JP2022117209A - ニキビ予防改善剤および特定のアクネ菌の増殖を抑制または促進する剤 - Google Patents
ニキビ予防改善剤および特定のアクネ菌の増殖を抑制または促進する剤 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】 アクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制する剤を提供する。【解決手段】 エリスリトールを有効成分とする、リボタイプ４型（ＲＴ４）、５型（ＲＴ５）および８型（ＲＴ８）から選択される１以上のアクネ菌の増殖を抑制する剤。本発明によれば、皮膚への刺激性や安全性を全く懸念することなく、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制し、あるいはニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型の増殖を促進することができる。【選択図】 図１
Description
本発明は、エリスリトールを有効成分とする、ニキビ予防改善剤および特定のアクネ菌の増殖を抑制または促進する剤に関する。
ニキビは、「尋常性?瘡」と呼ばれる皮膚の慢性疾患で、多くの場合、顔面、胸、肩、背中の皮膚に、黒色面皰（めんぽう）、白色面皰、吹き出物、嚢腫（のうしゅ）などの隆起が現れ、ときに膿瘍も生じる。ニキビは、死んだ皮膚細胞の堆積物や細菌、乾燥した皮脂などが皮膚の毛包をふさぐことによって生じる。ニキビの原因細菌としては、プロピオニバクテリウム・アクネス（Propionibacterium acnes、以下「アクネ菌」という。）が知られている。アクネ菌は、リパーゼで皮脂成分のうち中性脂肪であるトリグリセリドを分解しつつ増殖し、さらに炎症の発生にかかわる成分も分泌する。
アクネ菌は、その１６Ｓ リボソーマルＲＮＡ遺伝子（１６Ｓ ｒＤＮＡ）の配列多型をもとに、ＲＴ１～１０といったリボタイプ（ＲＴ）に分類される。近年、ニキビ患者と健常者（ニキビの症状を呈さない者）との間では、皮膚に存在するアクネ菌の総量は変わらない一方で、優勢なアクネ菌のリボタイプが異なるという報告がされている。それによると、ＲＴ１、ＲＴ２およびＲＴ３は患者群と健常者群とに均一に分布するのに対して、ＲＴ６はほぼ健常者にのみ分布し、ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ８およびＲＴ１０はニキビ患者群に多く分布する。また、ＲＴ２およびＲＴ６のアクネ菌はリパーゼ遺伝子領域に変異を有し、リパーゼ活性が相対的に低い可能性が示唆されている（非特許文献１、非特許文献２）。すなわち、アクネ菌のうちリパーゼ遺伝子領域に変異を有する特定の菌型は、リパーゼ活性が低いゆえにニキビの発生や悪化に関与せず、その結果としてニキビ患者で劣勢となっている可能性が示唆されている。
Joseph McLaughlin et al., Propionibacterium acnes and Acne Vulgaris: New Insights from the Integration of Population Genetic, Multi-Omic, Biochemical and Host-Microbe Studies, Microorganisms 2019, 7(5), 128; https://doi.org/10.3390/microorganisms7050128
Shuta Tomida et al., Pan-Genome and Comparative Genome Analyses of Propionibacterium acnes Reveal Its Genomic Diversity in the Healthy and Diseased Human Skin Microbiome, mBio, May/June 2013 Volume 4 Issue 3 e00003-13
以上のことから、アクネ菌のうちでもニキビの発症や悪化に関与するのは、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８などの特定の菌型、あるいはリパーゼ遺伝子領域に変異を有さない特定の菌型であり、ＲＴ２やＲＴ６、あるいはリパーゼ遺伝子領域に変異を有する菌型は、関与しないと考えられる。よって、これらニキビの発症や悪化に関与する菌型の増殖を抑制することにより、ニキビの予防または改善に寄与できると考えられる。
また、アクネ菌は皮膚常在菌であり、その総存在量はニキビ患者と健常者とで変わらないことから、ニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型（ＲＴ２やＲＴ６、あるいはリパーゼ遺伝子領域に変異を有する菌型）の増殖を促進することにより、相対的にニキビの発症や悪化に関与する菌型の増殖を抑制でき、ニキビの予防または改善に寄与できると考えられる。
そこで、本発明は、アクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制する技術を提供することを目的とする。また、本発明は、アクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型の増殖を促進する技術を提供することを目的とする。さらに、本発明は、ニキビの予防または改善に寄与する技術を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意研究の結果、エリスリトールが、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型のアクネ菌の増殖を抑制する一方で、ニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型のアクネ菌の増殖を促進できることを見出した。そこで、これらの知見に基づいて、下記の各発明を完成した。
（１）本発明に係るニキビの予防または改善剤は、エリスリトールを有効成分とする。
（２）本発明に係るアクネ菌の増殖抑制剤の第１の態様は、リボタイプ４型（ＲＴ４）、５型（ＲＴ５）および８型（ＲＴ８）から選択される１以上のアクネ菌の増殖を抑制する剤であって、エリスリトールを有効成分とする。
（３）本発明に係るアクネ菌の増殖抑制剤の第２の態様は、配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有さないアクネ菌の増殖を抑制する剤であって、エリスリトールを有効成分とする。
（４）本発明に係るアクネ菌の増殖促進剤の第１の態様は、リボタイプ２型（ＲＴ２）および／またはリボタイプ６型（ＲＴ６）のアクネ菌の増殖を促進する剤であって、エリスリトールを有効成分とする。
（５）本発明に係るアクネ菌の増殖促進剤の第２の態様は、配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有するアクネ菌の増殖を促進する剤であって、エリスリトールを有効成分とする。
（６）本発明に係るアクネ菌の増殖促進剤の第２の態様において、配列番号１１に示されるＤＮＡ領域における前記変異は下記（ｉ）～（ｉｉｉ）から選択される１以上を含むものであってよい；
（ｉ）配列番号１１の１３８～１４３番目の６塩基の欠失、
（ｉｉ）配列番号１１の２８８番目の１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）配列番号１１の３７０～３７２番目における終止コドンの出現。
（ｉ）配列番号１１の１３８～１４３番目の６塩基の欠失、
（ｉｉ）配列番号１１の２８８番目の１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）配列番号１１の３７０～３７２番目における終止コドンの出現。
（７）本発明に係るアクネ菌型選択的抗菌剤は、アクネ菌型選択的抗菌作用として、ＨＬ００７ＰＡ１株、ＨＬ０３８ＰＡ１株、ＨＬ０４３ＰＡ２株、ＨＬ０７２ＰＡ１株、ＨＬ０８６ＰＡ１株およびＨＬ１１０ＰＡ１株から選択される１以上のアクネ菌株に対しては増殖を抑制し、かつ、ＨＬ１１０ＰＡ３株に対しては増殖を抑制しないまたは促進する物性を有するものであって、エリスリトールを有効成分とする。
（８）本発明に係る剤は、外用剤として用いられるものであってもよい。
本発明によれば、アクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制することができる。本発明によれば、アクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型の増殖を促進することができる。よって、本発明によれば、ニキビの予防または改善に寄与することができる。
また、本発明が有効成分とするエリスリトールは、食品としても用いられることから明かであるように、ヒトや動物にとって極めて安全な物質である。従って、本発明によれば、皮膚への刺激性や安全性を全く懸念することなく、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制し、あるいはニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型の増殖を促進することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。本発明は、ニキビの予防または改善剤、アクネ菌の増殖抑制剤（第１の態様および第２の態様）、アクネ菌の増殖促進剤（第１の態様および第２の態様）ならびにアクネ菌型選択的抗菌剤を提供する。本明細書では、これらの剤をまとめて、あるいはいずれかの剤を指して「本発明の剤」あるいは「本剤」という場合がある。
本発明において「リボタイプ」は、１６Ｓ リボソーマルＲＮＡ遺伝子（１６Ｓ ｒＤＮＡ）の配列多型をもとに分類した、アクネ菌のサブタイプ（菌型）をいう。１６Ｓ ｒＤＮＡの野生型配列（配列番号１）を有するアクネ菌をリボタイプ１型（ＲＴ１）、野生型配列において、Ｔ８５４Ｃ変異を有するサブタイプをリボタイプ２型（ＲＴ２）、Ｔ１００７Ｃ変異を有するサブタイプをリボタイプ３型（ＲＴ３）、Ｇ１０５８ＣおよびＡ１２０１Ｃ変異を有するサブタイプをリボタイプ４型（ＲＴ４）、Ｇ１０５８Ｃ変異を有するサブタイプをリボタイプ５型（ＲＴ５）、Ｔ８５４ＣおよびＣ１３３６Ｔ変異を有するサブタイプをリボタイプ６型（ＲＴ６）、Ｇ１００４ＡおよびＴ１００７Ｃ変異を有するサブタイプをリボタイプ８型（ＲＴ８）と同定することができる（S Fitz-Gibbon et al., The Skin Microbiome Associated with Acne, Journal of Investigative Dermatology 133, 2152?2160; doi:10.1038/jid.2013.21; published online 28 February 2013）。
「配列番号１１に示されるＤＮＡ領域」は、アクネ菌のリパーゼ遺伝子領域の一部領域である。ここで、当該リパーゼ遺伝子領域は、遺伝子間領域（intergenic region)を挟んで前後に縦列配置された２つのリパーゼ遺伝子（ＳＫ１３７株において遺伝子座HMPREF0675_4855およびHMPREF0675_4856で特定されるリパーゼコーディング領域）からなる。配列番号１１は、当該リパーゼ遺伝子領域の、１つ目のリパーゼ遺伝子のカルボキシル末端側領域、遺伝子間領域および２つ目のリパーゼ遺伝子のアミノ末端側領域からなる。
配列番号１１に示されるＤＮＡ領域における変異とは、配列番号１１における塩基の欠失、挿入、置換および／または付加や、それに伴うコーディング領域内における終止コドンの出現などをいう。欠失、挿入、置換および／または付加される塩基の個数としては、例えば、１～４０個、１～３０個、１～２０個、１～１５個、１～１０個、１～６個の任意の数を例示することができる。また、変異の具体例としては、下記（ｉ）～（ｉｉｉ）を例示することができる。
（ｉ）配列番号１１の１３８～１４３番目の６塩基の欠失、
（ｉｉ）配列番号１１の２８８番目の１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）（塩基の欠失、挿入、置換および／または付加に伴う）配列番号１１の３７０～３７２番目における終止コドンの出現。
（ｉ）配列番号１１の１３８～１４３番目の６塩基の欠失、
（ｉｉ）配列番号１１の２８８番目の１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）（塩基の欠失、挿入、置換および／または付加に伴う）配列番号１１の３７０～３７２番目における終止コドンの出現。
アクネ菌の増殖が抑制されたか、それとも、促進されたかは、後述する実施例に示すように、培養試験により判断することができる。すなわち、一方は本剤を添加して、他方はこれを添加せずに、同種の培地を調製する。この両培地にアクネ菌を植菌して所定の期間培養した後、培地の菌量を測定する。菌量の測定は、簡便には濁度法により行うことができるが、乾燥菌体重量法や湿重量法、リアルタイムＰＣＲ法などの公知の手法を適宜選択することができる。その結果、本剤を添加したものの方が、これを添加しないものよりも菌量が小さければ、本剤によりアクネ菌の増殖が抑制されたと判断することができる。逆に、本剤を添加したものの方が、これを添加しないものよりも菌量が大きければ、本剤によりアクネ菌の増殖が促進されたと判断することができる。
「アクネ菌型選択的抗菌剤」は、アクネ菌に対して選択的な抗菌作用を有する剤をいう。ここで、当該選択的抗菌作用とは、ニキビの発症や悪化に関与する菌型のアクネ菌の増殖を抑制し、かつ、ニキビの発症や悪化に関与しない菌型のアクネ菌の増殖は抑制しない、ないしは促進することを意味する。当該選択的抗菌作用を有するか否かは、例えば、ＨＬ００７ＰＡ１株（ＨＭ４９６、BEI Resources、ＲＴ４）、ＨＬ０３８ＰＡ１株（ＨＭ５１２、BEI Resources、ＲＴ４）、ＨＬ０４３ＰＡ２株（ＨＭ５１４、BEI Resources、ＲＴ５）、ＨＬ０７２ＰＡ１株（ＨＭ５３１、BEI Resources、ＲＴ５）、ＨＬ０８６ＰＡ１株（ＨＭ５３９、BEI Resources、ＲＴ８）もしくはＨＬ１１０ＰＡ１株（ＨＭ５５２、BEI Resources、ＲＴ８）に対しては増殖を抑制し、かつ、ＨＬ１１０ＰＡ３株（ＨＭ５５４、BEI Resources、ＲＴ６）に対しては増殖を抑制しないまたは促進する物性を有するか否かで、判断することができる。
エリスリトール（エリトリトール）は、ブドウやナシなどの果実、味噌や醤油、清酒などの発酵食品にも元来含まれている糖アルコールである。化学名は１，２，３，４－Ｂｕｔａｎｅｔｅｒｏｌで四炭糖の単糖アルコールである。エリスロース（エリトロース）の還元体であるが、工業的には発酵により得られる。
エリスリトールは、当業者に公知の方法に従って製造して用いてもよく、簡便には、市販されているものを用いてもよい。また、エリスリトールは、液体、粉末状、顆粒状などいずれの形態のものも用いることができる。
本剤は、皮膚常在菌であるアクネ菌のうち、ニキビの発症や悪化に関与しうる特定の菌型の増殖を抑制し、あるいは、ニキビの発症や悪化に関与しない特定の菌型の増殖を促進して、ニキビの発症や悪化が起こりにくい皮膚環境にすることにより効果を発揮する。よって、本剤は、皮膚に作用する使用態様の製剤、すなわち外用剤として用いることができる。
本発明の外用剤としては、皮膚に直接塗布や貼付、噴霧等するもの（化粧品、医薬部外品、医薬品）の他、皮膚洗浄料や入浴料、消毒剤、殺菌剤などの衛生用品を例示することができる。製品の剤型としては、エアゾール剤、ロールオン、スティック、クリーム、シート剤、ローション、乳液、ジェル、粉剤、錠剤等の形態を例示することができる。本剤が配合された製品は、当該製品に通常用いられる原料（例えば、油、界面活性剤、アルコール、防腐剤、キレート剤、酸化防止剤、増粘剤、香料、殺菌剤等の成分）にエリスリトールを添加して、製造することができる。
エリスリトールの含有量は、製品の形態や用途に応じて適宜設定することができるが、例えば０．０１～３５質量％、好ましくは０．０１～３０質量％、より好ましくは０．５～２５質量％、さらに好ましくは１～２０質量％を例示することができる。
以下、本発明について、各実施例に基づいて説明する。なお、本発明の技術的範囲は、これらの実施例によって示される特徴に限定されない。
本実施例において、エリスリトールは、市販品（製品名：Ｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ、白色粒状、物産フードサイエンス（株））を用いた。また、アクネ菌は表１に記載のPropionibacterium acnes株を用いた。Ｎｏ．６～１０、１２および１３の菌株はＢＥＩ Ｒｅｓｏｕｒｃｅｓ（アメリカ合衆国）から入手したものであり、表１にカタログ番号も示す。Ｎｏ．１～５および１１の菌株は、遠藤明仁氏（東京農業大学 生物産業学部 食香粧化学科 准教授）から分譲された。
Ｎｏ．６～１０、１２および１３のリボタイプは、非特許文献２の表１に記載されたとおりである。Ｎｏ．１～５および１１のリボタイプは、常法にしたがって各菌株の１６Ｓ ｒＤＮＡをシークエンスし、得られた配列に基づいて決定した。Ｎｏ．１～５および１１の１６Ｓ ｒＤＮＡ塩基配列を配列番号２～７にそれぞれ示す。表１のリボタイプのうちＲＴ１、ＲＴ２およびＲＴ３は、ニキビ患者群の皮膚と健常者（ニキビ症状が無い者）群の皮膚とで同程度に存在し、ＲＴ６は殆ど健常者群の皮膚のみに存在することが報告されている。また、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８は、殆どニキビ患者群の皮膚のみに存在することが報告されている（非特許文献２）。
＜実施例１＞アクネ菌の菌数に対する効果
表１の各菌株を変法ＣＤＣ嫌気性菌用ヒツジ血液寒天培地(日本ベクトン・ディッキンソン)に塗布し、アネロパック・ケンキ（三菱ガス化学）を用いて３０℃で４日間嫌気培養した。これらの菌株をチップですくい、変法ＧＡＭブイヨン「ニッスイ」（日水製薬）０．５ｍＬに懸濁し、種母懸濁液とした。一方、変法ＧＡＭブイヨン「ニッスイ」に、エリスリトールを終濃度で０％、５質量％または１０質量％となるよう添加して、これを本培養培地とした。本培養培地を96 Deep Well Plate (AxyGen Scientific, Inc., ) に分注し、ここに種母懸濁液２０μＬを植菌して、３０℃で４８時間嫌気培養（本培養）した。
表１の各菌株を変法ＣＤＣ嫌気性菌用ヒツジ血液寒天培地(日本ベクトン・ディッキンソン)に塗布し、アネロパック・ケンキ（三菱ガス化学）を用いて３０℃で４日間嫌気培養した。これらの菌株をチップですくい、変法ＧＡＭブイヨン「ニッスイ」（日水製薬）０．５ｍＬに懸濁し、種母懸濁液とした。一方、変法ＧＡＭブイヨン「ニッスイ」に、エリスリトールを終濃度で０％、５質量％または１０質量％となるよう添加して、これを本培養培地とした。本培養培地を96 Deep Well Plate (AxyGen Scientific, Inc., ) に分注し、ここに種母懸濁液２０μＬを植菌して、３０℃で４８時間嫌気培養（本培養）した。
本培養後の培養液について、濁度法により菌体濃度を測定した。具体的には、まず、９６穴平底プレート(4845-96F、ワトソン)に水１８０μＬを分注した。ここに、培養液２０μＬを入れ、マイクロプレートリーダー (SpectraMax（登録商標）M2、モレキュラーデバイスジャパン)を用いて波長６６０ｎｍでの透過光強度を検出することにより、濁度（ＯＤ６６０）を測定した。ＯＤ６６０の値を１０倍したものを濁度とし、同様の試験を４回行って平均値を算出した。本培養培地にエリスリトールを添加していないもの（対照群）と、エリスリトールを５質量％または１０質量％となるよう添加したもの（５％群、１０％群）との２群間でMann-Whitney のＵ検定により統計的有意差検定を行い、漸近有意確率ｐ＜０．０５を有意とした。その結果を図１に示す。図１において、有意差検定で有意であったものを＊で示す。
図１に示すように、ＲＴ２およびＲＴ６の各菌株では、エリスリトールを添加した場合（５％群、１０％群）に、添加しない場合（０％群）と比較して有意に濁度が増加した。これに対して、ＲＴ１、ＲＴ３、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８の各菌株では、エリスリトールを添加した場合（５％群、１０％群）に、添加しない場合（０％群）と比較して有意に濁度が減少した。
すなわち、ＲＴ２およびＲＴ６の各菌株はエリスリトールの添加により菌数が有意に増加したのに対して、ＲＴ１、ＲＴ３、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８の各菌株はエリスリトールの添加により菌数が有意に減少した。この結果から、エリスリトールは、P. acnesのＲＴ２（ニキビ患者の皮膚と健常者の皮膚とで同程度に存在する菌型）およびＲＴ６（ニキビ症状の無い健康な皮膚で優勢な菌型）の増殖を促進し、P. acnesのＲＴ１およびＲＴ３（ニキビ患者の皮膚と健常者の皮膚とで同程度に存在する菌型）、ならびに、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８（ニキビ患者の皮膚で優勢な菌型）の増殖を抑制できることが明らかになった。
＜実施例２＞リパーゼ遺伝子領域のシークエンス解析
P. acnesは、リパーゼとして機能すると推定されるタンパク質をコードする遺伝子を１３種、有する。このうちの１種は、図２に示すように、遺伝子間領域（intergenic region)を挟んで前後に縦列配置された２つのリパーゼ遺伝子（ＳＫ１３７株において遺伝子座HMPREF0675_4855およびHMPREF0675_4856で特定されるリパーゼ遺伝子）からなる（全長２０３６ｂｐ、配列番号８）。当該リパーゼ遺伝子領域について、ＲＴ２、ＲＴ６およびＲＴ８に属するアクネ菌では、遺伝子間領域および２つ目のリパーゼ遺伝子（HMPREF0675_4856）に欠失変異を有することが報告されている（非特許文献２）。そこで、表１の菌株について当該リパーゼ遺伝子領域における変異の有無を解析した。
P. acnesは、リパーゼとして機能すると推定されるタンパク質をコードする遺伝子を１３種、有する。このうちの１種は、図２に示すように、遺伝子間領域（intergenic region)を挟んで前後に縦列配置された２つのリパーゼ遺伝子（ＳＫ１３７株において遺伝子座HMPREF0675_4855およびHMPREF0675_4856で特定されるリパーゼ遺伝子）からなる（全長２０３６ｂｐ、配列番号８）。当該リパーゼ遺伝子領域について、ＲＴ２、ＲＴ６およびＲＴ８に属するアクネ菌では、遺伝子間領域および２つ目のリパーゼ遺伝子（HMPREF0675_4856）に欠失変異を有することが報告されている（非特許文献２）。そこで、表１の菌株について当該リパーゼ遺伝子領域における変異の有無を解析した。
具体的には、まず、滅菌水５００μＬと直径５μｍのジルコニアビーズ２個とを入れた破砕用チューブに表１の各菌株を入れ、細胞破砕機Micro Smash（登録商標）MS-100（トミー精工）を用いて４０００回転／分にて９０秒間、菌体を破砕し、ゲノムＤＮＡを得た。これを鋳型ＤＮＡとし、Quick Taq（商標）HS DyeMix（TOYOBO）を用いてＰＣＲ反応を行うことにより、上記リパーゼ遺伝子領域の一部領域のＤＮＡを増幅した。プライマーは下記配列番号６、７に記載のものを用いた。反応条件は９５℃１０秒、６３℃２０秒および６８℃６０秒を３２サイクルとした。
《リパーゼ遺伝子増幅用プライマー》
フォワード；５’－ACGAGCCTGGTGTCAAAAACATCCTCGTTCA－３’（配列番号９）
リバース；５’－GCTTCCACAAGCGGATGTGTTTCCGGGTTGTA－３’（配列番号１０）
《リパーゼ遺伝子増幅用プライマー》
フォワード；５’－ACGAGCCTGGTGTCAAAAACATCCTCGTTCA－３’（配列番号９）
リバース；５’－GCTTCCACAAGCGGATGTGTTTCCGGGTTGTA－３’（配列番号１０）
増幅したＤＮＡ断片をFastGene（登録商標） Gel/PCR Extraction Kit（日本ジェネティクス）で精製した後、ファスマック株式会社(http://fasmac.co.jp/)にてシークエンス解析した。その結果を図３および図４に示す。また、図３～４に示すＮｏ．１～１３株の塩基配列を配列番号１１～２３に、それぞれ示す。
図３に示すように、Ｎｏ．３およびＮｏ．４株（ＲＴ２）ならびにＮｏ．１０およびＮｏ．１１株（ＲＴ６）の塩基配列（配列番号１３～１４および２０～２１）には、下記（ｉ）－（ｉｉｉ）の変異が確認された。
（ｉ）遺伝子間領域の（１つ目のリパーゼ遺伝子のストップコドンの次の塩基から数えて）１０８～１１４番目（配列番号８の９９６～１００１番目、配列番号１１の１３８～１４３番目に相当）に６塩基の欠失、
（ｉｉ）２つ目のリパーゼ遺伝子の１２４番目（配列番号８の１１４６番目、配列番号１１の２８８番目に相当）に１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）２つ目のリパーゼ遺伝子の２０６～２０９番目（配列番号８の１２２８～１２３０番目、配列番号１１の３７０～３７２番目に相当）に、上記（ｉｉ）の１塩基欠失に伴うフレームシフトによる終止コドンの出現。
一方、Ｎｏ．１～２、５～９および１２～１３株（ＲＴ１、ＲＴ３、ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ８）の配列には変異は見られず、配列番号１１～１２、１５～１９および２２～２３は同一配列であった。
（ｉ）遺伝子間領域の（１つ目のリパーゼ遺伝子のストップコドンの次の塩基から数えて）１０８～１１４番目（配列番号８の９９６～１００１番目、配列番号１１の１３８～１４３番目に相当）に６塩基の欠失、
（ｉｉ）２つ目のリパーゼ遺伝子の１２４番目（配列番号８の１１４６番目、配列番号１１の２８８番目に相当）に１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）２つ目のリパーゼ遺伝子の２０６～２０９番目（配列番号８の１２２８～１２３０番目、配列番号１１の３７０～３７２番目に相当）に、上記（ｉｉ）の１塩基欠失に伴うフレームシフトによる終止コドンの出現。
一方、Ｎｏ．１～２、５～９および１２～１３株（ＲＴ１、ＲＴ３、ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ８）の配列には変異は見られず、配列番号１１～１２、１５～１９および２２～２３は同一配列であった。
すなわち、実施例１でエリスリトールにより増殖が促進されたＲＴ２およびＲＴ６の菌株は、リパーゼ遺伝子領域の配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有するのに対して、実施例１でエリスリトールにより増殖が抑制されたＲＴ１、ＲＴ３、ＲＴ４、ＲＴ５およびＲＴ８の菌株は、当該ＤＮＡ領域に変異を有さないことが明らかになった。この結果から、エリスリトールは、リパーゼ遺伝子領域の配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有するP. acnesの増殖を促進できることが明らかになった。また、エリスリトールは、当該ＤＮＡ領域に変異を有さないP. acnesの増殖を抑制できることが明らかになった。
Claims (8)
- エリスリトールを有効成分とする、ニキビの予防または改善剤。
- エリスリトールを有効成分とする、リボタイプ４型（ＲＴ４）、５型（ＲＴ５）および８型（ＲＴ８）から選択される１以上のアクネ菌（Propionibacterium acnes）の増殖抑制剤。
- エリスリトールを有効成分とする、配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有さないアクネ菌（Propionibacterium acnes）の増殖抑制剤。
- エリスリトールを有効成分とする、リボタイプ２型（ＲＴ２）および／またはリボタイプ６型（ＲＴ６）のアクネ菌（Propionibacterium acnes）の増殖促進剤。
- エリスリトールを有効成分とする、配列番号１１に示されるＤＮＡ領域に変異を有するアクネ菌（Propionibacterium acnes）の増殖促進剤。
- 前記変異が下記（ｉ）～（ｉｉｉ）から選択される１以上を含む、請求項５に記載の剤；
（ｉ）配列番号１１の１３８～１４３番目の６塩基の欠失、
（ｉｉ）配列番号１１の２８８番目の１塩基の欠失、
（ｉｉｉ）配列番号１１の３７０～３７２番目における終止コドンの出現。 - エリスリトールを有効成分とするアクネ菌型選択的抗菌剤であって、前記アクネ菌型選択的抗菌作用として、ＨＬ００７ＰＡ１株、ＨＬ０３８ＰＡ１株、ＨＬ０４３ＰＡ２株、ＨＬ０７２ＰＡ１株、ＨＬ０８６ＰＡ１株およびＨＬ１１０ＰＡ１株から選択される１以上のアクネ菌株に対しては増殖を抑制し、かつ、ＨＬ１１０ＰＡ３株に対しては増殖を抑制しないまたは促進する物性を有する前記剤。
- 外用剤として用いられることを特徴とする、請求項１～７のいずれかに記載の剤。
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