JP2022026520A - Array type inductor - Google Patents

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JP2022026520A JP2020130043A JP2020130043A JP2022026520A JP 2022026520 A JP2022026520 A JP 2022026520A JP 2020130043 A JP2020130043 A JP 2020130043A JP 2020130043 A JP2020130043 A JP 2020130043A JP 2022026520 A JP2022026520 A JP 2022026520A
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隆幸 新井
Takayuki Arai
直也 寺内
Naoya Terauchi
智男 柏
Tomoo Kashiwa
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Abstract

To provide an array type inductor suppressing a magnetic coupling between inductors in a small size in a direction along a component side.SOLUTION: An array type inductor 1 comprises: a base substance 10 containing a plurality of metal magnetic particles and having a first surface 10b; a first coil conductor 25A and a second coil conductor 25B provided in the base substance; a first outer electrode 21A connected to one end of the first coil conductor and a second outer electrode 22A connected to the other end; and a third outer electrode 21B connected to one end of the second coil conductor and a fourth outer electrode 22B connected to the other end. Each of the first to fourth outer electrodes is provided to the base substance so that at least one part is contacted to the first surface. The first coil conductor includes a first circulation part wound around the circumference of a first coil axis extending in a direction parallel to the first surface at a position separated from the first surface by a first distance. The second coil conductor includes a second circulation part wound around the circumference of a second coil axis extending in a direction parallel to the first coil axis at a position separated by a second distance larger than the first distance.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本明細書に開示される発明は、アレイ型インダクタ、当該アレイ型インダクタを備える回路基板、及び当該回路基板を備える電子機器に関する。 The invention disclosed herein relates to an array-type inductor, a circuit board including the array-type inductor, and an electronic device including the circuit board.

複数のインダクタを含むアレイ型インダクタが従来から知られている。アレイ型インダクタにおいては、複数のインダクタが単一のチップにパッケージ化されている。従来の典型的なアレイ型インダクタは、基体と、当該基体内に設けられており当該基体内では互いに絶縁されている複数のコイル導体と、当該複数のコイル導体の各々の両端に接続される複数の外部電極と、を備える。従来のアレイ型インダクタは、例えば、特開2016-006830号公報(特許文献1)及び特開2019-153649号公報(特許文献2)に記載されている。 Array type inductors including a plurality of inductors have been conventionally known. In an array-type inductor, a plurality of inductors are packaged on a single chip. A typical conventional array-type inductor includes a substrate, a plurality of coil conductors provided in the substrate and insulated from each other in the substrate, and a plurality of coil conductors connected to both ends of each of the plurality of coil conductors. With an external electrode. Conventional array-type inductors are described in, for example, JP-A-2016-006830 (Patent Document 1) and JP-A-2019-153649 (Patent Document 2).

特開2016-006830号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-006830 特開2019-153649号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-153649

特許文献1のアレイ型インダクタに含まれるコイル導体の各々は、実装面と垂直な方向に延びるコイル軸の周りに巻かれている。一般に、アレイ型インダクタにおけるコイル導体においては、コイル軸に垂直な方向における寸法がコイル軸に平行な方向における寸法よりも大きい。このため、特許文献1のアレイ型インダクタにおいては、インダクタの数に応じて基体の実装面に沿う方向の寸法が大きくなってしまうという問題がある。すなわち、特許文献1のアレイ型インダクタにおいては、実装面に沿う方向における小型化が困難である。 Each of the coil conductors included in the array type inductor of Patent Document 1 is wound around a coil shaft extending in a direction perpendicular to the mounting surface. Generally, in a coil conductor in an array type inductor, the dimension in the direction perpendicular to the coil axis is larger than the dimension in the direction parallel to the coil axis. Therefore, in the array type inductor of Patent Document 1, there is a problem that the dimension in the direction along the mounting surface of the substrate increases according to the number of inductors. That is, in the array type inductor of Patent Document 1, it is difficult to reduce the size in the direction along the mounting surface.

特許文献2には、両端が実装面から露出するように構成された複数のコイル導体を有するアレイ型インダクタが開示されている。特許文献2のアレイ型インダクタを小型化するために、当該アレイ型インダクタに含まれる複数のインダクタ同士の距離を近くすると、当該複数のインダクタ間での磁気的な結合が大きくなり、各インダクタが所期の特性を発揮できなくなる。 Patent Document 2 discloses an array-type inductor having a plurality of coil conductors configured so that both ends are exposed from the mounting surface. When the distance between the plurality of inductors included in the array-type inductor is reduced in order to reduce the size of the array-type inductor of Patent Document 2, the magnetic coupling between the plurality of inductors becomes large, and each inductor is located. It becomes impossible to demonstrate the characteristics of the period.

本発明の目的は、上述した問題の少なくとも一部を解決又は緩和することである。本発明のより具体的な目的の一つは、実装面に沿う方向における小型化が可能でインダクタ間の磁気的な結合が抑制されたアレイ型インダクタを提供することである。 An object of the present invention is to solve or alleviate at least a part of the above-mentioned problems. One of the more specific objects of the present invention is to provide an array-type inductor that can be miniaturized in the direction along the mounting surface and in which magnetic coupling between inductors is suppressed.

本発明の上記以外の目的は、明細書全体の記載を通じて明らかにされる。本明細書に開示される発明は、「発明を解決しようとする課題」の欄の記載以外から把握される課題を解決するものであってもよい。 Objectives other than the above of the present invention will be made clear through the description of the entire specification. The invention disclosed in the present specification may solve a problem grasped from other than the description in the column of "Problem to solve the invention".

本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタは、複数の金属磁性粒子を含み第1面を有する基体と、前記基体内に設けられており、前記第1面から第1距離だけ離れた位置で前記第1面に平行な方向に延びる第1コイル軸の周りに巻かれた第1周回部を有する第1コイル導体と、前記基体内に設けられており、前記第1面から前記第1距離よりも大きい第2距離だけ離れた位置で前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第2コイル軸の周りに巻かれた第2周回部を有する第2コイル導体と、少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第1コイル導体の一端に接続される第1外部電極(21A)と、少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第1コイル導体の他端に接続される第2外部電極と、少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第2コイル導体の一端に接続される第3外部電極と、少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第2コイル導体の他端に接続される第4外部電極と、を備える The array-type inductor according to one or a plurality of embodiments of the present invention is provided in a substrate containing a plurality of metallic magnetic particles and having a first surface, and in the substrate, and is separated from the first surface by a first distance. A first coil conductor having a first circumferential portion wound around a first coil shaft extending in a direction parallel to the first surface at a position, and a first coil conductor provided in the substrate, from the first surface to the first surface. A second coil conductor having a second circuit wound around a second coil shaft extending in a direction parallel to the first coil shaft at a position separated by a second distance larger than one distance, and at least the first coil conductor. A first external electrode (21A) provided on the substrate so as to be in contact with a surface and connected to one end of the first coil conductor, and the first coil provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface. A second external electrode connected to the other end of the conductor, a third external electrode provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface and connected to one end of the second coil conductor, and at least the first surface. A fourth external electrode provided on the substrate so as to be in contact with the surface and connected to the other end of the second coil conductor.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1コイル軸に沿う方向における前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との間の間隔は、0.3mm以下である。 In one or more embodiments of the present invention, the distance between the first coil conductor and the second coil conductor in the direction along the first coil axis is 0.3 mm or less.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記基体の比透磁率が100以下である。 In one or more embodiments of the present invention, the relative permeability of the substrate is 100 or less.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1周回部は、前記第1コイル軸の周りに1.5ターン以下だけ巻かれており、前記第2周回部は、前記第2コイル軸の周りに1.5ターン以下だけ巻かれている。 In one or more embodiments of the present invention, the first circuit is wound around the first coil shaft for 1.5 turns or less, and the second circuit is the second coil shaft. It is wrapped around for 1.5 turns or less.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状は、前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状と同一である。 In one or more embodiments of the present invention, the shape of the first peripheral portion seen from the direction of the first coil shaft is the same as the shape of the second peripheral portion seen from the direction of the second coil shaft. be.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との結合係数の絶対値は0.15以下である。 In one or more embodiments of the present invention, the absolute value of the coupling coefficient between the first coil conductor and the second coil conductor is 0.15 or less.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1コイル軸に平行な方向における前記第1周回部の断面の寸法に対する前記第1コイル軸に垂直な方向における前記第1周回部の断面の寸法の比である第1アスペクト比が1より大きい。 In one or more embodiments of the invention, the dimensions of the cross section of the first circuit in the direction perpendicular to the first coil axis relative to the dimensions of the cross section of the first circuit in the direction parallel to the first coil axis. The first aspect ratio, which is the ratio of, is larger than 1.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第2コイル軸に平行な方向における前記第2周回部の断面の寸法に対する前記第2コイル軸に垂直な方向における前記第2周回部の断面の寸法の比である第2アスペクト比が1より大きい。 In one or more embodiments of the invention, the dimensions of the cross section of the second circuit in the direction perpendicular to the second coil axis relative to the dimensions of the cross section of the second circuit in the direction parallel to the second coil axis. The second aspect ratio, which is the ratio of, is larger than 1.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第1周回部は、前記第1コイル軸の周りに延びる第1周回パターンを有し、前記第1周回パターンは、前記第1コイル軸を通る断面において角がない形状を有している。 In one or more embodiments of the present invention, the first orbital portion has a first orbital pattern extending around the first coil axis, and the first orbital pattern is a cross section passing through the first coil axis. Has a shape without corners.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記基体は、前記第1面と接続されている第1端面を有し、前記第1コイル導体は、前記第1周回部の一端に接続され前記第1端面に沿って延びる第1引出導体を有し、前記第1外部電極は、前記第1引出導体を介して前記第1コイル導体に接続されている。 In one or more embodiments of the invention, the substrate has a first end surface connected to the first surface, and the first coil conductor is connected to one end of the first circumferential portion. It has a first lead conductor extending along one end face, and the first external electrode is connected to the first coil conductor via the first lead conductor.

本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタは、前記基体内に前記第2コイル導体に対して前記第1コイル導体と反対側に設けられており、前記第2距離よりも小さい第3距離だけ前記第1面から離れていて前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第3コイル軸の周りに巻かれた第3周回部を有する第3コイル導体と、前記第3コイル導体の一端に接続される第5外部電極と、前記第3コイル導体の他端に接続される第6外部電極と、を備える。 The array-type inductor according to one or more embodiments of the present invention is provided in the substrate on the side opposite to the first coil conductor with respect to the second coil conductor, and is smaller than the second distance. A third coil conductor having a third circuit wound around a third coil shaft extending in a direction parallel to the first coil shaft and separated from the first surface by a distance, and one end of the third coil conductor. A fifth external electrode connected to the third coil conductor and a sixth external electrode connected to the other end of the third coil conductor are provided.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第3距離は、前記第1距離と等しい。 In one or more embodiments of the invention, the third distance is equal to the first distance.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第3コイル軸の方向から見た前記第3周回部の形状は、前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状及び前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状の少なくとも一方と同一である。 In one or more embodiments of the present invention, the shape of the third peripheral portion viewed from the direction of the third coil shaft is the shape of the first peripheral portion viewed from the direction of the first coil shaft and the first. It is the same as at least one of the shapes of the second peripheral portion viewed from the direction of the two coil shafts.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記基体は、前記第1面と接続されている第1端面を有し、前記第1コイル導体は、前記第1コイル軸に沿う方向において前記基体の前記第1端面と対向するように配置されており、
前記第1コイル軸に沿う方向における前記第2コイル導体と前記第3コイル導体との間の間隔は、前記第1コイル軸に沿う方向における前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との間の間隔よりも大きい。
In one or more embodiments of the invention, the substrate has a first end surface connected to the first surface, and the first coil conductor is the substrate in a direction along the first coil axis. It is arranged so as to face the first end surface, and is arranged so as to face the first end surface.
The distance between the second coil conductor and the third coil conductor in the direction along the first coil axis is between the first coil conductor and the second coil conductor in the direction along the first coil axis. Greater than the interval between.

本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタは、前記基体内に前記第3コイル導体に対して前記第2コイル導体と反対側に設けられており、前記第3距離よりも大きい第4距離だけ前記第1面から離れていて前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第4コイル軸の周りに巻かれた第4周回部を有する第4コイル導体と、前記第4コイル導体の一端に接続される第7外部電極と、前記第3コイル導体の他端に接続される第8外部電極と、を備える。 The array type inductor according to one or more embodiments of the present invention is provided in the substrate on the side opposite to the second coil conductor with respect to the third coil conductor, and is larger than the third distance. A fourth coil conductor having a fourth coil wound around a fourth coil shaft extending in a direction parallel to the first coil shaft and separated from the first surface by a distance, and one end of the fourth coil conductor. A seventh external electrode connected to the third coil conductor and an eighth external electrode connected to the other end of the third coil conductor are provided.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第4距離は、前記第2距離と等しい。 In one or more embodiments of the invention, the fourth distance is equal to the second distance.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記第4コイル軸の方向から見た前記第4周回部の形状は、前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状、前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状、及び前記第3コイル軸の方向から見た前記第3周回部の形状の少なくとも1つと同一である。 In one or more embodiments of the present invention, the shape of the fourth peripheral portion viewed from the direction of the fourth coil shaft is the shape of the first peripheral portion viewed from the direction of the first coil shaft, the first. It is the same as at least one of the shape of the second peripheral portion seen from the direction of the two coil shafts and the shape of the third peripheral portion seen from the direction of the third coil shaft.

本発明の一又は複数の実施形態において、前記基体は、前記第1面と接続されており前記第1端面と対向する第2端面を有し、前記第4コイル導体は、前記第1コイル軸に沿う方向において前記基体の前記第2端面と対向するように配置されており、前記第3コイル軸に沿う方向における前記第2コイル導体と前記第3コイル導体との間の間隔は、前記第3コイル軸に沿う方向における前記第3コイル導体と前記第4コイル導体との間の間隔よりも大きい。 In one or more embodiments of the invention, the substrate has a second end face that is connected to the first surface and faces the first end face, and the fourth coil conductor is the first coil shaft. It is arranged so as to face the second end surface of the substrate in the direction along the third coil axis, and the distance between the second coil conductor and the third coil conductor in the direction along the third coil axis is the first. It is larger than the distance between the third coil conductor and the fourth coil conductor in the direction along the three coil axes.

本発明の一実施形態は、上記の何れかのアレイ型インダクタを備える回路基板に関する。 One embodiment of the present invention relates to a circuit board including any of the above array-type inductors.

本発明の一実施形態は、上記の回路基板を備える電子機器に関する。 One embodiment of the present invention relates to an electronic device including the above circuit board.

本明細書の開示によれば、実装面に沿う方向における小型化が可能でインダクタ間の磁気的な結合が抑制されたアレイ型インダクタを提供することができる。 According to the disclosure of the present specification, it is possible to provide an array-type inductor that can be miniaturized in the direction along the mounting surface and in which magnetic coupling between inductors is suppressed.

実装基板に実装された本発明の一実施形態によるアレイ型インダクタの斜視図である。It is a perspective view of the array type inductor by one Embodiment of this invention mounted on a mounting board. 図1のアレイ型インダクタの分解図である。It is an exploded view of the array type inductor of FIG. 図1のアレイ型インダクタのI-I線に沿った断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the cross section of the array type inductor of FIG. 1 along the line I-I. 図1のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体25Aを見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 25A through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG. 図1のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体25Bを見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 25B through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG. 図1のアレイ型インダクタが備えるコイル導体の周回パターンの断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the cross section of the circumferential pattern of the coil conductor included in the array type inductor of FIG. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタが備えるコイル導体の周回パターンの断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the cross section of the circumferential pattern of the coil conductor provided in the array type inductor according to another embodiment of this invention. 図1のアレイ型インダクタが備えるコイル導体の周回部から発生する磁束を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the magnetic flux generated from the circumferential part of the coil conductor included in the array type inductor of FIG. 従来のアレイ型インダクタが備えるコイル導体の周回部から発生する磁束を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the magnetic flux generated from the circumferential part of the coil conductor provided in the conventional array type inductor. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタが備えるコイル導体の周回パターンの断面を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the cross section of the circumferential pattern of the coil conductor provided in the array type inductor according to another embodiment of this invention. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタの分解図である。It is an exploded view of the array type inductor according to another embodiment of this invention. 図8のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体125Aを見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 125A through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタの分解図である。It is an exploded view of the array type inductor according to another embodiment of this invention. 図10のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体225A見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 225A through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタの斜視図である。It is a perspective view of the array type inductor according to another embodiment of this invention. 図12のアレイ型インダクタの分解図である。It is an exploded view of the array type inductor of FIG. 本発明の別の実施形態によるアレイ型インダクタの斜視図である。It is a perspective view of the array type inductor according to another embodiment of this invention. 図14のインダクタのII-II線に沿った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the inductor of FIG. 14 along the line II-II. 図14のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体25Cを見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 25C through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG. 図14のアレイ型インダクタにおいてL軸の方向から基体10の一部を透過してコイル導体25Dを見た透過図である。It is a transmission diagram which saw the coil conductor 25D through a part of the substrate 10 from the direction of the L axis in the array type inductor of FIG.

以下、適宜図面を参照し、本発明の様々な実施形態を説明する。なお、複数の図面において共通する構成要素には当該複数の図面を通じて同一の参照符号が付されている。各図面は、説明の便宜上、必ずしも正確な縮尺で記載されているとは限らない点に留意されたい。 Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. The components common to the plurality of drawings are designated by the same reference numerals throughout the plurality of drawings. It should be noted that each drawing is not always drawn to the correct scale for convenience of explanation.

図1から図5aを参照して本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ1について説明する。図1は本発明の一実施形態によるアレイ型インダクタ1の斜視図であり、図2はアレイ型インダクタ1の分解図であり、図3はアレイ型インダクタ1のI-I線に沿った断面を模式的に示す断面図であり、図4a及び図4bはアレイ型インダクタ1の一部を透過してコイル導体見た透過図であり、図5aはアレイ型インダクタ1が備えるコイル導体の周回部を構成する周回パターンの断面を模式的に示す断面図である。 The array type inductor 1 according to one or more embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5a. FIG. 1 is a perspective view of an array-type inductor 1 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded view of the array-type inductor 1, and FIG. 3 is a cross section of the array-type inductor 1 along the I-I line. FIG. 4a and FIG. 4b are schematic sectional views showing the coil conductor through a part of the array-type inductor 1, and FIG. 5a shows the circumferential portion of the coil conductor included in the array-type inductor 1. It is sectional drawing which shows typically the cross section of the constituent orbital pattern.

各図には、互いに直交するL軸、W軸、及びT軸が記載されている。本明細書においては、文脈上別に解される場合を除き、アレイ型インダクタ1の「長さ」方向、「幅」方向、及び「厚さ」方向はそれぞれ、図1のL軸方向、W軸方向、及びT軸方向とする。 Each figure shows an L-axis, a W-axis, and a T-axis that are orthogonal to each other. In the present specification, the "length" direction, the "width" direction, and the "thickness" direction of the array-type inductor 1 are the L-axis direction and the W-axis of FIG. 1, respectively, unless otherwise understood in the context. The direction and the T-axis direction.

図示のように、アレイ型インダクタ1は、基体10と、この基体10内に設けられたコイル導体25A、25Bと、基体10の表面に設けられた外部電極21A、21B、22A、22Bと、を備える。コイル導体25Aは、その一端において外部電極21Aに接続され、その他端において外部電極22Aに接続される。コイル導体25Bは、その一端において外部電極21Bに接続され、その他端において外部電極22Bに接続される。このように、アレイ型インダクタ1は、コイル導体25A及び外部電極21A、22Aを有する第1インダクタと、コイル導体25B及び外部電極21B、22Bを有する第2インダクタと、を備える。外部電極21A、22A、21B、22Bは、互いから離間している。 As shown in the figure, the array-type inductor 1 includes a substrate 10, coil conductors 25A and 25B provided in the substrate 10, and external electrodes 21A, 21B, 22A and 22B provided on the surface of the substrate 10. Be prepared. The coil conductor 25A is connected to the external electrode 21A at one end thereof and to the external electrode 22A at the other end. The coil conductor 25B is connected to the external electrode 21B at one end thereof and to the external electrode 22B at the other end. As described above, the array-type inductor 1 includes a first inductor having a coil conductor 25A and external electrodes 21A and 22A, and a second inductor having a coil conductor 25B and external electrodes 21B and 22B. The external electrodes 21A, 22A, 21B, and 22B are separated from each other.

アレイ型インダクタ1は、例えば、大電流が流れる大電流回路において用いられる。より具体的には、アレイ型インダクタ1は、DC/DCコンバータに用いられるインダクタであってもよい。 The array type inductor 1 is used, for example, in a large current circuit through which a large current flows. More specifically, the array type inductor 1 may be an inductor used in a DC / DC converter.

アレイ型インダクタ1は、実装基板2aに実装され得る。実装基板2aには、4つのランド3が設けられている。アレイ型インダクタ1の4つの外部電極21A、21B、22A、22Bは、アレイ型インダクタ1を実装基板2aに実装する際に対応するランド3にそれぞれ対向するように配置される。アレイ型インダクタ1は、外部電極21A、21B、22A、22Bと対応するランド3とをそれぞれはんだにより接合することで実装基板2に実装されてもよい。このように、回路基板2は、アレイ型インダクタ1と、このアレイ型インダクタ1が実装される実装基板2aと、を備える。実装基板2aには、アレイ型インダクタ1以外にも様々な電子部品が実装され得る。 The array type inductor 1 can be mounted on the mounting board 2a. The mounting board 2a is provided with four lands 3. The four external electrodes 21A, 21B, 22A, and 22B of the array-type inductor 1 are arranged so as to face the corresponding lands 3 when the array-type inductor 1 is mounted on the mounting substrate 2a. The array-type inductor 1 may be mounted on the mounting substrate 2 by joining the external electrodes 21A, 21B, 22A, 22B and the corresponding lands 3 with solder, respectively. As described above, the circuit board 2 includes an array-type inductor 1 and a mounting board 2a on which the array-type inductor 1 is mounted. Various electronic components other than the array type inductor 1 can be mounted on the mounting board 2a.

回路基板2は、様々な電子機器に実装され得る。回路基板2が実装され得る電子機器には、スマートフォン、タブレット、ゲームコンソール、サーバー、自動車の電装品、及びこれら以外の様々な電子機器が含まれる。アレイ型インダクタ1は、実装基板2aの内部に埋め込まれる内蔵部品であってもよい。 The circuit board 2 can be mounted on various electronic devices. Electronic devices on which the circuit board 2 can be mounted include smartphones, tablets, game consoles, servers, automobile electrical components, and various other electronic devices. The array-type inductor 1 may be an internal component embedded inside the mounting board 2a.

アレイ型インダクタ1は、コイル導体25A及び外部電極21A、22Aを有する第1インダクタとコイル導体25B及び外部電極21B、22Bを有する第2インダクタとが単一のチップとして構成されているので、電子部品の高密度での実装が求められる小型の電子機器に特に適している。 The array-type inductor 1 is an electronic component because the first inductor having the coil conductor 25A and the external electrodes 21A and 22A and the second inductor having the coil conductor 25B and the external electrodes 21B and 22B are configured as a single chip. It is particularly suitable for small electronic devices that require high-density mounting.

基体10は、磁性材料から直方体形状に形成されている。本発明の一実施形態において、基体10は、長さ寸法(L軸方向の寸法)が0.6mm~10mm、幅寸法(W軸方向の寸法)が0.2~10mm、高さ寸法(T軸方向の寸法)が0.2~10mmとなるように形成される。基体10は、L軸方向における所定の位置を境界として、その境界位置よりもL軸方向の正側にある第1領域と、その境界位置よりも負側にある第2領域と、を有する。第1領域にはコイル導体25Aが含まれ、第2領域にはコイル導体25Bが含まれる。このように、基体10は、それぞれが1つのインダクタを有する複数の領域を有する。1つのインダクタを含む基体10の1つの領域のL軸方向における寸法は、0.15mm~5.0mmとされる。基体10の寸法は、本明細書で具体的に説明される寸法には限定されない。本明細書において「直方体」又は「直方体形状」というときには、数学的に厳密な意味での「直方体」のみを意味するものではない。 The substrate 10 is formed of a magnetic material into a rectangular parallelepiped shape. In one embodiment of the present invention, the substrate 10 has a length dimension (dimension in the L-axis direction) of 0.6 mm to 10 mm, a width dimension (dimension in the W-axis direction) of 0.2 to 10 mm, and a height dimension (T). Axial dimensions) are formed to be 0.2 to 10 mm. The substrate 10 has a first region on the positive side in the L-axis direction with respect to the boundary position and a second region on the negative side with the boundary position, with a predetermined position in the L-axis direction as a boundary. The first region includes the coil conductor 25A, and the second region includes the coil conductor 25B. As described above, the substrate 10 has a plurality of regions, each having one inductor. The dimension of one region of the substrate 10 including one inductor in the L-axis direction is 0.15 mm to 5.0 mm. The dimensions of the substrate 10 are not limited to the dimensions specifically described herein. In the present specification, the term "rectangular parallelepiped" or "rectangular parallelepiped shape" does not mean only "rectangular parallelepiped" in a mathematically strict sense.

基体10は、第1主面10a、第2主面10b、第1端面10c、第2端面10d、第1側面10e、及び第2側面10fを有する。基体10は、これらの6つの面によってその外面が画定される。第1主面10aと第2主面10bとは互いに対向し、第1端面10cと第2端面10dとは互いに対向し、第1側面10eと第2側面10fとは互いに対向している。第1端面10c及び第2端面10dの各々は、第1主面10aと第2主面10bとを接続し、また、第1側面10eと第2側面10fとを接続している。実装基板2aを基準としたとき第1主面10aは基体10の上側にあるため、第1主面10aを「上面」と呼び、第2主面10bを「下面」と呼ぶことがある。アレイ型インダクタ1は、第1主面10a又は第2主面10bが実装基板2aと対向するように配置される。第1主面10a又は第2主面10bのうち実装基板2aと対向する面を「実装面」と呼ぶ。図示の実施形態においては、第2主面10bが実装基板2aと対向しているので、この第2主面10bが「実装面」である。このため、本明細書では、第2主面10bを「実装面10b」と呼ぶこともある。基体10の「実装面」は、実装基板2aと対向する面であるため、第2主面10b以外の面が実装面となることもある。基体10の実装面には、アレイ型インダクタ1が備える全ての外部電極21A、22A、21B、22Bの少なくとも一部分が接する。図1に示した実施形態においては、外部電極21A、22A、21B、22Bの全ての一部分が第1主面10a及び第2主面10bのそれぞれに接しているので、第1主面10a及び第2主面10bのどちらを実装面としてもよい。 The substrate 10 has a first main surface 10a, a second main surface 10b, a first end surface 10c, a second end surface 10d, a first side surface 10e, and a second side surface 10f. The outer surface of the substrate 10 is defined by these six surfaces. The first main surface 10a and the second main surface 10b face each other, the first end surface 10c and the second end surface 10d face each other, and the first side surface 10e and the second side surface 10f face each other. Each of the first end surface 10c and the second end surface 10d connects the first main surface 10a and the second main surface 10b, and also connects the first side surface 10e and the second side surface 10f. Since the first main surface 10a is on the upper side of the substrate 10 when the mounting substrate 2a is used as a reference, the first main surface 10a may be referred to as an "upper surface" and the second main surface 10b may be referred to as a "lower surface". The array type inductor 1 is arranged so that the first main surface 10a or the second main surface 10b faces the mounting substrate 2a. Of the first main surface 10a or the second main surface 10b, the surface facing the mounting board 2a is referred to as a "mounting surface". In the illustrated embodiment, the second main surface 10b faces the mounting board 2a, so that the second main surface 10b is the "mounting surface". Therefore, in the present specification, the second main surface 10b may be referred to as a “mounting surface 10b”. Since the "mounting surface" of the substrate 10 is a surface facing the mounting substrate 2a, a surface other than the second main surface 10b may be the mounting surface. At least a part of all the external electrodes 21A, 22A, 21B, and 22B included in the array type inductor 1 are in contact with the mounting surface of the substrate 10. In the embodiment shown in FIG. 1, since all a part of the external electrodes 21A, 22A, 21B, and 22B are in contact with the first main surface 10a and the second main surface 10b, respectively, the first main surface 10a and the first main surface 10a and the first surface are in contact with each other. 2 Either of the main surfaces 10b may be used as the mounting surface.

アレイ型インダクタ1の上下方向に言及する際には、図1の上下方向を基準とする。アレイ型インダクタ1又は基体10の厚さ方向は、上面10a及び実装面10bの少なくとも一方に垂直な方向とすることができる。アレイ型インダクタ1又は基体10の長さ方向は、第1端面10c及び第2端面10dの少なくとも一方に垂直な方向とすることができる。アレイ型インダクタ1又は基体10の幅方向は、第1側面10e及び第2側面10fの少なくとも一方に垂直な方向とすることができる。アレイ型インダクタ1又は基体10の幅方向は、アレイ型インダクタ1又は基体10の厚さ方向及び長さ方向と垂直な方向とすることができる。 When referring to the vertical direction of the array type inductor 1, the vertical direction of FIG. 1 is used as a reference. The thickness direction of the array-type inductor 1 or the substrate 10 may be perpendicular to at least one of the upper surface 10a and the mounting surface 10b. The length direction of the array-type inductor 1 or the substrate 10 may be perpendicular to at least one of the first end surface 10c and the second end surface 10d. The width direction of the array-type inductor 1 or the substrate 10 may be perpendicular to at least one of the first side surface 10e and the second side surface 10f. The width direction of the array-type inductor 1 or the substrate 10 may be a direction perpendicular to the thickness direction and the length direction of the array-type inductor 1 or the substrate 10.

図示の実施形態において、外部電極21A、21Bは、基体10の実装面10b、第1側面10e、及び上面10aに接するように設けられている。外部電極22A、22Bは、基体10の実装面10b、第2側面10f、及び上面10aに接するように設けられている。外部電極21A、21Bは、実装面10b及び第1側面10eに接する一方で上面10aには接しないように基体10に設けられてもよい。外部電極22A、22Bは、実装面10b及び第2側面10fに接する一方で上面10aには接しないように基体10に設けられてもよい。外部電極21A、21B、22A、22Bの形状及び配置は、本明細書において明示的に説明されたものには限られない。外部電極21A、21B、22A、22Bは、互いに同一の形状であっても良く、互いとは異なる形状であってもよい。外部電極21A、21B、22A、22Bのうち任意に選択された一組の外部電極同士が同一の形状を有していてもよい。 In the illustrated embodiment, the external electrodes 21A and 21B are provided so as to be in contact with the mounting surface 10b, the first side surface 10e, and the upper surface 10a of the substrate 10. The external electrodes 22A and 22B are provided so as to be in contact with the mounting surface 10b, the second side surface 10f, and the upper surface 10a of the substrate 10. The external electrodes 21A and 21B may be provided on the substrate 10 so as to be in contact with the mounting surface 10b and the first side surface 10e but not with the upper surface 10a. The external electrodes 22A and 22B may be provided on the substrate 10 so as to be in contact with the mounting surface 10b and the second side surface 10f but not with the upper surface 10a. The shapes and arrangements of the external electrodes 21A, 21B, 22A, 22B are not limited to those explicitly described herein. The external electrodes 21A, 21B, 22A, and 22B may have the same shape or different shapes from each other. A set of external electrodes arbitrarily selected from the external electrodes 21A, 21B, 22A, and 22B may have the same shape.

基体10は、磁性材料から作製される。基体10用の磁性材料は、複数の金属磁性粒子を含んでも良い。基体10用の磁性材料に含まれる金属磁性粒子は、例えば、(1)Fe、Ni等の金属粒子、(2)Fe-Si-Cr合金、Fe-Si-Al合金、Fe-Ni合金等の結晶合金粒子、(3)Fe-Si-Cr-B-C合金、Fe-Si-Cr-B合金等の非晶質合金粒子、または(4)これらが混合された混合粒子である。基体10に含まれる金属磁性粒子の組成は、前記のものに限られない。例えば、基体10に含まれる金属磁性粒子は、Co-Nb-Zr合金、Fe-Zr-Cu-B合金、Fe-Si-B合金、Fe-Co-Zr-Cu-B合金、Ni-Si-B合金、又はFe-AL-Cr合金であってもよい。基体10に含まれるFe系の金属磁性粒子は、Feを80wt%以上含有してもよい。金属磁性粒子の各々の表面には、絶縁膜が形成されてもよい。この絶縁膜は、上記の金属又は合金が酸化してできる酸化膜であってもよい。金属磁性粒子の各々の表面に設けられる絶縁膜は、例えばゾルゲル法によりコーティングされた酸化ケイ素膜であってもよい。 The substrate 10 is made of a magnetic material. The magnetic material for the substrate 10 may contain a plurality of metallic magnetic particles. The metal magnetic particles contained in the magnetic material for the substrate 10 include, for example, (1) metal particles such as Fe and Ni, (2) Fe—Si—Cr alloy, Fe—Si—Al alloy, Fe—Ni alloy and the like. Crystal alloy particles, (3) amorphous alloy particles such as Fe—Si—Cr—B—C alloy, Fe—Si—Cr—B alloy, or (4) mixed particles in which these are mixed. The composition of the metallic magnetic particles contained in the substrate 10 is not limited to that described above. For example, the metallic magnetic particles contained in the substrate 10 are Co—Nb—Zr alloy, Fe—Zr—Cu—B alloy, Fe—Si—B alloy, Fe—Co—Zr—Cu—B alloy, Ni—Si—. It may be a B alloy or a Fe-AL-Cr alloy. The Fe-based metal magnetic particles contained in the substrate 10 may contain 80 wt% or more of Fe. An insulating film may be formed on each surface of the metallic magnetic particles. The insulating film may be an oxide film formed by oxidizing the above-mentioned metal or alloy. The insulating film provided on each surface of the metal magnetic particles may be, for example, a silicon oxide film coated by a sol-gel method.

一又は複数の実施形態において、基体10に含まれる金属磁性粒子は、1.0~20μmの平均粒径を有する。基体10に含まれる金属磁性粒子の平均粒径は、1.0μmより小さくてもよいし20μmより大きくても良い。基体10は、互いに平均粒径の異なる2種類以上の金属磁性粒子を含んでもよい。 In one or more embodiments, the metallic magnetic particles contained in the substrate 10 have an average particle size of 1.0 to 20 μm. The average particle size of the metal magnetic particles contained in the substrate 10 may be smaller than 1.0 μm or larger than 20 μm. The substrate 10 may contain two or more types of metallic magnetic particles having different average particle sizes from each other.

基体10において、金属磁性粒子同士は、製造工程で金属磁性粒子に含有される元素が酸化して形成される酸化膜によって結合されてもよい。基体10は、金属磁性粒子に加えて結合材を含んでいてもよい。基体10が結合材を含む場合には、金属磁性粒子同士は結合材により互いに結合される。基体10に含まれる結合材は、例えば、絶縁性に優れた熱硬化性樹脂を硬化させることで形成されてもよい。結合材の材料として、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂、高密度ポリエチレン(HDPE)樹脂、ポリオキシメチレン(POM)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリフッ化ビニルデン(PVDF)樹脂、フェノール(Phenolic)樹脂、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)樹脂、又はポリベンゾオキサゾール(PBO)樹脂が用いられ得る。 In the substrate 10, the metal magnetic particles may be bonded to each other by an oxide film formed by oxidizing the elements contained in the metal magnetic particles in the manufacturing process. The substrate 10 may contain a binder in addition to the metal magnetic particles. When the substrate 10 contains a binder, the metal magnetic particles are bonded to each other by the binder. The binder contained in the substrate 10 may be formed, for example, by curing a thermosetting resin having excellent insulating properties. Examples of the binder material include epoxy resin, polyimide resin, polystyrene (PS) resin, high-density polyethylene (HDPE) resin, polyoxymethylene (POM) resin, polycarbonate (PC) resin, polyvinyl fluoride den (PVDF) resin, and phenol. (Phenolic) resin, polytetrafluoroethylene (PTFE) resin, or polybenzoxazole (PBO) resin can be used.

本発明の一又は複数の実施形態において、基体10の比透磁率は、100以下とされる。本発明の一又は複数の実施形態において、基体10の比透磁率は、30以上とされる。本発明の一又は複数の実施形態において、基体10の比透磁率は、30以上100以下の範囲にある。基体10は、その全領域において、比透磁率が30~100の範囲にあるように構成されてもよい。上記のように、アレイ型インダクタ1は、低インダクタンスが求められるDC/DCコンバータに用いられても良い。基体10の比透磁率を100以下とすることにより、要求される低インダクタンスの実現が容易となる。基体10の比透磁率を100以下とすることにより、高い電流特性の実現も容易となる。基体10の比透磁率を100以下とすることにより、高い絶縁性の実現も容易となる。基体10の比透磁率を100以下とすることにより、磁気飽和の発生を抑制することが可能となるので、直流重畳特性を改善するために基体10に磁気ギャップを設ける必要がない。 In one or more embodiments of the present invention, the relative permeability of the substrate 10 is 100 or less. In one or more embodiments of the present invention, the relative permeability of the substrate 10 is 30 or more. In one or more embodiments of the present invention, the relative magnetic permeability of the substrate 10 is in the range of 30 or more and 100 or less. The substrate 10 may be configured such that the relative magnetic permeability is in the range of 30 to 100 in the entire region. As described above, the array-type inductor 1 may be used in a DC / DC converter that requires low inductance. By setting the relative magnetic permeability of the substrate 10 to 100 or less, it becomes easy to realize the required low inductance. By setting the relative magnetic permeability of the substrate 10 to 100 or less, it becomes easy to realize high current characteristics. By setting the relative magnetic permeability of the substrate 10 to 100 or less, it becomes easy to realize high insulation. By setting the relative magnetic permeability of the substrate 10 to 100 or less, it is possible to suppress the occurrence of magnetic saturation, so that it is not necessary to provide a magnetic gap in the substrate 10 in order to improve the DC superimposition characteristic.

上記のとおり、アレイ型インダクタ1の基体10の比透磁率は100以下の小さな値を取るため、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLも小さな値をとる。このように、各系統のインダクタのインダクタンスが低いため、アレイ型インダクタ1においては磁気飽和が起こりにくい。したがって、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタには、大電流を流すことができる。よって、本発明の一又は複数の実施形態において、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタにおいては、そのインダクタンスLと流れる電流Iの二乗の積との積で表されるエネルギー密度Ed(つまり、Ed=LxI2である。)を大きくすることができる。例えば、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを100nHより小さくしたときに、Edを1500nH・A/mm3とすることができる。また、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを50nHより小さくしたときに、Edを2000nH・A/mm3とすることができる。また、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを25nHより小さくしたときに、Edを2500nH・A/mm3とすることができる。 As described above, since the relative magnetic permeability of the substrate 10 of the array type inductor 1 takes a small value of 100 or less, the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 also takes a small value. As described above, since the inductance of the inductors of each system is low, magnetic saturation is unlikely to occur in the array-type inductor 1. Therefore, a large current can be passed through the inductors of each system of the array type inductor 1. Therefore, in one or more embodiments of the present invention, in the inductor of each system of the array type inductor 1, the energy density Ed (that is, Ed) represented by the product of the inductance L and the square of the flowing current I (that is, Ed). = LxI 2 ) can be increased. For example, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 100 nH, Ed can be set to 1500 nH · A / mm 3 . Further, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 50 nH, Ed can be set to 2000 nH · A / mm 3 . Further, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 25 nH, Ed can be set to 2500 nH · A / mm 3 .

図示の実施形態において、コイル導体25Aは、周回部26Aと、引出導体27A1と、引出導体27A2と、を有する。周回部26Aは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax1の周りの周方向に延びている。言い換えると、周回部26Aは、コイル軸Ax1の周りに巻かれている。周回部26Aの一方の端部には引出導体27A1が接続されており、他方の端部には引出導体27A2が接続されている。引出導体27A1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27A2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27A1は外部電極21Aに接続されており、引出導体27A2は外部電極22Aに接続されている。図示の実施形態において、周回部26Aは、L軸方向から見たときに楕円形状を有している。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 25A has a circumferential portion 26A, a lead conductor 27A1 and a lead conductor 27A2. The peripheral portion 26A extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax1 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. In other words, the peripheral portion 26A is wound around the coil shaft Ax1. A lead conductor 27A1 is connected to one end of the peripheral portion 26A, and a lead conductor 27A2 is connected to the other end. The lead conductor 27A1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 27A2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 27A1 is connected to the external electrode 21A, and the lead conductor 27A2 is connected to the external electrode 22A. In the illustrated embodiment, the peripheral portion 26A has an elliptical shape when viewed from the L-axis direction.

図示の実施形態において、コイル導体25Bは、周回部26Bと、引出導体27B1と、引出導体27B2と、を有する。周回部26Bは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax2の周りの周方向に延びている。言い換えると、周回部26Bは、コイル軸Ax2の周りに巻かれている。周回部26Bの一方の端部には引出導体27B1が接続されており、他方の端部には引出導体27B2が接続されている。引出導体27B1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27B2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27B1は外部電極21Bに接続されており、引出導体27B2は外部電極22Bに接続されている。図示の実施形態において、周回部26Bは、L軸方向から見たときに楕円形状を有している。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 25B has a circumferential portion 26B, a lead conductor 27B1 and a lead conductor 27B2. The peripheral portion 26B extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax2 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. In other words, the peripheral portion 26B is wound around the coil shaft Ax2. A lead conductor 27B1 is connected to one end of the peripheral portion 26B, and a lead conductor 27B2 is connected to the other end. The lead conductor 27B1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 27B2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 27B1 is connected to the external electrode 21B, and the lead conductor 27B2 is connected to the external electrode 22B. In the illustrated embodiment, the peripheral portion 26B has an elliptical shape when viewed from the L-axis direction.

図2に示されているように、アレイ型インダクタ1は、複数の磁性体層が積層された積層構造を有していてもよい。図2においては、説明の便宜のために、外部電極21A、22A、21B、22Bの図示が省略されている。図示の実施形態において、基体10は、磁性体層11a~11gを備える。磁性体層11a~11gの各々は、磁性材料から作製される。基体10は、L軸方向の負側から正側に向かって、磁性体層11a、磁性体層11b、磁性体層11c、磁性体層11d、磁性体層11e、磁性体層11f、及び磁性体層11gの順に積層されている。磁性体層11a、11d、11gはそれぞれ、図示されているように複数の磁性体層を含んでもよい。磁性体層11a、11d、11g以外の各磁性体層も複数の磁性体層を含んでもよい。磁性体層11a及び磁性体層11gは、L軸方向における両側からコイル導体25A及びコイル導体25Bを覆うように配置されるので、カバー層と呼ばれることもある。 As shown in FIG. 2, the array-type inductor 1 may have a laminated structure in which a plurality of magnetic material layers are laminated. In FIG. 2, the external electrodes 21A, 22A, 21B, and 22B are omitted for convenience of explanation. In the illustrated embodiment, the substrate 10 comprises magnetic layers 11a-11g. Each of the magnetic layers 11a to 11g is made of a magnetic material. The substrate 10 has a magnetic material layer 11a, a magnetic material layer 11b, a magnetic material layer 11c, a magnetic material layer 11d, a magnetic material layer 11e, a magnetic material layer 11f, and a magnetic material from the negative side to the positive side in the L-axis direction. The layers are laminated in the order of 11 g. The magnetic layer 11a, 11d, and 11g may each include a plurality of magnetic layers as shown in the figure. Each magnetic material layer other than the magnetic material layers 11a, 11d, and 11g may also include a plurality of magnetic material layers. Since the magnetic material layer 11a and the magnetic material layer 11g are arranged so as to cover the coil conductor 25A and the coil conductor 25B from both sides in the L-axis direction, they are sometimes called a cover layer.

磁性体層11b、11c、11e、11fの一方の表面にはコイル導体25A、25Bを構成する導体パターンが設けられる。具体的には、磁性体層11bのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に周回パターン26A1及び引出導体27A1が設けられており、磁性体層11cのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に周回パターン26A2及び引出導体27A2が設けられている。同様に、磁性体層11eのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に周回パターン26B1及び引出導体27B1が設けられており、磁性体層11fのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に周回パターン26B2及び引出導体27B2が設けられている。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2、引出導体27A1、27A2,27B1、27B2は、例えば、導電性に優れた金属又は合金から成る導電性ペーストをスクリーン印刷法により各磁性体層に印刷することにより形成される。この導電性ペーストに含まれる導電性の材料としては、Ag、Cu又はこれらの合金を用いることができる。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2、引出導体27A1、27A2,27B1、27B2は、上記以外の材料及び方法により形成されてもよい。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2、引出導体27A1、27A2,27B1、27B2は、例えば、スパッタ法、インクジェット法、又はこれら以外の公知の方法で形成されてもよい。 A conductor pattern constituting the coil conductors 25A and 25B is provided on one surface of the magnetic material layers 11b, 11c, 11e and 11f. Specifically, the circumferential pattern 26A1 and the lead conductor 27A1 are provided on the surface on the positive side in the L-axis direction of the pair of surfaces intersecting the L-axis of the magnetic material layer 11b, and the L-axis of the magnetic material layer 11c The circumferential pattern 26A2 and the lead conductor 27A2 are provided on the surface of the pair of intersecting surfaces on the positive side in the L-axis direction. Similarly, of the pair of surfaces intersecting the L axis of the magnetic layer 11e, the circumferential pattern 26B1 and the lead conductor 27B1 are provided on the surface on the positive side in the L axis direction, and the pair intersecting the L axis of the magnetic layer 11f. A circumferential pattern 26B2 and a lead conductor 27B2 are provided on the surface on the positive side in the L-axis direction. The orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2, and drawer conductors 27A1, 27A2, 27B1, 27B2 are formed by, for example, printing a conductive paste made of a metal or alloy having excellent conductivity on each magnetic material layer by a screen printing method. It is formed. As the conductive material contained in this conductive paste, Ag, Cu or an alloy thereof can be used. The orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2, and the lead conductors 27A1, 27A2, 27B1 and 27B2 may be formed by a material and method other than the above. The orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2, and drawer conductors 27A1, 27A2, 27B1, 27B2 may be formed by, for example, a sputtering method, an inkjet method, or a known method other than these.

磁性体層11b、11eの所定の位置には、ビアVA、VBがそれぞれ設けられている。ビアVA、VBは、磁性体層11b、11eの所定の位置に当該磁性体層11b、11eをL軸方向に貫く貫通孔をそれぞれ形成し、当該貫通孔に導電性ペーストを埋め込むことにより形成される。 Vias VA and VB are provided at predetermined positions of the magnetic layer 11b and 11e, respectively. The vias VA and VB are formed by forming through holes penetrating the magnetic material layers 11b and 11e in the L-axis direction at predetermined positions of the magnetic material layers 11b and 11e, respectively, and embedding a conductive paste in the through holes. Beer.

周回パターン26A1と周回パターン26A2とはビアVAにより接続される。周回部26Aは、この周回パターン26A1、ビアVA、及び周回パターン26A2により構成される。周回パターン26B1と周回パターン26B2とはビアVBにより接続される。周回部26Bは、この周回パターン26B1、ビアVB、及び周回パターン26B2により構成される。 The orbital pattern 26A1 and the orbital pattern 26A2 are connected by a via VA. The orbiting portion 26A is composed of the orbiting pattern 26A1, the via VA, and the orbiting pattern 26A2. The orbital pattern 26B1 and the orbital pattern 26B2 are connected by a via VB. The circuit portion 26B is composed of the circuit pattern 26B1, the via VB, and the circuit pattern 26B2.

本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26Aは、コイル軸Ax1の周りに所定ターン数だけ巻回されている。周回部26Aの巻回数は、1.5ターン以下とされてもよい。図4aに示されているように、図示の実施形態において、周回パターン26A1は、引出導体27A1との接続位置からビアVAとの接続位置までコイル軸Ax1の周りを約0.75ターン(270°)分だけ延びており、周回パターン26A2は、ビアVAとの接続位置から引出導体27A2との接続位置までコイル軸Ax1の周りを約0.75ターン(270°)分だけ延びている。よって、周回部26Aは、コイル軸Ax1の周りに約1.5ターン(540°)分だけ巻回されている。上記のように、アレイ型インダクタ1は、DC/DCコンバータに用いられるインダクタであってもよい。DC/DCコンバータのスイッチングの高速化に伴い、DC/DCコンバータに用いられるインダクタには、低インダクタンスが求められるようになっている。周回部26Aの巻回数を1.5ターン以下とすることにより、周回部26Aを含むインダクタのインダクタンスを低く抑えることができる。 In one or more embodiments of the present invention, the circumferential portion 26A is wound around the coil shaft Ax1 by a predetermined number of turns. The number of turns of the peripheral portion 26A may be 1.5 turns or less. As shown in FIG. 4a, in the illustrated embodiment, the orbital pattern 26A1 has about 0.75 turns (270 °) around the coil shaft Ax1 from the connection position with the lead conductor 27A1 to the connection position with the via VA. The orbital pattern 26A2 extends about 0.75 turns (270 °) around the coil shaft Ax1 from the connection position with the via VA to the connection position with the lead conductor 27A2. Therefore, the circumferential portion 26A is wound around the coil shaft Ax1 by about 1.5 turns (540 °). As described above, the array type inductor 1 may be an inductor used in a DC / DC converter. As the switching speed of DC / DC converters increases, the inductors used in DC / DC converters are required to have low inductance. By setting the number of turns of the peripheral portion 26A to 1.5 turns or less, the inductance of the inductor including the peripheral portion 26A can be suppressed to a low level.

基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部26Aの内側の領域をコア領域10Aとする。一実施形態において、コイル軸Ax1は、L軸方向から視たコア領域10Aの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。コア領域10Aの幾何中心は、図4aに示されているようにL軸方向から見た周回部26Aの形状が楕円形の場合には、当該楕円の2つの焦点を結ぶ線分の中点(楕円の長軸と短軸との交点)となる。L軸方向から見た周回部26Aの形状は楕円形には限られず、長円形、円形、矩形、矩形以外の多角形、及びこれら以外の様々な形状とされてもよい。 Of the substrate 10, the region inside the peripheral portion 26A when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 10A. In one embodiment, the coil axis Ax1 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 10A viewed from the L-axis direction. As shown in FIG. 4a, the geometric center of the core region 10A is the midpoint of the line segment connecting the two focal points of the ellipse when the shape of the circumferential portion 26A seen from the L-axis direction is elliptical. It is the intersection of the major axis and the minor axis of the ellipse). The shape of the circumferential portion 26A seen from the L-axis direction is not limited to an ellipse, and may be an oval, a circle, a rectangle, a polygon other than a rectangle, and various shapes other than these.

本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26Bは、周回部26Aと同様の形状に構成されてもよい。より具体的には、コイル軸Ax1の方向から見た周回部26Aの形状は、コイル軸Ax2の方向から見た周回部26Bの形状と同一であってもよい。これにより、周回部26Aを含むインダクタの電気的特性及び磁気的特性を、周回部26Bを含むインダクタの電気的特性及び磁気的特性と一致させることができる。また、周回部26Aの形状と周回部26Bの形状とを同一にすることにより、周回部26Aを含むインダクタと周回部26Bを含むインダクタとが外的要因(例えば、外部の素子からの電磁的な影響)に対して同様の挙動を示すことができるようになる。具体的には、周回部26Bは、コイル軸Ax2の周りに所定ターン数だけ巻回されている。周回部26Bの巻回数は、1.5ターン以下とされてもよい。図4bに示されている実施形態において、周回パターン26B1は、引出導体27B1との接続位置からビアVBとの接続位置までコイル軸Ax2の周りを約0.75ターン(270°)分だけ延びており、周回パターン26B2は、ビアVBとの接続位置から引出導体27B2との接続位置までコイル軸Ax2の周りを約0.75ターン(270°)分だけ延びている。よって、周回部26Bは、コイル軸Ax2の周りに約1.5ターン(540°)分だけ巻回されている。 In one or more embodiments of the present invention, the peripheral portion 26B may be configured in the same shape as the peripheral portion 26A. More specifically, the shape of the peripheral portion 26A seen from the direction of the coil shaft Ax1 may be the same as the shape of the peripheral portion 26B seen from the direction of the coil shaft Ax2. Thereby, the electric characteristics and the magnetic characteristics of the inductor including the peripheral portion 26A can be matched with the electrical characteristics and the magnetic characteristics of the inductor including the peripheral portion 26B. Further, by making the shape of the peripheral portion 26A and the shape of the peripheral portion 26B the same, the inductor including the peripheral portion 26A and the inductor including the peripheral portion 26B are external factors (for example, electromagnetic from an external element). It will be possible to show the same behavior for the effect). Specifically, the circumferential portion 26B is wound around the coil shaft Ax2 by a predetermined number of turns. The number of turns of the peripheral portion 26B may be 1.5 turns or less. In the embodiment shown in FIG. 4b, the orbital pattern 26B1 extends about 0.75 turns (270 °) around the coil shaft Ax2 from the connection position with the lead conductor 27B1 to the connection position with the via VB. The circumferential pattern 26B2 extends around the coil shaft Ax2 from the connection position with the via VB to the connection position with the lead conductor 27B2 by about 0.75 turns (270 °). Therefore, the circumferential portion 26B is wound around the coil shaft Ax2 by about 1.5 turns (540 °).

基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部26Bの内側の領域をコア領域10Bとする。一実施形態において、コイル軸Ax2は、L軸方向から視たコア領域10Bの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。コア領域10Aに関する説明は、可能な限りコア領域10Bにも当てはまる。 Of the substrate 10, the region inside the peripheral portion 26B when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 10B. In one embodiment, the coil axis Ax2 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 10B viewed from the L-axis direction. The description of the core region 10A also applies to the core region 10B as much as possible.

次に、図3をさらに参照して、コイル導体25A、25Bについて説明する。図3は、アレイ型インダクタ1のI-I線に沿った断面を模式的に示す断面図である。図3は、コイル軸Ax1を通り基体10bに垂直な面でアレイ型インダクタ1を切断した断面を示している。図3に示されているように、本発明の一又は複数の実施形態において、コイル軸Ax1及びコイル軸Ax2はそれぞれ、実装面10bに平行に延びている。コイル軸Ax1、Ax2は、第1端面10c及び第1端面10dの少なくとも一方と直交していてもよい。本明細書において「平行」、「直交」、又は「垂直」というときには、数学的に厳密な意味での「平行」、「直交」、又は「垂直」のみを意味するものではない。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル軸Ax1は実装面10bから第1距離T1だけ離れており、コイル軸Ax2は実装面10bから第1距離T1よりも大きい第2距離T2だけ離れている。言い換えると、コイル軸Ax2と実装面10bとの間の第2距離T2は、コイル軸Ax1と実装面10bとの間の第1距離T1よりも大きい。 Next, the coil conductors 25A and 25B will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the array type inductor 1 along the I-I line. FIG. 3 shows a cross section of the array-type inductor 1 cut along a plane passing through the coil shaft Ax1 and perpendicular to the substrate 10b. As shown in FIG. 3, in one or more embodiments of the present invention, the coil shaft Ax1 and the coil shaft Ax2 each extend parallel to the mounting surface 10b. The coil axes Ax1 and Ax2 may be orthogonal to at least one of the first end surface 10c and the first end surface 10d. As used herein, the terms "parallel," "orthogonal," or "vertical" do not mean only "parallel," "orthogonal," or "vertical" in the strict mathematical sense. In one or more embodiments of the invention, the coil shaft Ax1 is separated from the mounting surface 10b by a first distance T1 and the coil shaft Ax2 is separated from the mounting surface 10b by a second distance T2 that is greater than the first distance T1. There is. In other words, the second distance T2 between the coil shaft Ax2 and the mounting surface 10b is larger than the first distance T1 between the coil shaft Ax1 and the mounting surface 10b.

図3に示されているように、本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25A及びコイル導体25Bは、コイル軸Ax1がコイル導体25Aのコア領域10Aだけでなくコイル導体25Bのコア領域10Bも貫き、コイル軸Ax2がコイル導体25Bのコア領域10Bだけでなくコイル導体25Aのコア領域10Aも貫くように配置される。かかる配置により、アレイ型インダクタ1のT軸方向の寸法の大型化を抑制することができる。 As shown in FIG. 3, in one or more embodiments of the present invention, in the coil conductor 25A and the coil conductor 25B, the coil shaft Ax1 is not only the core region 10A of the coil conductor 25A but also the core region of the coil conductor 25B. 10B is also penetrated, and the coil shaft Ax2 is arranged so as to penetrate not only the core region 10B of the coil conductor 25B but also the core region 10A of the coil conductor 25A. With such an arrangement, it is possible to suppress an increase in the size of the array type inductor 1 in the T-axis direction.

本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26AのL軸方向における寸法a2(コイル軸Ax1に沿う方向における寸法)は、T軸方向における寸法D1(コイル軸Ax1に直交する方向における寸法)よりも小さい。同様に、本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26BのL軸方向における寸法(コイル軸Ax2に沿う方向における寸法)は、T軸方向における寸法(コイル軸Ax2に直交する方向における寸法)よりも小さい。このように、コイル導体25A、25Bの実装面10bに沿う方向における寸法が小型化されているため、アレイ型インダクタ1を実装面10bに沿う方向において小型化することができる。 In one or more embodiments of the present invention, the dimension a2 (dimension in the direction along the coil axis Ax1) of the circumferential portion 26A in the L-axis direction is the dimension D1 (dimension in the direction orthogonal to the coil axis Ax1) in the T-axis direction. Smaller than. Similarly, in one or more embodiments of the present invention, the dimension of the circumferential portion 26B in the L-axis direction (dimension in the direction along the coil axis Ax2) is the dimension in the T-axis direction (dimension in the direction orthogonal to the coil axis Ax2). ) Is smaller. As described above, since the dimensions of the coil conductors 25A and 25B in the direction along the mounting surface 10b are miniaturized, the array-type inductor 1 can be miniaturized in the direction along the mounting surface 10b.

本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Bは、コイル軸Ax1に沿う方向において、コイル導体25Aから距離G1だけ離間した位置に配置される。言い換えると、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間のコイル軸Ax1に沿う方向における間隔は、G1である。コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の間隔G1は、コイル導体25AのL軸方向における負側の端とコイル導体25BのL軸方向における正側の端との間のL軸方向における距離である。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の間隔G1は、0.3mm以下とされる。 In one or more embodiments of the present invention, the coil conductor 25B is arranged at a position separated from the coil conductor 25A by a distance G1 in the direction along the coil axis Ax1. In other words, the distance between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B in the direction along the coil axis Ax1 is G1. The distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is the distance in the L-axis direction between the negative end of the coil conductor 25A in the L-axis direction and the positive end of the coil conductor 25B in the L-axis direction. be. In one or more embodiments of the present invention, the distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is set to 0.3 mm or less.

次に、図5aをさらに参照して、周回部26A、26Bについてさらに説明する。図5aは、図4の一部を拡大して示す拡大図である。図5aに示されているように、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン26A1、26A2の断面は、長方形形状を有している。本明細書においては、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回部26A、周回パターン26A1、26A2の断面を、記載の簡潔さのために、切断面を特定することなく単に周回部26A、周回パターン26A1、26A2の「断面」ということがある。 Next, the peripheral portions 26A and 26B will be further described with reference to FIG. 5a. FIG. 5a is an enlarged view showing a part of FIG. 4 in an enlarged manner. As shown in FIG. 5a, the cross sections of the circumferential patterns 26A1 and 26A2 cut along the coil shaft Ax1 and perpendicular to the mounting surface 10b have a rectangular shape. In the present specification, the cross sections of the orbital portions 26A, the orbital patterns 26A1 and 26A2, which are cut along the coil shaft Ax1 and perpendicular to the mounting surface 10b, are simply shown without specifying the cut surface for the sake of simplicity. It may be referred to as a "cross section" of the orbiting portion 26A and the orbiting patterns 26A1 and 26A2.

コイル導体25Aにおいて電流が流れる方向に直交する平面で切断した周回部26Aの断面のコイル軸Ax1に垂直な方向における寸法をa1とし、コイル軸Ax1に平行な方向における寸法をa2としたときに、本明細書では、この寸法a2に対するa1の比(a1/a2)を第1アスペクト比と呼ぶ。周回部26Aが2層以上の周回パターンを有する場合には、当該複数の周回パターンのうちコイル軸Ax1の一方の端にある周回パターンの当該一方の端と、当該複数の周回パターンのうちコイル軸Ax1の他方の端にある周回パターンの当該他方の端との間の間隔を、周回部26Aの断面のコイル軸Ax1に平行な方向における寸法a2とする。図示の実施形態においては、周回部26Aが周回パターン26A1、26A2を有しており、この周回パターン26A1のコイル軸Ax1に沿う方向における一方の端(図5aの左端)と、周回パターン26A2のコイル軸Ax1に沿う方向における他方の端(図5aの右端)との間の間隔を、周回部26Aの断面のコイル軸Ax1に平行な方向における寸法a2とする。 When the dimension in the direction perpendicular to the coil axis Ax1 and the dimension in the direction parallel to the coil axis Ax1 are a2 in the cross section of the peripheral portion 26A cut in the plane orthogonal to the direction in which the current flows in the coil conductor 25A. In the present specification, the ratio (a1 / a2) of a1 to the dimension a2 is referred to as a first aspect ratio. When the orbiting portion 26A has two or more orbital patterns, the one end of the orbiting pattern at one end of the coil shaft Ax1 among the plurality of orbiting patterns and the coil shaft among the plurality of orbiting patterns. The distance between the orbital pattern at the other end of Ax1 and the other end is set to the dimension a2 in the direction parallel to the coil axis Ax1 in the cross section of the orbiting portion 26A. In the illustrated embodiment, the orbiting portion 26A has the orbiting patterns 26A1 and 26A2, and one end (left end in FIG. 5a) of the orbiting pattern 26A1 in the direction along the coil axis Ax1 and the coil of the orbiting pattern 26A2. The distance from the other end (right end in FIG. 5a) in the direction along the axis Ax1 is defined as the dimension a2 in the direction parallel to the coil axis Ax1 in the cross section of the peripheral portion 26A.

本発明の一又は複数の実施形態において、第1アスペクト比は1より大きい。言い換えると、コイル軸Ax1に垂直な方向における周回部26Aの断面の寸法a1は、コイル軸Ax1に平行な方向における周回部26Aの断面の寸法a2よりも大きい。図示の実施形態においては、第1アスペクト比は概ね1.3である。第1アスペクト比は、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、2.0、5.0、又は10.0より大きくても良い。 In one or more embodiments of the invention, the first aspect ratio is greater than 1. In other words, the size a1 of the cross section of the peripheral portion 26A in the direction perpendicular to the coil axis Ax1 is larger than the size a2 of the cross section of the peripheral portion 26A in the direction parallel to the coil axis Ax1. In the illustrated embodiment, the first aspect ratio is approximately 1.3. The first aspect ratio may be greater than 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 2.0, 5.0, or 10.0.

図示の実施形態においては、コイル軸Ax2を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン26B1、26B2の断面も長方形形状を有している。本明細書においては、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回部26B、周回パターン26B1、26B2の断面を、記載の簡潔さのために、切断面を特定することなく単に周回部26B、周回パターン26B1、26B2の「断面」ということがある。 In the illustrated embodiment, the cross sections of the circumferential patterns 26B1 and 26B2 cut along the coil shaft Ax2 and perpendicular to the mounting surface 10b also have a rectangular shape. In the present specification, the cross sections of the orbiting portions 26B, the orbiting patterns 26B1 and 26B2, which are cut along the coil shaft Ax1 and perpendicular to the mounting surface 10b, are simply shown without specifying the cut surface for the sake of brevity. It may be referred to as a "cross section" of the orbiting portion 26B and the orbiting patterns 26B1 and 26B2.

コイル導体25Bにおいて電流が流れる方向に直交する平面で切断した周回部26Bの断面のコイル軸Ax2に垂直な方向における寸法をb1とし、コイル軸Ax2に平行な方向における寸法をb2としたときに、寸法b2に対するb1の比(b1/b2)を第2アスペクト比と呼ぶ。周回部26Bが2層以上の周回パターンを有する場合には、当該複数の周回パターンのうちコイル軸Ax2の一方の端にある周回パターンの当該一方の端と、当該複数の周回パターンのうちコイル軸Ax2の他方の端にある周回パターンの当該他方の端との間の間隔を、周回部26Bの断面のコイル軸Ax2に平行な方向における寸法b2とする。図示の実施形態においては、周回部26Bが周回パターン26B1、26B2を有しており、この周回パターン26B1のコイル軸Ax2に沿う方向における一方の端(図5aの左端)と、周回パターン26B2のコイル軸Ax2に沿う方向における他方の端(図5aの右端)との間の間隔を、周回部26Bの断面のコイル軸Ax2に平行な方向における寸法b2とする。本発明の一又は複数の実施形態において、第2アスペクト比は1より大きい。言い換えると、コイル軸Ax2に垂直な方向における周回部26Bの断面の寸法b1は、コイル軸Ax2に平行な方向における周回部26Bの断面の寸法b2よりも大きい。図示の実施形態においては、第2アスペクト比は概ね1.3である。第1アスペクト比は、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、2.0、5.0、又は10.0より大きくても良い。第1アスペクト比と第2アスペクト比とは、同じであってもよいし、異なっていても良い。 When the dimension in the direction perpendicular to the coil axis Ax2 and the dimension in the direction parallel to the coil axis Ax2 are b2 in the cross section of the peripheral portion 26B cut in the plane orthogonal to the direction in which the current flows in the coil conductor 25B. The ratio of b1 to the dimension b2 (b1 / b2) is called the second aspect ratio. When the circumferential portion 26B has two or more layers of orbital patterns, the one end of the orbital pattern at one end of the coil shaft Ax2 among the plurality of orbital patterns and the coil shaft among the plurality of orbital patterns. The distance between the orbital pattern at the other end of Ax2 and the other end is set to the dimension b2 in the direction parallel to the coil axis Ax2 in the cross section of the orbiting portion 26B. In the illustrated embodiment, the orbiting portion 26B has the orbiting patterns 26B1 and 26B2, and one end (left end in FIG. 5a) of the orbiting pattern 26B1 in the direction along the coil axis Ax2 and the coil of the orbiting pattern 26B2. The distance from the other end (right end in FIG. 5a) in the direction along the axis Ax2 is defined as the dimension b2 in the direction parallel to the coil axis Ax2 in the cross section of the peripheral portion 26B. In one or more embodiments of the invention, the second aspect ratio is greater than 1. In other words, the size b1 of the cross section of the peripheral portion 26B in the direction perpendicular to the coil shaft Ax2 is larger than the size b2 of the cross section of the peripheral portion 26B in the direction parallel to the coil shaft Ax2. In the illustrated embodiment, the second aspect ratio is approximately 1.3. The first aspect ratio may be greater than 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 2.0, 5.0, or 10.0. The first aspect ratio and the second aspect ratio may be the same or different.

本発明の一又は複数の実施形態において、第1アスペクト比又は第2アスペクト比の少なくとも一方が1よりも大きい場合には、第1距離T1と第2距離T2とは同じであってもよい。言い換えると、第1アスペクト比又は第2アスペクト比の少なくとも一方が1よりも大きい場合には、コイル導体25A及びコイル導体25Bは、コイル軸Ax1とコイル軸Ax2とが同軸となるように配置されてもよい。 In one or more embodiments of the present invention, the first distance T1 and the second distance T2 may be the same when at least one of the first aspect ratio and the second aspect ratio is larger than 1. In other words, when at least one of the first aspect ratio and the second aspect ratio is larger than 1, the coil conductor 25A and the coil conductor 25B are arranged so that the coil shaft Ax1 and the coil shaft Ax2 are coaxial with each other. May be good.

コイル導体25A及びコイル導体25Bの変形例について図5bを参照して説明する。コイル導体25Aを構成する周回パターン26A1、26A2、引出導体27A1、27A2はそれぞれ、複数の導体層を含んでもよい。図5bには、周回パターン26A1、26A2、引出導体27A1、27A2の各々が互いに同形状の2層の導体層を含む実施形態が示されている。図示のように、周回パターン26A1は、第1周回パターン26A1aと、この第1周回パターン26A1aに対向して配置され第1周回パターン26A1aと同形状の第2周回パターン26A1bと、を有する。第1周回パターン26A1aと第2周回パターン26A1bとは、基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。同様に、周回パターン26A2は、第1周回パターン26A2aと、この第1周回パターン26A2aに対向して配置され第1周回パターン26A2aと同形状の第2周回パターン26A2bと、を有する。第1周回パターン26A2aと第2周回パターン26A2bとは、基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。図示を省略しているが、上記のとおり、引出導体27A1も互いに同形状の2つの導体層を含んでもよい。引出導体27A1を構成する複数の導体層も基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。引出導体27A2も互いに同形状の2つの導体層を含む。引出導体27A2を構成する複数の導体層も基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。コイル導体25Aを構成する周回パターン26A1、26A2、引出導体27A1、27A2に含まれる複数の導体層の各々は、互いに同一の形状を有しているため、複数の導体層のうち基体10内で互いに対向する部分の間では電位差がない。よって、コイル導体25Aを構成する周回パターン26A1、26A2、引出導体27A1、27A2の各々が導体層から成る場合であっても、基体10に要求される絶縁信頼性(耐電圧)は、コイル導体25Aが単一の導体部から成る場合と同程度とすることができる。 Modifications of the coil conductor 25A and the coil conductor 25B will be described with reference to FIG. 5b. The orbital patterns 26A1 and 26A2 and the lead conductors 27A1 and 27A2 constituting the coil conductor 25A may each include a plurality of conductor layers. FIG. 5b shows an embodiment in which the circumferential patterns 26A1 and 26A2 and the drawer conductors 27A1 and 27A2 each include two conductor layers having the same shape. As shown in the figure, the orbital pattern 26A1 has a first orbital pattern 26A1a and a second orbital pattern 26A1b arranged to face the first orbital pattern 26A1a and having the same shape as the first orbital pattern 26A1a. The first orbital pattern 26A1a and the second orbital pattern 26A1b may be electrically connected to each other in the substrate 10. Similarly, the orbital pattern 26A2 has a first orbital pattern 26A2a and a second orbital pattern 26A2b arranged to face the first orbital pattern 26A2a and having the same shape as the first orbital pattern 26A2a. The first orbital pattern 26A2a and the second orbital pattern 26A2b may be electrically connected to each other in the substrate 10. Although not shown, the lead conductor 27A1 may also include two conductor layers having the same shape as each other, as described above. A plurality of conductor layers constituting the lead conductor 27A1 may also be electrically connected to each other in the substrate 10. The lead conductor 27A2 also contains two conductor layers having the same shape as each other. A plurality of conductor layers constituting the lead conductor 27A2 may also be electrically connected to each other in the substrate 10. Since each of the plurality of conductor layers included in the circumferential patterns 26A1 and 26A2 and the drawer conductors 27A1 and 27A2 constituting the coil conductor 25A has the same shape as each other, among the plurality of conductor layers, each other in the substrate 10 There is no potential difference between the opposing parts. Therefore, even when each of the circumferential patterns 26A1 and 26A2 and the lead conductors 27A1 and 27A2 constituting the coil conductor 25A is composed of a conductor layer, the insulation reliability (withstand voltage) required for the substrate 10 is the coil conductor 25A. Can be as good as if it consists of a single conductor section.

コイル導体25Aと同様に、コイル導体25Bを構成する周回パターン26B1、26B2、引出導体27B1、27B2はそれぞれ、複数の導体層を含んでもよい。図5bには、周回パターン26B1、26B2、引出導体27B1、27B2の各々が互いに同形状の2層の導体層を含む実施形態が示されている。図示のように、周回パターン26B1は、第1周回パターン26B1aと、この第1周回パターン26B1aに対向して配置され第1周回パターン26B1aと同形状の第2周回パターン26B1bと、を有する。第1周回パターン26B1aと第2周回パターン26B1bとは、基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。同様に、周回パターン26B2は、第1周回パターン26B2aと、この第1周回パターン26B2aに対向して配置され第1周回パターン26B2aと同形状の第2周回パターン26B2bと、を有する。第1周回パターン26B2aと第2周回パターン26B2bとは、基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。図示を省略しているが、上記のとおり、引出導体27B1も互いに同形状の2つの導体層を含んでもよい。引出導体27B1を構成する複数の導体層も基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。引出導体27B2も互いに同形状の2つの導体層を含む。引出導体27B2を構成する複数の導体層も基体10内で互いに電気的に接続されていてもよい。 Similar to the coil conductor 25A, the circumferential patterns 26B1 and 26B2 and the lead conductors 27B1 and 27B2 constituting the coil conductor 25B may each include a plurality of conductor layers. FIG. 5b shows an embodiment in which the circumferential patterns 26B1 and 26B2 and the drawer conductors 27B1 and 27B2 each include two conductor layers having the same shape. As shown in the figure, the orbital pattern 26B1 has a first orbital pattern 26B1a and a second orbital pattern 26B1b arranged to face the first orbital pattern 26B1a and having the same shape as the first orbital pattern 26B1a. The first orbital pattern 26B1a and the second orbital pattern 26B1b may be electrically connected to each other in the substrate 10. Similarly, the orbital pattern 26B2 has a first orbital pattern 26B2a and a second orbital pattern 26B2b arranged to face the first orbital pattern 26B2a and having the same shape as the first orbital pattern 26B2a. The first orbital pattern 26B2a and the second orbital pattern 26B2b may be electrically connected to each other in the substrate 10. Although not shown, the lead conductor 27B1 may also include two conductor layers having the same shape as each other, as described above. A plurality of conductor layers constituting the lead conductor 27B1 may also be electrically connected to each other in the substrate 10. The lead conductor 27B2 also contains two conductor layers having the same shape as each other. A plurality of conductor layers constituting the lead conductor 27B2 may also be electrically connected to each other in the substrate 10.

図5bに示されているように、周回パターン26A1、26A2がそれぞれ複数の導体層を含む場合には、周回パターン26A1を構成する導体層のうちコイル軸Ax1に沿う方向における一方の端(図5bの左端)に配置されている導体層の一方の端と、周回パターン26A1を構成する導体層のうち周回パターン26A2のコイル軸Ax1に沿う方向における他方の端(図5bの右端)に配置されている導体層の他方の端との間隔を、周回部26Aの断面のコイル軸Ax1に平行な方向における寸法a2とする。同様に、周回パターン26B1、26B2がそれぞれ複数の導体層を含む場合には、周回パターン26B1を構成する導体層のうちコイル軸Ax1に沿う方向における一方の端(図5bの左端)に配置されている導体層の一方の端と、周回パターン26B2を構成する導体層のうち周回パターン26B2のコイル軸Ax1に沿う方向における他方の端(図5bの右端)に配置されている導体層の他方の端との間隔を、周回部26Bの断面のコイル軸Ax1に平行な方向における寸法b2とする。 As shown in FIG. 5b, when the orbital patterns 26A1 and 26A2 each include a plurality of conductor layers, one end of the conductor layers constituting the orbiting pattern 26A1 in the direction along the coil axis Ax1 (FIG. 5b). One end of the conductor layer arranged at the left end of the circuit pattern 26A1 and the other end of the conductor layer constituting the circuit pattern 26A1 in the direction along the coil axis Ax1 of the circuit pattern 26A2 (right end in FIG. 5b). The distance from the other end of the conductor layer is defined as the dimension a2 in the direction parallel to the coil axis Ax1 in the cross section of the peripheral portion 26A. Similarly, when the circulation patterns 26B1 and 26B2 each include a plurality of conductor layers, they are arranged at one end (left end in FIG. 5b) of the conductor layers constituting the circulation pattern 26B1 in the direction along the coil axis Ax1. One end of the conductor layer and the other end of the conductor layer constituting the orbital pattern 26B2 in the direction along the coil axis Ax1 of the orbital pattern 26B2 (right end in FIG. 5b). The distance from and is set to the dimension b2 in the direction parallel to the coil axis Ax1 in the cross section of the peripheral portion 26B.

次に、図6a及び図6bをさらに参照して、コイル導体25Aに流れる電流の変化によって周回部26Aの周囲に発生する磁束について説明する。図6aは、コイル導体25Aの周回部26Aに流れる電流の変化によって発生する磁束を模式的に示しており、図6bは、コイル軸Axの周りに巻かれた周回部A1を有する従来のコイル導体に流れる電流の変化によって発生する磁束を模式的に示している。図6bに示されている周回部A1は、周回パターンA1及び周回パターンA2を有する。周回パターンA1は、周回パターンA2とビアにより接続されて周回部A1を構成することが想定されている。周回パターンA1、A2の断面は、周回パターン26A1、26A2と同じ面積を有する正方形形状を有している。コイル軸Axに平行な方向における周回部A11の断面の寸法に対する、コイル軸Axに垂直な方向における周回部A11の断面の寸法の比は、1よりも小さい。図6aに示されているように、コイル導体25Aに流れる電流が変化したときにコイル軸Ax1の周りに巻かれた周回部26Aの周囲に発生する磁束は、第1アスペクト比が1よりも大きいため、コイル軸Ax1に垂直な方向を向きやすくなる。これに対して、図6bに示されているように、コイル軸Axの周りに巻かれたアスペクト比が1よりも小さい周回部A1の周囲に発生する磁束は、コイル軸Axに対して平行な方向を向きやすくなる。よって、周回パターン26A1、26A2の第1アスペクト比を1より大きくすることにより、コイル導体25Aに流れる電流が変化したときに周回パターン26A1、26A2の周囲に発生する磁束は、コイル軸Ax1に沿う方向において隣接して配置されている他のコイル導体(例えば、コイル導体25B)に到達しにくくなる。このため、コイル導体25Aに含まれる周回部26Aの周回パターン26A1、26A2の第1アスペクト比を1より大きくすることにより、コイル導体25Aと、コイル軸Ax1に沿う方向においてコイル導体25Aと隣接している他のコイル導体(例えば、コイル導体25B)との磁気的な結合を抑制することができる。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの結合係数の絶対値は、0.15以下である。本発明の一又は複数の実施形態においては、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間隔を0.3mm以下としても、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの結合係数の絶対値を0.15以下とすることができる。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの結合係数の絶対値を0.15以下とすることで、コイル導体25A及びコイル導体25Bは、他方のコイル導体から電磁気的な干渉をあまり受けずに、各々の特性を安定して発揮することができる。アレイ型インダクタ1に含まれるコイル導体25A及びコイル導体25Bは、他のコイル導体からの電磁気的な干渉を受けにくいため、アレイ型インダクタ1が実装される回路の配線のピッチが小さい場合(例えば、0.2mm以下の場合)であっても各々の特性を発揮することができる。例えば、アレイ型インダクタ1が複数の半導体素子(例えば、パワートランジスタ)と接続される回路において、当該複数の半導体素子の各々に対して、コイル導体25A及びコイル導体25Bにより独立した電源を供給することができる。 Next, with reference to FIGS. 6a and 6b, the magnetic flux generated around the circumferential portion 26A due to the change in the current flowing through the coil conductor 25A will be described. FIG. 6a schematically shows a magnetic flux generated by a change in the current flowing through the peripheral portion 26A of the coil conductor 25A, and FIG. 6b shows a conventional coil conductor having a peripheral portion A1 wound around the coil shaft Ax. The magnetic flux generated by the change in the current flowing through the coil is schematically shown. The orbital portion A1 shown in FIG. 6b has an orbital pattern A1 and an orbital pattern A2. It is assumed that the orbital pattern A1 is connected to the orbital pattern A2 by a via to form the orbiting portion A1. The cross section of the orbital patterns A1 and A2 has a square shape having the same area as the orbiting patterns 26A1 and 26A2. The ratio of the ratio of the cross-sectional dimension of the peripheral portion A11 in the direction parallel to the coil axis Ax to the cross-sectional dimension of the peripheral portion A11 in the direction perpendicular to the coil axis Ax is smaller than 1. As shown in FIG. 6a, the magnetic flux generated around the circumferential portion 26A wound around the coil shaft Ax1 when the current flowing through the coil conductor 25A changes has a first aspect ratio larger than 1. Therefore, it becomes easy to face the direction perpendicular to the coil axis Ax1. On the other hand, as shown in FIG. 6b, the magnetic flux generated around the circumferential portion A1 having an aspect ratio smaller than 1 wound around the coil shaft Ax is parallel to the coil shaft Ax. It makes it easier to turn. Therefore, by making the first aspect ratio of the orbiting patterns 26A1 and 26A2 larger than 1, the magnetic flux generated around the orbiting patterns 26A1 and 26A2 when the current flowing through the coil conductor 25A changes is in the direction along the coil axis Ax1. It becomes difficult to reach other coil conductors (for example, coil conductor 25B) arranged adjacent to each other. Therefore, by making the first aspect ratio of the orbital patterns 26A1 and 26A2 of the orbiting portion 26A included in the coil conductor 25A larger than 1, the coil conductor 25A is adjacent to the coil conductor 25A in the direction along the coil shaft Ax1. It is possible to suppress magnetic coupling with other coil conductors (for example, coil conductor 25B). In one or more embodiments of the present invention, the absolute value of the coupling coefficient between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is 0.15 or less. In one or more embodiments of the present invention, even if the distance between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is 0.3 mm or less, the absolute value of the coupling coefficient between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is 0.15 or less. can do. In one or more embodiments of the present invention, the absolute value of the coupling coefficient between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is set to 0.15 or less, so that the coil conductor 25A and the coil conductor 25B are electromagnetically magnetized from the other coil conductor. It is possible to stably exhibit each characteristic without receiving much interference. Since the coil conductor 25A and the coil conductor 25B included in the array type inductor 1 are less susceptible to electromagnetic interference from other coil conductors, the wiring pitch of the circuit on which the array type inductor 1 is mounted is small (for example,). Even if it is 0.2 mm or less), each characteristic can be exhibited. For example, in a circuit in which an array-type inductor 1 is connected to a plurality of semiconductor elements (for example, a power transistor), independent power supplies are supplied to each of the plurality of semiconductor elements by the coil conductor 25A and the coil conductor 25B. Can be done.

続いて、本発明の別の実施形態におけるアレイ型インダクタについて図7から図13を参照して説明する。 Subsequently, an array-type inductor in another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 to 13.

まず、図7を参照して、コイル導体25A、25Bの変形例の一つを説明する。図7に示されている実施形態において、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面は、角がない形状を有する。言い換えると、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面の外縁は、曲線のみによって画定されている。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面は、図7に示されているように楕円形状であっても良いし、それ以外の形状(例えば、長円形状)であってもよい。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面を角がない形状とすることにより、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の周りに発生する磁束が、各周回パターンの断面のより中心に近い磁路を通過するようになる。これにより、周回パターン26A1、26A2を有するコイル導体25Aと周回パターン26B1、26B2を有するコイル導体25Bとの磁気的な結合を抑制することができる。本発明の一又は複数の実施形態において、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2のうち一部の断面が角のない形状を有していてもよい。本発明の一又は複数の実施形態においては、周回パターン26A2の断面が角のない形状を有し、周回パターン26A1の断面が角がある形状(例えば、図5aに示されている矩形形状)を有していてもよい。周回パターン26A2はコイル導体25Bと対向しているため、周回パターン26A2の断面を角がない形状として周回パターン26A2の周りに発生する磁束が周回パターン26A2の断面のより中心に近い磁路を通過するようにすることで、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合を抑制することができる。他方、周回パターン26A1は、コイル導体25Bと対向しておらず基体10の外表面と対向しているため、周回パターン26A2の断面が角のある形状であってもコイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合を強める作用は小さい。同様の理由により、本発明の一又は複数の実施形態においては、周回パターン26B1の断面が角のない形状を有し、周回パターン26B2の断面が角がある形状を有していてもよい。 First, one of the modified examples of the coil conductors 25A and 25B will be described with reference to FIG. 7. In the embodiment shown in FIG. 7, the cross sections of the orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 have a shape without corners. In other words, the outer edges of the cross sections of the orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 are defined only by curves. The cross section of the circumferential pattern 26A1, 26A2, 26B1, 26B2 may have an elliptical shape as shown in FIG. 7, or may have another shape (for example, an oval shape). By making the cross sections of the orbiting patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 square-free, the magnetic flux generated around the orbiting patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 is a magnetic path closer to the center of the cross section of each orbiting pattern. Will pass through. As a result, it is possible to suppress the magnetic coupling between the coil conductor 25A having the orbital patterns 26A1 and 26A2 and the coil conductor 25B having the orbiting patterns 26B1 and 26B2. In one or more embodiments of the present invention, some of the circuit patterns 26A1, 26A2, 26B1, and 26B2 may have a shape without corners. In one or more embodiments of the present invention, the circular pattern 26A2 has a cross section without corners, and the circular pattern 26A1 has a cross section with corners (for example, the rectangular shape shown in FIG. 5a). You may have. Since the orbiting pattern 26A2 faces the coil conductor 25B, the magnetic flux generated around the orbiting pattern 26A2 has a shape without angles in the cross section of the orbiting pattern 26A2 and passes through a magnetic path closer to the center of the cross section of the orbiting pattern 26A2. By doing so, it is possible to suppress the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B. On the other hand, since the circuit pattern 26A1 does not face the coil conductor 25B but faces the outer surface of the substrate 10, even if the cross section of the circuit pattern 26A2 has an angular shape, the coil conductor 25A and the coil conductor 25B The effect of strengthening the magnetic bond is small. For the same reason, in one or more embodiments of the present invention, the cross section of the orbiting pattern 26B1 may have a shape without corners, and the cross section of the orbiting pattern 26B2 may have a shape with corners.

周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面の形状は、上記の形状には限られない。周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面の形状は、例えば、円形、矩形、矩形以外の多角形であってもよい。ただし、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の第1アスペクト比が1より大きい実施形態においては、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2の断面は、円形又は正方形以外の形状をとる。周回パターン26A1、26A2の形状と周回パターン26B1、26B2とは同じであってもよいし異なっていてもよい。 The cross-sectional shape of the orbiting patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 is not limited to the above shape. The shape of the cross section of the orbiting pattern 26A1, 26A2, 26B1, 26B2 may be, for example, a circle, a rectangle, or a polygon other than a rectangle. However, in the embodiment in which the first aspect ratio of the orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 is larger than 1, the cross section of the orbiting patterns 26A1, 26A2, 26B1 and 26B2 has a shape other than a circle or a square. The shapes of the orbital patterns 26A1 and 26A2 and the orbital patterns 26B1 and 26B2 may be the same or different.

次に、図8及び図9を参照して、本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ101について説明する。図8及び図9に示されているアレイ型インダクタ101は、コイル導体25A、25Bに代えてコイル導体125A、125Bをそれぞれ備える点でアレイ型インダクタ1と異なっている。以下の説明では、アレイ型インダクタ101において、アレイ型インダクタ1と共通する点については説明を省略する。 Next, the array-type inductor 101 according to one or more embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 and 9. The array-type inductor 101 shown in FIGS. 8 and 9 is different from the array-type inductor 1 in that the coil conductors 125A and 125B are provided in place of the coil conductors 25A and 25B, respectively. In the following description, the points common to the array-type inductor 1 in the array-type inductor 101 will be omitted.

アレイ型インダクタ101は、コイル導体125A及びコイル導体125Bを備える。図示されている実施形態において、コイル導体125Aは、周回部126Aと、引出導体127A1と、引出導体127A2と、を有する。周回部126Aは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax1の周りの周方向に延びている。周回部126Aは、磁性体層11bのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン126A1と、磁性体層11cのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン126A2と、磁性体層11bに設けられたビアVAと、を有する。周回パターン126A1と周回パターン126A2とはビアVAにより接続されている。周回部126Aは、コイル軸Ax1の周りに概ね1ターンだけ巻回されている。 The array type inductor 101 includes a coil conductor 125A and a coil conductor 125B. In the illustrated embodiment, the coil conductor 125A has a circumferential portion 126A, a lead conductor 127A1 and a lead conductor 127A2. The peripheral portion 126A extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax1 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The circumferential portion 126A is a pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11b with the orbital pattern 126A1 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction among the pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11b. Among them, the circumferential pattern 126A2 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction and the via VA provided on the magnetic material layer 11b are included. The orbital pattern 126A1 and the orbital pattern 126A2 are connected by a via VA. The peripheral portion 126A is wound around the coil shaft Ax1 for approximately one turn.

引出導体127A1は、磁性体層11bにW軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン126A1に接続され、その他方の端が外部電極21A(図8及び図9では図示を省略した。)に接続されている。引出導体127A2は、磁性体層11cにW軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン126A2に接続され、その他方の端が外部電極22A(図8及び図9では図示を省略した。)に接続されている。 The lead conductor 127A1 is provided on the magnetic layer 11b so as to extend along the W axis, one end of which is connected to the circumferential pattern 126A1 and the other end of which is the external electrode 21A (in FIGS. 8 and 9). It is connected to (not shown). The lead conductor 127A2 is provided on the magnetic layer 11c so as to extend along the W axis, one end thereof is connected to the circumferential pattern 126A2, and the other end is the external electrode 22A (in FIGS. 8 and 9). It is connected to (not shown).

図示されている実施形態において、コイル導体125Bは、周回部126Bと、引出導体127B1と、引出導体127B2と、を有する。周回部126Bは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax2の周りの周方向に延びている。周回部126Bは、磁性体層11eのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン126B1と、磁性体層11fのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン126B2と、磁性体層11eに設けられたビアVBと、を有する。周回パターン126B1と周回パターン126B2とはビアVBにより接続されている。周回部126Bは、コイル軸Ax2の周りに概ね1ターンだけ巻回されている。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 125B has a circumferential portion 126B, a lead conductor 127B1 and a lead conductor 127B2. The peripheral portion 126B extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax2 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The circumferential portion 126B is a pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11f with the orbital pattern 126B1 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction among the pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11e. Among them, the circumferential pattern 126B2 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction and the via VB provided on the magnetic material layer 11e are provided. The orbital pattern 126B1 and the orbital pattern 126B2 are connected by a via VB. The peripheral portion 126B is wound around the coil shaft Ax2 for approximately one turn.

引出導体127B1は、磁性体層11eにW軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン126B1に接続され、その他方の端が外部電極21B(図8及び図9では図示を省略した。)に接続されている。引出導体127B2は、磁性体層11fにW軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン126B2に接続され、その他方の端が外部電極22B(図8及び図9では図示を省略した。)に接続されている。 The lead conductor 127B1 is provided on the magnetic layer 11e so as to extend along the W axis, one end of which is connected to the circumferential pattern 126B1 and the other end of which is the external electrode 21B (in FIGS. 8 and 9). It is connected to (not shown). The lead conductor 127B2 is provided on the magnetic layer 11f so as to extend along the W axis, one end thereof is connected to the circumferential pattern 126B2, and the other end is the external electrode 22B (in FIGS. 8 and 9). It is connected to (not shown).

周回パターン126A1、126A2、126B1、126B2及び引出導体127A1、127A2、127B1、127B2は、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2及び引出導体27A1、27A2、27B1、27B2と同様に、導体ペーストから作成され得る。 Circumferential patterns 126A1, 126A2, 126B1, 126B2 and drawer conductors 127A1, 127A2, 127B1, 127B2 can be made from conductor paste, similar to orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2 and drawer conductors 27A1, 27A2, 27B1, 27B2. ..

基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部126Aの内側の領域をコア領域110Aとする。一実施形態において、コイル軸Ax1は、L軸方向から視たコア領域110Aの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部126Bの内側の領域をコア領域110Bとする。一実施形態において、コイル軸Ax2は、L軸方向から視たコア領域110Bの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。アレイ型インダクタ101においても、コイル軸Ax1は実装面10bから第1距離T1だけ離れており、コイル軸Ax2は実装面10bから第1距離T1よりも大きい第2距離T2だけ離れている。 Of the substrate 10, the region inside the peripheral portion 126A when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 110A. In one embodiment, the coil axis Ax1 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 110A viewed from the L-axis direction. Of the substrate 10, the region inside the peripheral portion 126B when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 110B. In one embodiment, the coil shaft Ax2 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 110B viewed from the L-axis direction. Also in the array type inductor 101, the coil shaft Ax1 is separated from the mounting surface 10b by a first distance T1, and the coil shaft Ax2 is separated from the mounting surface 10b by a second distance T2 larger than the first distance T1.

周回パターン26A1、26A2の断面に関する説明は、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン126A1、126A2の断面についても当てはまり、周回パターン26B1、26B2の断面に関する説明は、コイル軸Ax2を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン126B1、126B2の断面についても当てはまる。 The description of the cross sections of the circuit patterns 26A1 and 26A2 also applies to the cross sections of the circuit patterns 126A1 and 126A2 cut along the plane perpendicular to the mounting surface 10b through the coil shaft Ax1, and the description of the cross sections of the circuit patterns 26B1 and 26B2 applies to the coil shaft. This also applies to the cross sections of the orbital patterns 126B1 and 126B2 that pass through Ax2 and are cut in a plane perpendicular to the mounting surface 10b.

次に、図10及び図11を参照して、本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ201について説明する。図10及び図11に示されているアレイ型インダクタ201は、磁性体層11b、11cに代えて磁性体層211aを備え、磁性体層11e、11fに代えて磁性体層211bを備え、コイル導体25A、25Bに代えてコイル導体225A、225Bをそれぞれ備える点でアレイ型インダクタ1と異なっている。以下の説明では、アレイ型インダクタ201において、アレイ型インダクタ1と共通する点については説明を省略する。 Next, the array type inductor 201 according to one or more embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 and 11. The array-type inductor 201 shown in FIGS. 10 and 11 includes a magnetic material layer 211a in place of the magnetic material layers 11b and 11c, a magnetic material layer 211b in place of the magnetic material layers 11e and 11f, and a coil conductor. It differs from the array type inductor 1 in that coil conductors 225A and 225B are provided instead of 25A and 25B, respectively. In the following description, the points common to the array-type inductor 1 in the array-type inductor 201 will be omitted.

図示のように、アレイ型インダクタ201において、磁性体層211aは、磁性体層11aと磁性体層11dとの間に設けられており、磁性体層211bは、磁性体層11dと磁性体層11gとの間に設けられている。磁性体層211a、211bは、磁性体層11a~11gと同様の方法で作製され得る。 As shown in the figure, in the array type inductor 201, the magnetic material layer 211a is provided between the magnetic material layer 11a and the magnetic material layer 11d, and the magnetic material layer 211b is the magnetic material layer 11d and the magnetic material layer 11g. It is provided between and. The magnetic material layers 211a and 211b can be produced in the same manner as the magnetic material layers 11a to 11g.

図示されている実施形態において、コイル導体225Aは、周回部226Aと、引出導体227A1と、引出導体227A2と、を有する。周回部226Aは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax1の周りの周方向に延びている。周回部226A及び引出導体227A1、227A2は、磁性体層211aのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられている。周回部226Aは、コイル軸Ax1の周りに概ね0.5ターンだけ巻回されている。引出導体227A1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体227A2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体227A1は外部電極21Aに接続され、引出導体227A2は外部電極22Aに接続される。図10及び図11においては、外部電極21A、22Aの図示を省略している。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 225A has a circumferential portion 226A, a lead conductor 227A1 and a lead conductor 227A2. The peripheral portion 226A extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax1 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The peripheral portion 226A and the lead conductors 227A1 and 227A2 are provided on the surface of the pair of surfaces intersecting the L axis of the magnetic material layer 211a on the positive side in the L axis direction. The peripheral portion 226A is wound around the coil shaft Ax1 for approximately 0.5 turns. The lead conductor 227A1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 227A2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 227A1 is connected to the external electrode 21A, and the lead conductor 227A2 is connected to the external electrode 22A. In FIGS. 10 and 11, the external electrodes 21A and 22A are not shown.

図示されている実施形態において、コイル導体225Bは、周回部226Bと、引出導体227B1と、引出導体227B2と、を有する。周回部226Bは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax2の周りの周方向に延びている。周回部226B及び引出導体227B1、227B2は、磁性体層211bのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられている。周回部226Bは、コイル軸Ax2の周りに概ね0.5ターンだけ巻回されている。引出導体227B1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体227B2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体227B1は外部電極21Bに接続され、引出導体227B2は外部電極22Bに接続される。図10及び図11においては、外部電極21B、22Bの図示を省略している。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 225B has a circumferential portion 226B, a lead conductor 227B1 and a lead conductor 227B2. The peripheral portion 226B extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax2 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The peripheral portion 226B and the lead conductors 227B1 and 227B2 are provided on the surface of the pair of surfaces intersecting the L axis of the magnetic material layer 211b on the positive side in the L axis direction. The peripheral portion 226B is wound around the coil shaft Ax2 for about 0.5 turn. The lead conductor 227B1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 227B2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 227B1 is connected to the external electrode 21B, and the lead conductor 227B2 is connected to the external electrode 22B. In FIGS. 10 and 11, the external electrodes 21B and 22B are not shown.

周回部226A、226B及び引出導体227A1、227A2、227B1、227B2は、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2及び引出導体27A1、27A2、27B1、27B2と同様に、導体ペーストから作成され得る。 Circumferential portions 226A, 226B and lead conductors 227A1, 227A2, 227B1, 227B2 can be made from conductor paste, as well as orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2 and drawer conductors 27A1, 27A2, 27B1, 27B2.

基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部226Aの内側の領域をコア領域210Aとする。より具体的には、コア領域210Aは、周回部226Aのコイル軸Ax1周りの周方向における一方の端226A1と他方の端226A2とを結ぶ仮想線VL1と周回部226Aの内周面とにより画定される領域を指す。一実施形態において、コイル軸Ax1は、L軸方向から視たコア領域210Aの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。同様に、基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部126Bの内側の領域をコア領域210Bとする。コア領域210Aと同様に、周回部226Bのコイル軸Ax2周りの周方向における一方の端と他方の端とを結ぶ仮想線と周回部226Bの内周面とにより画定される領域をコア領域210Bとすることができる。一実施形態において、コイル軸Ax2は、L軸方向から視たコア領域210Bの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。アレイ型インダクタ201においても、コイル軸Ax1は実装面10bから第1距離T1だけ離れており、コイル軸Ax2は実装面10bから第1距離T1よりも大きい第2距離T2だけ離れている。 Of the substrate 10, the region inside the circumferential portion 226A when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 210A. More specifically, the core region 210A is defined by a virtual line VL1 connecting one end 226A1 and the other end 226A2 in the circumferential direction around the coil axis Ax1 of the peripheral portion 226A and an inner peripheral surface of the peripheral portion 226A. Refers to the area. In one embodiment, the coil axis Ax1 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 210A viewed from the L-axis direction. Similarly, of the substrate 10, the region inside the peripheral portion 126B when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 210B. Similar to the core region 210A, the region defined by the virtual line connecting one end and the other end in the circumferential direction around the coil axis Ax2 of the peripheral portion 226B and the inner peripheral surface of the peripheral portion 226B is defined as the core region 210B. can do. In one embodiment, the coil axis Ax2 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 210B viewed from the L-axis direction. Also in the array type inductor 201, the coil shaft Ax1 is separated from the mounting surface 10b by a first distance T1, and the coil shaft Ax2 is separated from the mounting surface 10b by a second distance T2 larger than the first distance T1.

周回パターン26A1、26A2の断面に関する説明は、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回部226Aの断面についても当てはまり、周回パターン26B1、26B2の断面に関する説明は、コイル軸Ax2を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回部226Bの断面についても当てはまる。 The explanation about the cross section of the orbital patterns 26A1 and 26A2 also applies to the cross section of the orbiting portion 226A cut along the plane perpendicular to the mounting surface 10b through the coil shaft Ax1, and the explanation about the cross section of the orbiting patterns 26B1 and 26B2 applies to the coil shaft Ax2. The same applies to the cross section of the peripheral portion 226B cut in a plane perpendicular to the through mounting surface 10b.

次に、図12及び図13を参照して、本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ301について説明する。図12及び図13に示されているアレイ型インダクタ301は、外部電極21A、21B、22A、22Bに代えて外部電極321A、321B、322A、322Bをそれぞれ備え、コイル導体25A、25Bに代えてコイル導体325A、325Bをそれぞれ備える点でアレイ型インダクタ1と異なっている。以下の説明では、アレイ型インダクタ301において、アレイ型インダクタ1と共通する点については説明を省略する。 Next, the array-type inductor 301 according to one or more embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 12 and 13. The array-type inductor 301 shown in FIGS. 12 and 13 includes external electrodes 321A, 321B, 322A, and 322B in place of the external electrodes 21A, 21B, 22A, and 22B, respectively, and a coil in place of the coil conductors 25A, 25B. It differs from the array type inductor 1 in that it includes conductors 325A and 325B, respectively. In the following description, the points common to the array-type inductor 1 in the array-type inductor 301 will be omitted.

図示のように、外部電極321A、321Bは、L軸方向から見たときにL字形状を有しており、基体10の実装面10b及び第1側面10eに接するように設けられている。外部電極322A、322Bは、L軸方向から見たときにL字形状を有しており、基体10の実装面10b及び第2側面10fに接するように設けられている。 As shown in the figure, the external electrodes 321A and 321B have an L-shape when viewed from the L-axis direction, and are provided so as to be in contact with the mounting surface 10b and the first side surface 10e of the substrate 10. The external electrodes 322A and 322B have an L-shape when viewed from the L-axis direction, and are provided so as to be in contact with the mounting surface 10b and the second side surface 10f of the substrate 10.

図示されている実施形態において、コイル導体325Aは、周回部326Aと、引出導体327A1と、引出導体327A2と、を有する。周回部326Aは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax1の周りの周方向に延びている。周回部326Aは、磁性体層11bのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン326A1と、磁性体層11cのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン326A2と、磁性体層11bに設けられたビアVAと、を有する。周回パターン326A1と周回パターン326A2とはビアVAにより接続されている。周回部326Aは、コイル軸Ax1の周りに概ね1.5ターンだけ巻回されている。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 325A has a circumferential portion 326A, a lead conductor 327A1 and a lead conductor 327A2. The peripheral portion 326A extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax1 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The circumferential portion 326A is a pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11b with the orbital pattern 326A1 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction among the pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11b. Among them, it has an orbital pattern 326A2 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction and a via VA provided on the magnetic material layer 11b. The orbital pattern 326A1 and the orbital pattern 326A2 are connected by a via VA. The peripheral portion 326A is wound around the coil shaft Ax1 for approximately 1.5 turns.

引出導体327A1は、磁性体層11bにT軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン326A1に接続されている。引出導体327A1は、第1側面10e及び実装面10bから基体10の外に向かって露出しており、この露出する部分において外部電極321Aに接続されている。引出導体327A2は、磁性体層11cにT軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン326A2に接続されている。引出導体327A2は、第2端面10f及び実装面10bから基体10の外に向かって露出しており、この露出する部分において外部電極322Aに接続されている。 The lead conductor 327A1 is provided on the magnetic layer 11b so as to extend along the T axis, and one end thereof is connected to the circumferential pattern 326A1. The lead conductor 327A1 is exposed from the first side surface 10e and the mounting surface 10b toward the outside of the substrate 10, and is connected to the external electrode 321A at this exposed portion. The lead conductor 327A2 is provided on the magnetic layer 11c so as to extend along the T axis, and one end thereof is connected to the circumferential pattern 326A2. The lead conductor 327A2 is exposed from the second end surface 10f and the mounting surface 10b toward the outside of the substrate 10, and is connected to the external electrode 322A at this exposed portion.

図示されている実施形態において、コイル導体325Bは、周回部326Bと、引出導体327B1と、引出導体327B2と、を有する。周回部326Bは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax2の周りの周方向に延びている。周回部326Bは、磁性体層11eのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン326B1と、磁性体層11fのL軸と交わる一対の表面のうちL軸方向の正側にある表面に設けられた周回パターン326B2と、磁性体層11eに設けられたビアVBと、を有する。周回パターン326B1と周回パターン326B2とはビアVBにより接続されている。周回部326Bは、コイル軸Ax2の周りに概ね1.5ターンだけ巻回されている。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 325B has a circumferential portion 326B, a lead conductor 327B1 and a lead conductor 327B2. The peripheral portion 326B extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax2 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. The circumferential portion 326B is a pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11f with the orbital pattern 326B1 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction among the pair of surfaces that intersect the L-axis of the magnetic layer 11e. Among them, it has an orbital pattern 326B2 provided on the surface on the positive side in the L-axis direction and a via VB provided on the magnetic material layer 11e. The orbital pattern 326B1 and the orbital pattern 326B2 are connected by a via VB. The peripheral portion 326B is wound around the coil shaft Ax2 for approximately 1.5 turns.

引出導体327B1は、磁性体層11eにT軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン326B1に接続されている。引出導体327B1は、第1側面10e及び実装面10bから基体10の外に向かって露出しており、この露出する部分において外部電極321Bに接続されている。引出導体327B2は、磁性体層11fにT軸に沿って延びるように設けられており、その一方の端が周回パターン326B2に接続されている。引出導体327A2は、第2端面10f及び実装面10bから基体10の外に向かって露出しており、この露出する部分において外部電極322Bに接続されている。 The lead conductor 327B1 is provided on the magnetic layer 11e so as to extend along the T axis, and one end thereof is connected to the circumferential pattern 326B1. The lead conductor 327B1 is exposed from the first side surface 10e and the mounting surface 10b toward the outside of the substrate 10, and is connected to the external electrode 321B at this exposed portion. The lead conductor 327B2 is provided on the magnetic layer 11f so as to extend along the T axis, and one end thereof is connected to the circumferential pattern 326B2. The lead conductor 327A2 is exposed from the second end surface 10f and the mounting surface 10b toward the outside of the substrate 10, and is connected to the external electrode 322B at this exposed portion.

周回パターン326A1、326A2、326B1、326B2及び引出導体327A1、327A2、327B1、327B2は、周回パターン26A1、26A2、26B1、26B2及び引出導体27A1、27A2、27B1、27B2と同様に、導体ペーストから作成され得る。 Circumferential patterns 326A1, 326A2, 326B1, 326B2 and drawer conductors 327A1, 327A2, 327B1, 327B2 can be made from conductor paste, as well as orbital patterns 26A1, 26A2, 26B1, 26B2 and drawer conductors 27A1, 27A2, 27B1, 27B2. ..

基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部326Aの内側の領域をコア領域310Aとする。一実施形態において、コイル軸Ax1は、L軸方向から視たコア領域310Aの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。基体10のうち、L軸方向から見たときに、周回部326Bの内側の領域をコア領域310Bとする。一実施形態において、コイル軸Ax2は、L軸方向から視たコア領域310Bの幾何中心を通り実装面10bに平行な方向に延びる軸線とされる。アレイ型インダクタ301においても、コイル軸Ax1は実装面10bから第1距離T1だけ離れており、コイル軸Ax2は実装面10bから第1距離T1よりも大きい第2距離T2だけ離れている。 Of the substrate 10, the region inside the circumferential portion 326A when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 310A. In one embodiment, the coil axis Ax1 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 310A viewed from the L-axis direction. Of the substrate 10, the region inside the circumferential portion 326B when viewed from the L-axis direction is defined as the core region 310B. In one embodiment, the coil shaft Ax2 is an axis extending in a direction parallel to the mounting surface 10b through the geometric center of the core region 310B viewed from the L-axis direction. Also in the array type inductor 301, the coil shaft Ax1 is separated from the mounting surface 10b by a first distance T1, and the coil shaft Ax2 is separated from the mounting surface 10b by a second distance T2 larger than the first distance T1.

周回パターン26A1、26A2の断面に関する説明は、コイル軸Ax1を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン326A1、326A2の断面についても当てはまり、周回パターン26B1、26B2の断面に関する説明は、コイル軸Ax2を通り実装面10bに垂直な面で切断した周回パターン326B1、326B2の断面についても当てはまる。 The description of the cross sections of the circuit patterns 26A1 and 26A2 also applies to the cross sections of the circuit patterns 326A1 and 326A2 cut along the surface perpendicular to the mounting surface 10b through the coil shaft Ax1, and the description of the cross sections of the circuit patterns 26B1 and 26B2 applies to the coil shaft. This also applies to the cross sections of the orbital patterns 326B1 and 326B2 that pass through Ax2 and are cut in a plane perpendicular to the mounting surface 10b.

次に、図14から図16bを参照して、本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ401について説明する。アレイ型インダクタ401は、4つのコイル導体及び4組の外部電極を有している点で、2つのコイル導体及び2組の外部電極を有しているアレイ型インダクタ1と異なっている。アレイ型インダクタ401において、アレイ型インダクタ1と共通する点については説明を省略する。 Next, the array type inductor 401 according to one or more embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 to 16b. The array-type inductor 401 differs from the array-type inductor 1 having two coil conductors and two sets of external electrodes in that it has four coil conductors and four sets of external electrodes. The points common to the array-type inductor 1 in the array-type inductor 401 will be omitted.

アレイ型インダクタ401は、基体10内に設けられたコイル導体25A、25B、25C、25D及び基体10の表面に設けられた外部電極21A、21B、21C、21D、22A、22B、22C、22Dを備える。コイル導体25A、25Bは、アレイ型インダクタ1が備えるコイル導体25A、25Bと同様に構成及び配置される。コイル導体25Cは、その一端において外部電極21Cに接続され、その他端において外部電極22Cに接続される。コイル導体25Dは、その一端において外部電極21Dに接続され、その他端において外部電極22Dに接続される。このように、アレイ型インダクタ401は、コイル導体25A及び外部電極21A、22Aを有する第1インダクタと、コイル導体25B及び外部電極21B、22Bを有する第2インダクタと、コイル導体25C及び外部電極21C、22Cを有する第3インダクタと、コイル導体25D及び外部電極21D、22Dを有する第4インダクタと、を備える。アレイ型インダクタ401の8つの外部電極21A~21D、22A~22Dは、アレイ型インダクタ401を実装基板2aに実装する際に対応するランド3にそれぞれ対向するように配置される。 The array-type inductor 401 includes coil conductors 25A, 25B, 25C, 25D provided in the substrate 10, and external electrodes 21A, 21B, 21C, 21D, 22A, 22B, 22C, 22D provided on the surface of the substrate 10. .. The coil conductors 25A and 25B are configured and arranged in the same manner as the coil conductors 25A and 25B included in the array type inductor 1. The coil conductor 25C is connected to the external electrode 21C at one end thereof and to the external electrode 22C at the other end. The coil conductor 25D is connected to the external electrode 21D at one end thereof and to the external electrode 22D at the other end. As described above, the array type inductor 401 includes a first inductor having a coil conductor 25A and external electrodes 21A and 22A, a second inductor having a coil conductor 25B and external electrodes 21B and 22B, and a coil conductor 25C and an external electrode 21C. A third inductor having 22C and a fourth inductor having coil conductors 25D and external electrodes 21D and 22D are provided. The eight external electrodes 21A to 21D and 22A to 22D of the array type inductor 401 are arranged so as to face the corresponding lands 3 when the array type inductor 401 is mounted on the mounting substrate 2a.

図示の実施形態において、コイル導体25Cは、L軸方向においてコイル導体25Bに対してコイル導体25Aと反対側に設けられている。また、コイル導体25Dは、L軸方向においてコイル導体25Cに対してコイル導体25Bと反対側に設けられている。コイル導体25A、25B、25C、25Dは、L軸方向の正側から負側に向かってこの順で並んでいる。コイル導体25Aは、第1コイル軸Ax1に沿う方向の一方(L軸方向の正側)において、基体10の第2端面10dと対向している。つまり、コイル導体25Aと第2端面10dとの間には、他のコイル導体が配置されていない。コイル導体25Dは、第4コイル軸Ax4に沿う方向の一方(L軸方向の負側)において、基体10の第1端面10cと対向している。つまり、コイル導体25Dと第1端面10cとの間には、他のコイル導体が配置されていない。第2コイル導体25B及び第3コイル導体25Cは、第1コイル導体25Aと第2コイル導体25Cとの間に配置されている。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25C及びコイル導体25Dは、コイル軸Ax3がコイル導体25Cのコア領域10Cだけでなくコイル導体25Dのコア領域10Dも貫き、コイル軸Ax4がコイル導体25Dのコア領域10Dだけでなくコイル導体25Cのコア領域10Cも貫くように配置される。 In the illustrated embodiment, the coil conductor 25C is provided on the side opposite to the coil conductor 25A with respect to the coil conductor 25B in the L-axis direction. Further, the coil conductor 25D is provided on the side opposite to the coil conductor 25B with respect to the coil conductor 25C in the L-axis direction. The coil conductors 25A, 25B, 25C, and 25D are arranged in this order from the positive side to the negative side in the L-axis direction. The coil conductor 25A faces the second end surface 10d of the substrate 10 in one of the directions along the first coil axis Ax1 (on the positive side in the L-axis direction). That is, no other coil conductor is arranged between the coil conductor 25A and the second end surface 10d. The coil conductor 25D faces the first end surface 10c of the substrate 10 on one side (negative side in the L-axis direction) along the fourth coil axis Ax4. That is, no other coil conductor is arranged between the coil conductor 25D and the first end surface 10c. The second coil conductor 25B and the third coil conductor 25C are arranged between the first coil conductor 25A and the second coil conductor 25C. In one or more embodiments of the present invention, in the coil conductor 25C and the coil conductor 25D, the coil shaft Ax3 penetrates not only the core region 10C of the coil conductor 25C but also the core region 10D of the coil conductor 25D, and the coil shaft Ax4 penetrates the coil conductor. It is arranged so as to penetrate not only the core region 10D of 25D but also the core region 10C of the coil conductor 25C.

既述のとおり、コイル導体25Bは、コイル軸Ax1に沿う方向において、コイル導体25Aから距離G1だけ離間した位置に配置される。コイル導体25Cは、コイル軸Ax1に沿う方向において、コイル導体25Bから距離G2だけ離間した位置に配置される。コイル導体25Dは、コイル軸Ax1に沿う方向において、コイル導体25Cから距離G3だけ離間した位置に配置される。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの間の間隔G2は、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の間隔G1よりも大きい。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの間の間隔G2は、コイル導体25Cとコイル導体25Dとの間の間隔G3よりも大きい。間隔G1と間隔G3とは等しくてもよいし、異なっていてもよい。コイル導体25Bとコイル導体25Cとの間の間隔G2は、0.3mm以下であってもよい。 As described above, the coil conductor 25B is arranged at a position separated from the coil conductor 25A by a distance G1 in the direction along the coil axis Ax1. The coil conductor 25C is arranged at a position separated from the coil conductor 25B by a distance G2 in the direction along the coil axis Ax1. The coil conductor 25D is arranged at a position separated from the coil conductor 25C by a distance G3 in the direction along the coil axis Ax1. In one or more embodiments of the invention, the distance G2 between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C is greater than the distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B. In one or more embodiments of the invention, the distance G2 between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C is greater than the distance G3 between the coil conductor 25C and the coil conductor 25D. The interval G1 and the interval G3 may be equal to or different from each other. The distance G2 between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C may be 0.3 mm or less.

コイル導体25Cは、周回部26Cと、引出導体27C1と、引出導体27C2と、を有する。周回部26Cは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax3の周りの周方向に延びている。言い換えると、周回部26Cは、コイル軸Ax3の周りに巻かれている。周回部26Cの一方の端部には引出導体27C1が接続されており、他方の端部には引出導体27C2が接続されている。引出導体27C1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27C2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27C1は外部電極21Cに接続され、引出導体27C2は外部電極22Cに接続される。周回部26Cは、基体10の一部である磁性体層に設けられた周回パターン26C1と、基体10の一部である別の磁性体層に設けられた周回パターン26C2と、周回パターン26C1と周回パターン26C2とを接続するビアVCと、を有する。コイル軸Ax3の方向から見た周回部26Cの形状は、コイル軸Ax1の方向から見た周回部26Aの形状及びコイル軸Ax2の方向から見た周回部26Bの形状の少なく一方と同一であってもよい。 The coil conductor 25C has a peripheral portion 26C, a lead conductor 27C1, and a lead conductor 27C2. The peripheral portion 26C extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax3 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. In other words, the peripheral portion 26C is wound around the coil shaft Ax3. A lead conductor 27C1 is connected to one end of the peripheral portion 26C, and a lead conductor 27C2 is connected to the other end. The lead conductor 27C1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 27C2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 27C1 is connected to the external electrode 21C, and the lead conductor 27C2 is connected to the external electrode 22C. The orbiting portion 26C has an orbiting pattern 26C1 provided on a magnetic material layer that is a part of the substrate 10, an orbiting pattern 26C2 provided on another magnetic material layer that is a part of the substrate 10, and an orbiting pattern 26C1. It has a via VC that connects to the pattern 26C2. The shape of the peripheral portion 26C seen from the direction of the coil shaft Ax3 is the same as the shape of the peripheral portion 26A seen from the direction of the coil shaft Ax1 and the shape of the peripheral portion 26B seen from the direction of the coil shaft Ax2. May be good.

コイル導体25Dは、周回部26Dと、引出導体27D1と、引出導体27D2と、を有する。周回部26Dは、基体10の実装面10bと平行な方向に延びるコイル軸Ax4の周りの周方向に延びている。言い換えると、周回部26Dは、コイル軸Ax4の周りに巻かれている。周回部26Dの一方の端部には引出導体27D1が接続されており、他方の端部には引出導体27D2が接続されている。引出導体27D1は、第1側面10eに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27D2は、第2側面10fに沿ってその下端から上端まで延びている。引出導体27D1は外部電極21Dに接続され、引出導体27D2は外部電極22Dに接続される。周回部26Dは、基体10の一部である磁性体層に設けられた周回パターン26D1と、基体10の一部である別の磁性体層に設けられた周回パターン26D2と、周回パターン26D1と周回パターン26D2とを接続するビアVDと、を有する。コイル軸Ax4の方向から見た周回部26Dの形状は、コイル軸Ax1の方向から見た周回部26Aの形状、コイル軸Ax2の方向から見た周回部26Bの形状、及びコイル軸Ax3の方向から見た周回部26Cの形状の少なく1つと同一であってもよい。 The coil conductor 25D has a peripheral portion 26D, a lead conductor 27D1, and a lead conductor 27D2. The peripheral portion 26D extends in the circumferential direction around the coil shaft Ax4 extending in the direction parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10. In other words, the peripheral portion 26D is wound around the coil shaft Ax4. A lead conductor 27D1 is connected to one end of the peripheral portion 26D, and a lead conductor 27D2 is connected to the other end. The lead conductor 27D1 extends from the lower end to the upper end along the first side surface 10e. The lead conductor 27D2 extends from the lower end to the upper end along the second side surface 10f. The lead conductor 27D1 is connected to the external electrode 21D, and the lead conductor 27D2 is connected to the external electrode 22D. The orbiting portion 26D has an orbiting pattern 26D1 provided on a magnetic material layer that is a part of the substrate 10, an orbiting pattern 26D2 provided on another magnetic material layer that is a part of the substrate 10, and an orbiting pattern 26D1. It has a via VD that connects to the pattern 26D2. The shape of the orbiting portion 26D seen from the direction of the coil shaft Ax4 is the shape of the orbiting portion 26A seen from the direction of the coil shaft Ax1, the shape of the orbiting portion 26B seen from the direction of the coil shaft Ax2, and the shape of the orbiting portion 26B seen from the direction of the coil shaft Ax3. The shape of the peripheral portion 26C seen may be the same as that of one.

本発明の一又は複数の実施形態において、周回パターン26C1の断面のコイル軸Ax3に平行な方向における寸法に対するコイル軸Ax3に垂直な方向における寸法の比(第3アスペクト比)は、第1アスペクト比と同様に、1より大きい。本発明の一又は複数の実施形態において、周回パターン26D1の断面のコイル軸Ax4に平行な方向における寸法に対するコイル軸Ax4に垂直な方向における寸法の比(第4アスペクト比)は、第1アスペクト比と同様に、1より大きい。第1アスペクト比に関する説明は、第3アスペクト比及び第4アスペクト比にも同様に当てはまる。 In one or more embodiments of the present invention, the ratio of the dimensions in the direction perpendicular to the coil axis Ax3 (third aspect ratio) to the dimensions in the direction parallel to the coil axis Ax3 in the cross section of the circumferential pattern 26C1 is the first aspect ratio. Like, greater than 1. In one or more embodiments of the present invention, the ratio of the dimensions in the direction perpendicular to the coil axis Ax4 (fourth aspect ratio) to the dimensions in the direction parallel to the coil axis Ax4 in the cross section of the circumferential pattern 26D1 is the first aspect ratio. Like, greater than 1. The description of the first aspect ratio also applies to the third aspect ratio and the fourth aspect ratio.

周回部26A、26Bと同様に、本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26CのL軸方向における寸法は、周回部26CのT軸方向における寸法よりも小さい。同様に、本発明の一又は複数の実施形態において、周回部26DのL軸方向における寸法は、周回部26DのT軸方向における寸法よりも小さい。 Similar to the peripheral portions 26A and 26B, in one or more embodiments of the present invention, the dimension of the peripheral portion 26C in the L-axis direction is smaller than the dimension of the peripheral portion 26C in the T-axis direction. Similarly, in one or more embodiments of the present invention, the dimension of the orbital portion 26D in the L-axis direction is smaller than the dimension of the orbital portion 26D in the T-axis direction.

図15は、アレイ型インダクタ401のII-II線に沿った断面を模式的に示す断面図である。図15は、コイル軸Ax1を通り基体10bに垂直な面でアレイ型インダクタ1を切断した断面を示している。図15に示されているように、本発明の一又は複数の実施形態において、コイル軸Ax3及びコイル軸Ax4はそれぞれ、実装面10bに平行に延びている。コイル軸Ax3、Ax4は、第1端面10c及び第1端面10dの少なくとも一方と直交していてもよい。本発明の一又は複数の実施形態において、コイル軸Ax3は実装面10bから第3距離T3だけ離れており、コイル軸Ax4は実装面10bから第3距離T3よりも大きい第4距離T4だけ離れている。言い換えると、コイル軸Ax4と実装面10bとの間の第4距離T4は、コイル軸Ax3と実装面10bとの間の第3距離T3よりも大きい。本発明の一又は複数の実施形態において、第3距離T3は、コイル軸Ax1と実装面10bとの間の第1距離T1と等しい。本発明の一又は複数の実施形態において、第4距離T4は、コイル軸Ax2と実装面10bとの間の第2距離T2と等しい。 FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the array type inductor 401 along the line II-II. FIG. 15 shows a cross section of the array type inductor 1 cut along a plane passing through the coil shaft Ax1 and perpendicular to the substrate 10b. As shown in FIG. 15, in one or more embodiments of the present invention, the coil shaft Ax3 and the coil shaft Ax4 each extend parallel to the mounting surface 10b. The coil axes Ax3 and Ax4 may be orthogonal to at least one of the first end surface 10c and the first end surface 10d. In one or more embodiments of the invention, the coil shaft Ax3 is separated from the mounting surface 10b by a third distance T3, and the coil shaft Ax4 is separated from the mounting surface 10b by a fourth distance T4 that is larger than the third distance T3. There is. In other words, the fourth distance T4 between the coil shaft Ax4 and the mounting surface 10b is larger than the third distance T3 between the coil shaft Ax3 and the mounting surface 10b. In one or more embodiments of the invention, the third distance T3 is equal to the first distance T1 between the coil shaft Ax1 and the mounting surface 10b. In one or more embodiments of the invention, the fourth distance T4 is equal to the second distance T2 between the coil shaft Ax2 and the mounting surface 10b.

アレイ型インダクタ401は、3つのインダクタを備えてもよいし、5つ以上のインダクタを備えてもよい。アレイ型インダクタ401が5つ以上のインダクタを備える場合には、L軸方向の正側から数えて奇数番目にあるインダクタのコイル導体のコイル軸と実装面10bとの間の距離は互いに等しくてもよい。アレイ型インダクタ401が5つ以上のインダクタを備える場合には、L軸方向の正側から数えて偶数番目にあるインダクタのコイル導体のコイル軸と実装面10bとの間の距離は互いに等しくてもよい。 The array type inductor 401 may include three inductors or may include five or more inductors. When the array type inductor 401 includes five or more inductors, even if the distance between the coil shaft of the coil conductor of the inductor at the odd number from the positive side in the L-axis direction and the mounting surface 10b is equal to each other. good. When the array type inductor 401 includes five or more inductors, even if the distance between the coil shaft of the coil conductor of the inductor located even-numbered from the positive side in the L-axis direction and the mounting surface 10b is equal to each other. good.

続いて、本発明の一実施形態によるアレイ型インダクタ1の例示的な製造方法について説明する。この製造方法の説明のために、図2が適宜参照される。本発明の一又は複数の実施形態において、アレイ型インダクタ1は、磁性体シートを積層するシート積層法により作製される。シート積層法によりアレイ型インダクタ1を作製する場合には、まず磁性体シートを準備する。磁性体シートは、例えば、軟磁性材料から成る金属磁性粒子と樹脂とを混練して得られたスラリーから、ドクターブレード式シート成形機等の各種シート成形機を用いて作成される。金属磁性粒子と混練される樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂等の絶縁性に優れた樹脂が用いられ得る。 Subsequently, an exemplary manufacturing method of the array type inductor 1 according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is appropriately referred to for the purpose of explaining this manufacturing method. In one or more embodiments of the present invention, the array-type inductor 1 is manufactured by a sheet laminating method of laminating magnetic sheets. When the array type inductor 1 is manufactured by the sheet laminating method, a magnetic sheet is first prepared. The magnetic sheet is produced, for example, from a slurry obtained by kneading metal magnetic particles made of a soft magnetic material and a resin, using various sheet molding machines such as a doctor blade type sheet molding machine. As the resin to be kneaded with the metal magnetic particles, for example, a resin having excellent insulating properties such as polyvinyl butyral (PVB) resin and epoxy resin can be used.

磁性体シートは所定の形状に切断される。切断された磁性体シートの所定の位置には、厚さ方向に貫通する貫通孔が形成される。次に、所定形状に切断された磁性体シートに、スクリーン印刷等の公知の手法で導体ペーストを塗布することにより、焼成後にそれぞれが周回パターン26A1及び引出導体27A1となる複数の未焼成導体パターンが形成される。別の磁性体シートにも同様にして導体ペーストを塗布することにより、それぞれ焼成後に周回パターン26A2及び引出導体27A2となる複数の未焼成導体パターンが形成される。さらに別の磁性体シートに導体ペーストを塗布することにより、それぞれ焼成後に周回パターン26B1及び引出導体27B1となる複数の未焼成導体パターンが形成され、さらに別の磁性体シートにも同様にして導体ペーストを塗布することにより、それぞれ焼成後に周回パターン26B2及び引出導体27B2となる複数の未焼成導体パターンが形成される。未焼成導体パターンの形成時に、導体ペーストが磁性体シートの貫通孔内に埋め込まれる。この貫通孔内に埋め込まれた未焼成のビア(未焼成ビア)が焼成後にビアVA、VBとなる。この導体ペーストは、例えば、Ag、Cu又はこれらの合金及び樹脂を混練することで得られる。 The magnetic sheet is cut into a predetermined shape. Through holes penetrating in the thickness direction are formed at predetermined positions of the cut magnetic sheet. Next, by applying the conductor paste to the magnetic sheet cut into a predetermined shape by a known method such as screen printing, a plurality of unfired conductor patterns, each of which becomes the circumferential pattern 26A1 and the extraction conductor 27A1 after firing, are formed. It is formed. By applying the conductor paste to another magnetic sheet in the same manner, a plurality of unfired conductor patterns that become the circumferential pattern 26A2 and the lead conductor 27A2 after firing are formed. By applying the conductor paste to yet another magnetic sheet, a plurality of unfired conductor patterns that become the circumferential pattern 26B1 and the lead conductor 27B1 after firing are formed, and the conductor paste is similarly applied to the other magnetic sheet. Is applied to form a plurality of unfired conductor patterns that become the circumferential pattern 26B2 and the lead conductor 27B2 after firing, respectively. During the formation of the unfired conductor pattern, the conductor paste is embedded in the through holes of the magnetic sheet. The unfired vias (unfired vias) embedded in the through holes become vias VA and VB after firing. This conductor paste can be obtained, for example, by kneading Ag, Cu or an alloy and resin thereof.

以上のようにして、未焼成導体パターン及び未焼成ビアが形成された磁性体シート、及び導体が形成されていない磁性体シートを積層することでマザー積層体が得られる。マザー積層体においては、隣接する未焼成導体パターン同士が未焼成ビアにより接続されて、焼成後にコイル導体25A、25Bとなる未焼成のコイルパターンが形成される。導体が形成されていない磁性体シートによりコイル導体25Aとコイル導体25Bとの間隔を調整することができる。 As described above, the mother laminated body can be obtained by laminating the magnetic material sheet on which the unfired conductor pattern and the unfired via are formed and the magnetic material sheet on which the conductor is not formed. In the mother laminate, adjacent unfired conductor patterns are connected to each other by unfired vias to form unfired coil patterns that become coil conductors 25A and 25B after firing. The distance between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B can be adjusted by the magnetic sheet on which the conductor is not formed.

次に、ダイシング機やレーザ加工機などの切断機を用いてマザー積層体を個片化することでチップ積層体が得られる。 Next, a chip laminate can be obtained by individualizing the mother laminate using a cutting machine such as a dicing machine or a laser processing machine.

次に、このチップ積層体に対して、600℃~850℃で20分間~120分間加熱処理を行う。この加熱処理により、チップ積層体が脱脂され、磁性体シート及び導体ペーストが焼成されて、コイル導体25A、25Bを内部に含む基体10が得られる。磁性体シートが熱硬化性樹脂を含む場合には、チップ積層体に対してより低温で加熱処理を行うことにより、当該熱硬化性樹脂を硬化させてもよい。この硬化された樹脂は、磁性体シートに含まれる金属磁性粒子同士を結着させる結着材となる。低温での加熱処理は、例えば、100℃~200℃の範囲の温度で20分間~120分間程度行われる。 Next, the chip laminate is heat-treated at 600 ° C. to 850 ° C. for 20 minutes to 120 minutes. By this heat treatment, the chip laminate is degreased, the magnetic sheet and the conductor paste are fired, and the substrate 10 containing the coil conductors 25A and 25B is obtained. When the magnetic sheet contains a thermosetting resin, the thermosetting resin may be cured by heat-treating the chip laminate at a lower temperature. This cured resin serves as a binder for binding the metal magnetic particles contained in the magnetic sheet. The heat treatment at a low temperature is performed, for example, at a temperature in the range of 100 ° C. to 200 ° C. for about 20 minutes to 120 minutes.

次に、加熱処理されたチップ積層体(すなわち、基体10)の表面に導体ペーストを塗布することにより、外部電極21A、22A、21B、22Bを形成する。以上の工程により、アレイ型インダクタ1が得られる。アレイ型インダクタ101、201、301、401も、アレイ型インダクタ1と同様の製造方法により製造され得る。 Next, the external electrodes 21A, 22A, 21B, and 22B are formed by applying the conductor paste to the surface of the heat-treated chip laminate (that is, the substrate 10). By the above steps, the array type inductor 1 is obtained. The array-type inductors 101, 201, 301, and 401 can also be manufactured by the same manufacturing method as the array-type inductor 1.

上記の製造方法においては、その工程の一部を省略すること、明示的に説明されていない工程を追加すること、及び/又は工程の順序を入れ替えることが可能であり、このような省略、追加、順序の変更がなされた処理手順も本発明の趣旨を逸脱しない限り本発明の範囲に含まれる。 In the above manufacturing method, it is possible to omit a part of the steps, add steps not explicitly described, and / or change the order of the steps, and such omissions and additions. , The processing procedure in which the order is changed is also included in the scope of the present invention as long as it does not deviate from the gist of the present invention.

アレイ型インダクタ1の製造方法は、上述したものには限られない。アレイ型インダクタ1は、シート積層法以外の積層法(例えば、印刷積層法)、薄膜プロセス、圧縮成型プロセス、又は前記以外の公知の手法により作製されてもよい。 The method for manufacturing the array-type inductor 1 is not limited to that described above. The array-type inductor 1 may be manufactured by a laminating method other than the sheet laminating method (for example, a printing laminating method), a thin film process, a compression molding process, or a known method other than the above.

次に、上記の実施形態による作用効果について説明する。本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル軸Ax1及びコイル軸Ax2が基体10の実装面10bに平行となるようにコイル導体25A及びコイル導体25Bが配置されているので、アレイ型インダクタ1、101、201、301、401を実装面10bに沿う方向において小型化することができる。 Next, the action and effect of the above embodiment will be described. According to one or more embodiments of the present invention, the coil conductor 25A and the coil conductor 25B are arranged so that the coil shaft Ax1 and the coil shaft Ax2 are parallel to the mounting surface 10b of the substrate 10, so that the array type inductor is used. 1, 101, 201, 301, 401 can be miniaturized in the direction along the mounting surface 10b.

本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル軸Ax2がコイル軸Ax1から距離を隔てて配置されているので、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間での磁気的な干渉を弱めることができる。このため、コイル軸Ax1とコイル軸Ax2とが同軸になるように配置されたコイル導体25A及びコイル導体25Bを備えるアレイ型インダクタと比べて、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合を弱めることができる。既述のとおり、本発明の一又は複数の実施形態において、低インダクタンスを実現するために基体10の比透磁率は100以下とされる。基体10の比透磁率が100以下の場合には、コイル導体25Aから発生する磁束をコイル導体25Aの近傍に留め、コイル導体25Bから発生する磁束をコイル導体25Bの近傍に留めることが難しいため、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の距離G1を小さくすると、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の磁気的な結合が強められやすい。本発明の一又は複数の実施形態においては、上記のように、コイル軸Ax2がコイル軸Ax1から距離を隔てて配置されているので、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの間の距離G1が小さくても(例えば、0.3mm以下であっても)、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合を弱めることができる。 According to one or more embodiments of the present invention, since the coil shaft Ax2 is arranged at a distance from the coil shaft Ax1, the magnetic interference between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is weakened. Can be done. Therefore, as compared with the array type inductor having the coil conductor 25A and the coil conductor 25B arranged so that the coil shaft Ax1 and the coil shaft Ax2 are coaxial with each other, the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is improved. Can be weakened. As described above, in one or more embodiments of the present invention, the relative magnetic permeability of the substrate 10 is set to 100 or less in order to realize low inductance. When the specific magnetic permeability of the substrate 10 is 100 or less, it is difficult to keep the magnetic flux generated from the coil conductor 25A in the vicinity of the coil conductor 25A and the magnetic flux generated from the coil conductor 25B in the vicinity of the coil conductor 25B. When the distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is reduced, the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B tends to be strengthened. In one or more embodiments of the present invention, as described above, the coil shaft Ax2 is arranged at a distance from the coil shaft Ax1, so that the distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B is small. However (for example, even if it is 0.3 mm or less), the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B can be weakened.

よって、本発明の一又は複数の実施形態によれば、実装面10bに沿う方向において小型化が可能であり、インダクタ間の磁気的な結合が抑制されたアレイ型インダクタ1、101、201、301、401を提供することができる。 Therefore, according to one or more embodiments of the present invention, the array-type inductors 1, 101, 201, and 301 can be miniaturized in the direction along the mounting surface 10b and the magnetic coupling between the inductors is suppressed. , 401 can be provided.

本発明の一又は複数の実施形態によれば、基体10の比透磁率を100以下とすることで、低インダクタンスのアレイ型インダクタ1、101、201、301、401を得ることができる。本発明の一又は複数の実施形態によれば、基体10は、その全領域において、比透磁率が30~100の範囲にあるように構成されてもよい。基体10において比透磁率が30よりも小さい領域が存在すると、その領域が実質的に磁気ギャップとして機能する可能性がある。基体10に磁気ギャップとして機能し得る低透磁率領域が存在すると、コイル導体25A及びコイル導体25Bの一方から発生した磁束は、当該低透磁率領域を含まない磁路を通過するため、他方のコイル導体に対して干渉しやすくなる。また、基体10に磁気ギャップとして機能し得る低透磁率領域が存在すると、磁束漏れが発生し、アレイ型インダクタ1、101、201、301、401以外の素子への磁気的な干渉が大きくなってしまう。基体10の全領域において比透磁率を30~100の範囲とすることにより、基体10には磁気ギャップとして機能する領域が存在しなくなるため、アレイ型インダクタ1、101、201、301、401に含まれるコイル導体間の磁気的な結合を抑制することができ、また、アレイ型インダクタ1、101、201、301、401以外の素子に対する磁気的な干渉を抑制することができる。 According to one or more embodiments of the present invention, the low inductance array type inductors 1, 101, 201, 301, and 401 can be obtained by setting the relative magnetic permeability of the substrate 10 to 100 or less. According to one or more embodiments of the present invention, the substrate 10 may be configured such that the relative permeability is in the range of 30 to 100 in the entire region thereof. If there is a region of the substrate 10 having a relative permeability less than 30, that region may substantially function as a magnetic gap. When the substrate 10 has a low magnetic permeability region that can function as a magnetic gap, the magnetic flux generated from one of the coil conductor 25A and the coil conductor 25B passes through a magnetic path that does not include the low magnetic permeability region, and thus the other coil. It becomes easy to interfere with the conductor. Further, if the substrate 10 has a low magnetic permeability region that can function as a magnetic gap, magnetic flux leakage occurs, and magnetic interference with elements other than the array-type inductors 1, 101, 201, 301, and 401 becomes large. It ends up. By setting the relative magnetic permeability in the range of 30 to 100 in the entire region of the substrate 10, the region that functions as a magnetic gap does not exist in the substrate 10, and therefore, it is included in the array-type inductors 1, 101, 201, 301, and 401. Magnetic coupling between the coil conductors can be suppressed, and magnetic interference with elements other than the array-type inductors 1, 101, 201, 301, and 401 can be suppressed.

本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル軸Ax1に平行な方向における周回部26Aの断面の寸法a2に対するコイル軸Ax1に垂直な方向における周回部26Aの断面の寸法a1の比である第1アスペクト比が1より大きいので、周回パターン26A1を含む周回部26Aから発生する磁束がコイル軸Ax1に平行な方向よりも垂直な方向に向きやすくなる。このため、コイル導体25Aの周回部26Aから発生した磁束は、第1アスペクト比が1以下の周回部を有するインダクタから発生する磁束と比べて、コイル導体25Bまで到達しにくくなり、この結果、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合を抑制することができる。 According to one or more embodiments of the present invention, it is the ratio of the cross-sectional dimension a1 of the peripheral portion 26A in the direction perpendicular to the coil shaft Ax1 to the cross-sectional dimension a2 of the peripheral portion 26A in the direction parallel to the coil shaft Ax1. Since the first aspect ratio is larger than 1, the magnetic flux generated from the orbiting portion 26A including the orbiting pattern 26A1 is more likely to be directed in the direction perpendicular to the direction parallel to the coil axis Ax1 than in the direction parallel to the coil axis Ax1. Therefore, the magnetic flux generated from the peripheral portion 26A of the coil conductor 25A is less likely to reach the coil conductor 25B than the magnetic flux generated from the inductor having the peripheral portion having the first aspect ratio of 1 or less, and as a result, the coil. It is possible to suppress the magnetic coupling between the conductor 25A and the coil conductor 25B.

本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル導体25Bの周回部26Bに含まれる周回パターン26B1、26B2の第2アスペクト比が1より大きくてもよい。この場合、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合をさらに抑制することができる。 According to one or more embodiments of the present invention, the second aspect ratio of the circumferential patterns 26B1 and 26B2 included in the circumferential portion 26B of the coil conductor 25B may be larger than 1. In this case, the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B can be further suppressed.

本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル導体25Cの周回部26Cに含まれる周回パターン26C1、26C2の第3アスペクト比が1より大きくてもよい。この場合、コイル導体25Cと他のコイル導体(例えば、コイル導体25B、25D)との磁気的な結合を抑制することができる。本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル導体25Dの周回部26Dに含まれる周回パターン26D1、26D2の第4アスペクト比も1より大きくてもよい。この場合、コイル導体25Dと他のコイル導体(例えば、コイル導体25C)との磁気的な結合を抑制することができる。 According to one or more embodiments of the present invention, the third aspect ratio of the circumferential patterns 26C1 and 26C2 included in the circumferential portion 26C of the coil conductor 25C may be larger than 1. In this case, it is possible to suppress the magnetic coupling between the coil conductor 25C and another coil conductor (for example, coil conductors 25B and 25D). According to one or more embodiments of the present invention, the fourth aspect ratio of the circumferential patterns 26D1 and 26D2 included in the circumferential portion 26D of the coil conductor 25D may also be larger than 1. In this case, it is possible to suppress the magnetic coupling between the coil conductor 25D and another coil conductor (for example, the coil conductor 25C).

本発明の一又は複数の実施形態によれば、周回パターン26A1、26A2は、コイル軸Ax1を通る断面において角がない形状を有している。よって、コイル導体25Aの周回パターン26A1、26A2から発生する磁束が周回パターン26A1、26A2の断面の中心のより近くを通過しやすくなる。このため、コイル導体25Aの周回パターン26A1、26A2から発生した磁束が他のコイル導体(例えば、コイル導体25B)まで到達しにくくなり、この結果、コイル導体25Aと他のコイル導体との磁気的な結合を抑制することができる。本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル導体25A以外のコイル導体を構成する周回パターンが、各々のコイル軸を通る断面において角がない形状を有していてもよい。これにより、当該コイル導体と他のコイル導体との磁気的な結合を抑制することができる。 According to one or more embodiments of the present invention, the orbital patterns 26A1 and 26A2 have a shape having no corner in a cross section passing through the coil shaft Ax1. Therefore, the magnetic flux generated from the orbital patterns 26A1 and 26A2 of the coil conductor 25A can easily pass closer to the center of the cross section of the orbiting patterns 26A1 and 26A2. Therefore, it becomes difficult for the magnetic flux generated from the orbital patterns 26A1 and 26A2 of the coil conductor 25A to reach another coil conductor (for example, the coil conductor 25B), and as a result, the magnetic flux between the coil conductor 25A and the other coil conductor is magnetic. Binding can be suppressed. According to one or more embodiments of the present invention, the orbital pattern constituting the coil conductor other than the coil conductor 25A may have a shape having no corner in the cross section passing through each coil axis. This makes it possible to suppress the magnetic coupling between the coil conductor and another coil conductor.

本発明の一又は複数の実施形態によるアレイ型インダクタ401においては、れば、コイル導体25B及びコイル導体25Cは、コイル軸Ax2に沿う方向において、コイル導体25Aとコイル導体25Dとの間に配置されている。よって、コイル導体25Bから発生する磁束及びコイル導体25Cから発生する磁束は、コイル導体25A、25Dから発生する磁束と比べて基体10の外に漏れにくい。他方、コイル導体25Aは、コイル軸Ax1に沿う方向において基体10の第2端面10dと対向しているので、コイル導体25Aから発生する磁束は、基体10から外に漏れやすい。同様に、コイル導体25Dは、コイル軸Ax4に沿う方向において基体10の第1端面10cと対向しているので、コイル導体25Dから発生する磁束は、基体10から外に漏れやすい。このため、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの磁気的な結合は、コイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合及びコイル導体25Cとコイル導体25Dとの磁気的な結合よりも強くなりやすい。本発明の一又は複数の実施形態によれば、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの間の間隔G2をコイル導体25Aとコイル導体25Bとの間隔G1をよりも大きくすることで、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの磁気的な結合を弱め、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの磁気的な結合の強さをコイル導体25Aとコイル導体25Bとの磁気的な結合の強さと同程度に弱くすることができる。また、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの間の間隔G2をコイル導体25Cとコイル導体25Dとの間隔G3をよりも大きくすることで、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの磁気的な結合を弱め、コイル導体25Bとコイル導体25Cとの磁気的な結合の強さをコイル導体25Cとコイル導体25Dとの磁気的な結合の強さと同程度に弱くすることができる。 In the array-type inductor 401 according to one or more embodiments of the present invention, the coil conductor 25B and the coil conductor 25C are arranged between the coil conductor 25A and the coil conductor 25D in the direction along the coil axis Ax2. ing. Therefore, the magnetic flux generated from the coil conductor 25B and the magnetic flux generated from the coil conductor 25C are less likely to leak to the outside of the substrate 10 than the magnetic flux generated from the coil conductors 25A and 25D. On the other hand, since the coil conductor 25A faces the second end surface 10d of the substrate 10 in the direction along the coil shaft Ax1, the magnetic flux generated from the coil conductor 25A tends to leak out from the substrate 10. Similarly, since the coil conductor 25D faces the first end surface 10c of the substrate 10 in the direction along the coil shaft Ax4, the magnetic flux generated from the coil conductor 25D tends to leak out from the substrate 10. Therefore, the magnetic coupling between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C tends to be stronger than the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B and the magnetic coupling between the coil conductor 25C and the coil conductor 25D. .. According to one or more embodiments of the present invention, the distance G2 between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C is set to be larger than the distance G1 between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B to obtain the coil conductor 25B. The magnetic coupling with the coil conductor 25C is weakened, and the strength of the magnetic coupling between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C is weakened to the same level as the strength of the magnetic coupling between the coil conductor 25A and the coil conductor 25B. be able to. Further, by making the distance G2 between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C larger than the distance G3 between the coil conductor 25C and the coil conductor 25D, the magnetic coupling between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C is weakened. The strength of the magnetic coupling between the coil conductor 25B and the coil conductor 25C can be weakened to the same extent as the strength of the magnetic coupling between the coil conductor 25C and the coil conductor 25D.

本明細書で説明された各構成要素の寸法、材料、及び配置は、実施形態中で明示的に説明されたものに限定されず、この各構成要素は、本発明の範囲に含まれ得る任意の寸法、材料、及び配置を有するように変形することができる。また、本明細書において明示的に説明していない構成要素を、説明した実施形態に付加することもできるし、各実施形態において説明した構成要素の一部を省略することもできる。 The dimensions, materials, and arrangement of each component described herein are not limited to those expressly described in the embodiments, and each component may be included within the scope of the present invention. Can be modified to have the dimensions, materials, and arrangement of. In addition, components not explicitly described in the present specification may be added to the described embodiments, or some of the components described in each embodiment may be omitted.

1、101、201、301、401 アレイ型インダクタ
2 回路基板
10 基体
25A、25B、25C、25D、125A、125B、225A、225B、325A、325B コイル導体
Ax1、Ax2、Ax3、Ax4 コイル軸
1, 101, 201, 301, 401 Array type inductor 2 Circuit board 10 Base 25A, 25B, 25C, 25D, 125A, 125B, 225A, 225B, 325A, 325B Coil conductor Ax1, Ax2, Ax3, Ax4 Coil shaft

上記のとおり、アレイ型インダクタ1の基体10の比透磁率は100以下の小さな値を取るため、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLも小さな値をとる。このように、各系統のインダクタのインダクタンスが低いため、アレイ型インダクタ1においては磁気飽和が起こりにくい。したがって、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタには、大電流を流すことができる。よって、本発明の一又は複数の実施形態において、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタにおいては、そのインダクタンスLと流れる電流Iの二乗の積との積を各インダクタの体積Vで除した値で表されるエネルギー密度Ed(つまり、Ed=LxI2 /Vである。)を大きくすることができる。例えば、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを100nHより小さくしたときに、Edを1500nH・A/mm3とすることができる。また、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを50nHより小さくしたときに、Edを2000nH・A/mm3とすることができる。また、アレイ型インダクタ1の各系統のインダクタのインダクタンスLを25nHより小さくしたときに、Edを2500nH・A/mm3とすることができる。
As described above, since the relative magnetic permeability of the substrate 10 of the array type inductor 1 takes a small value of 100 or less, the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 also takes a small value. As described above, since the inductance of the inductors of each system is low, magnetic saturation is unlikely to occur in the array-type inductor 1. Therefore, a large current can be passed through the inductors of each system of the array type inductor 1. Therefore, in one or more embodiments of the present invention, in the inductor of each system of the array type inductor 1, the product of the inductance L and the product of the square of the flowing current I is divided by the volume V of each inductor. The expressed energy density Ed (that is, Ed = LxI 2 / V ) can be increased. For example, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 100 nH, Ed can be set to 1500 nH · A / mm 3 . Further, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 50 nH, Ed can be set to 2000 nH · A / mm 3 . Further, when the inductance L of the inductors of each system of the array type inductor 1 is made smaller than 25 nH, Ed can be set to 2500 nH · A / mm 3 .

Claims (20)

複数の金属磁性粒子を含み第1面を有する基体と、
前記基体内に設けられており、前記第1面から第1距離だけ離れた位置で前記第1面に平行な方向に延びる第1コイル軸の周りに巻かれた第1周回部を有する第1コイル導体と、
前記基体内に設けられており、前記第1面から前記第1距離よりも大きい第2距離だけ離れた位置で前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第2コイル軸の周りに巻かれた第2周回部を有する第2コイル導体と、
少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第1コイル導体の一端に接続される第1外部電極と、
少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第1コイル導体の他端に接続される第2外部電極と、
少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第2コイル導体の一端に接続される第3外部電極と、
少なくとも前記第1面に接するように前記基体に設けられ、前記第2コイル導体の他端に接続される第4外部電極と、
を備えるアレイ型インダクタ。
A substrate containing a plurality of metallic magnetic particles and having a first surface,
A first circuit provided in the substrate and having a first circumferential portion wound around a first coil shaft extending in a direction parallel to the first surface at a position separated from the first surface by a first distance. With coil conductor,
It is wound around a second coil shaft which is provided in the substrate and extends in a direction parallel to the first coil shaft at a position separated from the first surface by a second distance larger than the first distance. A second coil conductor having a second circuit and
A first external electrode provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface and connected to one end of the first coil conductor.
A second external electrode provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface and connected to the other end of the first coil conductor.
A third external electrode provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface and connected to one end of the second coil conductor.
A fourth external electrode provided on the substrate so as to be in contact with at least the first surface and connected to the other end of the second coil conductor.
Array type inductor with.
前記第1コイル軸に沿う方向における前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との間の間隔は、0.3mm以下である、
請求項1に記載のアレイ型インダクタ。
The distance between the first coil conductor and the second coil conductor in the direction along the first coil axis is 0.3 mm or less.
The array type inductor according to claim 1.
前記基体の比透磁率が100以下である、
請求項1又は2に記載のアレイ型インダクタ。
The specific magnetic permeability of the substrate is 100 or less.
The array type inductor according to claim 1 or 2.
前記第1周回部は、前記第1コイル軸の周りに1.5ターン以下だけ巻かれており、
前記第2周回部は、前記第2コイル軸の周りに1.5ターン以下だけ巻かれている、
請求項1から3のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The first circuit portion is wound around the first coil shaft for 1.5 turns or less.
The second circuit portion is wound around the second coil shaft by 1.5 turns or less.
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 3.
前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状は、前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状と同一である、
請求項1から4のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The shape of the first peripheral portion seen from the direction of the first coil shaft is the same as the shape of the second peripheral portion seen from the direction of the second coil shaft.
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 4.
前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との結合係数の絶対値は0.15以下である、
請求項1から5のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The absolute value of the coupling coefficient between the first coil conductor and the second coil conductor is 0.15 or less.
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 5.
前記第1コイル軸に平行な方向における前記第1周回部の断面の寸法に対する前記第1コイル軸に垂直な方向における前記第1周回部の断面の寸法の比である第1アスペクト比が1より大きい、
請求項1から6のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The first aspect ratio, which is the ratio of the dimension of the cross section of the first circuit in the direction perpendicular to the first coil axis to the dimension of the cross section of the first circuit in the direction parallel to the first coil axis, is 1 or more. big,
The array type inductor according to any one of claims 1 to 6.
前記第2コイル軸に平行な方向における前記第2周回部の断面の寸法に対する前記第2コイル軸に垂直な方向における前記第2周回部の断面の寸法の比である第2アスペクト比が1より大きい、
請求項1から7のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The second aspect ratio, which is the ratio of the dimension of the cross section of the second circuit in the direction perpendicular to the second coil axis to the dimension of the cross section of the second circuit in the direction parallel to the second coil axis, is 1 or more. big,
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 7.
前記第1周回部は、前記第1コイル軸の周りに延びる第1周回パターンを有し、
前記第1周回パターンは、前記第1コイル軸を通る断面において角がない形状を有している、
請求項1から8のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The first orbital portion has a first orbital pattern extending around the first coil shaft.
The first circuit pattern has a shape having no angle in a cross section passing through the first coil shaft.
The array type inductor according to any one of claims 1 to 8.
前記基体は、前記第1面と接続されている第1端面を有し、
前記第1コイル導体は、前記第1周回部の一端に接続され前記第1端面に沿って延びる第1引出導体を有し、
前記第1外部電極は、前記第1引出導体を介して前記第1コイル導体に接続されている、
請求項1から9のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The substrate has a first end surface that is connected to the first surface.
The first coil conductor has a first lead conductor that is connected to one end of the first circumferential portion and extends along the first end face.
The first external electrode is connected to the first coil conductor via the first lead conductor.
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 9.
前記基体内に前記第2コイル導体に対して前記第1コイル導体と反対側に設けられており、前記第2距離よりも小さい第3距離だけ前記第1面から離れていて前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第3コイル軸の周りに巻かれた第3周回部を有する第3コイル導体と、
前記第3コイル導体の一端に接続される第5外部電極と、
前記第3コイル導体の他端に接続される第6外部電極と、
を備える請求項1から10のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The first coil shaft is provided in the substrate on the side opposite to the first coil conductor with respect to the second coil conductor, and is separated from the first surface by a third distance smaller than the second distance. A third coil conductor having a third coil wound around a third coil shaft extending in a direction parallel to the third coil conductor.
A fifth external electrode connected to one end of the third coil conductor,
A sixth external electrode connected to the other end of the third coil conductor,
The array-type inductor according to any one of claims 1 to 10.
前記第3距離は、前記第1距離と等しい、
請求項11に記載のアレイ型インダクタ。
The third distance is equal to the first distance,
The array type inductor according to claim 11.
前記第3コイル軸の方向から見た前記第3周回部の形状は、前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状及び前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状の少なくとも一方と同一である、
請求項11又は12に記載のアレイ型インダクタ。
The shape of the third circuit seen from the direction of the third coil shaft is the shape of the first circuit seen from the direction of the first coil shaft and the shape of the second circuit seen from the direction of the second coil shaft. It has the same shape as at least one of the orbits,
The array type inductor according to claim 11 or 12.
前記基体は、前記第1面と接続されている第1端面を有し、
前記第1コイル導体は、前記第1コイル軸に沿う方向において前記基体の前記第1端面と対向するように配置されており、
前記第1コイル軸に沿う方向における前記第2コイル導体と前記第3コイル導体との間の間隔は、前記第1コイル軸に沿う方向における前記第1コイル導体と前記第2コイル導体との間の間隔よりも大きい、
請求項11から13のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The substrate has a first end surface that is connected to the first surface.
The first coil conductor is arranged so as to face the first end surface of the substrate in a direction along the first coil axis.
The distance between the second coil conductor and the third coil conductor in the direction along the first coil axis is between the first coil conductor and the second coil conductor in the direction along the first coil axis. Greater than the interval between
The array-type inductor according to any one of claims 11 to 13.
前記基体内に前記第3コイル導体に対して前記第2コイル導体と反対側に設けられており、前記第3距離よりも大きい第4距離だけ前記第1面から離れていて前記第1コイル軸と平行な方向に延びる第4コイル軸の周りに巻かれた第4周回部を有する第4コイル導体と、
前記第4コイル導体の一端に接続される第7外部電極と、
前記第3コイル導体の他端に接続される第8外部電極と、
を備える請求項11から14のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The first coil shaft is provided in the substrate on the side opposite to the second coil conductor with respect to the third coil conductor, and is separated from the first surface by a fourth distance larger than the third distance. A fourth coil conductor with a fourth coil wound around a fourth coil shaft extending in a direction parallel to
A seventh external electrode connected to one end of the fourth coil conductor,
An eighth external electrode connected to the other end of the third coil conductor,
The array-type inductor according to any one of claims 11 to 14.
前記第4距離は、前記第2距離と等しい、
請求項15に記載のアレイ型インダクタ。
The fourth distance is equal to the second distance,
The array-type inductor according to claim 15.
前記第4コイル軸の方向から見た前記第4周回部の形状は、前記第1コイル軸の方向から見た前記第1周回部の形状、前記第2コイル軸の方向から見た前記第2周回部の形状、及び前記第3コイル軸の方向から見た前記第3周回部の形状の少なくとも1つと同一である、
請求項15又は16に記載のアレイ型インダクタ。
The shape of the fourth circuit portion viewed from the direction of the fourth coil shaft is the shape of the first circuit portion viewed from the direction of the first coil shaft, and the shape of the second circuit portion viewed from the direction of the second coil shaft. It is the same as at least one of the shape of the peripheral portion and the shape of the third peripheral portion as viewed from the direction of the third coil shaft.
The array type inductor according to claim 15 or 16.
前記基体は、前記第1面と接続されており前記第1端面と対向する第2端面を有し、
前記第4コイル導体は、前記第1コイル軸に沿う方向において前記基体の前記第2端面と対向するように配置されており、
前記第3コイル軸に沿う方向における前記第2コイル導体と前記第3コイル導体との間の間隔は、前記第3コイル軸に沿う方向における前記第3コイル導体と前記第4コイル導体との間の間隔よりも大きい、
請求項15から17のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタ。
The substrate has a second end surface that is connected to the first surface and faces the first end surface.
The fourth coil conductor is arranged so as to face the second end surface of the substrate in a direction along the first coil axis.
The distance between the second coil conductor and the third coil conductor in the direction along the third coil axis is between the third coil conductor and the fourth coil conductor in the direction along the third coil axis. Greater than the interval between
The array-type inductor according to any one of claims 15 to 17.
請求項1から18のいずれか1項に記載のアレイ型インダクタを備える回路基板。 A circuit board comprising the array-type inductor according to any one of claims 1 to 18. 請求項19に記載の回路基板を備える電子機器。 The electronic device provided with the circuit board according to claim 19.
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