JP2021110506A - Clean heat treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、クリーンな雰囲気中において被処理物を加熱させたり、冷却させたりするクリーン熱処理装置に関するものである。特に、被処理物を回転テーブルによって回転させるようにして、被処理物を効率よく均一に加熱させ、また加熱された被処理物を効率よく均一に冷却させることができると共に、熱処理装置の設置面積を小さくできるようにした点に特徴を有するものである。 The present invention relates to a clean heat treatment apparatus that heats or cools an object to be treated in a clean atmosphere. In particular, the object to be processed can be rotated by a rotary table to efficiently and uniformly heat the object to be processed, and the heated object to be processed can be efficiently and uniformly cooled, and the installation area of the heat treatment apparatus can be used. It is characterized in that it can be made smaller.
従来から、半導体デバイスや液晶ディスプレイデバイスなどの製造プロセス等において、クリーンな雰囲気中において被処理物を加熱させたり、冷却させたりするのにクリーン熱処理装置が使用されている。 Conventionally, in a manufacturing process of a semiconductor device, a liquid crystal display device, or the like, a clean heat treatment apparatus has been used to heat or cool an object to be processed in a clean atmosphere.
ここで、このようなクリーン熱処理装置として、従来においては、特許文献1〜3に示されるようなものが知られている。 Here, as such a clean heat treatment apparatus, those shown in Patent Documents 1 to 3 are conventionally known.
そして、これらの特許文献1〜3に示されるものにおいては、ヒーター等によって加熱された気体を送風装置によりフィルターに導いて浄化させ、このように加熱されて浄化された気体を、被処理物をセットした処理室内を通して循環させて、前記の被処理物を加熱処理させるようにし、さらに、特許文献3に示されるものにおいては、前記のようにして被処理物を加熱処理させる他に、クーラー等によって冷却された気体を送風装置によりフィルターに導いて浄化させ、このように冷却されて浄化された気体を、被処理物をセットした処理室内を通して循環させて、前記の被処理物を冷却処理させるようにしたものが提案されている。 Then, in those shown in Patent Documents 1 to 3, the gas heated by a heater or the like is guided to a filter by a blower to purify the gas, and the gas heated and purified in this way is used as an object to be treated. It is circulated through the set processing chamber to heat-treat the object to be treated, and in the case of the one shown in Patent Document 3, in addition to heat-treating the object to be processed as described above, a cooler or the like is used. The gas cooled by the above is guided to a filter by a blower to purify it, and the gas cooled and purified in this way is circulated through a processing chamber in which the object to be processed is set to cool the object to be processed. Something like that has been proposed.
ここで、前記の特許文献1〜3に示される何れのクリーン熱処理装置においても、被処理物を単に処理室内にセットしているだけであるため、前記のように加熱されて浄化された気体或いは冷却されて浄化された気体が、処理室内にセットされた被処理物に対して一定の方向から吹き付けられるだけであり、このため、気体が被処理物に吹き付けられる上流側と下流側とにおいて被処理物の温度が異なり、被処理物を効率よく均一に加熱又は冷却させるように熱処理することができないという問題があった。 Here, in any of the clean heat treatment apparatus shown in Patent Documents 1 to 3, since the object to be treated is simply set in the treatment chamber, the gas purified by heating as described above or The cooled and purified gas is only sprayed from a certain direction on the object to be treated set in the treatment chamber, and therefore, the gas is coated on the upstream side and the downstream side where the gas is sprayed on the object to be processed. There is a problem that the temperature of the processed object is different and the heat treatment cannot be performed so as to efficiently and uniformly heat or cool the object to be processed.
さらに、前記の特許文献1〜3に示される何れのクリーン熱処理装置においても、被処理物を処理する処理室とフィルターとを横に並べて配置させているため、これらをセットする面積が大きくなって、クリーン熱処理装置を設置する設置面積が大きくなるという問題もあった。 Further, in any of the clean heat treatment apparatus shown in Patent Documents 1 to 3, since the processing chamber for processing the object to be processed and the filter are arranged side by side, the area for setting them becomes large. There is also a problem that the installation area for installing the clean heat treatment apparatus becomes large.
本発明は、クリーンな雰囲気中において被処理物を加熱させたり、冷却させたりするクリーン熱処理装置における前記のような問題を解決することを課題とするものである。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in a clean heat treatment apparatus for heating or cooling an object to be processed in a clean atmosphere.
特に、本発明におけるクリーン熱処理装置においては、被処理物を回転テーブルによって回転させるようにして、被処理物を効率よく均一に加熱させ、また加熱された被処理物を効率よく均一に冷却させることができると共に、熱処理装置の設置面積を小さくできるようにすることを課題とするものである。 In particular, in the clean heat treatment apparatus of the present invention, the object to be processed is rotated by a rotary table to efficiently and uniformly heat the object to be processed, and to efficiently and uniformly cool the heated object to be processed. At the same time, it is an object to make it possible to reduce the installation area of the heat treatment apparatus.
本発明に係るクリーン熱処理装置においては、前記のような課題を解決するため、上段部と中段部と下段部とを有するクリーン熱処理装置において、前記の中段部に処理部を設け、回転テーブルに載置させて回転される被処理物に処理用の気体を導入部から導いて処理させ、被処理物に導かれた後の気体を導出部から前記の上段部又は下段部に導く一方、前記の上段部と下段部との何れか一方に、加熱装置によって加熱させた気体を熱風用ファンによって送風させる加熱部を設け、他方に冷却装置によって冷却させた気体を冷風用ファンによって送風させる冷却部を設け、前記の加熱部と冷却部との何れか一方を運転時には他方を停止させるようにし、前記の加熱部と冷却部との何れか一方にフィルターを設け、前記の加熱装置によって加熱された気体と、前記の冷却装置によって冷却させた気体との何れか一方を選択的にフィルターに導くようにして浄化させ、フィルターによって浄化された気体を、前記の中段部の処理部における導入部に導くようにした。 In the clean heat treatment apparatus according to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, in the clean heat treatment apparatus having an upper stage portion, a middle stage portion and a lower stage portion, a processing unit is provided in the middle stage portion and placed on a rotary table. The gas to be treated is guided from the introduction part to the object to be rotated to be placed and rotated, and the gas after being guided to the object to be processed is guided from the lead-out part to the upper part or the lower part, while the above-mentioned One of the upper part and the lower part is provided with a heating part in which the gas heated by the heating device is blown by the hot air fan, and the other is provided with a cooling part in which the gas cooled by the cooling device is blown by the cold air fan. A gas heated by the heating device is provided so that either one of the heating unit and the cooling unit is stopped during operation, a filter is provided on either one of the heating unit and the cooling unit, and the gas is heated by the heating device. And, one of the gas cooled by the cooling device is selectively guided to the filter to purify the gas, and the gas purified by the filter is guided to the introduction portion in the processing portion of the middle stage portion. I made it.
そして、本発明のクリーン熱処理装置のように、中段部における処理部に、被処理物を載置させて回転させる回転テーブルを設け、この回転テーブルに載置させた被処理物を回転させながら、加熱部における加熱装置によって加熱させた気体を熱風用ファンによりフィルターに導いて浄化させて、このように加熱されて浄化された気体を前記のように導入部を通して回転する被処理物に吹き付けて加熱させると、回転される被処理物に対して加熱されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物が均一に加熱されるようになり、また冷却部における冷却装置によって冷却させた気体を冷風用ファンによってフィルターに導いて浄化させて、このように冷却されて浄化された気体を前記のように導入部を通して回転する被処理物に吹き付けて冷却させると、回転される被処理物に対して冷却されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物が均一に冷却されるようになる。 Then, like the clean heat treatment apparatus of the present invention, a rotary table on which the object to be processed is placed and rotated is provided in the processing section in the middle stage portion, and the object to be processed placed on the rotary table is rotated while being rotated. The gas heated by the heating device in the heating section is guided to the filter by a hot air fan to purify it, and the gas thus heated and purified is sprayed onto the object to be processed rotating through the introduction section to heat it. Then, the heated and purified gas is uniformly sprayed onto the rotating object to be processed so that the object to be processed is uniformly heated, and the gas cooled by the cooling device in the cooling unit. Is guided to a filter by a cold air fan to purify it, and when the gas cooled and purified in this way is sprayed on the rotating object to be processed through the introduction portion as described above to be cooled, the object to be rotated becomes On the other hand, the cooled and purified gas is uniformly sprayed, so that the object to be treated is uniformly cooled.
また、本発明のクリーン熱処理装置のように、処理部が設けられた前記の中段部の上下に位置する上段部と下段部との何れか一方に、加熱装置によって加熱させた気体や冷却装置によって冷却させた気体を浄化させるフィルターを設け、このフィルターによって浄化された気体を前記の処理部における導入部に導くようにすると、被処理物を処理する処理部とフィルターとを横に並べて配置させる場合に比べて、これらをセットする面積を小さくして、クリーン熱処理装置の設置面積を小さくすることができる。 Further, as in the clean heat treatment apparatus of the present invention, either the upper portion or the lower portion located above and below the middle portion provided with the processing portion is provided with a gas or a cooling device heated by the heating device. When a filter for purifying the cooled gas is provided and the gas purified by this filter is guided to the introduction portion in the processing unit, the processing unit for processing the object to be processed and the filter are arranged side by side. It is possible to reduce the installation area of the clean heat treatment apparatus by reducing the area in which these are set.
ここで、本発明のクリーン熱処理装置においては、前記の上段部に、加熱装置によって加熱させた気体を熱風用ファンによって送風させる前記の加熱部を設けると共に前記のフィルターを設ける一方、前記の下段部に、冷却装置によって冷却させた気体を冷風用ファンによって送風させる前記の冷却部を設け、この冷却部から冷風用ファンによって冷却された気体を前記の上段部に案内する冷風案内管を設け、前記の加熱部の運転時には、前記の加熱装置によって加熱させた気体を前記の熱風用ファンにより前記のフィルターを導き、このフィルターにより加熱させた気体を浄化させて前記の処理部における導入部に導く一方、前記の冷却部の運転時には、前記の冷却装置によって冷却させた気体を、前記の冷風用ファンにより前記の冷風案内管から前記の上段部に設けられた前記のフィルターに導き、このフィルターにより冷却させた気体を浄化させて前記の処理部における導入部に導くようにすることができる。 Here, in the clean heat treatment apparatus of the present invention, the upper portion is provided with the heating portion for blowing the gas heated by the heating apparatus by the hot air fan, and the filter is provided, while the lower portion is provided. Is provided with the cooling unit for blowing the gas cooled by the cooling device by the cold air fan, and the cold air guide pipe for guiding the gas cooled by the cold air fan from the cooling unit to the upper stage portion. During the operation of the heating unit, the gas heated by the heating device is guided by the hot air fan to guide the filter, and the gas heated by the filter is purified and guided to the introduction unit in the processing unit. During the operation of the cooling unit, the gas cooled by the cooling device is guided from the cold air guide pipe to the filter provided in the upper portion by the cold air fan, and cooled by the filter. The gas can be purified and guided to the introduction section in the processing section.
ここで、本発明のクリーン熱処理装置においては、前記の処理部における前記の導入部に、処理用の気体を回転テーブルに載置させて回転される被処理物に分散させて導く複数の穴を有する分散導入部材を設けると共に、被処理物に導かれた後の気体が導かれる導出部に、被処理物に導かれた後の気体を分散させて導出部内に導く分散導出部材を設けることができる。 Here, in the clean heat treatment apparatus of the present invention, a plurality of holes for guiding the gas for processing by placing it on a rotary table and dispersing it in a rotating object to be processed are formed in the introduction portion in the processing unit. In addition to providing the dispersion introduction member to have, the derivation part where the gas after being guided to the object to be treated is provided, and the dispersion derivation member which disperses the gas after being guided to the object to be treated and guides the gas into the derivation part can be provided. can.
そして、処理部に設けた前記の分散導入部材と分散導出部材との少なくとも一方における回転テーブルと対向する部分に、円弧状になった凹部を設けるようにすると、被処理物を回転テーブルに載置させて回転させる処理部における面積をさらに小さくさせて、クリーン熱処理装置を設置する設置面積を小さくできる。 Then, if an arcuate concave portion is provided in the portion of at least one of the dispersion introducing member and the dispersion derivation member provided in the processing unit facing the rotary table, the object to be processed is placed on the rotary table. The area of the processing unit to be rotated and rotated can be further reduced, and the installation area for installing the clean heat treatment apparatus can be reduced.
また、本発明のクリーン熱処理装置においては、前記の処理部における回転テーブルを回転させる回転装置を、処理部の下の下段部内に設けることができる。このようにすると、回転装置を処理部内に設ける場合のように、処理部内において回転装置により回転させる回転テーブルを配置させる位置が問題になったり、被処理物を加熱処理や冷却処理する場合に、回転装置が加熱されたり、冷却されたりして、故障するのを防止できるようになる。 Further, in the clean heat treatment apparatus of the present invention, a rotating apparatus for rotating the rotary table in the processing portion can be provided in the lower portion below the processing portion. In this way, as in the case where the rotating device is provided in the processing unit, the position where the rotating table to be rotated by the rotating device is arranged in the processing unit becomes a problem, or when the object to be processed is heat-treated or cooled. It becomes possible to prevent the rotating device from being heated or cooled and failing.
本発明におけるクリーン熱処理装置においては、前記のように中段部における処理部に被処理物を載置させて回転させる回転テーブルを設け、この回転テーブルに載置させた被処理物を回転させながら、加熱部における加熱装置によって加熱させた気体を熱風用ファンによりフィルターに導いて浄化させ、このように加熱されて浄化された気体を、前記のように導入部を通して回転する被処理物に吹き付けて加熱させるようにしたため、回転する被処理物に対して加熱されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物が均一に加熱されるようになり、また冷却部における冷却装置によって冷却させた気体を冷風用ファンによってフィルターに導いて浄化させ、このように冷却されて浄化された気体を、前記のように導入部を通して回転する被処理物に吹き付けて冷却させるようにしたため、回転する被処理物に対して冷却されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物が均一に冷却されるようになった。 In the clean heat treatment apparatus of the present invention, as described above, a rotary table on which the object to be processed is placed and rotated is provided on the processed portion in the middle stage portion, and the object to be processed placed on the rotary table is rotated while being rotated. The gas heated by the heating device in the heating section is guided to the filter by a hot air fan to purify it, and the gas thus heated and purified is sprayed onto the object to be processed rotating through the introduction section to heat it. Therefore, the gas to be heated and purified is uniformly sprayed on the rotating object to be processed so that the object to be processed is uniformly heated, and the object to be processed is cooled by the cooling device in the cooling unit. The gas is guided to the filter by a cold air fan to purify it, and the gas cooled and purified in this way is sprayed onto the object to be processed rotating through the introduction portion as described above to cool the object to be processed. The cooled and purified gas is uniformly sprayed on the object, and the object to be treated is uniformly cooled.
また、本発明のクリーン熱処理装置においては、前記のように処理部が設けられた中段部の上下に位置する上段部と下段部との何れか一方に、加熱装置によって加熱させた気体や冷却装置によって冷却させた気体を浄化させるフィルターを設け、このフィルターによって浄化された気体を、中段部の処理部における導入部に導くようにするため、被処理物を処理する処理部とフィルターとを横に並べて配置させる従来の場合に比べて、これらを配置させる面積を小さくして、クリーン熱処理装置の設置面積を小さくすることができるようになった。 Further, in the clean heat treatment apparatus of the present invention, a gas or a cooling apparatus heated by a heating apparatus on either one of the upper portion and the lower portion located above and below the middle portion provided with the processing portion as described above. A filter for purifying the gas cooled by the above is provided, and in order to guide the gas purified by this filter to the introduction part in the processing part in the middle stage, the processing part for treating the object to be processed and the filter are placed side by side. Compared with the conventional case where they are arranged side by side, the area where they are arranged can be made smaller, and the installation area of the clean heat treatment apparatus can be made smaller.
以下、本発明の実施形態に係るクリーン熱処理装置を添付図面に基づいて具体的に説明する。なお、本発明に係るクリーン熱処理装置は、下記の実施形態に示したものに限定されず、発明の要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施できるものである。 Hereinafter, the clean heat treatment apparatus according to the embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. The clean heat treatment apparatus according to the present invention is not limited to the one shown in the following embodiment, and can be appropriately modified and implemented without changing the gist of the invention.
この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、図1等に示すように、装置本体10の内部に、装置本体10内を上下に仕切るように上棚板11と下棚板12とを設け、装置本体10内を、上棚板11の上に位置する上段部13と、上棚板11と下棚板との間に位置する中段部14と、下棚板12の下に位置する下段部15とに分割させている。
In the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, as shown in FIG. 1 and the like, an
そして、この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、前記の上段部13に加熱部20を設け、加熱装置21によって加熱させた気体を、加熱装置21の下流側における取付板22に設けた熱風用ファン23によって送風させ、この熱風用ファン23により加熱させた気体を送風方向下流側の位置における前記の上棚板11の上に設けたフィルターFに導いて、このフィルターFにより加熱させた気体を浄化させ、この加熱部20からは、このように加熱されて浄化された処理用の気体を、前記のフィルターFの下にある上棚板11の部分に設けた送風口11aを通して前記の中段部14に導くようにしている。
Then, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, the
また、前記の上棚板11と下棚板12との間に位置する中段部14には処理部30を設け、前記のフィルターFから送風口11aを通して処理用の気体が導かれる導入部31よりも下流側の位置に、被処理物xを載置させて回転される回転テーブル32を設け、この回転テーブル32を前記の下棚板12の下に設けた回転装置33によって回転させるようにしている。
Further, a
そして、前記の導入部31と回転テーブル32との間に複数の穴34aを有する分散導入部材34を設け、導入部31に導かれた処理用の気体を、分散導入部材34における各穴34aを通して回転テーブル32に載置されて回転される被処理物xに吹き付けるようにしている。
Then, a
さらに、回転テーブル32に載置されて回転される被処理物xに吹き付けた後の気体を、回転テーブル32より下流側に位置する導出部35に導く途中の位置に、前記の気体を通過させる複数の穴36aを有する分散導出部材36を設け、導入部31から導かれた処理用の気体が直ぐに導出部35に導かれるのを抑制して、回転テーブル32に載置されて回転される被処理物xが処理用の気体によって均一に加熱させるようにしている。
Further, the gas after being sprayed on the object x to be rotated, which is placed on the rotary table 32, is passed through the gas at a position in the middle of being guided to the lead-out
そして、前記の導出部35における上棚板11の部分には、導出部35に導かれた加熱処理させた後の気体を上段部13における加熱部20に導く戻し開口部11bを設ける一方、導出部35における下棚板12の部分には、後述する下段部15に設けた冷却部40に戻す一対の戻し穴12aを設けている。
Then, the portion of the
また、前記の下棚板12の下の下段部15には冷却部40を設け、この冷却部40においては、前記の導出部35における下棚板12に設けられた一対の各戻し穴12aに、戻し管41から分岐された各戻し分岐管41aを挿通させると共に、戻し分岐管41aが合流された戻し管41に戻し側開閉弁42を設け、この戻し側開閉弁42を開けて戻し管41を通して戻される気体を冷却装置43によって冷却させるようにしている。
Further, a cooling
そして、このように冷却装置43によって冷却された気体を冷風用ファン44によって送る冷風案内管45に送り側開閉弁46を設け、この送り側開閉弁46を開けて冷風案内管45を通して送られる冷却された気体を分岐させて送る一対の分岐冷風案内管45aに導くようにしている。
Then, a feed side on-off
さらに、この一対の分岐冷風案内管45aを、前記の下棚板12に設けられた各貫通穴12bから前記の中段部14における処理部30を通して前記の上棚板11におけるフィルターFの近傍に設けられた各案内穴11cに挿通させ、各分岐冷風案内管45aを通して冷却された気体を前記の上段部13に送り、この冷却された気体を上段部13に設けた前記のフィルターFに導き、このフィルターFにより冷却された気体を浄化させ、このように冷却されて浄化された処理用の気体を、前記のフィルターFの下における上棚板11の部分に設けた送風口11aを通して前記の中段部14に導くようにしている。
Further, the pair of branched cold
ここで、この実施形態におけるクリーン熱処理装置において、回転装置33により回転テーブル32に載置させた被処理物xを回転させて、前記の加熱部20において加熱された処理用の気体により被処理物xを加熱処理する場合を、図2に基づいて具体的について説明する。
Here, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, the object to be processed x placed on the rotary table 32 is rotated by the rotating
この場合、前記の下段部15における冷却部40においては、前記の戻し管41に設けた戻し側開閉弁42及び冷風案内管45に設けた送り側開閉弁46を閉じると共に、前記の冷却装置43及び冷風用ファン44を停止させる。
In this case, in the
一方、前記の上段部13における加熱部20においては、前記の加熱装置21及び熱風用ファン23を作動させ、加熱装置21によって加熱させた気体を取付板22に設けた熱風用ファン23により送風させて、送風方向下流側の位置における上棚板11の上に設けた前記のフィルターFに導き、このフィルターFによって加熱させた気体を浄化させ、このように加熱されて浄化された処理用の気体を、前記のフィルターFの下における上棚板11の部分に設けた送風口11aを通して中段部14の処理部30における前記の導入部31に導くようにする。
On the other hand, in the
そして、このように処理部30の導入部31に導かれた加熱されて浄化された処理用の気体を、導入部31より下流側の位置に設けた前記の分散導入部材34における複数の各穴34aを通して、前記の回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xに吹き付けて加熱させるようにしている。また、このように被処理物xを加熱させた後の加熱処理後の気体を、その下流側に設けた前記の分散導出部材36における複数の各穴36aを通して前記の導出部35に導き、このように導出部35に導かれた加熱処理後の気体を、導出部35における上棚板11に設けた前記の戻し開口部11bを通して加熱部20に戻し、前記のような操作を繰り返して行って、回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xを十分に加熱処理させる。
Then, the heated and purified processing gas guided to the
また、この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、前記のように加熱されて浄化された処理用の気体を、分散導入部材34における複数の各穴34aから回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xに吹き付けて、被処理物xを加熱させるようにしたため、回転される被処理物xに対して加熱されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物xを均一に加熱処理できるようになる。
Further, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, the processing gas heated and purified as described above is placed on the rotary table 32 from the plurality of
次に、この実施形態におけるクリーン熱処理装置において、回転装置33により回転テーブル32に載置させた被処理物xを回転させて、前記の冷却部40において冷却された処理用の気体により、被処理物xを冷却処理する場合を、図3に基づいて具体的について説明する。
Next, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, the object to be processed x placed on the rotary table 32 is rotated by the rotating
この場合、前記の上段部13における加熱部20に設けた前記の加熱装置21及び熱風用ファン23を停止させ、加熱された処理用の気体が前記のフィルターFに導かれないようにする。
In this case, the
一方、前記の下段部15における冷却部40においては、前記の戻し管41に設けた戻し側開閉弁42と冷風案内管45に設けた送り側開閉弁46とを開ける共に、前記の冷却装置43及び冷風用ファン44を作動させる。
On the other hand, in the
そして、前記の中段部14の処理部30の下流側における導出部35における気体を、前記の冷風用ファン44により、導出部35における下棚板12に設けた一対の各戻し穴12aに挿通された各戻し分岐管41aから戻し管41を通して吸引し、この戻し管41に設けた前記の冷却装置43に導いて、前記の気体を冷却装置43により冷却させた後、このように冷却された気体を戻し管41から前記の冷風用ファン44により冷風案内管45に送り、この冷風案内管45から冷却された気体を一対の分岐冷風案内管45aに導くようにしている。
Then, the gas in the lead-out
ここで、この一対の分岐冷風案内管45aは、前記のように下棚板12に設けられた各貫通穴12bから前記の中段部14における処理部30を通して前記の上棚板11におけるフィルターFの近傍に設けられた各案内穴11cに挿通されており、前記のように冷風案内管45から各分岐冷風案内管45aに導かれた冷却された気体を前記の上段部13に導いて、上段部13に設けた前記のフィルターFに送り、このフィルターFにより冷却された気体を浄化させ、このように冷却されて浄化された処理用の気体を、前記のフィルターFの下における上棚板11の部分に設けた送風口11aを通して前記の中段部14の処理部30における導入部31に導くようにしている。
Here, the pair of branched cold
そして、このように処理部30の導入部31に導かれた冷却されて浄化された処理用の気体を、導入部31より下流側の位置に設けた前記の分散導入部材34における複数の各穴34aを通して、前記の回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xに吹き付けて冷却させる。
Then, the cooled and purified processing gas guided to the
また、このように被処理物xを冷却させた後の冷却処理後の気体を、その下流側に設けた前記の分散導出部材36における複数の各穴36aを通して前記の導出部35に導き、このように導出部35に導かれた冷却処理後の気体を、前記のように冷風用ファン44により、導出部35における下棚板12に設けた一対の各戻し穴12aに挿通された各戻し分岐管41aから戻し管41を通して吸引させて冷却装置43により冷却させるようにし、前記のような操作を繰り返して行って、回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xを十分に冷却処理させる。
Further, the gas after the cooling treatment after cooling the object x in this way is guided to the lead-out
そして、このように回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xを冷却させる場合にも、この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、前記のように冷却されて浄化された処理用の気体を、分散導入部材34における複数の各穴34aから回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xに吹き付けて、被処理物xを冷却させるようにしたため、回転する被処理物xに対して冷却されて浄化された気体が均一に吹き付けられて、被処理物を均一に冷却処理できるようになる。
Then, even when the object to be processed x that is placed on the rotary table 32 and rotated is cooled in this way, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, the treatment that has been cooled and purified as described above is performed. The gas for processing is sprayed from each of the plurality of
ここで、この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、前記のように処理用の気体を導入部31からの回転テーブル32の上に載置されて回転される被処理物xに導く部分に、複数の穴34aを有する分散導入部材34として、平板状になったものを設けるようにしたが、図4に示すように、分散導入部材34における回転テーブル32と対向する部分に、円弧状になった凹部34bを設けるようにすると、被処理物xを回転テーブル32に載置させて回転させる処理部30の面積を小さくさせて、クリーン熱処理装置を設置する設置面積を小さくすることができる。なお、図示していないが、被処理物xに導かれた後の気体が導かれる導出部35に被処理物xに導かれた後の気体を分散させて導く前記の複数の穴36aを有する分散導出部材36についても、前記の分散導入部材34と同様に、回転テーブル32と対向する部分に円弧状になった凹部を設けて、処理部30における面積を小さくさせて、クリーン熱処理装置を設置する設置面積を小さくすることができる。
Here, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, as described above, a plurality of processing gases are placed on the rotary table 32 from the
また、この実施形態におけるクリーン熱処理装置においては、前記のように装置本体10内を、上棚板11の上に位置する上段部13と、上棚板11と下棚板との間に位置する中段部14と、下棚板12の下に位置する下段部15とに分割させ、中段部14に処理部30を設けると共に、上段部13に加熱部20を、下段部15に冷却部40を設けるようにしたが、図示していないが、上段部13に冷却部40を、下段部15に加熱部20を設けるようにすることも可能である。
Further, in the clean heat treatment apparatus according to this embodiment, as described above, the inside of the apparatus
10 :装置本体
11 :上棚板
11a :送風口
11b :戻し開口部
11c :案内穴
12 :下棚板
12a :戻し穴
12b :貫通穴
13 :上段部
14 :中段部
15 :下段部
20 :加熱部
21 :加熱装置
22 :取付板
23 :熱風用ファン
30 :処理部
31 :導入部
32 :回転テーブル
33 :回転装置
34 :分散導入部材
34a :穴
34b :凹部
35 :導出部
36 :分散導出部材
36a :穴
40 :冷却部
41 :戻し管
41a :戻し分岐管
42 :戻し側開閉弁
43 :冷却装置
44 :冷風用ファン
45 :冷風案内管
45a :分岐冷風案内管
46 :送り側開閉弁
F :フィルター
x :被処理物
10: Equipment main body 11:
Claims (5)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020003052A JP7073016B2 (en) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Clean heat treatment equipment |
TW109128782A TWI763012B (en) | 2020-01-10 | 2020-08-24 | Clean heat treatment apparatus |
CN202110022398.9A CN113108599A (en) | 2020-01-10 | 2021-01-08 | Cleaning heat treatment device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020003052A JP7073016B2 (en) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Clean heat treatment equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021110506A true JP2021110506A (en) | 2021-08-02 |
JP7073016B2 JP7073016B2 (en) | 2022-05-23 |
Family
ID=76709197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020003052A Active JP7073016B2 (en) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Clean heat treatment equipment |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7073016B2 (en) |
CN (1) | CN113108599A (en) |
TW (1) | TWI763012B (en) |
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2020
- 2020-01-10 JP JP2020003052A patent/JP7073016B2/en active Active
- 2020-08-24 TW TW109128782A patent/TWI763012B/en active
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2021
- 2021-01-08 CN CN202110022398.9A patent/CN113108599A/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7073016B2 (en) | 2022-05-23 |
CN113108599A (en) | 2021-07-13 |
TW202126974A (en) | 2021-07-16 |
TWI763012B (en) | 2022-05-01 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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