JP2021113343A - Vacuum treatment apparatus - Google Patents

Vacuum treatment apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2021113343A
JP2021113343A JP2020006412A JP2020006412A JP2021113343A JP 2021113343 A JP2021113343 A JP 2021113343A JP 2020006412 A JP2020006412 A JP 2020006412A JP 2020006412 A JP2020006412 A JP 2020006412A JP 2021113343 A JP2021113343 A JP 2021113343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
vacuum
support plate
base material
sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020006412A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7305565B2 (en
Inventor
修司 齋藤
Shuji Saito
修司 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP2020006412A priority Critical patent/JP7305565B2/en
Publication of JP2021113343A publication Critical patent/JP2021113343A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7305565B2 publication Critical patent/JP7305565B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

To provide a vacuum treatment apparatus with a structure capable of improving a maintenance workability with less number of parts.SOLUTION: A vacuum treatment apparatus DM performs a vacuum treatment on at least one surface of a sheet shaped base material Sw with treatment units ES1, ES2 arranged in a vacuum treatment chamber Ms while the sheet shaped base material Sw is moved by multiple transportation rollers Gr in the vacuum treatment chamber Ms. The vacuum treatment chamber includes: a chamber body 1; engaging means Sh1, Sh2, Fb1, Fb2 which are defined with a first and a second support plates 21, 22 each covering openings 11, 12a, 12b on a wall surface of the chamber body facing each other, pivotally support each transportation roller by either of the first and the second support plates, supports the treatment unit by the other of the first and the second support plates, and selectively engage the chamber body, the first support plate and the second support plate, and single transportation means R1, 31 which support the first support plate and relatively moves to the second support plate in a proximity separation direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、真空処理室内で複数個の搬送ローラによりシート状の基材を走行させながら、真空処理室内に設けた処理ユニットによりシート状の基材の少なくとも一方の面に対して所定の真空処理を施す真空処理装置に関し、より詳しくは、メンテンナンスの作業性を向上できるものに関する。 In the present invention, a predetermined vacuum treatment is performed on at least one surface of the sheet-shaped substrate by a processing unit provided in the vacuum processing chamber while the sheet-shaped substrate is run by a plurality of transfer rollers in the vacuum processing chamber. More specifically, the present invention relates to a vacuum processing apparatus for which maintenance workability can be improved.

例えば、樹脂製のシート状の基材は可撓性を有し、加工性も良いことから、その一方の面に、真空雰囲気で所定の金属膜や酸化物膜等の所定の薄膜を単体または多層で成膜したり、エッチングや熱処理を施したりして電子部品や光学部品とすることが知られている。このような真空処理を施す真空処理装置は例えば特許文献1で知られている。このものは、真空雰囲気の形成が可能な真空チャンバを備え、真空チャンバ内にはキャンローラが設けられ、キャンローラの周囲に配置される仕切り板で真空チャンバが上下2室に区画されている。 For example, since a resin sheet-like base material has flexibility and good workability, a predetermined thin film such as a predetermined metal film or oxide film is formed alone or on one surface in a vacuum atmosphere. It is known that a film is formed in multiple layers, or an electronic component or an optical component is subjected to etching or heat treatment. A vacuum processing apparatus that performs such vacuum processing is known, for example, in Patent Document 1. This one is provided with a vacuum chamber capable of forming a vacuum atmosphere, a can roller is provided in the vacuum chamber, and the vacuum chamber is divided into two upper and lower chambers by a partition plate arranged around the can roller.

一方の室(真空処理室)には、各種の真空処理を施す処理ユニットが配置され、他方の室(搬送室)には、巻き掛けられたシート状の基材を一定の速度で繰り出す繰出ローラと、真空処理済みのシート状の基材を巻き取る巻取ローラと、キャンローラを経た繰出ローラと巻取ローラとの間でのシート状の基材の移送を案内する、互いに平行に配置される複数本のガイドローラとが設けられている。そして、例えば、処理ユニットが例えば真空蒸着法により成膜する蒸着源である場合には、蒸着源に設けた蒸着材料を昇華または気化させ、この昇華または気化した蒸着粒子をキャンローラに巻き掛けられたシート状の基材の部分に付着、堆積させて所定の薄膜が蒸着(成膜)される。 A processing unit that performs various types of vacuum processing is arranged in one chamber (vacuum processing chamber), and a feeding roller that feeds a wound sheet-like base material at a constant speed in the other chamber (conveying chamber). And, they are arranged parallel to each other to guide the transfer of the sheet-like base material between the take-up roller that winds the vacuum-treated sheet-like base material and the feeding roller and the take-up roller through the can roller. A plurality of guide rollers are provided. Then, for example, when the processing unit is a vapor deposition source for forming a thin film by, for example, a vacuum vapor deposition method, the vaporized material provided in the vapor deposition source is sublimated or vaporized, and the sublimated or vaporized vaporized particles are wound around a can roller. A predetermined thin film is vapor-deposited (deposited) by adhering to and depositing on the sheet-like base material.

ところで、処理ユニットが、蒸着源やスパッタリングカソードである場合、それらに利用される蒸着材料やターゲットは所謂消耗品であるため、材料補充やターゲット交換が必要になる。また、真空チャンバ内でシート状の基材に対して成膜処理を施すと、真空チャンバ内に設けられる隔壁(防着板を含む)や、その内部でシート状の基材を一定の張力を加えた状態で走行させる搬送ローラとしてのキャンローラやガイドローラといった部品にも着膜することになる。このため、定期的に真空チャンバを大気開放し、着膜の除去(クリーニング)や部品交換を実施して真空処理装置を初期状態に戻すメンテナンスを実施することが必要となる。通常、シート状の基材を繰り出すための繰出ローラ、巻取ローラ、ガイドローラやキャンローラといった各駆動部品は、例えば、アライメント精度の維持のため、単一の支持部品(支持板や真空チャンバの壁部等)で支持させて一体として取り扱われるように真空チャンバ内に設けられる。このため、材料補充やターゲット交換だけを実施するときでさえも、真空チャンバ内の全ての室を同時に大気雰囲気に戻すしかない、言い換えると、搬送室を真空雰囲気に維持したまま、真空処理室を大気雰囲気に戻すことができないという問題がある。 By the way, when the processing unit is a vapor deposition source or a sputtering cathode, the vapor deposition materials and targets used for them are so-called consumables, so that it is necessary to replenish the materials or replace the targets. Further, when a film-forming process is applied to the sheet-shaped base material in the vacuum chamber, a constant tension is applied to the partition wall (including the adhesive plate) provided in the vacuum chamber and the sheet-shaped base material inside the partition wall. The film will also be applied to parts such as can rollers and guide rollers as transport rollers that run in the added state. Therefore, it is necessary to periodically open the vacuum chamber to the atmosphere, remove the film film (cleaning), replace parts, and perform maintenance to return the vacuum processing apparatus to the initial state. Normally, each drive component such as a feeding roller, a winding roller, a guide roller, and a can roller for feeding a sheet-shaped base material is a single support component (support plate or vacuum chamber) for maintaining alignment accuracy, for example. It is provided in the vacuum chamber so that it can be supported by a wall or the like and handled as a unit. For this reason, even when only material replenishment or target replacement is performed, all the chambers in the vacuum chamber must be returned to the air atmosphere at the same time, in other words, the vacuum processing chamber is operated while maintaining the transport chamber in the vacuum atmosphere. There is a problem that it cannot be returned to the atmosphere.

一方、メンテナンス実施時の作業性を向上できるようにした真空処理装置は例えば特許文献2で知られている。このものは、シート状の基材が巻き掛けられるドラムを収容する真空チャンバを有し、真空チャンバ内には、ドラム(キャンローラ)の周囲に互いに隔絶された複数の処理空間を区画する複数個の隔壁が設けられている。真空チャンバの隔壁には各処理空間を夫々臨むように取付開口が設けられ、この取付開口を介して処理ユニットが着脱自在に設けられている。処理ユニットの各々は、真空チャンバの外壁面に当接して取付開口を閉塞可能な支持体を備え、各支持体が、取付開口を閉塞可能な取付位置とこの取付位置からドラムの軸線方向一方に離間した退避位置との間で進退自在な第1の台車で一体に保持されている。隔壁の各々は、真空チャンバ内に存して処理空間を画成する区画位置とこの区画位置からドラムの軸線方向他方に離間した他の退避位置との間で進退自在な第2の台車で一体に保持される。 On the other hand, a vacuum processing apparatus capable of improving workability during maintenance is known, for example, in Patent Document 2. This has a vacuum chamber for accommodating a drum around which a sheet-like base material is wound, and a plurality of processing spaces isolated from each other are partitioned around the drum (can roller) in the vacuum chamber. The partition wall is provided. A mounting opening is provided in the partition wall of the vacuum chamber so as to face each processing space, and a processing unit is detachably provided through the mounting opening. Each of the processing units is provided with a support capable of closing the mounting opening by contacting the outer wall surface of the vacuum chamber, and each support is located at a mounting position where the mounting opening can be closed and one of the mounting positions in the axial direction of the drum. It is integrally held by a first trolley that can move forward and backward with and from a separated retracted position. Each of the partition walls is integrated with a second carriage that can move forward and backward between the partition position that exists in the vacuum chamber and defines the processing space and the other retracted position that is separated from this partition position in the axial direction of the drum. Is held in.

真空チャンバには、軸線方向と水平に直交する方向から上流側真空チャンバと下流側真空チャンバとが連設され、上流側真空チャンバにシート状の基材が巻回され、一定の速度でこのシート状の基材を繰り出す繰出ローラが設けられ、下流側真空チャンバに成膜済みのシート状の基材を巻き取る巻取ローラが設けられている。このような場合でも、上記と同様、各駆動部品は、単一の支持部品(真空チャンバ、上流側真空チャンバ及び下流側真空チャンバに共通の支持板等)で支持させて一体として取り扱われるようにすることが通常である。そして、メンテナンス実施時には、真空チャンバを大気開放して、第2の台車を区画位置から軸線方向他方に移動させ、他の退避位置に到達すると、他の台車で保持された隔壁が真空チャンバ外の広い空間へと取り出される。その後、第1の台車を取付位置から退避位置に移動させると、第1の台車で保持された処理ユニットが真空チャンバ外の広い空間へと取り出される。このため、ターゲットの交換や蒸着材料の充填等の処理ユニットに対するメンテナンスを作業性良く実施できる。然し、第1の台車を移動させた状態でも、各駆動部品は真空チャンバ内に残るので、作業者は、真空チャンバ内に入って作業をせざるを得ない。このような場合、単一の支持部品から真空チャンバの本体が移動できるように構成することも考えられるが、第1及び第2の各台車に加えて、追加の台車も必要になり、これでは、部品点数が増加してコストアップを招来するといった問題も生じる。 In the vacuum chamber, an upstream vacuum chamber and a downstream vacuum chamber are connected in series from a direction perpendicular to the axial direction, and a sheet-like base material is wound around the upstream vacuum chamber, and this sheet is wound at a constant speed. A feeding roller for feeding the shaped base material is provided, and a winding roller for winding the formed sheet-shaped base material is provided in the downstream vacuum chamber. Even in such a case, as in the above, each drive component is supported by a single support component (a vacuum chamber, a support plate common to the upstream vacuum chamber and the downstream vacuum chamber, etc.) and handled as one. It is normal to do. Then, at the time of maintenance, the vacuum chamber is opened to the atmosphere, the second carriage is moved from the section position to the other in the axial direction, and when the other retracted position is reached, the partition wall held by the other carriage is outside the vacuum chamber. It is taken out into a large space. After that, when the first carriage is moved from the mounting position to the retracted position, the processing unit held by the first carriage is taken out to a wide space outside the vacuum chamber. Therefore, maintenance of the processing unit such as replacement of the target and filling of the vapor-deposited material can be performed with good workability. However, even when the first trolley is moved, each drive component remains in the vacuum chamber, so that the operator has no choice but to enter the vacuum chamber to perform the work. In such a case, it is conceivable to configure the main body of the vacuum chamber to be movable from a single support component, but in addition to the first and second trolleys, an additional trolley is also required. There is also a problem that the number of parts increases and the cost increases.

特開2006−225710号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-225710 特開2019−39055号公報JP-A-2019-39055

本発明は、以上の点に鑑み、少ない部品点数でメンテナンスの作業性を向上することができる構造の真空処理装置を提供することをその課題とするものである。 In view of the above points, it is an object of the present invention to provide a vacuum processing apparatus having a structure capable of improving maintenance workability with a small number of parts.

上記課題を解決するために、真空処理室内で複数個の搬送ローラによりシート状の基材を走行させながら、真空処理室内に設けた処理ユニットによりシート状の基材の少なくとも一方の面に対して所定の真空処理を施す本発明の真空処理装置は、真空処理室が、互いに対向する壁面を夫々開口したチャンバ本体と、チャンバ本体の開口を夫々覆う第1及び第2の支持プレートとで画成され、第1及び第2の各支持プレートの一方で各搬送ローラを軸支すると共に、その他方で処理ユニットを支持し、チャンバ本体と第1の支持プレートとを、または、チャンバ本体と第2の支持プレートとを選択的に係合する係合手段と、第1の支持プレートを支持して第2の支持プレートに対して近接離間方向に相対移動する単一の移動手段とを更に備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems, while the sheet-shaped base material is run by a plurality of transfer rollers in the vacuum processing chamber, the processing unit provided in the vacuum processing chamber is used to cover at least one surface of the sheet-shaped base material. In the vacuum processing apparatus of the present invention that performs a predetermined vacuum processing, the vacuum processing chamber is defined by a chamber body in which the wall surfaces facing each other are opened, and first and second support plates that cover the openings in the chamber body, respectively. The transfer roller is pivotally supported on one side of the first and second support plates, and the processing unit is supported on the other side, so that the chamber body and the first support plate are supported, or the chamber body and the second support plate are supported. Further provided with an engaging means for selectively engaging the support plate of the above, and a single moving means for supporting the first support plate and moving relative to the second support plate in the proximity-separation direction. It is characterized by.

本発明によれば、真空処理室内を大気開放して、例えば第1の支持プレートで支持される処理ユニットに対し、材料補充や部品交換といったメンテナンスを実施する場合、手動または自動で係合手段により第2の支持プレートとチャンバ本体とを選択的に係合させる。このとき、第1の支持プレートとチャンバ本体との係合は解除されたままである。そして、移動手段により離間方向に第1の支持プレートを移動させると、この第1の支持プレートで支持された処理ユニットが真空処理室からその外部の広い空間へと取り出される。これにより、何ら干渉する部品等がない空間にてメンテナンスを実施することができる。 According to the present invention, when the vacuum processing chamber is opened to the atmosphere and maintenance such as material replenishment or parts replacement is performed on the processing unit supported by the first support plate, for example, manually or automatically by engaging means. The second support plate and the chamber body are selectively engaged. At this time, the engagement between the first support plate and the chamber body remains disengaged. Then, when the first support plate is moved in the separation direction by the moving means, the processing unit supported by the first support plate is taken out from the vacuum processing chamber to a wide space outside the vacuum processing chamber. As a result, maintenance can be performed in a space where there are no interfering parts or the like.

他方、各搬送ローラに着膜したものの除去や搬送ローラの交換といったメンテナンスを実施する場合、手動または自動で係合手段により第1の支持プレートとチャンバ本体とを選択的に係合させる。このとき、第2の支持プレートとチャンバ本体との係合は解除されたままである。そして、移動手段により離間方向に第1の支持プレートを移動させると、この第1の支持プレートがチャンバ本体と一体に移動され、第2の支持プレートで軸支された各搬送ローラがむき出しのまま残る。これにより、真空チャンバの隔壁などの作業空間を制限するものがない状態で、各搬送ローラに着膜したものの除去や搬送ローラの交換といったメンテナンスを実施することができる。 On the other hand, when performing maintenance such as removing the film formed on each transfer roller or replacing the transfer roller, the first support plate and the chamber body are selectively engaged by the engaging means manually or automatically. At this time, the engagement between the second support plate and the chamber body remains disengaged. Then, when the first support plate is moved in the separation direction by the moving means, the first support plate is moved integrally with the chamber body, and each transport roller pivotally supported by the second support plate remains exposed. Remain. As a result, maintenance such as removal of the film formed on each transfer roller and replacement of the transfer roller can be performed without limiting the work space such as the partition wall of the vacuum chamber.

このように本発明では、係合手段により第1または第2の各支持プレートと、チャンバ本体とを選択的に係合し、単一の移動手段を移動したときに、離脱されるものがかわるようにしたため、少ない部品点数でメンテナンスの作業性を向上することができる。しかも、材料補充や部品交換といったメンテナンスを実施する場合、及び、各搬送ローラに着膜したものの除去や搬送ローラの交換といったメンテナンスを実施する場合でも、移動手段を移動させる方向が同一方向になるため、メンテナンスを実施するために必要なスペースは、真空チャンバを基準にその一方向のみにあれば済み、装置の占有面積を小さくできて有利である。 As described above, in the present invention, the first or second support plate and the chamber body are selectively engaged by the engaging means, and when a single moving means is moved, the one that is disengaged is changed. Therefore, maintenance workability can be improved with a small number of parts. Moreover, even when performing maintenance such as material replenishment or parts replacement, or when performing maintenance such as removing the film on each transport roller or replacing the transport roller, the direction in which the moving means is moved is the same. The space required for performing maintenance needs to be in only one direction with respect to the vacuum chamber, which is advantageous because the occupied area of the device can be reduced.

本発明において、チャンバ本体が、中央の第1チャンバ部とその両側に連設した第2チャンバ部とを備え、第2チャンバ部に夫々対向する一方の支持プレートの部分に、シート状の基材を繰り出す繰出ローラと、シート状の基材を巻き取る巻取ローラとが夫々軸支される構成を採用してもよい。これにより、真空処理装置を互いに隔絶され、真空雰囲気の形成が可能な空間を複数持つ所謂マルチチャンバ構造にでき、有利である。そして、材料補充や部品交換といったメンテナンスを実施する場合には、中央の第1チャンバ部のみを大気雰囲気に戻すことが可能になる。 In the present invention, the chamber body is provided with a central first chamber portion and a second chamber portion connected to both sides thereof, and a sheet-like base material is provided on one support plate portion facing each of the second chamber portions. A configuration may be adopted in which a feeding roller for feeding the sheet and a winding roller for winding the sheet-shaped base material are respectively pivotally supported. As a result, the vacuum processing devices can be isolated from each other, and a so-called multi-chamber structure having a plurality of spaces capable of forming a vacuum atmosphere can be formed, which is advantageous. Then, when performing maintenance such as material replenishment or parts replacement, it is possible to return only the central first chamber portion to the atmosphere.

本実施形態の蒸着源を備える真空処理装置の正面から視た断面図。A cross-sectional view of the vacuum processing apparatus including the vapor deposition source of the present embodiment as viewed from the front. 図1のII−II線に沿う断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 本実施形態の蒸着源を拡大して示す断面図。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the vapor deposition source of the present embodiment. 蒸着源を拡大して示す平面図。A plan view showing an enlarged vapor deposition source. 蒸着源を真空処理室から取り外した状態の断面図。Cross-sectional view of the vapor deposition source removed from the vacuum processing chamber. 真空処理室を画成するチャンバ本体を蒸着源と共に取り外した状態の断面図。A cross-sectional view of the chamber body defining the vacuum processing chamber removed together with the vapor deposition source. 変形例に係る真空処理室の一部を拡大して説明する図。It is a figure which expands and explains a part of the vacuum processing chamber which concerns on a modification.

以下、図面を参照して、処理ユニットを真空蒸着法により成膜処理するための蒸着源とし、真空雰囲気中でシート状の基材Swを走行させながら、シート状の基材Swの両面に成膜する場合を例に本発明の真空処理装置の実施形態を説明する。以下においては、搬送ローラとしてのキャンローラの軸線方向が水平方向に一致する姿勢でキャンローラが真空チャンバVc内に収容されているものとし、軸線方向をX軸方向、同一の水平面内でX軸に直交する方向をY軸方向、X軸及びY軸に直交する鉛直方向をZ軸方向とし、上、下といった方向は、真空処理装置の設置姿勢で示す図1を基準とする。 Hereinafter, referring to the drawings, the processing unit is used as a vapor deposition source for film deposition processing by a vacuum vapor deposition method, and the sheet-shaped base material Sw is formed on both sides of the sheet-shaped base material Sw while running in a vacuum atmosphere. An embodiment of the vacuum processing apparatus of the present invention will be described by taking the case of forming a film as an example. In the following, it is assumed that the can roller is housed in the vacuum chamber Vc in a posture in which the axial direction of the can roller as the transport roller coincides with the horizontal direction, and the axial direction is the X-axis direction, and the X-axis is in the same horizontal plane. The direction orthogonal to is the Y-axis direction, the vertical direction orthogonal to the X-axis and the Y-axis is the Z-axis direction, and the directions such as up and down are based on FIG. 1 shown in the installation posture of the vacuum processing apparatus.

図1及び図2を参照して、本実施形態の真空処理装置DMは、中央の真空処理室Msと、第1及び第2の各搬送室Ts1,Ts2とを備える真空チャンバVcを備える。特に図示して説明しないが、真空処理室Msと各搬送室Ts1,Ts2とには、排気管を介してターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ等で構成される真空ポンプユニットが接続され、真空雰囲気を形成できるようになっている。真空処理室Msは、直方体状の輪郭を持ち、互いに対向するY軸方向の側壁面を夫々開口したチャンバ本体としての第1チャンバ部1と、第1チャンバ部1の開口11,12aをOリング等の真空シールSvを介して密閉可能に夫々覆う隔壁としての第1及び第2の支持プレート2,2とで画成されている。第1及び第2の支持プレート2,2の上面及び下面の所定位置には、Y軸方向に貫通する第1のねじ孔Shが穿設され、また、第1チャンバ部1の開口11,12aに第1及び第2の支持プレート2,2を取り付けたとき、第1のねじ孔Shに対応する第1チャンバ部1の壁面部分には、第2のねじ孔Shが穿設されている。そして、第1チャンバ部1の開口11,12aへの第1及び第2の支持プレート2,2の取付状態で、第1及び第2の各ねじ孔Sh,Shに締結ボルトFb,Fbを締結することで、真空シールSvが第1チャンバ部1の開口11,12aの周囲に位置する壁面部分と第1及び第2の支持プレート2,2とに圧接した状態で両者を固定できるようになっている。この場合、第1及び第2の各ねじ孔Sh,Shと締結ボルトFb,Fbが本実施形態の係合手段を構成する。 With reference to FIGS. 1 and 2, the vacuum processing apparatus DM of the present embodiment includes a central vacuum processing chamber Ms and a vacuum chamber Vc including first and second transfer chambers Ts1 and Ts2. Although not particularly illustrated and described, a vacuum pump unit composed of a turbo molecular pump, a rotary pump, etc. is connected to the vacuum processing chamber Ms and the respective transport chambers Ts1 and Ts2 via an exhaust pipe to form a vacuum atmosphere. You can do it. The vacuum processing chamber Ms has an O-ring of a first chamber portion 1 as a chamber body having a rectangular parallelepiped contour and opening side wall surfaces in the Y-axis direction facing each other, and openings 11 and 12a of the first chamber portion 1. It is made first and second support plate 2 1, 2 2 and de image as sealably respectively cover the partition wall via a vacuum seal Sv equal. The first and second support plate 2 1, 2 2 of the upper and lower surfaces of a predetermined position, the first screw hole Sh 1 is bored penetrating in the Y-axis direction, the first chamber portion 1 of the opening first and second supporting plate 2 1, 2 2 when the attached to 11, 12a, the first wall portion of the chamber portion 1 corresponding to the first screw hole Sh 1, the second screw hole Sh 2 Has been drilled. The supporting plate 2 1 of the first and second to the first chamber portion 1 of the opening 11, 12a, 2 2 of the mounting state, each of the first and second screw holes Sh 1, fastened to Sh 2 volts Fb 1, by fastening the Fb 2, a state where the vacuum seal Sv is pressed into the support plate 2 1, 2 2 wall portion and the first and second located around the first chamber portion 1 of the opening 11,12a Both can be fixed with. In this case, the first and second screw holes Sh 1 and Sh 2 and the fastening bolts Fb 1 and Fb 2 constitute the engaging means of the present embodiment.

また、第1及び第2の支持プレート2,2の互いに背向する側には、第1及び第2の支持フレーム3,3が夫々取り付けられ、第1及び第2の支持プレート2,2のZ軸方向に起立した姿勢が維持できるようにしている。第1の支持フレーム3の下面には、床面Fに敷設したレール部材Rlに摺動自在に移動するスライダ31が設けられ、第1チャンバ部1の開口11からY軸方向一方(図2中、左側)に離間した退避位置と、第1チャンバ部1の開口11を閉塞する密閉位置との間で移動自在となっている(図2参照)。この場合、レール部材Rlとスライダ31とが本実施形態の単一の移動手段を構成する。 Further, on the side of the first and second facing away from one another of the supporting plate 2 1, 2 2, first and second support frame 3 1, 3 2 respectively attached, the first and second support plate 2 1, 2 2 of the standing posture in the Z-axis direction is to be maintained. The lower surface of the first supporting frame 3 1, the slider 31 which moves slidably is provided in the rail member Rl was laid on the floor F, whereas the Y-axis direction from the first chamber portion 1 of the opening 11 (FIG. 2 It is movable between the retracted position (middle, left side) and the closed position that closes the opening 11 of the first chamber portion 1 (see FIG. 2). In this case, the rail member Rl and the slider 31 form a single moving means of the present embodiment.

第1チャンバ部1のX軸方向両側には、直方体状の輪郭を持ち、Y軸方向他方の側壁面(図2中、右側壁)のみを開口したチャンバ本体としての第2チャンバ部4,4が夫々連設され、各搬送室Ts1,Ts2が、第2チャンバ部4,4とY軸方向他側に位置する第2の支持プレート2とで画成されている。この場合、特に図示して説明しないが、上記と同様、第2の支持プレート2の上面及び下面の所定位置には、Y軸方向に貫通する第1のねじ孔Shが穿設され、また、第2チャンバ部4,4の開口12b,12bに第2の支持プレート2を取り付けたとき、第1のねじ孔Shに対応する第2チャンバ部4,4の壁面部分には、第2のねじ孔Shが穿設されている。そして、各第2チャンバ部4,4の開口12b,12bへの第2の支持プレート2の取付状態で、第1及び第2の各ねじ孔Sh,Shに締結ボルトFbを締結することで、図外の真空シールが第2チャンバ部4,4の開口12b,12bの周囲に位置する壁面部分と第2の支持プレート2とに圧接した状態で第2チャンバ部4,4を第2の支持プレート2に固定できるようになっている。なお、本実施形態では、第1チャンバ部1の開口12aと第2チャンバ部4,4の各開口12b,12bとを閉じる第2の支持プレート2が単一である場合を例に説明しているが、第1チャンバ部1の開口12aと、第2チャンバ部4,4の開口12b,12bとを夫々開閉自在に閉じるように第2の支持プレート2を複数で構成することができ、この場合、夫々を単一の支持フレーム3で支持させればよい。 The X-axis direction both sides of the first chamber portion 1 has a rectangular parallelepiped contour, Y axis direction the other side wall surface (in FIG. 2, right side wall) second chamber part 4 1 of a chamber body having an opening only, 4 2 are respectively provided continuously, the conveying chamber Ts1, Ts2 has been made a second supporting plate 2 2 a de image located in the second chamber portion 4 1, 4 2 and the Y-axis direction the other side. In this case, although not particularly illustrated and described, the first screw hole Sh 1 penetrating in the Y-axis direction is formed at predetermined positions on the upper surface and the lower surface of the second support plate 22 as described above. the second chamber portions 4 1, 4 2 openings 12b, when the second supporting plate 2 2 attached to 12b, a second chamber portion 4 1, 4 2 wall corresponding to the first screw hole Sh 1 A second screw hole Sh 2 is bored in the portion. Then, each of the second chamber portion 4 1, 4 2 openings 12b, the second supporting plate 2 second mounting state to 12b, the fastening bolt Fb 2 in each of the first and second screw holes Sh 1, Sh 2 by fastening the second chamber in a state where the vacuum seal is pressed against the the support plate 2 2 wall portion and the second located around the second chamber portion 4 1, 4 2 openings 12b, 12b outside the Figure part 4 1, 4 2 so can be fixed to the second supporting plate 2 2. In the present embodiment, the case where the first opening 12a and the second chamber portion 4 first chamber portion 1, 4 2 of each opening 12b, a second support plate closing and 12b 2 2 is a single example are described, and the first opening 12a of the chamber part 1, a second chamber portion 4 1, 4 2 openings 12b, 12b and respectively openably closing constructed as a second supporting plate 2 2 a plurality it can be, in this case, it is sufficient to support the respective single support frame 3 2.

互いに向かい合う第1チャンバ部1と第2チャンバ部4,4のX軸方向に位置する側壁には、シート状の基材Swの通過を許容する透孔13a,13b,41,42が夫々開設されると共に、第1チャンバ部1と第2チャンバ部4,4の両側壁間の隙間には、この隙間を通過するシート状の基材Swの部分を覆うようにしてロードロックバルブ5が設けられ、真空雰囲気中にて一貫してシート状の基材Swが搬送できると共に真空処理室Msと両搬送室Ts1,Ts2とを隔絶できるようにしている。なお、この種の真空処理装置DMに利用されるロードロックバルブ5としては公知のものが利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。なお、ロードロックバルブ5を自動で作動させるには、何らの動力(電力や圧縮空気など)を供給する必要がある。このような場合、例えば、第1の支持プレート2または第2の支持プレート2を通して動力供給に必要な配管や配線がなされ、このとき、後述の第1及び第2の支持プレート2,2とチャンバ本体1,4,4との着脱に同期して接断されるコネクタが所定位置に適宜設けられる。コネクタ以外の手法としてケーブルベア(登録商標)の利用も考えられる。 The side wall located in the first chamber portion 1 and the second chamber portion 4 1, 4 2 in the X-axis direction, which face each other, through holes 13a permitting passage of the sheet substrate Sw, 13b, 41 and 42 are respectively with the opening, the first chamber portion 1 and in the gap between the second chamber portion 4 1, 4 2 between both side walls, the load lock valve so as to cover the portion of the sheet substrate Sw passing through the gap 5 is provided so that the sheet-shaped base material Sw can be consistently conveyed in a vacuum atmosphere and the vacuum processing chamber Ms and both transfer chambers Ts1 and Ts2 can be isolated. Since a known load lock valve 5 can be used as the load lock valve 5 used in this type of vacuum processing apparatus DM, detailed description thereof will be omitted here. In order to automatically operate the load lock valve 5, it is necessary to supply some power (electric power, compressed air, etc.). In such a case, for example, piping and wiring necessary for power supply is made through the first supporting plate 2 1 and a second supporting plate 2 2, this time, the support plate 2 of the first and second later, A connector that is connected and disconnected in synchronization with the attachment and detachment of 2 2 and the chamber main body 1 , 4 1, 4 2 is appropriately provided at a predetermined position. The use of cable bear (registered trademark) is also conceivable as a method other than the connector.

X軸方向一方(図1中、左側)に位置する第1の搬送室Ts1には、成膜前のシート状の基材Swが巻回される繰出ローラWrが設けられている。繰出ローラWrの回転軸Waは、第2の支持プレート2に軸支され、真空チャンバVc外に設けられるモータM1により回転駆動されるようになっている。第2の搬送室Ts2には、成膜済みシート状の基材Swを巻き取る巻取ローラUrが設けられている。巻取ローラUrの回転軸Uaもまた、第2の支持プレート2に軸支され、真空チャンバVc外に設けられるモータM2により回転駆動されるようになっている。なお、両搬送室Ts1,Ts2には、シート状の基材Swの搬送を案内する搬送ローラとしてのガイドローラGrが適宜設けられ、ガイドローラGrの回転軸Gaもまた第2の支持プレート2に夫々軸支されている。 The first transport chamber Ts1 located on one side in the X-axis direction (left side in FIG. 1) is provided with a feeding roller Wr around which a sheet-shaped base material Sw before film formation is wound. The rotation shaft Wa of the feeding roller Wr is pivotally supported by the second support plate 22 and is rotationally driven by a motor M1 provided outside the vacuum chamber Vc. The second transport chamber Ts2 is provided with a take-up roller Ur that winds up the film-formed sheet-like base material Sw. The rotation shaft Ua of the take-up roller Ur is also pivotally supported by the second support plate 22 and is rotationally driven by a motor M2 provided outside the vacuum chamber Vc. Note that both the transfer chamber Ts1, Ts2 are guide rollers Gr as a carrying roller for guiding the conveyance of the sheet substrate Sw is appropriately provided, supporting the rotation shaft Ga also of the second guide roller Gr plates 2 2 Each is supported by the axis.

真空処理室Msには、ガイドローラGrと、キャンローラCrとが設けられ、キャンローラCrの周囲を搬送される間にシート状の基材Swが冷却されるようになっている。ガイドローラGrとキャンローラCrとの回転軸Ga,Caもまた、第2の支持プレート2に軸支され、キャンローラCrは、真空チャンバVc外に設けられるモータM3により回転駆動されるようになっている。そして、真空処理室Ms内に、X軸方向に水平搬送されるシート状の基材Swの両面に対して成膜処理を行うための処理ユニットとして2個の蒸着源ES,ESが設けられている。 The vacuum processing chamber Ms is provided with a guide roller Gr and a can roller Cr so that the sheet-shaped base material Sw is cooled while being conveyed around the can roller Cr. The rotation axes Ga and Ca of the guide roller Gr and the can roller Cr are also pivotally supported by the second support plate 22 so that the can roller Cr is rotationally driven by the motor M3 provided outside the vacuum chamber Vc. It has become. Then, two thin-film deposition sources ES 1 and ES 2 are provided in the vacuum processing chamber Ms as processing units for performing film formation processing on both surfaces of the sheet-shaped base material Sw that is horizontally conveyed in the X-axis direction. Has been done.

図3及び図4も参照して、各蒸着源ES,ESは、同一構成を有し、主筒体6と副筒体7とを備える。この場合、第1の支持プレート2のY軸方向外側面には、各蒸着源ES,ESを設置しようとする位置や数に応じて拡張チャンバEcが連設されている。特に図示して説明しないが、拡張チャンバEcには、排気管を介してターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ等で構成される真空ポンプユニットとベントバルブとが接続されている。そして、拡張チャンバEc内に、円筒形状の輪郭を持ち、その長手方向がZ軸方向に合致する姿勢で各蒸着源ES,ESの主筒体6が配置されている。 With reference to FIGS. 3 and 4, each of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 has the same configuration and includes a main cylinder 6 and a sub cylinder 7. In this case, expansion chambers Ec are continuously provided on the outer surface of the first support plate 21 in the Y-axis direction according to the position and number of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 to be installed. Although not particularly illustrated and described, a vacuum pump unit composed of a turbo molecular pump, a rotary pump, or the like and a vent valve are connected to the expansion chamber Ec via an exhaust pipe. Then, in the expansion chamber Ec, the main cylinders 6 of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 are arranged in a posture having a cylindrical contour and whose longitudinal direction coincides with the Z-axis direction.

主筒体6は、有底筒状の輪郭を持ち、そのZ軸方向の下部には、所定の充填率で固体の蒸着材料Emが充填される坩堝部61が設けられている。蒸着材料Emとしては、シート状の基材Swに成膜(蒸着)しようとする薄膜の組成に応じて適宜選択され、例えば、アルミニウム、リチウム、インジウム及びその合金などの金属材料や有機材料が用いられる。主筒体6の上面開口には開閉扉Edが設けられ、開閉扉Edを閉じると、主筒体6内を密閉できるようになっている。坩堝部61にはまた、その上面開口61aを開閉自在に閉塞する蓋体62が設けられている。この場合、主筒体6内には、アクチュエータ63が設けられ、アクチュエータ63により、蓋体62をZ軸方向に起立させた起立姿勢と、その上面開口61aを閉塞する水平姿勢(図3参照)との間で蓋体62を揺動させると共に、水平姿勢のときに、蓋体62を坩堝部61に向けて押しつけ、蓋体62と坩堝部61との接触面圧を確保することができるようにしている(言い換えると、後述のように、蒸着材料Emの昇華または気化によりその内部圧力が上昇した時でも、蓋体62と坩堝部61との間のコンダクタンスを確保し、蒸着材料Emが主筒体6内へ不都合な漏洩が発生しないようにしている)。なお、このようなアクチュエータ63としては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。 The main cylinder 6 has a bottomed tubular contour, and a crucible portion 61 in which the solid vapor deposition material Em is filled at a predetermined filling rate is provided at the lower portion thereof in the Z-axis direction. The vapor deposition material Em is appropriately selected according to the composition of the thin film to be deposited (deposited) on the sheet-shaped base material Sw, and for example, a metal material such as aluminum, lithium, indium and an alloy thereof or an organic material is used. Be done. An opening / closing door Ed is provided in the upper opening of the main cylinder 6, and when the opening / closing door Ed is closed, the inside of the main cylinder 6 can be sealed. The crucible portion 61 is also provided with a lid 62 that rotatably closes the upper surface opening 61a. In this case, an actuator 63 is provided in the main cylinder 6, and the lid 62 is erected in the Z-axis direction by the actuator 63, and the upper surface opening 61a is closed (see FIG. 3). The lid body 62 is swung between the two, and the lid body 62 is pressed toward the pit 61 in the horizontal posture so that the contact surface pressure between the lid 62 and the pit 61 can be secured. (In other words, as will be described later, even when the internal pressure of the vapor deposition material Em rises due to sublimation or vaporization, the conductance between the lid 62 and the pit 61 is secured, and the vapor deposition material Em is the main component. To prevent inconvenient leakage into the cylinder 6). Since a known actuator 63 can be used as such an actuator 63, further description thereof will be omitted.

主筒体6の外周面には、先端に取付フランジ64aを備える、Y軸方向にのびる円筒状の分岐管部64が突設され、開閉扉Edを閉じた状態では、主筒体6の内部雰囲気は、分岐管部64のみが連通する対象となっている。分岐管部64は、第1の支持プレート2に設けた透孔21に挿通してその先端が真空処理室Msまで突出している。分岐管部64のZ軸方向の高さ位置は、少なくとも坩堝部61内に充填される蒸着材料Emの上層部分より上方に位置するように設定されている。主筒体6内にはまた、加熱手段としてのシースヒータ8aが設けられ、シースヒータ8aに図外の電源から通電することで、坩堝部61内の蒸着材料Emだけでなく、主筒体6内の内面や蓋体62をその全面に亘って加熱できるようにしている。 On the outer peripheral surface of the main cylinder 6, a cylindrical branch pipe portion 64 extending in the Y-axis direction having a mounting flange 64a at the tip is projected, and when the opening / closing door Ed is closed, the inside of the main cylinder 6 is inside. The atmosphere is intended to communicate only with the branch pipe portion 64. The branch pipe portion 64 is inserted into a through hole 21 provided in the first support plate 21 and its tip protrudes to the vacuum processing chamber Ms. The height position of the branch pipe portion 64 in the Z-axis direction is set so as to be located at least above the upper layer portion of the thin-film deposition material Em filled in the crucible portion 61. A sheath heater 8a as a heating means is also provided in the main cylinder 6, and by energizing the sheath heater 8a from a power source (not shown), not only the vapor deposition material Em in the crucible portion 61 but also the inside of the main cylinder 6 The inner surface and the lid 62 can be heated over the entire surface.

真空処理室Ms内に位置する副筒体7は、両端に取付フランジ64aに対応する取付フランジ71,72を備える円筒形状の輪郭を持ち、シート状の基材Swの幅より長くなるように定寸されている。そして、取付フランジ64aと、Y軸方向一方の取付フランジ71とを当接させた状態で、締結手段としてのボルトBoで両者を締結することで、主筒体6に副筒体7が着脱自在に取り付けられ、ホルダHdで位置決め支持されている。主筒体6に対する副筒体7の固定方法は、上記に限定されるものではなく、例えば、クランプ等を用いることもできる。このとき、副筒体7をその孔軸(Y軸に一致)回りに所定の角度だけ回転させて固定すれば、後述の放出開口75の位相が任意に変更できるようになる。本実施形態では、第1の搬送室Ts1側に位置する蒸着源ESでは、放出開口75がZ軸方向上方を向く姿勢とされ、第2の搬送室Ts2側に位置する蒸着源ESでは、放出開口75がZ軸方向下方を向く姿勢とされる(図1参照)。Y軸方向他方の取付フランジ72には、副筒体7内を閉塞する蓋板73が装着され、この蓋板73が、後述の分布板76を保持するようにしている。このとき、主筒体6と副筒体7の内部雰囲気は連通し、かつ、この内部雰囲気と外部との連通口は後述する放出開口75以外には存在しない状態となる。また、蓋板73と、Y軸方向他方の取付フランジ72とを当接させた状態で、締結手段としてのボルトBoで両者を締結することで、蓋板73が着脱自在に取り付けられるようになっている。 The sub-cylinder body 7 located in the vacuum processing chamber Ms has a cylindrical contour having mounting flanges 71 and 72 corresponding to the mounting flanges 64a at both ends, and is fixed so as to be longer than the width of the sheet-shaped base material Sw. It has been dimensioned. Then, with the mounting flange 64a and one mounting flange 71 in the Y-axis direction in contact with each other, the sub-cylinder body 7 can be detached from the main cylinder body 6 by fastening the two with bolts Bo as fastening means. It is attached to and is positioned and supported by the holder Hd. The method of fixing the sub-cylinder body 7 to the main cylinder body 6 is not limited to the above, and for example, a clamp or the like can be used. At this time, if the sub-cylinder body 7 is rotated and fixed by a predetermined angle around the hole axis (corresponding to the Y axis), the phase of the discharge opening 75, which will be described later, can be arbitrarily changed. In the present embodiment, in the vapor deposition source ES 1 located on the first transport chamber Ts1 side, the discharge opening 75 is oriented upward in the Z-axis direction, and in the vapor deposition source ES 2 located on the second transport chamber Ts2 side. , The discharge opening 75 is oriented downward in the Z-axis direction (see FIG. 1). A lid plate 73 that closes the inside of the sub-cylinder body 7 is mounted on the other mounting flange 72 in the Y-axis direction, and the lid plate 73 holds the distribution plate 76 described later. At this time, the internal atmosphere of the main cylinder 6 and the sub-cylinder 7 communicate with each other, and the communication port between the internal atmosphere and the outside does not exist other than the discharge opening 75 described later. Further, the lid plate 73 can be detachably attached by fastening the lid plate 73 and the other mounting flange 72 in the Y-axis direction with a bolt Bo as a fastening means. ing.

副筒体7の外周面には、一方の取付フランジ71からY軸方向に離間させてレーストラック状の輪郭を持つ突条74が設けられると共に、突条74で囲繞されるようにしてY軸方向に長手のスリット状の放出開口75が開設されている。蒸着源ES,ESの取付状態では、放出開口75が真空処理室Ms内で搬送されるシート状の基材Swの部分に対向するようになっている。副筒体7内にはまた、主筒体6から副筒体7に移送される、昇華または気化した蒸着材料Emが、放出開口75に導かれる際に通過する分布孔76aが形成された分布板76が挿設されている。分布板76は、図4に示すように、放出開口75を跨いで副筒体7のY軸方向略全長に亘ってのびる長さと、放出開口75より広い幅(X軸方向の長さ)を有する。分布孔76aは、放出開口75の直下に位置させて形成された単一の長孔で構成され、主筒体6側からそのY軸方向他方に設けて連続してその開口面積が増加するようにしたものである。開口面積の増加量は、シート状の基材Swに成膜したときのY軸方向(シート状の基材Swの幅方向)における膜厚分布を考慮して適宜設定される。 On the outer peripheral surface of the sub-cylinder 7, a ridge 74 having a racetrack-like contour separated from one mounting flange 71 in the Y-axis direction is provided, and the Y-axis is surrounded by the ridge 74. A slit-shaped discharge opening 75 that is long in the direction is opened. In the mounted state of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 , the discharge opening 75 faces the portion of the sheet-shaped base material Sw conveyed in the vacuum processing chamber Ms. A distribution hole 76a is formed in the sub-cylinder body 7 through which the sublimated or vaporized vaporized material Em transferred from the main cylinder body 6 to the sub-cylinder body 7 passes when guided to the discharge opening 75. A plate 76 is inserted. As shown in FIG. 4, the distribution plate 76 has a length extending over substantially the entire length of the sub-cylinder 7 in the Y-axis direction across the discharge opening 75 and a width wider than the discharge opening 75 (length in the X-axis direction). Have. The distribution hole 76a is composed of a single elongated hole formed so as to be located directly below the discharge opening 75, and is provided on the other side in the Y-axis direction from the main cylinder 6 side so that the opening area is continuously increased. It is the one that was made. The amount of increase in the opening area is appropriately set in consideration of the film thickness distribution in the Y-axis direction (width direction of the sheet-shaped base material Sw) when the film is formed on the sheet-shaped base material Sw.

上記実施形態では、単一の長孔で分布孔76aを構成するものを例に説明するが、シート状の基材Swに成膜したときの膜厚分布を略均一にできるものであれば、これに限定されるものではなく、例えば、面積の異なる孔を複数個開設して構成することもできる。また、上記実施形態では、分布板76を用いるものを例に説明するが、放出開口75を主筒体6側からそのY軸方向他方に設けて連続してその開口面積が増加するようにして、分布板76を省略することもできる。更に、副筒体7内には、加熱手段としてのシースヒータ8bが設けられ、シースヒータ8bに図外の電源から通電することで、副筒体7の内面や分布板76の表面をその全面に亘って加熱できるようにしている。本実施形態では、副筒体7内にシースヒータ8bを設けているが、坩堝部61内の蒸着材料Emを加熱するときに放射や伝熱で主筒体6や副筒体7が十分に加熱できるのであれば、これを省略することもできる。 In the above embodiment, a single elongated hole forming the distribution hole 76a will be described as an example, but if the film thickness distribution when the film is formed on the sheet-shaped base material Sw can be made substantially uniform, the film thickness distribution will be described. The present invention is not limited to this, and for example, a plurality of holes having different areas may be opened and configured. Further, in the above embodiment, the case where the distribution plate 76 is used will be described as an example, but the discharge opening 75 is provided from the main cylinder 6 side to the other side in the Y-axis direction so that the opening area is continuously increased. , The distribution plate 76 can be omitted. Further, a sheath heater 8b as a heating means is provided in the sub-cylinder body 7, and by energizing the sheath heater 8b from a power source (not shown), the inner surface of the sub-cylinder body 7 and the surface of the distribution plate 76 are covered over the entire surface thereof. It is possible to heat it. In the present embodiment, the sheath heater 8b is provided in the sub-cylinder body 7, but when the vapor deposition material Em in the crucible portion 61 is heated, the main cylinder body 6 and the sub-cylinder body 7 are sufficiently heated by radiation or heat transfer. If possible, this can be omitted.

上記真処理着装置DMにて、シート状の基材Swを走行させながら、シート状の基材Swの両面に成膜する場合、先ず、大気雰囲気の拡張チャンバEc内にて、開閉扉Edを開け、アクチュエータ63により蓋体62を起立姿勢にした状態で、各蒸着源の各蒸着源ES,ESの坩堝部61に所定の充填率で蒸着材料Emを充填する。このとき、真空チャンバVcの一方の搬送室Tc1には、繰出ローラWrにシート状の基材Swが巻回され、その先端部が、真空処理室Ms内の各ガイドローラGr及びキャンローラCrに夫々巻き掛けられた後、他方の搬送室Tc2に案内され、ガイドローラGrを経て巻取ローラUrに取り付けられ、この状態で真空処理室Ms及び両搬送室Ts1,Ts2が所定圧力まで真空排気された待機状態となっている。 When forming a film on both sides of the sheet-shaped base material Sw while running the sheet-shaped base material Sw with the above-mentioned true processing wearing device DM, first, the opening / closing door Ed is opened in the expansion chamber Ec of the air atmosphere. With the lid 62 in an upright position by the actuator 63 , the crucible portions 61 of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 of each vapor deposition source are filled with the vapor deposition material Em at a predetermined filling rate. At this time, a sheet-shaped base material Sw is wound around the feeding roller Wr in one of the transport chambers Tc1 of the vacuum chamber Vc, and the tip portion thereof is wound around the guide rollers Gr and the can roller Cr in the vacuum processing chamber Ms. After being wound on each, they are guided to the other transport chamber Tc2 and attached to the take-up roller Ur via the guide roller Gr. In this state, the vacuum processing chamber Ms and both transport chambers Ts1 and Ts2 are evacuated to a predetermined pressure. It is in a standby state.

蒸着材料Emを充填した後、蓋体62を水平姿勢にして上面開口61aを閉鎖すると共に開閉扉Edを閉じた後、各拡張チャンバEc内を真空排気する。各拡張チャンバEc内が所定圧力に達すると、シースヒータ8a,8bに通電されて坩堝部61を含む各蒸着源ES,ESの主筒体6と副筒体7とが加熱される。ここで、加熱により蒸着材料Emが所定温度に達すると、例えば、坩堝部61内の蒸着材料Emが液化し、坩堝部61に充填された蒸着材料Emは、その蒸着材料Emが持つ蒸気圧曲線に従って上層部分から気化し始める。このとき、坩堝部61内の圧力(蒸着材料Emの分圧)は、所定温度に対応した蒸気圧まで上昇し、蒸気圧律速で気化が抑制される熱的な平衡状態へ移行し、坩堝部61内に充填されている蒸着材料Emが全て液化する(シースヒータ8aの通電電流(ヒータ出力)が安定する)。 After filling the vapor deposition material Em, the lid 62 is placed in a horizontal position to close the upper surface opening 61a and the opening / closing door Ed, and then the inside of each expansion chamber Ec is evacuated. When the inside of each expansion chamber Ec reaches a predetermined pressure, the sheath heaters 8a and 8b are energized to heat the main cylinder 6 and the sub cylinder 7 of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 including the crucible portion 61. Here, when the vapor deposition material Em reaches a predetermined temperature by heating, for example, the vapor deposition material Em in the crucible portion 61 is liquefied, and the vapor deposition material Em filled in the crucible portion 61 has a vapor pressure curve of the vapor deposition material Em. It begins to vaporize from the upper layer according to. At this time, the pressure inside the pit 61 (partial pressure of the vapor deposition material Em) rises to the vapor pressure corresponding to the predetermined temperature, shifts to a thermal equilibrium state in which vaporization is suppressed by the vapor pressure rate-determining rate, and the pit 61. All the vapor deposition material Em filled in 61 is liquefied (the energizing current (heater output) of the sheath heater 8a is stable).

次に、モータM1〜M3を回転駆動して、シート状の基材Swを一定の速度で走行させると共に、アクチュエータ63により蓋体62を起立姿勢にする。すると、真空雰囲気中の真空処理室Ms内に存する副筒体7との分圧の差が平衡状態となるように、気化した蒸着材料Emはその蒸気圧を保ちつつ主筒体6を経て副筒体7に移送(拡散)され、分布板76により放出開口75へと導かれて、放出開口75から真空雰囲気中に放出される。このとき、蒸着源ESでは、放出開口75を上向きとしているため、デポアップでシート状の基材Swの一方の面に成膜される。そして、キャンローラCrの周囲を搬送される間でシート状の基材Swが一旦冷却され、次に、蒸着源ESでは、放出開口75を下向きとしているため、デポダウンでシート状の基材Swの他方の面に成膜される。両面に成膜されたシート状の基材Swは、他の搬送室Ts2へと搬送されて巻取ローラUrに巻き取られ、他の搬送室Tc2を大気開放した後、成膜処理済みのシート状の基材Swが回収される。 Next, the motors M1 to M3 are rotationally driven to run the sheet-shaped base material Sw at a constant speed, and the lid 62 is put into an upright posture by the actuator 63. Then, the vaporized vaporized vaporized material Em passes through the main cylinder 6 while maintaining its vapor pressure so that the difference in partial pressure with the sub-cylinder 7 existing in the vacuum processing chamber Ms in the vacuum atmosphere becomes an equilibrium state. It is transferred (diffused) to the cylinder 7, guided to the discharge opening 75 by the distribution plate 76, and discharged from the discharge opening 75 into the vacuum atmosphere. At this time, in the vapor deposition source ES 1 , since the discharge opening 75 is directed upward, a film is formed on one surface of the sheet-like base material Sw by depot-up. Then, the sheet-shaped base material Sw is once cooled while being conveyed around the can roller Cr, and then, in the vapor deposition source ES 2 , since the discharge opening 75 is directed downward, the sheet-shaped base material Sw is deposited down. A film is formed on the other surface of the. The sheet-like base material Sw formed on both sides is conveyed to another transfer chamber Ts2 and wound by a take-up roller Ur, and after the other transfer chamber Tc2 is opened to the atmosphere, the sheet has been subjected to film formation treatment. The shape of the base material Sw is recovered.

ところで、蒸着材料Emの種類の変更に伴う分布板76の交換、副筒体7のクリーニングやシースヒータ8a,8bの交換といったメンテナンスを実施する場合、第1の支持プレート2と第1チャンバ部1とを互いに締結する締結ボルトFbの全てを取り外す(言い換えると、第1チャンバ部1及びこれに夫々連設された各第2チャンバ部4,4と、第2の支持プレート2とを選択的に係合する)。そして、真空チャンバVcを大気開放した後、スライダ31を介して、第1の支持フレーム3をX軸方向一方に移動させる。これにより、図5に示すように、第1の支持プレート2で支持された蒸着源ES,ESの副筒体7を真空処理室Msから離間した広い空間に取り出すことができ、メンテナンスの作業性を向上することができる。 By the way, when performing maintenance such as replacement of the distribution plate 76, cleaning of the sub-cylinder body 7 and replacement of the sheath heaters 8a and 8b due to the change of the type of the vapor deposition material Em, the first support plate 2 1 and the first chamber portion 1 preparative fastening bolts remove all Fb 1 (in other words for engagement with each other, the first chamber portion 1 and this respectively provided continuously to each the second chamber portion 4 1, 4 2, and the second support plate 2 2 Selectively engage). After the vacuum chamber Vc was opened to the atmosphere, via the slider 31, to move the first support frame 3 1 while the X-axis direction. As a result, as shown in FIG. 5, the sub-cylinders 7 of the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 supported by the first support plate 21 can be taken out into a wide space separated from the vacuum processing chamber Ms for maintenance. Workability can be improved.

他方、特に真空処理室Ms内に存するキャンローラCrやガイドローラGrに着膜したものの除去や、真空処理室Ms及び各搬送室Ts1,Ts2内のガイドローラGrの交換といったメンテナンスを実施する場合、第2の支持プレート2と第1チャンバ部1及び第2チャンバ部4,4とを互いに締結する締結ボルトFbの全てを取り外す(言い換えると、チャンバ本体1,4,4と第1の支持プレート2とを選択的に係合する)。そして、真空チャンバVcを大気開放した後、スライダ31を介して、第1の支持フレーム3をX軸方向一方に移動させる。これにより、図6に示すように、第1の支持プレート2が第1チャンバ部1とこれに夫々連設された各第2チャンバ部4,4と共に一体に移動され、第2の支持プレート2で軸支されたキャンローラCr、繰出ローラWr、巻取ローラUr及び及びガイドローラGrがむき出しのまま残る。これにより、第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部4,4を画成する隔壁などの作業空間を制限するものがない状態でメンテナンスを実施することができる。この場合、繰出ローラWrへのシート状の基材Swのセットや、キャンローラCr等を経たシート状の基材Swの巻取ローラUrまでの通紙作業だけでなく、シート状の基材Swの走行調整作業も実施できる。 On the other hand, especially when performing maintenance such as removal of the can roller Cr and the guide roller Gr existing in the vacuum processing chamber Ms and replacement of the vacuum processing chamber Ms and the guide roller Gr in each of the transport chambers Ts1 and Ts2. fastening bolts remove all Fb 2 (in other words for engagement second supporting plate 2 2 and the first chamber portion 1 and the second chamber portion 4 1, 4 2 and each other, and chamber body 1,4 1, 4 2 Selectively engage with the first support plate 2 1). After the vacuum chamber Vc was opened to the atmosphere, via the slider 31, to move the first support frame 3 1 while the X-axis direction. Thus, as shown in FIG. 6, the first supporting plate 2 1 is moved integrally with the first chamber portion 1 and this respectively provided continuously to the second chamber portion 4 1, 4 2, the second pivotally supported by the support plate 2 2 the can roller Cr, feeding roller Wr, winding roller Ur and and guide rollers Gr is remain bare. This makes it possible to perform maintenance in the absence limiting the working space, such as partition walls defining a first chamber portion 1 and the second chamber portion 4 1, 4 2. In this case, not only the sheet-shaped base material Sw is set on the feeding roller Wr and the sheet-shaped base material Sw is passed through the can roller Cr and the like to the winding roller Ur, but also the sheet-shaped base material Sw. Travel adjustment work can also be carried out.

なお、メンテナンス終了後に、スライダ31を介して第1の支持フレーム3をX軸方向他方に移動させるとき、第1の支持プレート2と第1チャンバ部1とが、または、第2の支持プレート2と第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部4,4とが位置決めされた状態で再取り付けされるようにガイド手段を設けることもできる。このようなガイド手段としては、図7に示すように、第1の支持プレート2とチャンバ本体1と、第2の支持プレート2と第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部4,4との所定位置に設けられた位置決めブロック91a〜91dの互いに対向する部分に、X軸方向にのびるように突設されたガイドピン92a,92bと、このガイドピン92a,92bを受け入れるガイド孔93a,93bとで構成することができる。 Incidentally, after completion of the maintenance, when moving the first supporting frame 3 1 through the slider 31 in the X-axis direction while the first supporting plate 2 1 and the first chamber portion 1, or the second support plate 2 2 can also be first chamber portion 1 and the second chamber portion 4 1, 4 2 and is provided with guide means to be re-attached in a state of being positioned. Such guide means, as shown in FIG. 7, the first support plate 2 1 and a chamber body 1, a second supporting plate 2 2 and the first chamber portion 1 and the second chamber portion 4 1, 4 to opposing portions of the positioning block 91a~91d provided at a predetermined position of the 2, guide pins 92a which are protruded to extend in the X-axis direction, 92b and, the guide pin 92a, the guide hole for receiving the 92b It can be composed of 93a and 93b.

以上の実施形態によれば、締結ボルトFb,Fbにより選択的に第1または第2の各支持プレート2,2と、第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部4,4とを選択的に係合し、スライダ31を介して第1の支持フレーム3をX軸方向一方に移動させたときに、離脱されるものがかわるようにしたため、少ない部品点数でメンテナンスの作業性を向上することができる。しかも、各蒸着源ES,ESへの材料補充や各蒸着源ES,ESの構成部品の交換といったメンテナンスを実施する場合、及び、各搬送ローラに着膜したものの除去や搬送ローラの交換といったメンテナンスを実施する場合でも、移動手段を移動させる方向が同一方向になるため、メンテナンスを実施するために必要なスペースは、第1チャンバ部1を基準にその一方向(図5,6中、左側)のみにあれば済み、装置の占有面積を小さくできて有利である。また、第1チャンバ部1に、一の側面にのみ開口12b,12bを設けた各第2チャンバ部4,4がロードロックバルブ5を介して連設されているような場合には、各第2チャンバ部4,4の下方空間に、例えば配線や配管を設置するための空間ができ、有利である。なお、従来例のように、キャンローラの周囲に互いに隔絶された複数の処理空間を区画するために隔壁を配置するような場合、各隔壁を第1または第2の各支持プレートまたは第1チャンバ部1で支持させておけばよい。 According to the above embodiment, the first or second support plates 2 1 and 2 2 and the first chamber portion 1 and the second chamber portions 4 1 and 4 are selectively selected by the fastening bolts Fb 1 and Fb 2. and 2 selectively engages the first support frame 3 1 through the slider 31 when moving one in the X-axis direction, since as those leaving is changed, maintenance a small number of components Workability can be improved. Moreover, when carrying out the maintenance such material replenishment or replacement of the components of the vapor deposition source ES 1, ES 2 to each deposition source ES 1, ES 2, and the removal and the transport roller Despite his film deposited on the conveying rollers Even when maintenance such as replacement is performed, the directions in which the moving means are moved are the same, so the space required for performing maintenance is one direction based on the first chamber portion 1 (in FIGS. 5 and 6). , Left side), which is advantageous because the occupied area of the device can be reduced. Further, the first chamber portion 1, if the opening 12b only on one side, the second chamber portion having a 12b 4 1, 4 2 are such as are continuously provided via the load lock valve 5, each second chamber portion 4 1, 4 2 of the lower space, it is a space for installing the example wires or pipes, it is advantageous. In addition, when partition walls are arranged to partition a plurality of processing spaces isolated from each other around the can roller as in the conventional example, each partition wall is placed on each of the first or second support plates or the first chamber. It may be supported by the part 1.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態のものに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、処理ユニットとして、蒸着源ES,ESを例に説明したが、これに限定されるものではなく、処理ユニットとして、真空蒸着やCVDにより成膜を行うときの蒸着源や、エッチングや熱処理を行うときの構成部品を第1の支持プレート2で支持させて設けることもできる。また、上記実施形態では、係合手段が各ねじ孔Sh,Shと締結ボルトFb,Fbとで構成されるものを例とし、作業者の手作業で選択的な係合を行うものを例としたがこれに限定されるものではない。例えば、締結ボルトに代えて着脱容易な締結具(所謂クイックファスナ)を利用することができ、他方、何らの動力(電力や圧縮空気など)を供給して自動で選択的な係合を行うようにしてもよい。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to those of the above-described embodiments, and various modifications can be made as long as the gist of the present invention is not deviated. In the above embodiment, the vapor deposition sources ES 1 and ES 2 have been described as examples as the processing unit, but the present invention is not limited to this, and the processing unit includes a vapor deposition source for forming a film by vacuum deposition or CVD. may be provided by the component is supported in the first supporting plate 2 1 when performing the etching and heat treatment. Further, in the above embodiment, as an example, the engaging means is composed of the screw holes Sh 1 and Sh 2 and the fastening bolts Fb 1 and Fb 2, and the operator manually performs selective engagement. The example is, but it is not limited to this. For example, an easy-to-detach fastener (so-called quick fastener) can be used instead of the fastening bolt, while any power (electric power, compressed air, etc.) is supplied to automatically and selectively engage. It may be.

また、上記実施形態では、レール部材Rlとスライダ31とで単一の移動手段を構成したものを例に説明したが、第1の支持フレーム3をその起立姿勢を維持したままX軸方向に移動できるものであれば、これに限定されるものではなく、例えば台車を利用することもできる。更に、上記実施形態では、第2チャンバ部4,4のY軸方向他方の側壁面(図2中、右側壁)のみに開口12b,12bを設けたものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、開口12b,12bに対面する第2チャンバ部4,4の側壁面にも開口(図示せず)を設け、第1の支持フレーム3で開閉自在に閉塞されるように構成することもできる。 In the above embodiment, those composed of a single moving means between the rail members Rl and the slider 31 has been described as an example, the first support frame 3 1 in the X-axis direction while maintaining the standing posture As long as it can be moved, it is not limited to this, and for example, a trolley can be used. Further, in the above embodiment, the second chamber portion 4 1, 4 2 in the Y axis direction the other side wall surface (in FIG. 2, right side wall) has been described only in the opening 12b, those provided 12b as an example, this is not limited to, the opening 12b, to the second chamber portion 4 1, 4 2 of the side wall surface facing the 12b provided with an opening (not shown), openably closed by the first support frame 3 1 It can also be configured to be.

DM…真空処理装置、ES,ES…蒸着源(処理ユニット)、Fb,Fb…締結ボルト(係合手段)、Gr…ガイドローラ(搬送ローラ)、Rl…レール部材(移動手段)、Sh,Sh…ねじ孔(係合手段)、Sw…シート状の基材、Ur…巻取ローラ、Wr…繰出ローラ、1…第1チャンバ部(チャンバ本体)、2,2…第1及び第2の支持プレート、4,4…第2チャンバ部(チャンバ本体)、11,12a,12b…開口、31…スライダ(移動手段)。 DM ... Vacuum processing device, ES 1 , ES 2 ... Deposition source (processing unit), Fb 1 , Fb 2 ... Fastening bolt (engagement means), Gr ... Guide roller (conveying roller), Rl ... Rail member (moving means) , Sh 1 , Sh 2 ... Screw holes (engagement means), Sw ... Sheet-like base material, Ur ... Winding roller, Wr ... Unwinding roller, 1 ... First chamber part (chamber body), 2 1 , 2 2 ... 1st and 2nd support plates, 4 1 , 4 2 ... 2nd chamber portion (chamber body), 11, 12a, 12b ... openings, 31 ... sliders (moving means).

Claims (2)

真空処理室内で複数個の搬送ローラによりシート状の基材を走行させながら、真空処理室内に設けた処理ユニットによりシート状の基材の少なくとも一方の面に対して所定の真空処理を施す真空処理装置において、
真空処理室が、互いに対向する壁面を夫々開口したチャンバ本体と、チャンバ本体の開口を夫々覆う第1及び第2の支持プレートとで画成され、
第1及び第2の各支持プレートのいずれか一方で各搬送ローラを軸支すると共に、その他方で処理ユニットを支持し、
チャンバ本体と第1の支持プレートとを、または、チャンバ本体と第2の支持プレートとを選択的に係合する係合手段と、第1の支持プレートを支持して第2の支持プレートに対して近接離間方向に相対移動する単一の移動手段とを更に備えることを特徴とする真空処理装置。
Vacuum processing in which a predetermined vacuum treatment is performed on at least one surface of the sheet-shaped base material by a processing unit provided in the vacuum processing chamber while the sheet-shaped base material is run by a plurality of transfer rollers in the vacuum processing chamber. In the device
The vacuum processing chamber is defined by a chamber body having openings to face each other and first and second support plates covering the openings of the chamber bodies, respectively.
Each transport roller is pivotally supported on one of the first and second support plates, and the processing unit is supported on the other side.
With respect to the engaging means that selectively engages the chamber body and the first support plate, or the chamber body and the second support plate, and the second support plate that supports the first support plate. A vacuum processing apparatus further comprising a single moving means that moves relative to each other in the proximity-separation direction.
チャンバ本体が、中央の第1チャンバ部とその両側に連設した第2チャンバ部とを備え、第2チャンバ部に夫々対向する一方の支持プレートの部分に、シート状の基材を繰り出す繰出ローラと、シート状の基材を巻き取る巻取ローラとが夫々軸支されることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。 The chamber body is provided with a central first chamber portion and a second chamber portion connected to both sides thereof, and a feeding roller for feeding a sheet-like base material to a support plate portion facing each of the second chamber portions. The vacuum processing apparatus according to claim 1, wherein a winding roller for winding a sheet-shaped base material is pivotally supported.
JP2020006412A 2020-01-17 2020-01-17 Vacuum processing equipment Active JP7305565B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020006412A JP7305565B2 (en) 2020-01-17 2020-01-17 Vacuum processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020006412A JP7305565B2 (en) 2020-01-17 2020-01-17 Vacuum processing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021113343A true JP2021113343A (en) 2021-08-05
JP7305565B2 JP7305565B2 (en) 2023-07-10

Family

ID=77076634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020006412A Active JP7305565B2 (en) 2020-01-17 2020-01-17 Vacuum processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7305565B2 (en)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6070175A (en) * 1983-04-06 1985-04-20 ジエネラル・エンジニアリング・ラドクリフ・リミテツド Vacuum film formation and device
JPH03281778A (en) * 1990-03-29 1991-12-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Vacuum deposition device
JP2006322055A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Kobe Steel Ltd Continuous film deposition system
US20100196591A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 Applied Materials, Inc. Modular pvd system for flex pv
JP2011094188A (en) * 2009-10-29 2011-05-12 Kobe Steel Ltd Vacuum roll conveying apparatus
JP2011195873A (en) * 2010-03-18 2011-10-06 Fujifilm Corp Film formation apparatus
WO2012053171A1 (en) * 2010-10-20 2012-04-26 株式会社アルバック Vacuum processing apparatus
JP2016176144A (en) * 2015-03-18 2016-10-06 フオン・アルデンネ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement
CN207811863U (en) * 2018-01-22 2018-09-04 无锡光润真空科技有限公司 Vacuum coater

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6070175A (en) * 1983-04-06 1985-04-20 ジエネラル・エンジニアリング・ラドクリフ・リミテツド Vacuum film formation and device
JPH03281778A (en) * 1990-03-29 1991-12-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Vacuum deposition device
JP2006322055A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Kobe Steel Ltd Continuous film deposition system
US20100196591A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 Applied Materials, Inc. Modular pvd system for flex pv
JP2011094188A (en) * 2009-10-29 2011-05-12 Kobe Steel Ltd Vacuum roll conveying apparatus
JP2011195873A (en) * 2010-03-18 2011-10-06 Fujifilm Corp Film formation apparatus
WO2012053171A1 (en) * 2010-10-20 2012-04-26 株式会社アルバック Vacuum processing apparatus
JP2016176144A (en) * 2015-03-18 2016-10-06 フオン・アルデンネ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング Tape-substrate coating line having a magnetron arrangement
CN207811863U (en) * 2018-01-22 2018-09-04 无锡光润真空科技有限公司 Vacuum coater

Also Published As

Publication number Publication date
JP7305565B2 (en) 2023-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6328766B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in vacuum chamber, and method for evaporating organic material
JP2017500446A5 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in vacuum chamber, and method for evaporating organic material
JP7117332B2 (en) Deposition apparatus for coating flexible substrates and method of coating flexible substrates
US8821638B2 (en) Continuous deposition apparatus
US10648072B2 (en) Vacuum processing system and method for mounting a processing system
JP6803917B2 (en) Vacuum processing system and method of performing vacuum processing
TW201416478A (en) Apparatus of depositing organic material
WO2012053171A1 (en) Vacuum processing apparatus
JP5301736B2 (en) Film forming apparatus and film forming material supply method
JP2021113343A (en) Vacuum treatment apparatus
KR101790565B1 (en) Manufacturing device for graphene film
EP1804306B1 (en) Plant for the production in continuous of a superconducting tape
JP6762460B1 (en) Thin-film deposition source for vacuum-film deposition equipment
WO2021065081A1 (en) Evaporation source for vacuum evaporation systems
JP6343036B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
JP6605073B2 (en) Evaporation source for organic material, deposition apparatus for depositing organic material in a vacuum chamber having an evaporation source for organic material, and method for evaporating organic material
KR20230107847A (en) Vacuum Process Systems, Support Structures, and Methods for Transporting Substrates
JP7346329B2 (en) material feeding device
JP7244362B2 (en) transfer room
JP2000178717A (en) Film forming device
CN113574202B (en) Evaporation unit and vacuum evaporation device with same
JP2020200487A (en) Vapor deposition source for vacuum vapor deposition apparatus
WO2020078557A1 (en) Deposition apparatus, system and method for depositing a material on a substrate
CN116438129A (en) Roll-change chamber, roll-to-roll processing system, and method of continuously providing flexible substrates
KR20210136967A (en) vacuum deposition apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221104

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230612

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230627

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230628

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7305565

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150