JP2021099433A - Light control element - Google Patents

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直哉 西村
Naoya Nishimura
直哉 西村
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Abstract

To provide a light control element which can be manufactured with improved yield.SOLUTION: A light control element provided herein comprises an electrochromic layer provided on each of two opposing electrodes, and an electrolytic layer provided between the electrochromic layers, where at least one of the electrodes has a fine mesh-like metallic line pattern on a substrate and a conductive nonmetallic layer provided on the fine mesh-like metallic line pattern. The electrolytic layer contains a tetrazole compound and/or benzotriazole compound.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、製造工程での歩留まりが改善された調光素子に関するものである。 The present invention relates to a dimming element having an improved yield in the manufacturing process.

通電時にヘーズや色が変化する調光素子が知られている。通電時にヘーズが変化する調光素子は、オフィス等のパーテションといった視線遮蔽用途で検討されている。一方、通電時に色が変化する調光素子は、住宅、自動車、電車、飛行機等の窓を対象とした太陽光遮光用途で検討されている。 Dimming elements that change haze or color when energized are known. A dimming element whose haze changes when energized is being studied for line-of-sight shielding applications such as partitions in offices and the like. On the other hand, a dimming element whose color changes when energized is being studied for sunlight shading applications for windows of houses, automobiles, trains, airplanes, and the like.

通電時に色が変化する調光素子は一般的に、対向する2つの電極間にエレクトロクロミック材料(酸化還元反応やイオンの授受により色が変化する材料)および電解質(エレクトロクロミック材料への電子やイオンの授受を担う)を有する。その構成としては、特開2019−168683号公報(特許文献1)や特開2018−72490号公報(特許文献2)に示されているように、対向する2つの電極の間に、エレクトロクロミック材料と電解質が混在する層を有するものや、特開2018−185424号公報(特許文献3)に示されているように、対向する2つの電極間にエレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層を有し、該エレクトロクロミック層間に電解質を含有する電解質層を有するものが知られている。後者の構成は応答速度に優れる他、通電を終了した後の色の維持(いわゆるメモリー性)にも優れることから特に注目を集めている。 A dimming element that changes color when energized is generally an electrochromic material (a material that changes color due to a redox reaction or the transfer of ions) and an electrolyte (electrons and ions to an electrochromic material) between two opposing electrodes. (Responsible for giving and receiving). As its configuration, as shown in JP-A-2019-168683 (Patent Document 1) and JP-A-2018-72490 (Patent Document 2), an electrochromic material is provided between two opposing electrodes. It has a layer in which and an electrolyte are mixed, and as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-185424 (Patent Document 3), it has an electrochromic layer containing an electrochromic material between two opposing electrodes. , Those having an electrolyte layer containing an electrolyte between the electrochromic layers are known. The latter configuration is attracting particular attention because it is excellent in response speed and also in color maintenance (so-called memory property) after the energization is terminated.

前記したように調光素子の色変化には電子の授受が必要であるため、電極の導電性が優れるほど調光素子の色変化速度は高速化される。そこで調光素子の色変化速度の向上を目的として、網目状金属細線パターン上にITOに代表される導電性金属酸化物やグラフェン等の導電性を有する非金属材料による導電性非金属層を積層した材料を電極として用いる試みがなされている。例えば特開2017−194536号公報(特許文献4)には、エレクトロクロミック層を備えた調光素子の電極について、ITO等を主成分とする透明導電層の電気伝導を補助することを目的として、基材と透明導電層の間に、金属薄膜が細線状にパターニングされた金属導電層を設けることが記載されている。 As described above, since it is necessary to transfer electrons to change the color of the dimming element, the better the conductivity of the electrode, the faster the color changing speed of the dimming element. Therefore, for the purpose of improving the color change rate of the dimming element, a conductive non-metal layer made of a conductive non-metal material such as a conductive metal oxide typified by ITO or graphene is laminated on a mesh-like fine metal wire pattern. Attempts have been made to use the resulting material as an electrode. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-194536 (Patent Document 4) aims to assist the electrical conduction of a transparent conductive layer containing ITO or the like as a main component of an electrode of a dimming element provided with an electrochromic layer. It is described that a metal conductive layer in which a metal thin film is patterned in a fine line shape is provided between the base material and the transparent conductive layer.

しかし、ITOに代表される導電性非金属層は耐屈曲性が低いため、調光素子の製造工程における電極の僅かな屈曲に伴い該導電性非金属層にクラックが入る場合がある。導電性非金属層にクラックが生じると、クラックから電解質層の成分がエレクトロクロミック層を通じて網目状金属細線パターンまで浸透する。その状態で通電して色変化を繰り返すと該当箇所で色変化が生じなくなるため、調光素子を製造する際の歩留まりが低下する問題があり、解決が求められていた。 However, since the conductive non-metal layer represented by ITO has low bending resistance, the conductive non-metal layer may be cracked due to slight bending of the electrode in the manufacturing process of the dimming element. When a crack occurs in the conductive non-metal layer, the components of the electrolyte layer permeate from the crack to the reticulated metal fine line pattern through the electrochromic layer. If the power is applied in that state and the color change is repeated, the color change does not occur at the corresponding portion, so that there is a problem that the yield at the time of manufacturing the dimming element decreases, and a solution has been sought.

一方、特開2016−110010号公報(特許文献5)には、通電時にヘーズが変化する調光フィルムを連続動作させた際のヘーズ減少率の低下改善を目的として、光透過性電極上の調光層が、液晶化合物、バインダー樹脂、および含窒素複素環化合物を含有する高分子型液晶体である調光フィルムが開示され、該含窒素複素環化合物の一例としてベンゾトリアゾール化合物やテトラゾール化合物が記載されている。また特開2009−175718号公報(特許文献6)には、透明電極の間に、エレクトロクロミック材料であるハロゲン化銀と、ハロゲンを含む支持電解質が混在する電解液の層を有する調光デバイスが記載され、該電解液が含有できる添加剤(アゾール類)の一例として、ベンゾトリアゾール類が記載される。 On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-11010 (Patent Document 5) describes the adjustment on the light transmissive electrode for the purpose of improving the decrease in the haze reduction rate when the light control film whose haze changes when energized is continuously operated. A dimming film in which the optical layer is a polymer liquid crystal body containing a liquid crystal compound, a binder resin, and a nitrogen-containing heterocyclic compound is disclosed, and a benzotriazole compound or a tetrazole compound is described as an example of the nitrogen-containing heterocyclic compound. Has been done. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-175718 (Patent Document 6) describes a dimming device having a layer of an electrolytic solution in which silver halide, which is an electrochromic material, and a supporting electrolyte containing halogen are mixed, between transparent electrodes. Benzotriazoles are described as an example of the additives (azoles) that can be contained in the electrolytic solution.

他方、特開2017−87564号公報(特許文献7)には、導電性金属細線のイオンマイグレーションおよび抵抗値変動を抑制することを目的として、支持体上に導電性金属細線と、テトラゾール化合物を含有する粘着剤層と、機能材料とを積層した導電材料積層体が開示され、特開2017−194731号公報(特許文献8)には、塩化物イオンによる抵抗値変化を抑制することを目的として、支持体上に光透過性電極と、ベンゾトリアゾール化合物を含有する粘着剤層と、機能材料とを積層した光透過性電極積層体が開示されている。 On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-87564 (Patent Document 7) contains a conductive metal wire and a tetrazole compound on the support for the purpose of suppressing ion migration and resistance value fluctuation of the conductive metal wire. A conductive material laminate obtained by laminating a pressure-sensitive adhesive layer and a functional material is disclosed, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-194731 (Patent Document 8) aims to suppress a change in resistance value due to chloride ions. A light-transmitting electrode laminate in which a light-transmitting electrode, a pressure-sensitive adhesive layer containing a benzotriazole compound, and a functional material are laminated on a support is disclosed.

特開2019−168683号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-168683 特開2018−72490号公報JP-A-2018-72490 特開2018−185424号公報JP-A-2018-185424 特開2017−194536号公報JP-A-2017-194536 特開2016−110010号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-11010 特開2009−175718号公報JP-A-2009-175718 特開2017−87564号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-87564 特開2017−194731号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-194731

本発明の課題は、製造工程での歩留まりが改善された調光素子を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a dimming element having an improved yield in a manufacturing process.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
対向する2つの電極上にそれぞれエレクトロクロミック層を有し、該エレクトロクロミック層間に電解質層を有し、該電極の少なくとも一方は支持体上に網目状金属細線パターンと該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有し、該電解質層がテトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物を含有することを特徴とする調光素子。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
Each of the two opposing electrodes has an electrochromic layer, and an electrolyte layer is provided between the electrochromic layers, and at least one of the electrodes has a mesh metal fine wire pattern on the support and a mesh metal fine wire pattern on the mesh metal fine wire pattern. A dimming device having a conductive non-metal layer, wherein the electrolyte layer contains a tetrazole compound and / or a benzotriazole compound.

本発明により、製造工程での歩留まりが改善された調光素子を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a dimming element having improved yield in a manufacturing process.

本発明の調光素子の一例を示す概略断面図Schematic cross-sectional view showing an example of the dimming element of the present invention

以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

図1は本発明の調光素子の一例を示す概略断面図である。図1に例示される調光素子1は、対向する電極2、電極3上にそれぞれエレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42を有し、エレクトロクロミック層間に電解質層51を有する。前記した電極2は支持体11上に金属細線21a〜21dから構成される網目状金属細線パターン21と、該網目状金属細線パターン21上に導電性非金属層31を有する。電解質層51はテトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物を含有する。本発明では調光素子1を上記した構成とすることで、たとえ製造工程において電極に僅かな屈曲が生じ、導電性非金属層にクラックが生じたとしても、調光素子1の色変化が生じなくなる問題が改善される。よって、調光素子1の製造工程での歩留まりが改善される。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the dimming element of the present invention. The dimming element 1 illustrated in FIG. 1 has an electrochromic layer 41 and an electrochromic layer 42 on the opposing electrodes 2 and 3, respectively, and has an electrolyte layer 51 between the electrochromic layers. The electrode 2 has a mesh-like metal fine wire pattern 21 composed of metal fine wires 21a to 21d on the support 11, and a conductive non-metal layer 31 on the mesh-like metal fine wire pattern 21. The electrolyte layer 51 contains a tetrazole compound and / or a benzotriazole compound. In the present invention, by adopting the dimming element 1 as described above, even if the electrode is slightly bent in the manufacturing process and the conductive non-metal layer is cracked, the color of the dimming element 1 is changed. The problem of disappearing is improved. Therefore, the yield in the manufacturing process of the dimming element 1 is improved.

なお、図1は概略図であり、図中の各層の厚みや幅等の関係は図の通りである必要はない。 Note that FIG. 1 is a schematic view, and the relationship between the thickness and width of each layer in the figure does not have to be as shown in the figure.

本発明において電極2が有する支持体11としては、樹脂、ガラス、セラミックス等の絶縁性支持体が好ましく用いられる。中でも、屈曲性および透明性に優れる樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。かかる樹脂フィルムを形成する樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセチルセルロースなどのトリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等が例示できる。支持体11の全光線透過率は70%以上であることが好ましく、さらに好ましくは80%以上である。支持体11のヘーズは0〜7%であることが好ましく、さらに好ましくは0〜4%である。 In the present invention, as the support 11 included in the electrode 2, an insulating support such as resin, glass, or ceramics is preferably used. Among them, a resin film having excellent flexibility and transparency is preferably used because it has excellent handleability. Specific examples of the resin forming such a resin film include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, polycarbonate resins, diacetates resins, and birds. Examples thereof include triacetate resins such as acetyl cellulose, polyarylate resins, polyvinyl chlorides, polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyimide resins, polyamide resins, polyolefin resins, cyclic polyolefin resins, and polyvinyl acetal resins. The total light transmittance of the support 11 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The haze of the support 11 is preferably 0 to 7%, more preferably 0 to 4%.

支持体11の厚みは特に限定されないが、25〜500μmであることが調光素子の薄型化が可能になることから好ましい。支持体11は、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。なお、図1では図示していないが、支持体11は、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、接着剤層、帯電防止層等の公知の層を有していてもよく、支持体11には、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、ケン化処理等の公知の表面改質処理が施されていてもよい。 The thickness of the support 11 is not particularly limited, but it is preferably 25 to 500 μm because the dimming element can be made thinner. The support 11 may contain known additives such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a plasticizer, a mold release agent, a colorant, a flame retardant, and an antistatic agent. Although not shown in FIG. 1, the support 11 may have known layers such as an easy-adhesion layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, an adhesive layer, and an antistatic layer. Often, the support 11 may be subjected to known surface modification treatments such as corona treatment, plasma treatment, primer treatment, and saponification treatment.

本発明において網目状金属細線パターン21は金属細線21a〜21dにより構成される。かかる金属細線が含有する金属種は限定されず、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の公知の金属や公知の金属からなる合金を例示できるが、導電性の観点から銀または銅であることが好ましい。金属細線が含有する金属の割合は、金属細線の全固形分質量に対し50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上が特に好ましい。 In the present invention, the mesh-like fine metal wire pattern 21 is composed of the fine metal wires 21a to 21d. The metal type contained in the fine metal wire is not limited, and examples thereof include known metals such as gold, silver, copper, aluminum, and nickel, and alloys made of known metals, but the metal must be silver or copper from the viewpoint of conductivity. Is preferable. The ratio of the metal contained in the fine metal wire is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more, based on the total solid content mass of the fine metal wire.

網目状金属細線パターン21を構成する金属細線21a〜21dの厚みは特に限定されないが、厚すぎると金属細線が視認されやすくなる場合があり、薄すぎると網目状金属細線パターン21の導電性が不足する場合がある。よって、金属細線の厚みは0.05〜15μmが好ましく、より好ましくは0.07〜12μmであり、特に好ましくは0.1〜10μmである。 The thickness of the metal fine wires 21a to 21d constituting the mesh metal fine wire pattern 21 is not particularly limited, but if it is too thick, the metal fine wires may be easily visible, and if it is too thin, the conductivity of the mesh metal fine wire pattern 21 is insufficient. May be done. Therefore, the thickness of the thin metal wire is preferably 0.05 to 15 μm, more preferably 0.07 to 12 μm, and particularly preferably 0.1 to 10 μm.

本発明において、網目状金属細線パターン21のパターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状であることが視認性(パターンの難視認性、以下、単に視認性と記載する。)に優れた調光素子が得られるため好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のn角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは2種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターン21の形状の一つである。 In the present invention, the pattern of the mesh-like thin metal wire pattern 21 has a geometric shape in which a plurality of unit lattices are arranged in a mesh pattern (difficult visibility of the pattern, hereinafter simply referred to as visibility). It is preferable because an excellent dimming element can be obtained. The shape of the unit cell includes, for example, regular triangles, isosceles triangles, right-angled triangles and other triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallel quadrilaterals, trapezoids and other quadrangles, hexagons, octagons, dodecagons, and hexagons. Examples of shapes include a combination of n-sided triangles, star-shaped shapes, and the like, and examples thereof include a single repetition of these shapes or a combination of two or more types of a plurality of shapes. Of these, the shape of the unit cell is preferably square or rhombus. An irregular geometric shape represented by a Voronoi diagram, a Delaunay diagram, a Penrose tile diagram, or the like is also one of the preferred shapes of the mesh-like metal fine line pattern 21.

網目状金属細線パターン21を構成する金属細線21a〜21dの線幅は30μm以下であることがパターンの視認性の観点から好ましく、さらに好ましくは1〜20μmである。また単位格子の繰り返し間隔は50〜800μmであることが視認性に優れることから好ましく、さらに好ましくは100〜500μmである。網目状金属細線パターン21の開口率は60%以上であることが光透過性に優れた電極が得られるため好ましく、70%以上がより好ましい。なお、本発明において開口率とは支持体11が占める面積に対して、網目状金属細線パターン21が占める面積を除いた部分が占める面積の割合である。 The line width of the fine metal wires 21a to 21d constituting the mesh-like fine metal wire pattern 21 is preferably 30 μm or less, more preferably 1 to 20 μm from the viewpoint of pattern visibility. Further, the repetition interval of the unit cell is preferably 50 to 800 μm because it is excellent in visibility, and more preferably 100 to 500 μm. The aperture ratio of the mesh-like metal fine wire pattern 21 is preferably 60% or more because an electrode having excellent light transmission can be obtained, and more preferably 70% or more. In the present invention, the aperture ratio is the ratio of the area occupied by the portion excluding the area occupied by the mesh-like metal fine wire pattern 21 to the area occupied by the support 11.

支持体11上に網目状金属細線パターン21を形成する方法は特に限定されず、例えば特開2015−69877号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与して網目状金属細線パターンを形成する方法や、特開2007−59270号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を用い、硬化現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2004−221564号公報、特開2007−12314号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を用い、直接現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報、特開2007−188655号公報、特開2004−207001号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2014−197531号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2015−82178号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して網目状金属細線パターンを形成する方法、等が例示できる。 The method for forming the mesh-like fine metal wire pattern 21 on the support 11 is not particularly limited, and for example, a conductive metal ink or a conductive paste containing a metal and a binder is used according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-69877. Is applied onto the support by a method such as printing to form a mesh metal fine line pattern, or a silver halide emulsion layer is provided on the support according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-59270. On the support according to a method for forming a mesh-like metal fine line pattern using a silver salt photosensitive material and a curing and developing method, and a method disclosed in JP-A-2004-221564, JP-A-2007-12314 and the like. A method for forming a mesh metal fine line pattern by a direct development method using a silver salt photosensitive material having a silver halide emulsion layer, JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, JP-A-2007- Soluble silver salt is formed by using a silver salt photosensitive material having a physically developed nuclear layer and a silver halide emulsion layer on a support in at least this order according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 188655 and JP-A-2004-207001. A method of forming a network-like metal fine line pattern by using a so-called silver salt diffusion transfer method in which an agent and a reducing agent are allowed to act in an alkaline solution, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-197531. Using a photosensitive resist material in which a ground layer and a photosensitive resist layer are laminated, the photosensitive resist layer is exposed to an arbitrary pattern, developed, and a resist image is formed, and then electrolytic-free plating is applied to cover the resist image. A metal film is formed on a support according to a method of localizing a metal on a non-existent base layer and then removing a resist image to form a mesh metal fine line pattern, which is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-82178. , A method of providing a resist film, exposing and developing the resist film to form an opening, and etching and removing the metal film of the opening to form a mesh metal fine line pattern, and the like can be exemplified.

上記した支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法の中でも、導電性に優れる銀を含有する金属細線から構成される網目状金属細線パターンが容易に形成できることから、銀塩感光材料を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法が好ましく、パターンの微細化が容易であることから、銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法が特に好ましい。 Among the methods for forming a mesh-like metal fine wire pattern on the support described above, a silver salt photosensitive material is used because a mesh-like metal fine wire pattern composed of silver-containing metal fine wires having excellent conductivity can be easily formed. A method of forming a mesh-like metal fine wire pattern is preferable, and a method of forming a mesh-like metal fine wire pattern by using a silver salt diffusion transfer method is particularly preferable because the pattern can be easily miniaturized.

網目状金属細線パターンの導電性をさらに向上することを目的として、上記した方法にて支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、電解めっきや無電解めっきを行うことも、本発明の好ましい態様の一つである。電解めっきや無電解めっきの手法は特に限定されず、電解銅めっき、無電解銅めっき、電解ニッケルめっき、無電解ニッケルめっき、電解金めっき等の公知のめっき浴を用いて、公知のめっき条件でめっきすることができる。 For the purpose of further improving the conductivity of the mesh metal fine wire pattern, it is also preferable in the present invention to perform electrolytic plating or electroless plating after forming the mesh metal fine wire pattern on the support by the above method. This is one of the aspects. The method of electrolytic plating or electroless plating is not particularly limited, and using known plating baths such as electrolytic copper plating, electroless copper plating, electrolytic nickel plating, electroless nickel plating, and electrolytic gold plating, under known plating conditions. Can be plated.

また、網目状金属細線パターンの視認性を向上することを目的として、上記した方法にて支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、黒化処理を行うこともできる。かかる黒化処理としては、積層方法と置換方法が例示できる。積層方法としては、黒色ニッケルめっき、黒色クロムめっき、黒色スズ−ニッケル合金めっき等の公知の黒色めっきを施す方法、ニッケル銅、ニッケル銅チタン、ニッケル銅モリブデン等の金属材料をターゲット材料として用い、酸素や窒素等の反応性ガス供給下でスパッタリングする方法、黒色インキを印刷する方法、等が例示できる。置換方法としては、金属細線表面を硫化、あるいは酸化する方法や、金属細線表面をより貴な金属に置換する方法等が例示できる。金属細線表面を硫化する方法としては、硫化カリウム、硫化バリウム、硫化アンモニウムの水溶液や、硫黄と硫化ナトリウムの混合水溶液を金属細線表面に付与する方法が例示できる。金属細線表面を酸化する方法としては、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を金属細線表面に付与する方法を例示できる。金属細線表面をより貴な金属に置換する方法としては、塩化パラジウム、硫酸パラジウム、あるいは硝酸パラジウムを含有する水溶液を金属細線表面に付与する方法が例示できる。 Further, for the purpose of improving the visibility of the mesh-like metal fine line pattern, blackening treatment can be performed after forming the mesh-like metal fine line pattern on the support by the above method. Examples of such blackening treatment include a laminating method and a replacement method. As the laminating method, a known black plating method such as black nickel plating, black chrome plating, black tin-nickel alloy plating, or a metal material such as nickel copper, nickel copper titanium, nickel copper molybdenum is used as a target material, and oxygen is used. A method of plating under the supply of a reactive gas such as nickel or nitrogen, a method of printing black ink, and the like can be exemplified. Examples of the replacement method include a method of sulfurizing or oxidizing the surface of the fine metal wire, a method of replacing the surface of the fine metal wire with a more noble metal, and the like. Examples of the method of sulfurizing the surface of the fine metal wire include an aqueous solution of potassium sulfide, barium sulfide, and ammonium sulfide, and a method of applying a mixed aqueous solution of sulfur and sodium sulfide to the surface of the fine metal wire. As a method for oxidizing the surface of the fine metal wire, a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of peroxodisulfuric acid and sodium hydroxide, etc. are used on the surface of the fine metal wire. The method of giving to is illustrated. As a method of replacing the surface of the fine metal wire with a more noble metal, an example of a method of applying an aqueous solution containing palladium chloride, palladium sulfate, or palladium nitrate to the surface of the fine metal wire can be exemplified.

本発明において網目状金属細線パターンを構成する金属細線は、上記した黒化処理以外の公知の金属表面処理が施されていてもよい。例えば特開2008−34366号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開2013−196779号公報に記載されているような分子内に2つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよい。また、銀塩感光材料を用いて網目状金属細線パターンを形成する場合、特開2007−12404号公報に記載されているように金属細線をタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理し、残存するゼラチン等を低減してもよい。 In the present invention, the fine metal wire constituting the mesh-like fine metal wire pattern may be subjected to a known metal surface treatment other than the above-mentioned blackening treatment. For example, a reducing substance, a water-soluble phosphoric acid compound, or a water-soluble halogen compound as described in JP-A-2008-34366 may be allowed to act, as described in JP-A-2013-196779. Triazine having two or more mercapto groups in the molecule or a derivative thereof may be allowed to act. When forming a mesh-like metal fine wire pattern using a silver salt photosensitive material, the metal fine wire is treated with a treatment solution containing an enzyme such as a proteolytic enzyme as described in JP-A-2007-12404. , Residual gelatin and the like may be reduced.

本発明の調光素子1は、支持体11上に前記した網目状金属細線パターン21以外に、ベタパターン(塗りつぶしパターン)を有していてもよい。例えば、フレキシブルプリント配線板といった外部との電気的接続を担う配線部材を接続するための端子や、網目状金属細線パターンと端子とを電気的に接続する周辺配線を、ベタパターンにより設けることができる。端子や周辺配線の線幅は特に限定されない。ベタパターンの形成方法としては上記した網目状金属細線パターン21を形成する方法を例示できる。 The dimming element 1 of the present invention may have a solid pattern (filled pattern) on the support 11 in addition to the mesh-like fine metal wire pattern 21 described above. For example, a terminal for connecting a wiring member responsible for electrical connection with the outside such as a flexible printed wiring board, and a peripheral wiring for electrically connecting a mesh-like thin metal wire pattern and a terminal can be provided by a solid pattern. .. The line width of the terminals and peripheral wiring is not particularly limited. As a method for forming the solid pattern, the method for forming the above-mentioned mesh-like fine metal wire pattern 21 can be exemplified.

導電性非金属層31を構成する材料は特に限定されず、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明性を有する導電性金属酸化物や、グラフェン等の公知の導電性を有する非金属材料が例示できる。上記した中でも、透明性に優れ、導電性にも優れることから、導電性金属酸化物を用いることが好ましく、酸化インジウムを用いることが特に好ましい。導電性非金属層を構成する材料として酸化インジウムを用いる場合、導電性を向上することを目的として、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛等を添加する、いわゆるドープを行うことが好ましい。中でも、酸化インジウムに酸化スズをドープした酸化インジウムスズ(ITO)を、導電性非金属層を構成する材料として用いることが特に好ましい。 The material constituting the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, and transparent conductive metal oxides such as indium oxide, zinc oxide, and tin oxide, and known conductive non-metal materials such as graphene can be used. It can be exemplified. Among the above, it is preferable to use a conductive metal oxide, and it is particularly preferable to use indium oxide because it is excellent in transparency and conductivity. When indium oxide is used as a material constituting the conductive non-metal layer, it is preferable to perform so-called doping in which tin oxide, titanium oxide, zinc oxide and the like are added for the purpose of improving conductivity. Above all, it is particularly preferable to use indium tin oxide (ITO) obtained by doping indium oxide with tin oxide as a material for forming the conductive non-metal layer.

導電性非金属層31の厚みは特に限定されないが、厚すぎると導電性を有する非金属材料の色味が顕在化する場合があるので、5〜500nmが好ましく、10〜300nmが特に好ましい。 The thickness of the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, but if it is too thick, the color of the conductive non-metal material may become apparent, so 5 to 500 nm is preferable, and 10 to 300 nm is particularly preferable.

導電性非金属層31の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスや、塗布、印刷等のウェットプロセスといった公知の形成方法の中から、導電性非金属層を構成する材料に適した方法を選択すればよい。 The method for forming the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, and is conductive from known forming methods such as a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a wet process such as coating and printing. A method suitable for the material constituting the non-metal layer may be selected.

本発明の調光素子1が有する電極3の構成は特に限定されず、電極として機能するための導電性を有していればよい。例えば、電極2と同様に、支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極であってもよく、支持体上に網目状金属細線パターンを設けず、支持体上に導電性非金属層のみを有する電極であってもよい。中でも、調光素子の色変化速度が優れることから、電極3として支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極が特に好ましい。 The configuration of the electrode 3 included in the dimming element 1 of the present invention is not particularly limited, and may have conductivity for functioning as an electrode. For example, similarly to the electrode 2, the electrode may have a mesh-like metal fine wire pattern on the support and an electrode having a conductive non-metal layer on the mesh-like metal fine wire pattern, and the mesh-like metal fine wire pattern on the support. It may be an electrode having only a conductive non-metal layer on the support without providing. Among them, an electrode having a mesh-like metal fine wire pattern on the support and a conductive non-metal layer on the mesh-like metal fine wire pattern is particularly preferable as the electrode 3 because the color change rate of the light control element is excellent.

電極3が有していてもよい支持体、網目状金属細線パターン、導電性非金属層の各要素(材料、厚み等)としては、電極2と同じ内容が例示できる。電極2と電極3の各要素は同一であってもよく、異なっていてもよい。 As each element (material, thickness, etc.) of the support, the mesh-like fine metal wire pattern, and the conductive non-metal layer that the electrode 3 may have, the same contents as those of the electrode 2 can be exemplified. Each element of the electrode 2 and the electrode 3 may be the same or different.

本発明の調光素子1が有するエレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42はエレクトロクロミック材料を少なくとも含有する。エレクトロクロミック材料は特に限定されず、有機系や無機系のエレクトロクロミック材料として公知の材料が例示される。 The electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 included in the dimming element 1 of the present invention contain at least an electrochromic material. The electrochromic material is not particularly limited, and known materials as organic or inorganic electrochromic materials are exemplified.

有機系のエレクトロクロミック材料としては、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物等が例示される。 Examples of organic electrochromic materials include biologen compounds, viologen salt compounds, ferrocene compounds, polypyrrole compounds, polythiophene compounds, polyparaphenylene vinylene compounds, polyaniline compounds, polyacetylene compounds, polyethylenedioxythiophene compounds, metallic phthalocyanine compounds, and dimethyl terephthalate. Compounds and the like are exemplified.

無機系のエレクトロクロミック材料としては、酸化タングステン、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化バナジウム、六酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化タンタル、酸化ロジウム、酸化クロム、酸化タンタル、酸化銅、酸化パラセオジウム、ストロンチウムドープチタン酸、タングステンサルファイト、窒化インジウム−窒化錫、プルシアンブルー、プルシアンブルー類似体(プルシアンブルーの鉄元素の一部を他の金属元素で置換したもの)等が例示される。 Inorganic electrochromic materials include tungsten oxide, nickel hydroxide, nickel oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, manganese oxide, cobalt oxide, vanadium oxide, vanadium hexaoxide, renium oxide, tantalum oxide, and rhodium oxide. Chromium oxide, tantalum oxide, copper oxide, paratheodium oxide, strontium-doped titanium acid, tungsten sulfite, indium nitride-tin nitride, Prussian blue, Prussian blue analog (part of the iron element of Prussian blue is replaced with other metal elements) ) Etc. are exemplified.

上記したエレクトロクロミック材料は、酸化還元反応やイオンの授受により色が変化するので、例えば、エレクトロクロミック層41に酸化反応で発色し、かつ還元反応で消色するエレクトロクロミック材料を用い、エレクトロクロミック層42に還元反応で発色し、かつ酸化反応で消色するエレクトロクロミック材料を用いると、調光素子1全体として通電により透明状態と発色状態を切り替えられる他、発色状態での発色濃度を向上することができるため、特に好ましい。このようなエレクトロクロミック材料の組み合わせとしては、ポリアセチレン/ポリアニリン、ポリピロール/ポリアニリン、酸化タングステン/酸化ニッケル、酸化タングステン/酸化タンタル、酸化タングステン/プルシアンブルー、プルシアンブルー/プルシアンブルー類似体、ポリチオフェン化合物/プルシアンブルー、酸化タングステン/ポリアニリン化合物、等が例示できる。 Since the color of the above-mentioned electrochromic material changes due to the redox reaction and the transfer of ions, for example, an electrochromic material that develops color in the electrochromic layer 41 by the oxidation reaction and decolorizes by the reduction reaction is used, and the electrochromic layer is used. When an electrochromic material that develops color by reduction reaction and decolorizes by oxidation reaction is used for 42, the entire dimming element 1 can be switched between a transparent state and a color development state by energization, and the color development density in the color development state can be improved. It is particularly preferable because it can be used. Such electrochromic material combinations include polyacetylene / polyaniline, polypyrrole / polyaniline, tungsten oxide / nickel oxide, tungsten oxide / tantalum oxide, tungsten oxide / Prussian blue, Prussian blue / Prussian blue analogs, polythiophene compounds / Prussian blue. , Tungsten oxide / polyaniline compound, etc. can be exemplified.

プルシアンブルーおよびプルシアンブルー類似体としては市販品を用いることができる。例えば、関東化学(株)より市販されるwFeHCFナノ粒子分散液(プルシアンブルー分散液)や、wNiHCFナノ粒子分散液(ニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液)を入手し利用することができる。 Commercially available products can be used as Prussian blue and Prussian blue analogs. For example, a wFeHCF nanoparticle dispersion (Prussian blue dispersion) or a wNiHCF nanoparticle dispersion (nickel-substituted Prusian blue analog dispersion) commercially available from Kanto Chemical Co., Ltd. can be obtained and used.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42のエレクトロクロミック材料の含有量は特に限定されないが、少なすぎると調光素子1の発色濃度が低下する場合があり、多すぎると調光素子1の色変化速度が低下する場合がある。よって、含有量は0.01〜5.0g/mが好ましく、0.05〜3.0g/mが特に好ましい。 The content of the electrochromic material in the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 is not particularly limited, but if it is too small, the color density of the dimming element 1 may decrease, and if it is too large, the color change rate of the dimming element 1 may decrease. May decrease. Thus, the content is preferably 0.01~5.0g / m 2, 0.05~3.0g / m 2 is particularly preferred.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42は、上記したエレクトロクロミック材料に加え、さらに界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、着色剤(顔料や染料等)、酸化防止剤、シランカップリング剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。 In addition to the above-mentioned electrochromic materials, the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 further include surfactants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants (pigments, dyes, etc.), antioxidants, silane coupling agents, etc. It may contain a known additive of.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスや、塗布、印刷等のウェットプロセスといった公知の形成方法の中から適宜選択し、電極2および電極3上に形成すればよい。例えば、前述した関東化学(株)より市販されるwFeHCFナノ粒子分散液やwNiHCFナノ粒子分散液を用いてエレクトロクロミック層を形成する場合、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の塗布方法や、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の印刷方法を用いて電極2および電極3上に該ナノ粒子分散液を付与し、乾燥する方法が例示できる。乾燥方法としては自然乾燥、真空乾燥、熱風乾燥、低湿風乾燥、赤外線乾燥、熱ロール乾燥等の公知の乾燥方法が例示できる。 The method for forming the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 is not particularly limited, and among known forming methods such as a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method and an ion plating method, and a wet process such as coating and printing. It may be appropriately selected and formed on the electrode 2 and the electrode 3. For example, when forming an electrochromic layer using the wFeHCF nanoparticle dispersion or wNiHCF nanoparticle dispersion commercially available from Kanto Chemical Co., Ltd., the bar coating method, dip coating method, spin coating method, die coating method, etc. Known coating methods such as blade coating method, gravure coating method, curtain coating method, spray coating method, kiss coating method, gravure printing, flexo printing, inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure offset printing, dispenser printing, pad printing. An example is a method in which the nanoparticle dispersion liquid is applied onto the electrodes 2 and 3 using a known printing method such as the above and dried. Examples of the drying method include known drying methods such as natural drying, vacuum drying, hot air drying, low humidity air drying, infrared drying, and hot roll drying.

本発明において電解質層51は、テトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物と、電解質とを少なくとも含有する。 In the present invention, the electrolyte layer 51 contains at least a tetrazole compound and / or a benzotriazole compound and an electrolyte.

電解質層51が含有するテトラゾール化合物は特に限定されず、下記一般式1で表される化合物が例示できる。 The tetrazole compound contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and a compound represented by the following general formula 1 can be exemplified.

Figure 2021099433
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一般式1中のR、Rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表す。 R 1 and R 2 in the general formula 1 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, and an aryl group, respectively.

一般式1において、R、Rが有するアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、2−エチルヘキシル基、イソプロピル基、t−ブチル基等が例示でき、アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基等が例示でき、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が例示できる。前記したR、Rは、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、R、Rとして例示した置換基に加え、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基(ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、アミノ基、アミノメチル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、リン酸アミド基、ニトロ基、アルキルオキシカルボニル基等が例示できる。 In the general formula 1, the alkyl groups of R 1 and R 2 include methyl group, ethyl group, propyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, nonyl group, 2-ethylhexyl group, isopropyl group and t-. A butyl group and the like can be exemplified, a benzyl group, a phenethyl group and the like can be exemplified as the aralkyl group, and a phenyl group, a naphthyl group and the like can be exemplified as the aryl group. The above-mentioned R 1 and R 2 may further have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group, a hydroxyalkyl group (hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, etc.), a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, an amino group, and an aminomethyl group, in addition to the substituents exemplified as R 1 and R 2. Examples thereof include a group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amide group, a sulfonamide group, a ureido group, a urethane group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a phosphate amide group, a nitro group and an alkyloxycarbonyl group. ..

一般式1で表されるテトラゾール化合物の中でも、調光素子の製造工程での歩留まりを改善する効果に優れることから、R、Rの少なくとも一方はアラルキル基またはアリール基を有する化合物が好ましい。以下に一般式1で表される化合物の具体例を記載するが、これらに限定されない。 Among the tetrazole compounds represented by the general formula 1, a compound having at least one of R 1 and R 2 having an aralkyl group or an aryl group is preferable because it is excellent in the effect of improving the yield in the manufacturing process of the light control element. Specific examples of the compound represented by the general formula 1 will be described below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2021099433
Figure 2021099433

Figure 2021099433
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電解質層51が含有するベンゾトリアゾール化合物は特に限定されず、下記一般式2で表される化合物が例示できる。 The benzotriazole compound contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and a compound represented by the following general formula 2 can be exemplified.

Figure 2021099433
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一般式2中、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミノメチル基、ニトロ基を表す。前記したアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、2−エチルヘキシル基、イソプロピル基等が例示できる。R〜Rは、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、R〜Rとして例示した置換基や、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシアルキル基(ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等)、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフトキシ基等)、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、ヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、リン酸アミド基、アルキルオキシカルボニル基、およびこれらを組み合わせた基等が例示できる。 In the general formula 2, R 3 to R 7 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, an aminomethyl group, and a nitro group, respectively. The alkyl groups mentioned above include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, nonyl group and 2-ethylhexyl group. , Isopropyl group and the like can be exemplified. R 3 to R 7 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituents exemplified as R 3 to R 7 , a mercapto group, a cyano group, a sulfo group, a hydroxyalkyl group (hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, etc.), an aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.). ), Halkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group (phenyl group, phenyl group, etc.) Examples thereof include a naphthyl group (such as a naphthyl group), an alkylthio group (methylthio group, a hexylthio group, etc.), an arylthio group (phenylthio group, a naphthylthio group, etc.), a phosphate amide group, an alkyloxycarbonyl group, and a group combining these.

一般式2で表されるベンゾトリアゾール化合物の中でも、調光素子の製造工程での歩留まりを改善する効果に優れることから、Rは水素原子または置換基を有するアミノメチル基であることが好ましい。以下に一般式2で表される化合物の具体例を記載するが、これらに限定されない。 Among the benzotriazole compounds represented by the general formula 2, R 7 is preferably an aminomethyl group having a hydrogen atom or a substituent because it is excellent in the effect of improving the yield in the manufacturing process of the dimming device. Specific examples of the compound represented by the general formula 2 will be described below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2021099433
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Figure 2021099433
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上記一般式2で表されるベンゾトリアゾール化合物として市販品を用いることができる。例えば、城北化学工業(株)より市販されるBT−120、CBT−1、5M−BTA、BT−LX、TT−LX、TT−LYK等、大和化成(株)より市販されるOA−386等を入手し利用することができる。 A commercially available product can be used as the benzotriazole compound represented by the general formula 2. For example, BT-120, CBT-1, 5M-BTA, BT-LX, TT-LX, TT-LYK, etc. marketed by Johoku Chemical Industry Co., Ltd., OA-386, etc. marketed by Yamato Kasei Co., Ltd. Can be obtained and used.

電解質層51は、テトラゾール化合物のみを1種以上含有していてもよく、ベンゾトリアゾール化合物のみを1種以上含有していてもよく、テトラゾール化合物とベンゾトリアゾール化合物とを同時に1種ずつ以上含有していてもよい。 The electrolyte layer 51 may contain only one or more tetrazole compounds, one or more benzotriazole compounds, and one or more tetrazole compounds and one or more benzotriazole compounds at the same time. You may.

電解質層51のテトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物の含有量は特に限定されないが、調光素子の製造工程での歩留まりを改善する効果に優れることから、電解質層51の全質量に対して0.1質量%以上が好ましく、0.4質量%以上がより好ましく、0.8質量%以上が特に好ましい。上限は特に限定されないが、5質量%以下が好ましい。 The content of the tetrazole compound and / or the benzotriazole compound in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but since it is excellent in the effect of improving the yield in the manufacturing process of the dimming element, it is 0. 1% by mass or more is preferable, 0.4% by mass or more is more preferable, and 0.8% by mass or more is particularly preferable. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 5% by mass or less.

電解質層51が含有する電解質は特に限定されないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の塩が例示できる。具体的にはヘキサフルオロリン酸カリウム、テトラフルオロほう酸カリウム、塩化カリウム、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドカリウム、過塩素酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロほう酸リチウム、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、トリフルオロ酢酸リチウム、塩素酸ナトリウム、過塩素酸マグネシウム等が例示できる。電解質は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The electrolyte contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts can be exemplified. Specifically, potassium hexafluorophosphate, potassium tetrafluoroborate, potassium chloride, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide potassium, lithium perchlorate, lithium hexafluorophosphate, lithium tetrafluoroborate, lithium hexafluoroarsenate, trifluoromethane Examples thereof include lithium sulfonate, lithium trifluoroacetate, sodium chlorate, and magnesium perchlorate. The electrolyte may be used alone or in combination of two or more.

電解質層51は、上記したテトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物、および電解質を溶解可能な溶媒を含むことが、調光素子の色変化速度が優れ、かつ調光素子の製造工程での歩留まりを改善する効果も優れることから好ましい。かかる溶媒は特に限定されず、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル等の鎖状炭酸エステル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン等の環状炭酸エステル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、トリメチル酢酸メチル等の脂肪族カルボン酸エステル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等の芳香族カルボン酸エステル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン等のラクトン、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等のラクタム、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン等の環状エーテル、1,2−ジエトキシエタン、エトキシメトキシエタン等の鎖状エーテル、エチルメチルスルホン、スルホラン、3−メチルスルホラン、2,4−ジメチルスルホラン等のスルホン、アセトニトリル、プロピオニトリル、メトキシプロピオニトリル等のニトリル、リン酸トリメチル、リン酸エチルジメチル、リン酸ジエチルメチル、リン酸トリエチル等のリン酸エステル、エタノール、2−プロパノール等のアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール、水等が例示できる。溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 When the electrolyte layer 51 contains the above-mentioned tetrazole compound and / or benzotriazole compound and a solvent capable of dissolving the electrolyte, the color change rate of the dimming device is excellent and the yield in the manufacturing process of the dimming device is improved. It is preferable because it has an excellent effect. Such a solvent is not particularly limited, and is a chain carbonate ester such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate and ethyl methyl carbonate, a cyclic carbonate ester such as ethylene carbonate, propylene carbonate and butylene carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate and propionic acid. Aliphatic carboxylic acid esters such as ethyl, methyl butyrate, methyl isobutyrate, methyl trimethylacetate, aromatic carboxylic acid esters such as methyl benzoate and ethyl benzoate, lactones such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, ε-caprolactam. , Lactum such as N-methylpyrrolidone, cyclic ethers such as tetrahydrofuran, 2-methyl tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane, chain ethers such as 1,2-diethoxyethane, ethoxymethoxyethane, ethylmethylsulfone, Sulfones such as sulfolanes, 3-methylsulfolanes and 2,4-dimethylsulfolanes, nitriles such as acetonitrile, propionitrile and methoxypropionitrile, trimethyl phosphate, ethyl dimethyl phosphate, diethyl methyl phosphate, triethyl phosphate and the like. Examples thereof include phosphoric acid esters, alcohols such as ethanol and 2-propanol, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and polyethylene glycol, and water. The solvent may be used alone or in combination of two or more.

電解質層51の厚みは特に限定されないが、厚すぎると調光素子1の色変化速度が低下する場合があり、薄すぎると電極2、3が短絡して色変化が停止する場合がある。よって電解質層51の厚みは0.1〜500μmが好ましく、1〜300μmが特に好ましい。 The thickness of the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but if it is too thick, the color change rate of the dimming element 1 may decrease, and if it is too thin, the electrodes 2 and 3 may be short-circuited and the color change may stop. Therefore, the thickness of the electrolyte layer 51 is preferably 0.1 to 500 μm, particularly preferably 1 to 300 μm.

電解質層51の強度を向上し、厚みを安定化することを目的として、電解質層51は樹脂を含有していてもよい。かかる樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、エチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂等の公知の樹脂が例示できる。 The electrolyte layer 51 may contain a resin for the purpose of improving the strength of the electrolyte layer 51 and stabilizing the thickness. Examples of such resins include known resins such as acrylic resins, urethane resins, epoxy resins, vinyl chloride resins, ethylene resins, melamine resins, phenol resins, and polyethylene oxide resins.

電解質層51の厚みを安定化するためのスペーサーとして、電解質層51は無機粒子を含有していてもよい。無機粒子を構成する材料としては、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、ガラス等が例示できる。無機粒子の粒径は電解質層51の厚みと同じであることが好ましい。 The electrolyte layer 51 may contain inorganic particles as a spacer for stabilizing the thickness of the electrolyte layer 51. Examples of the material constituting the inorganic particles include silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, and glass. The particle size of the inorganic particles is preferably the same as the thickness of the electrolyte layer 51.

電解質層51は、増粘剤、レオロジー調整剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、着色剤(顔料や染料等)、酸化防止剤、シランカップリング剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。 The electrolyte layer 51 contains known additives such as thickeners, rheology modifiers, surfactants, UV absorbers, infrared absorbers, colorants (pigments, dyes, etc.), antioxidants, silane coupling agents, and the like. You may be doing it.

電解質層51の形成方法は特に限定されないが、電解質層51が含有する成分を混合、溶解後、電極2上のエレクトロクロミック層41上に塗布や印刷等の公知の方法で付与して電解質層51を形成し、その後、エレクトロクロミック層42が電解質層51に接するように電極3を貼合する方法が例示できる。かかる貼合方法としては、ロールラミネーターや真空ラミネーター等のラミネーターを用いる方法が例示できる。 The method for forming the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but after mixing and dissolving the components contained in the electrolyte layer 51, the electrolyte layer 51 is applied onto the electrochromic layer 41 on the electrode 2 by a known method such as coating or printing. After that, the electrode 3 is attached so that the electrochromic layer 42 is in contact with the electrolyte layer 51. As such a bonding method, a method using a laminator such as a roll laminator or a vacuum laminator can be exemplified.

電解質層51が溶媒を含有する場合、電解質層51からの溶媒の揮発や液漏れを防ぐため、調光素子1の側面を封止することが好ましい。封止方法としては、エポキシ系、アクリル系、ポリオレフィン系、シリコーン系の接着剤を調光素子1の側面に付与し、加熱や紫外線照射、湿気等により硬化させる方法、ホットメルト系接着剤を加熱溶融して調光素子1の側面に付与し、冷却して硬化させる方法、アクリル系粘着テープ、シリコーン系粘着テープで調光素子1の側面を貼り合わせる方法が例示できるが、これらに限定されない。調光素子1の側面を封止する工程は、電解質層51を形成する前であってもよいし、後であってもよい。 When the electrolyte layer 51 contains a solvent, it is preferable to seal the side surface of the light control element 1 in order to prevent the solvent from volatilizing and liquid leakage from the electrolyte layer 51. As a sealing method, an epoxy-based, acrylic-based, polyolefin-based, or silicone-based adhesive is applied to the side surface of the dimming element 1 and cured by heating, ultraviolet irradiation, moisture, or the like, or a hot-melt adhesive is heated. Examples include, but are not limited to, a method of melting and applying the light control element 1 to the side surface, cooling and curing, and a method of sticking the side surface of the light control element 1 with an acrylic adhesive tape or a silicone adhesive tape. The step of sealing the side surface of the light control element 1 may be before or after forming the electrolyte layer 51.

本発明の調光素子1は、電極2上のエレクトロクロミック層41と反対側の面や、電極3上のエレクトロクロミック層42と反対側の面に粘着剤層が貼合されていてもよく、さらに粘着剤層上に機能材料が貼合されていてもよい。粘着剤層を形成する粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の公知の粘着剤が例示できる。機能材料としては、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ITO等からなる導電性非金属層、遮光層、加飾層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。 The light control element 1 of the present invention may have an adhesive layer bonded to the surface of the electrode 2 opposite to the electrochromic layer 41 or the surface of the electrode 3 opposite to the electrochromic layer 42. Further, a functional material may be bonded on the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer include known pressure-sensitive adhesives such as rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic-based pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, and urethane-based pressure-sensitive adhesives. Functional materials include chemically strengthened glass, soda glass, quartz glass, glass such as non-alkali glass, films made of various resins such as polyethylene terephthalate, and a hard coat layer on at least one surface of the above glass or film to prevent reflection. Examples of materials having known functional layers such as a layer, an antiglare layer, a polarizing layer, a conductive non-metal layer made of ITO and the like, a light-shielding layer, and a decorative layer.

本発明の調光素子の用途は限定されず、調光窓、防眩ミラー、電子ペーパー、意匠性向上等の用途に好適に用いることができる。 The application of the light control element of the present invention is not limited, and it can be suitably used for applications such as a light control window, an antiglare mirror, electronic paper, and improvement of design.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

<調光素子1の作製>
支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。該支持体の全光線透過率およびヘーズをスガ試験機(株)製ヘーズメーターHZ−V3で測定したところ、全光線透過率は92.1%、ヘーズは0.6%であった。
<Manufacturing of dimming element 1>
As a support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used. When the total light transmittance and the haze of the support were measured with a haze meter HZ-V3 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the total light transmittance was 92.1% and the haze was 0.6%.

次に下記組成の物理現像核層塗液を支持体上にグラビアコーティングにより均一に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。 Next, the physically developed nuclear layer coating liquid having the following composition was uniformly applied onto the support by gravure coating and dried to provide the physically developed nuclear layer.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40mL
蒸留水 1000mL
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000mL
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Solution A Palladium chloride 5 g
Hydrochloric acid 40 mL
Distilled water 1000mL
Solution B Sodium sulfide 8.6 g
Distilled water 1000mL
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and after 30 minutes, they were passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain a palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液/1mあたり>
前記硫化パラジウムゾル(固形分として) 0.4mg
2質量%グリオキサール水溶液 200mg
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコール(登録商標)EX−830 25mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%エポミン(登録商標)SP−200 水溶液 500mg
((株)日本触媒製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000)
<Physical development nuclear lamina coating liquid / per 1m 2>
Palladium sulfide sol (as solid content) 0.4 mg
2% by mass glyoxal aqueous solution 200 mg
Surfactant (S-1) 4 mg
Denacol® EX-830 25 mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10% by mass Epomin® SP-200 aqueous solution 500 mg
(Polyethyleneimine manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .; average molecular weight 10,000)

Figure 2021099433
Figure 2021099433

続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核層の上にスライドコーティングにより均一に塗布、乾燥して、導電材料前駆体を得た。ハロゲン化銀乳剤層が含有するハロゲン化銀乳剤は、コントロールドダブルジェット法で製造した。このハロゲン化銀乳剤が含有するハロゲン化銀粒子は、塩化銀95mol%と臭化銀5mol%で、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀粒子を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は、銀1gあたり0.5gのゼラチンを保護コロイド(バインダー)として含有する。 Subsequently, the intermediate layer, the silver halide emulsion layer, and the protective layer having the following compositions are uniformly applied on the physically developed nuclear layer by slide coating in order from the one closest to the support, and dried to obtain the conductive material precursor. Obtained. The silver halide emulsion contained in the silver halide emulsion layer was produced by a controlled double jet method. The silver halide particles contained in this silver halide emulsion were prepared to have an average particle size of 0.15 μm with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide. The silver halide particles thus obtained were sensitized with gold sulfur using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per 1 g of silver as a protective colloid (binder).

<中間層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1 5mg
<Intermediate layer composition / per 1 m 2>
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5 mg
Dye 15 mg

Figure 2021099433
Figure 2021099433

<ハロゲン化銀乳剤層組成/1mあたり>
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition / per 1 m 2>
Silver halide emulsion 3.0g Silver equivalent 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20 mg

<保護層組成/1mあたり>
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition / per 1 m 2>
Gelatin 1g
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5 μm) 10 mg
Surfactant (S-1) 10 mg

このようにして得た導電性材料前駆体と、線幅7.0μm、一辺の長さが300μmの正方形を単位格子とする網目状パターンからなるポジ型透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。その後、露光済みの導電材料前駆体を下記組成の現像液で現像し(20℃の現像液中に90秒間浸漬し)、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥処理することで、支持体上に網目状銀細線パターンを有する導電材料1を得た。導電材料1の網目状銀細線パターンを構成する銀細線を共焦点顕微鏡で観察したところ、線幅は7.0μm、開口率は95%、厚みは0.16μmであった。 The conductive material precursor thus obtained is brought into close contact with a positive transmission original having a mesh pattern having a square having a line width of 7.0 μm and a side length of 300 μm as a unit lattice, and a mercury lamp is used as a light source. It was exposed with a close contact printer through a resin filter that cuts light of 400 nm or less. Then, the exposed conductive material precursor is developed with a developer having the following composition (immersed in a developer at 20 ° C. for 90 seconds), and then the silver halide emulsion layer, the intermediate layer, and the protective layer are formed at 40 ° C. By washing and removing with warm water and drying, a conductive material 1 having a mesh-like silver fine wire pattern on the support was obtained. When the silver fine wires constituting the mesh-like silver fine wire pattern of the conductive material 1 were observed with a confocal microscope, the line width was 7.0 μm, the aperture ratio was 95%, and the thickness was 0.16 μm.

<現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000mL、pH=12.2に調整した。
<Developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-Phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-Methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
The total volume was adjusted to 1000 mL with water and pH = 12.2.

導電材料1の網目状銀細線パターン上に、スパッタリング法にてITOからなる導電性非金属層を設けて電極Aを得た。触針式膜厚計を用いて測定した導電性非金属層の厚みは23nmであった。 An electrode A was obtained by providing a conductive non-metal layer made of ITO by a sputtering method on a mesh-like silver fine wire pattern of the conductive material 1. The thickness of the conductive non-metal layer measured using a stylus type film thickness meter was 23 nm.

6cm×5cmに裁断した電極Aを2枚(電極A−1、電極A−2)用意した。電極A−1には導電性非金属層上にプルシアンブルー分散液(関東化学(株)製wFeHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布し、プルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層を形成した。電極A−2にはニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液(関東化学(株)製wNiHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布し、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層を形成した。続いて、電極A−1上のプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層上に下記組成の電解質層1をバーコーターで塗布することで形成し、さらにニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層が電解質層に接するように電極A−2をロールラミネーターで貼合した。最後に、シリコーン系粘着テープを用いて4辺を封止し、調光素子1を得た。この際、5cm×5cmの領域が重なるように1cmずつずらして貼合することで、調光素子1から電極A−1と電極A−2が1cm×5cmずつ露出した状態とし、後述するファンクションジェネレータとの電気的接続を可能にした。マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層1の厚みは100μmであった。 Two electrodes A (electrode A-1 and electrode A-2) cut into 6 cm × 5 cm were prepared. On the electrode A-1, a Prussian blue dispersion (wFeHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was applied on a conductive non-metal layer with a bar coater at 0.30 g / m 2 in solid content, and Prussian blue was applied. The containing electrochromic layer was formed. A nickel-substituted Prussian blue analog dispersion (wNiHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was applied to electrode A-2 with a bar coater at a solid content of 0.30 g / m 2, and a nickel-substituted Prussian blue analog was applied. An electrochromic layer containing the above was formed. Subsequently, an electrolyte layer 1 having the following composition is coated on the electrochromic layer containing Prussian blue on the electrode A-1 with a bar coater to form an electrochromic layer further containing a nickel-substituted Prussian blue analog. The electrode A-2 was bonded with a roll laminator so as to be in contact with the electrolyte layer. Finally, four sides were sealed with a silicone-based adhesive tape to obtain a dimming element 1. At this time, the electrodes A-1 and A-2 are exposed from the dimming element 1 by 1 cm × 5 cm by shifting them by 1 cm so that the regions of 5 cm × 5 cm overlap each other, and the function generator described later is used. Allowed electrical connection with. The thickness of the electrolyte layer 1 converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm.

<電解質層1組成>
ヘキサフルオロリン酸カリウム 0.5g
ポリエチレンオキサイド樹脂 0.5g
(住友精化(株)製PEO−4、粘度平均分子量110万〜150万)
炭酸プロピレン 8.5g
球状ガラスビーズ(平均粒径100μm) 0.5g
<Electrolyte layer 1 composition>
Potassium hexafluorophosphate 0.5 g
Polyethylene oxide resin 0.5g
(PEO-4 manufactured by Sumitomo Seika Chemical Co., Ltd., viscosity average molecular weight 1.1 million to 1.5 million)
Propylene carbonate 8.5g
Spherical glass beads (average particle size 100 μm) 0.5 g

<調光素子2〜15の作製>
電解質層1の組成に対し、表1に示す化合物を、電解質層の全質量に対する含有量が表1に示す値になるように含有せしめ、電解質層2〜15とした以外は調光素子1の作製と同様にして、調光素子2〜15を得た。マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層2〜15の厚みはいずれも100μmであった。
<Manufacturing of dimming elements 2 to 15>
The compound shown in Table 1 was added to the composition of the electrolyte layer 1 so that the content of the electrolyte layer with respect to the total mass became the value shown in Table 1, and the dimming element 1 was provided except that the electrolyte layers 2 to 15 were used. Dimming elements 2 to 15 were obtained in the same manner as in the production. The thickness of the electrolyte layers 2 to 15 converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm.

Figure 2021099433
Figure 2021099433

<調光素子16の作製>
導電材料1を脱脂液(メルテックス(株)製クリーナー160の5質量%希釈液)に60℃1分間浸漬後、水洗し脱脂した。続いて、下記組成の電解銅めっき液を用いて温度25℃、陰極電流密度3A/dmの条件で電解銅めっきを施し、導電材料2を得た。導電材料2の網目状銅細線パターンを構成する銅細線を共焦点顕微鏡で観察したところ、線幅は17μm、開口率は89%、厚みは5.1μmであった。
<Manufacturing of dimming element 16>
The conductive material 1 was immersed in a degreasing solution (a 5% by mass diluted solution of a cleaner 160 manufactured by Meltex Inc.) at 60 ° C. for 1 minute, washed with water, and degreased. Subsequently, electrolytic copper plating was performed using an electrolytic copper plating solution having the following composition under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a cathode current density of 3 A / dm 2 , to obtain a conductive material 2. When the copper fine wires forming the mesh-like copper fine wire pattern of the conductive material 2 were observed with a confocal microscope, the line width was 17 μm, the aperture ratio was 89%, and the thickness was 5.1 μm.

<銅めっき液>
硫酸銅五水和物 75g
硫酸 190g
塩酸 50mg
全量を水で1000mLに調整した。
<Copper plating solution>
Copper sulfate pentahydrate 75g
Sulfuric acid 190g
Hydrochloric acid 50 mg
The total volume was adjusted to 1000 mL with water.

導電材料2の網目状銅細線パターン上に、スパッタリング法にてITOからなる導電性非金属層を設けて電極Bを得た。触針式膜厚計を用いて測定した導電性非金属層の厚みは23nmであった。 An electrode B was obtained by providing a conductive non-metal layer made of ITO by a sputtering method on a mesh-like copper wire pattern of the conductive material 2. The thickness of the conductive non-metal layer measured using a stylus type film thickness meter was 23 nm.

6cm×5cmに裁断した電極Bを2枚(電極B−1、電極B−2)用意した。電極B−1には導電性非金属層上にプルシアンブルー分散液(関東化学(株)製wFeHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布し、プルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層を形成した。電極B−2にはニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液(関東化学(株)製wNiHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布し、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層を形成した。続いて、電極B−1上のプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層上に下記組成の電解質層16をバーコーターで塗布することで形成し、さらにニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層が電解質層に接するように電極B−2をロールラミネーターで貼合した。最後に、シリコーン系粘着テープを用いて4辺を封止し、調光素子16を得た。この際、5cm×5cmの領域が重なるように1cmずつずらして貼合することで、調光素子16から電極B−1と電極B−2が1cm×5cmずつ露出した状態とし、後述するファンクションジェネレータとの電気的接続を可能にした。マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層16の厚みは100μmであった。 Two electrodes B (electrode B-1, electrode B-2) cut into 6 cm × 5 cm were prepared. On the electrode B-1, a Prussian blue dispersion (wFeHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was applied on a conductive non-metal layer with a bar coater at 0.30 g / m 2 in solid content, and Prussian blue was applied. The containing electrochromic layer was formed. A nickel-substituted Prussian blue analog dispersion (wNiHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was applied to the electrode B-2 with a bar coater at a solid content of 0.30 g / m 2, and a nickel-substituted Prussian blue analog was applied. An electrochromic layer containing the above was formed. Subsequently, an electrolyte layer 16 having the following composition is coated on the electrochromic layer containing Prussian blue on the electrode B-1 with a bar coater to form an electrochromic layer further containing a nickel-substituted Prussian blue analog. The electrode B-2 was bonded with a roll laminator so as to be in contact with the electrolyte layer. Finally, four sides were sealed with a silicone-based adhesive tape to obtain a dimming element 16. At this time, the electrodes B-1 and B-2 are exposed from the dimming element 16 by 1 cm × 5 cm by shifting them by 1 cm so that the 5 cm × 5 cm regions overlap each other, and the function generator described later is used. Allowed electrical connection with. The thickness of the electrolyte layer 16 converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm.

<電解質層16組成>
ヘキサフルオロリン酸カリウム 0.5g
ポリエチレンオキサイド樹脂 0.5g
(住友精化(株)製PEO−4、粘度平均分子量110万〜150万)
炭酸プロピレン 8.5g
球状ガラスビーズ(平均粒径100μm) 0.5g
<Electrolyte layer 16 composition>
Potassium hexafluorophosphate 0.5 g
Polyethylene oxide resin 0.5g
(PEO-4 manufactured by Sumitomo Seika Chemical Co., Ltd., viscosity average molecular weight 1.1 million to 1.5 million)
Propylene carbonate 8.5g
Spherical glass beads (average particle size 100 μm) 0.5 g

<調光素子17、18の作製>
電解質層16の組成に対し、表1に示す化合物を、電解質層の全質量に対する含有量が表1に示す値になるように添加し、電解質層17、18とした以外は調光素子16の作製と同様にして、調光素子17、18を得た。マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層17、18の厚みはいずれも100μmであった。
<Manufacturing of dimming elements 17 and 18>
To the composition of the electrolyte layer 16, the compounds shown in Table 1 were added so that the content of the electrolyte layer with respect to the total mass was the value shown in Table 1, and the dimming element 16 was provided except that the electrolyte layers 17 and 18 were used. Dimming elements 17 and 18 were obtained in the same manner as in the production. The thicknesses of the electrolyte layers 17 and 18 converted from the total thickness measured with a micrometer were 100 μm.

<調光素子の歩留まり評価>
調光素子1〜18を各20枚作製した。次に、全ての調光素子に対してプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層側の電極と、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層側の電極との間に、ファンクションジェネレータを用いて−1.0V30秒間と+1.0V30秒間を1サイクルとする信号を100サイクル印加した。調光素子1〜18の各20枚について、100サイクル目に5cm×5cmの領域をデジタルマイクロスコープで観察し、1mm×1mm以上の色変化が生じなくなった領域が1箇所も存在しない調光素子(良品)の枚数を数え、調光素子1〜18それぞれの歩留まりを評価した。結果を表1に示す。
<Yield evaluation of dimming element>
Twenty dimming elements 1 to 18 were produced. Next, using a function generator between the electrodes on the electrochromic layer side containing Prussian blue and the electrodes on the electrochromic layer side containing nickel-substituted Prussian blue analogs for all dimming elements- A signal having one cycle of 1.0 V for 30 seconds and + 1.0 V for 30 seconds was applied for 100 cycles. For each of the 20 dimming elements 1 to 18, a region of 5 cm × 5 cm was observed with a digital microscope at the 100th cycle, and there was no region where the color change of 1 mm × 1 mm or more did not occur. The number of (good products) was counted, and the yield of each of the dimming elements 1 to 18 was evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2021099433
Figure 2021099433

表1の結果から、本発明の有効性が判る。 From the results in Table 1, the effectiveness of the present invention can be seen.

1 調光素子
2、3 電極
11 支持体
21 網目状金属細線パターン
21a、21b、21c、21d 金属細線
31 導電性非金属層
41、42 エレクトロクロミック層
51 電解質層
1 Dimming element 2, 3 Electrode 11 Support 21 Reticulated metal wire pattern 21a, 21b, 21c, 21d Metal wire 31 Conductive non-metal layer 41, 42 Electrochromic layer 51 Electrolyte layer

Claims (1)

対向する2つの電極上にそれぞれエレクトロクロミック層を有し、該エレクトロクロミック層間に電解質層を有し、該電極の少なくとも一方は支持体上に網目状金属細線パターンと該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有し、該電解質層がテトラゾール化合物および/またはベンゾトリアゾール化合物を含有することを特徴とする調光素子。 Each of the two opposing electrodes has an electrochromic layer, and an electrolyte layer is provided between the electrochromic layers, and at least one of the electrodes has a mesh metal fine wire pattern on the support and a mesh metal fine wire pattern on the mesh metal fine wire pattern. A dimming device having a conductive non-metal layer, wherein the electrolyte layer contains a tetrazole compound and / or a benzotriazole compound.
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