JP2022178881A - Attenuation addition device - Google Patents

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和 渡邉
Kazu Watanabe
洋 片山
Hiroshi Katayama
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Toshiba Corp
Toshiba Energy Systems and Solutions Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Energy Systems and Solutions Corp
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Abstract

To provide an attenuation addition device which can attenuate the vibration of a vibration control object with respect to wide-range input acceleration.SOLUTION: An attenuation addition device 1 comprises: a restoration force generation part 6 arranged between a bottom part of a vibration control object B and a placing part C on which the vibration control object B is placed, and generating a restoration force for restoring a relative position to a default position P1 when the relative position of a lower face B1 of the vibration control object B with respect to an upper face C1 of the placing part C is changed to a second position P2 from the default position P1; a pressing force generation part 7 for generating a pressing force for pressing the lower face B1 of the vibration control object B to the upper face C1 of the placing part C; and a friction force adjusting part 8 for changing a friction force which the vibration control object B directly or indirectly receives from the upper face C1 of the placing part C depending on a length of a distance from the default position P1 up to the second position P2.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明の実施形態は、減衰付加装置に関し、特に、地震波や衝撃波などの振動入力に対する応答変位を抑制する制振技術に関する。 An embodiment of the present invention relates to a damping application device, and more particularly to a vibration damping technique for suppressing response displacement to vibration input such as seismic waves and shock waves.

原子力発電所等に設置される各種機器は、地震荷重や飛翔体の衝突荷重などの様々な外力に対して機能を維持するように構成されていることが望ましい。近年、基準地震動が見直され、想定される地震荷重が大きく見積もられるようになった。従来の地震の揺れに耐えられるように、剛的に補強する対策だけでは耐震性を担保することが難しい場合がある。このため、建屋からの地震入力を機器に直接伝えないようにする免震の考え方を取り入れる対策が提案されている。免震を取り入れる方法としては、各種機器と建屋の床との間に積層ゴムや滑り支承などの免震装置を設置する方法がある。また、使用済核燃料貯蔵ラックなどに関しては、アンカーボルトによる固定を行わず、使用済核燃料貯蔵ラックを、燃料プールの底に載置する自立式の設置方法などがある。一般的な免震装置では、固有振動数が、地震動の主成分を含む振動数域よりも低い数値となるように設定されるため、振動入力に対する応答変位が大きくなる。そこで、機器の下端部を支持する支持部材に、復元力と摩擦力とを調整する機構を設け、地震荷重などの外力が作用した時に、機器の下端部を微小に滑らせることにより、機器への振動入力を抑制する技術が提案されている。 Various devices installed in nuclear power plants and the like are desirably constructed so as to maintain their functions against various external forces such as seismic loads and impact loads of flying objects. In recent years, the design basis seismic ground motion has been revised, and the assumed seismic load has been overestimated. In some cases, it is difficult to ensure earthquake resistance only by rigidly reinforcing measures to withstand the tremors of conventional earthquakes. For this reason, countermeasures have been proposed that incorporate the concept of seismic isolation to prevent direct transmission of seismic input from the building to the equipment. As a method of incorporating seismic isolation, there is a method of installing seismic isolation devices such as laminated rubber and sliding bearings between various equipment and the floor of the building. As for the spent nuclear fuel storage rack, there is a self-supporting installation method in which the spent nuclear fuel storage rack is placed on the bottom of the fuel pool without being fixed with anchor bolts. In a general seismic isolation device, since the natural frequency is set to be lower than the frequency range including the main component of the seismic motion, the response displacement to the vibration input increases. Therefore, the support member that supports the lower end of the equipment is provided with a mechanism that adjusts the restoring force and the frictional force. There have been proposed techniques for suppressing the vibration input of the

特許文献2の図5には、大きな減衰を制振対象物に付加できることが示されている。 FIG. 5 of Patent Literature 2 shows that large damping can be applied to a damping object.

特許第6591310号公報Japanese Patent No. 6591310 特開2020-85158号公報JP 2020-85158 A

従来の減衰付加装置では、最適な減衰が付加される入力加速度を超える加速度が入力される場合には、付加される減衰が徐々に低下するとの課題がある。
そこで、本発明の目的は、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物の振動を減衰させることができる減衰付加装置を提供することである。
A conventional damping addition device has a problem that when an acceleration exceeding the input acceleration to which the optimum damping is added is input, the damping to be added gradually decreases.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a damping addition device capable of attenuating the vibration of an object to be damped against a wide range of input acceleration.

上記課題を解決するために、実施形態における減衰付加装置は、制振対象物の底部と、前記制振対象物が載置される載置部との間に配置され、前記制振対象物が振動することによって前記載置部の上面に対する前記制振対象物の下面の相対位置がデフォルト位置から第2位置に変化する場合に、前記相対位置を前記デフォルト位置に復元する復元力を発生させる復元力発生部と、前記制振対象物の前記下面を前記載置部の前記上面に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部と、前記制振対象物が前記載置部の前記上面から直接的または間接的に受ける摩擦力を、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部と、を具備することを特徴とする。 In order to solve the above problems, an attenuation applying device in an embodiment is arranged between a bottom portion of an object to be damped and a mounting portion on which the object to be damped is placed, and the object to be damped Restoration generating a restoring force for restoring the relative position to the default position when the relative position of the lower surface of the vibration damping object with respect to the upper surface of the mounting portion changes from a default position to a second position due to vibration. a force generating portion, a pressing force generating portion for generating a pressing force for pressing the lower surface of the object to be damped against the upper surface of the mounting portion, and the object to be damped directly from the upper surface of the mounting portion. Alternatively, the frictional force adjustment unit changes the frictional force indirectly received depending on the size of the distance from the default position to the second position.

本発明の実施形態により、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物の振動を減衰させることができる減衰付加装置を提供することができる。 According to the embodiments of the present invention, it is possible to provide a damping addition device capable of damping the vibration of a damping object against a wide range of input acceleration.

図1は、第1実施形態または第2の実施形態における減衰付加装置が、制振対象物に取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。FIG. 1 is a schematic front view schematically showing how the damping applying device according to the first embodiment or the second embodiment is attached to an object to be damped. 図2は、復元力発生部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a restoring force generating portion. 図3は、押付力発生部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the pressing force generating portion. 図4は、摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the frictional force adjusting section. 図5は、摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the frictional force adjusting section. 図6は、摩擦力調整部の第1変形例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view schematically showing a first modified example of the frictional force adjusting section. 図7は、摩擦力調整部の第2変形例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view schematically showing a second modification of the frictional force adjusting section. 図8は、従来の減衰付加装置が取り付けられた制振対象物の振動モデルを示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a vibration model of an object to be damped to which a conventional damping adding device is attached. 図9は、第1の実施形態における減衰付加装置が取り付けられた制振対象物の振動モデルを示す模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a vibration model of an object to be damped to which the damping applying device according to the first embodiment is attached. 図10は、入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the relationship between input acceleration and damping ratio. 図11は、固有振動数比と減衰比との関係を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing the relationship between the natural frequency ratio and the damping ratio. 図12は、第2の実施形態における減衰付加装置の摩擦力調整部の一例を模式的に示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of a frictional force adjusting section of a damping adding device according to the second embodiment.

以下、実施形態における減衰付加装置1に関して、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、同じ機能を有する部材、部位については、同一の符号が付され、同一の符号が付されている部材、部位について、繰り返しの説明は省略される。 An attenuation applying device 1 according to an embodiment will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following description, members and portions having the same functions are denoted by the same reference numerals, and repeated descriptions of members and portions denoted by the same reference numerals are omitted.

(第1の実施形態)
図1乃至図11を用いて第1の実施形態における減衰付加装置1Aについて説明する。図1は、第1実施形態における減衰付加装置1Aが、制振対象物Bに取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。なお、図1において、減衰付加装置1Aの配置を把握し易くするために、機器2以外の部分については、正面図の代わりに、断面図が示されている。図2は、復元力発生部6の一例を模式的に示す概略断面図である。図3は、押付力発生部7の一例を模式的に示す概略断面図である。図4および図5は、摩擦力調整部8の一例を模式的に示す概略断面図である。図6は、摩擦力調整部8の第1変形例を模式的に示す概略断面図である。図7は、摩擦力調整部8の第2変形例を模式的に示す概略断面図である。図8は、従来の減衰付加装置100が取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す模式図である。図9は、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す模式図である。図10は、入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。図11は、固有振動数比と減衰比との関係を示すグラフである。
(First embodiment)
An attenuation adding device 1A according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 11. FIG. FIG. 1 is a schematic front view schematically showing how an attenuation applying device 1A according to the first embodiment is attached to a damping object B. FIG. In FIG. 1, in order to make it easier to understand the arrangement of the attenuation applying device 1A, the parts other than the device 2 are shown in cross-sectional views instead of front views. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the restoring force generator 6. As shown in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the pressing force generating portion 7. As shown in FIG. 4 and 5 are schematic cross-sectional views schematically showing an example of the frictional force adjusting portion 8. FIG. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view schematically showing a first modified example of the frictional force adjusting section 8. As shown in FIG. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view schematically showing a second modification of the frictional force adjusting section 8. As shown in FIG. FIG. 8 is a schematic diagram showing a vibration model of a damping object B to which a conventional damping applying device 100 is attached. FIG. 9 is a schematic diagram showing a vibration model of a damping object B to which the damping applying device 1A according to the first embodiment is attached. FIG. 10 is a graph showing the relationship between input acceleration and damping ratio. FIG. 11 is a graph showing the relationship between the natural frequency ratio and the damping ratio.

(構成・作用)
第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、制振対象物Bと摺動盤4などの載置部Cと間に配置される。減衰付加装置1Aは、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用した時に制振対象物Bに生じる振動を減衰させるために用いられる。制振対象物Bとしては、原子力発電所で用いられる使用済核燃料貯蔵ラック、電気盤、ポンプ、熱交換器、変圧器などが例示される。
(Structure/action)
The damping applying device 1A in the first embodiment is arranged between the damping object B and the mounting portion C such as the sliding disk 4. As shown in FIG. The attenuation applying device 1A is used to attenuate the vibration generated in the damping object B when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the mounting portion C. FIG. Spent nuclear fuel storage racks, electric panels, pumps, heat exchangers, transformers, and the like used in nuclear power plants are examples of damping objects B. FIG.

図1に記載の例では、建屋の床面3の上に、摺動盤4が載置されている。摺動盤4は、ボルト等の固定部材91によって床面3に固定されている。図1に記載の例では、制振対象物Bを載置する載置部Cは、摺動盤4であるが、載置部Cは、床面3自体であってもよい。 In the example shown in FIG. 1, a sliding plate 4 is placed on the floor surface 3 of the building. The sliding plate 4 is fixed to the floor surface 3 by fixing members 91 such as bolts. In the example shown in FIG. 1, the mounting portion C on which the vibration damping object B is mounted is the sliding plate 4, but the mounting portion C may be the floor surface 3 itself.

図1に記載の例では、制振対象物Bは、機器2(例えば、使用済核燃料貯蔵ラックなどの貯蔵機器、電気盤、変圧器などの電気機器、熱交換器などの熱機器、または、ポンプなどの流体機器)と、ベース部材5とを含む。ベース部材5は、機器2の下面に、溶接、ボルトなどによって固定されている。代替的に、機器2が直接的に載置部Cに載置され、ベース部材5が省略されてもよい。 In the example shown in FIG. 1, the damping object B is equipment 2 (for example, storage equipment such as spent nuclear fuel storage racks, electrical equipment such as electrical panels and transformers, thermal equipment such as heat exchangers, or a fluid device such as a pump) and a base member 5. The base member 5 is fixed to the lower surface of the device 2 by welding, bolts, or the like. Alternatively, the device 2 may be placed directly on the placement portion C and the base member 5 may be omitted.

図1に記載の例では、ベース部材5には、後述の復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8が配置されている。ベース部材5は、復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8の少なくとも一部を収容可能な筐体構造を有していてもよい。図1に記載の例では、ベース部材5は、複数の側板5Aと、下板5Bと、上板5Cとを有する。複数の側板5Aの下部は、下板5Bに溶接などによって固定され、複数の側板5Aの上部は、上板5Cに溶接などによって固定される。 In the example shown in FIG. 1, the base member 5 is provided with a restoring force generating portion 6, a pressing force generating portion 7, and a frictional force adjusting portion 8, which will be described later. The base member 5 may have a housing structure capable of accommodating at least part of the restoring force generating section 6 , the pressing force generating section 7 , and the frictional force adjusting section 8 . In the example shown in FIG. 1, the base member 5 has a plurality of side plates 5A, a lower plate 5B and an upper plate 5C. The lower portions of the side plates 5A are fixed to the lower plate 5B by welding or the like, and the upper portions of the side plates 5A are fixed to the upper plate 5C by welding or the like.

第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、復元力発生部6と、押付力発生部7と、摩擦力調整部8と、を具備する。 A damping applying device 1A in the first embodiment includes a restoring force generating section 6, a pressing force generating section 7, and a frictional force adjusting section 8. As shown in FIG.

復元力発生部6は、制振対象物Bの底部(例えば、ベース部材5)と、制振対象物Bが載置される載置部C(例えば、摺動盤4)との間に配置される。図2(a)に記載の例では、載置部Cに作用する外力に起因して制振対象物Bが振動することによって、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1(換言すれば、第1位置)からデフォルト位置P1とは異なる第2位置P2(図2(b)を参照。)に変化する。 The restoring force generator 6 is arranged between the bottom of the object B to be damped (for example, the base member 5) and the mounting portion C (for example, the sliding plate 4) on which the object B to be damped is placed. be done. In the example shown in FIG. 2A, the vibration of the damping object B due to the external force acting on the mounting part C causes the bottom surface B1 of the damping object B with respect to the top surface C1 of the mounting part C. In the example shown in FIG. changes from the default position P1 (in other words, first position) to a second position P2 (see FIG. 2B) different from the default position P1.

復元力発生部6は、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、当該相対位置をデフォルト位置P1(図2(a)を参照。)に復元する復元力を発生させる。 When the vibration of the vibration damping object B causes the relative position of the bottom surface B1 of the vibration damping object B with respect to the top surface C1 of the mounting portion C to change from the default position P1 to the second position P2, the restoring force generating unit 6 , generates a restoring force that restores the relative position to the default position P1 (see FIG. 2(a)).

図3(a)に記載の例において、押付力発生部7は、制振対象物Bの下面B1を載置部Cの上面C1に押し付ける押付力を発生させる。当該押付力は、制振対象物Bの下面B1が載置部Cの上面C1に対して摺動する際に、下面B1と上面C1との間に摩擦力を生じさせる。例えば、押付力発生部7は、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、制振対象物Bの下面B1に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1を付与する。当該摩擦力F1によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収され、制振対象物Bの振動が減衰される。 In the example shown in FIG. 3A, the pressing force generator 7 generates a pressing force that presses the lower surface B1 of the damping object B against the upper surface C1 of the mounting portion C. In the example shown in FIG. The pressing force generates a frictional force between the lower surface B1 and the upper surface C1 when the lower surface B1 of the damping object B slides on the upper surface C1 of the mounting portion C. As shown in FIG. For example, the pressing force generator 7 changes the relative position of the bottom surface B1 of the damping object B with respect to the top surface C1 of the mounting part C from the default position P1 to the second position P2 when the damping object B vibrates. , a frictional force F1 is applied to the lower surface B1 of the damping object B in the direction from the second position P2 toward the default position P1. The frictional force F1 absorbs the vibration energy of the damping object B, and the vibration of the damping object B is attenuated.

図4および図5に記載の例において、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する。 In the example shown in FIGS. 4 and 5, the frictional force adjusting section 8 adjusts the frictional force directly or indirectly received by the damping object B from the upper surface C1 of the placing section C from the default position P1 to the second position. It changes depending on the magnitude of the distance to P2.

図4および図5に記載の例において、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1(図4(a)あるいは図5(a)を参照。)から第2位置P2(図4(b)あるいは図5(b)を参照。)に変化する場合を想定する。図4(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に小さい。この場合、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさ(F1)が相対的に小さな値となるように調整する。図5(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に大きい。この場合、摩擦力調整部8は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさ(F1+F2)が相対的に大きな値となるように調整する。 4 and 5, the relative position of the lower surface B1 of the damping object B with respect to the upper surface C1 of the placement section C is the default position P1 (see FIG. 4(a) or FIG. 5(a)). to the second position P2 (see FIG. 4(b) or FIG. 5(b)). In the example shown in FIG. 4B, the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively small. In this case, the frictional force adjusting unit 8 adjusts the magnitude (F1) of the frictional force directly or indirectly applied to the vibration damping object B from the upper surface C1 of the mounting unit C to a relatively small value. do. In the example shown in FIG. 5B, the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively large. In this case, the frictional force adjusting unit 8 adjusts the magnitude of the frictional force (F1+F2) that the damping object B directly or indirectly receives from the upper surface C1 of the mounting unit C to a relatively large value. do.

(効果)
第1の実施形態では、減衰付加装置1Aは、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部8を備える。デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさ、換言すれば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置の変化の大きさに依存して、制振対象物Bに作用する制動力として機能する摩擦力の大きさが変更されることにより、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。例えば、制振対象物Bに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振幅が大きい場合には、より大きな制動力が作用する。その結果、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。
(effect)
In the first embodiment, the damping applying device 1A reduces the frictional force directly or indirectly received by the vibration damping object B from the upper surface C1 of the mounting portion C to the distance from the default position P1 to the second position P2. It has a frictional force adjuster 8 that changes depending on the size. Depending on the magnitude of the distance from the default position P1 to the second position P2, in other words, the magnitude of change in the relative position of the lower surface B1 of the object to be damped B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C, the vibration damping By changing the magnitude of the frictional force that functions as the braking force acting on the object B, the vibration of the damping object B can be effectively damped against a wide range of input acceleration. For example, when the input acceleration input to the damping object B is large and the amplitude of the damping object B is large, a larger braking force acts. As a result, the vibration of the damping object B can be effectively damped.

(任意付加的な構成)
続いて、図1乃至図7を参照して、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて採用可能な任意付加的な構成について説明する。
(optional additional configuration)
Next, with reference to FIGS. 1 to 7, an optional additional configuration that can be employed in the attenuation adding device 1A according to the first embodiment will be described.

(摩擦力調整部8)
図4および図5に記載の例では、摩擦力調整部8は、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積を変更する。
(Friction force adjustment unit 8)
In the examples shown in FIGS. 4 and 5, the frictional force adjusting section 8 slides on the upper surface C1 of the mounting section C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2. Change the total area of the sliding surface.

図4(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に小さい。図4(b)に記載の例では、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面は、制振対象物Bの下面B1(より具体的には、ベース部材5の下面B1)である。 In the example shown in FIG. 4B, the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively small. In the example shown in FIG. 4B, the sliding surface that slides against the upper surface C1 of the mounting portion C is the lower surface B1 of the vibration damping object B (more specifically, the lower surface B1 of the base member 5). ).

図5(b)に記載の例では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが相対的に大きく、制振対象物Bが摺動ブロック17と接触している。図5(b)に記載の例では、制振対象物Bおよび摺動ブロック17が載置部Cに対して摺動する。この場合、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面は、制振対象物Bの下面B1(より具体的には、ベース部材5の下面B1)と、摺動ブロック17の下面17wとの両方である。よって、図5(b)に記載の例では、図4(b)に記載の例と比較して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積が大きい。摺動面の総面積が大きいことにより、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力の大きさが相対的に大きな値となる。図5(b)に記載の例では、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から直接的に摩擦力F1を受け、載置部Cの上面C1から摺動ブロック17を介して間接的に摩擦力F2を受ける。 In the example shown in FIG. 5B, the distance from the default position P1 to the second position P2 is relatively large, and the damping object B is in contact with the sliding block 17. In the example shown in FIG. In the example shown in FIG. 5B, the damping object B and the sliding block 17 slide with respect to the mounting portion C. In the example shown in FIG. In this case, the sliding surfaces that slide against the upper surface C1 of the mounting portion C are the lower surface B1 of the vibration damping object B (more specifically, the lower surface B1 of the base member 5) and the sliding block 17. It is both the lower surface 17w. Therefore, in the example shown in FIG. 5(b), the total area of the sliding surface that slides on the upper surface C1 of the mounting portion C is larger than that in the example shown in FIG. 4(b). Since the total area of the sliding surfaces is large, the magnitude of the frictional force directly or indirectly applied to the damping object B from the upper surface C1 of the mounting portion C becomes a relatively large value. In the example shown in FIG. 5B, the vibration damping object B directly receives the frictional force F1 from the upper surface C1 of the mounting portion C, and the vibration damping object B receives the frictional force F1 from the upper surface C1 of the mounting portion C via the sliding block 17. Frictional force F2 is received indirectly.

(摺動ブロック17)
図4(a)に記載の例では、摩擦力調整部8は、制振対象物Bの底部を構成するベース部材5とは独立して設けられる摺動ブロック17を有する。摺動ブロック17は、摺動ブロック17とベース部材5との間に隙間16が形成されるように、載置部Cを構成する摺動盤4に載置されている。
(sliding block 17)
In the example shown in FIG. 4( a ), the frictional force adjuster 8 has a sliding block 17 provided independently of the base member 5 forming the bottom of the damping object B. In the example shown in FIG. The sliding block 17 is mounted on the sliding plate 4 forming the mounting portion C so that a gap 16 is formed between the sliding block 17 and the base member 5 .

載置部Cに入力される入力加速度が小さく、制振対象物Bの振動応答が小さい場合を想定する。制振対象物Bの振動応答が小さい場合、図4(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさは、隙間16(図4(a)を参照。)の大きさeよりも小さくなる。この場合、ベース部材5は摺動ブロック17と接触せず、ベース部材5のみが載置部Cに対して摺動する。よって、摺動ブロック17の存在は、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力の増加に寄与しない。 It is assumed that the input acceleration input to the mounting portion C is small and the vibration response of the damping object B is small. When the vibration response of the vibration damping object B is small, as illustrated in FIG. ) is smaller than the magnitude e. In this case, the base member 5 does not come into contact with the sliding block 17, and only the base member 5 slides on the mounting portion C. As shown in FIG. Therefore, the presence of the sliding block 17 does not contribute to an increase in the frictional force that the damping object B receives from the upper surface C1 of the mounting portion C. As shown in FIG.

次に、載置部Cに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振動応答がより大きくなる場合を想定する。制振対象物Bの振動応答が大きい場合、図5(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが、隙間16(図5(a)を参照。)の大きさeよりも大きくなる。この場合、ベース部材5が摺動ブロック17と接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が増加される。より具体的には、ベース部材5が摺動ブロック17と接触することにより、ベース部材5および摺動ブロック17の両方が載置部Cに対して摺動する。その結果、制振対象物Bが、載置部Cの上面C1から摺動ブロック17を介して間接的に受ける追加の摩擦力F2の分だけ、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力が増加する。 Next, it is assumed that the input acceleration input to the mounting portion C is large, and the vibration response of the damping object B is increased. When the vibration response of the damping object B is large, as illustrated in FIG. ) becomes larger than the magnitude e. In this case, the contact of the base member 5 with the sliding block 17 increases the frictional force directly or indirectly applied to the damping object B from the upper surface C1 of the mounting portion C. As shown in FIG. More specifically, both the base member 5 and the sliding block 17 slide with respect to the mounting portion C by the contact of the base member 5 with the sliding block 17 . As a result, the vibration-damping object B is moved from the top surface of the mounting part C by the additional frictional force F2 indirectly received by the vibration-damping object B from the top surface C1 of the mounting part C via the sliding block 17 . The frictional force received from C1 increases.

図5(b)に記載の例では、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位が閾値e(より具体的には、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさe)を越えると、摩擦力調整部8の摺動ブロック17で追加の摩擦力F2が発生し、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1と、当該追加の摩擦力F2とによって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。図5に記載の例では、想定される相対変位の大きさに応じて、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさを設定することにより、上述の閾値eを容易に調整することが可能である。 In the example shown in FIG. 5B, the relative displacement between the base member 5 and the sliding disk 4 is the threshold value e (more specifically, the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5). When the magnitude e) is exceeded, an additional frictional force F2 is generated in the sliding block 17 of the frictional force adjusting unit 8, and the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding disk 4 and the additional frictional force F1 Vibrational energy of the damping object B is absorbed by the frictional force F2. In the example shown in FIG. 5, by setting the size of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 according to the size of the assumed relative displacement, the threshold value e can be easily set. It is possible to adjust.

図4(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第1貫通孔部511hが形成されており、摺動ブロック17は、当該第1貫通孔部511hの内側に配置されている。また、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間に、隙間16が形成されている。載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間の距離(e)が、隙間16の大きさに該当する。 In the example shown in FIG. 4A, a first through-hole portion 511h is formed in the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5), and the sliding block 17 is provided with the first through-hole portion 511h. It is arranged inside one through-hole portion 511h. A gap 16 is formed between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through hole portion 511h. In a state where the relative position of the lower surface B1 of the damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C is the default position P1, the distance between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through hole portion 511h ( e) corresponds to the size of the gap 16 .

摺動ブロック17は、平面視で、リング形状を有していてもよいし、その他の形状を有していてもよい。摺動ブロック17の外面17tは、平面視で、円形状を有し、第1貫通孔部511hの内面は、平面視で円形状を有していてもよい。図4(a)に記載の例では、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、平面視における摺動ブロック17の中心と、平面視における第1貫通孔部511hの中心とが一致している。代替的に、制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1である状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれていてもよい。 The sliding block 17 may have a ring shape in plan view, or may have another shape. The outer surface 17t of the sliding block 17 may have a circular shape in plan view, and the inner surface of the first through hole portion 511h may have a circular shape in plan view. In the example shown in FIG. 4A, in a state where the relative position of the lower surface B1 of the vibration damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C is the default position P1, the center of the sliding block 17 in plan view, It coincides with the center of the first through-hole portion 511h in plan view. Alternatively, in a state where the relative position of the lower surface B1 of the damping object B is the default position P1, the center of the sliding block 17 in plan view is displaced from the center of the first through hole portion 511h in plan view. good too.

例えば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置が第2位置P2からデフォルト位置P1に戻った状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれていてもよい。制振対象物Bがデフォルト位置P1に戻った状態において、平面視における摺動ブロック17の中心が、平面視における第1貫通孔部511hの中心からずれている場合、上述の隙間16の大きさは、摺動ブロック17の外面17tと第1貫通孔部511hの内面との間の最小距離を意味する。 For example, in a state in which the relative position of the lower surface B1 of the damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C has returned from the second position P2 to the default position P1, the center of the sliding block 17 in plan view is It may be shifted from the center of the first through hole portion 511h. When the vibration damping object B has returned to the default position P1 and the center of the sliding block 17 in plan view is deviated from the center of the first through hole portion 511h in plan view, the size of the gap 16 is means the minimum distance between the outer surface 17t of the sliding block 17 and the inner surface of the first through hole portion 511h.

(摩擦力調整部8のその他の構成)
図4(a)に記載の例では、摩擦力調整部8は、第1シャフト18と、第1付勢力調整部材19と、第1弾性部材21とを有する。摩擦力調整部8は、第1座金20a、第2座金20bなどの座金20を有していてもよい。
(Other Configurations of Frictional Force Adjusting Unit 8)
In the example shown in FIG. 4A , the frictional force adjusting section 8 has a first shaft 18 , a first biasing force adjusting member 19 and a first elastic member 21 . The friction force adjuster 8 may have washers 20 such as a first washer 20a and a second washer 20b.

図4(a)に記載の例では、第1シャフト18は、載置部C(より具体的には、摺動盤4)に固定されている。第1シャフト18は、螺合等によって載置部Cに固定される。図4(a)に記載の例では、摺動ブロック17に貫通孔部17hが形成されており、第1シャフト18は、当該貫通孔部17hに挿入されている。また、第1シャフト18の下端部18bは、螺合等によって摺動盤4に固定されている。 In the example shown in FIG. 4A, the first shaft 18 is fixed to the mounting portion C (more specifically, the sliding platen 4). The first shaft 18 is fixed to the mounting portion C by screwing or the like. In the example shown in FIG. 4A, a through hole portion 17h is formed in the slide block 17, and the first shaft 18 is inserted into the through hole portion 17h. A lower end portion 18b of the first shaft 18 is fixed to the slide plate 4 by screwing or the like.

第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更可能である。第1付勢力調整部材19が、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更されることにより、第1弾性部材21の第1付勢力が調整される。第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更可能である限りにおいて、どのような部材であってもよい。第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18に螺合する第1ナット190であってもよいし、第1シャフト18に形成されたカム溝に沿って移動するカム部材であってもよい。また、第1シャフト18がボルトである場合には、第1付勢力調整部材19は、ボルトの頭部であってもよい。 The first biasing force adjusting member 19 can change its position along the longitudinal axis AX<b>1 of the first shaft 18 . The first biasing force of the first elastic member 21 is adjusted by changing the position of the first biasing force adjusting member 19 along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18 . The first biasing force adjusting member 19 may be any member as long as the position thereof can be changed along the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18 . The first biasing force adjusting member 19 may be a first nut 190 screwed onto the first shaft 18, or may be a cam member that moves along a cam groove formed in the first shaft 18. . Further, when the first shaft 18 is a bolt, the first biasing force adjusting member 19 may be the head of the bolt.

図4(a)に記載の例では、第1付勢力調整部材19は、第1シャフト18に螺合する第1ナット190である。図4(a)に記載の例では、第1シャフト18の上端部18aに雄ネジ部が形成されており、第1ナット190は、当該雄ネジ部に螺合している。この場合、第1ナット190が、第1シャフト18の長手方向軸AX1まわりに、第1シャフト18に対して相対回転されることにより、第1ナット190は、第1シャフトの長手方向軸AX1に沿って位置変更される。第1ナット190は、例えば、公知の回転治具(図示せず)により回転操作される。 In the example shown in FIG. 4A , the first biasing force adjusting member 19 is a first nut 190 that screws onto the first shaft 18 . In the example shown in FIG. 4A, a male threaded portion is formed on the upper end portion 18a of the first shaft 18, and the first nut 190 is screwed onto the male threaded portion. In this case, by rotating the first nut 190 relative to the first shaft 18 around the longitudinal axis AX1 of the first shaft 18, the first nut 190 rotates along the longitudinal axis AX1 of the first shaft. repositioned along The first nut 190 is rotated by, for example, a known rotating jig (not shown).

第1弾性部材21は、第1付勢力調整部材19(より具体的には、第1ナット190)と摺動ブロック17との間に配置される。第1弾性部材21は、摺動ブロック17に摺動盤4に向かう方向(より具体的には、鉛直下方向)に第1付勢力を付与する。第1付勢力調整部材19が、第1シャフト18の長手方向軸AX1に沿って位置変更されることにより、第1弾性部材21の弾性変形量が変更され、摺動ブロック17に付与される第1付勢力の大きさが変更される(換言すれば、第1付勢力が調整される。)。 The first elastic member 21 is arranged between the first biasing force adjusting member 19 (more specifically, the first nut 190 ) and the sliding block 17 . The first elastic member 21 applies a first biasing force to the sliding block 17 in the direction toward the sliding disk 4 (more specifically, vertically downward direction). By changing the position of the first biasing force adjusting member 19 along the longitudinal axis AX<b>1 of the first shaft 18 , the amount of elastic deformation of the first elastic member 21 is changed to change the amount of elastic deformation applied to the sliding block 17 . The magnitude of the first biasing force is changed (in other words, the first biasing force is adjusted).

図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、第1シャフト18の長手方向に沿って積層された複数の皿バネを含む。代替的に、第1弾性部材21は、皿バネ以外のバネ、あるいは、ゴムであってもよい。図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、第1シャフト18の周囲に配置されている。 In the example shown in FIG. 4A, the first elastic member 21 includes a plurality of disc springs stacked along the longitudinal direction of the first shaft 18. In the example shown in FIG. Alternatively, the first elastic member 21 may be a spring other than a disc spring, or rubber. In the example shown in FIG. 4( a ), the first elastic member 21 is arranged around the first shaft 18 .

図4(a)に記載の例では、第1弾性部材21と摺動ブロック17との間に第1座金20aが配置されている。第1座金20aは、摺動ブロック17が載置部Cの上面C1に対して摺動する際に、摺動ブロック17の移動を円滑に案内する。第1座金20aの下面と摺動ブロック17の上面との間の静止摩擦係数は、摺動ブロック17の下面17wと載置部Cの上面C1との間の静止摩擦係数よりも小さいことが好ましい。この場合、摺動ブロック17がベース部材5によって押圧されると、摺動ブロック17は、第1座金20aおよび載置部Cの両方によって円滑に案内され、第1座金20aおよび載置部Cの両方に対して摺動する。 In the example shown in FIG. 4( a ), the first washer 20 a is arranged between the first elastic member 21 and the sliding block 17 . The first washer 20a smoothly guides the movement of the sliding block 17 when the sliding block 17 slides on the upper surface C1 of the mounting portion C. As shown in FIG. The coefficient of static friction between the lower surface of the first washer 20a and the upper surface of the sliding block 17 is preferably smaller than the coefficient of static friction between the lower surface 17w of the sliding block 17 and the upper surface C1 of the mounting portion C. . In this case, when the sliding block 17 is pressed by the base member 5, the sliding block 17 is smoothly guided by both the first washer 20a and the mounting portion C, and the first washer 20a and the mounting portion C slide against both.

図4(a)に記載の例では、第1座金20aは、第1弾性部材21の下端部と接触する下部バネ受けとして機能している。 In the example shown in FIG. 4( a ), the first washer 20 a functions as a lower spring retainer that contacts the lower end of the first elastic member 21 .

図4(a)に記載の例では、第1付勢力調整部材19(より具体的には、第1ナット190)と第1弾性部材21との間に第2座金20bが配置されている。第2座金20bは、第1弾性部材21の上端部と接触する上部バネ受けとして機能する。図4(a)に記載の例では、第2座金20bは、第1ナット190が回転操作される際に、第1ナット190の回転を円滑に案内する。 In the example shown in FIG. 4A , the second washer 20 b is arranged between the first biasing force adjusting member 19 (more specifically, the first nut 190 ) and the first elastic member 21 . The second washer 20 b functions as an upper spring retainer that contacts the upper end of the first elastic member 21 . In the example shown in FIG. 4A, the second washer 20b smoothly guides the rotation of the first nut 190 when the first nut 190 is rotated.

図5(a)に記載の例において、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用すると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を摺動し、摺動盤4の上面C1に対するベース部材5の下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1から第2位置P2に変化する。デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離(換言すれば、摺動盤4に対するベース部材5の相対変位)が隙間16の大きさeを越えると、ベース部材5と摺動ブロック17とが接触し、ベース部材5および摺動ブロック17が摺動盤4に対して摺動する(図5(b)を参照。)。ベース部材5および摺動ブロック17が摺動盤4に対して摺動すると、摺動盤4からベース部材5に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1が発生し、摺動盤4から摺動ブロック17に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に追加の摩擦力F2が発生する。当該摩擦力F1および追加の摩擦力F2によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。 In the example shown in FIG. 5A, when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the mounting portion C, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding disk 4, causing the upper surface C1 of the sliding disk 4 to slide. The relative position of the lower surface B1 of the base member 5 with respect to C1 changes from the default position P1 to the second position P2. When the distance from the default position P1 to the second position P2 (in other words, the relative displacement of the base member 5 with respect to the sliding plate 4) exceeds the size e of the gap 16, the base member 5 and the sliding block 17 come into contact with each other. Then, the base member 5 and the sliding block 17 slide against the sliding disk 4 (see FIG. 5(b)). When the base member 5 and the sliding block 17 slide against the sliding disk 4, a frictional force F1 is generated from the sliding disk 4 to the base member 5 in the direction from the second position P2 to the default position P1. An additional frictional force F2 is generated from the moving platen 4 to the sliding block 17 in the direction from the second position P2 toward the default position P1. Vibrational energy of the damping object B is absorbed by the frictional force F1 and the additional frictional force F2.

図5(b)に記載の例では(換言すれば、載置部Cに入力される入力加速度が相対的に大きい場合)、摺動盤4とベース部材5との間に作用する摩擦力F1と、摺動盤4と摺動ブロック17との間に作用する追加の摩擦力F2との両方が、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する。他方、図4(b)に記載の例では(換言すれば、載置部Cに入力される入力加速度が相対的に小さい場合)、摺動盤4とベース部材5との間に作用する摩擦力F1が、制振対象物Bの振動の減衰に寄与し、摺動ブロック17は制振対象物Bの振動の減衰に寄与しない。このようにして、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を、より効果的に減衰させることができる。 In the example shown in FIG. 5B (in other words, when the input acceleration input to the mounting portion C is relatively large), the frictional force F1 acting between the sliding plate 4 and the base member 5 , and the additional frictional force F2 acting between the sliding disk 4 and the sliding block 17 contribute to damping the vibration of the object B to be damped. On the other hand, in the example shown in FIG. 4B (in other words, when the input acceleration input to the mounting portion C is relatively small), the friction acting between the sliding plate 4 and the base member 5 is The force F1 contributes to damping the vibration of the damping object B, and the sliding block 17 does not contribute to damping the vibration of the damping object B. In this way, the vibration of the damping object B can be damped more effectively with respect to a wide range of input acceleration.

摩擦力調整部8が、摺動ブロック17と、第1付勢力調整部材19とを有する場合には、摩擦力F1の大きさに対する、追加の摩擦力F2の大きさの比率を容易に変更あるいは調整することができる。よって、制振対象物Bの振動特性などに合わせて、最適な減衰を容易に付加することができる。 When the frictional force adjusting section 8 has the sliding block 17 and the first biasing force adjusting member 19, the ratio of the magnitude of the additional frictional force F2 to the magnitude of the frictional force F1 can be easily changed or can be adjusted. Therefore, it is possible to easily add optimum damping according to the vibration characteristics of the object B to be damped.

図5(a)に記載の例では、第1弾性部材21は、ベース部材5の内側の第1空間SP1(より具体的には、上板5C、下板5Bと、複数の側板5Aとによって囲まれた空間)に配置されている。この場合、第1弾性部材21は、ベース部材5によって保護される。図5(a)に例示されるように、第1ナット190、および/または、第1シャフト18の上端部18aが、ベース部材5の内側の第1空間SP1に配置されていてもよい。 In the example shown in FIG. 5A, the first elastic member 21 is provided in the first space SP1 inside the base member 5 (more specifically, by the upper plate 5C, the lower plate 5B, and the plurality of side plates 5A). enclosed space). In this case, the first elastic member 21 is protected by the base member 5 . As illustrated in FIG. 5( a ), the first nut 190 and/or the upper end portion 18 a of the first shaft 18 may be arranged in the first space SP<b>1 inside the base member 5 .

図5(a)に記載の例では、ベース部材5の上板5Cに第1アクセス孔部511dが形成されている。第1アクセス孔部511dは、第1付勢力調整部材19(あるいは、第1シャフト18)と対向する位置に形成されていることが好ましい。上板5Cに第1アクセス孔部511dが形成されている場合、ユーザは、第1アクセス孔部511dを介して、第1付勢力調整部材19(あるいは、第1シャフト18)を操作することができる。 In the example shown in FIG. 5A, the upper plate 5C of the base member 5 is formed with a first access hole portion 511d. The first access hole portion 511d is preferably formed at a position facing the first biasing force adjusting member 19 (or the first shaft 18). When the upper plate 5C is formed with the first access hole portion 511d, the user can operate the first biasing force adjusting member 19 (or the first shaft 18) through the first access hole portion 511d. can.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの摩擦力調整部8を備える。減衰付加装置1Aが備える摩擦力調整部8の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example shown in FIG. 1, the damping applying device 1A includes at least two frictional force adjusters 8. In the example shown in FIG. The number of frictional force adjusting units 8 provided in the damping applying device 1A is determined according to the size of the object B to be damped.

(第1変形例)
図6には、第1変形例における摩擦力調整部8が示されている。図6に記載の例では、摩擦力調整部8は、ベース部材5と摺動ブロック17との間の隙間16に配置される弾性部材22を有する。弾性部材22は、ベース部材5(より具体的には、下板5B)が摺動ブロック17に接触する際の衝撃を緩和する。弾性部材22は、例えば、板バネである。
(First modification)
FIG. 6 shows the frictional force adjusting portion 8 in the first modified example. In the example shown in FIG. 6, the frictional force adjuster 8 has an elastic member 22 arranged in the gap 16 between the base member 5 and the sliding block 17 . The elastic member 22 reduces the impact when the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B) contacts the sliding block 17. As shown in FIG. The elastic member 22 is, for example, a leaf spring.

(第2変形例)
図7には、第2変形例における摩擦力調整部8が示されている。図7(a)に記載の例では、摺動ブロック17は、第1ブロック17aおよび第2ブロック17bを含む複数のブロックを有する。
(Second modification)
FIG. 7 shows the frictional force adjusting portion 8 in the second modified example. In the example shown in FIG. 7(a), the sliding block 17 has a plurality of blocks including a first block 17a and a second block 17b.

第1ブロック17aは、第1ブロック17aとベース部材5(より具体的には、下板5B)との間に第1隙間16aが形成されるように、摺動盤4に載置されている。また、第2ブロック17bは、第2ブロック17bとベース部材5(より具体的には、下板5B)との間に第1隙間16aよりも大きな第2隙間16bが形成されるように、摺動盤4に載置されている。 The first block 17a is mounted on the sliding plate 4 so that a first gap 16a is formed between the first block 17a and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B). . Further, the second block 17b is slidable so that a second gap 16b larger than the first gap 16a is formed between the second block 17b and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B). It is placed on the moving platen 4 .

図7(b)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが、第1隙間16aの大きさe1(図7(a)を参照。)よりも大きく、第2隙間16bの大きさe2(図7(a)を参照。)よりも小さい場合に、ベース部材5が第1ブロック17aと接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が増加される。 As illustrated in FIG. 7(b), the distance from the default position P1 to the second position P2 is larger than the size e1 of the first gap 16a (see FIG. 7(a)), When the size e2 (see FIG. 7A) of the second gap 16b is smaller than the size e2 (see FIG. 7A), the base member 5 comes into contact with the first block 17a. The frictional force directly or indirectly received from C1 is increased.

また、図7(c)に例示されるように、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさが第2隙間16bの大きさe2(図7(a)を参照。)よりも大きい場合に、ベース部材5が第1ブロック17aおよび第2ブロック17bの両方と接触することにより、制振対象物Bが載置部Cの上面C1から直接的または間接的に受ける摩擦力が更に増加される。 Further, as illustrated in FIG. 7C, the size of the distance from the default position P1 to the second position P2 is larger than the size e2 of the second gap 16b (see FIG. 7A). When the base member 5 contacts both the first block 17a and the second block 17b, the frictional force directly or indirectly applied to the damping object B from the upper surface C1 of the mounting portion C further increases. be done.

図7に記載の例では、載置部Cに入力される入力加速度の大きさに応じて、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が変更される。例えば、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが小さい場合、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数がゼロであり、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが大きくなると、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が増加され、載置部Cに入力される入力加速度の大きさが更に大きくなると、制振対象物Bの振動の減衰に寄与する摺動ブロック17の数が更に増加される。このようにして、図7に記載の例では、更に広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を、より効果的に減衰させることができる。 In the example shown in FIG. 7, the number of sliding blocks 17 that contribute to damping the vibration of the damping object B is changed according to the magnitude of the input acceleration input to the mounting portion C. In the example shown in FIG. For example, when the magnitude of the input acceleration input to the mounting portion C is small, the number of sliding blocks 17 contributing to damping the vibration of the damping object B is zero, and the acceleration input to the mounting portion C is zero. As the magnitude of the input acceleration increases, the number of sliding blocks 17 that contribute to damping the vibration of the damping object B increases. The number of sliding blocks 17 that contribute to damping the vibration of the vibration object B is further increased. In this way, in the example shown in FIG. 7, the vibration of the damping object B can be damped more effectively with respect to a wider range of input acceleration.

(復元力発生部6)
図2(a)に記載の例では、復元力発生部6は、ベース部材5と摺動盤4との間に配置される棒バネ9を有する。棒バネ9は、ベース部材5および摺動盤4のそれぞれに支持される。
(Restoring force generator 6)
In the example shown in FIG. 2( a ), the restoring force generator 6 has a bar spring 9 arranged between the base member 5 and the sliding plate 4 . A bar spring 9 is supported by each of the base member 5 and the sliding disk 4 .

棒バネ9は、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、棒バネ9の曲げ剛性を利用して、当該相対位置をデフォルト位置P1に復元する。より具体的には、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用することに起因してベース部材5が摺動盤4の上面C1に対して摺動する時、棒バネ9の曲げ剛性によって、摺動盤4に対するベース部材5の相対位置が元の位置(換言すれば、デフォルト位置P1)に復元される。 When the relative position of the lower surface B1 of the vibration damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting portion C changes from the default position P1 to the second position P2, the bar spring 9 utilizes the bending rigidity of the bar spring 9 to Restore the relative position to the default position P1. More specifically, when the base member 5 slides against the upper surface C1 of the slide plate 4 due to an external force such as an earthquake load or an impact load acting on the mounting portion C, the bar spring 9 The bending rigidity restores the relative position of the base member 5 to the slide plate 4 to the original position (in other words, the default position P1).

図2(a)に記載の例では、棒バネ9の下端部9bは、摺動盤4に形成された第1嵌合部10(より具体的には、第1凹部)に嵌合されている。この場合、摺動盤4に対する棒バネ9の下端部9bの水平方向への相対移動が、第1嵌合部10によって拘束される。図2(a)に記載の例では、棒バネ9の上端部9aは、ベース部材5の上板5Cに形成された第2嵌合部11(より具体的には、貫通孔部)に嵌合されている。この場合、ベース部材5に対する棒バネ9の上端部9aの水平方向への相対移動が、第2嵌合部11によって拘束される。 In the example shown in FIG. 2A, the lower end portion 9b of the bar spring 9 is fitted into a first fitting portion 10 (more specifically, a first concave portion) formed in the sliding disc 4. there is In this case, the horizontal relative movement of the lower end portion 9b of the bar spring 9 with respect to the slide plate 4 is restrained by the first fitting portion 10 . In the example shown in FIG. 2A, the upper end portion 9a of the bar spring 9 is fitted into a second fitting portion 11 (more specifically, a through hole portion) formed in the upper plate 5C of the base member 5. are combined. In this case, the horizontal relative movement of the upper end portion 9 a of the bar spring 9 with respect to the base member 5 is restrained by the second fitting portion 11 .

図2(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第2貫通孔部512hが形成されており、棒バネ9は、当該第2貫通孔部512hに挿入されている。棒バネ9の外面9tと第2貫通孔部512hの内面との間には、第3隙間G3が形成されている。棒バネ9の外面9tと第2貫通孔部512hの内面との間の距離が、第3隙間G3の大きさに該当する。第3隙間G3の大きさは、図4(a)に例示される摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさeよりも大きいことが好ましい。第3隙間G3が十分に大きいことにより、ベース部材5が水平方向に振動する際に、ベース部材5と棒バネ9の下端部9bとが干渉することが防止される。 In the example shown in FIG. 2A, a second through hole portion 512h is formed in the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5), and the bar spring 9 is provided with the second through hole portion 512h. It is inserted into the through hole portion 512h. A third gap G3 is formed between the outer surface 9t of the bar spring 9 and the inner surface of the second through hole portion 512h. The distance between the outer surface 9t of the bar spring 9 and the inner surface of the second through hole portion 512h corresponds to the size of the third gap G3. The size of the third gap G3 is preferably larger than the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 illustrated in FIG. 4(a). Since the third gap G3 is sufficiently large, interference between the base member 5 and the lower end portion 9b of the bar spring 9 is prevented when the base member 5 vibrates in the horizontal direction.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの復元力発生部6を備える。減衰付加装置1Aが備える復元力発生部6の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example illustrated in FIG. 1 , the damping applying device 1A has at least two restoring force generators 6 . The number of restoring force generators 6 included in the damping applying device 1A is determined according to the size of the object B to be damped.

(押付力発生部7)
図3(a)に記載の例では、押付力発生部7は、第2シャフト12と、第2付勢力調整部材13と、第2弾性部材15とを有する。押付力発生部7は、第3座金14a、第4座金14bなどの座金14を有していてもよい。
(Pressing force generator 7)
In the example shown in FIG. 3A , the pressing force generating section 7 has a second shaft 12 , a second biasing force adjusting member 13 and a second elastic member 15 . The pressing force generator 7 may have washers 14 such as a third washer 14a and a fourth washer 14b.

図3(a)に記載の例では、第2シャフト12は、載置部C(より具体的には、摺動盤4)に固定されている。第2シャフト12は、螺合等によって載置部Cに固定される。図3(a)に記載の例では、ベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)に第3貫通孔部513hが形成されており、第2シャフト12は、当該第3貫通孔部513hに挿入されている。また、第2シャフト12の下端部12bは、螺合等によって摺動盤4に固定されている。 In the example shown in FIG. 3(a), the second shaft 12 is fixed to the mounting portion C (more specifically, the sliding platen 4). The second shaft 12 is fixed to the mounting portion C by screwing or the like. In the example shown in FIG. 3A, the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5) is formed with a third through-hole portion 513h, and the second shaft 12 is provided with the third through-hole portion 513h. 3 is inserted into the through-hole portion 513h. A lower end portion 12b of the second shaft 12 is fixed to the sliding disk 4 by screwing or the like.

第2シャフト12の外面12tと第3貫通孔部513hの内面との間には、第4隙間G4が形成されている。第2シャフト12の外面12tと第3貫通孔部513hの内面との間の距離が、第4隙間G4の大きさに該当する。第4隙間G4の大きさは、図4(a)に例示される摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさeよりも大きいことが好ましい。第4隙間G4が十分に大きいことにより、ベース部材5が水平方向に振動する際に、ベース部材5と第2シャフト12とが干渉することが防止される。 A fourth gap G4 is formed between the outer surface 12t of the second shaft 12 and the inner surface of the third through hole portion 513h. The distance between the outer surface 12t of the second shaft 12 and the inner surface of the third through hole portion 513h corresponds to the size of the fourth gap G4. The size of the fourth gap G4 is preferably larger than the size e of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 illustrated in FIG. 4(a). The sufficiently large fourth gap G4 prevents interference between the base member 5 and the second shaft 12 when the base member 5 vibrates in the horizontal direction.

第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更可能である。第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されることにより、第2弾性部材15の第2付勢力が調整される。第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更可能である限りにおいて、どのような部材であってもよい。第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12に螺合する第2ナット130であってもよいし、第2シャフト12に形成されたカム溝に沿って移動するカム部材であってもよい。また、第2シャフト12がボルトである場合には、第2付勢力調整部材13は、ボルトの頭部であってもよい。 The second biasing force adjusting member 13 can change its position along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12 . The second biasing force of the second elastic member 15 is adjusted by changing the position of the second biasing force adjusting member 13 along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12 . The second biasing force adjusting member 13 may be any member as long as the position thereof can be changed along the longitudinal direction axis AX2 of the second shaft 12 . The second biasing force adjusting member 13 may be a second nut 130 screwed onto the second shaft 12 or may be a cam member that moves along a cam groove formed in the second shaft 12. . Further, when the second shaft 12 is a bolt, the second biasing force adjusting member 13 may be the head of the bolt.

図3(a)に記載の例では、第2付勢力調整部材13は、第2シャフト12に螺合する第2ナット130である。図3(a)に記載の例では、第2シャフト12の上端部12aに雄ネジ部が形成されており、第2ナット130は、当該雄ネジ部に螺合している。第2ナット130が、第2シャフト12の長手方向軸AX2まわりに、第2シャフト12に対して相対回転されることにより、第2ナット130は、第2シャフトの長手方向軸AX2に沿って位置変更される。第2ナット130は、例えば、公知の回転治具(図示せず)により回転操作される。 In the example shown in FIG. 3A , the second biasing force adjusting member 13 is a second nut 130 screwed onto the second shaft 12 . In the example shown in FIG. 3A, a male threaded portion is formed on the upper end portion 12a of the second shaft 12, and the second nut 130 is screwed onto the male threaded portion. By rotating the second nut 130 relative to the second shaft 12 around the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12, the second nut 130 is positioned along the longitudinal axis AX2 of the second shaft. Be changed. The second nut 130 is rotated by, for example, a known rotating jig (not shown).

第2弾性部材15は、第2付勢力調整部材13(より具体的には、第2ナット130)とベース部材5(より具体的には、ベース部材5の下板5B)との間に配置される。第2弾性部材15は、ベース部材5に摺動盤4に向かう方向(より具体的には、鉛直下方向)に第2付勢力を付与する。当該第2付勢力によって、ベース部材5が摺動盤4に押し付けられる。第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されることにより、第2弾性部材15の弾性変形量が変更され、ベース部材5に付与される第2付勢力の大きさが変更される(換言すれば、第2付勢力が調整される。)。 The second elastic member 15 is arranged between the second biasing force adjusting member 13 (more specifically, the second nut 130) and the base member 5 (more specifically, the lower plate 5B of the base member 5). be done. The second elastic member 15 applies a second biasing force to the base member 5 in a direction toward the sliding plate 4 (more specifically, vertically downward). The base member 5 is pressed against the sliding board 4 by the second biasing force. By changing the position of the second biasing force adjusting member 13 along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12 , the amount of elastic deformation of the second elastic member 15 is changed and the second applied to the base member 5 is changed. The magnitude of the biasing force is changed (in other words, the second biasing force is adjusted).

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、第2シャフト12の長手方向に沿って積層された複数の皿バネを含む。代替的に、第2弾性部材15は、皿バネ以外のバネ、あるいは、ゴムであってもよい。図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、第2シャフト12の周囲に配置されている。 In the example shown in FIG. 3A, the second elastic member 15 includes a plurality of disc springs laminated along the longitudinal direction of the second shaft 12. In the example shown in FIG. Alternatively, the second elastic member 15 may be a spring other than a disc spring, or rubber. In the example shown in FIG. 3( a ), the second elastic member 15 is arranged around the second shaft 12 .

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15とベース部材5との間に第3座金14aが配置されている。第3座金14aは、ベース部材5が載置部Cの上面C1(より具体的には、摺動盤4の上面)に対して摺動する際に、ベース部材5の移動を円滑に案内する。第3座金14aの下面とベース部材5との間の静止摩擦係数は、ベース部材5の下面B1と載置部Cの上面C1との間の静止摩擦係数よりも小さいことが好ましい。この場合、ベース部材5が水平方向に振動するとき、ベース部材5は、第3座金14aおよび載置部Cの両方によって円滑に案内され、第3座金14aおよび載置部Cの両方に対して摺動する。 In the example shown in FIG. 3( a ), the third washer 14 a is arranged between the second elastic member 15 and the base member 5 . The third washer 14a smoothly guides the movement of the base member 5 when the base member 5 slides on the upper surface C1 of the mounting portion C (more specifically, the upper surface of the sliding plate 4). . The coefficient of static friction between the lower surface of the third washer 14a and the base member 5 is preferably smaller than the coefficient of static friction between the lower surface B1 of the base member 5 and the upper surface C1 of the mounting portion C. In this case, when the base member 5 vibrates in the horizontal direction, the base member 5 is smoothly guided by both the third washer 14a and the mounting portion C, and is slide.

図3(a)に記載の例では、第3座金14aは、第2弾性部材15の下端部と接触する下部バネ受けとして機能している。 In the example shown in FIG. 3( a ), the third washer 14 a functions as a lower spring retainer that contacts the lower end of the second elastic member 15 .

図3(a)に記載の例では、第2付勢力調整部材13(より具体的には、第2ナット130)と第2弾性部材15との間に第4座金14bが配置されている。第4座金14bは、第2弾性部材15の上端部と接触する上部バネ受けとして機能する。図3(a)に記載の例では、第4座金14bは、第2ナット130が回転操作される際に、第2ナット130の回転を円滑に案内する。 In the example shown in FIG. 3A, the fourth washer 14b is arranged between the second biasing force adjusting member 13 (more specifically, the second nut 130) and the second elastic member 15. As shown in FIG. The fourth washer 14 b functions as an upper spring receiver that contacts the upper end of the second elastic member 15 . In the example shown in FIG. 3A, the fourth washer 14b smoothly guides the rotation of the second nut 130 when the second nut 130 is rotated.

図3(a)に記載の例において、地震荷重や衝撃荷重などの外力が載置部Cに作用すると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を摺動し、摺動盤4の上面C1に対するベース部材5の下面B1の相対位置が、デフォルト位置P1から第2位置P2に変化する(図3(b)を参照。)。ベース部材5が摺動盤4に対して摺動すると、摺動盤4からベース部材5に、第2位置P2からデフォルト位置P1に向かう方向に摩擦力F1が発生する。当該摩擦力F1によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収され、制振対象物Bの振動が減衰される。 In the example shown in FIG. 3A, when an external force such as an earthquake load or an impact load acts on the mounting portion C, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding disk 4, causing the upper surface C1 of the sliding disk 4 to slide. The relative position of the lower surface B1 of the base member 5 with respect to C1 changes from the default position P1 to the second position P2 (see FIG. 3(b)). When the base member 5 slides against the slide plate 4, a frictional force F1 is generated from the slide plate 4 to the base member 5 in the direction from the second position P2 to the default position P1. The frictional force F1 absorbs the vibration energy of the damping object B, and the vibration of the damping object B is attenuated.

図3(a)に記載の例において、第2付勢力調整部材13が、第2シャフト12の長手方向軸AX2に沿って位置変更されると、ベース部材5に付与される第2付勢力の大きさが変更される。また、第2付勢力の大きさが変更されることにより、上述の摩擦力F1の大きさが変更(換言すれば、調整)される。 In the example shown in FIG. 3A, when the second biasing force adjusting member 13 is changed in position along the longitudinal axis AX2 of the second shaft 12, the second biasing force applied to the base member 5 is size is changed. Further, by changing the magnitude of the second biasing force, the magnitude of the above-described frictional force F1 is changed (in other words, adjusted).

図3(a)に記載の例では、第2弾性部材15は、ベース部材5の内側の第2空間SP2(より具体的には、上板5C、下板5Bと、複数の側板5Aとによって囲まれた空間)に配置されている。この場合、第2弾性部材15は、ベース部材5によって保護される。図3(a)に例示されるように、第2ナット130、および/または、第2シャフト12の上端部12aが、ベース部材5の内側の第2空間SP2に配置されていてもよい。 In the example shown in FIG. 3A, the second elastic member 15 is provided in the second space SP2 inside the base member 5 (more specifically, by the upper plate 5C, the lower plate 5B, and the plurality of side plates 5A). enclosed space). In this case, the second elastic member 15 is protected by the base member 5 . The second nut 130 and/or the upper end portion 12a of the second shaft 12 may be arranged in the second space SP2 inside the base member 5, as illustrated in FIG. 3(a).

図3(a)に記載の例では、ベース部材5の上板5Cに第2アクセス孔部513dが形成されている。第2アクセス孔部513dは、第2付勢力調整部材13(あるいは、第2シャフト12)と対向する位置に形成されていることが好ましい。上板5Cに第2アクセス孔部513dが形成されている場合、ユーザは、第2アクセス孔部513dを介して、第2付勢力調整部材13(あるいは、第2シャフト12)を操作することができる。 In the example shown in FIG. 3A, the upper plate 5C of the base member 5 is formed with a second access hole portion 513d. The second access hole portion 513d is preferably formed at a position facing the second biasing force adjusting member 13 (or the second shaft 12). When the second access hole portion 513d is formed in the upper plate 5C, the user can operate the second biasing force adjusting member 13 (or the second shaft 12) through the second access hole portion 513d. can.

図1に記載の例では、減衰付加装置1Aは、少なくとも2つの押付力発生部7を備える。減衰付加装置1Aが備える押付力発生部7の数は、制振対象物Bの大きさ等に応じて決定される。 In the example shown in FIG. 1, the damping applying device 1A includes at least two pressing force generators 7. In the example shown in FIG. The number of pressing force generators 7 included in the damping applying device 1A is determined according to the size of the object B to be damped.

(復元力発生部6、押付力発生部7、および、摩擦力調整部8による複合作用)
図1に記載の例において、載置部Cに水平方向に地震荷重などの外力が加わると、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動する。
(Combined action by the restoring force generator 6, the pressing force generator 7, and the friction force adjuster 8)
In the example shown in FIG. 1, the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4 when an external force such as an earthquake load is applied horizontally to the mounting portion C. As shown in FIG.

ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動すると、図2に例示される復元力発生部6は、棒バネ9による復元力を発生し、摺動盤4に対するベース部材5の振動変位が抑制される。断面形状および/または断面寸法の異なる棒バネ9を準備することにより、棒バネ9の曲げ剛性を変化させ、制振対象物Bの支持剛性(固有振動数)を調整することができる。 When the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding plate 4, the restoring force generator 6 illustrated in FIG. Suppressed. By preparing bar springs 9 having different cross-sectional shapes and/or cross-sectional dimensions, the bending stiffness of the bar springs 9 can be changed to adjust the support stiffness (natural frequency) of the damping object B.

ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動すると、図3に例示される押付力発生部7は、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間に摩擦力を発生させる。当該摩擦力によって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。第2付勢力調整部材13を用いて第2弾性部材15の変形量を調整し、ベース部材5を摺動盤4に押し付ける押付力を変化させることができる。こうして、ベース部材5が摺動盤4の上面C1を滑動するときに発生するベース部材5と摺動盤4との間の摩擦力F1の大きさを調整することができる。 When the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding disk 4, the pressing force generator 7 illustrated in FIG. Vibrational energy of the damping object B is absorbed by the frictional force. The amount of deformation of the second elastic member 15 can be adjusted using the second biasing force adjusting member 13 to change the pressing force for pressing the base member 5 against the sliding disk 4 . Thus, the magnitude of the frictional force F1 between the base member 5 and the sliding disc 4 generated when the base member 5 slides on the upper surface C1 of the sliding disc 4 can be adjusted.

載置部Cに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振動応答がより大きくなる場合を想定する。図5(b)に例示されるように、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位が閾値e(より具体的には、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさe)を越えると、摩擦力調整部8で追加の摩擦力F2が発生し、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1と、当該追加の摩擦力F2とによって、制振対象物Bの振動エネルギーが吸収される。想定される相対変位の大きさに応じて、摺動ブロック17とベース部材5との間の隙間16の大きさを設定することにより、閾値eを容易に調整することが可能である。また、第1付勢力調整部材19を用いて第1弾性部材21の変形量を調整し、摺動ブロック17を摺動盤4に押し付ける押付力を変化させることができる。こうして、ベース部材5と摺動盤4の上面C1との間の摩擦力F1の大きさに対する、追加の摩擦力F2の大きさを自由に調整することができる。 It is assumed that the input acceleration input to the mounting portion C is large and the vibration response of the damping object B is increased. As illustrated in FIG. 5(b), the relative displacement between the base member 5 and the sliding disk 4 reaches the threshold value e (more specifically, the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5). When the magnitude e) is exceeded, an additional frictional force F2 is generated in the frictional force adjusting portion 8, the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding disk 4, and the additional frictional force F2 Vibrational energy of the damping object B is absorbed by . By setting the size of the gap 16 between the sliding block 17 and the base member 5 according to the size of the assumed relative displacement, the threshold e can be easily adjusted. Further, the amount of deformation of the first elastic member 21 can be adjusted using the first biasing force adjusting member 19 to change the pressing force for pressing the sliding block 17 against the sliding disk 4 . Thus, it is possible to freely adjust the magnitude of the additional frictional force F2 with respect to the magnitude of the frictional force F1 between the base member 5 and the upper surface C1 of the sliding disk 4. FIG.

(効果)
続いて、図8乃至図11を参照して、減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを用いて、減衰付加装置1Aによって奏される効果の一例について説明する。
(effect)
Next, with reference to FIGS. 8 to 11, an example of the effect produced by the damping applying device 1A will be described using a vibration model of the damping object B to which the damping applying device 1A is attached.

図8は、従来の減衰付加装置100が取り付けられた制振対象物Bの振動モデルを示す。「W1」は制振対象物Bの重量を示し、「k1」は制振対象物Bの剛性(ばね定数)を示し、「c1」は、制振対象物Bの減衰係数を示す。また、「W2」は、減衰付加装置100の重量を示し、「k2」は、減衰付加装置100の剛性(ばね定数)を示し、「Fr2」は、押付力発生部7によって生じる摩擦力を示す。図9は、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの振動モデルの一例を示す。「W1」は制振対象物Bの重量を示し、「k1」は制振対象物Bの剛性(ばね定数)を示し、「c1」は、制振対象物Bの減衰係数を示し、「W2」は、減衰付加装置1Aの重量を示し、「k2」は、減衰付加装置1Aの剛性(ばね定数)を示し、「Fr2」は、押付力発生部7によって生じる摩擦力を示し、「Fr2’」は、摩擦力調整部8によって生じる追加の摩擦力を示す。 FIG. 8 shows a vibration model of a damping object B to which a conventional damping applying device 100 is attached. “W1” indicates the weight of the vibration damping object B, “k1” indicates the stiffness (spring constant) of the vibration damping object B, and “c1” indicates the damping coefficient of the vibration damping object B. "W2" indicates the weight of the damping applying device 100, "k2" indicates the rigidity (spring constant) of the damping applying device 100, and "Fr2" indicates the frictional force generated by the pressing force generating section 7. . FIG. 9 shows an example of a vibration model of a damping object B to which the damping applying device 1A according to the first embodiment is attached. "W1" indicates the weight of the damping object B, "k1" indicates the stiffness (spring constant) of the damping object B, "c1" indicates the damping coefficient of the damping object B, and "W2 ' indicates the weight of the damping applying device 1A, 'k2' indicates the stiffness (spring constant) of the damping applying device 1A, 'Fr2' indicates the frictional force generated by the pressing force generating section 7, and 'Fr2' ” indicates the additional frictional force generated by the frictional force adjuster 8 .

図10は、載置部Cに入力される入力加速度と減衰比との関係を示すグラフである。なお、減衰比とは、臨界減衰係数に対する減衰係数の割合を意味する。図10には、制振対象物Bに、減衰付加装置100あるいは減衰付加装置1Aが取り付けられることにより、どの程度、減衰比が増加するか(換言すれば、制振性能が向上するか)が示されている。 FIG. 10 is a graph showing the relationship between the input acceleration input to the mounting portion C and the damping ratio. The damping ratio means the ratio of the damping coefficient to the critical damping coefficient. FIG. 10 shows how much the damping ratio increases (in other words, how much the damping performance is improved) by attaching the damping applying device 100 or the damping applying device 1A to the damping object B. It is shown.

なお、図10には、減衰付加装置が取り付けられていない制振対象物B自体が有している減衰比が4%であり、また、制振対象物Bの共振振動数域を十分にカバーする振動数範囲で正弦スイープ波が入力される場合の例が示されている。図10の横軸は、載置部Cに入力される水平方向の入力加速度の大きさを示し、図10の縦軸は、減衰比を示す。図10において、黒丸、黒三角、黒四角、白丸、白三角、白四角は、制振対象物Bに減衰付加装置100(剛性比k2/k1、および、重量W1に対する摩擦力Fr2の比率は、グラフ中に示されるとおりである。)が取り付けられた場合において、入力加速度に対する減衰比の変化を示す。また、図10において、太い実線は、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられた場合において、入力加速度に対する減衰比の変化を示す。 In addition, in FIG. 10, the damping ratio of the damping object B itself to which the damping addition device is not attached is 4%, and the resonance frequency range of the damping object B is sufficiently covered. An example is shown in which a sine sweep wave is input in the frequency range of . The horizontal axis of FIG. 10 indicates the magnitude of the horizontal input acceleration input to the mounting portion C, and the vertical axis of FIG. 10 indicates the damping ratio. In FIG. 10, black circles, black triangles, black squares, white circles, white triangles, and white squares indicate the damping device 100 attached to the damping object B (the ratio of the stiffness ratio k2/k1 and the frictional force Fr2 to the weight W1 is shown in the graph) is attached, the change in the damping ratio with respect to the input acceleration is shown. In FIG. 10, the thick solid line indicates the change in the damping ratio with respect to the input acceleration when the damping applying device 1A is attached to the damping object B. FIG.

図10から、減衰比は、顕著な振幅依存性(換言すれば、入力加速度の大きさに応じて大きく変動する特性)を有することが把握される。図10に記載の例では、入力加速度が10Galから増加することに伴い減衰比が増大している。また、入力加速度が100Galを超えた付近で、減衰比が最大となり、更に入力加速度が増加することに伴い減衰比は徐々に低下している。図10の例では、いずれの入力加速度が入力される場合でも、減衰付加装置1が取り付けられる前の減衰比4%を概ね上回る減衰比が得られている。 From FIG. 10, it can be understood that the damping ratio has remarkable amplitude dependence (in other words, a characteristic that greatly fluctuates according to the magnitude of input acceleration). In the example shown in FIG. 10, the damping ratio increases as the input acceleration increases from 10 Gal. In addition, the damping ratio becomes maximum when the input acceleration exceeds 100 Gal, and the damping ratio gradually decreases as the input acceleration further increases. In the example of FIG. 10, a damping ratio substantially higher than the damping ratio of 4% before the damping addition device 1 is attached is obtained regardless of the input acceleration.

図10の例では、減衰比の最大値は、減衰付加装置100の摩擦力Fr2の大きさによって影響されず、減衰付加装置100の剛性k2が低くなると大きくなる傾向が示されている。また、減衰付加装置100の摩擦力Fr2が増加すると、減衰比のピーク(減衰特性曲線)が高加速度側にシフトする傾向が示されている。 In the example of FIG. 10, the maximum value of the damping ratio is not affected by the magnitude of the frictional force Fr2 of the damping addition device 100, and tends to increase as the stiffness k2 of the damping addition device 100 decreases. In addition, when the frictional force Fr2 of the damping applying device 100 increases, the peak of the damping ratio (damping characteristic curve) tends to shift to the high acceleration side.

第1の実施形態では、制振対象物Bの応答振幅の増加(換言すれば、載置部Cに対する制振対象物Bの相対変位の増加)に伴い、摩擦力調整部8は、追加の摩擦力Fr2’を発生させる。よって、第1の実施形態では、入力加速度の大きさが大きくなった場合に、追加の摩擦力Fr2’を発生させることにより、減衰比のピーク(減衰特性曲線)を、制振対象物Bの振動中に高加速度側にシフトさせることができる。こうして、高加速度側での減衰低下が抑制される。その結果、第1の実施形態では、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 In the first embodiment, as the response amplitude of the damping object B increases (in other words, the relative displacement of the damping object B with respect to the mounting portion C increases), the frictional force adjustment unit 8 adds additional Frictional force Fr2' is generated. Therefore, in the first embodiment, when the magnitude of the input acceleration increases, the peak of the damping ratio (damping characteristic curve) is shifted to It is possible to shift to the high acceleration side during vibration. In this way, damping reduction on the high acceleration side is suppressed. As a result, in the first embodiment, the vibration of the damping object B can be effectively damped against a wide range of input acceleration.

なお、図7に例示されるように、減衰付加装置1Aは、隙間16の大きさ(e1;e2)が異なる複数の摩擦力調整部8を有していてもよい。この場合、ベース部材5と摺動盤4との間の相対変位の大きさに応じて、摩擦力を複数段階で増加させることができる。よって、更に広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 As illustrated in FIG. 7, the damping applying device 1A may have a plurality of frictional force adjusters 8 with different gap 16 sizes (e1; e2). In this case, the frictional force can be increased in multiple steps according to the relative displacement between the base member 5 and the sliding disk 4 . Therefore, it is possible to effectively attenuate the vibration of the damping object B against a wider range of input acceleration.

図11には、図10に示されるグラフを、固有振動数比をパラメータとして再整理したグラフが示されている。なお、固有振動数比は、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの固有振動数に対する、減衰付加装置1Aが取り付けられた後の制振対象物Bの固有振動数の割合を意味する。 FIG. 11 shows a graph obtained by rearranging the graph shown in FIG. 10 using the natural frequency ratio as a parameter. The natural frequency ratio is the ratio of the natural frequency of the damping object B after the damping adding device 1A is installed to the natural frequency of the damping object B before the damping adding device 1A is installed. means.

図9に記載の例において、減衰付加装置1Aの剛性k2が低下すると制振対象物Bの固有振動数は低下する。図11は、減衰付加装置1Aの剛性k2が低下し、制振対象物Bの固有振動数が低下すると(図11において、横軸左側にシフトすると)、減衰比の最大値が増加する傾向を示している。図11には、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の減衰比(4%)が、最大で27%程度まで上昇する結果が示されている。 In the example shown in FIG. 9, when the stiffness k2 of the damping applying device 1A decreases, the natural frequency of the damping object B decreases. FIG. 11 shows that the maximum value of the damping ratio tends to increase when the stiffness k2 of the damping application device 1A decreases and the natural frequency of the damping object B decreases (shifted leftward on the horizontal axis in FIG. 11). showing. FIG. 11 shows the result that the damping ratio (4%) before the damping addition device 1A is attached increases up to about 27% at maximum.

例えば、制振対象物Bに、第1の実施形態における減衰付加装置1Aを取り付けることにより、制振対象物Bの固有振動数を、元の固有振動数の0.5倍以上0.9倍以下となるように設定することを想定する。この場合、図11に記載の例では、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの減衰比(4%)に対し、減衰付加装置1Aを取り付けることにより、減衰比を約3%~23%追加して、減衰比を約7~27%にすることができる。通常の溶接構造によって制振対象物Bを固定した場合の減衰比が1%程度であることを考慮すると、第1の実施形態における減衰付加装置1Aは、制振対象物Bに非常に大きな減衰を付加することが分かる。 For example, by attaching the damping applying device 1A in the first embodiment to the damping object B, the natural frequency of the damping object B is increased by 0.5 to 0.9 times the original natural frequency. It is assumed that the settings are as follows. In this case, in the example shown in FIG. 11, the damping ratio (4%) of the damping object B before the damping addition device 1A is attached is reduced by about 3% by attaching the damping addition device 1A. ~23% can be added to give a damping ratio of approximately 7-27%. Considering that the damping ratio when the damping object B is fixed by a normal welded structure is about 1%, the damping adding device 1A in the first embodiment provides a very large damping to the damping object B. is found to be added.

従来の摺動型の免震機構を用いた振動抑制技術は、地震動の主成分の振動数域を避けて、制振対象物Bの固有振動数(一般的に、免震の固有振動数と呼ばれる。)が、例えば、0.3Hz程度の非常に低い振動数に設定される。この場合、長周期地震動では、制振対象物Bの変位が大きくなる可能性がある。 Vibration suppression technology using a conventional sliding-type seismic isolation mechanism avoids the frequency range of the main component of seismic motion, ) is set to a very low frequency, for example of the order of 0.3 Hz. In this case, there is a possibility that the displacement of the damping object B will become large due to the long period seismic motion.

これに対し、第1の実施形態では、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられた後の制振対象物Bの固有振動数を、制振対象物Bに減衰付加装置1Aが取り付けられる前の制振対象物Bの固有振動数の0.5倍以上0.9倍以下となるように設定することが可能である。例えば、制振対象物Bが、使用済核燃料貯蔵ラックや電気盤のような構造物を含む場合、減衰付加装置1Aが取り付けられる前の状態では、当該制振対象物Bの固有振動数は10Hz~30Hz程度となる。この場合、制振対象物Bに減衰付加装置1を取り付けた後の状態において、制振対象物Bの固有振動数を5Hz以上とすることができる。この場合、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの固有振動数を、一般的な免震機構が取り付けられた制振対象物Bの固有振動数(0.3Hz)の約16倍以上にすることができる。両者の応答加速度が同じであると考えた場合、両者の間の応答変位の比は、両者の間の振動数の比の二乗分の一となることから、減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bの応答変位は、一般的な免震機構が取り付けられた制振対象物Bの応答変位の数百分の一となり、極めて小さくなることがわかる。 On the other hand, in the first embodiment, the natural frequency of the damping object B after the damping applying device 1A is attached to the damping object B is determined by the damping applying device 1A attached to the damping object B. It is possible to set to be 0.5 times or more and 0.9 times or less of the natural frequency of the damping object B before being damped. For example, when the damping object B includes a structure such as a spent nuclear fuel storage rack or an electrical panel, the natural frequency of the damping object B is 10 Hz before the damping addition device 1A is attached. ~30 Hz. In this case, the natural frequency of the vibration damping object B can be set to 5 Hz or more in the state after the damping applying device 1 is attached to the vibration damping object B. FIG. In this case, the natural frequency of the damping object B to which the damping applying device 1A in the first embodiment is attached is changed to the natural frequency of the damping object B to which a general seismic isolation mechanism is attached (0. 3 Hz) can be about 16 times or more. Assuming that both have the same response acceleration, the ratio of the response displacement between the two is the square of the ratio of the frequencies of the two. It can be seen that the response displacement of the vibration object B is one several hundredth of the response displacement of the vibration damping object B to which a general seismic isolation mechanism is attached, and is extremely small.

一般的な免震機構を採用する場合には、制振対象物Bの応答変位が大きくなることから、制振対象物Bと周辺構造物との間の衝突を避けるために、応答変位を考慮して、制振対象物B用の配置面積を大きくする必要がある。これに対し、第1の実施形態における減衰付加装置1Aが取り付けられた制振対象物Bは、一般的な免震機構に比べて、応答変位が極めて小さいため、制振対象物Bの配置設計が容易である。 When adopting a general seismic isolation mechanism, the response displacement of the damping object B becomes large. Therefore, it is necessary to increase the layout area for the damping object B. On the other hand, the damping object B to which the damping applying device 1A in the first embodiment is attached has a very small response displacement compared to a general seismic isolation mechanism, so the layout design of the damping object B is easy.

更に、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて、制振対象物Bの振動特性および/または載置部Cへの振動入力条件に応じて、減衰付加装置1Aの剛性k2および/または摩擦力Fr2が調整可能とされる場合、減衰付加装置1Aは、制振対象物Bに最適な減衰を付加することができる。 Furthermore, in the damping applying device 1A in the first embodiment, the stiffness k2 and/or the frictional force of the damping applying device 1A are determined according to the vibration characteristics of the damping object B and/or the vibration input conditions to the mounting portion C. When Fr2 is adjustable, the damping applying device 1A can apply optimum damping to the object B to be damped.

更に、第1の実施形態における減衰付加装置1Aにおいて、追加の摩擦力Fr2’の大きさ、および/または、隙間16の大きさeが調整可能とされる場合、これらのパラメータが調整されることにより、広範囲の入力加速度に対して、高い減衰効果を得ることが可能になる。例えば、地震入力や、飛翔体が建屋に衝突することに伴う衝撃波入力など様々な振動入力に対して、高い減衰効果が得られる。また、原子力発電所で用いられる使用済核燃料貯蔵ラック、電気盤、ポンプ、熱交換器、変圧器など様々な機器に対して、それぞれの振動特性に対応した調整が行われることにより、制振対象物Bに最適な減衰力を付加することができる。 Furthermore, in the damping application device 1A of the first embodiment, if the magnitude of the additional frictional force Fr2′ and/or the magnitude e of the gap 16 are adjustable, these parameters can be adjusted. Therefore, it is possible to obtain a high damping effect for a wide range of input acceleration. For example, a high damping effect can be obtained for various vibration inputs such as earthquake input and shock wave input accompanying a projectile colliding with a building. In addition, various equipment such as spent nuclear fuel storage racks, electrical panels, pumps, heat exchangers, and transformers used in nuclear power plants are adjusted according to their respective vibration characteristics, making it possible to control vibration. An optimum damping force can be applied to the object B.

(第2の実施形態)
図1乃至図3、図12を参照して、第2の実施形態における減衰付加装置1Bについて説明する。図1は、第2の実施形態における減衰付加装置1Bが、制振対象物Bに取り付けられた様子を模式的に示す概略正面図である。なお、図1において、減衰付加装置1Bの配置を把握し易くするために、機器2以外の部分については、正面図の代わりに、断面図が示されている。図2は、復元力発生部6の一例を模式的に示す概略断面図である。図3は、押付力発生部7の一例を模式的に示す概略断面図である。図12は、第2の実施形態における減衰付加装置1Bの摩擦力調整部8の一例を模式的に示す概略断面図である。
(Second embodiment)
An attenuation adding device 1B according to a second embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3 and 12. FIG. FIG. 1 is a schematic front view schematically showing how a damping applying device 1B according to the second embodiment is attached to a damping object B. FIG. In FIG. 1, in order to make it easier to understand the arrangement of the attenuation applying device 1B, the parts other than the device 2 are shown in cross-sectional views instead of front views. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the restoring force generator 6. As shown in FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the pressing force generating portion 7. As shown in FIG. FIG. 12 is a schematic cross-sectional view schematically showing an example of the frictional force adjusting section 8 of the damping applying device 1B in the second embodiment.

第1の実施形態では、摩擦力調整部8が、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積が変更される例、より具体的には、摺動ブロック17が追加的に摺動される例について説明された。これに対し、第2の実施形態では、摩擦力調整部8は、載置部Cの上面C1に対して摺動する摺動面の総面積を変更することなく追加の摩擦力を発生させる点で第1の実施形態とは異なる。 In the first embodiment, the frictional force adjusting section 8 has a sliding surface that slides on the upper surface C1 of the mounting section C depending on the distance from the default position P1 to the second position P2. An example in which the total area is changed, more specifically, an example in which the sliding block 17 is additionally slid has been described. On the other hand, in the second embodiment, the frictional force adjuster 8 generates additional frictional force without changing the total area of the sliding surface that slides on the upper surface C1 of the mounting portion C. is different from the first embodiment.

第2の実施形態では、第1の実施形態と異なる点を中心に説明する。他方、第2の実施形態では、第1の実施形態で説明済みの事項についての繰り返しとなる説明は省略する。したがって、第2の実施形態において、明示的に説明をしなかったとしても、第1の実施形態において説明済みの事項を第2の実施形態に適用できることは言うまでもない。 In the second embodiment, the points different from the first embodiment will be mainly described. On the other hand, in the second embodiment, repetitive explanations of matters already explained in the first embodiment will be omitted. Therefore, it goes without saying that the matters already explained in the first embodiment can be applied to the second embodiment even if they are not explicitly explained in the second embodiment.

(構成・作用)
図1乃至図3に例示されるように、第2の実施形態における減衰付加装置1Bは、(1)制振対象物Bの底部(より具体的には、ベース部材5)と、制振対象物Bが載置される載置部C(より具体的には、摺動盤4)との間に配置され、制振対象物Bが振動することによって載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置がデフォルト位置P1から第2位置P2に変化する場合に、当該相対位置をデフォルト位置P1に復元する復元力を発生させる復元力発生部6と、(2)制振対象物Bの下面B1を載置部Cの上面C1に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部7と、を具備する。また、図12に例示されるように、第2の実施形態における減衰付加装置1Bは、(3)制振対象物Bが載置部Cの上面C1から受ける摩擦力を、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部8を、備える。
(Structure/action)
As exemplified in FIGS. 1 to 3, the damping applying device 1B in the second embodiment includes (1) a bottom portion (more specifically, the base member 5) of the vibration damping object B, a vibration damping object It is arranged between the mounting portion C (more specifically, the sliding plate 4) on which the object B is mounted, and vibration of the vibration damping target object B causes vibration of the upper surface C1 of the mounting portion C. (2) a restoring force generating unit 6 that generates a restoring force that restores the relative position to the default position P1 when the relative position of the lower surface B1 of the object B changes from the default position P1 to the second position P2; and a pressing force generation unit 7 for generating a pressing force for pressing the lower surface B1 of the object to be shaken B against the upper surface C1 of the placement unit C. Further, as illustrated in FIG. 12, the damping applying device 1B in the second embodiment (3) reduces the frictional force that the damping object B receives from the upper surface C1 of the mounting portion C from the default position P1 to the third A frictional force adjuster 8 that changes depending on the magnitude of the distance to the second position P2 is provided.

図12に記載の例では、載置部Cの上面C1の第1領域AR1と制振対象物Bとの間の動摩擦係数が、載置部Cの上面C1の第2領域AR2と制振対象物Bとの間の動摩擦係数よりも大きい。また、図12に記載の例では、上述のデフォルト位置P1から第2位置P2までの距離が閾値eよりも小さい場合には、制振対象物Bの下面B1は上述の第1領域AR1に接触せず、上述のデフォルト位置P1から第2位置P2までの距離が閾値e以上になると、制振対象物Bの下面B1が上述の第1領域AR1と接触する。制振対象物Bの下面B1が上述の第1領域AR1と接すると、追加の摩擦力が発生する。 In the example shown in FIG. 12, the dynamic friction coefficient between the first area AR1 of the upper surface C1 of the mounting part C and the vibration damping object B is the same as that of the second area AR2 of the upper surface C1 of the mounting part C and the vibration damping object. larger than the coefficient of dynamic friction with object B. Further, in the example shown in FIG. 12, when the distance from the default position P1 to the second position P2 is smaller than the threshold e, the lower surface B1 of the damping object B contacts the first area AR1. If the distance from the default position P1 to the second position P2 is equal to or greater than the threshold value e, the lower surface B1 of the damping object B comes into contact with the first area AR1. When the lower surface B1 of the damping object B comes into contact with the above-described first area AR1, additional frictional force is generated.

第2の実施形態では、デフォルト位置P1から第2位置P2までの距離の大きさ、換言すれば、載置部Cの上面C1に対する制振対象物Bの下面B1の相対位置の変化の大きさに依存して、制振対象物Bに作用する制動力として機能する摩擦力の大きさが変更される。こうして、広範囲の入力加速度に対して、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。例えば、制振対象物Bに入力される入力加速度が大きく、制振対象物Bの振幅が大きい場合には、より大きな制動力が作用する。その結果、制振対象物Bの振動を効果的に減衰させることができる。 In the second embodiment, the magnitude of the distance from the default position P1 to the second position P2, in other words, the magnitude of change in the relative position of the lower surface B1 of the damping object B with respect to the upper surface C1 of the mounting section C , the magnitude of the frictional force acting as the braking force acting on the damping object B is changed. In this way, the vibration of the damping object B can be effectively damped against a wide range of input acceleration. For example, when the input acceleration input to the damping object B is large and the amplitude of the damping object B is large, a larger braking force acts. As a result, the vibration of the damping object B can be effectively damped.

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although several embodiments of the invention have been described above, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

1、1A、1B…減衰付加装置、2…機器、3…床面、4…摺動盤、5…ベース部材、5A…側板、5B…下板、5C…上板、6…復元力発生部、7…押付力発生部、8…摩擦力調整部、9…棒バネ、9a…上端部、9b…下端部、9t…外面、10…第1嵌合部、11…第2嵌合部、12…第2シャフト、12a…上端部、12b…下端部、12t…外面、13…第2付勢力調整部材、14…座金、14a…第3座金、14b…第4座金、15…第2弾性部材、16…隙間、16a…第1隙間、16b…第2隙間、17…摺動ブロック、17a…第1ブロック、17b…第2ブロック、17h…貫通孔部、17t…外面、17w…下面、18…第1シャフト、18a…上端部、18b…下端部、19…第1付勢力調整部材、20…座金、20a…第1座金、20b…第2座金、21…第1弾性部材、22…弾性部材、91…固定部材、100…減衰付加装置、130…第2ナット、190…第1ナット、511d…第1アクセス孔部、511h…第1貫通孔部、512h…第2貫通孔部、513d…第2アクセス孔部、513h…第3貫通孔部、AR1…第1領域、AR2…第2領域、B…制振対象物、B1…下面、C…載置部、C1…上面、G3…第3隙間、G4…第4隙間、SP1…第1空間、SP2…第2空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1B... Attenuation addition apparatus, 2... Equipment, 3... Floor surface, 4... Sliding board, 5... Base member, 5A... Side plate, 5B... Lower plate, 5C... Upper plate, 6... Restoring force generation part , 7... Pressing force generating part, 8... Frictional force adjusting part, 9... Bar spring, 9a... Upper end part, 9b... Lower end part, 9t... Outer surface, 10... First fitting part, 11... Second fitting part, Reference Signs List 12 second shaft 12a upper end 12b lower end 12t outer surface 13 second biasing force adjusting member 14 washer 14a third washer 14b fourth washer 15 second elasticity Member 16 Gap 16a First gap 16b Second gap 17 Sliding block 17a First block 17b Second block 17h Through hole 17t Outer surface 17w Lower surface 18 First shaft 18a Upper end 18b Lower end 19 First biasing force adjusting member 20 Washer 20a First washer 20b Second washer 21 First elastic member 22 Elastic member 91 Fixed member 100 Attenuation addition device 130 Second nut 190 First nut 511d First access hole 511h First through hole 512h Second through hole 513d... second access hole portion, 513h... third through hole portion, AR1... first area, AR2... second area, B... damping object, B1... lower surface, C... placement section, C1... upper surface, G3 ... third gap, G4 ... fourth gap, SP1 ... first space, SP2 ... second space

Claims (7)

制振対象物の底部と、前記制振対象物が載置される載置部との間に配置され、前記制振対象物が振動することによって前記載置部の上面に対する前記制振対象物の下面の相対位置がデフォルト位置から第2位置に変化する場合に、前記相対位置を前記デフォルト位置に復元する復元力を発生させる復元力発生部と、
前記制振対象物の前記下面を前記載置部の前記上面に押し付ける押付力を発生させる押付力発生部と、
前記制振対象物が前記載置部の前記上面から直接的または間接的に受ける摩擦力を、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して変更する摩擦力調整部と
を具備する
減衰付加装置。
The vibration damping object is arranged between the bottom portion of the vibration damping object and a mounting portion on which the vibration damping object is placed, and the vibration of the vibration damping object causes the vibration damping object to move toward the top surface of the mounting portion. a restoring force generating unit that generates a restoring force that restores the relative position to the default position when the relative position of the lower surface of the lower surface changes from the default position to the second position;
a pressing force generation unit that generates a pressing force that presses the lower surface of the damping object against the upper surface of the mounting unit;
a frictional force adjusting unit that changes the frictional force directly or indirectly applied to the damping object from the upper surface of the mounting unit depending on the size of the distance from the default position to the second position; An attenuation addition device.
前記摩擦力調整部は、前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさに依存して、前記載置部の前記上面に対して摺動する摺動面の総面積を変更する
請求項1に記載の減衰付加装置。
The frictional force adjusting section changes a total area of a sliding surface that slides on the upper surface of the mounting section, depending on a distance from the default position to the second position. 2. The attenuation adding device according to 1.
前記摩擦力調整部は、前記制振対象物の前記底部を構成するベース部材とは独立して設けられる摺動ブロックを有し、
前記摺動ブロックは、前記摺動ブロックと前記ベース部材との間に隙間が形成されるように、前記載置部を構成する摺動盤に載置され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが前記隙間の大きさよりも大きい場合に、前記ベース部材が前記摺動ブロックと接触することにより前記摩擦力が増加されるように構成される
請求項1または2に記載の減衰付加装置。
The frictional force adjustment unit has a sliding block provided independently of a base member that constitutes the bottom of the vibration damping object,
The sliding block is mounted on a sliding disk that constitutes the mounting portion such that a gap is formed between the sliding block and the base member,
When the size of the distance from the default position to the second position is greater than the size of the gap, the frictional force is increased by the contact of the base member with the sliding block. The attenuation adding device according to claim 1 or 2.
前記摩擦力調整部は、
前記摺動盤に固定される第1シャフトと、
前記第1シャフトの長手方向軸に沿って位置変更可能な第1付勢力調整部材と、
前記第1付勢力調整部材と前記摺動ブロックとの間に配置され、前記摺動ブロックに前記摺動盤に向かう方向に第1付勢力を付与する第1弾性部材と
を有する
請求項3に記載の減衰付加装置。
The frictional force adjustment unit is
a first shaft fixed to the sliding disk;
a first biasing force adjustment member positionable along the longitudinal axis of the first shaft;
and a first elastic member disposed between the first biasing force adjusting member and the sliding block, and applying a first biasing force to the sliding block in a direction toward the sliding disk. Attenuation addition device as described.
前記摩擦力調整部は、前記ベース部材と前記摺動ブロックとの間の前記隙間に配置される弾性部材を有する
請求項3または4に記載の減衰付加装置。
The damping addition device according to claim 3 or 4, wherein the frictional force adjusting section has an elastic member arranged in the gap between the base member and the sliding block.
前記摺動ブロックは、第1ブロックおよび第2ブロックを含む複数のブロックを有し、
前記第1ブロックは、前記第1ブロックと前記ベース部材との間に第1隙間が形成されるように、前記摺動盤に載置され、
前記第2ブロックは、前記第2ブロックと前記ベース部材との間に前記第1隙間よりも大きな第2隙間が形成されるように、前記摺動盤に載置され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが、前記第1隙間の大きさよりも大きく、前記第2隙間の大きさよりも小さい場合に、前記ベース部材が前記第1ブロックと接触することにより前記摩擦力が増加されるように構成され、
前記デフォルト位置から前記第2位置までの距離の大きさが前記第2隙間の大きさよりも大きい場合に、前記ベース部材が前記第1ブロックおよび前記第2ブロックの両方と接触することにより前記摩擦力が更に増加されるように構成される
請求項3乃至5のいずれか一項に記載の減衰付加装置。
The sliding block has a plurality of blocks including a first block and a second block,
The first block is mounted on the sliding plate so that a first gap is formed between the first block and the base member,
The second block is mounted on the sliding plate so that a second gap larger than the first gap is formed between the second block and the base member,
When the size of the distance from the default position to the second position is larger than the size of the first gap and smaller than the size of the second gap, the base member contacts the first block. configured to increase the frictional force by
When the size of the distance from the default position to the second position is greater than the size of the second gap, the base member contacts both the first block and the second block, causing the frictional force 6. The damping addition device according to any one of claims 3 to 5, wherein is further increased.
前記復元力発生部は、前記ベース部材と前記摺動盤との間に配置され、前記ベース部材および前記摺動盤のそれぞれに支持される棒ばねを有し、
前記押付力発生部は、
前記摺動盤に固定される第2シャフトと、
前記第2シャフトの長手方向軸に沿って位置変更可能な第2付勢力調整部材と、
前記第2付勢力調整部材と前記ベース部材との間に配置され、前記ベース部材に前記摺動盤に向かう方向に第2付勢力を付与する第2弾性部材と
を有する
請求項3乃至6のいずれか一項に記載の減衰付加装置。
The restoring force generating unit has a bar spring disposed between the base member and the sliding disc and supported by the base member and the sliding disc, respectively;
The pressing force generating unit is
a second shaft fixed to the sliding disk;
a second biasing force adjustment member positionable along the longitudinal axis of the second shaft;
and a second elastic member disposed between the second biasing force adjusting member and the base member and applying a second biasing force to the base member in a direction toward the sliding disk. An attenuation adding device according to any one of the preceding claims.
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