JP2021086050A - Optical waveguide module - Google Patents

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Abstract

To provide an optical waveguide module with reduced height.SOLUTION: An optical waveguide module comprises: a substrate 1; an optical waveguide 5 that is located on a top face of the substrate and has a cladding layer 3 and a core layer 4 located in the cladding layer, in which an emission end face 42 of the core layer is exposed to the outside of the cladding layer; a condenser lens 45 that is located opposite to the emission end face and a side face of the substrate in the emission end face side; and a joint layer 17 that joins the condenser lens to the side face of the substrate.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、光導波路モジュールに関する。 The present disclosure relates to an optical waveguide module.

従来技術の光導波路モジュールは、たとえば特許文献1に記載されている。この従来技術では、複数のレンズユニットのそれぞれがレーザ光源から出力されるレーザ光を集光するレンズ部と、レンズユニットを支持する凸状のガイドが設けられた支持部とを有する。光導波路としてのキャリア基板は、複数のレーザ光源が搭載される第1主面と、複数のレンズユニットを支持する段差面と、光合波器が搭載される第2主面とを有する。段差面および第2主面の少なくとも一方には、凹状のガイドが設けられ、各レンズユニットは凸状のガイドが凹状のガイドに案内され、レーザ光源の光軸とレンズ部の光軸とが一致するように位置決めされて、接着剤によってキャリア基板に固定され、このキャリア基板がパッケージ基板に固定されている。 The optical waveguide module of the prior art is described in, for example, Patent Document 1. In this conventional technique, each of the plurality of lens units has a lens portion that collects the laser light output from the laser light source, and a support portion provided with a convex guide that supports the lens unit. The carrier substrate as an optical waveguide has a first main surface on which a plurality of laser light sources are mounted, a stepped surface that supports a plurality of lens units, and a second main surface on which an optical combiner is mounted. Concave guides are provided on at least one of the stepped surface and the second main surface, and the convex guides of each lens unit are guided by the concave guides so that the optical axis of the laser light source and the optical axis of the lens portion coincide with each other. It is positioned so as to be fixed to the carrier substrate by an adhesive, and this carrier substrate is fixed to the package substrate.

特開2017−130543号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-1330543

上記特許文献1に記載される従来技術では、レンズユニットの支持部がキャリア基板の段差面に接着剤によって固定され、レンズユニットのレンズ部およびレンズ部を保持する保持部は、キャリア基板の上面から上方に位置している。そのため、レンズユニットのパッケージ基板からの突出高さが大きく、低背化を図ることができる光導波路モジュールが求められている。 In the prior art described in Patent Document 1, the support portion of the lens unit is fixed to the stepped surface of the carrier substrate with an adhesive, and the lens portion of the lens unit and the holding portion for holding the lens portion are from the upper surface of the carrier substrate. It is located above. Therefore, there is a demand for an optical waveguide module that has a large protrusion height from the package substrate of the lens unit and can reduce the height.

本開示の光導波路モジュールは、基板と、前記基板の上面に位置するとともに、クラッド層および前記クラッド層内に位置するコア層を有し、前記コア層の出射端面が前記クラッド層の外方に露出する光導波路と、前記出射端面および前記基板の前記出射端面側の側面に対向して位置する光学部材と、前記光学部材と前記基板の前記側面とを接合する接合層と、を備えていることを特徴とする。 The optical waveguide module of the present disclosure has a substrate, a clad layer located on the upper surface of the substrate, and a core layer located in the clad layer, and the exit end surface of the core layer is outside the clad layer. It includes an exposed optical waveguide, an optical member located facing the exit end surface and the side surface of the substrate on the exit end surface side, and a bonding layer for joining the optical member and the side surface of the substrate. It is characterized by that.

本開示の光導波路モジュールによれば、出射端面および基板の出射端面側の側面に対向して光学部材が位置し、光学部材と基板の側面とを接合層によって接合する。これによって、光学部材の基板からの突出高さが基板の厚み分だけ少なくすることができ、低背化された光導波モジュールを提供することができる。 According to the optical waveguide module of the present disclosure, the optical member is located so as to face the emission end surface and the side surface of the substrate on the emission end surface side, and the optical member and the side surface of the substrate are joined by a bonding layer. As a result, the height of the optical member protruding from the substrate can be reduced by the thickness of the substrate, and a low-profile optical waveguide module can be provided.

本開示の実施形態1の光導波路モジュールを示す分解斜視図である。It is an exploded perspective view which shows the optical waveguide module of Embodiment 1 of this disclosure. 図1に示される光導波路パッケージの側面図である。It is a side view of the optical waveguide package shown in FIG. 集光レンズ付近の拡大断面図である。It is an enlarged cross-sectional view around the condenser lens. 本開示の実施形態2の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 2 of this disclosure. 本開示の実施形態3の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 3 of this disclosure. 本開示の実施形態4の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 4 of this disclosure. 本開示の実施形態5の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 5 of this disclosure. 本開示の実施形態6の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 6 of this disclosure. 本開示の実施形態7の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 7 of this disclosure. 本開示の実施形態8の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 8 of this disclosure. 本開示の実施形態9の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 9 of this disclosure. 本開示の実施形態10の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 10 of this disclosure. 本開示の実施形態11の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 11 of this disclosure. 本開示の実施形態12の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 12 of this disclosure. 本開示の実施形態13の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 13 of this disclosure. 本開示の実施形態14の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。It is an enlarged sectional view which shows the optical waveguide module of Embodiment 14 of this disclosure. 本開示の実施形態15の光導波路モジュールを備える光導波路パッケージを示す分解斜視図である。It is an exploded perspective view which shows the optical waveguide package which comprises the optical waveguide module of Embodiment 15 of this disclosure. 図17に示される光導波路パッケージの側面図である。It is a side view of the optical waveguide package shown in FIG.

(実施形態1)
図1は本開示の実施形態1の光導波路モジュールを示す分解斜視図であり、図2は図1に示される光導波路パッケージの側面図である。図3は集光レンズ付近の拡大断面図である。なお、以下の各実施形態において、図2に示される光導波路パッケージが水平に配置させているものとし、図2の上下方向が光導波路パッケージの厚み方向、図2の左右方向が光導波路パッケージの長手方向、図2の紙面に垂直な方向が光導波路パッケージの幅方向にそれぞれ対応するものとして説明する。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the optical waveguide module of the first embodiment of the present disclosure, and FIG. 2 is a side view of the optical waveguide package shown in FIG. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the condenser lens. In each of the following embodiments, it is assumed that the optical waveguide packages shown in FIG. 2 are arranged horizontally, the vertical direction of FIG. 2 is the thickness direction of the optical waveguide package, and the horizontal direction of FIG. 2 is the optical waveguide package. It will be described as assuming that the longitudinal direction and the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 2 correspond to the width direction of the optical waveguide package, respectively.

本実施形態の光導波路パッケージは、基板1と、基板1の上面2に位置するとともに、クラッド層3およびクラッド層3内に位置するコア層4を有する光導波路5と、を備える。クラッド層3は、底面6と該底面6を囲むように位置した、複数の凹部8を有している。複数の凹部8のそれぞれによって、素子搭載部が構成される。これらの凹部8を覆うように、封止蓋体11が積層される。なお、複数の凹部8は、下辺よりも上辺が外側に位置するように傾斜している内壁面7を有していてもよい。 The optical waveguide package of the present embodiment includes a substrate 1 and an optical waveguide 5 having a clad layer 3 and a core layer 4 located in the clad layer 3 as well as being located on the upper surface 2 of the substrate 1. The clad layer 3 has a bottom surface 6 and a plurality of recesses 8 located so as to surround the bottom surface 6. Each of the plurality of recesses 8 constitutes an element mounting portion. The sealing lid 11 is laminated so as to cover these recesses 8. The plurality of recesses 8 may have an inner wall surface 7 that is inclined so that the upper side is located outside the lower side.

本実施形態に光導波路パッケージでは、発光素子10をそれぞれ収容する複数(本実施形態では3)の凹部8を有し、各発光素子10を含んで発光装置20が構成される。発光素子10としては、レーザーダイオードなどが適用される。光導波路5は、コア層4とクラッド層3とが一体に結合されて構成される。基板1は、複数の誘電体層が積層されて形成されていてもよい。 In the present embodiment, the optical waveguide package has a plurality of recesses 8 (3 in the present embodiment) accommodating each of the light emitting elements 10, and each light emitting element 10 is included in the light emitting device 20. As the light emitting element 10, a laser diode or the like is applied. The optical waveguide 5 is configured by integrally coupling the core layer 4 and the clad layer 3. The substrate 1 may be formed by laminating a plurality of dielectric layers.

基板1は、誘電体層がセラミック材料から成るセラミック配線基板であってもよい。セラミック配線基板で用いられるセラミック材料としては、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化ケイ素質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、ガラスセラミック焼結体等が挙げられる。基板1がセラミック配線基板である場合、誘電体層には、発光素子および受光素子と外部回路との電気的接続のための接続パッド、内部配線導体、外部接続端子等の各導体が配設される。 The substrate 1 may be a ceramic wiring board whose dielectric layer is made of a ceramic material. Examples of the ceramic material used in the ceramic wiring substrate include an aluminum oxide-based sintered body, a mulite-based sintered body, a silicon carbide sintered body, an aluminum nitride-based sintered body, and a glass-ceramic sintered body. When the substrate 1 is a ceramic wiring substrate, the dielectric layer is provided with conductors such as a connection pad for electrical connection between a light emitting element and a light receiving element and an external circuit, an internal wiring conductor, and an external connection terminal. To.

基板1の材料としては、例えば誘電体層が有機材料から成る有機配線基板であってもよい。有機配線基板は、例えば、プリント配線基板、ビルドアップ配線基板、フレキシブル配線基板等である。有機配線基板に用いられる有機材料としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。 The material of the substrate 1 may be, for example, an organic wiring board in which the dielectric layer is made of an organic material. The organic wiring board is, for example, a printed wiring board, a build-up wiring board, a flexible wiring board, or the like. Examples of the organic material used for the organic wiring substrate include epoxy resin, polyimide resin, polyester resin, acrylic resin, phenol resin, fluororesin and the like.

光導波路5は、例えば、石英などのガラス、樹脂等であってもよい。光導波路5は、コア層4と、クラッド層3を構成する材料としては、いずれもガラスあるいは樹脂であってもよく、一方がガラスで一方が樹脂であってもよい。この場合には、コア層4とクラッド層3との屈折率が異なっており、コア層4はクラッド層3よりも屈折率が高い。この屈折率の違いを利用して、光の全反射をさせる。つまり、屈折率の高い材料で路を作り、周りを屈折率の低い材料で囲んでおくと、光は屈折率の高いコア層4内に閉じ込めることができる。 The optical waveguide 5 may be, for example, glass such as quartz, resin, or the like. The optical waveguide 5 may be made of glass or resin as the material constituting the core layer 4 and the clad layer 3, and may be one of glass and the other of resin. In this case, the refractive indexes of the core layer 4 and the clad layer 3 are different, and the core layer 4 has a higher refractive index than the clad layer 3. This difference in refractive index is used to totally reflect light. That is, if the path is made of a material having a high refractive index and the surrounding area is surrounded by a material having a low refractive index, the light can be confined in the core layer 4 having a high refractive index.

コア層4は、複数の入射端面4a,4b,4cと1つの出射端面42との間を、入射端面4a〜4cを一端とする複数の分割路41a,41b,41cと、複数の分割路41a,41b,41cが会合する合波部43と、出射端面42を一端とする統合路44とを介して繋ぐ合波路を構成する。 The core layer 4 has a plurality of dividing paths 41a, 41b, 41c and a plurality of dividing paths 41a having the incident end faces 4a to 4c as one end between the plurality of incident end faces 4a, 4b, 4c and one exit end face 42. , 41b, 41c meet to form a combined waveguide 43 via an integrated path 44 having an exit end surface 42 as one end.

光学部材である集光レンズ45は、コア層4の出射端面42および基板1の出射端面42側の側面に対向して配置される。出射端面42の中心軸上に集光レンズ45の光軸が位置している。なお、このとき、光学部材である集光レンズ45は、コア層4の出射端面42および基板1の出射端面42側の側面の少なくとも一部が対向していればよい。 The condenser lens 45, which is an optical member, is arranged so as to face the exit end surface 42 of the core layer 4 and the side surface of the substrate 1 on the exit end surface 42 side. The optical axis of the condenser lens 45 is located on the central axis of the emission end surface 42. At this time, the condenser lens 45, which is an optical member, may have at least a part of the exit end surface 42 of the core layer 4 and the side surface of the substrate 1 on the exit end surface 42 side facing each other.

各発光素子10から出射された赤色(R)光、緑色(G)光、青色(B)光の各光は、入射端面4a,4b,4cから分割路41a,41b,41cに入射し、合波部43および統合路44を経て、集光レンズ45によって集光し、出射する。 The red (R) light, green (G) light, and blue (B) light emitted from each light emitting element 10 are incident on the dividing paths 41a, 41b, and 41c from the incident end faces 4a, 4b, and 4c, and are combined. After passing through the wave portion 43 and the integrated path 44, the light is collected by the condenser lens 45 and emitted.

集光レンズ45は、例えば、入射面が平面に形成され、出射面が凸面の平凸レンズである。各分割路41a,41b,41cの各光軸と、各発光素子10の発光部の中心とが一致するように、光導波層と発光素子10と集光レンズ45とが組み立てられ、光導波路モジュールを構成する。 The condenser lens 45 is, for example, a plano-convex lens having an incident surface formed on a flat surface and an emitting surface having a convex surface. The optical waveguide layer, the light emitting element 10, and the condensing lens 45 are assembled so that the optical axes of the dividing paths 41a, 41b, and 41c coincide with the center of the light emitting portion of each light emitting element 10. To configure.

本実施形態の光導波路モジュールは、基板1と、基板1の上面2に位置するとともに、クラッド層およびクラッド層3内に位置するコア層4を有し、コア層4の出射端面42がクラッド層3の外方に露出する光導波路5と、出射端面42および基板1の出射端面42側の側面に対向して位置する集光レンズ45と、集光レンズ45と基板1の側面とを接合する接合層17と、を備えている。接合層17の下端部は、基板1の下面よりも上方に位置している。 The optical waveguide module of the present embodiment has a substrate 1, a core layer 4 located on the upper surface 2 of the substrate 1, a clad layer, and a core layer 4 located in the clad layer 3, and the exit end surface 42 of the core layer 4 is a clad layer. The optical waveguide 5 exposed to the outside of No. 3, the condenser lens 45 located facing the exit end surface 42 and the side surface of the substrate 1 on the exit end surface 42 side, and the condenser lens 45 and the side surface of the substrate 1 are joined. It includes a bonding layer 17. The lower end of the bonding layer 17 is located above the lower surface of the substrate 1.

このような構成を採用することによって、集光レンズ45を支持するための基板1の厚み分を省略して、上下方向の厚みを抑制し、光導波路モジュールの低背化を図ることができる。 By adopting such a configuration, the thickness of the substrate 1 for supporting the condenser lens 45 can be omitted, the thickness in the vertical direction can be suppressed, and the height of the optical waveguide module can be reduced.

接合層17としては、例えばエポキシ系接着剤を集光レンズ45のレンズ領域の下部側面に塗布した後、集光レンズ45をその光軸がコア層4の光軸に一致するように位置決めして基板1の側面に貼付け、接着剤を硬化させることに実現されてもよい。 As the bonding layer 17, for example, an epoxy adhesive is applied to the lower side surface of the lens region of the condenser lens 45, and then the condenser lens 45 is positioned so that its optical axis coincides with the optical axis of the core layer 4. It may be realized by sticking it on the side surface of the substrate 1 and curing the adhesive.

このような接着剤としては、エポキシ系接着剤に限らず、例えば紫外線硬化型接着剤を用いるようにしてもよい。紫外線硬化型接着剤としては、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エステル系、シリコン系等を用いることができる。このような接合層17の厚さは、例えば0.01μm〜1000μm程度であってもよい。 The adhesive is not limited to the epoxy adhesive, and for example, an ultraviolet curable adhesive may be used. As the ultraviolet curable adhesive, an epoxy-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a urethane-based adhesive, an ester-based adhesive, a silicon-based adhesive, or the like can be used. The thickness of such a bonding layer 17 may be, for example, about 0.01 μm to 1000 μm.

接合層17が形成される領域としては、基板1の側面1aと集光レンズ45とが対向する領域全面であってよく、あるいは一部である幅方向両側部だけに形成されてもよく、あるいは幅方向中央部だけに形成されてもよい。 The region where the bonding layer 17 is formed may be the entire surface of the region where the side surface 1a of the substrate 1 and the condenser lens 45 face each other, or may be formed only on both sides in the width direction, which is a part of the region. It may be formed only in the central portion in the width direction.

(実施形態2)
図4は本開示の実施形態2の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、基板1の側面1aが、光導波路5の出射端面42が露出する表面を含む一平面mよりも集光レンズ45に近接して位置している。近接しているとは、所望の光軸の調整に合わせて突出していることであり、接合層17の厚み0.01μm〜1000μmと同程度であってもよい。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the second embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the side surface 1a of the substrate 1 is located closer to the condenser lens 45 than the one plane m including the surface where the exit end surface 42 of the optical waveguide 5 is exposed. The term "close" means that the bonding layer 17 protrudes according to the desired adjustment of the optical axis, and may be about the same as the thickness of the bonding layer 17 of 0.01 μm to 1000 μm.

このような構成を採用することによって、基板1の側面が光導波路5の端面よりも集光レンズ45側に突出させ、接合層17によって光軸調整することができる。このような光軸調整においても、基板1の側面に集光レンズ45が接合層17によって接合されているので、光の通過領域に干渉することはない。 By adopting such a configuration, the side surface of the substrate 1 can be projected toward the condenser lens 45 side from the end surface of the optical waveguide 5, and the optical axis can be adjusted by the bonding layer 17. Even in such optical axis adjustment, since the condenser lens 45 is bonded to the side surface of the substrate 1 by the bonding layer 17, it does not interfere with the light passing region.

(実施形態3)
図5本開示の実施形態3の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、集光レンズ45は、接合層17と接する表面の少なくとも一部が粗面化されている。粗面化される領域としては、前述の接合層17が形成される領域と同様に、基板1の側面1aと集光レンズ45とが対向する領域全面であってよく、あるいは一部である幅方向両側部だけに形成されてもよく、あるいは幅方向中央部だけに形成されてもよい。
(Embodiment 3)
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the third embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, at least a part of the surface of the condenser lens 45 in contact with the bonding layer 17 is roughened. The region to be roughened may be the entire surface of the region where the side surface 1a of the substrate 1 and the condenser lens 45 face each other, or a part thereof, as in the region where the bonding layer 17 is formed. It may be formed only on both sides in the direction, or may be formed only on the center in the width direction.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μm程度であってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be roughened, for example, with a surface roughness Ra of about 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

このような構成を採用することによって、集光レンズ45の下部側面45aが粗面化されることによって、接合層17による接合力が増大し、集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。 By adopting such a configuration, the lower side surface 45a of the condenser lens 45 is roughened, so that the bonding force by the bonding layer 17 is increased and the support stability of the condenser lens 45 can be improved. it can.

(実施形態4)
図6は本開示の実施形態4の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、接合層17は、集光レンズ45の下面に接する支持部17aを有している。
(Embodiment 4)
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the fourth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the bonding layer 17 has a support portion 17a in contact with the lower surface of the condenser lens 45.

このような構成を採用することによって、接合層17による接合領域が集光レンズ45の下面まで延在し、これによって集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。この場合においても、集光レンズ45の下面に接する接合層17が粗面化されてもよく、残余の接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region formed by the bonding layer 17 extends to the lower surface of the condenser lens 45, whereby the support stability of the condenser lens 45 can be improved. Also in this case, the bonding layer 17 in contact with the lower surface of the condenser lens 45 may be roughened, or the entire or part of the remaining bonding region may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μm程度であってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be roughened, for example, with a surface roughness Ra of about 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

(実施形態5)
図7は本開示の実施形態5の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、集光レンズ45は、接合層17の支持部17aに接する表面の少なくとも一部が粗面化されている。
(Embodiment 5)
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module according to the fifth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, at least a part of the surface of the condenser lens 45 in contact with the support portion 17a of the bonding layer 17 is roughened.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μm程度であってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be roughened, for example, with a surface roughness Ra of about 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

このような構成を採用することによって、集光レンズ45の接合層17による接合をより強固にすることができ、支持安定性が向上される。この場合においても、集光レンズ45の下面に接する接合層17が粗面化されてもよく、残余の接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding by the bonding layer 17 of the condenser lens 45 can be further strengthened, and the support stability is improved. Also in this case, the bonding layer 17 in contact with the lower surface of the condenser lens 45 may be roughened, or the entire or part of the remaining bonding region may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

(実施形態6)
図8本開示の実施形態6の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、接合層17の上端部は、基板1の上面2に接している。
(Embodiment 6)
FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the sixth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the upper end portion of the bonding layer 17 is in contact with the upper surface 2 of the substrate 1.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。この場合においても、集光レンズ45の下面に接する接合層17が粗面化されてもよく、残余の接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 is increased, the bonding strength is increased, and the support stability of the condenser lens 45 can be improved. Also in this case, the bonding layer 17 in contact with the lower surface of the condenser lens 45 may be roughened, or the entire or part of the remaining bonding region may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μm程度であってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be roughened, for example, with a surface roughness Ra of about 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

(実施形態7)
図9は本開示の実施形態7の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、接合層17の上端部が光導波路5の出射端面42に臨んでいる。この臨むとは、接合層17の上端部が基板1の上面よりも上方にまで位置していることをいう。
(Embodiment 7)
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module according to the seventh embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the upper end portion of the bonding layer 17 faces the exit end surface 42 of the optical waveguide 5. This facing means that the upper end portion of the bonding layer 17 is located above the upper surface of the substrate 1.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができるとともに、出射光の拡散を抑制することができる。この場合においても、集光レンズ45の下面に接する接合層17が粗面化されてもよく、前述の上端部を含む残余の接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 can be increased, the bonding strength can be increased, the support stability of the condenser lens 45 can be improved, and the emission light can be diffused. It can be suppressed. In this case as well, the bonding layer 17 in contact with the lower surface of the condenser lens 45 may be roughened, or the entire or part of the remaining bonding region including the upper end portion described above may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μm程度であってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be roughened, for example, with a surface roughness Ra of about 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

(実施形態8)
図10は本開示の実施形態8の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、接合層17のレンズ下部側面が集光レンズ45の出射端面42側の表面に接している。
(Embodiment 8)
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the eighth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the lower side surface of the lens of the bonding layer 17 is in contact with the surface of the condenser lens 45 on the exit end surface 42 side.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 is increased, the bonding strength is increased, and the support stability of the condenser lens 45 can be improved.

(実施形態9)
図11は本開示の実施形態9の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、集光レンズ45は、接合層17のレンズ下部側面に対向する表面45bの少なくとも一部が粗面化されている。
(Embodiment 9)
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the ninth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, in the condenser lens 45, at least a part of the surface 45b of the bonding layer 17 facing the lower side surface of the lens is roughened.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面1aと集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface 1a of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表表面粗さRaが0.05μm〜10μmであってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be, for example, 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

このような構成を採用することによって、接合層17による集光レンズ45と基板1との接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。この場合においても、集光レンズ45の下面に接する接合層17が粗面化されてもよく、残余の接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding strength between the condensing lens 45 and the substrate 1 by the bonding layer 17 can be increased, and the support stability of the condensing lens 45 can be improved. Also in this case, the bonding layer 17 in contact with the lower surface of the condenser lens 45 may be roughened, or the entire or part of the remaining bonding region may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

(実施形態10)
図12は本開示の実施形態10の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、接合層17は、光導波路5の出射端面42と光導波路5の上面とにわたる上部領域と、集光レンズ45とを接合する上接合部17cを、含んでいる。
(Embodiment 10)
FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the tenth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the bonding layer 17 includes an upper bonding portion 17c for joining the condensing lens 45 with an upper region extending over the exit end surface 42 of the optical waveguide 5 and the upper surface of the optical waveguide 5. ..

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができるとともに、出射光の拡散を抑制することができる。この場合においても、集光レンズ45の上接合部17cを含む接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 can be increased, the bonding strength can be increased, the support stability of the condenser lens 45 can be improved, and the emission light can be diffused. It can be suppressed. In this case as well, the entire or part of the bonding region including the upper bonding portion 17c of the condenser lens 45 may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μmであってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be, for example, 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

(実施形態11)
図13は本開示の実施形態11の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、上接合部17cは、光導波路5の上面に延在している。なお、延在しているとは、上接合部17cがコア層4と重ならないように集光レンズ45の上端側にも位置していることを指す。つまり、接合層17は、コア層4と重ならないようにするとともに、光軸上にないところに位置していてもよい。
(Embodiment 11)
FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module according to the eleventh embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the upper joint portion 17c extends on the upper surface of the optical waveguide 5. The term "extending" means that the upper junction 17c is also located on the upper end side of the condenser lens 45 so as not to overlap the core layer 4. That is, the bonding layer 17 may not overlap with the core layer 4 and may be located at a location not on the optical axis.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができるとともに、出射光の拡散を抑制することができる。この場合においても、集光レンズ45と基板1との接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 can be increased, the bonding strength can be increased, the support stability of the condenser lens 45 can be improved, and the emission light can be diffused. It can be suppressed. Also in this case, the entire or a part of the bonding region between the condenser lens 45 and the substrate 1 may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μmであってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be, for example, 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

(実施形態12)
図14は本開示の実施形態12の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、集光レンズ45は、上接合部17cに対向する表面が粗面化されている。
(Embodiment 12)
FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module according to the twelfth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the surface of the condenser lens 45 facing the upper junction 17c is roughened.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μmであってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be, for example, 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する接合領域が増加し、接合強度を高くし、集光レンズ45の支持安定性を向上することができるとともに、出射光の拡散を抑制することができる。この場合においても、集光レンズ45と基板1との接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 can be increased, the bonding strength can be increased, the support stability of the condenser lens 45 can be improved, and the emission light can be diffused. It can be suppressed. Also in this case, the entire or a part of the bonding region between the condenser lens 45 and the substrate 1 may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

(実施形態13)
図15は本開示の実施形態13の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、光導波路5の上面は、粗面化されている。
(Embodiment 13)
FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module according to the thirteenth embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the optical waveguide module of the present embodiment, the upper surface of the optical waveguide 5 is roughened.

本実施形態では、集光レンズ45が粗面化される領域として、少なくとも光通過経路の外側で、基板1の側面1aに対向する領域であってもよい。また、基板1の側面と集光レンズ45との間で十分な接合強度が得られる場合には、前記対向する領域の一部、例えば10%〜60%程度であってもよい。 In the present embodiment, the region where the condenser lens 45 is roughened may be a region facing the side surface 1a of the substrate 1 at least outside the light passage path. Further, when a sufficient bonding strength can be obtained between the side surface of the substrate 1 and the condenser lens 45, it may be a part of the facing regions, for example, about 10% to 60%.

また集光レンズ45の粗面化は、例えば表面粗さRaが0.05μm〜10μmであってもよい。このとき、粗面化の処理は、ブラスト、エッチング、インプリント等にて行うことができる。ここでいう表面粗さとは算術平均粗さRaのことであり、平均表面粗さは触針式表面粗さ計により測定することができる。 Further, the surface roughness Ra of the condenser lens 45 may be, for example, 0.05 μm to 10 μm. At this time, the roughening process can be performed by blasting, etching, imprinting, or the like. The surface roughness referred to here is an arithmetic average roughness Ra, and the average surface roughness can be measured by a stylus type surface roughness meter.

このような構成を採用することによって、接合層17の基板1に対する上接合部17cによる接合領域が増加し、集光レンズ45の支持安定性を向上することができる。 By adopting such a configuration, the bonding region of the bonding layer 17 with respect to the substrate 1 by the upper bonding portion 17c is increased, and the support stability of the condenser lens 45 can be improved.

(実施形態14)
図16は本開示の実施形態14の光導波路モジュールを示す拡大断面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には、同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。本実施形態の光導波路モジュールは、集光レンズとして、回折格子145を含んでいる。
(Embodiment 14)
FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing the optical waveguide module of the 14th embodiment of the present disclosure. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. The optical waveguide module of the present embodiment includes a diffraction grating 145 as a condenser lens.

このような構成を採用することによって、光導波路モジュールの光軸方向の長さを短くすることが可能となる。この場合においても、前述の各実施形態と同様に、集光レンズ45と基板1との接合領域全体または一部が粗面化されてもよい。これによって、より一層高い接合強度を得ることができる。 By adopting such a configuration, it is possible to shorten the length of the optical waveguide module in the optical axis direction. In this case as well, as in each of the above-described embodiments, the entire or a part of the joint region between the condenser lens 45 and the substrate 1 may be roughened. Thereby, even higher bonding strength can be obtained.

図17は本開示の実施形態15の光導波路モジュールを備える光導波路パッケージを示す分解斜視図であり、図18は図17に示される光導波路パッケージの側面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には同一の参照符を付し、重複する説明は省略する。前述の実施形態では、各凹部8から発光素子10の上部が突出し、これが覆われるように箱状の封止蓋体11を用いる構成について述べたが、他の実施形態では、発光素子10の全体が凹部8に収容される構成とし、この凹部8を板状の封止蓋体11aによって覆い、封止する構成であってもよい。このような構成を採用することによって、封止蓋体11aの構成が簡素化することができる。 FIG. 17 is an exploded perspective view showing an optical waveguide package including the optical waveguide module according to the fifteenth embodiment of the present disclosure, and FIG. 18 is a side view of the optical waveguide package shown in FIG. The same reference numerals are given to the parts corresponding to the above-described embodiments, and duplicate description will be omitted. In the above-described embodiment, the configuration in which the upper portion of the light emitting element 10 protrudes from each recess 8 and the box-shaped sealing lid 11 is used so as to cover the recess 8 is described, but in other embodiments, the entire light emitting element 10 is used. May be configured to be housed in the recess 8 and the recess 8 may be covered with a plate-shaped sealing lid 11a to seal the recess 8. By adopting such a configuration, the configuration of the sealing lid 11a can be simplified.

本開示のさらに他の実施形態では、発光素子10は、発光ダイオード(Light Emitting Diode;LED)に限るものではなく、例えば、LD(Laser Diode)、VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)などであってもよい。また、光学部品は、前述の集光レンズ、回折格子に代えて、例えばセルフォックレンズ、ロッドレンズなどの各種のレンズなどの光学素子であってもよい。 In still another embodiment of the present disclosure, the light emitting element 10 is not limited to a light emitting diode (LED), and is, for example, an LD (Laser Diode), a VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser), or the like. May be good. Further, the optical component may be an optical element such as various lenses such as a selfock lens and a rod lens instead of the above-mentioned condenser lens and diffraction grating.

以上、本開示の実施形態について詳細に説明したが、また、本開示は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、改良等が可能である。上記各実施形態をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。 Although the embodiments of the present disclosure have been described in detail above, the present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and various changes, improvements, etc. may be made without departing from the gist of the present disclosure. It is possible. Needless to say, all or a part of each of the above embodiments can be combined as appropriate and within a consistent range.

1 基板
2 上面
3 クラッド層
4 コア層
4a,4b,4c 入射端面
5 光導波路
6 底面
7 内壁面
7a,7b,7c,7d 壁面
8 凹部
9ab,9bc,9cd,9ad 角部支持面
10 発光素子
17 接合層
20 発光装置
41a,41b,41c 分割路
42 出射端面
43 合波部
44 統合路
45 集光レンズ
1 Substrate 2 Top surface 3 Clad layer 4 Core layer 4a, 4b, 4c Incident end surface 5 Optical waveguide 6 Bottom surface 7 Inner wall surface 7a, 7b, 7c, 7d Wall surface 8 Recessed 9ab, 9bc, 9cd, 9ad Corner support surface 10 Light emitting element 17 Bonding layer 20 Light emitting device 41a, 41b, 41c Dividing path 42 Exiting end face 43 Converging part 44 Integrated path 45 Condensing lens

Claims (15)

基板と、
前記基板の上面に位置するとともに、クラッド層および前記クラッド層内に位置するコア層を有し、前記コア層の出射端面が前記クラッド層の外方に露出する光導波路と、
前記出射端面および前記基板の前記出射端面側の側面に対向して位置する光学部材と、
前記光学部材と前記基板の前記側面とを接合する接合層と、を備えている光導波路モジュール。
With the board
An optical waveguide located on the upper surface of the substrate, having a clad layer and a core layer located in the clad layer, and having an exit end surface of the core layer exposed to the outside of the clad layer.
An optical member located so as to face the emission end surface and the side surface of the substrate on the emission end surface side.
An optical waveguide module including a bonding layer that joins the optical member and the side surface of the substrate.
前記接合層の下端部は、前記基板の下面よりも上方に位置する、請求項1に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 1, wherein the lower end portion of the bonding layer is located above the lower surface of the substrate. 前記基板の前記側面は、前記光導波路の前記出射端面よりも前記光学部材に近接して位置している、請求項1または2に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 1 or 2, wherein the side surface of the substrate is located closer to the optical member than the exit end surface of the optical waveguide. 前記光学部材は、前記接合層と接する表面の少なくとも一部が粗面化されている、請求項1〜3のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to any one of claims 1 to 3, wherein at least a part of the surface of the optical member in contact with the bonding layer is roughened. 前記接合層は、前記光学部材の下面に接する支持部を有している、請求項1〜4のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to any one of claims 1 to 4, wherein the bonding layer has a support portion in contact with the lower surface of the optical member. 前記光学部材は、前記接合層の前記支持部に接する表面の少なくとも一部が粗面化されている、請求項5に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 5, wherein at least a part of the surface of the bonding layer in contact with the support portion of the optical member is roughened. 前記接合層の上端部は、前記基板の前記上面に接している、請求項1〜5のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to any one of claims 1 to 5, wherein the upper end portion of the bonding layer is in contact with the upper surface of the substrate. 前記上端部は、前記光導波路の前記出射端面に臨んでいる、請求項7に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 7, wherein the upper end portion faces the exit end surface of the optical waveguide. 前記接合層は、前記光学部材の前記出射端面側の表面に接しているレンズ下部側面を有している、請求項5または請求項5を引用する請求項6〜8のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical wave according to any one of claims 6 to 8, wherein the bonding layer has a lower side surface of a lens in contact with the surface of the optical member on the exit end surface side. Waveguide module. 前記光学部材は、前記接合層の前記レンズ下部側面に対向する表面の少なくとも一部が粗面化されている、請求項9に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 9, wherein at least a part of the surface of the bonding layer facing the lower side surface of the lens is roughened. 前記接合層は、前記光導波路の前記出射端面と前記光導波路の上面とにわたる上部領域と、前記光学部材とを接合する上接合部を、含んでいる請求項1〜10のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The bonding layer according to any one of claims 1 to 10, wherein the bonding layer includes an upper region extending over the exit end surface of the optical waveguide and the upper surface of the optical waveguide, and an upper bonding portion for joining the optical member. Optical waveguide module. 前記上接合部は、前記光導波路の前記上面に延在している、請求項11に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 11, wherein the upper joint portion extends on the upper surface of the optical waveguide. 前記光学部材は、前記上接合部に対向する表面が粗面化されている、請求項11または12に記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 11 or 12, wherein the optical member has a roughened surface facing the upper joint. 前記光導波路の前記上面は、粗面化されている、請求項11〜14のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to any one of claims 11 to 14, wherein the upper surface of the optical waveguide is roughened. 前記光学部材は、回折格子を含んでいる、請求項1〜14のいずれかに記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to any one of claims 1 to 14, wherein the optical member includes a diffraction grating.
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