JP2021175283A - ガス遮断器 - Google Patents
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- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 claims abstract description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 20
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 9
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 147
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- BOZRBIJGLJJPRF-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C#N BOZRBIJGLJJPRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AASDJASZOZGYMM-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoro-2-(trifluoromethyl)propanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C(F)(C#N)C(F)(F)F AASDJASZOZGYMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWNGUOVHDOXBPJ-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoro-2-(trifluoromethoxy)propanenitrile Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(C#N)C(F)(F)F UWNGUOVHDOXBPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Gas-Insulated Switchgears (AREA)
Abstract
【課題】開閉部の開路動作に伴って低下した絶縁性能を容易に向上させることを可能にしたガス遮断器を提供する。【解決手段】ガス遮断器11は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部12と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスGと、開閉部12と絶縁ガスGとが収容される容器13とを備える。ガス遮断器11は、容器13内に絶縁ガスFGを供給可能な絶縁ガス供給部21と、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する制御部31とを備える。【選択図】図1
Description
本発明は、ガス遮断器に関する。
特許文献1に開示されるように、開路動作及び閉路動作を行う開閉部と、絶縁ガスと、開閉部と絶縁ガスとが収容される容器とを備えるガス遮断器が知られている。絶縁ガスとしては、従来、六フッ化硫黄(SF6)が用いられていた。しかしながら、六フッ化硫黄の地球温暖化係数は、二酸化炭素(CO2)よりも大きい。このため、地球温暖化を抑えるという観点から、ガス遮断器の絶縁ガスには、二酸化炭素や有機フッ素化合物等の絶縁性成分を用いることが好ましい。
二酸化炭素や有機フッ素化合物等は、六フッ化硫黄よりも不安定な化合物である。このような化合物を絶縁ガス中の絶縁性成分として用いた場合、その絶縁性成分は、ガス遮断器における開閉部の開路動作に伴って発生するアークとの接触によって反応し易い。ここで、例えば、絶縁性成分である二酸化酸素が反応すると二酸化炭素よりも絶縁性能の低い一酸化炭素が生成する場合がある。すなわち、開閉部の開路動作に伴って絶縁性成分よりも絶縁性能の低い成分を生成されることで、ガス遮断器の容器内における絶縁性能が低下するおそれがあった。
本発明の目的は、開閉部の開路動作に伴って低下した絶縁性能を容易に向上させることを可能にしたガス遮断器を提供することにある。
上記課題を解決するガス遮断器は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスと、前記開閉部と前記絶縁ガスとが収容される容器と、を備えるガス遮断器であって、前記容器内に前記絶縁ガスを供給可能な絶縁ガス供給部と、前記絶縁ガス供給部から前記容器内への絶縁ガスの供給を制御する制御部と、を備える。
上記のようにガス遮断器の絶縁ガスが六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む場合、その絶縁性成分は開閉部の開路動作に伴って発生するアークとの接触によって反応し易い。これにより、容器内の絶縁性成分の濃度が低下することで、容器内の絶縁性能が低下し易い。上記ガス遮断器では、絶縁ガス供給部から容器内に絶縁ガスを供給することができるため、容器内の絶縁性成分の濃度が低下したとしても、容器内の絶縁性成分の濃度を容易に高めることができる。
上記ガス遮断器において、前記制御部は、前記容器内の前記絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、前記絶縁ガス供給部から前記容器内へ前記絶縁ガスを供給する制御を行ってもよい。
ここで、遮断器の容器内の圧力の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部から容器内へ絶縁ガスを供給する制御を行うことも可能であるが、絶縁性成分の反応態様によって圧力は増減する場合があり、容器内の圧力と反応生成物の量との相関は得られ難い。すなわち、容器内の圧力からは、容器内の絶縁性能の低下を検出する精度が低くなるおそれがある。この点、上記のように、容器内の絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部から容器内へ絶縁ガスを供給する制御することで、容器内の絶縁性能の低下を検出する精度を高めることができる。
上記ガス遮断器において、前記制御部は、前記開閉部の開路動作、又は前記開路動作後の閉路動作に基づいて、前記絶縁ガス供給部から前記容器内へ前記絶縁ガスを供給する制御を行ってもよい。
この構成によれば、開閉部の開路動作に伴って低下した絶縁性能を速やかに高めることができる。
上記ガス遮断器において、前記容器の上部及び下部の少なくとも一方に設けられ、前記容器内における前記絶縁性成分の反応生成物を排出可能な排出部をさらに備えることが好ましい。
上記ガス遮断器において、前記容器の上部及び下部の少なくとも一方に設けられ、前記容器内における前記絶縁性成分の反応生成物を排出可能な排出部をさらに備えることが好ましい。
この構成によれば、絶縁性成分よりも絶縁性能の低い反応生成物を排出部から排出することで、容器内の絶縁性能の低下を抑えることができる。
上記ガス遮断器において、前記絶縁性成分は、有機フッ素化合物及び二酸化炭素の少なくとも一方を含んでもよい。
上記ガス遮断器において、前記絶縁性成分は、有機フッ素化合物及び二酸化炭素の少なくとも一方を含んでもよい。
本発明によれば、開閉部の開路動作に伴って低下した絶縁性能を容易に向上させることが可能となる。
(第1実施形態)
以下、ガス遮断器の第1実施形態について図面を参照して説明する。
図1に示すように、第1実施形態におけるガス遮断器11は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部12と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスGと、開閉部12と絶縁ガスGとが収容される容器13とを備えている。
以下、ガス遮断器の第1実施形態について図面を参照して説明する。
図1に示すように、第1実施形態におけるガス遮断器11は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部12と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスGと、開閉部12と絶縁ガスGとが収容される容器13とを備えている。
ガス遮断器11の開閉部12は、電力系統に接続されている。開閉部12では、電力供給線の間が電気的に接続された閉路状態から、電力供給線の間が電気的に非接続とされた開路状態とする開路動作と、開路状態から閉路状態に復帰させる閉路動作が行われる。
詳述すると、開閉部12は、電力供給線と、第1固定接触子及び第2固定接触子と、第1固定接触子と第2固定接触子との間を移動する移動接触子とを備えている。開閉部12では、移動接触子部が移動することで、開路動作及び閉路動作が行われる。
開閉部12において、閉路状態から開路状態とする開路動作では、例えば、第1固定接触子と移動接触子との間にアークが発生する。開閉部12の開路動作で生じたアークは、絶縁ガスGによって消弧される。開閉部12は、機械的な圧縮により圧力を高めた絶縁ガスG(消弧性ガス)をアークに向けて吹き付けるパッファ方式であることが好ましい。このような開閉部12は、パッファシリンダ内の絶縁ガスGをピストンにより圧縮する機構を備えている。
絶縁ガスGの絶縁性成分は、上記アークを消弧する消弧性能を有する。六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分は、アークと接触した際に六フッ化硫黄よりも反応生成物を生成し易く、その反応生成物は、アークの消弧後も残留する。
絶縁性成分は、有機フッ素化合物及び二酸化炭素の少なくとも一方を含むことが好ましい。有機フッ素化合物としては、0℃よりも高い沸点を有する有機フッ素化合物を用いることが好ましい。有機フッ素化合物としては、例えば、フルオロニトリル、フルオロエーテル等が挙げられる。
有機フッ素化合物は、ヘプタフルオロブタンニトリル(C4F7N、CAS登録番号:375−00−8)、パーフルオロ(n−プロピルビニルエーテル)(C5F10O、CAS登録番号:1623−05−8)、パーフルオロイソブチロニトリル((CF3)2CFCN、CAS登録番号:42532−60−5)、及びパーフルオロ−2−メトキシプロパンニトリル(CF3CF(OCF3)CN)から選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。
上述した絶縁性成分は、開閉部12の開路動作により発生したアークとの接触によって反応し易い。有機フッ素化合物の反応生成物(分解生成物)としては、例えば、C2F4、C3F6、C2F3N、C2N2、C3F8、C3F5N等が挙げられる。二酸化炭素の反応生成物としては、例えば、一酸化炭素、オゾン等が挙げられる。
ガス遮断器11の容器13は、気密性を有する収容室14を備えている。収容室14内には、上述した絶縁ガスGが封入されている。
ガス遮断器11は、容器13内、すなわち収容室14に絶縁ガスFGを供給可能な絶縁ガス供給部21と、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する制御部31とを備えている。
ガス遮断器11は、容器13内、すなわち収容室14に絶縁ガスFGを供給可能な絶縁ガス供給部21と、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する制御部31とを備えている。
絶縁ガス供給部21は、供給用の絶縁ガスFGが封入される供給用容器22と、供給用容器22と容器13とを接続する供給流路23と、流路内の絶縁ガスFGの流通を制御するガス注入弁24とを備えている。供給用容器22は、気密性を有する収容室22aを備えている。収容室22aには、供給用の絶縁ガスFGが封入されている。供給流路23は、例えば、金属製のガス管により構成されている。ガス注入弁24としては、例えば、開閉弁、流量調整弁等を用いることができる。
供給用容器22の収容室22a内の圧力を容器13の収容室14内の圧力よりも高くすることで、ガス注入弁24の開弁により供給用の絶縁ガスFGを供給用容器22から供給流路23を通じて容器13に供給することができる。
本実施形態のガス遮断器11は、容器13内の絶縁性成分の濃度を計測するセンサ41をさらに備えている。センサ41としては、例えば、固体センサ、電気化学センサ、光学センサ等が挙げられる。絶縁ガスGが二種以上の絶縁性成分を含む混合ガスの場合、センサ41は、少なくとも一種の絶縁性成分の濃度を計測する。
センサ41の位置は、容器13内の上部と下部との間の中間に位置するように配置することが好ましい。センサ41の位置は、例えば、収容室14の下端から収容室14内の高さ寸法の10%以上高い位置であり、かつ容器13内の上端から容器13内の高さ寸法の10%以上低い位置であることが好ましい。
制御部31は、センサ41により計測したガス濃度の計測結果に基づいて、ガス注入弁24を開弁する。これにより、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する。制御部31は、図示を省略したプロセッサ、メモリ、ソフトウェア等により構成することができる。
本実施形態の容器13の上部には、容器13内のガスを排出可能な上部排出部51が設けられている。上部排出部51は、容器13の上部に接続される上部排出管51aと、上部排出管51aに設けられる上部開閉弁51bとを備えている。上部開閉弁51bの開動作により、容器13の収容室14における上部室14a内のガスを排出することができる。上部開閉弁51bの開閉動作は、例えば、上部室14a内にセンサを設けるとともに、センサによる反応生成物(例えば、分解物)の検出結果に基づいて制御することができる。
本実施形態の容器13の下部には、下部排出部52が接続されている。下部排出部52は、容器13の下部に接続される下部排出管52aと、下部排出管52aに設けられる下部開閉弁52bとを備えている。下部開閉弁52bの開動作により、容器13の収容室14における下部室14b内のガスを排出することができる。下部開閉弁52bの開閉動作は、例えば、下部室14b内に図示を省略したセンサを設けるとともに、センサによる反応生成物の検出結果に基づいて制御することができる。
次に、ガス遮断器11の制御の詳細について説明する。
図2に示すように、ガス遮断器の制御方法は、容器13内の絶縁性成分の濃度を計測する計測工程(ステップS11)を備えている。ステップS11の計測工程では、上述したセンサ41を用いてガス遮断器11の容器13内の絶縁性成分の濃度を計測する。ステップS11の計測工程は、断続的に行ってもよいし、連続的に行ってもよい。
図2に示すように、ガス遮断器の制御方法は、容器13内の絶縁性成分の濃度を計測する計測工程(ステップS11)を備えている。ステップS11の計測工程では、上述したセンサ41を用いてガス遮断器11の容器13内の絶縁性成分の濃度を計測する。ステップS11の計測工程は、断続的に行ってもよいし、連続的に行ってもよい。
ここで、容器13内の絶縁性成分の濃度は、ガス遮断器11の開路動作に伴って低下し易い。このため、ステップS11の計測工程は、ガス遮断器11の開路動作、又は開路動作後の閉路動作を契機として行うことで、容器13内の絶縁性成分の濃度低下を効率的に検出することができる。
ステップS12において、ステップS11の計測工程で計測した絶縁性成分の濃度が所定濃度以下であると判定された場合(ステップS12:YES)、ガス注入弁24を開弁する開弁工程(ステップS13)へ進む。ステップS12では、例えば、予め設定した絶縁性成分の濃度の下限値を閾値とする。一方、ステップS12において、ステップS11の計測工程で計測した絶縁性成分の濃度が所定濃度を超えると判定された場合(ステップS12:NO)、ステップS11の計測工程が繰り返される。
ステップS13の開弁工程が行われると、供給用容器22から供給流路23を通じて絶縁ガスFGが容器13内に供給される。これにより、容器13内において、絶縁性成分の濃度を高めることができる。なお、容器13内に予め封入する絶縁ガスGの組成と、供給用容器22内に封入する絶縁ガスFGの組成とは、互いに異なってもよい。容器13内に予め封入する絶縁ガスGと、供給用容器22内に封入する絶縁ガスFGとは、共通の絶縁性成分を含むことが好ましく、同じ組成を有することがより好ましい。
ステップS13の開弁工程の後、上述したセンサ41を用いてガス遮断器11の容器13内の絶縁性成分の濃度を計測する計測工程(ステップS14)が行われる。ステップS15において、ステップS14の計測工程で計測した絶縁性成分の濃度が所定濃度を超えると判定された場合(ステップS15:YES)、ガス注入弁24を閉弁する閉弁工程(ステップS16)へ進む。一方、ステップS15において、ステップS14の計測工程で計測した絶縁性成分の濃度が所定濃度以下であると判定された場合(ステップS15:NO)、ステップS14の計測工程が繰り返される。
ステップS16の閉弁工程が行われると、上述したステップS11の計測工程へと戻ることで、容器13内の絶縁性成分の濃度の監視を継続することができる。
ここで、容器13の上部室14a内には、絶縁性成分の反応生成物のうち、未反応の絶縁性成分よりも比重の軽い反応生成物が滞留し易い。このとき、上部排出部51の上部開閉弁51bを開弁することで、上部室14a内に滞留した反応生成物を、上部排出管51aを通じて排出させることができる。
ここで、容器13の上部室14a内には、絶縁性成分の反応生成物のうち、未反応の絶縁性成分よりも比重の軽い反応生成物が滞留し易い。このとき、上部排出部51の上部開閉弁51bを開弁することで、上部室14a内に滞留した反応生成物を、上部排出管51aを通じて排出させることができる。
また、容器13の下部室14b内には、絶縁性成分の反応生成物のうち、未反応の絶縁性成分よりも比重の重い反応生成物が滞留し易い。このとき、下部排出部52の下部開閉弁52bを開弁することで、下部室14b内に滞留した反応生成物を、下部排出管52aを通じて排出させることができる。
上部開閉弁51b及び下部開閉弁52bの開閉動作は、図示を省略したセンサによる反応生成物の検出結果に基づいて制御することができる。なお、上部開閉弁51b及び下部開閉弁52bの開閉動作は、ガス遮断器11の開路動作、又は開路動作後の閉路動作を契機として行うように制御してもよいし、手動で行ってよい。
本実施形態の作用及び効果について説明する。
(1−1)ガス遮断器11は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部12と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスGと、開閉部12と絶縁ガスGとが収容される容器13とを備えている。ガス遮断器11は、容器13内に絶縁ガスFGを供給可能な絶縁ガス供給部21と、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する制御部31とを備えている。
(1−1)ガス遮断器11は、開路動作及び閉路動作が行われる開閉部12と、六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスGと、開閉部12と絶縁ガスGとが収容される容器13とを備えている。ガス遮断器11は、容器13内に絶縁ガスFGを供給可能な絶縁ガス供給部21と、絶縁ガス供給部21から容器13内への絶縁ガスFGの供給を制御する制御部31とを備えている。
ここで、上記のようにガス遮断器11の絶縁ガスGが六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む場合、その絶縁性成分は開閉部12の開路動作に伴って発生するアークとの接触によって反応し易い。これにより、容器13内の絶縁性成分の濃度が低下することで、容器13内の絶縁性能が低下し易い。本実施形態のガス遮断器11では、絶縁ガス供給部21から容器13内に絶縁ガスFGを供給することができるため、容器13内の絶縁性成分の濃度が低下したとしても、容器13内の絶縁性成分の濃度を容易に高めることができる。したがって、開閉部12の開路動作に伴って低下した絶縁性能を容易に向上させることが可能となる。
(1−2)制御部31は、容器13内の絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行っている。ここで、容器13内の圧力の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行うことも可能であるが、絶縁性成分の反応態様によって圧力は増減する場合があり、容器13内の圧力と反応生成物の量との相関は得られ難い。すなわち、容器13内の圧力からは、容器13内の絶縁性能の低下を検出する精度が低くなるおそれがある。この点、本実施形態のように、容器13内の絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御することで、容器13内の絶縁性能の低下を検出する精度を高めることができる。
(1−3)ガス遮断器11は、容器13内における絶縁性成分の反応生成物を排出可能な第1排出部及び第2排出部をさらに備えている。この場合、絶縁性成分よりも絶縁性能の低い反応生成物を第1排出部及び第2排出部から排出することで、容器13内の上部及び下部の絶縁性能の低下を抑えることができる。
(第2実施形態)
ガス遮断器11の第2実施形態について第1実施形態と異なる点を中心に説明する。
図3に示すように、第2実施形態のガス遮断器11は、第1実施形態のガス遮断器11におけるセンサ41を省略している。また、第2実施形態のガス遮断器11は、第1実施形態のガス遮断器11における第1排出部及び第2排出部を省略している。ガス遮断器11の制御部31は、開閉部12の動作の情報を取得できるように構成されている。開閉部12の動作の情報は、開路動作の回数等の開路動作の状況を含む。
ガス遮断器11の第2実施形態について第1実施形態と異なる点を中心に説明する。
図3に示すように、第2実施形態のガス遮断器11は、第1実施形態のガス遮断器11におけるセンサ41を省略している。また、第2実施形態のガス遮断器11は、第1実施形態のガス遮断器11における第1排出部及び第2排出部を省略している。ガス遮断器11の制御部31は、開閉部12の動作の情報を取得できるように構成されている。開閉部12の動作の情報は、開路動作の回数等の開路動作の状況を含む。
図4に示すように、第2実施形態のガス遮断器11の制御方法は、開閉部12の開路動作に基づいて絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行う。ステップS22において、ステップS21の開路動作の回数が所定の回数を満たすと判定された場合(ステップS22:YES)、ステップS23へと進む。一方、ステップS22において、ステップS21の開路動作の回数が所定の回数を満たさないと判定された場合(ステップS22:NO)、次の開路動作(ステップS21)が行われるまで待機する。ステップS22において、判定基準となる回数は、1回又は2回以上の任意の回数に設定することができる。
ステップS23では、ガス注入弁24を開弁及び閉弁することで、供給流路23を通じて容器13内に絶縁ガスFGを供給する供給工程を行う。ステップS23の供給工程では、例えば、ガス注入弁24を開弁してから閉弁するまでの時間を予め設定することで、供給用容器22から容器13内への絶縁ガスFGの供給を所定時間行うことができる。
第2の実施形態によれば、上記第1実施形態の(1−1)欄に記載した効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
(2−1)ガス遮断器11の制御部31は、開閉部12の開路動作に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行っている。この構成によれば、開閉部12の開路動作に伴って低下した絶縁性能を速やかに高めることができる。
(2−1)ガス遮断器11の制御部31は、開閉部12の開路動作に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行っている。この構成によれば、開閉部12の開路動作に伴って低下した絶縁性能を速やかに高めることができる。
(2−2)第2実施形態のガス遮断器11では、第1実施形態のようなセンサ41を用いた濃度の計測を行わずに、絶縁ガス供給部21の制御を行うことができるため、ガス遮断器11の構成を簡素化することが可能となる。
(変更例)
上記実施形態を次のように変更してもよい。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
上記実施形態を次のように変更してもよい。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・上記第1実施形態のセンサ41は、容器13の収容室14内に設けられているが、収容室14内のガスを導入可能な流路を収容室14に接続し、その流路内にセンサ41を設けることもできる。
・上記第1実施形態のように、容器13内の絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、絶縁ガス供給部21の制御を行う場合、予め設定した絶縁性成分の濃度を閾値としてもよいし、容器13内の絶縁性成分の濃度の変化量を閾値としてもよい。
・第1実施形態のガス遮断器11において、上部排出部51及び下部排出部52の少なくとも一方を省略することもできる。また、第2実施形態のガス遮断器11において、上部排出部51及び下部排出部52の少なくとも一方を容器13に設けてもよい。
・第2実施形態のガス遮断器11の制御部31は、開閉部12の開路動作に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行っているが、開路動作後の閉路動作に基づいて、絶縁ガス供給部21から容器13内へ絶縁ガスFGを供給する制御を行うように変更してもよい。この場合であっても、開閉部の開路動作に伴って低下した絶縁性能を速やかに高めることができる。
11…ガス遮断器
12…開閉部
13…容器
21…絶縁ガス供給部
31…制御部
51…上部排出部
52…下部排出部
G,FG…絶縁ガス
12…開閉部
13…容器
21…絶縁ガス供給部
31…制御部
51…上部排出部
52…下部排出部
G,FG…絶縁ガス
Claims (5)
- 開路動作及び閉路動作が行われる開閉部と、
六フッ化硫黄よりも不安定な絶縁性成分を含む絶縁ガスと、
前記開閉部と前記絶縁ガスとが収容される容器と、を備えるガス遮断器であって、
前記容器内に前記絶縁ガスを供給可能な絶縁ガス供給部と、
前記絶縁ガス供給部から前記容器内への絶縁ガスの供給を制御する制御部と、を備える、ガス遮断器。 - 前記制御部は、前記容器内の前記絶縁性成分の濃度の検出結果に基づいて、前記絶縁ガス供給部から前記容器内へ前記絶縁ガスを供給する制御を行う、請求項1に記載のガス遮断器。
- 前記制御部は、前記開閉部の開路動作、又は前記開路動作後の閉路動作に基づいて、前記絶縁ガス供給部から前記容器内へ前記絶縁ガスを供給する制御を行う、請求項1に記載のガス遮断器。
- 前記容器の上部及び下部の少なくとも一方に設けられ、前記容器内における前記絶縁性成分の反応生成物を排出可能な排出部をさらに備える、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のガス遮断器。
- 前記絶縁性成分は、有機フッ素化合物及び二酸化炭素の少なくとも一方を含む、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のガス遮断器。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2020078130A JP2021175283A (ja) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | ガス遮断器 |
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JP (1) | JP2021175283A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001086611A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-30 | Hitachi Ltd | ガス絶縁電気装置 |
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2020
- 2020-04-27 JP JP2020078130A patent/JP2021175283A/ja active Pending
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