JP2021090687A - Plasma sterilizer - Google Patents

Plasma sterilizer Download PDF

Info

Publication number
JP2021090687A
JP2021090687A JP2019224477A JP2019224477A JP2021090687A JP 2021090687 A JP2021090687 A JP 2021090687A JP 2019224477 A JP2019224477 A JP 2019224477A JP 2019224477 A JP2019224477 A JP 2019224477A JP 2021090687 A JP2021090687 A JP 2021090687A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
storage means
shape
plasma sterilizer
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019224477A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7486098B2 (en
Inventor
達也 三沢
Tatsuya Misawa
達也 三沢
輝美 中川
Terumi NAKAGAWA
輝美 中川
幸芳 田和
Yukiyoshi Tawa
幸芳 田和
新太郎 草野
Shintaro Kusano
新太郎 草野
西村 和彦
Kazuhiko Nishimura
和彦 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takii Shubyo KK
Saga University NUC
Research Institute of Environment Agriculture and Fisheries Osaka Prefecture
Original Assignee
Takii Shubyo KK
Saga University NUC
Research Institute of Environment Agriculture and Fisheries Osaka Prefecture
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takii Shubyo KK, Saga University NUC, Research Institute of Environment Agriculture and Fisheries Osaka Prefecture filed Critical Takii Shubyo KK
Priority to JP2019224477A priority Critical patent/JP7486098B2/en
Publication of JP2021090687A publication Critical patent/JP2021090687A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7486098B2 publication Critical patent/JP7486098B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

To provide a plasma sterilizer that can continuously and stably performs plasma sterilization in a mild condition without causing quality deterioration, for a small object such as a granular (granule-like) or powdery agricultural product, an object having not only a simple spherical shape, but also a complicated shape such as a flat shape, a confetti shape and a spindle shape, and objects of various sizes.SOLUTION: A plasma sterilizer for sterilizing an object by plasma generated by voltage impression between electrodes under a raw material gas atmosphere comprises: counter electrodes comprising a plate-like upper electrode and lower electrode opposed at an interval in a vertical direction; and a housing part having a bottom face formed from a plate-like insulation material or the lower electrode, and having a partition wall body in the outer periphery. The housing part includes: housing means arranged between the counter electrodes and pivotally supported in a state of housing the object in the housing part; supply means of supplying the object to the interval; and control means of controlling residence and discharge in the housing means of the object by changing a shaft center pivotally supporting the housing means.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プラズマを用いて殺菌を行うプラズマ殺菌装置に関し、特に、粒状や粉末状のような小さな対象物、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、確実に殺菌を行えるプラズマ殺菌装置に関する。 The present invention relates to a plasma sterilizer that sterilizes using plasma, and in particular, small objects such as granules and powders, and not only simple spherical shapes but also flat shapes, gold flat sugar shapes, and spindle shapes. The present invention relates to a plasma sterilizer that can reliably sterilize objects having a complicated shape and objects of various sizes.

プラズマを用いて対象物の殺菌を行うプラズマ殺菌は、その用途が多岐にわたっており、その適用分野は拡大の一途を辿っている。その適用分野として期待されているものとして、農業分野における農産物の殺菌がある。 Plasma sterilization, which sterilizes an object using plasma, has a wide range of applications, and its application fields are steadily expanding. One of the expected fields of application is sterilization of agricultural products in the agricultural field.

農産物は長距離輸送されることが多く、その際に微生物繁殖が問題となっている。これは、農産物に、土壌や生育環境に由来する各種細菌、糸状菌等が付着しているためであり、これらが農産物の劣化に大きく影響している。 Agricultural products are often transported over long distances, and microbial propagation is a problem at that time. This is because various bacteria, filamentous fungi, etc. derived from soil and growing environment are attached to agricultural products, and these have a great influence on the deterioration of agricultural products.

このような農産物として、特に種子が挙げられる。種子は、単純な球状形状のみならず、人参やトマトのような扁平形状の種子などの複雑な形状も多数存在する。このような種子に対して、細菌、糸状菌、及びウィルス等が表面に付着した状態で播種した場合には、播種後に増殖して生育に悪影響を与え、発育不良や枯れの原因となる。種子の他にも、食品材料として用いる穀物等の粒状(顆粒状)又は粉末状の農産物でも同様に、付着した汚染微生物が、食品加工によって商品に混入することにより、商品の劣化を引き起こしている。 Such agricultural products include seeds in particular. Seeds have not only simple spherical shapes but also many complex shapes such as flat seeds such as carrots and tomatoes. When such seeds are sown with bacteria, filamentous fungi, viruses, etc. attached to the surface, they proliferate after sowing and adversely affect the growth, causing stunted growth and withering. In addition to seeds, granular (granular) or powdery agricultural products such as grains used as food materials also cause deterioration of products due to adhering contaminated microorganisms being mixed into products by food processing. ..

このような問題に対処するための技術として、これまでのところでは、種子に付着した微生物を殺菌消毒する目的で、温湯殺菌、乾熱殺菌、及び薬剤による殺菌が主に行われている。 As a technique for dealing with such a problem, so far, hot water sterilization, dry heat sterilization, and chemical sterilization have been mainly performed for the purpose of sterilizing and disinfecting microorganisms attached to seeds.

例えば、温湯殺菌では、数十分程度、50-60℃程度の温湯内に種子を浸漬させて消毒を行う。また、乾熱殺菌では、70〜80℃程度の乾燥空気の雰囲気下に種子を数日間置き、殺菌消毒を行う。薬剤による殺菌では、対象物表面に存在する菌類等に適合する薬剤を添加、噴霧することで殺菌を行う。 For example, in hot water sterilization, seeds are sterilized by immersing the seeds in hot water at about 50-60 ° C for several tens of minutes. In dry heat sterilization, seeds are placed in a dry air atmosphere of about 70 to 80 ° C for several days for sterilization. In chemical sterilization, sterilization is performed by adding and spraying a chemical that is compatible with fungi and the like existing on the surface of the object.

しかし、上記の温湯殺菌では、数十分程度、種子を温湯に浸けるため、高温や水分によって種子の劣化及び発芽率の低下を引き起こす虞がある。 However, in the above-mentioned hot water sterilization, the seeds are soaked in hot water for about several tens of minutes, so that the seeds may be deteriorated and the germination rate may be lowered due to high temperature and moisture.

また、上記の乾熱殺菌では、数日程度、種子が高温の乾燥空気雰囲気に曝されるため、温湯殺菌と同様に、長時間高温環境に曝されることにより、種子の劣化が生じ、発芽率の低下を引き起こす虞がある。 Further, in the above-mentioned dry heat sterilization, the seeds are exposed to a high temperature dry air atmosphere for several days, so that the seeds are deteriorated and germinated by being exposed to a high temperature environment for a long time as in the case of hot water sterilization. It may cause a decrease in the rate.

また、上記の薬剤を用いる殺菌では、高温による劣化は避けられるが、殺菌対象の菌類に適合した薬剤を選択する必要がある。また、同じ薬剤を長期間にわたって使用することによって薬剤耐性菌が生じ、これが種子を汚染した場合には、種子の消毒において薬剤が効かなくなる虞がある。 Further, in sterilization using the above-mentioned chemicals, deterioration due to high temperature can be avoided, but it is necessary to select a chemical suitable for the fungus to be sterilized. In addition, if the same drug is used for a long period of time, drug-resistant bacteria are generated, which contaminate the seeds, and there is a risk that the drug will not be effective in disinfecting the seeds.

種子以外の粒状及び粉末状の農産物に対しても、種子と同様に加熱殺菌や蒸気殺菌が主に用いられている。しかし、殺菌によって、温度や水分による色や味、食感等の農産物の劣化が避けられないというデメリットがある。また、農産物は水分を嫌うものが多いことから、利用できる殺菌技術は限られている。また、このような農産物に薬剤を用いて殺菌する場合には、薬剤による色や味、食感等の劣化に加え、農産物内の薬剤の残留問題も生じる。また、利用できる薬剤の種類も、食品添加物に認可されているものに限られている。 Similar to seeds, heat sterilization and steam sterilization are mainly used for granular and powdered agricultural products other than seeds. However, there is a demerit that sterilization inevitably deteriorates agricultural products such as color, taste, and texture due to temperature and moisture. In addition, since many agricultural products dislike water, the sterilization techniques that can be used are limited. Further, when such an agricultural product is sterilized by using a chemical, in addition to deterioration of color, taste, texture and the like due to the chemical, a problem of residual chemical in the agricultural product also occurs. Also, the types of drugs that can be used are limited to those approved as food additives.

このような状況の中、粒状及び粉末状の農産物に対しても、安全性及び殺菌性を両立できる殺菌方法として、対象物を水などで直接濡らさず薬剤を必要としないプラズマを用いた殺菌の実現が望まれている。 Under such circumstances, as a sterilization method that can achieve both safety and sterilization even for granular and powdered agricultural products, sterilization using plasma that does not directly wet the object with water or the like and does not require chemicals is performed. Realization is desired.

このような粒状及び粉末状の農産物を殺菌対象とできる従来のプラズマ殺菌装置としては、例えば、サイクロン内を周回する水分の少ない粉体又は粒状物を、大気プラズマによって、低温で殺菌又は改質させるものがある(特許文献1参照)。また、農産物を殺菌するという目的とは異なるが、微粒子(微粉末)を表面改質するという目的の微粒子処理方法があり、例えば、ガスをプラズマ処理装置に供給する工程と、前記ガスのプラズマ処理装置への供給経路に粒子を供給し、ガスの流れとともにプラズマ処理装置内へ粒子を供給する工程と、前記供給経路のプラズマ処理装置内出口に対向して配された一対の電極間において、該出口を囲むようにプラズマを生じさせる工程からなる微粒子処理方法もある(特許文献2参照)。 As a conventional plasma sterilizer capable of sterilizing such granular and powdery agricultural products, for example, a powder or granular material having a low water content orbiting in a cyclone is sterilized or modified at a low temperature by atmospheric plasma. There is one (see Patent Document 1). Further, although different from the purpose of sterilizing agricultural products, there is a fine particle treatment method for the purpose of surface-modifying fine particles (fine powder). For example, a step of supplying gas to a plasma treatment apparatus and plasma treatment of the gas. The step of supplying particles to the supply path to the device and supplying the particles into the plasma processing device together with the gas flow, and between the pair of electrodes arranged so as to face the outlet in the plasma processing device of the supply path. There is also a fine particle treatment method including a step of generating plasma so as to surround the outlet (see Patent Document 2).

また、上下方向に隙間を隔てて対向する上部電極及び下部電極から成る対向電極と、前記上部又は下部の電極の中心部から前記隙間に向かって、前記対象物を供給する供給手段と、前記下部電極の中心部から外周辺に沿って、前記対象物を外部に排出する排出手段とを備えるプラズマ殺菌装置もある(特許文献3参照)。 Further, a counter electrode composed of an upper electrode and a lower electrode facing each other with a gap in the vertical direction, a supply means for supplying the object from the center of the upper or lower electrode toward the gap, and the lower portion. There is also a plasma sterilizer provided with a discharge means for discharging the object to the outside from the center of the electrode along the outer periphery (see Patent Document 3).

特開2014−68号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-68 特開2006−68589号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-68589 国際公開WO2016/190436International release WO2016 / 190436

しかし、従来のプラズマ殺菌装置は、例えば、特許文献1では、対象物である粉体又は粒状物が、サイクロン内でランダムに周回する状況下で、プラズマを照射されることから、確率的に、実際にプラズマが照射される対象物と照射されない対象物とが共存し、プラズマ照射の度合いに偏りが生じ、全ての対象物に対して均一で十分な殺菌が安定して行えないという課題があった。 However, in the conventional plasma sterilizer, for example, in Patent Document 1, since the powder or granular material which is the object is irradiated with plasma in a situation where it orbits randomly in the cyclone, it is probabilistically There is a problem that the object that is actually irradiated with plasma and the object that is not irradiated coexist, the degree of plasma irradiation is biased, and uniform and sufficient sterilization cannot be stably performed for all objects. It was.

また、例えば、特許文献2では、農産物を殺菌するという目的とは異なるものであるが、前記供給経路のプラズマ処理装置内出口に対向して配された一対の電極間において、該出口を囲むようにプラズマを生じさせて、微粒子(微粉末)を表面改質するものであり、即ち、一対の電極間のうちの該出口の両端のみに局所的にプラズマを生じさせて微粒子(微粉末)を表面改質するものであることから、仮に微粒子として農作物を用いたとしても、この局所的なプラズマによって、農作物によっては殺菌されるものと殺菌されないものが混在し、農作物がまばらに殺菌される結果となり、不均一且つ不十分な殺菌にとどまってしまうという課題がある。 Further, for example, in Patent Document 2, although the purpose is different from the purpose of sterilizing agricultural products, the outlet is surrounded between a pair of electrodes arranged so as to face the outlet in the plasma processing apparatus of the supply path. Plasma is generated in the surface to modify the surface of fine particles (fine powder), that is, plasma is locally generated only at both ends of the outlet between the pair of electrodes to generate fine particles (fine powder). Since the surface is modified, even if the crop is used as fine particles, the local plasma may cause some crops to be sterilized and some not to be sterilized, resulting in sparse sterilization of the crop. Therefore, there is a problem that the sterilization is uneven and insufficient.

また、例えば、特許文献3では、種子のような小さい農産物を殺菌することを目的とするが、特に、扁平形状の種子に対しては、種子の移動が不規則となるために、プラズマにより、農作物によっては殺菌されるものと殺菌されないものが混在し、農作物がまばらに殺菌される結果となり、不均一且つ不十分な殺菌にとどまってしまうという課題がある。 Further, for example, in Patent Document 3, the purpose is to sterilize small agricultural products such as seeds, but especially for flat-shaped seeds, the movement of seeds becomes irregular, so that plasma is used. Some crops are sterilized and some are not sterilized, resulting in sparsely sterilized crops, resulting in uneven and inadequate sterilization.

殺菌対象となる農作物のうち、特に種子については、単純な球状形状のみならず扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものも多く存在するが、特にこのような扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさの種子の一つ一つに対しても、一律に均質的な殺菌を行える技術は現在のところ知られていない。 Among the agricultural products to be sterilized, especially seeds, there are many not only simple spherical shapes but also complicated shapes such as flat shape, konpeito shape, and spindle shape, and those of various sizes. In particular, the current technology for uniformly and uniformly sterilizing seeds of various sizes and complex shapes such as flat shape, konpeito shape, and spindle shape is currently available. Not known.

本発明は前記課題を解決するためになされたものであり、粒状(顆粒状)や粉末状の農産物のような小さな対象物、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行えるプラズマ殺菌装置の提供を目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and is not limited to small objects such as granular (granular) and powdery agricultural products, and also simple spherical shapes, as well as flat shapes, konpeito shapes, and konpeito shapes. The purpose is to provide a plasma sterilizer that can continuously and stably perform plasma sterilization under mild conditions without degrading the quality even for complicated shapes such as spindle shapes and those of various sizes. To do.

本願に開示するプラズマ殺菌装置は、原料ガス雰囲気下で電極間で電圧印加により生成されるプラズマによって、対象物を殺菌するプラズマ殺菌装置において、上下方向に隙間を隔てて対向する板状の上部電極及び下部電極から成る対向電極と、底面を板状の絶縁材または前記下部電極で形成され、外周辺に隔壁体を備えて成る収納部からなり、当該収納部が前記対向電極間に配設され、前記収納部に対象物を収納した状態で軸支される収納手段と、前記隙間に向かって、前記対象物を供給する供給手段と、前記収納手段を軸支する軸心を変化させて前記対象物の前記収納手段内の滞留と排出を制御する制御手段と、を備えるものである。 The plasma sterilizer disclosed in the present application is a plasma sterilizer that sterilizes an object by plasma generated by applying a voltage between electrodes in a raw material gas atmosphere, and is a plate-shaped upper electrode facing each other with a gap in the vertical direction. It is composed of a counter electrode composed of a lower electrode and a storage portion having a bottom surface formed of a plate-shaped insulating material or the lower electrode and having a partition body on the outer periphery, and the storage portion is arranged between the counter electrodes. The storage means that is pivotally supported with the object stored in the storage portion, the supply means that supplies the object toward the gap, and the axial center that pivotally supports the storage means are changed. It is provided with a control means for controlling retention and discharge of an object in the storage means.

このように、本願に開示するプラズマ殺菌装置は、上下方向に隙間を隔てて対向する板状の上部電極及び下部電極から成る対向電極と、底面を板状の絶縁材または前記下部電極で形成され、外周辺に隔壁体を備えて成る収納部からなり、当該収納部が前記対向電極間に配設され、前記収納部に対象物を収納した状態で軸支される収納手段と、前記隙間に向かって、前記対象物を供給する供給手段と、前記収納手段を軸支する軸心を変化させて前記対象物の前記収納手段内の滞留と排出を制御する制御手段と、を備えることから、制御手段により、前記対象物が、前記収納手段内で一定の滞留時間が維持され、プラズマ殺菌により十分に殺菌された後に、外部への排出が促進されることとなり、前記対象物が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、全ての前記対象物に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 As described above, the plasma sterilizer disclosed in the present application is formed of a counter electrode composed of a plate-shaped upper electrode and a lower electrode facing each other with a gap in the vertical direction, and a plate-shaped insulating material or the lower electrode on the bottom surface. , A storage unit including a partition body provided on the outer periphery, the storage unit is arranged between the counter electrodes, and is axially supported in a state where an object is stored in the storage unit, and in the gap. Toward this, a supply means for supplying the object and a control means for controlling the retention and discharge of the object in the storage means by changing the axis supporting the storage means are provided. By the control means, the object is maintained at a constant residence time in the storage means, and after being sufficiently sterilized by plasma sterilization, discharge to the outside is promoted, and the object is in the form of powder or the like. Even if it is a fine one, not only a simple spherical shape but also a complicated shape such as a flat shape, a sterilized sugar shape, and a spindle shape, and a shape of various sizes are all. Plasma sterilization can be continuously and stably performed on the object under mild conditions without deteriorating the quality.

本願に開示するプラズマ殺菌装置は、必要に応じて、前記収納手段が、前記隔壁体として放射状に載置された案内フィンを備え、前記収納手段が、前記対向電極に対して揺動すると共に、前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記揺動の進行方向を制御するものである。このように、前記収納手段が、前記隔壁体として放射状に載置された案内フィンを備え、前記収納手段が、前記対向電極に対して揺動すると共に、前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記揺動の進行方向を制御することから、制御手段による前記揺動の進行方向の制御により、一の進行方向では、案内フィンが障壁として機能し、前記対象物が前記収納手段から排出されず滞留する作用を呈すると共に、他の進行方向では、案内フィンが開放口として機能し、前記対象物が前記収納手段から排出する作用を呈することとなり、前記対象物が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状や立方体形状などの複雑な形状のものに対しても、簡素な構成によって、全ての前記対象物に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 In the plasma sterilizer disclosed in the present application, if necessary, the storage means includes guide fins radially placed as the partition wall, and the storage means swings with respect to the counter electrode. The control means changes the axis to control the traveling direction of the swing. In this way, the storage means includes guide fins radially placed as the partition wall, the storage means swings with respect to the counter electrode, and the control means changes the axis. By controlling the traveling direction of the swing, the guide fin functions as a barrier in one traveling direction by controlling the traveling direction of the swing by the control means, and the object is moved from the storage means. In addition to exhibiting the action of staying without being discharged, the guide fin functions as an opening in another traveling direction, and the object exhibits the action of discharging from the storage means, so that the object is fine such as powder. Even if it is a simple shape, not only a simple spherical shape but also a complicated shape such as a flat shape or a cube shape can be relaxed with respect to all the above-mentioned objects by a simple configuration. Plasma sterilization can be performed continuously and stably without deteriorating the quality under the conditions.

また、本願に開示するプラズマ殺菌装置は、必要に応じて、前記収納手段が、前記隔壁体として絶縁材の外側端部に配設される枠体部と、当該枠体部の一部に開口状の排出口とを備え、 前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記収納手段の傾斜角度を制御するものである。このように、前記収納手段が、前記隔壁体として絶縁材の外側端部に配設される枠体部と、当該枠体部の一部に開口状の排出口とを備え、前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記収納手段の傾斜角度を制御することから、前記制御手段により、前記軸心を変化させた一の軸心状態、例えば、前記収納手段が水平方向に傾斜無く維持される場合には、前記対象物が前記枠体部内で滞留する作用を呈すると共に、他の軸心状態、例えば、前記収納手段が水平方向から傾斜された場合には、前記対象物が前記排出口から排出する作用を呈することとなり、前記対象物が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状や立方体形状などの複雑な形状のものに対しても、簡素な構成によって、全ての前記対象物に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 Further, in the plasma sterilizer disclosed in the present application, if necessary, the storage means is opened in a frame body portion where the storage means is arranged at the outer end portion of the insulating material as the partition wall body and a part of the frame body portion. The control means is provided with a shape-shaped discharge port, and the control means changes the axis to control the inclination angle of the storage means. As described above, the storage means includes a frame body portion arranged at the outer end portion of the insulating material as the partition wall body, and an opening-shaped discharge port in a part of the frame body portion, and the control means Since the tilt angle of the storage means is controlled by changing the axis, one axial state in which the axis is changed by the control means, for example, the storage means is not tilted in the horizontal direction. When maintained, the object exhibits an action of staying in the frame portion, and when another axial state, for example, the storage means is tilted from the horizontal direction, the object becomes said. It has the effect of discharging from the discharge port, and even if the object is a fine object such as a powder, it can be formed into a complex shape such as a flat shape or a cube shape as well as a simple spherical shape. On the other hand, with a simple structure, it is possible to continuously and stably perform plasma sterilization on all the objects under mild conditions without deteriorating the quality.

また、本願に開示するプラズマ殺菌装置は、必要に応じて、前記供給手段が、前記対象物と共に前記原料ガスを供給するものである。このように、前記供給手段によって供給される前記原料ガスの濃度が、前記対象物の存在する上部及び下部電極の間で高められることから、全ての対象物が高濃度のプラズマ発生領域を通過することとなり、対象物が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状や立方体形状などの複雑な形状のものに対しても、全ての対象物に対して、簡素な構成によって、確実に殺菌を行うことができる。 Further, in the plasma sterilizer disclosed in the present application, the supply means supplies the raw material gas together with the object, if necessary. In this way, the concentration of the raw material gas supplied by the supply means is increased between the upper and lower electrodes in which the object is present, so that all the objects pass through the high-concentration plasma generation region. Therefore, even if the object is a fine object such as powder, not only a simple spherical shape but also a complicated shape such as a flat shape or a cube shape can be applied to all objects. On the other hand, with a simple structure, sterilization can be performed reliably.

また、本願に開示するプラズマ殺菌装置は、必要に応じて、前記対向電極間に、液体状の誘電体が封止されて形成される放電位置制御部を備えるものである。このように、液体状の誘電体の作用によって、対向電極間にプラズマが発生した位置では、誘電率が低下し、次回のプラズマ発生位置が誘電率の高い他の隣接位置に順次移行していくように放電が制御されることから、アーク放電の発生が抑制され、安定的で穏やかな放電が対向電極間に継続的に発生することとなり、前記対象物に損傷を与えない程度の穏やかな放電状態でプラズマ殺菌を維持することができる。 Further, the plasma sterilizer disclosed in the present application includes a discharge position control unit formed by sealing a liquid dielectric between the counter electrodes, if necessary. In this way, the dielectric constant decreases at the position where plasma is generated between the counter electrodes due to the action of the liquid dielectric material, and the next plasma generation position sequentially shifts to other adjacent positions with high dielectric constant. Since the discharge is controlled in this way, the generation of arc discharge is suppressed, stable and gentle discharge is continuously generated between the counter electrodes, and the gentle discharge is such that the object is not damaged. Plasma sterilization can be maintained in the state.

本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の構成図を示す。The block diagram of the plasma sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown. 本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の構成図を示す。The block diagram of the plasma sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown. 本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の揺動動作の説明図を示す。An explanatory diagram of the swinging operation of the plasma sterilizer according to the first embodiment of the present invention is shown. 本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の構成図を示す。The block diagram of the plasma sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown. 本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置のメッシュ電極を含む構成図を示す。The block diagram including the mesh electrode of the plasma sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown. 本発明の第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置のメッシュ電極を含む構成図を示す。The block diagram including the mesh electrode of the plasma sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown. 本発明の第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の収納手段の構成図を示す。The block diagram of the storage means of the plasma sterilizer which concerns on 2nd Embodiment of this invention is shown. 本発明の第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の揺動動作の説明図を示す。An explanatory diagram of the swinging operation of the plasma sterilizer according to the second embodiment of the present invention is shown. 本発明の第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の揺動動作の説明図を示す。An explanatory diagram of the swinging operation of the plasma sterilizer according to the second embodiment of the present invention is shown. 本発明の第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の積層スタック型の構成図を示す。The block diagram of the laminated stack type of the plasma sterilizer which concerns on 2nd Embodiment of this invention is shown. 本発明の第3の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の構成図を示す。The block diagram of the plasma sterilizer which concerns on 3rd Embodiment of this invention is shown.

(第1の実施形態)
以下、第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置を、図1〜図6に基づいて説明する。
(First Embodiment)
Hereinafter, the plasma sterilizer according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 6.

本実施形態に係るプラズマ殺菌装置は、図1に示すように、原料ガス雰囲気下で電極間で電圧印加により生成されるプラズマによって、対象物100を殺菌するプラズマ殺菌装置であって、上下方向に隙間Aを隔てて対向する板状の上部電極11及び下部電極12から成る対向電極1と、底面21を板状の絶縁材または下部電極12で形成され、外周辺に隔壁体22を備えて成る収納部23からなり、当該収納部23がこの対向電極1間に配設され、この収納部23に対象物100を収納した状態で軸支される収納手段2と、この隙間Aに向かって、この対象物100を供給する供給手段3と、この収納手段2を軸支する軸心41を変化させてこの対象物100の収納手段2内の滞留と排出を制御する制御手段4と、を備える構成である。また、この対向電極1に交流電圧を印加する手段として、交流電源200と、この収納手段2から排出された対象物100をこの下部電極12の下部で蓄積して回収する回収部300を備える構成である。 As shown in FIG. 1, the plasma sterilizer according to the present embodiment is a plasma sterilizer that sterilizes an object 100 by plasma generated by applying a voltage between electrodes in a raw material gas atmosphere, and is a plasma sterilizer that sterilizes an object 100 in the vertical direction. A counter electrode 1 composed of a plate-shaped upper electrode 11 and a lower electrode 12 facing each other across a gap A, and a bottom surface 21 formed of a plate-shaped insulating material or a lower electrode 12, and a partition body 22 provided on the outer periphery. The storage unit 23 is composed of a storage unit 23, and the storage unit 23 is arranged between the counter electrodes 1 and is axially supported with the object 100 stored in the storage unit 23 toward the storage means 2 and the gap A. The supply means 3 for supplying the object 100 and the control means 4 for controlling the retention and discharge of the object 100 in the storage means 2 by changing the axial center 41 supporting the storage means 2 are provided. It is a composition. Further, as a means for applying an AC voltage to the counter electrode 1, an AC power supply 200 and a collection unit 300 for accumulating and collecting the object 100 discharged from the storage means 2 at the lower portion of the lower electrode 12 are provided. Is.

この対向電極1を構成する上部電極11及び下部電極12の形状は、板状であればその形状は特に限定されず、例えば、円板形状や多角形形状とすることができる。この対向電極1の材質としては、通常用いられている金属電極であれば特に限定されず、例えば、アルミ電極を用いることができる。 The shapes of the upper electrode 11 and the lower electrode 12 constituting the counter electrode 1 are not particularly limited as long as they are plate-shaped, and may be, for example, a disk shape or a polygonal shape. The material of the counter electrode 1 is not particularly limited as long as it is a commonly used metal electrode, and for example, an aluminum electrode can be used.

この対向電極1に電源を供給する交流電源200は、印加電圧が交流であれば特に限定されず、低周波電源や高周波電源(RF)を用いることができる。例えば、周波数帯域:数十Hz〜数百MHz及び電圧:1〜10kVの交流電源を用いることができる。また、この回収部300としては、樹脂製のプラスチックトレー等の受け皿を利用することができ、種子等の対象物100を損傷させること無く貯蔵して回収することができる。 The AC power supply 200 that supplies power to the counter electrode 1 is not particularly limited as long as the applied voltage is AC, and a low frequency power supply or a high frequency power supply (RF) can be used. For example, an AC power supply having a frequency band of several tens of Hz to several hundreds of MHz and a voltage of 1 to 10 kV can be used. Further, as the collection unit 300, a saucer such as a plastic tray made of resin can be used, and the object 100 such as seeds can be stored and collected without being damaged.

この収納手段2は、この対向電極1と同じサイズでもよいし、異なるサイズでもよい。すなわち、この対向電極1に対して表面積が小さくてもよいし大きくてもよい。この収納手段2の配置位置は、特に限定されないが、図1(a)に示すように、下部電極12上に載置させることができる。この他にも、図1(b)に示すように、この上部電極11と下部電極12とも接触すること無く当該電極間に設置することもできる。 The storage means 2 may have the same size as the counter electrode 1 or may have a different size. That is, the surface area may be smaller or larger than that of the counter electrode 1. The arrangement position of the storage means 2 is not particularly limited, but as shown in FIG. 1A, it can be placed on the lower electrode 12. In addition to this, as shown in FIG. 1B, the upper electrode 11 and the lower electrode 12 can be installed between the electrodes without contacting each other.

この収納手段2を構成する収納部23は、底面21を、板状の絶縁材で形成することができる。この板状の絶縁材は、特にその形状は限定されないが、メッシュシートを用いることができる。このメッシュシートを用いることにより、特にプラズマを均一に照射することが難しい扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさの対象物100に対しても、メッシュ地に配された空隙によって、上部電極11及び下部電極12からのプラズマ照射を効率的に与えることができる。 The bottom surface 21 of the storage unit 23 constituting the storage means 2 can be formed of a plate-shaped insulating material. The shape of this plate-shaped insulating material is not particularly limited, but a mesh sheet can be used. By using this mesh sheet, it is possible to mesh even complicated shapes such as flat shape, konpeito shape, and spindle shape, which are difficult to irradiate plasma uniformly, and objects 100 of various sizes. Plasma irradiation from the upper electrode 11 and the lower electrode 12 can be efficiently provided by the voids arranged on the ground.

なお、この収納手段2を構成する収納部23は、底面21について、図1に示す板状の絶縁材で形成することの他にも、図2(a)に示すように、この板状の絶縁材を用いることなく、下部電極12の上面部として形成することも可能であり、用途に応じて、より簡素な構成とすることができる。 In addition to forming the bottom surface 21 of the bottom surface 21 with the plate-shaped insulating material shown in FIG. 1, the storage portion 23 constituting the storage means 2 is formed of the plate-shaped insulating material as shown in FIG. 2 (a). It is also possible to form it as the upper surface portion of the lower electrode 12 without using an insulating material, and a simpler configuration can be made depending on the application.

この供給手段3は、この隙間Aに向かって対象物100を供給するものであり、その供給方法は、特に限定されないが、例えば、各種の噴射機やポンプによる加圧等を用いて、この対象物100をこの隙間Aに向かって供給することができる。 The supply means 3 supplies the object 100 toward the gap A, and the supply method thereof is not particularly limited, but the object is, for example, using pressurization by various injectors or pumps. The object 100 can be supplied toward the gap A.

この他にも、この供給手段3は、この上部電極11をメッシュ構造とする構成により、この上部電極11の網目の空隙から、この隙間Aに向かって対象物100を供給することもできる。また、この供給手段3は、この上部電極11が中心が窪んだテーパー状として形成される構成により、その中心部分に空隙を設けることで、この上部電極11の中心部分の空隙から、この隙間Aに向かって対象物100を供給することもできる。 In addition to this, the supply means 3 can also supply the object 100 from the gap in the mesh of the upper electrode 11 toward the gap A by the configuration in which the upper electrode 11 has a mesh structure. Further, the supply means 3 has a structure in which the upper electrode 11 is formed in a tapered shape having a recessed center, and by providing a gap in the central portion thereof, the gap A is formed from the gap in the central portion of the upper electrode 11. The object 100 can also be supplied toward.

この制御手段4は、この収納手段2を軸支する軸心41を変化させてこの対象物100の収納手段2内の滞留と排出を制御する。この軸心41を変化させる態様としては、特に限定されないが、例えば、前記収納手段2が対向電極11に対して揺動すると共に、この揺動の進行方向を、この軸心41を変化させて制御することができる。 The control means 4 controls the retention and discharge of the object 100 in the storage means 2 by changing the axis 41 that pivotally supports the storage means 2. The mode for changing the axis 41 is not particularly limited, but for example, the accommodating means 2 swings with respect to the counter electrode 11 and the traveling direction of the swing is changed by changing the axis 41. Can be controlled.

例えば、図2(b)に示すように、この収納手段2が、この隔壁体22として放射状に載置された案内フィン22aを備え、この収納手段2が、この対向電極11に対して揺動すると共に、この制御手段4が、この軸心41を変化させて、この揺動の進行方向である順方向と逆方向を制御する構成が挙げられる。 For example, as shown in FIG. 2B, the storage means 2 includes guide fins 22a radially placed as the partition wall 22, and the storage means 2 swings with respect to the counter electrode 11. At the same time, the control means 4 changes the axis 41 to control the forward direction and the reverse direction, which is the traveling direction of the swing.

この収納手段2が、この対向電極11に対して揺動するとは、特に限定されないが、 この収納手段2が、この対向電極11とは動きや方向が異なって揺動することや、この対向電極11と同様な動きや方向で揺動することが含まれる。 The storage means 2 swings with respect to the counter electrode 11, but the storage means 2 swings in a different movement or direction from the counter electrode 11, and the counter electrode It includes swinging in the same movement and direction as in 11.

この案内フィン22aは、図3(a)に示すように、この隔壁体22として放射状に載置されるものであり、その材質としては、対象物100としての農産物の種子が衝突した際にダメージとならない樹脂等が好適である。 As shown in FIG. 3A, the guide fins 22a are radially placed as the partition wall 22, and the material thereof is damaged when the seeds of the agricultural product as the object 100 collide with each other. A resin or the like that does not become is suitable.

また、この収納手段2の中心B’(円形状であれば円中心)は、この下部電極12(上部電極11)の中心B(円形状であれば円中心)と偏心されて構成される。 Further, the center B'of the storage means 2 (circular center if it is circular) is eccentrically configured with the center B (circular center if it is circular) of the lower electrode 12 (upper electrode 11).

この収納手段2は、この対向電極1に対して行う揺動動作としては、この収納手段2は、平面上の2方向(xy方向、縦横方向)に振動し、この制御手段4は、この2方向の振動の位相を制御する。この2方向の振動は、回転ではない振動動作としてもよいし、回転となる振動動作となってもよく、この平面上の2方向に振動が起きていれば特に限定はされない。例えば、この収納手段2は、図3(a)に示すように、この下部電極12(上部電極11)の中心Bを回転中心として、回転することができる。すなわち、この収納手段2の中心B’の軌跡は、下部電極12(上部電極11)の中心Bを中心とする同心円に沿って形成される。 The storage means 2 vibrates in two directions (xy direction, vertical and horizontal directions) on a plane as a swinging operation performed on the counter electrode 1, and the control means 4 has the 2. Controls the phase of vibration in the direction. The vibration in these two directions may be a vibration operation that is not rotation, or may be a vibration operation that is rotation, and is not particularly limited as long as the vibration occurs in two directions on the plane. For example, as shown in FIG. 3A, the storage means 2 can rotate with the center B of the lower electrode 12 (upper electrode 11) as the center of rotation. That is, the locus of the center B'of the storage means 2 is formed along a concentric circle centered on the center B of the lower electrode 12 (upper electrode 11).

また、この制御手段4は、この収納手段2が回転する際に、この回転方向を軸心41によって、順方向または逆方向のいずれかとなるように変化させて、この揺動の進行方向を制御することができる。 Further, when the storage means 2 rotates, the control means 4 changes the rotation direction by the axis 41 so as to be either a forward direction or a reverse direction to control the traveling direction of the swing. can do.

例えば、この制御手段4は、図3(b)に示すように、この収納手段2を順方向Rに回転する制御を行うことにより、この案内フィン22aが、回転方向に対して仰角となることから、この収納手段2の内部からは案内フィン22aの隙間が見えない向きとなり、この収納手段2の外周辺が遮蔽されて、対象物100の排出が抑制され、対象物100を収納手段2の内部に推し進める作用が働くこととなり、対象物100が、収納手段2の内部に掻き集められ、十分なプラズマ照射時間で均一的な殺菌を行うことができる。 For example, as shown in FIG. 3B, the control means 4 controls the storage means 2 to rotate in the forward direction R, so that the guide fins 22a have an elevation angle with respect to the rotation direction. Therefore, the gap between the guide fins 22a cannot be seen from the inside of the storage means 2, the outer periphery of the storage means 2 is shielded, the discharge of the object 100 is suppressed, and the object 100 is stored in the storage means 2. The action of pushing the object 100 works inside, and the object 100 is scraped up inside the storage means 2, and uniform sterilization can be performed with a sufficient plasma irradiation time.

さらに、この制御手段4は、図3(c)に示すように、この収納手段2を逆方向Lに回転する制御を行うことにより、この案内フィン22aが、回転方向に対して俯角となることから、この収納手段2の内部から案内フィン22aの隙間が見える向きとなり、この収納手段2の外周辺が開放されて、この対象物100の排出が促進され、この対象物100を収納手段2の外部に排出する作用が働くこととなり、対象物100が、上述のように収納手段2の内部で十分なプラズマ照射時間で均一的な殺菌を行った後に、外部に排出することができる。 Further, as shown in FIG. 3C, the control means 4 controls the storage means 2 to rotate in the reverse direction L, so that the guide fins 22a have a depression angle with respect to the rotation direction. Therefore, the gap between the guide fins 22a can be seen from the inside of the storage means 2, the outer periphery of the storage means 2 is opened, the discharge of the object 100 is promoted, and the object 100 is stored in the storage means 2. The action of discharging to the outside works, and the object 100 can be discharged to the outside after being uniformly sterilized inside the storage means 2 for a sufficient plasma irradiation time as described above.

このように、この制御手段4は、上記の一連の制御動作により、この収納手段2を順方向Rに回転させる制御を行うことにより、上部電極11及び下部電極12の電極間の中心B周辺に対象物100を集合させて、十分なプラズマ照射時間のもとで均一的な殺菌を集中的に行い、その後に、この収納手段2を逆方向Lに回転させる制御を行うことにより、均一に殺菌された対象物100を外部に排出することができる。 As described above, the control means 4 controls the storage means 2 to rotate in the forward direction R by the above-mentioned series of control operations, so that the control means 4 is located around the center B between the electrodes of the upper electrode 11 and the lower electrode 12. Uniform sterilization is performed by assembling the objects 100 and intensively performing uniform sterilization under a sufficient plasma irradiation time, and then performing control to rotate the storage means 2 in the reverse direction L. The object 100 is discharged to the outside.

なお、この制御手段4が行う制御は、上述した順方向Rと逆方向Lに関する制御方向に限定されるものではなく、対象物100の形状や大きさに応じて、自在に制御方向を設計することが可能である。例えば、対象物100が球状種子の場合と扁平形状の場合とで、先に順方向Rに回転させるか、または、先に逆方向Lに回転させるか、を対象物100の種類に応じて個別に設定することが可能である。 The control performed by the control means 4 is not limited to the control direction related to the forward direction R and the reverse direction L described above, and the control direction is freely designed according to the shape and size of the object 100. It is possible. For example, depending on the type of the object 100, whether the object 100 is rotated in the forward direction R or in the reverse direction L first depending on whether the object 100 is a spherical seed or a flat seed. It is possible to set to.

この制御手段4の制御によって、この案内フィン22aは、この対象物100をこの収納手段2に一旦貯留する作用と、この収納手段2から外部に排出させる作用を併せ持つこととなり、粒状や粉末状のような小さな対象物100、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、その形状の如何を問わず、この対象物100の1個1個の隅々まで確実に殺菌を行うことが簡便な操作によって可能となる。 By the control of the control means 4, the guide fin 22a has both an action of temporarily storing the object 100 in the storage means 2 and an action of discharging the object 100 to the outside from the storage means 2, and is in the form of granules or powder. Not only small objects such as 100, and even simple spherical shapes, but also complex shapes such as flat shape, konpeito shape, and spindle shape, and objects of various sizes, regardless of their shape. Regardless of the above, it is possible to reliably sterilize every corner of the object 100 by a simple operation.

この制御手段4によるこの収納手段2の揺動の進行方向の制御により、一の進行方向(順方向R)では、案内フィン22aが障壁として機能し、この対象物100がこの収納手段2から排出されず滞留する作用を呈し、その滞留期間中にこの対象物100が十分にプラズマ照射されて均一的な殺菌が行われると共に、他の進行方向(逆方向L)では、案内フィン22aが開放口として機能し、この対象物100がこの収納手段2から排出する作用を呈することとなり、この対象物100が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、簡素な構成によって、全てのこの対象物100に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 By controlling the traveling direction of the swing of the storage means 2 by the control means 4, the guide fin 22a functions as a barrier in one traveling direction (forward direction R), and the object 100 is discharged from the storage means 2. The object 100 is sufficiently plasma-irradiated during the residence period to perform uniform sterilization, and the guide fin 22a opens in another traveling direction (reverse direction L). The object 100 exhibits an action of discharging from the storage means 2, and even if the object 100 is a fine object such as a powder, it is not only a simple spherical shape but also flat. Even for complex shapes such as shapes, konpeito shapes, and spindle shapes, and for shapes of various sizes, the quality of all 100 objects deteriorates under mild conditions due to the simple configuration. Plasma sterilization can be performed continuously and stably without causing it.

さらに、図4に示すように、上述した対向電極1を複数段として、1つの軸心41に複数連結させる構成(積層スタック型)として、複数の対向電極1を直列に配置することも可能である。この積層スタック型の構成により、この対象物100が、順次、最上段の対向電極1から供給され、この対向電極1と収納手段2の各段を連続的に移動することとなり、実質的な殺菌処理時間を確保すると共に、迅速且つ効率的な殺菌を行うことができる。 Further, as shown in FIG. 4, a plurality of counter electrodes 1 can be arranged in series as a configuration (stacked stack type) in which the above-mentioned counter electrodes 1 are arranged in a plurality of stages and are connected to one axis 41 in a plurality of stages. is there. Due to this laminated stack type configuration, the object 100 is sequentially supplied from the uppermost counter electrode 1 and continuously moves between the counter electrode 1 and each stage of the storage means 2, resulting in substantial sterilization. It is possible to secure the processing time and perform sterilization quickly and efficiently.

また、図5(a)に示すように、上部電極11及び下部電極12の電極間において、上部電極11に対向する上部メッシュ電極11aを配設し、上部電極11と上部メッシュ電極11aの電極間に電圧を印加する上部交流電源200aを配設することができる。 Further, as shown in FIG. 5A, an upper mesh electrode 11a facing the upper electrode 11 is arranged between the upper electrode 11 and the lower electrode 12, and between the upper electrode 11 and the upper mesh electrode 11a. An upper AC power source 200a for applying a voltage to the power supply 200a can be arranged.

同様に、図5(a)に示すように、上部電極11及び下部電極12の電極間において、下部電極12に対向する下部メッシュ電極12aを配設し、下部電極12と下部メッシュ電極12aの電極間に電圧を印加する下部交流電源200bを配設することができる。 Similarly, as shown in FIG. 5A, a lower mesh electrode 12a facing the lower electrode 12 is arranged between the electrodes of the upper electrode 11 and the lower electrode 12, and the electrodes of the lower electrode 12 and the lower mesh electrode 12a are arranged. A lower AC power supply 200b to which a voltage is applied can be arranged between them.

上部メッシュ電極11a及び下部メッシュ電極12aの接地の有無は、特に限定されないが、各々またはいずれか一方が、グラウンド接地されていてもよい。 The presence or absence of grounding of the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a is not particularly limited, but each or one of them may be grounded.

前記収納手段2は、図5(a)に示すように、上部メッシュ電極11aと下部メッシュ電極12aの電極間に配設される。この収納手段2の底面21は、この構成においては、上述した板状の絶縁材で形成されるメッシュシートを用いることが好適である。 As shown in FIG. 5A, the storage means 2 is arranged between the electrodes of the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a. In this configuration, it is preferable to use a mesh sheet formed of the above-mentioned plate-shaped insulating material for the bottom surface 21 of the storage means 2.

上部交流電源200aに電圧を印加することにより、上部電極11と上部メッシュ電極11aの電極間に放電が生じプラズマPが発生する。また、下部交流電源200bに電圧を印加することにより、下部電極12と下部メッシュ電極12aの電極間に放電が生じプラズマPが発生する。 By applying a voltage to the upper AC power supply 200a, a discharge is generated between the upper electrode 11 and the upper mesh electrode 11a, and plasma P is generated. Further, by applying a voltage to the lower AC power supply 200b, a discharge is generated between the lower electrode 12 and the lower mesh electrode 12a, and plasma P is generated.

図5(b)に示すように、この上部電極11の近傍で発生したプラズマPは、上部メッシュ電極11aのメッシュの網目の空隙から漏れ出すように通過し、この収納手段2の底面21の上面に向かって流れ込む。また、図5(b)に示すように、この下部電極12の近傍で発生したプラズマPは、下部メッシュ電極12aのメッシュの網目の空隙から漏れ出すように通過し、この収納手段2の下面に向かって流れ込み、さらに、この収納手段2の底面21が板状の絶縁材で形成されるメッシュシートから構成されることから、この収納手段2の底面21のメッシュの網目の空隙からも漏れ出すように通過して上昇する。 As shown in FIG. 5B, the plasma P generated in the vicinity of the upper electrode 11 passes so as to leak out from the mesh gap of the mesh of the upper mesh electrode 11a, and passes through the upper surface of the bottom surface 21 of the storage means 2. Flow toward. Further, as shown in FIG. 5B, the plasma P generated in the vicinity of the lower electrode 12 passes so as to leak out from the mesh gap of the mesh of the lower mesh electrode 12a, and passes through the lower surface of the storage means 2. Further, since the bottom surface 21 of the storage means 2 is composed of a mesh sheet formed of a plate-shaped insulating material, the bottom surface 21 of the storage means 2 also leaks from the mesh gap of the mesh of the bottom surface 21 of the storage means 2. Pass through and rise.

このように、これら上部電極11及び下部電極12の各近傍で発生したプラズマPは、上部メッシュ電極11a及び下部メッシュ電極12aのメッシュの網目の空隙から漏れ出すように通過し、この収納手段2の底面21の上面に向かって上下方向から流れ込むこととなる。その結果、図5(c)に示すように、この収納手段2の内部に転がり込んでくる対象物100を、プラズマPが上下方向から確実に照射することとなり、対象物100が、この収納手段2の内部で十分なプラズマ照射時間で均一的な殺菌を行った後に、外部に排出することができる。 In this way, the plasma P generated in the vicinity of each of the upper electrode 11 and the lower electrode 12 passes so as to leak out from the mesh gap of the mesh of the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a, and the storage means 2 It will flow from the vertical direction toward the upper surface of the bottom surface 21. As a result, as shown in FIG. 5C, the plasma P reliably irradiates the object 100 rolling into the storage means 2 from the vertical direction, and the object 100 reliably irradiates the object 100 with the storage means 2. After uniform sterilization is performed inside the plasma for a sufficient plasma irradiation time, it can be discharged to the outside.

特に、対象物100のサイズが大きい場合等に、対象物100を収容するスペースを確保するために、上部電極11及び下部電極12の間隔である隙間Aが長く設定されて、上部電極11及び下部電極12間の放電距離が長くなる場合であっても、上部メッシュ電極11a及び下部メッシュ電極12aによって、上部電極11及び下部電極12の各近傍で安定的にプラズマPを発生させることができることとなり、上部電極11及び下部電極12の間隔である隙間Aが長い場合であっても、この収納手段2の内部で十分なプラズマ照射時間で均一的な殺菌を行った後に、外部に排出することができる。 In particular, when the size of the object 100 is large, the gap A, which is the distance between the upper electrode 11 and the lower electrode 12, is set long in order to secure a space for accommodating the object 100, and the upper electrode 11 and the lower portion Even when the discharge distance between the electrodes 12 is long, the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a can stably generate plasma P in the vicinity of the upper electrode 11 and the lower electrode 12. Even when the gap A, which is the distance between the upper electrode 11 and the lower electrode 12, is long, it can be discharged to the outside after uniform sterilization is performed inside the storage means 2 for a sufficient plasma irradiation time. ..

さらに、上述した上部メッシュ電極11aと下部メッシュ電極12aの電極間に、さらに電圧を印加することも可能である。 Further, a voltage can be further applied between the electrodes of the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a described above.

例えば、図6(a)に示すように、上述した上部メッシュ電極11aと下部メッシュ電極12aの電極間に電圧を印加する中部電源200cを配設することができる。中部電源200cは、直流、交流、あるいはこれら双方が重畳された電圧を印加する電源である。図6では説明の便宜上、一例として、中部電源200cは交流電源として説明している。中部電源200cの印加電圧は、特に限定されるものではないが、上部交流電源200a及び下部交流電源200bの印加電圧よりも低く設定し、放電が生じない程度の電圧に設定することが望ましい。これにより、殺菌処理の際に、対象物100に与えるダメージをさらに抑制し、より高品質な殺菌を行うことができる。 For example, as shown in FIG. 6A, a central power supply 200c for applying a voltage can be arranged between the electrodes of the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a described above. The central power supply 200c is a power supply that applies a voltage in which direct current, alternating current, or both are superimposed. In FIG. 6, for convenience of explanation, the central power supply 200c is described as an AC power supply as an example. The applied voltage of the central power supply 200c is not particularly limited, but it is desirable to set it lower than the applied voltage of the upper AC power supply 200a and the lower AC power supply 200b so that the voltage does not cause discharge. As a result, damage to the object 100 during the sterilization process can be further suppressed, and higher quality sterilization can be performed.

この構成により、図6(a)に示すように、上部交流電源200aに電圧を印加することにより、上部電極11と上部メッシュ電極11aの電極間に放電が生じプラズマPが発生する。また、下部交流電源200bに電圧を印加することにより、下部電極12と下部メッシュ電極12aの電極間に放電が生じプラズマPが発生する。 With this configuration, as shown in FIG. 6A, by applying a voltage to the upper AC power supply 200a, a discharge is generated between the upper electrode 11 and the upper mesh electrode 11a, and plasma P is generated. Further, by applying a voltage to the lower AC power supply 200b, a discharge is generated between the lower electrode 12 and the lower mesh electrode 12a, and plasma P is generated.

さらに、これら上部電極11及び下部電極12の各近傍で発生したプラズマPは、図6(b)に示すように、中部電源200cに電圧を印加することにより、上部メッシュ電極11a及び下部メッシュ電極12aのメッシュの網目の空隙から漏れ出すように通過することが促進され、この収納手段2の底面21の上面に向かって高密度に上下方向から流れ込むこととなる。 Further, as shown in FIG. 6B, the plasma P generated in the vicinity of each of the upper electrode 11 and the lower electrode 12 is formed by applying a voltage to the central power supply 200c to form the upper mesh electrode 11a and the lower mesh electrode 12a. It is promoted to pass through the gaps of the mesh of the mesh so as to leak out, and flow from the vertical direction at a high density toward the upper surface of the bottom surface 21 of the storage means 2.

その結果、図6(c)に示すように、この収納手段2の内部に転がり込んでくる対象物100を、プラズマPが上下方向から高密度に照射することとなり、対象物100が、この収納手段2の内部で十分なプラズマ照射時間で高密度で均一的な殺菌を行った後に、外部に排出することができる。 As a result, as shown in FIG. 6C, the plasma P irradiates the object 100 rolling into the storage means 2 at a high density from the vertical direction, and the object 100 is the storage means. After performing high-density and uniform sterilization inside 2 with a sufficient plasma irradiation time, it can be discharged to the outside.

第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置の殺菌対象となる対象物100は、その種類は特に限定されず、単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものを対象とすることができる。このような複雑な形状のさらなる例としては、釣鐘形状、船形状、腕形状、曲玉形状、円柱形状、楕円形状、ヒトの心臓形状、凸レンズ形状、線形状、棍棒形状、結晶形状、球形状、低円錐形状、乳頭形状、小板形状、小刺形状、直刺形状、剥離形状、疣形状・低丘形状、卵形状、腎形状、円腎形状、渦巻き形状、四角形状、ゆがんだ球形状(直径はどこでもほぼ等しいが凹凸がある形状)等が挙げられる。 The type of the object 100 to be sterilized by the plasma sterilizer according to the first embodiment is not particularly limited, and is not only a simple spherical shape but also a complicated shape such as a flat shape, a konpeito shape, and a spindle shape. It is possible to target objects of various sizes. Further examples of such complex shapes include bell shape, ship shape, arm shape, curved ball shape, cylindrical shape, elliptical shape, human heart shape, convex lens shape, line shape, rod shape, crystal shape, and spherical shape. , Low cone shape, papilla shape, plaque shape, prickle shape, direct prickle shape, peeling shape, pit shape / low hill shape, egg shape, kidney shape, circular kidney shape, spiral shape, square shape, distorted sphere shape (The diameter is almost the same everywhere, but the shape is uneven) and the like.

以上の各構成から、第1の実施形態に係るプラズマ殺菌装置は、この制御手段4により、この対象物100が、この収納手段2内で一定の滞留時間が維持されると共に、プラズマ照射により十分に殺菌された後に、外部への排出が促進されることとなり、この対象物100が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、全てのこの対象物に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 From each of the above configurations, in the plasma sterilizer according to the first embodiment, the control means 4 allows the object 100 to maintain a constant residence time in the storage means 2, and plasma irradiation is sufficient. After being sterilized, the discharge to the outside is promoted, and even if the object 100 is a fine substance such as powder, not only a simple spherical shape but also a flat shape, a konpeito shape, etc. And for complex shapes such as spindle shapes and for all objects of various sizes, continuous and stable plasma sterilization under mild conditions without degrading quality. It can be performed.

また、本プラズマ殺菌装置は、この供給手段3が、この対象物100の供給と共に原料ガスを供給することができる。この場合には、この供給手段3によって供給される原料ガスの濃度が、この対象物100の存在する上部電極11及び下部電極12の間で充満されることから、全ての対象物100がより確実に濃度が高いプラズマ発生領域を通過することとなり、この対象物100が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、全ての対象物100に対して、簡素な構成によって、確実に殺菌を行うことができる。 Further, in the present plasma sterilizer, the supply means 3 can supply the raw material gas together with the supply of the object 100. In this case, since the concentration of the raw material gas supplied by the supply means 3 is filled between the upper electrode 11 and the lower electrode 12 in which the object 100 is present, all the objects 100 are more reliable. Even if the object 100 is fine, such as powder, it will pass through a high-concentration plasma generation region, and not only a simple spherical shape, but also a flat shape, a konpeito shape, a spindle shape, etc. It is possible to reliably sterilize all objects 100 with a simple structure, even for objects having a complicated shape or various sizes.

すなわち、この供給手段2によって供給される原料ガスの濃度が、上部電極11及び下部電極12の各々の中央部との間で局所的に高められることから、全ての対象物100が高濃度のプラズマ発生領域を通過することとなり、この対象物100が粉末状等の微細なものであっても形状を問わず、全ての対象物100を確実に殺菌することができる。 That is, since the concentration of the raw material gas supplied by the supply means 2 is locally increased between the central portions of the upper electrode 11 and the lower electrode 12, all the objects 100 have a high concentration of plasma. It passes through the generation region, and even if the object 100 is a fine object such as powder, all the objects 100 can be reliably sterilized regardless of the shape.

また、この供給手段3が、この対象物100の供給と共に冷気または微細な氷を供給することも可能である。この場合には、この対象物100が、殺菌時のプラズマ放電から受ける熱ストレスを可及的に抑制できることとなり、殺菌後にさらに高品質な対象物100を得ることが可能となる。 It is also possible for the supply means 3 to supply cold air or fine ice together with the supply of the object 100. In this case, the object 100 can suppress the thermal stress received from the plasma discharge during sterilization as much as possible, and it becomes possible to obtain a higher quality object 100 after sterilization.

(第2の実施形態)
以下、第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置を図7〜図10に基づいて説明する。
(Second embodiment)
Hereinafter, the plasma sterilizer according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 7 to 10.

第2の実施形態では、上述した第1の実施形態と同じく、前記対向電極1と、前記収納手段2と、前記供給手段3と、前記制御手段4と、を備え、さらに、図7に示すように、前記収納手段2が、前記隔壁体22として絶縁材の外側端部に配設される枠体部22bと、この枠体部22bの一部に開口状の排出口22cとを備え、前記制御手段4が、前記軸心41を変化させて、前記収納手段2の傾斜角度を制御する構成である。 The second embodiment includes the counter electrode 1, the accommodating means 2, the supply means 3, and the control means 4, as in the first embodiment described above, and is further shown in FIG. 7. As described above, the storage means 2 includes a frame body portion 22b arranged at the outer end portion of the insulating material as the partition wall body 22, and an opening-shaped discharge port 22c in a part of the frame body portion 22b. The control means 4 has a configuration in which the axis 41 is changed to control the inclination angle of the storage means 2.

この軸心41を変化させることについては、前記収納手段2を傾斜させるものであれば特に限定されず、例えば、軸心41をそのまま傾斜させることでもよいし、軸心41を振動させることや伸縮させることでもよい。 The change of the axis 41 is not particularly limited as long as the storage means 2 is tilted. For example, the axis 41 may be tilted as it is, or the axis 41 may be vibrated or expanded / contracted. You may let it.

前記収納手段2は、図7に示すように、絶縁材の外側端部に配設される枠体部22bを備える。この枠体部22bは、前記収納手段2の外側端部に配設されるものであれば、その形状は特に限定されない。例えば、図7に示すように、前記収納手段2の底部21が長方形または正方形で形成される場合には、この枠体部22bは、この収納手段2の外側端部の長方形または正方形の外縁上に配設される。この他にも、図8(a)に示すように、前記収納手段2の底部21が円形上または楕円形上で形成される場合には、この枠体部22bは、この収納手段2の外側端部の円形上または楕円形上の外周円上に配設される。 As shown in FIG. 7, the storage means 2 includes a frame body portion 22b arranged at the outer end portion of the insulating material. The shape of the frame body portion 22b is not particularly limited as long as it is arranged at the outer end portion of the storage means 2. For example, as shown in FIG. 7, when the bottom portion 21 of the storage means 2 is formed of a rectangle or a square, the frame body portion 22b is on the outer edge of the rectangle or square at the outer end of the storage means 2. Is arranged in. In addition to this, as shown in FIG. 8A, when the bottom portion 21 of the storage means 2 is formed in a circular shape or an elliptical shape, the frame body portion 22b is outside the storage means 2. It is arranged on a circular or elliptical outer circle at the end.

この排出口22cは、この枠体部22bの一部に配設されれば、その位置は特に限定されない。図8(a)に示すように、前記収納手段2の底部21が円形、長方形または正方形で形成されると共に、上部電極11をメッシュ構造とする構成とすることができ、この供給手段3は、この上部電極11の網目の空隙から、この対象物100を上部電極11及び下部電極12の電極間に供給することができる。 The position of the discharge port 22c is not particularly limited as long as it is arranged in a part of the frame body portion 22b. As shown in FIG. 8A, the bottom portion 21 of the storage means 2 may be formed in a circular shape, a rectangular shape, or a square shape, and the upper electrode 11 may have a mesh structure. The object 100 can be supplied between the electrodes of the upper electrode 11 and the lower electrode 12 through the gap of the mesh of the upper electrode 11.

この制御手段4が、この収納手段2を揺動させることで、この対象物100に対して、一定時間プラズマ殺菌を行う。この揺動は、縦横方向の振動動作でもよいし、回転動作でもよい。その後、一定時間プラズマ殺菌を行った後に、この制御手段4は、図8(b)に示すように、この軸心41を傾斜させる制御を行い、この排出口22cから、この対象物100を外部に排出する。 The control means 4 swings the storage means 2 to sterilize the object 100 with plasma for a certain period of time. This swing may be a vibration operation in the vertical and horizontal directions, or may be a rotational operation. Then, after performing plasma sterilization for a certain period of time, the control means 4 controls to incline the axis 41 as shown in FIG. 8B, and externally removes the object 100 from the discharge port 22c. Discharge to.

このように、この収納手段2が、この隔壁体22として絶縁材の外側端部に配設される枠体部22cと、当該枠体部22cの一部に開口状の排出口22cとを備え、この制御手段が、この軸心を変化させて、この収納手段2の傾斜角度を制御することから、この制御手段により、この軸心を変化させた一の軸心状態、例えば、この収納手段2が水平方向に傾斜無く維持される場合には、この対象物100がこの枠体部22c内で滞留する作用を呈すると共に、他の軸心状態、例えば、この収納手段2が水平方向から傾斜された場合には、この対象物100がこの排出口22cから排出する作用を呈することとなり、この対象物100が粉末状等の微細なものであっても、さらには単純な球状形状のみならず、扁平形状、金平糖形状、および紡錘形状などの複雑な形状のものや、様々な大きさのものに対しても、簡素な構成によって、全てのこの対象物100に対して、緩和な条件で品質を劣化させずに連続的かつ安定的にプラズマ殺菌を行うことができる。 As described above, the storage means 2 includes a frame body portion 22c arranged at the outer end portion of the insulating material as the partition wall body 22, and an opening-shaped discharge port 22c in a part of the frame body portion 22c. Since this control means changes the axis and controls the inclination angle of the storage means 2, one axis state in which the axis is changed by this control means, for example, the storage means. When 2 is maintained in the horizontal direction without inclination, the object 100 exhibits an action of staying in the frame body portion 22c, and another axial state, for example, the storage means 2 is inclined from the horizontal direction. When this is done, the object 100 exhibits an action of discharging from the discharge port 22c, and even if the object 100 is a fine object such as a powder, it is not only a simple spherical shape but also a simple spherical shape. , Flat shape, golden flat sugar shape, and spindle shape, as well as those of various sizes, with a simple configuration, quality under mild conditions for all 100 objects. Plasma sterilization can be performed continuously and stably without deteriorating.

なお、上記構成では、この供給手段3は、この上部電極11の網目の空隙から、この対象物100を上部電極11及び下部電極12の電極間に供給するとしたが、これに限定されず、例えば、図9に示すように、上記実施形態1と同様に、この供給手段3は、この上部電極11の網目の空隙を経由することなく、直接電極間にこの対象物100を供給することも可能である。 In the above configuration, the supply means 3 supplies the object 100 between the electrodes of the upper electrode 11 and the lower electrode 12 through the gaps in the mesh of the upper electrode 11, but the present invention is not limited to this, for example. As shown in FIG. 9, similarly to the first embodiment, the supply means 3 can directly supply the object 100 between the electrodes without passing through the mesh gap of the upper electrode 11. Is.

図9(b)に示すように、この制御手段4が、その傾斜方向(順方向R及び逆方向L)を制御することによって、逆方向Lにより固定された水平位置では、プラズマ殺菌が集中的に行われ、順方向Rにより傾斜された位置では、殺菌後の対象物100が排出される。 As shown in FIG. 9B, the control means 4 controls its inclination direction (forward direction R and reverse direction L), so that plasma sterilization is concentrated in the horizontal position fixed by the reverse direction L. At the position inclined by the forward direction R, the object 100 after sterilization is discharged.

また、図10に示すように、上述した対向電極1を複数段として、1つの軸心41に複数連結させる構成(積層スタック型)として、複数の対向電極1を直列に配置することも可能である。図10に示すように、円筒状容器に本実施形態に係るプラズマ殺菌装置の全体を収容することも可能であり、各段の外周部にこの供給手段3を配設することができる。 Further, as shown in FIG. 10, a plurality of counter electrodes 1 can be arranged in series as a configuration (stacked stack type) in which the above-mentioned counter electrodes 1 are arranged in a plurality of stages and are connected to one axis 41 in a plurality of stages. is there. As shown in FIG. 10, it is also possible to accommodate the entire plasma sterilizer according to the present embodiment in a cylindrical container, and the supply means 3 can be arranged on the outer peripheral portion of each stage.

このように、本実施形態に係るプラズマ殺菌装置は、この多段式の積層スタック型の構成により、この対象物100が、順次、最上段の対向電極1から供給され、上段で殺菌されたこの対象物100が、連続する下段の対向電極11へ移動して、同様に殺菌及び排出が繰り返され、この対象物100が、この対向電極1と収納手段2の各段を連続的に移動することとなり、実質的な殺菌処理時間を確保すると共に、迅速且つ効率的な殺菌を簡易に行うことができる。 As described above, in the plasma sterilizer according to the present embodiment, the object 100 is sequentially supplied from the counter electrode 1 in the uppermost stage and sterilized in the upper stage due to the multi-stage laminated stack type configuration. The object 100 moves to the continuous lower counter electrode 11, and sterilization and discharge are repeated in the same manner, and the object 100 continuously moves between the counter electrode 1 and the storage means 2. It is possible to secure a substantial sterilization processing time and easily perform quick and efficient sterilization.

(第3の実施形態)
以下、第3の実施形態に係るプラズマ殺菌装置を図11に基づいて説明する。
(Third Embodiment)
Hereinafter, the plasma sterilizer according to the third embodiment will be described with reference to FIG.

第3の実施形態では、上述した第1の実施形態と同じく、前記対向電極1と、前記収納手段2と、前記供給手段3と、前記制御手段4と、を備え、さらに、図11に示すように、この上部電極11と下部電極12から構成される対向電極1間に、液体状の液体誘電体Cが、誘電体材(例えばガラス等)から形成される誘導体ケースにより封止されて形成される放電位置制御部5を備える構成である。 The third embodiment includes the counter electrode 1, the accommodating means 2, the supply means 3, and the control means 4, as in the first embodiment described above, and is further shown in FIG. As described above, a liquid liquid dielectric C is formed by being sealed with a derivative case formed of a dielectric material (for example, glass) between the counter electrode 1 composed of the upper electrode 11 and the lower electrode 12. It is configured to include the discharge position control unit 5 to be generated.

この液体誘電体Cを構成する液体としては、特に限定されないが、溶媒誘電率の温度依存特性が良好であるという点から、水、ニトロベンゼン、メチルアルコール、アセトン等の分極性液体を用いることが好ましく、特に、取扱いが容易であるという点から、水を用いることがより好ましい。 The liquid constituting the liquid dielectric C is not particularly limited, but it is preferable to use a polarizing liquid such as water, nitrobenzene, methyl alcohol, or acetone from the viewpoint of good temperature-dependent characteristics of the solvent dielectric constant. In particular, it is more preferable to use water because it is easy to handle.

また、液体状の液体誘電体Cは、後述のアーク放電の発生抑制効果をより効率的に得るという点から、誘導体ケースに隙間なく充填させておくことが好ましい。 Further, the liquid liquid dielectric C is preferably filled in the derivative case without gaps from the viewpoint of more efficiently obtaining the effect of suppressing the generation of arc discharge described later.

このように、この放電位置制御部5の作用によって、この対向電極1間にプラズマが発生した位置では、誘電率が低下し、次回のプラズマ発生位置が誘電率の高い他の隣接位置に順次移行していくことから、アーク放電の発生が抑制され、安定的で穏やかな放電が対向電極1間(上部電極11と下部電極12間)に継続的に発生することとなり、この対象物100に損傷を与えない程度の穏やかな放電状態でプラズマ殺菌を維持することができる。 In this way, due to the action of the discharge position control unit 5, the dielectric constant decreases at the position where plasma is generated between the counter electrodes 1, and the next plasma generation position sequentially shifts to another adjacent position having a high dielectric constant. As a result, the generation of arc discharge is suppressed, and stable and gentle discharge is continuously generated between the counter electrodes 1 (between the upper electrode 11 and the lower electrode 12), which damages the object 100. Plasma sterilization can be maintained in a gentle discharge state that does not give.

すなわち、この放電位置制御部5を備える構成により、放電からみると異物と扱われる対象物100が電極間に存在している状況という不均一な電界分布であっても、プラズマ生成を均一化且つ安定化させることができる。 That is, by the configuration including the discharge position control unit 5, plasma generation can be made uniform even in a non-uniform electric field distribution in which an object 100 treated as a foreign substance from the viewpoint of discharge exists between the electrodes. It can be stabilized.

なお、本実施形態で構成される放電位置制御部5は、第1、第2の実施形態に係るプラズマ殺菌装置に対して適用することも可能である。 The discharge position control unit 5 configured in this embodiment can also be applied to the plasma sterilizer according to the first and second embodiments.

1 対向電極
11 上部電極
11a 上部メッシュ電極
12 下部電極
12a 下部メッシュ電極
2 収納手段
21 底面
22 隔壁体
22a 案内フィン
22b 枠体部
22c 排出口
23 収納部
3 供給手段
4 制御手段
41 軸心
5 放電位置制御部
100 対象物
200 交流電源
200a 上部交流電源
200b 下部交流電源
200c 中部電源
300 回収部
1 Opposite electrode 11 Upper electrode 11a Upper mesh electrode 12 Lower electrode 12a Lower mesh electrode 2 Storage means 21 Bottom surface 22 Partition body 22a Guide fin 22b Frame body 22c Outlet 23 Storage 3 Supply means 4 Control means 41 Axis 5 Discharge position Control unit 100 Object 200 AC power supply 200a Upper AC power supply 200b Lower AC power supply 200c Central power supply 300 Recovery unit

Claims (5)

原料ガス雰囲気下で電極間で電圧印加により生成されるプラズマによって、対象物を殺菌するプラズマ殺菌装置において、
上下方向に隙間を隔てて対向する板状の上部電極及び下部電極から成る対向電極と、
底面を板状の絶縁材または前記下部電極で形成され、外周辺に隔壁体を備えて成る収納部からなり、当該収納部が前記対向電極間に配設され、前記収納部に対象物を収納した状態で軸支される収納手段と、
前記隙間に向かって、前記対象物を供給する供給手段と、
前記収納手段を軸支する軸心を変化させて前記対象物の前記収納手段内の滞留と排出を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする
プラズマ殺菌装置。
In a plasma sterilizer that sterilizes an object by plasma generated by applying a voltage between electrodes in a raw material gas atmosphere.
A counter electrode consisting of a plate-shaped upper electrode and a lower electrode facing each other with a gap in the vertical direction,
The bottom surface is formed of a plate-shaped insulating material or the lower electrode, and is composed of a storage portion provided with a partition wall on the outer periphery. The storage portion is arranged between the counter electrodes, and an object is stored in the storage portion. The storage means that is pivotally supported in the state of being
A supply means for supplying the object toward the gap, and
A control means for controlling the retention and discharge of the object in the storage means by changing the axis supporting the storage means.
A plasma sterilizer characterized by being equipped with.
請求項1に記載のプラズマ殺菌装置において、
前記収納手段が、前記隔壁体として放射状に載置された案内フィンを備え、
前記収納手段が、前記対向電極に対して揺動すると共に、
前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記揺動の進行方向を制御することを特徴とする
プラズマ殺菌装置。
In the plasma sterilizer according to claim 1,
The storage means includes guide fins radially placed as the partition wall.
The accommodating means swings with respect to the counter electrode and
A plasma sterilizer in which the control means changes the axis to control the traveling direction of the swing.
請求項1に記載のプラズマ殺菌装置において、
前記収納手段が、前記隔壁体として絶縁材の外側端部に配設される枠体部と、当該枠体部の一部に開口状の排出口とを備え、
前記制御手段が、前記軸心を変化させて、前記収納手段の傾斜角度を制御することを特徴とする
プラズマ殺菌装置。
In the plasma sterilizer according to claim 1,
The storage means includes a frame body portion arranged at the outer end portion of the insulating material as the partition wall body, and an opening-shaped discharge port in a part of the frame body portion.
A plasma sterilizer, wherein the control means changes the axis to control an inclination angle of the storage means.
請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマ殺菌装置において、
前記供給手段が、前記対象物と共に前記原料ガスを供給することを特徴とする
プラズマ殺菌装置。
In the plasma sterilizer according to any one of claims 1 to 3.
A plasma sterilizer in which the supply means supplies the raw material gas together with the object.
請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ殺菌装置において、
前記対向電極間に、液体状の誘電体が封止されて形成される放電位置制御部を備えることを特徴とする
プラズマ殺菌装置。
In the plasma sterilizer according to any one of claims 1 to 4.
A plasma sterilizer comprising a discharge position control unit formed by sealing a liquid dielectric between the counter electrodes.
JP2019224477A 2019-12-12 2019-12-12 Plasma sterilization equipment Active JP7486098B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019224477A JP7486098B2 (en) 2019-12-12 2019-12-12 Plasma sterilization equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019224477A JP7486098B2 (en) 2019-12-12 2019-12-12 Plasma sterilization equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021090687A true JP2021090687A (en) 2021-06-17
JP7486098B2 JP7486098B2 (en) 2024-05-17

Family

ID=76311160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019224477A Active JP7486098B2 (en) 2019-12-12 2019-12-12 Plasma sterilization equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7486098B2 (en)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58187516U (en) * 1982-06-08 1983-12-13 アンリツ株式会社 Goods supply device
JPH051725U (en) * 1991-06-24 1993-01-14 鐘紡株式会社 Alignment supply device
US6497839B1 (en) * 2000-10-04 2002-12-24 Sanyo Electric Co., Ltd. Sterilizer and sterilization method utilizing high voltage
JP2003028998A (en) * 2001-07-16 2003-01-29 Nissin High Voltage Co Ltd Small quantity particle batch process system used for electron beam irradiation apparatus
JP2003210148A (en) * 2002-01-24 2003-07-29 Nissin High Voltage Co Ltd Electron beam irradiator
JP2012091925A (en) * 2010-10-28 2012-05-17 Tohoku Univ Fine particle conveying apparatus and method of cleaning fine particle using the same
WO2016190436A1 (en) * 2015-05-28 2016-12-01 国立大学法人佐賀大学 Plasma sterilization device
JP2017073375A (en) * 2016-03-01 2017-04-13 アルファ株式会社 Plasma processing device and plasma torch
JP2017086705A (en) * 2015-11-13 2017-05-25 国立大学法人九州大学 Plasma sterilizer

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58187516U (en) * 1982-06-08 1983-12-13 アンリツ株式会社 Goods supply device
JPH051725U (en) * 1991-06-24 1993-01-14 鐘紡株式会社 Alignment supply device
US6497839B1 (en) * 2000-10-04 2002-12-24 Sanyo Electric Co., Ltd. Sterilizer and sterilization method utilizing high voltage
JP2003028998A (en) * 2001-07-16 2003-01-29 Nissin High Voltage Co Ltd Small quantity particle batch process system used for electron beam irradiation apparatus
JP2003210148A (en) * 2002-01-24 2003-07-29 Nissin High Voltage Co Ltd Electron beam irradiator
JP2012091925A (en) * 2010-10-28 2012-05-17 Tohoku Univ Fine particle conveying apparatus and method of cleaning fine particle using the same
WO2016190436A1 (en) * 2015-05-28 2016-12-01 国立大学法人佐賀大学 Plasma sterilization device
JP2017086705A (en) * 2015-11-13 2017-05-25 国立大学法人九州大学 Plasma sterilizer
JP2017073375A (en) * 2016-03-01 2017-04-13 アルファ株式会社 Plasma processing device and plasma torch

Also Published As

Publication number Publication date
JP7486098B2 (en) 2024-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Mir et al. Current strategies for the reduction of pesticide residues in food products
JP6736063B2 (en) Plasma sterilizer
JP5778175B2 (en) Microwave vacuum drying of organic materials
RU2018118775A (en) CHEMICALLY ACTIVE GAS GENERATION SYSTEM AND PRODUCT PROCESSING METHOD USING CHEMICAL ACTIVE GAS
US20200015344A1 (en) Methods and apparatuses for treating agricultural matter
JP2006296814A (en) Method and apparatus for inactivating mycotoxin
JP6646787B2 (en) Method for sterilizing and / or sterilizing granular articles
RU2535625C1 (en) Method of decontamination and device to this end
JP6666617B2 (en) Plasma sterilizer
Deepak Review on recent advances in cold plasma technology
JP2021090687A (en) Plasma sterilizer
CA3049999A1 (en) Device and method for treating with high-frequency acoustic waves
Kordová et al. Inactivation of microbial food contamination of plastic cups using nonthermal plasma and hydrogen peroxide
JP2004503262A (en) Method and apparatus for sterilizing and / or sterilizing a growth medium
Niemira Irradiation, microwave, and alternative energy-based treatments for low-water activity foods
AU2013236231A1 (en) Food sterilization and preservation method
JP2010166855A (en) Processing method for long storage of cereal, cereals processed to be storable for long, and processing apparatus for long storage of cereal
JP3079516B2 (en) Continuous sterilization of food ingredients
Kautkar et al. An Elementary Review on Principles and Applications of Modern Non-Conventional Food Processing Technologies
Pandey et al. 15 ChaptEr Use of plasma in Food processing
JPH11101900A (en) Electron beam irradiation device
US20170238584A1 (en) Ozone-acid bed fluidizing disinfection methods, devices, and systems
EP4108325A1 (en) Method and device for treatment of agricultural products with cold plasma
JPH11192078A (en) Sterilization of vegetable food by low energy electron beam
AU669013B2 (en) Surface sterilisation by laser treatment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230425

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20230620

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230821

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7486098

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150