JP2021120691A - Manufacturing method of dimming element - Google Patents

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直哉 西村
Naoya Nishimura
直哉 西村
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Abstract

To provide a method for manufacturing a dimming element in which a yield in a manufacturing process is improved.SOLUTION: A method for manufacturing a dimming element laminates electrodes in which at least one of the two electrodes has a mesh-like metal thin wire pattern and a conductive non-metal layer on the mesh-like metal thin wire pattern forms electrochromic layers on each of the two electrodes, and then laminates the electrodes via a viscous electrolyte layer such that the electrochromic layers oppose each other.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、製造工程での歩留まりが改善された調光素子の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a dimming element having an improved yield in the manufacturing process.

通電時にヘーズや色が変化する調光素子が知られている。通電時にヘーズが変化する調光素子は、オフィス等のパーテーションといった視線遮蔽用途で検討されている。一方、通電時に色が変化する調光素子は、住宅、自動車、電車、飛行機等の窓を対象とした太陽光遮光用途で検討されている。 Dimming elements that change haze or color when energized are known. A dimming element whose haze changes when energized is being studied for line-of-sight shielding applications such as partitions in offices and the like. On the other hand, a dimming element whose color changes when energized is being studied for sunlight shading applications for windows of houses, automobiles, trains, airplanes, and the like.

通電時に色が変化する調光素子は一般的に、対向する2つの電極間にエレクトロクロミック材料(酸化還元反応やイオンの授受により色が変化する材料)および電解質(エレクトロクロミック材料への電子やイオンの授受を担う)を有する。その構成としては、特開2019−168683号公報(特許文献1)や特開2018−72490号公報(特許文献2)に示されているように、対向する2つの電極の間に、エレクトロクロミック材料と電解質が混在する層を有するものや、特開2018−185424号公報(特許文献3)に示されているように、対向する2つの電極間にエレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層を有し、該エレクトロクロミック層間に電解質を含有する電解質層を有するものが知られている。後者の構成は応答速度に優れる他、通電を終了した後の色の維持(いわゆるメモリー性)にも優れることから特に注目を集めている。 A dimming element that changes color when energized is generally an electrochromic material (a material that changes color due to a redox reaction or the transfer of ions) and an electrolyte (electrons and ions to an electrochromic material) between two opposing electrodes. (Responsible for giving and receiving). As its configuration, as shown in JP-A-2019-168683 (Patent Document 1) and JP-A-2018-72490 (Patent Document 2), an electrochromic material is provided between two opposing electrodes. It has an electrochromic layer containing an electrochromic material between two opposing electrodes, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-185424 (Patent Document 3). , Those having an electrolyte layer containing an electrolyte between the electrochromic layers are known. The latter configuration is attracting particular attention because it is excellent in response speed and also in color maintenance (so-called memory property) after the energization is terminated.

前記したように調光素子の色変化には電子の授受が必要であるため、電極の導電性が優れるほど調光素子の色変化速度は高速化される。そこで調光素子の色変化速度の向上を目的として、網目状金属細線パターン上にITOに代表される導電性金属酸化物やグラフェン等の導電性を有する非金属材料による導電性非金属層を積層した材料を電極として用いる試みがなされている。例えば特開2017−194536号公報(特許文献4)には、エレクトロクロミック層を備えた調光素子の電極について、ITO等を主成分とする透明導電層の電気伝導を補助することを目的として、基材と透明導電層の間に、金属薄膜が細線状にパターニングされた金属導電層を設けることが記載されている。 As described above, since it is necessary to transfer electrons to change the color of the dimming element, the better the conductivity of the electrode, the faster the color changing speed of the dimming element. Therefore, for the purpose of improving the color change rate of the dimming element, a conductive non-metal layer made of a conductive non-metal material such as a conductive metal oxide represented by ITO or graphene is laminated on a mesh-like fine metal wire pattern. Attempts have been made to use the resulting material as an electrode. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-194536 (Patent Document 4) aims to assist the electrical conduction of a transparent conductive layer containing ITO or the like as a main component of an electrode of a dimming element provided with an electrochromic layer. It is described that a metal conductive layer in which a metal thin film is patterned in a fine line shape is provided between the base material and the transparent conductive layer.

前述した特許文献4では、基材、金属導電層、透明導電層を有する電極上にエレクトロクロミック層を形成後、該エレクトロクロミック層上に電解質層を直接塗工することにより形成している。しかし、金属薄膜が細線状にパターニングされた金属導電層は凹凸を有するため、電解質層を直接塗工することにより形成すると、金属導電層、透明導電層、およびエレクトロクロミック層に傷が生じる場合がある。その結果、該当箇所で色変化が生じなくなるため、調光素子を製造する際の歩留まりが低下する問題があり、解決が求められていた。 In Patent Document 4 described above, an electrochromic layer is formed on an electrode having a base material, a metal conductive layer, and a transparent conductive layer, and then an electrolyte layer is directly coated on the electrochromic layer. However, since the metal conductive layer in which the metal thin film is patterned in a fine line shape has irregularities, if the metal conductive layer is formed by directly coating the electrolyte layer, the metal conductive layer, the transparent conductive layer, and the electrochromic layer may be damaged. be. As a result, since the color change does not occur at the relevant portion, there is a problem that the yield at the time of manufacturing the dimming element is lowered, and a solution has been sought.

一方、特開2012−73365号公報(特許文献5)には、バインダー樹脂とカチオン性有機化合物である支持電解質塩と溶媒を含有するイオン伝導性シート(電解質層)が開示され、該イオン伝導性シートはガラス板上の導電膜やエレクトロクロミック層に対する密着性に優れることから、該イオン伝導性シートを中間膜として用いた合わせガラスは高い耐貫通性を発揮し、さらに使用中にガラス板と中間膜が剥離することもなく、高い安全性を有するとの記載がある。 On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73365 (Patent Document 5) discloses an ionic conductive sheet (electrolyte layer) containing a binder resin, a supporting electrolyte salt which is a cationic organic compound, and a solvent. Since the sheet has excellent adhesion to the conductive film and the electrochromic layer on the glass plate, the laminated glass using the ion conductive sheet as an interlayer film exhibits high penetration resistance and is intermediate with the glass plate during use. There is a description that the film does not peel off and has high safety.

特開2019−168683号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-168683 特開2018−72490号公報JP-A-2018-72490 特開2018−185424号公報JP-A-2018-185424 特開2017−194536号公報JP-A-2017-194536 特開2012−73365号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-73365

本発明の課題は、製造工程での歩留まりが改善された調光素子の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a dimming element having an improved yield in the manufacturing process.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
2つの電極を有し、該電極の少なくとも一方は支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極であって、該2つの電極上にそれぞれエレクトロクロミック層を形成した後、該エレクトロクロミック層が対向するように、粘着性を有する電解質層を介して、前記した電極を貼合する調光素子の製造方法。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
An electrode having two electrodes, at least one of which has a mesh metal wire pattern on a support and a conductive non-metal layer on the mesh metal wire pattern, on the two electrodes. A method for manufacturing a dimming element in which the above-mentioned electrodes are bonded to each other via an adhesive electrolyte layer so that the electrochromic layers face each other after forming the electrochromic layers.

本発明により、製造工程での歩留まりが改善された調光素子の製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a dimming element in which the yield in the manufacturing process is improved.

本発明の調光素子の製造方法の一例を示す概略断面図Schematic cross-sectional view showing an example of the method for manufacturing the dimming element of the present invention.

以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

図1は本発明の調光素子の製造方法の一例を示す概略断面図である。図1に例示される調光素子1は、電極2、電極3上に、エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42をそれぞれ形成した後、該エレクトロクロミック層41とエレクトロクロミック層42が対向するように粘着性を有する電解質層51を介して、前記した電極2、電極3を貼合することで得られる。前記した電極2は支持体11上に金属細線21a〜21dから構成される網目状金属細線パターン21と、該網目状金属細線パターン21上に導電性非金属層31を有する。前述の通り、従来技術においては電解質層が塗工により設けられることから、パターニングされた金属導電層の凹凸により傷が生じる場合があったが、本発明では調光素子1を上記した製造方法により得ることで、電極2が有する網目状金属細線パターン21や導電性非金属層31、およびエレクトロクロミック層41に傷が生じづらくなり、調光素子1の色変化が生じなくなる問題が改善される。よって、調光素子1の製造工程での歩留まりが改善される。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing a dimming element of the present invention. In the dimming element 1 illustrated in FIG. 1, an electrochromic layer 41 and an electrochromic layer 42 are formed on the electrodes 2 and 3, respectively, and then the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 face each other. It is obtained by laminating the electrodes 2 and 3 described above via the adhesive layer 51 having adhesiveness. The electrode 2 has a mesh-like metal fine wire pattern 21 composed of metal fine wires 21a to 21d on the support 11, and a conductive non-metal layer 31 on the mesh-like metal fine wire pattern 21. As described above, in the prior art, since the electrolyte layer is provided by coating, scratches may occur due to the unevenness of the patterned metal conductive layer, but in the present invention, the dimming element 1 is manufactured by the above-mentioned manufacturing method. By obtaining the light, the problem that the mesh-like fine metal wire pattern 21, the conductive non-metal layer 31, and the electrochromic layer 41 of the electrode 2 are less likely to be scratched and the color change of the light control element 1 does not occur is improved. Therefore, the yield in the manufacturing process of the dimming element 1 is improved.

なお、図1は概略図であり、図中の各層の厚みや幅等の関係は図の通りである必要はない。 Note that FIG. 1 is a schematic view, and the relationship between the thickness and width of each layer in the figure does not have to be as shown in the figure.

本発明において電極2が有する支持体11としては、樹脂、ガラス、セラミックス等の絶縁性支持体が好ましく用いられる。中でも、屈曲性および透明性に優れる樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。かかる樹脂フィルムを形成する樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセチルセルロースなどのトリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等が例示できる。支持体11の全光線透過率は70%以上であることが好ましく、さらに好ましくは80%以上である。支持体11のヘーズは0〜7%であることが好ましく、さらに好ましくは0〜4%である。 In the present invention, as the support 11 included in the electrode 2, an insulating support such as resin, glass, or ceramics is preferably used. Among them, a resin film having excellent flexibility and transparency is preferably used because it has excellent handleability. Specific examples of the resin forming such a resin film include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, polycarbonate resins, diacetates resins, and birds. Examples thereof include triacetate resins such as acetyl cellulose, polyarylate resins, polyvinyl chlorides, polysulphon resins, polyether sulfone resins, polyimide resins, polyamide resins, polyolefin resins, cyclic polyolefin resins, and polyvinyl acetal resins. The total light transmittance of the support 11 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The haze of the support 11 is preferably 0 to 7%, more preferably 0 to 4%.

支持体11の厚みは特に限定されないが、25〜500μmであることが調光素子の薄型化が可能になることから好ましい。支持体11は、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。なお、図1では図示していないが、支持体11は、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、接着剤層、帯電防止層等の公知の層を有していてもよく、支持体11には、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、ケン化処理等の公知の表面改質処理が施されていてもよい。 The thickness of the support 11 is not particularly limited, but it is preferably 25 to 500 μm because the dimming element can be made thinner. The support 11 may contain known additives such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a plasticizer, a mold release agent, a colorant, a flame retardant, and an antistatic agent. Although not shown in FIG. 1, the support 11 may have known layers such as an easy-adhesion layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, an adhesive layer, and an antistatic layer. Often, the support 11 may be subjected to known surface modification treatments such as corona treatment, plasma treatment, primer treatment, and saponification treatment.

本発明において網目状金属細線パターン21は金属細線21a〜21dにより構成される。かかる金属細線が含有する金属種は限定されず、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の公知の金属や公知の金属からなる合金を例示できるが、導電性の観点から銀または銅であることが好ましい。金属細線が含有する金属の割合は、金属細線の全固形分質量に対し50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上が特に好ましい。 In the present invention, the mesh-like fine metal wire pattern 21 is composed of the fine metal wires 21a to 21d. The metal type contained in the fine metal wire is not limited, and examples thereof include known metals such as gold, silver, copper, aluminum, and nickel, and alloys made of known metals, but the metal must be silver or copper from the viewpoint of conductivity. Is preferable. The ratio of the metal contained in the fine metal wire is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more, based on the total solid content mass of the fine metal wire.

網目状金属細線パターン21を構成する金属細線21a〜21dの厚みは特に限定されないが、厚すぎると金属細線が視認されやすくなる場合があり、薄すぎると網目状金属細線パターン21の導電性が不足する場合がある。よって、金属細線の厚みは0.05〜15μmが好ましく、より好ましくは0.07〜12μmであり、特に好ましくは0.1〜10μmである。 The thickness of the metal fine wires 21a to 21d constituting the mesh metal fine wire pattern 21 is not particularly limited, but if it is too thick, the metal fine wires may be easily visible, and if it is too thin, the conductivity of the mesh metal fine wire pattern 21 is insufficient. May be done. Therefore, the thickness of the thin metal wire is preferably 0.05 to 15 μm, more preferably 0.07 to 12 μm, and particularly preferably 0.1 to 10 μm.

本発明において、網目状金属細線パターン21のパターン形状は、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状であることが視認性(パターンの難視認性、以下、単に視認性と記載する。)に優れた調光素子が得られるため好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のn角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは2種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましいパターン形状の一つである。 In the present invention, the pattern shape of the mesh-like thin metal wire pattern 21 is described as visibility (difficult visibility of the pattern, hereinafter simply referred to as visibility) that the pattern shape is a geometric shape in which a plurality of unit lattices are arranged in a mesh pattern. ) Is preferable because an excellent dimming element can be obtained. The shape of the unit cell includes, for example, regular triangles, isosceles triangles, right-angled triangles and other triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids and other quadrangles, hexagons, octagons, dodecagons, icosagons, etc. Examples of shapes include a combination of n-sided triangles, star shapes, and the like, and examples thereof include a single repetition of these shapes or a combination of two or more types of a plurality of shapes. Of these, the shape of the unit cell is preferably square or rhombus. An irregular geometric shape represented by a Voronoi figure, a Delaunay figure, a Penrose tile figure, or the like is also one of the preferable pattern shapes.

網目状金属細線パターン21を構成する金属細線21a〜21dの線幅は30μm以下であることがパターンの視認性の観点から好ましく、さらに好ましくは1〜20μmである。また単位格子の繰り返し間隔は50〜800μmであることが視認性に優れることから好ましく、さらに好ましくは100〜500μmである。網目状金属細線パターン21の開口率は60%以上であることが光透過性に優れた電極が得られるため好ましく、70%以上がより好ましい。なお、本発明において開口率とは支持体11が占める面積に対して、網目状金属細線パターン21が占める面積を除いた部分が占める面積の割合である。 The line width of the thin metal wires 21a to 21d constituting the mesh-like fine metal wire pattern 21 is preferably 30 μm or less, more preferably 1 to 20 μm from the viewpoint of pattern visibility. Further, the repetition interval of the unit cell is preferably 50 to 800 μm because it is excellent in visibility, and more preferably 100 to 500 μm. The aperture ratio of the mesh-like metal fine wire pattern 21 is preferably 60% or more because an electrode having excellent light transmission can be obtained, and more preferably 70% or more. In the present invention, the aperture ratio is the ratio of the area occupied by the portion excluding the area occupied by the mesh-like metal fine wire pattern 21 to the area occupied by the support 11.

支持体11上に網目状金属細線パターン21を形成する方法は特に限定されず、例えば特開2015−69877号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与して網目状金属細線パターンを形成する方法や、特開2007−59270号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を用い、硬化現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2004−221564号公報、特開2007−12314号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を用い、直接現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報、特開2007−188655号公報、特開2004−207001号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2014−197531号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属細線パターンを形成する方法、特開2015−82178号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して網目状金属細線パターンを形成する方法、等が例示できる。 The method for forming the mesh-like fine metal wire pattern 21 on the support 11 is not particularly limited, and for example, according to the method disclosed in JP-A-2015-69877, a conductive metal ink or a conductive paste containing a metal and a binder. The silver halide emulsion layer is provided on the support according to a method of forming a mesh metal fine line pattern on the support by a method such as printing or a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-59270. On the support according to a method of forming a mesh-like metal fine line pattern using a silver salt photosensitive material and a curing and developing method, and a method disclosed in JP-A-2004-221564, JP-A-2007-12314 and the like. A method for forming a mesh metal fine line pattern by a direct development method using a silver salt photosensitive material having a silver halide emulsion layer, JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, JP-A-2007- Soluble silver salt is formed by using a silver salt photosensitive material having a physically developed nuclear layer and a silver halide emulsion layer on a support in at least this order according to the methods disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 188655 and JP-A-2004-207001. A method of forming a network metal fine line pattern using a so-called silver salt diffusion transfer method in which an agent and a reducing agent are allowed to act in an alkaline solution, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-197531. Using a photosensitive resist material in which a ground layer and a photosensitive resist layer are laminated, the photosensitive resist layer is exposed to an arbitrary pattern, developed, formed into a resist image, and then electroless plated to cover the resist image. A metal film is formed on a support according to a method of localizing a metal on a non-existing base layer and then removing a resist image to form a mesh metal fine line pattern, which is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-82178. , A method in which a resist film is provided, the resist film is exposed and developed to form an opening, and the metal film of the opening is etched and removed to form a mesh metal fine line pattern, and the like can be exemplified.

上記した支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法の中でも、導電性に優れる銀を含有する金属細線から構成される網目状金属細線パターンが容易に形成できることから、銀塩感光材料を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法が好ましく、パターンの微細化が容易であることから、銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法が特に好ましい。 Among the methods for forming a mesh-like metal fine wire pattern on the support described above, a silver salt photosensitive material is used because a mesh-like metal fine wire pattern composed of silver-containing metal fine wires having excellent conductivity can be easily formed. A method of forming a mesh-like metal fine wire pattern is preferable, and a method of forming a mesh-like metal fine wire pattern by using a silver salt diffusion transfer method is particularly preferable because the pattern can be easily miniaturized.

網目状金属細線パターンの導電性をさらに向上することを目的として、上記した方法にて支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、電解めっきや無電解めっきを行うことも、本発明の好ましい態様の一つである。電解めっきや無電解めっきの手法は特に限定されず、電解銅めっき、無電解銅めっき、電解ニッケルめっき、無電解ニッケルめっき、電解金めっき等の公知のめっき浴を用いて、公知のめっき条件でめっきすることができる。 For the purpose of further improving the conductivity of the mesh metal fine wire pattern, it is also preferable to perform electrolytic plating or electroless plating after forming the mesh metal fine wire pattern on the support by the above method. This is one of the aspects. The method of electrolytic plating or electroless plating is not particularly limited, and using known plating baths such as electrolytic copper plating, electroless copper plating, electrolytic nickel plating, electroless nickel plating, and electrolytic gold plating, under known plating conditions. Can be plated.

また、網目状金属細線パターンの視認性を向上することを目的として、上記した方法にて支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、黒化処理を行うこともできる。かかる黒化処理としては、積層方法と置換方法が例示できる。積層方法としては、黒色ニッケルめっき、黒色クロムめっき、黒色スズ−ニッケル合金めっき等の公知の黒色めっきを施す方法、ニッケル銅、ニッケル銅チタン、ニッケル銅モリブデン等の金属材料をターゲット材料として用い、酸素や窒素等の反応性ガス供給下でスパッタリングする方法、黒色インキを印刷する方法、等が例示できる。置換方法としては、金属細線表面を硫化、あるいは酸化する方法や、金属細線表面をより貴な金属に置換する方法等が例示できる。金属細線表面を硫化する方法としては、硫化カリウム、硫化バリウム、硫化アンモニウムの水溶液や、硫黄と硫化ナトリウムの混合水溶液を金属細線表面に付与する方法が例示できる。金属細線表面を酸化する方法としては、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を金属細線表面に付与する方法を例示できる。金属細線表面をより貴な金属に置換する方法としては、塩化パラジウム、硫酸パラジウム、あるいは硝酸パラジウムを含有する水溶液を金属細線表面に付与する方法が例示できる。 Further, for the purpose of improving the visibility of the mesh-like metal fine line pattern, blackening treatment can be performed after forming the mesh-like metal fine line pattern on the support by the above method. Examples of such blackening treatment include a laminating method and a replacement method. As the laminating method, a known black plating method such as black nickel plating, black chrome plating, black tin-nickel alloy plating, or a metal material such as nickel copper, nickel copper titanium, nickel copper molybdenum is used as a target material, and oxygen is used. A method of plating under the supply of a reactive gas such as nickel or nitrogen, a method of printing black ink, and the like can be exemplified. Examples of the replacement method include a method of sulfurizing or oxidizing the surface of the fine metal wire, a method of replacing the surface of the fine metal wire with a more noble metal, and the like. Examples of the method of sulfurizing the surface of the fine metal wire include an aqueous solution of potassium sulfide, barium sulfide, and ammonium sulfide, and a method of applying a mixed aqueous solution of sulfur and sodium sulfide to the surface of the fine metal wire. As a method for oxidizing the surface of the fine metal wire, a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of peroxodisulfuric acid and sodium hydroxide, etc. are used on the surface of the fine metal wire. The method of giving to can be exemplified. As a method of replacing the surface of the fine metal wire with a more noble metal, an example of a method of applying an aqueous solution containing palladium chloride, palladium sulfate, or palladium nitrate to the surface of the fine metal wire can be exemplified.

本発明において網目状金属細線パターンを構成する金属細線は、上記した黒化処理以外の公知の金属表面処理が施されていてもよい。例えば特開2008−34366号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開2013−196779号公報に記載されているような分子内に2つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよい。また、銀塩感光材料を用いて網目状金属細線パターンを形成する場合、特開2007−12404号公報に記載されているように金属細線をタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理し、残存するゼラチン等を低減してもよい。 In the present invention, the fine metal wire constituting the mesh-like fine metal wire pattern may be subjected to a known metal surface treatment other than the above-mentioned blackening treatment. For example, a reducing substance, a water-soluble phosphoric acid compound, or a water-soluble halogen compound as described in JP-A-2008-34366 may be allowed to act, as described in JP-A-2013-196779. Triazine having two or more mercapto groups in the molecule or a derivative thereof may be allowed to act. When forming a mesh-like metal fine wire pattern using a silver salt photosensitive material, the metal fine wire is treated with a treatment solution containing an enzyme such as a proteolytic enzyme as described in JP-A-2007-12404. , Residual gelatin and the like may be reduced.

本発明において電極2は、支持体11上に前記した網目状金属細線パターン21以外に、ベタパターン(塗りつぶしパターン)を有していてもよい。例えば、フレキシブルプリント配線板といった外部との電気的接続を担う配線部材を接続するための端子や、網目状金属細線パターンと端子とを電気的に接続する周辺配線を、ベタパターンにより設けることができる。端子や周辺配線の線幅は特に限定されない。ベタパターンの形成方法としては上記した網目状金属細線パターン21を形成する方法と同様の方法を例示できる。 In the present invention, the electrode 2 may have a solid pattern (filled pattern) on the support 11 in addition to the above-mentioned mesh-like fine metal wire pattern 21. For example, a terminal for connecting a wiring member responsible for electrical connection with the outside such as a flexible printed wiring board, and a peripheral wiring for electrically connecting a mesh-like thin metal wire pattern and a terminal can be provided by a solid pattern. .. The line width of the terminals and peripheral wiring is not particularly limited. As a method for forming the solid pattern, the same method as the method for forming the mesh-like fine metal wire pattern 21 described above can be exemplified.

導電性非金属層31を構成する材料は特に限定されず、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明性を有する導電性金属酸化物や、グラフェン等の公知の導電性を有する非金属材料が例示できる。上記した中でも、透明性に優れ、導電性にも優れることから、導電性金属酸化物を用いることが好ましく、酸化インジウムを用いることが特に好ましい。導電性非金属層を構成する材料として酸化インジウムを用いる場合、導電性を向上することを目的として、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛等を添加する、いわゆるドープを行うことが好ましい。中でも、酸化インジウムに酸化スズをドープした酸化インジウムスズ(ITO)を、導電性非金属層を構成する材料として用いることが特に好ましい。 The material constituting the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, and transparent conductive metal oxides such as indium oxide, zinc oxide, and tin oxide, and known conductive non-metal materials such as graphene can be used. It can be exemplified. Among the above, it is preferable to use a conductive metal oxide, and it is particularly preferable to use indium oxide because it is excellent in transparency and conductivity. When indium oxide is used as a material constituting the conductive non-metal layer, it is preferable to perform so-called doping in which tin oxide, titanium oxide, zinc oxide and the like are added for the purpose of improving conductivity. Above all, it is particularly preferable to use indium tin oxide (ITO) obtained by doping indium oxide with tin oxide as a material for forming the conductive non-metal layer.

導電性非金属層31の厚みは特に限定されないが、厚すぎると導電性を有する非金属材料の色味が顕在化する場合があるので、5〜500nmが好ましく、10〜300nmが特に好ましい。 The thickness of the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, but if it is too thick, the color of the conductive non-metal material may become apparent, so 5 to 500 nm is preferable, and 10 to 300 nm is particularly preferable.

導電性非金属層31の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスや、塗布、印刷等のウェットプロセスといった公知の形成方法の中から、導電性非金属層を構成する材料に適した方法を選択すればよい。 The method for forming the conductive non-metal layer 31 is not particularly limited, and is conductive from known forming methods such as a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a wet process such as coating and printing. A method suitable for the material constituting the non-metal layer may be selected.

本発明において電極3の構成は特に限定されず、電極として機能するための導電性を有していればよい。例えば、電極2と同様に、支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極であってもよく、あるいは支持体上に網目状金属細線パターンを設けず、支持体上に導電性非金属層のみを有する電極であってもよい。中でも、調光素子の色変化速度が優れることから、電極3として支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極が特に好ましい。しかしこの場合、電極2と電極3の両方が支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有するので、電解質層を塗工により設けると前述した傷がいっそう生じやすくなり、製造する際の歩留まりが低下しやすくなる。従って本発明は、このような構成の調光素子の製造においてとりわけ有効に作用する。 In the present invention, the configuration of the electrode 3 is not particularly limited as long as it has conductivity for functioning as an electrode. For example, similarly to the electrode 2, it may be an electrode having a mesh-like metal fine wire pattern on the support and a conductive non-metal layer on the mesh-like metal fine wire pattern, or a mesh-like metal fine wire on the support. The electrode may be an electrode having only a conductive non-metal layer on the support without providing a pattern. Among them, an electrode having a mesh-like metal fine wire pattern on the support and a conductive non-metal layer on the mesh-like metal fine wire pattern is particularly preferable as the electrode 3 because the color change rate of the light control element is excellent. However, in this case, since both the electrode 2 and the electrode 3 have a mesh metal fine wire pattern on the support and a conductive non-metal layer on the mesh metal fine wire pattern, it was described above that the electrolyte layer is provided by coating. Scratches are more likely to occur, and the yield during manufacturing is likely to decrease. Therefore, the present invention works particularly effectively in the manufacture of a dimming device having such a configuration.

電極3が有していてもよい支持体、網目状金属細線パターン、導電性非金属層の各要素(材料、厚み等)としては、電極2と同じ内容が例示できる。電極2と電極3の各要素は同一であってもよく、異なっていてもよい。 As each element (material, thickness, etc.) of the support, the mesh-like fine metal wire pattern, and the conductive non-metal layer that the electrode 3 may have, the same contents as those of the electrode 2 can be exemplified. Each element of the electrode 2 and the electrode 3 may be the same or different.

本発明においてエレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42はエレクトロクロミック材料を少なくとも含有する。エレクトロクロミック材料は特に限定されず、有機系や無機系のエレクトロクロミック材料として公知の材料が例示される。 In the present invention, the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 contain at least an electrochromic material. The electrochromic material is not particularly limited, and materials known as organic or inorganic electrochromic materials are exemplified.

有機系のエレクトロクロミック材料としては、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物等が例示される。 Examples of organic electrochromic materials include biologen compounds, viologen salt compounds, ferrocene compounds, polypyrrole compounds, polythiophene compounds, polyparaphenylene vinylene compounds, polyaniline compounds, polyacetylene compounds, polyethylenedioxythiophene compounds, metallic phthalocyanine compounds, and dimethyl terephthalate. Compounds and the like are exemplified.

無機系のエレクトロクロミック材料としては、酸化タングステン、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化バナジウム、六酸化バナジウム、酸化レニウム、酸化タンタル、酸化ロジウム、酸化クロム、酸化タンタル、酸化銅、酸化パラセオジウム、ストロンチウムドープチタン酸、タングステンサルファイト、窒化インジウム−窒化錫、プルシアンブルー、プルシアンブルー類似体(プルシアンブルーの鉄元素の一部を他の金属元素で置換したもの)等が例示される。 Inorganic electrochromic materials include tungsten oxide, nickel hydroxide, nickel oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, manganese oxide, cobalt oxide, vanadium oxide, vanadium hexaoxide, renium oxide, tantalum oxide, and rhodium oxide. Chromium oxide, tantalum oxide, copper oxide, paratheodium oxide, strontium-doped titanium acid, tungsten sulfite, indium nitride-tin nitride, Prussian blue, Prussian blue analog (part of the iron element of Prussian blue is replaced with other metal elements) ) Etc. are exemplified.

上記したエレクトロクロミック材料は、酸化還元反応やイオンの授受により色が変化するので、例えば、エレクトロクロミック層41に酸化反応で発色し、かつ還元反応で消色するエレクトロクロミック材料を用い、エレクトロクロミック層42に還元反応で発色し、かつ酸化反応で消色するエレクトロクロミック材料を用いると、調光素子1全体として通電により透明状態と発色状態を切り替えられる他、発色状態での発色濃度を向上することができるため、特に好ましい。このようなエレクトロクロミック材料の組み合わせとしては、ポリアセチレン/ポリアニリン、ポリピロール/ポリアニリン、酸化タングステン/酸化ニッケル、酸化タングステン/酸化タンタル、酸化タングステン/プルシアンブルー、プルシアンブルー/プルシアンブルー類似体、ポリチオフェン化合物/プルシアンブルー、酸化タングステン/ポリアニリン化合物、等が例示できる。 Since the color of the above-mentioned electrochromic material changes due to the redox reaction and the transfer of ions, for example, an electrochromic material that develops color in the electrochromic layer 41 by the oxidation reaction and decolorizes by the reduction reaction is used, and the electrochromic layer is used. When an electrochromic material that develops color by reduction reaction and decolorizes by oxidation reaction is used for 42, the entire dimming element 1 can be switched between a transparent state and a color development state by energization, and the color development density in the color development state can be improved. It is particularly preferable because it can be used. Such electrochromic material combinations include polyacetylene / polyaniline, polypyrrole / polyaniline, tungsten oxide / nickel oxide, tungsten oxide / tantalum oxide, tungsten oxide / Prussian blue, Prussian blue / Prussian blue analogs, polythiophene compounds / Prussian blue. , Tungsten oxide / polyaniline compound, etc. can be exemplified.

プルシアンブルーおよびプルシアンブルー類似体としては市販品を用いることができる。例えば、関東化学(株)より市販されるwFeHCFナノ粒子分散液(プルシアンブルー分散液)や、wNiHCFナノ粒子分散液(ニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液)を入手し利用することができる。 Commercially available products can be used as Prussian blue and Prussian blue analogs. For example, a wFeHCF nanoparticle dispersion (Prussian blue dispersion) or a wNiHCF nanoparticle dispersion (nickel-substituted Prusian blue analog dispersion) commercially available from Kanto Chemical Co., Ltd. can be obtained and used.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42のエレクトロクロミック材料の含有量は特に限定されないが、少なすぎると調光素子1の発色濃度が低下する場合があり、多すぎると調光素子1の色変化速度が低下する場合がある。よって、含有量は0.01〜5.0g/mが好ましく、0.05〜3.0g/mが特に好ましい。 The content of the electrochromic material in the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 is not particularly limited, but if it is too small, the color density of the dimming element 1 may decrease, and if it is too large, the color change rate of the dimming element 1 may decrease. May decrease. Thus, the content is preferably 0.01~5.0g / m 2, 0.05~3.0g / m 2 is particularly preferred.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42は、上記したエレクトロクロミック材料に加え、さらに界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、着色剤(顔料や染料等)、酸化防止剤、シランカップリング剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。 In addition to the above-mentioned electrochromic materials, the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 further include surfactants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants (pigments, dyes, etc.), antioxidants, silane coupling agents, etc. It may contain a known additive of.

エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスや、塗布、印刷等のウェットプロセスといった公知の形成方法の中から適宜選択し、電極2および電極3上に形成すればよい。例えば、前述した関東化学(株)より市販されるwFeHCFナノ粒子分散液やwNiHCFナノ粒子分散液を用いてエレクトロクロミック層を形成する場合、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の塗布方法や、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の印刷方法を用いて電極2および電極3上に該ナノ粒子分散液を付与し、乾燥する方法が例示できる。乾燥方法としては自然乾燥、真空乾燥、熱風乾燥、低湿風乾燥、赤外線乾燥、熱ロール乾燥等の公知の乾燥方法が例示できる。 The method for forming the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42 is not particularly limited, and among known forming methods such as a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, and a wet process such as coating and printing. It may be appropriately selected and formed on the electrode 2 and the electrode 3. For example, when forming an electrochromic layer using the wFeHCF nanoparticle dispersion or wNiHCF nanoparticle dispersion commercially available from Kanto Chemical Co., Ltd., the bar coating method, dip coating method, spin coating method, die coating method, etc. Known coating methods such as blade coating method, gravure coating method, curtain coating method, spray coating method, kiss coating method, gravure printing, flexo printing, inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure offset printing, dispenser printing, pad printing. An example is a method in which the nanoparticle dispersion liquid is applied onto the electrodes 2 and 3 using a known printing method such as the above and dried. Examples of the drying method include known drying methods such as natural drying, vacuum drying, hot air drying, low humidity air drying, infrared drying, and hot roll drying.

本発明において電解質層51は粘着性を有し、該電解質層は電解質、溶媒、および樹脂を少なくとも含有することが好ましい。電解質層51が溶媒を含有することで、調光素子の色変化速度が優れたものになり、電解質層51が樹脂を含有することで、電解質層51に粘着力を付与することが容易になる。 In the present invention, the electrolyte layer 51 is adhesive, and it is preferable that the electrolyte layer contains at least an electrolyte, a solvent, and a resin. When the electrolyte layer 51 contains a solvent, the color change rate of the dimming element becomes excellent, and when the electrolyte layer 51 contains a resin, it becomes easy to impart adhesive strength to the electrolyte layer 51. ..

電解質層51が含有する電解質は特に限定されないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の塩が例示できる。具体的にはヘキサフルオロリン酸カリウム、テトラフルオロほう酸カリウム、塩化カリウム、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドカリウム、過塩素酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、テトラフルオロほう酸リチウム、ヘキサフルオロ砒酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、トリフルオロ酢酸リチウム、塩素酸ナトリウム、過塩素酸マグネシウム等が例示できる。電解質は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The electrolyte contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts can be exemplified. Specifically, potassium hexafluorophosphate, potassium tetrafluoroborate, potassium chloride, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide potassium, lithium perchlorate, lithium hexafluorophosphate, lithium tetrafluoroborate, lithium hexafluoroarsenate, trifluoromethane Examples thereof include lithium sulfonate, lithium trifluoroacetate, sodium chlorate, and magnesium perchlorate. The electrolyte may be used alone or in combination of two or more.

電解質層51中の電解質の含有量は特に限定されないが、調光素子の色変化速度が優れることから、電解質層51の全質量に対して1.0質量%以上が好ましく、1.5質量%以上がより好ましく、2.0質量%以上が特に好ましい。上限は特に限定されないが、10質量%以下が好ましい。 The content of the electrolyte in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but is preferably 1.0% by mass or more, preferably 1.5% by mass, based on the total mass of the electrolyte layer 51, because the color change rate of the dimming element is excellent. The above is more preferable, and 2.0% by mass or more is particularly preferable. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 10% by mass or less.

電解質層51が含有する溶媒は特に限定されず、電解質層51が含有する電解質を溶解可能な公知の溶媒を用いることができる。具体的には、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル等の鎖状炭酸エステル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン等の環状炭酸エステル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、トリメチル酢酸メチル等の脂肪族カルボン酸エステル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等の芳香族カルボン酸エステル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン等のラクトン、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等のラクタム、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン等の環状エーテル、1,2−ジエトキシエタン、エトキシメトキシエタン等の鎖状エーテル、エチルメチルスルホン、スルホラン、3−メチルスルホラン、2,4−ジメチルスルホラン等のスルホン、アセトニトリル、プロピオニトリル、メトキシプロピオニトリル等のニトリル、リン酸トリメチル、リン酸エチルジメチル、リン酸ジエチルメチル、リン酸トリエチル等のリン酸エステル、エタノール、2−プロパノール等のアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール、水等が例示できる。溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The solvent contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and a known solvent capable of dissolving the electrolyte contained in the electrolyte layer 51 can be used. Specifically, chain carbonate esters such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate and ethyl methyl carbonate, cyclic carbonate esters such as ethylene carbonate, propylene carbonate and butylene carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate and butyric acid. Aliphatic carboxylic acid esters such as methyl, methyl isobutyrate, methyl trimethylacetate, aromatic carboxylic acid esters such as methyl benzoate and ethyl benzoate, lactones such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, ε-caprolactam, N- Lactam such as methylpyrrolidone, cyclic ethers such as tetrahydrofuran, 2-methyl tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane, chain ethers such as 1,2-diethoxyethane and ethoxymethoxyethane, ethylmethylsulfone, sulfolane, 3 -Sulfones such as methyl sulfolane and 2,4-dimethyl sulfolane, nitriles such as acetonitrile, propionitrile and methoxypropionitrile, phosphate esters such as trimethyl phosphate, ethyl dimethyl phosphate, diethyl methyl phosphate and triethyl phosphate. , Ethanol, alcohols such as 2-propanol, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and polyethylene glycol, water and the like can be exemplified. The solvent may be used alone or in combination of two or more.

電解質層51中の溶媒の含有量は特に限定されないが、調光素子1の色変化速度が優れたものになることから、電解質層51の全質量に対して5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が特に好ましい。上限は特に限定されないが、電解質層51の粘着力を優れたものにできることから45質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、35質量%以下が特に好ましい。 The content of the solvent in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but 5% by mass or more is preferable with respect to the total mass of the electrolyte layer 51, and 10% by mass, because the color change rate of the dimming element 1 is excellent. % Or more is more preferable, and 15% by mass or more is particularly preferable. Although the upper limit is not particularly limited, it is preferably 45% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 35% by mass or less because the adhesive strength of the electrolyte layer 51 can be made excellent.

電解質層51が含有する樹脂は特に限定されず、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、エチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂等の公知の樹脂が例示できる。上記樹脂は、樹脂前駆体を重合開始剤により重合させることで得られる。 The resin contained in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, and includes acrylic resin, urethane resin, silicone resin, epoxy resin, vinyl chloride resin, ethylene resin, melamine resin, phenol resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyethylene oxide resin and the like. A known resin of the above can be exemplified. The above resin is obtained by polymerizing a resin precursor with a polymerization initiator.

樹脂前駆体は特に限定されず、各種樹脂のモノマーやオリゴマーを用いることができる。中でも(メタ)アクリル系モノマーおよび(メタ)アクリル系オリゴマーは、重合により得られる樹脂が透明性に優れ、かつ重合を制御して樹脂に粘着性を付与することも容易であることから、特に好ましい。従って本発明において電解質層51はアクリル樹脂を含有することが特に好ましい。樹脂前駆体として単一の(メタ)アクリル系モノマーおよび/または(メタ)アクリル系オリゴマーを用いてもよく、2種類以上の(メタ)アクリル系モノマーおよび/または(メタ)アクリル系オリゴマーを併用してもよい。なお、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」または「メタクリル」を表し、他も同様である。 The resin precursor is not particularly limited, and monomers and oligomers of various resins can be used. Among them, the (meth) acrylic monomer and the (meth) acrylic oligomer are particularly preferable because the resin obtained by polymerization has excellent transparency and it is easy to control the polymerization to impart adhesiveness to the resin. .. Therefore, in the present invention, it is particularly preferable that the electrolyte layer 51 contains an acrylic resin. A single (meth) acrylic monomer and / or (meth) acrylic oligomer may be used as the resin precursor, and two or more kinds of (meth) acrylic monomer and / or (meth) acrylic oligomer may be used in combination. You may. In addition, "(meth) acrylic" represents "acrylic" or "methacryl", and the same applies to others.

本発明においては、重合して得られるアクリル樹脂が上記した電解質および溶媒との相溶性に優れることから、(メタ)アクリル系オリゴマーおよび/またはエチレンオキサイド構造を有する(メタ)アクリル系モノマーを少なくとも用いることが好ましく、重合して得られるアクリル樹脂の粘着力が優れることから、(メタ)アクリル系オリゴマーを少なくとも用いることが特に好ましい。 In the present invention, since the polypoly resin obtained by polymerization has excellent compatibility with the above-mentioned electrolyte and solvent, at least a (meth) acrylic oligomer and / or a (meth) acrylic monomer having an ethylene oxide structure is used. It is particularly preferable to use at least a (meth) acrylic oligomer because the adhesive strength of the acrylic resin obtained by polymerization is excellent.

(メタ)アクリル系オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソプレンアクリレート、ブタジエンアクリレート等の(メタ)アクリル系オリゴマーが例示できる。なお、本発明における(メタ)アクリル系オリゴマーとは、(メタ)アクリル基を少なくとも1つ以上有するオリゴマーを意味する。 Examples of the (meth) acrylic oligomer include (meth) acrylic oligomers such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, isoprene acrylate, and butadiene acrylate. The (meth) acrylic oligomer in the present invention means an oligomer having at least one (meth) acrylic group.

上記(メタ)アクリル系オリゴマーは市販されており、いずれも好ましく用いることができる。ウレタンアクリレートとしては東亞合成(株)製アロニックス(登録商標)M−1100、アロニックスM−1200、新中村化学工業(株)製UA−1100H、UA−160TM、ダイセル・オルネクス(株)製EBECRYL(登録商標)210、EBECRYL230、EBECRYL270、荒川化学工業(株)製ビームセット(登録商標)505A−6、ビームセット550B、ビームセット575、三菱ケミカル(株)製UV−3640PE80、UV−3630ID80等が例示できる。エポキシアクリレートとしてはDIC(株)製ユニディック(登録商標)V−5500、ユニディックV−5502、共栄社化学(株)製エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3000MK等が例示できる。ポリエステルアクリレートとしては東亞合成(株)製アロニックスM−7100、アロニックスM−8100、ダイセル・オルネクス(株)製EBECRYL436、EBECRYL450、EBECRYL810等が例示できる。イソプレンアクリレートとしては、(株)クラレ製UC−102、UC−203等が例示できる。ブタジエンアクリレートとしては、日本曹達(株)製NISSO(登録商標)−PB TE−2000等が例示できる。 The above (meth) acrylic oligomers are commercially available, and any of them can be preferably used. As urethane acrylate, Toagosei Co., Ltd. Aronix (registered trademark) M-1100, Aronix M-1200, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. UA-1100H, UA-160TM, Daicel Ornex Co., Ltd. EBECRYL (registered) Examples thereof include 210, EBECRYL230, EBECRYL270, Beam Set (registered trademark) 505A-6 manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., Beam Set 550B, Beam Set 575, UV-3640PE80 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., UV-3630ID80, and the like. .. Examples of the epoxy acrylate include Unidic (registered trademark) V-5500 and Unidic V-5502 manufactured by DIC Corporation, epoxy ester 80MFA manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., and epoxy ester 3000MK. Examples of the polyester acrylate include Aronix M-7100 and Aronix M-8100 manufactured by Toagosei Co., Ltd., EBECRYL436, EBECRYL450 and EBECRYL810 manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd. Examples of the isoprene acrylate include UC-102 and UC-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. Examples of the butadiene acrylate include NISSO (registered trademark) -PB TE-2000 manufactured by Nippon Soda Corporation.

エチレンオキサイド構造を有する(メタ)アクリル系モノマーとしては、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#600(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール#200ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール#400ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール#600ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール#1000ジ(メタ)アクリレート等が例示できる。 Examples of the (meth) acrylic monomer having an ethylene oxide structure include methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol # 600 (meth) acrylate, and ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate. Phenoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol # 200 di (meth) acrylate, polyethylene glycol # 400 di (meth) acrylate, polyethylene glycol # 600 di (meth) ) Acrylate, polyethylene glycol # 1000 di (meth) acrylate and the like can be exemplified.

上記モノマー以外の(メタ)アクリル系モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ノナデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート等の炭素数が1〜20の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、4−メトキシブチル(メタ)アクリレート、4−エトキシブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド等のアミド基含有モノマー、アミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基含有モノマー、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有モノマー、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマー、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート等の多官能性モノマーが例示できるが、これらに限定されない。 Examples of (meth) acrylic monomers other than the above monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) acrylate. , S-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meta) Acrylate, Isooctyl (Meta) Acrylate, Nonyl (Meta) Acrylate, Isononyl (Meta) Acrylate, Decyl (Meta) Acrylate, Isodecyl (Meta) Acrylate, Dodecyl (Meta) Acrylate, Tridecyl (Meta) Acrylate, Tetradecyl (Meta) ) Acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, nonadecil (meth) acrylate, eicocil (meth) acrylate, etc. (Meta) acrylic acid alkyl ester having a group, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, (meth) methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) (Meta) acrylic acid alkoxyalkyl esters such as acrylates, 3-ethoxypropyl (meth) acrylates, 4-methoxybutyl (meth) acrylates, 4-ethoxybutyl (meth) acrylates, 2-hydroxyethyl (meth) acrylates, 3- Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N -Amid group-containing monomers such as methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, aminoethyl (meth) acrylate, dimethylamino Amino group-containing monomers such as ethyl (meth) acrylate and t-butylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) a. Glycidyl group-containing monomers such as clearate and methylglycidyl (meth) acrylate, cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, hexanediol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylpropantri (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate and other polyfunctional monomers can be exemplified, but are not limited thereto.

電解質層51中の樹脂の含有量、すなわち樹脂前駆体の含有量は特に限定されないが、電解質層51の粘着力を優れたものにできることから、電解質層51の全質量に対して45質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましく、55質量%以上が特に好ましい。 The content of the resin in the electrolyte layer 51, that is, the content of the resin precursor is not particularly limited, but since the adhesive strength of the electrolyte layer 51 can be made excellent, it is 45% by mass or more with respect to the total mass of the electrolyte layer 51. Is preferable, 50% by mass or more is more preferable, and 55% by mass or more is particularly preferable.

樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤は特に限定されず、公知の重合開始剤が例示できる。ここで重合開始剤とは、熱や電離放射線により、上記樹脂前駆体の重合反応を開始させる化合物を意味する。熱により重合反応を開始させる重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、tert−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、(2−エチルヘキサノイル)(tert−ブチル)ペルオキシド、tert−ブチルベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の有機過酸化物、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2′−アゾビス−2−メチルブチロニトリル等のアゾ化合物が例示でき、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン、オリゴ{2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン}、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メチル−ジフェニルサルファイド、3,3′,4,4′−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)エチル]ベンゼンメタナミニウムブロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン化合物、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロリド等のチオキサントン化合物等が例示できる。なお、電離放射線とは、樹脂前駆体の重合反応を開始させうるエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、紫外線、可視光線、ガンマー線、X線、電子線等が例示でき、中でも紫外線を用いることが生産性の観点から好ましい。 The polymerization initiator used for the polymerization of the resin precursor is not particularly limited, and known polymerization initiators can be exemplified. Here, the polymerization initiator means a compound that initiates the polymerization reaction of the resin precursor by heat or ionizing radiation. Examples of the polymerization initiator that initiates the polymerization reaction by heat include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, (2-ethylhexanoyl) (tert-butyl) peroxide, and tert-butyl. Organic peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbuty An azo compound such as ronitrile can be exemplified, and examples of the polymerization initiator that initiates the polymerization reaction by ionizing radiation include 2,2-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 2, , 2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1) -Acetphenone compounds such as -methylvinyl) phenyl] propanone}, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one, benzoyl , Benzoyl compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenylsulfide, 3,3 ′, 4,4 ′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ) Ethyl] Benzenmethanamineium bromide, benzophenone compounds such as (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro -4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino-2-) Examples thereof include thioxanthone compounds such as hydroxy) -3,4-dimethyl-9H-thioxanthone-9-one mesochloride. The ionizing radiation means electromagnetic waves or charged particles having energy capable of initiating the polymerization reaction of the resin precursor, and examples thereof include ultraviolet rays, visible rays, gamma rays, X-rays, and electron beams, and among them, ultraviolet rays are used. Is preferable from the viewpoint of productivity.

上記重合開始剤は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはIGM RESINS製Omnirad(登録商標)127、Omnirad184、Omnirad369、Omnirad500、Omnirad651、Omnirad754、Omnirad819、Omnirad907、Omnirad2959、Omnirad1173等、大塚化学(株)製AIBN、ADVN、AMBN等が例示できる。 The above-mentioned polymerization initiators are commercially available, and any of them can be preferably used. Specifically, IGM RESINS's Omnirad (registered trademark) 127, Omnirad 184, Omnirad 369, Omnirad 500, Omnirad 651, Omnirad 754, Omnirad 819, Omnirad 754, Omnirad 819, Omnirad 907, Omnirad 819, Omnirad 907, Omnirad 907, Omnirad 907, Omnirad 907, Otsuka Chemical Co., Ltd.

電解質層51中の重合開始剤の含有量は特に限定されないが、重合速度の観点から、電解質層51の全質量に対して0.05〜5質量%が好ましく、0.1〜3質量%が特に好ましい。 The content of the polymerization initiator in the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but from the viewpoint of the polymerization rate, it is preferably 0.05 to 5% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total mass of the electrolyte layer 51. Especially preferable.

樹脂前駆体の重合方法としては、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、電離放射線照射重合方法等の公知の重合方法が例示でき、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は溶液重合方法を、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は電離放射線照射重合方法を、といったように使用する重合開始剤の特性に合わせて選択すればよい。 Examples of the polymerization method of the resin precursor include known polymerization methods such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a massive polymerization method, and an ionization radiation irradiation polymerization method. When a polymerization initiator that initiates the polymerization reaction by heat is used, When a polymerization initiator that initiates the polymerization reaction by ionizing radiation is used as the solution polymerization method, the ionization radiation irradiation polymerization method may be selected according to the characteristics of the polymerization initiator to be used.

本発明において電解質層51はさらに、架橋剤(例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等)、シランカップリング剤(例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有するシランカップリング剤、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基を有するシランカップリング剤等)、粘着付与剤(例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等)、酸化防止剤(ヒンダードフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等)、紫外線吸収剤(トリアジン化合物、ベンゾフェノン化合物等)、光安定剤(ヒンダードアミン化合物等)、充填剤、着色剤(顔料や染料等)、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤等の公知の樹脂用添加剤を含有していてもよい。 In the present invention, the electrolyte layer 51 further includes a cross-linking agent (for example, an isocyanate-based cross-linking agent, an epoxy-based cross-linking agent, etc.) and a silane coupling agent (for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane). Phenol coupling agents having an epoxy group such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, silane coupling agents having a mercapto group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, silane coupling agents having an acrylic group such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane), etc. Adhesive-imparting agents (for example, rosin derivative resins, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenol resins, etc.), antioxidants (hindered phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds, etc.), ultraviolet absorbers (triazine compounds, etc.) Addition of known resins such as benzophenone compounds), light stabilizers (hindered amine compounds, etc.), fillers, colorants (pigments, dyes, etc.), chain transfer agents, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, etc. It may contain an agent.

本発明において電解質層51は粘着性を有する必要がある。電解質層51が粘着性を有さない場合、電解質層51を介して電極2、電極3を貼合する際や貼合後に浮きが生じてしまい、該当箇所では通電しても色変化が生じないため、調光素子を製造する際の歩留まりが低下する。なお、本発明において粘着性を有するとは、JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて測定した引き剥がし粘着力が0.5N/25mm以上であることを意味する。 In the present invention, the electrolyte layer 51 needs to have adhesiveness. If the electrolyte layer 51 does not have adhesiveness, floating will occur when the electrodes 2 and 3 are bonded via the electrolyte layer 51 or after bonding, and the color will not change even when energized at the relevant location. Therefore, the yield when manufacturing the dimming element is lowered. In the present invention, having adhesiveness means that the peeling adhesive strength measured in a 180 degree peeling test based on JIS Z0237: 2009 is 0.5 N / 25 mm or more.

電解質層51の厚みは特に限定されないが、厚すぎると調光素子1の色変化速度が低下する場合があり、薄すぎると電極2および電極3が短絡して色変化が停止する場合がある。よって電解質層51の厚みは0.5〜500μmが好ましく、1〜300μmが特に好ましい。 The thickness of the electrolyte layer 51 is not particularly limited, but if it is too thick, the color change rate of the dimming element 1 may decrease, and if it is too thin, the electrodes 2 and 3 may be short-circuited and the color change may stop. Therefore, the thickness of the electrolyte layer 51 is preferably 0.5 to 500 μm, particularly preferably 1 to 300 μm.

電解質層51の形成方法としては、エレクトロクロミック層41、エレクトロクロミック層42上に直接塗工することにより形成する方法以外ならば特に限定されないが、例えば、樹脂フィルム、ガラス、金属板等からなる2枚の仮支持体を準備し、一方の仮支持体上に電解質層51が含有する成分を混合、溶解した電解質層形成用塗液を塗布、あるいは印刷等の公知の方法により付与し、さらに塗液面上にもう一方の仮支持体を積層した後、電解質層形成用塗液が含有する樹脂前駆体を重合して電解質層51とする方法が挙げられる。仮支持体の電解質層形成用塗液が接する表面には、シリコーン系、フッ素系等の公知の剥離加工が施されていてもよい。電解質層形成用塗液の塗布、印刷方法としては、前述したwFeHCFナノ粒子分散液やwNiHCFナノ粒子分散液の塗布、印刷方法が例示できる。樹脂前駆体の重合方法としては、電解質層形成用塗液が含有する重合開始剤に応じて、例えば加熱や電離放射線を用いた方法等を適宜選択すればよい。 The method for forming the electrolyte layer 51 is not particularly limited except for the method of forming the electrolyte layer 51 by directly coating it on the electrochromic layer 41 and the electrochromic layer 42, but for example, it is made of a resin film, glass, a metal plate or the like 2 A sheet of temporary support is prepared, and a coating liquid for forming an electrolyte layer in which the components contained in the electrolyte layer 51 are mixed and dissolved is applied onto one temporary support, or is applied by a known method such as printing, and further coated. A method of laminating the other temporary support on the liquid surface and then polymerizing the resin precursor contained in the coating liquid for forming the electrolyte layer to form the electrolyte layer 51 can be mentioned. The surface of the temporary support that comes into contact with the electrolyte layer forming coating liquid may be subjected to a known peeling process such as silicone-based or fluorine-based. Examples of the coating method and printing method for forming the electrolyte layer include the coating and printing methods of the wFeHCF nanoparticle dispersion liquid and the wNiHCF nanoparticle dispersion liquid described above. As a method for polymerizing the resin precursor, for example, a method using heating or ionizing radiation may be appropriately selected depending on the polymerization initiator contained in the coating solution for forming the electrolyte layer.

上記した方法により、2枚の仮支持体に挟持された電解質層51が得られるので、電解質層51から各々の仮支持体を剥離して電解質層51を露出させた後、前述した電極2、電極3が対向するように電解質層51を介して貼合することで、調光素子1を得ることができる。かかる貼合方法は特に限定されないが、ロールラミネーターや真空ラミネーター等のラミネーターを用いる方法が例示できる。 Since the electrolyte layer 51 sandwiched between the two temporary supports can be obtained by the above method, after peeling each temporary support from the electrolyte layer 51 to expose the electrolyte layer 51, the above-mentioned electrodes 2 and The dimming element 1 can be obtained by laminating the electrodes 3 so as to face each other via the electrolyte layer 51. Such a bonding method is not particularly limited, but a method using a laminator such as a roll laminator or a vacuum laminator can be exemplified.

電解質層51からの溶媒の揮発や液漏れを防ぐため、調光素子1の側面を封止することが好ましい。封止方法としては、エポキシ系、アクリル系、ポリオレフィン系、シリコーン系の接着剤を調光素子1の側面に付与し、加熱や電離放射線照射、湿気等により硬化させる方法、ホットメルト系接着剤を加熱溶融して調光素子1の側面に付与し、冷却して硬化させる方法、アクリル系粘着テープ、シリコーン系粘着テープで調光素子1の側面を貼り合わせる方法等が例示できる。 In order to prevent the solvent from volatilizing and the liquid from leaking from the electrolyte layer 51, it is preferable to seal the side surface of the light control element 1. As a sealing method, an epoxy-based, acrylic-based, polyolefin-based, or silicone-based adhesive is applied to the side surface of the dimming element 1 and cured by heating, ionizing radiation irradiation, moisture, or the like, or a hot-melt adhesive is used. Examples thereof include a method of heating and melting and applying it to the side surface of the dimming element 1 and then cooling and curing it, and a method of adhering the side surface of the dimming element 1 with an acrylic adhesive tape or a silicone adhesive tape.

本発明により得られた調光素子1は、電極2上のエレクトロクロミック層41と反対側の面や、電極3上のエレクトロクロミック層42と反対側の面に粘着剤層が貼合されていてもよく、さらに該粘着剤層上に機能材料が貼合されていてもよい。粘着剤層を形成する粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の公知の粘着剤が例示できる。機能材料としては、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ITO等からなる導電性非金属層、遮光層、加飾層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。 In the dimming element 1 obtained by the present invention, an adhesive layer is bonded to the surface of the electrode 2 opposite to the electrochromic layer 41 and the surface of the electrode 3 opposite to the electrochromic layer 42. Further, a functional material may be bonded on the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer include known pressure-sensitive adhesives such as rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic-based pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, and urethane-based pressure-sensitive adhesives. Functional materials include chemically strengthened glass, soda glass, quartz glass, glass such as non-alkali glass, films made of various resins such as polyethylene terephthalate, and a hard coat layer on at least one surface of the above glass or film to prevent reflection. Examples of materials having known functional layers such as a layer, an antiglare layer, a polarizing layer, a conductive non-metal layer made of ITO and the like, a light-shielding layer, and a decorative layer.

本発明の調光素子の用途は限定されず、調光窓、防眩ミラー、および電子ペーパー等の用途に好適に用いることができる。 The application of the dimming element of the present invention is not limited, and it can be suitably used for applications such as a dimming window, an antiglare mirror, and electronic paper.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

<電極Aの作製>
支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。該支持体の全光線透過率およびヘーズをスガ試験機(株)製ヘーズメーターHZ−V3で測定したところ、全光線透過率は91.8%、ヘーズは0.5%であった。
<Preparation of electrode A>
As a support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used. When the total light transmittance and the haze of the support were measured with a haze meter HZ-V3 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the total light transmittance was 91.8% and the haze was 0.5%.

次に下記組成の物理現像核層塗液を支持体上にグラビアコーティングにより均一に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。 Next, a physically developed nuclear layer coating solution having the following composition was uniformly applied onto the support by a gravure coating and dried to provide a physically developed nuclear layer.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40mL
蒸留水 1000mL
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000mL
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Solution A Palladium chloride 5 g
Hydrochloric acid 40 mL
Distilled water 1000mL
Solution B Sodium sulfide 8.6 g
Distilled water 1000mL
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and after 30 minutes, they were passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain a palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液/1mあたり>
前記硫化パラジウムゾル(固形分として) 0.4mg
2質量%グリオキサール水溶液 200mg
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコール(登録商標)EX−830 25mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%エポミン(登録商標)SP−200 水溶液 500mg
((株)日本触媒製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000)
<Physically developed nuclear lamina coating solution / per 1 m 2>
Palladium sulfide sol (as solid content) 0.4 mg
2% by mass glyoxal aqueous solution 200 mg
Surfactant (S-1) 4 mg
Denacol® EX-830 25 mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10% by mass Epomin® SP-200 aqueous solution 500 mg
(Polyethyleneimine manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .; average molecular weight 10,000)

Figure 2021120691
Figure 2021120691

続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核層の上にスライドコーティングにより均一に塗布、乾燥して、導電材料前駆体を得た。ハロゲン化銀乳剤層が含有するハロゲン化銀乳剤は、コントロールドダブルジェット法で製造した。このハロゲン化銀乳剤が含有するハロゲン化銀粒子は、塩化銀95mol%と臭化銀5mol%で、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀粒子を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は、銀1gあたり0.5gのゼラチンを保護コロイド(バインダー)として含有する。 Subsequently, the intermediate layer, the silver halide emulsion layer, and the protective layer having the following compositions are uniformly applied on the physically developed nuclear layer by slide coating in order from the one closest to the support, and dried to obtain the conductive material precursor. Obtained. The silver halide emulsion contained in the silver halide emulsion layer was produced by a controlled double jet method. The silver halide particles contained in this silver halide emulsion were prepared to have an average particle size of 0.15 μm with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide. The silver halide particles thus obtained were sensitized with gold sulfur using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per 1 g of silver as a protective colloid (binder).

<中間層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1 5mg
<Intermediate layer composition / per 1 m 2>
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5 mg
Dye 15 mg

Figure 2021120691
Figure 2021120691

<ハロゲン化銀乳剤層組成/1mあたり>
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition / per 1 m 2>
Silver halide emulsion 3.0g Silver equivalent 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20 mg

<保護層組成/1mあたり>
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition / per 1 m 2>
Gelatin 1g
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5 μm) 10 mg
Surfactant (S-1) 10 mg

このようにして得た導電性材料前駆体と、線幅7.0μm、一辺の長さが300μmの正方形を単位格子とする網目状パターンからなるポジ型透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。その後、露光済みの導電材料前駆体を下記組成の現像液で現像し(20℃の現像液中に90秒間浸漬し)、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥処理することで、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に網目状銀細線パターンを形成した。該網目状銀細線パターンを構成する銀細線を共焦点顕微鏡で観察したところ、線幅は7.0μm、開口率は95%、厚みは0.16μmであった。 The conductive material precursor thus obtained is brought into close contact with a positive transmission original having a mesh pattern having a square having a line width of 7.0 μm and a side length of 300 μm as a unit lattice, and a mercury lamp is used as a light source. It was exposed with a close contact printer through a resin filter that cuts light of 400 nm or less. Then, the exposed conductive material precursor is developed with a developer having the following composition (immersed in a developer at 20 ° C. for 90 seconds), and then the silver halide emulsion layer, the intermediate layer, and the protective layer are formed at 40 ° C. By washing and removing with warm water and drying, a mesh-like silver fine line pattern was formed on the polyethylene terephthalate film. When the silver fine wires constituting the mesh-like silver fine wire pattern were observed with a confocal microscope, the line width was 7.0 μm, the aperture ratio was 95%, and the thickness was 0.16 μm.

<現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000mL、pH=12.2に調整した。
<Developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-Phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-Methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
The total volume was adjusted to 1000 mL with water and pH = 12.2.

上記した網目状銀細線パターンを脱脂液(メルテックス(株)製クリーナー160の5質量%希釈液)に60℃1分間浸漬後、水洗し脱脂した。続いて、下記組成の電解銅めっき液を用いて温度25℃、陰極電流密度3A/dmの条件で電解銅めっきを施した。電解銅めっき後の網目状細線パターンを構成する細線を共焦点顕微鏡で観察したところ、線幅は17μm、開口率は89%、厚みは5.1μmであった。 The above-mentioned mesh-like silver fine wire pattern was immersed in a degreasing solution (5% by mass diluted solution of Cleaner 160 manufactured by Meltex Inc.) at 60 ° C. for 1 minute, washed with water and degreased. Subsequently, electrolytic copper plating was performed using an electrolytic copper plating solution having the following composition under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a cathode current density of 3 A / dm 2. When the fine wires constituting the mesh-like fine wire pattern after electrolytic copper plating were observed with a confocal microscope, the line width was 17 μm, the aperture ratio was 89%, and the thickness was 5.1 μm.

<銅めっき液組成>
硫酸銅五水和物 75g
硫酸 190g
塩酸 50mg
全量を水で1000mLに調整した。
<Copper plating solution composition>
Copper sulfate pentahydrate 75g
Sulfuric acid 190g
Hydrochloric acid 50 mg
The total volume was adjusted to 1000 mL with water.

その後、網目状細線パターン上に、スパッタリング法にてITOからなる導電性非金属層を設けて電極Aを得た。触針式膜厚計を用いて測定した導電性非金属層の厚みは23nmであった。 Then, a conductive non-metal layer made of ITO was provided on the mesh-like fine wire pattern by a sputtering method to obtain an electrode A. The thickness of the conductive non-metal layer measured using a stylus type film thickness meter was 23 nm.

<電極Bの作製>
支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。該支持体の全光線透過率およびヘーズをスガ試験機(株)製ヘーズメーターHZ−V3で測定したところ、全光線透過率は91.8%、ヘーズは0.5%であった。
<Preparation of electrode B>
As a support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used. When the total light transmittance and the haze of the support were measured with a haze meter HZ-V3 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the total light transmittance was 91.8% and the haze was 0.5%.

支持体上にスパッタリング法にてITOからなる導電性非金属層を設けて電極Bを得た。触針式膜厚計を用いて測定した導電性非金属層の厚みは23nmであった。 An electrode B was obtained by providing a conductive non-metal layer made of ITO on the support by a sputtering method. The thickness of the conductive non-metal layer measured using a stylus type film thickness meter was 23 nm.

次に、以下の電解質層A〜Eを作製した。 Next, the following electrolyte layers A to E were prepared.

<電解質層Aの作製>
仮支持体としてシリコーン系の剥離加工済みPETフィルムを2枚(仮支持体A−1、仮支持体A−2、いずれも厚み75μm)用意した。次に下記組成の電解質層形成用塗液Aを仮支持体A−1上にバーコーターを用いて塗布し、該塗布面にさらに仮支持体A−2を貼合した後、高圧水銀灯80W/cm(2灯)で照射量200mJ/cmの紫外線を照射し、光量で5000mJ/cm照射されるまで継続して重合させ、電解質層Aを得た。マイクロメーターで測定した全体の厚みから換算した電解質層Aの厚みは100μm、JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて測定した、電極Aに対する電解質層Aの引き剥がし粘着力は、4.3N/25mmであった。
<Preparation of electrolyte layer A>
Two silicone-based peeled PET films (temporary support A-1 and temporary support A-2, each having a thickness of 75 μm) were prepared as temporary supports. Next, a coating liquid A for forming an electrolyte layer having the following composition is applied onto the temporary support A-1 using a bar coater, and after further attaching the temporary support A-2 to the coated surface, a high-pressure mercury lamp 80W / an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 in cm (2 lamps), continuously polymerized until 5000 mJ / cm 2 irradiation light quantity to obtain an electrolyte layer a. The thickness of the electrolyte layer A converted from the total thickness measured with a micrometer is 100 μm, and the peeling adhesive strength of the electrolyte layer A to the electrode A measured by a 180 degree peeling test based on JIS Z0237: 2009 is 4.3 N. It was / 25 mm.

<電解質層形成用塗液A組成>
UC−203 70g
((株)クラレ製イソプレンアクリレート)
炭酸プロピレン 25g
ヘキサフルオロリン酸カリウム 4.5g
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン 0.5g
<Coating liquid A composition for forming electrolyte layer>
UC-203 70g
(Isoprene acrylate manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Propylene carbonate 25g
Potassium hexafluorophosphate 4.5g
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one 0.5 g

<電解質層Bの作製>
電解質層形成用塗液Aに代わって下記組成の電解質層形成用塗液Bを用いた以外は電解質層Aと同様にして、電解質層Bを得た。マイクロメーターで測定した全体の厚みから換算した電解質層Bの厚みは100μm、JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて測定した、電極Aに対する電解質層Bの引き剥がし粘着力は、6.6N/25mmであった。
<Preparation of electrolyte layer B>
An electrolyte layer B was obtained in the same manner as the electrolyte layer A except that the electrolyte layer forming coating solution B having the following composition was used instead of the electrolyte layer forming coating solution A. The thickness of the electrolyte layer B converted from the total thickness measured with a micrometer is 100 μm, and the peeling adhesive strength of the electrolyte layer B to the electrode A measured by a 180 degree peeling test based on JIS Z0237: 2009 is 6.6 N. It was / 25 mm.

<電解質層形成用塗液B組成>
紫光UV−3640PE80 65g
(三菱ケミカル(株)製ウレタンアクリレート)
ポリエチレングリコール#1000ジアクリレート 5g
炭酸プロピレン 25g
ヘキサフルオロリン酸カリウム 4.5g
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン 0.5g
<Coating liquid B composition for forming electrolyte layer>
Purple light UV-3640PE80 65g
(Urethane acrylate manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Polyethylene glycol # 1000 diacrylate 5g
Propylene carbonate 25g
Potassium hexafluorophosphate 4.5g
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one 0.5 g

<電解質層Cの作製>
電解質層形成用塗液Aに代わって下記組成の電解質層形成用塗液Cを用いた以外は電解質層Aと同様にして、電解質層Cを得た。マイクロメーターで測定した全体の厚みから換算した電解質層Cの厚みは100μm、JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて測定した、電極Aに対する電解質層Cの引き剥がし粘着力は、3.1N/25mmであった。
<Preparation of electrolyte layer C>
An electrolyte layer C was obtained in the same manner as the electrolyte layer A except that the electrolyte layer forming coating solution C having the following composition was used instead of the electrolyte layer forming coating solution A. The thickness of the electrolyte layer C converted from the total thickness measured with a micrometer is 100 μm, and the peeling adhesive strength of the electrolyte layer C to the electrode A measured by a 180 degree peeling test based on JIS Z0237: 2009 is 3.1 N. It was / 25 mm.

<電解質層形成用塗液C組成>
NISSO−PB TE−2000 47g
(日本曹達(株)製ブタジエンアクリレート)
ポリエチレングリコール#1000ジアクリレート 5g
ドデシルアクリレート 15g
4−ヒドロキシブチルアクリレート 3g
炭酸プロピレン 25g
ヘキサフルオロリン酸カリウム 4.5g
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン 0.5g
<Coating liquid C composition for forming electrolyte layer>
NISSO-PB TE-2000 47g
(Butadiene acrylate manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
Polyethylene glycol # 1000 diacrylate 5g
Dodecyl acrylate 15g
4-Hydroxybutyl acrylate 3g
Propylene carbonate 25g
Potassium hexafluorophosphate 4.5g
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one 0.5 g

<電解質層Dの作製>
電解質層形成用塗液Aに代わって下記組成の電解質層形成用塗液Dを用いた以外は電解質層Aと同様にして、電解質層Dを得た。マイクロメーターで測定した全体の厚みから換算した電解質層Dの厚みは100μm、JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて測定した、電極Aに対する電解質層Dの引き剥がし粘着力は、1.6N/25mmであった。
<Preparation of electrolyte layer D>
An electrolyte layer D was obtained in the same manner as the electrolyte layer A except that the electrolyte layer forming coating solution D having the following composition was used instead of the electrolyte layer forming coating solution A. The thickness of the electrolyte layer D converted from the total thickness measured with a micrometer is 100 μm, and the peeling adhesive force of the electrolyte layer D with respect to the electrode A measured by a 180 degree peeling test based on JIS Z0237: 2009 is 1.6 N. It was / 25 mm.

<電解質層形成用塗液D組成>
ポリエチレングリコール#1000ジアクリレート 60g
ポリエチレングリコール#200ジアクリレート 10g
炭酸プロピレン 25g
ヘキサフルオロリン酸カリウム 4.5g
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン 0.5g
<Coating liquid D composition for forming electrolyte layer>
Polyethylene glycol # 1000 diacrylate 60g
Polyethylene glycol # 200 diacrylate 10g
Propylene carbonate 25g
Potassium hexafluorophosphate 4.5g
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one 0.5 g

<電解質層Eの作製>
電解質層形成用塗液Aに代わって下記組成の電解質層形成用塗液Eを用いた以外は電解質層Aと同様にして、電解質層Eを得た。マイクロメーターで測定した全体の厚みから換算した電解質層Eの厚みは100μmであった。JIS Z0237:2009に基づき180度剥離試験にて電解質層Eの引き剥がし粘着力の測定を試みたが、粘着力が低すぎて測定不可であった。
<Preparation of electrolyte layer E>
An electrolyte layer E was obtained in the same manner as the electrolyte layer A except that the electrolyte layer forming coating solution E having the following composition was used instead of the electrolyte layer forming coating solution A. The thickness of the electrolyte layer E converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm. An attempt was made to measure the peeling adhesive strength of the electrolyte layer E in a 180-degree peeling test based on JIS Z0237: 2009, but the adhesive strength was too low to measure.

<電解質層形成用塗液E組成>
ニューフロンティア(登録商標)MF−001 70g
(第一工業製薬(株)製多官能アクリル酸エステル組成物)
炭酸プロピレン 25g
ヘキサフルオロリン酸カリウム 4.5g
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン 0.5g
<Coating liquid E composition for forming electrolyte layer>
New Frontier® MF-001 70g
(Polyfunctional acrylic acid ester composition manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Propylene carbonate 25g
Potassium hexafluorophosphate 4.5g
2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one 0.5 g

<調光素子1の作製>
6cm×5cmに裁断した電極Aと電極Bを1枚ずつ用意し、電極A上にプルシアンブルー分散液(関東化学(株)製wFeHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布後、50℃で熱風乾燥し、プルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層を形成した。同様に、電極B上にニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液(関東化学(株)製wNiHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布後、50℃で熱風乾燥し、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層を形成した。そして、プルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層とニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層が対向するように電解質層Aを介して電極A、電極Bを真空ラミネーターで貼合した。最後に、シリコーン系粘着テープを用いて4辺を封止し、調光素子1を得た。この際、5cm×5cmの領域が重なるように1cmずつずらして貼合することで、調光素子1から電極Aと電極Bが1cm×5cmずつ露出した状態とし、後述するファンクションジェネレータとの電気的接続を可能にした。
<Manufacturing of dimming element 1>
Prepare one electrode A and one electrode B cut into 6 cm x 5 cm, and put a Prussian blue dispersion (wFeHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) on the electrode A with a bar coater in a solid content of 0.30 g. After coating at / m 2 , it was dried with hot air at 50 ° C. to form an electrochromic layer containing Prussian blue. Similarly, a nickel-substituted Prussian blue analog dispersion (wNiHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) is applied on the electrode B with a bar coater at a solid content of 0.30 g / m 2 , and then dried with hot air at 50 ° C. An electrochromic layer containing a nickel-substituted Prussian blue analog was formed. Then, the electrodes A and B were bonded together with a vacuum laminator via the electrolyte layer A so that the electrochromic layer containing Prussian blue and the electrochromic layer containing the nickel-substituted Prussian blue analog faced each other. Finally, four sides were sealed with a silicone-based adhesive tape to obtain a dimming element 1. At this time, the electrodes A and B are exposed by 1 cm × 5 cm from the dimming element 1 by shifting them by 1 cm so that the 5 cm × 5 cm regions overlap each other, and electrically with the function generator described later. Enabled connection.

<調光素子2〜5の作製>
電解質層Aに代わって電解質層B〜Eを用いた以外は調光素子1の作製と同様にして、調光素子2〜5を得た。なお、電解質層Eを用いた調光素子5は真空ラミネーターから取り出した時点で端部に浮きが見られた。
<Manufacturing of dimming elements 2 to 5>
Dimming elements 2 to 5 were obtained in the same manner as in the production of the dimming element 1 except that the electrolyte layers B to E were used instead of the electrolyte layer A. The dimming element 5 using the electrolyte layer E was found to be floating at the end when it was taken out from the vacuum laminator.

<調光素子6の作製>
6cm×5cmに裁断した電極Aと電極Bを1枚ずつ用意し、電極A上にプルシアンブルー分散液(関東化学(株)製wFeHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布後、50℃で熱風乾燥し、プルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層を形成した。同様に、電極B上にニッケル置換プルシアンブルー類似体分散液(関東化学(株)製wNiHCFナノ粒子分散液)をバーコーターにて固形分で0.30g/m塗布後、50℃で熱風乾燥し、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層を形成した。続いて、電極A上のプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層上に上記組成の電解質層形成用塗液Aをバーコーターにて塗布し、該塗布面にさらに、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層が電解質層形成用塗液Aに接するように電極Bを貼合した。その後、高圧水銀灯80W/cm(2灯)で照射量200mJ/cmの紫外線を照射し、光量で5000mJ/cm照射されるまで継続して重合させ電解質層Fとした。最後に、シリコーン系粘着テープを用いて4辺を封止し、調光素子6を得た。この際、5cm×5cmの領域が重なるように1cmずつずらして貼合することで、調光素子6から電極Aと電極Bが1cm×5cmずつ露出した状態とし、後述するファンクションジェネレータとの電気的接続を可能にした。マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層Fの厚みは100μmであった。
<Manufacturing of dimming element 6>
Prepare one electrode A and one electrode B cut into 6 cm x 5 cm, and put a Prussian blue dispersion (wFeHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) on the electrode A with a bar coater in a solid content of 0.30 g. After coating at / m 2 , it was dried with hot air at 50 ° C. to form an electrochromic layer containing Prussian blue. Similarly, a nickel-substituted Prussian blue analog dispersion (wNiHCF nanoparticle dispersion manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) is applied on the electrode B with a bar coater at a solid content of 0.30 g / m 2 , and then dried with hot air at 50 ° C. An electrochromic layer containing a nickel-substituted Prussian blue analog was formed. Subsequently, the coating liquid A for forming an electrolyte layer having the above composition is coated on the electrochromic layer containing Prussian blue on the electrode A with a bar coater, and the coated surface further contains a nickel-substituted Prussian blue analog. The electrode B was attached so that the electrochromic layer was in contact with the coating liquid A for forming the electrolyte layer. Then, an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 by a high pressure mercury lamp 80W / cm (2 lamps), and an electrolyte layer F is polymerized continuously until 5000 mJ / cm 2 irradiation light quantity. Finally, four sides were sealed with a silicone-based adhesive tape to obtain a dimming element 6. At this time, the electrodes A and B are exposed from the dimming element 6 by 1 cm × 5 cm by shifting them by 1 cm so that the regions of 5 cm × 5 cm overlap each other, and electrically with the function generator described later. Enabled connection. The thickness of the electrolyte layer F converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm.

<調光素子7〜12の作製>
電極Aと電極Bを1枚ずつ用いる代わりに、電極Aを2枚用いた以外は調光素子1〜6と同様にして、調光素子7〜12を得た。なお、電解質層Eを用いた調光素子11は真空ラミネーターから取り出した時点で端部に浮きが見られた。調光素子12について、マイクロメーターで測定した全体の厚さから換算した電解質層Fの厚みは100μmであった。
<Manufacturing of dimming elements 7 to 12>
Dimming elements 7 to 12 were obtained in the same manner as the dimming elements 1 to 6 except that two electrodes A were used instead of one electrode A and one electrode B. The dimming element 11 using the electrolyte layer E was found to be floating at the end when it was taken out from the vacuum laminator. With respect to the dimming element 12, the thickness of the electrolyte layer F converted from the total thickness measured with a micrometer was 100 μm.

<調光素子の色変化速度評価>
直流安定化電源を用意し、調光素子1〜12のプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層側の電極に直流安定化電源の負極を、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層側の電極に直流安定化電源の正極を接続後、1.0Vの電圧を印加し、調光素子の青色が消色して黄色に変化する時間を測定した。続いて正極と負極を入れ替えて1.0Vの電圧を印加し、調光素子が発色して元の青色に変化する時間を測定した。結果を表1に示す。
<Evaluation of color change speed of dimming element>
Prepare a regulated DC power supply, and attach the negative electrode of the regulated DC power supply to the electrodes on the electrochromic layer side containing Prussian blue of the dimming elements 1 to 12, and the electrodes on the electrochromic layer side containing the nickel-substituted Prussian blue analog. After connecting the positive electrode of the regulated DC power supply to, a voltage of 1.0 V was applied, and the time during which the blue color of the dimming element disappeared and changed to yellow was measured. Subsequently, the positive electrode and the negative electrode were exchanged, a voltage of 1.0 V was applied, and the time for the dimming element to develop color and change to the original blue color was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2021120691
Figure 2021120691

表1の結果から、網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極を調光素子の両方の電極として用いると、調光素子の色変化速度が優れることが判る。 From the results in Table 1, when a mesh metal fine wire pattern and an electrode having a conductive non-metal layer on the mesh metal fine wire pattern are used as both electrodes of the dimming element, the color change rate of the dimming element is excellent. It turns out.

<調光素子の歩留まり評価>
調光素子1〜12を各20枚作製した。ファンクションジェネレータを用意し、全ての調光素子に対してプルシアンブルーを含有するエレクトロクロミック層側の電極にファンクションジェネレータの負極を、ニッケル置換プルシアンブルー類似体を含有するエレクトロクロミック層側の電極にファンクションジェネレータの正極を接続後、+1.0V30秒間と−1.0V30秒間を1サイクルとする信号を100サイクル印加した。調光素子1〜12の各20枚について、100サイクル目に5cm×5cmの領域をデジタルマイクロスコープで観察し、1mm×1mm以上の色変化が生じなくなった領域が1箇所も存在しない調光素子(良品)の枚数を数え、調光素子1〜12それぞれの歩留まりを評価した。結果を表1に示す。
<Yield evaluation of dimming element>
Twenty dimming elements 1 to 12 were produced. A function generator is prepared, and the negative electrode of the function generator is attached to the electrode on the electrochromic layer side containing Prussian blue for all the dimming elements, and the function generator is attached to the electrode on the electrochromic layer side containing the nickel-substituted Prussian blue analog. After connecting the positive electrodes of the above, 100 cycles of signals having + 1.0 V for 30 seconds and −1.0 V for 30 seconds as one cycle were applied. For each of the 20 dimming elements 1 to 12, a region of 5 cm × 5 cm was observed with a digital microscope at the 100th cycle, and there was no region where the color change of 1 mm × 1 mm or more did not occur. The number of (good products) was counted, and the yield of each of the dimming elements 1 to 12 was evaluated. The results are shown in Table 1.

表1の結果から、本発明の有効性が判る。 From the results in Table 1, the effectiveness of the present invention can be seen.

1 調光素子
2、3 電極
11 支持体
21 網目状金属細線パターン
21a、21b、21c、21d 金属細線
31 導電性非金属層
41、42 エレクトロクロミック層
51 電解質層
1 Dimming element 2, 3 Electrode 11 Support 21 Reticulated metal wire pattern 21a, 21b, 21c, 21d Metal wire 31 Conductive non-metal layer 41, 42 Electrochromic layer 51 Electrolyte layer

Claims (1)

2つの電極を有し、該電極の少なくとも一方は支持体上に網目状金属細線パターンと、該網目状金属細線パターン上に導電性非金属層を有する電極であって、該2つの電極上にそれぞれエレクトロクロミック層を形成した後、該エレクトロクロミック層が対向するように、粘着性を有する電解質層を介して、前記した電極を貼合する調光素子の製造方法。 An electrode having two electrodes, at least one of which has a mesh metal wire pattern on a support and a conductive non-metal layer on the mesh metal wire pattern, on the two electrodes. A method for manufacturing a dimming element in which the above-mentioned electrodes are bonded to each other via an adhesive electrolyte layer so that the electrochromic layers face each other after forming the electrochromic layers.
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