JP2022149372A - rotary dresser - Google Patents

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Abstract

To provide a rotary dresser which has less variation of sharpness and can perform stable dressing.SOLUTION: A rotary dresser 100 comprises a dress part 14 formed of: a backing layer 11 which is protruded and provided in a flange-state on a periphery 10a of a base metal 10; an abrasive grain layer 12 formed on a rotary plane 11a of the backing layer 11; and a reinforcement plated layer 13 formed on a surface of the abrasive grain layer 12. The abrasive grain layer 12 is formed by fastening, diamond abrasive grains 15 whose average particle diameter is 650 μm (grain size #30) and which are hexahedrons or octahedrons, by nickel electroforming, and the reinforcement plated layer 13 is formed of nickel plating. If a thickness of the backing layer 11 is t1, an average particle diameter of the diamond abrasive grain 15 is d, the number of lamination of the abrasive grain layer 12 is n, a thickness of the reinforcement plated layer 13 is t2, and a thickness of the dress part 14 is T, T=t1+t2+nd and T-t1=nd×(95%-240%) are satisfied.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、一般砥石やＣＢＮ砥石などのドレスを行うために使用するロータリードレッサに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a rotary dresser used for dressing general grindstones, CBN grindstones, and the like.

ロータリードレッサについては、従来、様々な形状、機能を有するものが提案されているが、本発明に関連するものとして、例えば、特許文献１に記載された「ロータリードレッサ」がある。この「ロータリードレッサ」は、ダイヤモンド砥粒と無機物粒子を混合して母型内周面に充填し、電気メッキによって母型内周面に一層分を仮固定したのち余剰のダイヤモンド砥粒と無機物粒子を除去し、さらに電気メッキにより電鋳してダイヤモンド砥粒と無機物粒子を固着し、鉄芯金を母型中央部に固定し、母型を除去してなることを特徴とするものである。 Conventionally, rotary dressers having various shapes and functions have been proposed. This "rotary dresser" mixes diamond abrasive grains and inorganic particles, fills the inner peripheral surface of the master mold, temporarily fixes one layer to the inner peripheral surface of the master mold by electroplating, and then removes excess diamond abrasive grains and inorganic particles. are removed, electroforming is performed by electroplating to fix the diamond abrasive grains and the inorganic particles, the iron core is fixed to the center of the matrix, and the matrix is removed.

前記「ロータリードレッサ」は、ダイヤモンド砥粒の集中度を任意に調整することができ、ダイヤモンド砥粒間隔を広げているので、研削砥石への切り込みがかかりやすく、ドレッシングの際の抵抗が減少し、砥石表面においても砥粒の間隔が広がり、被削材との間の研削抵抗が減少し、良好な研削を行うことができる、という長所を有している。 The "rotary dresser" can arbitrarily adjust the degree of concentration of diamond abrasive grains, and since the diamond abrasive grain intervals are widened, it is easy to cut into the grinding wheel, and the resistance during dressing is reduced, It also has the advantage that the distance between the abrasive grains is widened on the surface of the grindstone, the grinding resistance between it and the work material is reduced, and good grinding can be performed.

特開平８－１７４４２９号公報JP-A-8-174429

特許文献１に記載された「ロータリードレッサ」は、前述したような長所を有する反面、ドレッシング使用面における砥粒の分布状態にムラがあることや使用代方向に対して砥粒の耐摩耗方向が揃っていないことなどにより、切れ味にバラつきが生じ、ドレスされた砥石の表面状態が安定せず、ドレスされた砥石で切削された被削材の形状や表面粗さに不具合が発生することが多い。 The "rotary dresser" described in Patent Document 1 has the above-mentioned advantages, but on the other hand, the distribution of abrasive grains on the surface where dressing is used is uneven, and the abrasion resistance direction of the abrasive grains is different from the usage allowance direction. Due to the lack of uniformity, sharpness varies, the surface condition of the dressed grindstone is not stable, and defects often occur in the shape and surface roughness of the workpiece cut with the dressed grindstone. .

そこで、本発明が解決しようとする課題は、切れ味のバラツキが少なく、安定したドレスを行うことができるロータリードレッサを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a rotary dresser that can perform stable dressing with little variation in sharpness.

本発明に係るロータリードレッサは、円板状の台金の外周にフランジ状に突設された裏打ち層と、前記裏打ち層の回転面に平均粒径７０μｍ～１０００μｍの六・八面体のダイヤモンド砥粒を電鋳にて固着して形成された砥粒層と、前記砥粒層の表面に形成された補強メッキ層と、で形成されたドレス部を有するロータリードレッサであって、
前記裏打ち層の厚みをｔ１、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径をｄ、前記砥粒層の積層数をｎ、前記補強メッキ層の厚みをｔ２、前記ドレス部の厚みをＴとしたとき、Ｔ＝ｔ１＋ｔ２＋ｎｄ、且つ、Ｔ－ｔ１＝ｎｄ×（９５％～２４０％）であり、
前記砥粒層を砥粒使用代面法線方向における単位面積中に占める前記ダイヤモンド砥粒の投影面積の割合が３５％～６５％であることを特徴とする。 The rotary dresser according to the present invention comprises a backing layer protruding in a flange shape from the outer periphery of a disk-shaped base metal, and hexahedral diamond abrasive grains having an average particle size of 70 μm to 1000 μm on the rotating surface of the backing layer. A rotary dresser having a dressing portion formed of an abrasive grain layer formed by electroforming and a reinforcing plating layer formed on the surface of the abrasive grain layer,
When the thickness of the backing layer is t1, the average particle diameter of the diamond abrasive grains is d, the number of layers of the abrasive grain layer is n, the thickness of the reinforcing plating layer is t2, and the thickness of the dressing portion is T, T = t1 + t2 + nd, and T−t1 = nd × (95% to 240%),
The ratio of the projected area of the diamond abrasive grains to the unit area of the abrasive grain layer in the normal direction of the surface where the abrasive grains are used is 35% to 65%.

前記ロータリードレッサにおいては、砥粒使用代面法線方向並びに使用代面剪断方向における前記砥粒層内の前記ダイヤモンド砥粒の外接円の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９０％～１００％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄであることが望ましい。 In the rotary dresser, 90% of the inter-abrasive grain distance L defined by the center-to-center distance of the circumscribed circle of the diamond abrasive grains in the abrasive grain layer in the normal direction of the abrasive grain use surface and the shear direction of the use surface shearing direction ˜100% is preferably 2/3×d≦L≦2×d.

前記ロータリードレッサにおいては、前記ダイヤモンド砥粒の外面において最大面積を有する平面部が前記裏打ち層の回転面と平行をなしていることが望ましい。 In the rotary dresser, it is preferable that the plane portion having the maximum area on the outer surface of the diamond abrasive grains is parallel to the rotation plane of the backing layer.

本発明により、切れ味のバラツキが少なく、安定したドレスを行うことができるロータリードレッサを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a rotary dresser that can perform stable dressing with little variation in sharpness.

本発明の実施形態であるロータリードレッサを示す一部省略斜視図である。1 is a partially omitted perspective view showing a rotary dresser that is an embodiment of the present invention; FIG. 図１中の矢線Ｘ方向から見たロータリードレッサの一部省略正面図である。FIG. 2 is a partially omitted front view of the rotary dresser as viewed in the direction of an arrow X in FIG. 1; 図２中のＹ－Ｙ線における一部省略断面図である。FIG. 3 is a partially omitted cross-sectional view taken along line YY in FIG. 2; 図１中の矢線Ｚ方向から見たロータリードレッサの一部を簡略化して示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a simplified part of the rotary dresser as viewed in the direction of arrow Z in FIG. 1; 図１中の矢線Ｘ方向から見たロータリードレッサの一部を簡略化して示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a simplified part of the rotary dresser as viewed from the direction of the arrow X in FIG. 1; ロータリードレッサを使用して砥石をドレスしている状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state which is dressing the whetstone using a rotary dresser. ロータリードレッサによりドレスされた砥石で被削材を研削している状態を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which a work material is ground with a grindstone that has been dressed by a rotary dresser. 図７に示す研削作業における被削材の研削過程を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing a grinding process of a work material in the grinding work shown in FIG. 7; 本発明の実施形態であるロータリードレッサ並びに従来のロータリードレッサの仕様を示す図表である。1 is a table showing specifications of a rotary dresser that is an embodiment of the present invention and a conventional rotary dresser; 本発明の実施形態であるロータリードレッサ並びに従来のロータリードレッサを使用して図６に示すドレス作業を行ったときの消費電力を示す図表である。7 is a chart showing power consumption when the dressing work shown in FIG. 6 is performed using the rotary dresser according to the embodiment of the present invention and a conventional rotary dresser; 本発明の実施形態であるロータリードレッサ並びに従来のロータリードレッサを使用して図７に示す研削作業を行った後の被削材の表面粗さを示す図表である。8 is a table showing the surface roughness of a work material after performing the grinding work shown in FIG. 7 using the rotary dresser according to the embodiment of the present invention and a conventional rotary dresser; 本発明のその他の実施形態であるロータリードレッサの一部を簡略化して示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a simplified part of a rotary dresser that is another embodiment of the present invention;

以下、図１～図１２に基づいて、本発明の実施形態であるロータリードレッサ１００，２００について説明する。なお、後述するロータリードレッサ１００，２００は、本発明に係るロータリードレッサを例示するものであり、本発明に係るロータリードレッサは、これらのロータリードレッサ１００，２００に限定されない。 A rotary dresser 100, 200 according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 12. FIG. Note that the rotary dressers 100 and 200 described later are examples of the rotary dressers according to the present invention, and the rotary dressers according to the present invention are not limited to these rotary dressers 100 and 200. FIG.

初めに、図１～図５に基づいてロータリードレッサ１００について説明する。図１～図３に示すように、ロータリードレッサ１００は、円板状の台金１０の外周１０ａにフランジ状に突設された裏打ち層１１と、裏打ち層１１の回転面１１ａに形成された砥粒層１２と、砥粒層１２の表面に形成された補強メッキ層１３と、で形成されたドレス部１４を有する。砥粒層１２は、平均粒径６５０μｍ（粒度＃３０）の六・八面体のダイヤモンド砥粒１５をニッケル電鋳にて固着して形成され、補強メッキ層１３はニッケルメッキによって形成されている。なお、図１，図２中に示すように、矢線ａが法線方向、矢線ｂが接線方向、矢線ｃが剪断方向であり、矢線Ｒがロータリードレッサ１００の回転方向である。 First, the rotary dresser 100 will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. As shown in FIGS. 1 to 3, the rotary dresser 100 includes a backing layer 11 protruding in a flange shape from the outer circumference 10a of a disk-shaped base metal 10, and a grinding wheel formed on the rotating surface 11a of the backing layer 11. It has a dressing portion 14 formed of a grain layer 12 and a reinforcing plated layer 13 formed on the surface of the abrasive grain layer 12 . The abrasive grain layer 12 is formed by fixing hexahedral diamond abrasive grains 15 having an average grain size of 650 μm (grain size #30) by nickel electroforming, and the reinforcing plating layer 13 is formed by nickel plating. 1 and 2, the arrow a indicates the normal direction, the arrow b indicates the tangential direction, the arrow c indicates the shear direction, and the arrow R indicates the rotation direction of the rotary dresser 100. FIG.

図４に示すように、裏打ち層１１の厚みをｔ１、ダイヤモンド砥粒１５の平均粒径をｄ、砥粒層１２の積層数をｎ、補強メッキ層１３の厚みをｔ２、ドレス部１４の厚みをＴとしたとき、Ｔ＝ｔ１＋ｔ２＋ｎｄ、且つ、Ｔ－ｔ１＝ｎｄ×（９５％～２４０％）である。本実施形態の場合、ダイヤモンド砥粒１５の平均粒径ｄは、ダイヤモンド砥粒１５の最小粒径ｄ１と最大粒径ｄ２の算術平均値（相加平均値）であり、砥粒層１２の積層数ｎ＝１である。 As shown in FIG. 4, the thickness of the backing layer 11 is t1, the average grain size of the diamond abrasive grains 15 is d, the number of layers of the abrasive grain layer 12 is n, the thickness of the reinforcing plating layer 13 is t2, and the thickness of the dressing portion 14 is is T, T=t1+t2+nd and T−t1=nd×(95% to 240%). In the case of the present embodiment, the average grain size d of the diamond abrasive grains 15 is the arithmetic mean value (arithmetic mean value) of the minimum grain size d1 and the maximum grain size d2 of the diamond grains 15, and the lamination of the grain layer 12 The number n=1.

また、ロータリードレッサ１００においては、図４に示すように砥粒層１２の砥粒使用代面法線方向（図１中の矢線ａ方向）における単位面積中に占めるダイヤモンド砥粒１５の投影面積の割合が６２％である。 Further, in the rotary dresser 100, as shown in FIG. 4, the projected area of the diamond abrasive grains 15 occupied in the unit area in the normal direction of the abrasive grain use surface of the abrasive grain layer 12 (the direction of the arrow a in FIG. 1) is 62%.

さらに、ロータリードレッサ１００においては、砥粒使用代面法線方向（図１中の矢線ａの１８０度反対方向）における砥粒層１２内のダイヤモンド砥粒１５の外接円（図示せず）の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９４％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄ（但し、ｄ＝６５０μｍ）の範囲内であり、使用代面剪断方向（図１中の矢線ｂ方向）における砥粒層１２内のダイヤモンド砥粒１５の外接円（図示せず）の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９８％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄ（但し、ｄ＝６５０μｍ）の範囲内である。 Furthermore, in the rotary dresser 100, the circumscribed circle (not shown) of the diamond abrasive grains 15 in the abrasive grain layer 12 in the normal direction of the abrasive grain use surface normal (the direction opposite to the arrow a in FIG. 1 by 180 degrees) 94% of the distance L between the abrasive grains defined by the center-to-center distance is within the range of 2/3 x d ≤ L ≤ 2 x d (where d = 650 μm), 98% of the distance L between the abrasive grains defined by the center-to-center distance of the circumscribed circle (not shown) of the diamond abrasive grains 15 in the abrasive grain layer 12 in the arrow b direction) is 2/3 × d ≤ L ≦2×d (where d=650 μm).

また、ロータリードレッサ１００においては、図４に示すように、ダイヤモンド砥粒１５の外面において最大面積を有する平面部１５ａが裏打ち層１１の回転面１１ａと平行をなすように固着されている。なお、裏打ち層１１の回転面１１ａにダイヤモンド砥粒１５を固着する前に振動を与えることにより、平面部１５ａが裏打ち層１１の回転面１１ａと平行をなすように配列することができる。 Further, in the rotary dresser 100, as shown in FIG. 4, the planar portion 15a having the largest area on the outer surface of the diamond abrasive grain 15 is fixed so as to be parallel to the rotation surface 11a of the backing layer 11. As shown in FIG. By vibrating the rotating surface 11a of the backing layer 11 before the diamond abrasive grains 15 are fixed, the planar portion 15a can be arranged parallel to the rotating surface 11a of the backing layer 11. FIG.

次に、図１に示すロータリードレッサ１００並びに従来のロータリードレッサのドレス性能を比較する試験を行ったので、その結果について、図６～図９に基づいて説明する。 Next, a test was conducted to compare the dressing performance of the rotary dresser 100 shown in FIG. 1 and a conventional rotary dresser, and the results will be described with reference to FIGS. 6 to 9. FIG.

図６は、ロータリードレッサ１００若しくは従来のロータリードレッサ１０１を使用して砥石２０をドレスしている状態を模式的に示している。ドレス作業は横軸平面研削盤を使用し、研削液供給手段２１から研削液を供給しながら、湿式にて行った。ドレス条件は次の通りである。
周速度比：０．５（砥石２０の周速４０ｍ／ｓｅｃ、ドレッサの周速２０ｍ／ｓｅｃ）
ドレスリード：０．２ｍｍ／ｒeｖ
切込量：０．０１０ｍｍ
砥石粒度：＃８０ FIG. 6 schematically shows a state in which a rotary dresser 100 or a conventional rotary dresser 101 is used to dress the grindstone 20 . The dressing operation was carried out in a wet manner using a horizontal shaft surface grinder while supplying the grinding liquid from the grinding liquid supply means 21 . Dressing conditions are as follows.
Peripheral speed ratio: 0.5 (peripheral speed of grindstone 40 m/sec, peripheral speed of dresser 20 m/sec)
Dress lead: 0.2mm/rev
Cutting depth: 0.010mm
Grindstone grain size: #80

図７は、図６に示すロータリードレッサ１００（１０１）によりドレスされた砥石２０で被削材２２を研削している状態を模式的に示している。図８は図７に示す研削作業における被削材の研削過程を模式的に示しており、複数の矢線はそれぞれ１ｐaｓｓを示している。研削作業は横軸平面研削盤を使用し、研削液供給手段２１から研削液を供給しながら、湿式にて行った。研削条件は次の通りである。
砥石２０の周速：４０ｍ／ｓｅｃ
送り速度：１０ｍ／ｍｉｎ
切込量：０．０１０ｍｍ／ｐaｓｓ
被削材２２（材質ＳＣＭ４３５、焼入れ硬さ：ＨＲＣ５０） FIG. 7 schematically shows a state in which a work material 22 is ground by the grindstone 20 that has been dressed by the rotary dresser 100 (101) shown in FIG. FIG. 8 schematically shows the grinding process of the work material in the grinding operation shown in FIG. 7, and each of the arrows indicates 1 pass. Grinding work was carried out in a wet manner using a horizontal shaft surface grinder while supplying a grinding fluid from the grinding fluid supply means 21 . The grinding conditions are as follows.
Peripheral speed of grindstone 20: 40 m/sec
Feeding speed: 10m/min
Cutting depth: 0.010mm/pass
Work material 22 (material SCM435, quenching hardness: HRC50)

図９はロータリードレッサ１００並びに従来のロータリードレッサ１０１の仕様を示している。ロータリードレッサ１００並びにロータリードレッサ１０１を使用して、図７に示す研削作業を行ったときの消費電力を測定すると、図１０に示すような結果となった。 FIG. 9 shows the specifications of the rotary dresser 100 and the conventional rotary dresser 101. As shown in FIG. Using the rotary dresser 100 and the rotary dresser 101, power consumption was measured when the grinding work shown in FIG. 7 was performed, and the results shown in FIG. 10 were obtained.

図１０を見ると、従来のロータリードレッサ１０１の変化率が２７.８％であるのに対し、ロータリードレッサ１００の変化率は２５.０％であることが分かる。 As can be seen from FIG. 10, the change rate of the conventional rotary dresser 101 is 27.8%, whereas the change rate of the rotary dresser 100 is 25.0%.

次に、ロータリードレッサ１００並びにロータリードレッサ１０１を使用して図７，図８に示す研削作業を行った後の被削材２２の表面粗さを測定すると、図１１に示すような結果が得られた。 7 and 8 using the rotary dresser 100 and rotary dresser 101, the surface roughness of the work material 22 was measured, and the results shown in FIG. 11 were obtained. rice field.

図１１を見ると、従来のロータリードレッサ１０１の変化率が３８％であるのに対し、ロータリードレッサ１００の変化率は１６％であることが分かる。 As can be seen from FIG. 11, the change rate of the conventional rotary dresser 101 is 38%, while the change rate of the rotary dresser 100 is 16%.

本実施形態に係るロータリードレッサ１００は従来のロータリードレッサ１０１よりも初期砥粒面積率が高く、使用代剪断方向（図１中の矢線ｃ方向）における砥粒間距離Ｌが２／３×ｄ≦Ｌ≦２ｄを満たす割合が多いため、持続して一定の消費電力と面粗さを推移し、切れ味及び面粗さのバラツキが改善した。また、使用代法線方向（図１中の矢線ａ方向）における砥粒間距離Ｌが２／３×ｄ≦Ｌ≦２ｄを満たす割合が多いため、より多くのダイヤモンド砥粒１５が砥石２０の外周面をドレスする。そのため研削初期の消費電力は若干高くなってしまうが、被削材２２の表面粗さが改善した。 The rotary dresser 100 according to the present embodiment has a higher initial abrasive grain area ratio than the conventional rotary dresser 101, and the distance L between the abrasive grains in the shearing direction (the direction of the arrow c in FIG. 1) is 2/3×d Since there were many ratios satisfying ≦L≦2d, constant power consumption and surface roughness were maintained, and variations in sharpness and surface roughness were improved. In addition, since the distance L between the abrasive grains in the normal direction of use (the direction of the arrow a in FIG. 1) satisfies 2/3×d≦L≦2d, more diamond abrasive grains 15 are used in the grindstone 20. dress the outer circumference of the As a result, the power consumption at the initial stage of grinding is slightly increased, but the surface roughness of the work material 22 is improved.

次に、図１２に基づいて、本発明のその他の実施形態であるロータリードレッサ２００について説明する。図１２はロータリードレッサ２００の一部を簡略化して示す模式図であり、図４に示すロータリードレッサ１００の一部に相当する図である。なお、ロータリードレッサ２００においてロータリードレッサ１００と共通する部分については図４中の符号と同符号を付して説明を省略する。 Next, a rotary dresser 200, which is another embodiment of the present invention, will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a schematic diagram showing a simplified part of the rotary dresser 200, which corresponds to a part of the rotary dresser 100 shown in FIG. Parts of the rotary dresser 200 that are the same as those of the rotary dresser 100 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 4, and description thereof is omitted.

図４に示すロータリードレッサ１００において砥粒層１２の積層数ｎ＝１であるのに対し、図１２に示すロータリードレッサ２００の砥粒層１２の積層数ｎ＝５であり、Ｔ＝ｔ１＋ｔ２＋５ｄ、且つ、Ｔ－ｔ１＝５ｄ×（９５％～２４０％）である。ダイヤモンド砥粒１５の平均粒径ｄは、ダイヤモンド砥粒１５の最小粒径ｄ１と最大粒径ｄ２の算術平均値（相加平均値）である。 In the rotary dresser 100 shown in FIG. 4, the lamination number n of the abrasive grain layers 12 is 1, whereas the lamination number n of the abrasive grain layers 12 in the rotary dresser 200 shown in FIG. , T−t1=5d×(95%-240%). The average grain size d of the diamond grains 15 is the arithmetic mean value (arithmetic mean value) of the minimum grain size d1 and the maximum grain size d2 of the diamond grains 15 .

また、ロータリードレッサ２００においては、図１２に示すように砥粒層１２の砥粒使用代面法線方向（図１中の矢線ａ方向）における単位面積中に占めるダイヤモンド砥粒１５の投影面積の割合が３５％～６５％である。 Further, in the rotary dresser 200, as shown in FIG. 12, the projected area of the diamond abrasive grains 15 occupied in the unit area in the normal direction of the abrasive grain use surface of the abrasive grain layer 12 (the direction of the arrow a in FIG. 1) is 35% to 65%.

さらに、ロータリードレッサ２００においては、砥粒使用代面法線方向（図１中の矢線ａの１８０度反対方向）における砥粒層１２内のダイヤモンド砥粒１５の外接円（図示せず）の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９０％～１００％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄ（但し、ｄ＝７０μｍ～１０００μｍ）の範囲内であり、使用代面剪断方向（図１中の矢線ｂ方向）における砥粒層１２内のダイヤモンド砥粒１５の外接円（図示せず）の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９０％～１００％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄ（但し、ｄ＝７０μｍ～１０００μｍ）の範囲内である。 Furthermore, in the rotary dresser 200, the circumscribed circle (not shown) of the diamond abrasive grains 15 in the abrasive grain layer 12 in the normal direction of the abrasive grain use surface normal direction (180 degrees opposite direction of the arrow a in FIG. 1) 90% to 100% of the distance L between abrasive grains defined by the distance between centers is within the range of 2/3 x d ≤ L ≤ 2 x d (however, d = 70 μm to 1000 μm), and the use margin surface shear 90% to 100% of the distance L between the abrasive grains defined by the center-to-center distance of the circumscribed circle (not shown) of the diamond abrasive grains 15 in the abrasive grain layer 12 in the direction (arrow b direction in FIG. 1) , 2/3×d≦L≦2×d (where d=70 μm to 1000 μm).

ロータリードレッサ２００はロータリードレッサ１００と同様の機能、効果を発揮するが、ロータリードレッサ２００においては砥粒層１２の積層数ｎ＝５であるため、ロータリードレッサ２００の製品としての耐摩耗性が向上する。 The rotary dresser 200 exhibits the same functions and effects as the rotary dresser 100, but in the rotary dresser 200, since the number n of abrasive grain layers 12 is 5, the wear resistance of the rotary dresser 200 as a product is improved. .

本発明に係るロータリードレッサは、一般砥石やＣＢＮ砥石などのドレス手段として各種製造業の分野において広く利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The rotary dresser according to the present invention can be widely used in the fields of various manufacturing industries as dressing means for general grindstones, CBN grindstones, and the like.

１０ 台金
１０ａ 外周
１１ 裏打ち層
１１ａ 回転面
１２ 砥粒層
１３ 補強メッキ層
１４ ドレス部
１５ ダイヤモンド砥粒
２０ 砥石
２１ 研削液供給手段
２２ 被削材
１００，２００ ロータリードレッサ REFERENCE SIGNS LIST 10 base metal 10a outer circumference 11 backing layer 11a rotating surface 12 abrasive grain layer 13 reinforcing plating layer 14 dressing portion 15 diamond abrasive grains 20 grinding wheel 21 grinding fluid supply means 22 work material 100, 200 rotary dresser

Claims (3)

円板状の台金の外周にフランジ状に突設された裏打ち層と、前記裏打ち層の回転面に平均粒径７０μｍ～１０００μｍの六・八面体のダイヤモンド砥粒を電鋳にて固着して形成された砥粒層と、前記砥粒層の表面に形成された補強メッキ層と、で形成されたドレス部を備えたロータリードレッサであって、
前記裏打ち層の厚みをｔ１、前記ダイヤモンド砥粒の平均粒径をｄ、前記砥粒層の積層数をｎ、前記補強メッキ層の厚みをｔ２、前記ドレス部の厚みをＴとしたとき、Ｔ＝ｔ１＋ｔ２＋ｎｄ、且つ、Ｔ－ｔ１＝ｎｄ×（９５％～２４０％）であり、
前記砥粒層を砥粒使用代面法線方向における単位面積中に占める前記ダイヤモンド砥粒の投影面積の割合が３５％～６５％であるロータリードレッサ。 A backing layer protruding in a flange shape from the outer periphery of a disk-shaped base metal, and hexahedral diamond abrasive grains having an average particle size of 70 μm to 1000 μm are fixed to the rotating surface of the backing layer by electroforming. A rotary dresser comprising a dressing portion formed of an abrasive grain layer formed and a reinforcing plating layer formed on the surface of the abrasive grain layer,
When the thickness of the backing layer is t1, the average particle diameter of the diamond abrasive grains is d, the number of layers of the abrasive grain layer is n, the thickness of the reinforcing plating layer is t2, and the thickness of the dressing portion is T, T = t1 + t2 + nd, and T−t1 = nd × (95% to 240%),
A rotary dresser, wherein the proportion of the projected area of the diamond abrasive grains in the unit area of the abrasive grain layer in the normal direction of the abrasive grain use surface is 35% to 65%. 砥粒使用代面法線方向並びに使用代面剪断方向における前記砥粒層内の前記ダイヤモンド砥粒の外接円の中心間距離で定義される砥粒間距離Ｌの９０％～１００％が、２／３×ｄ≦Ｌ≦２×ｄの範囲内である請求項１記載の請求項１記載のロータリードレッサ。 90% to 100% of the inter-abrasive grain distance L defined by the center-to-center distance of the circumscribed circle of the diamond abrasive grains in the abrasive grain layer in the normal direction of the abrasive grain use surface and the use surface shear direction is 2 2. The rotary dresser according to claim 1, wherein the range of /3*d≤L≤2*d is satisfied. 前記ダイヤモンド砥粒の外面において最大面積を有する平面部が前記裏打ち層の回転面と平行をなす請求項１または２記載のロータリードレッサ。 3. The rotary dresser according to claim 1, wherein the flat portion having the largest area on the outer surface of said diamond abrasive grains is parallel to the plane of rotation of said backing layer.
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