JP2022115402A - wiring circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線回路基板に関する。 The present invention relates to a wired circuit board.
フレキシブル基材と、当該基材上の配線パターンとを備えるフレキシブル配線回路基板が知られている。フレキシブル配線回路基板は、折り曲げられた状態でデバイス内に組み付けられるなど、使用時に折り曲げられる場合がある。そのようなフレキシブル配線回路基板については、例えば下記の特許文献1に記載されている。
A flexible wired circuit board is known that includes a flexible base material and a wiring pattern on the base material. A flexible printed circuit board may be folded during use, such as being assembled in a device in a folded state. Such a flexible printed circuit board is described, for example, in
使用時に折り曲げられるフレキシブル配線回路基板では、従来、折り曲げ箇所を横切る配線が当該折り曲げ箇所(屈曲部)にて破断することがある。 Conventionally, in a flexible printed circuit board that is bent during use, wiring that crosses the bent portion may be broken at the bent portion (bent portion).
本発明は、配線の破断を抑制しつつ屈曲部を有するのに適した配線回路基板を提供する。 The present invention provides a wired circuit board suitable for suppressing breakage of wiring and having bent portions.
本発明[1]は、第1絶縁層と、第1導体層と、第2絶縁層と、第2導体層と、第3絶縁層とを、厚さ方向にこの順で備え、前記第1導体層が、前記厚さ方向と直交する第1方向に延びる複数の第1延び配線部を含み、前記第2導体層が、前記厚さ方向と直交し且つ前記第1方向と交差する第2方向に延びる複数の第2延び配線部と、少なくとも一つのダミーパターンとを含み、前記ダミーパターンが、隣り合う二つの第2延び配線部の間に配置され且つ前記第2方向に延びる、配線回路基板を含む。 The present invention [1] comprises a first insulating layer, a first conductor layer, a second insulating layer, a second conductor layer, and a third insulating layer in this order in the thickness direction, A conductor layer includes a plurality of first extending wiring portions extending in a first direction perpendicular to the thickness direction, and the second conductor layer includes a second conductor layer perpendicular to the thickness direction and crossing the first direction. a wiring circuit including a plurality of second extending wiring portions extending in a direction and at least one dummy pattern, wherein the dummy pattern is arranged between two adjacent second extending wiring portions and extends in the second direction; Including substrate.
本発明の配線回路基板においては、上記のように、第2導体層が、第2方向に延びるダミーパターンを含む。このような配線回路基板では、ダミーパターンの厚さの調整により、ダミーパターン形成箇所において、配線回路基板の厚さ方向の中心位置(第1中心位置)を調整できる。そのため、ダミーパターンに沿って配線回路基板を折り曲げたときに当該折り曲げ部(屈曲部)にて第1延び配線部(屈曲部を横切る)に生ずる引張り応力および圧縮応力を低減するように、当該屈曲部における、第1中心位置から第1延び配線部の厚さ方向中心位置(第2中心位置)までの距離を、調整できる(第1中心位置と第2中心位置との間の距離が長すぎると、屈曲部にて第1延び配線部に生ずる引張り応力および圧縮応力が過大となり、第1延び配線部が破断する)。また、本配線回路基板では、第2延び配線部は、ダミーパターンと同様に第2方向に延びる。このような構成は、ダミーパターンに沿って配線回路基板を折り曲げたときに、第2延び配線部(屈曲部を横切らない)において、当該屈曲に起因する引張り応力および圧縮応力の発生を抑制するのに適する。したがって、本配線回路基板は、配線の破断を抑制しつつ、ダミーパターン形成箇所に沿って屈曲部を有するのに適する。 In the wired circuit board of the present invention, as described above, the second conductor layer includes dummy patterns extending in the second direction. In such a printed circuit board, the center position (first center position) in the thickness direction of the printed circuit board can be adjusted at the place where the dummy pattern is formed by adjusting the thickness of the dummy pattern. Therefore, when the printed circuit board is bent along the dummy pattern, the bent portion is designed to reduce the tensile stress and compressive stress generated in the first extended wiring portion (crossing the bent portion) at the bent portion (bent portion). can adjust the distance from the first center position to the thickness direction center position (second center position) of the first extending wiring portion (the distance between the first center position and the second center position is too long). Then, the tensile stress and compressive stress generated in the first extended wiring portion at the bent portion become excessive, and the first extended wiring portion is broken). Further, in this wired circuit board, the second extended wiring portion extends in the second direction similarly to the dummy pattern. Such a configuration suppresses the occurrence of tensile stress and compressive stress due to the bending in the second extended wiring portion (not crossing the bent portion) when the wired circuit board is bent along the dummy pattern. Suitable for Therefore, this printed circuit board is suitable for suppressing breakage of the wiring and having a bent portion along the dummy pattern formation portion.
本発明[2]は、前記第3絶縁層における前記第2導体層とは反対側に、第3導体層と、第4絶縁層とを前記第3絶縁層側からこの順で更に備え、前記第3導体層が、前記第3絶縁層を介して前記ダミーパターンに対向して前記第2方向に延びる少なくとも一つの第3延び配線部を含む、上記[1]に記載の配線回路基板を含む。 The present invention [2] further comprises a third conductor layer and a fourth insulation layer in this order from the third insulation layer side on the side opposite to the second conductor layer in the third insulation layer, The wired circuit board according to [1] above, wherein the third conductor layer includes at least one third extending wiring portion extending in the second direction facing the dummy pattern via the third insulating layer. .
このような構成は、第2絶縁層の第2および第3導体層側に配置される配線において、破断を抑制しつつ高密度化を図るのに適する。 Such a configuration is suitable for achieving high density while suppressing breakage in wiring arranged on the second and third conductor layer sides of the second insulating layer.
本発明[3]は、前記第1延び配線部が前記第2延び配線部より薄い、上記[1]または[2]に記載の配線回路基板を含む。 The present invention [3] includes the wired circuit board according to [1] or [2] above, wherein the first extended wiring portion is thinner than the second extended wiring portion.
このような構成は、第1延び配線部の破断を抑制する観点から好ましい。 Such a configuration is preferable from the viewpoint of suppressing breakage of the first extended wiring portion.
本発明[4]は、前記ダミーパターンが前記第2延び配線部より薄い、上記[1]から[3]のいずれか一つに記載の配線回路基板を含む。 The present invention [4] includes the printed circuit board according to any one of [1] to [3], wherein the dummy pattern is thinner than the second extended wiring portion.
このような構成は、配線回路基板の屈曲部における厚さ方向中心位置をダミーパターンによって微調整するのに適する。 Such a configuration is suitable for finely adjusting the central position in the thickness direction of the bent portion of the printed circuit board using a dummy pattern.
本発明[5]は、前記第2延び配線部が、前記第2絶縁層側の第1層と当該第1層上の第2層とを含む、上記[1]から[4]のいずれか一つに記載の配線回路基板を含む。 The present invention [5] is any one of [1] to [4] above, wherein the second extended wiring portion includes a first layer on the second insulating layer side and a second layer on the first layer. A wired circuit board according to one.
このような構成は、第2延び配線部の厚肉化の観点から好ましい。 Such a configuration is preferable from the viewpoint of increasing the thickness of the second extended wiring portion.
本発明[6]は、前記複数の第1延び配線部のそれぞれが、当該第1延び配線部の延び方向において、第1厚肉部と、第2厚肉部と、前記第1厚肉部から前記第2厚肉部まで延びる薄肉部とを有し、前記複数の第1延び配線部における複数の薄肉部が、前記第2絶縁層を介してダミーパターンに対向して前記第2方向に並ぶ、上記[1]から[5]のいずれか一つに記載の配線回路基板を含む。 In the present invention [6], each of the plurality of first extending wiring portions includes a first thick portion, a second thick portion, and the first thick portion in the extending direction of the first extending wiring portion. and a thin portion extending from the second thick portion to the second thick portion, and the plurality of thin portions of the plurality of first extending wiring portions extends in the second direction facing the dummy pattern with the second insulating layer interposed therebetween. The printed circuit board according to any one of [1] to [5] is arranged side by side.
このような構成は、第1延び配線部において、低抵抗化と屈曲部での破断抑制との両立を図るうえで好ましい。 Such a configuration is preferable in terms of achieving both a reduction in resistance and suppression of breakage at the bent portion in the first extended wiring portion.
本発明の配線回路基板の第1の実施形態としての配線回路基板X1は、図1から図4に示すように、第1絶縁層10と、第1導体層20と、第2絶縁層30と、第2導体層40と、第3絶縁層50(図1では図示略)とを、厚さ方向Tにこの順で備える。配線回路基板X1は、厚さ方向Tと直交する方向(面方向)に広がり、所定の平面視形状を有する(配線回路基板X1について図1に示す平面視形状は例示的な形状である)。配線回路基板X1は、例えばフレキシブルプリント配線板(FPC)であり、例えばFPCケーブルとして使用可能である。
A wired circuit board X1 as a first embodiment of the wired circuit board of the present invention comprises a first
第1絶縁層10は、ベース絶縁層としての絶縁性基材である。図1に示す平面視において、第1絶縁層10の外形が、配線回路基板X1の外形を形成する。第1絶縁層10の材料としては、例えば、樹脂フィルムが挙げられる。当該樹脂フィルムとしては、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、およびポリカーボネートフィルムが挙げられ、好ましくはポリイミドフィルムが用いられる。
The first
第1絶縁層10の厚さは、第1絶縁層10(絶縁性基材)の強度の観点から、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上、更に好ましくは5μm以上である。第1絶縁層10の厚さは、第1絶縁層10の柔軟性の観点から、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下、更に好ましくは25μm以下である。
From the viewpoint of the strength of the first insulating layer 10 (insulating base material), the thickness of the first
第1導体層20は、第1絶縁層10における厚さ方向Tの一方側に配置されている。本実施形態では、第1導体層20は、第1絶縁層10における厚さ方向Tの一方面上に配置されている。第1導体層20は、複数の配線21と、複数の第1端子部22とを含み、所定のパターン形状を有する。図1では、各配線21が第1方向D1に延びるパターン形状を、例示的に示す。第1導体層20の材料としては、例えば、銅、ニッケル、金、および、これらの合金が挙げられ、好ましくは銅が用いられる(後記の第2導体層40および第3導体層60の材料としても同様である)。
The
複数の配線21は、図1に示すように、複数の配線21A(第1配線)および複数の配線21Bを含む。
The plurality of
配線21Aは、本実施形態では、配線回路基板X1における第1方向D1の一方端部付近から他方端部付近まで第1方向D1に延びる第1延び配線部21Eを有する(即ち、第1導体層20は、第1延び配線部21Eを含む)。図1では、配線21Aが全体にわたって第1延び配線部21Eを有する場合(即ち、配線21Aが第1方向D1に延びる場合)を例示的に示す。第1方向D1は、厚さ方向Tと直交する一方向である。複数の配線21Aにおける複数の第1延び配線部21Eは、図1に示す平面視において、第1方向D1に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている。配線21Bは、本実施形態では、第1方向D1において配線回路基板X1の端部付近から中央部に向かって延びる。
In this embodiment, the
配線21(配線21A,配線21B)の幅(平面視において配線21の延び方向と直交する方向の寸法)は、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは1000μm以下、より好ましくは750μm以下である。隣り合う配線21間の離隔距離は、好ましくは5μmμm以上、より好ましくは10μmμm以上であり、また、好ましくは5000μm以下、より好ましくは3000μm以下である。配線21の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。配線21は、好ましくは、第2導体層40における後記の配線41より薄い。また、配線21Aの第1延び配線部21Eは、好ましくは、第2導体層40における後記の第2延び配線部41Eより薄い。
Width of wiring 21 (
第1端子部22は、配線21の端部に配置されている。複数の第1端子部22は、図1に示す平面視において、第1方向D1に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている。図1では、第1絶縁層10上における第1方向D1の一方端側に複数の第1端子部22が一列に並び、且つ、第1絶縁層10上における第1方向D1の他方端側に複数の第1端子部22が一列に並ぶ配置を、例示的に示す。
The first
第1端子部22の平面視形状は、第2方向D2において配線21よりも幅広である。第1端子部22の平面視形状としては、例えば、円形、四角形、および角丸四角形が挙げられる(後記の第2端子部42および第3端子部62の平面視形状としても同様である)。四角形としては正方形および長方形が挙げられる。角丸四角形としては、角丸正方形および角丸長方形が挙げられる(第1端子部22の平面視形状が長方形である場合を例示的に図示する)。
The planar view shape of the first
第1端子部22の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。第1端子部22の厚さは、配線21の厚さと、同じであってもよいし、異なってもよい。
The thickness of the first
第2絶縁層30は、中間絶縁層である。第2絶縁層30は、第1絶縁層10の厚さ方向Tの一方側において第1導体層20の一部を覆うように配置されている。本実施形態では、第2絶縁層30は、複数の配線21を覆うように第1絶縁層10の厚さ方向Tの一方面上に配置されている。また、第2絶縁層30は、図4に示すように、後記のビアVが配置されるビア孔Hを有する。
The second insulating
第2絶縁層30の材料としては、例えば、ポリイミド、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリ塩化ビニルなどの樹脂材料が挙げられ、好ましくはポリイミドが用いられる(後記の第3絶縁層50および第4絶縁層70の材料としても同様である)。第2絶縁層30の厚さ(第1導体層20と第2導体層40との間の厚さ)は、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下である。
Examples of the material of the second insulating
第2導体層40は、第2絶縁層30における厚さ方向Tの一方側に配置されている。本実施形態では、第2導体層40は、第2絶縁層30における厚さ方向Tの一方面上に配置されている。第2導体層40は、複数の配線41(第2配線)と、複数の第2端子部42と、ダミーパターン43とを含み、所定のパターン形状を有する。図1では、各配線41が第2方向D2に延びるパターン形状を、例示的に示す。
The
配線41は、図1に示すように、配線回路基板X1における第2方向D2の一方端部付近から他方端部に向かって第2方向D2に延びる第2延び配線部41Eを有する(即ち、第2導体層40は、第2延び配線部41Eを含む)。図1では、配線41が全体にわたって第2延び配線部41Eを有する場合(即ち、配線41が第2方向D2に延びる場合)を例示的に示す。第2方向D2は、厚さ方向Tと直交する一方向であり、第1方向D1と交差する。すなわち、第2延び配線部41Eの延び方向(第2方向D2)と、上述の第1延び配線部21Eの延び方向(第1方向D1)とは、交差する。第1方向D1と第2方向D2とは直交してもよい。複数の配線41における複数の第2延び配線部41Eは、図1に示す平面視において、第2方向D2に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている。また、配線41は、ビアVを介して配線21Bと接続されている。具体的には、配線41において後述の第2端子部42と接続する端部とは反対側の端部は、図4に示すように、導体層20,40間の第2絶縁層30を厚さ方向Tに貫通するビアV(導電ビア)を介して、配線21Bにおいて第1端子部22と接続する端部とは反対側の端部と接続されている。
As shown in FIG. 1, the
配線41の幅(平面視において配線41の延び方向と直交する方向の寸法)は、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは1000μm以下、より好ましくは750μm以下である。ダミーパターン43を介さずに隣り合う配線41の間の離隔距離は、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは5000μm以下、より好ましくは3000μm以下である。ダミーパターン43を介して隣り合う配線41の間の離隔距離は、ダミーパターン43の幅に応じて、例えば10~10000μmである。配線41の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。
The width of the wiring 41 (dimension in the direction orthogonal to the extending direction of the
第2端子部42は、配線41の端部に配置されている。第2端子部42の平面視形状は、第1方向D1において配線41よりも幅広である。複数の第2端子部42は、図1に示す平面視において、第2方向D2に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている。図1では、第2絶縁層30上における第2方向D2の一方端側に複数の第2端子部42が一列に並ぶ配置を、例示的に示す。
The
第2端子部42の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。第2端子部42の厚さは、配線41の厚さと、同じであってもよいし、異なってもよい。
The thickness of the
ダミーパターン43は、配線回路基板X1において折り曲げられることが予定される箇所に沿って、隣り合う二つの配線41の間に配置され、第2方向D2に延びる。
The
ダミーパターン43の幅(平面視においてダミーパターン43の延び方向と直交する方向の寸法)は、好ましくは配線41の幅より大きく、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、また、好ましくは10000μm以下、より好ましくは8000μm以下である。配線41の幅に対するダミーパターン43の幅の比率は、好ましくは2以上、より好ましくは3以上であり、また、好ましくは20以下、より好ましくは15以下である。
The width of the dummy pattern 43 (dimension in the direction orthogonal to the extending direction of the
ダミーパターン43の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。ダミーパターン43の厚さは、配線41の厚さと、同じであってもよいし、異なってもよい(図2および図3では、同じである場合を例示的に図示する)。配線41の厚さに対するダミーパターン43の厚さの比率は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上であり、また、好ましくは10以下、より好ましくは5以下である。ダミーパターン43の厚さ調整により、ダミーパターン43の形成箇所において、配線回路基板X1の厚さ方向Tの中心位置Cを調整できる(図2では、中心位置Cを例示的に示す)。ダミーパターン43と配線41との間の離隔距離は、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、また、好ましくは2000μm以下、より好ましくは1000μm以下である。
The thickness of the
第3絶縁層50は、カバー絶縁層である。第3絶縁層50は、第2絶縁層30の厚さ方向Tの一方側において第2導体層40の一部を覆うように配置されている。本実施形態では、第3絶縁層50は、複数の配線41およびダミーパターン43を覆うように、第2絶縁層30の厚さ方向Tの一方面上に配置されている。第3絶縁層50の厚さ(第2導体層40上の厚さ)は、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下である。
The third insulating
図5は、配線回路基板X1の製造方法の一例を表す。図5は、本製造方法を、図2に相当する断面の変化として表す。 FIG. 5 shows an example of a method for manufacturing the printed circuit board X1. FIG. 5 represents this manufacturing method as a cross-sectional variation corresponding to FIG.
本製造方法では、まず、図5Aに示すように、第1絶縁層10(絶縁性基材)の厚さ方向Tの一方面上に第1導体層20を形成する(第1導体層形成工程)。本工程では、まず、第1絶縁層10上に、例えばスパッタリング法により、シード層(図示略)を形成する。シード層の材料としては、例えば、Cr、Cu、Ni、Ti、およびこれらの合金が挙げられる。シード層は、単層構造を有してもよく、2層以上の多層構造を有してもよい。シード層が多層構造を有する場合、当該シード層は、例えば、下層としてのクロム層と、当該クロム層上の銅層とからなる(シード層の材料および構成については、後記のシード層においても同様である)。次に、シード層上にレジストパターンを形成する。レジストパターンは、第1導体層20のパターン形状に相当する形状の開口部を有する。レジストパターンの形成においては、例えば、感光性のレジストフィルムをシード層上に貼り合わせてレジスト膜を形成した後、当該レジスト膜に対し、所定マスクを介しての露光処理と、その後の現像処理と、その後に必要に応じてベイク処理とを施す(後記のレジストパターンの形成においても同様である)。第1導体層20の形成においては、次に、例えば電解メッキ法により、レジストパターンの開口部内のシード層上に上記した金属を成長させる。次に、レジストパターンをエッチングにより除去する。次に、シード層においてレジストパターン除去によって露出した部分を、エッチングにより除去する。例えば以上のようにして、所定パターンの第1導体層20(配線21,第1端子部22)を形成できる。
In this manufacturing method, first, as shown in FIG. 5A, the
次に、図5Bに示すように、第1絶縁層10上において、第1導体層20の一部(配線21)を覆うように第2絶縁層30を形成する(第2絶縁層形成工程)。本工程では、まず、第1絶縁層10上において、第1導体層20の一部を覆うように、感光性樹脂の溶液(ワニス)を塗布して塗膜を形成する。次に、この塗膜を加熱によって乾燥させる。次に、塗膜に対して、所定のマスクを介しての露光処理と、その後の現像処理と、その後に必要に応じてベイク処理とを施す。例えば以上のようにして、所定パターンの第2絶縁層30を形成できる。
Next, as shown in FIG. 5B, a second insulating
次に、図5Cに示すように、第2絶縁層30上に第2導体層40を形成する(第2導体層形成工程)。本工程では、まず、第2絶縁層30上およびそのビア孔H内に、例えばスパッタリング法により、シード層(図示略)を形成する。次に、シード層上にレジストパターンを形成する。レジストパターンは、第2導体層40のパターン形状に相当する形状の開口部を有する。次に、例えば電解メッキ法により、レジストパターンの開口部内のシード層上に上記した金属を成長させる。次に、レジストパターンをエッチングにより除去する。次に、シード層においてレジストパターン除去によって露出した部分を、エッチングにより除去する。例えば以上のようにして、所定パターンの第2導体層40(配線41,第2端子部42,ダミーパターン43)を形成できる(本工程では、第2絶縁層30のビア孔HにビアVも形成できる)。
Next, as shown in FIG. 5C, the
次に、図5Dに示すように、第2絶縁層30上において、第2導体層40の一部(配線41,ダミーパターン43)を覆うように第3絶縁層50を形成する(第3絶縁層形成工程)。本工程では、まず、第2絶縁層30上において、第2導体層40の一部を覆うように、感光性樹脂の溶液(ワニス)を塗布して塗膜を形成する。次に、この塗膜を加熱によって乾燥させる。次に、塗膜に対して、所定のマスクを介しての露光処理と、その後の現像処理と、その後に必要に応じてベイク処理とを施す。例えば以上のようにして、第3絶縁層50を形成できる。
Next, as shown in FIG. 5D, a third insulating
以上のようにして、配線回路基板X1を製造できる。 As described above, the printed circuit board X1 can be manufactured.
図6および図7は、フレキシブルな配線回路基板X1が、ダミーパターン43の形成箇所に沿って折り曲げられた場合(即ち、ダミーパターン43の形成箇所に沿って屈曲部を有する場合)を表す。配線回路基板X1の屈曲部では、第1延び配線部21E(配線21A)における屈曲外側(図6では第1延び配線部21Eの上面側,図7では第1延び配線部21Eの下面側)には引張り応力が生じ、第1延び配線部21Eにおける屈曲内側(図6では第1延び配線部21Eの下面側,図7では第1延び配線部21Eの上面側)には圧縮応力が生じる。
6 and 7 show the case where the flexible wired circuit board X1 is bent along the formation location of the dummy pattern 43 (that is, the case where it has a bent portion along the formation location of the dummy pattern 43). At the bent portion of the wired circuit board X1, the first
配線回路基板X1は、配線21Aおよび配線41の破断を抑制しつつ、ダミーパターン43の形成箇所(第2方向D2に延びる)に沿って屈曲部を有するのに適する。その理由は、次のとおりである。
The printed circuit board X1 is suitable for suppressing breakage of the
配線回路基板X1においては、上述のように、第2導体層40が、第2方向D2に延びるダミーパターン43を含む。このような配線回路基板X1では、ダミーパターン43の厚さの調整により、ダミーパターン43の形成箇所において、配線回路基板X1の厚さ方向Tの中心位置Cを調整できる。仮に、中心位置Cと、配線21Aの第1延び配線部21Eの厚さ方向中心位置との間の距離が長すぎると、ダミーパターン43に沿って配線回路基板X1を折り曲げたときに当該折り曲げ部(屈曲部)にて第1延び配線部21E(屈曲部を横切る)に生ずる引張り応力および圧縮応力が過大となり、第1延び配線部21Eが破断する。これに対し、配線回路基板X1では、配線回路基板X1の屈曲部にて第1延び配線部21Eに生ずる引張り応力および圧縮応力を低減するように、当該屈曲部における、前記中心位置Cから第1延び配線部21Eの厚さ方向中心位置までの距離を、調整できる。
In the printed circuit board X1, as described above, the
また、配線回路基板X1では、配線41は、ダミーパターン43と同様に第2方向に延びる。このような構成は、ダミーパターン43に沿って配線回路基板X1を折り曲げたときに、配線41(屈曲部を横切らない)において、当該屈曲に起因する引張り応力および圧縮応力の発生を抑制するのに適する。
Further, in the printed circuit board X1, the
したがって、配線回路基板X1は、配線(配線21A,配線41)の破断を抑制しつつ、ダミーパターン43の形成箇所に沿って屈曲部を有するのに適する。
Therefore, the printed circuit board X1 is suitable for suppressing breakage of the wiring (
第1延び配線部21Eは、上述のように、好ましくは第2延び配線部41Eより薄い。このような構成は、ダミーパターン43に沿って配線回路基板X1を折り曲げたときに、第1延び配線部21Eの厚さ方向Tの一方側および他方側に生ずる引張り応力および圧縮応力の差を低減するのに適し、従って、第1延び配線部21E(配線21A)の破断を抑制するのに適する。
The first
配線回路基板X1においては、図8に示すように、複数のダミーパターン43が設けられてもよい(三つのダミーパターン43が設けられる場合を例示的に示す)。本変形例では、第2導体層40において、配線41とダミーパターン43とが交互に配置されている。このような構成は、ダミーパターン43が形成される領域の総面積を確保しつつ、配線41を高密度に配置するのに適する。このような複数のダミーパターン43が設けられてもよいことは、後記の変形例においても同様である。
In the printed circuit board X1, as shown in FIG. 8, a plurality of
配線回路基板X1においては、複数の配線21Aにおける複数の第1延び配線部21Eのそれぞれが、図9に示すように、当該第1延び配線部21Eの延び方向(第1方向D1)において、第1厚肉部21aと、第2厚肉部21bと、第1厚肉部21aから第2厚肉部21bまで延びる薄肉部21cとを有してもよい。複数の第1延び配線部21Eにおける複数の薄肉部21cは、第2絶縁層30を介してダミーパターン43に対向して第2方向D2に並ぶ(ダミーパターン43は、平面視において、薄肉部21cと重なる)。また、第1厚肉部21aおよび第2厚肉部21bは、第1層20aと第2層20bとの2層構造を有する。図外の第1端子部22も、第1層20aと第2層20bとの2層構造を有する。薄肉部21cは、第1層20aの単層構造を有する。
In the wired circuit board X1, each of the plurality of first extending
第1厚肉部21aの厚さおよび第2厚肉部21bの厚さは、それぞれ、好ましくは2μm以上、より好ましくは3μm以上、更に好ましくは5μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。第1厚肉部21aの厚さと第2厚肉部21bの厚さとは、同じであるのが好ましい。薄肉部21cの厚さは、第1厚肉部21aの厚さおよび第2厚肉部21bの厚さより小さい限りにおいて、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは15μm以下、より好ましくは12μm以下、更に好ましくは10μm以下である。第1厚肉部21aの厚さ及び/又は第2厚肉部21bの厚さに対する、薄肉部21cの厚さの比率は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上、更に好ましくは0.3以上であり、また、好ましくは0.9以下、より好ましくは0.8以下、更に好ましくは0.7以下である。
The thickness of the first
本変形例において、ダミーパターン43の幅は、薄肉部21cの第1方向D1の長さよりも小さい。薄肉部21cの第1方向D1の長さに対するダミーパターン43の幅の比率は、好ましくは0.1以上、より好ましくは0.2以上であり、また、好ましくは0.99以下、より好ましくは0.9以下である。
In this modification, the width of the
第1導体層形成工程(図5A)において、例えば、第1の電解メッキ法によって第1層20aを形成した後に、第2の電解メッキ法によって第1層20a上に第2層20bを形成することによって、第1厚肉部21a、第2厚肉部21b、および薄肉部21cを設けることができる。第1の電解メッキ法では、第1層20aのパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。第2の電解メッキ法では、第2層20bのパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。
In the first conductor layer forming step (FIG. 5A), for example, after forming the
各第1延び配線部21Eが、第2絶縁層30を介してダミーパターン43に対向する薄肉部21cを有する構成は、各配線21Aの第1延び配線部21Eにおいて、低抵抗化と屈曲部での破断抑制との両立を図るうえで好ましい。
The configuration in which each first
配線回路基板X1においては、図10および図11に示すように、ダミーパターン43が第2延び配線部41E(配線41)より薄くてもよい。このような構成は、上記中心位置Cをダミーパターンによって微調整するのに適する。また、ダミーパターン43が第2延び配線部41Eより薄い場合において、第2延び配線部41Eは、図10に示すように単層構造を有してもよいし、図11に示すように2層構造を有してもよい。図11に示す第2延び配線部41Eは、第2絶縁層30側の第1層40aと、当該第1層40a上の第2層42とを含む(図外の第2端子部42も、第1層40aと第2層40bとを有する)。このような構成は、第2延び配線部41Eを厚さ精度よく厚肉化する観点から好ましい。第2導体層形成工程(図5C)において、例えば、第3の電解メッキ法によって配線41および第2端子部42を形成した後に、第4の電解メッキ法によってダミーパターン43を形成することによって、図10に示す配線41およびダミーパターン43を設けることができる。第3の電解メッキ法では、配線41および第2端子部42のパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。第4の電解メッキ法では、ダミーパターン43のパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。また、第2導体層形成工程において、例えば、第5の電解メッキ法によって第1層40aおよびダミーパターン43を形成した後に、第6の電解メッキ法によって第1層40a上に第2層40bを形成することによって、図11に示す配線41およびダミーパターン43を設けることができる。第5の電解メッキ法では、第1層40aおよびダミーパターン43のパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。第6の電解メッキ法では、第2層40bのパターン形状に相当する形状の開口部を有するレジストパターンを用いる。
In the printed circuit board X1, as shown in FIGS. 10 and 11, the
配線回路基板X1においては、図12および図13に示すように、複数の第1延び配線部21Eのそれぞれが第1厚肉部21aと第2厚肉部21bと薄肉部21cとを有し、且つ、ダミーパターン43が配線41より薄くてもよい。第1厚肉部21a、第2厚肉部21b、および薄肉部21cについては、図9を参照して上述したとおりである。図12に示す配線41およびダミーパターン43は、図10に示す配線41およびダミーパターン43と同じである。図13に示す配線41およびダミーパターン43は、図11に示す配線41およびダミーパターン43と同じである。図12および図13に示す変形例は、配線21Aの第1延び配線部21Eにおいて、低抵抗化と屈曲部での破断抑制との両立を図りつつ、上記中心位置Cをダミーパターンによって微調整するのに適する。
In the wired circuit board X1, as shown in FIGS. 12 and 13, each of the plurality of first
図14および図15は、本発明の配線回路基板の第2の実施形態としての配線回路基板X2を表す。配線回路基板X2は、第1絶縁層10と、第1導体層20と、第2絶縁層30と、第2導体層40と、第3絶縁層50と、第3導体層60と、第4絶縁層70(図14では図示略)を、厚さ方向Tにこの順で備える。配線回路基板X2は、第3絶縁層50における第2導体層40とは反対側に、第3導体層60と第4絶縁層70とを第3絶縁層50側からこの順で更に備える点で、配線回路基板X1と異なる(例示的に示す平面視形状も配線回路基板X1と異なる)。このこと以外について、配線回路基板X2は、配線回路基板X1と同じ構成を有する。
14 and 15 show a wired circuit board X2 as a second embodiment of the wired circuit board of the present invention. The printed circuit board X2 includes a first insulating
第3導体層60は、第3絶縁層50における厚さ方向Tの一方側に配置されている。本実施形態では、第3導体層60は、第3絶縁層50における厚さ方向Tの一方面上に配置されている。第3導体層60は、複数の配線61(第3配線)と、複数の第3端子部62とを含み、所定のパターン形状を有する(第3導体層60が2本の配線61を含む場合を例示的に示す)。図14では、配線61の両端部に第3端子部62が配置されているパターン形状を、例示的に示す。
The
配線61は、図14に示すように、第2方向D2に延びる第3延び配線部61Eを有する(即ち、第3導体層60は、第3延び配線部61Eを含む)。第3延び配線部61Eは、図15に示すように、第3絶縁層50を介してダミーパターン43に対向する部分を有する。複数の第3延び配線部61Eは、図14に示す平面視において、第2方向D2に直交する方向に互いに間隔を空けて配置されている。
As shown in FIG. 14, the
配線61の幅(平面視において配線61の延び方向と直交する方向の寸法)は、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは1000μm以下、より好ましくは750μm以下である。隣り合う配線61の間の離隔距離は、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、好ましくは5000μm以下、より好ましくは3000μm以下である。配線61の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。
The width of the wiring 61 (the dimension in the direction orthogonal to the extending direction of the
第3端子部62は、配線61の端部に配置されている。第3端子部62の厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは17μm以下、更に好ましくは15μm以下である。第3端子部62の厚さは、配線61の厚さと、同じであってもよいし、異なってもよい。
The third
第4絶縁層70は、カバー絶縁層である。第4絶縁層70は、第3絶縁層50の厚さ方向Tの一方側において第3導体層60を覆うように配置されている。本実施形態では、第4絶縁層70は、配線61を覆うように、第3絶縁層50の厚さ方向Tの一方面上に配置されている。第4絶縁層70の厚さ(第3導体層60上の厚さ)は、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上であり、また、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下である。
The fourth insulating
配線回路基板X2は、図5を参照して上述した一連の工程の後に、例えば以下のような第3導体層形成工程および第4絶縁層形成工程を経ることによって、製造できる。 The printed circuit board X2 can be manufactured by performing, for example, the following third conductor layer forming process and fourth insulating layer forming process after the series of processes described above with reference to FIG.
第3導体層形成工程では、図16Aに示すように、第3絶縁層50上に第3導体層60を形成する。本工程では、まず、第3絶縁層50上に、例えばスパッタリング法により、シード層(図示略)を形成する。次に、シード層上にレジストパターンを形成する。レジストパターンは、第3導体層60のパターン形状に相当する形状の開口部を有する。次に、例えば電解メッキ法により、レジストパターンの開口部内のシード層上に上記した金属を成長させる。次に、レジストパターンをエッチングにより除去する。次に、シード層においてレジストパターン除去によって露出した部分を、エッチングにより除去する。例えば以上のようにして、所定パターンの第3導体層60(配線61,第3端子部62)を形成できる。
In the third conductor layer forming step, the
次に、第3絶縁層形成工程では、図16Bに示すように、第3絶縁層50上において、第3導体層60の一部(配線61)を覆うように第4絶縁層70を形成する。本工程では、まず、第3絶縁層50上において、第3導体層60の一部を覆うように、感光性樹脂の溶液(ワニス)を塗布して塗膜を形成する。次に、この塗膜を加熱によって乾燥させる。次に、塗膜に対して、所定のマスクを介しての露光処理と、その後の現像処理と、その後に必要に応じてベイク処理とを施す。例えば以上のようにして、第4絶縁層70を形成できる。
Next, in the third insulating layer forming step, as shown in FIG. 16B, a fourth insulating
配線回路基板X2は、配線回路基板X1と同様に、ダミーパターン43の厚さの調整により、ダミーパターン43の形成箇所において、配線回路基板X2の厚さ方向Tの中心位置を調整できる。そのため、ダミーパターン43に沿って配線回路基板X2を折り曲げたときに当該折り曲げ部(屈曲部)にて配線21(屈曲部を横切る)に生ずる引張り応力および圧縮応力を低減するように、当該屈曲部における、前記中心位置から配線21Aの第1延び配線部21Eの厚さ方向中心位置までの距離を、調整できる。また、配線回路基板X2では、第2延び配線部41E(配線41)および第3延び配線部61E(配線61)は、ダミーパターン43と同様に第2方向に延びる。このような構成は、ダミーパターン43に沿って配線回路基板X2を折り曲げたときに、第2延び配線部41Eおよび第3延び配線部61E(共に屈曲部を横切らない)において、当該屈曲に起因する引張り応力および圧縮応力の発生を抑制するのに適する。したがって、配線回路基板X2は、第1延び配線部21E(配線21A)、第2延び配線部41E(配線41)、第3延び配線部61E(配線61)の破断を抑制しつつ、ダミーパターン43の形成箇所に沿って屈曲部を有するのに適する。加えて、配線回路基板X2は、第2絶縁層30の第2導体層40側に配置される配線(配線41,配線61)において、破断を抑制しつつ高密度化を図るのに適する。
As with the wired circuit board X1, the thickness of the
配線回路基板X1に関して上述した図9から図13に示す各変形例は、配線回路基板X2においても適用できる。 9 to 13 described above with respect to the wired circuit board X1 can also be applied to the wired circuit board X2.
X1,X2 配線回路基板
T 厚さ方向
D1 第1方向
D2 第2方向
10 第1絶縁層
20 第1導体層
21 配線
21A 配線(第1配線)
21E 第1延び配線部
21a 第1厚肉部
21b 第2厚肉部
21c 薄肉部
30 第2絶縁層
40 第2導体層
40a 第1層
40b 第2層
41 配線(第2配線)
41E 第2延び配線部
43 ダミーパターン
50 第3絶縁層
60 第3導体層
61 配線(第3配線)
61E 第3延び配線部
70 第4絶縁層
X1, X2 Wiring circuit board T Thickness direction D1 First direction
21E First extended
41E Second extended
61E Third extended
Claims (6)
前記第1導体層が、前記厚さ方向と直交する第1方向に延びる複数の第1延び配線部を含み、
前記第2導体層が、前記厚さ方向と直交し且つ前記第1方向と交差する第2方向に延びる複数の第2延び配線部と、少なくとも一つのダミーパターンとを含み、
前記ダミーパターンが、隣り合う二つの第2延び配線部の間に配置され且つ前記第2方向に延びる、配線回路基板。 A first insulating layer, a first conductor layer, a second insulating layer, a second conductor layer, and a third insulating layer are provided in this order in the thickness direction,
the first conductor layer includes a plurality of first extending wiring portions extending in a first direction orthogonal to the thickness direction;
the second conductor layer includes a plurality of second extending wiring portions extending in a second direction orthogonal to the thickness direction and crossing the first direction, and at least one dummy pattern;
The wired circuit board, wherein the dummy pattern is arranged between two adjacent second extended wiring portions and extends in the second direction.
前記第3導体層が、前記第3絶縁層を介して前記ダミーパターンに対向して前記第2方向に延びる少なくとも一つの第3延び配線部を含む、請求項1に記載の配線回路基板。 A third conductor layer and a fourth insulation layer are further provided in this order from the third insulation layer side on the side opposite to the second conductor layer in the third insulation layer,
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein said third conductor layer includes at least one third extending wiring part extending in said second direction facing said dummy pattern via said third insulating layer.
前記複数の第1延び配線部における複数の薄肉部が、前記第2絶縁層を介してダミーパターンに対向して前記第2方向に並ぶ、請求項1から5のいずれか一つに記載の配線回路基板。 Each of the plurality of first extending wiring portions includes a first thick portion, a second thick portion, and from the first thick portion to the second thick portion in the extending direction of the first extending wiring portion. and a thin portion extending to
6. The wiring according to any one of claims 1 to 5, wherein a plurality of thin portions in said plurality of first extended wiring portions are arranged in said second direction facing said dummy pattern via said second insulating layer. circuit board.
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