JP2021118230A - 表示制御方法、編集支援方法、物品製造方法、プログラムおよび情報処理装置 - Google Patents
表示制御方法、編集支援方法、物品製造方法、プログラムおよび情報処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021118230A JP2021118230A JP2020009446A JP2020009446A JP2021118230A JP 2021118230 A JP2021118230 A JP 2021118230A JP 2020009446 A JP2020009446 A JP 2020009446A JP 2020009446 A JP2020009446 A JP 2020009446A JP 2021118230 A JP2021118230 A JP 2021118230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- display
- substrate
- drop
- shot area
- information
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 230000010365 information processing Effects 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 108
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 99
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 25
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
- G06F3/0481—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] based on specific properties of the displayed interaction object or a metaphor-based environment, e.g. interaction with desktop elements like windows or icons, or assisted by a cursor's changing behaviour or appearance
- G06F3/0482—Interaction with lists of selectable items, e.g. menus
Abstract
Description
Claims (14)
- 基板のショット領域に対するインプリント材の配置を制御するための制御情報が規則に適合しているかどうかを判断する判断工程と、
前記判断工程における判断結果を、前記ショット領域を示すショット領域情報とともにディスプレイに表示する表示工程と、
を含むことを特徴とする表示制御方法。 - 前記表示工程は、前記ショット領域に対するインプリント材の配置を示すドロップ配置情報を前記判断結果および前記ショット領域情報とともに前記ディスプレイに表示することを含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の表示制御方法。 - 前記表示工程は、インプリント材のドロップの体積に応じた情報を表示することを含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の表示制御方法。 - 前記表示工程は、前記制御情報が前記規則に適合していない部分の画像を拡大して前記ディスプレイに表示することを含む、
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の表示制御方法。 - 前記表示工程は、前記部分を強調して表示することを含む、
ことを特徴とする請求項4に記載の表示制御方法。 - 前記基板は、複数のショット領域を有し、
前記表示工程は、前記複数のショット領域のそれぞれについての前記判断工程における判断結果を前記ディスプレイに表示することを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の表示制御方法。 - 前記表示工程は、前記複数のショット領域の配置を示すショットレイアウト情報を前記判断結果および前記ショット領域情報とともに前記ディスプレイに表示することを含む、
ことを特徴とする請求項6に記載の表示制御方法。 - 前記判断工程は、前記制御情報の編集中に前記制御情報が前記規則に適合しているかどうかを判断することを含み、前記表示工程は、前記制御情報の編集中に前記判断工程における判断結果を前記ディスプレイに表示することを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の表示制御方法。 - 基板のショット領域に対するインプリント材の配置を制御するための制御情報の編集を支援する編集支援方法であって、
ユーザによる操作に従って前記制御情報を編集する編集工程と、
前記制御情報が規則に適合しているかどうかを判断する判断工程と、
前記判断工程における判断結果を、前記ショット領域を示すショット領域情報とともにディスプレイに表示する表示工程と、
を含むことを特徴とする編集支援方法。 - 物品製造方法であって、
請求項9に記載の編集支援方法によって編集された制御情報に基づいて基板の上にインプリント材を配置する工程と、
前記基板の上のインプリント材にモールドを接触させる工程と、
前記インプリント材を硬化させる工程と、
硬化した前記インプリント材からモールドを分離する工程と、
硬化した前記インプリント材を有する前記基板を処理する工程と、
を含み、前記基板から物品を得ることを特徴とする物品製造方法。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の表示制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 請求項9に記載の編集支援方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 基板のショット領域に対するインプリント材の配置を制御するための制御情報が規則に適合しているかどうかを判断する判断部と、
前記判断部による判断結果を、前記ショット領域を示すショット領域情報とともにディスプレイに表示する表示制御部と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。 - ユーザによる操作に従って前記制御情報を編集する編集部を更に備えることを特徴とする請求項13に記載の情報処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020009446A JP7475147B2 (ja) | 2020-01-23 | 表示制御方法、編集支援方法、物品製造方法、プログラムおよび情報処理装置 | |
US17/151,969 US20210232044A1 (en) | 2020-01-23 | 2021-01-19 | Display control method, editing support method and information processing apparatus |
KR1020210008568A KR20210095576A (ko) | 2020-01-23 | 2021-01-21 | 표시 제어 방법, 편집 지원 방법, 물품 제조 방법, 프로그램, 및 정보 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020009446A JP7475147B2 (ja) | 2020-01-23 | 表示制御方法、編集支援方法、物品製造方法、プログラムおよび情報処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021118230A true JP2021118230A (ja) | 2021-08-10 |
JP7475147B2 JP7475147B2 (ja) | 2024-04-26 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210232044A1 (en) | 2021-07-29 |
KR20210095576A (ko) | 2021-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7158173B2 (ja) | ドロップレシピの決定方法、インプリント装置および物品製造方法 | |
CN110083009B (zh) | 压印方法、压印装置和器件制造方法 | |
TWI530386B (zh) | 以模子在基板上之複數拍攝上形成圖案的壓印方法、和製造物品的方法 | |
US11577433B2 (en) | Imprint apparatus, method of manufacturing article, planarized layer forming apparatus, information processing apparatus, and determination method | |
JP6300459B2 (ja) | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 | |
US11333969B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method | |
JP6415479B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び半導体パッケージの製造方法 | |
KR20180125392A (ko) | 드롭 레시피를 결정하는 결정 방법, 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
CN108153107A (zh) | 压印装置及物品制造方法 | |
JP2016004794A (ja) | インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法 | |
KR20210095576A (ko) | 표시 제어 방법, 편집 지원 방법, 물품 제조 방법, 프로그램, 및 정보 처리 장치 | |
JP7137344B2 (ja) | インプリント装置、物品の製造方法、情報処理装置、マップの編集を支援する方法及び記憶媒体 | |
US20200192219A1 (en) | Imprint apparatus, information processing apparatus, and method of manufacturing article | |
JP7475147B2 (ja) | 表示制御方法、編集支援方法、物品製造方法、プログラムおよび情報処理装置 | |
TW202012144A (zh) | 壓印方法及物品製造方法 | |
US11422459B2 (en) | Data generation method, imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing article | |
JP2018073989A (ja) | インプリント方法、インプリント装置および物品製造方法 | |
US20230341782A1 (en) | Lithography information processing apparatus, lithography system, storage medium, lithography information processing method, and article manufacturing method | |
JP7433925B2 (ja) | インプリント方法、インプリント装置、および物品製造方法 | |
TWI794580B (zh) | 壓印設備及物品製造方法 | |
JP2023074405A (ja) | 情報処理装置、インプリント装置、情報処理方法、及び物品の製造方法 | |
JP2021097084A (ja) | インプリント装置、情報処理装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230106 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231027 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240318 |