JP2022143344A - Conductive silicone composition, conductive silicone cured product, and laminate - Google Patents

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Abstract

To provide an addition-curable conductive silicone composition which has high conductivity and good adhesiveness to metals such as aluminum and copper.SOLUTION: The conductive silicone composition contains: (A) an organopolysiloxane which has at least two groups having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond in one molecule; (B) an organohydrogenpolysiloxane which has at least two SiH groups in one molecule; (C) a bis(β-diketonato)platinum complex; (D) conductive particles; (E) an organic peroxide; (F) a compound having an oxacyclopropane structure; and (G) a carboxylic acid anhydride.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電性シリコーン組成物、その硬化物、及び該硬化物を有する積層体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive silicone composition, a cured product thereof, and a laminate comprising the cured product.

従来から半導体や水晶振動子の基盤への接着や回路の形成等の用途に対して、高温での実装を要求する半田の代替として導電性粒子を溶剤や樹脂中に分散させた導電性接着剤や導電ペーストなどと呼称される導電性組成物が広く用いられている(特許文献1)。 A conductive adhesive made by dispersing conductive particles in a solvent or resin as an alternative to solder, which has traditionally required high-temperature mounting, for applications such as bonding semiconductors and crystal oscillators to substrates and forming circuits. A conductive composition called a conductive paste or the like is widely used (Patent Document 1).

これらの導電性組成物のバインダーとして汎用されてきたエポキシ樹脂は、接着強度等の機械強度に優れるものの、可撓性や伸縮性に劣り、いわゆるウェアラブルデバイスのような回路を形成する基材自体が屈曲、伸縮する用途への応用が難しかった。 Epoxy resins, which have been widely used as binders for these conductive compositions, are excellent in mechanical strength such as adhesive strength, but are inferior in flexibility and stretchability, and the base material itself that forms a circuit such as a so-called wearable device. It was difficult to apply to applications that bend and stretch.

このような問題に対して、より柔軟性に優れるバインダーとしてシリコーン樹脂などの利用が検討されている(特許文献2)。シリコーン樹脂の硬化方法としては、主に不飽和炭素基とSiH基との間のヒドロシリル化反応を利用した付加硬化が用いられている。 To address such problems, the use of silicone resins and the like as binders with superior flexibility has been investigated (Patent Document 2). As a method for curing silicone resins, addition curing utilizing a hydrosilylation reaction between unsaturated carbon groups and SiH groups is mainly used.

特開2000-319622号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-319622 特開2004-119254号公報JP 2004-119254 A

導電性粒子を高い割合で含む付加硬化型シリコーン組成物は、酸素欠乏条件下で硬化性が悪化する傾向があり、このような導電性組成物を接着剤として使用した場合、80~120℃程度の比較的低温で加熱した際に貼り合わせ部の内部が硬化せず、導電性接着剤の被着体として用いられる銅などの金属に対しての接着性が不足するという問題があった。 Addition-curable silicone compositions containing a high proportion of conductive particles tend to exhibit poor curability under oxygen-deficient conditions. When heated at a relatively low temperature, the inside of the bonded portion does not harden, and there is a problem that the adhesiveness to metal such as copper used as an adherend of the conductive adhesive is insufficient.

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、高導電性であり、アルミニウムや銅などの金属との良好な接着性を有する付加硬化型導電性シリコーン組成物を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an addition-curable conductive silicone composition having high conductivity and good adhesion to metals such as aluminum and copper.

上記目的を達成するために、本発明では、
(A)ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、
(B)SiH基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)ビス(β-ジケトナト)白金錯体、
(D)導電性粒子、
(E)有機過酸化物、
(F)オキサシクロプロパン構造を有する化合物、及び
(G)カルボン酸無水物
を含むものである導電性シリコーン組成物を提供する。
In order to achieve the above object, in the present invention,
(A) an organopolysiloxane having at least two groups per molecule having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond;
(B) an organohydrogenpolysiloxane having at least two SiH groups per molecule;
(C) a bis(β-diketonato)platinum complex,
(D) conductive particles;
(E) an organic peroxide,
Provided is a conductive silicone composition comprising (F) a compound having an oxacyclopropane structure and (G) a carboxylic anhydride.

このようなものであれば、金属との良好な接着性を有する付加硬化型導電性シリコーン組成物とすることができる。 With such a composition, an addition-curable conductive silicone composition having good adhesion to metals can be obtained.

また、前記(B)成分中のSiH基の数が、前記(A)成分中のヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合1個に対して0.5~10.0個となる量であることが好ましい。 Further, the number of SiH groups in the component (B) is 0.5 to 10.0 per one hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond in the component (A). is preferred.

このようなものであれば、機械特性に優れる硬化物が得られる。 With such a composition, a cured product having excellent mechanical properties can be obtained.

また、前記(D)成分が銀粉であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that said (D) component is a silver powder.

このようなものであれば、硬化物に更に高い導電性を与えることができる。 With such a material, it is possible to impart higher conductivity to the cured product.

また、前記(D)成分の含有量が、組成物の全質量に対し50~99質量%であることが好ましい。 Also, the content of the component (D) is preferably 50 to 99% by mass relative to the total mass of the composition.

このようなものであれば、更に硬化性及び取り扱い性に優れる組成物が得られ、また、硬化物に十分な導電性を与えることができる。 With such a composition, it is possible to obtain a composition having excellent curability and handleability, and to impart sufficient electrical conductivity to the cured product.

また、前記(E)成分がパーオキシカーボネート構造、アルキルパーエステル構造、又はジアルキルパーオキサイド構造を有する有機過酸化物であることが好ましい。 Moreover, the component (E) is preferably an organic peroxide having a peroxycarbonate structure, an alkylperester structure, or a dialkylperoxide structure.

このようなものであれば、ヒドロシリル化触媒をより低温で活性化することができ、より一層、硬化性、接着性に優れた付加硬化型導電性シリコーン組成物とすることができる。 With such a composition, the hydrosilylation catalyst can be activated at a lower temperature, and an addition-curable conductive silicone composition having even better curability and adhesiveness can be obtained.

また、前記(G)成分がテトラヒドロ-2,5-ジオキソフラン構造を有する分子内カルボン酸無水物であることが好ましい。 Also, the component (G) is preferably an intramolecular carboxylic acid anhydride having a tetrahydro-2,5-dioxofuran structure.

このようなものであれば、金属に対する接着性を更に高めることができる。 With such a material, the adhesiveness to metal can be further enhanced.

更に(H)下記一般式(3)~(5)に示される化合物及びその立体異性体から選ばれる少なくとも1種の有機ケイ素化合物を含むものであることが好ましい。

Figure 2022143344000001
(式中、Rは置換もしくは非置換の1価炭化水素基又は水素原子であり、Rは置換又は非置換の1価炭化水素基であり、Rは互いに同一又は異なっていても良い置換もしくは非置換の1価炭化水素基又はアルコキシ基である。) Further, (H) preferably contains at least one organosilicon compound selected from compounds represented by the following general formulas (3) to (5) and stereoisomers thereof.
Figure 2022143344000001
(wherein R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or hydrogen atom, R 5 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and R 6 may be the same or different A substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or alkoxy group.)

このようなものであれば、硬化の際の発泡を抑制することができる。 With such a material, foaming during curing can be suppressed.

また本発明では、上記の導電性シリコーン組成物の硬化物であって、体積抵抗率が1.0×10-3Ω・cm以下のものである導電性シリコーン硬化物を提供する。 The present invention also provides a cured conductive silicone composition, which is a cured conductive silicone composition having a volume resistivity of 1.0×10 −3 Ω·cm or less.

このようなものであれば、高い導電性の硬化物とすることができる。 With such a material, a highly conductive cured product can be obtained.

また本発明では、上記の導電性シリコーン硬化物を有するものである積層体を提供する。 The present invention also provides a laminate comprising the cured conductive silicone material described above.

このようなものであれば、高い導電性を有する積層体とすることができる。 With such a material, a laminate having high conductivity can be obtained.

本発明の導電性シリコーン組成物は、高い導電性を有すると共にアルミニウムや銅などの金属に対する接着性に優れるシリコーン硬化物を与える。このような特性を有する本発明の導電性シリコーン組成物は、導電性接着剤や導電ペーストとして、電子部品や素子の基板への接着、電子回路の形成等に有用である。 The conductive silicone composition of the present invention provides a cured silicone product that has high conductivity and excellent adhesion to metals such as aluminum and copper. The conductive silicone composition of the present invention having such properties is useful as a conductive adhesive or conductive paste for bonding electronic parts and elements to substrates, forming electronic circuits, and the like.

上述のように、高導電性であり金属に対する接着性に優れる付加硬化型導電性シリコーン組成物の開発が求められていた。 As described above, there has been a demand for the development of addition-curable conductive silicone compositions that are highly conductive and have excellent adhesion to metals.

本発明者は、上記問題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、付加硬化型液状シリコーンゴムに導電性フィラーを充填した導電性接着剤において、特定の構造を有するヒドロシリル化触媒、有機過酸化物、オキサシクロプロパン構造を有する化合物及びカルボン酸無水物を配合することによってアルミニウムや銅などの金属との良好な接着性を有する導電性接着剤が得られることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies aimed at solving the above problems, the inventors of the present invention have found that, in a conductive adhesive obtained by filling an addition-curable liquid silicone rubber with a conductive filler, a hydrosilylation catalyst having a specific structure, an organic peroxide, and the like , found that a conductive adhesive having good adhesion to metals such as aluminum and copper can be obtained by blending a compound having an oxacyclopropane structure and a carboxylic anhydride, and completed the present invention.

即ち、本発明は、
(A)ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、
(B)SiH基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)ビス(β-ジケトナト)白金錯体、
(D)導電性粒子、
(E)有機過酸化物、
(F)オキサシクロプロパン構造を有する化合物、及び
(G)カルボン酸無水物
を含むものである導電性シリコーン組成物である。
That is, the present invention
(A) an organopolysiloxane having at least two groups per molecule having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond;
(B) an organohydrogenpolysiloxane having at least two SiH groups per molecule;
(C) a bis(β-diketonato)platinum complex,
(D) conductive particles;
(E) an organic peroxide,
A conductive silicone composition comprising (F) a compound having an oxacyclopropane structure and (G) a carboxylic anhydride.

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Although the present invention will be described in detail below, the present invention is not limited thereto.

[導電性シリコーン組成物]
本発明の導電性シリコーン組成物は、下記(A)~(G)成分を含むものである。
[Conductive silicone composition]
The conductive silicone composition of the present invention contains the following components (A) to (G).

[(A)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(A)成分は、ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基を1分子中に少なくとも2個有する、オルガノポリシロキサンである。
[(A) component]
Component (A) in the conductive silicone composition of the present invention is an organopolysiloxane having at least two groups having hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule.

(A)成分としては、例えば、下記平均式(1)で示されるオルガノポリシロキサンを用いることができる。

Figure 2022143344000002
As component (A), for example, an organopolysiloxane represented by the following average formula (1) can be used.
Figure 2022143344000002

平均式(1)中、Rはヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基であり、Rはヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を含まない同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の1価の炭化水素基である。ただし、a,b,c,d,e,f,gはそれぞれ、a≧0、b≧0、c≧0、d≧0、e≧0、f≧0及びg≧0を満たす数であり、ただし、b+c+e>0であり、かつ、a+b+c+d+e+f+g=1を満たす数である。また、各シロキサン単位の配列順は任意である。 In the average formula (1), R 1 is a group having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond, R 2 may be the same or different without a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond, It is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. However, a, b, c, d, e, f, and g are numbers satisfying a≧0, b≧0, c≧0, d≧0, e≧0, f≧0, and g≧0, respectively. , where b+c+e>0 and a+b+c+d+e+f+g=1. Moreover, the arrangement order of each siloxane unit is arbitrary.

のヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基としては、ビニル基、アリル基、オクテニル基、ドデセニル基、ノルボルネニル基、イソノルボルネニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、好ましくは炭素原子数2~10、より好ましくは2~6のアルケニル基であり、特にビニル基が好ましい。 Examples of groups having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond for R 1 include vinyl groups, allyl groups, octenyl groups, dodecenyl groups, norbornenyl groups, isonorbornenyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and the like. It is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a vinyl group.

(A)成分のオルガノポリシロキサンは、1分子中に少なくとも2個、好ましくは2~6個の、ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基を含む。これらの基は、(A)成分の分子鎖末端及び分子鎖側鎖(分子鎖非末端)のどちらか一方にのみ位置していても、その両方に位置していてもよい。 Component (A), the organopolysiloxane, contains at least 2, preferably 2 to 6 groups having hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bonds per molecule. These groups may be located on either one of the molecular chain terminal and the molecular chain side chain (non-terminal of the molecular chain) of component (A), or may be located on both of them.

としては、ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を含まないものであれば特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、s-ペンチル基、2-ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3-クロロプロピル基、トリフルオロメチル基、3,3,3-トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等の、好ましくは炭素原子数が1~12、より好ましくは1~10、更に好ましくは1~8の、非置換又はハロゲン置換の1価の炭化水素基が挙げられ、特にメチル基が好ましい。 R 2 is not particularly limited as long as it does not contain a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond. Examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and s-butyl group. , isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, isopentyl group, s-pentyl group, 2-pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, alkyl group such as 2-ethylhexyl group; cyclopentyl group , cycloalkyl groups such as cyclohexyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group and other aryl groups; benzyl group, phenethyl group and other aralkyl groups; chloromethyl group, 3-chloropropyl group, trifluoro A methyl group, a halogenated alkyl group such as a 3,3,3-trifluoropropyl group, etc., preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 8, unsubstituted or Halogen-substituted monovalent hydrocarbon groups can be mentioned, and a methyl group is particularly preferred.

(A)成分の具体的な例としては、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキサン・環状メチルビニルシロキサン共重合体、環状メチルビニルシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・環状ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・環状メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン、両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジフェニルシロキサン、両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖メチルフェニルシロキサン、両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・環状ジフェニルシロキサン共重合体、(CH=CH)(CHSiO1/2単位と(CHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体などが挙げられる。(A)成分は一種単独でも二種以上を併用してもよい。 Specific examples of the component (A) include dimethylsiloxane with both ends blocked with dimethylvinylsiloxy groups, methylvinylsiloxane with both ends with trimethylsiloxy groups blocked, dimethylvinylsiloxane with both ends blocked with cyclic methylvinylsiloxane copolymer, and cyclic methylvinylsiloxane. , both terminal dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane/cyclic diphenylsiloxane copolymer, both terminal dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane/cyclic methylphenylsiloxane copolymer, both terminal methylphenylvinsiloxy group-blocked dimethylsiloxane, both terminal methyl phenylvinylsiloxy group-blocked diphenylsiloxane, both ends methylphenylvinylsiloxy group-blocked methylphenylsiloxane, both ends methylphenylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane/cyclic diphenylsiloxane copolymer, (CH 2 =CH) (CH 3 ) 2 SiO Examples thereof include copolymers composed of 1/2 units, (CH 3 ) 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units. Component (A) may be used alone or in combination of two or more.

(A)成分の動粘度は特に限定されないが、好ましくは10~100,000mm/s、より好ましくは100~10,000mm/sの範囲である。なお、動粘度は、例えば、ウベローデ粘度計又はキャノン・フェンスケ型粘度計を用いた25℃における測定値とすることができる。このような範囲であれば組成物の取り扱い性に優れる。 Although the kinematic viscosity of component (A) is not particularly limited, it is preferably in the range of 10 to 100,000 mm 2 /s, more preferably in the range of 100 to 10,000 mm 2 /s. The kinematic viscosity can be measured at 25° C. using, for example, an Ubbelohde viscometer or a Canon-Fenske viscometer. Within such a range, the composition is excellent in handleability.

[(B)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(B)成分は、(A)成分中に含まれるヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合とヒドロシリル化反応により架橋する架橋剤として作用する。(B)成分は、ケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を1分子中に少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
[(B) Component]
The component (B) in the conductive silicone composition of the present invention acts as a cross-linking agent that cross-links the hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bonds contained in the component (A) by a hydrosilylation reaction. Component (B) is an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms (SiH groups) per molecule.

(B)成分としては、例えば、下記平均式(2)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用いることができる。

Figure 2022143344000003
As component (B), for example, an organohydrogenpolysiloxane represented by the following average formula (2) can be used.
Figure 2022143344000003

平均式(2)中、Rはヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を含まない同一又は異なっていても良い、置換又は非置換の1価の炭化水素基である。ただし、h,i,j,k,l,m,nはそれぞれ、h≧0、i≧0、j≧0、k≧0、l≧0、m≧0及びn≧0を満たす数であり、i+j+l>0であり、かつ、h+i+j+k+l+m+n=1を満たす数である。また、各シロキサン単位の配列順は任意である。 In the average formula (2), R 3 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group which may be the same or different and which does not contain a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond. provided that h, i, j, k, l, m, and n are numbers satisfying h≧0, i≧0, j≧0, k≧0, l≧0, m≧0, and n≧0, respectively. , i+j+l>0 and h+i+j+k+l+m+n=1. Moreover, the arrangement order of each siloxane unit is arbitrary.

の具体例としては、上記Rと同様の基が挙げられ、好ましくは炭素原子数が1~12、より好ましくは1~10、更に好ましくは1~8の、非置換又はハロゲン置換の1価の炭化水素基が挙げられ、特にメチル基が好ましい。 Specific examples of R 3 include the same groups as those for R 2 above, preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 8 carbon atoms, unsubstituted or halogen-substituted A monovalent hydrocarbon group can be mentioned, and a methyl group is particularly preferred.

(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン化合物は、1分子中に少なくとも2個、好ましくは3~300個、特に好ましくは3~100個のケイ素原子に結合した水素原子を有する。(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンが直鎖状構造を有する場合、これらのSiH基は、分子鎖末端及び分子鎖側鎖(分子鎖非末端)のどちらか一方にのみ位置していても、その両方に位置していてもよい。 The component (B) organohydrogenpolysiloxane compound has at least 2, preferably 3 to 300, particularly preferably 3 to 100 silicon-bonded hydrogen atoms per molecule. When the organohydrogenpolysiloxane of component (B) has a linear structure, these SiH groups may be located only at either the terminal of the molecular chain or the side chain of the molecular chain (non-terminal of the molecular chain). , and both.

(B)成分の具体的な例としては、例えば、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・環状メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、環状メチルハイドロジェンシロキサン、両末端ジメチルフェニルシロキシ基封鎖メチルフェニルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端ジメチルフェニルシロキシ基封鎖ジフェニルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端メチルフェニルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジフェニルポリシロキサン、両末端メチルフェニルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジフェニルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、片末端メチルフェニルハイドロジェン基片末端ジメチルハイドロジェン基封鎖ジフェニルポリシロキサン等が挙げられる。 Specific examples of component (B) include, for example, dimethylsiloxane blocked at both ends with dimethylhydrogensiloxy groups, methylhydrogensiloxane-dimethylsiloxane copolymer blocked at both ends with trimethylsiloxy groups, and dimethylhydrogensiloxy group-blocked at both ends. Dimethylsiloxane/cyclic methylhydrogensiloxane copolymer, cyclic methylhydrogensiloxane, both ends dimethylphenylsiloxy group-blocked methylphenylhydrogensiloxane/dimethylsiloxane cyclic copolymer, both ends dimethylphenylsiloxy group-blocked diphenylsiloxane/methylhydro gensiloxane copolymer, diphenylpolysiloxane capped with methylphenylhydrogensiloxy groups at both ends, dimethylsiloxane-diphenylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer capped with methylphenylhydrogensiloxy groups at both ends, diphenylhydrogensiloxy group-capped at both ends Examples thereof include dimethylsiloxane/diphenylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer, diphenylpolysiloxane having one terminal methylphenylhydrogen group and one terminal dimethylhydrogen group-blocked.

(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン化合物は、単独で用いても二種以上併用してもよい。 The (B) component organohydrogenpolysiloxane compound may be used alone or in combination of two or more.

(B)成分の動粘度は、特に限定されないが、好ましくは10~1,000mm/s、より好ましくは10~100mm/sの範囲である。なお、動粘度は、例えば、ウベローデ粘度計又はキャノン・フェンスケ型粘度計を用いた25℃における測定値とすることができる。このような範囲であれば組成物の取り扱い性に優れる。 Although the kinematic viscosity of component (B) is not particularly limited, it is preferably in the range of 10 to 1,000 mm 2 /s, more preferably in the range of 10 to 100 mm 2 /s. The kinematic viscosity can be measured at 25° C. using, for example, an Ubbelohde viscometer or a Canon-Fenske viscometer. Within such a range, the composition is excellent in handleability.

(B)成分の配合量は、(A)成分中のヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合1個に対して(B)成分中のケイ素原子結合水素原子(SiH基)の数が、好ましくは0.5~10.0個、より好ましくは1.0~6.0の範囲内となる量である。このような範囲であれば機械特性に優れる硬化物が得られる。 The amount of component (B) to be blended is preferably such that the number of silicon-bonded hydrogen atoms (SiH groups) in component (B) per one hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond in component (A) is is an amount within the range of 0.5 to 10.0, more preferably 1.0 to 6.0. Within such a range, a cured product having excellent mechanical properties can be obtained.

[(C)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(C)成分は、ビス(β-ジケトナト)白金錯体であり、(A)成分中のヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合と、(B)成分中のケイ素原子結合水素原子とのヒドロシリル化反応を促進するためのヒドロシリル化触媒として作用する。さらに、ヒドロシリル化触媒としてこのような(C)成分を用いることにより、本発明の導電性シリコーン組成物は反応制御剤を配合しなくても優れた保存性を有する組成物となる。
[(C) component]
The (C) component in the conductive silicone composition of the present invention is a bis(β-diketonato)platinum complex, and the hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond in the (A) component and the Acts as a hydrosilylation catalyst to promote hydrosilylation reactions with silicon-bonded hydrogen atoms. Furthermore, by using such a component (C) as a hydrosilylation catalyst, the conductive silicone composition of the present invention becomes a composition having excellent storage stability without blending a reaction control agent.

ビス(β-ジケトナト)白金錯体としては、例えば、ビス(1,3-プロパンジオナト)白金錯体、ビス(2,4-ペンタンジオナト)白金錯体、ビス(2,4-へキサンジオナト)白金錯体、ビス(2,4-へプタンジオナト)白金錯体、ビス(3,5-ヘプタンジオナト)白金錯体、ビス(1-フェニル-1,3-ブタンジオナト)白金錯体、ビス(1,3-ジフェニル-1,3-プロパンジオナト)白金錯体などが挙げられ、好ましくはビス(1,3-プロパンジオナト)白金錯体である。 Bis(β-diketonato)platinum complexes include, for example, bis(1,3-propanedionato)platinum complex, bis(2,4-pentanedionato)platinum complex, bis(2,4-hexanedionato)platinum complex , bis(2,4-heptanedionato)platinum complex, bis(3,5-heptanedionato)platinum complex, bis(1-phenyl-1,3-butanedionato)platinum complex, bis(1,3-diphenyl-1,3 -propanedionato)platinum complex and the like, preferably bis(1,3-propanedionato)platinum complex.

(C)成分の含有量は、上記(A)成分100質量部に対して白金原子質量として0.001~0.5質量部が好ましく、0.01~0.1質量部であることがより好ましい。このような範囲であれば、優れた硬化性と保存性を有する組成物が得られる。 The content of component (C) is preferably 0.001 to 0.5 parts by mass, more preferably 0.01 to 0.1 parts by mass, in terms of platinum atomic mass with respect to 100 parts by mass of component (A). preferable. Within such a range, a composition having excellent curability and storage stability can be obtained.

[(D)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(D)成分は、導電性粒子である。
[(D) Component]
The component (D) in the conductive silicone composition of the present invention is conductive particles.

(D)成分としては、導電性を有するものであればいかなるものであってもよいが、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、銀、金、白金、パラジウムなどの金属粒子又はこれらの合金ないしこれらの金属をメッキした粒子、酸化亜鉛、酸化チタン、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、リンドープ酸化スズ(PTO)、酸化インジウムスズ(ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)などを用いることができ、導電性の観点から銀粉及び銀メッキ粉が好ましい。 Component (D) may be any material as long as it has electrical conductivity. Metal-plated particles, zinc oxide, titanium oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorous-doped tin oxide (PTO), indium tin oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), etc. can be used, and are electrically conductive. from the viewpoint of silver powder and silver-plated powder.

銀粉としては、例えば、三菱マテリアル社製、福田金属箔粉社製、徳力本店社製、DOWAエレクトロニクス社製、田中貴金属社製などを使用することができる。 Examples of silver powder that can be used include those manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, those manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder, those manufactured by Tokuriki Honten, those manufactured by Dowa Electronics, and those manufactured by Tanaka Kikinzoku.

導電性粒子は、球状、フレーク状、樹状、不定形などいかなる形状でもよく、それらの混合物であってもよいが、フレーク状が特に好ましい。ここで、フレーク状とは、扁平状、薄片状、鱗片状などと呼称されるものも含まれる。 The conductive particles may have any shape such as spherical, flaky, dendritic, amorphous, or a mixture thereof, but flakes are particularly preferred. Here, the flake shape includes what is called a flat shape, a flaky shape, a scaly shape, and the like.

導電性粒子の平均粒径は、0.1~100μmの範囲が好ましく、0.1~50μmの範囲がより好ましい。このような範囲の平均粒径の導電性粒子であれば、組成物の均一性がより向上し、塗布性もより向上し、更に導電性をより高くすることができる。なお、本発明において、平均粒径は、体積基準の粒度分布における50%累積径(メジアン径)を意味し、例えば日機装(株)製マイクロトラックMT330OEX等により測定が可能である。 The average particle size of the conductive particles is preferably in the range of 0.1-100 μm, more preferably in the range of 0.1-50 μm. If the conductive particles have an average particle size within such a range, the uniformity of the composition can be further improved, the coatability can be further improved, and the conductivity can be further increased. In the present invention, the average particle diameter means the 50% cumulative diameter (median diameter) in the volume-based particle size distribution, and can be measured with, for example, Microtrac MT330OEX manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

(D)成分のタップ密度は、1.0~7.0g/cmが好ましい。なお、タップ密度の測定方法は、JIS Z 2512:2012に準ずる。 The tap density of component (D) is preferably 1.0 to 7.0 g/cm 3 . The method for measuring the tap density conforms to JIS Z 2512:2012.

(D)成分の充填量は、好ましくは導電性シリコーン組成物の全質量に対し50~99質量%の範囲であり、より好ましくは60~95質量%、更に好ましくは75~93質量%の範囲である。このような範囲であれば、硬化性及び取り扱い性に優れる組成物が得られ、また、硬化物に十分な導電性を与えることができる。 The filling amount of component (D) is preferably in the range of 50 to 99% by mass, more preferably 60 to 95% by mass, still more preferably 75 to 93% by mass, based on the total mass of the conductive silicone composition. is. Within such a range, a composition having excellent curability and handleability can be obtained, and sufficient electrical conductivity can be imparted to the cured product.

[(E)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(E)成分は、有機過酸化物である。
[(E) Component]
Component (E) in the conductive silicone composition of the present invention is an organic peroxide.

有機過酸化物は、ビス(β-ジケトナト)白金錯体構造を有するヒドロシリル化触媒を活性化する効果を有する。これにより、組成物の保存性を維持しつつ、硬化性を高めることができる。有機過酸化物としては、特に限定されないが、銀粉と共存する場合の安定性の観点から、アルキルパーエステル、パーオキシカーボネート、ジアルキルパーオキサイドが好ましい。 Organic peroxides have the effect of activating hydrosilylation catalysts having a bis(β-diketonato)platinum complex structure. Thereby, the curability can be improved while maintaining the storage stability of the composition. Although the organic peroxide is not particularly limited, alkyl peresters, peroxycarbonates, and dialkyl peroxides are preferable from the viewpoint of stability when coexisting with silver powder.

有機過酸化物のベンゼン中における1時間半減期温度は好ましくは70~150℃であり、より好ましくは80~140℃であり、更に好ましくは90~130である。このような範囲であれば、組成物の保存性に優れ、ヒドロシリル化触媒の活性化が十分なものとなる。 The one-hour half-life temperature of the organic peroxide in benzene is preferably 70 to 150°C, more preferably 80 to 140°C, still more preferably 90 to 130°C. Within such a range, the composition is excellent in storage stability and the activation of the hydrosilylation catalyst is sufficient.

有機過酸化物としては、例えば、アルキルパーエステル、パーオキシカーボネート、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド等が挙げられる。アルキルパーエステルとしてはクミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-アミルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシジエチルアセテート、t-アミルパーオキシ2-エチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシ2-エチルヘキサノエートなどが挙げられる。パーオキシカーボネートとしては、ビス(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジn-プロピルパーオキシジカーボネート、ジセチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t-アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、1,6-ビス(t-ブチルパーオキシカルボニルオキシ)ヘキサン、ビス(t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネートなどが挙げられる。ジアルキルパーオキサイドとしてはジクミルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジt-ブチルパーオキサイド、ジt-ヘキシルパーオキサイドなどが挙げられる。ジアシルパーオキサイドとしては、イソブチロイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイドなどが挙げられる。パーオキシケタールとしては、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2-ビス(t-ブチルパーオキシ)ブタン、2,2-ビス(t-アミルパーオキシ)ブタン、n-ブチル4,4-ビス(t-ブチルパーオキシ)ペンタノエートなどが挙げられる。ハイドロパーオキサイドとしては、イソプロピルクミルハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クミルハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、t-アミルハイドロパーオキサイドなどが挙げられる。ケトンパーオキサイドとしては、メチルエチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドなどが挙げられる。 Examples of organic peroxides include alkylperesters, peroxycarbonates, dialkylperoxides, diacylperoxides, peroxyketals, hydroperoxides and ketone peroxides. Alkyl peresters include cumyl peroxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-amyl peroxypivalate, t -butylperoxypivalate, t-butylperoxydiethylacetate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and the like. Peroxycarbonates include bis(2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, dicetyl peroxydicarbonate, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amyl peroxyisopropyl carbonate, 1,6-bis(t-butylperoxycarbonyloxy)hexane, bis(t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate and the like. Dialkyl peroxides include dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide and the like. Diacyl peroxides include isobutyroyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide and the like. Peroxyketals include 1,1-bis(t-butylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(t-hexylperoxy)cyclohexane, 2,2-bis(t-butylperoxy)butane, 2, 2-bis(t-amylperoxy)butane, n-butyl 4,4-bis(t-butylperoxy)pentanoate and the like. Examples of hydroperoxides include isopropylcumyl hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, and t-amyl hydroperoxide. be done. Ketone peroxides include methyl ethyl ketone peroxide and acetylacetone peroxide.

有機過酸化物の量としては、上記(C)成分の白金原子質量100質量部に対して100~5,000質量部であることが好ましく、より好ましくは200~2,000質量部、更に好ましくは300~1,000質量部である。このような範囲であれば、十分な組成物の硬化性が得られ、硬化時における発泡を抑制することができる。 The amount of the organic peroxide is preferably 100 to 5,000 parts by mass, more preferably 200 to 2,000 parts by mass, and still more preferably 100 parts by mass of the platinum atom in component (C). is 300 to 1,000 parts by mass. Within such a range, sufficient curability of the composition can be obtained, and foaming during curing can be suppressed.

有機過酸化物は1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。 An organic peroxide may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[(F)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(F)成分はオキサシクロプロパン構造を有する化合物である。(F)成分は、本発明の導電性シリコーン組成物にアルミニウムや銅などの金属との良好な接着性を付与する成分である。
[(F) Component]
Component (F) in the conductive silicone composition of the present invention is a compound having an oxacyclopropane structure. Component (F) is a component that imparts good adhesion to metals such as aluminum and copper to the conductive silicone composition of the present invention.

このような(F)の具体例としては、アリルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸グリシジルオキシエチル、2,2-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)プロパン、トリグリシジルイソシアヌレートなどのグリシジル基を有する化合物の他、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン、アクリル酸(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル、3,4-エポキシシクロヘキサンカルボン酸(3’,4’―エポキシシクロヘキシル)メチルなどの脂環式エポキシ構造を有する化合物が挙げられる。また、(A)成分及び(B)成分のポリシロキサンとの反応性の観点から、(F)成分はオキサシクロプロパン構造を含むシラン、シロキサン等の有機ケイ素化合物であることが好ましい。このような化合物の例としては下記構造式で表されるものが挙げられる。 Specific examples of such (F) include allyl glycidyl ether, glycidyl (meth)acrylate, glycidyloxyethyl (meth)acrylate, 2,2-bis(4-glycidyloxyphenyl)propane, and triglycidyl isocyanurate. In addition to compounds having a glycidyl group such as ) compounds having an alicyclic epoxy structure such as methyl. From the viewpoint of reactivity with the polysiloxanes of components (A) and (B), component (F) is preferably an organosilicon compound such as silane or siloxane containing an oxacyclopropane structure. Examples of such compounds include those represented by the following structural formulas.

Figure 2022143344000004
(なお、式中においてMeはメチル基を表す。)
Figure 2022143344000004
(In the formula, Me represents a methyl group.)

(F)成分の配合量は、好ましくは(A)成分100質量部に対し0.01~20質量部の範囲であり、より好ましくは0.1~10質量部の範囲である。このような範囲であれば、金属との接着性がより良好なものとなる。 The amount of component (F) to be blended is preferably in the range of 0.01 to 20 parts by mass, more preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A). If it is such a range, the adhesiveness with a metal will become more favorable.

(F)成分は1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。 (F) component may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[(G)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物における(G)成分は、カルボン酸無水物である。(G)成分は、本発明の導電性シリコーン組成物にアルミニウムや銅などの金属との良好な接着性を付与する成分である。
[(G) component]
Component (G) in the conductive silicone composition of the present invention is a carboxylic anhydride. Component (G) is a component that imparts good adhesion to metals such as aluminum and copper to the conductive silicone composition of the present invention.

カルボン酸無水物は分子間酸無水物でも分子内酸無水物でもよいが、特にテトラヒドロ-2,5-ジオキソフラン構造を有する分子内酸無水物であることが好ましく、無水フタル酸構造を有する酸無水物であることがより好ましい。このような分子内酸無水物の例として下記構造式で表されるものが挙げられる。 The carboxylic acid anhydride may be either an intermolecular acid anhydride or an intramolecular acid anhydride, but is preferably an intramolecular acid anhydride having a tetrahydro-2,5-dioxofuran structure, and an acid anhydride having a phthalic anhydride structure. It is more preferable to be a thing. Examples of such intramolecular acid anhydrides include those represented by the following structural formulas.

Figure 2022143344000005
Figure 2022143344000005

(G)成分の配合量は(F)成分1質量部に対し0.01~5.0質量部であることが金属との接着及び硬化性の点から好ましく、0.05~3.0質量部であることがより好ましく、0.1~2.0質量部であることが更に好ましい。 The amount of component (G) is preferably 0.01 to 5.0 parts by mass per 1 part by mass of component (F) from the viewpoint of adhesion to metals and curability, and 0.05 to 3.0 parts by mass. parts is more preferable, and 0.1 to 2.0 parts by mass is even more preferable.

(G)成分は1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。 (G) component may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[(H)成分]
本発明の導電性シリコーン組成物には、(H)成分として、下記一般式(3)~(5)に示される化合物及びその立体異性体から選ばれる少なくとも1種の有機ケイ素化合物を添加してもよい。
[(H) Component]
To the conductive silicone composition of the present invention, at least one organosilicon compound selected from compounds represented by the following general formulas (3) to (5) and stereoisomers thereof is added as component (H). good too.

Figure 2022143344000006
(式中、Rは置換もしくは非置換の1価炭化水素基又は水素原子であり、Rは置換又は非置換の1価炭化水素基であり、Rは互いに同一又は異なっていても良い置換もしくは非置換の1価炭化水素基又はアルコキシ基である。)
Figure 2022143344000006
(wherein R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or hydrogen atom, R 5 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and R 6 may be the same or different A substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or alkoxy group.)

、R及びRの置換もしくは非置換の1価炭化水素基としては、上記Rと同様の基が挙げられ、好ましくは炭素原子数が1~12、より好ましくは1~10、更に好ましくは1~8の、非置換又はハロゲン置換の1価の炭化水素基が挙げられ、特にメチル基が好ましい。 Examples of substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups for R 4 , R 5 and R 6 include the same groups as those for R 2 above, preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, More preferably, 1 to 8 unsubstituted or halogen-substituted monovalent hydrocarbon groups are mentioned, and a methyl group is particularly preferred.

のアルコキシ基としては、好ましくは炭素原子数が1~12、より好ましくは1~10、更に好ましくは1~8のアルコキシ基が挙げられ、特にメトキシ基、エトキシ基が好ましい。 The alkoxy group for R 6 preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 8 carbon atoms, and methoxy and ethoxy groups are particularly preferred.

これらの(H)成分は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルとトリアルコキシシランのヒドロシリル化反応によって得ることが出来る。 These (H) components can be obtained, for example, by hydrosilylation reaction of (meth)acrylic acid ester and trialkoxysilane.

(H)成分を使用する場合の配合量は、(E)成分1質量部に対して0.01~10質量部であることが好ましい。このような範囲であれば、硬化の際の発泡を抑制することができる。 When component (H) is used, the amount to be blended is preferably 0.01 to 10 parts by mass per 1 part by mass of component (E). Within such a range, foaming during curing can be suppressed.

(H)成分は1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。 (H) component may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[その他の成分]
<接着性向上剤>
本発明の導電性シリコーン組成物には、上記(A)~(H)成分以外にも、樹脂や金属に対する接着性を高めるために、他の接着性向上剤を添加してもよい。接着性向上剤としては、付加反応硬化型である本発明の組成物に自己接着性を付与する観点から、接着性を付与する官能基を含有するシラン、シロキサン等の有機ケイ素化合物、非シリコーン系有機化合物等を用いることができる。
[Other ingredients]
<Adhesion improver>
In addition to the above components (A) to (H), the conductive silicone composition of the present invention may contain other adhesion improvers to improve adhesion to resins and metals. From the viewpoint of imparting self-adhesiveness to the composition of the present invention, which is an addition reaction curing type, the adhesiveness improver includes organic silicon compounds such as silanes and siloxanes containing functional groups that impart adhesiveness, and non-silicone compounds. An organic compound or the like can be used.

上記の接着性向上剤のうち、オルガノシロキサン骨格を含む化合物の例として、下記構造式で表されるものが挙げられる。 Among the above adhesion improvers, examples of compounds containing an organosiloxane skeleton include those represented by the following structural formulas.

Figure 2022143344000007
(なお、式中においてMeはメチル基を表す。)
Figure 2022143344000007
(In the formula, Me represents a methyl group.)

また、非シリコーン系有機化合物としては、例えば、下記構造式で表される有機酸アリルエステル化合物及びアリルエーテル化合物などが挙げられる。 Examples of non-silicone organic compounds include organic acid allyl ester compounds and allyl ether compounds represented by the following structural formulas.

Figure 2022143344000008
Figure 2022143344000008

その他の非シリコーン系接着助剤としては、有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物等が挙げられる。 Other non-silicone adhesive aids include organic titanium compounds, organic zirconium compounds, organic aluminum compounds, and the like.

有機チタン化合物の例としては、チタン酸テトラエチル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テトラブチル、チタニウムテトラアセチルアセトネート、ジイソプロポキシチタニウムビス(アセチルアセトナト)などが挙げられる。 Examples of organic titanium compounds include tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetrabutyl titanate, titanium tetraacetylacetonate, diisopropoxytitanium bis(acetylacetonate), and the like.

有機ジルコニウム化合物の例としては、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムプロポキシド、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセチルアセトネート、ビスアセタトオキソジルコニウムなどが挙げられる。 Examples of organozirconium compounds include zirconium tetraethoxide, zirconium propoxide, zirconium butoxide, zirconium acetylacetonate, bisacetoxozirconium, and the like.

有機アルミニウム化合物の例としては、アルミニウムエトキシド、アルミニウムプロポキシド、アルミニウムブトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトネートなどが挙げられる。 Examples of organoaluminum compounds include aluminum ethoxide, aluminum propoxide, aluminum butoxide, aluminum isopropoxide, aluminum acetylacetonate, and the like.

<補強材>
本発明の導電性シリコーン組成物には引張強度、伸び、引き裂き強度などを向上させるために補強材として微粉末シリカを配合してもよい。
<Reinforcing material>
The electrically conductive silicone composition of the present invention may contain finely divided silica as a reinforcing agent to improve tensile strength, elongation and tear strength.

この微粉末シリカは、比表面積(BET法)が50m/g以上であることが好ましく、より好ましくは50~400m/g、特に好ましくは100~300m/gである。比表面積が50m/g以上の場合には、硬化物に十分な補強性を付与することができる。 The fine powder silica preferably has a specific surface area (BET method) of 50 m 2 /g or more, more preferably 50 to 400 m 2 /g, particularly preferably 100 to 300 m 2 /g. When the specific surface area is 50 m 2 /g or more, sufficient reinforcing properties can be imparted to the cured product.

本発明において、このような微粉末シリカとしては、比表面積が上記範囲内(50m/g以上)である、従来からシリコーンゴムの補強性充填剤として使用されている公知のものでもよく、例えば、煙霧質シリカ(乾式シリカ)、沈降シリカ(湿式シリカ)等が挙げられる。微粉末シリカはそのまま使用してもよいが、組成物に良好な流動性を付与するため、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン等のメチルクロロシラン類、ジメチルポリシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ジメチルテトラビニルジシラザン等のヘキサオルガノジシラザン等の有機ケイ素化合物で処理したものを使用することが好ましい。補強性シリカは単独で用いても二種以上を併用してもよい。 In the present invention, the finely divided silica may be a known one that has a specific surface area within the above range (50 m 2 /g or more) and has been conventionally used as a reinforcing filler for silicone rubber. , fumed silica (dry silica), precipitated silica (wet silica), and the like. The finely divided silica may be used as it is, but in order to impart good fluidity to the composition, it may be added with methylchlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, dimethylpolysiloxane, hexamethyldisilazane, divinyl It is preferable to use one treated with an organic silicon compound such as tetramethyldisilazane, hexaorganodisilazane such as dimethyltetravinyldisilazane. Reinforcing silica may be used alone or in combination of two or more.

<希釈剤>
本発明の導電性シリコーン組成物は、非反応性の希釈剤を使用することが出来る。希釈剤を使用することによって硬化後の導電性を損なうことなく組成物硬化前の粘度を低減することが出来、作業性を高めることが出来る。希釈剤の例としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤のほか、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶剤、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、イソドデカンなどの脂肪族炭化水素溶剤等が挙げられる。
<Diluent>
The conductive silicone composition of the present invention can use non-reactive diluents. By using a diluent, the viscosity of the composition before curing can be reduced without impairing the electrical conductivity after curing, and workability can be enhanced. Examples of diluents include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ester solvents such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, pentyl acetate, and propylene glycol methyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, Examples include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, isooctane and isododecane.

<反応制御剤>
本発明の導電性シリコーン組成物は、反応性制御剤を使用することなく良好な保存性を有するが、(C)成分の付加反応触媒に対して反応制御効果を持つ公知の反応制御剤を使用してもよい。反応制御剤としては、トリフェニルホスフィン等のリン含有化合物;トリブチルアミンやテトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール等の窒素含有化合物;硫黄含有化合物;アセチレン系化合物;ハイドロパーオキシ化合物;マレイン酸誘導体等が例示される。
<Reaction control agent>
The conductive silicone composition of the present invention has good storage stability without using a reactivity control agent, but uses a known reaction control agent that has a reaction control effect on the addition reaction catalyst of component (C). You may Examples of the reaction control agent include phosphorus-containing compounds such as triphenylphosphine; nitrogen-containing compounds such as tributylamine, tetramethylethylenediamine and benzotriazole; sulfur-containing compounds; acetylenic compounds; hydroperoxy compounds; be.

[導電性シリコーン硬化物]
本発明では、上記の導電性シリコーン組成物の硬化物であって、体積抵抗率が1.0×10-3Ω・cm以下のものである導電性シリコーン硬化物を提供する。
[Conductive silicone cured product]
The present invention provides a cured conductive silicone composition, which is a cured conductive silicone composition having a volume resistivity of 1.0×10 −3 Ω·cm or less.

本発明の導電性シリコーン組成物の硬化物は、その体積抵抗率が1.0×10-3Ω・cm以下であることが好ましい。このような導電性シリコーン硬化物であれば、柔軟性・伸張性と共に、十分な導電性を有するものとなり、電子部品や素子の基板への実装、印刷による電子回路の形成等に有用なものとなる。 The cured product of the conductive silicone composition of the present invention preferably has a volume resistivity of 1.0×10 −3 Ω·cm or less. Such a conductive silicone cured product has sufficient conductivity as well as flexibility and extensibility, and is useful for mounting electronic parts and elements on substrates and forming electronic circuits by printing. Become.

[積層体]
本発明では、上記の導電性シリコーン硬化物を有するものである積層体を提供する。
[Laminate]
The present invention provides a laminate comprising the cured conductive silicone material described above.

本発明の導電性シリコーン組成物は、例えば、基材に塗布又は印刷した後に硬化させることによって高い導電性を有する積層体を形成することができる。上記基材は特に制限されず、例えば、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、シリコーン樹脂等の有機材料及びアルミナ、ジルコニア、チタン酸バリウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、ガラス、金属等の無機材料など公知の材料を用いることができる。 The conductive silicone composition of the present invention can form a highly conductive laminate, for example, by coating or printing on a substrate and then curing. The base material is not particularly limited, and examples include (meth) acrylic resins, epoxy resins, high-density polyethylene resins, low-density polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyacrylonitrile resins, Organic materials such as polycarbonate resins, polyurethane resins, polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polyacetal resins, polyethylene oxide resins, polyetherimide resins, polyethersulfone resins, polyetheretherketone resins, polyphenylene sulfide resins, silicone resins, and alumina , zirconia, barium titanate, silicon nitride, aluminum nitride, silicon carbide, glass, and inorganic materials such as metals.

本発明の導電性シリコーン組成物を塗布又は印刷する前処理として、上記各種基材について表面処理を行ってもよい。表面処理の具体的な例としては、紫外線、X線、γ線、α線、β線、電子線等の活性エネルギー線の照射及びプラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理などが挙げられる。 As a pretreatment for applying or printing the conductive silicone composition of the present invention, the various substrates described above may be subjected to surface treatment. Specific examples of surface treatment include irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, X-rays, γ-rays, α-rays, β-rays, and electron beams, plasma treatment, corona treatment, and ozone treatment.

[塗布方法]
本発明の導電性シリコーン組成物は、例えば、基材上に、メッシュスクリーン印刷、メタルマスク印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、反転オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの印刷方法、ローラーコーター、スリットコーター、ディスペンサー、ディッピングなどの塗布方法により使用することができる。
[Application method]
The conductive silicone composition of the present invention can be applied, for example, onto a substrate by printing methods such as mesh screen printing, metal mask printing, gravure printing, offset printing, reverse offset printing, flexo printing, inkjet printing, roller coater, slit coater. , dispenser, and dipping.

[導電性シリコーン硬化物の製造方法]
本発明の導電性シリコーン組成物は、80~120℃、特に100~120℃で10~120分間加熱することにより硬化させることが好ましい。このような範囲であれば、十分に硬化が進行し、また、組成物が脆くなることを抑制できる。
[Manufacturing method of cured conductive silicone]
The conductive silicone composition of the present invention is preferably cured by heating at 80 to 120° C., especially 100 to 120° C. for 10 to 120 minutes. If it is such a range, hardening will fully progress and it can suppress that a composition becomes brittle.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、25℃における粘度は回転粘度計により、25℃における動粘度はウベローデ粘度計又はキャノン・フェンスケ型粘度計により測定した。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The viscosity at 25°C was measured with a rotational viscometer, and the kinematic viscosity at 25°C was measured with an Ubbelohde viscometer or a Canon-Fenske viscometer.

[実施例1,2、比較例1~3]
下記に示される(A)~(F)成分及びその他の成分を、表1に示す配合量にて自転・公転式ミキサー((株)THINKY社製)を用いて5分間混合し、シリコーン組成物を調製した。なお、表1中の各成分の数値は質量部を示す。なお、銀粉充填率は組成物全体に占める銀粉の質量百分率である。また、以下の式中においてViはビニル基、Meはメチル基を表す。
[Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 to 3]
Components (A) to (F) shown below and other components were mixed at the blending amounts shown in Table 1 using a rotation/revolution mixer (manufactured by THINKY Co., Ltd.) for 5 minutes to form a silicone composition. was prepared. In addition, the numerical value of each component in Table 1 shows a mass part. The silver powder filling rate is the mass percentage of the silver powder in the entire composition. In the following formulas, Vi represents a vinyl group and Me represents a methyl group.

[(A)成分]
a-1:両末端ジメチルビニルシリル基封鎖ジメチルポリシロキサン(25℃における動粘度600mm/s)
a-2:下記平均式で表される、重量平均分子量4,500のオルガノポリシロキサン。
(ViMeSiO1/20.07(MeSiO1/20.39(SiO4/20.54
[(A) Component]
a-1: both-terminal dimethylvinylsilyl group-blocked dimethylpolysiloxane (kinematic viscosity at 25° C. of 600 mm 2 /s)
a-2: Organopolysiloxane having a weight average molecular weight of 4,500 represented by the following average formula.
(ViMe2SiO1/ 2 ) 0.07 ( Me3SiO1 /2 ) 0.39 ( SiO4/2 ) 0.54

[(B)成分]
b-1:下記式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン。

Figure 2022143344000009
(式中、括弧内のシロキサン単位の配列順は不定である。) [(B) Component]
b-1: Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula.
Figure 2022143344000009
(In the formula, the sequence of the siloxane units in parentheses is undefined.)

[(C)成分]
c-1: ビス(1,3-プロパンジオナト)白金錯体のブチルカルビトールアセテート溶液(白金原子として0.5質量%含有)(Umicore社製)
[(C) component]
c-1: Bis(1,3-propanedionato)platinum complex in butyl carbitol acetate solution (containing 0.5% by mass as platinum atoms) (manufactured by Umicore)

[(D)成分]
d-1:体積メジアン径が5.8μm、タップ密度が5.3g/cmの銀粉末
[(D) Component]
d-1: silver powder with a volume median diameter of 5.8 μm and a tap density of 5.3 g/cm 3

[(E)成分]
e-1:1,6-ビス(t-ブチルパーオキシカルボニルオキシ)ヘキサンの70質量%クエン酸トリブチルアセテート溶液(化薬ヌーリオン(株)製、商品名:カヤレン6-70、ベンゼン中0.2モル/Lにおける1時間半減期温度115℃)
[(E) component]
e-1: 70 mass% citric acid tributyl acetate solution of 1,6-bis(t-butylperoxycarbonyloxy)hexane (manufactured by Kayaku Nourion Co., Ltd., trade name: Kayalen 6-70, 0.2 in benzene 1 hour half-life temperature 115°C in mol/L)

[(F)成分]
f-1:下記式で表される化合物

Figure 2022143344000010
[(F) component]
f-1: a compound represented by the following formula
Figure 2022143344000010

[(G)成分]
g-1:3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
[(G) Component]
g-1: 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride

[(H)成分]
h-1:下記式で表される化合物

Figure 2022143344000011
[(H) Component]
h-1: a compound represented by the following formula
Figure 2022143344000011

導電性シリコーン組成物、及びその硬化物の特性は次のようにして評価した。その結果を表1に示す。 The properties of the conductive silicone composition and its cured product were evaluated as follows. Table 1 shows the results.

[剪断接着力]
実施例1、2、比較例1~3のシリコーン組成物をそれぞれ厚み0.3mmのアルミニウム板2枚又は銅板2枚の間に厚み1mm、接着面が25mm×10mmとなるように挟み込み、120℃で1時間加熱して試験片を作製した。得られた試験片の引張剪断接着強さ試験をJIS-K6850:1999に準じて行った。
[Shear adhesive strength]
Each of the silicone compositions of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 was sandwiched between two 0.3 mm thick aluminum plates or two copper plates so that the thickness was 1 mm and the adhesive surface was 25 mm × 10 mm, and the temperature was 120°C. and heated for 1 hour to prepare a test piece. The obtained test piece was subjected to a tensile shear bond strength test according to JIS-K6850:1999.

[破断部の状態]
上記剪断接着力試験後の試験片について、破断部の状態(凝集破壊/界面剥離、及び発泡がある場合にはその程度)を目視で観察した。なお、破断部の状態が凝集破壊である場合は、界面剥離の場合と比べて金属板との接着力が高いことが示唆される。
[State of broken part]
After the shear adhesion test, the state of the fractured portion (cohesive failure/interfacial peeling, and degree of foaming, if any) was visually observed. In addition, when the state of the fractured portion is cohesive failure, it is suggested that the adhesive strength with the metal plate is higher than in the case of interfacial peeling.

[体積抵抗率]
実施例1、2、比較例1~3のシリコーン組成物をそれぞれスライドガラス上に厚み150μmでスキージ塗布し、120℃のオーブン中で1時間の加熱を行った。得られた測定サンプルについて、三菱化学アナリテック社製ロレスターGXを使用して四探針法での体積抵抗率測定を行った。
[Volume resistivity]
Each of the silicone compositions of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 was squeegee-coated on a slide glass to a thickness of 150 μm and heated in an oven at 120° C. for 1 hour. The obtained measurement sample was subjected to volume resistivity measurement by the four-probe method using Loresta GX manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech.

Figure 2022143344000012
Figure 2022143344000012

表1に示すように、実施例1、2においてはアルミニウム及び銅に対する接着性も良好である。更に、(H)成分を添加した組成物を用いた実施例1では、硬化の際の発泡が抑制されていた。 As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, the adhesion to aluminum and copper is also good. Furthermore, in Example 1 using the composition to which the (H) component was added, foaming during curing was suppressed.

一方、酸無水物を含まない組成物を使用した比較例1及び比較例2では、アルミニウムへの接着性は良好であるものの、銅に対する接着性に劣る結果となった。更に、オキサシクロプロパン構造を有する化合物を含まない組成物を用いた比較例3では、アルミニウムと銅の両者に対する接着性が不十分となった。 On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, in which compositions containing no acid anhydride were used, adhesion to aluminum was good, but adhesion to copper was poor. Furthermore, in Comparative Example 3 using a composition containing no compound having an oxacyclopropane structure, adhesion to both aluminum and copper was insufficient.

上記のように、本発明の導電性シリコーン組成物は、高導電性であり、アルミニウムや銅などの金属との良好な接着性を有する材料となる。 As described above, the conductive silicone composition of the present invention is a highly conductive material with good adhesion to metals such as aluminum and copper.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments. The above-described embodiment is an example, and any device having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibiting the same effect is the present invention. included in the technical scope of

Claims (9)

(A)ヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合を有する基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、
(B)SiH基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)ビス(β-ジケトナト)白金錯体、
(D)導電性粒子、
(E)有機過酸化物、
(F)オキサシクロプロパン構造を有する化合物、及び
(G)カルボン酸無水物
を含むものであることを特徴とする導電性シリコーン組成物。
(A) an organopolysiloxane having at least two groups per molecule having a hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond;
(B) an organohydrogenpolysiloxane having at least two SiH groups per molecule;
(C) a bis(β-diketonato)platinum complex,
(D) conductive particles;
(E) an organic peroxide,
A conductive silicone composition comprising (F) a compound having an oxacyclopropane structure and (G) a carboxylic anhydride.
前記(B)成分中のSiH基の数が、前記(A)成分中のヒドロシリル化反応性炭素-炭素不飽和結合1個に対して0.5~10.0個となる量であることを特徴とする請求項1に記載の導電性シリコーン組成物。 The number of SiH groups in the component (B) is 0.5 to 10.0 per hydrosilylation-reactive carbon-carbon unsaturated bond in the component (A). The conductive silicone composition of claim 1, characterized in that. 前記(D)成分が銀粉であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の導電性シリコーン組成物。 3. The conductive silicone composition according to claim 1, wherein said component (D) is silver powder. 前記(D)成分の含有量が、組成物の全質量に対し50~99質量%であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の導電性シリコーン組成物。 4. The conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of component (D) is 50 to 99 mass% of the total mass of the composition. 前記(E)成分がパーオキシカーボネート構造、アルキルパーエステル構造、又はジアルキルパーオキサイド構造を有する有機過酸化物であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の導電性シリコーン組成物。 5. The conductive material according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (E) is an organic peroxide having a peroxycarbonate structure, an alkylperester structure, or a dialkylperoxide structure. silicone composition. 前記(G)成分がテトラヒドロ-2,5-ジオキソフラン構造を有する分子内カルボン酸無水物であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の導電性シリコーン組成物。 6. The conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the component (G) is an intramolecular carboxylic acid anhydride having a tetrahydro-2,5-dioxofuran structure. 更に(H)下記一般式(3)~(5)に示される化合物及びその立体異性体から選ばれる少なくとも1種の有機ケイ素化合物を含むものであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の導電性シリコーン組成物。
Figure 2022143344000013
(式中、Rは置換もしくは非置換の1価炭化水素基又は水素原子であり、Rは置換又は非置換の1価炭化水素基であり、Rは互いに同一又は異なっていても良い置換もしくは非置換の1価炭化水素基又はアルコキシ基である。)
Any one of claims 1 to 6, further comprising (H) at least one organosilicon compound selected from compounds represented by the following general formulas (3) to (5) and stereoisomers thereof. The conductive silicone composition according to claim 1.
Figure 2022143344000013
(wherein R 4 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or hydrogen atom, R 5 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and R 6 may be the same or different A substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group or alkoxy group.)
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の導電性シリコーン組成物の硬化物であって、体積抵抗率が1.0×10-3Ω・cm以下のものであることを特徴とする導電性シリコーン硬化物。 A cured product of the conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 7, characterized by having a volume resistivity of 1.0 × 10 -3 Ω·cm or less. conductive silicone cured product. 請求項8に記載の導電性シリコーン硬化物を有するものであることを特徴とする積層体。 A laminate comprising the conductive silicone cured product according to claim 8 .
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