JP2021086121A - Image capture device and surface inspection device - Google Patents

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Abstract

To provide an image capture device capable of capturing a high-quality image suitable for inspection of a surface, and a surface inspection device.SOLUTION: An image capture device 10 comprises a camera 30 to capture an image of a subject, and an illumination device 40 to illuminate the subject with illumination light. The camera 30 comprises an optical system in which an image acquisition plane is a plane of sharp focus, and acquires image data by obliquely capturing an image of the subject being in an image capture range such that the subject is within a depth of field. The illumination device 40 has a variable position of a light source part and can change how to illuminate the subject with the illumination light.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、撮像装置及び表面検査装置に関する。 The present invention relates to an imaging device and a surface inspection device.

ワークの表面をカメラで撮像し、撮像された画像を用いて、ワークの表面を検査する装置が知られている。 A device is known in which the surface of a work is imaged with a camera and the surface of the work is inspected using the captured image.

特許文献1には、検査用の画像を撮像する方法として、ワークを斜めから撮像する方法が提案されている。ワークを斜めに撮像すると、画像に歪み(射影歪み)が生じる。特許文献1では、撮像された画像を透視変換することで、歪みを解消している。 Patent Document 1 proposes a method of obliquely imaging a work as a method of capturing an image for inspection. When the work is imaged at an angle, the image is distorted (projection distortion). In Patent Document 1, distortion is eliminated by performing fluoroscopic transformation of the captured image.

また、ワークを斜めに撮像すると、画像内で分解能に差が生じる。特許文献2には、各カメラの撮像領域を重複させて、複数のカメラでワークを斜めから撮像する方法が提案されている。 Further, when the work is imaged at an angle, there is a difference in resolution in the image. Patent Document 2 proposes a method in which the imaging regions of each camera are overlapped and a workpiece is imaged obliquely by a plurality of cameras.

特開2014−167456号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-167456 特開2018−146442号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-146442

本開示の技術に係る1つの実施形態は、表面の検査に適した高品質な画像を撮像できる撮像装置及び表面検査装置を提供する。 One embodiment according to the technique of the present disclosure provides an imaging device and a surface inspection device capable of capturing a high quality image suitable for surface inspection.

(1)画像取得面が合焦面である結像光学系を備え、撮像範囲内の被写体を被写界深度内に収めて斜めから撮像して画像データを取得する撮像部と、被写体に照射する照明光の主光線の向き及び/又は照明光の光源部の位置が可変である照明部と、を備えた撮像装置。 (1) An imaging unit having an imaging optical system in which the image acquisition surface is the in-focus surface, the subject within the imaging range is contained within the depth of field, and the subject is imaged at an angle to acquire image data, and the subject is irradiated. An imaging device including an illumination unit in which the direction of the main light beam of the illumination light and / or the position of the light source unit of the illumination light is variable.

(2)画像データに画像処理を施す画像処理部を更に備え、画像処理部は、照明光の主光線の向き及び/又は照明光の光源部の位置を変えることで生じる画像データの差異を強調する処理を行う、(1)の撮像装置。 (2) An image processing unit that performs image processing on the image data is further provided, and the image processing unit emphasizes the difference in the image data caused by changing the direction of the main ray of the illumination light and / or the position of the light source unit of the illumination light. The imaging device of (1), which performs the process of performing the processing.

(3)照明部は、光源部と、光源部の移動機構と、を備え、移動機構で光源部を移動させて、照明光の光源部の位置を変える、(1)又は(2)の撮像装置。 (3) The illumination unit includes a light source unit and a moving mechanism of the light source unit, and the moving mechanism moves the light source unit to change the position of the light source unit of the illumination light. apparatus.

(4)照明部は、光源部の首振り機構を更に備え、首振り機構で光源部の向きを変えて、照明光の主光線の向きを変える、(3)の撮像装置。 (4) The image pickup apparatus according to (3), wherein the illumination unit further includes a swing mechanism of the light source unit, and the swing mechanism changes the direction of the light source unit to change the direction of the main light beam of the illumination light.

(5)照明部は、光源部と、光源部の首振り機構と、を備え、首振り機構で光源部の向きを変えて、照明光の主光線の向きを変える、(1)又は(2)の撮像装置。 (5) The illumination unit includes a light source unit and a swing mechanism of the light source unit, and the direction of the light source unit is changed by the swing mechanism to change the direction of the main light beam of the illumination light, (1) or (2). ) Imaging device.

(6)照明部は、複数の光源部を備え、点灯させる光源部を変えて、照明光の光源部の位置を変える、(1)又は(2)の撮像装置。 (6) The image pickup apparatus according to (1) or (2), wherein the illumination unit includes a plurality of light source units, changes the light source unit to be turned on, and changes the position of the light source unit of the illumination light.

(7)照明部は、光源部の首振り機構を更に備え、首振り機構で光源部の向きを変えて、照明光の主光線の向きを変える、(6)の撮像装置。 (7) The image pickup apparatus according to (6), wherein the illumination unit further includes a swing mechanism of the light source unit, and the swing mechanism changes the direction of the light source unit to change the direction of the main light beam of the illumination light.

(8)複数の光源部がマトリクス状に配置される、(6)又は(7)の撮像装置。 (8) The image pickup apparatus according to (6) or (7), wherein a plurality of light source units are arranged in a matrix.

(9)複数の光源部が円弧状に配置される、(6)から(8)のいずれか一の撮像装置。 (9) The imaging device according to any one of (6) to (8), in which a plurality of light source units are arranged in an arc shape.

(10)撮像範囲が重複して設定された複数の撮像部を備えた、(1)から(9)のいずれか一の撮像装置。 (10) An imaging device according to any one of (1) to (9), comprising a plurality of imaging units in which imaging ranges are set to overlap.

(11)被写体を保持する保持部と、保持部の回転機構と、を更に備えた(1)から(10)のいずれか一の撮像装置。 (11) An imaging device according to any one of (1) to (10), further comprising a holding portion for holding a subject and a rotating mechanism for the holding portion.

(12)画像取得面が合焦面である結像光学系を備え、撮像範囲内の被写体を被写界深度内に収めて斜めから撮像して画像データを取得する撮像部と、被写体に照明光を照射する照明部と、被写体を保持する保持部と、撮像部及び保持部を連動して移動又は傾斜させる駆動部と、を備えた撮像装置。 (12) An imaging unit having an imaging optical system in which the image acquisition surface is the in-focus surface, the subject within the imaging range is contained within the depth of field, and the subject is imaged at an angle to acquire image data, and the subject is illuminated. An imaging device including an illumination unit that irradiates light, a holding unit that holds a subject, and a driving unit that moves or tilts the imaging unit and the holding unit in an interlocking manner.

(13)画像データに画像処理を施す画像処理部を更に備え、画像処理部は、照明光の主光線の向き及び/又は照明光の光源部の位置を変えることで生じる画像データの差異を強調する処理を行う、(12)の撮像装置。 (13) An image processing unit that performs image processing on the image data is further provided, and the image processing unit emphasizes the difference in the image data caused by changing the direction of the main ray of the illumination light and / or the position of the light source unit of the illumination light. (12) The image pickup apparatus for performing the processing.

(14)撮像部の結像光学系は、物体側から順に、正のパワーを有する1つのミラーと、複数のレンズからなり正のパワーを有する光学系と、を有し、ミラーと光学系との間に中間像を結像する、(1)から(13)のいずれか一の撮像装置。 (14) The imaging optical system of the imaging unit includes one mirror having positive power and an optical system composed of a plurality of lenses having positive power in order from the object side, and the mirror and the optical system The imaging device according to any one of (1) to (13), which forms an intermediate image between the two.

(15) ミラー及び光学系は、共通の光軸を有し、かつ、光軸を回転軸とする回転対称な形状を有する、(14)の撮像装置。 (15) The image pickup apparatus according to (14), wherein the mirror and the optical system have a common optical axis and have a rotationally symmetric shape with the optical axis as the rotation axis.

(16)(1)から(15)のいずれか一の撮像装置と、撮像部で取得される画像データを用いて、ワークの表面を検査する検査部と、を備えた表面検査装置。 (16) A surface inspection device including any one of the image pickup devices (1) to (15) and an inspection section for inspecting the surface of a work using image data acquired by the image pickup section.

表面検査装置の概略構成を示す図The figure which shows the schematic structure of the surface inspection apparatus. 撮像装置の概略構成を示す図The figure which shows the schematic structure of the image pickup apparatus カメラの概略構成を示す断面図Cross-sectional view showing the schematic configuration of the camera 結像光学系の構成を示す断面図Cross-sectional view showing the configuration of the imaging optical system 結像光学系の構成を示す断面図Cross-sectional view showing the configuration of the imaging optical system 照明装置の平面図Floor plan of the lighting device 検査装置本体のハードウェア構成の一例を示すブロック図Block diagram showing an example of the hardware configuration of the inspection device body 検査装置本体が実現する機能のブロック図Block diagram of the functions realized by the inspection device body 照明光の当て方を変えて撮像して得られる画像の一例を示す図The figure which shows an example of the image obtained by changing the way of illuminating light 最適な照明位置を決定する処理の手順を示すフローチャートFlowchart showing the procedure of the process to determine the optimum lighting position 照明装置の側面図Side view of the lighting device 照明装置の平面図Floor plan of the lighting device 照明装置の変形例を示す側面図Side view showing a modified example of the lighting device 照明装置の平面図Floor plan of the lighting device 照明装置の側面図Side view of the lighting device 照明装置の平面図Floor plan of the lighting device 照明装置の側面図Side view of the lighting device 表面検査装置の概略構成を示す図The figure which shows the schematic structure of the surface inspection apparatus. 表面検査装置の概略構成を示す図The figure which shows the schematic structure of the surface inspection apparatus. カメラの配置を示す斜視図Perspective view showing the arrangement of cameras 表面検査装置の変形例を示す図The figure which shows the modification of the surface inspection apparatus 撮像装置の構成を示す概略図Schematic diagram showing the configuration of an imaging device 帯状のワークを検査する場合の撮像装置の構成の一例を示す図The figure which shows an example of the structure of the image pickup apparatus when inspecting a strip-shaped workpiece

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[第1の実施の形態]
平面若しくは緩やかな曲面に存在する微小な溝、キズ、気泡、膜のムラなどの微小な凹凸は、通常の撮像手法(通常のカメラを用いて、被写体に正対して撮像する手法)で撮像しても写らない。若しくは、写ったとしても、うっすらと写る程度である。
[First Embodiment]
Minute irregularities such as minute grooves, scratches, bubbles, and unevenness of the film existing on a flat surface or a gentle curved surface are imaged by a normal imaging method (a method of photographing the subject directly with a normal camera). But it doesn't show up. Or, even if it is captured, it is only faintly captured.

斜めから撮像することで、これらの微小な凹凸を見つけ易くできる。人間が平面内の微小な凹凸を確認する際、目を近づけて斜めから見る行動を行うことからも、この方法が直感的に有用であることが分かる。 By imaging from an angle, it is possible to easily find these minute irregularities. It can be seen that this method is intuitively useful from the fact that when a human confirms a minute unevenness in a plane, he / she takes an action of looking at it from an angle with his / her eyes close to each other.

しかし、通常のカメラで斜めから撮像すると、画像に歪み(射影歪み)が生じたり、画像内で分解能に差が生じたりする。 However, when an image is taken from an angle with a normal camera, the image is distorted (projection distortion) or the resolution is different in the image.

本実施の形態の表面検査装置は、斜めから撮像しても焦点の合う範囲が広い特殊なカメラを使用することで、検査に適した高品質な画像を撮像する。更に、本実施の形態の表面検査装置は、照明光の当て方を変えられる照明装置(照明光の当て方が可変である照明装置)を使用することで、最適な照明環境を作り出して撮像する。 The surface inspection apparatus of the present embodiment captures a high-quality image suitable for inspection by using a special camera having a wide range of focus even if the image is taken from an angle. Further, the surface inspection device of the present embodiment creates an optimum lighting environment and images by using a lighting device (a lighting device in which the lighting method is variable) that can change the lighting method. ..

以下においては、シート状のワークの表面を検査する場合を例に説明する。 In the following, a case of inspecting the surface of a sheet-shaped work will be described as an example.

[表面検査装置の構成]
図1は、本実施の形態の表面検査装置の概略構成を示す図である。
[Configuration of surface inspection equipment]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a surface inspection device according to the present embodiment.

同図に示すように、本実施の形態の表面検査装置1は、ワークWの表面を撮像する撮像装置10、及び、撮像装置10を制御し、かつ、撮像装置10で撮像された画像を用いて、ワークWの表面を検査する検査装置本体100を備える。検査装置本体100は、ワーク表面の欠陥、特に、微小な溝、キズ、気泡、膜のムラなどの微小な凹凸等の有無を検査する。 As shown in the figure, the surface inspection device 1 of the present embodiment controls the image pickup device 10 for capturing the surface of the work W and the image pickup device 10, and uses the image captured by the image pickup device 10. The inspection device main body 100 for inspecting the surface of the work W is provided. The inspection device main body 100 inspects the presence or absence of defects on the surface of the work, particularly minute irregularities such as minute grooves, scratches, bubbles, and unevenness of the film.

[撮像装置]
図2は、撮像装置の概略構成を示す図である。
[Imaging device]
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an imaging device.

撮像装置10は、ワークWを載置するステージ20、ステージ20に載置されたワークWを撮像するカメラ30、及び、ステージ20に載置されたワークWに照明光を照射する照明装置40を備える。 The image pickup apparatus 10 includes a stage 20 on which the work W is placed, a camera 30 that images the work W mounted on the stage 20, and an illumination device 40 that irradiates the work W mounted on the stage 20 with illumination light. Be prepared.

[ステージ]
ステージ20は、平坦なワーク載置面20aを有する。ワークWは、ワーク載置面20aの上に載置される。本実施の形態では、ステージ20が水平に設置される。したがって、ワークWは水平に保持される。ステージ20には、必要に応じてワークWを吸着保持する機構等を備えることが好ましい。ステージ20は、保持部の一例である。
[stage]
The stage 20 has a flat work mounting surface 20a. The work W is placed on the work mounting surface 20a. In this embodiment, the stage 20 is installed horizontally. Therefore, the work W is held horizontally. It is preferable that the stage 20 is provided with a mechanism for sucking and holding the work W as needed. The stage 20 is an example of a holding portion.

ステージ20は、そのワーク載置面20aをカメラ30の撮像範囲内に収めて設置される。したがって、ワーク載置面20aに載置されたワークWの全体(全面)を撮像できる。 The stage 20 is installed so that the work mounting surface 20a is within the imaging range of the camera 30. Therefore, the entire (entire surface) of the work W mounted on the work mounting surface 20a can be imaged.

[カメラ]
カメラ30は、いわゆる斜視型カメラであり、撮像範囲内の被写体(ワークW)を被写界深度内に収めて斜めから撮像し、その画像データを取得する。この種のカメラは、結像光学系の光軸を含まない領域に撮像範囲を設定することで実現できる。すなわち、結像光学系の光軸を含まない領域に撮像範囲を設定することにより、撮像範囲内の被写体(主要被写体)をすべて被写界深度内に収めて、被写体に正対する画像を斜めから撮像できる。本実施の形態のカメラ30は、ワーク載置面20aの上に水平に載置されたワークWを、ワークWの斜め上方から撮像する。カメラ30は、撮像部の一例である。ワークWは、その表面が主要被写体となる。
[camera]
The camera 30 is a so-called perspective camera, and a subject (work W) within the imaging range is captured within the depth of field and imaged obliquely, and the image data is acquired. This type of camera can be realized by setting the imaging range in a region that does not include the optical axis of the imaging optical system. That is, by setting the imaging range in a region that does not include the optical axis of the imaging optical system, all the subjects (main subjects) within the imaging range are contained within the depth of field, and the image facing the subject is viewed from an angle. Can be imaged. The camera 30 of the present embodiment takes an image of the work W horizontally placed on the work mounting surface 20a from diagonally above the work W. The camera 30 is an example of an imaging unit. The surface of the work W is the main subject.

図3は、カメラの概略構成を示す断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the camera.

同図に示すように、カメラ30は、筐体31の内部に結像光学系32及び撮像素子33を備える。筐体31は、角柱形状を有し、水平面上に載置して自立可能に構成される。筐体31は、正面に撮像窓31aを有する。カメラ30は、撮像窓31aから被写体(ワークW)を斜め下側に臨んで撮像する。 As shown in the figure, the camera 30 includes an imaging optical system 32 and an image sensor 33 inside the housing 31. The housing 31 has a prismatic shape and is configured to be self-supporting by being placed on a horizontal plane. The housing 31 has an imaging window 31a on the front surface. The camera 30 faces the subject (work W) diagonally downward from the image pickup window 31a and takes an image.

結像光学系32は、物体側から順に、正のパワーを有する1つのミラーM1と、複数のレンズからなり正のパワーを有する光学系ROと、有する。 The imaging optical system 32 includes one mirror M1 having a positive power and an optical system RO composed of a plurality of lenses and having a positive power in order from the object side.

図4及び図5は、結像光学系の構成を示す断面図である。図4及び図5では、光束として、光軸Zの近傍の光束A及び最大画角の光束Bを併せて記入している。また、図4では、光軸Zに沿って、ミラーM1側を物体側、結像面Sim側を像側として記載している。また、図5は、図4における結像光学系部分を拡大して示したものである。なお、図4及び図5に示す中間像I及び開口絞りStは、形状を示しているのではなく、光軸上の位置を示している。 4 and 5 are cross-sectional views showing the configuration of the imaging optical system. In FIGS. 4 and 5, the luminous flux A in the vicinity of the optical axis Z and the luminous flux B having the maximum angle of view are also entered as the luminous flux. Further, in FIG. 4, the mirror M1 side is shown as the object side and the image plane Sim side is shown as the image side along the optical axis Z. Further, FIG. 5 is an enlarged view of the imaging optical system portion in FIG. The intermediate image I and the aperture stop St shown in FIGS. 4 and 5 do not show the shape but the position on the optical axis.

同図に示すように、本実施の形態のカメラ30の結像光学系32は、物体側から順に、正のパワーを有する1つのミラーM1と、複数のレンズからなり正のパワーを有する光学系ROと、を有し、ミラーM1と光学系ROとの間に中間像Iを結像する。このように、結像光学系内で中間像Iを形成することにより、結像光学系内で光束が拡大するのを抑制できる。これにより、小型かつ広角の結像光学系を構成できる。 As shown in the figure, the imaging optical system 32 of the camera 30 of the present embodiment is composed of one mirror M1 having a positive power and a plurality of lenses in order from the object side and having a positive power. It has an RO, and an intermediate image I is formed between the mirror M1 and the optical system RO. By forming the intermediate image I in the imaging optical system in this way, it is possible to suppress the expansion of the luminous flux in the imaging optical system. This makes it possible to construct a compact and wide-angle imaging optical system.

一例として、本実施の形態の光学系ROは、物体側から順に、4枚のレンズL1〜L4(第1レンズL1、第2レンズL2、第3レンズL3及び第4レンズL4)からなる前群GFと、開口絞りStと、3枚のレンズL5〜L7(第5レンズL5、第6レンズL6及び第7レンズL7)からなる後群GRと、を有する。 As an example, the optical system RO of the present embodiment is a front group composed of four lenses L1 to L4 (first lens L1, second lens L2, third lens L3, and fourth lens L4) in order from the object side. It has a GF, an aperture aperture St, and a rear group GR composed of three lenses L5 to L7 (fifth lens L5, sixth lens L6, and seventh lens L7).

本実施の形態のミラーM1及び光学系ROは、共通の光軸Zを有し、かつ、光軸Zを回転軸とする回転対称な形状を有する。このように構成することにより、結像光学系32の設計が容易となる。また、結像光学系32を構成する光学素子の加工性及び組立性を向上できる。これにより、結像光学系のコストを抑えつつ、性能を向上できる。なお、本実施の形態の結像光学系32では、ミラーM1及び光学系ROについて、結像に利用しない領域を部分的に切断している。このように結像に利用しない領域を部分的に切断した形状についても、光軸Zを回転軸とする回転対称な形状に含まれるものとする。 The mirror M1 and the optical system RO of the present embodiment have a common optical axis Z and have a rotationally symmetric shape with the optical axis Z as the rotation axis. With such a configuration, the design of the imaging optical system 32 becomes easy. Further, the workability and assembling property of the optical elements constituting the imaging optical system 32 can be improved. As a result, the performance can be improved while suppressing the cost of the imaging optical system. In the imaging optical system 32 of the present embodiment, the regions of the mirror M1 and the optical system RO that are not used for imaging are partially cut off. The shape in which the region not used for imaging is partially cut is also included in the rotationally symmetric shape with the optical axis Z as the rotation axis.

本実施の形態のミラーM1は、非球面形状を有する。このように、最も物体側に配置され、かつ、有効径の大きいミラーM1を非球面形状とすることにより、像面湾曲、コマ収差、非点収差及び歪曲収差の補正に有利となる。 The mirror M1 of the present embodiment has an aspherical shape. As described above, by forming the mirror M1 which is arranged on the object side most and has a large effective diameter into an aspherical shape, it is advantageous for correcting curvature of field, coma, astigmatism, and distortion.

本実施の形態の光学系ROは、第1レンズL1(光学系ROの最も物体側のレンズ)が、物体側に凹面を向けた正レンズで構成される。このように、第1レンズL1の物体側を凹面とすることにより、第1レンズL1の径を抑えつつ、画角を広く取ることができる。また、第1レンズL1を正レンズとすることにより、ミラーM1から入射した光束が収束して出射する。このため、次の第2レンズL2の径を小さくでき、また、光学系ROの全長の短縮化につながる。そのため、結像光学系32を小型化できる。 In the optical system RO of the present embodiment, the first lens L1 (the lens on the most object side of the optical system RO) is composed of a positive lens having a concave surface facing the object side. By making the object side of the first lens L1 concave in this way, the angle of view can be widened while suppressing the diameter of the first lens L1. Further, by using the first lens L1 as a positive lens, the luminous flux incident from the mirror M1 converges and is emitted. Therefore, the diameter of the next second lens L2 can be reduced, and the overall length of the optical system RO can be shortened. Therefore, the imaging optical system 32 can be miniaturized.

このように、本実施形態の結像光学系32は、小型かつ広角の結像光学系を構成できる。したがって、本実施の形態の結像光学系32を備えたカメラ30も、小型で、かつ、広範囲を撮像できるカメラとして構成できる。 As described above, the imaging optical system 32 of the present embodiment can form a compact and wide-angle imaging optical system. Therefore, the camera 30 provided with the imaging optical system 32 of the present embodiment can also be configured as a compact camera capable of capturing a wide range.

上記構成の結像光学系32は、ミラーM1の反射面から結像面Simまでの光軸Z上の距離をTTL、ミラーM1の反射面から物体面Obj(画像取得面)までの光軸Z上の距離をZOB、第1レンズL1の物体側の面から結像面Simまでの光軸Z上の距離をLL0、最大像高をYmaxとした場合、下記の条件式(1)及び(2)を満足することが好ましい。なお 、最大像高Ymaxとは、光軸Zから最も離れた像点と光軸Zとの距離を意味する。 In the imaging optical system 32 having the above configuration, the distance on the optical axis Z from the reflecting surface of the mirror M1 to the imaging surface Sim is TTL, and the optical axis Z from the reflecting surface of the mirror M1 to the object surface Obj (image acquisition surface). When the upper distance is ZOB, the distance on the optical axis Z from the object side surface of the first lens L1 to the image plane Sim is LL0, and the maximum image height is Ymax, the following conditional equations (1) and (2) ) Is preferably satisfied. The maximum image height Ymax means the distance between the image point farthest from the optical axis Z and the optical axis Z.

0.8<TTL/ZOB<1 …(1)
6<LL0/Ymax<15 …(2)
たとえば、カメラ30をステージ20のワーク載置面20aと同じ高さの面(物体面Obj)に設置するには、入射光の光束を折り曲げるミラーM1が必要となる。条件式(1)の下限以下とならないようにすることにより、結像光学系32の全長が短くなり過ぎず、収差の補正に有利となる。条件式(1)の上限以上とならないようにすることにより、装置の小型化に有利となる。
0.8 <TTL / ZOB <1 ... (1)
6 <LL0 / Ymax <15 ... (2)
For example, in order to install the camera 30 on a surface (object surface Obj) having the same height as the work mounting surface 20a of the stage 20, a mirror M1 that bends the luminous flux of the incident light is required. By not making it less than the lower limit of the conditional expression (1), the total length of the imaging optical system 32 is not shortened too much, which is advantageous for correcting aberrations. By not exceeding the upper limit of the conditional expression (1), it is advantageous for the miniaturization of the device.

条件式(2)の下限以下とならないようにすることにより、最大像高Ymaxに対して光学系ROの全長が短くなり過ぎず、収差の補正に有利となる。条件式(2)の上限以上とならないようにすることにより、装置の小型化に有利となる
なお、条件式(1)及び(2)を満足した上で、下記の条件式(1−1)及び(2−1)の少なくとも一方を満足するものとすれば、より良好な特性とすることができる。
By not making it less than the lower limit of the conditional expression (2), the total length of the optical system RO is not too short with respect to the maximum image height Ymax, which is advantageous for correcting aberrations. It is advantageous for miniaturization of the device by not exceeding the upper limit of the conditional expression (2).
If the conditional expressions (1) and (2) are satisfied and at least one of the following conditional expressions (1-1) and (2-1) is satisfied, the characteristics will be better. Can be done.

0.85<TTL/ZOB<0.95 …(1−1)
7<LL0/Ymax<13 …(2−1)
また、第1レンズの焦点距離をfL1、光学系ROの焦点距離をfL0とした場合、下記の条件式(3)を満足することが好ましい。
0.85 <TTL / ZOB <0.95 ... (1-1)
7 <LL0 / Ymax <13 ... (2-1)
Further, when the focal length of the first lens is fL1 and the focal length of the optical system RO is fL0, it is preferable that the following conditional expression (3) is satisfied.

3<fL1/fL0<50 …(3)
第1レンズL1の有効径を大きくしつつ、光学系ROを小型化させるためには、第1レンズL1に適切な正のパワーが必要である。ただし、第2レンズL2も有効径が大きい方が収差補正に有利であるため、第1レンズL1の正のパワーは大きくし過ぎない必要がある。条件式(3)の下限以下とならないようにすることにより、第1レンズL1の正のパワーが大きくなり過ぎないようにできる。下記の条件式(3)の上限以上とならないようにすることにより、第1レンズL1に適切な正のパワーを確保することができる。
3 <fL1 / fL0 <50 ... (3)
In order to reduce the size of the optical system RO while increasing the effective diameter of the first lens L1, the first lens L1 needs an appropriate positive power. However, it is necessary that the positive power of the first lens L1 is not too large because the larger the effective diameter of the second lens L2 is, the more advantageous it is for aberration correction. By making sure that the value does not fall below the lower limit of the conditional expression (3), the positive power of the first lens L1 can be prevented from becoming too large. An appropriate positive power can be secured for the first lens L1 by not exceeding the upper limit of the following conditional expression (3).

なお、下記の条件式(3−1)を満足するものとすれば、より良好な特性とすることができる。 If the following conditional expression (3-1) is satisfied, better characteristics can be obtained.

4<fL1/fL0<25 …(3−1)
また、光学系ROは、物体側から順に、正のパワーを有する前群GFと、開口絞りStと、正のパワーを有する後群GRと、を有する構成とし、かつ、前群GFは、物体側から順に、第1レンズL1と、負のパワーを有する第2レンズL2と、正のパワーを有する第3レンズL3と、を有する構成とすることが好ましい。このように、第2レンズL2のパワーを負とすることにより、光線が急に収束することを避け、更に、比較的有効径の大きな第1レンズL1、第2レンズL2及び第3レンズL3の3枚のレンズのパワー配置を正負正の構成として、正、負の作用を分散することにより、コマ収差及び像面湾曲の補正に有利となる。
4 <fL1 / fL0 <25 ... (3-1)
Further, the optical system RO has a configuration having a front group GF having a positive power, an aperture stop St, and a rear group GR having a positive power in order from the object side, and the front group GF is an object. It is preferable to have a configuration having a first lens L1, a second lens L2 having a negative power, and a third lens L3 having a positive power in order from the side. In this way, by making the power of the second lens L2 negative, it is possible to prevent the light rays from suddenly converging, and further, the first lens L1, the second lens L2, and the third lens L3 having a relatively large effective diameter. By configuring the power arrangement of the three lenses as positive and negative positive configurations and dispersing the positive and negative actions, it is advantageous for correcting coma aberration and curvature of field.

また、後群GRは、次の構成の接合レンズC1を最も像側に備えることが好ましい 。すなわち、正レンズと負レンズとからなり、全体として正のパワーを有する接合レンズであって、正レンズのアッベ数が50以上であり、かつ、負レンズのアッベ数が40以下である接合レンズである。本実施形態の結像光学系32では、正レンズである第6レンズL6及び負レンズである第7レンズL7により、この接合レンズC1が構成される。このように、開口絞りStより像側で、かつ、軸外主光線の高さが高くなる位置に、上記構成の接合レンズC1を配置することにより、倍率色収差の補正に有利となる。また、前群GFが正レンズと負レンズとを備える場合、開口絞りStより像側の後群GRにも正レンズと負レンズとを備えることにより、像面湾曲及び歪曲収差の補正に有利となる。 Further, it is preferable that the rear group GR is provided with the junction lens C1 having the following configuration on the image side most. That is, a bonded lens composed of a positive lens and a negative lens and having positive power as a whole, in which the Abbe number of the positive lens is 50 or more and the Abbe number of the negative lens is 40 or less. is there. In the imaging optical system 32 of the present embodiment, the junction lens C1 is configured by the sixth lens L6 which is a positive lens and the seventh lens L7 which is a negative lens. As described above, by arranging the junction lens C1 having the above configuration on the image side of the aperture diaphragm St and at a position where the height of the off-axis main light ray is high, it is advantageous for correcting the chromatic aberration of magnification. Further, when the front group GF is provided with a positive lens and a negative lens, the rear group GR on the image side of the aperture stop St is also provided with the positive lens and the negative lens, which is advantageous for correcting curvature of field and distortion. Become.

なお 、接合レンズC1を構成する正レンズ及び負レンズのアッベ数が、上記条件を満足した上で、接合レンズC1を構成する正レンズのアッベ数が55以上、及び、接合レンズC1を構成する負レンズのアッベ数が30以下の少なくとも一方を満足するものとすれば、より良好な特性とすることができる。 The Abbe numbers of the positive and negative lenses constituting the bonded lens C1 satisfy the above conditions, and the Abbe numbers of the positive lenses constituting the bonded lens C1 are 55 or more, and the negative numbers constituting the bonded lens C1. If at least one of the Abbe numbers of the lens is 30 or less is satisfied, better characteristics can be obtained.

また、光学系ROは、第1レンズL1を非球面レンズで構成する一方、第1レンズL1以外のレンズは、球面レンズで構成することが好ましい。このように、光学系ROの最も物体側に位置し、有効径が大きく、かつ、異なる像高に対する光束の重なりが小さい第1レンズL1を非球面形状とすることにより、収差を効果的に補正できる。また、光学系ROの残りのレンズを全て球面レンズとすることにより、結像光学系を構成する光学素子の加工性及び組立性の向上に有利となる。その結果、結像光学系32のコストを抑えつつ、性能向上に有利となる。 Further, in the optical system RO, it is preferable that the first lens L1 is composed of an aspherical lens, while the lenses other than the first lens L1 are composed of a spherical lens. In this way, aberrations are effectively corrected by forming the first lens L1, which is located on the most object side of the optical system RO, has a large effective diameter, and has a small overlap of light fluxes with respect to different image heights, into an aspherical shape. it can. Further, by using all the remaining lenses of the optical system RO as spherical lenses, it is advantageous to improve the workability and the assembling property of the optical elements constituting the imaging optical system. As a result, it is advantageous in improving the performance while suppressing the cost of the imaging optical system 32.

撮像素子33は、結像光学系32の結像面に配置される。上記のように、本実施の形態のカメラ30は、結像光学系の光軸を含まない領域に撮像範囲が設定される。このため、撮像素子33は、結像光学系32のイメージサークル内において、結像光学系32の光軸Zを含まない領域に配置される。すなわち、その受光領域内に結像光学系32の光軸Zが含まれないように配置される。これにより、結像光学系の光軸を含まない領域に撮像範囲が設定される。 The image pickup device 33 is arranged on the imaging surface of the imaging optical system 32. As described above, in the camera 30 of the present embodiment, the imaging range is set in a region that does not include the optical axis of the imaging optical system. Therefore, the image pickup device 33 is arranged in the image circle of the imaging optical system 32 in a region not including the optical axis Z of the imaging optical system 32. That is, it is arranged so that the optical axis Z of the imaging optical system 32 is not included in the light receiving region. As a result, the imaging range is set in a region that does not include the optical axis of the imaging optical system.

なお、結像光学系32の光軸上に撮像素子33を配置し、撮像により得られる画像の一部を切り出して、必要な領域の画像データを取得する構成とすることも可能である。 It is also possible to arrange the image pickup device 33 on the optical axis of the imaging optical system 32, cut out a part of the image obtained by the imaging, and acquire the image data of the necessary region.

撮像素子33には、CCD(Charge Coupled Device)、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の公知のエリアイメージセンサを使用できる。 A known area image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device) or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) can be used as the image sensor 33.

以上の構成のカメラ30によれば、結像光学系32は、画像取得面が合焦面となり、撮像範囲内の被写体(ワークW)をすべて被写界深度内に収めて斜めから撮像できる。また、被写体に正対する画像を斜めから撮像できる。 According to the camera 30 having the above configuration, the image acquisition surface of the imaging optical system 32 is a focal plane, and all the subjects (work W) within the imaging range can be captured within the depth of field and imaged from an oblique angle. In addition, an image facing the subject can be captured at an angle.

なお、本実施の形態の撮像装置10では、ステージ20のワーク載置面20aが画像取得面に設定される。したがって、ワーク載置面20aが合焦面とされる。また、本実施の形態の撮像装置10では、ステージ20のワーク載置面20aが撮像範囲内に設定される。したがって、ワーク載置面20aの上にシート状のワークWを載置して撮像することにより、ワークWの全体を被写界深度内に収めて撮像できる。ワーク載置面20aは、少なくともカメラ30の撮像範囲内に設定されていればよい。本実施の形態では、ワーク載置面20aとほぼ同じ範囲にカメラ30の撮像範囲が設定される。 In the image pickup apparatus 10 of the present embodiment, the work mounting surface 20a of the stage 20 is set as the image acquisition surface. Therefore, the work mounting surface 20a is set as the focusing surface. Further, in the imaging device 10 of the present embodiment, the work mounting surface 20a of the stage 20 is set within the imaging range. Therefore, by placing the sheet-shaped work W on the work mounting surface 20a and taking an image, the entire work W can be captured within the depth of field. The work mounting surface 20a may be set at least within the imaging range of the camera 30. In the present embodiment, the imaging range of the camera 30 is set in substantially the same range as the work mounting surface 20a.

[照明装置]
図6は、照明装置の平面図である。図6に示すように、照明装置40は、光源ユニット42と、その光源ユニット42の移動機構44と、を有する。照明装置40は、照明部の一例である。
[Lighting device]
FIG. 6 is a plan view of the lighting device. As shown in FIG. 6, the lighting device 40 includes a light source unit 42 and a moving mechanism 44 of the light source unit 42. The lighting device 40 is an example of a lighting unit.

光源ユニット42は、ワークWに向けて照明光を照射する。光源ユニット42は、光源部の一例である。光源ユニット42は、ステージ20の上方に設置され、ワークWに対して上方から照明光を照射する。光源ユニット42は、主光線の向きがワーク載置面20aに対して垂直に設定され、ワークWに対して垂直に照明光を照射する。 The light source unit 42 irradiates the work W with illumination light. The light source unit 42 is an example of a light source unit. The light source unit 42 is installed above the stage 20 and irradiates the work W with illumination light from above. In the light source unit 42, the direction of the main light beam is set perpendicular to the work mounting surface 20a, and the illumination light is irradiated perpendicularly to the work W.

光源ユニット42は、ライン状の光源43を有する。本実施の形態では、複数の発光素子43a(たとえば、発光ダイオード(Light Emitting Diode;LED)等)をライン状に配置して、ライン状の光源43が構成される。光源ユニット42は、必要に応じてリフレクタ、レンズ及び拡散板等が使用され、照射角及び配光特性等が調節される。 The light source unit 42 has a line-shaped light source 43. In the present embodiment, a plurality of light emitting elements 43a (for example, a light emitting diode (LED) or the like) are arranged in a line to form a line-shaped light source 43. As the light source unit 42, a reflector, a lens, a diffuser, and the like are used as needed, and the irradiation angle, light distribution characteristics, and the like are adjusted.

光源ユニット42は、ライン状の光源43がワーク載置面20aと平行に配置される。また、光源ユニット42は、ライン状の光源43が、x軸に沿って配置される。x軸はワーク載置面20aと平行な軸である。 In the light source unit 42, the line-shaped light source 43 is arranged parallel to the work mounting surface 20a. Further, in the light source unit 42, a line-shaped light source 43 is arranged along the x-axis. The x-axis is an axis parallel to the work mounting surface 20a.

移動機構44は、光源ユニット42をワーク載置面20aに沿って水平に移動させる。本実施の形態では、図2に示すように、光源ユニット42をy軸に沿って移動させる。y軸は、ワーク載置面20aと平行、かつ、x軸と直交する軸である。 The moving mechanism 44 moves the light source unit 42 horizontally along the work mounting surface 20a. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the light source unit 42 is moved along the y-axis. The y-axis is an axis parallel to the work mounting surface 20a and orthogonal to the x-axis.

移動機構44は、光源ユニット42の移動をガイドするガイド部、及び、光源ユニット42を移動させるスライド駆動部を有する。 The moving mechanism 44 has a guide unit that guides the movement of the light source unit 42, and a slide drive unit that moves the light source unit 42.

ガイド部は、ガイドレール46aを有する。ガイドレール46aは、y軸に沿って配置される。光源ユニット42は、スライダ46bを介して、ガイドレール46aにスライド自在に支持される。 The guide portion has a guide rail 46a. The guide rail 46a is arranged along the y-axis. The light source unit 42 is slidably supported by the guide rail 46a via the slider 46b.

スライド駆動部は、主として、送りネジ48a及びモータ48bで構成される。送りネジ48aは、y軸に沿って配置され、その両端を軸受で回転自在に支持される。モータ48bは、送りネジ48aに連結され、送りネジ48aを回転駆動する。光源ユニット42は、送りネジ48aに備えられたナット48cに接続される。これにより、モータ48bで送りネジ48aを回転させると、光源ユニット42がガイドレール46aに沿ってスライド移動する。すなわち、y軸に沿ってスライド移動する。 The slide drive unit is mainly composed of a feed screw 48a and a motor 48b. The lead screw 48a is arranged along the y-axis, and both ends thereof are rotatably supported by bearings. The motor 48b is connected to the feed screw 48a and rotationally drives the feed screw 48a. The light source unit 42 is connected to a nut 48c provided on the feed screw 48a. As a result, when the feed screw 48a is rotated by the motor 48b, the light source unit 42 slides along the guide rail 46a. That is, it slides along the y-axis.

以上の構成の照明装置40によれば、移動機構44によって光源ユニット42を移動させると、ワークWに対する光源ユニット42の相対的な位置が変化する。これにより、ワークWに対する照明光の当たり方が切り替わる。 According to the lighting device 40 having the above configuration, when the light source unit 42 is moved by the moving mechanism 44, the relative position of the light source unit 42 with respect to the work W changes. As a result, the way the illumination light hits the work W is switched.

[検査装置本体]
図7は、検査装置本体のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
[Inspection device body]
FIG. 7 is a block diagram showing an example of the hardware configuration of the inspection device main body.

同図に示すように、検査装置本体100は、CPU(Central Processing Unit)101、ROM(Read Only Memory)102、RAM(Random Access Memory)103、HDD(Hard Disk Drive)104、操作部(たとえば、キーボード及びマウス等)105、表示部(たとえば、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display;LCD)、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ(Organic Electro-Luminescence Display;OELD)等)106、入出力インターフェース(interface;I/F)107及び通信部108等を備えたコンピューターで構成される。撮像装置10を構成するカメラ30及び照明装置40は、入出力インターフェース107を介して検査装置本体100と接続される。 As shown in the figure, the inspection device main body 100 includes a CPU (Central Processing Unit) 101, a ROM (Read Only Memory) 102, a RAM (Random Access Memory) 103, an HDD (Hard Disk Drive) 104, and an operation unit (for example, Keyboard, mouse, etc.) 105, display unit (for example, liquid crystal display (LCD), organic electro-Luminescence display (OELD), etc.) 106, input / output interface (interface; I / F) 107 It is composed of a computer provided with a communication unit 108 and the like. The camera 30 and the lighting device 40 constituting the image pickup device 10 are connected to the inspection device main body 100 via the input / output interface 107.

図8は、検査装置本体が実現する機能のブロック図である。 FIG. 8 is a block diagram of the functions realized by the inspection device main body.

同図に示すように、検査装置本体100は、カメラ制御部111、照明制御部112、画像入力部113、画像処理部114、照明条件決定部115、検査部116、表示制御部117、記録制御部118及び通信制御部119の機能を実現する。これらの機能は、プロセッサであるCPU101が所定のプログラムを実行することにより実現される。プログラムは、たとえば、ROM103又はHDD104に記憶される。 As shown in the figure, the inspection device main body 100 includes a camera control unit 111, a lighting control unit 112, an image input unit 113, an image processing unit 114, a lighting condition determination unit 115, an inspection unit 116, a display control unit 117, and recording control. The functions of the unit 118 and the communication control unit 119 are realized. These functions are realized by the CPU 101, which is a processor, executing a predetermined program. The program is stored in, for example, the ROM 103 or the HDD 104.

カメラ制御部111は、カメラ30を制御して、カメラ30による撮像を制御する。撮像は、照明光の当て方の変更に連動して行われる。撮像により、カメラ30から画像データが出力される。 The camera control unit 111 controls the camera 30 to control the image pickup by the camera 30. Imaging is performed in conjunction with a change in how the illumination light is applied. Image data is output from the camera 30 by imaging.

照明制御部112は、照明装置40を制御して、照明光の発光を制御する。発光の制御には、照明光の当て方の制御も含まれる。本実施の形態では、光源ユニット42の移動を制御して、照明光の当て方を制御する。すなわち、ワークWに対する光源ユニット42の位置を制御して、照明光の当て方を制御する。 The illumination control unit 112 controls the illumination device 40 to control the emission of illumination light. The control of light emission also includes control of how the illumination light is applied. In the present embodiment, the movement of the light source unit 42 is controlled to control how the illumination light is applied. That is, the position of the light source unit 42 with respect to the work W is controlled to control how the illumination light is applied.

画像入力部113は、カメラ30から出力される画像データを入力する。画像データは、入出力インターフェース107を介して検査装置本体100に入力される。 The image input unit 113 inputs image data output from the camera 30. The image data is input to the inspection device main body 100 via the input / output interface 107.

画像処理部114は、入力された画像データに画像処理を施す。画像処理部114は、照明光の当て方を変えることで生じる画像データの差異を強調する処理を行う。本実施の形態では、この処理として、画像のコントラストを強調する処理を行う。コントラストを強調することにより、欠陥の影を強調でき、欠陥を見つけ易くできる。画像のコントラストを強調する処理については、公知の手法を用いてもよい。したがって、ここでは、その詳細についての説明は省略する。たとえば、フィルタ処理によって、画像のコントラストを強調する方法等が採用される。 The image processing unit 114 performs image processing on the input image data. The image processing unit 114 performs processing for emphasizing the difference in image data caused by changing the method of applying the illumination light. In the present embodiment, as this process, a process of enhancing the contrast of the image is performed. By emphasizing the contrast, the shadow of the defect can be emphasized and the defect can be easily found. A known method may be used for the process of enhancing the contrast of the image. Therefore, the details thereof will be omitted here. For example, a method of enhancing the contrast of an image by filtering is adopted.

照明条件決定部115は、撮影により得られた画像データに基づいて、最適な照明条件を決定する。本実施の形態では、最適な照明位置(光源ユニット42の位置)を決定する。照明条件決定部115は、照明光の当て方を変えて撮像した複数の画像データに基づいて、最適な照明位置を決定する。具体的には、照明光の当て方を変えて撮像した複数の画像データから欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる光源ユニット42の位置を特定する。 The illumination condition determination unit 115 determines the optimum illumination condition based on the image data obtained by shooting. In the present embodiment, the optimum illumination position (position of the light source unit 42) is determined. The illumination condition determination unit 115 determines the optimum illumination position based on a plurality of image data captured by changing the method of irradiating the illumination light. Specifically, the position of the light source unit 42 in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly is specified from a plurality of image data captured by changing the method of applying the illumination light.

図9は、照明光の当て方を変えて撮像して得られる画像の一例を示す図である。同図(A)〜(D)は、それぞれ異なる照明位置で得られるワークWの撮像画像WI1〜WI4を示している。また、同図において、符号SI1〜SI3は、ワーク表面の欠陥(微小な凹凸)を示している。より正確には、照明によって現れる欠陥の影を示している。同図に示すように、照明位置が変わることにより、欠陥の影の出方(コントラスト)が変化する。 FIG. 9 is a diagram showing an example of an image obtained by taking an image by changing the method of applying illumination light. FIGS. (A) to (D) show captured images WI1 to WI4 of the work W obtained at different illumination positions. Further, in the figure, reference numerals SI1 to SI3 indicate defects (fine irregularities) on the work surface. More precisely, it shows the shadow of defects that appear due to lighting. As shown in the figure, the appearance (contrast) of the shadow of the defect changes as the illumination position changes.

照明条件決定部115は、欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる画像データを特定し、その画像データを撮像した際の光源ユニット42の位置を最適な照明位置として決定する。照明条件決定部115は、画像処理部114による画像処理後の画像データに基づいて、最適な照明条件を決定する。これにより、最適な照明条件を特定し易くできる。 The illumination condition determination unit 115 identifies the image data in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly, and determines the position of the light source unit 42 when the image data is imaged as the optimum illumination position. The illumination condition determination unit 115 determines the optimum illumination condition based on the image data after the image processing by the image processing unit 114. This makes it easier to identify the optimum lighting conditions.

検査部116は、画像処理後の画像データを用いて、欠陥の有無を検査する。本実施の形態では、微小な溝、キズ、気泡、膜のムラなどの微小な凹凸等の有無を検査する。これらの微小な凹凸等(欠陥)の検出には、公知の手法をはじめ、いかなるアルゴリズムを用いてもよい。したがって、ここでは、その詳細についての説明は省略する。一例として、機械学習、深層学習等により生成した画像認識モデルを用いて、微小な凹凸等を認識(検出)する手法等を採用できる。検査部116は、欠陥の位置及びサイズを特定して、欠陥を検出する。 The inspection unit 116 inspects the presence or absence of defects using the image data after image processing. In the present embodiment, the presence or absence of minute irregularities such as minute grooves, scratches, air bubbles, and uneven film is inspected. Any algorithm, including a known method, may be used to detect these minute irregularities (defects). Therefore, the details thereof will be omitted here. As an example, a method of recognizing (detecting) minute irregularities or the like can be adopted by using an image recognition model generated by machine learning, deep learning, or the like. The inspection unit 116 identifies the position and size of the defect and detects the defect.

表示制御部117は、検査結果の表示を制御する。検査結果は、あらかじめ定められた形式で表示部106に表示される。 The display control unit 117 controls the display of the inspection result. The inspection result is displayed on the display unit 106 in a predetermined format.

記録制御部118は、検査結果の記録を制御する。検査結果は、あらかじめ定められた形式でHDD104に記録される。 The recording control unit 118 controls the recording of the inspection result. The inspection result is recorded in the HDD 104 in a predetermined format.

通信制御部119は、外部機器への検査結果の送信を制御する。検査結果は、通信部108を介して、外部機器に送信される。通信の形態は、特に限定されない。 The communication control unit 119 controls the transmission of the inspection result to the external device. The inspection result is transmitted to an external device via the communication unit 108. The form of communication is not particularly limited.

[表面検査装置の作用]
[最適な照明位置の決定]
まず、最適な照明位置が決定される。
[Action of surface inspection device]
[Determining the optimum lighting position]
First, the optimum lighting position is determined.

図10は、最適な照明位置を決定する処理の手順を示すフローチャートである。 FIG. 10 is a flowchart showing the procedure of the process of determining the optimum illumination position.

まず、照明位置決定用のワークをステージ20にセットする(ステップS11)。このワークは、表面に既知の欠陥(微小な凹凸)を有するワークである。ワークは、ワーク載置面20aに載置することで、ステージ20にセットされる。ワークをワーク載置面20aに載置することにより、カメラ30の撮像範囲内にワークがセットされる。 First, the work for determining the lighting position is set on the stage 20 (step S11). This work is a work having known defects (fine irregularities) on the surface. The work is set on the stage 20 by placing it on the work mounting surface 20a. By placing the work on the work mounting surface 20a, the work is set within the imaging range of the camera 30.

ワークのセットが完了すると、次に、光源ユニット42がオンされ、照明光が点灯される(ステップS12)。なお、前提として、この時点で光源ユニット42は、あらかじめ定められた始点位置に位置しているものとする。 When the work setting is completed, the light source unit 42 is then turned on and the illumination light is turned on (step S12). As a premise, it is assumed that the light source unit 42 is located at a predetermined start point position at this point.

次に、カメラ30が駆動され、撮像が行われる(ステップS13)。撮像により得られた画像データは、検査装置本体100に出力される。画像データは、検査装置本体100に取り込まれて、RAM102に格納される。 Next, the camera 30 is driven and imaging is performed (step S13). The image data obtained by imaging is output to the inspection device main body 100. The image data is taken into the inspection device main body 100 and stored in the RAM 102.

次に、光源ユニット42の移動機構44が駆動され、光源ユニット42が、1ステップ分移動する(ステップS14)。この移動力(1ステップ分の移動距離)は、あらかじめ定められた距離である。 Next, the moving mechanism 44 of the light source unit 42 is driven, and the light source unit 42 moves by one step (step S14). This moving force (moving distance for one step) is a predetermined distance.

次に、光源ユニット42が終端位置に到達したか否かが判定される(ステップS15)。終端位置は、光源ユニット42の可動範囲内で設定される。 Next, it is determined whether or not the light source unit 42 has reached the terminal position (step S15). The end position is set within the movable range of the light source unit 42.

光源ユニット42が、終端位置に到達していないと判定されると、ステップS13に戻り、再度、撮像が行われる。撮像は、光源ユニット42が終端位置に到達するまで繰り返し行われる。このように、光源ユニット42を移動させながら、複数回撮像が行われる。これにより、照明の当たり方が変わりながら、ワークWが複数回撮像される。 If it is determined that the light source unit 42 has not reached the terminal position, the process returns to step S13, and imaging is performed again. The imaging is repeated until the light source unit 42 reaches the terminal position. In this way, while moving the light source unit 42, imaging is performed a plurality of times. As a result, the work W is imaged a plurality of times while the lighting is changed.

光源ユニット42が、終端位置に到達したと判定されると、光源ユニット42がオフされ、照明光が消灯される(ステップS16)。 When it is determined that the light source unit 42 has reached the terminal position, the light source unit 42 is turned off and the illumination light is turned off (step S16).

以上一連の工程でワークWの撮像が終了する。次いで、撮像により得られた画像データを用いて、光源ユニット42を最適な位置に設定する処理が行われる。 Imaging of the work W is completed in the above series of steps. Next, a process of setting the light source unit 42 at an optimum position is performed using the image data obtained by imaging.

まず、撮像により得られた複数の画像データに対し、画像処理が施される(ステップS17)。画像処理は、照明光の当て方を変えることで生じる画像データの差異を強調する処理が行われる。具体的には、コントラストを強調する処理が行われる。 First, image processing is performed on a plurality of image data obtained by imaging (step S17). The image processing is a process of emphasizing the difference in the image data caused by changing the method of applying the illumination light. Specifically, a process of enhancing the contrast is performed.

次に、画像処理された複数の画像データに基づいて、最適な照明位置が決定される(ステップS18)。具体的には、欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる画像データを特定し、その画像データを撮像した際の光源ユニット42の位置を最適な照明位置として決定する。 Next, the optimum illumination position is determined based on the plurality of image-processed image data (step S18). Specifically, the image data in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly is specified, and the position of the light source unit 42 when the image data is imaged is determined as the optimum illumination position.

次に、光源ユニット42の移動機構44が駆動され、決定した最適な照明位置に光源ユニット42が移動する。 Next, the moving mechanism 44 of the light source unit 42 is driven, and the light source unit 42 moves to the determined optimum lighting position.

以上一連の工程で最適な照明条件に設定される。すなわち、欠陥を検出するのに最適な位置(欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる位置)に光源ユニット42が設定される。この後、実際の検査が行われる。 Optimal lighting conditions are set in the above series of steps. That is, the light source unit 42 is set at the optimum position for detecting the defect (the position where the contrast of the shadow of the defect appears most clearly). After this, the actual inspection is performed.

実際の検査は、次の手順で行われる。まず、検査対象のワークWをステージ20にセットする。次いで、光源ユニット42をオンして、ワークWに照明光を照射する。次に、カメラ30でワークWを撮像する。撮像により得られた画像データを用いて、欠陥の有無を検査する。なお、光源ユニット42は、常にオンした状態であってもよい。 The actual inspection is performed according to the following procedure. First, the work W to be inspected is set on the stage 20. Next, the light source unit 42 is turned on to irradiate the work W with illumination light. Next, the work W is imaged by the camera 30. The image data obtained by imaging is used to inspect for defects. The light source unit 42 may be always on.

本実施の形態の表面検査装置1によれば、ワークWを斜めから撮像するので、微小な凹凸等の欠陥を良好に検出できる。また、照明光の当て方を変えられる(可変である)ことにより、最適な照明環境下で検査用の画像を撮像できる。また、本実施の形態の表面検査装置1によれば、撮像装置10において、ワークWの全体を被写界深度内に収めて1回で撮像できるので、効率よく検査できる。更に、本実施の形態の表面検査装置1によれば、撮像装置10において、ワークWに正対した画像を撮像できるので、画像の歪みを解消する処理等を行うことなく検査できる。 According to the surface inspection device 1 of the present embodiment, since the work W is imaged from an oblique angle, defects such as minute irregularities can be detected satisfactorily. In addition, by changing (variable) the way the illumination light is applied, it is possible to capture an image for inspection under the optimum illumination environment. Further, according to the surface inspection device 1 of the present embodiment, in the image pickup device 10, the entire work W can be captured within the depth of field and can be imaged at one time, so that the inspection can be performed efficiently. Further, according to the surface inspection device 1 of the present embodiment, since the image pickup device 10 can capture an image facing the work W, the inspection can be performed without performing a process of eliminating the distortion of the image.

[変形例]
本実施の形態では、光源ユニット42を直線状に移動させているが、円弧状に移動させてもよい。これにより、主光線の向きも変えることができる。
[Modification example]
In the present embodiment, the light source unit 42 is moved linearly, but it may be moved in an arc shape. As a result, the direction of the main ray can also be changed.

また、照明光の光源部(光源ユニット42)の位置を変える場合、連続的に変える構成とすることもできるし、断続的に変える構成とすることもできる。被写体に照射する照明光の主光線の向きを変える場合も同様であり、連続的に変える構成とすることもできるし、断続的に変える構成とすることもできる。 Further, when the position of the light source unit (light source unit 42) of the illumination light is changed, the configuration may be changed continuously or intermittently. The same applies to the case where the direction of the main light beam of the illumination light irradiating the subject is changed, and the configuration can be changed continuously or intermittently.

光源ユニット42は、発光する照明光の強度を変えられるように構成してもよい。 The light source unit 42 may be configured so that the intensity of the emitted illumination light can be changed.

また、上記実施の形態では、事前に照明位置を最適化して、ワークを検査する構成としているが、照明位置を変えながら連続的にワークを撮像し、得られた画像データを利用して、ワークを検査する構成とすることもできる。 Further, in the above embodiment, the illumination position is optimized in advance to inspect the work, but the work is continuously imaged while changing the illumination position, and the obtained image data is used to inspect the work. It can also be configured to inspect.

[第2の実施の形態]
上記実施の形態の表面検査装置では、光源部(光源ユニット42)を移動させることにより、ワークに対する光源部の相対的な位置を変えて、照明光の当て方を変えている。
[Second Embodiment]
In the surface inspection apparatus of the above embodiment, by moving the light source unit (light source unit 42), the relative position of the light source unit with respect to the work is changed, and the method of irradiating the illumination light is changed.

本実施の形態の表面検査装置では、光源部を複数配置し、点灯させる光源部を変えることにより、照明光の当て方を変える。 In the surface inspection apparatus of the present embodiment, a plurality of light source units are arranged and the light source unit to be turned on is changed to change the method of irradiating the illumination light.

なお、照明装置以外の構成は、上記実施の形態の表面検査装置と同じなので、ここでは、照明装置の構成についてのみ説明する。 Since the configuration other than the lighting device is the same as the surface inspection device of the above embodiment, only the configuration of the lighting device will be described here.

図11は、本実施の形態の照明装置の側面図である。図12は、照明装置の平面図である。 FIG. 11 is a side view of the lighting device of the present embodiment. FIG. 12 is a plan view of the lighting device.

照明装置40は、複数の光源ユニット42a〜42jを有する。各光源ユニット42a〜42jの構成は、上記第1の実施の形態の照明装置40の光源ユニット42と同じである。すなわち、複数の発光素子43aをライン状に配置したライン状の光源43を有する。 The lighting device 40 has a plurality of light source units 42a to 42j. The configurations of the light source units 42a to 42j are the same as those of the light source unit 42 of the lighting device 40 according to the first embodiment. That is, it has a line-shaped light source 43 in which a plurality of light emitting elements 43a are arranged in a line shape.

光源ユニット42a〜42jは、ステージ20の上方に配置され、かつ、y軸に沿って一定の間隔で配置される。各光源ユニット42a〜42jは、主光線の向きがワーク載置面20aに対して垂直に設定される。したがって、ワークWに対して垂直に照明光を照射する。 The light source units 42a to 42j are arranged above the stage 20 and are arranged at regular intervals along the y-axis. In each of the light source units 42a to 42j, the direction of the main light beam is set perpendicular to the work mounting surface 20a. Therefore, the illumination light is irradiated perpendicularly to the work W.

各光源ユニット42a〜42jは、その光源43の発光が個別に制御される。発光の制御は、表面検査装置本体で行われる。すなわち、照明制御部112によって、その光源43の発光が個別に制御される。 Each of the light source units 42a to 42j is individually controlled to emit light from the light source 43. The light emission is controlled by the surface inspection device main body. That is, the illumination control unit 112 individually controls the light emission of the light source 43.

以上の構成の照明装置40によれば、点灯させる光源ユニット42a〜42jを変えることにより、ステージ20に載置されたワークWに対して、照明光の当て方を変えることができる。 According to the lighting device 40 having the above configuration, by changing the light source units 42a to 42j to be turned on, it is possible to change the method of applying the lighting light to the work W mounted on the stage 20.

最適な照明条件を決定する場合は、次の手順で行われる。まず、順番に光源ユニット42a〜42jを点灯させて照明位置決定用のワークを撮像する。得られた画像データの中から欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる画像データを特定する。その画像データを撮像した際に点灯した光源ユニット42a〜42jの位置を最適な照明位置として決定する。 The following procedure is used to determine the optimum lighting conditions. First, the light source units 42a to 42j are turned on in order to image the work for determining the illumination position. From the obtained image data, the image data in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly is specified. The positions of the light source units 42a to 42j that are lit when the image data is imaged are determined as the optimum illumination positions.

なお、複数の光源ユニット42a〜42jは、組み合わせて点灯させてもよい。すなわち、光源ユニット42a〜42jは、必ずしも1つだけを点灯させるのではなく、一度に複数の光源ユニット42a〜42jを点灯さて使用する構成としてもよい。欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる条件を特定して、点灯させることが好ましい。 The plurality of light source units 42a to 42j may be turned on in combination. That is, the light source units 42a to 42j do not necessarily light only one, but may be configured to light and use a plurality of light source units 42a to 42j at a time. It is preferable to identify the condition in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly and turn it on.

また、本実施の形態においても、撮像により得られた画像データに対し、適宜画像処理を行って、最適な照明条件を決定することが好ましい。 Further, also in the present embodiment, it is preferable to appropriately perform image processing on the image data obtained by imaging to determine the optimum lighting conditions.

[変形例]
図13は、本実施の形態の照明装置の変形例を示す側面図である。
[Modification example]
FIG. 13 is a side view showing a modified example of the lighting device of the present embodiment.

同図に示すように、本例の照明装置40は、複数の光源ユニット42a〜42jが円弧状に配置される。このように、複数の光源ユニット42a〜42jを円弧状に配置することにより、照明光の光源部の位置を変えると同時に、照明光の主光線の向きを変えて、照明光を照射できる。 As shown in the figure, in the lighting device 40 of this example, a plurality of light source units 42a to 42j are arranged in an arc shape. By arranging the plurality of light source units 42a to 42j in an arc shape in this way, it is possible to irradiate the illumination light by changing the position of the light source portion of the illumination light and at the same time changing the direction of the main ray of the illumination light.

[第3の実施の形態]
本実施の形態の表面検査装置も照明装置の構成が、上記第1の実施の形態の表面検査装置と相違する。本実施の形態の照明装置は、点状又は面状の光源部をマトリクス状に配置し、点灯させる光源部を変えることにより、ワークに対する光源部の相対的な位置を変えて、照明光の当て方を変える。
[Third Embodiment]
The configuration of the lighting device of the surface inspection device of the present embodiment is different from that of the surface inspection device of the first embodiment. In the lighting device of the present embodiment, the point-shaped or planar light source parts are arranged in a matrix, and the position of the light source part relative to the work is changed by changing the light source part to be lit, and the illumination light is applied. Change the direction.

なお、照明装置以外の構成は、上記実施の形態の表面検査装置と同じなので、ここでは、照明装置の構成についてのみ説明する。 Since the configuration other than the lighting device is the same as the surface inspection device of the above embodiment, only the configuration of the lighting device will be described here.

図14は、本実施の形態の照明装置の平面図である。 FIG. 14 is a plan view of the lighting device of the present embodiment.

照明装置40は、複数の光源ユニット42[ij](i=1、2、…、j=1、2、…)を有する。各光源ユニット42[ij]は、点状の光源を有する。本実施の形態では、複数の発光素子43aが集合的に配置されて、点状の光源43が構成される。 The lighting device 40 has a plurality of light source units 42 [ij] (i = 1, 2, ..., J = 1, 2, ...). Each light source unit 42 [ij] has a point-shaped light source. In the present embodiment, a plurality of light emitting elements 43a are collectively arranged to form a point-shaped light source 43.

複数の光源ユニット42[ij]は、ワーク載置面20aと平行な面(xy平面)に沿って、マトリクス状に配置される。各光源ユニット42[ij]は、それぞれ主光線の向きがワーク載置面20aに対して垂直に設定される。したがって、各光源ユニット42[ij]は、ワークWに対して垂直に照明光を照射する。 The plurality of light source units 42 [ij] are arranged in a matrix along a plane (xy plane) parallel to the work mounting surface 20a. In each light source unit 42 [ij], the direction of the main light beam is set perpendicular to the work mounting surface 20a. Therefore, each light source unit 42 [ij] irradiates the illumination light perpendicularly to the work W.

各光源ユニット42[ij]は、その光源43の発光が個別に制御される。発光の制御は、表面検査装置本体で行われる。すなわち、照明制御部112によって、その光源43の発光が個別に制御される。 Each light source unit 42 [ij] is individually controlled to emit light from the light source 43. The light emission is controlled by the surface inspection device main body. That is, the illumination control unit 112 individually controls the light emission of the light source 43.

最適な照明条件を決定する場合は、次の手順で行われる。まず、順番に光源ユニット42[ij]を点灯させて照明位置決定用のワークを撮像する。得られた画像データの中から欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる画像データを特定する。その画像データを撮像した際に点灯した光源ユニット42[ij]の位置を最適な照明位置として決定する。 The following procedure is used to determine the optimum lighting conditions. First, the light source unit 42 [ij] is turned on in order to image the work for determining the illumination position. From the obtained image data, the image data in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly is specified. The position of the light source unit 42 [ij] that is lit when the image data is imaged is determined as the optimum illumination position.

なお、複数の光源ユニット42[ij]は、組み合わせて点灯させてもよい。たとえば、列単位又は行単位で光源ユニット42aを点灯させて使用してもよい。 The plurality of light source units 42 [ij] may be turned on in combination. For example, the light source unit 42a may be turned on and used in units of columns or rows.

[変形例]
本実施の形態の照明装置についても、複数の光源ユニットを円弧状に配置した構成を採用できる。特に、本実施の形態の照明装置については、ドーム状に配置した構成を採用できる。すなわち、半球状の面に複数の光源ユニットをマトリクス状に配置した構成を採用できる。
[Modification example]
Also for the lighting device of the present embodiment, a configuration in which a plurality of light source units are arranged in an arc shape can be adopted. In particular, for the lighting device of the present embodiment, a configuration arranged in a dome shape can be adopted. That is, it is possible to adopt a configuration in which a plurality of light source units are arranged in a matrix on a hemispherical surface.

[第4の実施の形態]
本実施の形態の表面検査装置も照明装置の構成が、上記第1の実施の形態の表面検査装置と相違する。本実施の形態の照明装置は、光源部の主光線の向きを変えて、ワークに対する照明光の当て方を変える。
[Fourth Embodiment]
The configuration of the lighting device of the surface inspection device of the present embodiment is different from that of the surface inspection device of the first embodiment. The lighting device of the present embodiment changes the direction of the main light beam of the light source unit to change the method of applying the illumination light to the work.

なお、照明装置以外の構成は、上記実施の形態の表面検査装置と同じなので、ここでは、照明装置の構成についてのみ説明する。 Since the configuration other than the lighting device is the same as the surface inspection device of the above embodiment, only the configuration of the lighting device will be described here.

図15は、本実施の形態の照明装置の側面図である。図16は、本実施の形態の照明装置の平面図である。 FIG. 15 is a side view of the lighting device of the present embodiment. FIG. 16 is a plan view of the lighting device of the present embodiment.

本実施の形態の照明装置40は、光源ユニット42が、首振り可能に設けられ、光源ユニット42の向きを変えることにより、主光線の向きを変えて、照明光の当て方を変える。 In the lighting device 40 of the present embodiment, the light source unit 42 is provided so as to be swingable, and by changing the direction of the light source unit 42, the direction of the main light beam is changed and the method of irradiating the illumination light is changed.

本実施の形態の照明装置40は、光源ユニット42と、その光源ユニット42の首振り機構50と、を有する。 The lighting device 40 of the present embodiment includes a light source unit 42 and a swing mechanism 50 of the light source unit 42.

光源ユニット42の構成は、上記第1の実施の形態の照明装置40の光源ユニット42と同じである。すなわち、複数の発光素子43aをライン状に配置したライン状の光源43を有する。 The configuration of the light source unit 42 is the same as that of the light source unit 42 of the lighting device 40 of the first embodiment. That is, it has a line-shaped light source 43 in which a plurality of light emitting elements 43a are arranged in a line shape.

首振り機構50は、光源ユニット42を揺動自在(首振り自在)に支持する支持部と、光源ユニット42を揺動させる揺動駆動部と、を有する。支持部は、光源ユニット42の両端に備えられた軸52と、その軸52を支持する軸受54と、で構成される。揺動駆動部は、軸52を回転駆動するモータ56で構成される。モータ56は、正逆回転可能に構成される。モータ56で軸52を回転させると、その回転量に応じて光源ユニット42が傾斜する。これにより、光源ユニット42から照射される照明光の向き(主光線の向き)が切り替わる。 The swing mechanism 50 includes a support portion that swings the light source unit 42 (swing freely) and a swing drive unit that swings the light source unit 42. The support portion includes shafts 52 provided at both ends of the light source unit 42, and bearings 54 that support the shaft 52. The swing drive unit is composed of a motor 56 that rotationally drives the shaft 52. The motor 56 is configured to be rotatable in the forward and reverse directions. When the shaft 52 is rotated by the motor 56, the light source unit 42 is tilted according to the amount of rotation. As a result, the direction of the illumination light (direction of the main light beam) emitted from the light source unit 42 is switched.

以上の構成の照明装置40によれば、光源ユニット42の角度を変えることにより、光源ユニット42から照射される照明光の向き(主光線の向き)が変わり、ワークに対する照明光の当たり方が変わる。 According to the illumination device 40 having the above configuration, by changing the angle of the light source unit 42, the direction of the illumination light emitted from the light source unit 42 (the direction of the main light beam) changes, and the way the illumination light hits the work changes. ..

最適な照明条件を決定する場合は、次の手順で行われる。まず、光源ユニット42の角度を変えながら、角度決定用のワークを撮像する。角度決定用のワークは、照明位置決定用のワークと同じである。得られた画像データの中から欠陥の影のコントラストが最もはっきりと現れる画像データを特定する。その画像データを撮像した際の角度を最適な照明角度(光源ユニット42の角度)として決定する。 The following procedure is used to determine the optimum lighting conditions. First, the work for determining the angle is imaged while changing the angle of the light source unit 42. The work for determining the angle is the same as the work for determining the illumination position. From the obtained image data, the image data in which the contrast of the shadow of the defect appears most clearly is specified. The angle at which the image data is captured is determined as the optimum illumination angle (angle of the light source unit 42).

[変形例]
本実施の形態では、一定位置からワークに照明光を照射する構成としているが、照射位置を変えられるようにしてもよい。すなわち、上記第1の実施の形態の照明装置のように、光源ユニットの位置を変えられるようにしてもよい。この場合、光源ユニットを直線状に移動させる構成としてもよいし、円弧上に移動させる構成としてもよい。
[Modification example]
In the present embodiment, the work is irradiated with the illumination light from a fixed position, but the irradiation position may be changed. That is, the position of the light source unit may be changed as in the lighting device of the first embodiment. In this case, the light source unit may be moved linearly or may be moved on an arc.

[第5の実施の形態]
本実施の形態の表面検査装置も照明装置の構成が、上記第1の実施の形態の表面検査装置と相違する。照明装置以外の構成は、上記実施の形態の表面検査装置と同じなので、ここでは、照明装置の構成についてのみ説明する。
[Fifth Embodiment]
The configuration of the lighting device of the surface inspection device of the present embodiment is different from that of the surface inspection device of the first embodiment. Since the configuration other than the lighting device is the same as the surface inspection device of the above embodiment, only the configuration of the lighting device will be described here.

図17は、本実施の形態の照明装置の側面図である。 FIG. 17 is a side view of the lighting device of the present embodiment.

本実施の形態の照明装置は、上記第2の実施の形態の照明装置(図12及び図13参照)において、個々の光源ユニット42a〜42jの向きを変更可能としたものである。個々の光源ユニット42a〜42jは、支持部及び揺動駆動部を首振り可能(揺動可能)に支持される。 The lighting device of the present embodiment is capable of changing the orientation of the individual light source units 42a to 42j in the lighting device of the second embodiment (see FIGS. 12 and 13). The individual light source units 42a to 42j are supported so that the support portion and the swing drive portion can swing (swing).

本実施の形態の照明装置40によれば、点灯させる光源ユニット42a〜42jを変えることにより、ワークに対する照明光の光源の位置を変えることができる。また、点灯させた光源ユニット42a〜42jの向き(角度)を変えることにより、ワークに照射する照明光の主光線の向きを変えることができる。 According to the lighting device 40 of the present embodiment, the position of the light source of the illumination light with respect to the work can be changed by changing the light source units 42a to 42j to be turned on. Further, by changing the directions (angles) of the lit light source units 42a to 42j, the direction of the main light beam of the illumination light irradiating the work can be changed.

このように、本実施の形態の照明装置では、照明光の光源部の位置と主光線の向きの両方を調整できる。これにより、より細やかな照明の設定が可能になる。 As described above, in the illuminating device of the present embodiment, both the position of the light source portion of the illuminating light and the direction of the main ray can be adjusted. This makes it possible to set more detailed lighting.

[変形例]
点状又は面状の光源ユニットをマトリクス状に配置する場合についても、個々の光源ユニットの角度を変えられるようにしてもよい。すなわち、ここの光源ユニットを首振り可能に構成してもよい。この場合、一方向だけでなく多方向に首振り可能とすることが好ましい。
[Modification example]
Even when the point-shaped or planar light source units are arranged in a matrix, the angles of the individual light source units may be changed. That is, the light source unit here may be configured to be swingable. In this case, it is preferable to be able to swing in multiple directions as well as in one direction.

[第6の実施の形態]
図18は、本実施の形態の表面検査装置の概略構成を示す図である。
[Sixth Embodiment]
FIG. 18 is a diagram showing a schematic configuration of the surface inspection apparatus of the present embodiment.

本実施の形態の表面検査装置1は、ステージ20の回転機構を備え、ステージ20が回転する。ステージ以外の構成は、上記第1の実施の形態の表面検査装置1と同じである。したがって、以下においては、ステージ20の構成、及び、ステージ20が回転することの作用効果についてのみ説明する。 The surface inspection device 1 of the present embodiment includes a rotation mechanism of the stage 20, and the stage 20 rotates. The configuration other than the stage is the same as that of the surface inspection device 1 of the first embodiment. Therefore, in the following, only the configuration of the stage 20 and the action and effect of the rotation of the stage 20 will be described.

図18に示すように、ステージ20は、中央に回転軸22を有し、その回転軸22が軸受24を介して、ステージ20の設置部に回転自在に支持される。回転軸22には、モータ26が連結される。このモータ26を駆動することにより、ステージ20が回転する。 As shown in FIG. 18, the stage 20 has a rotating shaft 22 in the center, and the rotating shaft 22 is rotatably supported by an installation portion of the stage 20 via a bearing 24. A motor 26 is connected to the rotating shaft 22. By driving the motor 26, the stage 20 rotates.

本実施の形態の表面検査装置1によれば、複数の方向からワークWを撮像して、ワークWを検査できる。具体的には、まず、第1の方向からワークWを撮像して、1回目の検査を実施する。その後、ステージ20を180°回転させて、第2の方向からワークを撮像し、2回目の検査を実施する。このように、本実施の形態の表面検査装置1によれば、ワークWをステージ20に載せたまま、異なる方向からワークWを複数回撮像して、複数回検査できる。これにより、より正確な検査ができる。 According to the surface inspection device 1 of the present embodiment, the work W can be inspected by imaging the work W from a plurality of directions. Specifically, first, the work W is imaged from the first direction, and the first inspection is performed. After that, the stage 20 is rotated by 180 °, the work is imaged from the second direction, and the second inspection is performed. As described above, according to the surface inspection apparatus 1 of the present embodiment, the work W can be imaged a plurality of times from different directions while the work W is placed on the stage 20, and the work W can be inspected a plurality of times. This enables a more accurate inspection.

[第7の実施の形態]
図19は、本実施の形態の表面検査装置の概略構成を示す図である。
[7th Embodiment]
FIG. 19 is a diagram showing a schematic configuration of the surface inspection apparatus of the present embodiment.

本実施の形態の表面検査装置1は、ワークWを撮像するカメラ30a、30bを複数台有する。カメラ30a、30bを複数台有する点以外は、上記第1の実施の形態の表面検査装置1と同じである。したがって、以下においては、カメラの配置及びカメラを複数台有することによる作用効果についてのみ説明する。 The surface inspection device 1 of the present embodiment has a plurality of cameras 30a and 30b that image the work W. It is the same as the surface inspection device 1 of the first embodiment, except that it has a plurality of cameras 30a and 30b. Therefore, in the following, only the arrangement of the cameras and the effects of having a plurality of cameras will be described.

図20は、カメラの配置を示す斜視図である。 FIG. 20 is a perspective view showing the arrangement of cameras.

本実施の形態の表面検査装置1は、2台のカメラ30a、30b(第1のカメラ30a及び第2のカメラ30b)を有する。各カメラ30a、30bの構成は、上記第1の実施の形態のカメラ30と同じである。 The surface inspection device 1 of the present embodiment has two cameras 30a and 30b (first camera 30a and second camera 30b). The configurations of the cameras 30a and 30b are the same as those of the camera 30 of the first embodiment.

2台のカメラ30a、30bは、矩形状を有するステージ20の対向する辺に配置される。具体的には、図20に示すように、第1のカメラ30aは、ステージ20の図中右側の辺の中央に配置され、第2のカメラ30bは、図中左側の辺の中央に配置される。第1のカメラ30aは、図19に示すように、右斜め上方向からワークWを撮像する。第2のカメラ30bは、図19に示すように、左斜め上方向からワークWを撮像する。第1のカメラ30a及び第2のカメラ30bは、共に同じ範囲(実質的に同じと認められる範囲を含む)を撮像する。すなわち、第1のカメラ30a及び第2のカメラ30bは、撮像範囲が重複して設定される。本実施の形態では、ワーク載置面20aが撮像範囲として設定される。 The two cameras 30a and 30b are arranged on opposite sides of the stage 20 having a rectangular shape. Specifically, as shown in FIG. 20, the first camera 30a is arranged at the center of the right side of the stage 20 in the figure, and the second camera 30b is arranged at the center of the left side of the figure. To. As shown in FIG. 19, the first camera 30a images the work W from diagonally upward to the right. As shown in FIG. 19, the second camera 30b images the work W from diagonally upward to the left. Both the first camera 30a and the second camera 30b image the same range (including a range that is considered to be substantially the same). That is, the first camera 30a and the second camera 30b are set so that the imaging ranges overlap. In the present embodiment, the work mounting surface 20a is set as the imaging range.

以上のように構成される本実施の形態の表面検査装置1によれば、1度に複数の方向からワークWを撮像できる。これにより、効率よくワークWを検査できる。 According to the surface inspection device 1 of the present embodiment configured as described above, the work W can be imaged from a plurality of directions at one time. As a result, the work W can be inspected efficiently.

図21は、本実施の形態の表面検査装置の変形例を示す図である。 FIG. 21 is a diagram showing a modified example of the surface inspection device of the present embodiment.

本例は、4台のカメラ30a〜30dを使用する例である。各カメラ30a〜30dは、矩形状のステージ20の各辺に配置される。これにより、1度に4方向からワークを撮像できる。更に複数台のカメラを使用することもできる。 This example is an example in which four cameras 30a to 30d are used. The cameras 30a to 30d are arranged on each side of the rectangular stage 20. As a result, the work can be imaged from four directions at a time. Furthermore, multiple cameras can be used.

[第8の実施の形態]
上記実施の形態では、照明装置側において、光源部の向き(主光線の向き)、及び/又は、光源部の位置を変えることで、照明光の当て方を変える構成としている。
[Eighth Embodiment]
In the above embodiment, the lighting device side has a configuration in which the lighting method is changed by changing the direction of the light source unit (direction of the main light ray) and / or the position of the light source unit.

本実施の形態では、照明装置側は一定位置から照明光を照射する構成とし、ステージ及びカメラを連動して動かして、照明光の当て方を変える。 In the present embodiment, the lighting device side is configured to irradiate the illumination light from a fixed position, and the stage and the camera are moved in conjunction with each other to change the method of irradiating the illumination light.

図22は、本実施の形態の撮像装置の構成を示す概略図である。 FIG. 22 is a schematic view showing the configuration of the image pickup apparatus of this embodiment.

同図に示すように、ステージ20及びカメラ30は、同じベースフレーム60の上に設置される。ベースフレーム60は、矩形の平板形状を有し、y軸方向の一端にx軸と平行な軸62を有する。ベースフレーム60は、その軸62を介して軸受64に揺動自在に支持される。ベースフレーム60は、y軸方向の他端が、シリンダ66で支持される。ベースフレーム60は、シリンダ66のシャフトを伸縮させることにより、軸62を中心に揺動する。これにより、ステージ20及びカメラ30が連動して傾斜する。すなわち、ステージ20及びカメラ30が一体となって傾斜する。シリンダ66は、駆動部の一例である。なお、本実施の形態のステージ20には、ワークWを吸着保持する機構(真空吸着機構、静電吸着機構等)が備えられる。 As shown in the figure, the stage 20 and the camera 30 are installed on the same base frame 60. The base frame 60 has a rectangular flat plate shape, and has an axis 62 parallel to the x-axis at one end in the y-axis direction. The base frame 60 is swingably supported by the bearing 64 via its shaft 62. The other end of the base frame 60 in the y-axis direction is supported by the cylinder 66. The base frame 60 swings around the shaft 62 by expanding and contracting the shaft of the cylinder 66. As a result, the stage 20 and the camera 30 are linked and tilted. That is, the stage 20 and the camera 30 are integrally tilted. The cylinder 66 is an example of a drive unit. The stage 20 of the present embodiment is provided with a mechanism (vacuum suction mechanism, electrostatic suction mechanism, etc.) for sucking and holding the work W.

照明装置40は、ステージ上のワークに対して、一定位置から照明光を照射する。本実施の形態では、図22に示すように、光源ユニット42が、ステージ20の左斜め上の位置に設置され、左斜め上のから斜めに照明光を照射する。光源ユニット42の構成は、上記第1の実施の形態の照明装置40の光源ユニット42と同じである。 The lighting device 40 irradiates the work on the stage with illumination light from a fixed position. In the present embodiment, as shown in FIG. 22, the light source unit 42 is installed at a position diagonally above the left side of the stage 20 and irradiates the illumination light diagonally above the left side. The configuration of the light source unit 42 is the same as that of the light source unit 42 of the lighting device 40 of the first embodiment.

以上のように構成される本実施の形態の表面検査装置1によれば、シリンダ66を駆動して、ベースフレーム60を傾斜させると、ステージ20及びカメラ30が連動して傾斜する。これにより、光源ユニット42から照射される照明光の当たり方が変わる。最適な傾斜角度を特定し、その角度でワークの検査を実施する。 According to the surface inspection device 1 of the present embodiment configured as described above, when the cylinder 66 is driven and the base frame 60 is tilted, the stage 20 and the camera 30 are tilted in conjunction with each other. As a result, the way the illumination light emitted from the light source unit 42 hits changes. Identify the optimum tilt angle and inspect the workpiece at that angle.

このように、ステージ20及びカメラ30を連動して動かして、照明光の当て方を変える構成とすることもできる。 In this way, the stage 20 and the camera 30 can be moved in conjunction with each other to change the way the illumination light is applied.

なお、本実施の形態では、ステージ20及びカメラ30を連動して傾斜させて、照明光の当て方を変える構成としているが、この他、ステージ20及びカメラ30を連動して移動させて、照明光の当て方を変える構成とすることもできる。 In the present embodiment, the stage 20 and the camera 30 are tilted in conjunction with each other to change the way in which the illumination light is applied. In addition, the stage 20 and the camera 30 are moved in conjunction with each other for illumination. It is also possible to change the way the light is applied.

また、上記実施の形態では、一方向にのみ傾斜させているが、多方向に傾斜させて、照明光の当て方を変える構成としてもよい。 Further, in the above embodiment, it is inclined in only one direction, but it may be inclined in multiple directions to change the way of illuminating the illumination light.

また、上記実施の形態では、一定位置から照明光を照射する構成としているが、照明装置側も移動又は傾斜できる構成としてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the illumination light is irradiated from a fixed position, but the illumination device side may also be configured to be movable or tilted.

[その他の実施の形態]
[検査対象]
上記実施の形態では、枚葉のワークを検査する場合を例に説明したが、帯状のワークを検査する場合にも本発明は適用できる。
[Other embodiments]
[Inspection target]
In the above embodiment, the case of inspecting a single-wafer work is described as an example, but the present invention can also be applied to the case of inspecting a strip-shaped work.

図23は、帯状のワークを検査する場合の撮像装置の構成の一例を示す図である。 FIG. 23 is a diagram showing an example of the configuration of an imaging device when inspecting a strip-shaped work.

帯状のワークWは、水平な姿勢で一方向に一定の速度で連続的に搬送される(たとえば、ロールツーロール方式で搬送される。)。 The strip-shaped work W is continuously conveyed in a horizontal posture at a constant speed in one direction (for example, is conveyed by a roll-to-roll method).

カメラ30は、ワークWの表面と同じ高さの位置に設置され、ワークWの表面(画像取得面)が合焦面に設定される。カメラ30の撮像範囲PAは、ワークWの幅方向(搬送方向と直交する方向)の全域が一度に撮像できる範囲に設定されることが好ましい。 The camera 30 is installed at a position at the same height as the surface of the work W, and the surface of the work W (image acquisition surface) is set as the focusing surface. The imaging range PA of the camera 30 is preferably set to a range in which the entire width direction of the work W (direction orthogonal to the transport direction) can be imaged at one time.

検査の際は、照明装置40を最適な照明状態に設定して、ワークWを撮像する。撮像は、ワークWの搬送に同期して行われ、搬送方向の一部をオーバーラップさせながら連続的にワークWを撮像する。 At the time of inspection, the lighting device 40 is set to the optimum lighting state, and the work W is imaged. The imaging is performed in synchronization with the transport of the work W, and the work W is continuously imaged while partially overlapping the transport directions.

また、上記実施の形態では、シート状のワークの表面を検査する場合を例に説明したが、本発明の表面検査装置は、立体物の表面を検査する場合にも適用できる。この場合、検査対象とする面に合わせて合焦面が設定される。 Further, in the above embodiment, the case of inspecting the surface of the sheet-shaped work has been described as an example, but the surface inspection apparatus of the present invention can also be applied to the case of inspecting the surface of a three-dimensional object. In this case, the focal plane is set according to the plane to be inspected.

[カメラ]
カメラについては、焦点調節機構を備えてもよい。この場合、たとえば、結像光学系の全体を光軸Zに沿って全体移動させて、焦点調節を行う。あるいは、撮像素子33を光軸に沿って前後移動させて、焦点調節を行う。
[camera]
The camera may be provided with a focus adjustment mechanism. In this case, for example, the entire imaging optical system is moved along the optical axis Z to adjust the focus. Alternatively, the image sensor 33 is moved back and forth along the optical axis to adjust the focus.

[照明装置]
上記実施の形態では、光源としてLEDを使用する場合を例に説明したが、光源の種類は、これに限定されるものではない。光源は、検査対象等に応じて、適宜選択できる。
[Lighting device]
In the above embodiment, the case where the LED is used as the light source has been described as an example, but the type of the light source is not limited to this. The light source can be appropriately selected according to the inspection target and the like.

1 表面検査装置
10 撮像装置
20 ステージ
20a ワーク載置面
22 回転軸
24 軸受
26 モータ
30 カメラ
30a〜30d カメラ
31 筐体
31a 撮像窓
32 結像光学系
33 撮像素子
40 照明装置
42 光源ユニット
42a〜42j 光源ユニット
42[ij] 光源ユニット
43 光源
43a 発光素子
44 移動機構
46a ガイドレール
46b スライダ
48a 送りネジ
48b モータ
48c ナット
50 首振り機構
52 軸
54 軸受
56 モータ
60 ベースフレーム
62 軸
64 軸受
66 シリンダ
100 検査装置本体
101 CPU
102 RAM
103 ROM
104 HDD
106 表示部
107 入出力インターフェース
108 通信部
111 カメラ制御部
112 照明制御部
113 画像入力部
114 画像処理部
115 照明条件決定部
116 検査部
117 表示制御部
118 記録制御部
119 通信制御部
A 光軸の近傍の光束
B 最大画角の光束
C1 接合レンズ
GF 光学系の前群
GR 光学系の後群
I 中間像
L1 レンズ(第1レンズ)
L2 レンズ(第2レンズ)
L3 レンズ(第3レンズ)
L4 レンズ(第4レンズ)
L5 レンズ(第5レンズ)
L6 レンズ(第6レンズ)
L7 レンズ(第7レンズ)
M1 ミラー
Obj 物体面
PA 撮像範囲
RO 光学系
Sim 結像面
St 開口絞り
SI1〜SI3 ワークの撮像画像に写るワーク表面の欠陥
W ワーク
WI1 ワークの撮像画像
WI2 ワークの撮像画像
WI3 ワークの撮像画像
WI4 ワークの撮像画像
Ymax 最大像高
Z 光軸
S11〜S18 最適な照明位置を決定する処理の手順
1 Surface inspection device 10 Imaging device 20 Stage 20a Work mounting surface 22 Rotating shaft 24 Bearing 26 Motor 30 Camera 30a to 30d Camera 31 Housing 31a Imaging window 32 Imaging optical system 33 Imaging element 40 Lighting device 42 Light source unit 42a to 42j Light source unit 42 [ij] Light source unit 43 Light source 43a Light emitting element 44 Moving mechanism 46a Guide rail 46b Slider 48a Feed screw 48b Motor 48c Nut 50 Swing mechanism 52 Axis 54 Bearing 56 Motor 60 Base frame 62 Axis 64 Bearing 66 Cylinder 100 Inspection device Main unit 101 CPU
102 RAM
103 ROM
104 HDD
106 Display unit 107 Input / output interface 108 Communication unit 111 Camera control unit 112 Lighting control unit 113 Image input unit 114 Image processing unit 115 Lighting condition determination unit 116 Inspection unit 117 Display control unit 118 Recording control unit 119 Communication control unit A Optical axis Near light beam B Light beam with maximum angle of view C1 Junction lens GF Front group of optical system GR Optical system Rear group I Intermediate image L1 lens (first lens)
L2 lens (second lens)
L3 lens (third lens)
L4 lens (4th lens)
L5 lens (fifth lens)
L6 lens (6th lens)
L7 lens (7th lens)
M1 Mirror Obj Object surface PA Imaging range RO Optical system Sim Imaging surface St Aperture aperture SI1 to SI3 Defects on the work surface reflected in the image of the work W Work WI1 Image of the work Image of WI2 Work image WI4 Work Image taken by Ymax Maximum image height Z Optical axes S11 to S18 Procedure for determining the optimum illumination position

Claims (16)

画像取得面が合焦面である結像光学系を備え、撮像範囲内の被写体を被写界深度内に収めて斜めから撮像して画像データを取得する撮像部と、
前記被写体に照射する照明光の主光線の向き及び/又は前記照明光の光源部の位置が可変である照明部と、
を備えた撮像装置。
An imaging unit that has an imaging optical system in which the image acquisition surface is the in-focus surface, captures the subject within the imaging range within the depth of field, and images the subject at an angle to acquire image data.
An illumination unit in which the direction of the main ray of the illumination light irradiating the subject and / or the position of the light source unit of the illumination light is variable.
Imaging device equipped with.
前記画像データに画像処理を施す画像処理部を更に備え、
前記画像処理部は、前記照明光の主光線の向き及び/又は前記照明光の光源部の位置を変えることで生じる前記画像データの差異を強調する処理を行う、
請求項1に記載の撮像装置。
An image processing unit that performs image processing on the image data is further provided.
The image processing unit performs processing for emphasizing the difference in the image data caused by changing the direction of the main ray of the illumination light and / or the position of the light source unit of the illumination light.
The imaging device according to claim 1.
前記照明部は、
光源部と、
前記光源部の移動機構と、
を備え、前記移動機構で前記光源部を移動させて、前記照明光の前記光源部の位置を変える、
請求項1又は2に記載の撮像装置。
The lighting unit
Light source and
The moving mechanism of the light source unit and
The light source unit is moved by the moving mechanism to change the position of the light source unit of the illumination light.
The imaging device according to claim 1 or 2.
前記照明部は、前記光源部の首振り機構を更に備え、前記首振り機構で前記光源部の向きを変えて、前記照明光の主光線の向きを変える、
請求項3に記載の撮像装置。
The illumination unit further includes a swing mechanism of the light source unit, and the swing mechanism changes the direction of the light source unit to change the direction of the main light beam of the illumination light.
The imaging device according to claim 3.
前記照明部は、
光源部と、
前記光源部の首振り機構と、
を備え、前記首振り機構で前記光源部の向きを変えて、前記照明光の主光線の向きを変える、
請求項1又は2に記載の撮像装置。
The lighting unit
Light source and
The swing mechanism of the light source unit and
The swing mechanism changes the direction of the light source unit to change the direction of the main light beam of the illumination light.
The imaging device according to claim 1 or 2.
前記照明部は、複数の光源部を備え、点灯させる前記光源部を変えて、前記照明光の前記光源部の位置を変える、
請求項1又は2に記載の撮像装置。
The illumination unit includes a plurality of light source units, changes the light source unit to be turned on, and changes the position of the light source unit of the illumination light.
The imaging device according to claim 1 or 2.
前記照明部は、前記光源部の首振り機構を更に備え、前記首振り機構で前記光源部の向きを変えて、前記照明光の主光線の向きを変える、
請求項6に記載の撮像装置。
The illumination unit further includes a swing mechanism of the light source unit, and the swing mechanism changes the direction of the light source unit to change the direction of the main light beam of the illumination light.
The imaging device according to claim 6.
複数の前記光源部がマトリクス状に配置される、
請求項6又は7に記載の撮像装置。
A plurality of the light source units are arranged in a matrix.
The imaging device according to claim 6 or 7.
複数の前記光源部が円弧状に配置される、
請求項6から8のいずれか1項に記載の撮像装置。
A plurality of the light source units are arranged in an arc shape.
The imaging device according to any one of claims 6 to 8.
前記撮像範囲が重複して設定された複数の前記撮像部を備えた、
請求項1から9のいずれか1項に記載の撮像装置。
A plurality of the imaging units in which the imaging range is set to overlap are provided.
The imaging device according to any one of claims 1 to 9.
前記被写体を保持する保持部と、
前記保持部の回転機構と、
を更に備えた請求項1から10のいずれか1項に記載の撮像装置。
A holding unit that holds the subject and
The rotation mechanism of the holding part and
The imaging device according to any one of claims 1 to 10, further comprising.
画像取得面が合焦面である結像光学系を備え、撮像範囲内の被写体を被写界深度内に収めて斜めから撮像して画像データを取得する撮像部と、
前記被写体に照明光を照射する照明部と、
前記被写体を保持する保持部と、
前記撮像部及び前記保持部を連動して移動又は傾斜させる駆動部と、
を備えた撮像装置。
An imaging unit that has an imaging optical system in which the image acquisition surface is the in-focus surface, captures the subject within the imaging range within the depth of field, and images the subject at an angle to acquire image data.
An illumination unit that irradiates the subject with illumination light,
A holding unit that holds the subject and
A drive unit that moves or tilts the image pickup unit and the holding unit in conjunction with each other.
Imaging device equipped with.
前記画像データに画像処理を施す画像処理部を更に備え、
前記画像処理部は、前記照明光の主光線の向き及び/又は前記照明光の光源部の位置を変えることで生じる前記画像データの差異を強調する処理を行う、
請求項12に記載の撮像装置。
An image processing unit that performs image processing on the image data is further provided.
The image processing unit performs processing for emphasizing the difference in the image data caused by changing the direction of the main ray of the illumination light and / or the position of the light source unit of the illumination light.
The imaging device according to claim 12.
前記撮像部の前記結像光学系は、物体側から順に、正のパワーを有する1つのミラーと、複数のレンズからなり正のパワーを有する光学系と、を有し、前記ミラーと前記光学系との間に中間像を結像する、
請求項1から13のいずれか1項に記載の撮像装置。
The imaging optical system of the imaging unit includes one mirror having positive power and an optical system composed of a plurality of lenses having positive power in order from the object side, and the mirror and the optical system An intermediate image is formed between and
The imaging device according to any one of claims 1 to 13.
前記ミラー及び前記光学系は、共通の光軸を有し、かつ、前記光軸を回転軸とする回転対称な形状を有する、
請求項14に記載の撮像装置。
The mirror and the optical system have a common optical axis and have a rotationally symmetric shape with the optical axis as the rotation axis.
The imaging device according to claim 14.
請求項1から15のいずれか1項に記載の撮像装置と、
前記撮像部で取得される前記画像データを用いて、ワークの表面を検査する検査部と、
を備えた表面検査装置。
The imaging device according to any one of claims 1 to 15.
An inspection unit that inspects the surface of the work using the image data acquired by the imaging unit, and an inspection unit.
Surface inspection device equipped with.
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