JP2021110790A - Liquid crystal display device - Google Patents

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幹男 馬場
Mikio Baba
幹男 馬場
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Abstract

To improve display performance.SOLUTION: A liquid crystal display device includes: substrates 10, 11; a liquid crystal layer 12 sandwiched between the substrates 10, 11; an insulating film 14 provided on the substrate 10; a lower electrode 18 provided on the insulating film 14; an insulating film 20 provided on the lower electrode 18; an upper electrode 21 provided on the insulating film 20, arranged above the lower electrode 18, and extending in a direction oblique to a first direction; an alignment layer 23 provided on the insulating film 20 and the upper electrode 21, and subjected to rubbing processing in the first direction; a color filter 25 provided on the substrate 11; and an alignment layer 26 provided on the color filter 25. The thickness of the alignment layer 23 is at least 1.8 times and less than 3.3 times the thickness of the upper electrode 21.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device.

液晶表示装置については、高精細化、小型化、及び広視野角化が要求される。広視野角化を図る手段の1つとして、FFS(fringe field switching)方式の液晶表示装置が知られている。この液晶表示装置では、基板に平行な方向の電界、すなわち横電界を発生させ、この横電界で液晶分子を基板に平行な面内で回転させることで透過率を変化させる。横電界方式を用いることは、液晶表示装置において広視野角化等を実現することができるので有用である。 High-definition, miniaturized, and wide viewing angles are required for liquid crystal display devices. An FFS (fringe field switching) type liquid crystal display device is known as one of means for widening the viewing angle. In this liquid crystal display device, an electric field in a direction parallel to the substrate, that is, a transverse electric field is generated, and the transverse electric field causes the liquid crystal molecules to rotate in a plane parallel to the substrate to change the transmittance. It is useful to use the transverse electric field method because it is possible to realize a wide viewing angle and the like in the liquid crystal display device.

液晶表示装置の一対の基板には、ラビングによって液晶の配向方向を規制するための配向膜が設けられる。配向膜は、例えば布を巻き付けたローラ等でラビングされ、ラビング方向に液晶分子を配向させる。横電界方式を用いる液晶表示装置は、例えば、対向する一対の基板間に液晶層が挟持され、液晶層に電界を印加しない状態で黒表示となるノーマリーブラック方式である。一対の基板のうち一方の基板は、絶縁層を介して配置される上部電極と下部電極とを有している。上部電極の影響で配向膜の表面は凹凸を有する構造となる。 The pair of substrates of the liquid crystal display device are provided with an alignment film for regulating the orientation direction of the liquid crystal by rubbing. The alignment film is rubbed with, for example, a roller wrapped with a cloth, and the liquid crystal molecules are oriented in the rubbing direction. The liquid crystal display device using the transverse electric field method is, for example, a normally black method in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of opposing substrates and a black display is performed without applying an electric field to the liquid crystal layer. One of the pair of substrates has an upper electrode and a lower electrode arranged via an insulating layer. Due to the influence of the upper electrode, the surface of the alignment film has an uneven structure.

ラビングは、布を巻き付けたローラ等で有機膜を一方向に擦ることで行われる。配向膜の表面の凹凸による段差によって、ローラの回転方向に沿ってラビングの不均一部分が生じることがある。このラビングの不均一部分は、液晶層に電圧を印加しないときにスジ状の細かい傷となって視認される。 Rubbing is performed by rubbing the organic film in one direction with a roller or the like around which a cloth is wrapped. Due to the unevenness on the surface of the alignment film, a non-uniform portion of rubbing may occur along the rotation direction of the roller. The non-uniform portion of the rubbing is visually recognized as a fine streak-like scratch when no voltage is applied to the liquid crystal layer.

ラビングの不均一によるスジ状の細かい傷は、電極間に電界を印加しない状態で黒表示となるノーマリーブラック方式で目立ち、表示性能に与える影響は大きい。 Fine streak-like scratches due to non-uniform rubbing are conspicuous in the normally black method, which displays black when no electric field is applied between the electrodes, and have a large effect on display performance.

特許第5162969号公報Japanese Patent No. 5162969

本発明は、表示性能を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。 The present invention provides a liquid crystal display device capable of improving display performance.

本発明の一態様に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板と、前記第1及び第2基板に挟持された液晶層と、前記第1基板上に設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上に設けられた下部電極と、前記下部電極上に設けられた第2絶縁膜と、前記第2絶縁膜上に設けられ、前記下部電極の上方に配置され、第1方向に対して斜め方向に延びる上部電極と、前記第2絶縁膜及び前記上部電極上に設けられ、前記第1方向にラビング処理された第1配向膜と、前記第2基板上に設けられたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に設けられた第2配向膜とを具備する。前記第1配向膜の厚さは、前記上部電極の厚さの1.8倍以上かつ3.3倍未満である。 The liquid crystal display device according to one aspect of the present invention includes a first and second substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates, and a first insulating film provided on the first substrate. The lower electrode provided on the first insulating film, the second insulating film provided on the lower electrode, and the second insulating film provided on the second insulating film and arranged above the lower electrode in the first direction. An upper electrode extending obliquely with respect to the above, a first alignment film provided on the second insulating film and the upper electrode and subjected to rubbing treatment in the first direction, and a collar provided on the second substrate. It includes a filter and a second alignment film provided on the color filter. The thickness of the first alignment film is 1.8 times or more and less than 3.3 times the thickness of the upper electrode.

本発明によれば、表示性能を向上させることが可能な液晶表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of improving display performance.

図1は、実施形態に係る液晶表示装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of the liquid crystal display device according to the embodiment. 図2は、共通電極を抽出した平面図である。FIG. 2 is a plan view from which common electrodes are extracted. 図3は、図1のA−A´線に沿った液晶表示装置の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device along the AA'line of FIG. 図4は、図1のB−B´線に沿った液晶表示装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device along the line BB'of FIG. 図5は、ラビング処理を説明する模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a rubbing process. 図6は、ラビング方向を説明する模式図である。FIG. 6 is a schematic view illustrating the rubbing direction. 図7は、ラビング処理を説明する模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a rubbing process. 図8は、第1実施例に係る配向膜の構成を説明する断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film according to the first embodiment. 図9は、第2実施例に係る配向膜の構成を説明する断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film according to the second embodiment. 図10は、黒透過率の変化を説明するグラフである。FIG. 10 is a graph illustrating a change in black transmittance. 図11は、第3実施例に係る配向膜の構成を説明する断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film according to the third embodiment. 図12は、第4実施例に係る配向膜の構成を説明する断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film according to the fourth embodiment. 図13は、ピーク電圧変化と配向膜の厚さとの関係を説明するグラフである。FIG. 13 is a graph illustrating the relationship between the peak voltage change and the thickness of the alignment film.

以下、実施形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的または概念的なものであり、各図面の寸法および比率等は必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、図面の相互間で同じ部分を表す場合においても、互いの寸法の関係や比率が異なって表される場合もある。特に、以下に示す幾つかの実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置および方法を例示したものであって、構成部品の形状、構造、配置等によって、本発明の技術思想が特定されるものではない。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. However, the drawings are schematic or conceptual, and the dimensions and ratios of each drawing are not necessarily the same as the actual ones. Further, even when the same part is represented between the drawings, the relationship and ratio of the dimensions of each other may be represented differently. In particular, some embodiments shown below exemplify devices and methods for embodying the technical idea of the present invention, and depending on the shape, structure, arrangement, etc. of the components, the technical idea of the present invention. Is not specified. In the following description, elements having the same function and configuration are designated by the same reference numerals, and duplicate explanations will be given only when necessary.

[1] 液晶表示装置の構成
本実施形態に係る液晶表示装置は、FFS(fringe field switching)方式の液晶表示装置である。FFS方式は、ホモジニアス配向させた液晶をフリンジ電界でスイッチングする方式である。
[1] Configuration of Liquid Crystal Display Device The liquid crystal display device according to the present embodiment is an FFS (fringe field switching) type liquid crystal display device. The FFS method is a method in which a homogeneously oriented liquid crystal is switched by a fringe electric field.

図1は、実施形態に係る液晶表示装置1の平面図である。図2は、共通電極21を抽出した平面図である。図3は、図1のA−A´線に沿った液晶表示装置1の断面図である。図4は、図1のB−B´線に沿った液晶表示装置1の断面図である。図1には、1つの画素に対応する部分を抽出して示しており、実際には、図1の画素がマトリクス状に複数個配置される。 FIG. 1 is a plan view of the liquid crystal display device 1 according to the embodiment. FIG. 2 is a plan view of the common electrode 21 extracted. FIG. 3 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 1 along the AA'line of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 1 along the line BB'of FIG. In FIG. 1, a portion corresponding to one pixel is extracted and shown, and in reality, a plurality of pixels in FIG. 1 are arranged in a matrix.

液晶表示装置1は、スイッチング素子及び画素電極等が形成されるTFT基板10と、カラーフィルタ等が形成されかつTFT基板10に対向配置されるカラーフィルタ基板(CF基板)11とを備える。TFT基板10及びCF基板11の各々は、透明基板(例えば、ガラス基板、又はプラスチック基板)から構成される。 The liquid crystal display device 1 includes a TFT substrate 10 on which a switching element, pixel electrodes, and the like are formed, and a color filter substrate (CF substrate) 11 on which a color filter and the like are formed and arranged to face the TFT substrate 10. Each of the TFT substrate 10 and the CF substrate 11 is composed of a transparent substrate (for example, a glass substrate or a plastic substrate).

液晶層12は、TFT基板10及びCF基板11間に充填(又は挟持)される。具体的には、液晶層12は、TFT基板10及びCF基板11と、シール材(図示せず)とによって包囲された表示領域内に封入される。シール材は、例えば、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFT基板10又はCF基板11に塗布された後、紫外線照射、又は加熱等により硬化させられる。 The liquid crystal layer 12 is filled (or sandwiched) between the TFT substrate 10 and the CF substrate 11. Specifically, the liquid crystal layer 12 is enclosed in a display area surrounded by the TFT substrate 10 and the CF substrate 11 and a sealing material (not shown). The sealing material is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, an ultraviolet / heat combined type curable resin, etc., is applied to the TFT substrate 10 or the CF substrate 11 in the manufacturing process, and then cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. Be made to.

液晶層12を構成する液晶材料は、印加された電界に応じて液晶分子の配向が操作されて光学特性が変化する。本実施形態では、液晶層12としては、正の誘電率異方性を有するポジ型(P型)のネマティック液晶が用いられる。液晶層12は、初期状態において、水平配向(ホモジニアス配向)される。液晶分子は、無電圧(無電界)時には基板の主面に対してほぼ水平に配向する。電圧印加(電界印加)時には、液晶分子のダイレクタが電界方向に向かって傾く。 The liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 12 changes its optical characteristics by manipulating the orientation of the liquid crystal molecules according to the applied electric field. In the present embodiment, as the liquid crystal layer 12, a positive type (P type) nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is used. The liquid crystal layer 12 is horizontally oriented (homogeneously oriented) in the initial state. The liquid crystal molecules are oriented almost horizontally with respect to the main surface of the substrate when there is no voltage (no electric field). When a voltage is applied (electric field is applied), the director of the liquid crystal molecule tilts toward the electric field.

次に、TFT基板10側の構成について説明する。TFT基板10の液晶層12側には、画素ごとに、スイッチング素子13が設けられる。スイッチング素子13としては、例えばTFT(Thin Film Transistor)が用いられ、またnチャネルTFTが用いられる。後述するように、TFT13は、走査線として機能するゲート電極と、ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に設けられた半導体層と、半導体層上に互いに離間して設けられたソース電極及びドレイン電極とを備える。 Next, the configuration on the TFT substrate 10 side will be described. A switching element 13 is provided for each pixel on the liquid crystal layer 12 side of the TFT substrate 10. As the switching element 13, for example, a TFT (Thin Film Transistor) is used, and an n-channel TFT is used. As will be described later, the TFT 13 is provided on the semiconductor layer with a gate electrode functioning as a scanning line, a gate insulating film provided on the gate electrode, and a semiconductor layer provided on the gate insulating film. The source electrode and the drain electrode are provided.

TFT基板10上には、X方向に延びるゲート電極GLが設けられる。ゲート電極GLは、走査線として機能する。X方向に並んだ1行分の複数の画素は、1本の走査線に共通接続される。TFT基板10及びゲート電極GL上には、ゲート絶縁膜14が設けられる。 A gate electrode GL extending in the X direction is provided on the TFT substrate 10. The gate electrode GL functions as a scanning line. A plurality of pixels for one line arranged in the X direction are commonly connected to one scanning line. A gate insulating film 14 is provided on the TFT substrate 10 and the gate electrode GL.

ゲート絶縁膜14上には、画素ごとに、半導体層15が設けられる。半導体層15としては、例えばアモルファスシリコンが用いられる。 A semiconductor layer 15 is provided on the gate insulating film 14 for each pixel. As the semiconductor layer 15, for example, amorphous silicon is used.

半導体層15及びゲート絶縁膜14上には、Y方向(X方向に直交する方向)において互いに離間したソース電極16及びドレイン電極17が設けられる。ソース電極16及びドレイン電極17は、半導体層15に部分的に重なる。なお、ソース電極16と半導体層15との間には、これらの電気的接続を良好にするために、高濃度のn型不純物が導入されたn型半導体層を設けてもよい。同様に、ドレイン電極17と半導体層15との間には、n型半導体層を設けてもよい。 A source electrode 16 and a drain electrode 17 are provided on the semiconductor layer 15 and the gate insulating film 14 so as to be separated from each other in the Y direction (direction orthogonal to the X direction). The source electrode 16 and the drain electrode 17 partially overlap the semiconductor layer 15. An n + type semiconductor layer into which a high concentration of n-type impurities is introduced may be provided between the source electrode 16 and the semiconductor layer 15 in order to improve the electrical connection between the source electrode 16 and the semiconductor layer 15. Similarly, an n + type semiconductor layer may be provided between the drain electrode 17 and the semiconductor layer 15.

ゲート絶縁膜14上には、Y方向に延びる画素電極18が設けられる。画素電極18は、下部電極とも呼ばれる。画素電極18の平面形状は、例えば長方形である。画素電極18は、ドレイン電極17に電気的に接続される。 A pixel electrode 18 extending in the Y direction is provided on the gate insulating film 14. The pixel electrode 18 is also called a lower electrode. The planar shape of the pixel electrode 18 is, for example, a rectangle. The pixel electrode 18 is electrically connected to the drain electrode 17.

ゲート絶縁膜14上には、Y方向に延びる信号線SLが設けられる。信号線SLは、X方向に隣接する2個の画素の境界部分に配置される。Y方向に並んだ1列分の複数の画素は、1本の信号線SLに共通接続される。ソース電極16は、X方向に延びる接続電極19を介して信号線SLに電気的に接続される。 A signal line SL extending in the Y direction is provided on the gate insulating film 14. The signal line SL is arranged at the boundary portion between two pixels adjacent to each other in the X direction. A plurality of pixels for one row arranged in the Y direction are commonly connected to one signal line SL. The source electrode 16 is electrically connected to the signal line SL via the connection electrode 19 extending in the X direction.

ソース電極16、ドレイン電極17、画素電極18、接続電極19、信号線SL、及びゲート絶縁膜14上には、絶縁膜20が設けられる。 An insulating film 20 is provided on the source electrode 16, the drain electrode 17, the pixel electrode 18, the connection electrode 19, the signal line SL, and the gate insulating film 14.

絶縁膜20上には、共通電極21が設けられる。共通電極21は、上部電極とも呼ばれる。共通電極21は、複数の画素に共通に設けられる。共通電極21は、画素ごとに、複数のスリット22を有する。本実施形態では、一例として画素ごとに3個のスリット22が形成される構成を示している。 A common electrode 21 is provided on the insulating film 20. The common electrode 21 is also called an upper electrode. The common electrode 21 is commonly provided for a plurality of pixels. The common electrode 21 has a plurality of slits 22 for each pixel. In the present embodiment, as an example, a configuration in which three slits 22 are formed for each pixel is shown.

図2に示すように、共通電極21は、第1共通電極21−1及び第2共通電極21−2を含む。第1共通電極21−1、及び第2共通電極21−2は、X方向において、スリット22によって分離される。第1共通電極21−1、及び第2共通電極21−2は、Y方向端部において、共通電極21に含まれる電極部分によって電気的に接続される。 As shown in FIG. 2, the common electrode 21 includes a first common electrode 21-1 and a second common electrode 21-2. The first common electrode 21-1 and the second common electrode 21-2 are separated by a slit 22 in the X direction. The first common electrode 21-1 and the second common electrode 21-2 are electrically connected at the end in the Y direction by an electrode portion included in the common electrode 21.

第1共通電極21−1は、Y方向に対して斜め方向に延びる。本実施形態では、第1共通電極21−1は、その中央部で屈折するように、くの字形状を有する。すなわち、第1共通電極21−1は、Y方向に対して左斜め方向に延び、その中央部からY方向に対して右斜め方向に延びる。同様に、スリット22は、くの字形状を有する。例えば、第1共通電極21−1の幅とスリット22の幅とは、概略同じである。第2共通電極21−2の構成も、第1共通電極21−1と同じである。 The first common electrode 21-1 extends in an oblique direction with respect to the Y direction. In the present embodiment, the first common electrode 21-1 has a dogleg shape so as to be refracted at the central portion thereof. That is, the first common electrode 21-1 extends obliquely to the left with respect to the Y direction, and extends obliquely to the right with respect to the Y direction from the central portion thereof. Similarly, the slit 22 has a dogleg shape. For example, the width of the first common electrode 21-1 and the width of the slit 22 are substantially the same. The configuration of the second common electrode 21-2 is also the same as that of the first common electrode 21-1.

本実施形態では、画素の中央で液晶配向のドメインを分割することができる。これにより、液晶層をマルチドメイン化することができる。 In this embodiment, the domain of liquid crystal orientation can be divided at the center of the pixel. As a result, the liquid crystal layer can be made into a multi-domain.

なお、第1共通電極21−1及び第2共通電極21−2は、中央部で屈折せずに、斜め方向に直線状に延びていてもよい。 The first common electrode 21-1 and the second common electrode 21-2 may extend linearly in an oblique direction without being refracted at the central portion.

共通電極21及び絶縁膜20上には、液晶層12の配向を制御する配向膜23が設けられる。配向膜23は、液晶層12の初期状態において、液晶分子を水平に配向させる。また、配向膜23は、液晶分子の長軸がY方向を向くようにラビング処理される。 An alignment film 23 that controls the orientation of the liquid crystal layer 12 is provided on the common electrode 21 and the insulating film 20. The alignment film 23 orients the liquid crystal molecules horizontally in the initial state of the liquid crystal layer 12. Further, the alignment film 23 is subjected to a rubbing treatment so that the long axis of the liquid crystal molecules faces the Y direction.

次に、CF基板11側の構成について説明する。CF基板11の液晶層12側には、遮光用のブラックマトリクス(ブラックマスク、遮光膜とも呼ばれる)24が設けられる。ブラックマトリクス24は、画素の境界部に配置され、網目状に形成される。ブラックマトリクス24は、TFT13を遮光する機能と、色の異なるカラーフィルタ間の不要な光を遮蔽することで、コントラストを向上させる機能とを有する。 Next, the configuration on the CF substrate 11 side will be described. A black matrix (also called a black mask or a light-shielding film) 24 for shading is provided on the liquid crystal layer 12 side of the CF substrate 11. The black matrix 24 is arranged at the boundary between pixels and is formed in a mesh pattern. The black matrix 24 has a function of shielding the TFT 13 and a function of improving the contrast by shielding unnecessary light between color filters having different colors.

CF基板11上及びブラックマトリクス24上には、複数のカラーフィルタ25が設けられる。複数のカラーフィルタ(カラー部材)25は、複数の赤フィルタ、複数の緑フィルタ、及び複数の青フィルタを備える。一般的なカラーフィルタは光の三原色である赤(R)、緑(G)、青(B)で構成される。隣接したR、G、Bの三色のセットが表示の単位(画素)となっており、1つの画素中のR、G、Bのいずれか単色の部分はサブピクセル(サブ画素)と呼ばれる最小駆動単位である。TFT13及び画素電極18は、サブピクセルごとに設けられる。本明細書の説明では、画素とサブ画素との区別が特に必要な場合を除き、サブ画素を画素と呼ぶものとする。カラーフィルタの配列としては、ストライプ配列、モザイク配列、及びデルタ配列を含む任意の配列を適用可能である。本実施形態では、赤フィルタの画素を例示している。 A plurality of color filters 25 are provided on the CF substrate 11 and the black matrix 24. The plurality of color filters (color members) 25 include a plurality of red filters, a plurality of green filters, and a plurality of blue filters. A general color filter is composed of the three primary colors of light, red (R), green (G), and blue (B). An adjacent set of three colors of R, G, and B is a display unit (pixel), and the monochromatic part of any one of R, G, and B in one pixel is the minimum called a sub-pixel (sub-pixel). It is a drive unit. The TFT 13 and the pixel electrode 18 are provided for each sub-pixel. In the description of the present specification, a sub-pixel is referred to as a pixel unless it is particularly necessary to distinguish between a pixel and a sub-pixel. As the color filter array, any array including a stripe array, a mosaic array, and a delta array can be applied. In this embodiment, the pixels of the red filter are illustrated.

カラーフィルタ25及びブラックマトリクス24上には、液晶層12の配向を制御する配向膜26が設けられる。配向膜26は、液晶層12の初期状態において、液晶分子を水平に配向させる。また、配向膜26は、液晶分子の長軸がY方向を向くようにラビング処理される。 An alignment film 26 for controlling the orientation of the liquid crystal layer 12 is provided on the color filter 25 and the black matrix 24. The alignment film 26 orients the liquid crystal molecules horizontally in the initial state of the liquid crystal layer 12. Further, the alignment film 26 is subjected to a rubbing treatment so that the long axis of the liquid crystal molecules faces the Y direction.

図示は省略するが、TFT基板10の液晶層12と反対側には、第1偏光板が積層され、CF基板11の液晶層12と反対側には、第2偏光板が積層される。第1偏光板及び第2偏光板は、互いの透過軸が直交するように、すなわち直交ニコル状態で配置される。 Although not shown, the first polarizing plate is laminated on the side of the TFT substrate 10 opposite to the liquid crystal layer 12, and the second polarizing plate is laminated on the side of the CF substrate 11 opposite to the liquid crystal layer 12. The first polarizing plate and the second polarizing plate are arranged so that their transmission axes are orthogonal to each other, that is, in an orthogonal Nicol state.

(材料の例示)
ゲート電極GL、ソース電極16、ドレイン電極17、及び信号線SLとしては、例えば、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、タングステン(W)のいずれか、又はこれらの1種類以上を含む合金等が用いられる。画素電極18、及び共通電極21は、透明電極から構成され、例えばITO(インジウム錫酸化物)が用いられる。ゲート絶縁膜14、及び絶縁膜20は、透明な絶縁材料から構成され、例えばシリコン窒化物(SiN)が用いられる。配向膜23、26としては、例えばポリイミド樹脂が用いられる。
(Example of material)
The gate electrode GL, the source electrode 16, the drain electrode 17, and the signal line SL include, for example, any one of aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (Cr), and tungsten (W), or one or more of them. An alloy containing the above is used. The pixel electrode 18 and the common electrode 21 are composed of transparent electrodes, and for example, ITO (indium tin oxide) is used. The gate insulating film 14 and the insulating film 20 are made of a transparent insulating material, and for example, silicon nitride (SiN) is used. As the alignment films 23 and 26, for example, polyimide resin is used.

[2] 動作
本実施形態の液晶表示装置1は、液晶に電界を印加しない状態で黒表示となるノーマリーブラック方式である。
[2] Operation The liquid crystal display device 1 of the present embodiment is a normally black system that displays black when no electric field is applied to the liquid crystal.

共通電極21には、共通電圧Vcomが印加される。共通電圧Vcomは、例えば0Vである。オフ状態とは、液晶層12に電界が印加されない状態であり、画素電極18には、共通電極21と同じ共通電圧Vcomが印加される。オン状態とは、液晶層12に電界が印加された状態であり、画素電極18には、正電圧が印加される。なお、実際には、画素電極18及び共通電極21間の電界の極性を所定周期で反転させる反転駆動(交流駆動)が行われる。反転駆動を行うことで、液晶の劣化などを防止することができる。反転駆動の周期は任意に設定可能である。 A common voltage Vcom is applied to the common electrode 21. The common voltage Vcom is, for example, 0V. The off state is a state in which an electric field is not applied to the liquid crystal layer 12, and the same common voltage Vcom as that of the common electrode 21 is applied to the pixel electrode 18. The on state is a state in which an electric field is applied to the liquid crystal layer 12, and a positive voltage is applied to the pixel electrodes 18. Actually, inversion drive (alternating current drive) is performed in which the polarity of the electric field between the pixel electrode 18 and the common electrode 21 is inverted at a predetermined cycle. By performing the inverting drive, deterioration of the liquid crystal can be prevented. The reverse drive cycle can be set arbitrarily.

オフ状態において、液晶分子は、初期状態に設定され、すなわち、液晶分子は、水平配向し、液晶分子の長軸は、Y方向に向いている。Y方向は、配向膜23、26のラビング方向と同じである。 In the off state, the liquid crystal molecules are set to the initial state, that is, the liquid crystal molecules are horizontally oriented and the long axis of the liquid crystal molecules is oriented in the Y direction. The Y direction is the same as the rubbing direction of the alignment films 23 and 26.

オン状態において、液晶層12には、共通電極21から画素電極18に向かう電界が印加される。電界が印加された液晶分子は、水平面内において、Y方向に対して斜め方向に旋回する。これにより、液晶表示装置1は、入射光の透過量を制御することができる。すなわち、液晶表示装置1の透過率を変化させることができる。 In the on state, an electric field from the common electrode 21 to the pixel electrode 18 is applied to the liquid crystal layer 12. The liquid crystal molecules to which the electric field is applied swirl in the horizontal plane in an oblique direction with respect to the Y direction. As a result, the liquid crystal display device 1 can control the amount of incident light transmitted. That is, the transmittance of the liquid crystal display device 1 can be changed.

[3] ラビング処理
図5は、ラビング処理を説明する模式図である。
[3] Rubbing process FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a rubbing process.

配向膜が設けられた基板は、ステージに載置される。ラビングローラは、ラビング布をローラに巻き付けた構造を有する。例えば、図5に示すように、ラビングローラは、図示した回転方向に回転し、ステージは、図示したステージ移動方向に移動する。 The substrate provided with the alignment film is placed on the stage. The rubbing roller has a structure in which a rubbing cloth is wound around the roller. For example, as shown in FIG. 5, the rubbing roller rotates in the direction of rotation shown, and the stage moves in the direction of movement of the stage shown.

配向膜は、ラビングローラによって擦られる。これにより、ラビング方向に液晶分子が配向するようになる。ラビング方向は、液晶の配向方向に対応する。液晶の配向方向とは、初期状態(電界が印加されていない状態)において、液晶分子の長軸が向く方向である。配向膜は、ラビング方向に液層分子を配向させる。 The alignment film is rubbed by a rubbing roller. As a result, the liquid crystal molecules are oriented in the rubbing direction. The rubbing direction corresponds to the orientation direction of the liquid crystal. The orientation direction of the liquid crystal is the direction in which the long axis of the liquid crystal molecules faces in the initial state (state in which no electric field is applied). The alignment film orients the liquid layer molecules in the rubbing direction.

図6は、ラビング方向を説明する模式図である。図6には、第1共通電極21−1及び第2共通電極21−2の一部を示している。図6のX方向及びY方向は、図1のX方向及びY方向と同じである。 FIG. 6 is a schematic view illustrating the rubbing direction. FIG. 6 shows a part of the first common electrode 21-1 and the second common electrode 21-2. The X and Y directions in FIG. 6 are the same as the X and Y directions in FIG.

ラビング方向は、Y方向と同じである。すなわち、配向膜23は、第1共通電極21−1の延在方向に対して交差する方向にラビング処理される。なお、配向膜26のラビング方向も、配向膜23と同じである。 The rubbing direction is the same as the Y direction. That is, the alignment film 23 is subjected to a rubbing treatment in a direction intersecting the extending direction of the first common electrode 21-1. The rubbing direction of the alignment film 26 is also the same as that of the alignment film 23.

図7は、ラビング処理を説明する模式図である。絶縁膜20上には、共通電極21が設けられる。共通電極21上には、配向膜23が設けられる。配向膜23の表面には、共通電極21に起因して、凹凸(段差)が形成される。 FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a rubbing process. A common electrode 21 is provided on the insulating film 20. An alignment film 23 is provided on the common electrode 21. Concavities and convexities (steps) are formed on the surface of the alignment film 23 due to the common electrode 21.

ローラに巻き付けられた布の毛30が、配向膜23の段差部分に当たると、この段差部分にラビングの不均一部分が生じる。図7に示した矢印は、配向膜23にかかる力を表している。このラビングの不均一部分は、液晶分子の配向を乱し、液晶分子がY方向に一様に配列するのを妨げる。よって、ラビングの不均一部分は、液晶に電界を印加しないときに、スジ状の細かい傷(例えば白い傷)となって視認される。 When the bristles 30 of the cloth wound around the roller hit the stepped portion of the alignment film 23, a non-uniform rubbing portion is generated at the stepped portion. The arrow shown in FIG. 7 represents the force applied to the alignment film 23. This non-uniform portion of rubbing disturbs the orientation of the liquid crystal molecules and prevents the liquid crystal molecules from being uniformly arranged in the Y direction. Therefore, the non-uniform portion of the rubbing is visually recognized as a fine streak-like scratch (for example, a white scratch) when an electric field is not applied to the liquid crystal.

ラビングの不均一部分によるスジ状の細かい傷は、液晶に電界を印加しない状態で黒表示となるノーマリーブラック方式では目立ち、表示性能に与える影響は大きい。 Fine streaks caused by uneven rubbing are conspicuous in the normally black method, which displays black when no electric field is applied to the liquid crystal, and have a large effect on display performance.

[4] 配向膜23の構成
次に、配向膜23の構成について説明する。以下に、第1乃至第4実施例について順に説明する。
[4] Configuration of Alignment Film 23 Next, the configuration of the alignment film 23 will be described. Hereinafter, the first to fourth embodiments will be described in order.

図8は、第1実施例に係る配向膜23の構成を説明する断面図である。図8は、配向膜23をX方向に切断した断面図である。図8には、絶縁膜20上に設けられた3個の共通電極21を示している。絶縁膜20上の配向膜を23a、共通電極21上の配向膜を23b、配向膜23aの厚さをt1、配向膜23bの厚さをt2、絶縁膜20上の配向膜23aと共通電極21上の配向膜23bとの段差をDと表記する。共通電極21の厚さは、例えば60nmである。 FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film 23 according to the first embodiment. FIG. 8 is a cross-sectional view of the alignment film 23 cut in the X direction. FIG. 8 shows three common electrodes 21 provided on the insulating film 20. The alignment film on the insulating film 20 is 23a, the alignment film on the common electrode 21 is 23b, the thickness of the alignment film 23a is t1, the thickness of the alignment film 23b is t2, and the alignment film 23a on the insulating film 20 and the common electrode 21. The step with the alignment film 23b above is referred to as D. The thickness of the common electrode 21 is, for example, 60 nm.

第1実施例では、絶縁膜20上の配向膜23aの厚さt1=43nm、共通電極21上の配向膜23bの厚さt2=18nmである。この場合、段差D=35nmである。第1実施例では、配向膜23の厚さが薄いため、画素を駆動する駆動電圧を小さくできる。しかし、段差Dが大きくなるため、配向膜23にラビングの不均一部分が生じる可能性が高い。 In the first embodiment, the thickness t1 = 43 nm of the alignment film 23a on the insulating film 20 and the thickness t2 = 18 nm of the alignment film 23b on the common electrode 21. In this case, the step D = 35 nm. In the first embodiment, since the alignment film 23 is thin, the driving voltage for driving the pixels can be reduced. However, since the step D becomes large, there is a high possibility that a non-uniform portion of rubbing occurs in the alignment film 23.

図9は、第2実施例に係る配向膜23の構成を説明する断面図である。第2実施例では、絶縁膜20上の配向膜23aの厚さt1=113nm、共通電極21上の配向膜23bの厚さt2=63nmである。この場合、段差D=10nmである。すなわち、第2実施例は、第1実施例に比べて、段差Dを1/3以下にすることができる。第2実施例において、配向膜23の厚さt1(=113nm)は、共通電極21の厚さ(=60nm)の1.8倍程度である。 FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film 23 according to the second embodiment. In the second embodiment, the thickness t1 of the alignment film 23a on the insulating film 20 is 113 nm, and the thickness of the alignment film 23b on the common electrode 21 is t2 = 63 nm. In this case, the step D = 10 nm. That is, in the second embodiment, the step D can be reduced to 1/3 or less as compared with the first embodiment. In the second embodiment, the thickness t1 (= 113 nm) of the alignment film 23 is about 1.8 times the thickness (= 60 nm) of the common electrode 21.

第2実施例では、段差Dが小さくなるため、ラビング布の毛が配向膜23に均一に当たり易くなり、液晶配向の不均一部分が低減される。その結果、ノーマリーブラック方式の黒表示時に見られた細かい傷による光漏れが改善される。 In the second embodiment, since the step D becomes small, the bristles of the rubbing cloth can easily hit the alignment film 23 uniformly, and the non-uniform portion of the liquid crystal alignment is reduced. As a result, the light leakage due to the small scratches seen when the black display of the normally black method is performed is improved.

図10は、黒透過率の変化を説明するグラフである。黒透過率とは、黒表示、すなわちオフ状態における透過率である。図10には、第1実施例及び第2実施例の黒透過率を示している。図10に示すように、第2実施例は、第1実施例に比べて、黒透過率を約1割小さくできる。 FIG. 10 is a graph illustrating a change in black transmittance. The black transmittance is the transmittance in the black display, that is, in the off state. FIG. 10 shows the black transmittance of the first embodiment and the second embodiment. As shown in FIG. 10, in the second embodiment, the black transmittance can be reduced by about 10% as compared with the first embodiment.

このように、絶縁膜20上の配向膜23aと共通電極21上の配向膜23bとの段差Dを低減するという観点から、配向膜23の厚さt1(=113nm)は、共通電極21の厚さ(=60nm)の1.8倍以上であることが望ましい。また、配向膜23aの厚さt1は、100nm以上であることが望ましい。また、絶縁膜20上の配向膜23aと共通電極21上の配向膜23bとの段差をDは、10nm以下であることが望ましい。 As described above, from the viewpoint of reducing the step D between the alignment film 23a on the insulating film 20 and the alignment film 23b on the common electrode 21, the thickness t1 (= 113 nm) of the alignment film 23 is the thickness of the common electrode 21. It is desirable that it is 1.8 times or more of the (= 60 nm). Further, it is desirable that the thickness t1 of the alignment film 23a is 100 nm or more. Further, it is desirable that the step D between the alignment film 23a on the insulating film 20 and the alignment film 23b on the common electrode 21 is 10 nm or less.

図11は、第3実施例に係る配向膜23の構成を説明する断面図である。第3実施例では、絶縁膜20上の配向膜23aの厚さt1=150nm、共通電極21上の配向膜23bの厚さt2=92nmである。この場合、段差Dはほぼ無くなる。第3実施例において、配向膜23の厚さt1(=150nm)は、共通電極21の厚さ(=60nm)の2.5倍程度である。 FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film 23 according to the third embodiment. In the third embodiment, the thickness t1 of the alignment film 23a on the insulating film 20 is t1 = 150 nm, and the thickness of the alignment film 23b on the common electrode 21 is t2 = 92 nm. In this case, the step D is almost eliminated. In the third embodiment, the thickness t1 (= 150 nm) of the alignment film 23 is about 2.5 times the thickness (= 60 nm) of the common electrode 21.

第3実施例では、段差がより小さくなるため、ラビング布の毛が配向膜23に均一に当たり、液晶配向の不均一部分がさらに低減される。その結果、ノーマリーブラック方式の黒表示時に見られた細かい傷による光漏れがより改善される。第3実施例は、第2実施例に比べて、黒透過率を更に約1割小さくできる。 In the third embodiment, since the step is smaller, the bristles of the rubbing cloth uniformly hit the alignment film 23, and the non-uniform portion of the liquid crystal alignment is further reduced. As a result, the light leakage due to the small scratches seen during the black display of the normally black method is further improved. In the third embodiment, the black transmittance can be further reduced by about 10% as compared with the second embodiment.

図12は、第4実施例に係る配向膜23の構成を説明する断面図である。第4実施例では、絶縁膜20上の配向膜23aの厚さt1=200nm、共通電極21上の配向膜23bの厚さt2=140nmである。この場合、段差Dは無くなる。第4実施例において、配向膜23の厚さt1(=200nm)は、共通電極21の厚さ(=60nm)の3.3倍程度である。 FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the alignment film 23 according to the fourth embodiment. In the fourth embodiment, the thickness t1 of the alignment film 23a on the insulating film 20 is t1 = 200 nm, and the thickness of the alignment film 23b on the common electrode 21 is t2 = 140 nm. In this case, the step D disappears. In the fourth embodiment, the thickness t1 (= 200 nm) of the alignment film 23 is about 3.3 times the thickness (= 60 nm) of the common electrode 21.

第4実施例では、段差が無くなるため、ラビング布の毛が配向膜23に均一に当たり、液晶配向の不均一部分がさらに低減される。その結果、ノーマリーブラック方式の黒表示時に見られた細かい傷による光漏れがより改善される。第4実施例は、第3実施例に比べて、黒透過率を更に約1割小さくできる。 In the fourth embodiment, since the step is eliminated, the bristles of the rubbing cloth uniformly hit the alignment film 23, and the non-uniform portion of the liquid crystal alignment is further reduced. As a result, the light leakage due to the small scratches seen during the black display of the normally black method is further improved. In the fourth embodiment, the black transmittance can be further reduced by about 10% as compared with the third embodiment.

次に、液晶表示装置1のピーク電圧変化について説明する。画素には、駆動回路により駆動電圧が印加される。ピーク電圧とは、駆動電圧のピークであり、最大階調で表示を行う場合(例えば、白黒表示における白表示)の電圧である。ピーク電圧変化とは、第1実施例(配向膜23aの厚さt1=43nm)のピーク電圧を基準にして、第1実施例のピーク電圧からの変化分である。第1実施例のピーク電圧は、例えば6Vである。 Next, the peak voltage change of the liquid crystal display device 1 will be described. A drive voltage is applied to the pixels by a drive circuit. The peak voltage is the peak of the drive voltage, and is the voltage when displaying at the maximum gradation (for example, white display in black-and-white display). The peak voltage change is a change from the peak voltage of the first embodiment with reference to the peak voltage of the first embodiment (thickness t1 = 43 nm of the alignment film 23a). The peak voltage of the first embodiment is, for example, 6V.

図13は、ピーク電圧変化と配向膜の厚さとの関係を説明するグラフである。図13の縦軸がピーク電圧変化(V)、図13の横軸が配向膜の厚さ(nm)を表している。配向膜の厚さは、前述した絶縁膜20上の配向膜を23aの厚さt1に対応する。 FIG. 13 is a graph illustrating the relationship between the peak voltage change and the thickness of the alignment film. The vertical axis of FIG. 13 represents the peak voltage change (V), and the horizontal axis of FIG. 13 represents the thickness (nm) of the alignment film. The thickness of the alignment film corresponds to the thickness t1 of 23a of the alignment film on the insulating film 20 described above.

配向膜の厚さが厚くなるほど、ピーク電圧変化が大きくなる。配向膜の厚さが200nm(第4実施例に対応する)である場合、ピーク電圧変化が0.8Vとなる。ピーク電圧変化が0.8Vを超えると、画素アレイの周辺回路の仕様上、好ましくない。具体的には、ピーク電圧(又はピーク電圧変化)が大きくなると、画素を駆動する駆動回路の駆動能力及びサイズを大きくする必要があり、また消費電力も大きくなる。よって、ピーク電圧変化を0.8V未満(例えば、ピーク電圧を6.8V未満)にするために、配向膜23の厚さt1(=200nm)は、共通電極21の厚さ(=60nm)の3.3倍未満であることが望ましい。また、配向膜23の厚さは、200nm未満であることが望ましい。 The thicker the alignment film, the larger the peak voltage change. When the thickness of the alignment film is 200 nm (corresponding to the fourth embodiment), the peak voltage change is 0.8 V. If the peak voltage change exceeds 0.8 V, it is not preferable due to the specifications of the peripheral circuits of the pixel array. Specifically, as the peak voltage (or change in peak voltage) increases, it is necessary to increase the drive capacity and size of the drive circuit that drives the pixels, and the power consumption also increases. Therefore, in order to make the peak voltage change less than 0.8 V (for example, the peak voltage less than 6.8 V), the thickness t1 (= 200 nm) of the alignment film 23 is the thickness (= 60 nm) of the common electrode 21. It is desirable that it is less than 3.3 times. Further, the thickness of the alignment film 23 is preferably less than 200 nm.

なお、CF基板11側の配向膜26の厚さは、特に制限はなく、例えば第1実施例の配向膜23と同じに設定される。 The thickness of the alignment film 26 on the CF substrate 11 side is not particularly limited, and is set to be the same as that of the alignment film 23 of the first embodiment, for example.

[5] 実施形態の効果
本実施形態では、液晶表示装置1は、FFS方式であり、またノーマリーブラック方式である。液晶表示装置1は、ゲート絶縁膜14上に設けられた画素電極(下部電極)18と、画素電極18上に設けられた絶縁膜20と、絶縁膜20上に設けられ、画素電極18の上方に配置され、Y方向に対して斜め方向に延びる共通電極(上部電極)21−1と、絶縁膜20及び共通電極21−1上に設けられ、Y方向にラビング処理された配向膜23とを備える。配向膜23の厚さは、共通電極21−1の厚さの1.8倍以上かつ3.3倍未満に設定される。
[5] Effect of the Embodiment In the present embodiment, the liquid crystal display device 1 is an FFS system and a normally black system. The liquid crystal display device 1 is provided on the pixel electrode (lower electrode) 18 provided on the gate insulating film 14, the insulating film 20 provided on the pixel electrode 18, and above the pixel electrode 18 provided on the insulating film 20. The common electrode (upper electrode) 21-1 arranged in the Y direction and extending obliquely with respect to the Y direction, and the alignment film 23 provided on the insulating film 20 and the common electrode 21-1 and subjected to the rubbing treatment in the Y direction. Be prepared. The thickness of the alignment film 23 is set to be 1.8 times or more and less than 3.3 times the thickness of the common electrode 21-1.

従って本実施形態によれば、絶縁膜20上の配向膜23と共通電極21上の配向膜23との段差を低減できる。よって、配向膜をより均一にラビング処理でき、配向膜におけるラビングの不均一部分を低減できる。ひいては、液晶配向の不均一部分を低減できる。これにより、ノーマリーブラック方式における黒表示時に、ラビングの不均一部分によるスジ状の細かい傷が視認されるのを抑制できる。結果として、表示性能を向上させることが可能である。また、コントラストを向上させることが可能である。 Therefore, according to the present embodiment, the step between the alignment film 23 on the insulating film 20 and the alignment film 23 on the common electrode 21 can be reduced. Therefore, the alignment film can be rubbed more uniformly, and the non-uniform portion of the rubbing in the alignment film can be reduced. As a result, the non-uniform portion of the liquid crystal orientation can be reduced. As a result, it is possible to prevent the appearance of fine streak-like scratches due to the non-uniform portion of the rubbing when the black is displayed in the normally black method. As a result, it is possible to improve the display performance. Moreover, it is possible to improve the contrast.

また、表示性能を向上させつつ、駆動電圧のピークが大きくなるのを抑制することができる。ひいては、消費電力が大きくなるのを抑制することができる。 In addition, it is possible to suppress a large peak of the drive voltage while improving the display performance. As a result, it is possible to suppress an increase in power consumption.

[6] 変形例
上記実施形態では、下部電極として画素電極18を下側に配置し、上部電極として共通電極21(第1共通電極21−1、及び第2共通電極21−2を含む)を上側に配置している。この構成に限定されず、下部電極として共通電極21を下側に配置し、上部電極として画素電極18を上側に配置してもよい。この構成の場合、下側の共通電極21は、スリット(開口部)を有さない平面状の電極で構成される。共通電極21は、信号線SLと画素電極18との間にそれぞれ絶縁膜を介して配置される。また、上側の画素電極18は、1個以上のスリットを有し、かつライン上の電極を有するように構成される。画素電極18は、画素ごとに分離されて構成される。
[6] Modification Example In the above embodiment, the pixel electrode 18 is arranged on the lower side as the lower electrode, and the common electrode 21 (including the first common electrode 21-1 and the second common electrode 21-2) is used as the upper electrode. It is placed on the upper side. The configuration is not limited to this, and the common electrode 21 may be arranged on the lower side as the lower electrode, and the pixel electrode 18 may be arranged on the upper side as the upper electrode. In the case of this configuration, the lower common electrode 21 is composed of a flat electrode having no slit (opening). The common electrode 21 is arranged between the signal line SL and the pixel electrode 18 via an insulating film, respectively. Further, the upper pixel electrode 18 is configured to have one or more slits and an electrode on the line. The pixel electrode 18 is configured to be separated for each pixel.

また、FFS方式の液晶表示装置を例に挙げて説明したが、これに限定されず、IPS(In-Plane Switching)方式を含む横電界方式の液晶表示装置に適用することも可能である。 Further, although the FFS type liquid crystal display device has been described as an example, the present invention is not limited to this, and it can be applied to a horizontal electric field type liquid crystal display device including an IPS (In-Plane Switching) type.

また、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて説明したが、これに限定されず、それ以外の方式、例えばパッシブマトリクス方式の液晶表示装置に適用することも可能である。 Further, although the active matrix type liquid crystal display device has been described as an example, the description is not limited to this, and it is also possible to apply to other methods, for example, a passive matrix type liquid crystal display device.

また、スイッチング素子として、TFTを例に挙げて説明したが、これに限定されず、それ以外のスイッチング素子、例えばダイオード素子等を用いてもよい。 Further, as the switching element, the TFT has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and other switching elements such as a diode element may be used.

また、駆動電界は共通電極と画素電極との間に形成されるものとして説明したが、これに限定されない。2つの電極の間で駆動電界が形成される液晶表示装置であればよく、電極の種類によらず、本実施形態を適用可能である。 Further, although the driving electric field has been described as being formed between the common electrode and the pixel electrode, the present invention is not limited to this. Any liquid crystal display device in which a driving electric field is formed between the two electrodes may be used, and the present embodiment can be applied regardless of the type of electrodes.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified at the implementation stage without departing from the gist thereof. In addition, each embodiment may be carried out in combination as appropriate, in which case the combined effect can be obtained. Further, the above-described embodiment includes various inventions, and various inventions can be extracted by a combination selected from a plurality of disclosed constituent requirements. For example, even if some constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the embodiment, if the problem can be solved and the effect is obtained, the configuration in which the constituent requirements are deleted can be extracted as an invention.

1…液晶表示装置、10…TFT基板、11…CF基板、12…液晶層、13…スイッチング素子、14…ゲート絶縁膜、15…半導体層、16…ソース電極、17…ドレイン電極、18…画素電極、19…接続電極、20…絶縁膜、21…共通電極、22…スリット、23…配向膜、24…ブラックマトリクス、25…カラーフィルタ、26…配向膜。 1 ... liquid crystal display device, 10 ... TFT substrate, 11 ... CF substrate, 12 ... liquid crystal layer, 13 ... switching element, 14 ... gate insulating film, 15 ... semiconductor layer, 16 ... source electrode, 17 ... drain electrode, 18 ... pixel Electrodes, 19 ... Connection electrodes, 20 ... Insulating film, 21 ... Common electrodes, 22 ... Slits, 23 ... Alignment film, 24 ... Black matrix, 25 ... Color filter, 26 ... Alignment film.

Claims (6)

第1及び第2基板と、
前記第1及び第2基板に挟持された液晶層と、
前記第1基板上に設けられた第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に設けられた下部電極と、
前記下部電極上に設けられた第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に設けられ、前記下部電極の上方に配置され、第1方向に対して斜め方向に延びる上部電極と、
前記第2絶縁膜及び前記上部電極上に設けられ、前記第1方向にラビング処理された第1配向膜と、
前記第2基板上に設けられたカラーフィルタと、
前記カラーフィルタ上に設けられた第2配向膜と、
を具備し、
前記第1配向膜の厚さは、前記上部電極の厚さの1.8倍以上かつ3.3倍未満である
液晶表示装置。
1st and 2nd boards,
The liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates,
The first insulating film provided on the first substrate and
The lower electrode provided on the first insulating film and
A second insulating film provided on the lower electrode and
An upper electrode provided on the second insulating film, arranged above the lower electrode, and extending obliquely with respect to the first direction,
A first alignment film provided on the second insulating film and the upper electrode and subjected to rubbing treatment in the first direction, and a first alignment film.
The color filter provided on the second substrate and
A second alignment film provided on the color filter and
Equipped with
A liquid crystal display device in which the thickness of the first alignment film is 1.8 times or more and less than 3.3 times the thickness of the upper electrode.
前記第1配向膜の厚さは、100nm以上である
請求項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the thickness of the first alignment film is 100 nm or more.
前記第1配向膜の厚さは、200nm未満である
請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the first alignment film is less than 200 nm.
前記第2絶縁膜上の配向膜と前記上部電極上の配向膜との段差は、10nm以下である
請求項1乃至3のいずれかに記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the step between the alignment film on the second insulating film and the alignment film on the upper electrode is 10 nm or less.
前記第1配向膜は、ポリイミド樹脂で構成される
請求項1乃至4のいずれかに記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the first alignment film is made of a polyimide resin.
前記液晶層は、電界を印加しない初期状態において、水平配向となり、正の誘電率異方性を有する
請求項1乃至5のいずれかに記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the liquid crystal layer is horizontally oriented in an initial state in which an electric field is not applied and has positive dielectric anisotropy.
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