JP2022113851A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a semiconductor device including a voltage conversion circuit capable of supplying stable voltage while suppressing a power consumption increase; and a method for controlling such a semiconductor device.
SOLUTION: The semiconductor device comprises: a voltage conversion part which includes a first input part for receiving input of a supply voltage, a second input part for receiving input of a reference voltage, and a third input part for receiving input of a comparison voltage, converts the supply voltage based on comparison between the reference voltage and the comparison voltage, and outputs the converted supply voltage as an output voltage from an output part; a voltage-dividing part, one terminal of which is connected to the output part, and which outputs, as the comparison voltage, from the other terminal to the third input part, a voltage obtained by dividing the output voltage; and a capacitor, one terminal of which is connected to the output part, and the other terminal of which is connected to the third input part. Upon switching of an operation mode from a low-speed mode to a high-speed mode, a decrease in the comparison voltage following a decrease in the output voltage is fed back to the voltage conversion part via the capacitor, and the output voltage increases before charging of the voltage-dividing part is completed.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2022,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置、特に内蔵された電圧変換回路(昇圧回路、降圧回路)により駆動されるメモリ回路を備えた半導体装置に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device provided with a memory circuit driven by a built-in voltage conversion circuit (both booster circuit and step-down circuit).

メモリ回路を備えた半導体装置において昇圧回路を構成する場合、チャージポンプを用いる場合も多い。例えば、チャージポンプを用いた電源回路を有するメモリ回路の従来技術として、例えば特許文献1に開示された可変ステージチャージポンプが知られている。特許文献1に開示された可変ステージチャージポンプは、第1チャージポンプと、第2チャージポンプと、第1チャージポンプの出力を第2チャージポンプの入力に結合する第1スイッチと、第1チャージポンプの入力を第2チャージポンプの入力に結合する第2スイッチと、を備える可変ステージチャージポンプであって、第1スイッチが第1位置にあり、第2スイッチが第2位置にあるとき、第1チャージポンプおよび第2チャージポンプが共通出力ノードへ直列結合され、第1スイッチが第2位置にあり、第2スイッチが第1位置にあるとき、第1チャージポンプおよび第2チャージポンプが共通出力ノードへ並列結合される。 A charge pump is often used when configuring a booster circuit in a semiconductor device having a memory circuit. For example, a variable stage charge pump disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-200303 is known as a conventional technology of a memory circuit having a power supply circuit using a charge pump. A variable stage charge pump disclosed in US Pat. a second switch coupling the input of to the input of the second charge pump, wherein when the first switch is in the first position and the second switch is in the second position, the first A charge pump and a second charge pump are coupled in series to a common output node and the first charge pump and the second charge pump are coupled to the common output node when the first switch is in the second position and the second switch is in the first position. is coupled in parallel to

ここで、特許文献1にも記載されているように、従来、半導体装置においては、消費電力の低減を目的として外部電源電圧を用いる傾向がある。また、半導体装置のプロセスの微細化に伴う酸化膜の耐圧の改善や、電源電圧の平坦化(安定化)の課題に対応するために、半導体チップの内部において、外部電源電圧を必要とする電源電圧に降圧して用いる内部降圧が一般的に行われている。 Here, as described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-200002, conventional semiconductor devices tend to use an external power supply voltage for the purpose of reducing power consumption. In addition, in order to improve the withstand voltage of the oxide film and to deal with the issues of flattening (stabilizing) the power supply voltage due to the miniaturization of the semiconductor device process, a power supply that requires an external power supply voltage is installed inside the semiconductor chip. Internal voltage step-down is commonly used.

一方、例えばフラッシュメモリの書込み、消去、読出し動作のように、電源で供給される電圧を上回る電圧を必要とされる場合も多く、そのような場合には昇圧回路としてチャージポンプ回路が使用される。一般的なチャージポンプ回路は、電荷をポンピングする容量と、ポンピングした電荷を移送し、逆流を防止して昇圧させていくトランスファMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ(電界効果トランジスタ)とから構成される。 On the other hand, there are many cases where a voltage higher than the voltage supplied by the power supply is required, such as write, erase, and read operations of flash memory, and in such cases, a charge pump circuit is used as a booster circuit. . A general charge pump circuit is composed of a capacitor for pumping charge and a transfer MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistor (field effect transistor) for transferring the pumped charge to prevent backflow and increase the voltage.

また、チャージポンプの出力電圧を目標の昇圧電圧に制御するために、センサ回路を設け、ポンプ動作を継続して該センサ回路が目標以上の電圧になったことを検知した場合にポンプ動作を停止し、停止後駆動電流やリーク電流により昇圧電圧が低下したことを該センサ回路が検知した場合にはポンプ動作を再開する。ポンプ動作、およびその停止と起動により昇圧電圧にリンギングが発生する場合もあるため、例えばフラッシュメモリの読出し時のワード線電圧のように昇圧電圧を変動させたくない場合には、昇圧電圧を降圧して安定的に電圧を供給する降圧電源回路を追加する場合がある。 Further, in order to control the output voltage of the charge pump to the target boost voltage, a sensor circuit is provided, and the pump operation is stopped when the sensor circuit detects that the voltage exceeds the target while the pump operation is continued. Then, when the sensor circuit detects that the boosted voltage has decreased due to the drive current or leakage current after stopping, the pump operation is restarted. Ringing may occur in the boosted voltage due to the pump operation and its stop and start. In some cases, a step-down power supply circuit that stably supplies voltage is added.

特表平11-512864号公報Japanese Patent Publication No. 11-512864

ここで、上記のようにセンサ回路を設けた場合、昇圧電圧の出力とグラウンド(GND)との間に接続されたP型MOSトランジスタ(以下、「PMOSトランジスタ」によるダイオード接続列や抵抗素子列による分圧回路によって比較電圧を発生させるのが一般的である。この場合、分圧回路を流れる電流によって昇圧電圧源の電力が消費される。このため、特に低速動作時のフラッシュメモリ搭載マイクロコントローラのように、低消費電流が求められる用途には動作電流規格を満たすために分圧回路に流れる電流を絞ることが一般的である。しかしながら、分圧回路に流れる電流を絞ると、上記マイクロコントローラを低速動作から高速動作に切り替えた場合、比較電圧がすぐに追随せず、その間に昇圧電圧が降下し続けて読出しが困難になるという問題があった。また、低速動作時の場合も、昇圧電圧源から分圧回路に電流が流れているために、たとえ分圧回路を流れる電流を絞ったとしても動作電流の損失が大きいという問題があった。このような問題は、昇圧回路に接続された、昇圧回路からの昇圧電圧を降圧させて電源を供給する降圧回路についても同様に発生する。なお、以下では、昇圧回路および降圧回路を総称して「電圧変換回路」という場合がある。 Here, when the sensor circuit is provided as described above, a P-type MOS transistor (hereinafter referred to as a "PMOS transistor") connected between the output of the boosted voltage and the ground (GND) is connected by a diode connection string or a resistance element string. It is common to generate a comparison voltage by a voltage dividing circuit.In this case, the power of the boosted voltage source is consumed by the current flowing through the voltage dividing circuit.For this reason, the microcontroller with flash memory especially at low speed operation For applications that require low current consumption, it is common to restrict the current flowing through the voltage divider circuit in order to meet the operating current standard. When switching from low-speed operation to high-speed operation, the comparison voltage does not immediately follow, and during that time the boosted voltage continues to drop, making reading difficult. Since current flows from the source to the voltage divider circuit, there is a problem that even if the current flowing through the voltage divider circuit is reduced, the loss of operating current is large. This also occurs in a step-down circuit that steps down the boosted voltage from the step-up circuit to supply power.The step-up circuit and the step-down circuit may be collectively referred to as a "voltage conversion circuit" below.

この点、特許文献1に開示された可変ステージチャージポンプは、所与のチャージポンプ電源入力レベルで、異なる出力レベルに対応できるようにすることが目的であり、消費電流の抑制を問題とするものではない。 In this regard, the variable stage charge pump disclosed in Patent Document 1 aims to be able to handle different output levels with a given charge pump power supply input level, and has a problem of suppressing current consumption. is not.

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、消費電流の増加を抑制しつつ、安定した電圧を供給することが可能な電圧変換回路を備えた半導体装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor device having a voltage conversion circuit capable of supplying a stable voltage while suppressing an increase in current consumption. aim.

本発明に係る半導体装置は、第1電圧が入力される第1入力と、第2電圧が入力される第2入力とを有し、前記第1電圧と前記第2電圧との比較に基づいて電圧を出力する降圧回路と、前記降圧回路から出力される前記電圧により制御され、出力電圧を出力する出力部と、一端が前記出力部に接続され、前記出力電圧を分圧した電圧を前記第2電圧として他端から前記第2入力に出力する分圧部と、一端が前記出力部に接続され、他端が前記第2入力に接続された容量と、を備え、第1の速度で動作する第1モードまたは前記第1の速度より速い第2の速度で動作する第2モードに基づいて動作するものである。 A semiconductor device according to the present invention has a first input to which a first voltage is input and a second input to which a second voltage is input, and based on a comparison between the first voltage and the second voltage, a step-down circuit that outputs a voltage; an output unit that is controlled by the voltage output from the step-down circuit and outputs an output voltage; one end of which is connected to the output unit; a voltage dividing unit for outputting two voltages from the other end to the second input; and a capacitor having one end connected to the output unit and the other end connected to the second input, and operating at a first speed. or a second mode operating at a second speed higher than the first speed.

本発明に係る他の態様の半導体装置は、第1電圧が入力される第1入力と、第2電圧が入力される第2入力とを有し、前記第1電圧と前記第2電圧との比較に基づいて電圧を出力する降圧回路と、前記降圧回路から出力される前記電圧により制御され、出力電圧を出力する出力部と、一端が前記出力部に接続され、前記出力電圧を分圧した電圧を前記第2電圧として他端から前記第2入力に出力する分圧部と、前記出力部に接続された放電回路と、を備え、第1の速度で動作する第1モードまたは前記第1の速度より速い第2の速度で動作する第2モードに基づいて動作するものである。 A semiconductor device according to another aspect of the present invention has a first input to which a first voltage is input and a second input to which a second voltage is input, wherein the first voltage and the second voltage are a step-down circuit that outputs a voltage based on the comparison; an output section that is controlled by the voltage output from the step-down circuit and outputs an output voltage; and one end of which is connected to the output section and divides the output voltage. a voltage dividing unit that outputs a voltage as the second voltage from the other end to the second input; and a discharge circuit connected to the output unit. based on a second mode operating at a second speed higher than the speed of .

本発明によれば、消費電流の増加を抑制しつつ、安定した電圧を供給することが可能な電圧変換回路を備えた半導体装置を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device including a voltage conversion circuit capable of supplying a stable voltage while suppressing an increase in current consumption.

第1の実施の形態に係る半導体装置の、(a)はブロック図、(b)は各部の動作波形を示すタイミングチャートである。1A is a block diagram of the semiconductor device according to the first embodiment, and FIG. 1B is a timing chart showing operation waveforms of respective parts; FIG. 第2の実施の形態に係る半導体装置の、(a)はブロック図、(b)は各部の動作波形を示すタイミングチャートである。8A is a block diagram of a semiconductor device according to a second embodiment, and FIG. 8B is a timing chart showing operation waveforms of respective parts; FIG. 第3の実施の形態に係る半導体装置の、(a)はブロック図、(b)は各部の動作波形を示すタイミングチャートである。9A is a block diagram of a semiconductor device according to a third embodiment, and FIG. 9B is a timing chart showing operation waveforms of respective parts; FIG. 第3の実施の形態に係る半導体装置の、ショート回路の一例を示すブロック図である。FIG. 11 is a block diagram showing an example of a short circuit of a semiconductor device according to a third embodiment; FIG.

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。以下の実施の形態では、半導体装置としてメモリ装置、半導体装置の制御方法として該メモリ装置に内蔵され、データアクセスに必要な電位を生成する昇圧回路を制御する昇圧回路制御方法を例示して説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, a semiconductor device is a memory device, and a semiconductor device control method is a booster circuit control method for controlling a booster circuit that is incorporated in the memory device and generates a potential required for data access. .

[第1の実施の形態]
図1を参照して、本実施の形態に係るメモリ装置50および昇圧回路制御方法について説明する。
[First embodiment]
A memory device 50 and a booster circuit control method according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

図1に示すように、メモリ装置50は、昇圧回路52およびメモリ部54を含んで構成されている。 As shown in FIG. 1, the memory device 50 includes a booster circuit 52 and a memory section 54 .

昇圧回路52は、発振回路1、昇圧クロック生成回路2、チャージポンプ回路3、参照電圧発生回路4、分圧回路5、定電流源回路6、タイミング発生回路7、センサ回路8、降圧回路10、分圧回路11、NMOSトランジスタ16、17-1~17-4、18-1~18-4を備えている。 The booster circuit 52 includes an oscillation circuit 1, a boost clock generation circuit 2, a charge pump circuit 3, a reference voltage generation circuit 4, a voltage dividing circuit 5, a constant current source circuit 6, a timing generation circuit 7, a sensor circuit 8, a voltage step-down circuit 10, It has a voltage dividing circuit 11 and NMOS transistors 16, 17-1 to 17-4 and 18-1 to 18-4.

チャージポンプ回路3は、駆動クロック信号に同期して動作するコンデンサとスイッチを組み合わせることによって電圧を上昇させるための回路であり、本実施の形態では、電位VDDの電源電圧を基準として電圧を上昇させ、出力電圧VCPとして出力する。 The charge pump circuit 3 is a circuit for increasing the voltage by combining a capacitor and a switch that operate in synchronization with the driving clock signal. , as an output voltage VCP.

昇圧クロック生成回路2は、発振回路1からのクロック信号を、チャージポンプ回路3を動作させるための上記駆動クロック信号に変換する。発振回路1は、昇圧クロック生成回路2が上記駆動クロック信号の元となるクロック信号を生成するためのオシレータである。発振回路1は、センサ回路8からの制御信号SAOによって起動/停止が制御される。 The boost clock generation circuit 2 converts the clock signal from the oscillation circuit 1 into the driving clock signal for operating the charge pump circuit 3 . The oscillation circuit 1 is an oscillator for the boost clock generation circuit 2 to generate a clock signal that is the source of the drive clock signal. The oscillation circuit 1 is controlled to start/stop by a control signal SAO from the sensor circuit 8 .

降圧回路10は、出力電圧VCPを降圧させてメモリ部54を動作させるための電圧を発生させる。本実施の形態では、降圧回路10からの降圧電圧は、NMOSトランジスタ16を介し、出力電圧VREGとして出力される。降圧回路10の非反転入力には、後述の参照電圧発生回路4からの参照電圧VREF2が入力され、反転入力には後述の比較電圧VDET2が入力されている。降圧回路10には直列に接続されたNMOSトランジスタ17-2および18-2が接続されている。NMOSトランジスタ18-2は降圧回路10に定電流を供給するトランジスタであり、降圧回路10は該定電流が供給されることにより動作する。NMOSトランジスタ17-2は、該定電流を流すか遮断するかを制御するスイッチである。 The step-down circuit 10 steps down the output voltage VCP to generate a voltage for operating the memory section 54 . In this embodiment, the step-down voltage from the step-down circuit 10 is output via the NMOS transistor 16 as the output voltage VREG. A reference voltage VREF2 from a reference voltage generating circuit 4, which will be described later, is input to the non-inverting input of the step-down circuit 10, and a comparison voltage VDET2, which will be described later, is input to the inverting input. NMOS transistors 17-2 and 18-2 connected in series are connected to the step-down circuit 10. FIG. The NMOS transistor 18-2 is a transistor that supplies a constant current to the step-down circuit 10, and the step-down circuit 10 operates by being supplied with the constant current. The NMOS transistor 17-2 is a switch that controls whether the constant current flows or cuts off.

分圧回路11は、出力電圧VREGを分圧し、比較電圧VDET2を発生させる。分圧回路11はPMOSダイオード接続列11aと容量11bを備えている。比較電圧VDET2はPMOSダイオード接続列11aの途中から取り出され、容量11bは、出力電圧VREGと比較電圧VDET2との間に接続されている。PMOSダイオード接続列11aには直列に接続されたNMOSトランジスタ17-1および18-1が接続されている。NMOSトランジスタ18-1はPMOSダイオード接続列11aに定電流を供給するトランジスタであり、PMOSダイオード接続列11aは該定電流が供給されることにより動作する。NMOSトランジスタ17-1は、該定電流を流すか遮断するかを制御するスイッチである。 The voltage dividing circuit 11 divides the output voltage VREG to generate a comparison voltage VDET2. The voltage dividing circuit 11 includes a PMOS diode-connected string 11a and a capacitor 11b. The comparison voltage VDET2 is taken from the middle of the PMOS diode connection string 11a, and the capacitor 11b is connected between the output voltage VREG and the comparison voltage VDET2. Series-connected NMOS transistors 17-1 and 18-1 are connected to the PMOS diode connection string 11a. The NMOS transistor 18-1 is a transistor that supplies a constant current to the PMOS diode-connected series 11a, and the PMOS diode-connected series 11a operates by being supplied with the constant current. The NMOS transistor 17-1 is a switch that controls whether the constant current flows or cuts off.

分圧回路5は出力電圧VCPを分圧し、出力電圧VCPのモニタ電圧である比較電圧VDETを発生させる。分圧回路5の構成は特に限定されず、PMOSダイオード接続列、抵抗列等によって構成されるが、本実施の形態ではPMOSダイオード接続列とされている。分圧回路5には直列に接続されたNMOSトランジスタ17-3および18-3が接続されている。NMOSトランジスタ18-3は分圧回路5に定電流を供給するトランジスタであり、分圧回路5は該定電流が供給されることにより動作する。NMOSトランジスタ17-3は、該定電流を流すか遮断するかを制御するスイッチである。 A voltage dividing circuit 5 divides the output voltage VCP to generate a comparison voltage VDET which is a monitor voltage of the output voltage VCP. The configuration of the voltage dividing circuit 5 is not particularly limited, and is composed of a PMOS diode-connected string, a resistor string, or the like, but in this embodiment, it is a PMOS diode-connected string. NMOS transistors 17-3 and 18-3 connected in series are connected to the voltage dividing circuit 5. FIG. The NMOS transistor 18-3 is a transistor that supplies a constant current to the voltage dividing circuit 5, and the voltage dividing circuit 5 operates by being supplied with the constant current. The NMOS transistor 17-3 is a switch that controls whether the constant current flows or cuts off.

参照電圧発生回路4は、上記参照電圧VREF2とセンサ回路8に供給する参照電圧VREFを発生させる。参照電圧発生回路4は、ディープパワーダウン信号DPPDNによって起動/停止が制御される。本実施の形態に係るディープパワーダウンとは、パワーダウンのうちでもメモリ装置50に付随する回路の大部分の動作を停止させるパワーダウンを意味し、図示しない制御回路等から供給される。ディープパワーダウン信号DPPDNは制御信号の一例であって、他の適宜な制御信号を用いてもよい。 The reference voltage generating circuit 4 generates the reference voltage VREF2 and the reference voltage VREF to be supplied to the sensor circuit 8. FIG. The reference voltage generation circuit 4 is controlled to start/stop by a deep power down signal DPPDN. Deep power-down according to the present embodiment means power-down that stops the operation of most of the circuits associated with the memory device 50 among power-downs, and is supplied from a control circuit or the like (not shown). The deep power down signal DPPDN is an example of a control signal, and other appropriate control signals may be used.

センサ回路8は出力電圧VCPの電圧レベルを監視し、監視した電圧レベルに応じて発振回路1を制御する制御信号SAOを生成する。センサ回路8には直列に接続されたNMOSトランジスタ17-4および18-4が接続されている。NMOSトランジスタ18-4はセンサ回路8に定電流を供給するトランジスタであり、センサ回路8は該定電流が供給されることにより動作する。NMOSトランジスタ17-4は、該定電流を流すか遮断するかを制御するスイッチである。 The sensor circuit 8 monitors the voltage level of the output voltage VCP and generates a control signal SAO for controlling the oscillation circuit 1 according to the monitored voltage level. NMOS transistors 17-4 and 18-4 connected in series are connected to the sensor circuit 8. FIG. The NMOS transistor 18-4 is a transistor that supplies a constant current to the sensor circuit 8, and the sensor circuit 8 operates by being supplied with the constant current. The NMOS transistor 17-4 is a switch that controls whether the constant current flows or cuts off.

タイミング発生回路7は、NMOSトランジスタ17-1~17-4のゲートに接続され、活性化信号ENSAによってNMOSトランジスタ17-1~17-4のオン/オフを制御する。定電流源回路6は、NMOSトランジスタ18-1~18-4のゲートに接続され、NMOSトランジスタ18-1~18-4が定電流を流すためのバイアス電圧VBIASを供給している。タイミング発生回路7および定電流源回路6は、ディープパワーダウン信号DPPDNによって制御される。NMOSトランジスタ18-1~18-4のソースはグランド(GND)に接続されている。 The timing generation circuit 7 is connected to the gates of the NMOS transistors 17-1 to 17-4, and controls on/off of the NMOS transistors 17-1 to 17-4 by an activation signal ENSA. A constant current source circuit 6 is connected to the gates of the NMOS transistors 18-1 to 18-4, and supplies a bias voltage VBIAS for causing constant currents to flow through the NMOS transistors 18-1 to 18-4. Timing generation circuit 7 and constant current source circuit 6 are controlled by deep power down signal DPPDN. The sources of the NMOS transistors 18-1 to 18-4 are connected to the ground (GND).

メモリ部54は、複数のメモリセル30と、複数のメモリセル30を駆動するドライバ回路9を備えている。ドライバ回路9は、アドレス信号をデコードしたデコード信号に基づいて、メモリセル30に接続されたワード線に必要な電圧を供給する。例えば、メモリ装置50が微細化の進んだフラッシュメモリの場合には、昇圧回路52によって発生した出力電圧VREGを、ドライバ回路9を通してメモリセル30のワード線に供給し、読出し動作を行う。なお、本実施の形態に係るメモリ装置50は、低速で読出す低速動作モード、および高速で読出す高速動作モードを備えている。 The memory section 54 includes a plurality of memory cells 30 and a driver circuit 9 that drives the plurality of memory cells 30 . The driver circuit 9 supplies a necessary voltage to the word line connected to the memory cell 30 based on the decoded signal obtained by decoding the address signal. For example, if the memory device 50 is a flash memory with advanced miniaturization, the output voltage VREG generated by the booster circuit 52 is supplied to the word line of the memory cell 30 through the driver circuit 9 to perform a read operation. The memory device 50 according to the present embodiment has a low speed operation mode for low speed reading and a high speed operation mode for high speed reading.

次に、図1(b)を参照して、昇圧回路52の動作について説明する。図1(b)は、ディープパワーダウン信号DPPDN、チャージポンプの出力電圧VCP、降圧回路の出力電圧VREG、およびデコード信号の各々の動作波形を示したタイミングチャートである。ディープパワーダウン信号DPPDNが解除されると、タイミング発生回路7、定電流源回路6、センサ回路8、分圧回路5、降圧回路10、分圧回路11、参照電圧発生回路4が活性化される。 Next, the operation of the booster circuit 52 will be described with reference to FIG. 1(b). FIG. 1B is a timing chart showing operation waveforms of the deep power down signal DPPDN, the charge pump output voltage VCP, the step-down circuit output voltage VREG, and the decode signal. When the deep power down signal DPPDN is released, the timing generation circuit 7, constant current source circuit 6, sensor circuit 8, voltage dividing circuit 5, step-down circuit 10, voltage dividing circuit 11, and reference voltage generating circuit 4 are activated. .

ディープパワーダウン信号DPPDNが時刻t1で解除されると、参照電圧発生回路4から参照電圧VREF、定電流源回路6から定電流源のバイアス電圧VBIASが発生するとともに、タイミング発生回路7から活性化信号ENSAが発生する。センサ回路8と分圧回路5は活性化されたバイアス電圧VBIASと活性化信号ENSAを受けて動作を開始する。 When the deep power down signal DPPDN is released at time t1, the reference voltage generator circuit 4 generates the reference voltage VREF, the constant current source circuit 6 generates the bias voltage VBIAS of the constant current source, and the timing generator circuit 7 generates the activation signal. ENSA occurs. The sensor circuit 8 and the voltage dividing circuit 5 receive the activated bias voltage VBIAS and the activation signal ENSA and start operating.

分圧回路5から発生した比較電圧VDETが参照電圧VREFより大きくなるまで、すなわちチャージポンプ回路3の出力電圧VCPが昇圧目標電圧VPWLより大きくなるまで、センサ回路8の出力信号である制御信号SAOをハイレベル(以下、「H」)とする。発振回路1は制御信号SAOがHの間クロック信号を発生し続け、昇圧クロック生成回路2を介してチャージポンプ回路3を駆動する。 The control signal SAO, which is the output signal of the sensor circuit 8, is maintained until the comparison voltage VDET generated from the voltage dividing circuit 5 becomes greater than the reference voltage VREF, that is, until the output voltage VCP of the charge pump circuit 3 becomes greater than the boost target voltage VPWL. High level (hereinafter referred to as "H"). The oscillation circuit 1 continues to generate a clock signal while the control signal SAO is H, and drives the charge pump circuit 3 via the boost clock generation circuit 2 .

チャージポンプ回路3の出力電圧VCPの電圧が昇圧目標電圧VPWLに到達すると、制御信号SAOはロウレベル(以下、「L」)となり、出力電圧VCPの制御はセンサ回路8の制御による間欠動作に移行する。 When the voltage of the output voltage VCP of the charge pump circuit 3 reaches the boost target voltage VPWL, the control signal SAO becomes low level (hereinafter referred to as "L"), and the control of the output voltage VCP shifts to intermittent operation under the control of the sensor circuit 8. .

一方、降圧回路10と分圧回路11も活性化されたバイアス電圧VBIASと活性化信号ENSAを受けて動作を開始し、出力電圧VREGを目標電圧VWLに収束させる。 On the other hand, the step-down circuit 10 and the voltage dividing circuit 11 also receive the activated bias voltage VBIAS and the activation signal ENSA and start operating to converge the output voltage VREG to the target voltage VWL.

メモリ装置50が時刻t2で低速動作から高速動作に移行すると、ドライバ回路9によって出力電圧VREGを消費する電流が急増して降圧回路10の均衡が崩れ、一時的に出力電圧VREGが降下する。出力電圧VREGが降下すると、容量11bのカップリング作用により比較電圧VDET2のノード電圧を低下させ、降圧回路10の出力ドライバであるNMOSトランジスタ16のゲートの電圧を上げ、時刻t3で出力電圧VREGの上昇を開始させる。 When the memory device 50 shifts from low-speed operation to high-speed operation at time t2, the current consuming the output voltage VREG by the driver circuit 9 increases rapidly, the balance of the step-down circuit 10 is lost, and the output voltage VREG drops temporarily. When the output voltage VREG drops, the coupling action of the capacitor 11b lowers the node voltage of the comparison voltage VDET2 and raises the gate voltage of the NMOS transistor 16, which is the output driver of the step-down circuit 10. At time t3, the output voltage VREG rises. to start.

その後、PMOSダイオード接続列11aが、比較電圧VDET2が出力電圧VREGの分圧電圧になるのに必要な充電を完了させるため、出力電圧VREGは目標電圧VWLに制御される(時刻t4)。時刻t2からt4までの出力電圧の効果を電圧降下量ΔVWLという。 After that, the PMOS diode-connected string 11a completes the charging necessary for the comparison voltage VDET2 to become the divided voltage of the output voltage VREG, so the output voltage VREG is controlled to the target voltage VWL (time t4). The effect of the output voltage from time t2 to t4 is called voltage drop amount ΔVWL.

以上詳述したように、本実施の形態に係る半導体装置、および半導体装置の制御方法によれば、出力電圧VREGの負荷が高速動作モードに伴う高負荷に切り替わった際に、PMOSダイオード接続列11aが比較電圧VDET2を出力電圧VREGの分圧電圧に充電を完了させる前に、出力電圧VREGの上昇が開始されるので、出力電圧VREGの電圧降下量ΔVWLを小さくすることができる。このため、PMOSダイオード接続列11aに流す電流を絞ることが可能となるので、動作電流削減とメモリセル読出しの安定化(出力電圧VREGの安定化)を両立させることができる。 As described in detail above, according to the semiconductor device and the control method of the semiconductor device according to the present embodiment, when the load of the output voltage VREG is switched to the high load associated with the high-speed operation mode, the PMOS diode connection row 11a Before the charging of the comparison voltage VDET2 to the divided voltage of the output voltage VREG is completed, the output voltage VREG starts to rise, so the voltage drop amount ΔVWL of the output voltage VREG can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the current flowing through the PMOS diode-connected row 11a, so that both reduction in operating current and stabilization of memory cell readout (stabilization of the output voltage VREG) can be achieved.

[第2の実施の形態]
図2を参照して、本実施の形態に係るメモリ装置50Aおよび昇圧回路制御方法について説明する。本実施の形態に係るメモリ装置50Aは、メモリ装置50の昇圧回路52を昇圧回路52Aに置き換えた形態である。従って、同様の構成には同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
[Second embodiment]
A memory device 50A and a booster circuit control method according to the present embodiment will be described with reference to FIG. A memory device 50A according to the present embodiment has a form in which the booster circuit 52 of the memory device 50 is replaced with a booster circuit 52A. Therefore, similar configurations are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図2(a)に示すように、昇圧回路52Aは、昇圧回路52にタイミング発生回路13および放電回路12が追加されている。 As shown in FIG. 2A, the booster circuit 52A is obtained by adding a timing generator circuit 13 and a discharge circuit 12 to the booster circuit 52. As shown in FIG.

タイミング発生回路13は、モード信号FMODEを入力とし、モード信号FMODEに応じて放電(ディスチャージ)信号DISCを発生する。モード信号FMODEは、昇圧回路52Aを搭載するメモリ装置50Aの読出し動作速度を定義しており、モード信号FMODEがLで低速動作(読出し)モード、Hで高速動作(読出し)モードとなっている。 A timing generation circuit 13 receives a mode signal FMODE and generates a discharge signal DISC according to the mode signal FMODE. The mode signal FMODE defines the read operation speed of the memory device 50A on which the booster circuit 52A is mounted. When the mode signal FMODE is L, it is in a low speed operation (read) mode, and when it is H, it is in a high speed operation (read) mode.

放電回路12は、出力電圧VREGに接続されたPMOSダイオード接続列12aおよびNMOSトランジスタ12bを備えている。NMOSトランジスタ12bのゲートには放電信号DISCが入力され、放電信号DISCによってNMOSトランジスタ12bがオンすると放電回路12が活性化される。 The discharge circuit 12 comprises a PMOS diode-connected string 12a and an NMOS transistor 12b connected to the output voltage VREG. A discharge signal DISC is input to the gate of the NMOS transistor 12b, and the discharge circuit 12 is activated when the NMOS transistor 12b is turned on by the discharge signal DISC.

図2(b)を参照して、昇圧回路52Aの動作について説明する。図2(b)は、ディープパワーダウン信号DPPDN、チャージポンプの出力電圧VCP、降圧回路10の出力電圧VREG、モード信号FMODE、放電信号DISC、およびデコード信号の各々の動作波形を示したタイミングチャートである。 The operation of the booster circuit 52A will be described with reference to FIG. 2(b). FIG. 2(b) is a timing chart showing operation waveforms of the deep power down signal DPPDN, the charge pump output voltage VCP, the voltage step-down circuit 10 output voltage VREG, the mode signal FMODE, the discharge signal DISC, and the decode signal. be.

時刻t1でディープパワーダウン信号DPPDNが解除されると、チャージポンプ回路3の出力電圧VCP、降圧回路の出力電圧VREGは図1(b)で説明した動作と同様に動作する。図2(b)の例では、時刻t2で、低速動作のデコード信号が入力されている。 When the deep power-down signal DPPDN is released at time t1, the output voltage VCP of the charge pump circuit 3 and the output voltage VREG of the step-down circuit operate in the same manner as described with reference to FIG. 1(b). In the example of FIG. 2B, at time t2, a low-speed decode signal is input.

その後、時刻t3でモード信号FMODEが低速動作モードから高速動作モードに切り替わると、その直後、放電信号DISCがHとなり、高速動作時の負荷電流と同程度の負荷電流が放電回路12を介して流れる。 After that, when the mode signal FMODE switches from the low-speed operation mode to the high-speed operation mode at time t3, the discharge signal DISC becomes H immediately after that, and a load current approximately equal to the load current during high-speed operation flows through the discharge circuit 12. .

出力電圧VREGが目標電圧VWLに収束した後、時刻t4で放電信号DISCがLになり、高速動作(読出し)を開始する。放電信号DISCがHの期間は、高速動作セットアップ期間SUTとして、高速読出し動作を禁止する。 After the output voltage VREG converges to the target voltage VWL, the discharge signal DISC becomes L at time t4, and high speed operation (reading) is started. A period in which the discharge signal DISC is H is set as a high-speed operation setup period SUT, and the high-speed read operation is prohibited.

本実施の形態に係るメモリ装置および昇圧回路制御方法によれば、高速切り替え時に高速動作セットアップ時間を短縮できるとともに、高速動作セットアップ期間SUT後に、出力電圧VREGの電圧降下量ΔVWLに関係なく安定的に読出し動作をさせることができる。 According to the memory device and booster circuit control method according to the present embodiment, the high-speed operation setup time can be shortened during high-speed switching, and after the high-speed operation setup period SUT, the output voltage VREG can be stably set regardless of the amount of voltage drop ΔVWL of the output voltage VREG. A read operation can be performed.

なお、本実施の形態では、放電回路12の他に容量11bを備えた形態を例示して説明したが、放電回路12と容量11bの作用は共通しているので、容量11bを除いた形態としてもよい。 In the present embodiment, the configuration including the capacitor 11b in addition to the discharge circuit 12 has been described as an example. good too.

[第3の実施の形態]
図3を参照して、本実施の形態に係るメモリ装置50Bおよび昇圧回路52Bの昇圧回路制御方法について説明する。本実施の形態は、上記メモリ装置50において、昇圧回路52を昇圧回路52Bに変更した形態であり、昇圧回路52Bは、昇圧回路52の分圧回路11を分圧回路20に変更している。本実施の形態に係る分圧回路20は、分圧回路11にショート回路14およびタイミング発生回路15を追加している。その他の構成についてはメモリ装置50と同様なので、同様の構成には同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
[Third Embodiment]
A booster circuit control method for the memory device 50B and the booster circuit 52B according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the booster circuit 52 in the memory device 50 is changed to a booster circuit 52B. A voltage dividing circuit 20 according to the present embodiment has a shorting circuit 14 and a timing generating circuit 15 added to the voltage dividing circuit 11 . Since other configurations are the same as those of the memory device 50, similar configurations are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図3(a)に示すように、分圧回路20は、PMOSダイオード接続列11a、容量11b、およびショート回路14を備えている。 As shown in FIG. 3A, the voltage dividing circuit 20 includes a PMOS diode-connected string 11a, a capacitor 11b, and a short circuit .

ショート回路14は、PMOSダイオード接続列11aの分圧電圧VDET3を出力する端子と、容量11bの比較電圧VDET2側の端子との間に接続されている。ショート回路14は以下で説明する活性化信号ENSKによって制御され、PMOSダイオード接続列11aと容量11bとの間を接続または遮断するスイッチとして機能する。 The short circuit 14 is connected between the terminal for outputting the divided voltage VDET3 of the PMOS diode-connected string 11a and the terminal of the capacitor 11b on the comparison voltage VDET2 side. The short circuit 14 is controlled by an activation signal ENSK described below, and functions as a switch that connects or disconnects the PMOS diode connection string 11a and the capacitor 11b.

図4に、ショート回路14の具体的回路例を示す。ショート回路14は、パストランジスタ(トランスファーゲート)21およびインバータ22を備えている。そして、活性化信号ENSKに基づいて、分圧電圧VDET3の端子と比較電圧VDET2の端子との間を接続または遮断する。本ショート回路14によれば、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタによってノイズがキャンセルされるので、ショート回路14をオフする(遮断する)際にカップリングノイズで比較電圧VDET2の電位が変動し、活性化信号ENSKがLの期間において出力電圧VREGの制御電圧がずれるのを抑制する効果を奏する。 FIG. 4 shows a specific circuit example of the short circuit 14. As shown in FIG. The short circuit 14 has a pass transistor (transfer gate) 21 and an inverter 22 . Based on the activation signal ENSK, the terminal of the divided voltage VDET3 and the terminal of the comparison voltage VDET2 are connected or disconnected. According to the short circuit 14, noise is canceled by the PMOS transistor and the NMOS transistor. Therefore, when the short circuit 14 is turned off (cut off), the coupling noise causes the potential of the comparison voltage VDET2 to fluctuate, causing the activation signal ENSK. is effective in suppressing deviation of the control voltage of the output voltage VREG during the L period.

タイミング発生回路15はディープパワーダウン信号DPPDNを入力とし、活性化信号ENSKを出力する。活性化信号ENSKはNMOSトランジスタ17-1のゲートおよびショート回路14に供給され、NMOSトランジスタ17-1およびショート回路14の動作を制御する。 The timing generation circuit 15 receives the deep power down signal DPPDN and outputs an activation signal ENSK. The activation signal ENSK is supplied to the gate of the NMOS transistor 17-1 and the short circuit 14 to control the operations of the NMOS transistor 17-1 and the short circuit 14. FIG.

次に、図3(b)を参照して、昇圧回路52Bの動作について説明する。図3(b)は、ディープパワーダウン信号DPPDN、チャージポンプ回路3の出力電圧VCP、降圧回路10の出力電圧VREG、および活性化信号ENSKの動作波形を示すタイミングチャートである。 Next, the operation of the booster circuit 52B will be described with reference to FIG. 3(b). FIG. 3B is a timing chart showing operation waveforms of the deep power down signal DPPDN, the output voltage VCP of the charge pump circuit 3, the output voltage VREG of the step-down circuit 10, and the activation signal ENSK.

タイミング発生回路15から出力される活性化信号ENSKは、ディープパワーダウン信号DPPDNがLになってから、降圧回路10の出力電圧VREGが目標電圧VWLに収束するまでの間以上の期間を活性化期間T1としてHとされる(時刻t1からt2の間)。活性化信号ENSKがHとされると、ショート回路14が導通し、NMOSトランジスタ17-1がオンとされる。その後活性化信号ENSKは、時刻t3から活性化周期T2の間隔で活性化期間T3の期間Hとされる(時刻t3からt4の間)。図3(b)では、時刻t5、t6において活性化周期T2が開始されている。 The activation signal ENSK output from the timing generation circuit 15 has an activation period that is the period from when the deep power-down signal DPPDN becomes L to when the output voltage VREG of the step-down circuit 10 converges to the target voltage VWL. T1 is set to H (between times t1 and t2). When the activation signal ENSK is set to H, the short circuit 14 becomes conductive and the NMOS transistor 17-1 is turned on. After that, the activation signal ENSK is set to the period H of the activation period T3 at the interval of the activation period T2 from the time t3 (from the time t3 to t4). In FIG. 3B, the activation cycle T2 is started at times t5 and t6.

活性化信号ENSKがLの期間は、ショート回路14が遮断され、容量11bに蓄えられた電荷で比較電圧VDET2が維持され、出力電圧VREGを昇圧目標電圧VPWLに向けて制御する。容量11bの電極間のリークやショート回路14の拡散層のリークにより容量11bに蓄えられた電荷が減少して出力電圧VREGの制御電圧が降下し、目標電圧VWLの許容電圧降下量を超える前に(すなわち活性化周期T2ごとに)、活性化期間T3において容量11bを再充電することによって、目標電圧VWLへの収束に向けて出力電圧VREGの制御を維持する。 While the activation signal ENSK is L, the short circuit 14 is cut off, the charge stored in the capacitor 11b maintains the comparison voltage VDET2, and controls the output voltage VREG toward the boost target voltage VPWL. The charge stored in the capacitor 11b decreases due to leakage between the electrodes of the capacitor 11b and leakage from the diffusion layer of the short circuit 14, and the control voltage of the output voltage VREG drops. By recharging the capacitor 11b during the activation period T3 (ie every activation period T2), control of the output voltage VREG is maintained towards convergence to the target voltage VWL.

本実施の形態によれば、上記実施の形態と同様の効果を奏することに加えて、動作中、活性化期間T3を除いて分圧回路20に流れる電流を遮断することができるので、タイミング発生回路15のタイマ動作による消費電流増加を考慮しても、動作電流をさらに削減することが可能となる。また、容量11bを有しない従来の分圧回路を間欠動作させる場合と比較して、活性化期間T3を除く活性化周期T2の間に分圧回路20を流れる電流で出力電圧VREGが電圧降下することがないため、さらに間欠動作期間中も常に出力電圧VREGを制御しておくことが可能になるため、活性化周期T2(間欠周期)を長くとることができ、動作電流が低減される。 According to the present embodiment, in addition to the effects similar to those of the above-described embodiment, the current flowing through the voltage dividing circuit 20 can be cut off except for the activation period T3 during operation. Even considering the increase in current consumption due to the timer operation of the circuit 15, it is possible to further reduce the operating current. In addition, compared to the intermittent operation of a conventional voltage dividing circuit that does not have the capacitor 11b, the output voltage VREG drops due to the current flowing through the voltage dividing circuit 20 during the activation period T2 excluding the activation period T3. Furthermore, since the output voltage VREG can be constantly controlled even during the intermittent operation period, the activation period T2 (intermittent period) can be lengthened and the operating current can be reduced.

1 発振回路
2 昇圧クロック生成回路
3 チャージポンプ回路
4 参照電圧発生回路
5 分圧回路
6 定電流源回路
7 タイミング発生回路
8 センサ回路
9 ドライバ回路
10 降圧回路
11 分圧回路
11a PMOSダイオード接続列
11b 容量
12 放電回路
12a PMOSダイオード接続列
12b NMOSトランジスタ
13 タイミング発生回路
14 ショート回路
15 タイミング発生回路
16、17-1~17-4、18-1~18-4 NMOSトランジスタ
20 分圧回路
21 パストランジスタ
22 OR回路
30 メモリセル
50、50A、50B メモリ装置
52、52A、52B 昇圧回路
54 メモリ部
1 Oscillation circuit 2 Boost clock generation circuit 3 Charge pump circuit 4 Reference voltage generation circuit 5 Voltage division circuit 6 Constant current source circuit 7 Timing generation circuit 8 Sensor circuit 9 Driver circuit 10 Voltage reduction circuit 11 Voltage division circuit 11a PMOS diode connection string 11b Capacitance 12 discharge circuit 12a PMOS diode connection string 12b NMOS transistor 13 timing generation circuit 14 short circuit 15 timing generation circuit 16, 17-1 to 17-4, 18-1 to 18-4 NMOS transistor 20 voltage dividing circuit 21 pass transistor 22 OR circuit 30 memory cells 50, 50A, 50B memory devices 52, 52A, 52B booster circuit 54 memory section

Claims (6)

第1電圧が入力される第1入力と、第2電圧が入力される第2入力とを有し、前記第1電圧と前記第2電圧との比較に基づいて電圧を出力する降圧回路と、
前記降圧回路から出力される前記電圧により制御され、出力電圧を出力する出力部と、
一端が前記出力部に接続され、前記出力電圧を分圧した電圧を前記第2電圧として他端から前記第2入力に出力する分圧部と、
一端が前記出力部に接続され、他端が前記第2入力に接続された容量と、
を備え、
第1の速度で動作する第1モードまたは前記第1の速度より速い第2の速度で動作する第2モードに基づいて動作する半導体装置。
a step-down circuit having a first input to which a first voltage is input and a second input to which a second voltage is input, and outputting a voltage based on a comparison between the first voltage and the second voltage;
an output unit that is controlled by the voltage output from the step-down circuit and outputs an output voltage;
a voltage dividing unit having one end connected to the output unit and outputting a voltage obtained by dividing the output voltage as the second voltage from the other end to the second input;
a capacitor having one end connected to the output section and the other end connected to the second input;
with
A semiconductor device that operates based on a first mode operating at a first speed or a second mode operating at a second speed higher than the first speed.
前記出力部に接続された放電回路をさらに備える請求項1に記載の半導体装置。 2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a discharge circuit connected to said output section. 一端が前記分圧部に接続され、他端が前記容量に接続され、前記分圧部と前記容量とを接続または遮断するショート回路をさらに備える請求項1に記載の半導体装置。 2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a short circuit having one end connected to said voltage divider and the other end connected to said capacitor, and connecting or disconnecting said voltage divider and said capacitor. 第1電圧が入力される第1入力と、第2電圧が入力される第2入力とを有し、前記第1電圧と前記第2電圧との比較に基づいて電圧を出力する降圧回路と、
前記降圧回路から出力される前記電圧により制御され、出力電圧を出力する出力部と、
一端が前記出力部に接続され、前記出力電圧を分圧した電圧を前記第2電圧として他端から前記第2入力に出力する分圧部と、
前記出力部に接続された放電回路と、
を備え、
第1の速度で動作する第1モードまたは前記第1の速度より速い第2の速度で動作する第2モードに基づいて動作する半導体装置。
a step-down circuit having a first input to which a first voltage is input and a second input to which a second voltage is input, and outputting a voltage based on a comparison between the first voltage and the second voltage;
an output unit that is controlled by the voltage output from the step-down circuit and outputs an output voltage;
a voltage dividing unit having one end connected to the output unit and outputting a voltage obtained by dividing the output voltage as the second voltage from the other end to the second input;
a discharge circuit connected to the output;
with
A semiconductor device that operates based on a first mode operating at a first speed or a second mode operating at a second speed higher than the first speed.
メモリセルと、
前記出力電圧が供給され、前記メモリセルを駆動するドライバ回路と、をさらに備える請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置。
a memory cell;
5. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a driver circuit supplied with said output voltage to drive said memory cell.
前記第1モードは前記メモリセルを低速で読み出すモードであり、前記第2モードは前記メモリセルを高速で読み出すモードである
請求項5に記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein said first mode is a mode for reading said memory cells at low speed, and said second mode is a mode for reading said memory cells at high speed.
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