JP2021167031A - Grinding device - Google Patents
Grinding device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021167031A JP2021167031A JP2020070598A JP2020070598A JP2021167031A JP 2021167031 A JP2021167031 A JP 2021167031A JP 2020070598 A JP2020070598 A JP 2020070598A JP 2020070598 A JP2020070598 A JP 2020070598A JP 2021167031 A JP2021167031 A JP 2021167031A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unit
- grinding
- chuck table
- holding surface
- origin position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 20
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
Description
本発明は、研削装置に関する。 The present invention relates to a grinding device.
半導体デバイスのウエーハなど板状の被加工物を、研削砥石を用いて研削して薄化するための研削装置が知られている。研削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルの保持面に対し垂直な回転軸のスピンドルを備え、スピンドルの下端に研削砥石が下面に環状に配置された研削ホイールを装着し、研削砥石を被加工物に接触させることで被加工物を研削する(特許文献1参照)。 A grinding device for grinding a plate-shaped workpiece such as a wafer of a semiconductor device with a grinding wheel to thin it is known. The grinding device is provided with a spindle having a rotation axis perpendicular to the holding surface of the chuck table that holds the workpiece, and a grinding wheel in which the grinding wheel is arranged in an annular shape on the lower surface is attached to the lower end of the spindle to cover the grinding wheel. The workpiece is ground by contacting it with the workpiece (see Patent Document 1).
研削装置は、研削砥石の下端と保持面とが接触する高さを原点位置として登録し、研削砥石が装着されたスピンドル(研削ユニット)を昇降制御するが、従来は、原点位置を登録する際、保持面に載置した所定の厚さの隙間ゲージに向かって研削ユニットを下降させ、研削砥石が隙間ゲージに接触した位置を参照して原点位置を登録していた。しかしながら、研削ユニットを昇降させつつ研削砥石と隙間ゲージとの隙間を確認する作業は、オペレータの習熟を要する作業のため、オペレータにとっては負担となっているという問題があった。 In the grinding device, the height at which the lower end of the grinding wheel and the holding surface come into contact is registered as the origin position, and the spindle (grinding unit) on which the grinding wheel is mounted is controlled to move up and down. , The grinding unit was lowered toward a clearance gauge having a predetermined thickness placed on the holding surface, and the origin position was registered with reference to the position where the grinding wheel came into contact with the clearance gauge. However, there is a problem that the work of checking the gap between the grinding wheel and the feeler gauge while raising and lowering the grinding unit is a work that requires the operator's skill, which is a burden on the operator.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、オペレータの負担を軽減しつつ、原点位置の登録をより正確かつより安全に実施できる研削装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a grinding device capable of registering an origin position more accurately and safely while reducing the burden on an operator.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の研削装置は、被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該保持面と垂直な回転軸のスピンドルを有し該スピンドルの下端に装着した研削砥石で該チャックテーブルに保持された被加工物を研削する研削ユニットと、該研削ユニットを該保持面と垂直な方向に昇降させる昇降ユニットと、該研削ユニットを該研削ユニットの重量に対応した力で持ち上げるバランスシリンダと、該研削砥石の該チャックテーブルに対する原点位置を設定する原点位置設定部と、を備える研削装置であって、該原点位置設定部は、該昇降ユニットによって昇降する該研削ユニットの位置を検出する位置検出部と、該バランスシリンダのシリンダ内圧を検出する内圧検出部とからの信号に基づいて該原点位置を設定する制御ユニットと、を有し、該制御ユニットは、該研削砥石を該昇降ユニットで該チャックテーブルへ下降させ、該研削砥石が該チャックテーブルの該保持面、または該保持面と所定の高さ関係にある接触面に接触した際に発生する、該バランスシリンダのシリンダ内圧の変化を検出した時点で該位置検出部が検出した該研削ユニットの位置を該原点位置として設定することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the grinding device of the present invention has a chuck table for holding the workpiece on the holding surface and a spindle having a rotation axis perpendicular to the holding surface. A grinding unit that grinds the workpiece held on the chuck table with a grinding wheel mounted on the lower end, an elevating unit that raises and lowers the grinding unit in a direction perpendicular to the holding surface, and the grinding unit of the grinding unit. A grinding device including a balance cylinder that lifts with a force corresponding to the weight and an origin position setting portion that sets the origin position of the grinding wheel with respect to the chuck table, and the origin position setting portion is raised and lowered by the elevating unit. The control unit has a position detection unit that detects the position of the grinding unit and a control unit that sets the origin position based on a signal from the internal pressure detection unit that detects the cylinder internal pressure of the balance cylinder. Is generated when the grinding wheel is lowered to the chuck table by the elevating unit and the grinding wheel comes into contact with the holding surface of the chuck table or a contact surface having a predetermined height relationship with the holding surface. It is characterized in that the position of the grinding unit detected by the position detecting unit at the time when the change in the cylinder internal pressure of the balance cylinder is detected is set as the origin position.
本発明は、オペレータの負担を軽減しつつ、原点位置の登録をより正確かつより安全に実施できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can register the origin position more accurately and safely while reducing the burden on the operator.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 An embodiment (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Further, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions or changes of the configuration can be made without departing from the gist of the present invention.
〔実施形態〕
本発明の実施形態に係る研削装置1を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態に係る研削装置1の構成例を示す側断面図である。図2は、図1の研削装置1の要部の側断面図である。図3は、図1の研削装置1のバランスシリンダ40を示す断面図である。研削装置1は、図1に示すように、チャックテーブル10と、研削ユニット20と、昇降ユニット30と、バランスシリンダ40と、原点位置設定部50と、を備える。研削装置1は、チャックテーブル10で保持した被加工物100を、研削ユニット20で研削する。
[Embodiment]
The
研削装置1の研削対象である被加工物100は、例えば、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素などを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハなどのウエーハである。被加工物100は、例えば、平坦な表面の格子状に形成される複数の分割予定ラインによって区画された領域に半導体デバイス等のデバイスが形成されており、表面とは反対側の裏面側から研削される。また、本発明では、被加工物100は、樹脂により封止されたデバイスを複数有した矩形状のパッケージ基板、セラミックス板、又はガラス板等でも良い。
The
チャックテーブル10は、図1に示すように、上方に向けて水平面に平行な保持面11を有する。チャックテーブル10は、不図示の吸引源が接続されており、吸引源から供給される負圧によって保持面11で被加工物100の表面側を吸引保持する。チャックテーブル10は、不図示の回転駆動部が接続されており、回転駆動部によりZ軸周りに回転可能である。
As shown in FIG. 1, the chuck table 10 has a
研削ユニット20は、図1に示すように、スピンドル21と、研削ホイール22と、を備える。研削ホイール22は、スピンドル21の下端に装着される環状の基台25と、基台25に固定されて環状に配列された複数の研削砥石26と、を含む。研削ユニット20は、スピンドル21により研削ホイール22をZ軸周りに回転させながら、チャックテーブル10の保持面11で保持された被加工物100にZ軸方向に沿って押圧することにより、被加工物100を研削する。研削ユニット20は、本実施形態では、重量が大きく、例えば、30kg程度である。
As shown in FIG. 1, the
昇降ユニット30は、研削ユニット20の一方の側面(図1の+Y方向)に装着され、研削ユニット20をチャックテーブル10の保持面11と概ね垂直な方向である鉛直方向(Z軸方向)に昇降させる。昇降ユニット30は、研削ユニット20を鉛直方向に研削送りする。
The elevating
また、研削装置1は、図1に示すように、研削ユニット20のZ軸方向の位置を検出する位置検出部35を備える。位置検出部35は、昇降ユニット30に沿ってZ軸方向と平行に設けられたリニアスケールと、研削ユニット20とともにZ軸方向に移動自在に設けられリニアスケールの目盛を読み取る読み取りヘッドと、により構成されている。位置検出部35は、読み取りヘッドが読み取ったリニアスケールの目盛を示す情報を、研削ユニット20のZ軸方向の位置を示す情報として原点位置設定部50に出力する。
Further, as shown in FIG. 1, the
バランスシリンダ40は、図1に示すように、研削ユニット20の重心に対して昇降ユニット30とは反対側(図1の−Y方向側)に設けられており、研削ユニット20を研削ユニット20の重量に対応した力で持ち上げることで、研削ユニット20の自重を相殺する。バランスシリンダ40は、図2に示す本実施形態の例では2本設けられているが、本発明ではこれに限定されず、1本でもよいし、3本以上設けられてもよい。
As shown in FIG. 1, the
バランスシリンダ40は、本実施形態ではエアシリンダであり、図1及び図2に示すように、円筒状のシリンダケース41と、シリンダケース41の内部に配設されケース内部を摺動するピストン42と、シリンダケース41に挿入され上端がピストン42に取り付けられたピストンロッド43と、を備える。ピストンロッド43の下端は、研削ユニット20に連結されている。
The
シリンダケース41は、ピストン42の摺動範囲よりも下側の位置に、エア供給源45から圧縮空気等のエアが供給される供給口44が形成されている。エア供給源45は、シリンダケース41の内部のピストン42よりも下方の空間に、供給口44を通じてエアを供給する。
The
シリンダケース41の供給口44とエア供給源45との間を連通する連通路には、バランスシリンダ調整部46が設けられている。バランスシリンダ調整部46は、図1、図2及び図3に示すように、精密圧力調整器47と、内圧検出部48と、制御部49と、を備える。
A balance
精密圧力調整器47は、エア供給源45からシリンダケース41の内部に供給されるエアの圧力を調整する。精密圧力調整器47は、本実施形態では、電空レギュレータである。内圧検出部48は、シリンダケース41の内圧、すなわちバランスシリンダ40のシリンダ内圧を検出する。内圧検出部48は、検出したシリンダ内圧を原点位置設定部50に出力する。制御部49は、精密圧力調整器47及び内圧検出部48を制御する。バランスシリンダ調整部46は、制御部49により、内圧検出部48で検出するシリンダ内圧に基づいて、シリンダ内圧を一定に保持するように、精密圧力調整器47でシリンダケース41の内部に供給するエアの圧力を調整することで、バランスシリンダ40が研削ユニット20を持ち上げる力が一定に保持されるように調整する。
The
原点位置設定部50は、研削砥石26のチャックテーブル10に対する原点位置を設定する。原点位置設定部50は、図1に示すように、位置検出部35及び内圧検出部48と情報通信可能に電気的に接続されている。
The origin position setting unit 50 sets the origin position of the
原点位置設定部50は、制御ユニット51を有する。制御ユニット51は、位置検出部35からの信号により研削ユニット20のZ軸方向の位置の情報を取得する。制御ユニット51は、内圧検出部48からの信号によりバランスシリンダ40のシリンダ内圧の情報を取得する。制御ユニット51は、取得した研削ユニット20のZ軸方向の位置の情報と、バランスシリンダ40のシリンダ内圧の情報とに基づいて、研削ユニット20のZ軸方向の原点位置を設定する。
The origin position setting unit 50 has a control unit 51. The control unit 51 acquires information on the position of the grinding
制御ユニット51は、昇降ユニット30でチャックテーブル10へ下降させた研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11、または保持面11と所定の高さ関係にある接触面に接触した際に発生する、バランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を、内圧検出部48で検出する。ここで、保持面11と所定の高さ関係にある接触面は、本実施形態では、例えば、チャックテーブル10の保持面11上に吸引保持された被加工物100の表面とは反対側の裏面である。制御ユニット51は、内圧検出部48でこのバランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を検出した時点で位置検出部35が検出した研削ユニット20のZ軸方向の位置を、原点位置として設定する。
The control unit 51 is generated when the grinding
制御部49及び原点位置設定部50は、本実施形態では、いずれも、コンピュータシステムを含む。制御部49及び原点位置設定部50は、それぞれ、CPU(Central Processing Unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(Read Only Memory)又はRAM(Random Access Memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。制御部49の演算処理装置は、精密圧力調整器47及び内圧検出部48を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して精密圧力調整器47及び内圧検出部48に出力する。原点位置設定部50の演算処理装置、記憶装置及び入出力インターフェース装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実行することで、制御ユニット51の機能を実現する。制御部49及び原点位置設定部50は、本実施形態ではそれぞれ別々に設けられているが、本発明ではこれに限定されず、一体化されていてもよい。
In the present embodiment, the
また、研削装置1は、図1に示すように、研削量検出ユニット60を備える。研削量検出ユニット60は、チャックテーブル10の保持面11の外周付近に設けられている。研削量検出ユニット60は、本実施形態では、接触式の高さ検出装置であり、接触した位置の高さを検出する接触式のプローブ61,62を備える。
Further, as shown in FIG. 1, the grinding
プローブ61は、チャックテーブル10の保持面11に被加工物100が保持されている際に、被加工物100の外縁より外側の領域において保持面11に上方から接触することで、保持面11の高さを検出する。プローブ62は、チャックテーブル10の保持面11に被加工物100が保持されている際に、被加工物100の外縁よりわずかに内側の領域において被加工物100に上方から接触することで、被加工物100の上面の高さを検出する。研削量検出ユニット60は、プローブ61,62でそれぞれ検出した高さの情報に基づいて、被加工物100の外縁よりわずかに内側の領域における被加工物100の厚みを検出する。
When the
なお、研削量検出ユニット60は、本実施形態では接触式のプローブ61,62を備えた形態であるが、本発明ではこれに限定されず、例えば、被加工物100の外縁の内側と外側とに保持面11及び被加工物100によって反射される波長のレーザー光を照射し、双方から反射されるレーザー光の干渉波を受光して、この干渉波を受光に基づいて、被加工物100の外縁よりわずかに内側の領域における被加工物100の厚みを検出する形態でもよい。
In the present embodiment, the grinding
また、研削装置1は、不図示の制御装置を備える。この制御装置は、研削装置1の各構成要素をそれぞれ制御して、研削装置1による研削処理を実現する。制御装置は、例えばオペレータにより入力設定された被加工物100の研削条件に従って、研削ホイール22により被加工物100を研削する。この制御装置は、原点位置設定部50と同様のコンピュータを含んで構成される。なお、この制御装置は、原点位置設定部50と一体化されていてもよい。
Further, the grinding
次に、本明細書は、実施形態に係る研削装置1の動作の一例を図面に基づいて説明する。図4は、図1の研削装置1の動作の処理手順の一例を示すフローチャートである。図5は、図1の研削装置1が検出するバランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化の一例を示すグラフである。以下において、まず、研削装置1が、チャックテーブル10の保持面11上に被加工物100が吸引保持されていない場合に、原点位置を設定する動作について説明する。
Next, this specification describes an example of the operation of the
研削装置1は、まず、チャックテーブル10の保持面11と、研削ユニット20の研削砥石26の少なくとも一部とを、Z軸方向に対抗させるように、チャックテーブル10及び研削ユニット20を位置付ける。研削装置1は、次に、オペレータの操作に従って、研削砥石26を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ向けて下降させる(図4のステップ1001)。なお、研削装置1は、本発明ではこれに限定されず、不図示の制御装置により自動で、研削砥石26を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ向けて下降させてもよい。
First, the grinding
バランスシリンダ調整部46は、ステップ1001の実施中、すなわち、研削ユニット20を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ向けて下降中、制御部49により、精密圧力調整器47でシリンダケース41の内部に供給するエアの圧力が一定となるように調整する。このため、内圧検出部48は、図5に示すように、ステップ1001の実施中、バランスシリンダ40のシリンダ内圧が一定で概ね変化していない状態であることを検出する。
The balance
研削装置1は、さらに研削砥石26を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ向けて下降させ続けると、研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11に接触する。これにより、バランスシリンダ40のピストン42は、瞬間的に、ピストンロッド43を介して、研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11から受ける反作用の力を受ける。そして、バランスシリンダ調整部46が、ピストン42が受ける反作用の力に対して、精密圧力調整器47でシリンダケース41の内部に供給するエアの圧力が一定となるように調整する結果、バランスシリンダ40のシリンダ内圧は、図5に示すように、瞬間的に上昇する。
When the
このため、研削装置1は、上記したステップ1001を実施し続けた後に、制御ユニット51が、内圧検出部48で、研削砥石26とチャックテーブル10の保持面11との接触に起因する、バランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を検出する(図4のステップ1002)。
Therefore, in the grinding
研削装置1は、研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11に接触すると、オペレータの操作に従って、研削ユニット20を昇降ユニット30で上昇させてチャックテーブル10から退避させる。なお、研削装置1は、本発明ではこれに限定されず、不図示の制御装置により自動で、研削ユニット20を昇降ユニット30で上昇させてチャックテーブル10から退避させてもよい。
When the
研削装置1は、制御ユニット51が、ステップ1002でバランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を検出した時点で位置検出部35が検出した研削ユニット20のZ軸方向の位置の情報を、位置検出部35より取得する(図4のステップ1003)。研削装置1は、制御ユニット51が、ステップ1003で取得した研削ユニット20のZ軸方向の位置を、研削砥石26とチャックテーブル10の保持面11とが接触するときの研削ユニット20の位置であるとして、原点位置として設定する(図4のステップ1004)。研削装置1は、制御ユニット51が、原点位置設定部50の記憶装置に、ステップ1003で取得した研削ユニット20のZ軸方向の位置を原点位置として記憶させる。
In the grinding
研削装置1は、ステップ1004の実施後、チャックテーブル10の保持面11上に被加工物100を搬入し、チャックテーブル10の保持面11で被加工物100を吸引保持する。研削装置1は、そして、ステップ1004で設定された原点位置に基づき、予め設定された条件下で、スピンドル21により研削ホイール22をZ軸周りに回転させながら、昇降ユニット30により研削ユニット20をチャックテーブル10の保持面11で保持された被加工物100にZ軸方向に沿って押圧することにより、被加工物100を研削する研削処理を実施する(図4のステップ1005)。
After performing
研削装置1は、本実施形態では、チャックテーブル10の交換等のチャックテーブル10側のメンテナンスを実施した際、及び、研削ユニット20に装着する研削ホイール22を交換した際に、チャックテーブル10の保持面と研削ホイール22の下端との位置関係を登録するために、ステップ1001〜ステップ1004を実施して原点位置の設定を実施する。
In the present embodiment, the grinding
また、研削装置1は、上記した原点位置を設定する動作において、チャックテーブル10の保持面11上に被加工物100が吸引保持されていない場合に実施することに代えて、チャックテーブル10の保持面11上に被加工物100が吸引保持されている場合に実施してもよい。この場合、研削装置1は、原点位置の設定の動作が、以下に説明する点で変更される。研削装置1は、ステップ1004の実施後に代えてステップ1001の前に、チャックテーブル10の保持面11上に被加工物100を搬入し、チャックテーブル10の保持面11で被加工物100を吸引保持する。そして、研削装置1は、ステップ1001を実施して研削砥石26を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ向けて下降させ続けると、研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11で保持された被加工物100の裏面に接触する。ここで、チャックテーブル10の保持面11で保持された被加工物100の裏面は、本発明における保持面11と所定の高さ関係にある接触面に相当する。このため、研削装置1は、ステップ1002では、制御ユニット51が、内圧検出部48で、研削砥石26とチャックテーブル10の保持面11上の被加工物100の裏面との接触に起因する、バランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を検出する。また、研削装置1は、ステップ1004では、制御ユニット51が、ステップ1003で取得した研削ユニット20のZ軸方向の位置を、研削砥石26とチャックテーブル10の保持面11上の被加工物100の裏面とが接触するときの研削ユニット20の位置であるとして、上記した原点位置を設定する動作とは異なる定義の原点位置として設定する。また、研削装置1は、チャックテーブル10の保持面11上に、被加工物100以外に、被加工物100と類似のサイズや材質からなる原点位置登録用の基板などを用いてもよく、この場合、被加工物100やチャックテーブル10に研削砥石26の接触による損傷を与える恐れが無い点で好ましい。
Further, the grinding
以上のような構成を有する実施形態に係る研削装置1は、制御ユニット51が、研削砥石26を昇降ユニット30でチャックテーブル10へ下降させ、研削砥石26がチャックテーブル10の保持面11、または保持面11と所定の高さ関係にある接触面に接触した際に発生する、バランスシリンダ40のシリンダ内圧の変化を、内圧検出部48で検出した時点で位置検出部35が検出した研削ユニット20のZ軸方向の位置を、原点位置として設定する。このため、実施形態に係る研削装置1は、従来のような、保持面に載置した所定の厚さの隙間ゲージに向かって研削ユニットを下降させつつ、研削ユニットを昇降させつつ研削砥石と隙間ゲージとの隙間を確認しながら、研削砥石が隙間ゲージに接触した位置を参照して原点位置を登録するといったオペレータにとって習熟を要しかつ負担のかかる作業を要せず、オペレータの作業を研削ユニット20の昇降に限定することができる。したがって、実施形態に係る研削装置1は、オペレータの負担を軽減しつつ、原点位置の登録をより正確かつより安全に実施できるという作用効果を奏する。
In the grinding
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment. That is, it can be modified in various ways without departing from the gist of the present invention.
1 研削装置
10 チャックテーブル
11 保持面
20 研削ユニット
21 スピンドル
22 研削ホイール
25 基台
26 研削砥石
30 昇降ユニット
35 位置検出部
40 バランスシリンダ
48 内圧検出部
50 原点位置設定部
51 制御ユニット
100 被加工物
1 Grinding
Claims (1)
該原点位置設定部は、
該昇降ユニットによって昇降する該研削ユニットの位置を検出する位置検出部と、該バランスシリンダのシリンダ内圧を検出する内圧検出部とからの信号に基づいて該原点位置を設定する制御ユニットと、を有し、
該制御ユニットは、
該研削砥石を該昇降ユニットで該チャックテーブルへ下降させ、該研削砥石が該チャックテーブルの該保持面、または該保持面と所定の高さ関係にある接触面に接触した際に発生する、該バランスシリンダのシリンダ内圧の変化を検出した時点で該位置検出部が検出した該研削ユニットの位置を該原点位置として設定することを特徴とする研削装置。 Grinding to grind the workpiece held on the chuck table with a chuck table that holds the workpiece on the holding surface and a grinding wheel that has a spindle with a rotation axis perpendicular to the holding surface and is attached to the lower end of the spindle. A unit, an elevating unit that raises and lowers the grinding unit in a direction perpendicular to the holding surface, a balance cylinder that lifts the grinding unit with a force corresponding to the weight of the grinding unit, and an origin position of the grinding grind with respect to the chuck table. It is a grinding device provided with an origin position setting unit for setting.
The origin position setting unit is
It has a position detecting unit that detects the position of the grinding unit that moves up and down by the elevating unit, and a control unit that sets the origin position based on a signal from the internal pressure detecting unit that detects the cylinder internal pressure of the balance cylinder. death,
The control unit is
The grinding wheel is lowered to the chuck table by the elevating unit, and the grinding wheel is generated when the grinding wheel comes into contact with the holding surface of the chuck table or a contact surface having a predetermined height relationship with the holding surface. A grinding device characterized in that the position of the grinding unit detected by the position detecting unit when a change in the cylinder internal pressure of the balance cylinder is detected is set as the origin position.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020070598A JP2021167031A (en) | 2020-04-09 | 2020-04-09 | Grinding device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020070598A JP2021167031A (en) | 2020-04-09 | 2020-04-09 | Grinding device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021167031A true JP2021167031A (en) | 2021-10-21 |
Family
ID=78080024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020070598A Pending JP2021167031A (en) | 2020-04-09 | 2020-04-09 | Grinding device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021167031A (en) |
-
2020
- 2020-04-09 JP JP2020070598A patent/JP2021167031A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102221749B1 (en) | Method for dressing grinding stone | |
KR102067434B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP6082654B2 (en) | Grinding method | |
CN106563980B (en) | Grinding method | |
TWI760551B (en) | Grinding method | |
JP2023053560A (en) | Grinding apparatus | |
JP2011200960A (en) | Grinding device | |
JP2021167031A (en) | Grinding device | |
JP2020049593A (en) | Grinding method | |
CN116230510A (en) | Wafer manufacturing method and grinding device | |
TW202306005A (en) | Silicon wafer positioning method and device | |
CN115091287A (en) | Ultra-precise grinding parameter adjusting method and grinding system | |
TW201707861A (en) | Grinding and cutting method including a grinding and cutting preparation step, a thickness measurement step, a calculating step, and a height adjustment step | |
JP2019030932A (en) | Height measurement jig | |
KR20210073452A (en) | Grinding apparatus | |
JP6487790B2 (en) | Processing equipment | |
JP7471751B2 (en) | Wafer Processing Method | |
JP5971902B2 (en) | Work holding device and three-dimensional shape measuring device provided with the work holding device | |
KR20220040375A (en) | Polishing device | |
JP7537986B2 (en) | Wafer grinding method | |
JP5512314B2 (en) | Grinding equipment | |
TW202346024A (en) | Grinding device and wafer grinding method capable of uniformizing the grinding time and amount of each chuck table | |
KR20220123584A (en) | Grinding apparatus | |
JP2022161165A (en) | Method for grinding bent plate-like workpiece | |
KR20220057423A (en) | Method for grinding a wafer |