JP2022102747A - Laminate and decorative member - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層体および加飾部材に関する。 The present invention relates to a laminated body and a decorative member.
従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する装飾部材としては、基材に例えばインジウム等の金属を真空蒸着して得られる、島状構造を有する金属層を形成した部材が知られている。 Conventionally, as a decorative member having electromagnetic wave permeability and metallic luster, a member having a metal layer having an island-like structure, which is obtained by vacuum-depositing a metal such as indium on a base material, is known.
このような部材は、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置の装飾に好適に用いられている。例えば、携帯電話機やスマートフォン、コンピューター等の筐体や、自動車のフロント部分の装飾等に使用されている。さらに、近年ではIoT技術の発達に伴い、家電製品や生活機器等にも通信機能が備えられ、より幅広い分野での応用も期待される。 Since such a member has both a high-class appearance derived from its metallic luster and electromagnetic wave transmission, it is suitably used for decoration of a device for transmitting and receiving electromagnetic waves. For example, it is used for housings of mobile phones, smartphones, computers, etc., and decoration of the front part of automobiles. Furthermore, in recent years, with the development of IoT technology, home appliances and household appliances are also equipped with communication functions, and are expected to be applied in a wider range of fields.
積層体に関して、特許文献1には、透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの片面上に形成された金属層とを備え、金属層は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる不連続な層であって、可視光を透過する層であり、光源は前記透明基材フィルムの金属層側とは反対側に配置され、光源とともに用いられる電磁波透過性ハーフミラー調フィルムが開示されている。 Regarding the laminated body, Patent Document 1 includes a transparent base film and a metal layer formed on one side of the transparent base film, and the metal layer is a discontinuous layer made of aluminum or an aluminum alloy. A layer that transmits visible light, the light source is arranged on the side opposite to the metal layer side of the transparent base film, and an electromagnetic wave transmissive half mirror-like film used together with the light source is disclosed.
しかしながら、前記特許文献1に開示された電磁波透過性ハーフミラー調フィルムでは、入射した光がフィルム内で吸収され、光学的な損失が生じるという課題があることが判った。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れ、光学的な損失を低減した積層体および加飾部材を提供することを目的とする。
However, it has been found that the electromagnetic wave transmissive half mirror-like film disclosed in Patent Document 1 has a problem that incident light is absorbed in the film and optical loss occurs.
The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a laminate and a decorative member having good metallic luster, excellent transparency, and reduced optical loss. ..
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、基体と、基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備え、光学調整層が屈折率が1.75以上の高屈折率層を含み、積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の透過Y値を特定範囲とすることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have a substrate, a metallic luster layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer, and the optical adjustment layer has a refractive index of 1. By setting the transmission Y value when light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminated body on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed, which includes a high refractive index layer of 75 or more, the above-mentioned We have found that the problem can be solved and have completed the present invention.
すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔1〕
基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、
前記光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含み、
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、透過光のCIE-XYZ表色系におけるY値である透過Y値が20%以上である積層体。
〔2〕
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、反射光のCIE-XYZ表色系におけるY値を反射Y値とした場合に、下記式1により算出される吸収Y値が35%以下である、〔1〕に記載の積層体。
吸収Y値=100-透過Y値-反射Y値・・・(式1)
〔3〕
前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む、〔1〕又は〔2〕に記載の積層体。
〔4〕
前記複数の部分は島状に形成されている、〔3〕に記載の積層体。
〔5〕
前記金属光沢層はアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔6〕
前記基体と前記金属光沢層との間に無機酸化物含有層をさらに備える、〔1〕~〔5〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔7〕
前記無機酸化物含有層が酸化インジウム含有層である、〔6〕に記載の積層体。
〔8〕
前記光学調整層が低屈折率層を更に含む、〔1〕~〔7〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔9〕
前記金属光沢層の厚さは、3nm~10nmである、〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔10〕
前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、または金属光沢を付与すべき物品のいずれかである、〔1〕~〔9〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔11〕
透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備える、〔1〕~〔10〕のいずれか1項に記載の積層体。
〔12〕
被着部材と、〔11〕に記載の積層体とを備え、前記積層体が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている、加飾部材。
That is, the present invention is as follows.
[1]
A laminate provided with a substrate, a metallic luster layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer.
The optical adjustment layer includes a high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more.
When light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed, the transmitted Y value, which is the Y value in the CIE-XYZ color system of the transmitted light, is 20%. The above-mentioned laminated body.
[2]
When the Y value of the reflected light in the CIE-XYZ color system when light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed is taken as the reflected Y value. , The laminate according to [1], wherein the absorption Y value calculated by the following formula 1 is 35% or less.
Absorption Y value = 100-Transmission Y value-Reflection Y value ... (Equation 1)
[3]
The laminate according to [1] or [2], wherein the metallic luster layer contains a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part.
[4]
The laminate according to [3], wherein the plurality of portions are formed in an island shape.
[5]
The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the metallic luster layer contains aluminum or an aluminum alloy.
[6]
The laminate according to any one of [1] to [5], further comprising an inorganic oxide-containing layer between the substrate and the metallic luster layer.
[7]
The laminate according to [6], wherein the inorganic oxide-containing layer is an indium oxide-containing layer.
[8]
The laminate according to any one of [1] to [7], wherein the optical adjustment layer further includes a low refractive index layer.
[9]
The laminate according to any one of [1] to [8], wherein the metallic luster layer has a thickness of 3 nm to 10 nm.
[10]
The laminate according to any one of [1] to [9], wherein the substrate is any of a substrate film, a resin molded substrate, a glass substrate, or an article to which metallic luster should be imparted.
[11]
The laminate according to any one of [1] to [10], further comprising a pressure-sensitive adhesive layer made of a transparent pressure-sensitive adhesive.
[12]
A decorative member comprising an adherend member and the laminate according to [11], wherein the laminate is attached to the adhered member via the adhesive layer.
本発明によれば、良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れ、光学的な損失を低減した積層体および加飾部材を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a laminated body and a decorative member having good metallic luster, excellent transparency, and reduced optical loss.
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following, for convenience of explanation, only preferred embodiments of the present invention are shown, but of course, this is not intended to limit the present invention.
<基本構成>
本発明の実施形態にかかる積層体は、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、
前記光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含み、
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、透過光のCIE-XYZ表色系のY値である透過Y値が20%以上である。
<Basic configuration>
The laminate according to the embodiment of the present invention is a laminate including a substrate, a metallic luster layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer.
The optical adjustment layer includes a high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more.
When light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed, the transmitted Y value, which is the Y value of the CIE-XYZ color system of transmitted light, is 20%. That is all.
図1に、本発明の一実施形態による積層体100の概略断面図を示す。また、図2に、本発明の一実施形態による積層体100の金属光沢層表面の電子顕微鏡写真(SEM画像)の一例を示す。
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a laminated
図1に示すように、積層体100は、基体10と、基体10の上に形成された、金属光沢層12と、光学調整層13とを備える。積層体100は、基体10と金属光沢層12との間に無機酸化物含有層11を更に備えていてもよい。金属光沢層12は無機酸化物含有層11の上に形成されることが好ましい。なお、本発明の実施形態に係る積層体100において、基体10と金属光沢層12との間に必要に応じて設けられる層は無機酸化物含有層11に限定されず、その他の層であることもできる。
As shown in FIG. 1, the
無機酸化物含有層11は、その下の面上に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。
It is preferable that the inorganic oxide-containing
図1に示す形態では、金属光沢層12は無機酸化物含有層11上に積層されている。金属光沢層12は複数の部分12aを含む。無機酸化物含有層11上に積層されることにより、これらの部分12aは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間12bによって隔てられる。隙間12bによって隔てられるため、これらの部分12aのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分12aは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。スパッタ粒子が基体10等の基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼす。
In the form shown in FIG. 1, the
なお、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間12bによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。
In addition, the "discontinuous state" as used herein means a state in which they are separated from each other by a
ここで「島状」とは、図2の積層体の金属光沢層の表面の電子顕微鏡写真(SEM画像)に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し、または一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。 Here, the "island-like" means that the particles, which are aggregates of spattered particles, are independent of each other, as shown in the electron micrograph (SEM image) of the surface of the metallic glossy layer of the laminated body in FIG. It means a structure in which these particles are spread so as to be slightly separated from each other or partially in contact with each other.
また、クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
クラック構造の金属光沢層12は、例えば基体上に形成した無機酸化物含有層11上に、金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、無機酸化物含有層11と金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属光沢層12を形成することができる。
The crack structure is a structure in which a metal thin film is divided by cracks.
The
上述のとおり金属光沢層12が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは「島状」とすることが好ましい。
As described above, the mode in which the
本発明の実施形態にかかる積層体は、積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、透過光のCIE-XYZ表色系のY値である透過Y値が20%以上である。 The laminate according to the embodiment of the present invention is a CIE-XYZ color system of transmitted light when light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed. The transmission Y value, which is the Y value, is 20% or more.
本発明の実施形態にかかる積層体における、上記透過Y値(視感透過率)は、積層体における金属光沢層側の面に入射して測定した測定波長の範囲の視感度および光源の光強度で荷重した平均透過率である。
透過Y値は、透過によるデザインの視認性の観点から30%以上であることが好ましい。また、金属光沢外観の観点から65%以下であることが好ましい。
In the laminated body according to the embodiment of the present invention, the transmitted Y value (visual transmittance) is the visual sensitivity in the measurement wavelength range measured by incident on the surface on the metallic gloss layer side of the laminated body and the light intensity of the light source. It is the average transmittance loaded with.
The transmission Y value is preferably 30% or more from the viewpoint of visibility of the design due to transmission. Further, it is preferably 65% or less from the viewpoint of metallic luster appearance.
積層体における透過Y値を特定の範囲とすることにより、優れた電磁波透過性を有し、着色を抑えた金属光沢が得られ、かつ、良好な透明性が得られる。これにより、積層体を被着部材に貼付して加飾部材とした際に、積層体を介しても被着部材の表面形状や色を損なうことなく視認し得る。 By setting the transmission Y value in the laminated body to a specific range, it is possible to obtain excellent electromagnetic wave transmission, metallic luster with suppressed coloring, and good transparency. As a result, when the laminated body is attached to the adhered member to form a decorative member, the laminated body can be visually recognized without damaging the surface shape and color of the adhered member even through the laminated body.
また、本発明の実施形態にかかる積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、反射光のCIE-XYZ表色系におけるY値を反射Y値とした場合に、下記式1により算出される吸収Y値が35%以下であることが好ましい。
吸収Y値=100-透過Y値-反射Y値・・・(式1)
Further, the Y value of the reflected light in the CIE-XYZ color system when light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate according to the embodiment of the present invention on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed. It is preferable that the absorption Y value calculated by the following equation 1 is 35% or less when the reflection Y value is used.
Absorption Y value = 100-Transmission Y value-Reflection Y value ... (Equation 1)
本発明の実施形態にかかる積層体における、上記吸収Y値は透過によるデザインの視認性の観点から30%以上であることが好ましい。また、金属光沢外観の観点から65%以下であることが好ましい。 In the laminated body according to the embodiment of the present invention, the absorption Y value is preferably 30% or more from the viewpoint of visibility of the design due to transmission. Further, it is preferably 65% or less from the viewpoint of metallic luster appearance.
本発明の実施形態にかかる積層体の反射Y値は、分光測色計を用いて、透過Y値は、積分球式分光透過率測定器を用いて、JIS Z 8722に準じて測定できる。
積層体の反射Y値および透過Y値は、金属光沢層の膜厚、及び光学調整層13の膜厚構成により調整できる。
The reflection Y value of the laminate according to the embodiment of the present invention can be measured by using a spectrocolorimeter, and the transmission Y value can be measured by using an integrating sphere type spectrotransmittance measuring device according to JIS Z 8722.
The reflected Y value and the transmitted Y value of the laminated body can be adjusted by adjusting the film thickness of the metallic luster layer and the film thickness configuration of the
反射Y値(視感反射率)は、積層体における金属光沢層12側の面に入射して測定した測定波長の範囲の視感度および光源の光強度で荷重した平均反射率である。
反射Y値は、金属光沢を示す外観を得る観点から10%以上であることが好ましい。また、透過によるデザイン性の観点から25%以下であることが好ましい。
The reflection Y value (visual reflectance) is an average reflectance loaded with the luminosity factor in the measurement wavelength range measured by incident on the surface of the laminated body on the side of the
The reflection Y value is preferably 10% or more from the viewpoint of obtaining an appearance showing metallic luster. Further, it is preferably 25% or less from the viewpoint of designability due to transmission.
また、積層体の電磁波透過性は、シート抵抗と相関を有する。
マイクロ波帯域(28GHz)における電波透過減衰量は、10[-dB]未満であることが好ましく、5[-dB]未満であることがより好ましく、2[-dB]未満であることが更に好ましい。マイクロ波帯域(28GHz)における電波透過減衰量が10[-dB]以上であると、90%以上の電波が遮断されるという問題がある。
Further, the electromagnetic wave permeability of the laminated body has a correlation with the sheet resistance.
The amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (28 GHz) is preferably less than 10 [−dB], more preferably less than 5 [−dB], and even more preferably less than 2 [−dB]. .. When the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (28 GHz) is 10 [−dB] or more, there is a problem that 90% or more of the radio waves are blocked.
積層体の電波透過減衰量およびシート抵抗は、無機酸化物含有層11や金属光沢層12の材質や厚さ等により影響を受ける。
The amount of radio wave transmission attenuation and sheet resistance of the laminated body are affected by the material and thickness of the inorganic oxide-containing
<基体>
本実施形態にかかる積層体において、基体10としては、電磁波透過性の観点から、例えば、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
基体10は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、または金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリスチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル系樹脂(PMMA)、ABSなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。
<Hypokeimenon>
In the laminated body according to the present embodiment, examples of the
The
More specifically, examples of the base film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), and polystyrene. , Polypropylene (PP), polyethylene, polycycloolefin, polyurethane, acrylic resin (PMMA), ABS and other homopolymers and copolymers can be used.
これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、無機酸化物含有層11や金属光沢層12を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ABS、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリル系樹脂が好ましい。
According to these members, the brilliance and the electromagnetic wave transmission are not affected. However, from the viewpoint of later forming the inorganic oxide-containing
基材フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、6μm~250μm程度が好ましい。無機酸化物含有層11や金属光沢層12との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
基体10が基材フィルムの場合、金属光沢層12は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。
The base film may be a single-layer film or a laminated film. From the viewpoint of ease of processing and the like, the thickness is preferably, for example, about 6 μm to 250 μm. Plasma treatment or easy-adhesion treatment may be performed in order to strengthen the adhesive force with the inorganic oxide-containing
When the
基材フィルムは、必要に応じて平滑性、あるいは防眩性ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、金属薄膜の擦傷性を向上させる事ができる。平滑性ハードコート層が設けられることにより、金属光沢感が増し、逆に防眩性ハードコート層によりギラツキを防止する事ができる。ハードコート層は、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布する事により形成できる。 The base film may be formed with a smooth or antiglare hard coat layer, if necessary. By providing the hard coat layer, the scratch resistance of the metal thin film can be improved. By providing the smooth hard coat layer, the metallic luster is increased, and conversely, the anti-glare hard coat layer can prevent glare. The hard coat layer can be formed by applying a solution containing a curable resin.
硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂があげられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、およびエポキシ系樹脂が好ましい。 Examples of the curable resin include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and electron beam curable resins. Examples of the curable resin include various resins such as polyester-based, acrylic-based, urethane-based, acrylic-urethane-based, amide-based, silicone-based, silicate-based, epoxy-based, melamine-based, oxetane-based, and acrylic urethane-based resins. As these curable resins, one kind or two or more kinds can be appropriately selected and used. Among these, acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured by ultraviolet rays, and are excellent in productivity.
ここで、基材フィルムは、その表面上に金属光沢層12を形成することができる対象(基体10)の一例にすぎない点に注意すべきである。基体10には、上記のとおり基材フィルムの他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型物基材、および金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
It should be noted here that the base film is only an example of an object (base 10) on which the
金属光沢層12は、これら全ての基体上に形成することができ、基体の表面の一部に形成してもよく、基体の表面の全てに形成してもよい。この場合、金属光沢層12を付与すべき基体10は、上記の基材フィルムと同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。
The
<無機酸化物含有層>
また、一実施形態に係る積層体100、図1に示されるように、基体10と金属光沢層12の間に、無機酸化物含有層11をさらに備えてもよい。無機酸化物含有層11は、連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、無機酸化物含有層11、ひいては、金属光沢層12や積層体100の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、無機酸化物含有層11を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
<Inorganic oxide-containing layer>
Further, as shown in FIG. 1 of the
このように、基体10と金属光沢層12の間に、無機酸化物含有層11をさらに備えること、すなわち、基体10の上に無機酸化物含有層11を形成し、その上に金属光沢層12を形成することによれば、金属光沢層12を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、基体10上に無機酸化物含有層11を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属光沢層12を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。
As described above, the inorganic oxide-containing
無機酸化物含有層11としては、酸化インジウム含有層であることが好ましく、酸化インジウム(In2O3)そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)や、インジウム亜鉛酸化物(IZO)のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したITOやIZOの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これら無機酸化物含有層11を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、無機酸化物含有層11の上に積層される金属光沢層12を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属光沢層12に、クロム(Cr)またはインジウム(In)だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含めやすくなる。
The inorganic oxide-containing
ITOに含まれる酸化錫(SnО2)の質量比率である含有率(含有率=(SnO2/(In2O3+SnO2))×100)は特に限定されるものではないが、例えば、2.5質量%~30質量%、より好ましくは、3質量%~10質量%である。また、IZOに含まれる酸化亜鉛(ZnO)の質量比率である含有率(含有率=(ZnO/(In2O3+ZnO))×100)は、例えば、2質量%~20質量%である。
無機酸化物含有層11の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常100nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、20nm以下が更に好ましい。一方、積層される金属光沢層12を不連続状態としやすくするためには、1nm以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、3nm以上であることがより好ましく、5nm以上であることが更に好ましい。
The content rate (content rate = (SnO 2 / (In 2 O 3 + SnO 2 )) × 100), which is the mass ratio of tin oxide (SnО 2 ) contained in ITO, is not particularly limited, but is not particularly limited, for example, 2 It is 5.5% by mass to 30% by mass, more preferably 3% by mass to 10% by mass. Further, the content rate (content rate = (ZnO / (In 2 O 3 + ZnO)) × 100), which is the mass ratio of zinc oxide (ZnO) contained in IZO, is, for example, 2% by mass to 20% by mass.
The thickness of the inorganic oxide-containing
<金属光沢層>
金属光沢層12は基体上に形成される。金属光沢層12は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことが好ましい。金属光沢層12に含まれる金属は、アルミニウムまたはアルミニウム合金が好ましい。
金属光沢層12が基体上で連続状態である場合、十分な光輝性は得られるものの、電波透過減衰量が非常に大きくなり、従って、電磁波透過性を確保することはできない。
<Metallic luster layer>
The
When the
金属光沢層12が基体上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属光沢層12の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属光沢層12が付与される基体上での表面拡散と関連性があり、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。
The details of the mechanism by which the
ここで、複数の部分12aの平均粒径とは、複数の部分12aの円相当径の平均値を意味する。部分12aの円相当径とは、部分12aの面積に相当する真円の直径のことである。
金属光沢層12の部分12aの円相当径は特に限定されないが、通常10~1000nm程度である。また、各部分12a同士の距離は特に限定されないが、通常は10~1000nm程度である。
Here, the average particle size of the plurality of
The equivalent circle diameter of the
金属光沢層が含む互いに不連続の状態にある複数の部分12aの平均粒径を上記の範囲とすることにより、高い電磁波透過性を維持したまま、光輝性がより向上できる。
By setting the average particle size of the plurality of
金属光沢層12は、十分な光輝性および良好な透明性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが好ましい。金属光沢層12は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。
このような理由から、金属光沢層12としては、融点が約1000℃以下の金属が適しており、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含有するのが好ましい。
金属光沢層12としては、特に、光輝性や透明性、価格等の理由からAlおよびそれらの合金であることが好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を50質量%以上とすることが好ましい。
It is preferable that the
For this reason, the
The
金属光沢層12の厚さは、十分な光輝性および良好な透明性を発揮するには3nm以上であることが好ましく、4nm以上であることがより好ましく、5nm以上であることがさらに好ましい。また、透過Y値を所定の範囲としやすくする観点から15nm以下であることが好ましく、12nm以下であることがより好ましく、10nm以下であることがさらに好ましい。
この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である加飾部材や樹脂成形品の見栄えも良い。
The thickness of the
This thickness is also suitable for forming a uniform film with good productivity, and the appearance of the final product, such as a decorative member or a resin molded product, is also good.
金属光沢層のシート抵抗は、100Ω/□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、5GHzの波長において、10[-dB]未満となる。更に好ましくは、1000Ω/□以上である。 The sheet resistance of the metallic luster layer is preferably 100 Ω / □ or more. In this case, the electromagnetic wave transmission is less than 10 [−dB] at a wavelength of 5 GHz. More preferably, it is 1000 Ω / □ or more.
積層体100のシート抵抗も、100Ω/□以上であるのが好ましい。
シート抵抗は、電磁波透過性の観点から、200Ω/□以上であるのがより好ましく、600Ω/□以上であることが更に好ましく、より更に好ましくは、1000Ω/□以上である。このシート抵抗の値は、金属光沢層12の材質や厚さは勿論のこと、無機酸化物含有層11の材質や厚さからも大きな影響を受ける。
The sheet resistance of the
From the viewpoint of electromagnetic wave transmission, the sheet resistance is more preferably 200 Ω / □ or more, further preferably 600 Ω / □ or more, still more preferably 1000 Ω / □ or more. The value of this sheet resistance is greatly affected not only by the material and thickness of the
<光学調整層>
本発明の実施形態に係る積層体は、上述のように、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備え、光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含む。
本発明の実施形態に係る積層体は、図3に示すように基体10上に、金属光沢層12、光学調整層13をこの順に備えるものであってもよく、図4に示すように基体10上に、光学調整層13、金属光沢層12をこの順に備えるものであってもよい。
本発明の実施形態に係る積層体は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含む光学調整層13を備えることにより光の波長による反射スペクトルを調整し、光学的な損失を抑制することを可能とする。
<Optical adjustment layer>
As described above, the laminate according to the embodiment of the present invention includes a substrate, a metallic luster layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer, and the optical adjustment layer has a refractive index of 1.75 or more. Includes a high index of refraction layer.
The laminate according to the embodiment of the present invention may have the
The laminate according to the embodiment of the present invention includes an
光学調整層13は、金属酸化物及び/又は金属窒化物からなる層であることが好ましい。なお、ここでいう金属酸化物、金属窒化物に含有される金属元素には、Si等の半金属元素が包含される。また、金属酸化物及び/又は金属窒化物には、金属酸窒化物が包含される。また、金属酸化物は、単独の金属元素の酸化物(単独酸化物)であってもよく、複数の金属元素の酸化物(複合酸化物)であってもよい。同様に、金属窒化物は、単独の金属元素の窒化物(単独窒化物)であってもよく、複数の金属元素の窒化物(複合窒化物)であってもよい。
金属元素としては、例えば、Ce、Nb、Si、Sb、Ti、Ta、Zr、Znなどが挙げられる。
The
Examples of the metal element include Ce, Nb, Si, Sb, Ti, Ta, Zr, Zn and the like.
光学調整層13の材料として、より具体的には、例えば、CeO2(2.30)、NbO(2.33)、Nb2O3(2.15)、Nb2O5(2.20)、SiO2(1.46)、SiN(2.03)、Sb2O3(2.10)、TiO2(2.35)、Ta2O5(2.10)、ZrO2(2.05)、ZnO(2.10)、ZnS(2.30)などが挙げられる(上記各材料の括弧内の数値は屈折率である)。
特に、光学調整層13は、Nb、Si、Tiより選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、例えばNbO、SiO2、TiO2より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。
More specifically, as the material of the
In particular, the
光学調整層13の厚みは、10nm~500nmであることが好ましい。コストの観点から、300nm以下であることがより好ましく、200nm以下であることが更に好ましい。また、15nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、30nm以上であることが更に好ましい。
光学調整層13の厚みは、例えば、表面に垂直方向(厚み方向)の断面を露出させたうえ、透過型電子顕微鏡を用いて測定することができる。
The thickness of the
The thickness of the
光学調整層13の屈折率は、1.8以上が好ましく、2.0以上がより好ましい。
The refractive index of the
また、光学調整層13は屈折率の異なる層の積層体であってもよく、低屈折率層を更に備えていてもよい。
屈折率1.35~1.55程度の低屈折率層を形成する低屈折率材料としては、例えば、酸化珪素、フッ化マグネシウム等が挙げられ、酸化珪素が好ましい。また、屈折率1.80~2.40程度の高屈折率層を形成する高屈折率材料として、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)等が挙げられ、酸化ニオブが好ましい。
また、低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率1.50~1.85程度の中屈折率層として、例えば、酸化チタンや、上記低屈折率材料と高屈折率材料の混合物(酸化チタンと酸化珪素との混合物等)からなる薄膜を形成してもよい。
Further, the
Examples of the low refractive index material forming the low refractive index layer having a refractive index of about 1.35 to 1.55 include silicon oxide and magnesium fluoride, and silicon oxide is preferable. Further, as a high refractive index material forming a high refractive index layer having a refractive index of about 1.80 to 2.40, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), etc. However, niobium oxide is preferable.
Further, in addition to the low refractive index layer and the high refractive index layer, as a medium refractive index layer having a refractive index of about 1.50 to 1.85, for example, titanium oxide or a mixture of the low refractive index material and the high refractive index material is used. A thin film made of (a mixture of titanium oxide and silicon oxide, etc.) may be formed.
本発明の実施形態に係る積層体は、光学調整層が、低屈折率層、及び高屈折率層を含むことが好ましい。 In the laminate according to the embodiment of the present invention, it is preferable that the optical adjustment layer includes a low refractive index layer and a high refractive index layer.
例えば、図3及び図4に示すように、積層体101及び積層体102は、基体10と、金属光沢層12と、光学調整層13とを備え、光学調整層13は低屈折率層13bと、高屈折率層13aとの積層体であってもよい。また、積層体101及び積層体102は、更に後述のバリア層や無機酸化物含有層11を有していても良い。
For example, as shown in FIGS. 3 and 4, the laminate 101 and the laminate 102 include a
例えば、図3に示すように、積層体101は、基体10と、金属光沢層12と、光学調整層13とをこの順に備え、基体10と金属光沢層12との間に第一のバリア層14及び無機酸化物含有層11を有していてもよい。更に、光学調整層13の金属光沢層12とは反対側の面に第二のバリア層15を有していてもよい。
For example, as shown in FIG. 3, the laminate 101 includes a
また、図4に示すように、積層体102は、基体10と、光学調整層13と、金属光沢層12とをこの順に備え、基体10と光学調整層13との間に第一のバリア層14を有していてもよい。更に、光学調整層13と金属光沢層12との間に無機酸化物含有層11を有していてもよい。更に金属光沢層12の光学調整層13とは反対側の面に第二のバリア層15を有していてもよい。
Further, as shown in FIG. 4, the
低屈折率層の厚みは、透過Y値を所望の範囲に調整する観点から10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、30nm以上であることがさらに好ましい。また、透過Y値を所望の範囲に調整する観点から200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましく、100nm以下であることがさらに好ましい。
高屈折率層の厚みは、透過Y値を所望の範囲に調整する観点から10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、30nm以上であることがさらに好ましい。また、透過Y値を所望の範囲に調整する観点から200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましく、100nm以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the low refractive index layer is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, still more preferably 30 nm or more, from the viewpoint of adjusting the transmission Y value to a desired range. Further, from the viewpoint of adjusting the transmission Y value to a desired range, it is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and further preferably 100 nm or less.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, still more preferably 30 nm or more, from the viewpoint of adjusting the transmission Y value to a desired range. Further, from the viewpoint of adjusting the transmission Y value to a desired range, it is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and further preferably 100 nm or less.
また、光学調整層13の積層構成としては、基体10側から、膜厚240nm~260nmの高屈折率層と、膜厚120nm~140nmの低屈折率層との2層構成;膜厚170nm~180nmの中屈折率層と、膜厚60nm~70nm程度の高屈折率層と、膜厚135nm~145nm程の低屈折率層との3層構成;膜厚25nm~55nmの高屈折率層と、膜厚35nm~55nmの低屈折率層と、膜厚80nm~240nmの高屈折率層と、膜厚120nm~150nmの低屈折率層との4層構成;膜厚15nm~30nmの低屈折率層と、膜厚20nm~40nmの高屈折率層と、膜厚20nm~40nmの低屈折率層と、膜厚240nm~290nmの高屈折率層と、膜厚100nm~200nmの低屈折率層との5層構成等が挙げられる。光学調整層13を構成する薄膜の屈折率や膜厚の範囲は上記例示に限定されない。また、光学調整層13は、6層以上の薄膜の積層体でもよい。
The laminated structure of the
なお、積層体100は光学調整層13を複数層備えてもよい。
例えば、酸化物によっては、酸化ニオブのように、粘着剤と積層された状態で紫外光を受けると還元される物質もあり、還元作用を防ぐために、更に保護層として酸化珪素からなる層を積層していても良い。
The
For example, some oxides, such as niobium oxide, are reduced when exposed to ultraviolet light while being laminated with an adhesive, and in order to prevent the reducing action, a layer made of silicon oxide is further laminated as a protective layer. You may be doing it.
本発明の実施形態に係る積層体は、基体10、金属光沢層12、及び光学調整層13の他に、用途に応じてその他の層を備えていてもよい。
その他の層としては、例えば、ハードコート層、バリア層、易接着層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
The laminate according to the embodiment of the present invention may include other layers depending on the application, in addition to the
Examples of other layers include a hard coat layer, a barrier layer, an easy-adhesion layer, an antireflection layer, a light extraction layer, an anti-glare layer and the like.
<バリア層>
本実施形態の積層体は、バリア層を備えていてもよい。バリア層は複数設けることができる。
上述のように、例えば、図3に示す積層体101は、基体10と金属光沢層12との間に第一のバリア層14及び無機酸化物含有層11を有していてもよい。更に、光学調整層13の金属光沢層12とは反対側の面に第二のバリア層15を有していてもよい。
<Barrier layer>
The laminated body of this embodiment may include a barrier layer. A plurality of barrier layers can be provided.
As described above, for example, the laminate 101 shown in FIG. 3 may have a
第一のバリア層14および第二のバリア層15について説明する。第一のバリア層14および第二のバリア層15は、それぞれ同じ材質であっても、異なる材質であってもよい。またその他の条件についても第一のバリア層14および第二のバリア層15はそれぞれ独立して設定することができる。
The
第一のバリア層14および第二のバリア層15は、基体10側およびその反対側(金属光沢層側)からのH2OやO2の侵入を防ぎ、金属光沢層12の酸化を抑え、経時での信頼性、とくに高温雰囲気下での信頼性を高めることができる。
The
第一のバリア層14および第二のバリア層15は、金属および半金属の少なくとも1種の酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。金属としては、例えば、アルミニウム、チタン、インジウム、マグネシウムなどを用いることができ、半金属としては、例えば、ケイ素、ビスマス、ゲルマニウムなどを用いることができる。
The
具体的には、例えばZnO+Al2O3(AZO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化インジウム錫(ITO)、酸化炭化窒化ケイ素膜(SiOCN)、酸化窒化ケイ素膜(SiON)、窒化ケイ素膜(SiN)、SiOX、AlOX、AlON、TiOX等を用いることができる。中でも、AZO、ITO、AlOX及びSiO2からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。 Specifically, for example, ZnO + Al 2 O 3 (AZO), indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), silicon nitride silicon nitride film (SiOCN), silicon nitride film (SiON), silicon nitride film (SiN). ), SiO X , AlO X , AlON, TiO X and the like can be used. Above all, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of AZO, ITO, AlOX and SiO 2 .
第一のバリア層14および第二のバリア層15が金属光沢層12の酸化(腐食)を抑制する性能(以下「バリア性」ともいう)の向上のためには、バリア層内におけるネットワーク構造(網目状の構造)を緻密にするような炭素、窒素を含むことが好ましい。さらに透明性を向上させるためには、酸素を含有していることが好ましい。すなわち、バリア層は、金属および半金属の少なくとも1種の酸化窒化炭化物を含むことが好ましい。
In order to improve the ability of the
また、バリア性の向上のためには、第一のバリア層14および第二のバリア層15は水蒸気を透過しにくいことが好ましい。第一のバリア層14および第二のバリア層15の水蒸気透過率は、5g/(m2・day)以下であることが好ましく、3g/(m2・day)以下であることがより好ましく、2g/(m2・day)以下であることが更に好ましい。
Further, in order to improve the barrier property, it is preferable that the
第一のバリア層14および第二のバリア層15の厚みは特に限定はされないが、バリア性を向上させるためには1nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上が更に好ましい。また、電磁波透過性や外観の金属光沢感を向上させるためには100nm以下が好ましく、80nm以下がより好ましく、60nm以下が更に好ましい。バリア層の厚みは、実施例に記載の方法により測定される。
なお、第二のバリア層15は金属光沢層12上に積層されている場合、必ずしも隙間12bを完全に埋めていなくてもよい。
The thicknesses of the
When the
本実施形態の積層体には、本発明の効果を奏する限りにおいて上述の金属光沢層12、及び光学調整層13の他に、用途に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、粘着剤層等の樹脂層、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層(耐擦傷性層)等が挙げられる。
In addition to the
<樹脂層>
本実施形態の積層体は、更に樹脂層を備えていてもよい。樹脂層は、金属光沢層12の基体10側の面と反対側の面に備えていてもよく金属光沢層上に形成してもよい。
<Resin layer>
The laminate of the present embodiment may further include a resin layer. The resin layer may be provided on the surface of the
樹脂層は、粘着剤層、下地または上地との密着性を改良する密着層、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層(耐擦傷性層)、易接着層、上述したハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等であってもよい。
樹脂層は複数設けることができる。
The resin layer includes an adhesive layer, an adhesive layer for improving the adhesion to the base or the upper ground, a protective layer (scratch resistant layer) for improving durability such as moisture resistance and scratch resistance, and an easy-adhesion layer. The above-mentioned hard coat layer, antireflection layer, light extraction layer, anti-glare layer and the like may be used.
A plurality of resin layers can be provided.
本実施形態の積層体は、粘着剤層を介して被着部材に貼付されて用いられてもよい。例えば、積層体を、粘着剤層を介して透明な被着部材に貼付することで被着部材を内側から装飾することができる。 The laminate of the present embodiment may be used by being attached to an adherend member via an adhesive layer. For example, the adherend can be decorated from the inside by attaching the laminate to the transparent adherend through the pressure-sensitive adhesive layer.
積層体が透明な被着部材の視認される側(以下、外側ともいう)の面とは反対側(以下、内側ともいう)の面に対して粘着剤層を介して貼付された場合、被着部材を通して粘着剤層と、金属光沢層が視認される。透明な被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することができるが、これに限定されるものではない。 When the laminate is attached via the adhesive layer to the surface of the transparent adherend member on the side opposite to the visible side (hereinafter, also referred to as the outside) (hereinafter, also referred to as the inside). The adhesive layer and the metallic luster layer are visually recognized through the wearing member. As the transparent adherend member, for example, a member made of glass or plastic can be used, but the transparent member is not limited to this.
粘着剤層は、透明粘着剤からなる層であることが好ましい。本実施形態の積層体は、粘着剤層を介して被着部材に貼付されて用いられてもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer is preferably a layer made of a transparent pressure-sensitive adhesive. The laminate of the present embodiment may be used by being attached to an adherend member via an adhesive layer.
粘着剤層を形成する粘着剤は透明粘着剤であれば特に限定されず、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤のいずれかを単独で、あるいは、2種類以上を組み合わせて使用することができる。透明性、加工性および耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it is a transparent pressure-sensitive adhesive. , And either of the polyether adhesives can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of transparency, processability, durability and the like, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive.
粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄くすることで最終製品構成の薄型化への寄与や可視光透過性や膜厚精度、平坦性を向上させることができるため、100μm以下であることが好ましく、75μm以下であることがより好ましく、50μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but it should be 100 μm or less because thinning it contributes to thinning of the final product configuration and improves visible light transmission, film thickness accuracy, and flatness. It is more preferably 75 μm or less, and even more preferably 50 μm or less.
粘着剤層全体の透過Y値は特に限定はされないが、JIS K7361に従って測定した任意の可視光波長における値で10%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、50%以上であることがさらに好ましい。粘着剤層の透過Y値は、高いほど好ましい。 The transmitted Y value of the entire pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, and more preferably 50% or more at an arbitrary visible light wavelength measured according to JIS K7361. Is more preferable. The higher the permeation Y value of the pressure-sensitive adhesive layer, the more preferable.
また、粘着剤層を構成する透明粘着剤は着色されていてもよい。
この場合、良好な透明性を有する金属光沢層を介して着色された粘着剤層が視認されることとなるので、積層体は粘着剤層の色調を変えることなく着色された金属光沢を発現することができる。
Further, the transparent adhesive constituting the adhesive layer may be colored.
In this case, the colored pressure-sensitive adhesive layer is visually recognized via the metallic luster layer having good transparency, so that the laminate develops the colored metallic luster without changing the color tone of the pressure-sensitive adhesive layer. be able to.
透明粘着剤を着色する方法は特に限定されないが、例えば色素を微量添加することにより着色することができる。 The method for coloring the transparent pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but for example, it can be colored by adding a small amount of a dye.
粘着剤層の上には、被着部材に貼付する際まで粘着剤層を保護するために、剥離ライナーを設けてもよい。 A release liner may be provided on the pressure-sensitive adhesive layer in order to protect the pressure-sensitive adhesive layer until it is attached to the adherend member.
密着層としては、下地または上地との密着性を改良する層であれば、特に制限されないが、例えば透明であるSiOxからなる層をスパッタリング等によって設けることもできる。 The adhesion layer is not particularly limited as long as it is a layer that improves the adhesion to the base or the upper ground, but for example, a transparent layer made of SiOx may be provided by sputtering or the like.
<積層体の製造>
積層体の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
<Manufacturing of laminated body>
An example of a method for manufacturing a laminated body will be described. Although not particularly described, it can be produced by the same method when a substrate other than the substrate film is used.
金属光沢層12及び光学調整層13を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。
In forming the
また、第一のバリア層14および第二のバリア層15を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。
Further, in forming the
また、無機酸化物含有層11として酸化インジウム含有層を形成する場合には、金属光沢層12の形成に先立ち、酸化インジウム含有層を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成する。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
When the indium oxide-containing layer is formed as the inorganic oxide-containing
<加飾部材>
本実施形態に係る加飾部材は、被着部材と、上述の積層体とを備え、前記積層体が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている。
<Decorative members>
The decorative member according to the present embodiment includes an adherend member and the above-mentioned laminate, and the laminate is attached to the adhered member via the adhesive layer.
本実施形態の加飾部材は、積層体が、粘着剤層を介して、被着部材に貼付されている。
本実施形態の積層体は、光学的損失を抑制するため、金属光沢及び視認性に優れるため、被着部材の表面に設けた意匠、色および質感をそのまま活かしつつ被着部材を装飾した加飾部材を得ることができる。
In the decorative member of the present embodiment, the laminated body is attached to the adherend member via the adhesive layer.
Since the laminate of the present embodiment has excellent metallic luster and visibility in order to suppress optical loss, the adherend is decorated while utilizing the design, color and texture provided on the surface of the adhered member as it is. Members can be obtained.
積層体は、透明な被着部材の内側の面に貼付して用いてもよい。透明な被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することもできるが、これに限定されるものではない。 The laminate may be used by being attached to the inner surface of the transparent adherend member. As the transparent adherend member, for example, a member made of glass or plastic can be used, but the transparent member is not limited to this.
積層体に粘着剤層を設ける場合、粘着剤層は、粘着剤層を設ける面に粘着剤組成物を塗布等することや離型フィルムに形成した粘着剤層を転写することにより形成できる。
粘着剤組成物の塗布は、慣用のコーター、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどを用いて行うことができる。乾燥温度は、適宜採用可能であるが、好ましくは40℃~200℃であり、さらに好ましくは、50℃~180℃であり、特に好ましくは70℃~120℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、さらに好ましくは5秒~10分、特に好ましくは、10秒~5分である。
When the pressure-sensitive adhesive layer is provided on the laminate, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying the pressure-sensitive adhesive composition to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided or by transferring the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release film.
The pressure-sensitive adhesive composition can be applied using a conventional coater, for example, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, or the like. The drying temperature can be appropriately adopted, but is preferably 40 ° C. to 200 ° C., more preferably 50 ° C. to 180 ° C., and particularly preferably 70 ° C. to 120 ° C. As the drying time, an appropriate time may be adopted as appropriate. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 10 minutes, and particularly preferably 10 seconds to 5 minutes.
積層体を被着部材に貼付する方法は特に限定されないが、例えば真空成形により貼付することができる。真空成形とは、積層体を加熱軟化しつつ展張し、積層体の被着部材側の空間を減圧し、必要に応じ反対側の空間を加圧することにより、積層体を被着部材の表面の三次元立体形状に沿って成形しつつ貼付積層する方法である。
積層体としては、上述の説明をそのまま援用し得る。
The method of attaching the laminate to the adherend member is not particularly limited, but the laminate can be attached, for example, by vacuum forming. In vacuum forming, the laminated body is stretched while being heated and softened, the space on the side of the adhered member of the laminated body is depressurized, and the space on the opposite side is pressurized as necessary, so that the laminated body is formed on the surface of the adhered member. This is a method of pasting and laminating while forming along a three-dimensional three-dimensional shape.
As the laminated body, the above description can be used as it is.
<積層体および加飾部材の用途>
本実施形態の積層体および加飾部材は、電磁波を送受信する装置や物品およびその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
<Use of laminated bodies and decorative members>
The laminated body and the decorative member of the present embodiment are preferably used for devices, articles, and parts thereof that transmit and receive electromagnetic waves. For example, applications for household goods such as structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies, etc. , Medical equipment, building material parts, other structural parts, exterior parts, etc.
より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ECUボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。 More specifically, in the vehicle field, instrument panels, console boxes, door knobs, door trims, shift levers, pedals, glove boxes, bumpers, bonnets, fenders, trunks, doors, roofs, pillars, seats, steering wheels. , ECU box, electrical parts, engine peripheral parts, drive system / gear peripheral parts, intake / exhaust system parts, cooling system parts and the like.
電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型PC、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。 More specifically as electronic devices and home appliances, home appliances such as refrigerators, washing machines, vacuum cleaners, microwave ovens, air conditioners, lighting equipment, electric water heaters, TVs, watches, ventilation fans, projectors, speakers, personal computers, mobile phones , Smartphones, digital cameras, tablet PCs, portable music players, portable game machines, chargers, electronic information devices such as batteries, and the like.
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。積層体を作製し評価を行った。なお、基体10としては、基材フィルムを用いた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. A laminate was prepared and evaluated. As the
評価方法の詳細は以下のとおりである。
<透過特性>
分光光度計U4100((株)日立ハイテクノロジーズ製)で、標準光源D65により波長380nm~780nmの範囲の可視光線を積層体の金属光沢層側の面に入射して透過率測定を行い、透過特性(透過Y値(%))を得た。得られた透過Y値を表1に記載した。
The details of the evaluation method are as follows.
<Transparency characteristics>
With a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), visible light in the wavelength range of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the metallic luster layer side by a standard light source D65, and the transmittance is measured. (Transmission Y value (%)) was obtained. The obtained transmission Y values are shown in Table 1.
<反射特性>
分光光度計U4100((株)日立ハイテクノロジーズ製)で、標準光源D65により波長380nm~780nmの範囲の可視光線を積層体の金属光沢層側の面に入射して反射率測定を行い、反射特性(反射Y値(%))を得た。得られた反射Y値を表1に記載した。
<Reflection characteristics>
With a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), visible light with a wavelength in the range of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the metallic luster layer side by a standard light source D65 to measure the reflectance and reflect characteristics. (Reflection Y value (%)) was obtained. The obtained reflection Y values are shown in Table 1.
<吸収Y値>
上記で得られた透過Y値及び反射Y値を用いて、下記式1により吸収Y値(%)を算出した。
吸収Y値(%)=100-透過Y値-反射Y値・・・(式1)
<Absorption Y value>
Using the transmission Y value and the reflection Y value obtained above, the absorption Y value (%) was calculated by the following formula 1.
Absorption Y value (%) = 100-Transmission Y value-Reflection Y value ... (Equation 1)
<金属光沢層の厚み>
金属光沢層におけるバラツキ、更に詳細には、図2に示す部分12aの厚さにおけるバラツキを考慮して、部分12aの厚さの平均値を金属光沢層の厚みとした。
なお、個々の部分12aの厚さは、基体10から垂直方向に最も厚いところの厚さとした。以下、この平均値を、便宜上、「最大の厚さ」と呼ぶ。図6に、積層体の一部断面の電子顕微鏡写真(TEM画像)の例を示す。
最大の厚さを求めるに際し、まず、図6に示すような積層体の表面に現れた金属光沢層において、図5に示すような一辺5cmの正方形領域3を適当に抽出し、該正方形領域3の縦辺および横辺それぞれの中心線A、Bをそれぞれ4等分することによって得られる計5箇所の点「a」~「e」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図6に示すような断面画像において、おおよそ5個の部分12aが含まれる視野角領域を抽出した。これら計5箇所の測定箇所それぞれにおける、おおよそ5個の部分12a、即ち、25個(5個×5箇所)の部分12aの個々の厚さ(nm)を求め、それらの平均値を「最大の厚さ」とした。
<Thickness of metallic luster layer>
Considering the variation in the metallic luster layer, and more specifically, the variation in the thickness of the
The thickness of each
In obtaining the maximum thickness, first, in the metallic luster layer appearing on the surface of the laminate as shown in FIG. 6, a
Next, in the cross-sectional image as shown in FIG. 6 at each of the selected measurement points, a viewing angle region including approximately five
<第一のバリア層および第二のバリア層の膜厚>
第一のバリア層および第二のバリア層の膜厚は、前記金属光沢層の膜厚を求めるのに用いた25個の各最大高さを示した点を測定箇所とし、断面TEM画像を用いて下記のように算出した。
断面TEM画像において、基体10から部分12aに向かって垂直な線を引いた際の第一のバリア層の上面との交点を交点1、第一のバリア層の下面との交点を交点2とした場合における交点1と交点2との距離を算出し、25個の平均値を第一のバリア層の厚みとした。
前記金属光沢層の膜厚を求めるのに用いた25個の各最大高さを示した点と、その点から基体10に対し垂直方向に伸ばした直線を引いた際の第二のバリア層の上面との交点を交点3、第二のバリア層の下面との交点を交点4とした場合における交点3と交点4との距離を算出し、25個の平均値を第二のバリア層の膜厚とした。
金属光沢層上に直接第二のバリア層を設けた場合は、金属光沢層の厚みを求めるのに用いた25個の各最大高さを示した点と、その点を基体10に対し垂直方向に伸ばした直線と第二のバリア層表面との交点との距離の、25個の平均値を第二のバリア層の膜厚とした。
<Film thickness of the first barrier layer and the second barrier layer>
For the film thickness of the first barrier layer and the second barrier layer, the points showing the maximum heights of the 25 pieces used to determine the film thickness of the metallic luster layer were set as measurement points, and a cross-sectional TEM image was used. It was calculated as follows.
In the cross-sectional TEM image, the intersection with the upper surface of the first barrier layer when a vertical line is drawn from the
The points showing the maximum heights of the 25 pieces used to determine the film thickness of the metallic glossy layer, and the second barrier layer when a straight line extending in the direction perpendicular to the
When the second barrier layer is provided directly on the metallic luster layer, the points showing the maximum heights of the 25 pieces used to determine the thickness of the metallic luster layer and the points perpendicular to the
[実施例1]
基体として、東レ株式会社製PETフィルム50-U483(厚さ50μm)に厚み1.5μmの紫外線硬化樹脂層(ハードコート層)を形成し、紫外線硬化樹脂層付き基材フィルムを得た。
先ず、マグネトロンスパッタリング装置にSiターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、紫外線硬化樹脂層上に第一のバリア層としてのSiO2層を厚さ20nmで形成した。
次いで、マグネトロンスパッタリング装置にITOターゲットを取り付け、Arガスを導入しながらスパッタリングをすることで基材フィルムの面に沿って、無機酸化物含有層としてのITO層を厚さ5nmでSiO2層の上に形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム(Al)ターゲットを取り付け、Arガスを導入しながらスパッタリングすることでITO層の上に金属光沢層としてのAl層を厚さ6nmで形成した。得られたAl層は図2で示すような不連続層であった。
[Example 1]
As a substrate, an ultraviolet curable resin layer (hard coat layer) having a thickness of 1.5 μm was formed on a PET film 50-U483 (thickness 50 μm) manufactured by Toray Industries, Inc. to obtain a substrate film with an ultraviolet curable resin layer.
First, a Si target is attached to a magnetron sputtering device, and sputtering is performed while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, so that the SiO 2 layer as the first barrier layer is formed on the ultraviolet curable resin layer at a thickness of 20 nm. Formed.
Next, an ITO target is attached to a magnetron sputtering apparatus, and by sputtering while introducing Ar gas, an ITO layer as an inorganic oxide-containing layer is formed on a SiO 2 layer having a thickness of 5 nm along the surface of the base film. Formed in.
Next, an aluminum (Al) target was attached to the magnetron sputtering apparatus, and the Al layer as a metallic luster layer was formed on the ITO layer with a thickness of 6 nm by sputtering while introducing Ar gas. The obtained Al layer was a discontinuous layer as shown in FIG.
次に、マグネトロンスパッタリング装置にNbターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、Al層上に光学調整層としてNbOx層(屈折率2.33の高屈折率層)を厚さ180nmで形成した。 Next, by attaching an Nb target to the magnetron sputtering device and performing sputtering while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, an NbOx layer (high refractive index of 2.33) is used as an optical adjustment layer on the Al layer. The layer) was formed to a thickness of 180 nm.
続いて、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム(Al)ターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングすることでNbOx層の上に第二のバリア層としてのAlOx層を厚さ20nmで形成し、積層体を得た。 Subsequently, an aluminum (Al) target is attached to the magnetron sputtering apparatus, and the AlOx layer as the second barrier layer is formed on the NbOx layer at a thickness of 20 nm by sputtering while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas. It was formed and a laminate was obtained.
以上により基材フィルム、紫外線硬化樹脂層、第一のバリア層、無機酸化物含有層、金属光沢層、光学調整層、第二のバリア層の積層体である実施例1の積層体を得た。得られた積層体の特性を上記の方法により測定し、表1に記載した。 From the above, the laminate of Example 1, which is a laminate of a base film, an ultraviolet curable resin layer, a first barrier layer, an inorganic oxide-containing layer, a metallic luster layer, an optical adjustment layer, and a second barrier layer, was obtained. .. The characteristics of the obtained laminate were measured by the above method and are shown in Table 1.
<加飾部材の製造>
被着部材として、表面に意匠を施した厚み0.7mmのガラスを用いた。
上記で得られた積層体を、粘着剤CS9861UAS(日東電工(株)製)を用いて被着部材に貼付し、加飾部材を得た。
<Manufacturing of decorative materials>
As the adherend member, a glass having a thickness of 0.7 mm having a design on the surface was used.
The laminate obtained above was attached to an adherend member using the pressure-sensitive adhesive CS9861UAS (manufactured by Nitto Denko KK) to obtain a decorative member.
[実施例2]
実施例1における光学調整層の形成の際に、マグネトロンスパッタリング装置にSiターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、Al層上に低屈折率層としてSiO2層(屈折率1.46)を厚さ20nmで形成し、次いで、マグネトロンスパッタリング装置にNbターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、SiO2層上に高屈折率層としてNbOx層(屈折率2.33)を厚さ180nmで形成し、光学調整層の材料及び厚みを変更したこと以外は、実施例1と同様にして実施例2の積層体を得た。
[Example 2]
When forming the optical adjustment layer in Example 1, a Si target is attached to the magnetron sputtering device, and sputtering is performed while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, so that SiO is used as a low refractive index layer on the Al layer. Two layers (refractive index 1.46) are formed with a thickness of 20 nm, then an Nb target is attached to a magnetron sputtering device, and sputtering is performed while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, thereby forming the two layers on the SiO 2 layer. The laminate of Example 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that an NbOx layer (refractive index 2.33) was formed as a high refractive index layer with a thickness of 180 nm and the material and thickness of the optical adjustment layer were changed. Got
[実施例3及び4]
実施例2における光学調整層の形成の際に、NbOx層の厚みを100nm、70nmにそれぞれ変更したこと以外は、実施例2と同様にして実施例3及び4の積層体を得た。
[Examples 3 and 4]
The laminated bodies of Examples 3 and 4 were obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the NbOx layer was changed to 100 nm and 70 nm, respectively, when the optical adjustment layer was formed in Example 2.
[実施例5]
実施例1と同様にして紫外線硬化樹脂層付き基材フィルムを得て紫外線硬化樹脂層上に第一のバリア層としてのSiO2層を厚さ20nmで形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にNbターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、SiO2層上に高屈折率層としてNbOx層(屈折率2.33)を厚さ40nmで形成し、次いで、マグネトロンスパッタリング装置にSiターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、NbOx層上に低屈折率層としてSiO2層(屈折率1.46)を厚さ20nmで形成し光学調整層とした。
次いで、マグネトロンスパッタリング装置にITOターゲットを取り付け、Arガスを導入しながらスパッタリングをすることで、無機酸化物含有層としてのITO層を厚さ5nmで光学調整層の上に形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム(Al)ターゲットを取り付け、Arガスを導入しながらスパッタリングすることでITO層の上に金属光沢層としてのAl層を厚さ6nmで形成した。得られたAl層は図2で示すような不連続層であった。
[Example 5]
A base film with an ultraviolet curable resin layer was obtained in the same manner as in Example 1, and a SiO 2 layer as a first barrier layer was formed on the ultraviolet curable resin layer with a thickness of 20 nm.
Next, by attaching an Nb target to the magnetron sputtering device and performing sputtering while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, an NbOx layer (refractive index 2.33) is formed as a high refractive index layer on the SiO 2 layer. It is formed to a thickness of 40 nm, then a Si target is attached to a magnetron sputtering device, and sputtering is performed while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, whereby a SiO 2 layer (refractive index) is formed on the NbOx layer as a low refractive index layer. A refractive index of 1.46) was formed to a thickness of 20 nm to form an optical adjustment layer.
Next, an ITO target was attached to a magnetron sputtering apparatus, and sputtering was performed while introducing Ar gas to form an ITO layer as an inorganic oxide-containing layer on an optical adjustment layer having a thickness of 5 nm.
Next, an aluminum (Al) target was attached to the magnetron sputtering apparatus, and the Al layer as a metallic luster layer was formed on the ITO layer with a thickness of 6 nm by sputtering while introducing Ar gas. The obtained Al layer was a discontinuous layer as shown in FIG.
続いて、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム(Al)ターゲットを取り付け、Arガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングすることでAl層の上に第二のバリア層としてのAlOx層を厚さ20nmで形成し、積層体を得た。 Subsequently, an aluminum (Al) target is attached to the magnetron sputtering device, and by sputtering while introducing a mixed gas of Ar gas and oxygen gas, an AlOx layer as a second barrier layer is formed on the Al layer at a thickness of 20 nm. It was formed and a laminate was obtained.
以上により基材フィルム、紫外線硬化樹脂層、第一のバリア層、光学調整層、無機酸化物含有層、金属光沢層、第二のバリア層の積層体である実施例5の積層体を得た。 From the above, the laminate of Example 5, which is a laminate of a base film, an ultraviolet curable resin layer, a first barrier layer, an optical adjustment layer, an inorganic oxide-containing layer, a metallic luster layer, and a second barrier layer, was obtained. ..
[実施例6]
実施例5における光学調整層の形成の際に、NbOx層の厚みを70nmに変更したこと以外は、実施例5と同様にして実施例6の積層体を得た。
[Example 6]
A laminate of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the thickness of the NbOx layer was changed to 70 nm when the optical adjustment layer was formed in Example 5.
[比較例1]
実施例1において、光学調整層を形成しなかったこと以外は、実施例5と同様にして比較例1の積層体を得た。
[Comparative Example 1]
A laminate of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the optical adjustment layer was not formed in Example 1.
得られた積層体の特性を上記の方法により測定し、表1に記載した。なお、表1中の括弧内は膜厚(nm)を示す。 The characteristics of the obtained laminate were measured by the above method and are shown in Table 1. The numbers in parentheses in Table 1 indicate the film thickness (nm).
実施例1~6及び比較例1の積層体は、良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れた積層体であった。
また、表1から明らかなように、実施例1~6の積層体は、基体と、基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備え、光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含み、透過Y値が20%以上であるので、比較例1と比べ吸収Y値が低かった。これは、積層体内に吸収される光が少なく、光学的な損失を低減することができたことを示す。
The laminates of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 had good metallic luster and excellent transparency.
Further, as is clear from Table 1, the laminates of Examples 1 to 6 include a substrate, a metallic gloss layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer, and the optical adjustment layer has a refractive index of 1. Since it contains a high refractive index layer of .75 or more and has a transmission Y value of 20% or more, the absorption Y value is lower than that of Comparative Example 1. This indicates that less light was absorbed in the laminate and optical loss could be reduced.
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be appropriately modified and embodied without departing from the spirit of the invention.
本発明に係る積層体は、電磁波を送受信する装置や物品およびその部品等に使用することができる。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。 The laminate according to the present invention can be used for devices and articles that transmit and receive electromagnetic waves, parts thereof, and the like. For example, applications for household goods such as structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies, etc. It can also be used for various applications that require both design and electromagnetic wave transmission, such as medical equipment, building material parts, other structural parts and exterior parts.
100、101、102 積層体
10 基体
11 無機酸化物含有層
12 金属光沢層
12a 部分
12b 隙間
13 光学調整層
13a 高屈折率層
13b 低屈折率層
14 第一のバリア層
15 第二のバリア層
100, 101, 102
Claims (12)
前記光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を含み、
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長380nm~780nmの光を入射させた際の、透過光のCIE-XYZ表色系におけるY値である透過Y値が20%以上である積層体。 A laminate provided with a substrate, a metallic luster layer formed on the substrate, and an optical adjustment layer.
The optical adjustment layer includes a high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more.
When light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed, the transmitted Y value, which is the Y value in the CIE-XYZ color system of the transmitted light, is 20%. The above-mentioned laminated body.
吸収Y値=100-透過Y値-反射Y値・・・(式1) When the Y value of the reflected light in the CIE-XYZ color system when light having a wavelength of 380 nm to 780 nm is incident on the surface of the laminate on the side where the metallic luster layer of the substrate is formed is taken as the reflected Y value. The laminate according to claim 1, wherein the absorption Y value calculated by the following formula 1 is 35% or less.
Absorption Y value = 100-Transmission Y value-Reflection Y value ... (Equation 1)
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