JP2022053844A - 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法 - Google Patents

電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022053844A
JP2022053844A JP2020160700A JP2020160700A JP2022053844A JP 2022053844 A JP2022053844 A JP 2022053844A JP 2020160700 A JP2020160700 A JP 2020160700A JP 2020160700 A JP2020160700 A JP 2020160700A JP 2022053844 A JP2022053844 A JP 2022053844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protrusion
semiconductor device
solder joint
power semiconductor
center
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020160700A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7489879B2 (ja
Inventor
範之 別芝
Noriyuki Betsushiba
隆一 石井
Ryuichi Ishii
和矢 福原
Kazuya Fukuhara
大貴 中嶋
Hirotaka Nakajima
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2020160700A priority Critical patent/JP7489879B2/ja
Publication of JP2022053844A publication Critical patent/JP2022053844A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7489879B2 publication Critical patent/JP7489879B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】高い放熱性を有し、はんだ接合層の信頼性が安定的に高められた電力用半導体装置を提供する。【解決手段】電力用半導体装置100は、第1面を有するパワーモジュール1と、第1面1Aと対向する第2面を有するヒートシンク2Aと、第1面と第2面とを固着するはんだ接合層3と、はんだ接合層3の外縁部よりも内側に配置されている第1突起部4および第2突起部5とを備える。第1面は、角部13を介して接続された第1辺11と第2辺12とを有する。第1突起部4は、第2面と直交するZ方向から視て、第2辺12が延在するY方向において第1面の中央よりも第1辺側に配置され、かつ、第1辺が延在する第1方向において角部よりも第1辺の中央側に配置されている。第2突起部は、第2面と直交する方向から視て、第1方向において第1面の中央よりも第2辺側に配置され、かつ第2方向において角部よりも第2辺の中央側に配置される。【選択図】図1

Description

本開示は、電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法に関する。
近年、電力用半導体装置は、一般産業用、電鉄用のみならず自動車用にも広く使用されている。
電力用半導体装置の構成部品として、半導体素子が内蔵されたパワーモジュール、制御用基板、ヒートシンクが挙げられる。電力用半導体装置では、パワーモジュールとヒートシンクとの間の熱抵抗を低減するために、両者を接合する接合材料としてはんだを用いることが検討されている。
特開2014-165255号公報には、半導体チップとリードフレームとがはんだ接合されている半導体装置が開示されている。この半導体装置では、クラックの進展方向を誘導するための金属棒が、リードフレームと垂直な方向から視て、その一部が半導体チップと重ならないように配置されており、かつ半導体チップの一辺に沿ってはんだ接合層の2つの角部間を延在している。
特開2014-165255号公報
電力用半導体装置が温度サイクル下に置かれると、パワーモジュールとヒートシンクとの線膨張係数差に起因した熱応力がはんだ接合層に加えられ、はんだ接合層に亀裂が生じる。そのため、はんだ接合層には、亀裂(クラック)が進展することへの耐性(以下、耐クラック性とよぶ)が求められている。
特開2014-165255号公報に記載の半導体装置では、金属棒がリードフレーム上に配置されているため、リードフレーム表面に構造的な不連続部が形成されることになり、はんだ接合層と金属棒との接合状態を厳密に検査することは難しい。例えば超音波探針法は、平面板状部材とはんだ接合層との界面の剥離状態を検出するのに適するが、金属棒のような3次元形状部材とはんだ接合層との界面の剥離状態を高い精度で検出することは困難である。また、X線透過法は、はんだ接合層中のボイドなどの不均質な箇所を検出するのに適するが、3次元形状部材とはんだ接合層との界面の剥離状態を高い精度で検出することは困難である。
特に、上記半導体装置では、熱応力が集中するはんだ接合層の2つの角部間を延在するように金属棒が配置されていることから、はんだ接合層において熱応力が集中する各角部でのクラックの進展挙動は複雑になる。その結果、上記半導体装置のはんだ接合層の信頼性を厳密に評価することは難しい。
そのため、このような半導体装置においてはんだ接合層の信頼性を安定的に高めるためには、はんだ接合層の厚みを厚くする必要がある。しかし、はんだ接合層の厚みを厚くすると、はんだ接合層の放熱性が低下し、パワーモジュールに内蔵された半導体素子の到達温度がその許容最高温度を超過するおそれがある。
本開示の主たる目的は、高い放熱性を有しながらも、はんだ接合層の信頼性が安定的に高められた電力用半導体装置を提供することにある。
本開示に係る電力用半導体装置は、半導体素子を内蔵しており、第1面を有する少なくとも1つのパワーモジュールと、第1面と対向する第2面を有し、少なくとも1つのパワーモジュールに生じた熱を放散するヒートシンクと、第1面と第2面とを固着しているはんだ接合層と、第1面と第2面との間に配置されており、かつはんだ接合層の外縁部よりも内側に配置されている第1突起部および第2突起部とを備える。第1面は、角部を介して接続された第1辺と第2辺とを有している。第1突起部は、第2面と直交する方向から視て、第2辺が延在する第2方向において第1面の中央よりも第1辺側に配置されており、かつ第1辺が延在する第1方向において角部よりも第1辺の中央側に配置されている。第2突起部は、第2面と直交する方向から視て、第1方向において第1面の中央よりも第2辺側に配置されており、かつ第2方向において角部よりも第2辺の中央側に配置されている。
本開示によれば、高い放熱性を有しながらも、耐クラック性が安定的に高められた電力用半導体装置を提供することができる。
実施の形態1に係る電力用半導体装置の平面図である。 図1中の矢印II-IIから視た断面図である。 図1中の矢印III-IIIから視た断面図である。 図1に示される電力用半導体装置の製造方法の、第1の工程を示す平面図である。 図4中の矢印V-Vから視た断面図である。 図1に示される電力用半導体装置の製造方法の、図4に示される第1の工程の後の第2の工程を示す平面図である。 図6中の矢印VII-VIIから視た断面図である。 図6中の矢印VIII-VIIIから視た断面図である。 図1に示される電力用半導体装置の製造方法の、図6に示される第2の工程の後の第3の工程を示す平面図である。 図9中の矢印X-Xから視た断面図である。 図9中の矢印XI-XIから視た断面図である。 図1に示される電力用半導体装置の製造方法の、図9に示される第3の工程の後の第4の工程を示す平面図である。 図12中の矢印XIII-XIIIから視た断面図である。 図12に示される第4の工程で加熱開始前の、はんだ接合増と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図12に示される第4の工程で加熱開始から第1の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図12に示される第4の工程で加熱開始から第2の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図12に示される第4の工程で加熱終了後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図12に示される第4の工程において、はんだ接合層に加えられる温度および圧力のタイミングチャートの一例である。 図12に示される第4の工程において、はんだ接合層に加えられる温度および圧力のタイミングチャートの他の一例である。 図12に示される第4の工程において、はんだ接合層に加えられる温度および圧力のタイミングチャートのさらに他の一例である。 実施の形態2に係る電力用半導体装置の平面図である。 図21に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始前の、はんだ接合層と第1突起部および第2突起部との位置関係を示す平面図である。 図21に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第1の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図21に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第2の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図21に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱終了後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 実施の形態3に係る電力用半導体装置の平面図である。 実施の形態4に係る電力用半導体装置の平面図である。 実施の形態4に係る電力用半導体装置の変形例の平面図である。 実施の形態5に係る電力用半導体装置の平面図である。 図29に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始前の、はんだ接合層と第1突起部および第2突起部との位置関係を示す平面図である。 図29に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第1の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図29に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第2の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 図29に示される電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱終了後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 比較例1に係る電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始前の、はんだ接合層と第1突起部および第2突起部との位置関係を示す平面図である。 比較例1に係る電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第1の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 比較例1に係る電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱開始から第2の時間経過後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。 比較例1に係る電力用半導体装置の製造方法の第4の工程において、加熱終了後の、はんだ部材と第1突起部および第2突起部との位置関係を説明するための平面図である。
以下、図面を参照して、本開示の実施の形態を説明する。説明には、便宜上、互いに直交するX方向、Y方向、およびZ方向が用いられる。なお、同一の構成には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
実施の形態1.
<電力用半導体装置の構成>
図1および図2は、実施の形態1に係る電力用半導体装置の一例を説明するための図である。図1および図2に示されるように、実施の形態1に係る電力用半導体装置100は、複数のパワーモジュール1、ヒートシンク2、複数のはんだ接合層3、複数の第1突起部4、複数の第2突起部5、制御基板6、複数のボス7、および複数のネジ8を主に備える。なお、図1は、パワーモジュール1およびヒートシンク2を実線で示し、他の部材を破線で示している。
各パワーモジュール1は、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT:Insulated Gate Bipolar Transistor)およびダイオードなどの半導体素子を内蔵している。各パワーモジュール1は、第1面1Aを有している。第1面1Aは、Z方向に直交し、X方向およびY方向に沿って延びる面である。第1面1Aの平面形状は、長方形状である。第1面1Aは、X方向に沿って延びる2つの第1辺11と、Y方向に沿って延びる2つの第2辺12と、4つの角部13とを有している。なお、第1面1Aの平面形状は、角丸長方形状であってもよい。なお、角丸長方形状とは、4つの角部33のうち1つ以上(例えば、4つすべて)の角部の外形線が所定の曲率を有する曲線である角丸長方形状を意味する。
各パワーモジュール1は、互いにX方向に間隔を空けて配置されている。各パワーモジュール1の第1辺11は、X方向において同一直線状に配置されている。X方向に隣り合う2つのパワーモジュール1の各第2辺12は、X方向に間隔を空けて対向している。
パワーモジュール1を構成する材料は、任意の半導体材料、任意の誘電体材料、および任意の導電材料を含む。パワーモジュール1は、例えばセラミックス基板と、セラミックス基板の両面に接合された導電層とからなる積層体を含んでいる。セラミックス基板を構成する材料は、例えば窒化珪素(Si34)および窒化アルミニウム(AlN)の少なくともいずれかを含む。導電層を構成する材料は、例えばアルミニウム(Al)および銅(Cu)の少なくともいずれかを含む。
ヒートシンク2は、各パワーモジュール1に生じた熱を放散するための部材である。ヒートシンク2は、各パワーモジュール1の第1面1Aと対向する第2面2Aを有している。第2面2Aは、Z方向に直交し、X方向およびY方向に沿って延びる面である。第2面2Aの平面形状は、長方形状である。第2面2Aは、X方向に沿って延びる2つの長辺と、Y方向に沿って延びる2つの短辺と、4つの角部とを有している。第2面2Aの面積は、各パワーモジュール1の第1面1Aの面積の和よりも大きい。第2面2Aの各短辺は、複数のパワーモジュール1のうちX方向の両端に位置する各パワーモジュール1の第2辺12と、X方向に間隔を空けて配置されている。第2面2Aの各長辺は、複数のパワーモジュール1の各第1辺11と、Y方向に間隔を空けて配置されている。
ヒートシンク2を構成する材料は、例えばAlおよびCuの少なくともいずれかの単体、合金、もしくは複合材を含む。ヒートシンク2を構成する材料は、例えばアルミニウムと炭化珪素の複合材(AlSiC)および銅とモリブデンの複合材(CuMo)の少なくともいずれかを含む。ヒートシンク2を構成する材料は、ヒートシンク2およびパワーモジュール1の各線膨張係数差を低減する観点で、選択されてもよい。パワーモジュール1が上記のようにSi34およびAlNの少なくともいずれかからなるセラミックス基板と、CuおよびAlの少なくともいずれかからなる導電層との積層体を含む場合、パワーモジュール1の線膨張係数は、比較的低く、例えば7ppm/K以上12ppm/K以下となる。この場合、ヒートシンク2およびパワーモジュール1の各線膨張係数差を低減する観点で、ヒートシンク2を構成する材料はAlSiCおよびCuMoの少なくともいずれかの複合材とされ得る。また、パワーモジュール1の主な構成材料がCuおよび樹脂絶縁材料である場合、パワーモジュール1の線膨張係数は比較的高くなるため、ヒートシンク2を構成する材料はCuおよびAlの少なくともいずれかの単体とされ得る。
各はんだ接合層3は、各パワーモジュール1の第1面1Aとヒートシンク2の第2面2Aとを固着している。各はんだ接合層3は、第1面1Aの全面と接合している。各はんだ接合層3は、第2面2Aと接合している接合面3Aを有している。接合面3Aの平面形状は、角丸長方形状である。接合面3Aは、X方向に沿って延びる2つの短辺31と、Y方向に沿って延びる2つの長辺32と、4つの角部33とを有している。接合面3Aの各短辺31は、Z方向から視て、第1面1Aの各第1辺11と重なっているか、あるいは第1面1Aに対して各第1辺11よりも外側に配置されている。接合面3Aの各長辺32は、Z方向から視て、第1面1Aの各第2辺12と重なっているか、あるいは第1面1Aに対して各第2辺12よりも外側に配置されている。角部33は、Z方向から視て、第1面1Aの角部33と重なっているか、あるいは角部33よりも外側に配置されている。
はんだ接合層3を構成する材料は、スズ(Sn)を含む合金材料である。はんだ接合層3を構成する材料は、Sn以外に、例えば銀(Ag)、Cu、ニッケル(Ni)、鉛(Pb)、およびビスマス(Bi)からなる群から選択される少なくとも1つを含む。はんだ接合層3の厚みは、例えば0.2mm以上0.5mm以下である。
複数の第1突起部4および複数の第2突起部5は、ヒートシンク2の第2面2Aに固定されている。各第1突起部4および各第2突起部5は、例えば第2面2Aに接合されている。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の一端は、第2面2Aと接合されている。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の他端は、第1面1Aと接触している。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の高さは、互いに等しい。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の高さは、はんだ接合層3の厚みと等しい。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の高さは、例えば0.2mm以上0.5mm以下である。
Z方向から視て、各第1突起部4および各第2突起部5は、はんだ接合層3の外縁部よりも内側に配置されている。各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向と交差する方向を向いた外周面(言い換えると、Z方向以外を向いた外周面)は、はんだ接合層3に覆われている。Z方向と交差する方向を向いた各第1突起部4および各第2突起部5の外周面は、はんだ接合層3と接触している。
各第1突起部4は、Z方向から視て、X方向において角部13よりも第1辺11の中央側に配置されている。各第1突起部4は、Z方向から視て、第1辺11の中点と該第1辺11の両端に接続された各角部13との間をX方向に等分し、かつY方向に沿って延びる2つの仮想線L1間に配置されている。各第1突起部4は、X方向において第1辺11の中央に配置されている。言い換えると、各第1突起部4は、Z方向から視て、第1辺11の中点を通りかつY方向に沿って延びる仮想線L2と重なるように配置されている。各第1突起部4は、例えば、Z方向から視て、X方向において接合面3Aの中央よりも短辺31側に配置されている。
各第1突起部4は、Z方向から視て、Y方向において第1面1Aの中央よりも第1辺11側に配置されている。各第1突起部4は、Z方向から視て、第2辺12の中点と該第2辺12の両端に接続された各角部13との間をY方向に等分しかつX方向に沿って延びる2つの仮想線L3よりもY方向の外側に配置されている。各第1突起部4は、例えば、Z方向から視て、Y方向において接合面3Aの中央よりも短辺31側に配置されている。
各第1突起部4は、Z方向から視て、長手方向および短手方向を有している。各第1突起部4の長手方向は、Y方向に沿っている。各第1突起部4の短手方向は、X方向に沿っている。
各第2突起部5は、Z方向から視て、Y方向において角部13よりも第2辺12の中央側に配置されている。各第2突起部5は、Z方向から視て、上記2つの仮想線L3間に配置されている。各第2突起部5は、Y方向において第2辺12の中央に配置されている。言い換えると、各第2突起部5は、Z方向から視て、第2辺12の中点を通りかつY方向に沿って延びる仮想線L4と重なるように配置されている。各第2突起部5は、例えば、Z方向から視て、Y方向において角部33よりも長辺32の中央側に配置されている。
各第2突起部5は、Z方向から視て、X方向において第1面1Aの中央よりも第2辺12側に配置されている。各第2突起部5は、Z方向から視て、上記2つの仮想線L1よりもX方向の外側に配置されている。各第2突起部5は、例えば、Z方向から視て、X方向において接合面3Aの中央よりも長辺32側に配置されている。
各第2突起部5は、Z方向から視て、長手方向および短手方向を有している。各第2突起部5の長手方向は、Y方向に沿っている。各第2突起部5の短手方向は、X方向に沿っている。言い換えると、各第2突起部5の長手方向は、各第1突起部4の長手方向に沿っている。各第2突起部5の短手方向は、各第1突起部4の短手方向に沿っている。各第1突起部4および各第2突起部5は、Y方向に沿って延びる柱状体である。各第1突起部4および各第2突起部5のY方向に垂直な断面形状は、例えば略円形状である。各第1突起部4および各第2突起部5の短手方向の幅は、例えば互いに等しい。各第1突起部4および各第2突起部5の短手方向の幅は、例えば0.15mm以上0.40mm以下である。
第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B1は、第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも長い。第1面1Aの中心と第2突起部5との間のX方向の距離は、第1面1Aの中心と第1突起部4との間のY方向の距離よりも短い。第1辺11の長さが30mm以上40mm以下であり、第2辺12の長さが40mm以上50mm以下であり、かつはんだ接合層3の厚みが0.2mm以上0.5mm以下である場合、上記距離A1と上記距離B1との差は5mm以上であるのが好ましい。上記距離A1は、第1突起部4のY方向の長さよりも短い。長辺32と第2突起部5との間のX方向の距離は、例えば短辺31と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも長い。接合面3Aの中心と第2突起部5との間のX方向の距離は、例えば接合面3Aの中心と第1突起部4との間のY方向の距離よりも短い。
各第1突起部4および各第2突起部5を構成する材料は、例えばAlおよびCuの少なくともいずれかの単体もしくは合金を含む。
制御基板6は、複数のパワーモジュール1を制御する制御回路を含む。制御基板6は、パワーモジュール1に対してヒートシンク2とは反対側に配置されており、かつZ方向から視て複数のパワーモジュール1およびヒートシンク2と重なるように配置されている。これにより、電力用半導体装置100では、パワーモジュール1の半導体素子と制御基板6の配線部が受ける電磁ノイズは最小化され、電力用半導体装置100の誤動作が抑制されている。制御基板6には、各ネジ8が挿通されるための図示しない挿通孔が形成されている。制御基板6には、例えば図示しないトランスが搭載されている。
複数のボス7および複数のネジ8は、ヒートシンク2に対して制御基板6を固定する固定部材である。各ボス7および各ネジ8は、ヒートシンク2の第2面2Aのうちはんだ接合層3と接合されていない領域上に配置されている。各ボス7および各ネジ8は、Z方向から視て各パワーモジュール1の4隅に配置されている。電力用半導体装置100が3つのパワーモジュール1を備える場合、ボス7およびネジ8の個数は例えば8である。制御基板6は、各ボス7上に配置されている。各ボス7には、各ネジ8が係合するためのネジ穴が形成されている。複数のボス7は、例えばヒートシンク2と別部材として構成されている。なお、複数のボス7は、例えばヒートシンク2と同一部材として構成されていてもよい。
複数のボス7および複数のネジ8は、Y方向において各パワーモジュール1よりも外側に配置されている。複数のボス7および複数のネジ8の一部は、X方向において各パワーモジュール1よりも外側に配置されている。複数のボス7および複数のネジ8の他の一部は、X方向において各パワーモジュール1の間に配置されている。
複数のボス7およびネジ8によって制御基板6がヒートシンク2に固定されていることにより、電力用半導体装置100が機械的に振動した場合にも、制御基板6の変位を抑制し、制御基板6に搭載されるトランスなどの重量部品が破損、破断することを抑制できる。
電力用半導体装置100は、一般産業用、電鉄用、または自動車用の電力用半導体装置である。電力用半導体装置100は、例えば2台のモータを用いて駆動エネルギーと回生エネルギーとを効率良く制御するシステムにおいて、各モータを駆動するための2つの直流-交流変換回路と、昇圧コンバータを用いてバッテリからの入力電圧を所望のシステム電圧に昇圧するための昇圧コンバータ回路とを合わせた3つの回路が同一筐体内に収容された、機能統合型の電力用半導体装置である。電力用半導体装置100は、エンジンおよびモータの両方を駆動力源とするハイブリット車またはモータのみを駆動源とする電気自動車に用いられる電力用半導体装置に好適である。
<電力用半導体装置の製造方法>
図4~図13は、電力用半導体装置100の製造方法の一例を説明するための図である。
まず、図4に示されるように、複数の第1突起部4および複数の第2突起部5が第2面2A上に形成された、ヒートシンク2が準備される(第1の工程)。各第1突起部4および各第2突起部5は、第2面2Aに固定されている。
各第1突起部4は、後述するはんだ接合部材30を配置する工程において各第1突起部4および各第2突起部5上に配置されたはんだ接合部材30をZ方向から視たときに、Y方向において第3面30Aの中央よりも第3辺34側に位置し、かつX方向において角部36よりも第3辺34の中央側に位置するように、形成される。
各第2突起部5は、後述するはんだ接合部材30を配置する工程において各第1突起部4および各第2突起部5上に配置されたはんだ接合部材30をZ方向から視たときに、X方向において第3面30Aの中央よりも第4辺35側に位置し、かつY方向において角部36よりも第4辺35の中央側に位置するように、形成される。
各第1突起部4および各第2突起部5は、例えば超音波接合法により、第2面2Aに接合されている。この場合、まず、第1突起部4および第2突起部5のいずれかが形成されるべき第2面2Aの一部領域に金属ワイヤを超音波接合(ファーストボンディング)する。その後、金属ワイヤをフィードし、第1突起部4および第2突起部5のいずれかが形成されるべき第2面2Aの他の一部領域に金属ワイヤを超音波接合(セカンドボンディング)する。好ましくは、セカンドボンディングはステッチボンディングである。その後、第2面2Aに接合された金属ワイヤのうち、2つの接合部の間に位置する一部を除去する。このようにして第2面2A上に残された金属ワイヤの一部が、各第1突起部4および各第2突起部5を構成する。金属ワイヤの一部の除去は、例えば溝が形成されたジグを用いて行われる。この場合、各第1突起部4および各第2突起部5のZ方向の高さは、溝の寸法に応じて設定され得る。
ファーストボンディングおよびセカンドボンディングは、ヒートシンク2の第2面2Aに対して同一方向に実施される。言い換えると、ファーストボンディングおよびセカンドボンディングは、超音波ツールまたはヒートシンク2の第2面2Aを、XY平面上で回転させることなく実施される。
次に、図6~図8に示されるように、図1~図3に示されるはんだ接合層3となるべき複数のはんだ接合部材30が、複数の第1突起部4および複数の第2突起部5上に配置される(第2の工程)。各はんだ接合部材30は、はんだから成るバルク体を予め定められた厚みとなるまで圧延することにより形成された板状部材である。
各はんだ接合部材30の平面形状は、長方形状である。なお、各はんだ接合部材30の平面形状は、角丸長方形状であってもよい。図6を参照して、各はんだ接合部材30は、第3面30Aと、第3面30Aとは反対側を向いておりかつ第2面2Aと対向している第4面30Bとを有している。第3面30Aは、Z方向から視て、2つの第3辺34と、2つの第4辺35と、4つの角部36とを有している。各はんだ接合部材30は、各第3辺34がX方向に沿って延び、かつ各第4辺35がY方向に沿って延びるように、ヒートシンク2に対して配置されている。第3面30Aは、パワーモジュール1の第1面1Aの全体と接触するように形成されている。
図6~図8に示されるように、はんだ接合部材30の各第3辺34は、X方向において第1突起部4よりも外側に配置される。はんだ接合部材30の各第4辺35は、Y方向において第2突起部5よりも外側に配置される。
各第1突起部4は、Z方向から視て、Y方向において第3面30Aの中央よりも第3辺34側に配置され、かつX方向において角部36よりも第3辺34の中央側に配置される。各第2突起部5は、Z方向から視て、X方向において第3面30Aの中央よりも第4辺35側に配置され、かつY方向において角部36よりも第4辺35の中央側に配置される。
第4辺35と第2突起部5との間のX方向の距離B2は、第3辺34と第1突起部4との間のY方向の距離A2よりも長い。第1辺11の長さが30mm以上40mm以下であり、第2辺12の長さが40mm以上50mm以下であり、かつ厚みが0.2mm以上0.5mm以下であるはんだ接合層3を形成する場合、上記距離A2と上記距離B2との差は5mm以上であるのが好ましい。距離B2は、上記距離B1と同等またはそれよりも短い。距離A2は、上記距離A1と同等またはそれよりも短い。
次に、図9~図11に示されるように、第1面1Aがはんだ接合部材30の第3面30Aと接触するように、各パワーモジュール1が各はんだ接合部材30上に配置される(第3の工程)。パワーモジュール1の各第1辺11は、X方向において第1突起部4よりも外側に配置される。パワーモジュール1の各第2辺12は、Y方向において第2突起部5よりも外側に配置される。
次に、図12および図13に示されるように、はんだ接合部材30が加熱されて溶解される(第4の工程)。本加熱の方法は、特に制限されない。好ましくは、本加熱には、フラックスレスのリフロー装置が用いられる。この場合、本加熱では、まず、予め定められた到達圧力まで排気された真空チャンバ内に水素等の還元ガスを導入し、当該チャンバ内の圧力を大気圧に復圧する。次に、図12および図13に示されるパワーモジュール1、ヒートシンク2、第1突起部4、第2突起部5、およびはんだ接合部材30の積層体を上記チャンバ内で加熱することにより、はんだ接合部材30を溶解させる。さらに、はんだ接合部材30が溶解している状態で、上記チャンバ内を排気する。加熱開始から所定時間経過後、加熱を停止し、上記積層体を上記チャンバから取り出す。
上記加熱時に、Z方向から視たはんだ接合部材30の平面形状は、図14~図17に示されるように変化する。図14に示される加熱開始前のはんだ接合部材30の平面形状は、図6に示されるはんだ接合部材30の平面形状と同等である。図15に示される加熱開始から第1の時間経過後には、第1突起部4の周囲のはんだ接合部材30の外形線は略円弧状となるが、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の外形線は直線状に維持される。これは、溶解する前のはんだ接合部材30に、短手方向と長手方向との間での寸法差が形成されているためである。その後、図16に示される加熱開始から第2の時間経過後には、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の外形線は、第2突起部5側に向かって凹んだ曲線に変化する。その後、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30は、再びZ方向から視た平面形状が長方形に戻るように外側に濡れ広がる。図15および図16に示される状態において、各第1突起部4および各第2突起部5は、溶解したはんだ接合部材30が外側に流出することを抑制し、溶解したはんだ接合部材30のZ方向の幅(厚み)の減少を抑制している。加熱終了後、はんだ接合部材30が凝固する。このようにして形成されたはんだ接合層3の平面形状は、図17に示されるように角丸長方形状となる。
このようにして、図1~図3に示される電力用半導体装置100の、パワーモジュール1、ヒートシンク2、およびはんだ接合層3の一体物が製造される。
さらに、制御基板6が、ボス7およびネジ8を用いて上記一体物に固定される。このようにして、図1~図3に示される電力用半導体装置100が製造される。なお、第1の工程では、ボス7と一体化されたヒートシンク2が準備されてもよい。第2の工程~第4の工程では、ヒートシンク2はボス7と一体化されていてもよい。
上記第4の工程での加熱温度および真空チャンバ内の到達圧力は、例えば図18~図20に示される各タイミングチャートのいずれかに基づいて制御される。
図18に示されるタイミングチャートでは、まず、はんだ接合部材30をはんだ接合部材30の融点T1未満の温度に加熱し、かつ当該温度に保持する(第1加熱工程)。第1加熱工程により、パワーモジュール1、ヒートシンク2、およびはんだ接合部材30の各々の温度が均一化される。次に、はんだ接合部材30を、上記保持温度からはんだ接合部材30の融点T1以上の温度に加熱する(第2加熱工程)。第2加熱工程の途中で、真空チャンバ内を一時的に排気して真空状態とし、その後真空チャンバ内に還元ガスを再度導入して真空チャンバ内を復圧する。復圧後、第2加熱工程を終了させる。
図19および図20に示される各タイミングチャートでは、加熱は図18に示されるタイミングチャートと同様に行われるが、真空状態とされるタイミングが図18に示されるタイミングチャートでのそれよりも早い。図19に示されるタイミングチャートでは、第1加熱工程から第2加熱工程に切り替える直前に、真空チャンバ内の排気が開始される。図20に示されるタイミングチャートでは、第1加熱工程においてはんだ接合部材30の温度が融点T1未満の保持温度に到達したタイミングで、真空チャンバ内の排気が開始される。図19および図20に示される各タイミングチャートの、真空チャンバ内の排気を停止し真空チャンバ内を復圧するタイミングは、図18に示されるタイミングチャートでのそれと同等である。
<作用効果>
電力用半導体装置100の作用効果を、上述した従来の半導体装置との対比に基づいて説明する。
上述のように、従来の半導体装置では、はんだ接合層内に埋め込まれた金属棒がはんだ接合層の2つの角部に延在するように配置されている。そのため、該半導体装置では、はんだ接合層において熱応力が集中する各角部でのクラックの進展挙動は複雑になる。その結果、上記半導体装置のはんだ接合層の信頼性を厳密に評価することは難しい。具体的には、上記半導体装置のはんだ接合層の信頼性を厳密に評価するには、当該信頼性を評価する試験数を多数回行う必要があり、多くの工数が必要となる。
このような半導体装置においてはんだ接合層の信頼性を安定的に高めるためには、はんだ接合層の厚みを十分に厚くする必要がある。しかし、はんだ接合層の厚みを厚くすると、はんだ接合層の放熱性が低下し、パワーモジュールに内蔵された半導体素子の到達温度がその許容最高温度を超過するおそれがある。
これに対し、電力用半導体装置100は、複数のパワーモジュール1、ヒートシンク2、複数のはんだ接合層3、複数の第1突起部4、および複数の第2突起部5を主に備える。各パワーモジュール1は、半導体素子を内蔵しており、第1面1Aを有している。ヒートシンク2は、第1面1Aと対向する第2面2Aを有し、各パワーモジュール1に生じた熱を放散する。はんだ接合層3は、第1面1Aと第2面2Aとを固着している。第1突起部4および第2突起部5は、第1面1Aと第2面2Aとの間に配置されており、かつはんだ接合層3の外縁部よりも内側に配置されている。
第1面1Aは、角部13を介して接続された第1辺11と第2辺12とを有している。第1突起部4は、Z方向から視て、Y方向において第1面1Aの中央よりも第1辺11側に配置されており、かつX方向において角部13よりも第1辺11の中央側に配置されている。第2突起部5は、Z方向から視て、X方向において第1面1Aの中央よりも第2辺12側に配置されており、かつY方向において角部13よりも第2辺12の中央側に配置されている。
電力用半導体装置100では、はんだ接合層3において熱応力が集中する各角部33の近くには第1突起部4および第2突起部5が配置されていない。そのため、電力用半導体装置100のはんだ接合層3において熱応力が集中する各角部でのクラックの進展挙動は、上記半導体装置のそれと比べて、単純となる。その結果、電力用半導体装置100のはんだ接合層3の信頼性は、上記半導体装置と比べてより少ない工数により厳密に評価することができる。そのため、電力用半導体装置100のはんだ接合層3の厚みは、上記信頼性に関する厳密な評価結果に基づいて設定され得るため、上記半導体装置のそれと比べて薄くされ得る。したがって、電力用半導体装置100では、上記半導体装置と比べて、高い放熱性を有しながらも、はんだ接合層3の信頼性が安定的に高められている。
また、電力用半導体装置100は、Y方向に互い対向する2つの第1突起部4と、X方向に互いに対向する2つの第2突起部5とを備える。このような電力用半導体装置100では、第1突起部4および第2突起部5の各々が1つずつ形成されている電力用半導体装置と比べて、はんだ接合層3の厚みが均一となる。
また、電力用半導体装置100では、各第1突起部4が、Z方向から視て、Y方向において第1面1Aの中央よりも第1辺11側に配置されている。各第1突起部4は、Z方向から視て、上記2つの仮想線L3よりもY方向の外側に配置されている。さらに、各第2突起部5は、Z方向から視て、X方向において第1面1Aの中央よりも第2辺12側に配置されている。各第2突起部5は、Z方向から視て、上記2つの仮想線L1よりもX方向の外側に配置されている。このような電力用半導体装置100では、パワーモジュール1に反りが生じており第1面1Aが曲面である場合にも、はんだ接合層3の厚みの均一性が確保される。
さらに、電力用半導体装置100の他の作用効果を、比較例1の電力用半導体装置との対比に基づいて説明する。図34に示されるように、比較例1の電力用半導体装置の製造方法では、はんだ接合部材300が、図示しないヒートシンクの第2面上に形成された突起部40および突起部50上に配置されている。さらに、はんだ接合部材300が溶解される前に、第4辺350と突起部50との間のX方向の距離B3が第3辺340と突起部40との間のY方向の距離A3と等しくされている。本発明者らは、図34に示されるはんだ接合部材300が電力用半導体装置100のはんだ接合部材30と同様に加熱されると、Z方向から視たはんだ接合部材300の平面形状が図35~図37に示されるように変化するケースを確認した。
図35に示される加熱開始から第1の時間経過後には、突起部40の周囲のはんだ接合部材300の外形線は略円弧状となるが、突起部50の周囲のはんだ接合部材300の外形線は直線状に維持される。このとき、突起部50の周囲のはんだ接合部材300の外形線と突起部50との間の最短距離は、図15に示される第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の外形線と第2突起部5との間の最短距離よりも短くなる。
その後、図36に示される加熱開始から第2の時間経過後には、突起部50周囲のはんだ接合部材30の外形線は、突起部50側に向かって凹んだ曲線に変化する。このとき、突起部50周囲のはんだ接合部材30の外形線が突起部50よりも内側にまで入り込んでしまうケースが確認された。このケースでは、その後突起部50の周囲のはんだ接合部材300は再びZ方向から視た平面形状が長方形に戻るように外側に濡れ広がる挙動を示すが、突起部50がこの挙動を妨げる壁として作用して、はんだ接合部材300が突起部50よりも外側に濡れ広がらなかった。その結果、図37に示されるように、はんだ接合部材300が凝固することにより形成されたはんだ接合層300は、突起部50よりも外側に形成されなかった。
これに対し、電力用半導体装置100では、はんだ接合部材300の平面形状が略長方形状であり、かつ第3辺340が第4辺350よりも短い。第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B1は、第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも長い。そのため、電力用半導体装置100では、図1~図3および図17に示される構造が形成されやすく、図37に示される構造が形成されにくいため、はんだ接合層3とパワーモジュール1およびヒートシンク2の各々との接合面積が比較例1と比べて大きくなる。その結果、電力用半導体装置100の放熱性および信頼性は、比較例1と比べて、高められている。
電力用半導体装置100では、第1突起部4および第2突起部5の各々は、長手方向を有している。第1突起部4の長手方向は、第2突起部5の長手方向に沿っている。このような第1突起部4および第2突起部5は、上述のように超音波ツールまたはヒートシンク2の第2面2AをXY平面上で回転させることなくファーストボンディングおよびセカンドボンディングが実施されることにより、容易に形成され得る。そのため、電力用半導体装置100の生産性は、ファーストボンディングとセカンドボンディングとの間で超音波ツールまたはヒートシンク2の第2面2AをXY平面上で回転させることにより製造される電力用半導体装置の生産性と比べて、高い。
実施の形態2.
図21に示されるように、実施の形態2に係る電力用半導体装置101は、実施の形態1に係る電力用半導体装置100と基本的に同様の構成を備え、同様の効果を奏することができるが、第1突起部4の長手方向が第1辺11の延在方向(X方向)と直交しており、かつ第2突起部5の長手方向が第2辺12の延在方向(Y方向)と直交している点で、電力用半導体装置100とは異なる。
各第1突起部4の長手方向は、Y方向に沿っている。各第2突起部5の長手方向は、X方向に沿っている。各第1突起部4のX方向の中心を通りY方向に沿って延びる中心線L5は、第1面1Aの中心において、各第2突起部5のY方向の中心を通りX方向に沿って延びる中心線L6と直交する。
第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B1は、例えば第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも長い。
電力用半導体装置101は、電力用半導体装置100と同様に製造され得る。図22に示されるように、上記第4の工程での加熱開始前の第4辺35と第2突起部5との間のX方向の距離B2は、第3辺34と第1突起部4との間のY方向の距離A2よりも長い。電力用半導体装置101の製造方法では、セカンドボンディングは、ファーストボンディング後に、超音波ツールまたはヒートシンク2の第2面2AをXY平面上で90度回転させた後に実施される。
上記第4の工程での加熱時に、Z方向から視たはんだ接合部材30の平面形状は、図22~図25に示されるように変化する。図22に示される加熱開始前のはんだ接合部材30の平面形状は、図14に示されるはんだ接合部材30の平面形状と同等である。図23に示される加熱開始から第1の時間経過後には、第1突起部4の周囲のはんだ接合部材30の外形線は略円弧状となるが、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の外形線は直線状に維持される。その後、図24に示される加熱開始から第2の時間経過後には、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の外形線は、第2突起部5側に向かって凹んだ曲線に変化する。このとき、第2突起部5が、Z方向から視てはんだ接合部材30の中心に向かって延びているため、はんだ接合部材30が第2突起部5を乗り越えにくい。その後、第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30は、再びZ方向から視た平面形状が長方形に戻るように外側に濡れ広がる。その結果、加熱終了後にはんだ接合部材30が凝固することにより形成されたはんだ接合層3の平面形状は、図25に示されるように角丸長方形状となる。
このように、電力用半導体装置101では、各第2突起部5が電力用半導体装置100の各第2突起部5と比べてX方向の内側に延びているため、図24に示されるように上記第4の工程において溶解したはんだ接合部材30が第2突起部5を乗り越えにくく、図25に示されるように溶解したはんだ接合部材30が第2突起部5の外側に濡れ広がりやすい。そのため、電力用半導体装置101の各第2突起部5は、電力用半導体装置100の各第2突起部5と比べて、はんだ接合層3の外縁部の近くに配置され得る。各第2突起部5がはんだ接合層3の外縁部の近くに配置されていれば、パワーモジュール1に反りが生じており第1面1Aが曲面である場合にも、はんだ接合層3の厚みの均一性が確保される。
実施の形態3.
図26に示されるように、実施の形態3に係る電力用半導体装置102は、実施の形態1に係る電力用半導体装置100と基本的に同様の構成を備え、同様の効果を奏することができるが、複数のパワーモジュール1がX方向およびY方向に並んで配置されている点で、電力用半導体装置100とは異なる。
複数のボス7および複数のネジ8は、2次元的に配置された複数のパワーモジュール1よりも外側にのみ配置されている。電力用半導体装置102が6つのパワーモジュール1を備える場合、ボス7およびネジ8の個数は例えば8個である。Y方向に並んで配置されている2つのボス間に、2つのパワーモジュール1が配置されている。X方向に並んで配置されている2つのボス間に、1つのパワーモジュール1が配置されている。
電力用半導体装置102では、電力用半導体装置100と比べて、より多くのパワーモジュール1が実装されているが、ボス7およびネジ8の個数は同等とされている。言い換えると、同じ個数のパワーモジュール1を備える電力用半導体装置102と電力用半導体装置100とを比較したときに、電力用半導体装置102のボス7およびネジ8の個数は電力用半導体装置100のボス7およびネジ8の個数よりも少なくできるため、電力用半導体装置102の製造コストは電力用半導体装置100の製造コストよりも低減され得る。
実施の形態4.
図27に示されるように、実施の形態4に係る電力用半導体装置103は、実施の形態1に係る電力用半導体装置100と基本的に同様の構成を備え、同様の効果を奏することができるが、複数の固定部材のうちの少なくとも一部の固定部材が、隣り合う複数のパワーモジュール1間に配置されている点で、電力用半導体装置100とは異なる。
1組のボス7およびネジ8は、X方向に隣り合う2つのパワーモジュール1間に配置されている。隣り合う2つのパワーモジュール1間に配置された1組のボス7およびネジ8は、Z方向から視て、各パワーモジュール1の下に配置された各第2突起部5の間に配置されている。
電力用半導体装置103が3つのパワーモジュール1を備える場合、例えば、2組のボス7およびネジ8の各々が隣り合う2つのパワーモジュール1間に配置され、6組のボス7およびネジ8の各々が各パワーモジュール1よりも外側に配置される。
電力用半導体装置103は、電力用半導体装置100と同様に製造され得る。電力用半導体装置103の製造方法においても、上記第4の工程での加熱開始前の第4辺35と第2突起部5との間のX方向の距離B2(図14参照)は、第3辺34と第1突起部4との間のY方向の距離A2(図14参照)よりも長い。また、電力用半導体装置103の製造方法においても、第1の工程にてボス7が固定されたヒートシンク2が準備され得る。
電力用半導体装置103では、電力用半導体装置100と比べて、ボス7およびネジ8の点数が少ないため、製造コストが低減されている。さらに、電力用半導体装置103では、電力用半導体装置100と比べて、ネジ8を挿通するために制御基板6に形成された孔の面積が小さいため、制御基板6上で部品等を実装できる領域が広くなる。
さらに、電力用半導体装置103の他の作用効果を、比較例2の電力用半導体装置との対比に基づいて説明する。
比較例2の電力用半導体装置は、電力用半導体装置103と同様にボスおよびネジが隣り合う2つのパワーモジュール間に配置されているが、その製造方法において上記第4の工程での加熱開始前の上記距離B2が上記距離A2以下である点で、電力用半導体装置103とは異なる。比較例2の電力半導体装置の製造方法において、上記第4の工程でボス7と一体化されたヒートシンク2を加熱すると、隣り合う2つのパワーモジュール間に配置されたボス7に熱が放散してしまい、各部材においてボス7の周辺に配置された部分の温度が他の部分の温度と比べて低くなり、はんだ接合部材がボス7の周辺に濡れ広がらないことが懸念される。
これに対し、電力用半導体装置103の製造方法では、上記第4の工程での加熱開始前の上記距離B2が上記距離A2よりも長いため、上記第4の工程でボス7と一体化されたヒートシンク2を加熱しても、はんだ接合部材30がボス7の周辺に濡れ広がることが確認された。そのため、電力用半導体装置103は、比較例2の電力用半導体装置と比べて、高い放熱性を有ながらも、製造方法の自由度が高い。
図28に示されるように、電力用半導体装置103は、実施の形態3に係る電力用半導体装置102と基本的に同様の構成を備えていてもよい。電力用半導体装置103では、複数のパワーモジュール1がX方向およびY方向に並んで配置されていてもよい。この場合、1組のボス7およびネジ8は、X方向およびY方向に隣り合う4つのパワーモジュール1間に配置されている。
電力用半導体装置103が6つのパワーモジュール1を備える場合、例えば、2組のボス7およびネジ8の各々が隣り合う4つのパワーモジュール1間に配置され、4組のボス7およびネジ8の各々が各パワーモジュール1よりも外側に配置される。電力用半導体装置103は、電力用半導体装置102と比べて、ボス7およびネジ8の点数が少ないため、製造コストが低減されている。さらに、電力用半導体装置103では、電力用半導体装置102と比べて、ネジ8を挿通するために制御基板6に形成された孔の面積が小さいため、制御基板6上で部品等を実装できる領域が広くなる。
実施の形態5.
図29に示されるように、実施の形態5に係る電力用半導体装置104は、実施の形態1に係る電力用半導体装置100と基本的に同様の構成を備え、同様の効果を奏することができるが、第1面1Aの平面形状が正方形状である点で、電力用半導体装置100とは異なる。
パワーモジュール1の第1面1Aの平面形状は、正方形状である。第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B4は、例えば第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A4と等しい。
電力用半導体装置104は、電力用半導体装置100と同様に製造され得る。図30に示されるように、上記第4の工程での加熱開始前の第4辺35と第2突起部5との間のX方向の距離B5は、例えば第3辺34と第1突起部4との間のY方向の距離A5と等しい。
電力用半導体装置104においても、熱応力が集中するはんだ接合層3の各角部33の近くには第1突起部4および第2突起部5が配置されていない。したがって、電力用半導体装置104では、電力用半導体装置100と同様に、熱応力が集中するはんだ接合層の各角部の近くに金属棒が配置された上記半導体装置と比べて、高い放熱性を有しながらも、はんだ接合層3の信頼性が安定的に高められている。
上記第4の工程での加熱時に、Z方向から視たはんだ接合部材30の平面形状は、図30~図33に示されるように変化する。図30に示される加熱開始前のはんだ接合部材30の平面形状は、正方形状である。図31に示される加熱開始から第1の時間経過後には、各角部の外形線が曲線状に変化するが、第1突起部4および第2突起部5の周囲のはんだ接合部材30の各外形線は直線状に維持される。その後、図32に示される加熱開始から第2の時間経過後には、はんだ接合部材30の平面形状は円形状となる。その後、はんだ接合部材30は、再びZ方向から視た平面形状が長方形に戻るように外側に濡れ広がる。その結果、加熱終了後にはんだ接合部材30が凝固することにより形成されたはんだ接合層3の平面形状は、図33に示されるように角丸正方形状となる。
本発明者らは、はんだ接合部材30の平面形状が正方形状である場合には、上記第4の工程での加熱開始前の上記距離B2が上記距離A2と等しくても、図37に示される構造が形成されにくいことを確認した。
<変形例>
電力用半導体装置100~103では、第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B1が第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも長いが、これに制限されない。上記距離B1がゼロよりも長い限りにおいて、上記距離A1と上記距離B1との大小関係は特に制限されない。電力用半導体装置の製造方法において、上記第4の工程での加熱開始前の第4辺35と第2突起部5との間のX方向の距離B2(図6および図14参照)が第3辺34と第1突起部4との間のY方向の距離A2(図6および図14参照)よりも長く設定されていればよい。そのような条件で製造された電力用半導体装置100では、図37に示される構造が形成されにくく、はんだ接合層3の第2辺12が第2突起部5よりも外側に配置され得る。つまり、このような電力用半導体装置100では、第2辺12と第2突起部5との間のX方向の距離B1がゼロよりも長くなる。このような電力用半導体装置100の放熱性および信頼性は、図37に示される構造を備える比較例1と比べて、高められている。上記距離B1は、第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1と等しくてもよい。また、上記距離B1は、第1辺11と第1突起部4との間のY方向の距離A1よりも短くてもよい。
電力用半導体装置100~104の第1突起部4および第2突起部5は、ヒートシンク2と一体的に形成されてもよい。このような第1突起部4および第2突起部5は、例えばマシニングセンターなどを用いてヒートシンク2を研削することにより、容易に形成され得る。
1 パワーモジュール、1A 第1面、2 ヒートシンク、2A 第2面、3,300 はんだ接合層、3A 接合面、4 第1突起部、5 第2突起部、6 制御基板、7 ボス、8 ネジ、11 第1辺、12 第2辺、13,33,36 角部、30,300 はんだ接合部材、30A 第3面、30B 第4面、34,340 第3辺、35,350 第4辺、40,50 突起部、100,101,102,103,104 電力用半導体装置。

Claims (8)

  1. 半導体素子を内蔵しており、第1面を有する少なくとも1つのパワーモジュールと、
    前記第1面と対向する第2面を有し、前記少なくとも1つのパワーモジュールに生じた熱を放散するヒートシンクと、
    前記第1面と前記第2面とを固着しているはんだ接合層と、
    前記第1面と前記第2面との間に配置されており、かつ前記はんだ接合層の外縁部よりも内側に配置されている第1突起部および第2突起部とを備え、
    前記第1面は、角部を介して接続された第1辺と第2辺とを有し、
    前記第1突起部は、前記第1面と直交する方向から視て、前記第2辺が延在する第2方向において前記第1面の中央よりも前記第1辺側に配置されており、かつ前記第1辺が延在する第1方向において前記角部よりも前記第1辺の中央側に配置されており、
    前記第2突起部は、前記第1面と直交する方向から視て、前記第1方向において前記第1面の中央よりも前記第2辺側に配置されており、かつ前記第2方向において前記角部よりも前記第2辺の中央側に配置されている、電力用半導体装置。
  2. 前記第1面の平面形状は、略長方形状であり、
    前記第1辺は、前記第2辺よりも短く、
    前記第2辺と前記第2突起部との間の前記第1方向の距離は、前記第1辺と前記第1突起部との間の前記第2方向の距離よりも長い、請求項1に記載の電力用半導体装置。
  3. 前記第1突起部は、前記第1方向において前記第1辺の中央に配置されており、
    前記第2突起部は、前記第2方向において前記第2辺の中央に配置されている、請求項1または2に記載の電力用半導体装置。
  4. 前記第1突起部および前記第2突起部の各々は、長手方向を有しており、
    前記第1突起部の前記長手方向は、前記第2突起部の前記長手方向に沿っている、請求項1~3のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
  5. 前記第1突起部および前記第2突起部の各々は、長手方向を有しており、
    前記第1突起部の前記長手方向は、前記第1方向と直交しており、
    前記第2突起部の前記長手方向は、前記第2方向と直交している、請求項1~3のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
  6. 前記少なくとも1つのパワーモジュールは、複数のパワーモジュールであり、
    前記第2面と直交する方向から視て、前記複数のパワーモジュールおよび前記ヒートシンクと重なるように配置されており、かつ前記複数のパワーモジュールを制御する制御基板と、
    前記ヒートシンクに対して前記制御基板を固定するための少なくとも1つの固定部材とをさらに備え、
    前記少なくとも1つの固定部材は、隣り合う複数の前記パワーモジュール間に配置されている、請求項1~5のいずれか1項に記載の電力用半導体装置。
  7. 半導体素子を内蔵しており、第1面を有する少なくとも1つのパワーモジュールと、
    前記第1面と対向する第2面を有し、前記少なくとも1つのパワーモジュールに生じた熱を放散するヒートシンクと、
    前記第1面と前記第2面とを固着しているはんだ接合層とを備える電力用半導体装置の製造方法であって、
    前記第2面上に第1突起部および第2突起部が形成された前記ヒートシンクを準備する工程と、
    前記第1突起部および前記第2突起部上に前記はんだ接合層となるべきはんだ接合部材を配置する工程と、
    前記はんだ接合部材上に前記少なくとも1つのパワーモジュールを配置する工程と、
    前記少なくとも1つのパワーモジュールを配置する工程後に、前記はんだ接合部材を溶解して凝固させて前記はんだ接合層を形成する工程とを備え、
    前記はんだ接合層を形成する工程において、溶解前の前記はんだ接合部材は、前記第1面と接触しておりかつ角部を介して接続された第3辺と第4辺とを有する第3面を有し、さらに、
    溶解前の前記はんだ接合部材は、
    前記第1突起部が、前記第1面と直交する方向から視て、前記第4辺が延在する第2方向において前記第3面の中央よりも前記第3辺側に位置し、かつ前記第3辺が延在する第1方向において前記角部よりも前記第3辺の中央側に位置するとともに、
    前記第2突起部が、前記第1面と直交する方向から視て、前記第1方向において前記第3面の中央よりも前記第4辺側に位置し、かつ前記第2方向において前記角部よりも前記第4辺の中央側に位置するように、
    前記第1突起部および前記第2突起部に対して位置決めされている、電力用半導体装置の製造方法。
  8. 前記はんだ接合層を形成する工程では、
    前記第4辺と前記第2突起部との間の前記第1方向の距離が前記第3辺と前記第1突起部との間の前記第2方向の距離よりも長くなるように、溶解前の前記はんだ接合部材が前記第1突起部および前記第2突起部に対して位置決めされている、請求項7に記載の電力用半導体装置の製造方法。
JP2020160700A 2020-09-25 2020-09-25 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法 Active JP7489879B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020160700A JP7489879B2 (ja) 2020-09-25 2020-09-25 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020160700A JP7489879B2 (ja) 2020-09-25 2020-09-25 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022053844A true JP2022053844A (ja) 2022-04-06
JP7489879B2 JP7489879B2 (ja) 2024-05-24

Family

ID=80996799

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020160700A Active JP7489879B2 (ja) 2020-09-25 2020-09-25 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7489879B2 (ja)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001358267A (ja) 2000-06-12 2001-12-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びその製造方法
US20030003625A1 (en) 2001-06-29 2003-01-02 Kotzias Barbara D. Leadframe pedestals for uniform die attach
JP2011228604A (ja) 2010-04-23 2011-11-10 Honda Motor Co Ltd 回路基板の製造方法及び回路基板
JP2014112608A (ja) 2012-12-05 2014-06-19 Denso Corp 半導体装置
CN105575924B (zh) 2014-10-15 2018-07-03 台达电子工业股份有限公司 功率模块
JP6920790B2 (ja) 2016-05-24 2021-08-18 ローム株式会社 インテリジェントパワーモジュール、電気自動車またはハイブリッドカー、およびインテリジェントパワーモジュールの組み立て方法
JP6487122B2 (ja) 2016-06-14 2019-03-20 三菱電機株式会社 電力用半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP7489879B2 (ja) 2024-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2306512B1 (en) Heat radiator and power module
US7605456B2 (en) Inverter unit
WO2022249808A1 (ja) 半導体装置
JP5368357B2 (ja) 電極部材およびこれを用いた半導体装置
WO2022249813A1 (ja) 半導体装置
JP5343775B2 (ja) 電力用半導体装置
JP7489879B2 (ja) 電力用半導体装置および電力用半導体装置の製造方法
WO2022249805A1 (ja) 半導体装置
WO2022249807A1 (ja) 半導体装置
WO2022249809A1 (ja) 半導体装置
WO2023162501A1 (ja) 半導体装置
WO2022249811A1 (ja) 半導体装置
WO2022249814A1 (ja) 半導体装置
JP2008147218A (ja) 半導体装置の製造方法
WO2022249804A1 (ja) 半導体装置
WO2022249806A1 (ja) 半導体装置
WO2022249810A1 (ja) 半導体装置
WO2022249812A1 (ja) 半導体装置
WO2023157522A1 (ja) 半導体装置
WO2022249803A1 (ja) 半導体装置
WO2021065736A1 (ja) 半導体装置
JP2023128078A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230512

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240304

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240514

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7489879

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150