JP2021154538A - Process film - Google Patents

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Abstract

To provide a process film having appropriate peeling force, while achieving a desired gross value.SOLUTION: A process film 1 comprising; a base material 20 and a peeling layer 10 formed on at least a portion of the surface of the substrate 20, in which the release layer 10 contains a peeling agent 11 and inorganic particles 12, and the inorganic particle has hydrophobicity of the inorganic particles 12 measured by the methanol titration method of 20% or larger. The inorganic particles 12 are preferably surface treated with silicone oil or silane coupling agent.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、工程フィルムに関する。 The present disclosure relates to process films.

従来、ラベル素材、電子機器やプリプレグ、合成皮革等のシート状製品の製造工程において、いわゆる工程フィルムと呼ばれるフィルムを用いて、当該シート状製品の保護・固定や装飾性の付与を行っている。 Conventionally, in the manufacturing process of sheet-shaped products such as label materials, electronic devices, prepregs, and synthetic leather, so-called process films are used to protect / fix the sheet-shaped products and impart decorativeness.

近年、表面のグロス(光沢度)を低減させ、マット(艶消し)調とするシート状製品が要望されている。シート状製品のグロスを低減させる工程フィルムの一般的な構成としては、基材の片面側に剥離層が設けられ、剥離層形成組成物中にマット化剤として粒子を添加し、塗膜表面に凹凸形状を形成したものが挙げられる。この工程フィルムの凹凸形状部分をシート状製品(被着体)に転写することにより、表面がマット調のシート状製品を得ることができる。 In recent years, there has been a demand for sheet-like products that reduce the gloss (glossiness) of the surface and give a matte (matte) tone. A process for reducing the gloss of a sheet-like product As a general structure of a film, a release layer is provided on one side of a base material, particles are added as a matting agent to the release layer forming composition, and the coating film surface is coated. Examples thereof include those having a concavo-convex shape. By transferring the uneven shape portion of this process film to a sheet-like product (adhesive body), a sheet-like product having a matte surface can be obtained.

マット調のシート状製品を製造する際に用いられる工程フィルムとして、例えば、特許文献1には、基材層と少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層とを有し、艶消し層中の粒子が、不定形シリカである二軸配向ポリエステルフィルムが開示されている。 As a process film used in producing a matte sheet-like product, for example, Patent Document 1 has a base material layer and a particle-containing matte layer on at least one surface of the matte layer. A biaxially oriented polyester film in which the particles are amorphous silica is disclosed.

特開2016−097522号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-07522

一般的に、マット化剤としては、シリカ粒子や金属粒子等の無機粒子が使用されており、所望のグロス値を達成するために、剥離層には、当該無機粒子が大量に添加されている。しかし、シリカ粒子及び金属粒子の表面には、多くの水酸基が存在しているため、無機粒子表面の水酸基と樹脂製のシート状製品との相互作用で剥離力が上昇し、剥離が安定して行えない、というおそれがあった。 Generally, inorganic particles such as silica particles and metal particles are used as the matting agent, and a large amount of the inorganic particles are added to the release layer in order to achieve a desired gloss value. .. However, since many hydroxyl groups are present on the surfaces of silica particles and metal particles, the peeling force increases due to the interaction between the hydroxyl groups on the surface of the inorganic particles and the resin sheet-like product, and the peeling becomes stable. There was a risk that it could not be done.

そこで、本発明の1つの側面としては、所望のグロス値を達成しつつ、適度な剥離力を持つ工程フィルムを提供することを目的とする。 Therefore, one aspect of the present invention is to provide a process film having an appropriate peeling force while achieving a desired gloss value.

本発明者の鋭意検討の結果、無機粒子の表面に疎水化処理を行い、表面の疎水化度が特定の範囲を満たす無機粒子を剥離層中に添加することで、上記課題を克服できることを見出した。 As a result of diligent studies by the present inventor, it has been found that the above problems can be overcome by subjecting the surface of the inorganic particles to a hydrophobic treatment and adding the inorganic particles having a surface hydrophobicity satisfying a specific range to the release layer. rice field.

本発明の第1の態様は、
[1]基材と、上記基材の表面の少なくとも一部に形成された剥離層と、を備え、
上記剥離層が、剥離剤と、無機粒子と、を含有し、
前記無機粒子のメタノール滴定法で測定される疎水化度が、20%以上であることを特徴とする工程フィルムである。
The first aspect of the present invention is
[1] A base material and a release layer formed on at least a part of the surface of the base material are provided.
The release layer contains a release agent and inorganic particles,
It is a process film characterized in that the degree of hydrophobization of the inorganic particles measured by the methanol titration method is 20% or more.

[2]上記無機粒子が、シリコーンオイルにより表面が疎水化処理された粒子であることを特徴とする[1]に記載の工程フィルムである。 [2] The process film according to [1], wherein the inorganic particles are particles whose surface is hydrophobized with silicone oil.

[3]上記無機粒子が、シランカップリング剤により表面が疎水化処理された粒子であることを特徴とする[1]に記載の工程フィルムである。 [3] The process film according to [1], wherein the inorganic particles are particles whose surface is hydrophobized with a silane coupling agent.

[4]上記無機粒子が、シリカ、アルミナ及び酸化チタンからなる群より選択される1種以上であることを特徴とする[1]から[3]のいずれか1項に記載の工程フィルムである。 [4] The process film according to any one of [1] to [3], wherein the inorganic particles are one or more selected from the group consisting of silica, alumina and titanium oxide. ..

[5]上記シリコーンオイルが、ジメチルシリコーンオイルであることを特徴とする[2]に記載の工程フィルムである。 [5] The process film according to [2], wherein the silicone oil is a dimethyl silicone oil.

[6]上記剥離層の光沢度が、60°グロス値で10%以下であることを特徴とする[1]から[5]のいずれか1項に記載の工程フィルムである。 [6] The process film according to any one of [1] to [5], wherein the glossiness of the release layer is 10% or less at a gloss value of 60 °.

本発明の1つの側面によれば、所望のグロス値を達成しつつ、適度な剥離力を持つ工程フィルムを提供することが可能となる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a process film having an appropriate peeling force while achieving a desired gloss value.

一実施例における工程フィルムの断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the cross section of the process film in one Example.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[工程フィルム]
本発明の工程フィルム1は、図1に示すように、基材20と、上記基材20の表面の少なくとも一部に形成された剥離層10と、を備え、上記剥離層10が、剥離剤11と、無機粒子12と、を含有している。
[Process film]
As shown in FIG. 1, the process film 1 of the present invention includes a base material 20 and a release layer 10 formed on at least a part of the surface of the base material 20, and the release layer 10 is a release agent. 11 and inorganic particles 12 are contained.

1.各部材
(1)基材
工程フィルム1の基材20としては、後述の剥離層10を支持できるものであれば適宜選択でき、例えば、紙基材、樹脂フィルム等が挙げられる。
1. 1. Each member (1) Base material The base material 20 of the process film 1 can be appropriately selected as long as it can support the release layer 10 described later, and examples thereof include a paper base material and a resin film.

紙基材としては、例えば、上質紙、中質紙、グラシン紙、アート紙、コート紙及びキャストコート紙等が挙げられ、また、これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙も挙げられる。 Examples of the paper base material include high-quality paper, medium-quality paper, glassin paper, art paper, coated paper, cast-coated paper, and the like, and a laminate obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on these paper base materials. Paper is also mentioned.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルからなるフィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィンからなるフィルム、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル等のプラスチックからなるフィルムが挙げられる。 Examples of the resin film include a film made of polyester such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate, a film made of polyolefin such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene, and a film made of plastic such as polycarbonate and polyvinyl acetate. Can be mentioned.

これらの基材20は単層であってもよいし、同種又は異種の2層以上の多層であってもよい。 These base materials 20 may be a single layer, or may be two or more layers of the same type or different types.

これらの基材20の中でも、ポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが更に好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、加工時、使用時等において、埃等が発生しにくく、塗工不良等を効果的に防止することができる。 Among these base materials 20, a polyester film is preferable, a polyethylene terephthalate film is more preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is further preferable. The polyethylene terephthalate film is less likely to generate dust or the like during processing, use, etc., and can effectively prevent poor coating.

基材20の厚さは特に限定されないが、5μm以上300μm以下であることが好ましく、10μm以上200μm以下であることがより好ましい。 The thickness of the base material 20 is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 300 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 200 μm or less.

(2)剥離層
剥離層10を形成する剥離層形成組成物は、剥離剤11と後述する所定の疎水化度を有する無機粒子12と、を備え、必要に応じて添加剤、有機溶媒を配合する。
(2) Release layer The release layer forming composition for forming the release layer 10 includes a release agent 11 and inorganic particles 12 having a predetermined degree of hydrophobicity, which will be described later, and if necessary, an additive and an organic solvent are blended. do.

(2−1)剥離剤
剥離層10を形成する剥離層形成組成物に含有される剥離剤11としては、例えば、
(1)低極性でそれ自体が剥離性を示すポリマー化合物、
(2)化学修飾されることにより剥離性を付与されたポリマー材料、
(3)ポリマー材料に剥離性の低分子又はオリゴマー成分を添加して剥離性を付与された組成物等が挙げられる。
(2-1) Release Agent As the release agent 11 contained in the release layer forming composition forming the release layer 10, for example,
(1) A polymer compound having low polarity and exhibiting peelability by itself,
(2) A polymer material that has been chemically modified to give it peelability.
(3) Examples thereof include a composition obtained by adding a peelable low molecular weight or oligomer component to a polymer material to impart peelability.

低極性でそれ自体が剥離性を示すポリマー化合物としては、例えば、ポリオルガノシロキサン;フルオロポリマー;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン;ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ポリマー等が挙げられる。 Examples of the polymer compound having low polarity and exhibiting peelability by itself include polyorganosiloxane; fluoropolymer; polyolefin such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene; and diene-based polymer such as polybutadiene and polyisoprene.

化学修飾されることにより剥離性を付与されたポリマー材料において、化学修飾されるポリマー成分としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分鹸化ポリ酢酸ビニル、水酸基含有アクリル酸エステル共重合体、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。これらポリマー成分は、化学修飾されていなければ剥離性を示さない場合が多い。 In a polymer material that has been chemically modified to provide peelability, examples of the chemically modified polymer component include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl acetate, hydroxyl group-containing acrylic ester copolymer, urethane resin, and alkyd resin. , Amino resin, epoxy resin, phenol resin and the like. These polymer components often do not exhibit peelability unless they are chemically modified.

また、化学修飾されることにより剥離性を付与されたポリマー材料において、化学修飾する成分としては、例えば、官能基を有するポリオルガノシロキサンまたはオルガノシロキサンオリゴマー;官能基を有するフルオロカーボン化合物;官能基を有する長鎖アルキル化合物が挙げられる。このうちの長鎖アルキル化合物としては、ラウリル基、パルミチル基、ステアリル基等の炭素数12以上のアルキル基を持つ化合物が挙げられる。 Further, in the polymer material to which the peelability is imparted by chemical modification, examples of the component to be chemically modified include a polyorganosiloxane or an organosiloxane oligomer having a functional group; a fluorocarbon compound having a functional group; and a functional group. Long chain alkyl compounds can be mentioned. Examples of the long-chain alkyl compound include compounds having an alkyl group having 12 or more carbon atoms, such as a lauryl group, a palmityl group, and a stearyl group.

化学修飾する化合物の官能基としては、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基、(メタ)アクリロイル基、チオール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。 Examples of the functional group of the chemically modified compound include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a (meth) acryloyl group, a thiol group, and an alkoxysilyl group.

化学修飾されることにより剥離性を付与されたポリマー材料は、通常、シリコーン変性樹脂、フルオロ変性樹脂、長鎖アルキル変性樹脂のように呼称される。 Polymer materials that have been chemically modified to give them releasability are usually referred to as silicone-modified resins, fluoro-modified resins, and long-chain alkyl-modified resins.

ポリマー材料に剥離性の低分子またはオリゴマー成分を添加して剥離性を付与された組成物において、用いられるポリマー材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分鹸化ポリ酢酸ビニル、アクリル酸エステル共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。 Examples of the polymer material used in the composition obtained by adding a releasable low molecular weight or oligomer component to the polymer material to impart releasability include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl acetate, and acrylic acid ester copolymer. Examples thereof include urethane resin, polyester resin, polyamide resin, alkyd resin, amino resin, epoxy resin, and phenol resin.

これらのポリマー材料に添加される剥離性の低分子またはオリゴマー成分としては、例えば、ワックス(炭化水素化合物);ポリオルガノシロキサンまたはオルガノシロキサンオリゴマー;フルオロカーボン;長鎖アルキル化合物が挙げられ、更にこれらのポリエーテル付加物、ポリエステル付加物等が挙げられる。これらの中でも、剥離性や耐熱性が向上しやすいこと、また、充填剤や他の添加剤との親和性が良好になり得るという観点から、化学修飾されることにより剥離性を付与されたポリマー材料が剥離性主剤として好ましく、ポリオルガノシロキサンで化学修飾されたアルキド樹脂、いわゆるシリコーン変性アルキド樹脂がより好ましい。なお、上記の剥離性主剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the peelable low molecular weight or oligomer component added to these polymer materials include wax (hydrocarbon compound); polyorganosiloxane or organosiloxane oligomer; fluorocarbon; long-chain alkyl compound, and further these polys. Examples include ether adducts and polyester adducts. Among these, polymers that have been chemically modified to give them releasability from the viewpoint that their releasability and heat resistance can be easily improved and their affinity with fillers and other additives can be improved. The material is preferable as a peelable main agent, and an alkyd resin chemically modified with polyorganosiloxane, a so-called silicone-modified alkyd resin, is more preferable. The above-mentioned peelable main agent may be used alone or in combination of two or more.

(2−2)無機粒子
剥離層10中に添加される無機粒子12は、メタノール滴定法による疎水化度が20%以上のものである。無機粒子12の疎水化度は、25%以上がより好ましく、30%以上が更に好ましい。無機粒子12の疎水化度が20%以上の範囲にあることで、無機粒子12と樹脂製シート状製品との相互作用を弱め、剥離力をコントロールすることができる。また、無機粒子12の疎水化度の上限値は、特に限定されないが、100%以下であり、90%以下がより好ましく、80%以下が更に好ましい。なお、本発明に係るメタノール滴定法による疎水化度は、以下の条件で測定したものを指す。
(2-2) Inorganic Particles The inorganic particles 12 added to the release layer 10 have a degree of hydrophobization of 20% or more by the methanol titration method. The degree of hydrophobicity of the inorganic particles 12 is more preferably 25% or more, further preferably 30% or more. When the degree of hydrophobicity of the inorganic particles 12 is in the range of 20% or more, the interaction between the inorganic particles 12 and the resin sheet-like product can be weakened, and the peeling force can be controlled. The upper limit of the degree of hydrophobicity of the inorganic particles 12 is not particularly limited, but is 100% or less, more preferably 90% or less, still more preferably 80% or less. The degree of hydrophobization by the methanol titration method according to the present invention refers to those measured under the following conditions.

試料(無機粒子)0.2gを所定量(50mL)のイオン交換水中に添加し、攪拌しながらメタノールを滴下する。試料の全量が液面上に認められなくなった時を終点として、終点までに要したメタノールの添加量をG(mL)としたとき、疎水化度は、次式で得られる。
疎水化度={G(mL)}/{G(mL)+イオン交換水量(50mL)}×100
0.2 g of a sample (inorganic particles) is added to a predetermined amount (50 mL) of ion-exchanged water, and methanol is added dropwise with stirring. The degree of hydrophobization can be obtained by the following equation when the amount of methanol added to the end point is G (mL), starting from the time when the total amount of the sample is no longer recognized on the liquid surface.
Degree of hydrophobization = {G (mL)} / {G (mL) + amount of ion-exchanged water (50 mL)} x 100

無機粒子12としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、カオリン、タルク、クレー等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性の観点から、不定形シリカ及び不定形アルミナより選択される1種以上であることが好ましく、経済的な観点から、不定形シリカを採用することがより好ましい。 Examples of the inorganic particles 12 include silica, alumina, titanium oxide, zinc oxide, calcium carbonate, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, kaolin, talc, clay and the like. Among these, one or more selected from amorphous silica and amorphous alumina is preferable from the viewpoint of heat resistance, and it is more preferable to use amorphous silica from the economical viewpoint.

無機粒子12の疎水化度は、無機粒子12の形成条件、疎水化処理の有無、疎水化処理を実施する場合の疎水化処理条件を適宜選択することにより制御することができる。 The degree of hydrophobization of the inorganic particles 12 can be controlled by appropriately selecting the formation conditions of the inorganic particles 12, the presence or absence of the hydrophobization treatment, and the hydrophobization treatment conditions when the hydrophobization treatment is carried out.

無機粒子12の疎水化処理方法としては、公知の方法を用いることができるが、例えば、乾式法又は湿式法を用いることができる。 As a method for hydrophobizing the inorganic particles 12, a known method can be used, and for example, a dry method or a wet method can be used.

乾式法の場合、無機粒子12をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒若しくは水に溶解させた疎水化処理剤を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることで、無機粒子12の表面を均一に処理することができる。疎水化処理剤の滴下又は噴霧は、50℃以上の温度で行うことが好ましい。疎水化処理剤を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。また、乾式法においては、無機粒子12を疎水化処理剤で表面を疎水化処理する前に加熱乾燥して表面吸着水を除去することができる。無機粒子12の疎水化処理に表面吸着水を除去することによって、無機粒子12の表面に疎水化処理剤を均一に吸着させることができる。無機粒子12は、せん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら加熱乾燥することも可能である。 In the case of the dry method, the inorganic particles 12 are stirred with a mixer having a large shearing force or the like, and a hydrophobic treatment agent dissolved directly or in an organic solvent or water is dropped and sprayed together with dry air or nitrogen gas to cause the inorganic particles. The surface of 12 can be treated uniformly. The hydrophobizing agent is preferably added dropwise or sprayed at a temperature of 50 ° C. or higher. After dropping or spraying the hydrophobizing agent, baking may be further performed at 100 ° C. or higher. Further, in the dry method, the surface-adsorbed water can be removed by heating and drying the inorganic particles 12 before hydrophobizing the surface with the hydrophobizing agent. By removing the surface-adsorbed water in the hydrophobizing treatment of the inorganic particles 12, the hydrophobizing agent can be uniformly adsorbed on the surface of the inorganic particles 12. The inorganic particles 12 can also be heat-dried while stirring with a mixer or the like having a large shearing force.

湿式法の場合、無機粒子12を溶剤中に攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、疎水化処理剤溶液を添加し攪拌又は分散した後、溶剤除去することで無機粒子12の表面を均一に処理することができる。湿式法においては、無機粒子12を疎水化処理剤で表面を疎水化面処理する前に表面吸着水を除去することができる。この表面吸着水除去方法には、乾式法と同様に加熱乾燥による除去の他に、表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法等により実施される。溶剤除去後、更に100℃以上で焼き付けを行うこともできる。 In the case of the wet method, the inorganic particles 12 are dispersed in a solvent by stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, or the like, a hydrophobizing agent solution is added, stirred or dispersed, and then the solvent is removed to remove the inorganic particles. The surface of the particles 12 can be uniformly treated. In the wet method, the surface adsorbed water can be removed before the surface of the inorganic particles 12 is hydrophobized with a hydrophobizing agent. This surface adsorption water removal method is carried out by a method of removing by heating and drying in a solvent used for surface treatment, a method of removing by azeotropically boiling with a solvent, and the like, in addition to the removal by heating and drying as in the dry method. NS. After removing the solvent, baking can be performed at 100 ° C. or higher.

また、後述する剥離層形成組成物の調整中に無機粒子12と疎水化処理剤を添加し攪拌又は分散させ、表面処理を行ってもよい。 Further, during the preparation of the release layer forming composition described later, the inorganic particles 12 and the hydrophobizing treatment agent may be added and stirred or dispersed to perform surface treatment.

疎水化処理剤の使用割合は、無機粒子12を100質量部に対して、0.05質量部以上80質量部以下とすることが好ましく、0.1質量部以上40質量部以下とすることがより好ましい。0.05質量部より少ないと表面処理が不十分となり、80質量部を超えると後処理が煩雑となる。 The proportion of the hydrophobizing agent used is preferably 0.05 parts by mass or more and 80 parts by mass or less, and 0.1 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the inorganic particles 12. More preferred. If it is less than 0.05 parts by mass, the surface treatment becomes insufficient, and if it exceeds 80 parts by mass, the post-treatment becomes complicated.

疎水化処理剤としては、通常、無機粒子12の表面処理に用いられる公知のものを、特に制限なく使用することができ、必要とする無機粒子12の性能等に応じて適宜選択すればよく、例えば、シリコーンオイル、アルコキシシラン、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ハロゲン化合物、シロキサン、シラザン及び高級脂肪酸等が挙げられる。なお、上記の疎水化処理剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the hydrophobizing agent, a known one that is usually used for the surface treatment of the inorganic particles 12 can be used without particular limitation, and may be appropriately selected depending on the required performance of the inorganic particles 12 and the like. For example, silicone oil, alkoxysilane, silane coupling agent, titanium coupling agent, halogen compound, siloxane, silazane, higher fatty acid and the like can be mentioned. The above-mentioned hydrophobizing agent may be used alone or in combination of two or more.

シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーンオイル;アルキル変性シリコーンオイル、クロロアルキル変性シリコーンオイル、クロロフェニル変性シリコーンオイル、脂肪酸変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルコキシ変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル等が挙げられる。 Examples of the silicone oil include straight silicone oils such as dimethyl silicone oil, methylhydrogen silicone oil, and methylphenyl silicone oil; alkyl-modified silicone oil, chloroalkyl-modified silicone oil, chlorophenyl-modified silicone oil, fatty acid-modified silicone oil, and polyether. Examples thereof include modified silicone oil, alkoxy-modified silicone oil, carbinol-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, carboxyl-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, methacryl-modified silicone oil, and mercapto-modified silicone oil.

アルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the alkoxysilane include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane.

シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N−ジメチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N−ジエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、4−スチリルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloyloxytrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltri. Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2) -Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N, N-dimethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N, N-diethyl-3-aminopropyltri Examples thereof include methoxysilane and 4-styryltrimethoxysilane.

チタンカップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリ(N−アミノエチルアミノエチル)チタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ジイソプロピルビス(ジオクチルホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート等が挙げられる。 Examples of the titanium coupling agent include isopropyltri (N-aminoethylaminoethyl) titanate, isopropyltriisostearoyl titanate, diisopropylbis (dioctylphosphate) titanate, tetraisopropylbis (dioctylphosphate) titanate, and tetraoctylbis (ditri). Decylphosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecylphosphite) titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, etc. Be done.

ハロゲン化合物としては、例えば、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化アンモニウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、塩化ストロンチウム、塩化バリウム、塩化カルシウム、塩化アンモニウム、臭化マグネシウム、臭化アルミニウム、臭化ストロンチウム、臭化バリウム、臭化カルシウム、臭化アンモニウム、ヨウ化マグネシウム、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化ストロンチウム、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化アンモニウム、ホウフッ化水素酸、酸性フッ化アンモニウム、ケイフッ化水素酸、ケイフッ化アンモニウム、ホウフッ化亜鉛等が挙げられる。 Examples of the halogen compound include magnesium fluoride, aluminum fluoride, strontium fluoride, barium fluoride, calcium fluoride, ammonium fluoride, magnesium chloride, aluminum chloride, strontium chloride, barium chloride, calcium chloride, ammonium chloride, and odor. Magnesium bromide, aluminum bromide, strontium bromide, barium bromide, calcium bromide, ammonium bromide, magnesium iodide, aluminum iodide, strontium iodide, barium iodide, calcium iodide, ammonium iodide, hydrogen borofluoride Acids, acidic ammonium fluoride, hydrocarbic acid, ammonium fluoride, zinc borofluoride and the like can be mentioned.

シロキサンとしては、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン等が挙げられる。 Examples of the siloxane include hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane and the like.

シラザンとしては、例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、へキサプロピルジシラザン、ヘキサブチルジシラザン、ヘキサペンチルジシラザン、ヘキサヘキシルジシラザン、ヘキサシクロヘキシルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ジメチルテトラビニルジシラザン等が挙げられる。 Examples of the silazane include hexamethyldisilazane, hexaethyldisilazane, hexapropyldisilazane, hexabutyldisilazane, hexapentyldisilazane, hexahexyldisilazane, hexacyclohexyldisilazane, hexaphenyldisilazane, and divinyltetramethyl. Examples thereof include disilazane and dimethyltetravinyl disilazane.

高級脂肪酸としては、例えば、ステアリン酸、パルミチン酸、イソパルミチン酸、オレイン酸等が挙げられる。 Examples of higher fatty acids include stearic acid, palmitic acid, isoparmitic acid, oleic acid and the like.

これらの中でも、疎水化処理の効率性の観点から、シランカップリング剤又はシリコーンオイルが好ましい。シランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及び3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランが好ましく、シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイルが好ましい。 Among these, a silane coupling agent or a silicone oil is preferable from the viewpoint of the efficiency of the hydrophobizing treatment. As the silane coupling agent, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane are preferable, and as the silicone oil, dimethylsilicone oil is preferable.

無機粒子12の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状(アスペクト比が1を超えて10以下の形状を言う)、板状、繊維状、又は不定形状があり、任意の形状とすることができる。これらの中でも、工程フィルム1及びそれを用いて得られるシート状製品の光沢度を低くする観点から、不定形状が好ましい。 The shape of the inorganic particles 12 may be spherical, hollow, porous, rod-shaped (referring to a shape having an aspect ratio of more than 1 and 10 or less), plate-like, fibrous, or indefinite shape, and may be any shape. be able to. Among these, an indefinite shape is preferable from the viewpoint of reducing the glossiness of the process film 1 and the sheet-like product obtained by using the process film 1.

剥離層10における無機粒子12の含有量が、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、15質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、20質量%以上40質量%以下であることが更に好ましい。この範囲とすることで、適度な剥離力を得ることができる。 The content of the inorganic particles 12 in the release layer 10 is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 50% by mass or less, and 20% by mass or more and 40% by mass or less. It is more preferable to have. Within this range, an appropriate peeling force can be obtained.

無機粒子12の平均粒子径は、0.5μm以上10.0μm以下であるのが好ましく、1.5μm以上8.0μm以下であることがより好ましく、2.0μm以上7.0μm以下であることが更に好ましい。平均粒子径が0.5μmより小さくなると無機粒子12が剥離層10から露出しにくくなることで光沢感が強くなってしまうおそれがある。また、平均粒子径が10.0μmより大きくなると、無機粒子12が剥離層10から露出しすぎることでマット感が強くなりすぎるおそれがある。なお、平均粒子径は、無機粒子12単独又は無機粒子12が配合された剥離層形成組成物を計測対象として、レーザー回折式粒度分布計により測定することができる。 The average particle size of the inorganic particles 12 is preferably 0.5 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 1.5 μm or more and 8.0 μm or less, and preferably 2.0 μm or more and 7.0 μm or less. More preferred. If the average particle size is smaller than 0.5 μm, the inorganic particles 12 are less likely to be exposed from the release layer 10, and the glossiness may be enhanced. Further, when the average particle size is larger than 10.0 μm, the inorganic particles 12 may be exposed too much from the release layer 10 and the matte feeling may become too strong. The average particle size can be measured by a laser diffraction type particle size distribution meter for the release layer forming composition containing the inorganic particles 12 alone or the inorganic particles 12 as a measurement target.

(2−3)その他の成分
剥離層形成組成物に用いられる硬化剤、架橋剤及び反応開始剤は、剥離剤11が有する官能基と化学結合が可能な官能基を持つ化合物が選択される。硬化剤、架橋剤、反応開始剤は、剥離剤11と反応して三次元網目構造を形成することにより、剥離層10の被膜の強度や耐熱性を向上させる。剥離層形成組成物に使用される硬化剤、架橋剤及び反応開始剤としては、剥離剤11が有する官能基に反応が可能であれば特に限定はなく、例えば、多価ヒドロシリル基含有オルガノシロキサン化合物、メラミン化合物、多価イソシアネート化合物、多価エポキシ化合物、多価アルデヒド化合物、多価アミン化合物、多価オキサゾリン化合物、金属錯体等が挙げられる。
(2-3) Other Components As the curing agent, cross-linking agent and reaction initiator used in the release layer forming composition, a compound having a functional group capable of chemically bonding with the functional group of the release agent 11 is selected. The curing agent, cross-linking agent, and reaction initiator react with the release agent 11 to form a three-dimensional network structure, thereby improving the strength and heat resistance of the film of the release layer 10. The curing agent, cross-linking agent and reaction initiator used in the release layer forming composition are not particularly limited as long as they can react with the functional group of the release agent 11, and for example, a polyvalent hydrosilyl group-containing organosiloxane compound. , Melamine compound, polyvalent isocyanate compound, polyvalent epoxy compound, polyvalent aldehyde compound, polyvalent amine compound, polyvalent oxazoline compound, metal complex and the like.

剥離層形成組成物に使用される触媒は、剥離層形成組成物の硬化反応(架橋反応)が低温ないし短時間で進むよう反応促進させる化合物であり、当該化学反応に応じた化合物が選択される。多価ヒドロシリル基含有オルガノシロキサン化合物による付加反応に使用される触媒としては、例えば、白金触媒が用いられる。また、メラミン化合物による脱水、脱アルコールを伴う反応に使用される触媒としては、例えば、p−トルエンスルホン酸等の酸触媒が用いられる。 The catalyst used in the release layer forming composition is a compound that accelerates the curing reaction (crosslinking reaction) of the release layer forming composition so as to proceed at a low temperature or in a short time, and a compound corresponding to the chemical reaction is selected. .. As the catalyst used for the addition reaction with the polyvalent hydrosilyl group-containing organosiloxane compound, for example, a platinum catalyst is used. Further, as a catalyst used for a reaction involving dehydration and dealcoholization with a melamine compound, for example, an acid catalyst such as p-toluenesulfonic acid is used.

剥離層形成組成物において、剥離剤11への硬化剤、架橋剤及び反応開始剤の配合比率は、必要とされる工程フィルム1の諸物性に適合するよう適宜選択すればよいが、例えば、剥離剤11の不揮発成分100質量部に対して、0.1質量部以上400質量部以下が好ましく、10質量部以上200質量部以下がより好ましい。また、触媒の配合比率も同様に、必要とされる剥離層形成組成物の反応速度及び必要とされる工程フィルム1の諸物性に適合するよう適宜選択すればよく、例えば、剥離剤11の不揮発成分100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下が好ましく、0.5質量部以上5質量部以下がより好ましい。 In the release layer forming composition, the blending ratio of the curing agent, the cross-linking agent, and the reaction initiator to the release agent 11 may be appropriately selected so as to be suitable for various physical characteristics of the required process film 1. For example, release. With respect to 100 parts by mass of the non-volatile component of the agent 11, 0.1 parts by mass or more and 400 parts by mass or less are preferable, and 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less are more preferable. Similarly, the blending ratio of the catalyst may be appropriately selected so as to be suitable for the required reaction rate of the release layer forming composition and the required physical characteristics of the process film 1. For example, the release agent 11 is non-volatile. It is preferably 0.01 part by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.5 part by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the component.

本実施形態に係る剥離層10を形成するための剥離層形成組成物は、上記の成分に加えて、貯蔵弾性率調整剤、染料や顔料等の着色剤、難燃剤等の各種添加剤を含有してもよい。 The release layer forming composition for forming the release layer 10 according to the present embodiment contains various additives such as a storage elastic modulus adjusting agent, a colorant such as a dye or a pigment, and a flame retardant in addition to the above components. You may.

剥離層形成組成物は、有機溶媒を含む溶液の形態で用いることが好ましい。当該有機溶媒としては、剥離層10に対する溶解性及び揮発性が良好であって、剥離層形成組成物の各成分に対し化学的に不活性な公知の有機溶媒の中から適宜選択して用いることができる。このような有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール、n−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The release layer forming composition is preferably used in the form of a solution containing an organic solvent. The organic solvent should be appropriately selected from known organic solvents that have good solubility and volatility in the release layer 10 and are chemically inactive for each component of the release layer forming composition. Can be done. Examples of such an organic solvent include toluene, xylene, hexane, heptane, methanol, ethanol, isopropanol, isobutanol, n-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

3.工程フィルムの物性
本発明の工程フィルム1は、基材20と、基材20の表面の少なくとも一部に形成された剥離層10と、を備え、剥離層10が、剥離剤11と所定の範囲内の疎水度を有する無機粒子12とを含むことで、工程フィルム1として所望のグロスを達成しつつ、適度な剥離力を持つことができる。具体的には、後述する実施例に記載の方法で測定される31Bテープに対する剥離力が、6000mN/20mm以下が好ましく、4000mN/20mm以下がより好ましく、3500mN/20mm以下が更に好ましい。また、当該剥離力の下限値は、特に制限はないが、好ましくは100mN/20mm以上である。
3. 3. Physical Properties of Process Film The process film 1 of the present invention includes a base material 20 and a release layer 10 formed on at least a part of the surface of the base material 20, and the release layer 10 has a release agent 11 and a predetermined range. By including the inorganic particles 12 having the inner hydrophobicity, it is possible to have an appropriate peeling force while achieving a desired gloss as the process film 1. Specifically, the peeling force with respect to the 31B tape measured by the method described in Examples described later is preferably 6000 mN / 20 mm or less, more preferably 4000 mN / 20 mm or less, and further preferably 3500 mN / 20 mm or less. The lower limit of the peeling force is not particularly limited, but is preferably 100 mN / 20 mm or more.

また、後述する実施例に記載の方法で測定される転写樹脂に対する剥離力が、10000mN/50mm以下が好ましく、9000mN/50mm以下がより好ましく、8000mN/50mm以下が更に好ましい。また、当該剥離力の下限値は、特に制限はないが、好ましくは100mN/50mm以上である。 Further, the peeling force against the transfer resin measured by the method described in Examples described later is preferably 10,000 mN / 50 mm or less, more preferably 9000 mN / 50 mm or less, and further preferably 8000 mN / 50 mm or less. The lower limit of the peeling force is not particularly limited, but is preferably 100 mN / 50 mm or more.

本発明の工程フィルム1の剥離層10の表面の光沢度は、後述する実施例に記載の方法で測定される60°グロス値10%以下が好ましく、60°グロス値8%以下がより好ましく、60°グロス値6%以下が更に好ましい。 The glossiness of the surface of the release layer 10 of the process film 1 of the present invention is preferably a 60 ° gloss value of 10% or less, more preferably a 60 ° gloss value of 8% or less, as measured by the method described in Examples described later. A 60 ° gloss value of 6% or less is more preferable.

また、本発明の工程フィルム1により製造される転写樹脂の表面の光沢度は、後述する実施例に記載の方法で測定される60°グロス値10%以下が好ましく、60°グロス値7%以下がより好ましく、60°グロス値5%以下が更に好ましい。 Further, the glossiness of the surface of the transfer resin produced by the process film 1 of the present invention is preferably a 60 ° gloss value of 10% or less, and a 60 ° gloss value of 7% or less, which is measured by the method described in Examples described later. Is more preferable, and a 60 ° gloss value of 5% or less is further preferable.

4.工程フィルムの製造方法
本実施形態に係る工程フィルム1の製造方法は、剥離剤11と、無機粒子12と、を混合して、剥離層形成組成物を調製する第1工程と、剥離層形成組成物を基材20の表面の少なくとも一部に塗布し、塗膜を形成する第2工程と、塗膜を硬化して剥離層10を形成する第3工程と、を含むこと、が好ましい。
4. Method for Producing Process Film The method for producing the process film 1 according to the present embodiment includes a first step of mixing a release agent 11 and an inorganic particle 12 to prepare a release layer forming composition, and a release layer forming composition. It is preferable to include a second step of applying the substance to at least a part of the surface of the base material 20 to form a coating film, and a third step of curing the coating film to form a release layer 10.

第1工程における剥離層形成組成物の調整方法としては、特に限定されず、例えば、剥離層形成組成物の分散体や溶液として調製することができる。本発明では、有機溶媒を含む溶液を調製することが好ましい。 The method for adjusting the release layer forming composition in the first step is not particularly limited, and for example, it can be prepared as a dispersion or a solution of the release layer forming composition. In the present invention, it is preferable to prepare a solution containing an organic solvent.

剥離層形成組成物の溶液の不揮発分濃度は、塗工適性及び乾燥性の観点から、5.0質量%以上60質量%以下が好ましく、10質量%以上50質量%以下がより好ましく、20質量%以上40質量%以下が更に好ましい。 The non-volatile content concentration of the solution of the release layer forming composition is preferably 5.0% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less, and 20% by mass from the viewpoint of coating suitability and dryness. % Or more and 40% by mass or less are more preferable.

第2工程における塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ロールナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。 Examples of the coating method in the second step include a spin coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a roll knife coating method, a blade coating method, a die coating method, and a gravure coating method. ..

第3工程における塗膜を硬化する方法としては、乾燥とともに加熱により硬化させてもよく、塗膜中の成分が活性エネルギー線で反応する官能基を有する場合には、活性エネルギー線の照射により硬化させてもよく、加熱及び活性エネルギー線の照射を併用して硬化させてもよい。活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられる。 As a method of curing the coating film in the third step, it may be cured by heating together with drying, and when the components in the coating film have a functional group that reacts with active energy rays, it is cured by irradiation with active energy rays. It may be cured by using heating and irradiation with active energy rays in combination. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays and electron beams.

加熱温度は、80℃以上250℃以下が好ましく、100℃以上230℃以下がより好ましい。また、加熱時間は、15秒間以上5分間以下が好ましく、20秒間以上3分間以下がより好ましい。 The heating temperature is preferably 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and more preferably 100 ° C. or higher and 230 ° C. or lower. The heating time is preferably 15 seconds or more and 5 minutes or less, and more preferably 20 seconds or more and 3 minutes or less.

工程フィルム1において、硬化後の剥離層10の膜厚は、特に限定されないが、0.5μm以上12μm以下が好ましく、1.0μm以上、8μm以下がより好ましい。 In the process film 1, the film thickness of the release layer 10 after curing is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more and 12 μm or less, and more preferably 1.0 μm or more and 8 μm or less.

5.工程フィルムの用途
本発明の工程フィルム1は、ラベル素材、電子機器やプリプレグ、合成皮革等のシート状製品の製造工程で使用することができる。
5. Use of Process Film The process film 1 of the present invention can be used in the manufacturing process of sheet-like products such as label materials, electronic devices, prepregs, and synthetic leather.

以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

[実施例1]
剥離剤としてシリコーン変性アルキド樹脂溶液(商品名:TA31−209E、日立化成ポリマー株式会社製)100質量部、トルエン216質量部、メチルエチルケトン144質量部の混合溶液中に後述の無機粒子を添加し、ディスパーを用いて2000rpmで20分間分散した。無機粒子として、平均粒子径3.0μm、ジメチルシリコーンオイルにより表面をポリジメチルシロキサンで修飾した、疎水化度60%の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール SS−50A、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるよう添加した。分散後の混合溶液に硬化触媒として、p−トルエンスルホン酸メタノール溶液(固形分濃度50質量%)を2.5質量部添加し、ディスパーを用いて1500rpmで5分間攪拌し剥離層形成組成物の溶液を得た。この剥離層形成組成物の溶液を厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:ダイアホイル T100、三菱ケミカル株式会社製)の片面に塗工し、150℃で1分間乾燥及び硬化させ、硬化後の厚さが1.5μmの剥離層を有する工程フィルムを作製した。
[Example 1]
As a release agent, the inorganic particles described below are added to a mixed solution of 100 parts by mass of a silicone-modified alkyd resin solution (trade name: TA31-209E, manufactured by Hitachi Chemical Polymer Co., Ltd.), 216 parts by mass of toluene, and 144 parts by mass of methyl ethyl ketone to disperse. Was dispersed at 2000 rpm for 20 minutes. As inorganic particles, amorphous silica particles with an average particle diameter of 3.0 μm and a surface modified with polydimethylsiloxane with dimethylsilicone oil and having a degree of hydrophobicity of 60% (trade name: Nipseal SS-50A, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) Was added so that the mass ratio of the inorganic particles in the coating film (release layer) after drying was 23.8% by mass. 2.5 parts by mass of a p-toluenesulfonic acid methanol solution (solid content concentration 50% by mass) was added to the mixed solution after dispersion as a curing catalyst, and the mixture was stirred at 1500 rpm for 5 minutes using a disper to form a release layer composition. A solution was obtained. The solution of this release layer forming composition is applied to one side of a polyethylene terephthalate film (trade name: Diafoil T100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) having a thickness of 50 μm, dried and cured at 150 ° C. for 1 minute, and after curing. A process film having a release layer having a thickness of 1.5 μm was prepared.

[実施例2]
無機粒子として、平均粒子径2.0μm、ジメチルシリコーンオイルにより表面をポリジメチルシロキサンで修飾した、疎水化度60%の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール SS−50B、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるよう添加した以外は、実施例1と同様にして工程フィルムを作製した。
[Example 2]
As inorganic particles, amorphous silica particles with an average particle diameter of 2.0 μm and a surface modified with polydimethylsiloxane with dimethylsilicone oil and having a degree of hydrophobicity of 60% (trade name: Nipseal SS-50B, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) Was added so that the mass ratio of the inorganic particles in the coating film (release layer) after drying was 23.8% by mass, and a process film was prepared in the same manner as in Example 1.

[実施例3]
無機粒子として、平均粒子径1.3μm、ジメチルシリコーンオイルにより表面をポリジメチルシロキサンで修飾した、疎水化度60%の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール SS−50G、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるよう添加した以外は、実施例1と同様にして工程フィルムを作製した。
[Example 3]
As inorganic particles, amorphous silica particles with an average particle diameter of 1.3 μm and a surface modified with polydimethylsiloxane with dimethylsilicone oil and having a degree of hydrophobicity of 60% (trade name: Nipseal SS-50G, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) Was added so that the mass ratio of the inorganic particles in the coating film (release layer) after drying was 23.8% by mass, and a process film was prepared in the same manner as in Example 1.

[実施例4]
剥離剤としてシリコーン変性アルキド樹脂溶液(商品名:TA31−209E、日立化成ポリマー株式会社製)100質量部、トルエン216質量部、メチルエチルケトン144質量部の混合溶液中に、無機粒子として、表面が未修飾の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール E−200A、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるように添加し、さらにシランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン(商品名:KBM−402、信越化学工業株式会社製)0.4質量部を添加し、ディスパーを用いて2000rpmで20分間分散した。分散後の混合溶液に硬化触媒として、p−トルエンスルホン酸メタノール溶液(固形分濃度50質量%)を2.5質量部添加し、さらにディスパーを用いて1500rpmで5分間攪拌し剥離層形成組成物の溶液を得た。この剥離層形成組成物の溶液を厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:ダイアホイル T100、三菱ケミカル株式会社製)の片面に塗工し、150℃で1分間乾燥及び硬化させ、硬化後の厚さが1.5μmの剥離層を有する工程フィルムを作製した。無機粒子の疎水化度は30%であった。
[Example 4]
As an inorganic particle, the surface is unmodified in a mixed solution of 100 parts by mass of a silicone-modified alkyd resin solution (trade name: TA31-209E, manufactured by Hitachi Chemical Polymer Co., Ltd.), 216 parts by mass of toluene, and 144 parts by mass of methyl ethyl ketone as a release agent. Atypical silica particles (trade name: Nipseal E-200A, manufactured by Toso Silane Co., Ltd.) were added so that the mass ratio of the inorganic particles in the coating film (release layer) after drying was 23.8% by mass. Further, 0.4 parts by mass of 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (trade name: KBM-402, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a silane coupling agent, and the mixture was dispersed at 2000 rpm for 20 minutes using a disper. .. To the mixed solution after dispersion, 2.5 parts by mass of a p-toluenesulfonic acid methanol solution (solid content concentration 50% by mass) was added as a curing catalyst, and the mixture was further stirred at 1500 rpm for 5 minutes using a disper to form a release layer composition. Solution was obtained. The solution of this release layer forming composition is applied to one side of a polyethylene terephthalate film (trade name: Diafoil T100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) having a thickness of 50 μm, dried and cured at 150 ° C. for 1 minute, and after curing. A process film having a release layer having a thickness of 1.5 μm was prepared. The degree of hydrophobization of the inorganic particles was 30%.

[実施例5]
シランカップリング剤として、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(商品名:KBM−502、信越化学工業株式会社製)を用いた以外は実施例4と同様にして工程フィルムを作製した。無機粒子の疎水化度は35%であった。
[Example 5]
A process film was produced in the same manner as in Example 4 except that 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (trade name: KBM-502, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as the silane coupling agent. The degree of hydrophobization of the inorganic particles was 35%.

[比較例1]
無機粒子として、平均粒子径3.0μm、表面が未修飾で疎水化度が0%の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール E−200A、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるよう添加した以外は、実施例1と同様にして工程フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
As inorganic particles, a coating film (trade name: Nipseal E-200A, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) after drying atypical silica particles (trade name: Nipseal E-200A, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) having an average particle diameter of 3.0 μm, an unmodified surface and a degree of hydrophobicity of 0%. A process film was produced in the same manner as in Example 1 except that the particles were added so that the mass ratio of the inorganic particles in the release layer) was 23.8% by mass.

[比較例2]
無機粒子として、平均粒子径1.7μm、表面が未修飾で疎水化度が0%の不定形シリカ粒子(商品名:ニップシール E−220A、東ソー・シリカ株式会社製)を乾燥後の塗膜(剥離層)中の無機粒子質量割合が23.8質量%になるよう添加した以外は、実施例1と同様にして工程フィルムを作製した。
[Comparative Example 2]
As inorganic particles, a coating film (trade name: Nipseal E-220A, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) after drying atypical silica particles (trade name: Nipseal E-220A, manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.) having an average particle diameter of 1.7 μm, an unmodified surface and a degree of hydrophobicity of 0%. A process film was produced in the same manner as in Example 1 except that the particles were added so that the mass ratio of the inorganic particles in the release layer) was 23.8% by mass.

[評価方法]
<無機粒子の平均粒子径測定>
剥離層形成組成物の溶液を測定対象とし、無機粒子の平均粒子径を、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置「マスターサイザー3000」(Malvern Panalytical)を用いて測定した。結果を表1に示す。
[Evaluation method]
<Measurement of average particle size of inorganic particles>
The solution of the release layer forming composition was used as a measurement target, and the average particle size of the inorganic particles was measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device “Master Sizar 3000” (Malvern Panasonic). The results are shown in Table 1.

<疎水化度の測定(メタノール滴定法)>
実施例及び比較例で用いた無機粒子の疎水化度は以下のようにして測定した。なお、実施例4及び実施例5の無機粒子は剥離層形成組成物の溶液から遠心分離機を用いて分離した無機粒子の疎水化度を測定した。200mlのビーカーにイオン交換水50mlを入れ、0.2gの試料(無機粒子)を添加する。スターラーで撹拌しながら、スポイト(ビュレット)でメタノールを加える。液面上に試料が認められなくなった時を終点として要したメタノール量から、下記の式(1)により疎水化度を算出する。式中のGはメタノール使用量(ml)を表す。
疎水化度(%)=(G/G+50)×100 ・・・(1)
<Measurement of hydrophobicity (methanol titration method)>
The degree of hydrophobization of the inorganic particles used in Examples and Comparative Examples was measured as follows. For the inorganic particles of Examples 4 and 5, the degree of hydrophobicity of the inorganic particles separated from the solution of the release layer forming composition by using a centrifuge was measured. 50 ml of ion-exchanged water is placed in a 200 ml beaker, and 0.2 g of a sample (inorganic particles) is added. Add methanol with a dropper (burette) while stirring with a stirrer. The degree of hydrophobization is calculated by the following formula (1) from the amount of methanol required from the time when the sample is no longer recognized on the liquid surface as the end point. G in the formula represents the amount of methanol used (ml).
Degree of hydrophobization (%) = (G / G + 50) × 100 ・ ・ ・ (1)

<31Bテープに対する剥離力>
実施例及び比較例で得られた工程フィルムの表面に、アクリル系粘着剤付ポリエステルテープ(商品名:No.31Bテープ、日東電工株式会社製)を貼り、23℃、相対湿度50%の恒温室内に30分間放置した後、幅20mm、長さ150mmに裁断した。引張試験機(装置名:テンシロン、株式会社エー・アンド・デイ製)を用いて、31Bテープを300mm/minの速度で180°方向に引っ張り、剥離した際の剥離力を測定した。結果を表1に示す。
<Peeling force against 31B tape>
A polyester tape with an acrylic adhesive (trade name: No. 31B tape, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) was attached to the surface of the process films obtained in Examples and Comparative Examples, and in a constant temperature room at 23 ° C. and 50% relative humidity. After leaving it for 30 minutes, it was cut into a width of 20 mm and a length of 150 mm. Using a tensile tester (device name: Tencilon, manufactured by A & D Co., Ltd.), the 31B tape was pulled in the 180 ° direction at a speed of 300 mm / min, and the peeling force at the time of peeling was measured. The results are shown in Table 1.

<転写樹脂に対する剥離力>
実施例及び比較例で得られた工程フィルムの表面に、熱硬化性アクリル樹脂(製品名:UC−3000、東亜合成株式会社製)を塗工し、塗膜と工程フィルムとの積層体を得た。160℃で30秒加熱することにより塗膜を硬化させ、工程フィルム上に厚さ約3.0μmのアクリル塗膜を作製した。上記アクリル塗膜を幅50mm、長さ150mmに裁断し、23℃、相対湿度50%の恒温室内で、引張試験機(装置名:テンシロン、株式会社エー・アンド・デイ製)を用いて、300mm/minの速度で180°方向に引っ張り、剥離した際の剥離力を測定した。結果を表1に示す。
<Peeling force against transfer resin>
A thermosetting acrylic resin (product name: UC-3000, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is applied to the surface of the process films obtained in Examples and Comparative Examples to obtain a laminate of the coating film and the process film. rice field. The coating film was cured by heating at 160 ° C. for 30 seconds to prepare an acrylic coating film having a thickness of about 3.0 μm on the process film. The acrylic coating film is cut into a width of 50 mm and a length of 150 mm, and is 300 mm in a constant temperature room at 23 ° C. and a relative humidity of 50% using a tensile tester (device name: Tencilon, manufactured by A & D Co., Ltd.). The peeling force at the time of peeling was measured by pulling in the 180 ° direction at a speed of / min. The results are shown in Table 1.

<工程フィルムの光沢度>
JIS Z 8741に準拠し、光沢計(製品名:VG7000、日本電色工業株式会社製)を用いて、実施例及び比較例で得られた工程フィルム表面の光沢度(60°グロス値)を測定した。結果を表1に示す。
<Glossiness of process film>
In accordance with JIS Z 8741, the glossiness (60 ° gloss value) of the process film surface obtained in Examples and Comparative Examples is measured using a gloss meter (product name: VG7000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.). bottom. The results are shown in Table 1.

<転写樹脂の光沢度>
実施例及び比較例で得られた工程フィルムの表面に、熱硬化性アクリル樹脂(商品名:UC−3000、東亜合成株式会社製)を塗工し、塗膜と工程フィルムとの積層体を得た。160℃で30秒加熱することにより塗膜を硬化させ、工程フィルム上に厚さ3μmのアクリル塗膜を作製した。得られたアクリル樹脂膜を工程フィルムから剥離し、JIS Z 8741に準拠し、光沢計(製品名:VG7000、日本電色工業株式会社製)を用いてアクリル樹脂膜表面の光沢度(60°グロス値)を測定した。結果を表1に示す。
<Glossiness of transfer resin>
A thermosetting acrylic resin (trade name: UC-3000, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is applied to the surface of the process films obtained in Examples and Comparative Examples to obtain a laminate of the coating film and the process film. rice field. The coating film was cured by heating at 160 ° C. for 30 seconds to prepare an acrylic coating film having a thickness of 3 μm on the process film. The obtained acrylic resin film is peeled off from the process film, and the glossiness (60 ° gloss) of the surface of the acrylic resin film is (60 ° gloss) using a gloss meter (product name: VG7000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.) in accordance with JIS Z 8741. Value) was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2021154538
Figure 2021154538

実施例1〜5の工程フィルムは、適度な剥離力と低い光沢度を有しており、それを用いて光沢度が低い転写樹脂(シート状製品)を得ることができた。 The process films of Examples 1 to 5 had an appropriate peeling force and a low glossiness, and a transfer resin (sheet-like product) having a low glossiness could be obtained by using the process films.

以上、各実施例について詳述したが、特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において、種々の変形及び変更が可能である。また、前述した実施例の構成要素を全部又は複数を組み合わせることも可能である。 Although each embodiment has been described in detail above, the present invention is not limited to a specific embodiment, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims. It is also possible to combine all or a plurality of the components of the above-described embodiment.

1 工程フィルム
10 剥離層
11 剥離剤
12 無機粒子
20 基材
1 Process film 10 Release layer 11 Release agent 12 Inorganic particles 20 Base material

Claims (6)

基材と、前記基材の表面の少なくとも一部に形成された剥離層と、を備え、
前記剥離層が、剥離剤と、無機粒子と、を含有し、
前記無機粒子のメタノール滴定法で測定される疎水化度が、20%以上であることを特徴とする工程フィルム。
A base material and a release layer formed on at least a part of the surface of the base material are provided.
The release layer contains a release agent and inorganic particles,
A process film characterized in that the degree of hydrophobization of the inorganic particles measured by the methanol titration method is 20% or more.
前記無機粒子が、シリコーンオイルにより表面が疎水化処理された粒子であることを特徴とする請求項1に記載の工程フィルム。 The process film according to claim 1, wherein the inorganic particles are particles whose surface is hydrophobized with silicone oil. 前記無機粒子が、シランカップリング剤により表面が疎水化処理された粒子であることを特徴とする請求項1に記載の工程フィルム。 The process film according to claim 1, wherein the inorganic particles are particles whose surface is hydrophobized with a silane coupling agent. 前記無機粒子が、シリカ、アルミナ及び酸化チタンからなる群より選択される1種以上であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の工程フィルム。 The process film according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic particles are one or more selected from the group consisting of silica, alumina and titanium oxide. 前記シリコーンオイルが、ジメチルシリコーンオイルであることを特徴とする請求項2に記載の工程フィルム。 The process film according to claim 2, wherein the silicone oil is a dimethyl silicone oil. 前記剥離層の光沢度が、60°グロス値で10%以下であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の工程フィルム。 The process film according to any one of claims 1 to 5, wherein the peeling layer has a glossiness of 10% or less in a 60 ° gloss value.
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