JP2013205482A - Color filter - Google Patents

Color filter Download PDF

Info

Publication number
JP2013205482A
JP2013205482A JP2012071717A JP2012071717A JP2013205482A JP 2013205482 A JP2013205482 A JP 2013205482A JP 2012071717 A JP2012071717 A JP 2012071717A JP 2012071717 A JP2012071717 A JP 2012071717A JP 2013205482 A JP2013205482 A JP 2013205482A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
gas barrier
color filter
barrier layer
transparent inorganic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012071717A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
優一郎 ▲高▼島
Yuichiro Takashima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2012071717A priority Critical patent/JP2013205482A/en
Publication of JP2013205482A publication Critical patent/JP2013205482A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter formed on a film substrate made from plastic or the like and having excellent transparency and gas barrier properties.SOLUTION: A color filter 100 includes at least a pigmented layer 104, a gas barrier layer 102, and a transparent inorganic layer 101 on a film substrate 105. The multiple layers are arranged in the order of the pigmented layer 104, the gas barrier layer 102, and the transparent inorganic layer 101 from the film substrate 105. The transparent inorganic layer 101 has compression stress higher than that of the gas barrier layer 102.

Description

本発明は、プラスチック等のフィルム基板上へ着色層パターン等を形成した、所謂カラーフィルタに関する。   The present invention relates to a so-called color filter in which a colored layer pattern or the like is formed on a film substrate such as plastic.

現在、液晶表示装置、有機EL表示装置、分散媒溶液と電荷を帯びた電気泳動粒子とを充填した電気泳動表示装置等は、テレビや携帯電話、多機能携帯端末、電子ブックリーダー、電子看板等において利用されており、その用途は今後さらに拡大することが見込まれている。   Currently, liquid crystal display devices, organic EL display devices, electrophoretic display devices filled with a dispersion medium solution and charged electrophoretic particles, such as televisions, mobile phones, multifunctional mobile terminals, electronic book readers, electronic signage, etc. The use is expected to expand further in the future.

上記した各種表示装置(デバイス)のフルカラー表示においては、駆動用電極もしくはカラーフィルタの一方または両方に、厚さ数百μm程度のガラス基板が用いられる。また近年では、ガラス基板をフィルムへ置き換え、フレキシブルディスプレイとして製品化するための研究が盛んに行われている。具体的には、表示装置の支持体をガラスからフィルムへと置き換えることで、ガラスを用いた場合と比較して、これまでにない軽量化や強靭化、薄型化、ロールtoロール加工による低コスト化等を図ることが可能となる(例えば、特許文献1)。   In the full color display of the various display devices (devices) described above, a glass substrate having a thickness of about several hundred μm is used for one or both of the driving electrode and the color filter. In recent years, research for replacing a glass substrate with a film and commercializing it as a flexible display has been actively conducted. Specifically, by replacing the support of the display device from glass to film, compared to the case of using glass, the weight and toughness, thickness reduction, and roll-to-roll processing are unprecedented. (For example, Patent Document 1).

一方、一般的にフィルムは、ガラスと比較して、耐熱性や伸縮性、ガスバリア性がガラスに対して大きく劣るものが多いため、カラーフィルタ製造に弊害を及ぼすことがある。例えば、ガスバリア性がガラスに対して劣ることで、液晶層や発光層、電気泳動粒子層等のいわゆる表示層や駆動電極に水蒸気が浸透し、表示装置(デバイス)の性能を著しく悪化させることがある。この弊害に対しては、フィルム上へガスバリア層を設けることで解決が図られている。上述した表示装置の基板としてフィルムを用いる場合、表示装置によっても異なるが、水蒸気透過率として一般的に10-2〜10-6g/m2/day程度が必要と言われている。 On the other hand, in general, many films are significantly inferior to glass in heat resistance, stretchability, and gas barrier properties as compared with glass, and thus may adversely affect color filter production. For example, when the gas barrier property is inferior to glass, water vapor permeates a so-called display layer such as a liquid crystal layer, a light emitting layer, or an electrophoretic particle layer, or a drive electrode, and the performance of the display device (device) is significantly deteriorated. is there. This problem has been solved by providing a gas barrier layer on the film. When a film is used as the substrate of the above-described display device, it is said that a water vapor transmission rate of about 10 −2 to 10 −6 g / m 2 / day is generally required, although it varies depending on the display device.

ところで、カラーフィルタの基板として用いる等、表示装置(デバイス)の視認される側にフィルムを用いる場合、その光学特性を著しく損なわないためにフィルムは透明であることが求められる。従来から用いられている無アルカリガラス基板では、このようなことは問題とならないが、ガラス基板をフィルムへと置き換え、さらに上記のようにガスバリア層を設けた場合、これらの着色により透明性が損なわれる可能性がある。具体的には、10-2〜10-6g/m2/dayと求められる水蒸気透過率が小さければ小さいほど、一般的にはガスバリア層の膜厚を大きくしたり、または多層を積層したりするため、その着色を抑えることが困難になり、カラーフィルタや各表示装置の色調を損なうこと(光学的な損失)につながる。 By the way, when using a film on the side where a display device (device) is visually recognized, such as when used as a substrate for a color filter, the film is required to be transparent so as not to significantly impair its optical properties. In the alkali-free glass substrate that has been used in the past, this is not a problem, but when the glass substrate is replaced with a film and a gas barrier layer is provided as described above, transparency is impaired due to these coloring. There is a possibility. Specifically, the smaller the water vapor transmission rate required to be 10 −2 to 10 −6 g / m 2 / day, in general, the greater the thickness of the gas barrier layer or the lamination of multiple layers. Therefore, it becomes difficult to suppress the coloring, which leads to a loss of color tone of the color filter and each display device (optical loss).

また、透明なフィルムにガスバリア層を形成したガスバリアフィルムをカラーフィルタ基板に接着剤を介して貼り付けることで水蒸気バリア機能を持たせることも可能であるが、表示装置(デバイス)の表示画像を構成する光が透過する部材が更に増えるため、この方法によっても光学的な損失は大きくなってしまう。   In addition, it is possible to provide a water vapor barrier function by attaching a gas barrier film in which a gas barrier layer is formed on a transparent film to the color filter substrate via an adhesive. However, a display image of a display device (device) is formed. Since the number of members through which the transmitted light is further increased, the optical loss is increased even by this method.

特開2010−282213号公報JP 2010-282213 A

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の主たる目的は、プラスチック等のフィルム基板上に形成され、優れた透明性とガスバリア性を有するカラーフィルタを提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and a main object of the present invention is to provide a color filter formed on a film substrate such as plastic and having excellent transparency and gas barrier properties.

上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。   In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.

第1の局面のカラーフィルタは、フィルム基板上に少なくとも着色層、ガスバリア層、透明無機層の複数の層を備える。この複数の層は、フィルム基板側から、着色層、ガスバリア層、透明無機層の順に設けられ、透明無機層は、ガスバリア層よりも大きな圧縮応力を有することを特徴とする。   The color filter of the first aspect includes a plurality of layers of at least a colored layer, a gas barrier layer, and a transparent inorganic layer on a film substrate. The plurality of layers are provided in the order of a colored layer, a gas barrier layer, and a transparent inorganic layer from the film substrate side, and the transparent inorganic layer has a larger compressive stress than the gas barrier layer.

第2の局面は、第1の局面において、着色層の上に平坦化層をさらに備え、ガスバリア層は、平坦化層の上に設けられたことを特徴とする。   A second aspect is characterized in that, in the first aspect, a planarization layer is further provided on the colored layer, and the gas barrier layer is provided on the planarization layer.

第3の局面は、第1の局面または第2の局面において、ガスバリア層は、透明であることを特徴とする。   A third aspect is characterized in that, in the first aspect or the second aspect, the gas barrier layer is transparent.

第4の局面は、第1の局面から第3の局面の何れかにおいて、透明無機層は、ガスバリア層の直上に設けられたことを特徴とする。   A fourth aspect is characterized in that, in any one of the first to third aspects, the transparent inorganic layer is provided immediately above the gas barrier layer.

第5の局面は、第1の局面から第4の局面の何れかにおいて、透明無機層は、導電性を有することを特徴とする。   According to a fifth aspect, in any one of the first to fourth aspects, the transparent inorganic layer has conductivity.

第1の局面によれば、着色層、ガスバリア層、透明無機層が、基板側から着色層、ガスバリア層、透明無機層の順に設けられていることで、表示層や駆動電極のより近傍にガスバリア層が存在する構造となる。このことにより、効率的に表示層や駆動電極への水蒸気の進入を阻止でき、より安定的に表示装置(例えば液晶ディスプレイ)の保護が可能となる。さらに、透明無機層が圧縮応力を有することにより、ガスバリア層形成時にガスバリア層に存在する微細なクラックを小さくすることが可能であり、高いガスバリア性を得ることが可能となる。   According to the first aspect, the colored layer, the gas barrier layer, and the transparent inorganic layer are provided in the order of the colored layer, the gas barrier layer, and the transparent inorganic layer from the substrate side, so that the gas barrier is closer to the display layer and the drive electrode. It becomes a structure in which a layer exists. Accordingly, it is possible to efficiently prevent water vapor from entering the display layer and the drive electrode, and it is possible to more stably protect the display device (for example, a liquid crystal display). Furthermore, since the transparent inorganic layer has a compressive stress, it is possible to reduce fine cracks existing in the gas barrier layer when the gas barrier layer is formed, and to obtain high gas barrier properties.

第2の局面によれば、着色層の上に平坦化層を設けたことで平坦性が向上し、当該平坦化層の上にガスバリア層が設けられるので、優れたガスバリア性を得ることが可能となる。   According to the second aspect, the planarity is improved by providing the planarization layer on the colored layer, and the gas barrier layer is provided on the planarization layer, so that excellent gas barrier properties can be obtained. It becomes.

第3の局面によれば、ガスバリア層が透明であることにより、カラーフィルタの色彩を損なうことなくガスバリア性を付与することが可能となる。   According to the third aspect, since the gas barrier layer is transparent, it becomes possible to impart gas barrier properties without impairing the color of the color filter.

第4の局面によれば、ガスバリア層の直上に透明無機層が設けられたことにより、透明無機層の圧縮応力は、ガスバリア層に直接作用する。このことにより、ガスバリア層形成時にガスバリア層に存在する微細なクラックをより小さくすることが可能であり、より高いガスバリア性を得ることが可能となる。   According to the fourth aspect, since the transparent inorganic layer is provided immediately above the gas barrier layer, the compressive stress of the transparent inorganic layer directly acts on the gas barrier layer. This makes it possible to reduce the fine cracks existing in the gas barrier layer when forming the gas barrier layer, and to obtain higher gas barrier properties.

第5の局面によれば、透明無機層が導電性を有することにより、上記した効果に加え、共通電極としての機能を付加することが可能となる。   According to the fifth aspect, since the transparent inorganic layer has conductivity, it is possible to add a function as a common electrode in addition to the effects described above.

上述のように、本発明によれば、プラスチック等のフィルム基板上に形成され、優れた透明性とガスバリア性を有するカラーフィルタを提供することができる。   As described above, according to the present invention, a color filter formed on a film substrate such as plastic and having excellent transparency and gas barrier properties can be provided.

カラーフィルタ100の一例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the color filter 100 印刷装置200の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of the printing apparatus 200

以下、図面を用いて本発明の一実施形態に係るカラーフィルタ100について説明する。なお、以下の説明において記載されている「透明」とは、可視光である波長領域400nm〜800nmの範囲内で透過率が70%以上であることを示す。   Hereinafter, a color filter 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that “transparent” described in the following description indicates that the transmittance is 70% or more within a wavelength region of 400 nm to 800 nm which is visible light.

図1は、カラーフィルタ100の断面模式図である。図1に示すように、カラーフィルタ100には、フィルム基板105、着色層104、平坦化層103、ガスバリア層102、透明無機層101が設けられる。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the color filter 100. As shown in FIG. 1, the color filter 100 is provided with a film substrate 105, a colored layer 104, a planarization layer 103, a gas barrier layer 102, and a transparent inorganic layer 101.

フィルム基板105としては、公知のものを用いることができる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、メタクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロース、エポキシ樹脂等のプラスチックのフィルムや、ガラス等の無機物と上記プラスチックに代表されるようなプラスチックとの複合材料をフィルム状に加工したもの等を用いることができるが、可撓性や耐候性、製造工程における耐熱性・耐溶剤性・製造コスト等を考慮し、適宜選択して用いればよい。 A known substrate can be used as the film substrate 105. Specifically, plastic films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, polyamide, polycarbonate, methacrylic resin, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, epoxy resin, It is possible to use a composite material of a glass or other inorganic material and a plastic material typified by the above plastics, etc., but flexibility, weather resistance, heat resistance and solvent resistance in the manufacturing process -It may be appropriately selected and used in consideration of manufacturing costs and the like.

フィルム基板105の上層には、着色層104が設けられる。着色層104としては、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、黒色(Bk)、白色(W)やシアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)等から成るものを用いることが可能であるが、これらに限定されるものではない。着色層104としては、その各色をそれぞれ所定幅の線条(ストライプ)マトリクス状、または所定サイズの矩形マトリクス状等、適宜パターン状にパターニングしたものを用いることができる。   A colored layer 104 is provided on the upper layer of the film substrate 105. The colored layer 104 is made of red (R), green (G), blue (B), black (Bk), white (W), cyan (C), magenta (M), yellow (Y), or the like. Although it can be used, it is not limited to these. As the colored layer 104, a layer in which each color is appropriately patterned in a stripe (stripe) matrix shape having a predetermined width or a rectangular matrix shape having a predetermined size can be used.

着色層104の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等を用いることが可能である。   As a method for forming the colored layer 104, a known method can be used. For example, a photolithography method, an inkjet method, a printing method, or the like can be used.

着色層104の上層には、平坦化層103が設けられる。平坦化層103は、着色層104の着色パターン形成後に、着色パターンを保護し、着色層104を平坦化するために設けられる。なお、平坦化層103を設けることで、着色層104の表面粗さが減少して平坦性が向上するため、ガスバリア性の向上や、導電性の透明無機層101の低抵抗化を達成することが可能である。   A planarization layer 103 is provided on the coloring layer 104. The planarization layer 103 is provided to protect the colored pattern and planarize the colored layer 104 after the colored pattern of the colored layer 104 is formed. Note that by providing the planarization layer 103, the surface roughness of the colored layer 104 is reduced and the planarity is improved, so that the gas barrier property is improved and the resistance of the conductive transparent inorganic layer 101 is reduced. Is possible.

平坦化層103としては公知のものを用いることが可能である。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂等やこれらの共重合体等を用いることができる。これらの硬化には光硬化、熱硬化等を適宜選択して用いればよい。   A known layer can be used as the planarization layer 103. For example, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, or a copolymer thereof can be used. For these curing, light curing, heat curing or the like may be appropriately selected and used.

平坦化層103の上層には、ガスバリア層102が設けられる。ガスバリア層102としては、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、有機ガスバリア膜等から適宜選択して用いることができ、蒸着法、スパッタリング法、化学的性気相成長法(CVD法)、原子層堆積法(ALD法)、ゾル‐ゲル法、各種塗布法等により形成することが可能であるが、所望するガスバリア性能、寸法安定性、屈折率、透明性、内部応力等を考慮し、適宜選択して用いればよい。   A gas barrier layer 102 is provided on the planarization layer 103. The gas barrier layer 102 can be appropriately selected from silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, diamond-like carbon (DLC), an organic gas barrier film, and the like. It can be formed by phase growth method (CVD method), atomic layer deposition method (ALD method), sol-gel method, various coating methods, etc., but desired gas barrier performance, dimensional stability, refractive index, transparency In consideration of internal stress and the like, it may be appropriately selected and used.

上記ガスバリア層102は、平坦化層103上に設けられるが、それぞれ単層であってもよいし、透明性を損なわない範囲で2つ以上の層が積層されてもよい。積層によりガスバリア層102を形成する場合には、無機・有機高分子のガスバリア層を交互に積層すると効果的である。また、ガスバリア層102の材料や形成方法、膜厚、層の数等はそれぞれの面で同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、ガスバリア層102の材料として、ガスバリア性能の向上とともに表面保護のためのハードコート剤を用いてもよいし、ガスバリア層102のフィルム基板105への密着向上のためにアンカーコート剤を用いてもよい。また、有機高分子層は公知の方法で形成することが可能であり、具体的にはグラビアコート、ダイコート等の各種塗布法やフラッシュ蒸着法を用いることが可能である。ガスバリア層102に有機高分子層を用いる際には、用いるフィルム基板105自体のガスバリア性能や吸湿線膨張係数、透明性や表裏の表面粗さ、透明性、屈折率、密着性等を考慮し、材料、形成方法、膜厚等を適宜選択して用いればよい。   The gas barrier layer 102 is provided on the planarization layer 103, but each may be a single layer or two or more layers may be stacked as long as transparency is not impaired. In the case where the gas barrier layer 102 is formed by stacking, it is effective to alternately stack the inorganic and organic polymer gas barrier layers. In addition, the material, formation method, film thickness, number of layers, and the like of the gas barrier layer 102 may be the same or different on each surface. Further, as the material of the gas barrier layer 102, a hard coat agent for improving the gas barrier performance and protecting the surface may be used, or an anchor coat agent may be used for improving the adhesion of the gas barrier layer 102 to the film substrate 105. Good. The organic polymer layer can be formed by a known method, and specifically, various coating methods such as gravure coating and die coating, and flash vapor deposition can be used. When using an organic polymer layer for the gas barrier layer 102, considering the gas barrier performance and hygroscopic linear expansion coefficient of the film substrate 105 itself used, transparency, surface roughness of the front and back, transparency, refractive index, adhesion, etc. A material, a forming method, a film thickness, and the like may be appropriately selected and used.

ガスバリア層102の上層には、透明無機層101が設けられる。透明無機層101は、公知の材料を用いることができる。透明無機層101は、ガスバリア層102と同様の材料または導電性を持たせる場合、ITO、IZO、IWO、ICO、ZnO、SnO2等を蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、レーザーアブレーション法、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法、ホットワイヤーCVD法、ゾル‐ゲル法、塗布法又はPLD法等から適宜選択して形成される。 A transparent inorganic layer 101 is provided on the gas barrier layer 102. A known material can be used for the transparent inorganic layer 101. In the case where the transparent inorganic layer 101 has the same material or conductivity as the gas barrier layer 102, ITO, IZO, IWO, ICO, ZnO, SnO 2 or the like is deposited by vapor deposition, ion plating, sputtering, laser ablation, It is formed by appropriately selecting from plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method, hot wire CVD method, sol-gel method, coating method or PLD method.

このようにして形成された透明無機層101は圧縮応力を有することが好ましい。圧縮応力を有することで、ガスバリア層102に応力が加わり、ガスバリア層102の成膜時に生じたクラックを塞いだり、小さくしたりすることが可能であり、結果としてカラーフィルタ100全体のガスバリア性が向上する。また、本効果は、ガスバリア層102と透明無機層101が接している場合に大きく発現するため、透明無機層101は、ガスバリア層102の直上に設けられることが好ましい。   The transparent inorganic layer 101 thus formed preferably has a compressive stress. By having a compressive stress, it is possible to apply stress to the gas barrier layer 102 to block or reduce cracks generated during the formation of the gas barrier layer 102, and as a result, the gas barrier properties of the entire color filter 100 are improved. To do. In addition, since this effect is greatly exhibited when the gas barrier layer 102 and the transparent inorganic layer 101 are in contact with each other, the transparent inorganic layer 101 is preferably provided immediately above the gas barrier layer 102.

なお、カラーフィルタ100は、平坦化層103を備えることにより、着色層104の平坦性が向上してガスバリア性が向上するので好適であるが、平坦化層103を備えないものであってもよい。この場合、ガスバリア層102は、着色層104の上層に設けられる。   Note that the color filter 100 is preferably provided with the planarization layer 103 because the planarity of the colored layer 104 is improved and the gas barrier property is improved. However, the color filter 100 may not include the planarization layer 103. . In this case, the gas barrier layer 102 is provided on the colored layer 104.

また、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

次に、上述した実施形態に基づき、カラーフィルタ100を製造する実施例について説明する。本実施例においては、図2に示す印刷装置200を用いて、カラーフィルタ100を製造した。なお、本発明は、下記の実施例によって制限されない。   Next, the Example which manufactures the color filter 100 based on embodiment mentioned above is demonstrated. In this example, the color filter 100 was manufactured using the printing apparatus 200 shown in FIG. In addition, this invention is not restrict | limited by the following Example.

図2に示すように、印刷装置200は、インキ塗工部202、ホットプレート203、パターン除去部205、パターン転写部206を備える。そして、図2に示すように、印刷装置200には、インキ剥離性フィルム基材201、ガラス版204、フィルム基板105が配置される。   As illustrated in FIG. 2, the printing apparatus 200 includes an ink coating unit 202, a hot plate 203, a pattern removal unit 205, and a pattern transfer unit 206. As shown in FIG. 2, an ink peelable film base material 201, a glass plate 204, and a film substrate 105 are disposed in the printing apparatus 200.

インキ剥離性フィルム基材201としては、基材厚約100μmのシリコーン系離型ポリエステルフィルム:K1504(500mm×200m×100μmt;東洋紡績(株)製)を用いた。   As the ink peelable film substrate 201, a silicone release polyester film having a substrate thickness of about 100 μm: K1504 (500 mm × 200 m × 100 μmt; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used.

ガラス版204としては、300mm角、厚さ0.7mmのガラスをウェットエッチングし、カラーフィルタ(8インチ、200ppi)におけるブラックマトリクスのパターンおよびそれに対応するR,G,B用ストライプパターンを使用した。それぞれのガラス版204にはアライメント用マークを設け、位置合わせに用いることとした。   As the glass plate 204, a 300 mm square glass having a thickness of 0.7 mm was wet etched, and a black matrix pattern in a color filter (8 inches, 200 ppi) and a corresponding R, G, B stripe pattern were used. Each glass plate 204 is provided with alignment marks and used for alignment.

フィルム基板105としては、100μmの厚さのポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン(株)製、Q65FA、300mm×300mm)を用いた。   As the film substrate 105, a 100 μm thick polyethylene naphthalate film (manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., Q65FA, 300 mm × 300 mm) was used.

フィルム基板105上に着色層104を設けるにあたっては、特許文献(特開2008−105400号公報)に記載の公知の方法を用い、一色ずつ順次形成した。   In providing the colored layer 104 on the film substrate 105, each color was sequentially formed using a known method described in a patent document (Japanese Patent Laid-Open No. 2008-105400).

着色層104のBkインキとしては、メタクリル酸20部、メチルメタクリレート10部、ブチルメタクリレート55部、ヒドロキシエチルメタクリレート15部を、乳酸ブチル300部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75部を加えて70℃にて5時間の反応によりアクリル共重合樹脂を得た。アクリル共重合樹脂を樹脂濃度が10%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、アクリル共重合樹脂液とした。このアクリル共重合樹脂液80.1gに対し、カーボンブラックを35.0g、分散剤0.9gを添加し、3本ロールにて混練し、Bk着色ペーストを得た。さらにBk着色ペーストをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで顔料濃度が23〜35%になるよう調整し、レベリング剤としてメガファックF−483SF(DIC社製)を0.5重量部添加してBkインキを作製した。   As the Bk ink for the colored layer 104, 20 parts of methacrylic acid, 10 parts of methyl methacrylate, 55 parts of butyl methacrylate and 15 parts of hydroxyethyl methacrylate are dissolved in 300 parts of butyl lactate, and azobisisobutylnitrile is 0.75 in a nitrogen atmosphere. The acrylic copolymer resin was obtained by adding 5 parts and reacting at 70 degreeC for 5 hours. The acrylic copolymer resin was diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the resin concentration was 10% to obtain an acrylic copolymer resin liquid. 35.0 g of carbon black and 0.9 g of a dispersant were added to 80.1 g of this acrylic copolymer resin liquid, and kneaded with three rolls to obtain a Bk colored paste. Furthermore, the Bk colored paste was adjusted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the pigment concentration would be 23 to 35%, and 0.5 parts by weight of Megafac F-483SF (manufactured by DIC) was added as a leveling agent to produce Bk ink. did.

着色インクは以下のようにして作製した。上記のアクリル共重合樹脂液80.1gに対し、顔料19.0g、分散剤0.9gを添加して、3本ロールにて混練し、赤色、緑色、青色の各着色ペーストを得た。この各着色ペーストをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:プロピレングリコールモノメチルエーテル=4:1の比率で顔料濃度が8〜15%、になるように調整し、レベリング剤としてメガファックF−483SF(DIC社製)を0.5重量部添加してR,G,B着色インクを得た。   The colored ink was prepared as follows. 19.0 g of pigment and 0.9 g of dispersant were added to 80.1 g of the above acrylic copolymer resin liquid, and kneaded with three rolls to obtain red, green and blue colored pastes. Each colored paste was adjusted so that the pigment concentration was 8 to 15% at a ratio of propylene glycol monomethyl ether acetate: propylene glycol monomethyl ether = 4: 1, and MegaFuck F-484SF (manufactured by DIC) as a leveling agent. Was added to obtain R, G and B colored inks.

上記材料を用いて、以下のように、カラーフィルタ100を得た。   Using the above material, a color filter 100 was obtained as follows.

まず、インキ剥離性フィルム基材201上へ、インキ塗工部202(ダイコーター)によって乾燥膜厚が1.0μmとなるようにBkインキを塗工し、次に、設置された40℃ホットプレート203上で30秒乾燥を行い、Bkインキが塗工されたインキ剥離性フィルム基材201がパターン除去部205のステージ上に配置されるまで搬送を行った後、さらに120秒待機した。   First, Bk ink was applied onto the ink peelable film substrate 201 by an ink coating unit 202 (die coater) so that the dry film thickness was 1.0 μm, and then an installed 40 ° C. hot plate After drying for 30 seconds on 203 and carrying until the ink peelable film base material 201 coated with Bk ink was placed on the stage of the pattern removing unit 205, it was further waited for 120 seconds.

次に、あらかじめパターン除去部205に設置しておいたガラス版204に、インキ剥離性フィルム基材201上に塗工されたBkインキをゴムローラーで押し当て、非画像部を除去した後、パターン転写部206へ、インキ剥離性フィルム基材201上に塗工されたBkインキの画像パターンが来るように搬送した。さらにゴムローラーでインキ剥離性フィルム基材201と、フィルム基板105とを貼り合わせた後、インキ剥離性フィルム基材201とフィルム基板105とを剥離することによって、フィルム基板105へ、ガラス版204のブラックマトリクスパターンの転写を行った。   Next, the Bk ink coated on the ink peelable film substrate 201 is pressed against the glass plate 204 previously set in the pattern removing unit 205 with a rubber roller, and the non-image portion is removed. The transfer part 206 was conveyed so that the image pattern of Bk ink coated on the ink peelable film substrate 201 came. Furthermore, after bonding the ink peelable film base material 201 and the film substrate 105 with a rubber roller, the ink peelable film base material 201 and the film substrate 105 are peeled off, whereby the glass plate 204 is transferred to the film substrate 105. The black matrix pattern was transferred.

次に、ホットプレート203にて80℃・3分間の乾燥を行い、着色層104におけるブラックマトリクスパターンを得た。   Next, drying at 80 ° C. for 3 minutes was performed on the hot plate 203 to obtain a black matrix pattern in the colored layer 104.

上記ブラックマトリクスパターンが形成されたフィルム基板105上にアライメントマークを用いて位置合わせしながら同様の方法にてR,G,Bパターンを順次形成し着色層104を得た。   An R, G, B pattern was sequentially formed on the film substrate 105 on which the black matrix pattern was formed using the alignment mark in the same manner to obtain a colored layer 104.

上記のようにフィルム基板105上に着色層104を得た後、固形分10wt%に調整したウレタンアクリレート系樹脂(EM−90、荒川化学工業(株)製)にDAROCUR1173(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を固形分に対して5wt%添加した平坦化液を着色層104上にダイコーターで塗工し、80℃・3分間の乾燥を行った。その後、紫外線照射を行い硬化させ、着色層104上に平坦化層103を得た。   After obtaining the colored layer 104 on the film substrate 105 as described above, DAROCUR 1173 (Ciba Specialty Chemicals (EM-90, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.)) adjusted to a solid content of 10 wt% is used. Co., Ltd.) was added to the colored layer 104 with a die coater and dried at 80 ° C. for 3 minutes. Then, the planarizing layer 103 was obtained on the colored layer 104 by curing with ultraviolet irradiation.

続いて上記平坦化層103上に、Siをターゲットとして、プロセスガスにAr、反応性ガスにO2を用いてスパッタリング法にて膜厚が50nmとなるように酸化珪素膜を形成しガスバリア層102を得た。 Subsequently, a silicon oxide film is formed on the planarizing layer 103 so as to have a film thickness of 50 nm by sputtering using Si as a target, using Ar as a process gas and O 2 as a reactive gas, to form a gas barrier layer 102. Got.

更に上記の酸化珪素上に、ITOをターゲットとて、プロセスガスにAr、反応性ガスにO2を用いてスパッタリング法にて膜厚が100nmとなるようにITO膜を形成し導電性の透明無機層101を得た。 Further, an ITO film is formed on the silicon oxide by using a sputtering method using ITO as a target, Ar as a process gas, and O 2 as a reactive gas. Layer 101 was obtained.

上記方法により、本実施形態におけるカラーフィルタ100を得た。本カラーフィルタ100の非パターン部は水蒸気透過率:0.01g/m2/day、400−800nmにおける光線透過率は85%であった。 The color filter 100 in this embodiment was obtained by the above method. The non-patterned portion of the color filter 100 had a water vapor transmission rate of 0.01 g / m 2 / day and a light transmittance of 85% at 400 to 800 nm.

100 カラーフィルタ
101 透明無機層
102 ガスバリア層
103 平坦化層
104 着色層
105 フィルム基板
200 印刷装置
201 インキ剥離性フィルム基材
202 インキ塗工部
203 ホットプレート
204 ガラス版
205 パターン除去部
206 パターン転写部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Color filter 101 Transparent inorganic layer 102 Gas barrier layer 103 Flattening layer 104 Colored layer 105 Film substrate 200 Printing apparatus 201 Ink peelable film base material 202 Ink coating part 203 Hotplate 204 Glass plate 205 Pattern removal part 206 Pattern transfer part

Claims (5)

フィルム基板上に、少なくとも着色層、ガスバリア層、透明無機層の複数の層を備えたカラーフィルタであって、
前記複数の層は、前記フィルム基板側から、前記着色層、前記ガスバリア層、前記透明無機層の順に設けられ、
前記透明無機層は、前記ガスバリア層よりも大きな圧縮応力を有することを特徴とするカラーフィルタ。
A color filter having a plurality of layers of at least a colored layer, a gas barrier layer, and a transparent inorganic layer on a film substrate,
The plurality of layers are provided in the order of the colored layer, the gas barrier layer, and the transparent inorganic layer from the film substrate side,
The color filter, wherein the transparent inorganic layer has a compressive stress larger than that of the gas barrier layer.
前記着色層の上に平坦化層をさらに備え、
前記ガスバリア層は、前記平坦化層の上に設けられたことを特徴とする、請求項1に記載のカラーフィルタ。
Further comprising a planarizing layer on the colored layer;
The color filter according to claim 1, wherein the gas barrier layer is provided on the planarizing layer.
前記ガスバリア層は、透明であることを特徴とする、請求項1または2に記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the gas barrier layer is transparent. 前記透明無機層は、前記ガスバリア層の直上に設けられたことを特徴とする、請求項1から3の何れかに記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the transparent inorganic layer is provided directly on the gas barrier layer. 前記透明無機層は、導電性を有することを特徴とする、請求項1から4の何れかに記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the transparent inorganic layer has conductivity.
JP2012071717A 2012-03-27 2012-03-27 Color filter Pending JP2013205482A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012071717A JP2013205482A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012071717A JP2013205482A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Color filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013205482A true JP2013205482A (en) 2013-10-07

Family

ID=49524661

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012071717A Pending JP2013205482A (en) 2012-03-27 2012-03-27 Color filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013205482A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170063076A (en) * 2015-11-30 2017-06-08 엘지디스플레이 주식회사 Color filter substrate and curved display panel having the same
KR20180053864A (en) * 2016-11-14 2018-05-24 한국광기술원 Micro led display pixel assembly and method for manufacturing the same
KR20180118090A (en) * 2018-10-19 2018-10-30 한국광기술원 Micro led display pixel assembly and method for manufacturing the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170063076A (en) * 2015-11-30 2017-06-08 엘지디스플레이 주식회사 Color filter substrate and curved display panel having the same
KR102494147B1 (en) * 2015-11-30 2023-01-31 엘지디스플레이 주식회사 Color filter substrate and curved display panel having the same
KR20180053864A (en) * 2016-11-14 2018-05-24 한국광기술원 Micro led display pixel assembly and method for manufacturing the same
KR20180118090A (en) * 2018-10-19 2018-10-30 한국광기술원 Micro led display pixel assembly and method for manufacturing the same
KR102039838B1 (en) * 2018-10-19 2019-11-27 한국광기술원 Micro led display pixel assembly and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9674947B2 (en) Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
JP6165329B2 (en) Manufacturing method of touch panel
JP4213616B2 (en) Base film for liquid crystal panel, functional film for liquid crystal panel, method for producing functional film, and apparatus for producing functional film
WO2006008845A1 (en) Condenser film, liquid crystal panel, backlight and method for producing condenser film
KR102074004B1 (en) Laminated structure manufacturing method, laminated structure, and electronic apparatus
US7414354B2 (en) Filter substrate and color display using the same
US10115495B2 (en) Transparent conductor and optical display including the same
JPWO2016098810A1 (en) Optical filter and apparatus using the same
US9754698B2 (en) Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
TW201702641A (en) Flexible color filter and manufacturing method thereof
TWI703721B (en) Method of manufacturing flexible display device
TWM472252U (en) Touch panel
KR101966634B1 (en) Film Touch Sensor
Luo et al. Flexible organic light-emitting diodes with enhanced light out-coupling efficiency fabricated on a double-sided nanotextured substrate
JP2013205482A (en) Color filter
JP2005003733A (en) Common electrode substrate having retardation controlling layer and liquid crystal display element using the substrate
JP2013061507A (en) Gas barrier substrate and color filter
KR102004026B1 (en) Transparent conductor and display apparatus comprising the same
JP5606013B2 (en) Optical member and manufacturing method thereof
US10229953B2 (en) Substrate for transparent flexible display and organic light-emitting diode display including the same
WO2012008230A1 (en) Color filter member for electronic paper, electronic paper, method for producing color filter member for electronic paper, and method for manufacturing electronic paper
JP5510220B2 (en) Temporary substrate-attached electronic paper member, electronic paper, and production method thereof
JP2012042794A (en) Color filter member for electronic paper, electronic paper, and manufacturing method of the same
JP2010250299A (en) Color filter and method for manufacturing color filter
JP2013250551A (en) Display element forming method