JP2022119563A - 流体取扱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】スペーサーと、基板または蓋との接合状態を一定にして、流体が流れる空間を高精度に形成することができる流体取扱装置を提供する。【解決手段】流体取扱装置１００は、第１面１１０ａを有する基板本体を含む基板１１０と、基板の第１面と対向し、基板との間に空間を構成するように配置された蓋１２０と、を有する。蓋は、基板に対向した第２面１１０ｂを有する蓋本体１２１と、第２面に開口した第１開口部１２２ａと、第２面以外に開口した第２開口部１２２ｂを有し、空間に流体を注入するための第１貫通孔と１２２、を含む。蓋は、蓋本体と一体成形され、第１開口部および第２面の外縁の間に、基板と密着するように配置されたスペーサー１２６をさらに有するか、基板は、基板本体と一体成形され、第１開口部に対向した領域および第１面の外縁の間に、蓋と密着するように配置されたスペーサーを有する。【選択図】図１

Description

本発明は、流体取扱装置に関する。

疾病の検査などを目的として、ＤＮＡの塩基配列を解析することがある。塩基配列の解析には、微量のサンプルで解析可能な小型のデバイスが用いられることがある（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１には、基板と、高反射領域と、低反射領域と、ＤＮＡプローブと、を有するＤＮＡチップ（デバイス）が記載されている。特許文献１に記載のＤＮＡチップでは、ＤＮＡプローブに標的ＤＮＡおよび蛍光物質を結合させた状態で、蛍光物質から生じる蛍光を検出することで、標的ＤＮＡを検出している。

特開２００４－３１７５１７号公報

基板上でＤＮＡを検出するデバイスとしては、基板と、基板上に配置された流路の側面を構成するスペーサーと、スペーサー上に配置された流路の天面を構成する蓋と、を有するデバイスが考えられる。しかしながら、このような基板と蓋との間に、これらとは別体のスペーサーを配置するデバイスでは、基板およびスペーサーの接合状態を一定にして高精度に流路を形成することが困難であり、結果としてＤＮＡの検出結果の精度が低くなってしまう。

本発明の目的は、スペーサーと、蓋または基板と、の接合状態を一定にして、流体が流れる空間を高精度に形成することができる流体取扱装置を提供することである。

本発明の流体取扱装置は、第１面を有する基板本体を含む基板と、前記基板の前記第１面と対向し、前記基板との間に空間を構成するように配置された蓋と、を有し、前記蓋は、前記基板に対向した第２面を有する蓋本体と、前記第２面に開口した第１開口部と、前記第２面以外に開口した第２開口部を有し、前記空間に流体を注入するための第１貫通孔と、を含み、前記蓋は、前記蓋本体と一体成形され、前記第１開口部および前記第２面の外縁の間に、前記基板と密着するように配置されたスペーサーをさらに有するか、前記基板は、前記基板本体と一体成形され、前記第１開口部に対向した領域および前記第１面の外縁の間に、前記蓋と密着するように配置されたスペーサーを有する。

本発明によれば、スペーサーと、蓋または基板と、の接合状態を一定にして、流体が流れる空間を高精度に形成することができる流体取扱装置を提供できる。

図１Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置における基板の構成を示す図である。 図３Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図４Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置の組み立て方を説明するための図である。 図５Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図６Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置における基板の構成を示す図である。 図７Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図８Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態２に係る流体取扱装置および磁性部材の構成を示す図である。 図９Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態２に係る流体取扱装置における蓋に磁性部材を取り付けた状態における斜視図である。 図１０Ａ、Ｂは、実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図１１Ａ、Ｂは、実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置における蓋に磁性部材を取り付けた状態における斜視図である。 図１２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図１３Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図１４Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置の組み立て方を説明するための図である。 図１５Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図１６Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置における基板の構成を示す図である。 図１７Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図１８Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態４に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図１９Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図２０Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４に係る流体取扱装置における基板の構成を示す図である。 図２１Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態５に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図２２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態５に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図２３Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図２４Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置における基板の構成を示す図である。 図２５Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図２６Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６に係る流体取扱装置における基板の斜視図である。 図２７Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。 図２８Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置の構成を示す図である。 図２９Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置における基板の斜視図である。 図３０Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置における蓋の斜視図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。

［実施の形態１］
（流体取扱装置の構成）
図１Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置１００の構成を示す図である。図１Ａは、流体取扱装置１００の平面図であり、図１Ｂは、図１Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１Ａ、Ｂに示されるように、本実施の形態に係る流体取扱装置１００は、基板１１０と、蓋１２０とから構成されている。基板１１０および蓋１２０を密着させた状態で固定することで、流体を注入するための注入口１３０と、流体が流れる流路または流体が貯留するためのチャンバーと、流体が排出される排出口１５０とが形成される。なお、以下の説明では、流体が流れる流路または流体が貯留するチャンバーを「流体取扱装置１００における空間１４０」と称することもある。ここで、「流体」とは、液体および気体を含む。

図２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置１００における基板１１０の構成を示す図である。図２Ａは、基板１１０の平面図であり、図２Ｂは、側面図である。

図１Ａ、Ｂおよび図２Ａ、Ｂに示されるように、本実施の形態では、基板１１０は、流体取扱装置１００における空間１４０の底面を構成する部材である。基板１１０の外形は、蓋１２０に対向して配置された第１の表側の面１１０ａ（第１面）と、第１の表側の面１１０ａと反対側の第１の裏側の面１１０ｂと、第１の表側の面１１０ａおよび第１の裏側の面１１０ｂの外周部に配置された側面である第１の外側の面１１０ｃとから構成されている。基板１１０は、基板本体１１１を有する。基板１１０の平面視形状は、特に限定されない。基板１１０の平面視形状の例には、多角形、円形、楕円形が含まれる。本実施の形態では、基板１１０の平面視形状は、長方形である。基板１１０の厚さは、蓋１２０に保持されるための剛性を有していれば特に限定されない。基板１１０の厚さは、例えば、０．０５～１．０ｍｍの範囲内であり、例えば、１．０ｍｍである。特に図示しないが、基板１１０には、剛性を高めるため、蓋１２０と反対側の面に補強部材が接合されていてもよい。基板１１０を構成する材料の種類は特に限定されない。基板１１０を構成する材料の種類の例には、シリコン、ガラス、樹脂、金属が含まれる。本実施の形態では、基板１１０は、シリコン製の板材である。シリコンは、単結晶シリコンでもよいし、多結晶シリコンでもよい。基板１１０は、シリコン製であるため、その表面にシラノール基を有し、反応性が高い。シリコン製の基板１１０を有する流体取扱装置１００は、例えば、次世代シーケンシング（Ｎｅｘｔ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ Ｓｅｑｕｅｎｃｉｎｇ；ＮＧＳ）用のチップとして使用できる。基板１１０の表面には、例えばＤＮＡプローブが固定される。ＤＮＡプローブが固定された基板１１０の表面に蛍光標識された標的ＤＮＡを含む試料を接触させ、蛍光標識に使用した蛍光物質からの蛍光を検出することで、標的ＤＮＡ量を検出できる。

図３Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置１００における蓋１２０の斜視図である。図２Ａは、蓋１２０を表側から見た斜視図であり、図２Ｂは、蓋１２０を裏側から見た斜視図である。

図１Ａ、Ｂおよび図３Ａ、Ｂに示されるように、本実施の形態では、蓋１２０は、流体取扱装置１００における空間１４０の天面および側面を構成する部材である。蓋１２０は、基板１１０と対向し基板１１０との間に部分的に空間を形成するように配置されている。流体取扱装置１００をＮＧＳのチップとして使用する場合における蓋１２０の材料は、蛍光を透過させれば特に限定されない。蓋１２０の材料の例には、樹脂、ガラスが含まれる。樹脂の例には、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）が含まれる。

蓋１２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第１筒部１２４と、第２筒部１２５と、スペーサー１２６と、爪部１２７とを有する。

蓋１２０は、基板１１０の反対側に位置する第２の表側の面１２０ａと、基板１１０と対向して配置された第２の裏側の面１２０ｂ（第２面）と、第２の表側の面１２０ａおよび第２の裏側の面１２０ｂの外周部に配置された側面である第２の外側の面１２０ｃとから構成されている。

第２の表側の面１２０ａには、第１筒部１２４と、第２筒部１２５とが配置されている。本実施の形態では、第１筒部１２４および第２筒部１２５は、蓋１２０の長辺方向に沿って配置されている。本実施の形態では、図１Ａ、Ｂにおける第２の表側の面１２０ａの左側には第１筒部１２４が配置されており、図１Ａ、Ｂにおける第２の表側の面１２０ａの右側には第２筒部１２５が配置されている。

第２の裏側の面１２０ｂには、第１貫通孔１２２の第１開口部１２２ａと、第２貫通孔１２３の第３開口部１２３ａとが開口している。本実施の形態では、図１Ａ、Ｂにおける第２の裏側の面１２０ｂの左側部分には第１開口部１２２ａが開口しており、第２の裏側の面１２０ｂの左側部分には、第３開口部１２３ａが開口している。

第１貫通孔１２２の他方の開口部である第２開口部１２２ｂは、第２の表側の面１２０ａに開口していてもよいし、第２の外側の面１２０ｃに開口していてもよいし、他の部位を介して開口していてもよい。本実施の形態では、第２開口部１２２ｂは、第１筒部１２４の頂面に開口している。同様に、第２貫通孔１２３の他方の開口部である第４開口部１２３ｂは、第２の表側の面１２０ａに開口していてもよいし、第２の外側の面１２０ｃに開口していてもよいし、他の部位を介して開口していてもよい。本実施の形態では、第４開口部１２３ｂは、第２筒部１２５の頂面に開口している。

蓋本体１２１は、流体取扱装置１００の空間１４０の天面を構成する部材である。蓋本体１２１を平面視したときの外形は、特に限定されない。蓋本体１２１を平面視したときの外形の例は、多角形、円形、楕円形が含まれる。本実施の形態では、蓋本体１２１を平面視したときの外形は、長方形である。蓋本体１２１を平面視したときの大きさは、基板１１０よりも大きくてもよいし、基板１１０よりも小さくてもよい。本実施の形態では、蓋本体１２１を平面視したときの大きさは、基板１１０よりも僅かに大きい。また、本実施の形態では、蓋本体１２１の第２の裏側の面１２０ｂには、爪部１２７が配置されている。

第１貫通孔１２２は、空間１４０に流体を注入するための貫通孔であり、注入口１３０の一部である。本実施の形態では、第１貫通孔１２２は、第２の裏側の面１２０ｂに開口した第１開口部１２２ａと、第１筒部１２４の頂面に開口した第２開口部１２２ｂとを有する。第１貫通孔１２２の直径は、流体を注入できれば特に限定されない。本実施の形態では、第１貫通孔１２２の直径は、例えば、１～３０ｍｍの範囲内である。なお、本実施の形態では、第１貫通孔１２２は、第２開口部１２２ｂから第１開口部１２２ａに近づくにつれて、その径が小さくなるようなテーパ面である。

第２貫通孔１２３は、空間１４０から流体を排出するための貫通孔であり、排出口１５０の一部である。本実施の形態では、第２貫通孔１２３は、第２の裏側の面１２０ｂに開口した第３開口部１２３ａと、第１筒部１２４の頂面に開口した第４開口部１２３ｂとを有する。第２貫通孔１２３の直径は、流体を排出できれば特に限定されない。本実施の形態では、第２貫通孔１２３の直径は、例えば、１～３０ｍｍの範囲内である。なお、本実施の形態では、第２貫通孔１２３の内周面は、第４開口部１２３ｂから第３開口部１２３ａに近づくにつれて、その径が小さくなるようなテーパ面である。

スペーサー１２６は、流体取扱装置１００における空間１４０の側面を構成する部分である。スペーサー１２６は、蓋本体１２１と一体成形され、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａと、第２の表側の面１２０ａの外縁との間に配置されており、基板１１０と密着可能に構成されている。本実施の形態では、スペーサー１２６は、空間１４０が第１開口部１２２ａと、第３開口部１２３ａを繋ぐように配置されている。スペーサー１２６の高さは、基板１１０と密着したときに、基板１１０および蓋本体１２１の間に所期の高さの空間１４０が形成されれば特に限定されない。スペーサー１２６の高さは、流体の容量を少なくする観点から、例えば、５～１００μｍの範囲内である。第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａを繋ぐ空間１４０は、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａの間を直線的に繋ぐように配置されてもよいし、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａの間を曲線的に繋ぐように配置されてもよいし、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａの間を直線部および曲線部で繋ぐように配置されてもよい。また、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａを繋ぐ空間１４０は、所定の容量を有する液ため部（チャンバー）様に形成されていてもよい。

爪部１２７は、基板１１０と係合し、基板１１０を保持するための部分である。爪部１２７の構成は、上記の機能を発揮できれば特に限定されない。本実施の形態では、爪部１２７は、スナップフィット形式により、基板１１０を蓋１２０側に保持できるように、第２の裏側の面１２０ｂの外周部に配置されている。また、爪部１２７は、蓋本体１２１に固定されていてもよいし、蓋本体１２１に対してスライドできるように構成されていてもよい。爪部１２７の数は、基板１１０を蓋１２０に固定できれば特に限定されない。本実施の形態では、爪部１２７の数は、３つである。また、本実施の形態では、３つの爪部１２７は、蓋１２０を平面視したときの短辺に配置されている。本実施の形態では、一方の短辺には１つの爪部１２７が配置されており、他方の短辺には２つの爪部１２７が配置されている。

爪部１２７は、固定部１２７ａと、ガイド部１２７ｂと、保持部１２７ｃとを有する。

固定部１２７ａは、流体取扱装置１００において基板１１０の面方向（図１Ｂにおける左右方向）の位置を規定する。固定部１２７ａの一方の端部は蓋本体１２１の第２の裏側の面１２０ｂに固定されており、固定部１２７ａの他方の端部には保持部１２７ｃが接続されている。側面視したときに、対向した２個の固定部１２７ａの間隔は、基板１１０の一辺の長さよりも僅かに長い。これにより、流体取扱装置１００を組み立てたときに、蓋１２０に対する基板１１０の面方向の位置を規定できる。

ガイド部１２７ｂは、流体取扱装置１００を組み立てるときに、基板１１０をガイドする。ガイド部１２７ｂの一方の端部には保持部１２７ｃが接続されている。図１Ａに示されるＡ－Ａ線の断面において、ガイド部１２７ｂは、蓋本体１２１の中央部分に近づくにつれて、蓋本体１２１に近づくように形成されている。これにより、流体取扱装置１００を組み立てるときに、基板１１０を蓋本体１２１に向けてガイドできる。

保持部１２７ｃは、流体取扱装置１００において基板１１０の上下方向の位置を規定する。保持部１２７ｃの一方の端部には固定部１２７ａが接続されており、他方の端部には、ガイド部１２７ｂが接続されている。保持部１２７ｃは、蓋本体１２１との間の間隔が基板１１０の厚みと同じ程度の長さになるように配置されている。これにより、流体取扱装置１００を組み立てたときに、蓋１２０に対する基板１１０の上下方向の位置を規定できる。なお、特に図示しないが、基板１１０を蓋本体１２１に向けて付勢する付勢部材を有していてもよい。

上述したように、流体取扱装置１００は、注入口１３０と、空間１４０と、排出口１５０とを有する。注入口１３０と、空間１４０と、排出口１５０とは、基板１１０および蓋１２０のスペーサー１２６が密着することでそれぞれ構成される。

注入口１３０は、流体を流体取扱装置１００内に注入するために機能する。注入口１３０は有底の凹部である。注入口１３０は、第１筒部１２４と、蓋本体１２１と、基板１１０の一部とから構成されている。

空間１４０は、流体が流入されるか、流体を一時的に貯留する。空間１４０の底面は基板１１０により構成され、側面はスペーサー１２６により構成され、天面は蓋１２０（蓋本体１２１）により構成されている。

排出口１５０は、空間１４０内の流体を排出するために機能する。排出口１５０は有底の凹部である。排出口１５０は、第２筒部１２５と、蓋本体１２１と、基板１１０の一部とから構成されている。

注入口１３０から流体を注入し、例えば、注入口１３０側から加圧するか、排出口１５０側を負圧にすることで、注入口１３０の流体を空間１４０に流入させる。空間１４０に流入された流体は、さらに注入口１３０から加圧するか、排出口１５０側を負圧にすることで、排出口１５０から外部に排出される。

図４Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置１００の組み立て方を説明するための図である。

図４Ａに示されるように、基板１１０を蓋１２０に取り付ける場合には、蓋１２０の第２の裏側の面１２０ｂに向けて基板１１０を押圧する。図４Ｂに示されるように、基板１１０が爪部１２７を蓋１２０の外側に向かって押すことで、爪部１２７が外側に向かって変形する。図４Ｃに示されるように、基板１１０が保持部１２７ｃを乗り越えることで、蓋１２０に対して基板１１０が固定され、流体取扱装置１００が組み立てられる。以上の工程により、流体取扱装置１００を組み立てることができる。

（変形例）
次に、実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００について説明する。実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００は、基板２１０がスペーサー２２６を有する点において、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる。そこで、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図５Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置２００の構成を示す図である。図５Ａは、流体取扱装置２００の平面図であり、図５Ｂは、図５Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図５Ａ、Ｂに示されるように、本発明の実施の形態１に係る流体取扱装置２００は、基板２１０と、蓋２２０とから構成されている。

図６Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における基板２１０の構成を示す図である。図６Ａは、基板２１０の平面図であり、図６Ｂは、側面図であり、図６Ｃは、図６Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図５Ａ、Ｂおよび図６Ａ～Ｃに示されるように、本変形例では、基板２１０は、流体取扱装置２００における空間２４０の底面および側面を構成する部材である。基板２１０は、基板本体１１１およびスペーサー２２６を有する。スペーサー２２６は、基板２１０の基板本体１１１と一体成形され、第１開口部１２２ａに対向した領域および第１の表側の面１１０ａの外縁の間と、第３開口部１２３ａおよび第１の表側の面１１０ａの外縁の間とに、蓋１２０と密着するように配置される。なお、本変形例では、スペーサー２２６は、空間２４０が第１開口部１２２ａに対向した領域と、第３開口部１２３ａに対向した領域とを繋ぐように配置されている。

図７Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における蓋２２０の斜視図である。図７Ａは、蓋２２０を表側から見た斜視図であり、図７Ｂは、蓋２２０を裏側から見た斜視図である。

図７Ａ、Ｂに示されるように、本発明の実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における蓋２２０は、スペーサー１２６を有さないこと以外は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００における蓋１２０と同じである。すなわち、蓋２２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第１筒部１２４と、第２筒部１２５と、爪部１２７とを有する。

実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様に使用できる。また、特に図示しないが、実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様に組み立てることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置１００、２００によれば、スペーサー１２６、２２６と、基板１１０または蓋２２０との接合状態を一定にすることで、空間１４０、２４０を高精度に形成できる。よって、例えば、流体取扱装置１００をＮＧＳにおけるチップとして使用する場合には、試料の量を一定にできるため、検出結果の精度を高くできる。

［実施の形態２］
（流体取扱装置の構成）
次に、実施の形態２に係る流体取扱装置３００について説明する。図８Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態２に係る流体取扱装置３００の構成を示す図である。図８Ａは、流体取扱装置３００の平面図であり、図８Ｂは、図８Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図８Ｃは、磁性部材３６０の平面図である。

図８Ａ～Ｃに示されるように、実施の形態２に係る流体取扱装置３００は、基板１１０と、蓋３２０と、磁性部材３６０とから構成されている。

基板１１０は、実施の形態１における基板１１０と同じであるため、同様の符号を付してその説明を省略する。

図９Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態２に係る流体取扱装置３００における蓋３２０に磁性部材３６０を取り付けた状態における斜視図である。図９Ａは、蓋３２０に磁性部材３６０を取り付けた状態において、表側から見た斜視図であり、図９Ｂは、蓋３２０に磁性部材３６０を取り付けた状態において、裏側から見た斜視図である。

図８Ａ～Ｃおよび図９Ａ、Ｂに示されるように、蓋３２０は、爪部１２７を有さないこと以外は、実施の形態１における蓋１２０と同じである。すなわち、蓋３２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第１筒部１２４と、第２筒部１２５と、スペーサー１２６とを有する。

磁性部材３６０は、磁石または強磁性体を含み、磁力により基板１１０および蓋３２０のスペーサー１２６を密着させるための部材である。強磁性体の例には、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）が含まれる。

磁性部材３６０は、磁力により基板１１０および蓋３２０を密着させる。本実施の形態では、磁性部材３６０は、中央部３６１と、枠部３６２と、押圧部３６３とを有する。中央部３６１は、蓋２２０の第１筒部１２４および第２筒部１２５をそれぞれ取り囲むように構成されている。枠部３６２は、中央部３６１よりの外縁部であって、蓋本体１２１の外縁部に対応する位置に配置されている。押圧部３６３は、中央部３６１および枠部３６２を接続している。

本実施の形態では、基板１１０と、蓋３２０と、磁性部材３６０とは、流体取扱装置３００を使用する装置本体の対向部材３７０上に設置される。対向部材３７０は、磁性部材３６０とともに、磁石または強磁性体を含み、磁力により基板１１０および蓋３２０を密着させるために使用する。強磁性体の例には、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）が含まれる。磁性部材３６０および対向部材３７０の少なくとも一方は、磁石を含む。磁性部材３６０が磁石を含み、対向部材３７０が強磁性体を含んでいてもよいし、磁性部材３６０が強磁性体を含み、対向部材３７０が磁石を含んでいてもよいし、磁性部材３６０および対向部材３７０のいずれもが磁石を含んでいてもよい。

対向部材３７０は、基板１１０および蓋３２０を密着させる。対向部材３７０は、上記の機能を発揮できれば特に限定されない。本実施の形態では、対向部材３７０を平面視したときの外形は、蓋３２０を平面視したときの外形と同じ形状の長方形である。

対向部材３７０の上に、基板１１０、蓋３２０および磁性部材３６０をこの順番で重ねることにより、基板１１０および蓋３２０のスペーサー１２６を密着させることができる。

（変形例）
次に、実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置４００について説明する。実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置４００は、基板２１０がスペーサー２２６を有する点において、実施の形態２に係る流体取扱装置３００と異なる。そこで、実施の形態２に係る流体取扱装置３００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態２に係る流体取扱装置３００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図１０Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態２に係る流体取扱装置４００の構成を示す図である。図１０Ａは、流体取扱装置４００の平面図であり、図１０Ｂは、図１０Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１０Ａ、Ｂに示されるように、本実施の形態の変形例に係る流体取扱装置４００は、基板２１０と、蓋４２０とから構成されている。

本変形例では、基板２１０は、流体取扱装置４００における空間２４０の底面および側面を構成する部材である。基板２１０は、基板本体１１１およびスペーサー２２６を有する。スペーサー２２６は、基板２１０の基板本体１１１と一体成形され、第１開口部１２２ａに対向した領域および第１の表側の面１１０ａの外縁の間と、第３開口部１２３ａおよび第１の表側の面１１０ａの外縁の間とに、蓋４２０と密着するように配置される。なお、本変形例においても、スペーサー２２６は、空間２４０が第１開口部１２２ａに対向した領域と、第３開口部１２３ａに対向した領域とを繋ぐように配置されている。すなわち、本変形例の基板２１０は、実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における基板２１０と同じである。

図１１Ａ、Ｂは、実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置４００における蓋４２０に磁性部材３６０を取り付けた状態における斜視図である。図１１Ａは、蓋４２０に磁性部材３６０を取り付けた状態における表側から見た斜視図であり、図１１Ｂは、蓋４２０に磁性部材３６０を取り付けた状態における裏側から見た斜視図である。

図１１Ａ、Ｂに示されるように、蓋４２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第１筒部１２４と、第２筒部１２５とを有する。すなわち、本変形例の蓋４２０は、スペーサー１２６および爪部１２７を有さないこと以外は、実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における蓋２２０と同じである。

実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置４００は、実施の形態２に係る流体取扱装置３００と同様に使用できる。また、特に図示しないが、実施の形態２の変形例に係る流体取扱装置４００は、実施の形態２に係る流体取扱装置３００と同様に組み立てることができる。

なお、本実施の形態では、基板１１０、２１０と、蓋３２０、４２０と、磁性部材３６０とを装置本体の対向部材３７０上に配置しているが、流体取扱装置３００、４００は、磁性部材３６０に対応した対向部材３７０を有してしてもよい。この場合、基板２１０および蓋３２０、４２０の密着状態を維持した状態で持ち運ぶことができるため、利便性が高い。また、基板１１０、２１０および蓋３２０、４２０の位置がずれることがないため、さらに検出精度を高めることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置３００、４００によれば、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様の効果を得ることができる。

［実施の形態３］
（流体取扱装置の構成）
次に、実施の形態３に係る流体取扱装置５００について説明する。実施の形態３に係る流体取扱装置５００は、主にスペーサー５２６が空間５４０を形成する点において、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる。そこで、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる点を説明する。

図１２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置５００の構成を示す図である。図１２Ａは、流体取扱装置５００の平面図であり、図１２Ｂは、図１２Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１２Ａ、Ｂに示されるように、実施の形態３に係る流体取扱装置５００は、基板１１０と、蓋５２０とから構成されている。

基板１１０は、実施の形態１における基板１１０と同じであるため、同様の符号を付してその説明を省略する。

図１３Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置５００における蓋の斜視図である。図１３Ａは、図１３Ａは、蓋５２０を表側から見た斜視図であり、図１３Ｂは、蓋５２０を裏側から見た斜視図である。

図１２Ａ、Ｂおよび図１３Ａ、Ｂに示されるように、蓋５２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、スペーサー５２６と、接着層５８０とを有する。

スペーサー５２６は、空間１４０が第１開口部１２２ａと、第３開口部１２３ａを繋ぐように配置されているとともに、蓋５２０の外縁に開口した空間５４０を形成する。本実施の形態では、スペーサー５２６は、５つの空間１４０、５４０を形成する。本実施の形態では、４つの空間５４０は、蓋５２０を平面視したときに、蓋５２０の四辺に対応した位置に開口している。空間５４０の平面視形状は、特に限定されない。空間５４０の平面視形状は、矩形でもよいし、円形でもよいし、楕円形でもよい。本実施の形態では、空間５４０の平面視形状は、矩形である。

接着層５８０は、基板１１０および蓋５２０を接着する。接着層５８０は、スペーサー５２６の空間５４０に、基板１１０および蓋５２０を繋ぐように配置されている。接着層５８０の構成は、上記の機能を発揮できれば特に限定されない。接着層５８０の例には、接着剤の硬化物と、接着シートとが含まれる。接着剤の例には、熱可塑性エラストマーであるゼラス（三菱化学株式会社）、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤およびこれらを組み合わせた接着剤が含まれる。また、接着シートの例には、感圧接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ－Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ：ＰＳＡ）や、熱可塑性エラストマーなどで形成されたシートが含まれる。

図１４Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３に係る流体取扱装置５００の組み立て方を説明するための図である。

図１４Ａに示されるように、基板１１０を蓋５２０に取り付ける場合には、スペーサー５２６の空間１５０に接着層５８０となる接着剤を配置する。なお、接着剤の容量は、空間の容量以上である。次いで、蓋５２０の第２の裏側の面１２０ｂに向けて基板１１０を押圧する。なお、空間５４０に収容されきれなかった接着剤は、外部にはみ出す。これにより、図１４Ｂに示されるように、基板１１０と、蓋５２０とが固定され、流体取扱装置３００が組み立てられる。以上の工程により、流体取扱装置５００を組み立てることができる。

（変形例）
次に、実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００について説明する。実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００は、基板６１０がスペーサー６２６を有する点において、実施の形態３に係る流体取扱装置３００と異なる。そこで、実施の形態３に係る流体取扱装置３００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態３に係る流体取扱装置３００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図１５Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００の構成を示す図である。図１５Ａは、流体取扱装置６００の平面図であり、図１５Ｂは、図１５Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１５Ａ、Ｂに示されるように、本発明の実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００は、基板６１０と、蓋４２０とから構成されている。

図１６Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００における基板６１０の構成を示す図である。図１６Ａは、基板６１０の平面図であり、図１６Ｂは、側面図であり、図１６Ｃは、図１６Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１５Ａ、Ｂおよび図１６Ａ～Ｃに示されるように、本変形例では、基板６１０は、流体取扱装置６００における空間１４０の底面および側面を構成する部材である。基板６１０は、基板本体１１１およびスペーサー６２６を有する。スペーサー６２６は、基板２１０の基板本体１１１と一体成形され、第１開口部１２２ａに対向した領域および第１の表側の面１１０ａの外縁の間と、第３開口部１２３ａに対向した領域および第１の表側の面１１０ａの外縁の間とに、蓋３２０と密着するように配置される。また、スペーサー６２６は、蓋３２０の外縁に開口した空間６４０を形成する。本実施の形態では、スペーサー６２６は、５つの空間２４０、６４０を形成する。本実施の形態では、４つの空間６４０は、基板６１０を平面視したときに、基板６１０の四辺に対応した位置に開口している。空間６４０の平面視形状は、特に限定されない。空間６４０の平面視形状は、矩形でもよいし、円形でもよいし、楕円形でもよい。本実施の形態では、空間６４０の平面視形状は、矩形である。

蓋４２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第１筒部１２４と、第２筒部１２５とを有する。すなわち、本変形例の蓋４２０は、スペーサー１２６および爪部１２７を有さないこと以外は、実施の形態１の変形例に係る流体取扱装置２００における蓋２２０と同じである。

実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様に使用できる。特に図示しないが、実施の形態３の変形例に係る流体取扱装置６００は、実施の形態３に係る流体取扱装置５００と同様に組み立てることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置５００、６００によれば、スペーサー５２６、６２６と基板１１０または蓋４２０との接合状態を一定にすることで、空間１４０、５４０、２４０、６４０を高精度に形成できる。よって、例えば、流体取扱装置５００、６００をＮＧＳにおけるチップとして使用する場合には、試料の量を一定にできるため、検出結果の精度を高くできる。また、外縁に開口した空間を有するため、空間１４０、５４０、２４０、６４０に接着剤が侵入することなく、確実に基板１１０、６１０および蓋３２０、４２０を接着できる。

［実施の形態４］
（流体取扱装置の構成）
次に、実施の形態４に係る流体取扱装置７００について説明する。図１７Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４に係る流体取扱装置７００の構成を示す図である。図１７Ａは、流体取扱装置７００の平面図であり、図１７Ｂは、図１７Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図１７Ｃは、図１７Ａに示されるＢ－Ｂ線の断面図である。

図１７Ａ、Ｂ、Ｃに示されるように、実施の形態４に係る流体取扱装置７００は、基板１１０と、蓋７２０とから構成されている。

基板１１０は、実施の形態１における基板１１０と同じであるため、同様の符号を付してその説明を省略する。

図１８Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態４に係る流体取扱装置７００における蓋７２０の斜視図である。図１８Ａは、蓋７２０を表側から見た斜視図であり、図１８Ｂは、蓋７２０を裏側から見た斜視図である。

図１７Ａ、Ｂ、Ｃおよび図１８Ａ、Ｂに示されるように、蓋７２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、スペーサー７２６と、接着層５８０とを有する。

スペーサー７２６は、第１スペーサー７２６ａと、第２スペーサー７２６ｂとを有する。第１スペーサー７２６ａは、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａを取り囲むように形成されている。本実施の形態において、空間１４０は、第１開口部１２２ａおよび第３開口部１２３ａを接続するように、スペーサー７２６（第１スペーサー７２６ａ）により形成されている。第２スペーサー７２６ｂは、第１スペーサー７２６ａと離間して、第１面１２１ａの外縁側に配置されている。第１スペーサー７２６ａおよび第２スペーサー７２６ｂの間の空間７４０には、第１スペーサー７２６ａおよび第２スペーサー７２６ｂを繋ぐように接着層５８０が配置されている。なお、接着層５８０は、スペーサー７２６の一部となる。

特に図示しないが、本実施の形態に係る流体取扱装置７００は、基板１１０を蓋７２０に取り付ける場合には、スペーサー７２６の空間７４０に接着層５８０となる接着剤を配置する。次いで、蓋７２０の第２の裏側の面１２０ｂに向けて基板１１０を押圧する。これにより、基板１１０と、蓋７２０とが固定され、流体取扱装置７００が組み立てられる。以上の工程により、流体取扱装置７００を組み立てることができる。

（変形例）
次に、実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００について説明する。実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００は、基板８１０がスペーサー８２６を有する点において、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる。そこで、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図１９Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００の構成を示す図である。図１９Ａは、流体取扱装置８００の平面図であり、図１９Ｂは、図１９Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図１９Ｃは、図１９Ａに示されるＢ－Ｂ線の断面図である。

図１９Ａ～Ｃに示されるように、本発明の実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００は、基板８１０と、蓋４２０とから構成されている。

図２０Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００における基板８１０の構成を示す図である。図１８Ａは、基板８１０の平面図であり、図１８Ｂは、側面図であり、図１８Ｃは、図１８Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図１９Ａ～Ｃおよび図２０Ａ～Ｃに示されるように、本変形例では、基板８１０は、流体取扱装置８００における空間２４０、８４０の底面および側面を構成する部材である。基板８１０は、基板本体１１１およびスペーサー８２６を有する。

スペーサー８２６は、第１スペーサー８２６ａと、第２スペーサー８２６ｂとを有する。第１スペーサー８２６ａは、第１開口部１２２ａに対向した領域および第３開口部１２３ａに対向した領域を取り囲むように形成されている。本実施の形態において、空間２４０は、第１開口部１２２ａに対向した領域および第３開口部１２３ａに対向した領域を接続するように、スペーサー８２６（第１スペーサー８２６ａ）により形成されている。第２スペーサー８２６ｂは、第１スペーサー８２６ａと離間して、第１の表側の面１２０ａの外縁側に配置されている。第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂの間の空間８４０には、第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂを繋ぐように接着層５８０が配置されている。なお、接着層５８０は、スペーサー８２６の一部となる。

実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様に使用できる。特に図示しないが、実施の形態４の変形例に係る流体取扱装置８００は、実施の形態４に係る流体取扱装置７００と同様に組み立てることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置７００、８００によれば、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様の効果を得ることができる。また、本実施の形態に係る流体取扱装置７００、８００では、第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂの間の空間８４０が密閉されているため、接着剤が外部に漏れ出すことがない。

［実施の形態５］
（流体取扱装置の構成）
次に、実施の形態５に係る流体取扱装置９００について説明する。図２１Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態５に係る流体取扱装置９００の構成を示す図である。図２１Ａは、流体取扱装置９００の平面図であり、図２１Ｂは、図２１Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図２１Ｃは、図２１Ａに示されるＢ－Ｂ線の断面図である。

図２１Ａ～Ｃに示されるように、実施の形態５に係る流体取扱装置９００は、基板１１０と、蓋９２０とから構成されている。

基板１１０は、実施の形態１における基板１１０と同じであるため、同様の符号を付してその説明を省略する。

図２２Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態５に係る流体取扱装置９００における蓋９２０の斜視図である。図２２Ａは、蓋９２０を表側から見た斜視図であり、図２２Ｂは、蓋９２０を裏側から見た斜視図である。

蓋９２０は、蓋本体９２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、スペーサー９２６と、第３貫通孔９２８と、接着層５８０とを有する。

第３貫通孔９２８は、基板１１０および蓋９２０を接着するために、第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂの間の空間に接着剤を注入するために機能する。第３貫通孔９２８の一方の開口部は、第２の裏側の面１２０ｂにおける第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂとの間の空間７４０に開口している。第３貫通孔９２８の他方の開口部は、第１面１２１ａ以外の面に開口している。本実施の形態では、第３貫通孔９２８の他方の開口部は、第２の表側の面１２０ａに開口している。

本実施の形態に係る流体取扱装置９００は、基板１１０および蓋９２０を組みつけた状態で、第３貫通孔９２８から接着剤を注入することで組み立てる。

（変形例）
次に、実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００について説明する。実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００は、基板１０１０がスペーサー９２６を有する点において、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる。そこで、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態１に係る流体取扱装置１００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図２３Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００の構成を示す図である。図２３Ａは、流体取扱装置１０００の平面図であり、図２３Ｂは、図２３Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図２３Ｃは、図２３Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図２３Ａ、Ｂ、Ｃに示されるように、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００は、基板８１０と、蓋１０２０とから構成されている。

基板８１０は、流体取扱装置１０００における空間２４０、８４０の底面および側面を構成する部材である。基板８１０は、基板本体１１１およびスペーサー８２６を有する。すなわち、変形例に係る流体取扱装置１０００における基板８１０は、実施の形態４に係る基板８１０と同じである。

スペーサー８２６は、第１スペーサー８２６ａと、第２スペーサー８２６ｂとを有する。第１スペーサー８２６ａは、第１開口部１２２ａに対向した領域および第３開口部１２３ａに対向した領域を取り囲むように形成されている。本実施の形態において、空間１４０は、第１開口部１２２ａに対向した領域および第３開口部１２３ａに対向した領域を接続するように、スペーサー８２６（第１スペーサー８２６ａ）により形成されている。第２スペーサー８２６ｂは、第１スペーサー８２６ａと離間して、第１の表側の面１２０ａの外縁側に配置されている。第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂの間の空間７４０には、第１スペーサー８２６ａおよび第２スペーサー８２６ｂを繋ぐように接着層５８０が配置されている。なお、接着層５８０は、スペーサー８２６の一部となる。

図２４Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００における蓋１０２０の斜視図である。図２４Ａは、蓋１０２０を表側から見た斜視図であり、図２４Ｂは、蓋１０２０を裏側から見た斜視図である。

図２３Ａ、Ｂ、Ｃおよび図２４Ａ、Ｂに示されるように、蓋１０２０は、スペーサー７２６を有さないこと以外は、実施の形態５に係る流体取扱装置９００における蓋９２０と同じである。すなわち、蓋１０２０は、蓋本体１２１と、第１貫通孔１２２と、第２貫通孔１２３と、第３貫通孔９２８と、接着層５８０とを有する。

実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００は、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様に使用できる。特に図示しないが、実施の形態５の変形例に係る流体取扱装置１０００は、実施の形態５に係る流体取扱装置９００と同様に組み立てることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置９００、１０００によれば、実施の形態１に係る流体取扱装置１００と同様の効果を得ることができる。また、本実施の形態に係る流体取扱装置４００では、過剰な接着剤が注入口１３０および排出口１５０側に溢れ出してくるため、流体取扱装置１０００が配置される装置への配置を阻害することがない。さらに、第３貫通孔９２８から接着剤を注入するため、作業者が安全に作業でき、流体取扱装置９００、１０００の組み立て精度も向上する。

［実施の形態６］
（流体取扱装置の構成）
次に、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００について説明する。図２５Ａ～Ｃは、本発明の実施の形態６に係る流体取扱装置１１００の構成を示す図である。図２５Ａは、流体取扱装置１１００の平面図であり、図２５Ｂは、図２５Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図であり、図２５Ｃは、図２５Ｂの部分拡大断面図である。

図２５Ａ、Ｂ、Ｃに示されるように、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００は、基板１１１０と、蓋１１２０とから構成されている。基板１１１０および蓋１１２０は、後述の第１螺合部１２９５および第２螺合部１２２８が係合することで固定される。

図２６Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６に係る流体取扱装置における基板の斜視図である図２６Ａは、基板１１１０を表側から見た斜視図であり、図２６Ｂは、基板１２１０を裏側から見た斜視図である。

図２５Ａ、Ｂおよび図２６Ａ、Ｂに示されるように、基板１１１０は、流体取扱装置１１００における空間１１４０の底面を構成する部材である。基板１１１０の平面視形状は、円形である。基板１１１０は、基板本体１１１１と、第４貫通孔１１９０と、第１螺合部１２９５とを有する。

基板１１１０の外形は、蓋１１２０に対向して配置された第１の表側の面１１１０ａと、第１の表側の面１１１０ａと反対側の第１の裏側の面１１１０ｂと、第１の表側の面１１１０ａおよび第１の裏側の面１１１０ｂの外周部に配置された側面である第１の外側の面１１１０ｃとから構成されている。

第１の表側の面１１１０ａには、第４貫通孔１１９０の第７開口部１１９０ａが開口している。また、第１の裏側の面１１１０ｂには、第４貫通孔１１９０の第８開口部１１９０ｂが開口している。さらに、基板１１１０の第１の外側の面１１１０ｃには、第１螺合部１１９５が形成されている。

第４貫通孔１１９０は、空間１１４０から流体を排出するための貫通孔であり、排出口１１５０の一部である。第４貫通孔１２９０は、第１の表側の面１１１０ａに開口した第８開口部１１９０ｂと、第１の裏側の面１１１０ｂに開口した第７開口部１１９０ａとを有する。第４貫通孔１１９０の直径は、流体を排出できれば特に限定されない。本実施の形態では、第４貫通孔１１９０の直径は、例えば、１～３０ｍｍの範囲内である。

第１螺合部１１９５は、第２螺合部１１２８と係合して、基板１１１０および蓋１１２０を固定する。本実施の形態では、第１螺合部１１９５は、雄ネジである。

蓋１１２０は、蓋本体１１２１と、スペーサー１１２６と、ガイド突起１１２７とを有する。

図２７Ａ、Ｂは、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００における蓋１１２０の斜視図である。図２７Ａは、蓋１１２０を表側から見た斜視図であり、図２７Ｂは、蓋１２２０を裏側から見た斜視図である。

図２７Ａ、Ｂに示されるように、蓋１１２０は、蓋本体１１２１と、第１貫通孔１２２と、スペーサー１１２６と、ガイド突起１１２７とを有する。

蓋本体１１２１は、基板１１１０の反対側に位置する第２の表側の面１１２０ａと、基板１１１０と対向して配置された第２の裏側の面１１２０ｂと、第２の表側の面１１２０ａおよび第２の裏側の面１１２０ｂの外周部に配置された側面である第２の外側の面１１２０ｃとから構成されている。本実施の形態では、蓋本体１１２１の第２の裏側の面１１２０ｂには、ガイド突起１１２７が配置されている。

本実施の形態では、蓋本体１１２１を平面視したときの外径は、円形である。

スペーサー１１２６は、流体取扱装置１１００における空間１１４０の側面を構成する部分である。スペーサー１１２６は、蓋１１２０の蓋本体１１２１と一体成形され、第１開口部１２２ａおよび第２の裏側の面１１１０ｂの外縁の間と、第４貫通孔１１９０の第７開口部１１９０ａおよび第２のうら側の面１１１０ｂの外縁の間とに、基板１１１０と密着するように配置される。なお、本変形例においても、スペーサー１２２６は、空間１１４０が第１開口部１２２ａと、第７開口部１１９０ａに対向した領域とを繋ぐように配置されている。本実施の形態では、スペーサー１１２６は、空間１１４０が十字状となるように配置されている。

ガイド突起１１２７は、基板１１１０を支持する。ガイド突起１１２７の内周面には、第２螺合部１１２８が形成されている。第２螺合部１２２８は、前述の第１螺合部１２９５と係合する。本実施の形態では、第２螺合部１２２８は、雌ネジである。

本実施の形態に係る流体取扱装置１１００は、注入口１３０と、空間１１４０と、排出口１１５０とを有する。注入口１３０と、空間１１４０と、排出口１１５０とは、基板１１１０および蓋１１２０のスペーサー１１２６が密着することでそれぞれ構成される。

排出口１１５０は、空間１１４０内の流体を排出するために機能する。排出口１１５０は有底の凹部である。排出口１１５０は、第４貫通孔１１９０と、蓋本体１１２１と、基板１１１０の一部とから構成されている。

注入口１１３０から流体を注入し、例えば、注入口１１３０側から加圧するか、排出口１１５０側を負圧にするか、注入口１１３０を中心に回転することで、注入口１１３０の流体を空間１４０に流入させる。空間１１４０に流入された流体は、さらに注入口１１３０から加圧するか、排出口１１５０側を負圧にするか、注入口１１３０を中心に回転することで、排出口１１５０から外部に排出される。

本実施の形態に係る流体取扱装置１１００は、第１螺合部１１９５および第２螺合部１１２８を螺合することで組み立てる。

（変形例）
次に、実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００について説明する。実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００は、基板１２１０がスペーサー１２２６を有する点において、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００と異なる。そこで、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００と同じ構成については、同様の符号を付してその説明を省略する。以下の説明では、主として実施の形態６に係る流体取扱装置１２００と異なる点を説明する。

（流体取扱装置の構成）
図２８Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００の構成を示す図である。図２８Ａは、流体取扱装置１２００の平面図であり、図２８Ｂは、図２９Ａに示されるＡ－Ａ線の断面図である。

図２８Ａ、Ｂに示されるように、本実施の形態の変形例に係る流体取扱装置１２００は、基板１２１０と、蓋１２２０とから構成されている。

図２９Ａ、Ｂは、本発明の実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００における基板１２１０の斜視図である。図２９Ａは、基板１２１０の平面図であり、図２９Ｂは、側面図である。

本変形例では、基板１２１０は、流体取扱装置１２００における空間１２４０の底面および側面を構成する部材である。基板１２１０は、基板本体１２１１およびスペーサー１２２６を有する。スペーサー１２２６は、基板１２１０の基板本体１１１と一体成形され、第２の裏側の面１１２０ｂに対向した領域および第１の表側の面１１１０ａの外縁の間と、第３開口部１２２３ａおよび第１の表側の面１１１０ａの外縁の間とに、蓋１２２０と密着するように配置される。なお、本変形例においても、スペーサー１２２６は、空間１２４０が第１開口部１２２ａに対向した領域と、第８開口部１１９０ｂとを繋ぐように配置されている。

図３０Ａ、Ｂは、実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００における蓋１２２０の斜視図である。図３０Ａは、蓋１２２０を表側から見た斜視図であり、図３０Ｂは、蓋１２２０を裏側から見た斜視図である。

図３０Ａ、Ｂに示されるように、蓋１２２０は、蓋本体１１２１と、第１貫通孔１２２と、第１筒部１２４と、ガイド突起１１２７を有する。すなわち、本変形例の蓋１２２０は、スペーサー１１２６を有さないこと以外は、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００における蓋１１２０と同じである。

特に図示しないが、実施の形態６の変形例に係る流体取扱装置１２００は、実施の形態６に係る流体取扱装置１１００と同様に組み立てることができる。

（効果）
以上のように、本実施の形態に係る流体取扱装置１１００、１２００によれば、接着剤を使用しないため、容易に組み立てることができる。

１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００、１０００、１１００、１２００ 流体取扱装置
１１０、２１０、６１０、８１０、１０１０、１２１０ 基板
１１０ａ、１１１０ａ、 第１の表側の面
１１０ｂ、１１１０ｂ 第１の裏側の面
１１０ｃ、１１１０ｃ 第１の外側の面
１１１、１１１１ 基板本体
１２０、２２０、３２０、４２０、５２０、７２０、９２０、１０２０、１１２０、１２２０ 蓋
１２０ａ、１１２０ａ 第２の表側の面
１２０ｂ、１１２０ｂ 第２の裏側の面
１２０ｃ、１１２０ｃ 第２の外側の面
１２１、９２１、１１２１ 蓋本体
１２１ａ 第１面
１２２ 第１貫通孔
１２２ａ 第１開口部
１２２ｂ 第２開口部
１２３ 第２貫通孔
１２３ａ 第３開口部
１２３ｂ 第４開口部
１２４ 第１筒部
１２５ 第２筒部
１２６、２２６、５２６、６２６、７２６、８２６、９２６、１１２６、１２２６ スペーサー
１２７ 爪部
１２７ａ 固定部
１２７ｂ ガイド部
１２７ｃ 保持部
１３０、１１３０ 注入口
１５０、１１５０ 排出口
３６０ 磁性部材
３６１ 中央部
３６２ 枠部
３６３ 押圧部
３７０ 対向部材
５８０ 接着層
７２６ａ、８２６ａ 第１スペーサー
７２６ｂ、８２６ｂ 第２スペーサー
９２８ 第３貫通孔
１１２７ ガイド突起
１１２８ 第２螺合部
１１９０ 第４貫通孔
１１９０ａ 第７開口部
１１９０ｂ 第８開口部
１１９５ 第１螺合部
１２２３ａ 第３開口部
１２２８ 第２螺合部
１２９０ 第４貫通孔
１２９５ 第１螺合部

Claims (11)

1. 第１面を有する基板本体を含む基板と、
   前記基板の前記第１面と対向し、前記基板との間に空間を構成するように配置された蓋と、
   を有し、
   前記蓋は、
   前記基板に対向した第２面を有する蓋本体と、
   前記第２面に開口した第１開口部と、前記第２面以外に開口した第２開口部を有し、前記空間に流体を注入するための第１貫通孔と、
   を含み、
   前記蓋は、前記蓋本体と一体成形され、前記第１開口部および前記第２面の外縁の間に、前記基板と密着するように配置されたスペーサーをさらに有するか、前記基板は、前記基板本体と一体成形され、前記第１開口部に対向した領域および前記第１面の外縁の間に、前記蓋と密着するように配置されたスペーサーを有する、
   流体取扱装置。
2. 前記蓋は、前記第２面に開口した第３開口部と、前記第２面以外に開口した第４開口部を有し、前記空間から流体を排出するための第２貫通孔をさらに有し、
   前記スペーサーは、前記蓋本体と一体成形され、前記第１開口部および前記第２面の外縁の間と、前記第３開口部および前記第２面の外縁の間とに、前記基板と密着するように配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
3. 前記蓋は、前記第２面に開口した第３開口部と、前記第２面以外に開口した第４開口部を有し、前記空間から流体を排出するための第２貫通孔をさらに有し、
   前記スペーサーは、前記基板本体と一体成形され、前記第１開口部に対向した領域および前記第１面の外縁の間と、前記第３開口部に対向した領域および前記第１面の外縁の間とに、前記蓋と密着するように配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
4. 前記蓋は、前記基板と係合して、前記基板を保持するための爪部をさらに有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の流体取扱装置。
5. 前記蓋に対して前記基板と反対側に配置され、磁石または強磁性体を含み、磁力により前記蓋および前記基板を密着させるための磁性部材をさらに有する、請求項１～４のいずれか一項に記載の流体取扱装置。
6. 前記スペーサーは、前記蓋本体と一体成形され、
   前記スペーサーは、前記蓋の外縁に開口した空間を形成し、
   前記空間には、接着層が配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
7. 前記スペーサーは、前記基板本体と一体成形され、
   前記スペーサーは、前記基板の外縁に開口した空間を形成し、
   前記空間には、接着層が配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
8. 前記スペーサーは、前記蓋本体と一体成形され、前記第１開口部側に配置された第１スペーサーと、前記第１スペーサーと離間して、前記第２面の外縁側に配置された第２スペーサーとを有し、
   前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーの間の空間には、前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーを繋ぐように接着層が配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
9. 前記スペーサーは、前記基板本体と一体成形され、前記第１開口部に対向した領域側に配置された第１スペーサーと、前記第１スペーサーと離間して、前記第１面の外縁側に配置された第２スペーサーとを有し、
   前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーの間の空間には、前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーを繋ぐように接着層が配置されている、
   請求項１に記載の流体取扱装置。
10. 前記蓋は、前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーの間の空間と、前記第１面以外とに開口し、前記第１スペーサーおよび前記第２スペーサーの間の空間に接着剤を注入するための第３貫通孔をさらに有する、請求項８または請求項９に記載の流体取扱装置。
11. 前記蓋は、第１螺合部をさらに有し、
    前記基板は、前記第１螺合部と螺合する第２螺合部をさらに有する、
    請求項１に記載の流体取扱装置。

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