JP2021113305A - Resin composition using hollow particle and application of the same - Google Patents

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幸広 原
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誠 古江
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Abstract

To provide a resin composition which is excellent in sedimentation stability while holding a conventional function of light scattering property compared to conventional titanium oxide fine particles, therefore to provide a resin composition which is excellent in light scattering property, sedimentation stability, a refractive index, dielectric property, light weight property, heat insulating property and sound insulation property, and gives a cured film that is suitable for an electric component, in particular, display application.SOLUTION: A resin composition contains (A) rutile-type titanium oxide hollow particles. The resin composition more preferably contains (B) a curable compound, (C) a curing agent, and (D) a solvent.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ルチル型酸化チタン中空粒子を含有する樹脂組成物、及びその用途に関する。より詳細には沈降安定性に優れた酸化チタン含有樹脂組成物、及び光散乱性をはじめとする光学特性において、特有の性能を発揮する硬化膜とその用途に関する。 The present invention relates to a resin composition containing rutile-type hollow titanium oxide particles and its use. More specifically, the present invention relates to a titanium oxide-containing resin composition having excellent sedimentation stability, a cured film exhibiting unique performance in optical properties such as light scattering, and its use.

中空粒子は、その粒子内部に種々の機能物質を包含したマイクロカプセルとして広く利用されており、また内部空孔による特異な光散乱特性を利用して、紙、繊維、皮革、ガラス、金属等へのコーティング、インク及び塗料や化粧品等の分野において、光輝、光沢、不透明度、白色度などの性能を付与する為の光散乱剤、光散乱助剤としても有用であることが知られている。さらに、内部が空孔である為、屈折率調整剤、誘電率調整剤、軽量剤、遮音材、断熱材としての効果も期待できる。
中空粒子の中でも、シリカ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化物の中空粒子は、構造安定性、化学的安定性にすぐれていることから、工業的に有用である。特に、酸化チタンを含有する中空粒子は、高屈折率であること、触媒活性を有すること等の理由から、光散乱材料や触媒材料として有用とされている。
Hollow particles are widely used as microcapsules containing various functional substances inside the particles, and by utilizing the unique light scattering characteristics of internal pores, they can be used for paper, fibers, leather, glass, metals, etc. It is known that it is also useful as a light scattering agent and a light scattering aid for imparting performance such as brilliance, luster, opacity, and whiteness in the fields of coatings, inks, paints, cosmetics, and the like. Further, since the inside is a hole, it can be expected to be effective as a refractive index adjusting agent, a dielectric constant adjusting agent, a lightweight agent, a sound insulating material, and a heat insulating material.
Among the hollow particles, hollow particles of metal oxides such as silica, titanium oxide, and zirconium oxide are industrially useful because they are excellent in structural stability and chemical stability. In particular, hollow particles containing titanium oxide are considered to be useful as light scattering materials and catalytic materials because of their high refractive index and catalytic activity.

このような金属酸化物中空粒子の製造方法として幾つかの方法が提案されている。特許文献1には、樹脂粒子をテンプレート粒子とし、樹脂粒子表面に酸化チタンの層を形成させたコア―シェル型粒子を作製し、前記樹脂粒子を除去する方法が提案されている。しかしながら、この方法は樹脂粒子を焼成によって除去する際に、前記コア―シェル粒子同士が融着、又は中空構造が崩壊するという問題点があった。 Several methods have been proposed as a method for producing such metal oxide hollow particles. Patent Document 1 proposes a method of producing core-shell type particles in which resin particles are used as template particles and a titanium oxide layer is formed on the surface of the resin particles, and the resin particles are removed. However, this method has a problem that when the resin particles are removed by firing, the core-shell particles are fused to each other or the hollow structure is collapsed.

また、特許文献2には無機化合物水溶液を界面活性剤を用いて有機溶媒と混合乳化し、油中水滴型エマルジョン液を作製し、これを別の水溶液と混合することにより水滴界面で沈殿反応させることで中空粒子を作製する方法が提案されている。しかしながら、この方法は中空粒子の粒子径分布が広く、強度や粒子径の再現性が良くないという問題点があった。 Further, in Patent Document 2, an aqueous solution of an inorganic compound is mixed and emulsified with an organic solvent using a surfactant to prepare a water-in-oil emulsion, which is mixed with another aqueous solution to cause a precipitation reaction at the water-drop interface. Therefore, a method for producing hollow particles has been proposed. However, this method has a problem that the particle size distribution of the hollow particles is wide and the strength and the reproducibility of the particle size are not good.

特許文献3には樹脂粒子と、樹脂粒子よりも小さい無機質粒子を気流中で高速撹拌することで、前記樹脂粒子上に無機質粒子を被覆し複合粒子を作製し、次いで該複合粒子を加熱することにより樹脂粒子を分解させることで中空粒子を作製する方法が提案されている。しかしながら、この方法で作製される中空粒子は粒子径が大きく、強度が脆弱であるという問題点があった。 Patent Document 3 describes that resin particles and inorganic particles smaller than the resin particles are stirred at high speed in an air stream to coat the resin particles with the inorganic particles to prepare composite particles, and then heat the composite particles. A method of producing hollow particles by decomposing resin particles has been proposed. However, the hollow particles produced by this method have a problem that the particle size is large and the strength is weak.

特開2013−23676号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-23676 特開平06−330606号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 06-330606 特開平05−138009号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 05-13809 特開2010−120786号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-12786

上記したような従来の中空粒子を用いた樹脂組成物は、沈降性の影響によって可使時間が短く、製造工程中の不良の要因となる場合がある。また、光学特性も十分とは言えず、例えば光散乱性が不足する為にディスプレイ用途として利用できない等の制約も存在していた。 The resin composition using the conventional hollow particles as described above has a short pot life due to the influence of sedimentation property, and may cause defects in the manufacturing process. In addition, the optical characteristics are not sufficient, and there are restrictions such as not being able to be used for display applications due to insufficient light scattering properties.

本発明者らは鋭意検討の結果、ルチル型酸化チタン中空粒子を用いた樹脂組成物は、沈降性が低い為、保存安定性に優れ、かつ独特の光学特性を有することを見出した。
即ち、本発明は、以下1)〜11)に関するものである。
1)
(A)ルチル型酸化チタン中空粒子を含有する樹脂組成物。
2)
更に(B)硬化性化合物、及び(C)硬化剤を含有する上記1)に記載の樹脂組成物。
3)
更に(D)溶剤を含有する上記1)又は2)に記載の樹脂組成物。
4)
前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子が、ルチル型酸化チタンとシリカを有する中空粒子である上記1)乃至3)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
5)
前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の1次平均粒子径が、0.1〜1.0μmであることを特徴とする上記1)乃至4)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
6)
前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の中空径A/粒子径Bの比が0.3〜0.95であることを特徴とする上記1)乃至5)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
7)
前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の形状が真球状であることを特徴とする上記1)乃至6)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
8)
前記(B)硬化性化合物が(B−1)熱硬化性樹脂、及び(B−2)光硬化性樹脂より選ばれる少なくとも1つの化合物である上記1)乃至7)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
9)
前記(C)硬化剤が(C−1)熱硬化剤、及び(C−2)ラジカル重合開始剤より選ばれる少なくとも1つの硬化剤である上記1)乃至8)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
10)
上記1)乃至9)のいずれか一項に記載の樹脂組成物を硬化してなる硬化膜。
11)
上記11)に記載の硬化膜を有する表示装置。
As a result of diligent studies, the present inventors have found that a resin composition using rutile-type titanium oxide hollow particles has excellent storage stability and has unique optical properties because of its low sedimentation property.
That is, the present invention relates to the following 1) to 11).
1)
(A) A resin composition containing rutile-type titanium oxide hollow particles.
2)
The resin composition according to 1) above, further containing (B) a curable compound and (C) a curing agent.
3)
The resin composition according to 1) or 2) above, which further contains (D) a solvent.
4)
The resin composition according to any one of 1) to 3) above, wherein the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles are hollow particles having rutile-type titanium oxide and silica.
5)
The resin composition according to any one of 1) to 4) above, wherein the primary average particle size of the rutile-type titanium oxide hollow particles is 0.1 to 1.0 μm.
6)
The resin according to any one of 1) to 5) above, wherein the ratio of the hollow diameter A / particle diameter B of the rutile-type titanium oxide hollow particles is 0.3 to 0.95. Composition.
7)
The resin composition according to any one of 1) to 6) above, wherein the rutile-type titanium oxide hollow particles have a spherical shape.
8)
The item according to any one of 1) to 7) above, wherein the (B) curable compound is at least one compound selected from (B-1) thermosetting resin and (B-2) photocurable resin. Resin composition.
9)
The item according to any one of 1) to 8) above, wherein the (C) curing agent is at least one curing agent selected from (C-1) thermosetting agent and (C-2) radical polymerization initiator. Resin composition.
10)
A cured film obtained by curing the resin composition according to any one of 1) to 9) above.
11)
A display device having the cured film according to 11) above.

なお、ルチル型酸化チタンおよびその応用として、以下のものも好ましい。
12)
中空粒子の中空径をA、中空粒子の粒子径をBとしたとき、A/Bの値が0.1以上0.3未満であるルチル型酸化チタン中空粒子。
13)
1次粒子径が10nm以上1000nm以下である、上記13)に記載のルチル型酸化チタン中空粒子。
14)
1次粒子径の変動係数が10%以下である、上記12)又は13)に記載のルチル型酸化チタン中空粒子。
15)
真球度が0.5以上1.0以下である上記12)乃至14)のいずれか1項に記載のルチル型酸化チタン中空粒子。
16)
シリカを含有する上記12)乃至15)のいずれか1項に記載のルチル型酸化チタン中空粒子。
17)
酸化チタンの含有率が86.0モル%以上99.5モル%以下であり、シリカの含有率が0.5モル%以上14.0モル%以下である上記16)に記載のルチル型酸化チタン中空粒子。
18)
上記12)乃至17)のいずれか1項に記載のルチル型酸化チタン中空粒子を用いた化粧料。
19)
(A)上記12)乃至18)のいずれか1項に記載のルチル型酸化チタン中空粒子、及び(B)溶剤を含有する分散液。
20)
更に(C)分散剤を含有する上記19)に記載の分散液。
21)
上記19)又は20)に記載の分散液を用いた白インク。
12)〜21)によれば、沈降安定性及び粒子強度に優れ、例えば粉末化粧料として使用した場合に光輝性、光沢性に優れ、また着色剤として含有させた場合に隠ぺい性が良好な白インクを得ることが可能なルチル型酸化チタン中空粒子を提供することができる。
以下非特許文献1には、アナターゼ型酸化チタンを用いた中空粒子が開示されている。しかし、アナターゼ型は光触媒機能を有しているので複合した場合、光によって樹脂等の複合物が分解されてしまう懸念がある。
[非特許文献1]SONG,X et al.,Fabrication of Hollow Hybrid Microspheres Coated with Silica/Titania via Sol−Gel Process and Enhanced Photocatalytic Activities, J.Phys. Chem.C,2007.05.16,Vol.111,p.8180−,ISSN 1932−7447
The following are also preferable as rutile-type titanium oxide and its applications.
12)
Rutile-type titanium oxide hollow particles having an A / B value of 0.1 or more and less than 0.3, where A is the hollow diameter of the hollow particles and B is the particle size of the hollow particles.
13)
The rutile-type titanium oxide hollow particles according to 13) above, wherein the primary particle diameter is 10 nm or more and 1000 nm or less.
14)
The rutile-type titanium oxide hollow particles according to 12) or 13) above, wherein the coefficient of variation of the primary particle size is 10% or less.
15)
The rutile-type titanium oxide hollow particles according to any one of 12) to 14) above, wherein the sphericity is 0.5 or more and 1.0 or less.
16)
The rutile-type titanium oxide hollow particles according to any one of 12) to 15) above, which contain silica.
17)
The rutile-type titanium oxide according to 16) above, wherein the titanium oxide content is 86.0 mol% or more and 99.5 mol% or less, and the silica content is 0.5 mol% or more and 14.0 mol% or less. Hollow particles.
18)
A cosmetic using the rutile-type titanium oxide hollow particles according to any one of 12) to 17) above.
19)
(A) A dispersion containing the rutile-type titanium oxide hollow particles according to any one of the above 12) to 18) and (B) a solvent.
20)
(C) The dispersion liquid according to 19) above, which contains a dispersant.
21)
White ink using the dispersion liquid according to 19) or 20) above.
According to 12) to 21), white has excellent sedimentation stability and particle strength, for example, excellent brilliance and gloss when used as a powder cosmetic, and good hiding property when contained as a colorant. It is possible to provide rutile-type titanium oxide hollow particles from which ink can be obtained.
Hereinafter, Non-Patent Document 1 discloses hollow particles using anatase-type titanium oxide. However, since the anatase type has a photocatalytic function, there is a concern that the composite such as resin may be decomposed by light when it is composited.
[Non-Patent Document 1] SONG, X et al. , Fabrication of Hollow Hybrid Microspheres Coated with Silka / Titania via Sol-Gel Process and Enhanced Photocatalytic Activities, J. Mol. Phys. Chem. C, 2007.05.16, Vol. 111, p. 8180-, ISSN 1932-7447

本発明によれば、光散乱性、沈降安定性、屈折率、誘電性、軽量性、断熱性、遮音性等に優れた樹脂組成物を提供することができる。また該樹脂組成物は、電子部品用、特にディスプレイ用途において有用な硬化膜を与える。 According to the present invention, it is possible to provide a resin composition having excellent light scattering property, sedimentation stability, refractive index, dielectric property, light weight, heat insulating property, sound insulating property and the like. The resin composition also provides a cured film useful for electronic components, especially for display applications.

[(A)ルチル型酸化チタン中空粒子]
本発明の樹脂組成物は、成分(A)として、ルチル型酸化チタン中空粒子を含有する。
ルチル型酸化チタンは、光触媒機能が低く、屈折率が高いので波長に対する反射率の制御に優れる。酸化チタン中のルチル型酸化チタンの割合は、通常80%〜100%、好ましくは85%〜100%、より好ましくは90%〜100%である。なお本明細書において「〜」は前後の数値を含むものとする。また、当該割合はX線回折ピークから算出される値である。
また中空粒子とは、内部に空孔が形成され、殻が上記ルチル型酸化チタンで形成されている球状、略球状、凹凸状、異形状等の粒子であり、球状又は略球状である場合が好ましく、球状である場合が更に好ましい。また中空粒子内部の空孔は、空孔を球と見なしたときに真円度が高いものが好ましい。
なお本明細書においてルチル型酸化チタン中空粒子を単に中空粒子と、ルチル型酸化チタンを単に酸化チタンと記載する場合がある。
本実施形態に係る中空粒子を構成する酸化チタンが単結晶であることは、公知の方法で確認することができる。公知の方法としては、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)を使用して、単粒子の電子回折像を測定する方法が挙げられる。本明細書において「単結晶」とは、単粒子の電子回折像がスポット像であることを意味する。
[(A) Rutile-type titanium oxide hollow particles]
The resin composition of the present invention contains rutile-type titanium oxide hollow particles as the component (A).
Since rutile-type titanium oxide has a low photocatalytic function and a high refractive index, it is excellent in controlling the reflectance with respect to wavelength. The ratio of rutile-type titanium oxide in titanium oxide is usually 80% to 100%, preferably 85% to 100%, and more preferably 90% to 100%. In this specification, "~" includes the values before and after. The ratio is a value calculated from the X-ray diffraction peak.
Further, the hollow particles are spherical, substantially spherical, uneven, irregularly shaped particles having pores formed inside and the shell formed of the rutile-type titanium oxide, and may be spherical or substantially spherical. It is preferable, and it is more preferable that it is spherical. Further, the pores inside the hollow particles preferably have a high roundness when the pores are regarded as spheres.
In this specification, rutile-type titanium oxide hollow particles may be simply referred to as hollow particles, and rutile-type titanium oxide may be simply referred to as titanium oxide.
It can be confirmed by a known method that the titanium oxide constituting the hollow particles according to the present embodiment is a single crystal. Known methods include, for example, a method of measuring an electron diffraction image of a single particle using a transmission electron microscope (TEM). As used herein, the term "single crystal" means that the electron diffraction image of a single particle is a spot image.

<シリカ>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、その酸化チタン部分に、シリカを含有することが好ましい。このシリカは結晶性であってもアモルファスであってもよいが、アモルファスであることが好ましい。シリカがアモルファスであることは、公知の方法で確認することができる。公知の方法としては、例えば、X線回折装置等を使用して、シリカ結晶(例えばα−SiO)に由来する回折ピークを測定する方法が挙げられる。本明細書において「アモルファス」とは、結晶に由来する明確な回折ピークが現れないことを意味する。
シリカを含有する場合、酸化チタンの含有率が86.0モル%以上99.5モル%以下であることが好ましく、90.0モル%以上97.5モル%以下であることがより好ましい。また、本実施形態に係る中空粒子は、シリカの含有率が0.5モル%以上14.0モル%以下であることが好ましく、2.5モル%以上10モル%以下であることがより好ましい。中空粒子が含有する酸化チタン及びシリカの含有率は、中空粒子を製造する際の酸化チタン前駆体及びシリカ前駆体が、100%の変換率で酸化チタン及びシリカに変換されたものとして算出する。これらの含有率を算出するときは、小数点以下2桁目を四捨五入して、小数点以下1桁目までを記載する。
なお、この中空粒子は、中空構造を有する酸化チタン層とシリカ層の境界は複合酸化物となっていても良い。
また、中空粒子中に含まれるシリカは、結晶性であってもアモルファスであってもよいが、アモルファスであることが好ましい。シリカがアモルファスであることは、公知の方法で確認することができる。公知の方法としては、例えば、X線回折装置等を使用して、シリカ結晶(例えばα−SiO)に由来する回折ピークを測定する方法が挙げられる。本明細者において「アモルファス」とは、結晶に由来する明確な回折ピークが現れないことを意味する。
<Silica>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention preferably contain silica in the titanium oxide portion. The silica may be crystalline or amorphous, but is preferably amorphous. It can be confirmed by a known method that silica is amorphous. As a known method, for example, a method of measuring a diffraction peak derived from a silica crystal (for example, α-SiO 2) using an X-ray diffractometer or the like can be mentioned. As used herein, the term "amorphous" means that a clear diffraction peak derived from a crystal does not appear.
When silica is contained, the titanium oxide content is preferably 86.0 mol% or more and 99.5 mol% or less, and more preferably 90.0 mol% or more and 97.5 mol% or less. Further, the hollow particles according to the present embodiment preferably have a silica content of 0.5 mol% or more and 14.0 mol% or less, and more preferably 2.5 mol% or more and 10 mol% or less. .. The content of titanium oxide and silica contained in the hollow particles is calculated assuming that the titanium oxide precursor and silica precursor in producing the hollow particles are converted into titanium oxide and silica at a conversion rate of 100%. When calculating these content rates, round off the second digit after the decimal point and enter up to the first digit after the decimal point.
In the hollow particles, the boundary between the titanium oxide layer having a hollow structure and the silica layer may be a composite oxide.
Further, the silica contained in the hollow particles may be crystalline or amorphous, but is preferably amorphous. It can be confirmed by a known method that silica is amorphous. As a known method, for example, a method of measuring a diffraction peak derived from a silica crystal (for example, α-SiO 2) using an X-ray diffractometer or the like can be mentioned. In the present specification, "amorphous" means that a clear diffraction peak derived from a crystal does not appear.

<中空径と粒子径のパラメーター A/B>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、中空粒子の中空径をA、中空粒子の粒子径をBとしたとき、A/Bの値が0.3〜0.95である場合が好ましい。すなわち粒子径の5%より大きく70%未満がルチル型酸化チタンが殻であり、内部に中空を有する構造である。
なお、本実施形態に係る中空粒子としては、粒子の表面から内部の空孔へと通じる細孔を有さないものが好ましい。そのような細孔を有するか否かは、例えば、細孔分布測定装置(例えば、マイクロトラック・ベル株式会社製、BELSORP−mini II)を用いて、相対圧力に対する吸着量及び脱着量を測定することにより確認することができる。本明細書において「内部の空孔へと通じる細孔を有さない」とは、吸着量及び脱着量から作成される吸脱着等温線がIUPAC分類におけるIV型又はV型ではないことを意味する。IUPAC分類の中では、II型及びIII型が好ましく、II型がより好ましい。
上記A/Bの値として好ましい上限は0.9であり、0.85が更に好ましく、0.8が特に好ましい。また好ましい下限としては、0.4であり、0.5が更に好ましく、0.6が特に好ましい。従って、0.6以上0.8以下が最も好ましい範囲である。
中空粒子の中空径A及び中空粒子の1次粒子径Bは、透過型電子顕微鏡(TEM)で無作為に撮影した中空構造粒子10個の中空構造の中空径A、及び中空粒子の1次粒子径Bの算術平均値である。比A/Bの有効数字が小数点以下1桁のときは、小数点以下2桁目を四捨五入して算出する。また、比A/Bの有効数字が小数点以下2桁のときは、小数点以下3桁目を四捨五入して算出する。
なお本明細書において、中空粒子の中空径を内径と表現する場合がある。
<Hollow diameter and particle diameter parameters A / B>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention have an A / B value of 0.3 to 0.95, where A is the hollow diameter of the hollow particles and B is the particle diameter of the hollow particles. It is preferable that there is. That is, it has a structure in which rutile-type titanium oxide is a shell and has a hollow inside, which is larger than 5% and less than 70% of the particle size.
The hollow particles according to the present embodiment preferably do not have pores leading from the surface of the particles to the internal pores. Whether or not it has such pores is determined by measuring the amount of adsorption and the amount of desorption with respect to relative pressure using, for example, a pore distribution measuring device (for example, BELSORP-mini II manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.). It can be confirmed by. In the present specification, "having no pores leading to internal vacancies" means that the adsorption / desorption isotherm created from the adsorption amount and the desorption amount is not type IV or V in the IUPAC classification. .. In the IUPAC classification, types II and III are preferable, and type II is more preferable.
The preferable upper limit of the A / B value is 0.9, more preferably 0.85, and particularly preferably 0.8. The lower limit is preferably 0.4, more preferably 0.5, and particularly preferably 0.6. Therefore, 0.6 or more and 0.8 or less is the most preferable range.
The hollow diameter A of the hollow particles and the primary particle diameter B of the hollow particles are the hollow diameter A of 10 hollow structure particles randomly photographed by a transmission electron microscope (TEM) and the primary particles of the hollow particles. It is an arithmetic average value of the diameter B. When the significant figure of the ratio A / B is one digit after the decimal point, the second digit after the decimal point is rounded off. If the significant figures of the ratio A / B are two digits after the decimal point, the third digit after the decimal point is rounded off.
In this specification, the hollow diameter of hollow particles may be expressed as an inner diameter.

<中空粒子の1次粒子径>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子の1次粒子径は、その用途によって適切な範囲があるため一概に決めることは困難である。製造の観点からは、通常10nm〜1000nm、好ましくは50nm〜750nm、より好ましくは100nm〜700nm、さらに好ましくは150nm〜500nm、特に好ましくは180nm〜500nmである。このような範囲とすることにより、目的とする構造の中空粒子を安定して製造することができる傾向にある。また、白色顔料とするときは、隠ぺい性が良好となるように、通常200nm〜450nm、好ましくは250nm〜350nmである。
<Primary particle size of hollow particles>
It is difficult to unconditionally determine the primary particle size of the rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention because there is an appropriate range depending on the application. From the viewpoint of production, it is usually 10 nm to 1000 nm, preferably 50 nm to 750 nm, more preferably 100 nm to 700 nm, still more preferably 150 nm to 500 nm, and particularly preferably 180 nm to 500 nm. Within such a range, hollow particles having a target structure tend to be stably produced. When a white pigment is used, it is usually 200 nm to 450 nm, preferably 250 nm to 350 nm so that the hiding property is good.

<1次粒子の変動係数>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は1次粒子の変動係数が10%以下である場合が好ましい。
中空粒子の1次粒子径の変動係数は、以下の式から算出できる。
変動係数(%)=1次粒子径の標準偏差(nm)/算術平均粒子径(nm)
変動係数は小さい方が、均一な大きさの粒子が得られていることを示すため好ましい。変動係数は、通常10%以下、好ましくは8%以下、より好ましくは7%以下、さらに好ましくは5%以下である。下限は小さい方が好ましく、理想的には0%である。
<Coefficient of variation of primary particles>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention preferably have a coefficient of variation of primary particles of 10% or less.
The coefficient of variation of the primary particle size of the hollow particles can be calculated from the following formula.
Coefficient of variation (%) = Standard deviation of primary particle size (nm) / Arithmetic mean particle size (nm)
A smaller coefficient of variation is preferable because it indicates that particles having a uniform size are obtained. The coefficient of variation is usually 10% or less, preferably 8% or less, more preferably 7% or less, still more preferably 5% or less. The lower limit is preferably small, ideally 0%.

<真球度>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、真球度が0.5以上1.0以下である場合が好ましい。
真球度は、透過型電子顕微鏡(TEM)によって測定することができる。
つまり、無作為に撮影した中空粒子10個の長軸と面積から以下の式を用いて算出した算術平均値である。真球度の有効数字が小数点以下1桁のときは、小数点以下2桁目を四捨五入して算出する。また、真球度の有効数字が小数点以下2桁のときは、小数点3桁目を四捨五入して算出する。
真球度=(4×粒子面積(nm))/(π×(長軸(nm))
また、真球度は画像解析ソフトImage Jを用いて算出しても良い。
真球度が上記範囲であることによって、分散性が向上し、また粉末化粧料として用いた場合に皮膚への滑り性に優れる。
<Spherical degree>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention preferably have a sphericity of 0.5 or more and 1.0 or less.
The sphericity can be measured by a transmission electron microscope (TEM).
That is, it is an arithmetic mean value calculated by using the following formula from the long axis and the area of 10 hollow particles photographed at random. If the significant digit of sphericity is one digit after the decimal point, the second digit after the decimal point is rounded off. If the significant figure of sphericity is two digits after the decimal point, the third digit of the decimal point is rounded off.
Sphericality = (4 x particle area (nm 2 )) / (π x (major axis (nm)) 2 )
Further, the sphericity may be calculated using the image analysis software Image J.
When the sphericity is in the above range, the dispersibility is improved and the slipperiness to the skin is excellent when used as a powder cosmetic.

<中空粒子のその他の構成>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、ルチル型酸化チタンの他に、上記シリカ、更には、例えば、Sn、Cd、Fe、Ni、Zn、Mn、Co、Cr、Cu、K、Na、Li、P、S等から選択される元素を含有しても良い。これらの元素は、1種類であっても2種類以上であってもよい。
<Other configurations of hollow particles>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention include the above-mentioned silica, for example, Sn, Cd, Fe, Ni, Zn, Mn, Co, Cr, Cu, in addition to the rutile-type titanium oxide. , K, Na, Li, P, S and the like. These elements may be one kind or two or more kinds.

本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子が、酸化チタン及びシリカ以外の元素をさらに含有する場合、これらの元素の総含有率は、酸化チタン中のチタンのモル数に対して、通常0.1モル%〜15モル%、好ましくは0.1モル%〜10モル%、より好ましくは0.1モル%〜5モル%である。このような範囲とすることにより、着色が少ない(すなわち、白色度が高い)中空粒子を得やすい傾向がある。 When the rutile type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention further contain elements other than titanium oxide and silica, the total content of these elements is based on the number of moles of titanium in titanium oxide. , Usually 0.1 mol% to 15 mol%, preferably 0.1 mol% to 10 mol%, more preferably 0.1 mol% to 5 mol%. Within such a range, it tends to be easy to obtain hollow particles with less coloring (that is, higher whiteness).

本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、必要に応じて、その表面に他の物質の層をさらに有していてもよい。他の物質としては、例えば、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、ジルコニア、有機物等が挙げられる。 The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention may further have a layer of another substance on the surface thereof, if necessary. Examples of other substances include alumina, aluminum hydroxide, zinc oxide, zinc hydroxide, zirconia, organic substances and the like.

<中空粒子の製造方法>
本発明の樹脂組成物に用いられるルチル型酸化チタン中空粒子は、例えば、Xiong Wen(David)Lou,Lynden A.Archer and Zichao Yang,Adv.Mater.,2008,20,3987−4019等に記載されている公知の方法に準じて製造することができる。ただしこの製造方法に限定されるものではない。
<Manufacturing method of hollow particles>
The rutile-type titanium oxide hollow particles used in the resin composition of the present invention include, for example, Xiong Wen (David) Lou, Linden A. et al. Archer and Zichao Yang, Adv. Mater. , 2008, 20, 3987-4019 and the like. However, it is not limited to this manufacturing method.

特にコアとなるテンプレート粒子の表面に、酸化チタン前駆体及びシリカ前駆体を含有するシェルを形成し、コア/シェル粒子を得る工程(以下、「第1工程」ともいう。)と、コア/シェル粒子からテンプレート粒子を除去してシェル粒子を得る工程(以下、「第2工程」ともいう。)と、シェル粒子を空気雰囲気下で焼成して中空粒子を得る工程(以下、「第3工程」ともいう。)と、を含む製造方法が好ましい。 In particular, a step of forming a shell containing a titanium oxide precursor and a silica precursor on the surface of the template particles to be a core to obtain core / shell particles (hereinafter, also referred to as “first step”) and a core / shell A step of removing template particles from the particles to obtain shell particles (hereinafter, also referred to as "second step") and a step of firing the shell particles in an air atmosphere to obtain hollow particles (hereinafter, "third step"). A manufacturing method including (also referred to as)) is preferable.

以下に記載する各工程は、特に断りの無い限り、撹拌下に行うのが好ましい。 Unless otherwise specified, each step described below is preferably carried out under stirring.

<第1工程>
第1工程としては、テンプレート粒子と酸化チタン前駆体及びシリカ前駆体とを、有機溶媒中で塩基の存在下に反応させる工程が挙げられる。シリカ前駆体は、酸化チタン前駆体の添加後に添加してもよく、酸化チタン前駆体と同時に添加してもよい。第1工程により、コアとなるテンプレート粒子の表面に酸化チタン前駆体及びシリカ前駆体を含有するシェルが形成されたコア/シェル粒子を得ることができる。
<First step>
The first step includes a step of reacting the template particles with the titanium oxide precursor and the silica precursor in the presence of a base in an organic solvent. The silica precursor may be added after the addition of the titanium oxide precursor, or may be added at the same time as the titanium oxide precursor. By the first step, it is possible to obtain core / shell particles in which a shell containing a titanium oxide precursor and a silica precursor is formed on the surface of the template particles to be the core.

テンプレート粒子としては、ポリマー粒子及び無機粒子から選択される粒子が挙げられる。その具体例としては、例えば、(メタ)アクリレート系、ビニル系、スチレン系、ウレタン系から選択される少なくとも1種類のモノマーを重合することにより得られるポリマー粒子;炭酸カルシウム、酸化鉄、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化クロム、酸化ニッケル等の無機粒子;が挙げられる。これらの中ではポリマー粒子が好ましく、構成モノマーとしてスチレンを含むポリマー粒子がより好ましく、スチレン−(メタ)アクリル酸ポリマー粒子がさらに好ましく、スチレン−メタクリル酸ポリマー粒子が特に好ましい。
なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を意味し、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を意味する。
Examples of the template particles include particles selected from polymer particles and inorganic particles. Specific examples thereof include polymer particles obtained by polymerizing at least one monomer selected from (meth) acrylate-based, vinyl-based, styrene-based, and urethane-based; calcium carbonate, iron oxide, cobalt oxide, and the like. Inorganic particles such as manganese oxide, chromium oxide, nickel oxide; Among these, polymer particles are preferable, polymer particles containing styrene as a constituent monomer are more preferable, styrene- (meth) acrylic acid polymer particles are further preferable, and styrene-methacrylic acid polymer particles are particularly preferable.
In addition, in this specification, "(meth) acrylate" means both acrylate and methacrylate, and "(meth) acrylic acid" means both acrylic acid and methacrylic acid.

酸化チタン前駆体としては、化学的又は物理的な方法により酸化チタンに変換できる物質であれば特に制限されない。酸化チタン前駆体の中では、チタニウムアルコキシドが好ましい。チタニウムアルコキシドとしては、チタニウムテトラアルコキシドが好ましく、チタニウムテトラC1−C6アルコキシドがより好ましく、チタニウムテトラブトキシドがさらに好ましい。 The titanium oxide precursor is not particularly limited as long as it is a substance that can be converted into titanium oxide by a chemical or physical method. Among the titanium oxide precursors, titanium alkoxide is preferable. As the titanium alkoxide, titanium tetraalkoxide is preferable, titanium tetra C1-C6 alkoxide is more preferable, and titanium tetrabutoxide is further preferable.

酸化チタン前駆体を添加する量を制御することにより、シェルの厚さを制御することができる。酸化チタン前駆体は、シェルを特定の厚さにする必要量を、一度に添加してもよく、数度に分けて添加してもよい。酸化チタン前駆体を数度に分けて添加することにより、シェルの厚さがより均一になる傾向にある。 By controlling the amount of titanium oxide precursor added, the thickness of the shell can be controlled. The titanium oxide precursor may be added in an amount required to make the shell to a specific thickness at a time, or may be added in several portions. By adding the titanium oxide precursor in several portions, the thickness of the shell tends to be more uniform.

シリカ前駆体としては、化学的又は物理的な方法によりシリカに変換できる物質であれば特に制限されない。シリカ前駆体の中では、シランアルコキシドが好ましい。シランアルコキシドとしては、シランテトラアルコキシドが好ましく、シランテトラC1−C4アルコキシドがより好ましく、シランテトラエトキシドがさらに好ましい。 The silica precursor is not particularly limited as long as it is a substance that can be converted into silica by a chemical or physical method. Among the silica precursors, silane alkoxide is preferred. As the silane alkoxide, silanetetraalkoxide is preferable, silanetetra C1-C4 alkoxide is more preferable, and silanetetraethoxyoxide is further preferable.

有機溶媒としては、例えば、炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等)、アルコール系溶媒(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール等)、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等)、エーテル系溶媒(イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、グリコール系溶媒(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、オクチレングリコール等)、グリコールエーテル系溶媒(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、グリコールエステル系溶媒(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等)、グライム系溶媒(モノグライム、ジグライム等)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタン、クロロホルム等)、アミド系溶媒(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン)、ピリジン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。 Examples of the organic solvent include hydrocarbon solvents (toluene, xylene, hexane, cyclohexane, n-heptane, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.), and ketone solvents. Solvents (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, acetyl acetone, etc.), ester solvents (ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, amyl acetate, etc.), ether solvents (isopropyl ether, methyl cellosolve, etc.) Butyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), glycol solvents (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, octylene glycol, etc.), glycol ether solvents (diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc.), Glycol ester solvent (ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.), glyme solvent (monoglyme, diglime, etc.), halogen solvent (dichloromethane, chloroform, etc.), amide solvent (N) , N-Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone), pyridine, sulfolane, acetonitrile, dimethylsulfoxide and the like.

有機溶媒は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を併用してもよい。2種類以上の有機溶媒を併用し、その比率、テンプレート粒子の濃度、塩基を加える方法等を制御することにより、反応液の分散状態を良好に維持しながら第1工程を行うことができる。 One type of organic solvent may be used alone, or two or more types may be used in combination. By using two or more kinds of organic solvents in combination and controlling the ratio, the concentration of the template particles, the method of adding the base, and the like, the first step can be performed while maintaining a good dispersed state of the reaction solution.

塩基としては、無機塩基及び有機塩基が挙げられる。無機塩基としては、例えば、周期表の第1族元素又は第2族元素の水酸化物、好ましくはNa、K、Ca、Mg、Al、Fe等の水酸化物;アンモニア;などが挙げられる。有機塩基としては、例えば、ピリジン等の複素芳香環化合物;トリエチルアミン等のアルキルアミン(好ましくはトリアルキルアミン、より好ましくはトリC1−C4アルキルアミン);トリエタノールアミン等のヒドロキシアルキルアミン(好ましくはトリ(ヒドロキシアルキル)アミン、より好ましくはトリ(ヒドロキシC1−C4アルキルアミン));などが挙げられる。 Examples of the base include an inorganic base and an organic base. Examples of the inorganic base include hydroxides of Group 1 or Group 2 elements of the periodic table, preferably hydroxides of Na, K, Ca, Mg, Al, Fe and the like; ammonia; and the like. Examples of the organic base include heteroaromatic ring compounds such as pyridine; alkylamines such as triethylamine (preferably trialkylamines, more preferably tri-C1-C4 alkylamines); hydroxyalkylamines such as triethanolamine (preferably tris). (Hydroxyalkyl) amines, more preferably tri (hydroxy C1-C4 alkylamines)); and the like.

第1工程は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
第1工程の反応温度は、通常−30℃〜80℃、好ましくは0℃〜50℃である。
第1工程の反応時間は、反応温度、シェルの厚さ等によって変わるため、一概に決めることは困難である。その目安としては、通常0.1時間〜10時間、好ましくは0.5時間〜7時間程度である。
The first step is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
The reaction temperature in the first step is usually −30 ° C. to 80 ° C., preferably 0 ° C. to 50 ° C.
Since the reaction time of the first step varies depending on the reaction temperature, the thickness of the shell, and the like, it is difficult to unconditionally determine the reaction time. As a guide, it is usually about 0.1 hour to 10 hours, preferably about 0.5 hour to 7 hours.

なお、テンプレート粒子がポリマー粒子であり、その表面電位が酸化チタンと同じ符号であるときは、以下の方法によりコア/シェル粒子を形成することもできる。
すなわち、上記の表面電位と反対符号を有する有機ポリマー(例えば、ポリエチレンイミン等)をテンプレート粒子の表面に吸着させる。次いで、酸化チタンの微粒子を有機ポリマーの表面に堆積又は吸着させ、必要に応じて酸化チタン前駆体を加えることにより、コア/シェル粒子を形成することができる。酸化チタンの微粒子として、例えばルチル型の酸化チタンを用いることにより、酸化チタン前駆体から生成する酸化チタンの結晶型をルチル型にすることができる。
When the template particles are polymer particles and their surface potential has the same code as titanium oxide, core / shell particles can also be formed by the following method.
That is, an organic polymer having a sign opposite to the above surface potential (for example, polyethyleneimine) is adsorbed on the surface of the template particles. The core / shell particles can then be formed by depositing or adsorbing titanium oxide fine particles on the surface of the organic polymer and adding titanium oxide precursors as needed. By using, for example, rutile-type titanium oxide as the fine particles of titanium oxide, the crystal type of titanium oxide produced from the titanium oxide precursor can be changed to the rutile-type.

第1工程は、分散液の状態で反応が行われる。このため、その分散液の分散安定性を向上する目的で、第1工程は分散剤の存在下に行うのが好ましい。分散剤の種類は、シェルの形成を妨害しなければ特に制限されない。そのような分散剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール;ポリビニルピロリドン;共栄社化学株式会社製のフローレンシリーズ;ビックケミー・ジャパン株式会社製のDISPERBYKシリーズ;日本ルーブリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ;味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズ;楠本化成株式会社製のディスパロンシリーズ;などが挙げられる。 In the first step, the reaction is carried out in the state of a dispersion liquid. Therefore, for the purpose of improving the dispersion stability of the dispersion, the first step is preferably performed in the presence of a dispersant. The type of dispersant is not particularly limited as long as it does not interfere with the formation of the shell. Examples of such dispersants include polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; polyvinylpyrrolidone; Floren series manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; DISPERBYK series manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd .; Solspers series; Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.'s Ajispar series; Kusumoto Kasei Co., Ltd.'s Disparon series; etc.

<第2工程>
第2工程としては、テンプレート粒子を溶剤により溶解して除去する工程が挙げられる。そのような溶剤としては、シェル粒子を溶解又は破壊しない溶剤が好ましい。テンプレート粒子がポリマー粒子の場合、第2工程で使用する溶剤としては、メチルエチルケトン、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム等の有機溶剤が挙げられる。また、テンプレート粒子が無機粒子の場合、第2工程で使用する溶剤としては、希塩酸、希硝酸、希硫酸等の酸の水溶液が挙げられる。
<Second step>
The second step includes a step of dissolving and removing the template particles with a solvent. As such a solvent, a solvent that does not dissolve or destroy the shell particles is preferable. When the template particles are polymer particles, examples of the solvent used in the second step include organic solvents such as methyl ethyl ketone, toluene, tetrahydrofuran, and chloroform. When the template particles are inorganic particles, examples of the solvent used in the second step include an aqueous solution of an acid such as dilute hydrochloric acid, dilute nitric acid, or dilute sulfuric acid.

<第3工程>
第3工程としては、第2工程で得られたシェル粒子を焼成することにより、中空粒子を得る工程が挙げられる。通常、焼成は、空気、窒素、アルゴン、水素、アンモニア等の1種類以上から選択されるガスの雰囲気下で行うことができるが、単結晶の酸化チタンを得るためには、空気雰囲気下で焼成するのが好ましい。なお、本明細書において「空気」とは、地球の大気圏の最下層を構成している気体であり、人類が生活する通常の環境で得られる気体を意味する。
<Third step>
Examples of the third step include a step of obtaining hollow particles by firing the shell particles obtained in the second step. Normally, firing can be performed in an atmosphere of a gas selected from one or more types such as air, nitrogen, argon, hydrogen, and ammonia, but in order to obtain single crystal titanium oxide, firing is performed in an air atmosphere. It is preferable to do so. In addition, in this specification, "air" is a gas constituting the lowest layer of the earth's atmosphere, and means a gas obtained in a normal environment in which human beings live.

第3工程の焼成温度は、中空粒子の材質等によって変わるため、一概に決めることは困難である。その目安としては、通常600℃〜1500℃以下、好ましくは650℃〜1400℃、より好ましくは700℃〜1300℃、さらに好ましくは750℃〜1200℃程度である。
第3工程の焼成時間は、焼成温度等によって変わるため、一概に決めることは困難である。その目安としては、通常0.5時間〜数十時間、好ましくは1時間〜10時間程度である。
Since the firing temperature in the third step changes depending on the material of the hollow particles and the like, it is difficult to unconditionally determine it. As a guide, it is usually 600 ° C. to 1500 ° C. or lower, preferably 650 ° C. to 1400 ° C., more preferably 700 ° C. to 1300 ° C., and further preferably about 750 ° C. to 1200 ° C.
Since the firing time of the third step changes depending on the firing temperature and the like, it is difficult to unconditionally determine it. As a guide, it is usually 0.5 hours to several tens of hours, preferably about 1 hour to 10 hours.

なお、テンプレート粒子がポリマー粒子である場合、上記の第2工程が不要となる。すなわち、第1工程で得られるコア/シェル粒子を焼成する第3工程により、テンプレート粒子の除去とシェル粒子の焼成とが同時に行える。このため、第1工程及び第3工程の2工程のみで、中空粒子を製造することができる。 When the template particles are polymer particles, the above-mentioned second step becomes unnecessary. That is, the removal of the template particles and the firing of the shell particles can be performed at the same time by the third step of firing the core / shell particles obtained in the first step. Therefore, the hollow particles can be produced only by the two steps of the first step and the third step.

第3工程で得られる中空粒子には、形状が不均一な副生成物の粒子が含まれることがある。副生成物の粒子の割合は、通常10%以下、好ましくは5%以下である。合成条件を精密に制御すること等により、副生成物の粒子の生成を抑制することができる。副生成物の含有率は、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)で無作為に撮影した中空粒子100個のうちの、形状が不均一な粒子の個数により算出することができる。 The hollow particles obtained in the third step may contain particles of by-products having a non-uniform shape. The proportion of by-product particles is usually 10% or less, preferably 5% or less. By precisely controlling the synthesis conditions and the like, it is possible to suppress the formation of particles of by-products. The content of by-products can be calculated from the number of non-uniformly shaped particles out of 100 hollow particles randomly photographed with a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). can.

本発明の樹脂組成物は、(A)上記ルチル型酸化チタン中空粒子、及び(B)硬化性化合物、(C)硬化剤を含有する場合が好ましい。
本発明の樹脂組成物の総質量に対して、(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の含有量は0.1〜90質量%であることが好ましい。なお当該含有量は、目的とする樹脂組成物が固形樹脂組成物である場合、または液状樹脂組成物である場合によって異なる。
例えば、固形樹脂組成物とする場合、含有率の上限としては、50質量%がより好ましく、更に好ましい順に40質量%、30質量%、25質量%、20質量%、15質量%であり10質量%が特に好ましい。また下限としては、0.2質量%がより好ましく、更に好ましい順に0.5質量%、1質量%、2質量%、3質量%であり、5質量%が特に好ましい。従って、(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の最も好ましい含有率は5質量%以上10質量%以下である。
また例えば、液状化粧料とする場合、含有率の上限としては、40質量%がより好ましく、更に好ましい順に30質量%、20質量%、15質量%であり10質量%が特に好ましい。また下限としては、0.2質量%がより好ましく、更に好ましい順に0.5質量%、1質量%、2質量%、3質量%であり、5質量%が特に好ましい。従って、(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の最も好ましい含有率は5質量%以上10質量%以下である。
The resin composition of the present invention preferably contains (A) the above-mentioned rutile-type titanium oxide hollow particles, (B) a curable compound, and (C) a curing agent.
The content of the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles is preferably 0.1 to 90% by mass with respect to the total mass of the resin composition of the present invention. The content thereof differs depending on whether the target resin composition is a solid resin composition or a liquid resin composition.
For example, in the case of a solid resin composition, the upper limit of the content is more preferably 50% by mass, and more preferably 40% by mass, 30% by mass, 25% by mass, 20% by mass, 15% by mass, and 10% by mass. % Is particularly preferable. Further, as the lower limit, 0.2% by mass is more preferable, and 0.5% by mass, 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass are more preferable, and 5% by mass is particularly preferable. Therefore, the most preferable content of the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles is 5% by mass or more and 10% by mass or less.
Further, for example, in the case of a liquid cosmetic, the upper limit of the content is more preferably 40% by mass, more preferably 30% by mass, 20% by mass, 15% by mass, and particularly preferably 10% by mass. Further, as the lower limit, 0.2% by mass is more preferable, and 0.5% by mass, 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass are more preferable, and 5% by mass is particularly preferable. Therefore, the most preferable content of the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles is 5% by mass or more and 10% by mass or less.

[(B)硬化性化合物]
本発明に用いられ得る(B)硬化性化合物とは、例えば(B−1)熱硬化性化合物や(B−2)光硬化性化合物を挙げることができる。
[(B−1)熱硬化性化合物]
熱硬化性化合物とは、例えばエポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。
上記環状エーテルを有する熱硬化性化合物としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂(脂環式エポキシ樹脂を含む脂肪族エポキシ樹脂または芳香族エポキシ樹脂)、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂(脂肪族環、例えば炭素数3〜12の脂肪族環を含んでいても良い)、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型;ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、2,2’−ジアリルビスフェノールA型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールA型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロン(登録商標)N−740、N−770、N−775(以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製)、エピコート(登録商標)152、エピコート(登録商標)154(以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製)等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロン(登録商標)N−660、N−665、N−670、N−673、N−680、N−695、N−665−EXP、N−672−EXP(以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製);ビフェニルノボラック型としては、例えば、NC−3000P(日本化薬社製);トリスフェノールノボラック型としては、例えば、EP1032S50、EP1032H60(以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製);ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、XD−1000−L(日本化薬株式会社製)、HP−7200(大日本インキ化学工業株式会社製);ビスフェノールA型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート(登録商標)828、エピコート(登録商標)834、エピコート1001、エピコート(登録商標)1004(以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製)、エピクロン(登録商標)850、エピクロン(登録商標)860、エピクロン(登録商標)4055(以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製);ビスフェノールF型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート(登録商標)807(ジャパンエポキシレジン株式会社製)、エピクロン(登録商標)830(大日本インキ化学工業株式会社製);2,2’−ジアリルビスフェノールA型としては、例えば、RE−810NM(日本化薬株式会社製);水添ビスフェノール型としては、例えば、ST−5080(東都化成株式会社製);ポリオキシプロピレンビスフェノールA型としては、例えば、EP−4000、EP−4005(以上、いずれも旭電化工業株式会社製)等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコール(登録商標)EHO、エタナコール(登録商標)OXBP、エタナコール(登録商標)OXTP、エタナコール(登録商標)OXMA(以上、いずれも宇部興産株式会社製)等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド(登録商標)2021、セロキサイド(登録商標)2080、セロキサイド(登録商標)3000(以上、いずれもダイセル・ユーシービー株式会社製)等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[(B) Curable compound]
Examples of the (B) curable compound that can be used in the present invention include (B-1) thermosetting compounds and (B-2) photocurable compounds.
[(B-1) Thermosetting compound]
Examples of the thermosetting compound include curable compounds having a cyclic ether such as an epoxy group and an oxetanyl group.
The thermosetting compound having the cyclic ether is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin (aliphatic epoxy resin containing an alicyclic epoxy resin or an aromatic epoxy resin), an oxetane resin, and a furan resin. Of these, epoxy resins (which may contain an aliphatic ring, for example, an aliphatic ring having 3 to 12 carbon atoms) and an oxetane resin are preferable from the viewpoint of reaction rate and versatility. The epoxy resin is not particularly limited, and for example, novolak type such as phenol novolac type, cresol novolac type, biphenyl novolac type, trisphenol novolac type, dicyclopentadiene novolac type; bisphenol A type, bisphenol F type, 2, 2 '-Diallyl bisphenol A type, hydrogenated bisphenol type, polyoxypropylene bisphenol A type and other bisphenol types can be mentioned. In addition, glycidylamine and the like can also be mentioned.
Examples of commercially available epoxy resins include Epicron (registered trademark) N-740, N-770, and N-775 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) as phenol novolac type epoxy resins. Examples thereof include Epicoat (registered trademark) 152 and Epicoat (registered trademark) 154 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). Examples of the cresol novolac type include Epicron® N-660, N-665, N-670, N-673, N-680, N-695, N-665-EXP, and N-672-EXP (above). , All manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.); Biphenylnovolak type, for example, NC-3000P (manufactured by Nippon Kayakusha); Trisphenol novolak type, for example, EP1032S50, EP1032H60 (all of which are Japan Epoxy resin Co., Ltd.); Dicyclopentadiene novolac type includes, for example, XD-1000-L (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), HP-7200 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.); bisphenol A type epoxy compound. Examples thereof include Epicoat (registered trademark) 828, Epicoat (registered trademark) 834, Epicoat 1001, Epicoat (registered trademark) 1004 (all manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), Epicron (registered trademark) 850, and Epicron (registered trademark). Registered trademark) 860, Epicron (registered trademark) 4055 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.); Commercially available bisphenol F type epoxy compounds include, for example, Epicoat (registered trademark) 807 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) Epoxy (registered trademark) 830 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.); 2,2'-diallyl bisphenol A type includes, for example, RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); hydrogenated bisphenol Examples of the type include ST-5080 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.); and examples of the polyoxypropylene bisphenol A type include EP-4000 and EP-4005 (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.). Be done.
Commercially available products of the above oxetane compounds include, for example, Etanacol (registered trademark) EHO, Etanacol (registered trademark) OXBP, Etanacol (registered trademark) OXTP, and Etanacol (registered trademark) OXMA (all manufactured by Ube Industries, Ltd.). Can be mentioned. The alicyclic epoxy compound is not particularly limited, and for example, celoxide (registered trademark) 2021, celoxide (registered trademark) 2080, celoxide (registered trademark) 3000 (all of which are manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.). And so on. These curable compounds having a cyclic ether group may be used alone or in combination of two or more.

[(B−2)光硬化性化合物]
光硬化性化合物とは、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、(メタ)アクリロイル基等を有する樹脂が挙げられる。なかでも反応性や汎用性の面より(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、例えば(メタ)アクリレート化合物、が好ましい。なお、本明細書において、「(メタ)アクリロイル」等の用語は、「アクリロイル」又は「メタクリロイ」を意味し、例えば「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
(メタ)アクリロイル基を有する樹脂としては例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有(メタ)アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル,ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート(例えば、日本化薬株式会社製、KAYARAD(登録商標)HX−220、HX−620等)、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート(例えば日本化薬(株)製、KAYARAD(登録商標)DPHA等)、モノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレートは、そのエポキシ基に当量の(メタ)アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことができる。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の(メタ)アクリル酸を、触媒(例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等)及び重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等)と共に添加して、例えば80〜110℃でエステル化反応を行う。こうして得られた(メタ)アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である。
[(B-2) Photocurable compound]
Examples of the photocurable compound include resins having a vinyl group, a vinyl ether group, an allyl group, a maleimide group, a (meth) acryloyl group and the like. Among them, a resin having a (meth) acryloyl group, for example, a (meth) acrylate compound is preferable from the viewpoint of reactivity and versatility. In the present specification, terms such as "(meth) acryloyl" mean "acryloyl" or "methacryloyl", and for example, "(meth) acrylate" means "acrylate" or "methacrylate".
Examples of the resin having a (meth) acryloyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, and acryloyl. Half ester, which is a reaction product of morpholine, hydroxyl group-containing (meth) acrylate and acid anhydride of polycarboxylic acid compound, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethyl propantri (meth) acrylate. , Trimethylol propanepolyethoxytri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (meth) acrylate, di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate (for example, KAYARAD manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (Registered Trademarks) HX-220, HX-620, etc.), Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, poly (meth) acrylate of the reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone, dipentaerythritol poly (meth) acrylate (for example, Japan). KAYARAD (registered trademark) DPHA, etc. manufactured by Kayaku Co., Ltd.), (meth) acrylate compounds such as epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of mono or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid, can be mentioned.
The glycidyl compound used for epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of mono or polyglycidyl compound and (meth) acrylic acid, is not particularly limited, and is, for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-. Biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenylphenol, 1- (4-Hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2'-methylene-bis (4-methyl-6-tert-) Butylphenol), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phenols with diisopropyridene skeleton, 1,1-di-4 -Pharmons having a fluorene skeleton such as hydroxyphenylfluorene, phenolized polybutadiene, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolac, brominated cresol novolac, chlorinated bisphenol S, chlorinated bisphenol Examples thereof include glycidyl etherified products of polyphenols such as A.
Epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of these mono or polyglycidyl compounds and (meth) acrylic acid, can be obtained by subjecting the epoxy group to an esterification reaction of an equivalent amount of (meth) acrylic acid. This synthetic reaction can be carried out by a generally known method. For example, resorcindiglycidyl ether with the equivalent amount of (meth) acrylic acid, catalysts (eg, benzyldimethylamine, triethylamine, benzyltrimethylammonium chloride, triphenylphosphine, triphenylstibin, etc.) and polymerization inhibitors (eg, methquinone, etc.) Hydroquinone, methylhydroquinone, phenothiazine, dibutylhydroxytoluene, etc.) are added together, and the esterification reaction is carried out at, for example, 80 to 110 ° C. The (meth) acrylicized resorcinol diglycidyl ether thus obtained is a resin having a radically polymerizable (meth) acryloyl group.

(B)硬化性化合物としては、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が好ましく、光硬化性樹脂である場合が更に好ましい。
また、分子内に3以上の(メタ)アクリロイル基を併せ持つ光硬化性樹脂である場合が特に好ましい。
分子内に3以上の(メタ)クリロイル基と極性官能基を併せ持つ光硬化性樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート(KAYARAD PET−30 日本化薬製)、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物(KAYARAD DPHA 日本化薬製)、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート(701A 新中村化学製)、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート(A−9300 新中村化学製)、ε−カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート(A−9300−1CL 新中村化学)等の(メタ)アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールA型エポキシアクリレート(R−115F、R−130、R−381等 日本化薬製)、ビスフェノールF型エポキシアクリレート(ZFA−266H 日本化薬製)、酸変性エポキシアクリレート(ZARシリーズ、ZCRシリーズ 日本化薬製)等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート(UX3204、UX−4101、UXT−6100 日本化薬製)、混合系ウレタンアクリレート(UX−6101、UX−8101 日本化薬製)、ポリエーテル系ウレタンアクリレート(UX−937、UXF−4001−M35 日本化薬製)、エステル系ウレタンアクリレート(DPHA−40H、UX−5000、UX−5102D−M20、UX−5103D、UX−5005 日本化薬製)等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
分子内に3以上の(メタ)アクリロイル基を持つ光硬化性樹脂としては、より好ましくは3以上10以下の(メタ)クリロイル基を持つ場合であり、更に好ましくは4以上8以下の(メタ)アクリロイル基をもつ場合である。
本発明の樹脂組成物の総質量に対して、(B)硬化性樹脂の含有量は0.5〜70質量%、好ましくは5〜40質量%である。
As the curable compound (B), a thermosetting resin or a photocurable resin is preferable, and a photocurable resin is more preferable.
Further, it is particularly preferable that the photocurable resin has three or more (meth) acryloyl groups in the molecule.
Examples of the photocurable resin having 3 or more (meth) cryloyl groups and polar functional groups in the molecule include pentaeryth little triacrylate (KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku), dipentaeryth little pentaacrylate and di. Mixture of pentaeryth little hexaacrylate (KAYARAD DPHA Nippon Kayaku), 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate (701A Shin-Nakamura Chemical), ethoxylated isocyanuric acid triacrylate (A-9300 Shin-Nakamura Chemical) , Ε-caprolactone-modified tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate (A-9300-1CL Shin-Nakamura Kagaku) and other (meth) acrylate monomer compounds, bisphenol A type epoxy acrylate (R-115F, R-130, R) -381 etc. Nippon Kayaku), bisphenol F type epoxy acrylate (ZFA-266H Nihon Kayaku), acid modified epoxy acrylate (ZAR series, ZCR series Nihon Kayaku) and other epoxy acrylate resins, polyester urethane acrylate ( UX3204, UX-4101, UXT-6100 manufactured by Nippon Kayaku), mixed urethane acrylate (UX-6101, UX-8101 manufactured by Nihon Kayaku), polyether urethane acrylate (UX-937, UXF-4001-M35 made in Japan) (Yakuhin), ester-based urethane acrylates (DPHA-40H, UX-5000, UX-5102D-M20, UX-5103D, UX-5005 Nippon Kayaku) and other urethane acrylate resins can be mentioned.
The photocurable resin having 3 or more (meth) acryloyl groups in the molecule is more preferably 3 or more and 10 or less (meth) acryloyl groups, and further preferably 4 or more and 8 or less (meth). This is the case when it has an acryloyl group.
The content of the (B) curable resin is 0.5 to 70% by mass, preferably 5 to 40% by mass, based on the total mass of the resin composition of the present invention.

[(C)硬化剤]
本発明の樹脂組成物には、(C)として硬化剤を含有する場合が好ましい。特に(B)硬化性化合物を用いる場合には、(C)硬化剤が併用される。なお硬化剤と開始剤が区別される場合もあるが、本明細書においては双方を含めて(C)硬化剤として記載する。
[(C) Hardener]
The resin composition of the present invention preferably contains a curing agent as (C). In particular, when (B) a curable compound is used, (C) a curing agent is used in combination. In some cases, a curing agent and an initiator may be distinguished, but in the present specification, both are included and described as (C) curing agent.

上記(B)硬化性化合物として、(B−1)熱硬化性化合物が用いられる場合には、成分(C)として(C−1)熱硬化剤が併用される場合が好ましい。ただし、(B−1)熱硬化性化合物が環状エーテルを有する熱硬化性化合物である場合には、光によってカチオンやアニオンを発生する光カチオン開始剤、光アニオン開始剤も好適に用いられ得る。
(C−1)熱硬化剤としては、非共有電子対や分子内のアニオンによって、求核的に反応するものであって、例えばアミン系硬化剤(以下アミン類とも言う)、ヒドラジド系硬化剤(以下ヒドラジド類とも言う)、イミダゾール系硬化剤(以下イミダゾール類とも言う)、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、イソシアネート、チオール系硬化剤(チオール類)、フェノール系硬化剤(フェノール類)等を挙げることができる。ただしこれらに限定されるものではない。
アミン類としては、脂肪族鎖状アミン、脂肪族環状アミン、芳香族アミン、変性アミン(アミンアダクト、ケチミン等)等を挙げることができる。また1級アミン、2級アミン、3級アミン、4級アミンのいずれであっても良いが、反応性の見地からは1級又は2級アミンが好ましい。
アミン類として具体的には、例えばジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジエチルメチルベンゼンジアミン、2−メチル−4,6−ビス(メチルチオ)−1,3−ベンゼンジアミン、ビスアニリン、ジエチルトルエンジアミンを、ジエチルチオトルエンジアミン、N,N’−ビス(sec−ブチルアミノ)ジフェニルメタン等の芳香族アミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノルボルナンジアミン、ポリエーテルアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン、変性アミン等が挙げられる。特に好ましくは、ジエチルメチルベンゼンジアミン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフェニルメタン、ジエチルトルエンジアミンを挙げることができる。
ヒドラジド類としては、有機酸ヒドラジド化合物が特に好適に用いられる。例えば、芳香族ヒドラジドであるサリチル酸ヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフトエ酸ジヒドラジド、2,6−ピリジンジヒドラジド、1,2,4−ベンゼントリヒドラジド、1,4,5,8−ナフトエ酸テトラヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド等をあげることができる。また、脂肪族ヒドラジド化合物であれば、例えば、ホルムヒドラジド、アセトヒドラジド、プロピオン酸ヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、1,4−シクロヘキサンジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、N,N’−ヘキサメチレンビスセミカルバジド、クエン酸トリヒドラジド、ニトリロ酢酸トリヒドラジド、シクロヘキサントリカルボン酸トリヒドラジド、1,3−ビス(ヒドラジノカルボノエチル)−5−イソプロピルヒダントイン等のヒダントイン骨格、好ましくはバリンヒダントイン骨格(ヒダントイン環の炭素原子がイソプロピル基で置換された骨格)を有するジヒドラジド化合物、トリス(1−ヒドラジノカルボニルメチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート、トリス(1−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート、トリス(3−ヒドラジノカルボニルプロピル)イソシアヌレート、ビス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート等をあげることができる。硬化反応性と潜在性のバランスから好ましくは、イソフタル酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、トリス(ヒドラジノカルボニルメチル)イソシアヌレート、トリス(1−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレート、トリス(3−ヒドラジノカルボニルプロピル)イソシアヌレートであり、特に好ましくはトリス(2−ヒドラジノカルボニルエチル)イソシアヌレートである。
イミダゾール類としては、例えば2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
チオール類としては、カレンズMT PE1、BD1、NR1、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3−メルカプトブチレート)(いずれも昭和電工(株)製)等を挙げることができる。なお、チオール系硬化剤とは、分子内に少なくとも1つのチオール基(SH)を有する硬化剤である。
フェノール類としては、フェノール(各種置換基を有しても良い)にホルマリンを酸触媒下で縮合反応させて得られるフェノールノボラック類やビスフェノールA、ビスフェノールS等を例示することができる。
When the (B-1) thermosetting compound is used as the (B) curable compound, it is preferable that the (C-1) thermosetting agent is used in combination as the component (C). However, when the (B-1) thermosetting compound is a thermosetting compound having a cyclic ether, a photocation initiator or a photoanion initiator that generates a cation or anion by light can also be preferably used.
(C-1) The thermal curing agent is one that reacts nucleophilically by an unshared electron pair or an anion in the molecule, and is, for example, an amine-based curing agent (hereinafter, also referred to as amines) or a hydrazide-based curing agent. (Hereinafter referred to as hydrazides), imidazole-based curing agents (hereinafter also referred to as imidazoles), polyamide resins, dicyandiamides, isocyanates, thiol-based curing agents (thiols), phenol-based curing agents (phenols) and the like can be mentioned. .. However, it is not limited to these.
Examples of amines include aliphatic chain amines, aliphatic cyclic amines, aromatic amines, modified amines (amine adduct, ketimine, etc.) and the like. Further, any of primary amine, secondary amine, tertiary amine and quaternary amine may be used, but from the viewpoint of reactivity, primary or secondary amine is preferable.
Specifically, as amines, for example, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulphon, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diethylmethylbenzenediamine, 2-methyl-4,6-bis (methylthio). ) -1,3-benzenediamine, bisaniline, diethyltoluenediamine, aromatic amines such as diethylthiotoludiamine, N, N'-bis (sec-butylamino) diphenylmethane, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, Examples thereof include aliphatic amines such as diethylamine, triethylamine, ethylenediamine, tetramethylethylenediamine, hexamethylenediamine, norbornandiamine, polyetheramine, triethylenetetramine and tetraethylenepentamine, and modified amines. Particularly preferably, diethylmethylbenzenediamine, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, diethyltoluenediamine can be mentioned.
As the hydrazides, an organic acid hydrazide compound is particularly preferably used. For example, the aromatic hydrazides salicylate hydrazide, terephthalic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthoic acid dihydrazide, 2,6-pyridinedihydrazide, 1,2,4-benzenetrihydrazide, 1,4,5,8. -Tetrahydrazide naphthoate, tetrahydrazide pyromellitic acid, etc. can be mentioned. In the case of an aliphatic hydrazide compound, for example, formhydrazide, acetohydrazide, propionate hydrazide, oxalic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, succinic acid dihydrazide, glutarate dihydrazide, adipic acid dihydrazide, pimelliate dihydrazide, sebacic acid dihydrazide. 1,4-Cyclohexanedihydrazide, tartrate dihydrazide, malic acid dihydrazide, iminodiacetic acid dihydrazide, N, N'-hexamethylenebis semi-carbazide, citrate trihydrazide, nitriloacetate trihydrazide, cyclohexanetricarboxylic acid trihydrazide, 1,3-bis ( Tris (1-hydrazinocarbonylmethyl), a dihydrazide compound having a hydrandin skeleton such as hydradinocarbonoethyl) -5-isopropylhydranthin, preferably a valine hydrantin skeleton (a skeleton in which the carbon atom of the hydrandin ring is replaced with an isopropyl group). Isocyanurate, Tris (2-hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate, Tris (1-hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate, Tris (3-hydrazinocarbonylpropyl) isocyanurate, Bis (2-hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate Etc. can be given. From the balance of curing reactivity and potential, preferred isiophthalic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, adipate dihydrazide, tris (hydrazinocarbonylmethyl) isocyanurate, tris (1-hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate, tris (2-). Hydradinocarbonylethyl) isocyanurate, tris (3-hydrazinocarbonylpropyl) isocyanurate, and particularly preferably tris (2-hydrazinocarbonylethyl) isocyanurate.
Examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecyl imidazole, 2-heptadecyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 1-benzyl-2-phenyl imidazole, 1-benzyl-. 2-Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole (1')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazole (1')) 1')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 addition , 2-Phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyano Examples include various imidazoles of ethoxymethylimidazole, and salts of these imidazoles with polyvalent carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, and oxalic acid. Be done.
Examples of thiols include calends MT PE1, BD1, NR1, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), and trimethylolethane ethanetris (3-mercaptobutyrate) (all manufactured by Showa Denko KK). Can be done. The thiol-based curing agent is a curing agent having at least one thiol group (SH) in the molecule.
Examples of the phenols include phenol novolacs, bisphenol A, bisphenol S and the like obtained by subjecting phenol (which may have various substituents) to a condensation reaction of formalin under an acid catalyst.

熱硬化剤が用いられる場合には、熱硬化促進剤を併用しても良い。硬化促進剤としては、硬化促進剤としては、フェノール類、有機酸、ホスフィン類、イミダゾール等を挙げることができる。
有機酸としては、有機カルボン酸や有機リン酸等が挙げられるが、有機カルボン酸である場合が好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、フランジカルボン酸等の芳香族カルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ドデカン二酸、セバシン酸、チオジプロピオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリス(2−カルボキシメチル)イソシアヌレート、トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−カルボキシプロピル)イソシアヌレート、ビス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート等を挙げることができる。
ホスフィン類としてはトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等を挙げることができる。
イミダゾール類としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチル−4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
When a thermosetting agent is used, a thermosetting accelerator may be used in combination. Examples of the curing accelerator include phenols, organic acids, phosphines, imidazole and the like as the curing accelerator.
Examples of the organic acid include an organic carboxylic acid and an organic phosphoric acid, and an organic carboxylic acid is preferable. Specifically, aromatic carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, and flangecarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, dodecanedioic acid, sebacic acid, and thiodipropionic acid. , Cyclohexanedicarboxylic acid, tris (2-carboxymethyl) isocyanurate, tris (2-carboxyethyl) isocyanurate, tris (2-carboxypropyl) isocyanurate, bis (2-carboxyethyl) isocyanurate and the like. ..
Examples of phosphines include triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and the like.
Examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2. -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole (1')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-ethyl-4-methylimidazole (1') ')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 adduct , 2-Phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxy Examples thereof include methylimidazole.

[(C−2)光開始剤]
上記(B)硬化性化合物として、(B−2)光硬化性化合物が用いられる場合には、成分(C)として(C−2)光開始剤が併用される場合が好ましい。ただし、(B−2)光硬化性化合物は二重結合等のラジカルによって連鎖重合反応する官能基を有するものである為、例えば熱によってラジカルを発生する熱ラジカル開始剤の使用が除外されるものではない。
(C−2)光開始剤とは、光ラジカル重合開始剤が好ましい。これは紫外線や可視光の照射によって、ラジカルを発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えばベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、2−エチルアンスラキノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、9−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、IRGACURERTM 651、184、2959、127、907、369、379EG、819、784、754、500、OXE01、OXE02、DAROCURERTM1173、LUCIRINRTM TPO(いずれもBASF社製)、セイクオールRTMZ、BZ、BEE、BIP、BBI(いずれも精工化学株式会社製)等を挙げることができる。
また、365nmにおけるモル吸光係数(ε)が50以上10000(mL/g・cm)以下である場合が好ましく、100以上8000(mL/g・cm)以下である場合がさらに好ましく、1000以上7500(mL/g・cm)以下である場合が特にに好ましい。なお、モル吸光係数は、メタノール又はアセトニトリルを溶剤として測定したものである。
365nmにおけるモル吸光係数(ε)が100以上10000(mL/g・cm)以下である光重合開始剤とは、IRGACURERTM 651(メタノール中ε=360mL/g・cm)、IRGACURERTM 907(メタノール中ε=4700mL/g・cm)、IRGACURERTM 369(メタノール中ε=7900mL/g・cm)、IRGACURERTM 379(メタノール中ε=7900mL/g・cm)、IRGACURERTM 819(メタノール中ε=2300mL/g・cm)、IRGACURERTM TPO(アセトニトリル中ε=4700mL/g・cm)、IRGACURERTM OXE−01(アセトニトリル中ε=7000mL/g・cm)、IRGACURERTM OXE−02(アセトニトリル中ε=7700mL/g・cm)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
光ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量はバインダー樹脂の総量100質量部に対して0.01質量部以上10質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、7質量部、更に好ましくは5質量部、特に好ましくは4質量部、最も好ましくは3質量部である。
また好ましい下限としては、0.01質量部、更に好ましくは0.1質量部、特に好ましくは1質量部、最も好ましくは1.5質量部である。
[(C-2) Photoinitiator]
When the (B-2) photocurable compound is used as the (B) curable compound, it is preferable that the (C-2) photoinitiator is used in combination as the component (C). However, since the (B-2) photocurable compound has a functional group that undergoes a chain polymerization reaction with a radical such as a double bond, for example, the use of a thermal radical initiator that generates a radical by heat is excluded. is not it.
(C-2) The photoinitiator is preferably a photoradical polymerization initiator. This is not particularly limited as long as it is a compound that generates radicals by irradiation with ultraviolet rays or visible light and initiates a chain polymerization reaction, but is not particularly limited, for example, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, diethylthioxanthone, benzophenone, 2-ethyl. Anthraquinone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, camphorquinone , 9-Fluorenone, diphenyldisulfide and the like. Specifically, IRGACURE RTM 651, 184, 2959, 127, 907, 369, 379EG, 819, 784, 754, 500, OXE01, OXE02, DAROCURE RTM 1173, LUCIRIN RTM TPO (all manufactured by BASF), Sakeall RTM Z, BZ, BEE, BIP, BBI (all manufactured by Seiko Kagaku Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
Further, the molar extinction coefficient (ε) at 365 nm is preferably 50 or more and 10000 (mL / g · cm) or less, more preferably 100 or more and 8000 (mL / g · cm) or less, and more preferably 1000 or more and 7500 (m). It is particularly preferable that the content is mL / g · cm) or less. The molar extinction coefficient was measured using methanol or acetonitrile as a solvent.
Photopolymerization initiators having a molar extinction coefficient (ε) of 100 or more and 10000 (mL / g · cm) or less at 365 nm are IRGACURE RTM 651 (ε = 360 mL / g · cm in methanol) and IRGACURE RTM 907 (in methanol). ε = 4700 mL / g · cm), IRGACURE RTM 369 (ε = 7900 mL / g · cm in methanol), IRGACURE RTM 379 (ε = 7900 mL / g · cm in methanol), IRGACURE RTM 819 (ε = 2300 mL / g in methanol) · Cm), IRGACURE RTM TPO (ε = 4700 mL / g · cm in acetonitrile), IRGACURE RTM OXE-01 (ε = 7000 mL / g · cm in acetonitrile), IRGACURE RTM OXE-02 (ε = 7700 mL / g · in acetonitrile) cm) and the like, but are not limited to these.
When a photoradical polymerization initiator is used, its content is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the binder resin.
The preferable upper limit of this content is 7 parts by mass, more preferably 5 parts by mass, particularly preferably 4 parts by mass, and most preferably 3 parts by mass.
The lower limit is preferably 0.01 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass, particularly preferably 1 part by mass, and most preferably 1.5 parts by mass.

<熱ラジカル重合開始剤>
(B−2)光硬化性化合物に対して、熱ラジカル重合開始剤を用いる場合、当該熱ラジカル重合開始剤は、加熱によりラジカルを生じ、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、有機過酸化物、アゾ化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾピナコール等が挙げられ、ベンゾピナコールが好適に用いられる。例えば、有機過酸化物としては、カヤメック(登録商標)A、M、R、L、LH、SP−30C、パーカドックスCH−50L、BC−FF、カドックスB−40ES、パーカドックス14、トリゴノックスRTM22−70E、23−C70、121、121−50E、121−LS50E、21−LS50E、42、42LS、カヤエステルRTMP−70、TMPO−70、CND−C70、OO−50E、AN、カヤブチルRTMB、パーカドックス16、カヤカルボン(登録商標)BIC−75、AIC−75(化薬アクゾ株式会社製)、パーメック(登録商標)N、H、S、F、D、G、パーヘキサ(登録商標)H、HC、TMH、C、V、22、MC、パーキュアー(登録商標)AH、AL、HB、パーブチル(登録商標)H、C、ND、L、パークミル(登録商標)H、D、パーロイル(登録商標)IB、IPP、パーオクタ(登録商標)ND(日油株式会社製)などが市販品として入手可能である。また、アゾ化合物としては、VA−044、V−070、VPE−0201、VSP−1001(和光純薬工業株式会社製)等が市販品として入手可能である。
熱ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量はバインダー樹脂の総量100質量部に対して0.01質量部以上10質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、7質量部、更に好ましくは5質量部、特に好ましくは4質量部、最も好ましくは3質量部である。
また好ましい下限としては、0.01質量部、更に好ましくは0.1質量部、特に好ましくは1質量部、最も好ましくは1.5質量部である。
樹脂組成物中の含有量として最も好ましい範囲は1.5質量部以上3質量部以下である。
<Thermal radical polymerization initiator>
(B-2) When a thermal radical polymerization initiator is used for the photocurable compound, the thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates radicals by heating and initiates a chain polymerization reaction. , Organic peroxide, azo compound, benzoin compound, benzoin ether compound, acetophenone compound, benzopinacol and the like, and benzopinacol is preferably used. For example, as organic peroxides, Kayamec (registered trademark) A, M, R, L, LH, SP-30C, Parkadox CH-50L, BC-FF, Cadox B-40ES, Parkadox 14, Trigonox RTM 22 -70E, 23-C70, 121, 121-50E, 121-LS50E, 21-LS50E, 42, 42LS, Kayaester RTM P-70, TMPO-70, CND-C70, OO-50E, AN, Kayabutyl RTM B, Parkadox 16, Kayacarbon (registered trademark) BIC-75, AIC-75 (manufactured by Chemical Axo Co., Ltd.), Permec (registered trademark) N, H, S, F, D, G, Perhexa (registered trademark) H, HC , TMH, C, V, 22, MC, Percure® AH, AL, HB, Perbutyl® H, C, ND, L, Park Mill® H, D, Parloyl® IB , IPP, Per Octa (registered trademark) ND (manufactured by Nichiyu Co., Ltd.), etc. are available as commercial products. As the azo compound, VA-044, V-070, VPE-0201, VSP-1001 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and the like are available as commercial products.
When a thermal radical polymerization initiator is used, its content is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the binder resin.
The preferable upper limit of this content is 7 parts by mass, more preferably 5 parts by mass, particularly preferably 4 parts by mass, and most preferably 3 parts by mass.
The lower limit is preferably 0.01 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass, particularly preferably 1 part by mass, and most preferably 1.5 parts by mass.
The most preferable range of the content in the resin composition is 1.5 parts by mass or more and 3 parts by mass or less.

[(D)溶剤]
本発明の樹脂組成物には、(D)溶剤を含有しても良い。
用いられ得る溶剤としては、水溶性であっても非水溶性であっても良い。
非水溶性溶剤としては、例えば、炭化水素系溶媒(トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等)、ケトン系溶媒(メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等)、エーテル系溶媒(イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1、4−ジオキサン等)、グリコールエーテル系溶媒(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、グリコールエステル系溶媒(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等)、グライム系溶媒(モノグライム、ジグライム等)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタン、クロロホルム等)、テトラヒドロフランが挙げられる。
水溶性溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール等のC1−C6アルコール;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジン−2−オン等のラクタム;1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−オン、1,3−ジメチルヘキサヒドロピリミド−2−オン等の環式尿素類;アセトン、2−メチル−2−ヒドロキシペンタン−4−オン、エチレンカーボネート等のケトン又はケトアルコール;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル;エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、分子量400、800、1540、又はそれ以上のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、チオジグリコール、ジチオジグリコール等のC2−C6ジオール、又はC2−C6アルキレン単位を有するモノ、オリゴ、若しくはポリアルキレングリコール若しくはチオグリコール;グリセリン、ジグリセリン、ヘキサン−1,2,6−トリオール、トリメチロールプロパン等のポリオール(トリオール);ジメチルスルホキシド;プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノメチルエーテルブチレート、エチレングリコールモノエチルエーテルブチレート、エチレングリコールモノブチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルブチレート、プロピレングリコールモノメチルエーテルブチレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルブチレート等のグリコールエーテル類又はグリコールエーテルアセテート類;などが挙げられる。
[(D) Solvent]
The resin composition of the present invention may contain the solvent (D).
The solvent that can be used may be water-soluble or water-insoluble.
Examples of the water-insoluble solvent include hydrocarbon solvents (toluene, xylene, hexane, cyclohexane, n-heptane, etc.), ketone solvents (methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, acetyl acetone, etc.), and ester solvents. (Ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, amyl acetate, etc.), ether solvents (isopropyl ether, methyl cellosolve, butyl cellosolve, 1,4-dioxane, etc.), glycol ether solvents (diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl, etc.) Ether, etc.), Glycol ester-based solvent (ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, etc.), Glyme-based solvent (monoglyme, diglyme, etc.), halogen-based solvent (dichloromethane, chloroform, etc.), tetrahydrofuran Can be mentioned.
Examples of the water-soluble solvent include C1-C6 alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, second butanol, and third butanol; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like. Carboxyl amides; lactams such as 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidin-2-one; 1,3-dimethylimidazolidine-2-one, 1,3-dimethylhexahydropyrimido- Cyclic ureas such as 2-one; ketones or keto alcohols such as acetone, 2-methyl-2-hydroxypentane-4-one, ethylene carbonate; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; ethylene glycol, diethylene glycol, 1, 2 -Propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,2-hexanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, di C2-C6 diols such as propylene glycol, polyethylene glycols with molecular weights of 400, 800, 1540 or higher, polypropylene glycols, thiodiglycols, dithiodiglycols, or mono-, oligo, or polyalkylene glycols having C2-C6 alkylene units. Alternatively, thioglycol; polyol (triol) such as glycerin, diglycerin, hexane-1,2,6-triol, trimethylolpropane, etc .; dimethylsulfoxide; propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether propionate, ethylene glycol monoethyl ether propio Nate, ethylene glycol monobutyl ether propionate, diethylene glycol monomethyl ether propionate, propylene glycol monomethyl ether propionate, dipropylene glyco Lumonomethyl ether propionate, ethylene glycol monomethyl ether butyrate, ethylene glycol monoethyl ether butyrate, ethylene glycol monobutyl ether butyrate, diethylene glycol monomethyl ether butyrate, diethylene glycol monoethyl ether butyrate, diethylene glycol monobutyl ether butyrate, propylene glycol Glycol ethers such as monomethyl ether butyrate and dipropylene glycol monomethyl ether butyrate, or glycol ether acetates; and the like can be mentioned.

なお、上記の水溶性有機溶剤には、例えばトリメチロールプロパン等のように、常温で固体の物質も含まれている。しかし、該物質等は固体であっても水溶性を示し、さらに該物質等を含有する水溶液は水溶性有機溶剤と同様の性質を示し、同じ効果を期待して使用することができる。このため本明細書においては、便宜上、このような固体の物質であっても上記と同じ効果を期待して使用できる限り、水溶性有機溶剤の範疇に含むこととする。 The above-mentioned water-soluble organic solvent also contains a substance that is solid at room temperature, such as trimethylolpropane. However, the substance or the like exhibits water solubility even if it is a solid, and the aqueous solution containing the substance or the like exhibits the same properties as the water-soluble organic solvent, and can be used with the expectation of the same effect. Therefore, in the present specification, for convenience, even such a solid substance is included in the category of water-soluble organic solvent as long as it can be used with the expectation of the same effect as described above.

上記の水溶性有機溶剤として好ましいものは、イソプロパノール、グリセリン、モノ、ジ、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2−ピロリドン、ヒドロキシエチル−2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、トリメチロールプロパン、及びブチルカルビトールであり、より好ましくはイソプロパノール、グリセリン、ジエチレングリコール、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、及びブチルカルビトールである。これらの水溶性有機溶剤は、単独又は混合して用いられる。
本発明の樹脂組成物の総質量に対して、(B)溶剤の含有量は1〜90質量%である場合が好ましい。なお、上記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子を用いた樹脂組成物において、(B)硬化性化合物、(C)硬化剤やその他成分を適切な配合量で使用し、残部がある場合には、その残部は(D)溶剤で良い。
含有率の上限としては、80質量%がより好ましく、60質量%が更に好ましく、40質量%が特に好ましい。また下限としては、10質量%がより好ましく、20質量%が更に好ましく、30質量%が特に好ましい。従って、(B)溶剤の最も好ましい含有率は30質量%以上40質量%以下である。
Preferred water-soluble organic solvents are isopropanol, glycerin, mono, di, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2-pyrrolidone, hydroxyethyl-2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, trimethylolpropane, and the like. And butylcarbitol, more preferably isopropanol, glycerin, diethylene glycol, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, and butylcarbitol. These water-soluble organic solvents are used alone or in combination.
The content of the solvent (B) is preferably 1 to 90% by mass with respect to the total mass of the resin composition of the present invention. In the resin composition using the above-mentioned (A) rutile-type hollow titanium oxide particles, (B) a curable compound, (C) a curing agent and other components are used in an appropriate blending amount, and if there is a balance, there is a balance. The rest may be the solvent (D).
As the upper limit of the content rate, 80% by mass is more preferable, 60% by mass is further preferable, and 40% by mass is particularly preferable. Further, as the lower limit, 10% by mass is more preferable, 20% by mass is further preferable, and 30% by mass is particularly preferable. Therefore, the most preferable content of the solvent (B) is 30% by mass or more and 40% by mass or less.

<その他成分>
本発明の樹脂組成物は、上記成分(A)〜(D)以外に分散剤、熱可塑性樹脂、界面活性剤、粉体、水溶性高分子、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、アミノ酸、高分子エマルジョン、pH調整剤、酸化防止剤、酸化防止助剤等を必要に応じて適宜含有することができる。
<Other ingredients>
In addition to the above components (A) to (D), the resin composition of the present invention contains a dispersant, a thermoplastic resin, a surfactant, a powder, a water-soluble polymer, an ultraviolet absorber, a metal ion sequestering agent, an amino acid, and a high content. A molecular emulsion, a pH adjuster, an antioxidant, an antioxidant aid and the like can be appropriately contained as needed.

<分散剤>
分散剤としては、脂肪酸塩(石けん)、α−スルホ脂肪酸エステル塩(MES)、アルキルベンゼンスルホン酸塩(ABS)、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩(LAS)、アルキル硫酸塩(AS)、アルキルエーテル硫酸エステル塩(AES)、アルキル硫酸トリエタノールといった低分子陰イオン性(アニオン性)化合物、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル(AE)、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル(APE)、ソルビトール、ソルビタンといった低分子非イオン系化合物、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリド、といった低分子陽イオン性(カチオン性)化合物、アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチンといった低分子両性系化合物や、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体の共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどに代表される高分子水系分散剤、ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンといった高分子非水系分散剤、ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体といった高分子カチオン系分散剤が代表的なものであるが、本発明の粒子に好適に適用されるものであれば、ここに例示したような形態のもの以外の構造を有するものを排除しない。
<Dispersant>
Dispersants include fatty acid salt (soap), α-sulfo fatty acid ester salt (MES), alkylbenzene sulfonate (ABS), linear alkylbenzene sulfonate (LAS), alkyl sulfate (AS), alkyl ether sulfate. Low molecular weight anionic (anionic) compounds such as salt (AES) and alkylsulfate triethanol, low molecular weight such as fatty acid ethanolamide, polyoxyethylene alkyl ether (AE), polyoxyethylene alkyl phenyl ether (APE), sorbitol and sorbitan. Low molecular weight cationic compounds such as nonionic compounds, alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium chlorides and alkylpyridinium chlorides, low molecular weight amphoteric compounds such as alkylcarboxybetaine, sulfobetaine and lecithin, and naphthalene sulfonic acids. Formalin condensate of salt, polystyrene sulfonic acid salt, polyacrylic acid salt, copolymer salt of vinyl compound and carboxylic acid-based monomer, high molecular weight aqueous dispersant typified by carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid Typical examples are high molecular weight non-aqueous dispersants such as partially alkyl esters and polyalkylene polyamines, and high molecular weight cationic dispersants such as polyethyleneimines and aminoalkyl methacrylate copolymers, which are preferably applied to the particles of the present invention. If it is a thing, the thing having a structure other than the form as illustrated here is not excluded.

添加する分散剤としては、具体的名称を挙げると次のようなものが知られている。フローレンDOPA−15B、フローレンDOPA−17(共栄社化学株式会社製)、ソルプラスAX5、ソルプラスTX5、ソルスパース9000、ソルスパース12000、ソルスパース17000、ソルスパース20000、ソルスパース21000、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース32000、ソルスパース35100、ソルスパース54000、ソルシックス250、(日本ルーブリゾール株式会社製)、EFKA4008、EFKA4009、EFKA4010、EFKA4015、EFKA4046、EFKA4047、EFKA4060、EFKA4080、EFKA7462、EFKA4020、EFKA4050、EFKA4055、EFKA4400、EFKA4401、EFKA4402、EFKA4403、EFKA4300、EFKA4320、EFKA4330、EFKA4340、EFKA6220、EFKA6225、EFKA6700、EFKA6780、EFKA6782、EFKA8503(エフカアディディブズ社製)、アジスパーPA111、アジスパーPB711、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPN411、フェイメックスL−12(味の素ファインテクノ株式会社製)、TEXAPHOR−UV21、TEXAPHOR−UV61(コグニスジャパン株式会社製)、DisperBYK101、DisperBYK102、DisperBYK106、DisperBYK108、DisperBYK111、DisperBYK116、DisperBYK130、DisperBYK140、DisperBYK142、DisperBYK145、DisperBYK161、DisperBYK162、DisperBYK163、DisperBYK164、DisperBYK166、DisperBYK167、DisperBYK168、DisperBYK170、DisperBYK171、DisperBYK174、DisperBYK180、DisperBYK182、DisperBYK192、DisperBYK193、DisperBYK2000、DisperBYK2001、DisperBYK2020、DisperBYK2025、DisperBYK2050、DisperBYK2070、DisperBYK2155、DisperBYK2164、BYK220S、BYK300、BYK306、BYK320、BYK322、BYK325、BYK330、BYK340、BYK350、BYK377、BYK378、BYK380N、BYK410、BYK425、BYK430(ビックケミー・ジャパン株式会社製)、ディスパロン1751N、ディスパロン1831、ディスパロン1850、ディスパロン1860、ディスパロン1934、ディスパロンDA−400N、ディスパロンDA−703−50、ディスパロンDA−725、ディスパロンDA−705、ディスパロンDA−7301、ディスパロンDN−900、ディスパロンNS−5210、ディスパロンNVI−8514L、ヒップラードED−152、ヒップラードED−216、ヒップラードED−251、ヒップラードED−360(楠本化成株式会社)、FTX−207S、FTX−212P、FTX−220P、FTX−220S、FTX−228P、FTX−710LL、FTX−750LL、フタージェント212P、フタージェント220P、フタージェント222F、フタージェント228P、フタージェント245F、フタージェント245P、フタージェント250、フタージェント251、フタージェント710FM、フタージェント730FM、フタージェント730LL、フタージェント730LS、フタージェント750DM、フタージェント750FM(株式会社ネオス製)、AS−1100、AS−1800、AS−2000(東亞合成株式会社製)、カオーセラ2000、カオーセラ2100、KDH−154、MX−2045L、ホモゲノールL−18、ホモゲノールL−95、レオドールSP−010V、レオドールSP−030V、レオドールSP−L10、レオドールSP−P10(花王株式会社製)、エバンU103、シアノールDC902B、ノイゲンEA−167、ブライサーフA219B、ブライサーフAL(第一工業製薬株式会社製)、メガファックF−477、メガファック480SF、メガファックF−482、(DIC株式会社製)、シルフェイスSAG503A、ダイノール604(日信化学工業株式会社製)、SNスパーズ2180、SNスパーズ2190、SNレベラーS−906(サンノプコ株式会社製)、S−386、S−420(AGCセイミケミカル株式会社製)といったものが例示できる。 As the dispersant to be added, the following are known as specific names. Floren DOPA-15B, Floren DOPA-17 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solplus AX5, Solplus TX5, Solspurth 9000, Solsperse 12000, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 21000, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse 27000, Solsperse 28000, Solsperse 32000, Solsperse 35100, Solsperse 54000, Solsix 250, (manufactured by Japan Loubrizor Co., Ltd.), EFKA4008, EFKA4009, EFKA4010, EFKA4015, EFKA4046, EFKA4047, EFKA4060, EFKA4060, EFKA4080, EFKA4080, EFKA4080 EFKA4402, EFKA4403, EFKA4300, EFKA4320, EFKA4330, EFKA4340, EFKA6220, EFKA6225, EFKA6700, EFKA6780, EFKA6782, EFKA6780 -12 (Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd.), TEXAPHOR-UV21, TEXAPHOR-UV61 (manufactured by Cognis Japan Ltd.), DisperBYK101, DisperBYK102, DisperBYK106, DisperBYK108, DisperBYK111, DisperBYK116, DisperBYK130, DisperBYK140, DisperBYK142, DisperBYK145, DisperBYK161, DisperBYK162, DisperBYK163, DisperBYK164, DisperBYK166, DisperBYK167, DisperBYK168, DisperBYK170, DisperBYK171, DisperBYK174, DisperBYK180, DisperBYK182, DisperBYK192, DisperBYK193, DisperBYK2000, DisperBYK2001, DisperBYK2020, DisperBYK2025, DisperBYK2050, DisperBYK2070, Di sperBYK2155, DisperBYK2164, BYK220S, BYK300, BYK306, BYK320, BYK322, BYK325, BYK330, BYK340, BYK350, BYK377, BYK378, BYK350, BYK377, BYK378, BYK350, BYK377, BYK378, BYK31 , Disparon 1860, Disparon 1934, Disparon DA-400N, Disparon DA-703-50, Disparon DA-725, Disparon DA-705, Disparon DA-7301, Disparon DN-900, Disparon NS-5210, Disparon NVI-8514L, Hip Rad ED-152, Hiplard ED-216, Hiplard ED-251, Hiplard ED-360 (Kusumoto Kasei Co., Ltd.), FTX-207S, FTX-212P, FTX-220P, FTX-220S, FTX-228P, FTX -710LL, FTX-750LL, Futagent 212P, Futagent 220P, Futagent 222F, Futagent 228P, Futagent 245F, Futagent 245P, Futagent 250, Futagent 251, Futagent 710FM, Futagent 730FM, Futagent 730LL , Futergent 730LS, Futergent 750DM, Futergent 750FM (manufactured by Neos Co., Ltd.), AS-1100, AS-1800, AS-2000 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), Kaosera 2000, Kaosera 2100, KDH-154, MX- 2045L, Homogenol L-18, Homogenol L-95, Leodor SP-010V, Leodor SP-030V, Leodor SP-L10, Leodor SP-P10 (manufactured by Kao Co., Ltd.), Evan U103, Cyanol DC902B, Neugen EA-167, Bry Surf A219B, Brisurf AL (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Megafuck F-477, Megafuck 480SF, Megafuck F-482, (manufactured by DIC Co., Ltd.), Silface SAG503A, Dynol 604 (Nisshin Kagaku Kogyo) SN Spurs 2180, SN Spurs 2190, SN Leveler S-906 (manufactured by Sannopco Co., Ltd.), S-386, S-420 (AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) (Made by a company) can be exemplified.

<熱可塑性樹脂>
熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・EPDM・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ4フッ化エチレン樹脂、4フッ化エチレン・6フッ化プロピレン共重合樹脂、4フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、4フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ3フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン4,6、ナイロン6、ナイロン6,6、ナイロン6,10、ナイロン6,12、ナイロン12、ナイロン6,T、ナイロン9,T、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂2種以上を混合させたものであっても良い。
<Thermoplastic resin>
Examples of the thermoplastic resin include high-density polyethylene resin, low-density polyethylene resin, linear low-density polyethylene resin, ultra-low-density polyethylene resin, polypropylene resin, polybutadiene resin, cyclic olefin resin, polymethylpentene resin, polystyrene resin, and ethylene acetate. Vinyl copolymer, ionomer resin, ethylene vinyl alcohol copolymer resin, ethyl ethylene acrylate copolymer, acrylonitrile / styrene resin, acrylonitrile / chlorinated polystyrene / styrene copolymer resin, acrylonitrile / acrylic rubber / styrene copolymer resin, acrylonitrile / butadiene -Steryl copolymer resin, acrylonitrile / EPDM / styrene copolymer resin, silicone rubber / acrylonitrile / styrene copolymer resin, cellulose acetate / butyrate resin, cellulose acetate resin, methacryl resin, ethylene / methyl methacrylate copolymer resin, ethylene / ethyl acrylate Resin, vinyl chloride resin, chlorinated polyethylene resin, polytetrafluoroethylene resin, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer resin, tetrafluoride ethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin, tetrafluoride ethylene / ethylene Copolymer resin, polytrifluorinated ethylene chloride resin, polyfluorinated vinylidene resin, nylon 4,6, nylon 6, nylon 6,6, nylon 6,10, nylon 6,12, nylon 12, nylon 6, T, nylon 9 , T, aromatic nylon resin, polyacetal resin, ultrahigh molecular weight polyethylene resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, amorphous copolyester resin, polycarbonate resin, modified polyphenylene ether resin, thermoplastic polyurethane elastomer , Polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, liquid crystal polymer, polytetrafluoroethylene resin, polyfluoroalkoxy resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, polyketone resin, thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin, polyallylate resin, polysulfon Examples thereof include, but are not limited to, resins, polyether sulfone resins, biodegradable resins, and biomass resins. Further, it may be a mixture of two or more of these resins.

<界面活性剤>
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、親油性非イオン界面活性剤、親水性非イオン界面活性剤等を挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物の総質量に対して、界面活性剤の含有量は0〜20質量%、好ましくは5〜15質量%である。
(アニオン性界面活性剤)
アニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸セッケン(例えば、ラウリン酸ナトリウム、パルミチン酸ナトリウム等);高級アルキル硫酸エステル塩(例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム等);アルキルエーテル硫酸エステル塩(例えば、POE−ラウリル硫酸トリエタノールアミン、POE−ラウリル硫酸ナトリウム等);N−アシルサルコシン酸(例えば、ラウロイルサルコシンナトリウム等);高級脂肪酸アミドスルホン酸塩(例えば、N‐ステアロイルーNーメチルタウリンナトリウム、N−ミリストイル−N−メチルタウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸メチルタウリッドナトリウム、ラウリルメチルタウリッドナトリウム等);リン酸エステル塩(POE−オレイルエーテルリン酸ナトリウム、POE−ステアリルエーテルリン酸等);スルホコハク酸塩(例えば、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、モノラウロイルモノエタノールアミドポリオキシエチレンスルホコハク酸ナトリウム、ラウリルポリプロピレングリコールスルホコハク酸ナトリウム等);アルキルベンゼンスルホン酸塩(例えば、リニアドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、リニアドデシルベンゼンスルホン酸トリエタノールアミン、リニアドデシルベンゼンスルホン酸等);高級脂肪酸エステル硫酸エステル塩(例えば、硬化ヤシ油脂肪酸グリセリン硫酸ナトリウム等);N−アシルグルタミン酸塩(例えば、N−ラウロイルグルタミン酸モノナトリウム、N−ステアロイルグルタミン酸ジナトリウム、N−ミリストイル−L−グルタミン酸モノナトリウム等);硫酸化油(例えば、ロート油等);POE−アルキルエーテルカルボン酸;POE−アルキルアリルエーテルカルボン酸塩;α−オレフィンスルホン酸塩;高級脂肪酸エステルスルホン酸塩;二級アルコール硫酸エステル塩;高級脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩;ラウロイルモノエタノールアミドコハク酸ナトリウム;N−パルミトイルアスパラギン酸ジトリエタノールアミン;カゼインナトリウム等を使用することができる。
(カチオン性界面活性剤)
カチオン界面活性剤としては、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム塩(例えば、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム等);アルキルピリジニウム塩(例えば、塩化セチルピリジニウム等);塩化ジステアリルジメチルアンモニウムジアルキルジメチルアンモニウム塩;塩化ポリ(N,N’−ジメチル−3,5−メチレンピペリジニウム);アルキル四級アンモニウム塩;アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩;アルキルイソキノリニウム塩;ジアルキルモリホニウム塩;POE−アルキルアミン;アルキルアミン塩;ポリアミン脂肪酸誘導体;アミルアルコール脂肪酸誘導体;塩化ベンザルコニウム;塩化ベンゼトニウム等が挙げられる。
(両性界面活性剤)
シル−N,N,N−(ヒドロキシエチルカルボキシメチル)−2−イミダゾリンナトリウム、2−ココイル−2−イミダゾリニウムヒドロキサイド−1−カルボキシエチロキシ2ナトリウム塩等);ベタイン系界面活性剤(例えば、2−ヘプタデシル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキルベタイン、アミドベタイン、スルホベタイン等)等が挙げられる。
(親油性非イオン界面活性剤)
親油性非イオン界面活性剤としては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル(例えば、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンモノイソステアレート、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート、ペンタ−2−エチルヘキシル酸ジグリセロールソルビタン、テトラ−2−エチルヘキシル酸ジグリセロールソルビタン等);グリセリンポリグリセリン脂肪酸(例えば、モノ綿実油脂肪酸グリセリン、モノエルカ酸グリセリン、セスキオレイン酸グリセリン、モノステアリン酸グリセリン、α,α'−オレイン酸ピログルタミン酸グリセリン、モノステアリン酸グリセリンリンゴ酸等);プロピレングリコール脂肪酸エステル(例えば、モノステアリン酸プロピレングリコール等);硬化ヒマシ油誘導体;グリセリンアルキルエーテル等が挙げられる。
(親水性非イオン界面活性剤)
親水性非イオン界面活性剤としては、例えば、POE−ソルビタン脂肪酸エステル(例えば、POE−ソルビタンモノオレエート、POE−ソルビタンモノステアレート、POE−ソルビタンモノオレエート、POE−ソルビタンテトラオレエート等);POE−ソルビット脂肪酸エステル(例えば、POE−ソルビットモノラウレート、POE−ソルビットモノオレエート、POE−ソルビットペンタオレエート、POE−ソルビットモノステアレート等);POE−グリセリン脂肪酸エステル(例えば、POE−グリセリンモノステアレート、POE−グリセリンモノイソステアレート、POE−グリセリントリイソステアレート等のPOE−モノオレエート等);POE−脂肪酸エステル(例えば、POE−ジステアレート、POE−モノジオレエート、ジステアリン酸エチレングリコール等);POE−アルキルエーテル(例えば、POE−ラウリルエーテル、POE−オレイルエーテル、POE−ステアリルエーテル、POE−ベヘニルエーテル、POE−2−オクチルドデシルエーテル、POE−コレスタノールエーテル等);プルロニック(登録商標)型(例えば、プルロニック(登録商標)等);POE・POP−アルキルエーテル(例えば、POE・POP−セチルエーテル、POE・POP−2−デシルテトラデシルエーテル、POE・POP−モノブチルエーテル、POE・POP−水添ラノリン、POE・POP−グリセリンエーテル等);テトラPOE・テトラPOP−エチレンジアミン縮合物(例えば、テトロニック等);POE−ヒマシ油硬化ヒマシ油誘導体(例えば、POE−ヒマシ油、POE−硬化ヒマシ油、POE−硬化ヒマシ油モノイソステアレート、POE−硬化ヒマシ油トリイソステアレート、POE−硬化ヒマシ油モノピログルタミン酸モノイソステアリン酸ジエステル、POE−硬化ヒマシ油マレイン酸等);POE−ミツロウ・ラノリン誘導体(例えば、POE−ソルビットミツロウ等);アルカノールアミド(例えば、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ラウリン酸モノエタノールアミド、脂肪酸イソプロパノールアミド等);POE−プロピレングリコール脂肪酸エステル;POE−アルキルアミン;POE−脂肪酸アミド;ショ糖脂肪酸エステル;アルキルエトキシジメチルアミンオキシド;トリオレイルリン酸等が挙げられる。
本発明の分散液の総質量に対して、界面活性剤の含有量は0〜20質量%、好ましくは5〜15質量%である。
<Surfactant>
Examples of the surfactant include anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, lipophilic nonionic surfactants, hydrophilic nonionic surfactants and the like. The content of the surfactant is 0 to 20% by mass, preferably 5 to 15% by mass, based on the total mass of the resin composition of the present invention.
(Anionic surfactant)
Examples of the anionic surfactant include fatty acid sulphates (eg, sodium laurate, sodium palmitate, etc.); higher alkyl sulfates (eg, sodium lauryl sulfate, potassium lauryl sulfate, etc.); alkyl ether sulfates (eg, sodium lauryl sulfate, etc.). , POE-sodium lauryl sulfate triethanolamine, POE-sodium lauryl sulfate, etc.); N-acylsarcosic acid (eg, sodium lauroyl sarcosin, etc.); higher fatty acid amide sulfonate (eg, N-stearoyl-N-methyltaurine sodium, N) -Millistoyl-N-methyl taurine sodium, coconut oil fatty acid methyl taurid sodium, lauryl methyl taurid sodium, etc.); Phosphate ester salts (POE-oleyl ether phosphate sodium, POE-stearyl ether phosphoric acid, etc.); (For example, sodium di-2-ethylhexyl sulfosuccinate, monolauroyl monoethanolamide polyoxyethylene sulfosuccinate, sodium lauryl polypropylene glycol sulfosuccinate, etc.); Triethanolamine sulfonic acid, linear dodecylbenzene sulfonic acid, etc.); Higher fatty acid ester sulfate ester salt (for example, cured coconut oil fatty acid sodium glycerin sulfate, etc.); N-acylglutamate (for example, monosodium N-lauroyl glutamate, N- Disodium stearoyl glutamate, monosodium N-myristoyl-L-glutamate, etc.); Sulfated oil (eg, funnel oil, etc.); POE-alkyl ether carboxylic acid; POE-alkylallyl ether carboxylic acid salt; α-olefin sulfonate Higher fatty acid ester sulfonate; Secondary alcohol sulfate ester salt; Higher fatty acid alkylolamide sulfate ester salt; Sodium lauroyl monoethanolamide succinate; N-palmitoyl aspartate ditriethanolamine; Sodium caseinate and the like can be used. ..
(Cationic surfactant)
Examples of the cationic surfactant include alkyltrimethylammonium salts (eg, stearyltrimethylammonium chloride, lauryltrimethylammonium chloride, etc.); alkylpyridinium salts (eg, cetylpyridinium chloride, etc.); distearyldimethylammonium chloride dialkyldimethylammonium salts; Polychloride (N, N'-dimethyl-3,5-methylenepiperidinium); alkyl quaternary ammonium salt; alkyldimethylbenzylammonium salt; alkylisoquinolinium salt; dialkylmoriphonium salt; POE-alkylamine; Examples thereof include alkylamine salts; polyamine fatty acid derivatives; ammonium alcohol fatty acid derivatives; benzalconium chloride; benzethonium chloride and the like.
(Amphoteric surfactant)
Syl-N, N, N- (hydroxyethylcarboxymethyl) -2-imidazolin sodium, 2-cocoyl-2-imidazolinium hydroxide-1-carboxyethyroxy disodium salt, etc.); Betaine-based surfactant (eg, betaine-based surfactant) , 2-Heptadecyl-N-carboxymethyl-N-hydroxyethyl imidazolinium betaine, lauryldimethylaminoacetic acid betaine, alkyl betaine, amide betaine, sulfobetaine, etc.) and the like.
(Lipophilic nonionic surfactant)
Examples of the lipophilic nonionic surfactant include sorbitan fatty acid esters (for example, sorbitan monooleate, sorbitan monoisostearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan sesquioleate, and sorbitan. Trioleate, penta-2-ethylhexylate diglycerol sorbitan, tetra-2-ethylhexylate diglycerol sorbitan, etc.); , Α, α'-Glycerin pyroglutamate oleate, glycerin malic acid monostearate, etc.); propylene glycol fatty acid ester (for example, propylene glycol monostearate, etc.); cured castor oil derivative; glycerin alkyl ether and the like.
(Hydrophilic nonionic surfactant)
Examples of the hydrophilic nonionic surfactant include POE-sorbitan fatty acid esters (eg, POE-sorbitan monooleate, POE-sorbitan monostearate, POE-sorbitan monooleate, POE-sorbitan tetraoleate, etc.); POE-Solbit fatty acid esters (eg, POE-Solbit monolaurate, POE-Solbit monooleate, POE-Solbit pentaoleate, POE-Solbit monostearate, etc.); POE-glycerin fatty acid esters (eg, POE-glycerin mono) POE-monooleates such as stearate, POE-glycerin monoisostearate, POE-glycerin triisostearate, etc.; POE-fatty acid esters (eg, POE-distearate, POE-monodiolate, ethylene glycol distearate, etc.); POE- Alkyl ethers (eg POE-lauryl ethers, POE-oleyl ethers, POE-stearyl ethers, POE-behenyl ethers, POE-2-octyldodecyl ethers, POE-cholestanol ethers, etc.); Pluronic® type (eg, registered trademarks). Pluronic (registered trademark), etc.); POE / POP-alkyl ether (eg, POE / POP-cetyl ether, POE / POP-2-decyltetradecyl ether, POE / POP-monobutyl ether, POE / POP-hydrous lanolin, etc. POE / POP-glycerin ether, etc.); Tetra POE / tetra POP-ethylenediamine condensate (eg, Tetronic, etc.); Hardened castor oil monoisostearate, POE-hardened castor oil triisostearate, POE-hardened castor oil monopyroglutamic acid monoisostearic acid diester, POE-cured castor oil maleic acid, etc.); POE-mituro lanolin derivative (eg, POE-Sorbit Mitsurou, etc.); Alcanolamide (eg, coconut oil fatty acid diethanolamide, lauric acid monoethanolamide, fatty acid isopropanolamide, etc.); POE-propylene glycol fatty acid ester; POE-alkylamine; POE-fatty acid amide; sucrose fatty acid Examples include ester; alkylethoxydimethylamine oxide; trioleyl phosphate and the like.
The content of the surfactant is 0 to 20% by mass, preferably 5 to 15% by mass, based on the total mass of the dispersion liquid of the present invention.

<粉体>
粉体としては成分(A)ルチル型酸化チタン中空粒子とは別に通常の樹脂組成物に使用されるものであればその形状(球状、針状、板状、等)や粒子径(煙霧状、微粒子、顔料級等)、粒子構造(多孔質、無孔質等)を問わず、使用することができるが、例えば以下に挙げるもののうち1種又は2種以上を使用することができる。無機粉体として、例えば酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、タルク、合成雲母、マイカ、カオリン、セリサイト、白雲母、合成雲母、金雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、ヒドロキシアパタイト、バーミキュライト、ハイジライト、モンモリロナイト、ゼオライト、セラミックスパウダー、第二リン酸カルシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ボロン等;有機粉体として、例えばポリアミドパウダー、ポリエステルパウダー、ポリエチレンパウダー、ポリプロピレンパウダー、ポリスチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、ベンゾグアナミンパウダー、ポリメチルベンゾグアナミンパウダー、テトラフルオロエチレンパウダー、ポリメチルメタクリレートパウダー、セルロースパウダー、シルクパウダー、ナイロンパウダー、12ナイロンパウダー、6ナイロンパウダー、スチレン・アクリル酸共重合体パウダー、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体パウダー、ビニル樹脂パウダー、尿素樹脂パウダー、フェノール樹脂パウダー、フッ素樹脂パウダー、ケイ素樹脂パウダー、アクリル樹脂パウダー、メラミン樹脂パウダー、エポキシ樹脂パウダー、ポリカーボネイト樹脂パウダー、微結晶繊維パウダー、ラウロイルリジン等;有色顔料として、例えば酸化鉄、水酸化鉄、チタン酸鉄の無機赤色顔料、γ−酸化鉄等の無機褐色系顔料、黄酸化鉄、黄土等の無機黄色系顔料、黒酸化鉄、カーボンブラック等の無機黒色顔料、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット等の無機紫色顔料、水酸化クロム、酸化クロム、酸化コバルト、チタン酸コバルト等の無機緑色顔料、紺青、群青等の無機青色系顔料、タール系色素をレーキ化したもの、天然色素をレーキ化したもの、及びこれらの粉体を複合化した複合粉体等;パール顔料として、例えば酸化チタン被覆雲母、酸化チタン被覆マイカ、オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆タルク、魚鱗箔、酸化チタン被覆着色雲母等;金属粉末顔料として、例えばアルミニウムパウダー、カッパーパウダー、ステンレスパウダー等;タール色素として、例えば赤色3号、赤色104号、赤色106号、赤色201号、赤色202号、赤色204号、赤色205号、赤色220号、赤色226号、赤色227号、赤色228号、赤色230号、赤色401号、赤色505号、黄色4号、黄色5号、黄色202号、黄色203号、黄色204号、黄色401号、青色1号、青色2号、青色201号、青色404号、緑色3号、緑色201号、緑色204号、緑色205号、橙色201号、橙色203号、橙色204号、橙色206号、橙色207号等;天然色素として、例えばカルミン酸、ラッカイン酸、カルサミン、ブラジリン、クロシン等が挙げられる。なお、これらの粉体を複合化したり、油剤やシリコーン、又はフッ素化合物等で表面処理を行った粉体を用いても良い。
<Powder>
As the powder, if it is used in a normal resin composition in addition to the component (A) rutile-type titanium oxide hollow particles, its shape (spherical, needle-like, plate-like, etc.) and particle size (smoke-like, fumes-like, etc.) It can be used regardless of the particle structure (porous, non-porous, etc.) (fine particles, pigment grade, etc.), and for example, one or more of the following can be used. As inorganic powders, for example, magnesium oxide, barium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, talc, synthetic mica, mica, kaolin, sericite, white mica, synthetic mica, gold mica, red mica, black mica , Lithia mica, silicic acid, silicic anhydride, aluminum silicate, magnesium silicate, aluminum magnesium silicate, calcium silicate, barium silicate, strontium silicate, metal tungstate, hydroxyapatite, vermiculite, hygilite, montmorillonite , Zeolite, ceramics powder, dicalcium phosphate, alumina, aluminum hydroxide, boron nitride, boron nitride, etc .; as organic powder, for example, polyamide powder, polyester powder, polyethylene powder, polypropylene powder, polystyrene powder, polyurethane powder, benzoguanamine powder, Polymethylbenzoguanamine powder, tetrafluoroethylene powder, polymethylmethacrylate powder, cellulose powder, silk powder, nylon powder, 12 nylon powder, 6 nylon powder, styrene / acrylic acid copolymer powder, divinylbenzene / styrene copolymer powder, Vinyl resin powder, urea resin powder, phenol resin powder, fluororesin powder, silicon resin powder, acrylic resin powder, melamine resin powder, epoxy resin powder, polycarbonate resin powder, microcrystalline fiber powder, lauroyl lysine, etc .; Inorganic red pigments such as iron oxide, iron hydroxide and iron titanate, inorganic brown pigments such as γ-iron oxide, inorganic yellow pigments such as yellow iron oxide and ocher, inorganic black pigments such as black iron oxide and carbon black, Inorganic purple pigments such as manganese violet and cobalt violet, inorganic green pigments such as chromium hydroxide, chromium oxide, cobalt oxide and cobalt titanate, inorganic blue pigments such as dark blue and ultramarine, raked tar pigments, natural Laked dyes, composite powders obtained by combining these powders, etc .; as pearl pigments, for example, titanium oxide-coated mica, titanium oxide-coated mica, bismuth oxychloride, titanium oxide-coated bismuth oxychloride, titanium oxide-coated Talk, fish scale foil, titanium oxide coated colored mica, etc .; as a metal powder pigment, for example, aluminum powder, copper powder, stainless powder, etc .; as a tar pigment, for example. Red 3, Red 104, Red 106, Red 201, Red 202, Red 204, Red 205, Red 220, Red 226, Red 227, Red 228, Red 230, Red 401, Red 505, Yellow 4, Yellow 5, Yellow 202, Yellow 203, Yellow 204, Yellow 401, Blue 1, Blue 2, Blue 201, Blue 404, Green 3 , Green No. 201, Green No. 204, Green No. 205, Orange No. 201, Orange No. 203, Orange No. 204, Orange No. 206, Orange No. 207, etc .; And so on. It should be noted that these powders may be composited, or a powder whose surface has been surface-treated with an oil agent, silicone, a fluorine compound, or the like may be used.

<水溶性高分子>
水溶性高分子としては、天然、合成のいずれであっても用いることができ、また併用することも可能である。
天然の水溶性高分子としては、例えば、植物系高分子(例えば、アラビアガム、トラガカントガム、ガラクタン、グアガム、キャロブガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、カンテン、クインスシード(マルメロ)、アルゲコロイド(カッソウエキス)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ)、グリチルリチン酸);微生物系高分子(例えば、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、ブルラン等);動物系高分子(例えば、コラーゲン、カゼイン、アルブミン、ゼラチン等)等が挙げられる。
合成の水溶性高分子としては、例えば、デンプン系高分子(例えば、カルボキシメチルデンプン、メチルヒドロキシプロピルデンプン等);セルロース系高分子(メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セルロース末等);アルギン酸系高分子(例えば、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル等)、ビニル系高分子(例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー等);ポリオキシエチレン系高分子(例えば、ポリエチレングリコール20,000、40,000、60,0000のポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等);アクリル系高分子(例えば、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポリアクリルアミド等);ポリエチレンイミン;カチオンポリマー等が挙げられる。
<Water-soluble polymer>
As the water-soluble polymer, either natural or synthetic can be used, and it is also possible to use them in combination.
Natural water-soluble polymers include, for example, plant-based polymers (eg, arabic gum, tragacanth gum, galactan, guagam, carob gum, karaya gum, carrageenan, pectin, canten, quince seed (malmero), algae colloid (cassaw extract), starch. (Rice, corn, potato, wheat), glycyrrhizinic acid); Micromolecular macromolecules (eg, xanthan gum, dextran, succinoglucan, burran, etc.); Animal macromolecules (eg, collagen, casein, albumin, gelatin, etc.), etc. Can be mentioned.
Examples of the synthetic water-soluble polymer include starch-based polymers (for example, carboxymethyl starch, methyl hydroxypropyl starch, etc.); cellulose-based polymers (methyl cellulose, ethyl cellulose, methyl hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, sodium cellulose sulfate, etc.). Hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium carboxymethyl cellulose, crystalline cellulose, cellulose powder, etc.); alginic acid-based polymers (eg, sodium alginate, propylene glycol alginate, etc.), vinyl-based polymers (eg, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, etc.) Polyvinylpyrrolidone, carboxyvinyl polymer, etc.); Polyoxyethylene polymer (eg, polyethylene glycol 20,000, 40,000, 60,000 polyoxyethylene polyoxypropylene copolymer, etc.); Acrylic polymer (eg, polyethylene glycol 20,000, 40,000, 60,000, etc.); , Polyacrylate sodium, polyethyl acrylate, polyacrylamide, etc.); Polyethyleneimine; Cationic polymer and the like.

<紫外線吸収剤>
紫外線吸収剤としては、例えば、安息香酸系紫外線吸収剤(例えば、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略す)、PABAモノグリセリンエステル、N,N−ジプロポキシPABAエチルエステル、N,N−ジエトキシPABAエチルエステル、N,N−ジメチルPABAエチルエステル、N,N−ジメチルPABAブチルエステル、N,N−ジメチルPABAエチルエステル等);アントラニル酸系紫外線吸収剤(例えば、ホモメンチル−N−アセチルアントラニレート等);サリチル酸系紫外線吸収剤(例えば、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p−イソプロパノールフェニルサリシレート等);桂皮酸系紫外線吸収剤(例えば、オクチルメトキシシンナメート、エチル−4−イソプロピルシンナメート、メチル−2,5−ジイソプロピルシンナメート、エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、メチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−p−メトキシシンナメート、イソプロピル−p−メトキシシンナメート、イソアミル−p−メトキシシンナメート、オクチル−p−メトキシシンナメート(2−エチルヘキシル−p−メトキシシンナメート)、2−エトキシエチル−p−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−p−メトキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、2−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−2−エチルヘキサノイル−ジパラメトキシシンナメート等);ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸塩、4−フェニルベンゾフェノン、2−エチルヘキシル−4’−フェニル−ベンゾフェノン−2−カルボキシレート、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン等);3−(4’−メチルベンジリデン)−d,l−カンファー、3−ベンジリデン−d,l−カンファー;2−フェニル−5−メチルベンゾキサゾール;2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール;2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール;ジベンザラジン;ジアニソイルメタン;4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン;5−(3,3−ジメチル−2−ノルボルニリデン)−3−ペンタン−2−オン、ジモルホリノピリダジノ;2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート;2,4−ビス−{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−(1,3,5)−トリアジン等が挙げられる。
<UV absorber>
Examples of the ultraviolet absorber include benzoic acid-based ultraviolet absorbers (for example, paraaminobenzoic acid (hereinafter abbreviated as PABA), PABA monoglycerin ester, N, N-dipropoxy PABA ethyl ester, N, N-diethoxyPABA ethyl ester). , N, N-dimethyl PABA ethyl ester, N, N-dimethyl PABA butyl ester, N, N-dimethyl PABA ethyl ester, etc.); Anthranilic acid-based ultraviolet absorber (for example, homomentyl-N-acetylanthranilate, etc.); Salicylic acid-based UV absorbers (eg, amylsalicylate, menthylsalicylate, homomentylsalicylate, octyl salicylate, phenylsalicylate, benzyl salicylate, p-isopropanol phenylsalicylate, etc.); -4-Isopropyl cinnamate, methyl-2,5-diisopropyl cinnamate, ethyl-2,4-diisopropyl cinnamate, methyl-2,4-diisopropyl cinnamate, propyl-p-methoxy cinnamate, isopropyl-p-methoxy Synnamete, isoamyl-p-methoxycinnamate, octyl-p-methoxycinnamate (2-ethylhexyl-p-methoxycinnamate), 2-ethoxyethyl-p-methoxycinnamate, cyclohexyl-p-methoxycinnamate, ethyl -Α-Cyano-β-phenylcinnamate, 2-ethylhexyl-α-cyano-β-phenylcinnamate, glycerylmono-2-ethylhexanoyl-diparamethoxycinnamate, etc.; benzophenone-based ultraviolet absorbers (for example, 2,4-Dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2- Hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-4'-methylbenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate, 4-phenylbenzophenone, 2-ethylhexyl-4'-phenyl- Benzophenone-2-carboxylate, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 4-hydroxy-3-carboxybenzophenone, etc.); 3- (4'-methylbenzylidene) -d, l-campayl, 3 -Benzylidene-d, l-Phenyl; 2-phenyl-5-methylbenzoxazole; 2,2'-hydroxy-5-methylphenylbenzotriazole; 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) Benzotriazole; 2- (2'-hydroxy-5-methylphenylbenzotriazole;dibenzalazine;dianisoilmethane;4-methoxy-4'-t-butyldibenzoylmethane; 5- (3,3-dimethyl-2-norbornylidene) ) -3-Pentan-2-one, dimorpholinopyridadino; 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate; 2,4-bis-{[4- (2-ethylhexyloxy) -2- Hydroxy] -phenyl} -6- (4-methoxyphenyl)-(1,3,5) -triazine and the like can be mentioned.

<金属イオン封鎖剤>
金属イオン封鎖剤としては、例えば、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジフォスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジフォスホン酸四ナトリウム塩、エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、エデト酸四ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸、リン酸、クエン酸、アスコルビン酸、コハク酸、エデト酸、エチレンジアミンヒドロキシエチル三酢酸3ナトリウム等が挙げられる。
<Sequestrant>
Examples of the metal ion sequestering agent include 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid tetrasodium salt, disodium edetate, trisodium edetate, and tetrasodium edetate. , Sodium citrate, sodium polyphosphate, sodium metaphosphate, gluconic acid, phosphoric acid, citric acid, ascorbic acid, succinic acid, edetic acid, trisodium ethylenediaminehydroxyethyl triacetate and the like.

<アミノ酸>
アミノ酸としては、例えば、中性アミノ酸(例えば、スレオニン、システイン等);塩基性アミノ酸(例えば、ヒドロキシリジン等)等が挙げられる。また、アミノ酸誘導体として、例えば、アシルサルコシンナトリウム(ラウロイルサルコシンナトリウム)、アシルグルタミン酸塩、アシルβ−アラニンナトリウム、グルタチオン、ピロリドンカルボン酸等が挙げられる。
<Amino acid>
Examples of amino acids include neutral amino acids (eg, threonine, cysteine, etc.); basic amino acids (eg, hydroxylysine, etc.) and the like. Examples of the amino acid derivative include acyl sarcosine sodium (lauroyl sarcosine sodium), acyl glutamate, acyl β-alanine sodium, glutathione, pyrrolidone carboxylic acid and the like.

<有機アミン>
有機アミンとしては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、トリイソプロパノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール等が挙げられる。
<Organic amine>
Examples of the organic amine include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, morpholine, triisopropanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 2-amino-2-methyl-1-propanol and the like. Can be mentioned.

<高分子エマルジョン>
高分子エマルジョンとしては、例えば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリアクリル酸エチルエマルジョン、アクリルレジン液、ポリアクリルアルキルエステルエマルジョン、ポリ酢酸ビニル樹脂エマルジョン、天然ゴムラテックス等が挙げられる。
<Polymer emulsion>
Examples of the polymer emulsion include an acrylic resin emulsion, an ethyl polyacrylate emulsion, an acrylic resin solution, a polyacrylic alkyl ester emulsion, a polyvinyl acetate resin emulsion, and a natural rubber latex.

<pH調整剤>
pH調整剤としては、例えば、乳酸−乳酸ナトリウム、クエン酸−クエン酸ナトリウム、コハク酸−コハク酸ナトリウム等の緩衝剤等が挙げられる。
<pH adjuster>
Examples of the pH adjuster include buffers such as lactic acid-sodium lactate, citric acid-sodium citrate, and succinic acid-sodium succinate.

<酸化防止剤>
酸化防止剤としては、例えば、トコフェロール類、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、没食子酸エステル類等が挙げられる。
<Antioxidant>
Examples of the antioxidant include tocopherols, dibutylhydroxytoluene, butylhydroxyanisole, gallic acid esters and the like.

<酸化防止助剤>
酸化防止助剤としては、例えば、リン酸、クエン酸、アスコルビン酸、マレイン酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、ケファリン、ヘキサメタフォスフェイト、フィチン酸、エチレンジアミン四酢酸等が挙げられる。
<Antioxidant aid>
Examples of the antioxidant aid include phosphoric acid, citric acid, ascorbic acid, maleic acid, malonic acid, succinic acid, fumaric acid, kephalin, hexametaphosphate, phytic acid, ethylenediaminetetraacetic acid and the like.

[用途]
本発明の樹脂組成物は、例えば発光装置用部材、光散乱用膜、量子ドットカラーレジスト、遮光レジスト、電子部品用接着剤等として非常に有用である。
例えば、発光装置用部材としては、本発明の樹脂組成物を硬化した硬化膜は、中空構造粒子の粒子径と中空径を調整することで特に青色を選択的に散乱できるので、効率的な発光装置用部材となる。特に液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等の表示装置用途として好適に用いられる。
光散乱用膜は、本発明の樹脂組成物中のルチル型酸化チタン中空粒子が、形状と粒子径において均一である為、均一な散乱光を発生させる層を形成することができ有用である。
量子ドットカラーレジストは、本発明の樹脂組成物中の中空粒子が、光源から出た光を多重散乱させることで量子ドットへ光を効率的に誘導し、発光強度を高めることができ、且つ通常の酸化チタン粒子よりも沈降安定性に優れる為有用である。
遮光レジストは、本発明の樹脂組成物中の中空粒子による多重散乱によって、効率的に遮光するので、マイクロLED等の遮光隔壁剤として有用である。
[Use]
The resin composition of the present invention is very useful as, for example, a member for a light emitting device, a film for light scattering, a quantum dot color resist, a light-shielding resist, an adhesive for electronic parts, and the like.
For example, as a member for a light emitting device, a cured film obtained by curing the resin composition of the present invention can selectively scatter blue color by adjusting the particle size and the hollow diameter of the hollow structure particles, so that efficient light emission can be achieved. It becomes a member for the device. In particular, it is suitably used for display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays.
The light scattering film is useful because the rutile-type titanium oxide hollow particles in the resin composition of the present invention are uniform in shape and particle size, so that a layer that generates uniform scattered light can be formed.
In the quantum dot color resist, the hollow particles in the resin composition of the present invention can efficiently guide the light to the quantum dots by multiplely scattering the light emitted from the light source, and can increase the emission intensity, and are usually used. It is useful because it has better sedimentation stability than the titanium oxide particles of.
The light-shielding resist is useful as a light-shielding partition agent for micro LEDs and the like because it efficiently blocks light by multiple scattering by hollow particles in the resin composition of the present invention.

[硬化膜]
上記用途のうち、フィルム(膜)として使用する用途においては、本発明の樹脂組成物を硬化してなる硬化膜が非常に有用である。この硬化膜の製造方法としては、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター、スクリーン印刷、ディスペンサー、カーテンコーター、ディップコーター、インクジェット、ラミネート等の転写法等で塗工した後、紫外線照射機により100〜10000mJ/cm、より好ましくは1000〜6000mJ/cm程度の紫外線を照射させて光硬化させ、または50〜200℃、より好ましくは80〜130℃程度で、0.1時間〜5時間、より好ましくは0.5〜2時間程度熱硬化させ、または上記光硬化と熱硬化を併用することで製造できる。
[Cured film]
Among the above applications, a cured film obtained by curing the resin composition of the present invention is very useful in the application used as a film. Examples of the method for producing this cured film include comma coaters, spray coaters, roll coaters, knife coaters, bar coaters, spin coaters, die coaters, microgravure coaters, screen printing, dispensers, curtain coaters, dip coaters, inkjets, and laminates. After coating by a transfer method or the like, it is photo-cured by irradiating it with ultraviolet rays of about 100 to 10,000 mJ / cm 2 , more preferably about 1000 to 6000 mJ / cm 2, or 50 to 200 ° C., more preferably 80. It can be produced by thermosetting at about 130 ° C. for 0.1 hour to 5 hours, more preferably about 0.5 to 2 hours, or by using the above photocuring and thermosetting in combination.

[樹脂組成物の製造方法]
本発明の樹脂組成物を得る方法の一例としては、次に示す方法がある。まず必要に応じて用いる(B)成分、(D)成分、その他成分を混合溶解する。必要であれば加熱溶解しても良い。次いで(A)成分、(C)成分を添加し、公知の混合装置、例えば3本ロール、サンドミル、ボールミル等により均一に混合し、金属メッシュにて濾過することにより本発明の樹脂組成物を製造することができる。
[Manufacturing method of resin composition]
As an example of the method for obtaining the resin composition of the present invention, there is the following method. First, the component (B), the component (D), and other components used as necessary are mixed and dissolved. If necessary, it may be melted by heating. Next, the components (A) and (C) are added, and the mixture is uniformly mixed by a known mixing device such as a 3-roll, sand mill, ball mill or the like, and filtered through a metal mesh to produce the resin composition of the present invention. can do.

以下、実施例、比較例により本発明を詳細に説明する。尚、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
実施例において、1回の合成操作等で目的とする物質の量が得られなかったときは、目的とする物質の量が得られるまで、その合成操作等を繰り返し行った。
中空構造粒子の1次粒子径、及びその中空構造の内径、中空構造粒子作製後の崩壊状態は、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製、JEM−2800)を用いて測定した。
また、ルチル型酸化チタンの含有率は、粉末X線回析装置(スペクトリス株式会社製、X’Pert PRO)を用い、下記式(1)に従って算出した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.
In the examples, when the amount of the target substance could not be obtained by one synthesis operation or the like, the synthesis operation or the like was repeated until the amount of the target substance was obtained.
The primary particle diameter of the hollow structure particles, the inner diameter of the hollow structure, and the collapsed state after the production of the hollow structure particles were measured using a transmission electron microscope (JEM-2800, manufactured by JEOL Ltd.).
The content of rutile-type titanium oxide was calculated according to the following formula (1) using a powder X-ray diffractometer (X'Pert PRO manufactured by Spectris Co., Ltd.).

下記式(1)中の略号等は、以下の意味を有する。
:ルチル型酸化チタンの含有率(質量%)
(101):粉末X線回折装置で測定したアナターゼ型結晶の(101)面の強度
(110):粉末X線回折装置で測定したルチル型結晶の(110)面の強度
The abbreviations and the like in the following formula (1) have the following meanings.
F R: the content of the rutile type titanium oxide (wt%)
I A (101): the intensity of the measured powder X-ray diffractometer anatase crystal (101) plane I R (110): the intensity of the (110) plane of the measured rutile crystals by X-ray powder diffractometer

[式1]

Figure 2021113305
[Equation 1]
Figure 2021113305

[テンプレート粒子のエタノール分散液(分散液1)の調製]
蒸留水600gにスチレン21g、メタクリル酸2.4g、及び過硫酸カリウム0.05gを加え、80℃で乳化重合を行い、スチレン−メタクリル酸ポリマー粒子を含有する水分散液を得た。得られたテンプレート粒子の1次粒子径は237nmであった。テンプレート粒子の水分散液をエバポレータで濃縮しながらエタノールを加え、水をエタノールで置換することにより、分散液1を調製した。分散液1中のテンプレート粒子の含有率は9質量%であった。
[Preparation of ethanol dispersion (dispersion 1) of template particles]
21 g of styrene, 2.4 g of methacrylic acid, and 0.05 g of potassium persulfate were added to 600 g of distilled water and emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. to obtain an aqueous dispersion containing styrene-methacrylic acid polymer particles. The primary particle size of the obtained template particles was 237 nm. The dispersion liquid 1 was prepared by adding ethanol while concentrating the aqueous dispersion liquid of the template particles with an evaporator and replacing the water with ethanol. The content of the template particles in the dispersion liquid 1 was 9% by mass.

[合成例1]
(工程1:コア/シェル粒子を得る工程)
エタノール20g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液1(5g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド3g、オルトケイ酸テトラエチル0.1g、及び1%水酸化カリウム水溶液3gを3回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、コア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液を15000rpm、25分間の条件で遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とするコア/シェル粒子2.0gを得た。
[Synthesis Example 1]
(Step 1: Step of obtaining core / shell particles)
20 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 1 (5 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 3 g of titanium tetrabutoxide, 0.1 g of tetraethyl orthosilicate, and 3 g of a 1% potassium hydroxide aqueous solution were added in 3 portions every 0.5 hours, and the mixture was reacted at 10 ° C. for 4 hours to form core /. A liquid containing shell particles was obtained. The obtained liquid was centrifuged at 15,000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 2.0 g of the target core / shell particles. rice field.

(工程2:コア/シェル粒子を焼成し、テンプレート粒子を除去するととともに中空粒子を得る工程)
工程1で得たコア/シェル粒子2.0gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、空気雰囲気下、1000℃で1時間焼成することにより、合成例1の中空粒子0.7gを得た。
(Step 2: A step of firing core / shell particles to remove template particles and obtain hollow particles)
2.0 g of the core / shell particles obtained in step 1 was placed on a ceramic board, set in a firing furnace, and fired at 1000 ° C. for 1 hour in an air atmosphere to obtain 0.7 g of hollow particles of Synthesis Example 1. ..

[合成例2]
合成例1で使用したチタニウムテトラブトキシドを7g、オルトケイ酸テトラエチルを0.6gに変更した以外は、合成例1と同様にして酸化チタン―シリカ中空構造粒子を得た(アナターゼ型)。
[Synthesis Example 2]
Titanium oxide-silica hollow structure particles were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the titanium tetrabutoxide used in Synthesis Example 1 was changed to 7 g and tetraethyl orthosilicate was changed to 0.6 g (anathase type).

合成例1及び2で得られた粒子の物性値等を下記表1に示す。 The physical characteristics of the particles obtained in Synthesis Examples 1 and 2 are shown in Table 1 below.

Figure 2021113305
Figure 2021113305

[実施例1]
合成例1で作製した中空構造粒子2.5g、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート(日本化薬株式会社製、KAYARAD DPHA)7g、光反応開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製、Irgacure 184)0.5g、分散剤としてDISPERBYK−168(ビックケミー・ジャパン株式会社製)0.2g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 10gを混合し、分散機(プライミクス株式会社製、フィルミックス)を用いて分散液1を作製した。
[Example 1]
2.5 g of hollow structure particles prepared in Synthesis Example 1, 7 g of dipentaerythritol poly (meth) acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD DPHA), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by BASF) as a photoreaction initiator. Irgacure 184) 0.5 g, DISPERBYK-168 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) 0.2 g as a dispersant, and 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent are mixed, and a disperser (manufactured by Primix Corporation, Philmix) is used. The dispersion liquid 1 was prepared.

分散した分散液を1日間静置した後、ガラス基板上にスピンコーターを用いて、加熱処理後の膜厚が10μmとなるように塗布し、ホットプレートを用いて100℃で2分間乾燥させた。次いでUV照射することで本発明の硬化膜1を作製した。 After allowing the dispersed dispersion to stand for 1 day, it was applied onto a glass substrate using a spin coater so that the film thickness after heat treatment was 10 μm, and dried at 100 ° C. for 2 minutes using a hot plate. .. Next, the cured film 1 of the present invention was produced by UV irradiation.

[実施例2]
実施例1で使用した中空構造粒子を合成例2の中空構造粒子に変更した以外は実施例1と同様に分散液2、硬化膜2を作製した。
[Example 2]
The dispersion liquid 2 and the cured film 2 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the hollow structure particles used in Example 1 were changed to the hollow structure particles of Synthesis Example 2.

[比較例1]
比較例として実施例1で使用した中空構造粒子1を酸化チタン微粒子(石原産業株式会社製、CR−50)に変更した以外は、実施例1と同様に分散液3と硬化膜3を作製した。
[Comparative Example 1]
As a comparative example, the dispersion liquid 3 and the cured film 3 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the hollow structure particles 1 used in Example 1 were changed to titanium oxide fine particles (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., CR-50). ..

[分散液安定性]
作製した分散液を1日静置した後、分散液中の沈降性と再分散性、また硬化膜については膜の外観について以下の方法で評価した。

沈降性
〇:分散液全体が均一な白色を呈する。
△:分散液の上層部が一部グラデーション状に分離している。
×:分散液の上層部が完全に分離している。

再分散性
〇:分散液が入った容器を数回振る再分散する。
△:分散液が入った容器を数回振ると一部底に残る。
×:分散液が入った容器を数回振っても底一面に残る。
[Dispersion stability]
After allowing the prepared dispersion to stand for one day, the sedimentation property and redispersibility in the dispersion, and the appearance of the cured film were evaluated by the following methods.

Precipitability 〇: The entire dispersion liquid exhibits a uniform white color.
Δ: The upper layer of the dispersion liquid is partially separated in a gradation pattern.
X: The upper layer of the dispersion is completely separated.

Redispersible <br/> ○: redispersed shaking several times vessel containing dispersion.
Δ: When the container containing the dispersion liquid is shaken several times, a part of the container remains at the bottom.
X: Even if the container containing the dispersion liquid is shaken several times, it remains on the entire bottom surface.

[硬化膜外観]
〇:膜中に酸化チタンが均一に分散し、膜の外観が均一である。
×:膜中に酸化チタンの濃度ムラが見られ、膜の外観が均一ではない。
[Appearance of cured film]
〇: Titanium oxide is uniformly dispersed in the film, and the appearance of the film is uniform.
X: The concentration of titanium oxide is uneven in the film, and the appearance of the film is not uniform.

Figure 2021113305
Figure 2021113305

表2から明らかなように本発明の樹脂組成物は沈降安定性が高いので均一な硬化膜を作製することが可能である。 As is clear from Table 2, the resin composition of the present invention has high sedimentation stability, so that a uniform cured film can be produced.

なお上記12)〜21)に記載の発明によれば、沈降安定性及び粒子強度に優れ、例えば粉末化粧料として使用した場合に光輝性、光沢性に優れ、また着色剤として含有させた場合に隠ぺい性が良好な白インクを得ることが可能なルチル型酸化チタン中空粒子を提供することができる。これは、以下の課題を解決できるものである。
すなわち、シリカや金属酸化物を含有する中空粒子は、白色顔料等としての応用が期待されている。しかし、本発明者らが確認したところ、従来の中空粒子は、沈降安定性及び粒子強度に改善の余地があることが判明した。
沈降安定性に劣る中空粒子を例えば白色顔料として用いて白インクを調製した場合、分散状態が容易に壊れ、顔料が沈降した状態になりやすい。このため、白インクの使用前には、沈降した顔料を撹拌等の操作により均一な分散状態に戻す必要があり、操作性が悪い。
また、中空粒子の粒子強度が低いと、分散液を調製するときに中空粒子が壊れて中空状態が維持できなくなる。このため、中空粒子であることに起因する良好な分散安定性を得ることが困難となる。また、分散液の調製時に中空粒子が壊れると、分散液中に様々な大きさの粒子が生じるため、粒度分布の小さい、均一な1次粒子径を有する分散液を調製することが困難となる。その結果、隠ぺい性が良好な白インクを得ることが困難となる。
そこで、10)〜20)に記載の発明は、沈降安定性及び粒子強度に優れ、隠ぺい性が良好な中空粒子、その中空粒子含有する分散液、及びその用途を提供することを課題とする。
According to the inventions described in 12) to 21) above, it is excellent in sedimentation stability and particle strength, for example, when it is used as a powder cosmetic, it is excellent in brilliance and glossiness, and when it is contained as a colorant. It is possible to provide rutile-type titanium oxide hollow particles capable of obtaining a white ink having good hiding power. This can solve the following problems.
That is, hollow particles containing silica or metal oxide are expected to be applied as white pigments and the like. However, as confirmed by the present inventors, it was found that the conventional hollow particles have room for improvement in sedimentation stability and particle strength.
When a white ink is prepared by using hollow particles having poor sedimentation stability, for example, as a white pigment, the dispersed state is easily broken and the pigment is likely to be in a sedimented state. Therefore, before using the white ink, it is necessary to return the precipitated pigment to a uniformly dispersed state by an operation such as stirring, which is poor in operability.
Further, if the particle strength of the hollow particles is low, the hollow particles are broken when the dispersion liquid is prepared, and the hollow state cannot be maintained. Therefore, it is difficult to obtain good dispersion stability due to the hollow particles. Further, if the hollow particles are broken during the preparation of the dispersion, particles of various sizes are generated in the dispersion, which makes it difficult to prepare a dispersion having a small particle size distribution and a uniform primary particle size. .. As a result, it becomes difficult to obtain a white ink having good hiding power.
Therefore, it is an object of the inventions described in 10) to 20) to provide hollow particles having excellent sedimentation stability and particle strength and good hiding properties, a dispersion liquid containing the hollow particles, and its use.

21)に記載の白インク、及びその他の用途の例として化粧料について以下記載する。
<白インク>
上記分散液を用いて、白インクを製造することができる。以下に白インクについて説明する。
本実施形態に係る白インクは、上述した本実施形態に係る中空粒子を着色剤として含有する。本実施形態に係る白インクは、水性インク、ラテックスインク、ソルベントインク、及び紫外線硬化型インクよりなる群から選択されるインクとして使用できる。このような各種のインクは、着色剤としての中空粒子とともに、各インクに必要な成分を適宜加えることにより調製することができる。
なお、白インク用途として用いるルチル型酸化チタン中空粒子は、中空粒子の中空径をA、中空粒子の粒子径をBとしたとき、A/Bの値が0.1以上0.3未満である場合が好ましい。すなわち粒子径の70%以上がルチル型酸化チタンの殻であり、内部に中空を有する構造である。このA/Bの値として好ましい上限は0.29であり、0.28が更に好ましく、0.25が特に好ましい。また好ましい下限としては、0.12であり、0.14が更に好ましく、0.16が特に好ましい。従って、0.16以上0.25以下が最も好ましい範囲である。
The white ink described in 21) and cosmetics as examples of other uses are described below.
<White ink>
White ink can be produced by using the above dispersion liquid. The white ink will be described below.
The white ink according to the present embodiment contains the above-mentioned hollow particles according to the present embodiment as a colorant. The white ink according to the present embodiment can be used as an ink selected from the group consisting of water-based ink, latex ink, solvent ink, and ultraviolet curable ink. Such various inks can be prepared by appropriately adding necessary components to each ink together with hollow particles as a colorant.
The rutile-type titanium oxide hollow particles used for white ink have an A / B value of 0.1 or more and less than 0.3 when the hollow diameter of the hollow particles is A and the particle diameter of the hollow particles is B. The case is preferable. That is, 70% or more of the particle size is a rutile-type titanium oxide shell, and the structure has a hollow inside. The preferable upper limit of the A / B value is 0.29, more preferably 0.28, and particularly preferably 0.25. The preferable lower limit is 0.12, more preferably 0.14, and particularly preferably 0.16. Therefore, 0.16 or more and 0.25 or less is the most preferable range.

[ラテックスインク]
本実施形態に係る白インクをラテックスインクとする場合、白インクは、水、水溶性有機溶剤、及び樹脂を含有することが好ましい。白インク中の樹脂は、乳濁又は懸濁した状態とすることもできる。
水及び水溶性有機溶剤としては、水性インクが含有するものと同じものが挙げられる。
[Latex ink]
When the white ink according to the present embodiment is a latex ink, the white ink preferably contains water, a water-soluble organic solvent, and a resin. The resin in the white ink can also be in an emulsified or suspended state.
Examples of the water and the water-soluble organic solvent include those contained in the water-based ink.

樹脂としては、水溶性ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等、これらの変性樹脂等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂、水溶性ポリウレタン系樹脂、水溶性ポリエステル系樹脂、水溶性アクリル系樹脂等が好ましい。 Examples of the resin include water-soluble vinyl-based resins, acrylic-based resins, alkyd-based resins, polyester-based resins, phenoxy-based resins, polyolefin-based resins, and other modified resins. Among these, acrylic resins, water-soluble polyurethane resins, water-soluble polyester resins, water-soluble acrylic resins and the like are preferable.

[ソルベントインク]
本実施形態に係る白インクをソルベントインクとする場合、白インクは、分散剤及び非水系有機溶剤を含有することが好ましい。
[Solvent ink]
When the white ink according to the present embodiment is a solvent ink, the white ink preferably contains a dispersant and a non-aqueous organic solvent.

分散剤としては、日信化学工業株式会社製のソルバインシリーズ;共栄社化学株式会社製のフローレンシリーズ;ビックケミー・ジャパン株式会社製のANTI−TERRAシリーズ、DISPERBYKシリーズ;等が挙げられる。 Examples of the dispersant include a solvene series manufactured by Nisshin Kagaku Kogyo Co., Ltd .; a Floren series manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; an ANTI-TERRA series manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., a DISPERBYK series; and the like.

非水系有機溶剤としては、炭化水素系、エステル系、ケトン系等の各溶剤が挙げられる。炭化水素系溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等が挙げられる。エステル系溶剤としては、ギ酸プロピル、ギ酸−n−ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸−n−アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルイソアミル、酢酸第二ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸−n−ブチル、酪酸ブチル、酪酸エチル、乳酸メチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。ケトン系溶剤としては、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、メシチルケトン等が挙げられる。 Examples of the non-aqueous organic solvent include hydrocarbon-based, ester-based, and ketone-based solvents. Examples of the hydrocarbon solvent include n-hexane, n-heptane, n-octane, isooctane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene and the like. Examples of the ester solvent include propyl formate, -n-butyl formate, isobutyl formate, amyl formate, ethyl acetate, -n-propyl acetate, isopropyl acetate, -n-butyl acetate, isobutyl acetate, second butyl acetate and -n acetate. -Amil, isoamyl acetate, methyl isoamyl acetate, second hexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, -n-butyl propionate, butyl butylate, ethyl butyrate, methyl lactate, γ-butyrolactone and the like can be mentioned. Examples of the ketone solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, ethyl-n-butyl ketone, di-n-propyl ketone, mesityl ketone and the like.

[紫外線硬化型インク]
本実施形態に係る白インクを紫外線硬化型インクとする場合、白インクは、硬化型モノマー又は硬化型オリゴマー、及び光硬化開始剤を含有することが好ましい。また、白インクは、光硬化増感剤をさらに含有していてもよい。
[UV curable ink]
When the white ink according to the present embodiment is an ultraviolet curable ink, the white ink preferably contains a curable monomer or a curable oligomer, and a photocuring initiator. Further, the white ink may further contain a photocuring sensitizer.

本明細書において「硬化型モノマー」とは、外部から刺激を与えることによって重合し、硬化物を形成するモノマーを意味する。また、「硬化型オリゴマー」とは、外部から刺激を与えることによって重合し、硬化した樹脂を形成するオリゴマーを意味する。
硬化型モノマーとしては、ラジカル重合タイプの低粘度アクリルモノマー;いずれもカチオン重合タイプのビニルエーテル類、オキセタン系モノマー、環状脂肪族エポキシモノマー;などが挙げられる。
硬化型オリゴマーとしては、カチオン重合タイプのアクリル系オリゴマーが挙げられる。
As used herein, the term "curable monomer" means a monomer that polymerizes by applying an external stimulus to form a cured product. Further, the "curable oligomer" means an oligomer that polymerizes by applying an external stimulus to form a cured resin.
Examples of the curable monomer include radical polymerization type low-viscosity acrylic monomers; cationic polymerization type vinyl ethers, oxetane-based monomers, cyclic aliphatic epoxy monomers, and the like.
Examples of the curable oligomer include cationic polymerization type acrylic oligomers.

低粘度アクリルモノマーとしては、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、3−クロロー2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、β−カルボキシエチルアクリレート、アクリロイルモルフォリン、ダイアセトンアクリルアマイド、ビニルホルムアミド、N−ビリルピロリドン、ネオペンチルグリコールジメタクリレート2POネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、変性エポキシ化ポリエチレングリコールジアクリレート、アクリル酸−2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。 Examples of the low-viscosity acrylic monomer include methoxypolyethylene glycol acrylate, phenoxyethylene glycol acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxyhexaethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, β-carboxyethyl acrylate, and acryloyl. Morforin, diacetone acrylic amide, vinylformamide, N-virylpyrrolidone, neopentyl glycol dimethacrylate 2PO neopentyl glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, Glycerin dimethacrylate, glycerin acrylate methacrylate, modified epoxidized polyethylene glycol diacrylate, -2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate, ethoxylated trimethyl propantriacrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, EO-modified trimethyl propanthry Examples include acrylate.

ビニルエーテル類としては、ヒドロキシブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、プロピレンカーボネートのプロペニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキサンビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ノナジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、VEEAアクリル酸−2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、又はVEEMメタクリル酸−2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル等が挙げられる。 Examples of vinyl ethers include hydroxybutyl vinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, propylene carbonate propenyl ether, dodecyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, cyclohexanevinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, and dipropylene. Glycol divinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, octadecyl vinyl ether, butanediol divinyl ether, isopropyl vinyl ether, allyl vinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, nonadiol divinyl ether, cyclohexanediol vinyl ether, cyclohexanedimethanol Vinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, trimethylpropan trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, VEEA -2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate, VEEM -2-vinyloxyethoxy) ethyl, etc. Can be mentioned.

オキタセン系モノマーとしては、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス[((3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ)メチル]ベンゼン、3−エチル−3−[((3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン等が挙げられる。 Examples of oxetane-based monomers include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis [((3-ethyloxetane-3-yl) methoxy) methyl] benzene, and 3-ethyl-3-[((3-ethyloxetane-3-yl) methoxy) methyl] benzene. Ethyloxetane-3-yl) methoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane and the like can be mentioned.

環状脂肪族エポキシモノマーとしては、Celloxide 2000、Celloxide 3000(株式会社ダイセル製);CYRACURE UVR−6015、CYRACURE UVR−6028、CYRACURE UVR−6105、CYRACURE UVR−6128、CYRACURE ERL−4140、及びそれらの誘導体(ダウ・ケミカル社製);DCPD−EP及びその誘導体(丸善石油化学株式会社製);などが挙げられる。 As the cyclic aliphatic epoxy monomer, Celloxide 2000, Celloxide 3000 (manufactured by Daicel Co., Ltd.); CYRACURE UVR-6015, CYRACURE UVR-6028, CYRACURE UVR-6105, CYRACURE UVR-6128, CYRACURE ERR-4 Dow Chemical Co., Ltd.); DCPD-EP and its derivatives (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.); and the like.

アクリル系オリゴマーとしては、ハイパーブランチ型ポリエステルアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。 Examples of the acrylic oligomer include hyperbranched polyester acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, and epoxy acrylate.

光重合開始剤としては、特に限定されず、公知の光重合開始剤を目的に応じて使用できる。その具体例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシフォスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキシド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュアー184;BASF社製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー(エサキュアONE;ランバルティ社製)、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(イルガキュアー2959;BASF社製)、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(イルガキュアー127;BASF社製)、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(イルガキュアー651;BASF社製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(ダロキュア1173;BASF社製)、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン(イルガキュアー907;BASF社製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。 The photopolymerization initiator is not particularly limited, and a known photopolymerization initiator can be used depending on the intended purpose. Specific examples thereof include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexylphenylketone (Irgacure 184; manufactured by BASF), 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-Methylvinyl) phenyl] propanol oligomer (Esacure ONE; manufactured by Lamberti), 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one ( Irga Cure 2959; manufactured by BASF), 2-Hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one (Irga) Cure 127; BASF), 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (Irgacure 651; BASF), 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (DaroCure 1173; BASF) 2-Methyl-1- [4- (Methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropane-1-one (Irgacure 907; manufactured by BASF), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4) -Molholinophenyl) -butane-1-one, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone and the like.

これらの中でも、硬化性及び透明性の観点から、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンが好ましい。 Among these, from the viewpoint of curability and transparency, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1 -Propane-1-one is preferred.

また、光重合開始剤は、分子内水素引き抜き型光重合開始剤であってもよい。分子内水素引き抜き型光重合開始剤としては、オキシフェニルアセチックアシッドメチルエステル(イルガキュアーMBF;BASF社製)、オキシフェニル酢酸、2−[2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステルとオキシフェニル酢酸、2−(2−ヒドロキシ−エトキシ)エチルエステルとの混合物(イルガキュアー754;BASF社製)等のオキシフェニル系光重合開始剤などが挙げられる。 Further, the photopolymerization initiator may be an intramolecular hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Intramolecular hydrogen abstraction type photopolymerization initiators include oxyphenyl acetic acid methyl ester (Irgacure MBF; manufactured by BASF), oxyphenyl acetic acid, 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester and oxy. Examples thereof include an oxyphenyl-based photopolymerization initiator such as a mixture of phenylacetic acid and 2- (2-hydroxy-ethoxy) ethyl ester (Irgacure 754; manufactured by BASF).

なお、アミン類等の光重合開始助剤を光重合開始剤と併用することもできる。アミン類等としては、安息香酸2−ジメチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。 A photopolymerization initiator such as amines can also be used in combination with the photopolymerization initiator. Examples of amines include benzoic acid 2-dimethylaminoethyl ester, dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester and the like.

[調製方法等]
本実施形態に係る白インクは、水、非水水溶性溶剤等の目的とする液媒体に中空粒子を加え、公知の方法で分散することによって調製することができる。分散方法としては、例えば、着色剤と分散剤とを高速撹拌ホモジナイザー、サンドミル(ビーズミル)、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、超音波分散機、マイクロフルイダイザー等に入れて、分散を行う方法が挙げられる。一例として、サンドミルを用いるときは、粒子径が0.01mm〜1mm程度のビーズを使用し、ビーズの充填率を適宜設定して分散処理を行うことができる。
[Preparation method, etc.]
The white ink according to the present embodiment can be prepared by adding hollow particles to a target liquid medium such as water or a water-insoluble water-soluble solvent and dispersing them by a known method. Examples of the dispersion method include a method in which a colorant and a dispersant are placed in a high-speed stirring homogenizer, a sand mill (bead mill), a roll mill, a ball mill, a paint shaker, an ultrasonic disperser, a microfluidizer, or the like to perform dispersion. .. As an example, when a sand mill is used, beads having a particle size of about 0.01 mm to 1 mm can be used, and the filling rate of the beads can be appropriately set to perform the dispersion treatment.

このようにして得られた分散液に対して、濾過、遠心分離等の操作を行ってもよい。この操作により、分散液に含まれる粒子の粒子径の大きさを揃えることができる。 The dispersion liquid thus obtained may be subjected to operations such as filtration and centrifugation. By this operation, the size of the particle size of the particles contained in the dispersion liquid can be made uniform.

上述した全ての成分は、1種類を単独で使用してもよく、また2種類以上を併用してもよい。
また、上述した全ての事項等について、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましく、より好ましいもの同士の組み合わせはさらに好ましい。好ましいものとより好ましいものとの組み合わせ、より好ましいものとさらに好ましいものとの組み合わせ等についても同様である。
All of the above-mentioned components may be used alone or in combination of two or more.
Further, with respect to all the above-mentioned matters, the combination of preferable ones is more preferable, and the combination of more preferable ones is further preferable. The same applies to a combination of a preferable one and a more preferable one, a combination of a more preferable one and a more preferable one, and the like.

<化粧料>
本発明のルチル型酸化チタン中空粒子を用いて、化粧料を製造することができる。以下に化粧料について説明する。
上記ルチル型酸化チタン中空粒子に対し、例えば、エステル、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤、保湿剤、水溶性高分子、増粘剤、皮膜剤、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、低級アルコール、多価アルコール、糖、アミノ酸、有機アミン、高分子エマルジョン、pH調整剤、皮膚栄養剤、ビタミン、酸化防止剤、酸化防止助剤、香料、水等を必要に応じて適宜配合し、目的とする剤形に応じて常法により製造することができる。
本発明のルチル型酸化チタン中空粒子を用いた化粧料は、肌や唇の色のコントロールおよび/または着色、および/または紫外線遮蔽を目的とする種々の用途に用いることができる。当該化粧料としては、固形化粧料、液状化粧料、また粉末化粧料のいずれであっても良い。
液状化粧料としては、例えば、化粧水、乳液、ジェル、クリーム、美容液、日焼け止め用化粧料、パック、マスク、ハンドクリーム、ボディローション、及びボディークリームのような基礎化粧料;並びに洗顔料、クレンジング(メイク落とし)、ボディーシャンプー、シャンプー、リンス、及びトリートメントのような洗浄用化粧料などが挙げられる。また、例えば、化粧水とクレンジングを兼ねたいわゆるクレンジングローションや、クレンジングミルク、クレンジングクリームなど、基礎化粧料と洗浄用化粧料の機能を兼ねた化粧料組成物としてもよい。さらには、本発明の化粧料組成物は、リンスオフ(すすぎ流す)タイプとしてもよく、リーブオン(すすぎ流さずそのまま)タイプとしてもよい。
また、固形化粧料としては、例えば、ルースパウダー型の化粧料;容器に充填後に、圧縮成型するか、または溶剤を除去することによって形成される固形粉末化粧料;練り状物を容器に流し込むことによって形成される練り状化粧料;スティック型の化粧料;等が挙げられる。具体的には、ファンデーション、スティックファンデーション、おしろい、口紅、ほお紅、アイカラー、アイブロウ、化粧下地、日中用美容液、サンスクリ
ーン、コンシーラー、ブロンザー、リップカラー、BBクリーム等が挙げられる。
粉末化粧料の製品形態としては、粉末化粧料の範疇のあらゆる製品形態をとることが可能である。具体的には、ファンデーション、アイシャドウ、チークカラー、ボディーパウダー、パフュームパウダー、ベビーパウダー、プレスドパウダー、デオドラントパウダー、おしろい等の製品形態をとることができる。
<Cosmetics>
Cosmetics can be produced using the rutile-type hollow titanium oxide particles of the present invention. The cosmetics will be described below.
For the rutyl-type hollow titanium oxide particles, for example, esters, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, nonionic surfactants, moisturizers, water-soluble polymers, thickeners, coating agents, UV absorbers, metal ion blockers, lower alcohols, polyhydric alcohols, sugars, amino acids, organic amines, high molecular weight emulsions, pH adjusters, skin nutrients, vitamins, antioxidants, antioxidant aids, fragrances, water, etc. Can be appropriately blended as needed and produced by a conventional method according to the desired dosage form.
The cosmetics using the rutile-type titanium oxide hollow particles of the present invention can be used for various purposes for controlling the color of skin and lips and / or coloring and / or shielding ultraviolet rays. The cosmetic may be a solid cosmetic, a liquid cosmetic, or a powder cosmetic.
Liquid cosmetics include, for example, lotions, emulsions, gels, creams, beauty liquids, sunscreen cosmetics, packs, masks, hand creams, body lotions, and basic cosmetics such as body creams; and facial cleansers. Examples include cleansing (makeup remover), body shampoo, shampoo, rinse, and cleaning cosmetics such as treatments. Further, for example, a so-called cleansing lotion that also serves as a lotion and cleansing, a cleansing milk, a cleansing cream, or the like may be used as a cosmetic composition that also has the functions of a basic cosmetic and a cleaning cosmetic. Furthermore, the cosmetic composition of the present invention may be a rinse-off type or a leave-on type.
As the solid cosmetics, for example, loose powder type cosmetics; solid powder cosmetics formed by compression molding or removing the solvent after filling in a container; pouring a paste into a container. Kneaded cosmetics formed by; stick-type cosmetics; and the like. Specific examples include foundation, stick foundation, face powder, lipstick, blusher, eye color, eyebrow, makeup base, daytime beauty essence, sunscreen, concealer, bronzer, lip color, BB cream and the like.
As the product form of the powder cosmetics, any product form in the category of the powder cosmetics can be taken. Specifically, it can take product forms such as foundation, eye shadow, cheek color, body powder, perfume powder, baby powder, pressed powder, deodorant powder, and face powder.

以下11)の発明についての実施態様を、参考例として以下記載する。 Hereinafter, embodiments of the invention of 11) will be described below as reference examples.

[参考合成例1:テンプレート粒子のエタノール分散液(分散液1)の調製]
蒸留水600gにスチレン13.5g、メタクリル酸2.4g、及び過硫酸カリウム0.05gを加え、80℃で乳化重合を行い、スチレン−メタクリル酸ポリマー粒子(テンプレート粒子)を含有する水分散液を得た。得られたテンプレート粒子の1次粒子径は158nmであった。テンプレート粒子の水分散液をエバポレータで濃縮しながらエタノールを加え、水をエタノールで置換することにより、分散液1を調製した。分散液1中のテンプレート粒子の含有率は9質量%であった。
[Reference Synthesis Example 1: Preparation of Ethanol Dispersion Solution (Dispersion Solution 1) of Template Particles]
13.5 g of styrene, 2.4 g of methacrylic acid, and 0.05 g of potassium persulfate are added to 600 g of distilled water, emulsion polymerization is performed at 80 ° C., and an aqueous dispersion containing styrene-methacrylic acid polymer particles (template particles) is prepared. Obtained. The primary particle size of the obtained template particles was 158 nm. The dispersion liquid 1 was prepared by adding ethanol while concentrating the aqueous dispersion liquid of the template particles with an evaporator and replacing the water with ethanol. The content of the template particles in the dispersion liquid 1 was 9% by mass.

[参考実施例1]
(工程1:第1のコア/シェル粒子を得る工程)
エタノール23.5g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液1(1.5g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド50g及び2%アンモニア水15gを10回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、第1のコア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液は、単離及び精製することなく、次の工程2で使用した。
[Reference Example 1]
(Step 1: Step of obtaining first core / shell particles)
23.5 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 1 (1.5 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 50 g of titanium tetrabutoxide and 15 g of 2% aqueous ammonia were added in 10 portions every 0.5 hours and reacted at 10 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing the first core / shell particles. Obtained. The obtained solution was used in the next step 2 without isolation and purification.

(工程2:第2のコア/シェル粒子を得る工程)
工程1で得られた液に、オルトケイ酸テトラエチル1g及び蒸留水7gを25℃で加え、25℃で10時間反応させて液を得た。得られた液を15000rpmで25分間、遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とする第2のコア/シェル粒子30gを得た。
(Step 2: Step of obtaining second core / shell particles)
To the solution obtained in step 1, 1 g of tetraethyl orthosilicate and 7 g of distilled water were added at 25 ° C. and reacted at 25 ° C. for 10 hours to obtain a solution. The obtained liquid was centrifuged at 15000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 30 g of the target second core / shell particles. ..

(工程3:中空構造粒子を製造する工程)
工程2で得られた第2のコア/シェル粒子30gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、水素雰囲気下、800℃で1時間焼成した。水素雰囲気を空気雰囲気に置換した後、1000℃でさらに1時間焼成することにより、酸化チタン及びシリカを含有する実施例1の中空構造粒子16gを得た。
(Step 3: Step of manufacturing hollow structure particles)
30 g of the second core / shell particles obtained in step 2 was placed on a ceramic board, set in a firing furnace, and fired at 800 ° C. for 1 hour in a hydrogen atmosphere. After replacing the hydrogen atmosphere with an air atmosphere, the particles were calcined at 1000 ° C. for another 1 hour to obtain 16 g of hollow structure particles of Example 1 containing titanium oxide and silica.

[参考実施例2]
実施例1の工程2で使用したオルトケイ酸テトラエチル1gを5gに変更した以外は実施例1と同様にして、酸化チタン及びシリカを含有する実施例2の中空構造粒子30gを得た。
[Reference Example 2]
30 g of hollow structure particles of Example 2 containing titanium oxide and silica were obtained in the same manner as in Example 1 except that 1 g of tetraethyl orthosilicate used in Step 2 of Example 1 was changed to 5 g.

[参考実施例3]
実施例1の工程1で使用した分散液1(1.5g)を2.5gに変更した以外は実施例1と同様にして、酸化チタン及びシリカを含有する実施例3の中空構造粒子30gを得た。
[Reference Example 3]
30 g of hollow structure particles of Example 3 containing titanium oxide and silica were obtained in the same manner as in Example 1 except that the dispersion liquid 1 (1.5 g) used in step 1 of Example 1 was changed to 2.5 g. Obtained.

[参考合成例2:テンプレート粒子のエタノール分散液(分散液2)の調製]
蒸留水600gにスチレン10g、メタクリル酸1.4g、及び過硫酸カリウム0.05gを加え、90℃で乳化重合を行い、スチレン−メタクリル酸ポリマー粒子(テンプレート粒子)を含有する水分散液を得た。得られたテンプレート粒子の1次粒子径は112nmであった。テンプレート粒子の水分散液をエバポレータで濃縮しながらエタノールを加え、水をエタノールで置換することにより、分散液2を調製した。分散液2中のテンプレート粒子の含有率は6質量%であった。
[Reference Synthesis Example 2: Preparation of Ethanol Dispersion Solution (Dispersion Solution 2) of Template Particles]
10 g of styrene, 1.4 g of methacrylic acid, and 0.05 g of potassium persulfate were added to 600 g of distilled water and emulsion polymerization was carried out at 90 ° C. to obtain an aqueous dispersion containing styrene-methacrylic acid polymer particles (template particles). .. The primary particle size of the obtained template particles was 112 nm. The dispersion liquid 2 was prepared by adding ethanol while concentrating the aqueous dispersion liquid of the template particles with an evaporator and replacing the water with ethanol. The content of the template particles in the dispersion liquid 2 was 6% by mass.

[参考実施例4]
(工程1:第1のコア/シェル粒子を得る工程)
エタノール23.5g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液2(1g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド50g及び2%アンモニア水15gを10回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、第1のコア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液は、単離及び精製することなく、次の工程2で使用した。
[Reference Example 4]
(Step 1: Step of obtaining first core / shell particles)
23.5 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 2 (1 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 50 g of titanium tetrabutoxide and 15 g of 2% aqueous ammonia were added in 10 portions every 0.5 hours and reacted at 10 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing the first core / shell particles. Obtained. The obtained solution was used in the next step 2 without isolation and purification.

(工程2:第2のコア/シェル粒子を得る工程)
工程1で得られた液に、オルトケイ酸テトラエチル1g及び蒸留水7gを25℃で加え、25℃で10時間反応させて液を得た。得られた液を15000rpmで25分間、遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とする第2のコア/シェル粒子30gを得た。
(Step 2: Step of obtaining second core / shell particles)
To the solution obtained in step 1, 1 g of tetraethyl orthosilicate and 7 g of distilled water were added at 25 ° C. and reacted at 25 ° C. for 10 hours to obtain a solution. The obtained liquid was centrifuged at 15000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 30 g of the target second core / shell particles. ..

(工程3:中空構造粒子を製造する工程)
工程2で得られた第2のコア/シェル粒子30gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、水素雰囲気下、800℃で1時間焼成した。水素雰囲気を空気雰囲気に置換した後、1000℃でさらに1時間焼成することにより、酸化チタン及びシリカを含有する実施例4の中空構造粒子16gを得た。
(Step 3: Step of manufacturing hollow structure particles)
30 g of the second core / shell particles obtained in step 2 was placed on a ceramic board, set in a firing furnace, and fired at 800 ° C. for 1 hour in a hydrogen atmosphere. After replacing the hydrogen atmosphere with an air atmosphere, the particles were calcined at 1000 ° C. for another 1 hour to obtain 16 g of hollow structure particles of Example 4 containing titanium oxide and silica.

[参考比較例1]
[合成例3:テンプレート粒子のエタノール分散液(分散液3)の調製]
合成例1で使用したスチレン13.5gを21gに変更した以外は合成例1と同様にして、分散液3を調製した。得られたテンプレート粒子の1次粒子径は237nmであった。また、分散液3中のテンプレート粒子の含有量は9質量%であった。
[Reference Comparative Example 1]
[Synthesis Example 3: Preparation of Ethanol Dispersion Solution (Dispersion Solution 3) of Template Particles]
The dispersion liquid 3 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 13.5 g of styrene used in Synthesis Example 1 was changed to 21 g. The primary particle size of the obtained template particles was 237 nm. The content of the template particles in the dispersion liquid 3 was 9% by mass.

(工程1:第1のコア/シェル粒子を得る工程)
エタノール20g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液3(5g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド3g及び2%アンモニア水3gを3回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、第1のコア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液は、単離及び精製することなく、次の工程2で使用した。
(Step 1: Step of obtaining first core / shell particles)
20 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 3 (5 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 3 g of titanium tetrabutoxide and 3 g of 2% aqueous ammonia were added in 3 portions every 0.5 hours and reacted at 10 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing the first core / shell particles. Obtained. The obtained solution was used in the next step 2 without isolation and purification.

(工程2:第2のコア/シェル粒子を得る工程)
工程1で得られた液に、オルトケイ酸テトラエチル0.1g及び蒸留水7gを25℃で加え、25℃で10時間反応させて液を得た。得られた液を15000rpmで25分間、遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とする第2のコア/シェル粒子2.0gを得た。
(Step 2: Step of obtaining second core / shell particles)
To the liquid obtained in step 1, 0.1 g of tetraethyl orthosilicate and 7 g of distilled water were added at 25 ° C. and reacted at 25 ° C. for 10 hours to obtain a liquid. The obtained liquid was centrifuged at 15000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 2.0 g of the target second core / shell particles. Obtained.

(工程3:中空構造粒子を製造する工程)
工程2で得られた第2のコア/シェル粒子2.0gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、水素雰囲気下、800℃で1時間焼成し、続いて空気雰囲気下、800℃で1時間焼成することにより、酸化チタン及びシリカを含有する比較例1の中空構造粒子0.9gを得た。
(Step 3: Step of manufacturing hollow structure particles)
2.0 g of the second core / shell particles obtained in step 2 was placed on a ceramic board and set in a firing furnace, fired at 800 ° C. for 1 hour in a hydrogen atmosphere, and subsequently 1 at 800 ° C. in an air atmosphere. By firing for a time, 0.9 g of hollow structure particles of Comparative Example 1 containing titanium oxide and silica were obtained.

[参考比較例2]
[参考合成例3:テンプレート粒子のエタノール分散液(分散液3)の調製]
蒸留水600gにスチレン25g、メタクリル酸2.4g、及び過硫酸カリウム0.05gを加え、80℃で乳化重合を行い、スチレン−メタクリル酸ポリマー粒子(テンプレート粒子)を含有する水分散液を得た。得られたテンプレート粒子の1次粒子径は280nmであった。テンプレート粒子の水分散液をエバポレータで濃縮しながらエタノールを加え、水をエタノールで置換することにより、分散液3を調製した。分散液1中のテンプレート粒子の含有率は9質量%であった。
[Reference Comparative Example 2]
[Reference Synthesis Example 3: Preparation of Ethanol Dispersion Solution (Dispersion Solution 3) of Template Particles]
25 g of styrene, 2.4 g of methacrylic acid, and 0.05 g of potassium persulfate were added to 600 g of distilled water and emulsion polymerization was carried out at 80 ° C. to obtain an aqueous dispersion containing styrene-methacrylic acid polymer particles (template particles). .. The primary particle size of the obtained template particles was 280 nm. The dispersion liquid 3 was prepared by adding ethanol while concentrating the aqueous dispersion liquid of the template particles with an evaporator and replacing the water with ethanol. The content of the template particles in the dispersion liquid 1 was 9% by mass.

(工程1:第1のコア/シェル粒子を得る工程)
エタノール23.5g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液3(1.5g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド50g及び2%アンモニア水15gを10回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、第1のコア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液は、単離及び精製することなく、次の工程2で使用した。
(Step 1: Step of obtaining first core / shell particles)
23.5 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 3 (1.5 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 50 g of titanium tetrabutoxide and 15 g of 2% aqueous ammonia were added in 10 portions every 0.5 hours and reacted at 10 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing the first core / shell particles. Obtained. The obtained solution was used in the next step 2 without isolation and purification.

(工程2:第2のコア/シェル粒子を得る工程)
工程1で得られた液に、オルトケイ酸テトラエチル5g及び蒸留水7gを25℃で加え、25℃で10時間反応させて液を得た。得られた液を15000rpmで25分間、遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とする第2のコア/シェル粒子30gを得た。
(Step 2: Step of obtaining second core / shell particles)
To the solution obtained in step 1, 5 g of tetraethyl orthosilicate and 7 g of distilled water were added at 25 ° C. and reacted at 25 ° C. for 10 hours to obtain a solution. The obtained liquid was centrifuged at 15000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 30 g of the target second core / shell particles. ..

(工程3:中空構造粒子を製造する工程)
工程2で得られた第2のコア/シェル粒子30gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、水素雰囲気下、800℃で1時間焼成した。水素雰囲気を空気雰囲気に置換した後、1000℃でさらに1時間焼成することにより、酸化チタン及びシリカを含有する実施例1の中空構造粒子16gを得た。
(Step 3: Step of manufacturing hollow structure particles)
30 g of the second core / shell particles obtained in step 2 was placed on a ceramic board, set in a firing furnace, and fired at 800 ° C. for 1 hour in a hydrogen atmosphere. After replacing the hydrogen atmosphere with an air atmosphere, the particles were calcined at 1000 ° C. for another 1 hour to obtain 16 g of hollow structure particles of Example 1 containing titanium oxide and silica.

[参考比較例3]
(工程1:第1のコア/シェル粒子を得る工程)
エタノール23.5g、アセトニトリル8g、ポリビニルピロリドン0.1g、及び分散液2(0.5g)を10℃に冷却して液を得た。この液に、チタニウムテトラブトキシド70g及び2%アンモニア水14gを35回に分けて0.5時間おきに加え、10℃で4時間反応させることにより、第1のコア/シェル粒子を含有する液を得た。得られた液は、単離及び精製することなく、次の工程2で使用した。
[Reference Comparative Example 3]
(Step 1: Step of obtaining first core / shell particles)
23.5 g of ethanol, 8 g of acetonitrile, 0.1 g of polyvinylpyrrolidone, and dispersion liquid 2 (0.5 g) were cooled to 10 ° C. to obtain a liquid. To this solution, 70 g of titanium tetrabutoxide and 14 g of 2% aqueous ammonia were added in 35 portions every 0.5 hours and reacted at 10 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing the first core / shell particles. Obtained. The obtained solution was used in the next step 2 without isolation and purification.

(工程2:第2のコア/シェル粒子を得る工程)
工程1で得られた液に、オルトケイ酸テトラエチル10g及び蒸留水7gを25℃で加え、25℃で10時間反応させて液を得た。得られた液を15000rpmで25分間、遠心分離して上澄み液を除去し、残渣を60℃に加熱した減圧乾燥機で乾燥させることにより、目的とする第2のコア/シェル粒子44gを得た。
(Step 2: Step of obtaining second core / shell particles)
To the solution obtained in step 1, 10 g of tetraethyl orthosilicate and 7 g of distilled water were added at 25 ° C. and reacted at 25 ° C. for 10 hours to obtain a solution. The obtained liquid was centrifuged at 15000 rpm for 25 minutes to remove the supernatant, and the residue was dried in a vacuum dryer heated to 60 ° C. to obtain 44 g of the target second core / shell particles. ..

(工程3:中空構造粒子を製造する工程)
工程2で得られた第2のコア/シェル粒子30gをセラミックボードに載せて焼成炉にセットし、水素雰囲気下、800℃で1時間焼成した。水素雰囲気を空気雰囲気に置換した後、1000℃でさらに1時間焼成することにより、酸化チタン及びシリカを含有する実施例4の中空構造粒子26gを得た。
(Step 3: Step of manufacturing hollow structure particles)
30 g of the second core / shell particles obtained in step 2 was placed on a ceramic board, set in a firing furnace, and fired at 800 ° C. for 1 hour in a hydrogen atmosphere. After replacing the hydrogen atmosphere with an air atmosphere, the mixture was calcined at 1000 ° C. for another 1 hour to obtain 26 g of hollow structure particles of Example 4 containing titanium oxide and silica.

上述した各実施例及び各比較例で得た中空構造粒子等におけるシリカの含有率(モル%)、中空構造粒子の1次粒子径B(nm)、中空構造の内径A(nm)、その比A/B、ルチル型酸化チタンの含有率F(質量%)及び真球度を下記表1に示す。 Silica content (mol%) in the hollow structure particles obtained in each of the above-mentioned Examples and Comparative Examples, the primary particle diameter B (nm) of the hollow structure particles, the inner diameter A (nm) of the hollow structure, and the ratio thereof. a / B, the content of the rutile type titanium oxide F R (% by weight) and a sphericity shown in table 1 below.

Figure 2021113305
Figure 2021113305

表3よりA/Bが0.1より低い場合は中空構造を保持することができず、中空構造粒子を作製することができなかった。 As shown in Table 3, when A / B was lower than 0.1, the hollow structure could not be maintained and the hollow structure particles could not be produced.

[中空構造粒子の強度試験]
参考実施例2,3及び比較例1で製造した各中空構造粒子0.007gを蒸留水10mLに添加し、超音波浴(本多電子株式会社製、W−113MkII)で10分間超音波処理をして液を得た(強度試験前)。得られた液と、0.03mm径のジルコニアビーズ6gとをフィルミックス(プライミクス株式会社製、RM)に加え、回転数4000rpmで10分間運転させて液を得た(強度試験後)。
[Strength test of hollow structure particles]
0.007 g of each hollow structure particle produced in Reference Examples 2 and 3 and Comparative Example 1 was added to 10 mL of distilled water, and ultrasonically treated in an ultrasonic bath (manufactured by Honda Electronics Corporation, W-113MkII) for 10 minutes. To obtain a liquid (before the strength test). The obtained liquid and 6 g of zirconia beads having a diameter of 0.03 mm were added to Philmix (RM, manufactured by Primix Corporation) and operated at a rotation speed of 4000 rpm for 10 minutes to obtain a liquid (after the strength test).

強度試験前後で得られた各液に蒸留水を加えて10倍に希釈し、濁度測定を行った。濁度はTURB値として表示した。TURB値はカオリン標準溶液についての濃度である。下記式に従ってTURB値の変化率を算出し、中空構造粒子の強度を判定した。強度試験結果を下記表2に示す。なお、TURB値の変化率は、小数点以下1桁目を四捨五入して、下記表4中に記載した。
TURB値の変化率(%)=(強度試験後のTURB値(mg/L)/強度試験前のTURB値(mg/L))×100
Distilled water was added to each of the liquids obtained before and after the strength test to dilute them 10-fold, and the turbidity was measured. The turbidity was displayed as a TURB value. The TURB value is the concentration for the kaolin standard solution. The rate of change of the TURB value was calculated according to the following formula, and the strength of the hollow structure particles was determined. The strength test results are shown in Table 2 below. The rate of change of the TURB value is shown in Table 4 below, rounded off to the first decimal place.
Rate of change of TURB value (%) = (TURB value after intensity test (mg / L) / TURB value before intensity test (mg / L)) × 100

[細孔の有無の試験]
中空構造粒子の表面に、内部の空孔へと通じる細孔が存在するか否かを確認するため、細孔分布測定装置(マイクロトラック・ベル株式会社、BELSORP−miniII)を用いて相対圧力に対する吸着量及び脱着量を測定し、細孔が存在する場合はBJH(Barrett−Joyner−Halenda)法で解析し、細孔面積を求めた。
[Test for the presence or absence of pores]
In order to confirm whether or not there are pores leading to internal pores on the surface of the hollow structure particles, a pore distribution measuring device (Microtrac Bell Co., Ltd., BELSORP-miniII) is used for relative pressure. The amount of adsorption and the amount of desorption were measured, and if pores were present, they were analyzed by the BJH (Barrett-Joyner-Halenda) method to determine the pore area.

Figure 2021113305
Figure 2021113305

表4中のTURB値の変化率の結果から明らかなように、A/Bが0.3未満の中空構造粒子は、A/Bが0.3よりも大きい中空構造粒子よりも高い値となっていた。これは参考実施例2、3の中空構造粒子が、参考比較例1の中空構造粒子よりも中空構造を維持しているためである。
また、A/Bが0.3よりも大きい中空構造粒子は内部空孔へとつながる細孔が存在しており、液中に分散する場合、溶媒が中空構造粒子内部に侵入することにより沈降性改善が妨げられる。
本発明の中空構造粒子を利用することで、分散液、白インク及び化粧料を作製する際に分散混合時の中空構造崩壊を防ぐので、中空構造粒子本来の機能を発揮することができる。
As is clear from the results of the rate of change of the TURB value in Table 4, the hollow structure particles having an A / B of less than 0.3 have a higher value than the hollow structure particles having an A / B of more than 0.3. Was there. This is because the hollow structure particles of Reference Examples 2 and 3 maintain a hollow structure more than the hollow structure particles of Reference Comparative Example 1.
Further, the hollow structure particles having an A / B of more than 0.3 have pores leading to the internal pores, and when dispersed in the liquid, the solvent penetrates into the hollow structure particles to cause sedimentation. Improvement is hindered.
By using the hollow structure particles of the present invention, the hollow structure collapse during dispersion mixing is prevented when the dispersion liquid, the white ink and the cosmetic are prepared, so that the original functions of the hollow structure particles can be exhibited.

本発明の樹脂組成物は従来の酸化チタン微粒子を含むものと比較して、光散乱性等の従来の機能を保持しつつ沈降安定性に優れた樹脂組成物を提供することができる。 The resin composition of the present invention can provide a resin composition having excellent sedimentation stability while maintaining conventional functions such as light scattering property as compared with a conventional resin composition containing titanium oxide fine particles.

Claims (11)

(A)ルチル型酸化チタン中空粒子を含有する樹脂組成物。 (A) A resin composition containing rutile-type titanium oxide hollow particles. 更に(B)硬化性化合物、及び(C)硬化剤を含有する請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, further containing (B) a curable compound and (C) a curing agent. 更に(D)溶剤を含有する請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, further containing (D) a solvent. 前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子が、ルチル型酸化チタンとシリカを有する中空粒子である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles are hollow particles having rutile-type titanium oxide and silica. 前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の1次平均粒子径が、0.1〜1.0μmであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the primary average particle diameter of the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles is 0.1 to 1.0 μm. 前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の中空径A/粒子径Bの比が0.3〜0.95であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the ratio of the hollow diameter A / particle diameter B of the (A) rutile-type titanium oxide hollow particles is 0.3 to 0.95. thing. 前記(A)ルチル型酸化チタン中空粒子の形状が真球状であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the rutile-type titanium oxide hollow particles have a spherical shape. 前記(B)硬化性化合物が(B−1)熱硬化性樹脂、及び(B−2)光硬化性樹脂より選ばれる少なくとも1つの化合物である請求項1乃至7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The invention according to any one of claims 1 to 7, wherein the (B) curable compound is at least one compound selected from (B-1) thermosetting resin and (B-2) photocurable resin. Resin composition. 前記(C)硬化剤が(C−1)熱硬化剤、及び(C−2)ラジカル重合開始剤より選ばれる少なくとも1つの硬化剤である請求項1乃至8のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin according to any one of claims 1 to 8, wherein the (C) curing agent is at least one curing agent selected from (C-1) thermosetting agent and (C-2) radical polymerization initiator. Composition. 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の樹脂組成物を硬化してなる硬化膜。 A cured film obtained by curing the resin composition according to any one of claims 1 to 9. 請求項11に記載の硬化膜を有する表示装置。

A display device having the cured film according to claim 11.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114994981A (en) * 2022-06-14 2022-09-02 江苏弘德光电材料科技有限公司 Polarizing brightening adhesive film for liquid crystal display backlight module and preparation method thereof

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