JPH0235694A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH0235694A
JPH0235694A JP63185899A JP18589988A JPH0235694A JP H0235694 A JPH0235694 A JP H0235694A JP 63185899 A JP63185899 A JP 63185899A JP 18589988 A JP18589988 A JP 18589988A JP H0235694 A JPH0235694 A JP H0235694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
channel transistor
circuit
transistor
rom
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63185899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Isobe
秀樹 磯部
Mitsuo Haba
幅 満夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP63185899A priority Critical patent/JPH0235694A/en
Publication of JPH0235694A publication Critical patent/JPH0235694A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To realize a fast operation and to stably perform a low voltage operation by performing pre-charge by energizing either a p-channel transistor or an n-channel transistor selectively replying to a control signal. CONSTITUTION:A pre-charge circuit 10 is constituted of the parallel circuit of the p-channel transistor 5 and the n-channel transistor 7, and the pre-charge is performed by energizing either the p-channel transistor 5 or then-channel transistor 7 selectively replying to the control signals S1 and S2. Therefore, the pre-charge of a bit line can be performed by performing the fast operation by the n-channel transistor 7 and a slow operation by the p-channel transistor 5. In such a way, it is possible to stably perform the low voltage operation as realizing the fast operation.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 従来の技術        (第4〜7図)発明が解決
しようとする課題 課題を解決するための手段 作用 実施例 本発明の原理説明    (第1図) 本発明の一実施例    (第2.3図)発明の効果 〔概要〕 半導体記憶装置に関し、 高速動作が可能で、かつ低電圧動作も安定に行うことが
できる半導体記憶装置を提供することを目的とし、 複数のメモリセルが配置され、これらのメモリセルが接
続されたビット線をプリチャージするためのプリチャー
ジ回路を備えた半導体記憶装置において、前記プリチャ
ージ回路がPチャネルトランジスタと、nチャネルトラ
ンジスタとの並列回路により構成され、制御信号に応答
して前記Pチャネルトランジスタとnチャネルトランジ
スタの一方を選択的に導通させて前記プリチャージを行
うように構成する。
[Detailed description of the invention] Industrial field of application Prior art (Figs. 4 to 7) Problems to be solved by the invention Examples of means and actions for solving the problems Explanation of the principle of the invention (Fig. 1) Book One embodiment of the invention (Figure 2.3) Effects of the invention [Summary] Regarding a semiconductor memory device, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that is capable of high-speed operation and stable low-voltage operation. , in a semiconductor memory device in which a plurality of memory cells are arranged and equipped with a precharge circuit for precharging a bit line to which these memory cells are connected, the precharge circuit includes a P-channel transistor, an N-channel transistor, and a precharge circuit; The precharge is performed by selectively turning on one of the P-channel transistor and the N-channel transistor in response to a control signal.

〔産業上の利用分野] 本発明は、半導体記憶装置に係り、詳しくは低消費電力
動作が要求されるシステム用のMOSトランジスタ回路
において、プリチャージ用のトランジスタとして、高速
動作に有利なトランジスタと低電圧動作に有利なトラン
ジスタとを使い分けるようにした半導体記憶装置に関す
る。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more specifically, in a MOS transistor circuit for a system that requires low power consumption operation, the present invention uses a transistor that is advantageous for high-speed operation and a low power transistor as a precharging transistor. The present invention relates to a semiconductor memory device that selectively uses transistors that are advantageous for voltage operation.

バッテリーを使って動く電気製品などにおいて低消費電
力動作のために、高速動作が必要ない場合、動作速度を
遅く、電−tx雷電圧低くして動作させることができる
半導体記憶装置が要求されている。
When high-speed operation is not required for low-power operation in battery-operated electrical products, etc., there is a demand for semiconductor memory devices that can operate at lower operating speeds and lower electric-tx lightning voltages. .

〔従来の技術] 近時、マイクロコンピュータを応用した家電製品にタイ
マーが搭載されるケースが増える傾向にある。それに伴
って、時計機能が必要となってくるとともに、低消費電
力化も欠かすことができないものとなってきている。低
消費電力は、例えば停電が起きたときにバッテリバック
アップによってCPUが動いている状態をつくる必要が
あるが、バッテリバックアップのため低消費電力で半導
体記憶装置を動作させなければならない。このようなと
きには一般にプリチャージ用のクロック周波数を落とし
くCMO3の場合は消費電力自体がクロックに依存性が
ある)、かつ低電圧にすることによって消費電力を小さ
くする。ところが、低電圧で動作させた場合にはスピー
ドがある程度犠牲になり、スピードを満足させると低消
費電力化できなくなる。
[Prior Art] Recently, there has been an increasing trend for home appliances that utilize microcomputers to be equipped with timers. Along with this, clock functions have become necessary, and low power consumption has also become essential. Low power consumption requires battery backup to keep the CPU running when a power outage occurs, for example, and battery backup requires semiconductor storage devices to operate with low power consumption. In such a case, the power consumption is generally reduced by lowering the clock frequency for precharging (in the case of CMO3, the power consumption itself is dependent on the clock) and by lowering the voltage. However, when operating at a low voltage, speed is sacrificed to some extent, and once the speed is satisfied, it is no longer possible to reduce power consumption.

従来のこの種のROMのプリチャージトランジスタとし
ては、例えば第4.5図に示すpチャネルMOSトラン
ジスタを用いるものが一般的である。第4図はROMに
おけるビット線をプリチャージする回路の一部を示す図
であり、この図において、■はビット線、2a〜2nは
ワード線であり、ワード線2a〜2nにはメモリセル3
を構成するnチャネルMO3I−ランジスタ(以下、単
にnチャネルトランジスタという)4a〜4nが接続さ
れており、nチャネルトランジスタ4a〜4nはビット
線lに対して直列に接続されている。
As a conventional precharge transistor of this type of ROM, for example, a p-channel MOS transistor shown in FIG. 4.5 is generally used. FIG. 4 is a diagram showing part of a circuit for precharging bit lines in a ROM. In this figure, ■ is a bit line, and 2a to 2n are word lines.
N-channel MO3I-transistors (hereinafter simply referred to as n-channel transistors) 4a to 4n constituting the transistors are connected, and the n-channel transistors 4a to 4n are connected in series to the bit line l.

データの書込みはデプレション化イオン注入方弐で行わ
れ、データ゛1°° (または“°0°′)に対応する
nチャネルトランジスタ(メモリトランジスタ)4a〜
4nに不純物をイオン注入してデプレション形にし、短
絡する。nチャネルトランジスタ4aはプリチャージ用
のPチャネルMO3)ランジスタ(以下、単にpチャネ
ルトランジスタという)5を介して電源■。。に接続さ
れ、nチャネルトランジスタ4nはnチャネルトランジ
スタ6を介して接地されている。pチャネルトランジス
タ5およびnチャネルトランジスタ6のゲートにはクロ
ック信号φが印加されており、クロックφが低レベルで
印加されるとPチャネルトランジスタ5がオンしてビッ
ト線1がプリチャージされる。データの続出はワード線
2a〜2nにより選択されたnチャネルトランジスタ4
8〜4nのみゲートを′″0”レベルとし、他は高レベ
ルとして常時オン(デプレッシヨン)状態か否かを判別
して データII I II   1“0パを読み出す
。以上は1つのビット線1に関連する回路を中心に説明
したものであるが、図示しない他のビット線についても
全く同様である。このpチャネルトランジスタ5を用い
た回路の場合には後述するnチャネルトランジスタを用
いた回路のような電圧降下が生じないため、第5図(a
)に示すように電源電圧VDOに近いレベルまでビット
線Iがプリチャージされて動作する。この場合のディス
チャージの時間は次の段の容量、抵抗等で放電時間が決
定されるが、第5図(b)に示すように高速動作させた
場合(すなわち、クロック周波数を上げたとき)にはデ
ィスチャージ時間が長いため高速動作には向いていない
。しかし、低電圧動作をした場合、電圧降下が小さいの
で出力レベルは安定している。
Data writing is performed by depletion ion implantation method 2, and n-channel transistors (memory transistors) 4a to 4a corresponding to data “1°° (or “°0°”)
4n is ion-implanted with impurities to make it into a depletion type and short-circuited. The n-channel transistor 4a is connected to a power supply (2) via a P-channel MO3 transistor (hereinafter simply referred to as a p-channel transistor) 5 for precharging. . The n-channel transistor 4n is connected to the ground via the n-channel transistor 6. A clock signal φ is applied to the gates of p-channel transistor 5 and n-channel transistor 6, and when clock φ is applied at a low level, P-channel transistor 5 is turned on and bit line 1 is precharged. The succession of data is carried out by the n-channel transistor 4 selected by the word lines 2a to 2n.
The gates of only 8 to 4n are set to ``0'' level, the others are set to high level, and it is determined whether they are always on (depression) state or not, and data II 1 0 is read out. Although the explanation focuses on related circuits, the same applies to other bit lines (not shown).In the case of a circuit using this p-channel transistor 5, it is similar to a circuit using an n-channel transistor described later. Since no significant voltage drop occurs, the voltage drop in Figure 5 (a
), the bit line I is precharged to a level close to the power supply voltage VDO and operates. The discharge time in this case is determined by the capacitance, resistance, etc. of the next stage, but as shown in Figure 5(b), when operating at high speed (that is, when the clock frequency is increased) is not suitable for high-speed operation because of its long discharge time. However, when operating at a low voltage, the output level is stable because the voltage drop is small.

また、ROMのプリチャージトランジスタとして第6.
7図に示すnチャネルMOSトランジスタを用いるもの
がある。第6図はROMにおけるビット線をプリチャー
ジする回路の一部を示す図であり、第4図に示したもの
と同一構成部分には同一番号を付して説明を省略する。
Also, the sixth transistor is used as a ROM precharge transistor.
There is one that uses an n-channel MOS transistor shown in FIG. FIG. 6 is a diagram showing a part of a circuit for precharging the bit line in the ROM, and the same components as those shown in FIG. 4 are given the same numbers and their explanation will be omitted.

この図において、7はビット線工をプリチャージするた
めのnチャネルトランジスタであり、nチャネルトラン
ジスタ7のゲートにはクロック信号φがインバータ8を
介して人力されている。このnチャネルトランジスタ7
を用いた回路の場合、第7図(a’ )に示すようにn
チャネルトランジスタ3によりプリチャージ電圧がVD
llより電圧降下するために短時間でディスチャージを
行うことができる。したがって、周波数をある程度高く
しても動作を保障することができ、高速動作に向いてい
る。しかし、この回路を低電圧動作させた場合、上述し
た電圧降下のために第7図(b)に示すように出力レベ
ルがスレッショルドレベル以下になり易いのでこのよう
な回路形式は高速動作に向いているが低電圧動作には向
いていない。
In this figure, 7 is an n-channel transistor for precharging the bit line, and a clock signal φ is inputted to the gate of the n-channel transistor 7 via an inverter 8. This n-channel transistor 7
In the case of a circuit using n, as shown in Figure 7(a')
The precharge voltage is set to VD by channel transistor 3.
Since the voltage drop is lower than 11, discharge can be performed in a short time. Therefore, operation can be guaranteed even if the frequency is increased to a certain extent, making it suitable for high-speed operation. However, when this circuit is operated at a low voltage, the output level tends to fall below the threshold level as shown in Figure 7(b) due to the voltage drop mentioned above, so this type of circuit is not suitable for high-speed operation. However, it is not suitable for low voltage operation.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来の半導体記憶装置にあっ
ては、nチャネルトランジスタでプリチャージする回路
では、通常電圧での高速動作は保障されるものの低電圧
動作時は動作が不安定になるという問題点があり、また
、nチャネルトランジスタでプリチャージする回路では
電圧降下がなく、低電圧動作が可能である反面、高速動
作時に動作速度が遅くなるという問題点がある。
However, in such conventional semiconductor memory devices, the circuit that precharges with an n-channel transistor guarantees high-speed operation at normal voltage, but the problem is that operation becomes unstable when operating at low voltage. In addition, a circuit that precharges using an n-channel transistor has no voltage drop and can operate at a low voltage, but has the problem that the operating speed becomes slow during high-speed operation.

そこで本発明は、高速動作が可能で、かつ低電圧動作も
安定に行うことができる半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that is capable of high-speed operation and stable low-voltage operation.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明による半導体記憶装置は上記目的達成のため、複
数のメモリセルが配置され、これらのメモリセルが接続
されたビット線をプリチャージするだめのプリチャージ
回路を備えた半導体記憶装置において、前記プリチャー
ジ回路がPチャネルトランジスタと、nチャネルトラン
ジスタとの並列回路により構成され、制御信号に応答し
て前記nチャネルトランジスタとnチャネルトランジス
タの一方を選択的に導通させて前記プリチャージを行う
ことを特徴とする半導体記憶装置を備えている。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention includes a precharge circuit in which a plurality of memory cells are arranged and a precharge circuit for precharging a bit line to which these memory cells are connected. The charging circuit is constituted by a parallel circuit of a P-channel transistor and an n-channel transistor, and performs the precharging by selectively turning on one of the n-channel transistor and the n-channel transistor in response to a control signal. It is equipped with a semiconductor memory device.

〔作用) 本発明では、メモリセルに所定の電流をプリチャージす
るプリチャージトランジスタがnチャネルトランジスタ
とnチャネルトランジスタとの並列回路により構成され
、制御信号に応答して該nチャネルトランジスタとnチ
ャネルトランジスタの一方が選択的に導通ずるように構
成される。
[Function] In the present invention, the precharge transistor that precharges the memory cell with a predetermined current is configured by a parallel circuit of an n-channel transistor and an n-channel transistor, and the n-channel transistor and the n-channel transistor are connected in response to a control signal. is configured such that one of the two is selectively conductive.

したがって、高速動作時はnチャネルトランジスタによ
り、低速動作時はnチャネルトランジスタによりビット
線のプリチャージが行われことになり、高速動作を可能
としつつ、低電圧動作を安定に行うことができる。
Therefore, bit lines are precharged by the n-channel transistor during high-speed operation and by the n-channel transistor during low-speed operation, making it possible to perform high-speed operation and stable low-voltage operation.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained based on the drawings.

第1図は本発明に係る半導体装置の原理を説明する図で
ある。第1図はROMにおけるビット線をプリチャージ
する回路の一部を示す図であり、第4.6図に示す従来
例と同一構成部分には同一番号を付して説明を省略する
。第1図において、メモリセル3はnチャネルトランジ
スタ7とnチャネルトランジスタ5との並列回路からな
るプリチャージ回路10を介して電源VDII  に接
続されており、nチャネルトランジスタ7のゲートには
ORゲー)11およびインバータ8を介してクロック信
号φが印加され、nチャネルトランジスタ5のゲートに
はORゲート12を介してクロック信号φが印加されて
いる。ORゲート11,12の一端にはnチャネルトラ
ンジスタ7およびpチャネルトランジスタ5の何れか一
方を選択的に導通させてビット線1のプリチャージを行
うだめの選択信号(制御信号)St、S2がそれぞれ入
力されており、選択信号31.S2が低レベルで印加さ
れたときのみnチャネルトランジスタ7あるいはpチャ
ネルトランジスタ5は導通してビット線1のプリチャー
ジを行う。Slと82は、動作モードを表わす信号であ
り、第1図に示す回路は、動作モードを入力する以外は
従来例として示した第4図および第6図のROMと同様
の使い方をすればよい。
FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of a semiconductor device according to the present invention. FIG. 1 is a diagram showing a part of a circuit for precharging a bit line in a ROM, and the same components as those in the conventional example shown in FIG. 4.6 are given the same numbers and explanations are omitted. In FIG. 1, a memory cell 3 is connected to a power supply VDII via a precharge circuit 10 consisting of a parallel circuit of an n-channel transistor 7 and an n-channel transistor 5, and an OR gate is connected to the gate of the n-channel transistor 7. 11 and an inverter 8, and a clock signal φ is applied to the gate of the n-channel transistor 5 via an OR gate 12. At one end of the OR gates 11 and 12, selection signals (control signals) St and S2 are respectively provided to precharge the bit line 1 by selectively conducting one of the n-channel transistor 7 and the p-channel transistor 5. The selection signal 31. Only when S2 is applied at a low level, the n-channel transistor 7 or the p-channel transistor 5 becomes conductive to precharge the bit line 1. Sl and 82 are signals representing the operating mode, and the circuit shown in Fig. 1 can be used in the same way as the ROM shown in Figs. 4 and 6 as conventional examples, except for inputting the operating mode. .

したがって、本発明では、第7図に示すような特性をも
ったnチャネルトランジスタ7と第5図に示すような特
性をもったPチャネルトランジスタ5とがORゲー)1
1.12に入力される制御信号S1、S2に応答して切
り換えられることになり、通常電圧高速動作モードと低
電圧低速動作モードの両方を従来のROMと同じ使い方
でより安定に動作させることができる。
Therefore, in the present invention, an N-channel transistor 7 having characteristics as shown in FIG. 7 and a P-channel transistor 5 having characteristics as shown in FIG.
1.12, it is switched in response to the control signals S1 and S2 input to the ROM, and it is possible to operate both the normal voltage high speed operation mode and the low voltage low speed operation mode more stably by using the same method as a conventional ROM. can.

次に、上記基本原理に基づく実際の半導体記憶装置を実
施例として説明する。第2.3図は本発明の一実施例を
示す図であり、第2図はマイクロプロセッサへの適用例
を示すブロック構成図、第3図はそのROM構成図であ
る。第2図において、21はマイクロプロセッサであり
、マイクロプロセッサ21はCPU22、内蔵ROM2
3、動作モード制御部24、クロックセレクタ25によ
り構成される。
Next, an actual semiconductor memory device based on the above basic principle will be described as an example. 2.3 are diagrams showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block configuration diagram showing an example of application to a microprocessor, and FIG. 3 is a ROM configuration diagram thereof. In FIG. 2, 21 is a microprocessor, and the microprocessor 21 has a CPU 22 and a built-in ROM 2.
3. It is composed of an operation mode control section 24 and a clock selector 25.

クロックセレクタ25には周波数の異なる高低2種類の
クロックが入力されており、クロックセレクタ25は動
作モード制御部24からのセレクト信号に基づいて高低
2種類のクロックを選択して内蔵ROM23にクロック
信号として出力する。動作モード制御部24はCPU2
2で設定された動作モードに基づいて高速動作時と低速
動作時の2つのモード切り換えを行い、動作モード(第
1図の31、S2参照)として内蔵ROM23の動作モ
ード入力端子に出力する。内蔵ROM23は記憶部分(
メモリセル部)は従来例のものと同一(共通)であり、
動作モード入力端子に入力された動作モードによりプリ
チャージ用のトランジスタを選択する。すなわち、高速
動作時はnチャネルトランジスタ7ヲ選択し、低速動作
時はpチャネルトランジスタ5を選択することによって
内蔵ROM23の高速動作と低電圧動作を両立させる。
Two types of high and low clocks with different frequencies are input to the clock selector 25, and the clock selector 25 selects two types of high and low clocks based on the selection signal from the operation mode control unit 24 and stores the selected clocks in the built-in ROM 23 as a clock signal. Output. The operation mode control unit 24 is the CPU 2
Based on the operation mode set in step 2, two modes, high-speed operation and low-speed operation, are switched and outputted to the operation mode input terminal of the built-in ROM 23 as the operation mode (see 31 and S2 in FIG. 1). Built-in ROM23 is the memory part (
The memory cell section) is the same (common) as that of the conventional example,
A transistor for precharging is selected according to the operation mode input to the operation mode input terminal. That is, by selecting n-channel transistor 7 during high-speed operation and selecting p-channel transistor 5 during low-speed operation, both high-speed operation and low-voltage operation of built-in ROM 23 are achieved.

また、内蔵ROM23には所定のプログラムおよびデー
タが記憶されており、CPU22から送られる番地と読
出信号により、指定された番地の内容を読み出してCP
U22に送る。CPU22はクロック周波数あるいは電
源電圧の変化に応じて内蔵ROM23内のプリチャージ
用のトランジスタを切り換えるための動作モードを設定
し、システムの制御を行う。CPU22は図示しない外
部情報に基づいてシステムの内部状態を判別し、それに
よって最適な動作モードを設定している。
Further, the built-in ROM 23 stores a predetermined program and data, and the contents of the specified address are read out according to the address and read signal sent from the CPU 22.
Send to U22. The CPU 22 controls the system by setting an operation mode for switching the precharging transistor in the built-in ROM 23 in response to changes in the clock frequency or power supply voltage. The CPU 22 determines the internal state of the system based on external information (not shown), and sets the optimal operating mode based on this.

第3図は内蔵ROM23の詳細な構成図であり、前記第
1.2図に示す回路と同一構成部分には同一符号を付し
ている。この図において、メインクロックφはインバー
タ21を介してORゲート11.12に人力されるとと
もに、インバータ31で反転したメインクロックφはイ
ンバータ32〜39で再び反転して各メモリセル3に接
続されたnチャネルトランジスタ6のデータに入力され
ている。nチャネルトランジスタ7のゲートにはORゲ
ー目1を介してクロックφの反転信号が印加され、Pチ
ャネルトランジスタ5のゲートにはORゲート12およ
びインバータ8を介してクロックφの反転信号が印加さ
れている。また、この内蔵ROM23はメインクロック
φと時計用クロックとの二つのクロックを有しており、
図示しないCPU22の動作で同期をとって切り換える
ようにしている。
FIG. 3 is a detailed configuration diagram of the built-in ROM 23, and the same components as the circuit shown in FIG. 1.2 are given the same reference numerals. In this figure, the main clock φ is input to the OR gate 11.12 via the inverter 21, and the main clock φ inverted by the inverter 31 is inverted again by the inverters 32 to 39 and connected to each memory cell 3. The data is input to the n-channel transistor 6. An inverted signal of clock φ is applied to the gate of n-channel transistor 7 via OR gate 1, and an inverted signal of clock φ is applied to the gate of P-channel transistor 5 via OR gate 12 and inverter 8. There is. In addition, this built-in ROM 23 has two clocks, a main clock φ and a clock clock.
The switching is performed in synchronization with the operation of the CPU 22 (not shown).

以上の構成において、まず、プリチャージ用トランジス
タを使用目的に合わせてPチャネルトランジスタ5、n
チャネルトランジスタ7の何れかにセレクトしておく。
In the above configuration, first, the precharge transistors are changed to P channel transistors 5 and n according to the purpose of use.
Select one of the channel transistors 7.

そして、通常時にはメモリセル3のプリチャージディス
チャージをpチャネルトランジスタ5、nチャネルトラ
ンジスタ7何れか片方のみで行い、特定条件のときはC
PU22によりセレクト信号S1、S2をORゲート1
1.12に出力してPチャネルトランジスタ5、nチャ
ネルトランジスタ7両方を用いるようにする。
Under normal conditions, the precharge/discharge of the memory cell 3 is performed by only one of the p-channel transistor 5 and the n-channel transistor 7, and under specific conditions, the
PU22 outputs select signals S1 and S2 to OR gate 1.
1.12 so that both the P channel transistor 5 and the N channel transistor 7 are used.

以上説明したように、本実施例では高速動作と低電圧動
作とが安定して行われるため、例えばパンテリバンクア
ップ時等で、低消費電力動作が要求されるシステムに適
用するようにすれば回路の安定動作に大きく寄与させる
ことができる。
As explained above, in this embodiment, high-speed operation and low-voltage operation are performed stably, so it can be applied to a system that requires low power consumption operation, such as when boosting a pantry bank. This can greatly contribute to the stable operation of the circuit.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、動作モードに合わせて高速動作時はn
チャネルトランジスタを選択し、低速動作時はnチャネ
ルトランジスタを選択しているので、高速動作と低電圧
動作が安定して行うことができ、低消費電力動作が要求
されるシステムにおいては、回路の安定動作を図ること
ができる。
According to the present invention, during high-speed operation, n
Since a channel transistor is selected and an n-channel transistor is selected during low-speed operation, high-speed operation and low-voltage operation can be performed stably.In systems that require low power consumption operation, circuit stability is achieved. You can plan your actions.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る半導体記憶装置の原理を説明する
だめの回路図、 第2.3図は本発明に係る半導体記憶装置の第1実施例
を示す図であり、 第2図はそのマイクロプロセッサへの適用例を示すブロ
ッ構成図、 第3図はそのROM構成図、 第4〜7図は従来の半導体記憶装置を示す図であり、 第4図はそのPチャネルトランジスタをプリチャージに
使用したROMの構成図、 第5図はそのPチャネルトランジスタをプリチャージに
使用したROMの動作を説明するための図、 第6図はそのnチャネルトランジスタをプリチャージに
使用したROMの構成図、 第7図はそのnチャネルトランジスタをプリチャージに
使用したROMの動作を説明するための図である。 1・・・・・・ビット線、 2a〜2n・・・・・・ワード線、 3・・・・・・メモリセル、 4a〜4n・・・・・・nチャネルトランジスタ、5・
・・・・・nチャネルトランジスタ、7・・・・・・n
チャネルトランジスタ、8.31〜39・・・・・・イ
ンバータ、10・・・・・・プリチャージ回路、 11.12・・・・・・ORゲート、 21・・・・・・半導体記憶装置、 22・・・・・・CPU。 23・・・・・・内蔵ROM、 24・・・・・・動作モード制御部、 25・・・・・・クロックセレクタ。 代 理 人 弁理士  井 桁 貞 2a−2n:ワード線 3、メモリセル 8 インバータ IOプリチャージ回路 /I、/2:ORゲート 一実施例のマイクロプロセッサ への通用例を示すブロソ構成図 第2図 は:
FIG. 1 is a circuit diagram for explaining the principle of the semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2.3 is a diagram showing a first embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. FIG. 3 is a block configuration diagram showing an example of application to a microprocessor, FIG. 3 is a ROM configuration diagram thereof, and FIGS. 4 to 7 are diagrams showing a conventional semiconductor memory device. FIG. Figure 5 is a diagram for explaining the operation of a ROM that uses the P-channel transistor for precharging, Figure 6 is a diagram that shows the configuration of the ROM that uses the N-channel transistor for precharging, FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of a ROM using the n-channel transistor for precharging. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...bit line, 2a-2n...word line, 3...memory cell, 4a-4n...n-channel transistor, 5...
・・・・・・n channel transistor, 7・・・・・・n
Channel transistor, 8.31-39... Inverter, 10... Precharge circuit, 11.12... OR gate, 21... Semiconductor storage device, 22...CPU. 23...Built-in ROM, 24...Operation mode control section, 25...Clock selector. Agent Patent Attorney Tei Iji 2a-2n: Word line 3, memory cell 8 Inverter IO precharge circuit /I, /2: Brosso configuration diagram showing an example of application of one embodiment of OR gate to a microprocessor Figure 2 teeth:

Claims (1)

【特許請求の範囲】 複数のメモリセルが配置され、 これらのメモリセルが接続されたビット線をプリチャー
ジするためのプリチャージ回路を備えた半導体記憶装置
において、 前記プリチャージ回路がpチャネルトランジスタと、n
チャネルトランジスタとの並列回路により構成され、 制御信号に応答して前記pチャネルトランジスタとnチ
ャネルトランジスタの一方を選択的に導通させて前記プ
リチャージを行うことを特徴とする半導体記憶装置。
[Claims] A semiconductor memory device including a plurality of memory cells arranged and a precharge circuit for precharging a bit line to which these memory cells are connected, wherein the precharge circuit is a p-channel transistor. , n
A semiconductor memory device comprising a parallel circuit with a channel transistor, and performing the precharging by selectively turning on one of the p-channel transistor and the n-channel transistor in response to a control signal.
JP63185899A 1988-07-26 1988-07-26 Semiconductor memory Pending JPH0235694A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63185899A JPH0235694A (en) 1988-07-26 1988-07-26 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63185899A JPH0235694A (en) 1988-07-26 1988-07-26 Semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0235694A true JPH0235694A (en) 1990-02-06

Family

ID=16178829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63185899A Pending JPH0235694A (en) 1988-07-26 1988-07-26 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0235694A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019180145A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor device and method for controlling the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61208699A (en) * 1985-03-12 1986-09-17 Matsushita Electronics Corp Semiconductor integrated circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61208699A (en) * 1985-03-12 1986-09-17 Matsushita Electronics Corp Semiconductor integrated circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019180145A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor device and method for controlling the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100242782B1 (en) Semiconductor device and control circuit therefor
KR970010642B1 (en) Semiconductor device
US4574203A (en) Clock generating circuit providing a boosted clock signal
US20010020858A1 (en) Latch circuit and semiconductor integrated circuit having the latch circuit with control signal having a large voltage amplitude
US4185321A (en) Semiconductor memory with pulse controlled column load circuit
US5604705A (en) Static random access memory sense amplifier
US4275312A (en) MOS decoder logic circuit having reduced power consumption
JPH11328973A (en) Semiconductor memory device
US6157581A (en) Semiconductor memory having a restore voltage control circuit
EP0063357B1 (en) Drive circuit
JPH04238197A (en) Sense amplifier circuit
KR100773348B1 (en) High voltage generating circuit and semiconductor memory device comprising the same
KR100357425B1 (en) Semiconductor memory device
JPH0235694A (en) Semiconductor memory
JPH1069796A (en) Semiconductor integrated circuit provided with high speed test function
US6300801B1 (en) Or gate circuit and state machine using the same
US6434071B1 (en) Circuit and method of selectively activating feedback devices for local bit lines in a memory
US6275099B1 (en) High-voltage pump architecture for integrated electronic devices
JPH0212694A (en) Semiconductor memory
JPS5846797B2 (en) semiconductor memory
JPH0950696A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0658760B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPS61270921A (en) Decoder circuit
JPH07211094A (en) Semiconductor memory device
JPH0616360B2 (en) MOS-type read-only memory device