207 are defined by the pixel definition layer 206. A patterning process is performed on the display substrate 200 to form a dam structure N. The dam structure N surrounds a plurality of light emitting units 207.

いくつかの実施形態において、図５ｂに示すように、複数の発光ユニット２０７を覆う第１の有機材料のフィルム２０９を形成する。 In some embodiments, as shown in FIG. 5b, a first organic material film 209 covering the plurality of light emitting units 207 is formed.

いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムを形成するステップは、インクジェット印刷技術によりオリゴマーのフィルムを形成した後、紫外線でオリゴマーのフィルムを硬化することを含む。 In some embodiments, the step of forming a film of a first organic material comprises forming an oligomeric film by inkjet printing techniques and then curing the oligomeric film with ultraviolet light.

いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムを形成するステップは、インクジェット印刷技術によりポリマー溶液のフィルムを形成した後、溶媒を蒸発させてポリマー溶液のフィルムを凝固することを含む。 In some embodiments, the step of forming a film of the first organic material comprises forming a film of the polymer solution by inkjet printing techniques and then evaporating the solvent to solidify the film of the polymer solution.

いくつかの実施形態において、第１の有機材料のフィルムの厚みは、約４μｍから約１２μｍの範囲にあり、例えば、約７μｍである。 In some embodiments, the film thickness of the first organic material ranges from about 4 μm to about 12 μm, for example about 7 μm.

いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、ナノインプリント技術、反応性イオンエッチング技術、誘導結合プラズマ技術、ステンシル印刷技術、グラビア技術、またはフレキソ印刷技術により、第１の有機材料のフィルム２０９に複数の凹部が形成されている。複数の凹部のうちの１つの谷底部から画素定義層の上面までの第２の距離は約１μｍから約８μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。 In some embodiments, as shown in FIG. 5c, a nanoimprint technique, a reactive ion etching technique, an inductively coupled plasma technique, a stencil printing technique, a gravure technique, or a flexographic printing technique is used to obtain a film 209 of a first organic material. A plurality of recesses are formed. The second distance from the bottom of one of the plurality of recesses to the top surface of the pixel definition layer ranges from about 1 μm to about 8 μm, for example, about 2 μm.

いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、インクジェット印刷技術により、複数の凹部の間の空間において、第１の有機材料のフィルム上に複数の凸部を形成する。複数の凸部のうちの１つの山頂部から画素定義層の上面までの第１の距離は約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、例えば、約６μｍである。 In some embodiments, as shown in FIG. 5c, an inkjet printing technique is used to form a plurality of protrusions on a film of a first organic material in the space between the plurality of recesses. The first distance from the top of one of the plurality of protrusions to the upper surface of the pixel definition layer ranges from about 3 μm to about 11 μm, for example, about 6 μm.

いくつかの実施形態において、レーザ直接描画技術により、複数の凸部及び複数の凹部を第１の有機材料のフィルムに形成する。特定のパルスを印加することによりレーザのエネルギーを制御して、複数の凸部及び複数の凹部の三次元形状を形成することができる。 In some embodiments, laser direct drawing techniques are used to form a plurality of protrusions and recesses on a film of a first organic material. By applying a specific pulse, the energy of the laser can be controlled to form a three-dimensional shape of a plurality of convex portions and a plurality of concave portions.

いくつかの実施形態において、図５ｃに示すように、第１の有機層２０１が形成され、第１の有機層２０１の発光ユニット２０７と反対側の表面は、複数の凸部Ｍと複数の凹部Ｌとを含む。 In some embodiments, as shown in FIG. 5c, a first organic layer 201 is formed, and the surface of the first organic layer 201 opposite to the light emitting unit 207 has a plurality of convex portions M and a plurality of concave portions. Including L.

いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、化学気相成長技術、マグネトロンスパッタリング技術又は原子層堆積技術により第１の無機層を形成するステップをさらに含む。 In some embodiments, the method of making a display panel further comprises the step of forming a first inorganic layer by chemical vapor deposition technique, magnetron sputtering technique or atomic layer deposition technique.

一実施形態において、図５ｄに示すように、第１の無機層２０２を形成する。第１の無機層２０２は、下方にある第１の有機層の表面と形状が一致する。その結果、第１の無機層２０２も複数の凸部と複数の凹部を含む。さらに、第１の無機層２０２はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。一実施形態において、第１の無機層２０２は厚みが実質的に均一である。 In one embodiment, as shown in FIG. 5d, the first inorganic layer 202 is formed. The shape of the first inorganic layer 202 matches the surface of the lower first organic layer. As a result, the first inorganic layer 202 also contains a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. Further, the first inorganic layer 202 extends to the dam structure N and directly covers the upper surface of the dam structure N. In one embodiment, the first inorganic layer 202 is substantially uniform in thickness.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第１の無機層は化学気相成長技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer comprises SiNx or SiON, and the first inorganic layer is formed by chemical vapor deposition techniques. The thickness of the first inorganic layer ranges from about 700 nm to about 1400 nm, for example about 800 nm.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第１の無機層は原子層堆積技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer comprises SiO 2 , and the first inorganic layer is formed by atomic layer deposition techniques. The thickness of the first inorganic layer ranges from about 50 nm to about 400 nm, for example, about 200 nm.

いくつかの実施形態において、第１の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第１の無機層は原子層堆積技術により形成される。第１の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。 In some embodiments, the material of the first inorganic layer contains Al 2 O 3 , and the first inorganic layer is formed by atomic layer deposition techniques. The thickness of the first inorganic layer is in the range of about 50 nm to about 300 nm, for example, about 120 nm.

いくつかの実施形態において、表示パネルを製造する方法は、第２の有機層を形成するステップをさらに含む。第２の有機層は、第１の有機層の形成にかかる上記実施形態と同じ方法により形成してもよい。第２の有機材料のフィルムの厚みは、約２μｍから約４μｍの範囲にあり、例えば、約２μｍである。 In some embodiments, the method of manufacturing a display panel further comprises the step of forming a second organic layer. The second organic layer may be formed by the same method as in the above embodiment for forming the first organic layer. The thickness of the film of the second organic material ranges from about 2 μm to about 4 μm, for example about 2 μm.

一実施形態において、図５ｅに示すように、第２の有機層２０３を形成する。第２の有機層２０３は、下方にある第１の無機層２０２と形状が一致する。その結果、第２の有機層も複数の凸部と複数の凹部とを含む。 In one embodiment, as shown in FIG. 5e, the second organic layer 203 is formed. The second organic layer 203 has the same shape as the lower first inorganic layer 202. As a result, the second organic layer also contains a plurality of convex portions and a plurality of concave portions.

いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、化学気相成長技術、マグネトロンスパッタリング技術又は原子層堆積技術により第２の無機層を形成するステップをさらに含む。第２の無機層の厚みは、約０．０５μｍから約３μｍの範囲にあり、約０．５μｍから約２μｍの範囲にあることが好ましい。 In some embodiments, the method of manufacturing the display panel further comprises the step of forming a second inorganic layer by chemical vapor deposition technique, magnetron sputtering technique or atomic layer deposition technique. The thickness of the second inorganic layer is preferably in the range of about 0.05 μm to about 3 μm, preferably in the range of about 0.5 μm to about 2 μm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＮｘ又はＳｉＯＮが含まれ、第２の無機層は化学気相成長技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約７００ｎｍから約１４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約８００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer comprises SiNx or SiON, and the second inorganic layer is formed by chemical vapor deposition techniques. The thickness of the second inorganic layer ranges from about 700 nm to about 1400 nm, for example about 800 nm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＳｉＯ２が含まれ、第２の無機層は原子層堆積技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約４００ｎｍの範囲にあり、例えば、約２００ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer comprises SiO 2 , and the second inorganic layer is formed by atomic layer deposition techniques. The thickness of the second inorganic layer ranges from about 50 nm to about 400 nm, for example about 200 nm.

いくつかの実施形態において、第２の無機層の材料にはＡｌ２Ｏ３が含まれ、第２の無機層は原子層堆積技術により形成される。第２の無機層の厚みは、約５０ｎｍから約３００ｎｍの範囲にあり、例えば、約１２０ｎｍである。 In some embodiments, the material of the second inorganic layer contains Al 2 O 3 , and the second inorganic layer is formed by atomic layer deposition techniques. The thickness of the second inorganic layer ranges from about 50 nm to about 300 nm, for example about 120 nm.

一実施形態において、図５ｆに示すように、第２の無機層２０４を形成する。第２の無機層２０４は、下方にある第２の有機層２０３と形状が一致する。その結果、第２の無機層２０４も複数の凸部と複数の凹部とを含む。さらに、第２の無機層２０４はダム構造Ｎまで伸びてダム構造Ｎの上面を直接覆う。 In one embodiment, as shown in FIG. 5f, the second inorganic layer 204 is formed. The second inorganic layer 204 has the same shape as the lower second organic layer 203. As a result, the second inorganic layer 204 also includes a plurality of convex portions and a plurality of concave portions. Further, the second inorganic layer 204 extends to the dam structure N and directly covers the upper surface of the dam structure N.

いくつかの実施形態において、表示パネルの製造方法は、インクジェット印刷技術を用いた後、凝固工程又は硬化工程を経て、第３の有機層を形成するステップをさらに含む。第３の有機層は、表示基板と反対側に実質的に平坦な上面を有する。 In some embodiments, the method of manufacturing a display panel further comprises the step of forming a third organic layer through a coagulation step or a curing step after using an inkjet printing technique. The third organic layer has a substantially flat top surface on the opposite side of the display substrate.

一実施形態において、図５ｇに示すように、第３の有機層２０５を形成する。 In one embodiment, as shown in FIG. 5g, a third organic layer 205 is formed.

本開示のいくつかの実施形態における表示パネルの製造方法は、現在の製造工程に適合するものである。したがって、既存の製造ラインを変更する必要がなく、製造コストを低減できる。 The method of manufacturing a display panel in some embodiments of the present disclosure is adapted to the current manufacturing process. Therefore, it is not necessary to change the existing production line, and the production cost can be reduced.

本明細書では本開示の原理及び実施形態について述べた。本開示の実施形態に関する説明は、本開示の方法及びその主な構想に対する理解を助けるためのものにすぎない。また、当業者にとって、本開示は本開示の範囲に関連し、技術実施形態は技術特徴の特定の組み合わせに限定されず、本発明構想から逸脱しない限り、技術特徴又は技術特徴と均等な特徴を組み合わせて構成されるその他の技術実施形態も網羅する。例えば、本開示で上述した特徴（しかし、これらに限らない）を同様の特徴と置き換えて技術実施形態を得ることができる。 This specification describes the principles and embodiments of the present disclosure. The description of the embodiments of the present disclosure is merely to assist in understanding the methods of the present disclosure and its main concepts. Further, for those skilled in the art, the present disclosure relates to the scope of the present disclosure, and the technical embodiment is not limited to a specific combination of technical features, and the technical features or features equivalent to the technical features are exhibited as long as they do not deviate from the concept of the present invention. It also covers other technical embodiments configured in combination. For example, the features described above (but not limited to) in the present disclosure can be replaced with similar features to obtain technical embodiments.

１００ 表示基板
１０１ 表示ユニット
１０２ 第１の無機層
１０３ 有機層
１０４ 第２の無機層
２００ 表示基板
２０１ 第１の有機層
２０２ 第１の無機層
２０３ 第２の有機層
２０４ 第２の無機層
２０５ 第３の有機層
２０６ 画素定義層
２０７ 発光ユニット
２０９ 第１の有機材料のフィルム
４０５ 波形
４０５’ 波形
４０６ 波形
４０６’ 波形 100 Display board 101 Display unit 102 First inorganic layer 103 Organic layer 104 Second inorganic layer 200 Display board 201 First organic layer 202 First inorganic layer 203 Second organic layer 204 Second inorganic layer 205 Second 3 organic layers 206 pixel definition layer 207 light emitting unit 209 first organic material film 405 waveform 405'waveform 406 waveform 406'waveform

Claims (22)

表示基板と、
前記表示基板上に位置する複数の発光ユニットと、
前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層とを備え、
前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、
前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接する、表示パネル。 Display board and
A plurality of light emitting units located on the display board,
A first organic layer covering the plurality of light emitting units is provided.
The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit includes a plurality of protrusions and a plurality of recesses.
The first organic layer is a display panel that is in direct contact with the plurality of light emitting units. 前記第１の有機層は、ポリジメチルシロキサン、ポリイミド、シリコーン樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、ゴム及びそれらの誘導体、並びにそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、請求項１に記載の表示パネル。 The first organic layer comprises at least one material selected from the group consisting of polydimethylsiloxane, polyimide, silicone resin, polyurethane, acrylic resin, rubber and derivatives thereof, and mixtures thereof. Display panel of description. 前記複数の凸部及び前記複数の凹部は、第２の方向に対して垂直である第１の方向及び第２の方向に交互に配置される、請求項１から２のいずれか１項に記載の表示パネル。 The invention according to any one of claims 1 to 2, wherein the plurality of protrusions and the plurality of recesses are alternately arranged in a first direction and a second direction perpendicular to the second direction. Display panel. 前記複数の凸部及び前記複数の凹部は、実質的に同一幅を有する、請求項１から３のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the plurality of convex portions and the plurality of concave portions have substantially the same width. 前記複数の凸部はそれぞれ、前記複数の凹部に連続的に遷移する、請求項１に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 1, wherein each of the plurality of convex portions continuously transitions to the plurality of concave portions. 前記第１の有機層の前記表示基板と垂直な平面における断面の、前記表示基板の反対側に位置する一方の側は、正弦波状を有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の表示パネル。 The aspect according to any one of claims 1 to 5, wherein one side of the first organic layer in a plane perpendicular to the display board, which is located on the opposite side of the display board, has a sinusoidal shape. Display panel. 第１の無機層と、第２の有機層と、第２の無機層と、第３の有機層とをさらに備える、請求項１から６のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 1 to 6, further comprising a first inorganic layer, a second organic layer, a second inorganic layer, and a third organic layer. 前記第１の有機層と、前記第１の無機層と、前記第２の有機層と、前記第２の無機層と、前記第３の有機層とは、前記表示基板から離れる方向に順に配置される、請求項７に記載の表示パネル。 The first organic layer, the first inorganic layer, the second organic layer, the second inorganic layer, and the third organic layer are arranged in order away from the display substrate. The display panel according to claim 7. 前記複数の発光ユニットを定義し、前記第１の有機層と直接接する画素定義層をさらに備える、請求項７から８のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 7 to 8, further comprising a pixel definition layer that defines the plurality of light emitting units and is in direct contact with the first organic layer. 前記複数の凸部のうちの１つの山頂部から前記画素定義層の上面までの第１の距離は約３μｍから約１１μｍの範囲にあり、前記複数の凹部のうちの１つの谷底部から前記画素定義層の前記上面までの第２の距離は約１μｍから約８μｍの範囲にあり、前記第１の距離は前記第２の距離より大きい、請求項９に記載の表示パネル。 The first distance from the top of one of the plurality of protrusions to the upper surface of the pixel definition layer is in the range of about 3 μm to about 11 μm, and the pixel is from the bottom of one of the plurality of recesses. The display panel according to claim 9, wherein the second distance of the definition layer to the upper surface is in the range of about 1 μm to about 8 μm, and the first distance is larger than the second distance. ２つの隣接する凸部の山頂部同士の距離は、２つの隣接する凹部の谷底部同士の距離と実質的に同一である、請求項１０に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 10, wherein the distance between the peaks of the two adjacent convex portions is substantially the same as the distance between the valley bottoms of the two adjacent concave portions. 前記表示基板における前記第１の有機層の正射影は、前記表示基板における前記複数の発光ユニットの正射影を覆い、前記表示基板における前記第１の無機層の正射影は、前記表示基板における前記第１の有機層の正射影を覆う、請求項９から１１のいずれか１項に記載の表示パネル。 The orthographic projection of the first organic layer on the display board covers the orthographic projection of the plurality of light emitting units on the display board, and the orthographic projection of the first inorganic layer on the display board is the projection on the display board. The display panel according to any one of claims 9 to 11, which covers the orthographic projection of the first organic layer. 前記複数の発光ユニットを囲むダム構造をさらに備える、請求項９から１２のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 9 to 12, further comprising a dam structure surrounding the plurality of light emitting units. 前記第１の無機層及び／又は前記第２の無機層は前記ダム構造まで伸びて前記ダム構造の上面を直接覆う、請求項１３に記載の表示パネル。 13. The display panel according to claim 13, wherein the first inorganic layer and / or the second inorganic layer extends to the dam structure and directly covers the upper surface of the dam structure. 前記第１の有機層のヤング率は前記第２の有機層のヤング率を上回らない、請求項９から１４のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 9 to 14, wherein the Young's modulus of the first organic layer does not exceed the Young's modulus of the second organic layer. 前記表示基板は、ポリイミド及びその誘導体、ゴム、シリコーン、ポリウレタン、並びにアクリル樹脂からなる群から選択される材料を含む、請求項９から１５のいずれか１項に記載の表示パネル。 The display panel according to any one of claims 9 to 15, wherein the display substrate includes a material selected from the group consisting of polyimide and its derivatives, rubber, silicone, polyurethane, and acrylic resin. 請求項１から１６のいずれか１項に記載の表示パネルを備える、表示装置。 A display device comprising the display panel according to any one of claims 1 to 16. 複数の発光ユニットが配置された表示基板を提供することと、
前記複数の発光ユニットを覆う第１の有機層を形成することとを含み、
前記第１の有機層の前記発光ユニットの反対側に位置する表面は、複数の凸部と複数の凹部とを含み、
前記第１の有機層は、前記複数の発光ユニットと直接接する、表示パネルの製造方法。 To provide a display board in which multiple light emitting units are arranged,
Including forming a first organic layer covering the plurality of light emitting units.
The surface of the first organic layer located on the opposite side of the light emitting unit includes a plurality of protrusions and a plurality of recesses.
A method for manufacturing a display panel, wherein the first organic layer is in direct contact with the plurality of light emitting units. 前記複数の発光ユニットを覆う前記第１の有機層を形成することは、
有機材料のフィルムを形成することと、
前記有機材料のフィルムに前記複数の凹部を形成することと、
前記複数の凹部の間に前記複数の凸部を形成することとを含む、請求項１８に記載の表示パネルの製造方法。 Forming the first organic layer that covers the plurality of light emitting units is possible.
Forming a film of organic material and
By forming the plurality of recesses in the film of the organic material,
18. The method of manufacturing a display panel according to claim 18, comprising forming the plurality of protrusions between the plurality of recesses. 前記有機材料のフィルムを形成することは、
インクジェット印刷技術によりオリゴマーのフィルムを形成することと、
紫外線で前記オリゴマーのフィルムを硬化して前記有機材料のフィルムを形成することとを含む、請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。 Forming a film of the organic material is
Forming an oligomer film by inkjet printing technology,
The method for manufacturing a display panel according to claim 19, wherein the film of the oligomer is cured with ultraviolet rays to form a film of the organic material. 前記有機材料のフィルムを形成することは、
インクジェット印刷技術によりポリマー溶液のフィルムを形成することと、
前記ポリマー溶液のフィルムを凝固して前記有機材料のフィルムを形成することとを含む、請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。 Forming a film of the organic material is
Forming a film of polymer solution by inkjet printing technology,
The method for manufacturing a display panel according to claim 19, which comprises coagulating a film of the polymer solution to form a film of the organic material. インクジェット印刷技術により、前記有機材料のフィルム上に、前記複数の凹部の間に位置する前記複数の凸部を形成する、請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。 The method for manufacturing a display panel according to claim 19, wherein the plurality of convex portions located between the plurality of concave portions are formed on the film of the organic material by an inkjet printing technique.
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