JP2022160887A - 指向性アンテナを搭載した薄型通信デバイス及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、ストリップ導体21、誘電体基板23それぞれの厚みや、マイクロストリップパッチアンテナ20の全体としての厚みは記載されておらず、これらの厚みを薄くすることについての記載や必要性も開示されていない。
しかしながら、図1において遮蔽板27は厚みを持って図示されている上に、厚みを薄くすることについての記載や必要性も開示されていない。
以下では、本発明の第1の実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態である薄型通信デバイス100の断面構造を説明する図である。基板1には配線が設けられており、その上に、送信アンテナ部2及び電池3が搭載されている。基板1は片面実装である。基板1の実装されていない面には絶縁層4が配置され、その下には金属箔5が配置されている。
本発明で用いられる基板1は、薄型通信デバイス100に用いられるものであるので、薄型である必要はあるものの、それ以外は何ら制限されることはない。厚みとしては、100μm以下が好適に用いられる。70μm以下であれば更に好ましい。
配線について、片面配線は、最も基本的な構造のフレキシブル基板で、片面にのみ回路(導体パターン)が形成されている配線構造をいう。これに対して、両面配線は、ベースフィルムを中心として両側に回路がありスルーホールめっきにより裏側の回路を導通させて形成された配線構造をいう。
部品実装について、片面部品実装は、片面配線の回路上又は両面配線の一方の回路上に部品を実装したものである。これに対して、両面部品実装は、両面配線の両方の回路上に部品実装したものである。
両面配線で片面部品実装の場合は、部品実装されていない面にも配線が存在するため、絶縁材でコーティングして絶縁するとともに凹凸をなくしてから金属箔を配置することができる。この方法は、両面配線で両面部品実装されている場合の実装面にも応用することができる。部品の厚みがある場合には、凹凸をなくすためにスペーサを利用してもよい。ただ、表面の凹凸がある状態で絶縁した上で金属箔を配置することを排除するものではない。いずれの場合も、基板と金属箔の間に絶縁層やスペーサを適宜介在させることができる。
本発明で用いられる送信アンテナ部2は、電波信号を発信でき、かつ、薄型であればよく、それ以外は何ら制限されるものではない。厚みとしては、100μm以下が好適に用いられる。
送信アンテナ部2は、その全体が金属箔5に覆われている必要がある。送信アンテナ部2が一部でも金属箔5からはみ出している場合には、はみだし部分から全方位に電波信号が発信されるために指向性が低下するためである。
送信アンテナ部2と金属箔5とは、電波の遮蔽効果の観点から、断面で見たときに、その間隔が、50~500μmであることが好ましい。この間隔は、送信アンテナ部2と金属箔5との間に絶縁層4を挟み込むことによって適宜調整することができる。また、後述するように、金属箔5を構成する有機フィルムと金属薄膜のいずれを基板1側に向けて挟み込むかによっても適宜調整できる。有機フィルムがスペーサとなるかどうかが変わってくるためである。
本実施形態においては、金属箔5は、有機フィルム上に金属蒸着して金属薄膜を形成することによって、有機フィルムと一体化した状態で準備される。
金属蒸着する基材となる有機フィルムの素材は、特に限定されるものではないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリアクリレートなどがあり得る。この中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
金属薄膜を蒸着する基材となる有機フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、20μm~200μmが好ましい。
金属薄膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、またはプラズマ気相成長法などの真空プロセスにより有機フィルム上に形成され得る。真空蒸着法を利用する場合、蒸着材料の加熱手段としては、例えば、電子線加熱、抵抗加熱、または誘導加熱等の方式を利用することができる。電子線加熱方式を利用した場合、蒸発材料の選択の自由度が大きいといえる。
フィルム上に蒸着する金属の種類としては、特に限定されるものではないが、アルミニウム、クロム、亜鉛、金、銀、銅のいずれか又はこれらの組み合わせが好ましい。
本実施形態において、有機フィルム上に形成される金属薄膜の厚みは、5~200μmであることが好ましい。厚みが5μm未満であれば、電波の遮蔽効果が少ないために指向性が得られにくい。また、厚みが200μmより大きければ、遮蔽効果が飽和するために無駄に製造コストをかけることになる。金属薄膜の厚みは、蒸着時間で調整することが可能である。更に好ましい厚みは、5~50μmである。
有機フィルム上に蒸着された金属薄膜は、適宜、特開2019-181941、特開平10-000735、特開平11-158608などの公知技術を用いて製造することができる。
以上のようにして準備された金属箔5は、有機フィルムと金属薄膜が一体化したものであるが、このような金属箔5の挟み込み方は自由に設計することができる。すなわち、基板1側に金属薄膜を向ける態様で挟んでもよいし、逆に有機フィルムを向ける態様で挟んでもよい。前者の場合は、絶縁層4を挟みこむなどショートカットに注意する必要がある。
基板上の配線と金属薄膜が接触してショートカットすることを防ぐために、必要に応じて間に絶縁層を挟むことができる。絶縁層の具体例としては、PET、PEN、ポリイミド系、シリコン系、ゴム系のフィルムが挙げられる。なお、図1では絶縁層4を挟んでいるが、ショートカットが生じない場合には絶縁層4を設けないことも可能である。また、上述の通り、送信アンテナ部と金属箔との間隔を調整するためにも絶縁層を利用することができる。
電池3については、薄型通信デバイス100の電源として用いるため、一次電池であるラミネート電池が好適に用いられる。なお、図1では、基板1上に電池3が搭載されている例で説明したが、電池は電源供給ができていればよく、その搭載位置は基板上に限られない。例えば、ラミネート電池が、基板外の基板の延長平面上に設置され、基板上の電極に電気的に接続される態様であってもよい。
本実施形態において、薄型通信デバイス100の製造方法は、送信アンテナ部2が配置された基板1を準備する工程(I)と、有機フィルム上に金属蒸着させて金属蒸着フィルムを準備する工程(II)と、金属蒸着フィルムを送信アンテナ部2の全体を覆うように積層する工程(III)とを含む。本実施形態ではまた、送信アンテナ部が配置された基板と、金属蒸着フィルムの全体をラミネート成形する工程(IV)を含む。いずれの工程も、既に述べた通りである。
以下では、本発明の第2の実施形態について説明する。
基板は、片面実装であるフレキシブル配線基板を用いた。送信アンテナ部は、図2の符号6に示すように、基板上の配線においてアンテナ状にパターンを配置することによって形成した。送信アンテナ部の大きさは、約3mm×7mmであった。この送信アンテナ部は、BLE規格のビーコン信号を発信する機能を有していた。
比較例1として、金属箔を積層しないこと以外は実施例1と同様にして、従来型の薄型通信デバイスを製造した。
実施例1と比較例1の薄型通信デバイスの電波強度を測定した。
電波暗室の代わりとなる電波暗箱を準備した。この電波暗箱内に、実施例1、比較例1で得られた薄型通信デバイスを平置きし、その上部10cmの位置に電波受信機を設置した。当該電波受信機は、電波暗箱外にある測定用パソコンと接続されており、電波強度を確認した。
金属箔を、金属蒸着によって形成したものではなく、同じ2μmの厚みのアルミニウム薄膜層を使用した以外は実施例1と同様にして薄型通信デバイスを製造した。同様に電波強度を測定したところ、同程度の電波指向性が得られることが確認できた。これにより、金属箔の製造方法の違いは、指向性に影響を与えないことが分かった。
2 送信アンテナ部
3 電池
4 絶縁層
5 金属箔
6 パターンアンテナの位置
7 パターンアンテナの全領域とその外縁から平面方向に13mm離れた領域
100 薄型通信デバイス100
Claims (11)
- 基板と、前記基板上に配置される送信アンテナ部と、前記基板上に配置され前記送信アンテナ部の全体を覆うように配置される金属箔とを含む薄型通信デバイス。
- 前記送信アンテナ部が、電波を使ったビーコン信号を送信することを特徴とする請求項1記載の薄型通信デバイス。
- 前記基板平面を上から見た際に、前記金属箔が、前記送信アンテナ部の全領域とその外縁から平面方向に13mm以上離れた領域まで覆っていることを特徴とする請求項1又は2に記載の薄型通信デバイス。
- 前記基板が、片面部品実装されており、前記金属箔が前記基板の部品実装されていない側に配置されることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 前記金属箔が、有機フィルム上に蒸着された金属薄膜であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 前記基板、前記送信アンテナ部、前記金属箔の全体がラミネートされることによって成形されることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 前記金属箔が、アルミニウム、クロム、亜鉛、金、銀、銅のいずれか又はこれらの組み合わせであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 前記金属箔の厚みが、5~200μmであることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 前記送信アンテナ部と前記金属箔との間隔が、50~500μmであることを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の薄型通信デバイス。
- 送信アンテナ部が配置された基板を準備する工程(I)と、
有機フィルム上に金属蒸着させて金属蒸着フィルムを準備する工程(II)と、
前記金属蒸着フィルムを前記送信アンテナ部の全体を覆うように積層する工程(III)と、
を含む薄型通信デバイスの製造方法。 - 更に、前記送信アンテナ部が配置された基板と、前記金属蒸着フィルムの全体をラミネート成形する工程(IV)、
を含むことを特徴とする請求項9に記載の薄型通信デバイスの製造方法。
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