JP2021182595A - Method for manufacturing electronic component - Google Patents
Method for manufacturing electronic component Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021182595A JP2021182595A JP2020087619A JP2020087619A JP2021182595A JP 2021182595 A JP2021182595 A JP 2021182595A JP 2020087619 A JP2020087619 A JP 2020087619A JP 2020087619 A JP2020087619 A JP 2020087619A JP 2021182595 A JP2021182595 A JP 2021182595A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- element body
- sheet
- foam sheet
- foamed sheet
- foamed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims abstract description 163
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims description 48
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 21
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 143
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 103
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 91
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 91
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 11
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N Butylbenzyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- -1 CaZrO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、たとえば積層セラミックコンデンサなどの電子部品を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing an electronic component such as a monolithic ceramic capacitor.
たとえば積層セラミックコンデンサなどの電子部品を製造する過程で、素子本体の外面に端子電極を形成する工程を有する。素子本体の外面に端子電極を形成するために、たとえば特許文献1に示すように、発泡シートを用いて端子電極を形成する方法が提案されている。この特許文献1に示す方法では、振動可能な整列治具を利用して、素子本体の内部導体の露出面を発泡シートの表面に付着させている。 For example, in the process of manufacturing an electronic component such as a monolithic ceramic capacitor, there is a step of forming a terminal electrode on the outer surface of the element body. In order to form a terminal electrode on the outer surface of the element body, for example, as shown in Patent Document 1, a method of forming a terminal electrode using a foamed sheet has been proposed. In the method shown in Patent Document 1, the exposed surface of the internal conductor of the element body is attached to the surface of the foam sheet by using a vibrating alignment jig.
この特許文献1に示す方法では、素子本体の長手方向の端部に内部導体の露出面が形成してある場合には、整列治具を用いて、素子本体の内部導体の露出面を発泡シートの表面に付着させることは可能である。しかしながら、この方法では、チップ(素子本体)の寸法に合わせた治具が必要となり、しかも、選択的にチップを整列治具の孔に入れるためには歩留まりが悪く、非効率である。また、選択的にチップの向きを決めるのが難しい。結果として、素子本体の外面の内の特定の幅の広い外面を、発泡シートの表面に付着させて、端子電極などを形成することは困難である。素子本体の外面の内の幅が広い外面は、整列治具の孔に選択的に入り込ませることは困難だからである。 In the method shown in Patent Document 1, when the exposed surface of the inner conductor is formed at the end portion in the longitudinal direction of the element body, the exposed surface of the inner conductor of the element body is formed into a foam sheet by using an alignment jig. It is possible to attach it to the surface of the. However, this method requires a jig that matches the dimensions of the chip (element body), and is inefficient because the yield is poor in order to selectively insert the chip into the hole of the alignment jig. Also, it is difficult to selectively determine the orientation of the chip. As a result, it is difficult to attach a specific wide outer surface inside the outer surface of the element body to the surface of the foamed sheet to form a terminal electrode or the like. This is because it is difficult to selectively insert the wide outer surface of the outer surface of the element body into the hole of the alignment jig.
最近では、端子電極が形成される前の素子本体の外側面に、内部電極層の端部を露出させ、その外側面にサイドギャップ用セラミック膜またはサイドギャップ用ガラス膜を形成することがある。内部電極層のパターンズレなどを防止すると共に、内部電極層の面積確保などの理由による。このように素子本体のサイドギャップ用外面にセラミック膜またはガラス膜を形成するために、特許文献1に示す方法を採用しようとする場合には、整列治具の振動により、素子本体の内部導体の露出面に衝撃が加わるおそれがある。素子本体の内部導体の露出面に衝撃が加わると、導体ゴミなどが発生し、短絡不良や絶縁不良の原因となるおそれがある。 Recently, the end portion of the internal electrode layer may be exposed on the outer surface of the element body before the terminal electrode is formed, and a side gap ceramic film or a side gap glass film may be formed on the outer surface thereof. This is because the pattern shift of the internal electrode layer is prevented and the area of the internal electrode layer is secured. When the method shown in Patent Document 1 is to be adopted in order to form the ceramic film or the glass film on the outer surface for the side gap of the element body in this way, the vibration of the alignment jig causes the inner conductor of the element body to be formed. Impact may be applied to the exposed surface. If an impact is applied to the exposed surface of the internal conductor of the element body, conductor dust or the like may be generated, which may cause short-circuit failure or insulation failure.
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、接続不良や短絡不良などを生じさせることなく、容易に電子部品を製造することが可能な電子部品の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such an actual situation, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic component, which can easily manufacture an electronic component without causing a connection failure, a short circuit failure, or the like. be.
上記目的を達成するために、本発明の第1の観点に係る電子部品の製造方法は、
素子本体の内部に位置する導体の一部が露出していない前記素子本体の相互に反対側に位置する一対の非露出外面の内の一方が第1発泡シートに接触するように、前記素子本体を前記第1発泡シートの上に搬送する工程と、
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を転がして、前記導体の一部が露出している一方の露出外面が接触するように、前記素子本体を第1発泡シートに保持する工程と、
前記第1発泡シートに保持してある前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度より低い温度で他方の前記機能部を乾燥させる工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度以上の温度で前記第1発泡シートを加熱して他方の前記機能部が形成された前記素子本体を転写部材に転写する工程と、
前記転写部材に転写された前記素子本体の一方の前記露出外面に一方の前記機能部を形成する工程と、を有する。
In order to achieve the above object, the method for manufacturing an electronic component according to the first aspect of the present invention is:
The element body is such that one of the pair of unexposed outer surfaces located on opposite sides of the element body is in contact with the first foam sheet so that a part of the conductor located inside the element body is not exposed. In the process of transporting the above first foam sheet onto the first foam sheet,
A step of rolling the element body on the first foam sheet and holding the element body on the first foam sheet so that the exposed outer surface of one of the exposed conductors comes into contact with the element body.
A step of forming the other functional portion on the other exposed outer surface of the element body held by the first foam sheet, and a step of forming the other functional portion.
A step of drying the other functional part at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet, and
A step of heating the first foamed sheet at a temperature equal to or higher than the foaming temperature of the first foamed sheet to transfer the element main body on which the other functional portion is formed to a transfer member.
The present invention comprises a step of forming one of the functional portions on the exposed outer surface of one of the element main bodies transferred to the transfer member.
本発明の電子部品の製造方法では、主面(内部導体の露出面でない非露出外面)の内の一方が第1発泡シートに接触するように、前記素子本体を前記第1発泡シートの上に搬送する。そのため、素子本体の主面以外の露出外面に形成してある内部導体の露出面に、振動する搬送部によるダメージが加わらない。その結果、素子本体に機能部を形成する際に、接続不良や短絡不良などが発生し難い。 In the method for manufacturing an electronic component of the present invention, the element body is placed on the first foam sheet so that one of the main surfaces (non-exposed outer surface of the inner conductor, which is not the exposed surface) is in contact with the first foam sheet. Transport. Therefore, the exposed surface of the internal conductor formed on the exposed outer surface other than the main surface of the element main body is not damaged by the vibrating transport portion. As a result, when forming a functional portion in the element body, poor connection or short circuit is unlikely to occur.
また、本発明の方法では、第1発泡シートの上で、前記素子本体を転がして、前記導体の一部が露出している一方の外面(露出外面)が接触するように、前記素子本体を第1発泡シートに保持する。そのため、機能部を形成しようとする外面を、第1発泡シートの上で、第1発泡シートに付着している外面と反対側に容易に位置させることができる。また、第1発泡シートの表面で、素子本体を転がすのみであるために、素子本体における導体の一部が露出している外面に対するダメージが少ない。また、素子本体の外面(露出外面または非露出外面)に付着しているゴミなどを第1発泡シートの表面の粘着面に付着させて除去することも可能である。 Further, in the method of the present invention, the element body is rolled on the first foam sheet so that the element body is brought into contact with one outer surface (exposed outer surface) on which a part of the conductor is exposed. Hold on the first foam sheet. Therefore, the outer surface on which the functional portion is to be formed can be easily positioned on the first foam sheet on the side opposite to the outer surface adhering to the first foam sheet. Further, since the element body is only rolled on the surface of the first foam sheet, there is little damage to the outer surface where a part of the conductor in the element body is exposed. It is also possible to remove dust and the like adhering to the outer surface (exposed outer surface or non-exposed outer surface) of the element body by adhering it to the adhesive surface of the surface of the first foam sheet.
多数の素子本体を、第1発泡シートに保持した状態で、素子本体の第1発泡シートに保持された一方の外面(露出外面)とは反対側の外面に、容易にペースト膜などの機能部を形成することができる。また、第1発泡シートの発泡温度より低い温度で機能部を乾燥させることで、多数の素子本体を第1発泡シートに保持した状態で、シートから剥がれ落とすことなく、同時に多数の素子本体の乾燥が可能になる。 With a large number of element bodies held in the first foam sheet, functional parts such as a paste film can be easily applied to the outer surface on the side opposite to one outer surface (exposed outer surface) held in the first foam sheet of the element body. Can be formed. Further, by drying the functional part at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet, a large number of element bodies are held in the first foamed sheet, and a large number of element bodies are dried at the same time without peeling off from the sheet. Will be possible.
また、接着力の弱い転写部材にも機能部を接触させて転写できるため、機能部に対するダメージが少なく、機能部に傷や欠陥などが生じにくい。そして、第1発泡シートの発泡温度以上で加熱することで、容易に、素子本体を第1発泡シートから転写部材に転写することができる。さらに、素子本体が、機能部が形成してある素子本体の一方の外面(露出外面)が転写部材に保持されることで、素子本体の転写部材に保持された外面とは反対側の外面に、容易にペースト膜などの機能部を形成することができる。 Further, since the functional portion can be transferred by contacting the transfer member having a weak adhesive force, the functional portion is less damaged and the functional portion is less likely to be scratched or defective. Then, by heating at a temperature equal to or higher than the foaming temperature of the first foamed sheet, the element main body can be easily transferred from the first foamed sheet to the transfer member. Further, the element body is held on one outer surface (exposed outer surface) of the element body on which the functional portion is formed by the transfer member, so that the element body is on the outer surface opposite to the outer surface held by the transfer member of the element body. , A functional part such as a paste film can be easily formed.
機能部としては、たとえば端子電極、またはサイドギャップ用絶縁膜(ガラス膜、セラミック膜あるいは樹脂膜)などが例示される。本発明の方法では、導体が露出している素子本体の外面に、サイドギャップ用絶縁膜などの絶縁性機能部を形成することで、素子本体の内部に形成してある内部電極層などを有効に保護し、しかも、これらの内部電極層の短絡などを有効に防止することができる。また、その導体が露出している素子本体の外面に、端子電極などの導電性機能部を形成することで、接続不良などを生じることなく、素子本体の内部に形成してある内部電極層などに端子電極を良好に接続することが可能となる。 Examples of the functional unit include terminal electrodes, side gap insulating films (glass film, ceramic film, or resin film). In the method of the present invention, an insulating functional portion such as an insulating film for a side gap is formed on the outer surface of the element body where the conductor is exposed, so that the internal electrode layer formed inside the element body is effective. Moreover, it is possible to effectively prevent short circuits of these internal electrode layers. Further, by forming a conductive functional part such as a terminal electrode on the outer surface of the element body where the conductor is exposed, an internal electrode layer formed inside the element body without causing a connection failure or the like. It is possible to connect the terminal electrodes to the above.
好ましくは、前記素子本体を挟むように、前記第1発泡シートの上に、第2発泡シートを配置し、前記第1発泡シートに対して前記第2発泡シートを、少なくとも前記第1発泡シートの面に平行な第1軸に沿って相対移動させ、前記第1発泡シートの上で前記素子本体を転がす。 Preferably, the second foamed sheet is arranged on the first foamed sheet so as to sandwich the element main body, and the second foamed sheet is placed on the first foamed sheet at least in the first foamed sheet. The element body is rolled on the first foam sheet by relatively moving along the first axis parallel to the surface.
発泡シートの表面は粘着性を有し、第1発泡シートに対して前記第2発泡シートを、少なくとも前記第1発泡シートの面に平行な第1軸に沿って相対移動させることで、これらのシートの間で、素子本体を容易に転がすことができる。その結果、機能部を形成しようとする露出外面を、第1発泡シートの上で、第1発泡シートに付着している露出外面と反対側に容易に位置させることができる。 The surface of the foamed sheet has adhesiveness, and by moving the second foamed sheet relative to the first foamed sheet along a first axis parallel to at least the surface of the first foamed sheet, these The element body can be easily rolled between the sheets. As a result, the exposed outer surface on which the functional portion is to be formed can be easily positioned on the first foamed sheet on the side opposite to the exposed outer surface adhering to the first foamed sheet.
また、第1発泡シートと第2発泡シートの間で、素子本体を転がすのみであるために、素子本体における導体の一部が露出している外面(露出外面)に対するダメージが少ない。また、素子本体の外面(露出外面または非露出外面)に付着しているゴミなどを、これらの発泡シートの表面の粘着面に付着させて除去することも可能である。 Further, since the element body is only rolled between the first foam sheet and the second foam sheet, there is little damage to the exposed outer surface (exposed outer surface) of the conductor in the element body. Further, it is also possible to remove dust and the like adhering to the outer surface (exposed outer surface or non-exposed outer surface) of the element body by adhering to the adhesive surface of the surface of these foam sheets.
好ましくは、前記第2発泡シートの発泡温度が、前記第1発泡シートの発泡温度よりも低く、
前記第1発泡シートの上で前記素子本体を転がした後に、前記第1発泡シートの発泡温度よりも低く前記第2発泡シートの発泡温度以上の温度で加熱し、前記第2発泡シートを前記素子本体から引き離す。
Preferably, the foaming temperature of the second foamed sheet is lower than the foaming temperature of the first foamed sheet.
After rolling the element body on the first foamed sheet, the element body is heated at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet and higher than the foaming temperature of the second foamed sheet, and the second foamed sheet is heated to the element. Pull it away from the main body.
第2発泡シートの発泡温度以上の温度で加熱することで、第2発泡シートの表面の粘着性が低下し、素子本体にダメージを付与することなく、第2発泡シートから素子本体を容易に引き離すことができる。 By heating at a temperature equal to or higher than the foaming temperature of the second foam sheet, the adhesiveness of the surface of the second foam sheet is reduced, and the element body can be easily separated from the second foam sheet without damaging the element body. be able to.
好ましくは、前記転写部材が、第3発泡シートであり、前記第3発泡シートの発泡温度が前記第1発泡シートの発泡温度よりも高く、
前記第1発泡シートから前記第3発泡シートに前記素子本体を転写する際には、前記第3発泡シートの発泡温度より低く、前記第1発泡シートの発泡温度よりも高い温度で前記第1発泡シートを加熱し、前記素子本体を前記第1発泡シートから前記第3発泡シートに転写する。
Preferably, the transfer member is a third foamed sheet, and the foaming temperature of the third foamed sheet is higher than the foaming temperature of the first foamed sheet.
When the element body is transferred from the first foamed sheet to the third foamed sheet, the first foamed sheet is at a temperature lower than the foaming temperature of the third foamed sheet and higher than the foaming temperature of the first foamed sheet. The sheet is heated to transfer the element body from the first foam sheet to the third foam sheet.
前記第1発泡シートの発泡温度よりも高い温度で前記第1発泡シートを加熱することで、第1発泡シートの表面の粘着面の粘着力が低下し、第3発泡シートの表面の粘着面に容易に素子本体を転写することができる。また、第1発泡シートの表面の粘着面の粘着力が低下しているため、素子本体に対してダメージを与えることなく、第3発泡シートの表面に転写することができる。 By heating the first foamed sheet at a temperature higher than the foaming temperature of the first foamed sheet, the adhesive strength of the adhesive surface on the surface of the first foamed sheet is reduced, and the adhesive surface on the surface of the third foamed sheet is reduced. The element body can be easily transferred. Further, since the adhesive strength of the adhesive surface of the surface of the first foamed sheet is reduced, the adhesive force can be transferred to the surface of the third foamed sheet without damaging the element body.
本発明の第2の観点に係る電子部品の製造方法は、
一方の機能部が形成される予定の一方の露出外面が接触するように、素子本体を第1発泡シートに保持する工程と、
前記第1発泡シートに保持してある前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度より低い温度で他方の前記機能部を乾燥させる工程と、
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を少なくとも180度以上で転がして、前記素子本体に形成してある前記機能部を前記第1発泡シートに接触させて前記素子本体を保持する工程と、
前記素子本体の一方の前記露出外面に一方の前記機能部を形成する工程と、を有する。
The method for manufacturing an electronic component according to the second aspect of the present invention is as follows.
A step of holding the element body on the first foam sheet so that one of the exposed outer surfaces on which one of the functional portions is to be formed comes into contact with each other.
A step of forming the other functional portion on the other exposed outer surface of the element body held by the first foam sheet, and a step of forming the other functional portion.
A step of drying the other functional part at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet, and
A step of rolling the element body on the first foam sheet at least 180 degrees or more to bring the functional portion formed on the element body into contact with the first foam sheet to hold the element body. ,
The present invention includes a step of forming one of the functional portions on the exposed outer surface of one of the element main bodies.
本発明の第2の観点に係る電子部品の製造方法では、転写部材などを用いることなく、第1発泡シートの上で素子本体を転がすことで、素子本体の対向する一対の露出外面に、機能部を形成することができる。転写する必要がないため、第1発泡シートとして、発泡温度が高いシートを用いることが可能になり、その結果として、機能部の乾燥温度も高くすることができる。第1発泡シートの発泡温度以下で、乾燥温度を高くすることができる。また、転写部材を必要としないので、製造のための部品点数の削減にも寄与する。 In the method for manufacturing an electronic component according to the second aspect of the present invention, the element body is rolled on the first foam sheet without using a transfer member or the like, so that the element body functions on a pair of exposed outer surfaces facing each other. The part can be formed. Since there is no need to transfer, a sheet having a high foaming temperature can be used as the first foaming sheet, and as a result, the drying temperature of the functional portion can also be increased. The drying temperature can be increased below the foaming temperature of the first foamed sheet. In addition, since no transfer member is required, it also contributes to a reduction in the number of parts for manufacturing.
さらに、転写部材を必要とすることなく、比較的に柔らかい発泡シートの上で素子本体を転がすのみで、素子本体を反転させることが可能であり、素子本体の反転に際しては、素子本体に対するダメージが少ない。したがって、素子本体に機能部を形成する際に、接続不良や短絡不良などが発生し難い。 Further, the element body can be inverted by simply rolling the element body on a relatively soft foam sheet without the need for a transfer member, and when the element body is inverted, damage to the element body is caused. few. Therefore, when forming a functional portion on the element body, poor connection or short circuit is unlikely to occur.
好ましくは、前記素子本体の内部に位置する導体の一部が露出していない前記素子本体の相互に反対側に位置するその他の一対の非露出外面の内の一方が前記第1発泡シートに接触するように、前記素子本体を前記第1発泡シートの上に搬送した後に、
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を転がして、前記導体の一部が露出している一方の前記露出外面が接触するように、前記素子本体を第1発泡シートに保持し、
その後に、前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する。
Preferably, one of the other pair of unexposed outer surfaces located on opposite sides of the element body, in which a part of the conductor located inside the element body is not exposed, comes into contact with the first foam sheet. After transporting the element body onto the first foam sheet,
The element body is rolled on the first foam sheet, and the element body is held by the first foam sheet so that the exposed outer surface of one of the exposed conductors comes into contact with the element body.
After that, the other functional portion is formed on the other exposed outer surface of the element body.
この方法でも、素子本体の主面(内部導体の露出面でない非露出外面)の内の一方が第1発泡シートに接触するように、前記素子本体を前記第1発泡シートの上に搬送する。そのため、素子本体の主面以外の外面に形成してある内部導体の露出面に、振動する搬送部によるダメージが加わらない。そのため、素子本体に機能部を形成する際に、接続不良や短絡不良などが発生し難い。 Also in this method, the element body is conveyed onto the first foam sheet so that one of the main surfaces (non-exposed outer surface of the inner conductor, which is not the exposed surface) of the element body comes into contact with the first foam sheet. Therefore, the exposed surface of the internal conductor formed on the outer surface other than the main surface of the element main body is not damaged by the vibrating transport portion. Therefore, when the functional portion is formed on the element main body, poor connection or short circuit is unlikely to occur.
前記素子本体は、焼成前のグリーン積層体(グリーンチップを含む)でもよいが、好ましくは焼成された後のセラミックチップである。焼成後のセラミックチップには、機能部を形成し易い。 The element body may be a green laminate (including a green chip) before firing, but is preferably a ceramic chip after firing. It is easy to form a functional part on the ceramic chip after firing.
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.
第1実施形態
まず、本実施形態に係る電子部品の製造方法が適用される電子部品の一例として、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。
First Embodiment First, as an example of an electronic component to which the method for manufacturing an electronic component according to the present embodiment is applied, the overall configuration of a monolithic ceramic capacitor will be described.
(積層セラミックコンデンサ)
図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、セラミック焼結体から成る素子本体4と、第1端子電極(機能部の一種)6と、第2端子電極(機能部の一種)8とを有する。本実施形態では、素子本体4は、全体として6つの外面を有する直方体形状を有している。
(Multilayer ceramic capacitor)
As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 2 according to the present embodiment includes an element
すなわち、素子本体4は、図1に示すように、Y軸に沿って相互に反対側に位置する一対の外面5a,5aと、図2Bに示すようにX軸に沿って相互に反対側に位置する一対の外面5b,5bと、図2Aに示すようにZ軸に沿って相互に反対側に位置する一対の外面5c,5cとを有する。なお、図において、X軸、Y軸およびZ軸は、相互に略垂直である。
That is, the element
図1に示すように、第1端子電極6は、素子本体4の一方の外面5aを覆うように形成してあり、第2端子電極8は、素子本体4の他方の外面5aを覆うように形成してある。また、図2Aおよび図2Bに示すように、素子本体4のX軸に沿って両側に位置する外面5b,5bには、それぞれの外面5b,5bを覆うように絶縁膜(機能部)16,16が各々形成してある。
As shown in FIG. 1, the first terminal electrode 6 is formed so as to cover one
図2Bに示すように、第1端子電極6および第2端子電極8のX軸方向の両端は、絶縁膜16,16のY軸方向の両端も覆うように形成してある。ただし、第1端子電極6および第2端子電極8の各端縁は、絶縁膜16の上では、Y軸方向に所定距離で離れており、絶縁が確保されている。
As shown in FIG. 2B, both ends of the first terminal electrode 6 and the second
図1に示すように、素子本体4は、X軸およびY軸を含む平面に実質的に平行な内側誘電体層10と内部電極層12とを有し、内側誘電体層10の間に内部電極層12がZ軸の方向に沿って交互に積層してある。ここで、「実質的に平行」とは、ほとんどの部分が平行であるが、多少平行でない部分を有していてもよいことを意味し、内部電極層12と内側誘電体層10は、多少、凹凸があったり、傾いていたりしてもよいという趣旨である。
As shown in FIG. 1, the
内側誘電体層10と、内部電極層12とが交互に積層される部分が内装領域13である。また、素子本体4は、その積層方向Z(Z軸)の両端面に、外装領域11を有する。外装領域11は、外側誘電体層を複数積層して形成してある。なお、以下では、「内側誘電体層10」および「外側誘電体層」をまとめて、「誘電体層」と記載する場合がある。
The portion where the
内側誘電体層10および外装領域11を構成する誘電体層の材質は、同じでも異なっていてもよく、特に限定されず、たとえば、ABO3 などのペロブスカイト構造の誘電体材料やニオブ酸アルカリ系セラミックを主成分として構成される。ABO3 において、Aは、たとえばCa、Ba、Srなどの少なくとも一種、Bは、Ti、Zrなどの少なくとも一種である。A/Bのモル比は、特に限定されず、0.980〜1.020である。
The materials of the dielectric layers constituting the
このほか、誘電体層に含まれる副成分として、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムのようなアルカリ金属化合物、酸化マンガン、希土類元素酸化物、酸化バナジウム等が挙げられるがこれらに限定されない。その含有量も組成等に応じて適宜決定すればよい。 In addition, examples of the auxiliary components contained in the dielectric layer include, but are not limited to, alkali metal compounds such as silicon dioxide, aluminum oxide, and magnesium oxide, manganese oxide, rare earth element oxides, and vanadium oxide. The content may be appropriately determined according to the composition and the like.
なお、副成分として、二酸化珪素、酸化アルミニウムを用いることで、焼成温度を低下させることができる。また、副成分として、酸化マグネシウムのようなアルカリ金属化合物、酸化マンガン、希土類元素酸化物、酸化バナジウム等を用いることで、寿命の改善ができる。内側誘電体層10および外側誘電体層の積層数は、用途等に応じて適宜決定すればよい。
By using silicon dioxide and aluminum oxide as sub-ingredients, the firing temperature can be lowered. Further, by using an alkali metal compound such as magnesium oxide, manganese oxide, a rare earth element oxide, vanadium oxide or the like as a sub-component, the life can be improved. The number of layers of the
交互に積層される一方の内部電極層12は、素子本体4のY軸方向の一方の外面5aに形成してある第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある引出部12αを有する。また、交互に積層される他方の内部電極層12は、素子本体4のY軸方向の他方の外面5aに形成してある第2端子電極8の内側に対して電気的に接続してある引出部12βを有する。
One of the alternately laminated internal electrode layers 12 is a drawer portion 12α electrically connected to the inside of the first terminal electrode 6 formed on one
内装領域13は、容量領域14と引出領域15A,15Bとを有する。容量領域14は、積層方向に沿って内部電極層12が内側誘電体層10を挟んで積層する領域である。引出領域15Aは、端子電極6に接続する内部電極層12の引出部12αの間に位置する領域である。引出領域15Bは、端子電極8に接続する内部電極層12の引出部12βの間に位置する領域である。
The
内部電極層12に含有される導電材は特に限定されず、Ni、Cu、Ag、Pd、Al、Ptなどの金属、またはそれらの合金を用いることができる。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。
The conductive material contained in the
内部電極層12は、市販の電極用ペーストを使用して形成してもよく、内部電極層12の厚みは用途等に応じて適宜決定すればよい。図2Aに示すように、素子本体4のX軸方向の両端に位置する外面5b,5bには、それぞれ絶縁膜16,16が備えられている。なお、図示省略してあるが、素子本体4のZ軸方向の両端に位置する外面5c,5cにも絶縁膜16が備えられていてもよい。
The
絶縁膜16は、素子本体4のY軸方向の両端に位置する外面5aのX軸方向の端部を一部覆っていてもよい。ただし、絶縁膜16は、図1に示す素子本体4のY軸方向の両端に位置する外面5a,5aに露出する内部電極層12の引出部12αまたは12βの接続端を覆わないことが好ましい。素子本体4のY軸方向の両端に位置する外面5aには、端子電極6,8が形成されて内部電極層12の引出部12αまたは12βと接続される必要があるからである。
The insulating
本実施形態の絶縁膜16の主成分は、好ましくは、Siを25重量%以上含むガラスで構成されている。これにより、端子電極6,8の剥れを抑制できる。これは、絶縁膜16の主成分のガラスに含まれるSiが多いほど、絶縁膜16の耐めっき性が向上し、めっきによる劣化を抑制できるためであると考えられる。本実施形態の絶縁膜16の主成分は、Siを25重量%〜70重量%含むガラスで構成されていることが好ましい。本実施形態の絶縁膜16には、Siの他、Mg、Ca、Sr、Ba、Li、Na、K、Ti、Zr、B、P、Zn、Al等を含んでいてもよい。
The main component of the insulating
また、絶縁膜16をガラス成分で構成することにより、固着強度が良好になる。これは、ガラスと素子本体4との界面に反応相が形成され、ガラスと素子本体4の密着性が他の絶縁性物質に比べて優れているためであると考えられる。
Further, by forming the insulating
さらに、ガラスはセラミックに比べて絶縁性が高い。このため、絶縁膜16の主成分がセラミックの場合に比べて、絶縁膜16の主成分がガラスで構成されている場合は、向かい合う端子電極6,8の距離を短くしても、ショート発生率を低くできる。したがって、絶縁膜16がセラミックで構成されている場合に比べて、絶縁膜16の主成分がガラスで構成されている場合は、端子電極6,8が素子本体4のX軸方向端面のY軸方向端部およびZ軸方向端面のY軸方向端部を広く覆う構成にしても、ショート発生率を低くできる。この効果は、素子本体4のZ軸方向の端面に位置する外面5cにも絶縁膜16が形成されている場合に、より顕著である。
In addition, glass has higher insulation than ceramic. Therefore, as compared with the case where the main component of the insulating
本実施形態の絶縁膜16に含まれるガラスの軟化点は、600℃〜950℃であることが好ましい。これにより、絶縁膜16を焼き付けする際に、誘電体層のセラミック粒子の粒成長を防ぐことができ、信頼性などの特性の劣化を抑制することができる。上記の観点から、本実施形態の絶縁膜16に含まれるガラスの軟化点は、600℃〜850℃であることがより好ましい。
The softening point of the glass contained in the insulating
本実施形態の絶縁膜16に含まれるガラス以外の成分は特に限定されず、たとえば、セラミックフィラーを含んでいてもよく、BaTiO3 、CaTiO3 、Al2 O3 、CaZrO3 、MgO、ZrO2 、Cr2 O3 、CoO等を含んでいてもよい。
Components other than the glass contained in the insulating
素子本体4の端面を絶縁膜16で被覆することにより、絶縁性が高められるだけでなく、外部からの環境負荷に対して、耐久性、耐湿性が増す。また、焼成後の素子本体4のX軸方向の端面を絶縁膜16が被覆することによりサイドギャップを形成するため、サイドギャップの幅が小さく、かつ、均一な絶縁膜16を形成することができる。
By covering the end surface of the element
端子電極6,8は、それぞれ電極膜と電極膜を被覆する被覆層とを有する積層膜で構成してあってもよい。被覆層はめっきやスパッタ処理などにより形成されている。電極膜は、Siを含むガラスを含んでもよい。電極膜に含まれるその他の成分は特に限定されず、例えば、Cu、Ni、Ag、Pd、Pt、Auあるいはこれらの合金、導電性樹脂など公知の導電材を用いることができる。端子電極6,8の厚みは、用途等に応じて適宜決定すればよい。
The
本実施形態において、素子本体4の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよいが、図2Aに示すX軸方向の幅W0は0.1mm〜1.6mm、図1に示すY軸方向の長さL0は0.2mm〜3.2mm、図2Aに示すZ軸方向の高さH0は0.1mm〜1.6mmであることが好ましい。本実施形態の積層セラミックコンデンサの製造方法によれば、素子本体4のサイズが、仮に下記のように小さい場合であっても、切削くずやゴミなどを容易に除去することができる。すなわち、本実施形態の素子本体4のサイズは、X軸方向の幅W0が0.1mm〜0.5mm、Y軸方向の長さL0が0.2mm〜1.0mm、Z軸方向の高さH0が0.1mm〜0.5mmであってもよい。
In the present embodiment, the shape and size of the element
本実施形態では、素子本体4のX軸方向の端面である外面5b、またはY軸方向の端面である外面5aが鏡面研磨されていてもよい。また、図2Aに示すように、積層方向(Z軸方向)に隣接する内側誘電体層10で挟まれる内部電極層12のX軸方向の端部が、素子本体4のX軸方向の端面(外面5b)から内側に所定の引込み距離で凹んでいてもよい。内部電極層12のX軸方向端部の引き込みは、たとえば内部電極層12を形成する材料と内側誘電体層10を形成する材料との焼結収縮率の違いにより形成される。
In the present embodiment, the
本実施形態では、図2Aに示すように、絶縁膜16のうち、素子本体4の幅方向(X軸方向)に沿って、素子本体4のX軸方向の端面(外面5b)から絶縁膜16の外面までの区間をギャップ部としている。本実施形態では、ギャップ部のX軸方向の幅Wgapは、素子本体4の幅方向(X軸方向)に沿って、素子本体4のX軸方向の端面から絶縁膜16のX軸方向の端面までの寸法に一致するが、幅Wgapは、Z軸方向に沿って均一である必要はなく、多少変動していても良い。幅Wgapの平均は、好ましくは、1μm〜30μmである。これにより、絶縁膜16の熱膨張係数の影響が小さくなり、素子本体4と絶縁膜16の熱膨張係数差による構造欠陥を抑制できる。素子本体4のX軸方向の両側の幅Wgapは相互に同じでも異なっていてもよい。
In the present embodiment, as shown in FIG. 2A, of the insulating
また、上記の幅Wgapの平均は、素子本体4の幅W0に比較すれば、きわめて小さい。本実施形態では、従来に比較して、幅Wgapをきわめて小さくすることが可能になり、しかも、内部電極層12の引込み距離が十分に小さい。そのため、本実施形態では、小型でありながら、大きな容量の積層セラミックコンデンサ2を得ることができる。なお、素子本体4の幅W0は、内側誘電体層10のX軸方向に沿う幅に一致する。Wgapを上記の範囲内とすることで、クラックが発生しにくくなると共に、素子本体4がより小型化されても、静電容量の低下が少ない。
Further, the average of the above-mentioned width Wgap is extremely small as compared with the width W0 of the element
図2Aに示す内側誘電体層10の厚みtdと内部電極層12の厚みteの比は、特に限定されないが、td/teが2〜0.5であることが好ましい。また、外装領域11の厚みt0(図1参照)と素子本体4の高さH0(図2A参照)の比は、特に限定されないが、t0/H0が0.01〜0.1であることが好ましい。
The ratio of the thickness td of the
(積層セラミックコンデンサの製造方法)
次に、本発明の一実施形態としての積層セラミックコンデンサ2の製造方法について具体的に説明する。
(Manufacturing method of multilayer ceramic capacitors)
Next, a method for manufacturing the monolithic ceramic capacitor 2 as an embodiment of the present invention will be specifically described.
まず、焼成後に図1に示す内側誘電体層10を構成することになる図3Aに示す内側グリーンシート10aと、図1に示す外装領域11を構成することになる図3Aに示す外側グリーンシート11aを準備する。これらのグリーンシート10aおよび11aを形成するために、まず、それぞれ内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストを準備する。内側グリーンシート用ペーストおよび外側グリーンシート用ペーストは、通常、セラミック粉末と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。
First, the inner
セラミック粉末の原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。セラミック粉末の原料は、本実施形態では、平均粒子径が0.45μm以下、好ましくは0.05〜0.3μm程度の粉体として用いられる。なお、内側グリーンシートをきわめて薄いものとするためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉体を使用することが望ましい。 As the raw material of the ceramic powder, various compounds to be composite oxides and oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organic metal compounds and the like can be appropriately selected and mixed and used. In the present embodiment, the raw material of the ceramic powder is used as a powder having an average particle size of 0.45 μm or less, preferably about 0.05 to 0.3 μm. In order to make the inner green sheet extremely thin, it is desirable to use a powder finer than the thickness of the green sheet.
有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、アルコール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 An organic vehicle is a binder dissolved in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from various ordinary binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as alcohol, acetone, and toluene.
また、グリーンシート用ペースト中には、必要に応じて、各種分散剤、可塑剤、誘電体、副成分化合物、ガラスフリット、絶縁体などから選択される添加物が含有されていてもよい。可塑剤としては、フタル酸ジオクチルやフタル酸ベンジルブチルなどのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。 Further, the green sheet paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, subcomponent compounds, glass frits, insulators and the like, if necessary. Examples of the plasticizer include phthalates such as dioctyl phthalate and benzyl butyl phthalate, adipic acid, phosphoric acid esters, glycols and the like.
次に、焼成後に図1に示す内部電極層12を構成することになる図3Aに示す内部電極パターン層12aを形成する。そのために、内部電極層用ペーストを準備する。内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。焼成後に図1に示す端子電極6,8を構成することになる金属ペースト(端子電極用ペースト)は、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。
Next, the internal
上記にて調整した内側グリーンシート用ペーストおよび内部電極層用ペーストを使用して、図3Aおよび図3Bに示すように、内側グリーンシート10aと、内部電極パターン層12aと、を交互に積層し、内部積層体を製造する。そして、内部積層体を製造した後に、外側グリーンシート用ペーストを使用して、外側グリーンシート11aを形成し、積層方向に加圧してグリーン積層体を得る。
Using the paste for the inner green sheet and the paste for the inner electrode layer prepared above, the inner
なお、グリーン積層体の製造方法としては、上記の他、外側グリーンシート11aに直接内側グリーンシート10aと内部電極パターン層12aとを交互に所定数積層して、積層方向に加圧してグリーン積層体を得てもよい。
In addition to the above, as a method for manufacturing a green laminate, a predetermined number of inner
具体的には、まず、ドクターブレード法などにより、支持体としてのキャリアシート(たとえばPETフィルム)上に、内側グリーンシート10aを形成する。内側グリーンシート10aは、キャリアシート上に形成された後に乾燥される。次に、内側グリーンシート10aの表面に、内部電極層用ペーストを用いて、内部電極パターン層12aを形成し、内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを得る。内部電極パターン層12aを有する内側グリーンシート10aを積層した後に、これらを積層してグリーン積層体を得てもよい。
Specifically, first, the inner
次に、図3Aおよび図3BのC1切断面およびC2切断面に沿って、グリーン積層体を切断してグリーンチップ4aを得る。C1は、Y‐Z軸平面に平行な切断面であり、C2は、Z‐X軸平面に平行な切断面である。
Next, the green laminate is cut along the C1 cut surface and the C2 cut surface of FIGS. 3A and 3B to obtain a
図3Bに示すように、n層目において内部電極パターン層12aを切断するC2切断面の両隣のC2切断面は、内部電極パターン層12aの隙間を切断する。また、n層目において内部電極パターン層12aを切断したC2切断面は、n+1層目においては内部電極パターン層12aの隙間を切断する。
As shown in FIG. 3B, the C2 cut surfaces on both sides of the C2 cut surface that cuts the internal
このような切断方法により、図4Aに示すグリーンチップ4aを得ることで、グリーンチップ4aのn層目の内部電極パターン層12aは、グリーンチップ4aのY軸方向の一方の外面5aでは露出し、他方の外面5aでは露出しない構成となる。また、グリーンチップ4aのn+1層目の内部電極パターン層12aは、逆に、グリーンチップ4aのY軸方向の一方の外面5aでは露出せず、他方の外面5aでは露出する構成となる。
By obtaining the
さらに、図3Aに示すグリーンチップ4aのC1切断面、すなわち図4aに示すグリーンチップ4aのX軸方向に対向する外面5c,5cにおいては、全ての層で内部電極パターン層12aが露出する構成となる。なお、内部電極パターン層12aの形成方法としては、特に限定されず、印刷法、転写法の他、蒸着、スパッタリングなどの薄膜形成方法により形成されていてもよい。
Further, on the C1 cut surface of the
グリーンチップ4aは、固化乾燥により可塑剤が除去され固化される。乾燥後のグリーンチップ4aに対して、脱バインダ工程、焼成工程、必要に応じて行われるアニール工程を行うことにより、図2Aおよび図2Bに示す絶縁膜16が形成される前の素子本体4が得られる。また、この素子本体4には、図1に示す端子電極6および8も形成されていない。絶縁膜や端子電極が形成される前の素子本体4の斜視図は、図4Aに示すように、グリーンチップ4aの斜視図と同様である。
The plasticizer is removed from the
本実施形態において、脱バインダ工程は、たとえば、保持温度を200℃〜400℃とすればよい。焼成工程は、たとえば還元雰囲気で行い、アニール工程は、中性、または弱酸化性雰囲気で行えばよい。その他の焼成条件またはアニール条件としては、たとえば、焼成の保持温度は1000℃〜1300℃であり、アニールの保持温度は500℃〜1100℃である。脱バインダ工程、焼成工程およびアニール工程は、連続して行なっても、独立して行なってもよい。 In the present embodiment, in the binder removal step, for example, the holding temperature may be set to 200 ° C. to 400 ° C. The firing step may be performed in a reducing atmosphere, for example, and the annealing step may be performed in a neutral or weakly oxidizing atmosphere. As other firing conditions or annealing conditions, for example, the holding temperature for firing is 1000 ° C to 1300 ° C, and the holding temperature for annealing is 500 ° C to 1100 ° C. The binder removal step, firing step, and annealing step may be performed continuously or independently.
なお、上述した実施形態では、図3Aおよび図3Bに示すグリーン積層体をグリーンチップ4aに個片化してから、グリーンチップ4aを焼成して素子本体4を形成しているが、図3Aおよび図3Bに示すグリーン積層体を焼成して焼結体としてから、焼結体を切断して個々の素子本体4を形成してもよい。
In the above-described embodiment, the green laminate shown in FIGS. 3A and 3B is fragmented into the
次に、図2Aに示すように、素子本体4のX軸方向の両端面に位置する外面5b,5bの全面に、絶縁膜用ペーストを塗布し、焼き付けることにより、絶縁膜16を形成する。絶縁膜用ペーストを塗布する場合には、ペーストが、素子本体4のX軸方向の両端面の全面のみだけではなく、素子本体4のZ軸方向の両端面の全面にも塗布するようにしてもよい。また、素子本体4のZ軸方向の両端面のX軸方向の両端部および/または素子本体4のY軸方向の両端面のX軸方向の両端部に塗布されるようにしてもよい。
Next, as shown in FIG. 2A, the insulating
絶縁膜16をガラスで構成する場合には、この絶縁膜用ペーストは、たとえば上記したガラス原料と、エチルセルロースを主成分とするバインダと分散媒であるターピネオールおよびアセトンとをミキサーで混練して得る。
When the insulating
素子本体4への絶縁膜用ペーストの塗布方法は特に限定されず、たとえば、ディップ、印刷、塗布、蒸着、噴霧等の方法が挙げられる。素子本体4に絶縁膜用ペーストを塗布して、乾燥、脱バインダ処理、焼き付けを行い、絶縁膜16が形成してある素子本体4を得る。なお、絶縁膜用ペーストの焼き付け温度は、絶縁膜用ペーストに含まれているガラスの軟化点より好ましくは0℃〜150℃高い温度、より好ましくは10℃〜50℃高い温度で行うことが好ましい。
The method for applying the insulating film paste to the element
焼き付け時に液状化したガラス成分は、内側誘電体層10の端部から内部電極層12の端部までの空隙に容易に入り込む。したがって、絶縁膜16により、上記空隙が確実に満たされ、絶縁性が高められるだけでなく、耐湿性も良好とされる。
The glass component liquefied during baking easily enters the voids from the end of the
本実施形態では、図2Aに示すように、素子本体4のX軸方向に対向する外面5b,5bに絶縁膜16を形成する前に、後で詳細に説明する素子本体4の外面のクリーニング処理を行う。そのクリーニング処理を行った後の素子本体4のX軸方向に対向する外面5b,5bに絶縁膜16を形成する。
In the present embodiment, as shown in FIG. 2A, before forming the insulating
次に、絶縁膜16が焼き付けられた素子本体4のY軸方向の両端面に、金属ペーストを塗布して焼き付けし、図1に示す端子電極6,8の電極膜となる金属ペースト焼き付け膜を形成する。端子電極6,8の電極膜の形成方法については特に限定されず、金属ペーストの塗布・焼き付け、メッキ、蒸着、スパッタリングなどの適宜の方法を用いることができる。
Next, a metal paste is applied and baked on both end faces in the Y-axis direction of the element
なお、金属ペーストを素子本体4のY軸方向の端面にディップによって塗布する際には、素子本体4のX軸方向の端面およびZ軸方向の端面にも金属ペーストが濡れ広がるように行うことが好ましい。Y軸方向への濡れ広がり幅は、好ましくは100μm〜200μmである。濡れ広がり幅は、金属ペーストの粘度やディップ条件を調整することにより制御できる。金属ペーストの焼き付け温度は、端子電極6,8に含まれるガラスの軟化点より0℃〜50℃高い温度であることが好ましい。
When applying the metal paste to the end face of the
そして、端子電極6,8の電極膜の表面に、めっきやスパッタ処理などにより被覆層を形成する。端子電極6,8の形成については、絶縁膜16の形成後に行っても良く、絶縁膜16の形成と同時に行ってもよいが、好ましくは、絶縁膜16を形成した後がよい。
Then, a coating layer is formed on the surface of the electrode films of the
本実施形態では、図1に示す素子本体4のY軸方向に対向する外面5a,5aに端子電極6,8を形成する前に、後で詳細に説明する素子本体4の外面のクリーニング処理を行ってもよい。そのクリーニング処理を行った後の素子本体4のY軸方向に対向する外面5a,5aに端子電極6,8を形成してもよい。なお、素子本体4の外面5b,5bに絶縁膜16を形成する前に、後述のクリーニング処理を行っている場合には、端子電極6,8を形成する前には、必ずしも繰り返してクリーニング処理を行う必要はない。
In the present embodiment, before forming the
本実施形態では、図3Aに示すように、内部電極パターン層はX軸方向に沿って連続して形成され、図2Aに示すように、ギャップ部は、素子本体4に絶縁膜16を形成することにより得られる。このため、ギャップ部を形成するための余白パターンを形成しない。したがって、従来の方法とは異なり、グリーンシートに平坦な内部電極パターン層の膜が形成される。このため、グリーンシートの面積当りのグリーンチップ4aの取得個数が従来に比べて増加できる。また、本実施形態では、従来と異なり、グリーン積層体の切断時に余白パターンを気にせずに済むため、従来に比べて、切断歩留まりが改善されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 3A, the internal electrode pattern layer is continuously formed along the X-axis direction, and as shown in FIG. 2A, the gap portion forms the insulating
さらに、従来は、グリーンシートを積層すると、余白パターン部分は、内部電極パターン層が形成されている部分に比べて厚みが薄く、切断する際に、グリーンチップ4aの切断面付近が湾曲してしまう問題があった。また、従来は内部電極パターン層の余白パターン部分近くに、盛り上がりが形成されるため、内部電極層に凹凸が生じ、これらを積層することで、内部電極またはグリーンシートが変形するおそれがあった。これに対して、本実施形態では、余白パターンを形成せず、内部電極パターン層の盛り上がりも形成されない。
Further, conventionally, when the green sheets are laminated, the margin pattern portion is thinner than the portion where the internal electrode pattern layer is formed, and the vicinity of the cut surface of the
さらに、本実施形態では、内部電極パターン層が平坦な膜であり、内部電極パターン層の盛り上がりが形成されず、また、ギャップ部付近において、内部電極パターン層の滲みやカスレが生じないため、取得容量を向上できる。この効果は、素子本体が小さければ小さいほど顕著である。 Further, in the present embodiment, the internal electrode pattern layer is a flat film, no swelling of the internal electrode pattern layer is formed, and bleeding or blurring of the internal electrode pattern layer does not occur in the vicinity of the gap portion. The capacity can be improved. This effect becomes more remarkable as the element body is smaller.
また、本実施形態では、焼成後の素子本体4に絶縁膜用ペーストを焼き付けることにより、素子本体4に絶縁膜16を形成してある。この構造を採ることにより、電子部品の耐湿性を良好にし、熱衝撃や物理的な衝撃などの外部環境変化に対する耐久性を向上させることができる。
Further, in the present embodiment, the insulating
(素子本体のクリーニング処理と機能部の形成など)
図2Aに示すように、素子本体4のX軸方向に対向する外面5b,5bに絶縁膜16を形成する前に、素子本体4の外面のクリーニング処理を行う。クリーニング処理を行うために、図5Aに示すように、表面に第1粘着面21が形成してある第1発泡シート20と、表面に第2粘着面23が形成してある第2発泡シート22とを準備する。
(Cleaning process of element body and formation of functional part, etc.)
As shown in FIG. 2A, the outer surface of the
本実施形態では、第1発泡シート20が第1転動部材に対応し、第2発泡シート22が第2転動部材に対応するが、逆であってもよい。第1発泡シート20は、たとえば図示省略してある下側吸着ステージに保持されている。また、第2発泡シート22は、たとえば図示省略してある上側吸着ステージに保持されている。
In the present embodiment, the
発泡シート20,22としては、相互に同じ発泡シートであってもよく、あるいは異なる発泡シートであってもよい。これらの発泡シート20,22を構成する樹脂としては、たとえばウレタン、アクリル、シリコーン、ポリエステル、ポリウレタンなどが例示される。
The foamed
あるいは、発泡シートと、弾力性を有する(もしくは弾力性を有さない)他のシートとの積層シートで、発泡シート20,22を構成してもよい。また、発泡シート20,22としては、粘着層が表面に形成してある柔軟性シートなどであってもよい。
Alternatively, the foamed
これらの発泡シート20,22は、少なくとも粘着面21,23を有する表面が弾力性または柔軟性を有することが好ましく、後述する素子本体4の転動の際に、素子本体4の角部が粘着面21,23に当接しても、弾力的に凹んで元に戻る程度の弾力性を有することが好ましい。発泡シート20,22における粘着面21,23が位置する側の弾力性有する部分の厚みは、素子本体4のサイズなどにより決定され、素子本体4のZ軸方向の最大高さの1/20〜2倍程度が好ましい。
It is preferable that the surfaces of these
各発泡シート20,22の粘着面21,23の粘着力は、同じでも異なっていてもよい。粘着面20,22の粘着力は、各発泡シート20,22の材質、発泡率、発泡温度、厚みなどにより変化させることもできる。たとえば粘着面20,22での素子本体4のクリーニングが終了した後に、素子本体4を粘着面20または22から取り出しやすくするために、それぞれの発泡シート20,22の発泡温度以上に加熱することで、粘着面21,23の粘着力を弱くするようにしてもよい。
The adhesive strengths of the
本実施形態では、第1発泡シート20に対して、第2発泡シート22がZ軸方向に所定の間隔で配置され、各シート20,22の粘着面21,23が相互に向き合うように配置される。これらのシート20,22の間に、素子本体4が、X軸方向に所定間隔およびY軸方向に所定間隔で行列状に多数配置される。なお、図5Aでは、X軸方向に3つの素子本体4が所定間隔で配置してあるが、実際には、多数の素子本体4がシート20,22の間にX軸およびY軸に沿って行列状に配置され、素子本体4の上下に位置する外面が粘着面21,23に付着している。
In the present embodiment, the second foamed
第1発泡シート20を保持する下側吸着ステージは、第2発泡シート22を保持する上側吸着ステージに対して、少なくともX軸方向に相対移動可能であり、好ましくはX軸およびY軸方向に相対移動可能であり、さらに好ましくはX軸、Y軸およびZ軸方向に相対移動可能である。なお、実際に移動させるのは、上側ステージに対して、下側ステージのみを移動させてもよいし、下側ステージに対して、上側ステージを移動させてもよく、あるいは、両方のステージを相対移動させてもよい。
The lower suction stage holding the
本実施形態では、上側ステージまたは下側ステージに、素子本体4から第1発泡シート20または第2発泡シート22に加わるZ軸方向の反力を検出するZ軸負荷センサ(図示せず)が取り付けられていてもよい。また、上側ステージまたは下側ステージに、素子本体4から第1発泡シート20または第2発泡シート22に加わるX軸またはY軸方向の反力を検出するZ軸負荷センサ(図示せず)が取り付けられていてもよい。
In the present embodiment, a Z-axis load sensor (not shown) that detects a reaction force in the Z-axis direction applied to the
負荷センサとしては、たとえばロードセルなどが用いられる。素子本体4を、以下に示すようにして転動させる際に、素子本体4に加わる負荷を負荷センサにより検出し、負荷センサにより検出される素子本体4への力が一定レベルを超えないように制御することができる。その結果、素子本体4のクリーニングに際して、素子本体4に対するダメージを、さらに少なくすることができる。
As the load sensor, for example, a load cell or the like is used. When rolling the
以下の説明では、説明を分かりやすくするために、下側の第1発泡シート20に対して、上側の発泡シート22を相対移動させることにして説明する。なお、図5A〜図9に示すX軸、Y軸およびZ軸は、図1〜図4Bに示すX軸、Y軸およびZ軸と同様に、相互に略垂直であるが、各軸の定義が異なる。図5A〜図9に示すX軸(第1軸)およびY軸(第2軸)は、第1発泡シート20の第1粘着面21に略平行な仮想軸であり、Z軸(第3軸)は、第1粘着面21に略垂直な仮想軸である。
In the following description, in order to make the explanation easier to understand, the
本実施形態では、まず、図5Aに示す第2発泡シート22が無い状態で、第1発泡シート20の表面に、たとえば各素子本体4の相互に反対側に位置する外面(主面/非露出外面)5c,5cの内の一方が、それぞれ発泡シート20の粘着面21に付着するように多数の素子本体4を配置する。素子本体4の主面となる外面5c,5cは、図1にも示すように、内部電極層12が露出していない外面である。この外面5c,5cの内の一方の外面5cが発泡シート20の粘着面21に付着させるために、多数の素子本体4を整列させる。その際に、素子本体4の外面5c,5cの内の一方が、上を向くように、整列させる。たとえばチップ移載機などを用いることで多数の素子本体4を整列させることができる。素子本体4の外面5c,5cは、内部電極層が露出していないため、外面5c,5cがチップ移載機などに接触しても、素子本体の内部電極層の露出外面に対するダメージは少ない。
In the present embodiment, first, in the absence of the
その後に、素子本体4の外面5cが上に向けられた素子本体4を、たとえばゴム製コレットなどを有するチップ移載機などを用いて、所定間隔で、第1発泡シート20の粘着面21にX軸およびY軸方向に所定間隔で行列状に配置する。その後に、素子本体4が配列された第1発泡シート20の上に、別の発泡シート22を配置する。このように本実施形態では、たとえばチップ移載機などを用いたりすることで、素子本体4における内部電極層の露出外面に対するダメージは、さらに少なくなる。
After that, the
第1発泡シート20と第2発泡シート22との間に多数の素子本体4を挟み込んだ状態で、図5Bに示すように、第1発泡シート20に対して、第2発泡シート22をX軸に沿って一方向に移動させる。その際に、これらのシート20,22に挟まれた素子本体4は、それぞれ、Y軸を中心として回転(転動)し、図5Cに示すように、図5Aに示す素子本体4の状態から、それぞれY軸を中心として90度ほど回転(転動)する。
As shown in FIG. 5B, the
図5Bに示すように、素子本体4の転動の途中において、素子本体4の回転最大直径のZ軸に沿っての投影距離が大きくなる。素子本体4のサイズに比較して、各シート20,22の厚みが十分大きい場合には、素子本体4の転動の途中において、両シート21,22間のZ軸間の相対距離は、変更する必要がない。各シート20,22の内面が凹むように変形することで、素子本体4の回転最大直径のZ軸に沿っての投影距離の変化を吸収できるからである。
As shown in FIG. 5B, during the rolling of the
なお、本実施形態では、前述したように、発泡シート20,22をそれぞれ保持するステージを、Z軸方向にも移動可能とし、素子本体4の転動に際して、素子本体4に加わる負荷を負荷センサにより検出してもよい。負荷センサにより検出される素子本体4への力が一定レベルを超えないように、発泡シート20,22をそれぞれ保持するステージを、X軸と共にZ軸方向にも相対移動させ、これらのシート20,22の移動を制御してもよい。
In the present embodiment, as described above, the stage holding the
図5Aに示すように、最初の状態では、各素子本体4の相互に反対側に位置する外面5c,5cが、それぞれ各発泡シート20,22の粘着面21,23に付着している。その後に、図5Bおよび図5Cに示すように、発泡シート20に対して、発泡シート22をX軸方向およびZ軸方向(Z軸に関しては必要に応じて/以下同様)に相対移動させることで、各粘着面21,23に付着してある素子本体4の外面5c,5cが外面5b,5bに切り替わる。
As shown in FIG. 5A, in the initial state, the
各粘着面21,23に付着してある素子本体4の外面5c,5cが外面5b,5bに切り替わる過程において、素子本体4の外面5c,5cに付着していた切削くずやゴミ(たとえば焼成時に付着したセッターかす)などを、粘着面21,23に付着させて除去することができる。図5Cに示す状態から、さらに、発泡シート20に対して、発泡シート22をX軸方向およびZ軸方向に相対移動させることで、各粘着面21,23に付着してある素子本体4の外面5b,5bが外面5c,5cに切り替わる。したがって、この動作を繰り返すことで、素子本体4の外面5c,5cと外面5b,5bとを繰り返しクリーニングすることができる。
In the process of switching the
たとえばその後に、またはその前に、図6Aに示すように、素子本体4の相互に反対側に位置する外面5c,5cが、それぞれ各発泡シート20,22の粘着面21,23に付着している状態から、発泡シート22を、発泡シート20に対してY軸方向に相対移動させてもよい。その際に、前述と同様にして、発泡シート22を、発泡シート20に対して、Z軸方向にも相対移動させてもよい。
For example, after or before that, as shown in FIG. 6A, the
図6Bおよび図6Cに示すように、発泡シート20に対して、発泡シート22をY軸方向およびZ軸方向に相対移動させることで、各粘着面21,23に付着してある素子本体4の外面5c,5cが外面5a,5aに切り替わる。発泡シート20に対して、発泡シート22をY軸方向およびZ軸方向に相対移動させる動作を繰り返すことで、前述と同様にして素子本体4が転動させられ、素子本体4の外面5c,5cと外面5a,5aとのクリーニングが行われる。
As shown in FIGS. 6B and 6C, the element
なお、図6A〜図6Cに示す図では、単一の素子本体4のみを図示してあるが、発泡シート20,22の間には、X軸およびY軸に沿って所定間隔で多数の素子本体4が行列状に配列してある。図7A以降に関しても、同様である。
In the drawings shown in FIGS. 6A to 6C, only a single element
本実施形態では、図5A〜図5Cに示すように、少なくとも素子本体4の対向する外面5b,5bのクリーニングが終了した時点で、あるいは、図5A〜図6Cに示すように、素子本体4の全ての外面5a〜5cのクリーニングが終了した時点で、あるいは、図5Cに示すように、少なくとも素子本体4の外面5bのクリーニングが終了した時点で、図7Aに示すように、発泡シート22のみを素子本体4から引き離す。その際には、発泡シート22の粘着面23の粘着力を、発泡シート20の粘着面21の粘着力よりも小さくすることで、発泡シート22のみを素子本体4から引き離し易くなる。
In the present embodiment, as shown in FIGS. 5A to 5C, at least when the cleaning of the facing
発泡シート20,22は、それぞれ表面が粘着性を有する発泡樹脂で構成し、それぞれの発泡温度を相互に異なるように、発泡シート20,22の組成が選択してある。たとえば図5Cに示す発泡シート20を構成する発泡樹脂の発泡温度をT1と、発泡シート22を構成する発泡樹脂の発泡温度をT2とする場合に、T1>T2であることが好ましく、また、T1−T2は、好ましくは20°C以上、さらに好ましくは30°C以上である。
The foamed
本実施形態では、図5Cに示す発泡シート22を、その発泡温度T2よりも高く、発泡シート20の発泡温度T1よりも低い温度T3で加熱することで、発泡シート20を構成する発泡樹脂は発泡せず、発泡シート22を構成する発泡樹脂が発泡する。そのため、発泡シート20の粘着面21は粘着力が維持されるが、発泡シート22の粘着面23の粘着力が低下する。その結果、発泡シート22は、素子本体4から、素子本体4にダメージを加えることなく容易に剥がすことが可能であり、しかも、発泡シート20の粘着面21に付着した状態を維持する。その状態を図7Aに示す。
In the present embodiment, the foamed
図7Bに示すように、本実施形態の方法では、発泡シート20の粘着面21に複数の素子本体4が付着した状態を維持しながら、図2Aに示す絶縁膜(機能部)16を形成することになるペースト膜16aを、各素子本体4の内部電極層(導体)が露出している外面(露出外面)5bに形成する。ペースト膜16aの形成は、たとえば印刷法または浸漬法などにより行われる。その後に、発泡シート20の粘着面21に複数の素子本体4が付着した状態を維持しながら、ペースト膜16aの乾燥が行われる。
As shown in FIG. 7B, in the method of the present embodiment, the insulating film (functional portion) 16 shown in FIG. 2A is formed while maintaining the state in which the plurality of element
また、図7Bに示すペースト膜16aの乾燥温度(または脱バインダ温度)をT4とする場合には、好ましくは、乾燥温度T4は、発泡シート20の発泡温度T1よりも低いことが好ましい。複数の素子本体4を発泡シート20に所定間隔で付着した状態で、乾燥炉内に発泡シート20を入れるのみで、乾燥させることが可能であり、乾燥作業が容易になる。乾燥工程に際して、乾燥温度が発泡シート20の発泡温度より低いため、素子本体4は、発泡シート20の粘着面21に付着してある状態が維持される。なお、ペースト膜16aの乾燥温度T4は、特に限定されないが、たとえば80〜140°C程度が好ましい。
When the drying temperature (or binder removal temperature) of the
その後に、図7Cに示すように、転写部材としての第3発泡シート30の第3粘着面31に、各素子本体4の乾燥されたペースト膜16aを付着させ、第1発泡シート20から素子本体4を引き離して転写する。第1発泡シート20から素子本体4を引き離して転写するために、第1発泡シート20を構成する発泡樹脂の発泡温度以上の温度で加熱する。この加熱により、粘着面21の粘着がなくなり、粘着面21に付着してある全ての素子本体4は、ダメージを受けることなく容易に第3発泡シート30に転写される。
After that, as shown in FIG. 7C, the dried
第3発泡シート30は、第1発泡シート20を構成する発泡樹脂の発泡温度よりも(好ましくは20°C以上)高い発泡温度を有する発泡樹脂で構成することが好ましい。そのように構成することで、粘着面21の粘着を低減させる加熱温度でも、シート30の第3粘着面31の粘着力を維持することができる。
The third
第3シート30の第3粘着面31に行列状に多数の素子本体4を第1発泡シート20から転写した後に、第1発泡シート20の粘着面21により清浄化された素子本体4の外面(露出外面)5bに、図7Dに示すように、図2Aに示す絶縁膜16となるペースト膜16aを形成する。ペースト膜16aの形成方法は、図7Bにて説明したペースト膜16aの形成方法と同様である。
After transferring a large number of
その後に、発泡シート30の粘着面31に複数の素子本体4が付着した状態を維持しながら、ペースト膜16aの乾燥が行われる。乾燥温度は、発泡シート30の発泡温度よりも低いことが好ましい。その後に、発泡シート30の粘着面31の粘着力を弱めて、全ての素子本体4を発泡シート30から取り出し、各素子本体4の対向する二つの外面5bに形成してあるペースト膜16aの焼き付け処理を行う。焼き付け温度は、前述したように、ペースト膜16aに含まれているガラスの軟化点より好ましくは0℃〜150℃高い温度、より好ましくは10℃〜50℃高い温度で行うことが好ましい。焼き付け処理により、素子本体4のペースト膜16aは、図2Aに示すガラス膜から成る絶縁膜16となる。
After that, the
次に、絶縁膜16が焼き付けられた素子本体4の両外面5a,5aに、金属ペーストを塗布して焼き付けし、図1に示す端子電極6,8を形成する。端子電極6,8の形成方法については、積層セラミックコンデンサの製造方法の説明の欄で説明したような方法で行う。なお、素子本体4への端子電極6,8の形成に際しては、前述した絶縁膜16の形成方法と同様にして、図5A〜図6Cに示すように、各素子本体4の少なくとも3つの外面5a,5c,5aをクリーニング処理した後に、素子本体4への端子電極6,8の形成を行ってもよい。
Next, a metal paste is applied and baked on both
本実施形態では、たとえば機能部としてのペースト膜16aの形成は、図7Bまたは図7Dに示すように、素子本体4が粘着面21または31に付着している状態で行われる。すなわち、粘着面21または31に付着してある多数の素子本体4に対して、同時にペースト膜16aを形成することが可能になる。しかも、第1転動部材としての第1発泡シート20を、ペースト膜16aの形成のための治具としても用いることが可能となり、工数の削減に寄与し、製造工程の短縮を図ることが可能となる。
In the present embodiment, for example, the formation of the
また本実施形態では、図7Cに示すように、素子本体4を第1粘着面21から剥がす際には、転写部材としての第3発泡シート30により素子本体4が保持される。第1粘着面21に付着してある多数の素子本体4を、そのままの配置で、転写部材としての第3発泡シート30に移し替えることで、第1粘着面21から剥がされた素子本体4の特定の外面5bに、ペースト膜16aを容易に形成することができる。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 7C, when the
(本実施形態のまとめ)
本実施形態の積層セラミックコンデンサ2の製造方法では、図5A〜図6Cに示すように、素子本体4を第1発泡シート20(または第2発泡シート22)の第1粘着面21(または第2粘着面23)の上で転がすのみで、素子本体4の外面に付着してある切削くずやゴミなどを、粘着面21または23(21および23)に付着させて除去することができる。この方法では、バレルを用いることなく、切削くずやゴミなどを除去することができるため、素子本体4に対するダメージが少ない。
(Summary of this embodiment)
In the method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 of the present embodiment, as shown in FIGS. 5A to 6C, the element
また、洗浄液を用いることなく、素子本体4の外面を洗浄することができるため、洗浄液が素子本体4の内部に侵入するおそれもなく、しかも洗浄後に乾燥する必要もなく、その後の工程の簡素化を図ることができる。たとえば洗浄後に、すぐに、サイドギャップ用絶縁膜16,16、または端子電極6,8などの形成工程を行うことができる。したがって、本実施形態の方法によれば、接続不良や短絡不良などを生じさせることなく、容易に積層セラミックコンデンサ2を製造することが可能になる。
Further, since the outer surface of the element
なお、上述した実施形態では、サイドギャップ用絶縁膜16として、ガラス膜を例示してあるが、それに限定されず、セラミック膜あるいは樹脂膜などであってもよい。
In the above-described embodiment, the glass film is exemplified as the side
また本実施形態の方法では、素子本体4を挟むように、第1発泡シート20の上に、第2発泡シート22が配置され、第1発泡シート20に対して第2発泡シート22を、少なくとも第1粘着面21に平行なX軸に沿って相対移動させ、第1粘着面21の上で素子本体4を転がす。第1発泡シート20と第2発泡シート22とを相対移動させることで、第1発泡シート20と第2発泡シート22との間に所定間隔でマトリックス状に配置された多数の素子本体4を、同時に転がして、素子本体4の外面5a〜5cの洗浄を行うことができる。
Further, in the method of the present embodiment, the
さらに本実施形態の方法では、図5A〜図5Cに示すように、第1粘着面21の上で、X軸に沿って素子本体4を転動させた後に、図6A〜図6Cに示すように、Y軸に沿って、素子本体4を転動させている。X軸に略垂直なY軸に沿っても素子本体4を転がすことで、X軸に沿って隣り合う素子本体4の外面5c,5bのみでなく、Y軸に沿って隣り合う素子本体4の外面5c,5aも洗浄(クリーニング)することが可能になる。
Further, in the method of the present embodiment, as shown in FIGS. 5A to 5C, after rolling the
また、本実施形態の方法では、第1発泡シート20に対して第2発泡シート22を、X軸に沿って相対移動させる際に、図5Bに示すように、第2発泡シート22を、Z軸に沿っても、相対移動させてもよい。素子本体4を転がす際に、素子本体4の回転と共に、素子本体4が接触する第1発泡シート20および第2発泡シート22のZ軸方向の間隔を異なせた方が転がりやすいため、Z軸に沿っても、第1発泡シート20に対して第2発泡シート22を相対移動させてもよい。なお、素子本体4を転がす際に、素子本体4の角部が第1粘着面21または第2粘着面23の表面に食い込み可能なように構成してもよく、その場合には、第1発泡シート20に対して第2発泡シートをZ軸に沿って相対移動させる必要は必ずしもない。
Further, in the method of the present embodiment, when the second foamed
また本実施形態の方法では、第1発泡シート20に向き合っている第2発泡シート22の表面には、第2粘着面23が形成してある。第2発泡シート22の表面にも粘着面23が形成してあることで、転がす回数を減らして素子本体4の外面を粘着面21,23で洗浄することができる。または、同じ転がす回数で、素子本体4の外面の洗浄回数を増やすことが可能になる。
Further, in the method of the present embodiment, the second
さらに本実施形態では、図4Aに示すように、絶縁膜16(図2A参照)が形成される予定の素子本体4の外面5bでは、素子本体4の内部に位置する内部電極層(導体)12の一部であるX軸方向両端が露出している。図2Aに示すように、内部電極層12が露出している素子本体4の外面5bに、サイドギャップ用絶縁膜16を形成することで、素子本体4の内部に形成してある内部電極層12などを有効に保護し、しかも、これらの内部電極層12の短絡などを有効に防止することができる。また、図1に示すように、内部電極層12が露出している素子本体4の外面5a,5aに、端子電極6,8を形成することで、接続不良などを生じることなく、素子本体4の内部に形成してある内部電極層12に端子電極6,8を良好に接続することが可能となる。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 4A, on the
特に本実施形態では、図5Aに示す第2発泡シート22がない状態で、素子本体4の外面5c,5c(図1に示す内部電極層12の露出面でない主面)の内の一方が第1発泡シート20に接触するように、多数の素子本体4を第1発泡シート20の上に、たとえばチップ移載機(図示省略)などを用いて搬送する。そのため、素子本体4の主面以外の外面5a,5bに形成してある内部電極層12の露出面に、振動する搬送部によるダメージが加わらない。その結果、素子本体4に機能部としての絶縁膜16を形成する際に、接続不良や短絡不良などが発生し難い。
In particular, in the present embodiment, one of the
また、本実施形態の方法では、図5Bおよび図5Cに示すように、第1発泡シート20の上で、素子本体4を転がして、内部電極層12の端部が露出している一方の外面5bが接触するように、素子本体4を第1発泡シート20に保持する。そのため、図2Aに示す絶縁膜16を形成しようとする外面5bを、図7Aに示すように、第1発泡シート20の上で、第1発泡シート20に付着している外面5bと反対側に容易に位置させることができる。また、第1発泡シート20の粘着面21で、素子本体4を転がすのみであるために、素子本体4における内部電極層12の端部が露出している外面5bに対するダメージが少ない。また、素子本体4の外面5bに付着しているゴミなどを第1発泡シート20(および第2発泡シート22)の表面の粘着面21(および粘着面23)に付着させて除去することも可能である。
Further, in the method of the present embodiment, as shown in FIGS. 5B and 5C, the element
図7Bに示すように、多数の素子本体4を、第1発泡シート20に保持した状態で、素子本体4の第1発泡シート20に保持された外面5bとは反対側の外面5bに、容易にペースト膜16aなどの機能部を形成することができる。また、第1発泡シート20の発泡温度より低い温度でペースト膜16aを乾燥させることで、多数の素子本体4を第1発泡シート20に保持した状態で、シート20から剥がれ落とすことなく、同時に多数の素子本体4のペースト膜16aの乾燥が可能になる。
As shown in FIG. 7B, in a state where a large number of element
また、本実施形態では、図5Bから図5Cに示すように、第1発泡シート20と第2発泡シート22の間で、素子本体4を転がすのみであるために、素子本体4における内部電極層12の端部が露出している外面5bに対するダメージが少ない。
Further, in the present embodiment, as shown in FIGS. 5B to 5C, since the
なお、上述した実施形態では、第1転動部材として第1発泡シート20を対応させて、第2転動部材として、第2発泡シート22を対応させたが、「第1」と「第2」は、意味を持たない概念であり、逆であってもよい。すなわち、第1転動部材として第2発泡シート22を対応させて、第2転動部材として、第1発泡シート20を対応させてもよい。より具体的には、第1発泡シート20と第2発泡シート22のZ軸方向の上下関係は、逆であってもよい。
In the above-described embodiment, the
また、図7Cに示す上述した第3発泡シート30の代わりに、発泡シート以外のシート部材、たとえば接着力の弱い転写部材を用いてもよい。その場合でも、機能部としてのペースト膜16aを接触させて転写できるため、ペースト膜16aに対するダメージが少なく、ペースト膜16aに傷や欠陥などが生じにくい。そして、第1発泡シート20の発泡温度以上で加熱することで、容易に、素子本体4を第1発泡シート20から転写部材に転写することができる。さらに、素子本体4が、ペースト膜16aが形成してある素子本体4の外面が転写部材に保持されることで、素子本体4の転写部材に保持された外面とは反対側の外面に、容易にペースト膜16aなどの機能部を形成することができる。
Further, instead of the above-mentioned third foamed
さらに、上述した実施形態では、機能部として、ペースト膜16aを例示してあるが、本発明の方法が適用される機能部としては、絶縁膜のためのペースト膜16a以外に、図1に示す端子電極6,8となるペースト膜であってもよく、あるいは、その他の膜であってもよい。
Further, in the above-described embodiment, the
第2実施形態
本実施形態では、主として以下に示す内容が第1実施形態と異なる以外は、第1実施形態と同様であり、共通する部分の説明は省略する。この方法では、図7Bに示す状態から図7Cに示す工程に移行するのではなく、図8Aに示す工程に移行する。
Second Embodiment This embodiment is the same as the first embodiment except that the contents shown below are different from those of the first embodiment, and the description of common parts will be omitted. In this method, instead of shifting from the state shown in FIG. 7B to the step shown in FIG. 7C, the process shifts to the step shown in FIG. 8A.
すなわち、図8Aに示すように、第1発泡シート20の上に所定間隔で配置してある素子本体4の上に、第3転動部材としての第4発泡シート40を配置し、それぞれ片方の外面5bにペースト膜16aが形成してある素子本体4をX軸方向に転動させてもよい。素子本体4を転動させるための方法は、前述した実施形態と同様である。
That is, as shown in FIG. 8A, the
第4発泡シート40は、第4粘着面41を有し、たとえば前述した実施形態における第2発泡シート22と同様なものを用いることができる。図8Bに示すように、第1発泡シート20に対して、第4発泡シート40をX軸に沿って一方向に移動させる。その際に、これらのシート20,40に挟まれた素子本体4は、それぞれ、Y軸を中心として回転(転動)し、図8Bに示すように、図8Aに示す素子本体4の状態から、それぞれY軸を中心として180度ほど回転(転動)する。
The fourth foamed
その結果、ペースト膜16aが形成されていない素子本体4の外面5bが第4発泡シート40の第4粘着面41に付着する。その後に、前述した実施形態において、図5Cから図7Aに示す状態に移行させるために、第2発泡シート22を素子本体4から引き離した方法と同様な方法で、図8Bに示す第4発泡シート40を素子本体4から引き離す。次に、第1発泡シート20の第1粘着面21の上で転動することにより清浄化された素子本体4の外面5bに、図7Bに示す方法と同様にして、ペースト膜16aを形成することができる。
As a result, the
なお、本実施形態では、第3転動部材として、発泡シート40を用いているが、粘着面を実質的に有さない弾力性シートを用いて転動させてもよい。第1発泡シート20の第1粘着面21の上で転動することにより、ペースト膜16aが形成されていない素子本体4の外面5bは、すでに清浄化されているからである。また、粘着力が低い弾力性シートを一方の転動部材として用いて素子本体4を転動させることで、すでに素子本体4に形成してあるペースト膜16aに対するダメージを低減することができる。
In the present embodiment, the foamed
本実施形態の製造方法では、まず8Aおよび図8Bに示すように、転写部材などを用いることなく、第1発泡シート20の上で素子本体4を転がすことで、素子本体4の対向する一対の外面16aに、機能部としてのペースト膜16aを形成することができる。転写する必要がないため、第1発泡シート20として、発泡温度が高いシートを用いることが可能になり、その結果として、機能部としてのペースト膜16aの乾燥温度も高くすることができる。すなわち、第1発泡シート20の発泡温度以下で、乾燥温度を高くすることができる。また、転写部材を必要としないので、製造のための部品点数の削減にも寄与する。
In the manufacturing method of the present embodiment, as shown in 8A and FIG. 8B, the
さらに、転写部材を必要とすることなく、比較的に柔らかい発泡シート20の上で素子本体4を転がすのみで、素子本体4を反転させることが可能であり、素子本体4の反転に際しては、素子本体4に対するダメージが少ない。したがって、素子本体4に機能部としてのペースト膜16aを形成する際に、接続不良や短絡不良などが発生し難い。
Further, the
第3実施形態
本実施形態では、主として以下に示す内容が第1または第2実施形態と異なる以外は、第1または第2実施形態と同様であり、共通する部分の説明は省略する。この方法では、図7Dに示す状態から図9に示す工程に移行する。
Third Embodiment This embodiment is the same as the first or second embodiment except that the contents shown below are different from those of the first or second embodiment, and the description of common parts will be omitted. In this method, the process is shifted from the state shown in FIG. 7D to the process shown in FIG.
本実施形態では、図7Dに示すように、各素子本体4の対向する外面(露出外面)5bに、それぞれ図2Aに示す絶縁膜16となるペースト膜16aを形成した後に、図示省略してある第4転動部材を、第3発泡シート30に向き合わせて各素子本体4に接触させ、Y軸方向に相対移動させることにより、素子本体4をY軸方向に約90度で転動させる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 7D, a
その結果、図9に示すように、第3発泡シート30の第3粘着面31の上に、複数の素子本体4が配置され、素子本体4の外面(露出外面)5aがZ軸の上を向くように配置される。第3発泡シート30の第3粘着面31の上に、複数の素子本体4が配置された状態で、素子本体4の一方の外面(露出外面)5aに、図1に示す端子電極6となる電極ペースト膜6aを形成することができる。
As a result, as shown in FIG. 9, a plurality of element
また、図7B〜図7Dまたは図7B〜図8Bに示す前述した実施形態と同様にして、図9に示す各素子本体4の電極ペースト膜6aが形成されていない素子本体4の外面(露出外面)5aを露出させることが可能である。その図9に示す各素子本体4の電極ペースト膜6aが形成されていない素子本体4の外面(露出外面)5aには、前述した実施形態と同様にして、図1に示す端子電極8となるベースト膜を形成することができる。その後に、素子本体4を発泡シート30またはその他のシートから引き離し、電極用ペースト膜と絶縁膜のためのペースト膜とを同時に焼き付け処理を行ってもよい。
Further, in the same manner as in the above-described embodiment shown in FIGS. 7B to 7D or 7B to 8B, the outer surface (exposed outer surface) of the
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
たとえば、本発明の方法が適用される素子本体4としては、図4Aに示す焼成後の素子本体4のみではなく、図4Bに示す焼成後の素子本体4であってもよい。この素子本体4では、サイドギャップ部18が、誘電体層10と同様な材質で同時に形成してある。この素子本体に対しては、図2Aに示す絶縁膜16を形成することが不要になり、図1に示す端子電極6,8のみを形成すればよい。
For example, the
その場合には、図1に示す端子電極6,8を素子本体4に形成する前の工程で、前述した実施形態と同様な方法で、素子本体4に端子電極6,8となるペースト膜6a(図9参照)を形成することができる。また本発明の方法は、焼成後の素子本体4のみではなく、図4Aまたは図4Bに示す焼成前のグリーンチップ4aに対しても適用することができる。
In that case, in the step before forming the
また、本発明の製造方法が適用される電子部品は、積層セラミックコンデンサに限らず、その他の電子部品に適用することが可能である。その他の電子部品としては、素子本体の外面に機能部が形成される全ての電子部品が例示され、たとえばバンドパスフィルタ、チップインダクタ、積層三端子フィルタ、圧電素子、チップサーミスタ、チップバリスタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品などが例示される。 Further, the electronic component to which the manufacturing method of the present invention is applied is not limited to the monolithic ceramic capacitor, and can be applied to other electronic components. Examples of other electronic components include all electronic components in which a functional part is formed on the outer surface of the element body. For example, a bandpass filter, a chip inductor, a laminated three-terminal filter, a piezoelectric element, a chip thermistor, a chip varistor, and a chip resistor are exemplified. , Other surface mount (SMD) chip type electronic components and the like are exemplified.
2… 積層セラミックコンデンサ
4… 素子本体
4a… グリーンチップ
5a〜5c… 外面
6… 第1端子電極(機能部)
6a… 電極ペースト膜(機能部)
8… 第2端子電極(機能部)
10… 内側誘電体層
10a… 内側グリーンシート
11… 外装領域
11a… 外側グリーンシート
12… 内部電極層
12α,12β… 引出部
12a… 内部電極パターン層
13… 内装領域
14… 容量領域
15A,15B…引出領域
16… 絶縁膜(機能部)
16a… ペースト膜(機能部)
18… サイドギャップ部
20… 第1発泡シート(第1転動部材)
21… 第1粘着面
22… 第2発泡シート(第2転動部材)
23… 第2粘着面
30… 第3発泡シート(転写部材)
31… 第3粘着面
40… 第4発泡シート(第3転動部材)
41… 第4粘着面
2 ... Multilayer
6a ... Electrode paste film (functional part)
8 ... 2nd terminal electrode (functional part)
10 ... Inner
16a ... Paste film (functional part)
18 ...
21 ... 1st
23 ... 2nd
31 ... Third
41 ... 4th adhesive surface
Claims (8)
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を転がして、前記導体の一部が露出している一方の露出外面が接触するように、前記素子本体を第1発泡シートに保持する工程と、
前記第1発泡シートに保持してある前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度より低い温度で他方の前記機能部を乾燥させる工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度以上の温度で前記第1発泡シートを加熱して他方の前記機能部が形成された前記素子本体を転写部材に転写する工程と、
前記転写部材に転写された前記素子本体の一方の前記露出外面に一方の前記機能部を形成する工程と、を有する電子部品の製造方法。 The element body is such that one of the pair of unexposed outer surfaces located on opposite sides of the element body is in contact with the first foam sheet so that a part of the conductor located inside the element body is not exposed. In the process of transporting the above first foam sheet onto the first foam sheet,
A step of rolling the element body on the first foam sheet and holding the element body on the first foam sheet so that the exposed outer surface of one of the exposed conductors comes into contact with the element body.
A step of forming the other functional portion on the other exposed outer surface of the element body held by the first foam sheet, and a step of forming the other functional portion.
A step of drying the other functional part at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet, and
A step of heating the first foamed sheet at a temperature equal to or higher than the foaming temperature of the first foamed sheet to transfer the element main body on which the other functional portion is formed to a transfer member.
A method for manufacturing an electronic component, comprising a step of forming one of the functional portions on the exposed outer surface of one of the element main bodies transferred to the transfer member.
前記第1発泡シートの上で前記素子本体を転がした後に、前記第1発泡シートの発泡温度よりも低く前記第2発泡シートの発泡温度以上の温度で加熱し、前記第2発泡シートを前記素子本体から引き離す請求項2に記載の電子部品の製造方法。 The foaming temperature of the second foamed sheet is lower than the foaming temperature of the first foamed sheet.
After rolling the element body on the first foamed sheet, the element body is heated at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet and higher than the foaming temperature of the second foamed sheet, and the second foamed sheet is heated to the element. The method for manufacturing an electronic component according to claim 2, wherein the electronic component is separated from the main body.
前記第1発泡シートから前記第3発泡シートに前記素子本体を転写する際には、前記第3発泡シートの発泡温度より低く、前記第1発泡シートの発泡温度よりも高い温度で前記第1発泡シートを加熱し、前記素子本体を前記第1発泡シートから前記第3発泡シートに転写する請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The transfer member is a third foamed sheet, and the foaming temperature of the third foamed sheet is higher than the foaming temperature of the first foamed sheet.
When the element body is transferred from the first foamed sheet to the third foamed sheet, the first foamed sheet is at a temperature lower than the foaming temperature of the third foamed sheet and higher than the foaming temperature of the first foamed sheet. The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the sheet is heated and the element body is transferred from the first foam sheet to the third foam sheet.
前記第1発泡シートに保持してある前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する工程と、
前記第1発泡シートの発泡温度より低い温度で他方の前記機能部を乾燥させる工程と、
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を少なくとも180度以上で転がして、前記素子本体に形成してある前記機能部を前記第1発泡シートに接触させて前記素子本体を保持する工程と、
前記素子本体の一方の前記露出外面に一方の前記機能部を形成する工程と、を有する電子部品の製造方法。 A step of holding the element body on the first foam sheet so that one of the exposed outer surfaces on which one of the functional portions is to be formed comes into contact with each other.
A step of forming the other functional portion on the other exposed outer surface of the element body held by the first foam sheet, and a step of forming the other functional portion.
A step of drying the other functional part at a temperature lower than the foaming temperature of the first foamed sheet, and
A step of rolling the element body on the first foam sheet at least 180 degrees or more to bring the functional portion formed on the element body into contact with the first foam sheet to hold the element body. ,
A method for manufacturing an electronic component, comprising a step of forming one of the functional portions on one of the exposed outer surfaces of the element main body.
前記第1発泡シートの上で、前記素子本体を転がして、前記導体の一部が露出している一方の前記露出外面が接触するように、前記素子本体を第1発泡シートに保持し、
その後に、前記素子本体の他方の露出外面に、他方の機能部を形成する請求項5に記載の電子部品の製造方法。 A part of the conductor located inside the element body is not exposed so that one of the other pair of unexposed outer surfaces located on opposite sides of the element body comes into contact with the first foam sheet. After transporting the element body onto the first foam sheet,
The element body is rolled on the first foam sheet, and the element body is held by the first foam sheet so that the exposed outer surface of one of the exposed conductors comes into contact with the element body.
The method for manufacturing an electronic component according to claim 5, wherein the other functional portion is subsequently formed on the other exposed outer surface of the element body.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020087619A JP2021182595A (en) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | Method for manufacturing electronic component |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020087619A JP2021182595A (en) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | Method for manufacturing electronic component |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021182595A true JP2021182595A (en) | 2021-11-25 |
Family
ID=78606775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020087619A Pending JP2021182595A (en) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | Method for manufacturing electronic component |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021182595A (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001345240A (en) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Tdk Corp | Method and device for forming end electrode of chip-like electronic parts |
JP2007266208A (en) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Tdk Corp | Method and apparatus for forming external electrode of chip-shaped electronic component |
JP2013026257A (en) * | 2011-07-15 | 2013-02-04 | Tdk Corp | Laminate type electronic component manufacturing method |
JP2013080975A (en) * | 2013-02-04 | 2013-05-02 | Murata Mfg Co Ltd | Chip rotation apparatus and chip rotation method |
JP2013161971A (en) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Ngk Insulators Ltd | Method for manufacturing ceramic element |
-
2020
- 2020-05-19 JP JP2020087619A patent/JP2021182595A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001345240A (en) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Tdk Corp | Method and device for forming end electrode of chip-like electronic parts |
JP2007266208A (en) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Tdk Corp | Method and apparatus for forming external electrode of chip-shaped electronic component |
JP2013026257A (en) * | 2011-07-15 | 2013-02-04 | Tdk Corp | Laminate type electronic component manufacturing method |
JP2013161971A (en) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Ngk Insulators Ltd | Method for manufacturing ceramic element |
JP2013080975A (en) * | 2013-02-04 | 2013-05-02 | Murata Mfg Co Ltd | Chip rotation apparatus and chip rotation method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9865397B2 (en) | Multilayer electronic component | |
JP6795292B2 (en) | Laminated electronic components | |
JP6711192B2 (en) | Laminated electronic components | |
JP6406191B2 (en) | Laminated electronic components | |
JP6724321B2 (en) | Laminated electronic components | |
JP6515758B2 (en) | Multilayer electronic parts | |
JP6812677B2 (en) | Laminated electronic components | |
US9978521B2 (en) | Multilayer electronic component | |
US11107632B2 (en) | Multilayer ceramic electronic component | |
US7491282B2 (en) | Method for manufacturing multi-layered ceramic electronic component | |
JP2021182595A (en) | Method for manufacturing electronic component | |
JP7428970B2 (en) | Manufacturing method of electronic components | |
US11948749B2 (en) | Electronic component | |
EP1612815A1 (en) | Production method for laminated ceramic electronic component | |
JP3463610B2 (en) | Manufacturing method of multilayer ceramic electronic component | |
JP3190177B2 (en) | Manufacturing method of multilayer ceramic chip capacitor | |
JP2000315618A (en) | Manufacture of laminated ceramic electronic parts | |
JP4661815B2 (en) | Manufacturing method of electronic parts | |
WO2023243504A1 (en) | Layered ceramic electronic component | |
WO2023026807A1 (en) | Method for producing multilayer ceramic electronic component | |
JP2022170166A (en) | Electronic component | |
JP2022170167A (en) | Manufacturing method for electronic component and functional film formation device for electronic component | |
JP2005297339A (en) | Method for manufacturing multi-layer ceramic sheet and method for manufacturing ceramic electronic component | |
JP2006128285A (en) | Manufacturing method of electronic component stock | |
JPH06204080A (en) | Manufacture of chip electronic component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220627 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230711 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240118 |