JP2022173231A - Method for releasing molded article and apparatus for releasing - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、成型品をモールド(型)から離型する方法、及びその装置に関する。成型品は、好ましくは、インプリント成型品である。 The present invention relates to a method and apparatus for releasing a molded article from a mold. The molding is preferably an imprint molding.
近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとするモバイル電子機器においては、センサーやカメラ等の光学部品を搭載することにより製品価値を向上することが求められている。また、年々、小型化、薄型化が進み、使用される部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型法が注目を浴びている。しかし、インプリント成型法では、モールドからの成型品の離型性に問題が生じやすく、成型精度が損なわれる場合があった。 2. Description of the Related Art In recent years, mobile electronic devices such as mobile phones and smart phones are required to have optical components such as sensors and cameras to improve their product value. In addition, the size and thickness of electronic devices are becoming smaller and thinner year by year, and the parts used are also required to be smaller and thinner. Conventionally, such demands have been met by manufacturing parts by injection molding, but the injection molding method has reached its limit in responding to miniaturization and thinning. Therefore, an imprint molding method is attracting attention as a new molding method to replace the injection molding method. However, the imprint molding method tends to cause a problem in releasing the molded product from the mold, which may impair the molding accuracy.
インプリント成型においてモールドからの成型品を離型する方法としては、モールドと成型品の間にピンを差し込んで離型する方法(例えば、特許文献1)、成型品の周辺部を保持して垂直方向にモールドから離型する方法(例えば、特許文献2)、成型品の一部を保持して斜め方向にモールドから離型する方法(例えば、特許文献3、4)、モールドに振動や超音波を照射して離型をアシストする方法(例えば、特許文献5)、モールドを傾斜させて成型品から離型する方法(例えば、特許文献6)などが報告されている。
Methods for releasing the molded product from the mold in imprint molding include a method of releasing by inserting a pin between the mold and the molded product (for example, Patent Document 1), and a method of holding the periphery of the molded product vertically. A method of releasing from the mold in the direction (for example, Patent Document 2), a method of holding a part of the molded product and releasing it from the mold in an oblique direction (for example,
インプリント成型法では、一般にモールドに微細な形状パターンが形成されており、高度な成型精度が要求される。特に、ウェハレベルレンズアレイのように、一度の成型で複数の製品の集合体を成型する場合、ダイシングにより個々の製品に個片化する必要があるため、成型品全体の反りが小さく、さらに個々の製品間の位置精度に優れることが要求される。しかし、特許文献1~4の方法では、特に離型開始時において成型品の一部に過度の負荷がかかるため、成型品に反りが生じたり、位置精度が悪化するといった問題が生じることが判明した。また、モールドに樹脂やガラスを使用する場合は、モールド自体の強度が低く、特許文献5、6といった外部から力を加える方法は採用することが困難であった。
In the imprint molding method, a fine pattern is generally formed on the mold, and high molding accuracy is required. In particular, when molding an aggregate of multiple products in a single molding process, such as wafer-level lens arrays, it is necessary to separate the individual products by dicing. are required to have excellent positional accuracy between products. However, in the methods of
従って、本発明の目的は、モールドから高精度の成型品を取り出すことができる離型方法を提供することである。
また、本発明の他の目的は、モールドから高精度の成型品を取り出すことができる離型装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a mold release method capable of removing a highly accurate molded product from a mold.
Another object of the present invention is to provide a mold release device capable of removing a highly accurate molded product from a mold.
本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、モールドの成型面に付着した成型品をモールドから離型する際に、成型品のモールドに付着していない方の面の全体に特定の粘着力を有する粘着シートを貼り付けて離型することにより、離型時の負荷が成型品全体に均一に分散される結果、成型パターンの位置精度が高い高精度の成型品をモールドから安定的に取り出すことができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。 As a result of intensive studies by the present inventors in order to solve the above problems, when releasing the molded product adhering to the molding surface of the mold from the mold, the entire surface of the molded product that is not attached to the mold can be identified. By affixing an adhesive sheet with an adhesive force of 100% and releasing it from the mold, the load at the time of releasing from the mold is evenly distributed over the entire molded product. I found that it can be extracted. The present invention has been completed based on these findings.
すなわち、本発明は、モールドの成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターン形状が転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品を前記モールドから離型する方法であって、以下の工程を有することを特徴とする、前記成型品の離型方法を提供する。
第1工程:前記成型品の前記第2の面の全体に粘着力が3N/20mm以上の粘着シートを貼り付ける;
第2工程:前記粘着シートと前記モールドが離間する方向に、前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させることにより前記成型品を前記モールドから離型する。
That is, the present invention has a first surface to which the pattern shape of the molding surface is transferred and a second surface on the back side, which is formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold. Provided is a method for releasing a molded product from the mold, characterized by having the following steps.
First step: Affixing an adhesive sheet having an adhesive force of 3 N/20 mm or more to the entire second surface of the molded product;
Second step: releasing the molded article from the mold by relatively moving the adhesive sheet and the mold in a direction in which the adhesive sheet and the mold are separated from each other.
前記成型品の離型方法において、前記成型品は、前記第1の面上に2個以上の光学素子が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイであってもよい。 In the method for releasing a molded product, the molded product is an array having two or more optical elements arranged two-dimensionally on the first surface and having a substrate portion connecting these optical elements to each other. may
前記成型品の離型方法において、前記第2の面上に、前記粘着シートが貼り付く平面部が少なくとも存在することが好ましい。 In the method for releasing a molded product, it is preferable that at least a flat portion to which the pressure-sensitive adhesive sheet is attached is present on the second surface.
前記成型品の離型方法において、前記粘着シートは、基材と前記基材の一方の面に粘着剤層が積層された積層物であり、前記基材が樹脂であってもよい。 In the method for releasing a molded product, the adhesive sheet may be a laminate in which a base material and an adhesive layer are laminated on one surface of the base material, and the base material may be a resin.
前記成型品の離型方法は、さらに、以下の工程を有していてもよい。
第3工程:第2工程で得られる前記成型品の第2の面から前記粘着シートを剥離する。
The method for releasing the molded product may further include the following steps.
Third step: peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet from the second surface of the molded article obtained in the second step.
前記成型品の離型方法は、さらに、以下の工程を有していてもよい。
第3'工程:第2工程で得られる、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が前記粘着シートで固定された成型品をダイシングすることにより光学素子を個片化して光学部材を得る。
The method for releasing the molded product may further include the following steps.
3' step: dicing the molded article obtained in the second step, which has a plurality of optical elements arranged two-dimensionally on the first surface and the second surface is fixed with the adhesive sheet. Then, the optical element is separated into individual pieces to obtain an optical member.
前記成型品の離型方法において、前記光学素子は、ウェハレベルレンズであってもよい。 In the method for releasing a molded product, the optical element may be a wafer level lens.
前記成型品の離型方法において、前記硬化性材料は、硬化性エポキシ樹脂組成物であってもよい。 In the method for releasing a molded product, the curable material may be a curable epoxy resin composition.
前記成型品の離型方法において、前記モールドを構成する材質は、樹脂、金属、及びガラスからなる群から選択される少なくとも1種であってもよい。 In the method for releasing a molded product, the material forming the mold may be at least one selected from the group consisting of resin, metal, and glass.
前記成型品の離型方法において、前記モールドの成型面のパターン領域の少なくとも一部は離型剤で処理されていてもよい。 In the mold releasing method, at least part of the patterned area of the molding surface of the mold may be treated with a mold release agent.
また、本発明は、モールドの成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターンが転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品を前記モールドから離型する装置であって、
前記第2の面に粘着シートの貼り付けを行う貼付手段と、
前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させる移動手段と、
前記貼付手段を制御して、前記成型品の第2の面の全体に前記粘着シートを貼り付ける貼付制御手段と、
前記移動手段を制御して、前記粘着シートと前記モールドが離間する方向に、前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させる移動制御手段と、を含むことを特徴とする離型装置を提供する。
In addition, the present invention provides a molding having a first surface to which the pattern of the molding surface is transferred and a second surface on the back side, which is formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold. An apparatus for releasing an article from said mold, comprising:
an attaching means for attaching an adhesive sheet to the second surface;
moving means for relatively moving the adhesive sheet and the mold;
a sticking control means for controlling the sticking means to stick the adhesive sheet on the entire second surface of the molded product;
a movement control means for controlling the moving means to relatively move the adhesive sheet and the mold in a direction in which the adhesive sheet and the mold are separated from each other. .
本発明の離型方法及び離型装置は上記構成を有するため、成型品をモールドから離型する際の負荷が成型品全体に均一に分散される結果、成型パターンの位置精度が高い高精度の成型品をモールドから安定的に取り出すことができる。
本発明の離型方法又は離型装置は、一度の成型(好ましくは、インプリント成型)で複数の製品の集合体の成型品に使用することにより、個々の製品の位置関係のずれが小さい高精度の成型品を安定的に製造することができるので、例えば、携帯電話、スマートフォンをはじめとするモバイル電子機器のセンサー用レンズやカメラ用レンズを効率的に製造するためのウェハレベルレンズアレイの製造に好適に適用することができる。
Since the mold release method and the mold release device of the present invention have the above-described configuration, the load applied when the molded product is released from the mold is uniformly distributed over the entire molded product. A molded product can be stably removed from the mold.
The mold release method or mold release device of the present invention can be used for a single molding (preferably, imprint molding) for a molded product that is an assembly of a plurality of products. Since it is possible to stably manufacture precision molded products, for example, manufacturing of wafer level lens arrays for efficiently manufacturing sensor lenses and camera lenses for mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones. can be suitably applied to
本発明の典型的な実施形態について図面を参照しつつ説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。 Exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto and is merely illustrative.
[成型品の離型方法]
本発明の成型品の離型方法(以下、「本発明の離型方法」と称す場合がある)は、モールド(以下、「本発明のモールド」と称す場合がある)の成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターン形状が転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品(以下、「本発明の成型品」と称す場合がある)を前記モールドから離型する方法であって、以下の工程を有することを特徴とする。
第1工程:前記成型品の前記第2の面の全体に粘着力が3N/20mm以上の粘着シート(以下、「本発明の粘着シート」と称す場合がある)を貼り付ける;
第2工程:前記粘着シートと前記モールドが離間する方向に、前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させることにより前記成型品を前記モールドから離型する。
[Release method of molded product]
The mold release method of the present invention (hereinafter sometimes referred to as "the mold release method of the present invention") is supplied to the molding surface of the mold (hereinafter sometimes referred to as the "mold of the present invention"). A molded article having a first surface to which the pattern shape of the molding surface is transferred and a second surface on the back side (hereinafter referred to as the "molded article of the present invention"), which is formed by curing the curable material. ) from the mold, characterized by comprising the following steps.
First step: Affixing an adhesive sheet having an adhesive force of 3 N/20 mm or more (hereinafter sometimes referred to as "adhesive sheet of the present invention") to the entire second surface of the molded product;
Second step: releasing the molded article from the mold by relatively moving the adhesive sheet and the mold in a direction in which the adhesive sheet and the mold are separated from each other.
[モールド]
図1に、本発明のモールドの一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。
[mold]
FIG. 1 shows a schematic diagram of an example of the mold of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.
本発明のモールド1は、パターン領域11(パターン形状は図示略)を有する成型面1Aを少なくとも有する。本発明のモールド1の成型面1Aは、パターン領域11以外に、パターン領域11の周囲に非パターン領域12を有していてもよい。
The
本発明のモールドにおいて、パターン領域には、成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸のパターン形状(所望の成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドが有するパターン形状部の水平面の形状は、特に限定されないが、アスペクト比が0.1~1であることが好ましく、より好ましくは0.5~1であり、1に近いほど好ましい。上記アスペクト比は、上記水平面の形状のうち最長の方向を横方向としたときの横方向の長さに対する縦方向の長さの割合である。上記アスペクト比が上記範囲内であると、本発明の成型品全体で硬化度が均等となりやすく、硬化前後で位置ずれが起こりにくくなる。上記水平面の形状は、図1(a)に示すように、パターン領域11が上面となるようにモールドを水平位置に静置したときの上面(図1(b)に相当)から見たパターン形状部の形状である。
In the mold of the present invention, the pattern region is provided with a reverse concave-convex pattern shape (a reverse shape of the desired molded product) corresponding to the desired shape for giving the molded product a desired shape. The shape of the horizontal surface of the pattern-shaped portion of the mold is not particularly limited, but the aspect ratio is preferably 0.1 to 1, more preferably 0.5 to 1, and the closer to 1, the better. The aspect ratio is the ratio of the length in the vertical direction to the length in the horizontal direction when the longest direction of the shape of the horizontal plane is taken as the horizontal direction. When the aspect ratio is within the above range, the degree of curing tends to be uniform throughout the molded article of the present invention, and positional deviation is less likely to occur before and after curing. As shown in FIG. 1(a), the shape of the horizontal plane is the pattern shape viewed from the upper surface (corresponding to FIG. 1(b)) when the mold is placed horizontally so that the
本発明のモールドを構成する材質は、特に限定されないが、樹脂、金属、ガラス、これら材料の組み合わせなどが挙げられる。 Materials constituting the mold of the present invention are not particularly limited, but resins, metals, glass, combinations of these materials, and the like can be mentioned.
本発明のモールドを構成する樹脂としては、特に限定されないが、上記硬化性材料との相性(濡れ性等)、硬化後の成型品の形状精度、剥離性(離型性)等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。 The resin constituting the mold of the present invention is not particularly limited. selected, for example, silicone-based resin (dimethylpolysiloxane, etc.), fluorine-based resin, polyolefin-based resin (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefin, etc.), polyethersulfone-based resin, polycarbonate-based resin, polyester-based resin (polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide resins, polymethyl methacrylate, and the like.
本発明のモールドを構成する金属としては、特に限定されないが、鉄、鉄合金(ステンレス、パーマロイなど)、ニッケル、真鍮、シリコンウェハ、銅、銅合金、金、銀、コバルト、アルミニウム、亜鉛、錫、錫合金、チタン、クロムなどの金属材料が挙げられる。本発明のモールドが金属から構成される場合、成型面は、ニッケル等の金属材料の無電解メッキ、電鋳などのメッキ処理、フォトリソグラフィーによる形状加工などがされていてもよい。 Metals constituting the mold of the present invention are not particularly limited, but are iron, iron alloys (stainless steel, permalloy, etc.), nickel, brass, silicon wafers, copper, copper alloys, gold, silver, cobalt, aluminum, zinc, tin. , tin alloys, titanium, and chromium. When the mold of the present invention is made of metal, the molding surface may be subjected to electroless plating of a metal material such as nickel, plating treatment such as electroforming, or shaping by photolithography.
本発明のモールドを構成する材質としては、樹脂が好ましく、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む硬化性材料との相性、形状精度に優れる。また、成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、成型品をより容易に取り出すことができる。 Resins are preferable as the material constituting the mold of the present invention, and silicone resins are particularly preferable. When a silicone resin is used, compatibility with a curable material containing an epoxy compound and excellent shape accuracy are obtained. In addition, since the releasability of the molded product and the flexibility of the mold are excellent, the molded product can be taken out more easily.
本発明のモールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。本発明のモールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、その後熱硬化させることにより製造することができる。樹脂組成物の成型には、所望の凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
A commercially available product or a manufactured product may be used as the mold of the present invention. When manufacturing the mold of the present invention, for example, it can be manufactured by molding (preferably imprint molding) a resin composition forming the mold, and then thermally curing the resin composition. A mold having a desired concave-convex shape can be used for molding the resin composition, and for example, it can be produced by the following methods (1) and (2).
(1) A method in which a mold is pressed against the coating film of the resin composition applied on the substrate, the coating film of the resin composition is cured, and then the mold is peeled off. (2) The resin composition is applied to the mold. A method in which an object is directly coated, a substrate is adhered from above, the coating film of the resin composition is cured, and the mold is peeled off.
本発明のモールドの成型面では、上記パターン領域の少なくとも一部が離型剤で処理されていてもよい。離型剤の処理方法としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等の離型剤を塗布することにより離型膜を形成する方法や、フッ素樹脂等を真空蒸着することにより蒸着離型膜を形成する方法等が挙げられる。上記離型剤の塗布方法としては、スプレーコート法、ディップコート法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。 On the molding surface of the mold of the present invention, at least part of the pattern region may be treated with a release agent. As a method of treating the release agent, for example, a method of forming a release film by applying a release agent such as a fluorine-based release agent, a silicone-based release agent, or a wax-based release agent, or a method of forming a release film using a fluororesin, etc. and a method of forming a vapor deposition release film by vacuum vapor deposition. Examples of the method of applying the release agent include a spray coating method, a dip coating method, a spin coating method, and a screen printing method.
上記離型膜は1層であっても多層であってもよい。又、離型膜が多層である場合、各層は同じ成分で形成されていてもよく、異なる成分で形成されていてもよい。本発明においては、なかでも、フッ素系離型剤が塗布された離型膜を成型面に有するモールドが、優れた離型性を有する点で好ましい。 The release film may be a single layer or multiple layers. Moreover, when the release film has multiple layers, each layer may be formed of the same component or may be formed of different components. In the present invention, among others, a mold having a release film coated with a fluorine-based release agent on its molding surface is preferable because it has excellent releasability.
[成型品]
図2に、本発明の成型品の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。
[Molded product]
FIG. 2 shows a schematic diagram of an example of the molded product of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.
本発明の成型品2は、本発明のモールド1の成型面1Aのパターン形状11が転写された第1の面2Aとその裏側の第2の面2Bを有する。本発明の成型品2の形状は、当該第1の面2Aと第2の面2Bを有している限り特に限定されないが、図2に示すように、第1の面2Aと第2の面2Bを有する基板が好ましい。
The molded
本発明の成型品の第1の面2Aは、本発明のモールドの成型面1Aのパターン領域11のパターン形状が転写された反転形状を有する転写領域21(パターン形状は図示略)を有する。第1の面2Aは、転写領域21以外に、転写領域21の周囲に非転写領域22を有していてもよい。
The
第1の面2A上の転写領域21に形成されるパターン形状は、特に限定されないが、高品質の光学部材に好ましく適応され、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)、光学回折素子等が挙げられ、特に、高い精度が求められるレンズが好ましい。
The pattern shape formed in the
レンズの種類や形状は、特に制限されないが、例えば、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、オプトエレクトロニクス用レンズ、レーザー用レンズ、ピックアップ用レンズ、車載カメラ用レンズ、携帯カメラ用レンズ、スマートフォン用レンズ、デジタルカメラ用レンズ、OHP用レンズ、フレネルレンズ、マイクロレンズ、ウェハレベルレンズ等が挙げられ、特に、小型、薄型で高い精度が求められるウェハレベルレンズに好ましく適用できる。 The type and shape of the lens are not particularly limited, but for example, spectacle lenses, lenses for optical equipment, lenses for optoelectronics, lenses for lasers, lenses for pickups, lenses for in-vehicle cameras, lenses for mobile cameras, lenses for smartphones, lenses for digital Camera lenses, OHP lenses, Fresnel lenses, microlenses, wafer level lenses, etc. can be mentioned, and in particular, it is preferably applied to wafer level lenses that are required to be small, thin and have high precision.
本発明の成型品は、特に限定はされないが、第1の面上に上記光学部材の素子(光学素子)の2個以上が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイ(光学素子アレイ)に好適に適用できる。本発明の成型品は、成型品全体の反りが小さく、成型パターンの位置精度が高いことから、光学素子アレイを個々の光学素子に個片化した場合、形状精度が揃った複数の光学素子を得ることができる。光学素子アレイがウェハレベルレンズアレイの場合、レンズの直径は、例えば1~5mmである。また、前記基板部幅は、例えば1mm以下、好ましくは0.05~1mm、特に好ましくは0.05~0.5mmである。 Although the molded product of the present invention is not particularly limited, two or more of the elements (optical elements) of the optical member are two-dimensionally arranged on the first surface, and a substrate portion connecting these optical elements to each other. can be suitably applied to an array (optical element array) having Since the molded product of the present invention has a small warpage of the entire molded product and a high positional accuracy of the molding pattern, when the optical element array is singulated into individual optical elements, a plurality of optical elements with uniform shape accuracy can be obtained. Obtainable. If the optical element array is a wafer level lens array, the lens diameter is, for example, 1-5 mm. Further, the width of the substrate portion is, for example, 1 mm or less, preferably 0.05 to 1 mm, particularly preferably 0.05 to 0.5 mm.
本発明の成型品の第2の面は、特に限定されないが、パターン形状を有していてもよく、パターン形状を有しない平面状であってもよいが、本発明の離型方法の第1工程で、粘着シートが貼り付いて第2の面に安定的に固定するための平面部を少なくとも有することが好ましい。当該平面部の面積の第2の面の全体面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは15%以上、より好ましくは25%以上、さらに好ましくは35%以上である。前記平面部の面積の割合が15%以上であることにより、第2の面を本発明の粘着シートに安定的に固定することができ、成型品をモールドから確実に離型することができる。平面部の面積の割合の上限は、特に限定されず、100%、すなわち第2の面の全面が平面部であってもよい。上記平面部の面積、第2の面の全体面積は、図2(a)に示すように、第2の面が上面となるように成型品を水平位置に静置したときの上面(図2(b))から見た平面部、第2の面の全体の投影図の面積である。以下、本願明細書で「面積」という場合は、同様に定義するものとする。 The second surface of the molded product of the present invention is not particularly limited, and may have a pattern shape or may be planar without a pattern shape. In the process, it is preferable to have at least a flat portion to which the adhesive sheet is attached and which is stably fixed to the second surface. The ratio of the area of the flat portion to the total area (100%) of the second surface is not particularly limited, but is preferably 15% or more, more preferably 25% or more, and still more preferably 35% or more. When the area ratio of the flat portion is 15% or more, the second surface can be stably fixed to the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention, and the molded product can be reliably released from the mold. The upper limit of the ratio of the area of the flat portion is not particularly limited, and may be 100%, that is, the entire surface of the second surface may be the flat portion. As shown in FIG. 2(a), the area of the flat portion and the total area of the second surface are the top surface (Fig. 2 It is the area of the projection view of the whole of the plane part and the 2nd surface seen from (b)). Hereinafter, the term "area" in the specification of the present application shall be similarly defined.
本発明の成型品の第2の面がパターン形状を有している場合、特に限定されないが、本発明の粘着シートが貼り付く前記平面部に対して凸部を有しないことが好ましい。第2の面が前記平面部に対して凸部を有すると、本発明の粘着シートが第2の面の平面部に十分に貼り付くことができず、成型品の離型がうまくできない場合がある。 When the second surface of the molded product of the present invention has a pattern shape, it is not particularly limited, but preferably does not have a convex portion with respect to the planar portion to which the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is attached. If the second surface has a convex portion with respect to the flat portion, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention cannot be sufficiently attached to the flat portion of the second surface, and the molded product may not be released well. be.
本発明の成型品の第2の面がパターン形状を有している場合、特に限定されないが、本発明の粘着シートが貼り付く前記平面部に対して凹部を有していてもよい。その際、本発明の成型品が光学素子アレイである場合、第2の面に存在する2個以上の凹部が第1の面に存在する上記2個以上の光学素子に対応する位置に配列していることが好ましい。 When the second surface of the molded product of the present invention has a pattern shape, it is not particularly limited, but it may have recesses with respect to the planar portion to which the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is attached. At that time, when the molded product of the present invention is an optical element array, the two or more concave portions present on the second surface are arranged at positions corresponding to the two or more optical elements present on the first surface. preferably.
本発明の成型品の第2の面が本発明の粘着シートが貼り付く前記平面部に対して凹部を有している場合、凹部の面積の第2の面2Bの全体面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは85%以下、より好ましくは75%以下、さらに好ましくは65%以下である。前記凹部の面積の割合が85%以下であることにより、第2の面を本発明の粘着シートに安定的に固定することができ、成型品をモールドから確実に離型することができる。第2の面の全面積に対する凹部の面積の割合の下限値は、特に限定されず、0%、すなわち、第2の面に凹部が存在しない場合も本願発明は包含する。
When the second surface of the molded product of the present invention has a concave portion with respect to the flat portion to which the adhesive sheet of the present invention is attached, the area of the concave portion with respect to the entire area (100%) of the
本発明の成型品は、本発明のモールドの成型面に硬化性材料を供給して硬化することにより形成することができる。 The molded article of the present invention can be formed by supplying a curable material to the molding surface of the mold of the present invention and curing it.
上記硬化性材料は、特に限定されないが、成型品の量産性や成型性の観点から、短時間に硬化し、耐熱性に優れる樹脂が好ましく、エポキシ系カチオン硬化性樹脂組成物、アクリル系ラジカル硬化性樹脂組成物、硬化性シリコーン樹脂組成物等が挙げられ、このうち、短時間に硬化し、モールドへのキャスト時間が短く、硬化収縮率が小さく寸法安定性に優れ、硬化時に酸素阻害を受けないエポキシ系カチオン硬化性樹脂組成物(硬化性エポキシ樹脂組成物)が好ましい。 The curable material is not particularly limited, but from the viewpoint of mass production and moldability of the molded product, a resin that cures in a short time and has excellent heat resistance is preferable. curable resin compositions, curable silicone resin compositions, etc., which cure in a short time, have a short casting time in a mold, have a small curing shrinkage rate, are excellent in dimensional stability, and are susceptible to oxygen inhibition during curing. An epoxy cationic curable resin composition (curable epoxy resin composition) is preferred.
エポキシ樹脂としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、例えば、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。本発明においては、なかでも、耐熱性、及び透明性に優れた硬化物を形成することができる点で、1分子内に脂環構造と、官能基としてのエポキシ基を2個以上有する、多官能脂環式エポキシ化合物が好ましい。 As the epoxy resin, known or commonly used compounds having one or more epoxy groups (oxirane ring) in the molecule can be used. Examples include alicyclic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, and the like. mentioned. In the present invention, among others, in terms of being able to form a cured product having excellent heat resistance and transparency, a multi-polyether having an alicyclic structure and two or more epoxy groups as functional groups in one molecule. Functional cycloaliphatic epoxy compounds are preferred.
前記多官能脂環式エポキシ化合物としては、具体的には、
(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(すなわち、脂環エポキシ基)を有する化合物
(ii)脂環に直接単結合で結合したエポキシ基を有する化合物
(iii)脂環とグリシジル基とを有する化合物
等が挙げられる。
Specifically, the polyfunctional alicyclic epoxy compound is
(i) a compound having an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and an oxygen atom constituting an alicyclic ring (that is, an alicyclic epoxy group); (iii) a compound having an alicyclic ring and a glycidyl group, and the like.
上述の脂環エポキシ基を有する化合物(i)としては、例えば、下記式(i)で表される化合物を挙げられる。
上記式(i)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。尚、式(i)中のシクロヘキセンオキシド基には、置換基(例えば、アルキル基等)が結合していてもよい。 In formula (i) above, X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and these and a group in which a plurality of is linked. Incidentally, the cyclohexene oxide group in formula (i) may be bonded with a substituent (for example, an alkyl group, etc.).
上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン基、1,3-シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2-シクロヘキシレン基、1,3-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include linear or branched alkylene groups having 1 to 18 carbon atoms, divalent alicyclic hydrocarbon groups, and the like. Examples of linear or branched alkylene groups having 1 to 18 carbon atoms include methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene group and trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3- Cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group are included.
上記炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1-ブテニレン基、2-ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2~8の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2~4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as "epoxidized alkenylene group") include vinylene group, propenylene group, and 1-butenylene group. , 2-butenylene group, butadienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group, and other linear or branched alkenylene groups having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably an alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. It is an alkenylene group.
上記Xにおける連結基としては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、-CO-、-O-CO-O-、-COO-、-O-、-CONH-、エポキシ化アルケニレン基;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と上記二価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基等が挙げられる。 As the linking group for X, a linking group containing an oxygen atom is particularly preferable, and specifically, -CO-, -O-CO-O-, -COO-, -O-, -CONH-, epoxy a modified alkenylene group; a group in which a plurality of these groups are linked; a group in which one or more of these groups are linked to one or more of the above divalent hydrocarbon groups;
上記式(i)で表される化合物の代表的な例としては、(3,4,3',4'-ジエポキシ)ビシクロヘキシル、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、1,2-エポキシ-1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタン、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)プロパン、1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタンや、下記式(i-1)~(i-10)で表される化合物等が挙げられる。下記式(i-5)中のLは炭素数1~8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1~3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i-5)、(i-7)、(i-9)、(i-10)中のn1~n8は、それぞれ1~30の整数を示す。 Representative examples of the compound represented by formula (i) above include (3,4,3′,4′-diepoxy)bicyclohexyl, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether, 1,2- Epoxy-1,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)ethane, 2,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)propane, 1,2-bis(3,4- Examples thereof include epoxycyclohexan-1-yl)ethane and compounds represented by the following formulas (i-1) to (i-10). L in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. alkylene groups are preferred. n 1 to n 8 in the following formulas (i-5), (i-7), (i-9) and (i-10) each represent an integer of 1 to 30.
上述の脂環エポキシ基を有する化合物(i)には、エポキシ変性シロキサンも含まれる。 Epoxy-modified siloxane is also included in the compound (i) having an alicyclic epoxy group described above.
エポキシ変性シロキサンとしては、例えば、下記式(i')で表される構成単位を有する、鎖状又は環状のポリオルガノシロキサンが挙げられる。
上記式(i')中、R1は下記式(1a)又は(1b)で表されるエポキシ基を含む置換基を示し、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示す。 In formula (i') above, R 1 represents an epoxy group-containing substituent represented by the following formula (1a) or (1b), and R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group.
式中、R1a、R1bは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。 In the formula, R 1a and R 1b are the same or different and represent a linear or branched alkylene group, such as methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetra Linear or branched alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms such as methylene group, pentamethylene group, hexamethylene group and decamethylene group can be mentioned.
エポキシ変性シロキサンのエポキシ当量(JIS K7236に準拠)は、例えば100~400、好ましくは150~300である。 The epoxy equivalent of the epoxy-modified siloxane (according to JIS K7236) is, for example, 100-400, preferably 150-300.
エポキシ変性シロキサンとしては、例えば、下記式(i’-1)で表されるエポキシ変性環状ポリオルガノシロキサン(商品名「X-40-2670」、信越化学工業(株)製)等の市販品を用いることができる。
上述の脂環に直接単結合で結合したエポキシ基を有する化合物(ii)としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。
式(ii)中、R'は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(-OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、n9はそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R'-(OH)p]としては、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノール等の多価アルコール(炭素数1~15のアルコール等)等が挙げられる。pは1~6が好ましく、n9は1~30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの角括弧(外側の括弧)内の基におけるn9は同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R' is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of p-valent alcohol, and p and n9 each represent a natural number. Examples of the p-valent alcohol [R'-(OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol. p is preferably 1-6, and n 9 is preferably 1-30. When p is 2 or more, n 9 in groups within each square bracket (outer bracket) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include a 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol [for example, , trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.] and the like.
上述の脂環とグリシジル基とを有する化合物(iii)としては、例えば、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビフェノール型エポキシ化合物、水添フェノールノボラック型エポキシ化合物、水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAの水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物、水添ナフタレン型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物の水添物等の水素化芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound (iii) having an alicyclic ring and a glycidyl group described above include hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated biphenol type epoxy compounds, hydrogenated phenol novolac type epoxy compounds, Hydrogenated aromatic glycidyl ether epoxy compounds such as hydrogenated cresol novolak type epoxy compounds, hydrogenated cresol novolac type epoxy compounds of bisphenol A, hydrogenated naphthalene type epoxy compounds, hydrogenated products of trisphenolmethane type epoxy compounds, and the like. be done.
多官能脂環式エポキシ化合物としては、表面硬度が高く、透明性に優れた硬化物が得られる点で、脂環エポキシ基を有する化合物(i)が好ましく、上記式(i)で表される化合物(特に、(3,4,3',4'-ジエポキシ)ビシクロヘキシル)が特に好ましい。 As the polyfunctional alicyclic epoxy compound, the compound (i) having an alicyclic epoxy group is preferable in that a cured product having high surface hardness and excellent transparency can be obtained, and is represented by the above formula (i). Compounds (especially (3,4,3′,4′-diepoxy)bicyclohexyl) are particularly preferred.
本発明における硬化性樹脂組成物は、硬化性化合物としてエポキシ樹脂以外にも他の硬化性化合物を含有していても良く、例えば、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等のカチオン硬化性化合物を1種又は2種以上含有することができる。 The curable resin composition in the present invention may contain other curable compounds other than the epoxy resin as the curable compound. It can contain more than one species.
前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占めるエポキシ樹脂の割合は、例えば50重量%以上、好ましくは60重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、最も好ましくは80重量%以上である。尚、上限は、例えば100重量%、好ましくは90重量%である。 The ratio of the epoxy resin to the total amount of curable compounds (100% by weight) contained in the curable resin composition is, for example, 50% by weight or more, preferably 60% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and most preferably 80% by weight or more. The upper limit is, for example, 100% by weight, preferably 90% by weight.
また、前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占める脂環エポキシ基を有する化合物(i)の割合は、例えば20重量%以上、好ましくは30重量%以上、特に好ましくは40重量%以上である。尚、上限は、例えば70重量%、好ましくは60重量%である。 In addition, the ratio of the compound (i) having an alicyclic epoxy group to the total amount of curable compounds (100% by weight) contained in the curable resin composition is, for example, 20% by weight or more, preferably 30% by weight or more, and particularly Preferably, it is 40% by weight or more. The upper limit is, for example, 70% by weight, preferably 60% by weight.
また、前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占める式(i)で表される化合物の割合は、例えば10重量%以上、好ましくは15重量%以上、特に好ましくは20重量%以上である。尚、上限は、例えば50重量%、好ましくは40重量%である。 Further, the ratio of the compound represented by formula (i) to the total amount of curable compounds (100% by weight) contained in the curable resin composition is, for example, 10% by weight or more, preferably 15% by weight or more, and particularly preferably is 20% by weight or more. The upper limit is, for example, 50% by weight, preferably 40% by weight.
前記硬化性樹脂組成物は、上記硬化性化合物と共に重合開始剤を含有することが好ましく、なかでも光又は熱重合開始剤(特に、光又は熱カチオン重合開始剤)を1種又は2種以上含有することが好ましい。 The curable resin composition preferably contains a polymerization initiator together with the curable compound, and contains one or more photo- or thermal polymerization initiators (especially photo- or thermal cationic polymerization initiators). preferably.
光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。 A photocationic polymerization initiator is a compound that generates an acid upon irradiation with light and initiates a curing reaction of a curable compound (in particular, a cationic curable compound) contained in a curable resin composition, and absorbs light. It consists of a cation part and an anion part that is a source of acid generation.
光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等を挙げられる。 Examples of photocationic polymerization initiators include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, bromine salt compounds, and the like. can be mentioned.
本発明においては、なかでも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた硬化物を形成することができる点で好ましい。スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、(4-ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン、トリ-p-トリルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)を挙げられる。 In the present invention, among others, it is preferable to use a sulfonium salt compound because a cured product having excellent curability can be formed. Examples of the cation moiety of the sulfonium salt compound include (4-hydroxyphenyl)methylbenzylsulfonium ion, triphenylsulfonium ion, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium ion, 4-(4-biphenylylthio)phenyl Arylsulfonium ions (especially triarylsulfonium ions) such as -4-biphenylylphenylsulfonium ion and tri-p-tolylsulfonium ion can be mentioned.
光カチオン重合開始剤のアニオン部としては、例えば、[(Y)sB(Phf)4-s]-(式中、Yはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子から選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0~3の整数である)、BF4 -、[(Rf)tPF6-t]-(式中、Rfは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を示す。tは0~5の整数を示す)、AsF6 -、SbF6 -、SbF5OH-等を挙げられる。 Examples of the anion portion of the photocationic polymerization initiator include [(Y) s B(Phf) 4-s ] − (wherein Y represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf represents at least one hydrogen atom a phenyl group substituted with at least one selected from a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkoxy group, and a halogen atom, where s is an integer of 0 to 3), BF 4 − , [(Rf) t PF 6-t ] − (wherein Rf represents an alkyl group in which 80% or more of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms; t represents an integer of 0 to 5), AsF 6 − , SbF 6 − , SbF 5 OH - and the like.
光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4-ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル]-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4-(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4-(2-チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル-2-チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、商品名「サイラキュアUVI-6970」、「サイラキュアUVI-6974」、「サイラキュアUVI-6990」、「サイラキュアUVI-950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「Irgacure250」、「Irgacure261」、「Irgacure264」、「CG-24-61」(以上、BASF社製)、「オプトマーSP-150」、「オプトマーSP-151」、「オプトマーSP-170」、「オプトマーSP-171」(以上、(株)ADEKA製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI-2064」、「CI-2639」、「CI-2624」、「CI-2481」、「CI-2734」、「CI-2855」、「CI-2823」、「CI-2758」、「CIT-1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI-2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート トリルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI-102」、「BBI-101」、「BBI-103」、「MPI-103」、「TPS-103」、「MDS-103」、「DTS-103」、「NAT-103」、「NDS-103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD-1010」、「CD-1011」、「CD-1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI-100P」、「CPI-101A」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of photocationic polymerization initiators include (4-hydroxyphenyl)methylbenzylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, 4-(4-biphenylylthio)phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl) borate, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, [4-(4-biphenylylthio)phenyl]-4-biphenylylphenylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, diphenyl[4 -(phenylthio)phenyl]sulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium hexafluorophosphate, 4 -(4-biphenylylthio)phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide phenyltris(pentafluorophenyl)borate, [4- (2-thioxanthonylthio)phenyl]phenyl-2-thioxanthonylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, trade name “Cyracure UVI-6970”, “ Cyracure UVI-6974", "Cyracure UVI-6990", "Cyracure UVI-950" (manufactured by Union Carbide, USA), "Irgacure250", "Irgacure261", "Irgacure264", "CG-24-61" (above , manufactured by BASF), “Optomer SP-150”, “Optomer SP-151”, “Optomer SP-170”, “Optomer SP-171” (manufactured by ADEKA Corporation), “DAICAT II” (manufactured by ) manufactured by Daicel), “UVAC1590”, “UVAC1591” (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), “CI-2064”, “CI-2639”, “CI-2624”, “CI-2481”, “CI -2734", "CI-2855", "CI-2823", "CI-2758" , "CIT-1682" (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), "PI-2074" (manufactured by Rhodia, tetrakis (pentafluorophenyl) borate trilycumyl iodonium salt), "FFC509" (manufactured by 3M), "BBI-102", "BBI-101", "BBI-103", "MPI-103", "TPS-103", "MDS-103", "DTS-103", "NAT-103", "NDS -103” (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), “CD-1010”, “CD-1011”, “CD-1012” (manufactured by Sartomer, USA), “CPI-100P”, “CPI- 101A" (manufactured by San-Apro Co., Ltd.).
熱カチオン重合開始剤は、加熱処理を施すことによって酸を発生して、硬化性樹脂組成物に含まれるカチオン硬化性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、熱を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。熱カチオン重合開始剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 The thermal cationic polymerization initiator is a compound that generates acid by heat treatment and initiates the curing reaction of the cationic curable compound contained in the curable resin composition. It consists of an anion part that serves as a generation source. A thermal cationic polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物等を挙げることができる。 Examples of thermal cationic polymerization initiators include iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds.
熱カチオン重合開始剤のカチオン部としては、例えば、4-ヒドロキシフェニル-メチル-ベンジルスルホニウムイオン、4-ヒドロキシフェニル-メチル-(2-メチルベンジル)スルホニウムイオン、4-ヒドロキシフェニル-メチル-1-ナフチルメチルスルホニウムイオン、p-メトキシカルボニルオキシフェニル-ベンジル-メチルスルホニウムイオン等を挙げることができる。 Examples of the cationic moiety of the thermal cationic polymerization initiator include 4-hydroxyphenyl-methyl-benzylsulfonium ion, 4-hydroxyphenyl-methyl-(2-methylbenzyl)sulfonium ion, 4-hydroxyphenyl-methyl-1-naphthyl Methylsulfonium ion, p-methoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium ion and the like can be mentioned.
熱カチオン重合開始剤のアニオン部としては、上記光カチオン重合開始剤のアニオン部と同様の例を挙げることができる。 Examples of the anion portion of the thermal cationic polymerization initiator include the same examples as the anion portion of the photocationic polymerization initiator.
熱カチオン重合開始剤としては、例えば、4-ヒドロキシフェニル-メチル-ベンジルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-ヒドロキシフェニル-メチル-(2-メチルベンジル)スルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-ヒドロキシフェニル-メチル-1-ナフチルメチルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、p-メトキシカルボニルオキシフェニル-ベンジル-メチルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を挙げることができる。 Thermal cationic polymerization initiators include, for example, 4-hydroxyphenyl-methyl-benzylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate and 4-hydroxyphenyl-methyl-(2-methylbenzyl)sulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate. , 4-hydroxyphenyl-methyl-1-naphthylmethylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, p-methoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate and the like.
重合開始剤の含有量は、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、例えば0.1~5.0重量部となる範囲である。重合開始剤の含有量が上記範囲を下回ると、硬化不良を引き起こすおそれがある。一方、重合開始剤の含有量が上記範囲を上回ると、硬化物が着色しやすくなる傾向がある。 The content of the polymerization initiator is, for example, in the range of 0.1 to 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable compound (particularly the cationic curable compound) contained in the curable resin composition. If the content of the polymerization initiator is less than the above range, there is a risk of causing poor curing. On the other hand, when the content of the polymerization initiator exceeds the above range, the cured product tends to be easily colored.
本発明における硬化性樹脂組成物は、上記硬化性化合物と重合開始剤と、必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、表面調整剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を混合することによって製造することができる。他の成分の配合量は、硬化性樹脂組成物全量の、例えば20重量%以下、好ましくは10重量%以下、特に好ましくは5重量%以下である。 The curable resin composition in the present invention comprises the above curable compound, a polymerization initiator, and optionally other components (e.g., solvent, antioxidant, surface modifier, photosensitizer, antifoaming agent, leveling agent, etc.). agent, coupling agent, surfactant, flame retardant, ultraviolet absorber, colorant, etc.). The blending amount of other components is, for example, 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, particularly preferably 5% by weight or less, of the total amount of the curable resin composition.
本発明の硬化性樹脂組成物の25℃における粘度としては、特に限定されないが、5000mPa・s以下が好ましく、より好ましくは2500mPa・s以下である。本発明の硬化性樹脂組成物の粘度を上記範囲に調整することにより、流動性が向上し、気泡が残存しにくくなり、注入圧の上昇を抑制しつつ、モールドへの充填を行うことができる。即ち、塗布性及び充填性を向上することができ、本発明の硬化性樹脂組成物の成型作業全体に亘り、作業性を向上させることができる。尚、本明細書における粘度とは、レオメーター(Paar Physica社製「PHYSICA UDS200」)を使用して、温度25℃、回転速度20/秒の条件下で測定した値である。 The viscosity at 25° C. of the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5000 mPa·s or less, more preferably 2500 mPa·s or less. By adjusting the viscosity of the curable resin composition of the present invention to the above range, the fluidity is improved, air bubbles are less likely to remain, and it is possible to fill the mold while suppressing an increase in injection pressure. . That is, it is possible to improve the applicability and the filling property, and to improve the workability over the entire molding operation of the curable resin composition of the present invention. The viscosity as used herein is a value measured using a rheometer (“PHYSICA UDS200” manufactured by Paar Physica) under the conditions of a temperature of 25° C. and a rotation speed of 20/sec.
本発明における硬化性樹脂組成物としては、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」、「CELVENUS OTM107」(以上、(株)ダイセル製)等の市販品を使用することができる。 As the curable resin composition in the present invention, for example, commercially available products such as trade names "CELVENUS OUH106" and "CELVENUS OTM107" (manufactured by Daicel Corporation) can be used.
硬化性材料の硬化は、例えば硬化性樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を使用する場合は、紫外線を照射することによって行うことができる。紫外線照射を行う時の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、5~200mW程度である。紫外線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。 Curing of the curable material can be performed by irradiating ultraviolet rays, for example, when a photocurable resin composition is used as the curable resin composition. A high-pressure mercury lamp, an extra-high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used as a light source for ultraviolet irradiation. The irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coated surface, and other conditions, but it is several tens of seconds at the longest. The illuminance is about 5 to 200 mW. After the ultraviolet irradiation, heating (post-curing) may be performed as necessary to promote curing.
例えば硬化性樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を使用する場合は、加熱処理を施すことによって硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。加熱温度は、例えば60~150℃程度である。加熱時間は、例えば0.5~20時間程度である。 For example, when a thermosetting resin composition is used as the curable resin composition, the curable resin composition can be cured by heat treatment. The heating temperature is, for example, about 60 to 150.degree. The heating time is, for example, about 0.5 to 20 hours.
本発明のモールドの成型面に上記の硬化性材料を供給して硬化するする方法としては、好ましくは、インプリント成型法で行うことができ、例えば、下記(1)~(3)の方法が挙げられる。
(1)本発明のモールドの成型面に対し硬化性材料を塗布し、その上から基板を密着させた後、硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
(2)基板上に塗布した硬化性材料の塗膜に対し、本発明のモールドの成型面を押し付け、硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
(3)本発明のモールドの成型面に対し硬化性材料を塗布し、その上から硬化性材料を塗布した基板を密着させた後、合わさった硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
As a method of supplying the curable material to the molding surface of the mold of the present invention and curing it, preferably, an imprint molding method can be used. For example, the following methods (1) to (3) can be used. mentioned.
(1) A method in which a curable material is applied to the molding surface of the mold of the present invention, a substrate is adhered thereon, the coating film of the curable material is cured, and the substrate is peeled off (2) ) A method in which the molding surface of the mold of the present invention is pressed against the coating film of the curable material applied on the substrate, and the coating film of the curable material is cured, and then the substrate is peeled off. A method in which a curable material is applied to the molding surface of a mold, a substrate coated with the curable material is brought into close contact with the substrate, the combined coating film of the curable material is cured, and the substrate is peeled off.
例えば、硬化性材料として光硬化性樹脂組成物を使用する場合は、前記基板として400nmの波長の光線透過率が90%以上である基板を使用することが好ましく、石英やガラス、樹脂からなる基板を好適に使用することができる。尚、前記波長の光線透過率は、基板(厚み:1mm)を試験片として使用し、当該試験片に照射した前記波長の光線透過率を分光光度計を用いて測定することで求められる。 For example, when a photocurable resin composition is used as the curable material, it is preferable to use a substrate having a light transmittance of 90% or more at a wavelength of 400 nm as the substrate, and a substrate made of quartz, glass, or resin. can be preferably used. The light transmittance of the above wavelength is obtained by using a substrate (thickness: 1 mm) as a test piece and measuring the light transmittance of the above wavelength irradiated to the test piece using a spectrophotometer.
例えば、硬化性材料として熱硬化性樹脂組成物を使用する場合は、加熱処理を施すことによって硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。加熱温度は、例えば60~150℃程度である。加熱時間は、例えば0.5~20時間程度である。 For example, when a thermosetting resin composition is used as the curable material, the curable resin composition can be cured by heat treatment. The heating temperature is, for example, about 60 to 150.degree. The heating time is, for example, about 0.5 to 20 hours.
上記(1)~(3)の方法において、上記基板が剥離して露出する成型品の面が第2の面であり、本発明のモールドの成型面に保持され、パターン形状が反転転写された面が第1の面である。 In the above methods (1) to (3), the surface of the molded product exposed by peeling the substrate is the second surface, held on the molding surface of the mold of the present invention, and the pattern shape is reversely transferred. The face is the first face.
前記基板は、パターン形状部を有するモールドであってもよいし、平面基板であってもよい。例えば、本発明の成型品の第2の面が凹凸形状を有しない場合は平面基板を用いることができる。一方、第2の面が凹凸形状を有する場合は、基板として対応する凸凹形状を有するモールドを用いることができるが、平面部を少なくとも有することが好ましい。前記基板が、平面部を有することにより、第2の面に平面部が転写され、本発明の粘着シートが貼り付いて安定的に固定しやすくなる。 The substrate may be a mold having patterned portions, or may be a flat substrate. For example, a flat substrate can be used when the second surface of the molded article of the present invention does not have an irregular shape. On the other hand, when the second surface has an uneven shape, a mold having a corresponding uneven shape can be used as the substrate, but it is preferable to have at least a flat portion. Since the substrate has a flat portion, the flat portion is transferred to the second surface, and the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention can be attached and easily fixed stably.
前記基板は、本発明のモールドと異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、前記基板と本発明のモールドの成型面は、同じ又は対応するパターン形状を有していてもよいし、異なるパターン形状を有していてもよい。 The substrate may be made of a material different from that of the mold of the present invention, or may be made of the same material. The substrate and the molding surface of the mold of the present invention may have the same or corresponding pattern shapes, or may have different pattern shapes.
重ね合わせられる前の本発明のモールドの成型面及び前記基板の少なくとも一方には硬化性材料が塗布されているが、成型品内のボイド(気泡)の発生を防止するためには、本発明のモールドの成型面に硬化性材料が塗布されたものを用いることが好ましい。この場合、前記基板には、硬化性材料が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。 At least one of the molding surface of the mold of the present invention and the substrate before being superimposed is coated with a curable material. It is preferable to use a mold whose molding surface is coated with a curable material. In this case, the substrate may or may not be coated with a curable material.
本発明のモールドの成型面及び/又は前記基板への硬化性材料の塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布(スプレー噴霧)、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。 Application of the curable material to the molding surface of the mold of the present invention and/or the substrate can be performed by a known or commonly used application method. Examples of the coating include spin coating, roll coating, spray coating (spray atomization), dispense coating, dip coating, inkjet coating, air brush coating (air brush spraying), ultrasonic coating (ultrasonic spraying), and the like. mentioned.
上記(1)~(3)の方法により、第1の面がモールドの成型面に付着した成型品が得られる。図3に成型品の第1の面がモールドの成型面に付着している状態の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。 By the above methods (1) to (3), a molded product is obtained in which the first surface is attached to the molding surface of the mold. FIG. 3 shows a schematic diagram of an example of a state in which the first surface of the molded article is attached to the molding surface of the mold. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.
成型品2の第1の面2Aはモールド1の成型面1Aに付着しており、成型面1Aのパターン領域11(図示せず)とパターン領域11のパターン形状が反転転写された転写領域21(パターン形状は図示略)が篏合した状態で密着している。従って、成型品2をモールド1の成型面1Aから離型すると、転写領域21に形成されたパターン形状に負荷がかかり、成型品2の全体に反りが生じたり、パターン形状の位置精度が悪化しやすい。
The
本発明の離型方法の第1工程は、成型品の前記第2の面の全体に粘着力が3N/20mm以上の粘着シートを貼り付ける工程である。 The first step of the mold release method of the present invention is a step of attaching an adhesive sheet having an adhesive strength of 3 N/20 mm or more to the entire second surface of the molded product.
[粘着シート]
本発明の粘着シートは、粘着力が3N/20mm以上であることを特徴とする。粘着シートの粘着力が3N/20mm以上であることにより、本発明の粘着シートを第2の面に保持したまま、成型品をモールドの成型面から確実に離型させると共に、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくなり、成型品の精度を向上することができる。すなわち、本発明の粘着シートの粘着力が3N/20mm未満である場合は、粘着シートが第2の面に十分に接着できず、離型自体が困難になるか、或いは、離型ができる場合でも離型開始時の成型品の一部の箇所に大きな負荷がかかりやすくなり、成型品の精度が悪化しやくなる。成型品の精度のさらなる向上の観点から、本発明の粘着シートの粘着力は、好ましくは3N/20mm以上、より好ましくは4N/20mm以上、さらに好ましくは5N/20mm以上である。
[Adhesive sheet]
The adhesive sheet of the present invention is characterized by having an adhesive strength of 3 N/20 mm or more. Since the pressure-sensitive adhesive sheet has an adhesive strength of 3 N/20 mm or more, the molded product can be reliably released from the molding surface of the mold while the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is held on the second surface. It becomes easier to distribute the load uniformly over the entire molded product, and the accuracy of the molded product can be improved. That is, when the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is less than 3 N/20 mm, the pressure-sensitive adhesive sheet cannot be sufficiently adhered to the second surface, and the release itself becomes difficult, or the release is possible. However, a large load tends to be applied to a portion of the molded product at the start of mold release, and the accuracy of the molded product tends to deteriorate. From the viewpoint of further improving the precision of molded products, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is preferably 3 N/20 mm or more, more preferably 4 N/20 mm or more, and even more preferably 5 N/20 mm or more.
一方、本発明の粘着シートの粘着力の上限値は、特に限定されないが、好ましくは25N/20mm以下、より好ましくは24N/20mm以下、さらに好ましくは23N/20mm以下である。本発明の粘着シートの粘着力が25N/20mmを超えると、成型品をモールドから離型した後に、本発明の粘着シートを成型品の第2の面から剥離しにくくなり、粘着シートを剥離する際に成型品の精度が低下したり、剥離後に第2の面に糊残りが発生する場合がある。
上記粘着力は、JIS-Z-0237に準拠し、シリコンミラーウェハに対する180°ピール粘着力として測定された値である。
On the other hand, the upper limit of the adhesive strength of the adhesive sheet of the present invention is not particularly limited, but is preferably 25 N/20 mm or less, more preferably 24 N/20 mm or less, still more preferably 23 N/20 mm or less. When the adhesive strength of the adhesive sheet of the present invention exceeds 25 N/20 mm, it becomes difficult to peel the adhesive sheet of the present invention from the second surface of the molded product after releasing the molded product from the mold, and the adhesive sheet is peeled off. In some cases, the accuracy of the molded product is lowered, and adhesive residue may be left on the second surface after peeling.
The adhesive strength is a value measured as a 180° peel adhesive strength to a silicon mirror wafer in accordance with JIS-Z-0237.
図4に、本発明の粘着シートの一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図、(d)は側面図の拡大図である。 FIG. 4 shows a schematic diagram of an example of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, (c) is a side view, and (d) is an enlarged view of the side view.
本発明の粘着シートの構成は、少なくとも一方の面が粘着性を示すシート状物である限り、特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるために好ましくは、基材31と、該基材31の一方の面に粘着剤層32が積層された積層物であることが好ましい。
The configuration of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is not particularly limited as long as it is a sheet-like material exhibiting adhesiveness on at least one surface. It is preferably a laminate in which a
基材31を構成する材質は、特に限定されないが、紙、樹脂、不織布、金属、ガラス、シリコン等を使用できるが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、樹脂が好ましい。
The material constituting the
基材31を構成する材質としての樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリアルキレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリアルキレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリアミド(ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミド6/12等)、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエステル等が挙げられ、さらにこれらの共重合体、ブレンド物、架橋物を用いてもよい。離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましい。
The resin as a material constituting the
基材31の厚さは特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、好ましくは50~300μm、より好ましくは50~200μmである。
Although the thickness of the
基材31の破断応力は、特に限定されないが、好ましくは20~200MPa、より好ましくは25~180MPaである。基材31の破断応力がこの範囲にあることにより、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくなる。すなわち、基材31の破断応力が20MPaよりも低いと、本発明の粘着シートが柔らかくなりすぎ、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させることが困難になる場合がある。一方、基材31の破断応力が200MPaよりも高いと、本発明の粘着シートが硬くなりすぎ、離型自体が困難になる場合がある。
上記破断応力は、サンプルサイズが15mm×10mm、引っ張り速度200mm/minで測定された値である。
Although the breaking stress of the
The breaking stress is a value measured with a sample size of 15 mm×10 mm and a tensile speed of 200 mm/min.
粘着剤層32を構成する粘着剤としては、特に限定されないが、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤等を使用することができる。上記粘着剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。なお、上記粘着剤は、エマルジョン系粘着剤、溶剤系粘着剤、ホットメルト型粘着剤、オリゴマー系粘着剤、固系粘着剤等のいずれの形態の粘着剤であってもよい。離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすいという観点から、アクリル系粘着剤等が好ましい。
The adhesive constituting the
粘着剤層32は、単層であってもよいし、複数の層からなる積層体であってもよく、複数の層からなる場合は、同種の粘着剤層の積層体であってもよく、異種の粘着剤層の積層体であってもよい。また、中間層、下塗り層等を介して基材31に積層されていてもよい。
The
粘着剤層32は、基材31の一方の面の全体に積層されていてもよく、成型品の第2の面全体に粘着剤層32が密着できる限り、基材31の一方の面の一部に積層されていてもよい。
The
粘着剤層32は、離型シートで保護されていてもよく、その場合は、本発明の離型方法に使用する前に離型シートは取り除かれる。
The
粘着剤層32の厚さは特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくするという観点から、好ましくは5~50μm、より好ましくは5~40μmである。
Although the thickness of the pressure-
粘着剤層32の粘着力は、本発明の粘着シートを第2の面に保持したまま、モールドの成型面から成型品を離型させる程度の粘着力である限り、特に限定されないが、成型品をモールドの成型面から確実に離型させることができると共に、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させて、成型品の精度を向上するという観点から、上記の本発明の粘着シートの粘着力と同程度に範囲に調整することが好ましい。
The adhesive strength of the
粘着剤層32を構成する粘着剤は非硬化型であっても良く、硬化型であっても良い。上記粘着剤が硬化型である場合、熱硬化型であっても良く、光硬化型(紫外線や電子線等の活性エネルギー線による硬化型)であっても良い。上記粘着剤が硬化型である場合、本発明の離型方法の後、加熱又は光照射することにより上記粘着剤が固化するため、得られた本発明の成型品を本発明の粘着シートから剥離することが容易となる。
The adhesive that constitutes the
図5に本発明の離型方法の第1工程の一例を示す。本発明の粘着シート3は、本発明の成型品2の第2の面2Bの全体に貼り付けられる。
FIG. 5 shows an example of the first step of the mold release method of the present invention. The
「第2の面の全体に粘着シートが貼り付く」とは、第2の面の非転写領域22のみではなく、転写領域21に対応する第2の面の全面に本発明の粘着シートが貼り付くことを意味する。ただし、第2の面に凹部が存在する場合は、当該凹部の部分は粘着シートと接触していなくともよい。すなわち、第2の面上に存在する上記平面部の全体が本発明の粘着シートと貼り付いていればよい。
"The adhesive sheet is attached to the entire second surface" means that the adhesive sheet of the present invention is attached not only to the
本発明の粘着シートの面積は、本発明の成型品の第2の面以上の広さである限り特に限定されないが、後述の第2工程で粘着シートの端部を保持するためには、本発明のモールドの成型面よりも広いことが好ましい。本発明の粘着シートの面積の本発明のモールドの成型面の面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは100~500%、より好ましくは100~400%である。 The area of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is not particularly limited as long as it is larger than the second surface of the molded article of the present invention. It is preferably wider than the molding surface of the inventive mold. The ratio of the area of the adhesive sheet of the present invention to the molding surface area (100%) of the mold of the present invention is not particularly limited, but is preferably 100 to 500%, more preferably 100 to 400%.
本発明の粘着シートの厚さ(基材31と粘着剤層32の合計の厚さ)は特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、好ましくは55~350μm、より好ましくは55~240μmである。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention (the total thickness of the
本発明の粘着シートとしては、市販の粘着シートを制限なく用いることができ、例えば、日東電工(株)、リンテック(株)、3M(株)、古河電工(株)、デンカアドテックス(株)等が一般に販売している粘着テープ、UV剥離テープ、熱剥離テープ等が挙げられる。 As the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention, commercially available pressure-sensitive adhesive sheets can be used without limitation. Adhesive tapes, UV peeling tapes, heat peeling tapes, etc., which are generally sold by
本発明の離型方法の第1工程は、特に限定されないが、本発明の粘着シートを、成型品の第2の面の全体に密着するように貼り付けることにより行うことができる。第2の面の全体に本発明の粘着シートが確実に密着するように、本発明の粘着シートの第2の面と貼り付いていない方の面をローラなどで押し付けてもよい。 Although the first step of the mold release method of the present invention is not particularly limited, it can be carried out by sticking the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention on the entire second surface of the molded article so as to be in close contact therewith. The second surface of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention and the non-adhered surface may be pressed with a roller or the like so that the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is firmly adhered to the entire second surface.
本発明の離型方法の第2工程は、本発明の粘着シートと本発明のモールドが離間する方向に、粘着シートとモールドを相対的に移動させることにより本発明の成型品をモールドから離型する工程である。第2工程により、成型品が粘着シートに保持されたまま、モールドの成型面から離型される。 In the second step of the mold release method of the present invention, the molded product of the present invention is released from the mold by relatively moving the adhesive sheet and the mold in the direction in which the adhesive sheet of the present invention and the mold of the present invention are separated. It is a process to do. In the second step, the molded product is released from the molding surface of the mold while being held by the adhesive sheet.
粘着シート及び/又はモールドの移動は、両者が離間する限り相対的であればよく、粘着シートのみを移動させても、モールドのみを移動させても、両者を移動させてもよいが、効率的に成型品を離型するためには、モールドを固定して、粘着シートをモールドから離間する方向に移動させることが好ましい。 The movement of the adhesive sheet and/or the mold may be relative as long as they are separated from each other, and the adhesive sheet alone, the mold alone, or both may be moved. In order to release the molded product immediately, it is preferable to fix the mold and move the pressure-sensitive adhesive sheet away from the mold.
粘着シート及び/又はモールドの移動は、特に限定されないが、手作業で行ってもよく、例えば、粘着シートの端部を保持部材に保持して移動させて行ってもよい。 The movement of the adhesive sheet and/or the mold is not particularly limited, but may be performed manually. For example, the adhesive sheet may be moved by holding the ends of the adhesive sheet on a holding member.
図6に本発明の離型方法の第2工程の一例を示す。(a)は斜視図、(b)側面図である。粘着シート3の端部の1ヵ所を手作業又は保持部材で保持し、図6(a1)、(b1)に示すように、当該端部に粘着シート3の中心方向に傾くように、斜め方向に離間するように力Fをかけて、図6(a2)、(b2)に示すように、粘着シートとモールドを斜めに離間させて、成型品2を粘着シート3に保持したままモールド1の成型面から離型する。
FIG. 6 shows an example of the second step of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, and (b) is a side view. One end of the
図7に本発明の離型方法の第2工程の他の一例を示す。(a)は斜視図、(b)側面図である。粘着シート3の端部の少なくとも2ヵ所以上を手作業又は保持部材で保持し、図7(a1)、(b1)に示すように、当該2ヵ所以上の端部に垂直方向に同時に離間するように力Fをかけて、図7(a2)、(b2)に示すように、粘着シートとモールドを水平に離間させて、成型品2を粘着シート3に保持したままモールド1の成型面から離型する。
FIG. 7 shows another example of the second step of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, and (b) is a side view. At least two or more ends of the
離型する際に、負荷を成型品全体に均一に分散させて、成型品の精度を向上するためには、図6に示すように、本発明の粘着シートの端部を斜め方向にモールドから離間させて、成型品を粘着シートに保持したままモールドの成型面から離型する態様が好ましい。 In order to distribute the load evenly over the entire molded product and improve the accuracy of the molded product when the mold is released, the end of the adhesive sheet of the present invention is tilted from the mold as shown in FIG. It is preferable to separate them from each other and release the molded product from the molding surface of the mold while holding the molded product on the adhesive sheet.
本発明の離型方法により、第2の面が本発明の粘着シートに付着した成型品を得ることができる。図8に、本発明の離型方法により得られる粘着シートが第2の面に貼り付いた成型品の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)はX-X'における断面図である。 By the mold release method of the present invention, it is possible to obtain a molded product in which the second surface is attached to the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. FIG. 8 shows a schematic diagram of an example of a molded article having a second surface to which the pressure-sensitive adhesive sheet obtained by the mold release method of the present invention is attached. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a sectional view taken along line XX'.
図8(a)に、第2の面2Bが粘着シート3に付着した成型品2の斜視図を示す。成型品2の第1の面2Aには、パターン形状が転写された転写領域21(パターン形状は図示略)が露出している。
FIG. 8(a) shows a perspective view of the molded
図8(b)に、第2の面2Bが粘着シート3に付着した成型品2の上面図、図8(c)にX-X'における断面図を示す。図8(b)において、成型品2の第1の面2Aの転写領域21には、2個以上の光学素子23が2次元的に配列している。本発明の離型方法により、成型品2はモールド1の成型面1Aから離型する際に、負荷が成型品2の全体に均一に掛かるため、成型品2の反りが小さく、2個以上の光学素子23間の位置精度に優れる。
FIG. 8(b) shows a top view of the molded
本発明の離型方法は、第2工程の後、さらに、以下の第3工程を有していてもよい。
第3工程:第2工程で得られる前記成型品の第2の面から前記粘着シートを剥離する。
The mold release method of the present invention may further include the following third step after the second step.
Third step: peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet from the second surface of the molded article obtained in the second step.
上記第3工程により、成型品の第2の面から粘着シートを剥離して、例えば、図2に示される成型品2を得ることができる。
Through the third step, the pressure-sensitive adhesive sheet can be peeled off from the second surface of the molded article to obtain, for example, the molded
成型品の第2の面から粘着シートを剥離する方法は、特に限定されず、粘着シートの端部の少なくとも1ヵ所を保持し、成型品から離間する方向に粘着シート及び/成型品を相対的に離間移動することにより行うことができる。粘着シート及び/成型品を相対的な離間移動は、特に限定されないが、例えば、図6、7に示す粘着シート及び/モールドを相対的に離間移動する方法と同様に行うことができる。 The method of peeling off the adhesive sheet from the second surface of the molded product is not particularly limited, and at least one end of the adhesive sheet is held, and the adhesive sheet and/or the molded product are relatively moved in a direction away from the molded product. This can be done by moving away from the The relative movement of the adhesive sheet and/or the molded product is not particularly limited, but can be performed in the same manner as the method of relatively moving the adhesive sheet and/or the mold shown in FIGS. 6 and 7, for example.
上述のように、本発明の粘着シートの粘着剤層32の粘着剤が硬化型である場合、加熱又は光照射することにより上記粘着剤が固化するため、本発明の成型品を粘着シートから剥離することが容易となる。
As described above, when the adhesive of the
また、成型品が光学素子アレイの場合は、本発明の離型方法は、第2工程の後、さらに、以下の第3'工程を有する態様も好ましい。
第3'工程:第2工程で得られる、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が粘着シートで固定された成型品(すなわち、光学素子アレイ)をダイシングすることにより光学素子を個片化して光学部材を得る。
Further, when the molded product is an optical element array, it is also preferable that the mold release method of the present invention further includes the following 3′ process after the second process.
3' step: a molded product obtained in the second step, having a plurality of optical elements arranged two-dimensionally on the first surface and having the second surface fixed with an adhesive sheet (i.e., the optical element By dicing the array), the optical elements are separated into individual optical members.
図8(b)、(c)に光学素子アレイである成型品2の第2の面2Bが粘着シート3に固定されている状態を示す。粘着シート3は、ダイシングテープとしても機能できるため、粘着シート3に固定された光学素子アレイである成型品2をダイシングすることにより光学素子23を個片化して光学部材を得ることができる。
8(b) and 8(c) show a state in which the
図8(b)の切断線24に沿って光学素子アレイである成型品2をダイシングすることにより光学素子23を個片化することができる。ダイシングにより、個片化された光学素子23の周辺に成型品2の基板に相当する基板部が結合している光学部材が得られる。本発明の離型方法により得られる光学素子アレイである成型品2は、反りが少なく、2個以上の光学素子23の位置精度が高く、ずれが小さいため、形状の揃った複数の光学部材を得ることができる。
By dicing the molded
光学素子アレイの個片化手段としては特に制限されることがなく周知慣用の手段を採用することができるが、なかでも高速回転するダイシングブレードを用いることが好ましい。 The means for separating the optical element array into individual pieces is not particularly limited, and known and commonly used means can be employed. Among them, it is preferable to use a dicing blade that rotates at a high speed.
高速回転するダイシングブレードを使用して切断する場合、ダイシングブレードの回転速度は例えば10000~50000回転/分程度である。また、光学素子アレイを高速回転するブレード等を用いて切断する際には摩擦熱が生じるため、光学素子アレイを冷却しながら切断することが、摩擦熱によってよって光学素子が変形したり光学特性が低下するのを抑制することができる点で好ましい。 When cutting using a dicing blade that rotates at high speed, the rotation speed of the dicing blade is, for example, about 10000 to 50000 rpm. In addition, since frictional heat is generated when the optical element array is cut using a blade or the like that rotates at high speed, cutting while cooling the optical element array is not recommended because the frictional heat may cause the optical elements to deform or their optical characteristics to deteriorate. It is preferable in that it is possible to suppress the decrease.
光学素子アレイをダイシングブレードを使用して切断する際、本発明の粘着シートは切断しないことが好ましい。その場合、個片化された光学部材は、第2の面で粘着シートに固定された状態となり、各光学部材を粘着シートからピックアップすることにより、光学部材を取り出すことができる。 When cutting the optical element array using a dicing blade, it is preferable not to cut the adhesive sheet of the present invention. In this case, the separated optical members are fixed to the adhesive sheet on the second surface, and the optical members can be taken out by picking up the respective optical members from the adhesive sheet.
本発明の離型方法は、本発明の離型装置が実施するものであってもよい。以下、図9および図10を参照して、本発明の離型装置100について説明する。図9は、本発明の離型装置100を示すブロック図である。
The mold release method of the present invention may be implemented by the mold release apparatus of the present invention. Hereinafter, the
本発明の離型装置100は、図9に示すように、貼付部(貼付手段)101、及び移動部(移動手段)102を備えており、制御部110は、貼付制御部(貼付制御手段)111、及び移動制御部(移動制御手段)112を備えている。
As shown in FIG. 9, the
本発明の離型装置100において、貼付部101は、モールドの成型面に付着した成型品の第2の面に本発明の粘着シートを貼り付ける。移動部102は、粘着シート及び/又はモールドを離接方向に相対的に移動させる。移動部102は、粘着シートのみを移動させるものであってもよいし、モールドのみを移動させるものであってもよいし、粘着シート及びモールドの両方を移動させるものであってもよいが、粘着シートのみを移動させるものが好ましい。制御部110は、貼付部101、及び移動部102を制御して、本発明の離型方法を実行する。
In the
次に、制御部110の各部の処理について、図10を参照し説明する。図10は、本発明の離型方法の流れを示すフローチャートである。
Next, processing of each unit of the
貼付制御部111は、第2の面に本発明の粘着シートの貼り付けを行う第1工程を実行するよう、貼付部101を制御する。貼付部101は、貼付制御部111からの制御に従い、本発明の粘着シートを成型品の第2の面の全体に貼り付ける(S1:第1工程)。本発明の離型装置100において、貼付部101および貼付制御部111は、市販の粘着シートの貼付装置およびその制御部等をそのまま使用することができ、高精度の制御システムを別途構築する必要はない。
The sticking
第1工程の後、移動制御部112は、粘着シート及び/又はモールドが離間する方向に、粘着シートとモールドを相対的に移動させる第2工程を実行するよう、移動部102を制御する。移動部102は、移動制御部112からの制御に従い、粘着シート及び/モールドを相対的に離間移動させる(S2:第2工程)。移動制御部112は、移動部102が有する保持部材(例えば、ロボットハンド)で粘着シートの端部に保持し、図6又は7に示すように、粘着シートの端部に力Fをかけるように調整することが好ましい。本発明の離型装置100において、移動部102及び移動制御部112は、市販のロボットハンド、ロボットアーム及びその制御部等をそのまま使用することができ、高精度の制御システムを別途構築する必要はない。
After the first step, the
本発明の離型装置は、必要に応じて、第3工程を実施するための第2の移動部及び第2の移動制御部を有していてもよい。第2の移動部及び第2の移動制御部は、移動部102及び移動制御部112と同様の市販のロボットハンド、ロボットアーム及びその制御部等を使用することができる。
The mold release apparatus of the present invention may have a second movement section and a second movement control section for carrying out the third step, if necessary. A commercially available robot hand, a robot arm, and its control unit similar to the moving
本発明の離型装置は、必要に応じて、第3'工程を実施するためのダイシング部及びダイシング制御部を有していてもよい。ダイシング部及びダイシング制御部は、市販のダイシング装置及びその制御部等を使用することができる。 The mold release apparatus of the present invention may have a dicing section and a dicing control section for carrying out the 3′ process, if necessary. As the dicing section and the dicing control section, a commercially available dicing machine and its control section can be used.
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be modified in various ways within the scope of the claims, and can be obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. is also included in the technical scope of the present invention.
本発明の典型的な実施形態について実施例及び比較例を示すが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。
なお、実施例及び比較例で用いた粘着シートの粘着力は、JIS-Z-0237に準拠し、シリコンミラーウェハに対する180°ピール粘着力として測定した。
Examples and comparative examples are given for typical embodiments of the present invention, but the present invention is not intended to be limited thereto, but merely illustrative.
The adhesive strength of the adhesive sheets used in Examples and Comparative Examples was measured as 180° peel adhesive strength to a silicon mirror wafer in accordance with JIS-Z-0237.
製造例1
図11に示す直径150mm×高さ3mmのシリコーン樹脂製モールド(下型4)を準備した。(a)は上面図、(b)はA-A'における断面図である。下型4の成型面には複数の凹部41が図11(a)に示すように配列されている。
下型4の成型面をフッ素系離型剤(オプツールHD-1100、ダイキン工業(株)社製)にてディップコート処理を行った後、エポキシ樹脂(CELVENUS106、(株)ダイセル製)を10g滴下し、同じ大きさの表面がフッ素系離型剤で離型処理されたシリコーン樹脂板(上型5、平板基板)を厚みが約0.5mmになるように型を閉じ(図12(a)参照)、100mW/cm2×30秒でUV照射を行った。上型5を取り除くと、エポキシ樹脂の硬化物として、下型4の凹部41に対応する位置に凸部61がそれぞれ形成された樹脂ウェハ6が下型4の成型面に付着した状態で得られた(図12(b)参照)。
Production example 1
A silicone resin mold (lower mold 4) having a diameter of 150 mm and a height of 3 mm as shown in FIG. 11 was prepared. (a) is a top view, and (b) is a cross-sectional view taken along line AA'. A plurality of
After dip-coating the molding surface of the
実施例1
製造例1で得られた下型4の成型面に樹脂ウェハ6が付着した状態から、樹脂ウェハ6の上型5を取り除いて形成された面の全体に粘着力が17N/20mmである粘着シート(ADWILL D-210、リンテック(株)社製、基材:ポリエチレンフタレート製、粘着剤層:アクリル系粘着剤)を貼り付け、粘着シートの端部を、図6に示す要領で斜め方向に力Fをかけて引っ張り、樹脂ウェハ6を下型4から離型した。
Example 1
An adhesive sheet having an adhesive force of 17 N/20 mm on the entire surface formed by removing the
実施例2
粘着力が3.4N/20mmである粘着シート(UC3044M-110B、古河電工(株)社製、基材:ポリオレフィン製、粘着剤層:アクリル系粘着剤)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、樹脂ウェハ6を下型4から離型した。
Example 2
Example 1 except that an adhesive sheet (UC3044M-110B, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., base material: polyolefin, adhesive layer: acrylic adhesive) having an adhesive strength of 3.4 N / 20 mm was used. The
比較例1
粘着力が2.5N/20mmである粘着シート(TL-85-250、リンテック(株)社製、基材:ポリエチレンフタレート製、粘着剤層:アクリル系粘着剤)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、樹脂ウェハ6を下型4から離型した。
Comparative example 1
An adhesive sheet with an adhesive strength of 2.5 N / 20 mm (TL-85-250, manufactured by Lintec Corporation, base material: made of polyethylene phthalate, adhesive layer: acrylic adhesive) was used. As in Example 1, the
比較例2
粘着力が0.6N/20mmである粘着シート(P-366K、日東電工(株)社製、基材:ポリエチレン製、粘着剤層:エチレン/酢酸ビニル系粘着剤)を使用したこと以外は、実施例1と同様にして、樹脂ウェハ6を下型4から離型しようとしたが、粘着シートが樹脂ウェハ6から剥離して、樹脂ウェハ6を離型できなかった。
Comparative example 2
Except for using an adhesive sheet (P-366K, manufactured by Nitto Denko Corporation, base material: polyethylene, adhesive layer: ethylene/vinyl acetate adhesive) having an adhesive strength of 0.6 N/20 mm, An attempt was made to release the
<評価>
実施例及び比較例で得られた樹脂ウェハについて、下記の評価試験を実施した。
<Evaluation>
The resin wafers obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to the following evaluation tests.
離型した樹脂ウェハの位置精度をCNC画像測定システム(NEXIV-VMR-3030、ニコン社製)で測定した。
位置精度は樹脂ウェハ6の中心の位置を基準にして、各凸部61が下型4の対応する凹部41の位置からX方向Y方向にどれだけずれたかにより評価した。具体的には、測定点として基準点42の凹部41から約50mm離れたA~Dの凹部41に対応する凸部61の4点について各X,Yの座標を測定し、凹部41からのずれの大きさ(mm)で評価した。凸部61の測定点は、高さ0.2mm、直径1mmの半球形の頂点位置とした。結果を表1に示す。
The positional accuracy of the released resin wafer was measured with a CNC image measurement system (NEXIV-VMR-3030, manufactured by Nikon Corporation).
The positional accuracy was evaluated based on how much each
本発明の離型方法及び離型装置は、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)、光学回折素子等の各種光学部材の製造分野および製造装置において好適に利用することができる。 The mold release method and mold release apparatus of the present invention can be used for lenses, prisms, LEDs, organic EL elements, semiconductor lasers, transistors, solar cells, CCD image sensors, optical waveguides, optical fibers, alternative glass (e.g., display substrates, hard disk substrates). , polarizing films), optical diffraction elements, and other optical members.
1 モールド(型)
11 パターン領域
12 非パターン領域
1A 成型面
2 成型品
21 転写領域
22 非転写領域
23 光学素子
24 切断線
2A 第1の面
2B 第2の面
3 粘着シート
31 基材
32 粘着剤層
F 力(の方向)
4 下型(樹脂製モールド)
41 凹部
42 基準点
5 上型(樹脂板)
6 樹脂ウェハ
61 凸部
1 mold
11
4 Lower mold (resin mold)
41
6
Claims (9)
前記第2の面に粘着力が3N/20mm以上25N/20mm以下の粘着シートの貼り付けを行う貼付手段と、
前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させる移動手段と、
前記貼付手段を制御して、前記硬化性材料の硬化物である前記成型品の第2の面の全体に前記粘着シートを貼り付ける貼付制御手段と、
前記移動手段を制御して、前記粘着シートと前記モールドが離間する方向に、前記粘着シートと前記モールドを相対的に移動させる移動制御手段と、を含むことを特徴とする離型装置であって、
前記成型品が、前記第1の面上に2個以上の光学素子が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイである、離型装置。 A molded product formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold and having a first surface to which the pattern shape of the molding surface is transferred and a second surface on the back side is formed from the mold. A device for demolding,
A sticking means for sticking an adhesive sheet having an adhesive force of 3 N/20 mm or more and 25 N/20 mm or less on the second surface;
moving means for relatively moving the adhesive sheet and the mold;
a sticking control means for controlling the sticking means to stick the adhesive sheet to the entire second surface of the molded product, which is a cured product of the curable material;
and a movement control means for controlling the moving means to relatively move the adhesive sheet and the mold in a direction in which the adhesive sheet and the mold are separated from each other. ,
The mold releasing device, wherein the molded article is an array having two or more optical elements arranged two-dimensionally on the first surface and having a substrate portion connecting the optical elements to each other.
前記ダイシング手段を制御して、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が前記基材で固定された成型品をダイシングするダイシング制御手段と、を含む、請求項1に記載の離型装置。 Furthermore, a dicing means;
A dicing control means for controlling the dicing means to dice a molded article having a plurality of optical elements arranged two-dimensionally on a first surface and having a second surface fixed by the base material; 2. The release device of claim 1, comprising:
前記第2の移動手段を制御して、前記基材と前記成型品が離間する方向に、前記基材と前記成型品を相対的に移動させる第2の移動制御手段と、を含む、請求項1~5の何れか1項に記載の離型装置。 a second moving means for relatively moving the base material and the molded product;
a second movement control means for controlling the second moving means to relatively move the base material and the molded product in a direction in which the base material and the molded product are separated from each other. The mold release device according to any one of 1 to 5.
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