JP2021154186A - Radiation device and photo curing system - Google Patents

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Daisaku Tanaka
大作 田中
保文 川鍋
Yasubumi Kawanabe
保文 川鍋
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Abstract

To provide a radiation device 2 comprising a radiation tool 6 on which a linear light source for radiating ultraviolet is provided and a photo curing resin applied to the radiation object is cured by radiation of ultraviolet by the radiation tool 6 to a radiation object, and comprising a reflector 30 for reflecting ultraviolet to a prescribed direction on an emission end of the ultraviolet of the radiation tool 6.SOLUTION: There are provided a radiation device for easily adjusting a direction of ultraviolet which is radiated, and a photo curing system.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、照射装置、及び光硬化システムに関する。 The present invention relates to an irradiation device and a photocuring system.

従来、凹部が設けられた立体物にUV塗料等の紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線照射装置で紫外線を照射することによって、当該紫外線硬化性樹脂を硬化させる手法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような照射装置の照射対象物には、当該凹部全体に紫外線硬化性樹脂が塗布されたものがある。
Conventionally, there is known a method of applying an ultraviolet curable resin such as a UV paint to a three-dimensional object provided with a recess and irradiating the ultraviolet curable resin with an ultraviolet irradiation device to cure the ultraviolet curable resin (for example). See Patent Document 1).
Some of the irradiation objects of such an irradiation device are those in which an ultraviolet curable resin is applied to the entire recess.

特開2018−199096号公報JP-A-2018-199096

この場合、照射装置には、凹部全体に紫外線を照射するために、照射対象物の凹部の形状に応じて、紫外線の出射する方向が調整されるものが知られている。
しかしながら、従来の照射装置では、紫外線の出射する方向を調整するために、照射装置本体の角度や位置を変更させる必要があり、光硬化性樹脂の硬化に伴う作業が煩雑となる虞があった。
本発明は、照射される紫外線の方向の調整が容易にできる照射装置、及び光硬化システムを提供することを目的とする。
In this case, an irradiation device is known in which the direction in which ultraviolet rays are emitted is adjusted according to the shape of the recesses of the irradiation target object in order to irradiate the entire recesses with ultraviolet rays.
However, in the conventional irradiation device, it is necessary to change the angle and position of the irradiation device main body in order to adjust the direction in which the ultraviolet rays are emitted, which may complicate the work associated with the curing of the photocurable resin. ..
An object of the present invention is to provide an irradiation device and a photocuring system capable of easily adjusting the direction of irradiated ultraviolet rays.

本発明は、紫外線を放射する線状光源が設けられた照射器を備え、前記照射器が紫外線を照射対象物に照射することで、前記照射対象物に塗布された光硬化性樹脂を硬化させる照射装置であって、前記照射器の紫外線の出射端には、紫外線を所定方向に反射する反射板が設けられていることを特徴とする。 The present invention includes an irradiator provided with a linear light source that radiates ultraviolet rays, and the irradiator irradiates the object to be irradiated with ultraviolet rays to cure the photocurable resin applied to the object to be irradiated. It is an irradiation device, and is characterized in that a reflecting plate that reflects ultraviolet rays in a predetermined direction is provided at an emission end of ultraviolet rays of the irradiator.

本発明は、上記照射装置において、前記反射板は、前記線状光源側の端部に回転軸が設けられ、前記回転軸を中心に回動可能に設けられていることを特徴とする。 The present invention is characterized in that, in the irradiation device, the reflector is provided with a rotation shaft at an end on the linear light source side, and is rotatably provided about the rotation shaft.

本発明は、上記照射装置において、前記線状光源を挟んで対向配置される主反射面を備えた反射鏡と、円反射面を備えた反射鏡を有し、前記主反射面は、前記線状光源の紫外線を前記反射板に向けて反射し、前記円反射面は、前記線状光源の紫外線を集光して前記主反射面に入射させることを特徴とする。 The present invention includes a reflecting mirror having a main reflecting surface and a circular reflecting surface arranged opposite to each other with the linear light source interposed therebetween, and the main reflecting surface is the line. It is characterized in that the ultraviolet rays of the linear light source are reflected toward the reflecting plate, and the circular reflecting surface collects the ultraviolet rays of the linear light source and causes the ultraviolet rays of the linear light source to be incident on the main reflecting surface.

本発明は、上記照射装置において、前記照射対象物は、前記照射器側に開口した凹部を有し、前記凹部には、前記光硬化性樹脂が塗布されており、前記反射板は、前記凹部の形状に応じて紫外線を反射する方向を調整可能に設けられていることを特徴とする。 In the present invention, in the irradiation device, the irradiation target has a recess opened on the side of the irradiator, the recess is coated with the photocurable resin, and the reflector is the recess. It is characterized in that the direction in which ultraviolet rays are reflected can be adjusted according to the shape of the above.

本発明は、上記照射装置と、前記反射板によって反射された紫外線が複数の方向から前記凹部に照射されるように、前記照射対象物を搬送する搬送手段とを備えることを特徴とする光硬化システムである。 The present invention is characterized by comprising the irradiation device and a transport means for transporting the irradiation target object so that the ultraviolet rays reflected by the reflector are irradiated to the recesses from a plurality of directions. It is a system.

本発明は、上記光硬化システムにおいて、複数の前記照射装置を備え、前記照射装置のそれぞれは、照射した紫外線が互いに異なる方向から前記凹部に入射するように配置されていることを特徴とする。 The present invention is characterized in that, in the photocuring system, a plurality of the irradiation devices are provided, and each of the irradiation devices is arranged so that the irradiated ultraviolet rays are incident on the recesses from different directions.

本発明によれば、照射される紫外線の方向の調整が容易にできる。 According to the present invention, the direction of the irradiated ultraviolet rays can be easily adjusted.

本発明の実施形態に係る光硬化システムの構成を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the structure of the photocuring system which concerns on embodiment of this invention. 照射装置の構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of an irradiation apparatus. 照射装置からワークに照射された紫外線を示す図である。It is a figure which shows the ultraviolet ray which radiated the work | work from the irradiating apparatus. 比較例の光硬化システムの構成を模式的に示す側面図であり、(A)は、第一比較例の側面図、(B)は、第二比較例の側面図である。It is a side view schematically showing the structure of the photocuring system of the comparative example, (A) is the side view of the first comparative example, and (B) is the side view of the second comparative example. シミュレーションに用いた第一のワークを示す図であり、(A)は、斜視図、(B)は、(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、(C)は、(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。It is a figure which shows the 1st work used for a simulation, (A) is a perspective view, (B) is a vertical sectional view cut by the plane B shown in (A), (C) is (A). It is a vertical cross-sectional view cut by the plane C shown. シミュレーションに用いた第二のワークを示す図であり、(A)は、斜視図、(B)は、(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、(C)は、(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。It is a figure which shows the 2nd work used in the simulation, (A) is a perspective view, (B) is a vertical sectional view cut by the plane B shown in (A), (C) is (A). It is a vertical cross-sectional view cut by the plane C shown. シミュレーションに用いた第三のワークを示す図であり、(A)は、斜視図、(B)は、(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、(C)は、(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。It is a figure which shows the 3rd work used in the simulation, (A) is a perspective view, (B) is a vertical sectional view cut by the plane B shown in (A), (C) is (A). It is a vertical cross-sectional view cut by the plane C shown. シミュレーションの結果を示す図であり、(A)は、第一のワークにおける結果を示す図、(B)は、第二のワークにおける結果を示す図、(C)は、第三のワークにおける結果を示す図である。It is a figure which shows the result of a simulation, (A) is a figure which shows the result in a 1st work, (B) is a figure which shows the result in a 2nd work, (C) is a figure which shows the result in a 3rd work. It is a figure which shows.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る光硬化システム1の構成を模式的に示す側面図である。
光硬化システム1は、図1に示すように、光源を備え、光硬化性樹脂が立体物の内面に塗布された照射対象物に、光源の光を照射して、当該光硬化性樹脂を硬化するシステムである。
本実施形態の照射対象物であるワークWは、例えば車体部品やバスタブ、コンテナ容器、照明器具のガラスグローブ、反射鏡等といった、所定以上の大きさで、凹形状(凹部)を有したものである。また、本実施形態の光硬化性樹脂は、所定量以上の積算光量で硬化するUV塗料であり、光源は、紫外線を放射する、水銀ランプや、メタルハライドランプである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a side view schematically showing the configuration of the photocuring system 1 according to the embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the photocuring system 1 is provided with a light source, and the light of the light source is applied to an irradiated object on which the photocurable resin is applied to the inner surface of the three-dimensional object to cure the photocurable resin. It is a system to do.
The work W, which is the object to be irradiated in the present embodiment, has a predetermined size or larger and has a concave shape (recess), such as a vehicle body part, a bathtub, a container container, a glass glove of a lighting fixture, a reflector, and the like. be. Further, the photocurable resin of the present embodiment is a UV coating material that cures with an integrated light amount of a predetermined amount or more, and the light source is a mercury lamp or a metal halide lamp that radiates ultraviolet rays.

光硬化システム1は、照射装置2と、搬送架台4とを備えている。
照射装置2は、搬送架台4から所定距離を空けて離れた上方位置に配置され、直下に照射光である紫外線を照射するものであり、例えば搬送架台4幅方向に横架される門体状の架台等に支持されている。
The photocuring system 1 includes an irradiation device 2 and a transport stand 4.
The irradiating device 2 is arranged at an upper position separated from the transport pedestal 4 by a predetermined distance, and irradiates ultraviolet rays which are irradiation light directly below. It is supported by the pedestal etc.

搬送架台4には、搬送手段として機能する搬送装置であり、当該搬送架台4は、直動方向Dに沿って、搬送架台4の面上に載置されたワークWが照射装置2の直下を通過するように移送する直動機構が内設されている。
光硬化性樹脂の光硬化においては、搬送架台4に載置された複数のワークWが直動機構によって直動方向Dに沿って移送され、照射装置2の直下を通過し、この通過のときに照射装置2の紫外線が照射されて光硬化性樹脂が硬化される。
The transport pedestal 4 is a transport device that functions as a transport means. In the transport pedestal 4, a work W placed on the surface of the transport pedestal 4 is placed directly under the irradiation device 2 along the linear motion direction D. A linear motion mechanism that transfers the device so that it can pass through is installed internally.
In the photocuring of the photocurable resin, a plurality of works W mounted on the transport stand 4 are transferred along the linear motion direction D by the linear motion mechanism, pass directly under the irradiation device 2, and at the time of this passage. Is irradiated with the ultraviolet rays of the irradiation device 2, and the photocurable resin is cured.

この搬送架台4は、直動方向Dに沿ってワークWを往復移動可能となっている。このため、搬送架台4は、一方向に向かってワークWを搬送した後に、逆方向に向かってワークWを搬送させることができ、例えば、一方向に向かってワークWを搬送した後に、ワークWを反転して載置し、逆方向に向かって搬送させることで、当該ワークWに対して2方向から紫外線を照射させることが可能である。 The transport pedestal 4 is capable of reciprocating the work W along the linear motion direction D. Therefore, the transport pedestal 4 can transport the work W in one direction and then the work W in the opposite direction. For example, after transporting the work W in one direction, the work W can be transported. It is possible to irradiate the work W with ultraviolet rays from two directions by placing the work W upside down and transporting the work W in the opposite direction.

図2は、照射装置2の構成を示す側面図である。
照射装置2は、照射器6と、反射板30とを備えている。
図2に示すように、照射器6は、筐体10と、当該筐体10の上方に配置された冷却ユニット20とを備えている。
筐体10は、直動方向Dに直交する方向に延びる直方体形状に形成され、下面に開口部10Aが設けられ、上面に開口部10Bが設けられている。
開口部10Aは、平面視で矩形状に形成され、開放されている。
FIG. 2 is a side view showing the configuration of the irradiation device 2.
The irradiation device 2 includes an irradiator 6 and a reflector 30.
As shown in FIG. 2, the irradiator 6 includes a housing 10 and a cooling unit 20 arranged above the housing 10.
The housing 10 is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in a direction orthogonal to the linear motion direction D, and has an opening 10A on the lower surface and an opening 10B on the upper surface.
The opening 10A is formed in a rectangular shape in a plan view and is open.

この筐体10の内部には、線状光源であるランプ12、及び光制御部材である反射鏡14を備えている。
ランプ12には、紫外線を放射する直管型(棒状)の放電ランプが用いられており、当該ランプ12は、直動機構の直動方向Dに直交する方向に延びる線状光源である。すなわち、直動機構の直動方向Dは、ランプ12の長手方向に直交する方向に一致している。
ランプ12の直下には、開口部10Aが配置されており、ランプ12の長手方向は、開口部10Aの長手方向に一致している。
反射鏡14は、ランプ12の長手方向に沿って延びるシリンドリカル凹面反射鏡であり、この反射鏡14は、ランプ12の紫外線を集光する。集光された紫外線は、開口部10Aを通過して筐体10の外部に放射される。すなわち、開口部10Aは、照射装置2の出射端として機能する。
Inside the housing 10, a lamp 12 which is a linear light source and a reflecting mirror 14 which is an optical control member are provided.
A straight tube type (rod-shaped) discharge lamp that radiates ultraviolet rays is used for the lamp 12, and the lamp 12 is a linear light source extending in a direction orthogonal to the linear motion direction D of the linear motion mechanism. That is, the linear motion direction D of the linear motion mechanism coincides with the direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12.
An opening 10A is arranged directly below the lamp 12, and the longitudinal direction of the lamp 12 coincides with the longitudinal direction of the opening 10A.
The reflector 14 is a cylindrical concave reflector extending along the longitudinal direction of the lamp 12, and the reflector 14 collects ultraviolet rays of the lamp 12. The condensed ultraviolet light passes through the opening 10A and is radiated to the outside of the housing 10. That is, the opening 10A functions as an exit end of the irradiation device 2.

筐体10の上面には、冷却ユニット20が取り付けられている。
冷却ユニット20は、筐体10の内部に冷却風を供給して照射器6を冷却するものであり、当該冷却ユニット20は、送風機22と、ダクト接続部24とを備えている。
送風機22は、照射装置2の外部から照射器6の内部に空気を引き込むことで照射器6の内部を冷却する冷却風を送風するものである。
ダクト接続部24は、送風機22によって送風された冷却風を筐体10から不図示のダクトに導風する流路を形成する管路である。
ダクト接続部24は、筐体10の開口部10Bに連結されている導風管26と、ダクトが接続される接続開口28とを備えている。また、ダクト接続部24の上端には、送風機22が連結されている。
A cooling unit 20 is attached to the upper surface of the housing 10.
The cooling unit 20 supplies cooling air to the inside of the housing 10 to cool the irradiator 6, and the cooling unit 20 includes a blower 22 and a duct connection portion 24.
The blower 22 blows cooling air that cools the inside of the irradiator 6 by drawing air into the irradiator 6 from the outside of the irradiator 2.
The duct connection portion 24 is a pipeline that forms a flow path that guides the cooling air blown by the blower 22 from the housing 10 to a duct (not shown).
The duct connecting portion 24 includes a baffle pipe 26 connected to the opening 10B of the housing 10 and a connecting opening 28 to which the duct is connected. A blower 22 is connected to the upper end of the duct connecting portion 24.

送風機22が駆動すると、照射装置2の外部から照射器6の内部に空気が引き込まれる。この空気の流れが冷却風として照射器6の各部を冷却する。筐体10の内部に引き込まれた空気は、導風管26を通ってダクト接続部24に移動し、接続開口28からダクトに流されることで排気される。
なお、冷却ユニット20は、送風機22から送風された冷却風を冷却する冷却器を備えていてもよい。
また、筐体10の上面には、ランプ12に電力を供給する配線等の各種の配線が接続されている。
When the blower 22 is driven, air is drawn into the irradiator 6 from the outside of the irradiator 2. This air flow cools each part of the irradiator 6 as cooling air. The air drawn into the housing 10 moves to the duct connection portion 24 through the air guide pipe 26, and is exhausted by flowing into the duct through the connection opening 28.
The cooling unit 20 may include a cooler that cools the cooling air blown from the blower 22.
Further, various wirings such as wirings for supplying electric power to the lamp 12 are connected to the upper surface of the housing 10.

次いで、反射鏡14について詳述する。
反射鏡14は、図2に示すように、ランプ12を挟んで対向配置される一対の反射鏡14R、14Lを有する。反射鏡14Rは、ランプ12の上方から筐体10の開口部10Aの近傍まで延出する。反射鏡14Lは、ランプ12の上方側からランプ12の周囲近傍だけに配置され、筐体10の開口部10Aの近傍までは延出しない。
Next, the reflector 14 will be described in detail.
As shown in FIG. 2, the reflector 14 has a pair of reflectors 14R and 14L arranged so as to face each other with the lamp 12 in between. The reflector 14R extends from above the lamp 12 to the vicinity of the opening 10A of the housing 10. The reflector 14L is arranged only in the vicinity of the periphery of the lamp 12 from the upper side of the lamp 12, and does not extend to the vicinity of the opening 10A of the housing 10.

図3は、照射装置2からワークWに照射された紫外線を示す図である。図3において、ワークWは、その側断面図を示している。
反射鏡14Rは、ランプ12から入射する紫外線を、所定箇所Fに照射する楕円反射面15Aを有する。この楕円反射面15Aは、ランプ12の中心軸12Aを一方の焦点(以下、第1焦点という)とし、所定箇所Fを、他方の焦点(以下第2焦点という)とした楕円の円弧に沿った面、或いは、この面を近似した面に形成されている。また、楕円反射面15Aは、ランプ12の上方側で最もランプ12に近接する。
なお、反射鏡14Rは、楕円反射面15Aに限らず、放物反射面を備えていてもよい。
FIG. 3 is a diagram showing ultraviolet rays irradiated to the work W from the irradiation device 2. In FIG. 3, the work W shows a side sectional view thereof.
The reflecting mirror 14R has an elliptical reflecting surface 15A that irradiates a predetermined portion F with ultraviolet rays incident from the lamp 12. The elliptical reflecting surface 15A is along an elliptical arc with the central axis 12A of the lamp 12 as one focal point (hereinafter referred to as the first focal point) and the predetermined location F as the other focal point (hereinafter referred to as the second focal point). It is formed on a surface or a surface that approximates this surface. Further, the elliptical reflection surface 15A is closest to the lamp 12 on the upper side of the lamp 12.
The reflecting mirror 14R is not limited to the elliptical reflecting surface 15A, and may include a parabolic reflecting surface.

反射鏡14Lは、ランプ12から反射鏡14Lに入射する光を、ランプ12の配置位置である中心軸12Aで集光し、対向する楕円反射面15Aに入射させる円反射面15Bを有する。すなわち、楕円反射面15Aは、反射鏡14の主反射面として機能する。
円反射面15Bは、ランプ12の中心軸12Aから等距離の円弧に沿う面、或いは、この面を近似した面に形成されている。
The reflecting mirror 14L has a circular reflecting surface 15B that collects light incident on the reflecting mirror 14L from the lamp 12 on the central axis 12A, which is the arrangement position of the lamp 12, and causes the light to be incident on the opposing elliptical reflecting surface 15A. That is, the elliptical reflecting surface 15A functions as the main reflecting surface of the reflecting mirror 14.
The circular reflection surface 15B is formed on a surface along an arc equidistant from the central axis 12A of the lamp 12, or a surface that approximates this surface.

円反射面15Bは、ランプ12との離間距離を等距離に保ちつつ、ランプ12の上方側から下方側へと延出する。
円反射面15Bの開口部10B側に位置する端部は、楕円反射面15Aの開口部10B側に位置する端部から離間し、且つ、円反射面15Bに入射した紫外線を楕円反射面15Aに入射させる範囲に位置する。
また、円反射面15Bの開口部10A側に位置する端部は、当該端部で反射した紫外線を、楕円反射面15Aに反射する位置に設けられている。このようにして、円反射面15Bは、開口部10B側において、反射鏡14Rから離間しつつ、ランプ12からの紫外線を楕円反射面15Aへと反射できる範囲に形成される。
The circular reflection surface 15B extends from the upper side to the lower side of the lamp 12 while keeping the distance from the lamp 12 equidistant.
The end of the circular reflection surface 15B located on the opening 10B side is separated from the end of the elliptical reflection surface 15A on the opening 10B side, and the ultraviolet rays incident on the circular reflection surface 15B are transmitted to the elliptical reflection surface 15A. It is located in the incident range.
Further, the end portion of the circular reflection surface 15B located on the opening 10A side is provided at a position where the ultraviolet rays reflected by the end portion are reflected on the elliptical reflection surface 15A. In this way, the circular reflecting surface 15B is formed on the opening 10B side within a range in which the ultraviolet rays from the lamp 12 can be reflected to the elliptical reflecting surface 15A while being separated from the reflecting mirror 14R.

このように、反射鏡14Lを、円反射面15Bを形成する形状にすることで、楕円反射面15Aと対称構造の楕円反射面を形成する形状にする場合と比べて、反射鏡14のランプ12の長手方向に直交する方向における長さ寸法が抑えられる。
これによって、反射鏡14は、ランプ12の長手方向に直交する方向における反射鏡14の幅寸法の増大を抑えながら、より多くの紫外線を所定箇所Fに集光可能となっている。
従って、照射器6、及び照射装置2を小型化することができ、且つUV塗料の硬化に十分な照度を得やすくなる。
さらに、ランプ12の長手方向に直交する方向において、開口部10Aから出射した紫外線の照射範囲を所定範囲内に限定する、すなわち集光性を向上させることが可能である。
In this way, the lamp 12 of the reflecting mirror 14 is compared with the case where the reflecting mirror 14L is formed into a shape forming the circular reflecting surface 15B to form an elliptical reflecting surface having a symmetrical structure with the elliptical reflecting surface 15A. The length dimension in the direction orthogonal to the longitudinal direction of is suppressed.
As a result, the reflecting mirror 14 can collect more ultraviolet rays at a predetermined position F while suppressing an increase in the width dimension of the reflecting mirror 14 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12.
Therefore, the irradiator 6 and the irradiator 2 can be miniaturized, and it becomes easy to obtain sufficient illuminance for curing the UV paint.
Further, in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12, it is possible to limit the irradiation range of the ultraviolet rays emitted from the opening 10A within a predetermined range, that is, to improve the light collecting property.

照射装置2は、筐体10の開口部10Aの近傍に、反射板30を備えている。
反射板30は、反射面30Aを備え、開口部10Aから出射した紫外線をこの反射面30Aで所定方向に反射させる部材である。この反射板30の基材には、例えばアルミニウム等の金属や、樹脂にアルミ蒸着処理をしたもの等の適宜の材が用いられる。
反射板30は、矩形の板状に形成されており、反射板30の長手方向の長さ寸法は、ランプ12の長手方向の長さ寸法と略同一である。当該反射板30は、筐体10の外部に配置されており、長手方向がランプ12の長手方向に沿うように配置されている。
The irradiation device 2 includes a reflector 30 in the vicinity of the opening 10A of the housing 10.
The reflector 30 is a member having a reflecting surface 30A and reflecting ultraviolet rays emitted from the opening 10A in a predetermined direction by the reflecting surface 30A. As the base material of the reflector 30, for example, a metal such as aluminum or an appropriate material such as a resin in which aluminum is vapor-deposited is used.
The reflector 30 is formed in the shape of a rectangular plate, and the length dimension of the reflector 30 in the longitudinal direction is substantially the same as the length dimension of the lamp 12 in the longitudinal direction. The reflector 30 is arranged outside the housing 10, and is arranged so that the longitudinal direction is along the longitudinal direction of the lamp 12.

反射板30は、筐体10の開口部10Aに最も接近した箇所である上縁において、棒状の支持部材32によって、回動自在に軸支されている。すなわち、当該支持部材32は、反射板30の回転軸として機能する。
この支持部材32は、開口部10Aの平面視で、当該開口部10Aの内側に位置し、且つランプ12の長手方向に直交する方向において、所定箇所Fを挟んだ反射鏡14Rの反対側に配置されている。すなわち、反射板30は、所定箇所Fよりも反射鏡14Rから離れた位置に上縁が配置されている。
The reflector 30 is rotatably supported by a rod-shaped support member 32 at the upper edge, which is the portion closest to the opening 10A of the housing 10. That is, the support member 32 functions as a rotation axis of the reflector 30.
The support member 32 is located inside the opening 10A in a plan view of the opening 10A, and is arranged on the opposite side of the reflecting mirror 14R sandwiching the predetermined position F in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12. Has been done. That is, the upper edge of the reflector 30 is arranged at a position farther from the reflector 14R than the predetermined portion F.

図3に示すように、反射板30は、ランプ12の長手方向に直交する方向において、開口部10Aから出射した紫外線を反射鏡14R側に向かうように、斜め下方に反射する。
これによって、照射装置2は、ワークWの凹部において、照射装置2に対向する面(以下底面という)と、底面から上方に向かって起立して設けられた面(以下内側面という)の内、反射板30に対向する面とのそれぞれに集光性を向上させた状態で紫外線を照射する。
このように、反射板30に反射させて紫外線を照射することで、照射装置2は、照射器6の配置位置を変化させることなく、ワークWの凹部全体に紫外線を照射することができる。このため、照射装置2の全体を動かすことなく紫外線が向かう方向を制御でき、照射器6に設けられている配線や、ダクト接続部24、ダクト等に負荷がかかることを抑制できる。
As shown in FIG. 3, the reflector 30 reflects the ultraviolet rays emitted from the opening 10A obliquely downward so as to be toward the reflecting mirror 14R in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12.
As a result, the irradiation device 2 is provided in the recess of the work W, in a surface facing the irradiation device 2 (hereinafter referred to as a bottom surface) and a surface standing upright from the bottom surface (hereinafter referred to as an inner surface surface). Ultraviolet rays are irradiated to each of the surfaces facing the reflector 30 in a state where the light collecting property is improved.
By reflecting the light on the reflector 30 and irradiating the ultraviolet rays in this way, the irradiating device 2 can irradiate the entire concave portion of the work W with the ultraviolet rays without changing the arrangement position of the irradiator 6. Therefore, the direction in which the ultraviolet rays are directed can be controlled without moving the entire irradiation device 2, and it is possible to suppress the load on the wiring provided in the irradiator 6, the duct connection portion 24, the duct, and the like.

上述の通り、照射装置2は、凹部の底面に加えて、反射板30に対向する位置に配置された内側面に、紫外線光を効率良く照射することができる。これによって、照射装置2は、凹部全体における積算光量のばらつきを抑制しつつ、凹部に塗布された光硬化性樹脂全体を硬化させることができる。 As described above, the irradiation device 2 can efficiently irradiate the lower surface of the recess and the inner side surface arranged at a position facing the reflector 30 with ultraviolet light. As a result, the irradiation device 2 can cure the entire photocurable resin applied to the concave portion while suppressing the variation in the integrated light amount in the entire concave portion.

さらに、反射板30は、棒状の支持部材32によって、回動自在に軸支されている。このため、反射板30を回動させることによって、反射面30Aの開口部10Aに対する角度を変化させることができ、紫外線の反射方向を制御することができる。
これによって、ワークWの凹部の形状、特に深さ方向の寸法に応じて紫外線の反射方向を変化させることができ、より効率良くワークWの凹部に塗布された光硬化性樹脂を硬化させることができる。
Further, the reflector 30 is rotatably supported by a rod-shaped support member 32. Therefore, by rotating the reflector 30, the angle of the reflection surface 30A with respect to the opening 10A can be changed, and the direction of reflection of ultraviolet rays can be controlled.
As a result, the direction of reflection of ultraviolet rays can be changed according to the shape of the concave portion of the work W, particularly the dimension in the depth direction, and the photocurable resin applied to the concave portion of the work W can be cured more efficiently. can.

また、反射板30は、筐体10の開口部10Aに最も接近した箇所である上縁において、棒状の支持部材32によって軸支されている。この支持部材32は、所定箇所Fを挟んだ反射鏡14Rの反対側に配置されている。
これによって、反射板30は、例えば下縁等で軸支された場合より反射鏡14Rで反射した紫外線をより多く受けつつ、より広い範囲に紫外線を向かわせることができ、また、より小さい寸法で形成することが可能となる。
Further, the reflector 30 is pivotally supported by a rod-shaped support member 32 at the upper edge, which is the portion closest to the opening 10A of the housing 10. The support member 32 is arranged on the opposite side of the reflector 14R with the predetermined portion F interposed therebetween.
As a result, the reflector 30 can receive more ultraviolet rays reflected by the reflecting mirror 14R than when it is axially supported by, for example, a lower edge, and can direct the ultraviolet rays to a wider range, and has a smaller size. It becomes possible to form.

ここで、本実施形態の光硬化システム1と、第一、第二比較例とのシミュレーション結果について説明する。
図4は、比較例の構成を模式的に示す側面図であり、図4(A)は、第一比較例である光硬化システム100の側面図、(B)は、第二比較例である光硬化システム200の側面図である。図4(A)、図4(B)において、図2と同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。
発明者らは、本実施形態の光硬化システム1が所定のワークWに紫外線を照射したときの凹部における積算光量のばらつきについて、シミュレーションを行った。
また、図4に示すように、発明者らは、本実施形態の光硬化システム1に加えて、比較例として、光硬化システム100と光硬化システム200についても、所定のワークWに紫外線を照射したときの凹部における積算光量のばらつきのシミュレーションを行った。
Here, the simulation results of the photocuring system 1 of the present embodiment and the first and second comparative examples will be described.
4A and 4B are side views schematically showing the configuration of a comparative example, FIG. 4A is a side view of the photocuring system 100 which is the first comparative example, and FIG. 4B is a second comparative example. It is a side view of the photocuring system 200. In FIGS. 4A and 4B, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
The inventors simulated the variation in the integrated light amount in the recess when the photocuring system 1 of the present embodiment irradiates a predetermined work W with ultraviolet rays.
Further, as shown in FIG. 4, in addition to the photocuring system 1 of the present embodiment, the inventors also irradiate a predetermined work W with ultraviolet rays as a comparative example of the photocuring system 100 and the photocuring system 200. A simulation of the variation in the integrated light amount in the concave portion was performed.

図4(A)に示すように、光硬化システム100は、光硬化システム1が備える反射鏡14に代えて、反射鏡114を備え、また、反射板30が省略されている。この光硬化システム100の照射器106が備える反射鏡114は、ランプ12を挟んで対向配置される一対の反射鏡114L、114Rで構成される。反射鏡114Rは、反射鏡14Rと同一であり、反射鏡114Lは、ランプ12を挟んで反射鏡114Rと対称形状に形成される。
照射器106では、反射鏡114によって集光して反射された紫外線が出射すると、照射装置2の反射板30によって反射された紫外線よりも広範囲に亘って照射される。
As shown in FIG. 4A, the photocuring system 100 includes a reflecting mirror 114 in place of the reflecting mirror 14 provided in the photocuring system 1, and the reflector 30 is omitted. The reflector 114 included in the irradiator 106 of the photocuring system 100 is composed of a pair of reflectors 114L and 114R arranged so as to face each other with the lamp 12 in between. The reflector 114R is the same as the reflector 14R, and the reflector 114L is formed symmetrically with the reflector 114R with the lamp 12 interposed therebetween.
In the irradiator 106, when the ultraviolet rays collected and reflected by the reflecting mirror 114 are emitted, they are irradiated in a wider range than the ultraviolet rays reflected by the reflector 30 of the irradiating device 2.

図4(B)に示すように、光硬化システム200は、照射器106の光軸が搬送架台4の上面に対して斜めとなるように配置されたものである。詳述すると、光硬化システム200は、照射器106を搬送架台4の上面に対して斜めとなるように配置することでワークWの内側面により多くの紫外線が入射するようにしている。 As shown in FIG. 4B, the photocuring system 200 is arranged so that the optical axis of the irradiator 106 is oblique to the upper surface of the transport stand 4. More specifically, in the photocuring system 200, the irradiator 106 is arranged so as to be oblique to the upper surface of the transport frame 4 so that more ultraviolet rays are incident on the inner surface of the work W.

次いで、シミュレーションに用いた各ワークWについて説明する。
図5は、シミュレーションに用いた第一のワークW1を示す図であり、図5(A)は、ワークW1の斜視図、図5(B)は、図5(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、図5(C)は、図5(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。
図6は、シミュレーションに用いた第二のワークW2を示す図であり、図6(A)は、ワークW2の斜視図、図6(B)は、図6(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、図6(C)は、図6(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。
図7は、シミュレーションに用いた第三のワークW3を示す図であり、図7(A)は、ワークW3の斜視図、(B)は、図7(A)に示す平面Bで切断した縦断面図、図7(C)は、図7(A)に示す平面Cで切断した縦断面図である。
なお、平面Bは、各ワークW1、W2、W3の長手方向に直交する方向の略中央を通る仮想面である。平面Cは、各ワークW1、W2、W3の長手方向の略中央を通る仮想面である。
本シミュレーションでは、光硬化システム1、100、200のそれぞれが図5から図7に示すワークW1、W2、W3に対して、搬送架台4で往復搬送させながら紫外線を照射し、そのときの凹部における積算光量について比較した。具体的には、ワークW1では、図5(B)、図5(C)に示すように、測定箇所としてP1からP23の23箇所を設定し、光硬化システム1、100、200のそれぞれが紫外線を照射したときの各測定箇所におけるそれぞれの積算光量を測定した。
Next, each work W used in the simulation will be described.
5A and 5B are views showing the first work W1 used in the simulation, FIG. 5A is a perspective view of the work W1, and FIG. 5B is cut along a plane B shown in FIG. 5A. 5 (C) is a vertical cross-sectional view taken along the plane C shown in FIG. 5 (A).
6A and 6B are views showing a second work W2 used in the simulation, FIG. 6A is a perspective view of the work W2, and FIG. 6B is cut along a plane B shown in FIG. 6A. 6 (C) is a vertical cross-sectional view taken along the plane C shown in FIG. 6 (A).
7A and 7B are views showing a third work W3 used in the simulation, FIG. 7A is a perspective view of the work W3, and FIG. 7B is a vertical section cut along a plane B shown in FIG. 7A. The top view and FIG. 7 (C) are vertical cross-sectional views cut along the plane C shown in FIG. 7 (A).
The plane B is a virtual plane that passes through substantially the center of each work W1, W2, and W3 in a direction orthogonal to the longitudinal direction. The plane C is a virtual plane that passes through substantially the center of each work W1, W2, and W3 in the longitudinal direction.
In this simulation, each of the photocuring systems 1, 100, and 200 irradiates the workpieces W1, W2, and W3 shown in FIGS. The integrated light amount was compared. Specifically, in the work W1, as shown in FIGS. 5B and 5C, 23 measurement points P1 to P23 are set, and the photocuring systems 1, 100, and 200 each have ultraviolet rays. The integrated amount of light at each measurement point when the light was irradiated was measured.

同様に、ワークW2では、図6(B)、図6(C)に示すように、測定箇所としてP1からP21の21箇所を設定し、光硬化システム1、100、200のそれぞれが紫外線を照射したときの各測定箇所におけるそれぞれの積算光量を測定した。
ワークW3では、図7(B)、図7(C)に示すように、測定箇所としてP1からP16の16箇所を設定し、光硬化システム1、100、200のそれぞれが紫外線を照射したときの各測定箇所におけるそれぞれの積算光量を測定した。
Similarly, in the work W2, as shown in FIGS. 6B and 6C, 21 measurement points P1 to P21 are set, and each of the photocuring systems 1, 100, and 200 irradiates ultraviolet rays. The integrated light intensity at each measurement point was measured.
In the work W3, as shown in FIGS. 7 (B) and 7 (C), 16 points P1 to P16 are set as measurement points, and when each of the photocuring systems 1, 100, and 200 is irradiated with ultraviolet rays. The integrated light intensity at each measurement point was measured.

図8は、シミュレーションの結果を示す図であり、図8(A)は、第一のワークW1における結果を示す図、図8(B)は、第二のワークW2における結果を示す図、図8(C)は、第三のワークW3における結果を示す図である。
図8(A)から図8(C)において、縦軸は、積算光量Yを示し、横軸が各測定箇所Xを示している。なお、図8(A)から図8(C)において、積算光量Yは、光硬化システム100が各ワークW1、W2、W3に紫外線を照射したときに最も積算光量が高くなった測定箇所を基準値とし、この基準値に対する各測定結果の相対値を示している。
また、図8(A)から図8(C)において、光硬化システム1、100、200が紫外線を照射したときの各箇所における積算光量を、それぞれ符号R1、R2、R3で示している。
図8(A)から図8(C)に示すように、光硬化システム1は、ワークW1、W2、W3のいずれに紫外線を照射した場合であっても、光硬化システム100、200と比較すると、各測定箇所同士の積算光量の差が小さくなっている。
すなわち、光硬化システム1では、例えば、ワークWが有する凹部の底面と内側面とにおける積算光量の差が小さくなり、凹部における積算光量のばらつきを抑制することができる。このため、光硬化システム1は、紫外線を照射してワークWの凹部に塗布された光硬化性樹脂を硬化するときに、凹部における照射ムラが抑制され、光硬化性樹脂の硬化不足や、ワークWに黄変が生じることを抑制できる。
8A and 8B are diagrams showing the results of the simulation, FIG. 8A is a diagram showing the results in the first work W1, and FIG. 8B is a diagram and a diagram showing the results in the second work W2. 8 (C) is a figure which shows the result in the 3rd work W3.
In FIGS. 8 (A) to 8 (C), the vertical axis represents the integrated light intensity Y, and the horizontal axis represents each measurement point X. In addition, in FIGS. 8A to 8C, the integrated light amount Y is based on the measurement point where the integrated light amount is highest when the photocuring system 100 irradiates each work W1, W2, W3 with ultraviolet rays. The value is shown as a relative value of each measurement result with respect to this reference value.
Further, in FIGS. 8A to 8C, the integrated light amounts at each location when the photocuring systems 1, 100, and 200 are irradiated with ultraviolet rays are indicated by reference numerals R1, R2, and R3, respectively.
As shown in FIGS. 8 (A) to 8 (C), the photo-curing system 1 is compared with the photo-curing systems 100 and 200 even when any of the workpieces W1, W2, and W3 is irradiated with ultraviolet rays. , The difference in the integrated light amount between each measurement point is small.
That is, in the photocuring system 1, for example, the difference in the integrated light amount between the bottom surface and the inner surface of the recessed portion of the work W becomes small, and the variation in the integrated light amount in the recessed portion can be suppressed. Therefore, in the photocuring system 1, when the photocurable resin applied to the recesses of the work W is cured by irradiating ultraviolet rays, uneven irradiation in the recesses is suppressed, resulting in insufficient curing of the photocurable resin and the work. It is possible to suppress the occurrence of yellowing in W.

以上説明したように、本実施形態によれば、照射装置2は、紫外線を放射するランプ12を備え、紫外線をワークWに照射することで、ワークWに塗布された光硬化性樹脂を硬化させる。そして、照射装置2の照射器6の開口部10Aには、紫外線を所定方向に反射する反射板30が設けられている構成とした。
これによって、照射装置2は、反射板30に反射させた紫外線をワークWに照射することで、当該照射装置2の配置位置を変化させることなく、ワークWの凹部全体に紫外線を照射することができる。このため、照射装置2の全体を動かすことなく紫外線が向かう方向を制御でき、照射器6に設けられている配線や、ダクト接続部24、ダクト等に負荷がかかることを抑制できる。
また、照射装置2は、ワークWの凹部における紫外線の積算光量のばらつきを抑制することができる。このため、光硬化システム1は、紫外線を照射してワークWの凹部に塗布された光硬化性樹脂を硬化するときに、凹部における照射ムラが抑制され、光硬化性樹脂の硬化不足や、ワークWに黄変が生じることを抑制できる。
As described above, according to the present embodiment, the irradiation device 2 includes a lamp 12 that radiates ultraviolet rays, and by irradiating the work W with ultraviolet rays, the photocurable resin applied to the work W is cured. .. The opening 10A of the irradiator 6 of the irradiation device 2 is provided with a reflector 30 that reflects ultraviolet rays in a predetermined direction.
As a result, the irradiation device 2 irradiates the work W with the ultraviolet rays reflected by the reflector 30, so that the entire recess of the work W is irradiated with the ultraviolet rays without changing the arrangement position of the irradiation device 2. can. Therefore, the direction in which the ultraviolet rays are directed can be controlled without moving the entire irradiation device 2, and it is possible to suppress the load on the wiring provided in the irradiator 6, the duct connection portion 24, the duct, and the like.
In addition, the irradiation device 2 can suppress variations in the integrated light amount of ultraviolet rays in the recesses of the work W. Therefore, in the photocuring system 1, when the photocurable resin applied to the recesses of the work W is cured by irradiating ultraviolet rays, uneven irradiation in the recesses is suppressed, resulting in insufficient curing of the photocurable resin and the work. It is possible to suppress the occurrence of yellowing in W.

また、本実施形態によれば、反射板30は、ランプ12側の端部に回転軸となる支持部材32が設けられ、この支持部材32を中心に回動可能に設けられている構成とした。
これによって、反射板30は、例えば下縁等で軸支された場合より反射鏡14Rで反射した紫外線をより多く受けつつ、より広い範囲に紫外線を向かわせることができ、また、より小さい寸法で形成することが可能となる。
Further, according to the present embodiment, the reflector 30 is provided with a support member 32 serving as a rotation axis at the end on the lamp 12 side, and is rotatably provided around the support member 32. ..
As a result, the reflector 30 can receive more ultraviolet rays reflected by the reflecting mirror 14R than when it is axially supported by, for example, a lower edge, and can direct the ultraviolet rays to a wider range, and has a smaller size. It becomes possible to form.

また、本実施形態によれば、照射器6は、ランプ12を挟んで対向配置される反射鏡14Rと反射鏡14Lとを備えた反射鏡14を有し、反射鏡14Rは、ランプ12の紫外線を反射板30に向けて反射し、反射鏡14Lは、ランプ12の紫外線を集光して反射鏡14Rに入射させる構成とした。
これによって、照射器6の開口部10Aから出射する紫外線は、ランプ12の長手方向に直交する方向において、所定範囲内に限定される。このため、照射器6の開口部10Aからの紫外線の出射範囲が限られ、反射板30による紫外線の制御が容易となる。
Further, according to the present embodiment, the irradiator 6 has a reflector 14 having a reflector 14R and a reflector 14L arranged to face each other with the lamp 12 in between, and the reflector 14R is an ultraviolet ray of the lamp 12. Is reflected toward the reflecting plate 30, and the reflecting mirror 14L is configured to collect the ultraviolet rays of the lamp 12 and make them incident on the reflecting mirror 14R.
As a result, the ultraviolet rays emitted from the opening 10A of the irradiator 6 are limited to a predetermined range in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the lamp 12. Therefore, the range of ultraviolet rays emitted from the opening 10A of the irradiator 6 is limited, and the ultraviolet rays can be easily controlled by the reflector 30.

また、本実施形態によれば、反射板30は、凹部の形状に応じて紫外線を反射する方向を調整可能に設けられている構成とした。
これによって、照射装置2は、紫外線の反射する方向を凹部の形状に合わせて調整できる。このため、ワークWの凹部に紫外線をより効率良く照射することができ、凹部全体における積算光量の偏りが生じることを抑制できる。
Further, according to the present embodiment, the reflector 30 is provided so that the direction in which ultraviolet rays are reflected can be adjusted according to the shape of the concave portion.
Thereby, the irradiation device 2 can adjust the direction in which the ultraviolet rays are reflected according to the shape of the concave portion. Therefore, it is possible to more efficiently irradiate the concave portion of the work W with ultraviolet rays, and it is possible to suppress the occurrence of unevenness in the integrated light amount in the entire concave portion.

また、本実施形態によれば、光硬化システム1は、照射装置2と、反射板30によって反射された紫外線が複数の方向からワークWに設けられた凹部に照射されるように、ワークWを搬送する搬送架台4とを備える構成とした。
これによって、ワークWが搬送架台4によって搬送されることで、照射装置2に対するワークWの凹部の配置位置が変化する。このため、光硬化システム1では、ワークWの凹部全体に紫外線を照射することができる。
Further, according to the present embodiment, the photocuring system 1 irradiates the work W so that the ultraviolet rays reflected by the irradiation device 2 and the reflector 30 are irradiated to the recesses provided in the work W from a plurality of directions. It is configured to include a transport stand 4 for transport.
As a result, the work W is transported by the transport pedestal 4, and the arrangement position of the recess of the work W with respect to the irradiation device 2 changes. Therefore, in the photocuring system 1, the entire concave portion of the work W can be irradiated with ultraviolet rays.

上述した実施形態は、本発明の一態様を例示したものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で任意に変形、及び応用が可能である。 The above-described embodiment illustrates one aspect of the present invention, and can be arbitrarily modified and applied without departing from the spirit of the present invention.

上述した実施形態では、光硬化システム1は、1つの照射装置2を備えるとしたが、これに限らず、複数の照射装置2を備えていてもよい。例えば、搬送架台4の搬送方向に沿って2つの照射装置2が並べて配置されていてもよい。この場合、各照射装置2は、反射板30の反射面30Aが互いに対向するように配置される。
この場合、各照射装置2は、搬送架台4に搬送されるワークWの凹部にそれぞれが異なる方向から紫外線を照射することとなる。
これによって、光硬化システム1は、ワークWの凹部全体における積算光量の偏りが生じることを抑制しつつ、一回の搬送で、複数の方向から紫外線をワークWの凹部に照射することができる。このため、ワークWが搬送架台4に搬送される回数を減少させ、当該ワークWの凹部の光硬化性樹脂の硬化に関わる作業工程を短縮することができる。
In the above-described embodiment, the photocuring system 1 is provided with one irradiation device 2, but the present invention is not limited to this, and a plurality of irradiation devices 2 may be provided. For example, the two irradiation devices 2 may be arranged side by side along the transport direction of the transport stand 4. In this case, each irradiation device 2 is arranged so that the reflecting surfaces 30A of the reflecting plate 30 face each other.
In this case, each irradiation device 2 irradiates the concave portion of the work W transported to the transport stand 4 with ultraviolet rays from different directions.
As a result, the photocuring system 1 can irradiate the concave portion of the work W with ultraviolet rays from a plurality of directions in one transfer while suppressing the unevenness of the integrated light amount in the entire concave portion of the work W. Therefore, the number of times the work W is transported to the transport stand 4 can be reduced, and the work process related to the curing of the photocurable resin in the recess of the work W can be shortened.

例えば、上述した実施形態では、開口部10Aは、平面視で矩形状に形成され、開放されているとした。しかしながらこれに限らず、当該開口部10Aの下方には、波長選択フィルタ等の所定の波長の光を透過する光学フィルタや、波長選択特性を有していないカバー等が配置されていてもよい。
この場合、反射板30は、当該フィルタやカバー、あるいはこれらのフィルタやカバーを保持する保持部材に設けられていてもよい。
For example, in the above-described embodiment, the opening 10A is formed in a rectangular shape in a plan view and is open. However, the present invention is not limited to this, and an optical filter such as a wavelength selection filter that transmits light having a predetermined wavelength, a cover that does not have wavelength selection characteristics, or the like may be arranged below the opening 10A.
In this case, the reflector 30 may be provided on the filter or cover, or a holding member that holds the filter or cover.

上述した実施形態では、光硬化システム1は、反射鏡14を備えるとしたが、これに限らず、例えば反射鏡114を備えていてもよい。この場合、照射装置2は、当該反射鏡114が反射する紫外線の範囲を限定する遮光板等を備えていてもよい。 In the above-described embodiment, the photocuring system 1 is provided with the reflecting mirror 14, but the present invention is not limited to this, and for example, the reflecting mirror 114 may be provided. In this case, the irradiation device 2 may include a light-shielding plate or the like that limits the range of ultraviolet rays reflected by the reflecting mirror 114.

また例えば、照射器6は、複数のランプ12を同軸に一列に並べて構成されていてもよい。
また例えば、搬送架台4は、ワークWを水平方向に沿って回転させる機構を備えていてもよい。
また例えば、搬送架台4は、無端の経路を備え、当該経路上をワークWが循環する構成であってもよい。この場合、照射装置2は、搬送架台4の経路の少なくとも2箇所の上方に位置するように設けられる。
Further, for example, the irradiator 6 may be configured by arranging a plurality of lamps 12 in a line coaxially.
Further, for example, the transport pedestal 4 may be provided with a mechanism for rotating the work W along the horizontal direction.
Further, for example, the transport pedestal 4 may be provided with an endless path, and the work W may circulate on the path. In this case, the irradiation device 2 is provided so as to be located above at least two locations on the path of the transport stand 4.

1、100、200 光硬化システム
2、102 照射装置
4 搬送架台(搬送手段)
6、106 照射器
10 筐体
10A 開口部(出射端)
12 ランプ
12A 中心軸
14、14L、14R、114、114L、114R 反射鏡
15A 楕円反射面
15B 円反射面
20 冷却ユニット
22 送風機
24 ダクト接続部
30 反射板
30A 反射面
32 支持部材(回転軸)
100 光硬化システム
W、W1、W2、W3 ワーク(照射対象物)
1,100,200 Photo-curing system 2,102 Irradiation device 4 Transport stand (transport means)
6, 106 Irradiator 10 Housing 10A Opening (outlet end)
12 Lamp 12A Central axis 14, 14L, 14R, 114, 114L, 114R Reflector 15A Elliptical reflector 15B Circular reflector 20 Cooling unit 22 Blower 24 Duct connection 30 Reflector 30A Reflector 32 Support member (rotary axis)
100 Photo-curing system W, W1, W2, W3 Work (irradiation target)

Claims (6)

紫外線を放射する線状光源が設けられた照射器を備え、
前記照射器が紫外線を照射対象物に照射することで、前記照射対象物に塗布された光硬化性樹脂を硬化させる照射装置であって、
前記照射器の紫外線の出射端には、紫外線を所定方向に反射する反射板が設けられている
ことを特徴とする照射装置。
Equipped with an irradiator equipped with a linear light source that radiates ultraviolet rays
An irradiator that cures a photocurable resin applied to an object to be irradiated by irradiating the object to be irradiated with ultraviolet rays.
An irradiation device characterized in that a reflector for reflecting ultraviolet rays in a predetermined direction is provided at an emission end of ultraviolet rays of the irradiator.
前記反射板は、前記線状光源側の端部に回転軸が設けられ、前記回転軸を中心に回動可能に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の照射装置。
The irradiation device according to claim 1, wherein the reflector is provided with a rotation shaft at an end on the linear light source side and is rotatably provided about the rotation shaft.
前記線状光源を挟んで対向配置される主反射面を備えた反射鏡と、円反射面を備えた反射鏡を有し、
前記主反射面は、前記線状光源の紫外線を前記反射板に向けて反射し、
前記円反射面は、前記線状光源の紫外線を集光して前記主反射面に入射させる
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の照射装置。
It has a reflector having a main reflecting surface and a reflecting mirror having a circular reflecting surface, which are arranged so as to face each other with the linear light source in between.
The main reflecting surface reflects the ultraviolet rays of the linear light source toward the reflector.
The irradiation device according to claim 1 or 2, wherein the circular reflection surface collects ultraviolet rays of the linear light source and causes them to enter the main reflection surface.
前記照射対象物は、前記照射器側に開口した凹部を有し、
前記凹部には、前記光硬化性樹脂が塗布されており、
前記反射板は、前記凹部の形状に応じて紫外線を反射する方向を調整可能に設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の照射装置。
The irradiation object has a recess opened on the side of the irradiator.
The photocurable resin is applied to the recesses, and the recesses are coated with the photocurable resin.
The irradiation device according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflector is provided so as to be able to adjust the direction in which ultraviolet rays are reflected according to the shape of the recess.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の前記照射装置と、
前記反射板によって反射された紫外線が複数の方向から前記凹部に照射されるように、前記照射対象物を搬送する搬送手段とを備える
ことを特徴とする光硬化システム。
The irradiation device according to any one of claims 1 to 4, and the irradiation device.
A photocuring system including a transporting means for transporting an object to be irradiated so that the ultraviolet rays reflected by the reflector are irradiated to the recesses from a plurality of directions.
複数の前記照射装置を備え、
前記照射装置のそれぞれは、照射した紫外線が互いに異なる方向から前記凹部に入射するように配置されている
ことを特徴とする請求項5に記載の光硬化システム。
Equipped with a plurality of the above-mentioned irradiation devices,
The photocuring system according to claim 5, wherein each of the irradiation devices is arranged so that the irradiated ultraviolet rays are incident on the recess from different directions.
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