JP2021081698A - Resin panel and infrared sensor - Google Patents

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Abstract

To provide a resin panel which allows an infrared sensor to function sufficiently when used as a protective cover for the infrared sensor.SOLUTION: A resin panel 100 provided herein comprises at least a core layer 10 containing a polycarbonate resin and one or more compounds selected from azomethine-azo compounds and perylene compounds. The resin panel 100 has a light transmittance of 85% or greater for a 905 nm-wavelength and a visible light transmittance of 20% or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、樹脂パネル及び赤外線センサーに関する。 The present invention relates to a resin panel and an infrared sensor.

近年、自動車の自動運転等の分野において、LiDAR等の光センサーの技術開発が進んでいる。これらの光センサーは、発光素子及び受光素子の前面に、保護カバーが配置される場合がある。 In recent years, technological development of optical sensors such as LiDAR has been progressing in fields such as automatic driving of automobiles. In these optical sensors, a protective cover may be arranged in front of the light emitting element and the light receiving element.

光センサーの保護カバーは、例えば、発光素子及び受光素子を飛び石、太陽光や風雨等から保護するために形成される。このため、保護カバーは耐衝撃性や耐候性に優れることが好ましい。例えば、特許文献1には、保護カバーとして、ポリカーボネートからなる光学要素を配置することが提案されている。 The protective cover of the optical sensor is formed, for example, to protect the light emitting element and the light receiving element from flying stones, sunlight, wind and rain, and the like. Therefore, it is preferable that the protective cover has excellent impact resistance and weather resistance. For example, Patent Document 1 proposes arranging an optical element made of polycarbonate as a protective cover.

特開2019−32505号公報(請求項1、段落0042)JP-A-2019-32505 (Claim 1, paragraph 0042)

光センサーの発光素子は、人の目への影響を抑制するために、赤外線領域の光を発光波長とするものがある。特に、自動車に搭載する光センサー(主にLiDAR)の発光素子は、赤外線領域の光を発光波長とするものが多い。
しかし、赤外線領域の光を発光波長とする光センサー(赤外線センサー)の保護カバーとして、特許文献1に開示されたポリカーボネートからなる光学要素を適用した場合、赤外線センサーが十分に機能しないケースが頻発した。特に、意匠性を高めるために、当該保護カバーに意匠層を付与した際に、赤外線センサーが十分に機能しないケースが増加する傾向があった。
Some light emitting elements of an optical sensor use light in the infrared region as an emission wavelength in order to suppress the influence on the human eye. In particular, many of the light emitting elements of optical sensors (mainly LiDAR) mounted on automobiles use light in the infrared region as the light emitting wavelength.
However, when an optical element made of polycarbonate disclosed in Patent Document 1 is applied as a protective cover for an optical sensor (infrared sensor) whose emission wavelength is light in the infrared region, the infrared sensor often does not function sufficiently. .. In particular, when a design layer is applied to the protective cover in order to enhance the design, there is a tendency that the infrared sensor does not function sufficiently in many cases.

本発明は、赤外線センサーの保護カバーとして適用した際に、赤外線センサーを十分に機能させることができる樹脂パネル、及び、当該樹脂パネルを有する赤外線センサーを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a resin panel capable of fully functioning the infrared sensor when applied as a protective cover for the infrared sensor, and an infrared sensor having the resin panel.

上記課題を解決すべく、本発明は、以下の[1]〜[2]を提供する。
[1]少なくともコア層を有する樹脂パネルであって、前記樹脂パネルは、波長905nmの光線透過率が85%以上であり、可視光線透過率が20%以下である、樹脂パネル。
[2]赤外線発光素子と、赤外線受光素子と、前記赤外線発光素子及び前記赤外線受光素子の前面に配置されてなる保護カバーとを有する赤外線センサーであって、前記保護カバーが前記[1]の樹脂パネルである、赤外線センサー。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following [1] to [2].
[1] A resin panel having at least a core layer, wherein the resin panel has a light transmittance of 85% or more and a visible light transmittance of 20% or less at a wavelength of 905 nm.
[2] An infrared sensor having an infrared light emitting element, an infrared light receiving element, and a protective cover arranged in front of the infrared light emitting element and the infrared light receiving element, wherein the protective cover is the resin of the above [1]. An infrared sensor that is a panel.

本発明の樹脂パネルは、赤外線センサーの保護カバーとして適用した際に、赤外線センサーを十分に機能させることができる。また、当該樹脂パネルを有する本発明の赤外線センサーは、赤外線センサーを十分に機能させることができる。 The resin panel of the present invention can fully function the infrared sensor when applied as a protective cover for the infrared sensor. In addition, the infrared sensor of the present invention having the resin panel can fully function the infrared sensor.

本発明の樹脂パネルの一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the resin panel of this invention. 本発明の樹脂パネルの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other embodiment of the resin panel of this invention. 本発明の樹脂パネルの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other embodiment of the resin panel of this invention. 本発明の樹脂パネルの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other embodiment of the resin panel of this invention. 本発明の樹脂パネルの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other embodiment of the resin panel of this invention. 本発明の樹脂パネルの他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other embodiment of the resin panel of this invention.

[樹脂パネル]
本発明の樹脂パネルは、少なくともコア層を有する樹脂パネルであって、前記樹脂パネルは、波長905nmの光線透過率が85%以上であり、可視光線透過率が20%以下であるものである。
[Resin panel]
The resin panel of the present invention is a resin panel having at least a core layer, and the resin panel has a light transmittance of 85% or more and a visible light transmittance of 20% or less at a wavelength of 905 nm.

図1〜6は、本発明の樹脂パネルの一実施形態を示す断面図である。
図1〜6の樹脂パネル(100)は、何れもコア層(10)を有している。
また、図1〜6の樹脂パネル(100)は、コア層(10)の他に内側層(20)を有しており、当該内側層(20)として、反射防止層(23)等を有している。
また、図1〜5の樹脂パネル(100)は、コア層(10)の他に外側層(30)を有しており、当該外側層(30)として、ハードコート層B(35)等を有している。
1 to 6 are cross-sectional views showing an embodiment of the resin panel of the present invention.
Each of the resin panels (100) shown in FIGS. 1 to 6 has a core layer (10).
Further, the resin panel (100) of FIGS. 1 to 6 has an inner layer (20) in addition to the core layer (10), and has an antireflection layer (23) and the like as the inner layer (20). doing.
Further, the resin panel (100) of FIGS. 1 to 5 has an outer layer (30) in addition to the core layer (10), and the hard coat layer B (35) or the like is used as the outer layer (30). Have.

なお、本明細書において、「内側層」とは、樹脂パネルを赤外線センサーの保護カバーとして適用した際に、コア層を基準として、赤外線発光素子及び赤外線受光素子側に位置する層のことを意味する。同様に、本明細書において、「外側層」とは、樹脂パネルを赤外線センサーの保護カバーとして適用した際に、コア層を基準として、赤外線発光素子及び赤外線受光素子とは反対側に位置する層のことを意味する。 In the present specification, the "inner layer" means a layer located on the infrared emitting element and the infrared receiving element side with respect to the core layer when the resin panel is applied as a protective cover for the infrared sensor. To do. Similarly, in the present specification, the "outer layer" is a layer located on the opposite side of the infrared light emitting element and the infrared light receiving element with respect to the core layer when the resin panel is applied as a protective cover for the infrared sensor. Means that.

<透過率>
本発明の樹脂パネルは、波長905nmの光線透過率が85%以上であり、かつ、可視光線透過率が20%以下であることを要する。なお、樹脂パネルの表裏の何れを光入射面とした際にも、前述の数値を満たすことを要する。
<Transmittance>
The resin panel of the present invention is required to have a light transmittance of 85% or more at a wavelength of 905 nm and a visible light transmittance of 20% or less. It is necessary to satisfy the above-mentioned numerical values regardless of which of the front and back surfaces of the resin panel is used as the light incident surface.

波長905nmの光線透過率が85%未満の場合、波長905nmの赤外線を発光波長とする赤外線センサーの検知機能を十分に作用させることができない。また、波長905nmの光線透過率が85%以上であったとしても、可視光線透過率が20%を超える場合には、太陽光等の可視光に基づく誤作動が生じるおそれがあり、赤外線センサーの機能を十分に作用させることができない。また、可視光線透過率を20%以下とすることにより、赤外線センサーの内部に配置する赤外線発光素子及び赤外線受光素子を不可視化しやすくできる。 When the light transmittance at a wavelength of 905 nm is less than 85%, the detection function of an infrared sensor whose emission wavelength is infrared rays having a wavelength of 905 nm cannot be sufficiently applied. Further, even if the light transmittance at a wavelength of 905 nm is 85% or more, if the visible light transmittance exceeds 20%, a malfunction based on visible light such as sunlight may occur, and the infrared sensor may malfunction. The function cannot work sufficiently. Further, by setting the visible light transmittance to 20% or less, the infrared light emitting element and the infrared light receiving element arranged inside the infrared sensor can be easily invisible.

樹脂パネルの波長905nmの光線透過率は、86%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましい。樹脂パネルの波長905nmの光線透過率の上限は特に限定されないが、通常は97%以下である。 The light transmittance of the resin panel at a wavelength of 905 nm is preferably 86% or more, and more preferably 88% or more. The upper limit of the light transmittance of the resin panel at a wavelength of 905 nm is not particularly limited, but is usually 97% or less.

樹脂パネルの波長905nmの光線透過率を高くするためには、後述する低反射層を有することが好ましく、さらに、当該低反射層の屈折率及び厚みを後述する範囲とすることがより好ましい。 In order to increase the light transmittance of the resin panel at a wavelength of 905 nm, it is preferable to have a low-reflection layer described later, and it is more preferable to set the refractive index and thickness of the low-reflection layer in the range described later.

本明細書において、樹脂パネルの波長905nmの光線透過率、及び、後述する可視光線透過率は、20箇所の測定値の平均値とする。 In the present specification, the light transmittance of the resin panel at a wavelength of 905 nm and the visible light transmittance described later are taken as the average value of the measured values at 20 points.

樹脂パネルの可視光線透過率は、15%以下であることが好ましく、13%以下であることがより好ましく、11%以下であることがさらに好ましい。
可視光線透過率を下げるには、通常はカーボンブラックが用いられる。しかし、カーボンブラックは赤外線領域の光を吸収するため、波長905nmの光線透過率を低下してしまう。このため、樹脂パネルの可視光線透過率を低くするためには、後述するアゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を用いることが好ましい。
The visible light transmittance of the resin panel is preferably 15% or less, more preferably 13% or less, and further preferably 11% or less.
Carbon black is usually used to reduce the visible light transmittance. However, since carbon black absorbs light in the infrared region, it lowers the light transmittance at a wavelength of 905 nm. Therefore, in order to reduce the visible light transmittance of the resin panel, it is preferable to use one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound described later.

なお、可視光線透過率を低くしすぎても、さらなる効果が得られにくい一方で、波長905nmの光線透過率が低下するおそれがある。このため、樹脂パネルの可視光線透過率は、1%以上であることが好ましく、2%以上であることがより好ましい。 Even if the visible light transmittance is made too low, it is difficult to obtain a further effect, but the light transmittance at a wavelength of 905 nm may decrease. Therefore, the visible light transmittance of the resin panel is preferably 1% or more, and more preferably 2% or more.

なお、本明細書において、「可視光線透過率」とは、波長380〜780nmの分光透過率の平均値を意味する。測定波長間隔は1nmとする。 In the present specification, the "visible light transmittance" means the average value of the spectral transmittances having a wavelength of 380 to 780 nm. The measurement wavelength interval is 1 nm.

<コア層>
コア層は、樹脂又はガラスを主成分として含むものが好ましく、成形性の観点から樹脂を主成分として含むものがより好ましい。
主成分とは、コア層を構成する全固形分の50質量%以上を意味し、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上である。
<Core layer>
The core layer preferably contains resin or glass as a main component, and more preferably contains resin as a main component from the viewpoint of moldability.
The main component means 50% by mass or more of the total solid content constituting the core layer, preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more.

コア層が樹脂を含む場合、インサート成形及びインモールド成形等の射出成形の容易性の観点から熱可塑性樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、AN樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルフォン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂から選ばれる1種または混合物等が挙げられる。これらの中でもポリカーボネート系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましく、耐衝撃性に優れるポリカーボネート系樹脂がより好ましい。
When the core layer contains a resin, a thermoplastic resin is preferable from the viewpoint of ease of injection molding such as insert molding and in-mold molding.
The thermoplastic resins include polystyrene-based resins, polyolefin-based resins, ABS resins, AS resins, AN resins, polyphenylene oxide-based resins, polycarbonate-based resins, polyacetal-based resins, acrylic-based resins, polyethylene terephthalate-based resins, and polybutylene tephthalate-based resins. Examples thereof include one or a mixture selected from resins, polysulfone-based resins, and polyphenylene sulfide-based resins. Among these, polycarbonate-based resins and acrylic-based resins are preferable, and polycarbonate-based resins having excellent impact resistance are more preferable.

―アゾメチンアゾ系化合物、ペリレン系化合物―
コア層は、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含むことが好ましい。アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物は、黒色系の顔料であり、可視光領域の光を吸収しつつ、赤外線領域の光を透過する性質を有する。このため、コア層がアゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含むことにより、樹脂パネルの可視光線透過率を低下させつつ、波長905nmの光線透過率を高い範囲に維持しやすくできる。
-Azomethine azo compounds, perylene compounds-
The core layer preferably contains one or more compounds selected from azomethine azo compounds and perylene compounds. Azomethine Azo-based compounds and perylene-based compounds are black pigments and have a property of transmitting light in the infrared region while absorbing light in the visible light region. Therefore, by containing one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound in the core layer, it is easy to maintain the light transmittance at a wavelength of 905 nm in a high range while lowering the visible light transmittance of the resin panel. it can.

アゾメチンアゾ系化合物は、アゾメチン基を有するアゾ系化合物である。アゾメチン基を有するアゾ系化合物は、例えば、下記の一般式(1)で表される構造単位を分子中に有するアゾ基を有する化合物が挙げられる。
アゾメチンアゾ系化合物は、例えば、特開昭63−91283号公報、特開昭62−32149号公報に記載の手法で製造できる。
また、アゾメチンアゾ系化合物としては、テトラクロロフタルイミドとアミノアニリンの反応化合物であるジアゾニウム基を有する化合物も挙げられる。
Azomethine The azo compound is an azo compound having an azomethine group. Examples of the azo compound having an azomethine group include a compound having an azo group having a structural unit represented by the following general formula (1) in the molecule.
The azomethine azo compound can be produced, for example, by the method described in JP-A-63-921283 and JP-A-62-32149.
Further, examples of the azomethine azo compound include a compound having a diazonium group which is a reaction compound of tetrachlorophthalimide and aminoaniline.

Figure 2021081698

[式(1)中、「Ar」は芳香族化合物又は複素環式化合物の残基であり、「X」は水素原子又はハロゲン原子であり、「m」はArの置換位置に起因する1以上の整数である。「m」は好ましくは1〜4の整数である。]
Figure 2021081698

[In formula (1), "Ar" is a residue of an aromatic compound or a heterocyclic compound, "X" is a hydrogen atom or a halogen atom, and "m" is one or more due to the substitution position of Ar. Is an integer of. "M" is preferably an integer of 1 to 4. ]

ペリレン系化合物は、ペリレンテトラカルボン酸二無水物の六員環を構成している酸素原子2個を脱落させた構造を有する化合物であり、ペリレンブラック等が挙げられる。 The perylene-based compound is a compound having a structure in which two oxygen atoms constituting the six-membered ring of perylenetetracarboxylic dianhydride are removed, and examples thereof include perylene black.

コア層中のアゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物の含有量は、コア層の厚み、及び、後述する意匠層の組成等により異なるため一概にはいえないが、コア層を構成する全固形分の45質量%以下であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましい。 The content of one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound in the core layer varies depending on the thickness of the core layer, the composition of the design layer described later, and the like. The total solid content is preferably 45% by mass or less, and more preferably 5 to 30% by mass.

コア層は、必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤及び難燃剤等の添加剤を含有してもよい。 The core layer may contain additives such as an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant and a flame retardant, if necessary.

コア層の厚みは特に限定されないが、通常、1mm以上であり、1〜10mmであることが好ましい。
本明細書において、樹脂パネルを構成する各層(コア層、意匠層等)の厚みは、樹脂パネルの垂直断面を電子顕微鏡等で観察した際の任意の20箇所の平均値として算出したものとする。
The thickness of the core layer is not particularly limited, but is usually 1 mm or more, preferably 1 to 10 mm.
In the present specification, the thickness of each layer (core layer, design layer, etc.) constituting the resin panel is calculated as an average value of 20 arbitrary points when the vertical cross section of the resin panel is observed with an electron microscope or the like. ..

<反射防止層>
本発明の樹脂パネルは、少なくとも一方の側の表面に反射防止層が配置されてなることが好ましい。反射防止層は、少なくとも樹脂パネルの内層側の表面に配置することが好ましく、樹脂パネルの両側の表面に配置してもよい。なお、樹脂パネルの外層側には優れた耐擦傷性が求められることを考慮すると、樹脂パネルの内層側の表面のみに反射防止層を配置することも好ましい。
なお、一般的な反射防止層は、可視光領域の中心波長である550nm近傍の反射率が最も低くなるように設計されている。本実施形態の反射防止層は、波長905nm近傍の反射率が最も低くなるようにすることが好ましい。
<Anti-reflective layer>
The resin panel of the present invention preferably has an antireflection layer arranged on the surface on at least one side. The antireflection layer is preferably arranged on at least the surface on the inner layer side of the resin panel, and may be arranged on both surfaces of the resin panel. Considering that excellent scratch resistance is required on the outer layer side of the resin panel, it is also preferable to arrange the antireflection layer only on the surface on the inner layer side of the resin panel.
The general antireflection layer is designed so that the reflectance in the vicinity of 550 nm, which is the central wavelength of the visible light region, is the lowest. The antireflection layer of the present embodiment preferably has the lowest reflectance in the vicinity of a wavelength of 905 nm.

反射防止層は、例えば、低屈折率層の単層構造、高屈折率層と低屈折率層の2層構造が挙げられ、さらに3層以上で反射防止層を形成してもよい。高屈折率層と低屈折率層の2層構造の場合、低屈折率層を表面側(=高屈折率層をコア層側)に配置する。
反射防止層の厚みの総和は、反射防止層の構成(単層、2層、3層以上)ごとに、波長905nm近傍の反射率が低くなるように調整すればよい。反射防止層の厚みの総和は、例えば、120〜550nm程度であり、好ましくは170〜450nm程度である。
Examples of the antireflection layer include a single-layer structure of a low refractive index layer and a two-layer structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer, and an antireflection layer may be further formed by three or more layers. In the case of a two-layer structure consisting of a high refractive index layer and a low refractive index layer, the low refractive index layer is arranged on the surface side (= the high refractive index layer is on the core layer side).
The total thickness of the antireflection layer may be adjusted so that the reflectance in the vicinity of the wavelength of 905 nm is low for each configuration of the antireflection layer (single layer, two layers, three layers or more). The total thickness of the antireflection layer is, for example, about 120 to 550 nm, preferably about 170 to 450 nm.

―低屈折率層―
低屈折率層の屈折率は1.28〜1.40であることが好ましく、1.30〜1.38であることがより好ましい。
また、低屈折率層の厚みは、120〜250nmであることが好ましく、120〜200nmであることがより好ましく、150〜200nmであることがさらに好ましい。
低屈折率層の屈折率及び厚みを上記範囲とすることで、波長905nm近傍の反射率が最も低くなるようにしやすくできる。
-Low refractive index layer-
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.28 to 1.40, more preferably 1.30 to 1.38.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 120 to 250 nm, more preferably 120 to 200 nm, and even more preferably 150 to 200 nm.
By setting the refractive index and the thickness of the low refractive index layer in the above range, it is possible to easily make the reflectance in the vicinity of the wavelength of 905 nm the lowest.

低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、後述する低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法により形成する手法が挙げられる。
ウェット法は生産効率の点で優れており、ウェット法の中でも、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。
The method for forming the low refractive index layer can be roughly divided into a wet method and a dry method. As the wet method, a method of forming by a sol-gel method using a metal alkoxide or the like, a method of coating a resin having a low refractive index such as a fluororesin to form the resin, or a low refractive index particles contained in the resin composition. A method of forming by applying a coating liquid for forming a refractive index layer can be mentioned. Examples of the dry method include a method of selecting particles having a desired refractive index from low refractive index particles described later and forming them by a physical vapor deposition method or a chemical vapor deposition method.
The wet method is excellent in terms of production efficiency, and among the wet methods, it is preferably formed by a coating liquid for forming a low refractive index layer in which low refractive index particles are contained in the binder resin composition.

低屈折率粒子は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物からなる粒子、有機化合物からなる粒子のいずれであっても制限なく用いることができるが、低屈折率化により反射防止特性を向上する観点から、空隙を有する構造の粒子が好ましく用いられる。
空隙を有する構造をもつ粒子は、微細な空隙を内部に有しており、例えば、屈折率1.0の空気などの気体が充填されているので、それ自身の屈折率が低いものとなっている。このような空隙を有する粒子としては、無機系、又は有機系の多孔質粒子、中空粒子などが挙げられ、例えば、多孔質シリカ、中空シリカ粒子、又はアクリル樹脂などが用いられた多孔質ポリマー粒子や中空ポリマー粒子が挙げられる。
低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、5〜200nmが好ましく、5〜100nmがより好ましく、10〜80nmがさらに好ましい。
The low refractive index particles can be used without limitation whether they are particles made of an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride or particles made of an organic compound, but from the viewpoint of improving the antireflection property by lowering the refractive index. Therefore, particles having a structure having voids are preferably used.
Particles having a structure having voids have fine voids inside, and are filled with a gas such as air having a refractive index of 1.0, so that the particles themselves have a low refractive index. There is. Examples of the particles having such voids include inorganic or organic porous particles and hollow particles. For example, porous polymer particles using porous silica, hollow silica particles, acrylic resin and the like. And hollow polymer particles.
The average particle size of the primary particles of the low refractive index particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, and even more preferably 10 to 80 nm.

低屈折率粒子の含有量は、バインダー成分100質量部に対して、50〜200質量部であることが好ましく、70〜150質量部であることがより好ましい。 The content of the low refractive index particles is preferably 50 to 200 parts by mass, and more preferably 70 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder component.

バインダー樹脂組成物は、硬化性樹脂組成物が好ましい。硬化性樹脂組成物は、反射防止層中で硬化物となり、バインダー成分となる。
硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、これらの中でも電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
The binder resin composition is preferably a curable resin composition. The curable resin composition becomes a cured product in the antireflection layer and becomes a binder component.
Examples of the curable resin composition include a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition, and among these, an ionizing radiation curable resin composition is preferable.

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて、イソシアネート系硬化剤等の硬化剤が添加される。 The thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating. Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. To the thermosetting resin composition, a curing agent such as an isocyanate-based curing agent is added to these curable resins, if necessary.

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。また、転写シートを製造する過程で樹脂層が傷つくことを抑制する観点からは、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能性(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
The ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter, also referred to as “ionizing radiation curable compound”). Examples of the ionizing radiation curable functional group include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group and an oxetanyl group.
As the ionizing radiation curable resin, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable. Further, from the viewpoint of suppressing damage to the resin layer in the process of producing the transfer sheet, as the ionizing thermosetting resin, a compound having two or more ethylenically unsaturated bonding groups is more preferable, and among them, ethylenically unsaturated. A polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more saturated bond groups is more preferable. As the polyfunctional (meth) acrylate compound, either a monomer or an oligomer can be used.
Note that ionizing radiation means electromagnetic waves or charged particle beams that have energy quanta capable of polymerizing or cross-linking molecules, and usually ultraviolet rays (UV) or electron beams (EB) are used. Electromagnetic waves such as X-rays and γ-rays, and charged particle beams such as α-rays and ion rays can also be used.

多官能性(メタ)アクリレート系化合物のうち、2官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールAテトラプロポキシジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
Among the polyfunctional (meth) acrylate-based compounds, the bifunctional (meth) acrylate-based monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A tetraethoxydiacrylate, bisphenol A tetrapropoxydiacrylate, and 1,6-hexane. Examples thereof include diol diacrylate.
Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate-based monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and di. Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate.
Further, the (meth) acrylate-based monomer may be one in which a part of the molecular skeleton is modified, and is modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol and the like. Can also be used.

また、多官能性(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ(メタ)アクリレートは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
上記電離放射線硬化性樹脂は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate-based oligomer include acrylate-based polymers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polyether (meth) acrylate.
Urethane (meth) acrylate is obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol or an organic diisocyanate with a hydroxy (meth) acrylate.
Further, the preferable epoxy (meth) acrylate is a (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a trifunctional or higher functional aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin or the like, and a bifunctional epoxy resin. (Meta) acrylate obtained by reacting the above aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, etc. with polybasic acid and (meth) acrylic acid, and bifunctional or higher functional aromatic epoxy resin, It is a (meth) acrylate obtained by reacting an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin or the like with phenols and (meth) acrylic acid.
The ionizing radiation curable resin may be used alone or in combination of two or more.

電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、樹脂層形成用塗布液は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる1種以上が挙げられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる1種以上が挙げられる。
When the ionizing radiation curable resin is an ultraviolet curable resin, the coating liquid for forming the resin layer preferably contains an additive such as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator.
Examples of the photopolymerization initiator include one or more selected from acetophenone, benzophenone, α-hydroxyalkylphenone, Michler ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyl oxime ester, thioxanthones and the like.
Further, the photopolymerization accelerator can reduce the polymerization inhibition by air at the time of curing and accelerate the curing rate. For example, from p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester and the like. One or more selected species can be mentioned.

低屈折率層は撥水剤を含むことが好ましい。低屈折率層が撥水剤を含むことにより、樹脂パネルの内側の結露を抑制することができ、結露による赤外線センサーの機能低下を抑制できる。
撥水剤としてはフッ素系化合物が挙げられる。撥水剤の含有量は、低屈折率層の全固形分の1〜30質量%であることが好ましく、3〜20質量%であることがより好ましい。
The low refractive index layer preferably contains a water repellent. Since the low refractive index layer contains a water repellent, dew condensation on the inside of the resin panel can be suppressed, and deterioration of the function of the infrared sensor due to dew condensation can be suppressed.
Examples of the water repellent include fluorine compounds. The content of the water repellent is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, based on the total solid content of the low refractive index layer.

―高屈折率層―
反射防止層は、さらに高屈折率層を有していてもよい。低屈折率層に加えて高屈折率層を有することにより、反射率の低い波長領域が広がり、赤外線レーザーの波長の適用範囲を広げることができる。また、905nm付近の反射率のピークをシャープにすることができ、他の波長の反射率を上げることによりノイズとなる他の波長をカットすることが可能となる。
高屈折率層は低屈折率層よりもコア層側に配置する。
-High refractive index layer-
The antireflection layer may further have a high refractive index layer. By having the high refractive index layer in addition to the low refractive index layer, the wavelength region having low reflectance is widened, and the applicable range of the wavelength of the infrared laser can be widened. Further, the peak of the reflectance near 905 nm can be sharpened, and by increasing the reflectance of other wavelengths, it becomes possible to cut other wavelengths that become noise.
The high refractive index layer is arranged closer to the core layer than the low refractive index layer.

高屈折率層は、屈折率が1.55〜1.85であることが好ましく、1.56〜1.70であることがより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、300nm以下であることが好ましく、20〜250nmであることがより好ましい。
The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.55 to 1.85, more preferably 1.56 to 1.70.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 300 nm or less, and more preferably 20 to 250 nm.

高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層塗布液から形成することができる。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、低屈折率層で例示した硬化性樹脂組成物を用いることができる。 The high refractive index layer can be formed from, for example, a high refractive index layer coating liquid containing a binder resin composition and high refractive index particles. As the binder resin composition, for example, the curable resin composition exemplified in the low refractive index layer can be used.

高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン(1.79)、酸化亜鉛(1.90)、酸化チタン(2.3〜2.7)、酸化セリウム(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95〜2.00)、アンチモンドープ酸化スズ(1.75〜1.85)、酸化イットリウム(1.87)及び酸化ジルコニウム(2.10)等が挙げられる。
高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、5〜200nmが好ましく、5〜100nmがより好ましく、10〜80nmがさらに好ましい。
Examples of high refractive index particles include antimony pentoxide (1.79), zinc oxide (1.90), titanium oxide (2.3 to 2.7), cerium oxide (1.95), and tin-doped indium oxide (1. 95-2.00), antimony-doped tin oxide (1.75-1.85), yttrium oxide (1.87), zirconium oxide (2.10) and the like.
The average particle size of the primary particles of the high refractive index particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, and even more preferably 10 to 80 nm.

―接触角―
反射防止層表面の水接触角は、100度以上であることが好ましく、105度以上であることがより好ましい。接触角を当該範囲とすることにより、樹脂パネルの内側の結露を抑制することができ、結露による赤外線センサーの機能低下を抑制できる。
本明細書において、「水接触角」とは、純水を1.5μL滴下し、着滴2秒後の静的接触角をθ/2法に従って計測したものを意味する。
-Contact angle-
The water contact angle on the surface of the antireflection layer is preferably 100 degrees or more, and more preferably 105 degrees or more. By setting the contact angle within this range, dew condensation inside the resin panel can be suppressed, and deterioration of the function of the infrared sensor due to dew condensation can be suppressed.
In the present specification, the "water contact angle" means that 1.5 μL of pure water is dropped and the static contact angle 2 seconds after the drip is measured according to the θ / 2 method.

<他の層1(コア層と反射防止層との間に位置する層)>
コア層と反射防止層とは、直接密着していてもよいが、他の層を介して密着していることが好ましい。
コア層と反射防止層との間に位置する層としては、例えば、基材A、接着層A及びハードコート層Aが挙げられる。さらに、コア層と反射防止層との間には、外側層として例示する意匠層及びプライマー層等のその他の層を有していてもよい。
<Other layer 1 (layer located between the core layer and the antireflection layer)>
The core layer and the antireflection layer may be in direct contact with each other, but it is preferable that the core layer and the antireflection layer are in close contact with each other via another layer.
Examples of the layer located between the core layer and the antireflection layer include a base material A, an adhesive layer A, and a hard coat layer A. Further, another layer such as a design layer and a primer layer exemplified as an outer layer may be provided between the core layer and the antireflection layer.

図1及び図4のように、反射防止層(23)とコア層(10)との間に基材A(22)及び接着層A(21)を有する場合(≒内側層(20)として、接着層A(21)及び基材A(22)を有する場合)、コア層(10)に対して内側層(20)をラミネートして、コア層と内側層とを密着することが好ましい。
図2及び図5のように、反射防止層(23)とコア層(10)との間に基材A(22)を有する場合(≒内側層(20)として、基材A(22)を有するが、接着層A(21)を有さない場合)、インサート成形により、コア層(10)と内側層(20)とを密着することが好ましい。
図3のように、反射防止層(23)とコア層(10)との間に接着層A(21)を有する場合(≒内側層(20)として、接着層A(21)を有するが、基材A(22)を有さない場合)、転写シート(離型基材上に、反射防止層及び接着層A等を含む転写層(内側層)を備えた転写シート)を用いたインモールド成形により、コア層(10)と内側層(20)とを密着することが好ましい。
As shown in FIGS. 1 and 4, when the base material A (22) and the adhesive layer A (21) are provided between the antireflection layer (23) and the core layer (10) (≈ the inner layer (20)). When the adhesive layer A (21) and the base material A (22) are provided), it is preferable to laminate the inner layer (20) on the core layer (10) so that the core layer and the inner layer are brought into close contact with each other.
As shown in FIGS. 2 and 5, when the base material A (22) is provided between the antireflection layer (23) and the core layer (10) (≈ the inner layer (20), the base material A (22) is used. However, it is preferable that the core layer (10) and the inner layer (20) are brought into close contact with each other by insert molding (when the adhesive layer A (21) is not provided).
As shown in FIG. 3, when the adhesive layer A (21) is provided between the antireflection layer (23) and the core layer (10) (≈ the inner layer (20) is provided with the adhesive layer A (21). In-mold using a base material A (22)) and a transfer sheet (a transfer sheet having a transfer layer (inner layer) including an antireflection layer and an adhesive layer A on a release base material). It is preferable that the core layer (10) and the inner layer (20) are brought into close contact with each other by molding.

―基材A―
基材Aとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体などのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチルなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン6又はナイロン66などで代表されるポリアミド系樹脂などの樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。
これらのプラスチックフィルムの中では、耐熱性及び寸法安定性の観点からは2軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、インサート成形等の成形性及び耐候性の観点からはアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはアクリルとポリカーボネートとの共押し出し品が好ましい。
-Base material A-
Examples of the base material A include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene / vinyl acetate copolymers, vinyl resins such as ethylene / vinyl alcohol copolymers, polyethylene terephthalates, and the like. Represented by polyester resins such as polyethylene naphthalate and polybutylene terephthalate, acrylic resins such as methyl poly (meth) acrylate and ethyl poly (meth) acrylate, styrene resins such as polystyrene, nylon 6 or nylon 66, etc. Examples thereof include a plastic film made of a resin such as a polyamide resin.
Among these plastic films, biaxially stretched polyester film is preferable from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability, and acrylic film, polycarbonate film, or acrylic and polycarbonate are used from the viewpoint of moldability such as insert molding and weather resistance. The co-extruded product of is preferable.

基材Aの厚みは、成形性及び取り扱い性等の観点から、28〜250μmであることが好ましく、38〜200μmであることがより好ましい。 The thickness of the base material A is preferably 28 to 250 μm, more preferably 38 to 200 μm, from the viewpoint of moldability, handleability, and the like.

―接着層A―
接着層Aは、コア層と接する位置に配置することが好ましい。
接着層Aは、感圧接着層(いわゆる「粘着層」)であってもよいし、感熱接着層(いわゆる「ヒートシール層」)であってもよい。上述のラミネートを行う場合には、感圧接着層(粘着層)が好ましく、上述のインモールド成形を行う場合には、感熱接着層(ヒートシール層)が好ましい。
-Adhesive layer A-
The adhesive layer A is preferably arranged at a position in contact with the core layer.
The adhesive layer A may be a pressure-sensitive adhesive layer (so-called “adhesive layer”) or a heat-sensitive adhesive layer (so-called “heat seal layer”). When performing the above-mentioned lamination, a pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) is preferable, and when performing the above-mentioned in-mold molding, a heat-sensitive adhesive layer (heat seal layer) is preferable.

また、接着層Aは、コア層の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を使用することが好ましい。例えば、コア層の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、コア層の材質がポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、コア層の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。 Further, it is preferable to use a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the core layer for the adhesive layer A. For example, when the material of the core layer is an acrylic resin, it is preferable to use an acrylic resin. When the material of the core layer is a polyphenylene oxide-based resin, a polycarbonate-based resin, or a styrene-based resin, it is preferable to use an acrylic resin, a polystyrene-based resin, a polyamide-based resin, or the like having an affinity for these resins. Further, when the material of the core layer is polypropylene resin, it is preferable to use chlorinated polyolefin resin, chlorinated ethylene-vinyl acetate copolymer resin, cyclized rubber, and kumaron indene resin.

接着層Aの厚みは、0.1〜50μmであることが好ましく、0.5〜30μmであることがより好ましい。 The thickness of the adhesive layer A is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 30 μm.

―ハードコート層A―
ハードコート層Aは、反射防止層よりもコア層側であって、反射防止層に接する位置に配置することが好ましい。
ハードコート層Aをかかる位置に配置することにより、樹脂パネルの製造時及び樹脂パネルを赤外線センサーに組み込む際などに、反射防止層の表面が傷つくことを抑制し、所望の透過率を長期に渡って維持しやすくできる。また、ハードコート層Aをかかる位置に配置することにより、ハードコート層Aの屈折率の調整によって、赤外線透過率をより高めることができる。
-Hard coat layer A-
The hard coat layer A is preferably arranged on the core layer side of the antireflection layer and at a position in contact with the antireflection layer.
By arranging the hard coat layer A at such a position, it is possible to prevent the surface of the antireflection layer from being damaged when manufacturing the resin panel or when incorporating the resin panel into the infrared sensor, and to maintain the desired transmittance for a long period of time. Can be easily maintained. Further, by arranging the hard coat layer A at such a position, the infrared transmittance can be further increased by adjusting the refractive index of the hard coat layer A.

ハードコート層Aは、硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことが好ましい。
主成分とは、ハードコート層Aを構成する全固形分の50質量%以上を意味し、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上である。
The hard coat layer A preferably contains a cured product of the curable resin composition as a main component.
The main component means 50% by mass or more of the total solid content constituting the hard coat layer A, preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.

ハードコート層Aの硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
ハードコート層Aの熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物は、低屈折率層の熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物と同様のものが挙げられる。
Examples of the curable resin composition of the hard coat layer A include a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition, and an ionizing radiation curable resin composition is preferable.
Examples of the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition of the hard coat layer A include the same as the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition of the low refractive index layer.

ハードコート層Aは、硬度を高めるために無機粒子を含んでいてもよい。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等が挙げられ、シリカが好ましい。
The hard coat layer A may contain inorganic particles in order to increase the hardness.
Examples of the inorganic particles include silica, alumina, zirconia, titania and the like, and silica is preferable.

無機粒子の平均粒子径は、10nm〜6μmであることが好ましく、30nm〜5μmであることがより好ましい。
本明細書において、平均粒子径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値d50として測定したものである。
The average particle size of the inorganic particles is preferably 10 nm to 6 μm, more preferably 30 nm to 5 μm.
In the present specification, the average particle size is measured as a mass average value d50 in the particle size distribution measurement by the laser light diffraction method.

ハードコート層A中の無機粒子の含有量は、硬化性樹脂組成物の硬化物100質量部に対して、0.1〜30質量部であることが好ましく、1〜20質量部であることがより好ましい。 The content of the inorganic particles in the hard coat layer A is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and preferably 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured product of the curable resin composition. More preferred.

ハードコート層Aの厚みは、1〜20μmであることが好ましく、2〜10μmであることがより好ましく、3〜5μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the hard coat layer A is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 10 μm, and even more preferably 3 to 5 μm.

<意匠層>
本発明の樹脂パネルは、意匠層を有していてもよい。
樹脂パネルが反射防止層を有する場合、意匠層は、反射防止層とコア層との間、又は、コア層の反射防止層とは反対側に位置することが好ましく、中でも、コア層の反射防止層とは反対側に位置することがより好ましい。
すなわち、反射防止層及び意匠層を有する実施形態においては、樹脂パネルは、意匠層、コア層及び反射防止層をこの順に有し、反射防止層が樹脂パネルの表面に配置されてなることがより好ましい。
<Design layer>
The resin panel of the present invention may have a design layer.
When the resin panel has an antireflection layer, the design layer is preferably located between the antireflection layer and the core layer, or on the side opposite to the antireflection layer of the core layer, and above all, the antireflection of the core layer. More preferably, it is located on the opposite side of the layer.
That is, in the embodiment having the antireflection layer and the design layer, the resin panel has the design layer, the core layer, and the antireflection layer in this order, and the antireflection layer is arranged on the surface of the resin panel. preferable.

意匠層は、バインダー樹脂及び着色剤を含むことが好ましい。
意匠層のバインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物及び電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられ、隣接する層(例えば、基材B、プライマー層、ハードコート層B)との密着性を良好にする観点から、隣接する層の組成に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、バインダー樹脂として熱可塑性樹脂を含むと、様々な層との密着性を良好にしやすい点で好ましい。また、隣接する層を熱硬化性樹脂組成物から形成する場合、意匠層のバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂組成物から形成することが好ましい(隣接する層が熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む場合、意匠層のバインダー樹脂は熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。)。
意匠層のバインダー樹脂としての熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂組成物は、コア層の熱可塑性樹脂として例示したもの、低屈折率層の熱硬化性樹脂組成物として例示したものと同様のものが挙げられる。
The design layer preferably contains a binder resin and a colorant.
Examples of the binder resin for the design layer include a thermoplastic resin, a cured product of a thermosetting resin composition, and a cured product of an ionizing radiation curable resin composition, and adjacent layers (for example, base material B, primer layer, and hard material) are used. From the viewpoint of improving the adhesion with the coat layer B), it is preferable to appropriately select the layer according to the composition of the adjacent layer. For example, it is preferable to include a thermoplastic resin as the binder resin because it is easy to improve the adhesion with various layers. When the adjacent layer is formed from a thermosetting resin composition, the binder resin of the design layer is preferably formed from the thermosetting resin composition (the adjacent layer is a cured product of the thermosetting resin composition). When, the binder resin of the design layer preferably contains a cured product of the thermosetting resin composition).
The thermoplastic resin and the thermosetting resin composition as the binder resin of the design layer are the same as those exemplified as the thermoplastic resin of the core layer and the thermosetting resin composition of the low refractive index layer. Can be mentioned.

意匠層の着色剤は、波長905nmの光線透過率を高い範囲で維持する観点から、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物であることが好ましい。すなわち、意匠層は、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含むことが好ましい。 The colorant for the design layer is preferably one or more compounds selected from azomethine azo compounds and perylene compounds from the viewpoint of maintaining the light transmittance at a wavelength of 905 nm in a high range. That is, the design layer preferably contains one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound.

意匠層中のアゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物の含有量は、意匠層の厚み、及び、上述したコア層の組成等により異なるため一概にはいえないが、意匠層を構成する全固形分の5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。 The content of one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound in the design layer varies depending on the thickness of the design layer, the composition of the core layer described above, and the like. The total solid content is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass.

意匠層は、単層構成であってもよいが、網点又はメッシュから形成されてなる第一意匠層と、全面ベタの第二意匠層とを有することが好ましい。当該構成とすることにより、第一意匠層の網点又はメッシュにより意匠性を付与しつつ、第二意匠層の全面ベタ印刷により可視光の隠蔽性が付与され、意匠性と可視光の隠蔽性とを両立しやすくできる。
特に、第一意匠層及び第二意匠層の何れもが、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含むことにより、意匠性と可視光の隠蔽性とを両立しつつ、波長905nmの光線透過率を高い範囲で維持しやすくできる。
The design layer may have a single-layer structure, but it is preferable to have a first unique design layer formed of halftone dots or meshes and a second design layer that is solid on the entire surface. With this configuration, the design property is imparted by the halftone dots or mesh of the first unique design layer, and the visible light concealment property is imparted by the solid printing on the entire surface of the second design layer, and the design property and the visible light concealment property are provided. Can be easily compatible with.
In particular, since both the first unique design layer and the second design layer contain one or more compounds selected from the azomethine azo compound and the perylene compound, the wavelength is achieved while achieving both design and visible light hiding. It is possible to easily maintain the light transmittance of 905 nm in a high range.

第一意匠層の網点は、個々の直径が5〜100μm、網点の中心同士の間隔が20〜200μmであることが好ましい。
第一意匠層のメッシュは、線幅が20〜100μm、線の中心同士の間隔が20〜200μmであることが好ましい。
It is preferable that the halftone dots of the first unique craft layer have individual diameters of 5 to 100 μm and the distance between the centers of the halftone dots is 20 to 200 μm.
The mesh of the first unique design layer preferably has a line width of 20 to 100 μm and a distance between the centers of the lines of 20 to 200 μm.

意匠層の厚み(意匠層が第一意匠層及び第二意匠層を有する場合には、第一意匠層及び第二意匠層の合計厚み)は、0.5〜10μmであることが好ましく、1〜7μmであることがより好ましく、3〜5μmであることがさらに好ましい。
意匠層が第一意匠層及び第二意匠層を有する場合、第一意匠層の厚みと第二意匠層の厚みとの比率は、2:8〜8:2であることが好ましく、4:6〜6:4であることがより好ましい。
The thickness of the design layer (when the design layer has the first unique design layer and the second design layer, the total thickness of the first unique design layer and the second design layer) is preferably 0.5 to 10 μm. It is more preferably about 7 μm, and even more preferably 3 to 5 μm.
When the design layer has the first unique design layer and the second design layer, the ratio of the thickness of the first unique design layer to the thickness of the second design layer is preferably 2: 8 to 8: 2. It is more preferably ~ 6: 4.

<他の層2(コア層の反射防止層とは反対側に位置する層)>
上述したように、意匠層は、コア層の反射防止層とは反対側に位置することが好ましい。なお、コア層の反射防止層とは反対側には、意匠層以外の層を有していてもよい。また、コア層の反射防止層とは反対側には、意匠層を有さないが他の層を有していてもよい(例えば図2、5)。また、コア層の反射防止層とは反対側には、層を有さず、コア層が露出した状態であってもよい(例えば図6)。
<Other layer 2 (layer located on the opposite side of the core layer from the antireflection layer)>
As described above, the design layer is preferably located on the opposite side of the core layer from the antireflection layer. A layer other than the design layer may be provided on the side of the core layer opposite to the antireflection layer. Further, on the side of the core layer opposite to the antireflection layer, a design layer may be provided but another layer may be provided (for example, FIGS. 2 and 5). Further, the core layer may not have a layer on the opposite side of the antireflection layer, and the core layer may be exposed (for example, FIG. 6).

コア層の反射防止層とは反対側に位置する意匠層以外の層としては、基材B、接着層B、プライマー層及びハードコート層B等が挙げられる。 Examples of the layer other than the design layer located on the opposite side of the core layer from the antireflection layer include a base material B, an adhesive layer B, a primer layer, and a hard coat layer B.

図4及び図5のように、コア層10の反射防止層とは反対側に基材B(31)を有する場合(≒外側層(30)として、基材B(31)を有するが、接着層B(32)を有さない場合)、インサート成形により、コア層(10)と外側層(30)とを密着することが好ましい。
図1〜図3のように、コア層10の反射防止層とは反対側に接着層B(32)を有する場合(≒外側層(30)として、接着層B(32)を有するが、基材B(31)を有さない場合)、転写シート(離型基材上に、接着層B等を含む転写層(外側層)を備えた転写シート)を用いたインモールド成形により、コア層(10)と外側層(30)とを密着し、その後、離型基材を剥離することが好ましい。
また、図示しないが、コア層の反射防止層とは反対側に接着層B及び基材Bを有する場合(≒外側層として、接着層B及び基材Bを有する場合)、コア層に対して外側層をラミネートして、コア層と外側層とを密着することが好ましい。
As shown in FIGS. 4 and 5, when the base material B (31) is provided on the side opposite to the antireflection layer of the core layer 10 (≈ the outer layer (30) has the base material B (31), but the base material B (31) is adhered. When the layer B (32) is not provided), it is preferable that the core layer (10) and the outer layer (30) are brought into close contact with each other by insert molding.
As shown in FIGS. 1 to 3, when the adhesive layer B (32) is provided on the side opposite to the antireflection layer of the core layer 10 (≈ the outer layer (30) is provided with the adhesive layer B (32), but the base. The core layer is formed by in-mold molding using a material B (31)) and a transfer sheet (a transfer sheet having a transfer layer (outer layer) including an adhesive layer B or the like on a release base material). It is preferable that (10) and the outer layer (30) are brought into close contact with each other, and then the release base material is peeled off.
Further, although not shown, when the adhesive layer B and the base material B are provided on the opposite side of the core layer from the antireflection layer (≈ when the adhesive layer B and the base material B are provided as the outer layer), the core layer is It is preferable to laminate the outer layer so that the core layer and the outer layer are in close contact with each other.

―基材B―
基材Bとしては、基材Aで例示したプラスチックフィルムが挙げられる。
これらのプラスチックフィルムの中では、耐熱性及び寸法安定性の観点からは2軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、インサート成形等の成形性及び耐候性の観点からはアクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、又はアクリルとポリカーボネートの共押し出しフィルムが好ましい。
-Base material B-
Examples of the base material B include the plastic film exemplified in the base material A.
Among these plastic films, biaxially stretched polyester film is preferable from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability, and acrylic film, polycarbonate film, or acrylic and polycarbonate from the viewpoint of moldability such as insert molding and weather resistance. A co-extruded film is preferred.

基材Bの厚みは、成形性及び取り扱い性、並びに、飛び石耐性等の観点から、28〜300μmであることが好ましく、75〜250μmであることがより好ましい。 The thickness of the base material B is preferably 28 to 300 μm, more preferably 75 to 250 μm, from the viewpoints of moldability, handleability, and resistance to flying stones.

―接着層B―
接着層Bは、感圧接着層(いわゆる「粘着層」)であってもよいし、感熱接着層(いわゆる「ヒートシール層」)であってもよい。上述のラミネートを行う場合には、感圧接着層(粘着層)が好ましく、上述のインモールド成形を行う場合には、感熱接着層(ヒートシール層)が好ましい。
-Adhesive layer B-
The adhesive layer B may be a pressure-sensitive adhesive layer (so-called “adhesive layer”) or a heat-sensitive adhesive layer (so-called “heat seal layer”). When performing the above-mentioned lamination, a pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) is preferable, and when performing the above-mentioned in-mold molding, a heat-sensitive adhesive layer (heat seal layer) is preferable.

また、接着層Bは、コア層の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を使用することが好ましい。コア層の材質に応じた接着層Bの好ましい実施形態は、接着層Aの好ましい実施形態と同様である。 Further, it is preferable to use a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the core layer for the adhesive layer B. The preferred embodiment of the adhesive layer B according to the material of the core layer is the same as the preferred embodiment of the adhesive layer A.

接着層Bの厚みは、0.1〜50μmであることが好ましく、0.5〜30μmであることがより好ましい。 The thickness of the adhesive layer B is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 30 μm.

―ハードコート層B―
ハードコート層Bは、コア層の反射防止層とは反対側に位置する層の最表面に配置することが好ましい。すなわち、ハードコート層Bは、外側層の表面側(外側層のコア層から最も遠い側)に配置してなることが好ましい。ハードコート層Bをかかる位置に配置することにより、樹脂パネルの耐擦傷性を向上し、赤外線センサーの機能を長期に渡って維持しやすくできる。
-Hard coat layer B-
The hard coat layer B is preferably arranged on the outermost surface of the layer located on the opposite side of the core layer from the antireflection layer. That is, the hard coat layer B is preferably arranged on the surface side of the outer layer (the side farthest from the core layer of the outer layer). By arranging the hard coat layer B at such a position, the scratch resistance of the resin panel can be improved, and the function of the infrared sensor can be easily maintained for a long period of time.

ハードコート層Bは、硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことが好ましい。
主成分とは、ハードコート層Bを構成する全固形分の50質量%以上を意味し、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上である。
The hard coat layer B preferably contains a cured product of the curable resin composition as a main component.
The main component means 50% by mass or more of the total solid content constituting the hard coat layer B, preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.

ハードコート層Bの硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
ハードコート層Bの熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物は、低屈折率層の熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物と同様のものが挙げられる。
Examples of the curable resin composition of the hard coat layer B include a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition, and an ionizing radiation curable resin composition is preferable.
Examples of the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition of the hard coat layer B include the same as the thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition of the low refractive index layer.

ハードコート層Bは、硬度を高めるために無機粒子を含んでいてもよい。
ハードコート層Bの無機粒子の実施形態(粒子の種類、平均粒子径、含有量)は、ハードコート層Aの無機粒子の実施形態と同様である。
The hard coat layer B may contain inorganic particles in order to increase the hardness.
The embodiment of the inorganic particles of the hard coat layer B (particle type, average particle size, content) is the same as that of the inorganic particles of the hard coat layer A.

ハードコート層Bは、外側に位置するため耐候剤を含むことが好ましい。
耐候剤としては、汎用の紫外線吸収剤及び光安定剤が挙げられる。耐候剤の含有量は、硬化性樹脂組成物の硬化物100質量部に対して、0.1〜15質量部であることが好ましく、0.5〜10質量部であることがより好ましい。
Since the hard coat layer B is located on the outside, it is preferable to contain a weather resistant agent.
Examples of the weather resistant agent include general-purpose ultraviolet absorbers and light stabilizers. The content of the weathering agent is preferably 0.1 to 15 parts by mass, and more preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cured product of the curable resin composition.

ハードコート層Bの厚みは、1〜20μmであることが好ましく、2〜10μmであることがより好ましく、3〜5μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the hard coat layer B is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 10 μm, and even more preferably 3 to 5 μm.

―プライマー層―
プライマー層は、層間密着性を高めるために、必要に応じて各層の間に配置する層である。プライマー層の位置は特に限定されず、例えば、ハードコート層Bと意匠層との間に配置することができる。
-Primer layer-
The primer layer is a layer arranged between the layers as needed in order to enhance the interlayer adhesion. The position of the primer layer is not particularly limited, and for example, it can be arranged between the hard coat layer B and the design layer.

プライマー層は、樹脂成分を主成分として含むことが好ましい。
プライマー層の樹脂成分としては、熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられ、硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましく、熱硬化性樹脂組成物の硬化物がより好ましい。
プライマーの樹脂成分として用いる熱硬化性樹脂組成物としては、低屈折率層で例示した熱硬化性樹脂組成物と同様のものが挙げられる。
The primer layer preferably contains a resin component as a main component.
Examples of the resin component of the primer layer include a cured product of a thermoplastic resin and a curable resin composition, and a cured product of the curable resin composition is preferable, and a cured product of the thermosetting resin composition is more preferable.
Examples of the thermosetting resin composition used as the resin component of the primer include the same thermosetting resin compositions exemplified in the low refractive index layer.

プライマー層の厚みは、1〜20μmであることが好ましく、2〜10μmであることがより好ましく、3〜5μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the primer layer is preferably 1 to 20 μm, more preferably 2 to 10 μm, and even more preferably 3 to 5 μm.

―ATO(アンチモン酸化スズ)、ITO(スズ酸化インジウム)―
本発明の樹脂パネルは、外側層の何れかの層に、ATO及びITOから選ばれる1以上の赤外線吸収剤を含んでいてもよい。
ATO及びITOは、波長905nmの光を所定の割合で透過する一方、波長905nmを超える近赤外線の大部分を吸収できる特性を有する。このため、外側層の何れかの層に、ATO及びITOから選ばれる1以上の赤外線吸収剤を含むことにより、波長905nmの光線透過率を高いレベルで維持する一方で、波長905nmを超える近赤外線をカットすることにより赤外線センサー内部の温度上昇を抑制し、赤外線センサーの機能を十分に発揮しやすくできる。
-ATO (antimony tin oxide), ITO (tin indium oxide)-
The resin panel of the present invention may contain one or more infrared absorbers selected from ATO and ITO in any of the outer layers.
ATO and ITO have a property of transmitting most of the near infrared rays having a wavelength of more than 905 nm while transmitting light having a wavelength of 905 nm at a predetermined ratio. Therefore, by including one or more infrared absorbers selected from ATO and ITO in any of the outer layers, the light transmittance at a wavelength of 905 nm is maintained at a high level, while near infrared rays having a wavelength exceeding 905 nm are maintained. By cutting the infrared sensor, it is possible to suppress the temperature rise inside the infrared sensor and make it easier to fully demonstrate the function of the infrared sensor.

ATO及びITOから選ばれる1以上の赤外線吸収剤は、接着層B、ハードコート層B及びプライマー層から選ばれる何れか1以上の層に含まれることが好ましい。
ATO及びITOから選ばれる1以上の赤外線吸収剤の含有量は、樹脂パネルの波長905nmの光線透過率を85%以上に維持できる範囲で適宜調整すればよい。
なお、赤外線吸収剤の代表例である、セシウム酸化タングステン及び六ホウ化ランタンを用いた場合は、波長905nmの光線透過率を高いレベルで維持することが困難である。
It is preferable that one or more infrared absorbers selected from ATO and ITO are contained in any one or more layers selected from the adhesive layer B, the hard coat layer B, and the primer layer.
The content of one or more infrared absorbers selected from ATO and ITO may be appropriately adjusted within a range in which the light transmittance of the resin panel at a wavelength of 905 nm can be maintained at 85% or more.
When tungsten cesium oxide and lanthanum hexaboride, which are typical examples of infrared absorbers, are used, it is difficult to maintain a high level of light transmittance at a wavelength of 905 nm.

[樹脂パネルの製造方法]
本発明の樹脂パネルは、例えば、ラミネート、インサート成形及びインモールド成形等により製造することができる。
以下、図1〜6の樹脂パネルの製造例を説明する。
[Manufacturing method of resin panel]
The resin panel of the present invention can be manufactured, for example, by laminating, insert molding, in-mold molding, or the like.
Hereinafter, examples of manufacturing the resin panels of FIGS. 1 to 6 will be described.

<図1の樹脂パネルの製造例>
図1の樹脂パネルは、例えば、下記1−1〜1−5を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel shown in FIG. 1>
The resin panel of FIG. 1 can be manufactured, for example, by a process including the following 1-1 to 1-5.

1−1.接着層A(21)、基材A(22)、ハードコート層A(24)及び反射防止層(23)をこの順に有する、内側層(20)形成用のラミネートフィルムを用意する工程。
1−2.離型基材B(図示せず)、ハードコート層B(35)、意匠層(33)及び接着層B(32)をこの順に有する、外側層(30)形成用のインモールド成形用の転写シートBを用意する工程。
1−3.インモールド成形用金型内に、上記1−2の転写シートBを配置し(転写シートBは、接着層B(32)が金型の内側を向くように金型内に配置する。その後、コア層形成用組成物を射出注入し、コア層(10)と、転写シートBの接着層B(32)とを密着させた積層体を得る工程。
1−4.上記1−3で得た積層体から離型基材Bを剥離する工程。
1−5.上記1−3で得た積層体又は上記1−4の離型基材Bを剥離した積層体のコア層(10)が露出した面側に、上記1−1のラミネートフィルムの接着層A(21)側を貼り合わせる工程。
1-1. A step of preparing a laminate film for forming an inner layer (20) having an adhesive layer A (21), a base material A (22), a hard coat layer A (24), and an antireflection layer (23) in this order.
1-2. Transfer for in-mold molding for forming the outer layer (30), which has the release base material B (not shown), the hard coat layer B (35), the design layer (33), and the adhesive layer B (32) in this order. The process of preparing sheet B.
1-3. The transfer sheet B of 1-2 is arranged in the in-mold molding mold (the transfer sheet B is arranged in the mold so that the adhesive layer B (32) faces the inside of the mold). A step of injecting a core layer forming composition by injection to obtain a laminate in which the core layer (10) and the adhesive layer B (32) of the transfer sheet B are in close contact with each other.
1-4. A step of peeling the release base material B from the laminate obtained in 1-3 above.
1-5. On the surface side where the core layer (10) of the laminate obtained in 1-3 or the release base material B of 1-4 is peeled off, the adhesive layer A of the laminate film of 1-1 is exposed. 21) The process of pasting the sides together.

<図2の樹脂パネルの製造例>
図2の樹脂パネルは、例えば、下記2−1〜2−5を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel shown in FIG. 2>
The resin panel of FIG. 2 can be manufactured, for example, by a process including the following 2-1 to 2-5.

2−1.基材A(22)、ハードコート層A(24)及び反射防止層(23)をこの順に有する、内側層(20)形成用のインサート成形用フィルムAを用意する工程。
2−2.離型基材B(図示せず)、ハードコート層B(35)及び接着層B(32)をこの順に有する、外側層(30)形成用のインモールド成形用の転写シートBを用意する工程。
2−3.真空成形型内に上記2−1のインサート成形用フィルムAを配置し、真空成形(オフライン予備成形)し、必要に応じて余分な部分をトリミングして成形シートAを得る工程。
2−4.一対の射出成形(インサート及びインモールド一括成形)用金型の一方の側に、上記2−3で得た成形シートAを配置するとともに、前記金型の他方の側に、上記2−2の転写シートBを配置し、その後、コア層形成用組成物を射出注入し、成形シートAの基材A(22)と、コア層(10)と、転写シートBの接着層B(32)とを密着させた積層体を得る工程。
2−5.上記2−4で得た積層体から離型基材Bを剥離する工程。
2-1. A step of preparing an insert molding film A for forming an inner layer (20), which has a base material A (22), a hard coat layer A (24), and an antireflection layer (23) in this order.
2-2. A step of preparing a transfer sheet B for in-mold molding for forming an outer layer (30), which has a release base material B (not shown), a hard coat layer B (35), and an adhesive layer B (32) in this order. ..
2-3. A step of arranging the insert molding film A of 2-1 in the vacuum forming mold, vacuum forming (offline preforming), and trimming an excess portion as necessary to obtain a forming sheet A.
2-4. The molding sheet A obtained in 2-3 above is placed on one side of a pair of injection molding (insert and in-mold batch molding) dies, and 2-2 above is placed on the other side of the dies. The transfer sheet B is arranged, and then the core layer forming composition is injection-injected into the base material A (22) of the molded sheet A, the core layer (10), and the adhesive layer B (32) of the transfer sheet B. The process of obtaining a laminated body in which the above is closely adhered.
2-5. A step of peeling the release base material B from the laminate obtained in 2-4 above.

<図3の樹脂パネルの製造例>
図3の樹脂パネルは、例えば、下記3−1〜3−4を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel shown in FIG. 3>
The resin panel of FIG. 3 can be manufactured, for example, by a process including the following 3-1 to 3-4.

3−1.離型基材A(図示せず)、反射防止層(23)、ハードコート層A(24)及び接着層A(21)をこの順に有する、内側層(20)形成用のインモールド成形用の転写シートAを用意する工程。
3−2.離型基材B(図示せず)、ハードコート層B(35)、意匠層(33)及び接着層B(32)をこの順に有する、外側層(30)形成用のインモールド成形用の転写シートBを用意する工程。
3−3.一対のインモールド成形用金型の一方の側に、上記3−1の転写シートAを配置するとともに、前記金型の他方の側に、上記3−2の転写シートBを配置し(転写シートA及び転写シートBは、接着層A(21)及び接着層B(32)がそれぞれ金型の内側を向き、接着層Aと接着層Bとが対向するように金型内に配置する。)、その後、コア層形成用組成物を射出注入し、転写シートAの接着層A(21)と、コア層(10)と、転写シートBの接着層B(32)とを密着させた積層体を得る工程。
3−4.金型を開き、上記3−3で得た積層体から離型基材A及び離型基材Bを剥離する工程。
3-1. For in-mold molding for forming the inner layer (20), which has the release base material A (not shown), the antireflection layer (23), the hard coat layer A (24), and the adhesive layer A (21) in this order. A step of preparing the transfer sheet A.
3-2. Transfer for in-mold molding for forming the outer layer (30), which has the release base material B (not shown), the hard coat layer B (35), the design layer (33), and the adhesive layer B (32) in this order. The process of preparing sheet B.
3-3. The transfer sheet A of 3-1 is arranged on one side of the pair of in-mold molding dies, and the transfer sheet B of 3-2 is arranged on the other side of the mold (transfer sheet). A and the transfer sheet B are arranged in the mold so that the adhesive layer A (21) and the adhesive layer B (32) face the inside of the mold, respectively, and the adhesive layer A and the adhesive layer B face each other.) After that, the composition for forming the core layer is injection-injected, and the adhesive layer A (21) of the transfer sheet A, the core layer (10), and the adhesive layer B (32) of the transfer sheet B are brought into close contact with each other. The process of obtaining.
3-4. A step of opening the mold and peeling the release base material A and the release base material B from the laminate obtained in 3-3.

<図4の樹脂パネルの製造例>
図4の樹脂パネルは、例えば、下記4−1〜4−5を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel in FIG. 4>
The resin panel of FIG. 4 can be manufactured, for example, by a process including the following 4-1 to 4-5.

4−1.接着層A(21)、基材A(22)及び反射防止層(23)をこの順に有する、内側層(20)形成用のラミネートフィルムを用意する工程。
4−2.基材B(31)、意匠層(33)、プライマー層(34)及びハードコート層B(35)をこの順に有する、外側層(30)形成用のインサート成形用フィルムを用意する工程。
4−3.真空成形型内に上記4−2のインサート成形用フィルムを配置し、真空成形(オフライン予備成形)し、必要に応じて余分な部分をトリミングして成形シートを得る工程。
4−4.上記4−3で得た成形シートを射出成形型に挿入し、コア層形成用組成物を射出注入し、コア層(10)と、成形用シート(外側層)とを密着させた積層体を得る工程。
4−5.上記4−4で得た積層体のコア層が露出した面側に、上記4−1のラミネートフィルムの接着層A(21)側を貼り合わせる工程。
4-1. A step of preparing a laminate film for forming an inner layer (20), which has an adhesive layer A (21), a base material A (22), and an antireflection layer (23) in this order.
4-2. A step of preparing an insert molding film for forming an outer layer (30), which has a base material B (31), a design layer (33), a primer layer (34), and a hard coat layer B (35) in this order.
4-3. A step of arranging the above-mentioned 4-2 insert molding film in a vacuum forming mold, vacuum forming (offline preforming), and trimming an excess portion as necessary to obtain a molded sheet.
4-4. The molding sheet obtained in 4-3 above is inserted into an injection molding die, the composition for forming a core layer is injection-injected, and a laminate in which the core layer (10) and the molding sheet (outer layer) are in close contact with each other is formed. The process of obtaining.
4-5. A step of bonding the adhesive layer A (21) side of the laminate film of 4-1 to the exposed surface side of the core layer of the laminate obtained in 4-4.

<図5の樹脂パネルの製造例>
図5の樹脂パネルは、例えば、下記5−1〜5−5を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel shown in FIG. 5>
The resin panel of FIG. 5 can be manufactured, for example, by a process including the following 5-1 to 5-5.

5−1.基材A(22)、ハードコート層A(24)及び反射防止層(23)をこの順に有する、内側層(20)形成用のインサート成形用フィルムAを用意する工程。
5−2.基材B(31)、プライマー層(34)及びハードコート層B(35)をこの順に有する、外側層(30)形成用のインサート成形用フィルムBを用意する工程。
5−3.真空成形型内に上記5−1のインサート成形用フィルムAを配置し、真空成形(オフライン予備成形)し、必要に応じて余分な部分をトリミングして成形シートAを得る工程。
5−4.真空成形型内に上記5−2のインサート成形用フィルムBを配置し、真空成形(オフライン予備成形)し、必要に応じて余分な部分をトリミングして成形シートBを得る工程。
5−5.一対のインサート成形用金型の一方の側に、上記5−3で得た成形シートAを配置するとともに、前記金型の他方の側に、上記5−4で得た成形シートBを配置した後、コア層形成用組成物を射出注入し、成形用シートA(内側層)と、コア層(10)と、成形用シートB(外側層)とを密着させた積層体を得る工程。
5-1. A step of preparing an insert molding film A for forming an inner layer (20), which has a base material A (22), a hard coat layer A (24), and an antireflection layer (23) in this order.
5-2. A step of preparing an insert molding film B for forming an outer layer (30), which has a base material B (31), a primer layer (34), and a hard coat layer B (35) in this order.
5-3. A step of arranging the insert molding film A of 5-1 above in a vacuum forming mold, vacuum forming (offline preforming), and trimming an excess portion as necessary to obtain a forming sheet A.
5-4. A step of arranging the insert molding film B of 5-2 in a vacuum forming mold, vacuum forming (offline preforming), and trimming an excess portion as necessary to obtain a forming sheet B.
5-5. The molding sheet A obtained in 5-3 above was placed on one side of the pair of insert molding dies, and the molding sheet B obtained in 5-4 above was placed on the other side of the mold. After that, the composition for forming the core layer is injected and injected to obtain a laminate in which the molding sheet A (inner layer), the core layer (10), and the molding sheet B (outer layer) are in close contact with each other.

<図6の樹脂パネルの製造例>
図6の樹脂パネルは、例えば、下記6−1〜6−3を含む工程で製造することができる。
<Manufacturing example of the resin panel in FIG. 6>
The resin panel of FIG. 6 can be manufactured, for example, by a process including the following 6-1 to 6-3.

6−1.接着層A(21)、基材A(22)及び反射防止層(23)をこの順に有する、内側層(20)形成用のラミネートフィルムを用意する工程。
6−2.成形済みのコア層(10)を用意する工程。
6−3.コア層に、上記6−1のラミネートフィルムの接着層A(21)側を貼り合わせる工程。
6-1. A step of preparing a laminate film for forming an inner layer (20), which has an adhesive layer A (21), a base material A (22), and an antireflection layer (23) in this order.
6-2. A step of preparing a molded core layer (10).
6-3. A step of adhering the adhesive layer A (21) side of the laminate film of 6-1 to the core layer.

[赤外線センサー]
本発明の赤外線センサーは、赤外線発光素子と、赤外線受光素子と、前記赤外線発光素子及び前記赤外線受光素子の前面に配置されてなる保護カバーとを有してなり、前記保護カバーが上述した本発明の樹脂パネルであるものである。
[Infrared sensor]
The infrared sensor of the present invention includes an infrared light emitting element, an infrared light receiving element, and a protective cover arranged in front of the infrared light emitting element and the infrared light receiving element, and the protective cover is the above-described invention of the present invention. It is a resin panel of.

赤外線発光素子は、赤外線レーザーを発光するものであれば、特に制限されることなく使用できる。赤外線レーザーの波長は905nmであることが好ましい。
また、赤外線受光素子は、上記赤外線レーザーを受光できるものであれば、特に制限されることなく使用できる。
赤外線発光素子及び赤外線受光素子は、筐体内に配置されることが好ましい。
The infrared light emitting element can be used without particular limitation as long as it emits an infrared laser. The wavelength of the infrared laser is preferably 905 nm.
Further, the infrared light receiving element can be used without particular limitation as long as it can receive the infrared laser.
The infrared light emitting element and the infrared light receiving element are preferably arranged in the housing.

筐体は窓部を有し、窓部を通して、赤外線を照射、受光できることが好ましい。また、窓部には保護カバーを設置することが好ましい。 It is preferable that the housing has a window portion and can irradiate and receive infrared rays through the window portion. Further, it is preferable to install a protective cover on the window portion.

保護カバーは、赤外線発光素子及び赤外線受光素子の前面に配置される。本発明の赤外線センサーは、保護カバーとして上述した本発明の樹脂パネルを用いることを要する。
保護カバーとして上述した本発明の樹脂パネルを用いることにより、赤外線センサーが誤作動しにくくなり、赤外線センサーを十分に機能させることができる。
樹脂パネルが反射防止層を有する場合、反射防止層を有する側が赤外線発光素子及び赤外線受光素子側を向くように樹脂パネルを配置することが好ましい。
The protective cover is arranged in front of the infrared light emitting element and the infrared light receiving element. The infrared sensor of the present invention needs to use the resin panel of the present invention described above as a protective cover.
By using the resin panel of the present invention described above as the protective cover, the infrared sensor is less likely to malfunction, and the infrared sensor can function sufficiently.
When the resin panel has an antireflection layer, it is preferable to arrange the resin panel so that the side having the antireflection layer faces the infrared light emitting element and the infrared light receiving element side.

赤外線センサーは、距離センサー(LiDAR)として有用であり、例えば、自動車運転用センサーとして用いることができる。 The infrared sensor is useful as a distance sensor (LiDAR) and can be used, for example, as a sensor for driving a car.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the embodiments described in the examples.

1.測定、評価
実施例及び比較例で得られた樹脂パネルについて以下の測定及び評価を行った。結果を表1に示す。
1. 1. Measurement and Evaluation The following measurements and evaluations were performed on the resin panels obtained in Examples and Comparative Examples. The results are shown in Table 1.

1−1.透過率
下記の機能及び仕様を備えた紫外可視分光光度計を用いて、樹脂パネルの波長905nmの光線透過率(赤外線透過率)、及び、可視光線透過率を測定した。なお、実施例1〜4及び比較例3に関しては、内側面(反射防止層を有する側の面)を光入射面とした場合、及び、外側面を光入射面とした場合の両方で測定を実施した。
1-1. Transmittance The light transmittance (infrared transmittance) at a wavelength of 905 nm and the visible light transmittance of the resin panel were measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer equipped with the following functions and specifications. Regarding Examples 1 to 4 and Comparative Example 3, the measurement was performed both when the inner surface (the surface having the antireflection layer) was the light incident surface and when the outer surface was the light incident surface. Carried out.

<機能及び仕様>
・機種;日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計(型番:V−670)
・付属ユニット;積分球ユニット(日本分光株式会社製、品番:ISN−723)
・光源;重水素ランプ(190〜350nm)、ハロゲンランプ(330〜2700nm)
・測定波長間隔;1nm
・測定スポット径:2〜20mm
<Functions and specifications>
-Model: Ultraviolet-visible spectrophotometer manufactured by JASCO Corporation (model number: V-670)
-Attached unit: Integrating sphere unit (manufactured by JASCO Corporation, product number: ISN-723)
-Light source: Deuterium lamp (190-350 nm), halogen lamp (330-2700 nm)
-Measurement wavelength interval; 1 nm
・ Measurement spot diameter: 2 to 20 mm

1−2.耐擦傷性
実施例1〜4及び比較例3の樹脂パネルの外側面(反射防止層を有する側とは反対側の面)、及び、比較例1〜2の樹脂パネルのコア層が露出している面に対して、100g/mの荷重でスチールウール(「ボンスター#0000」、日本スチールウール社製)を100往復させて、表面の状態を目視で観察した。傷付きがなく、艶の変化が確認されないといえるレベルであったものを3点、軽微な傷付き、及び軽微な艶の変化が確認されたものを2点、傷付きが確認され、著しい艶変化が確認されたものを1点として、20人の被験者が評価した。20人の評価の平均点を算出し、下記基準によりランク付けした。
<耐擦傷性評価基準>
A:平均点が2.5以上
B:平均点が2.0以上2.5未満
C:平均点が2.0未満
1-2. Scratch resistance The outer surface of the resin panels of Examples 1 to 4 and Comparative Example 3 (the surface opposite to the side having the antireflection layer) and the core layer of the resin panels of Comparative Examples 1 and 2 are exposed. Steel wool (“Bonster # 0000”, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was reciprocated 100 times with a load of 100 g / m 2 with respect to the surface, and the surface condition was visually observed. There were no scratches and the level was such that no change in gloss was confirmed, 3 points, slight scratches, and 2 points where slight changes in gloss were confirmed, scratches were confirmed, and significant gloss. Twenty subjects evaluated the results with one point being the one in which the change was confirmed. The average score of the evaluation of 20 people was calculated and ranked according to the following criteria.
<Scratch resistance evaluation criteria>
A: Average score is 2.5 or more B: Average score is 2.0 or more and less than 2.5 C: Average score is less than 2.0

2.塗布液の調製
下記の塗布液を調製した。なお、「部」及び「%」は質量基準である。
2. Preparation of coating liquid The following coating liquid was prepared. In addition, "part" and "%" are based on mass.

<ハードコート層用塗布液1>
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 100部
(固形分35%、トルエン/酢酸エチル混合溶剤)
・光重合開始剤 1.5部
(IGM Resins B.V.社、商品名「Omnirad 184」)
<Coating liquid for hard coat layer 1>
-Urethane acrylate-based UV curable resin composition 100 parts (solid content 35%, toluene / ethyl acetate mixed solvent)
-Photopolymerization initiator 1.5 parts (IGM Resins BV, trade name "Omnirad 184")

<ハードコート層用塗布液2(電子線硬化タイプ)>
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 100部
(固形分35%、トルエン/酢酸エチル混合溶剤)
・シリカ粒子 5部
(平均粒子径:3μm)
・耐候剤 3部
(BASF社製、品番:Tinuvin479)
<Coating liquid 2 for hard coat layer (electron beam curing type)>
-Urethane acrylate-based UV curable resin composition 100 parts (solid content 35%, toluene / ethyl acetate mixed solvent)
・ 5 parts of silica particles (average particle size: 3 μm)
-Weather resistant 3 parts (manufactured by BASF, product number: Tinuvin479)

<接着層(粘着層)形成用の積層体1>
・厚み25μmの透明粘着剤層の両面にセパレータを有する積層体(パナック社製、商品名:パナクリーンPD-S1)を準備した。
<Laminated body 1 for forming an adhesive layer (adhesive layer)>
-A laminate (manufactured by Panac Co., Ltd., trade name: Panaclean PD-S1) having separators on both sides of a transparent adhesive layer having a thickness of 25 μm was prepared.

<接着層(ヒートシール層)用塗布液2>
・アクリル樹脂 100部
(商品名「TM−R600(NT)K3」、大日精化工業社製、固形分20%)
・希釈溶剤 適量
(メチルエチルケトン、トルエン)
<Coating liquid 2 for adhesive layer (heat seal layer)>
・ 100 parts of acrylic resin (trade name “TM-R600 (NT) K3”, manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., solid content 20%)
・ Diluting solvent Appropriate amount (methyl ethyl ketone, toluene)

<低屈折率層用塗布液1>
・紫外線硬化性化合物 1.0部
(3〜4官能のアルコキシ化ペンタエリスリトールアクリレート、日本化薬社製、商品名「PET−30」)
・光重合開始剤 0.07部
(IGM Resins B.V.社、商品名「Omnirad 127」)
・中空シリカ 1.1部
(平均粒子径60nm)
・フッ素系防汚剤 0.1部(有効成分:0.005質量部)
(信越化学工業社製、商品名「X−71−1203M」)
・希釈溶剤 適量
<Coating liquid for low refractive index layer 1>
-Ultraviolet curable compound 1.0 part (3-4 functional alkoxylated pentaerythritol acrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "PET-30")
-Photopolymerization initiator 0.07 part (IGM Resins BV, trade name "Omnirad 127")
-Hollow silica 1.1 parts (average particle size 60 nm)
・ Fluorine-based antifouling agent 0.1 parts (active ingredient: 0.005 parts by mass)
(Product name "X-71-1203M" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
・ Appropriate amount of diluting solvent

<意匠層用塗布液1(第一意匠層、第二意匠層で共通)>
・バインダー樹脂 100質量部
(アクリルウレタン系樹脂)
・アゾメチンアゾ系化合物 20質量部
(黒色系顔料、大日精化工業製、商品名:クロモファインブラックA1103)
・希釈溶剤 適量
<Coating liquid 1 for design layer (common to the first unique design layer and the second design layer)>
Binder resin 100 parts by mass (acrylic urethane resin)
20 parts by mass of azomethine azo compound (black pigment, manufactured by Dainichiseika Kogyo, trade name: Chromofine Black A1103)
・ Appropriate amount of diluting solvent

<意匠層用塗布液2(第一意匠層、第二意匠層で共通)>
・バインダー樹脂 100質量部
(アクリルウレタン系樹脂)
・アゾメチンアゾ系化合物 40質量部
(黒色系顔料、大日精化工業製、商品名:クロモファインブラックA1103)
・希釈溶剤 適量
<Coating liquid 2 for design layer (common to the first unique design layer and the second design layer)>
Binder resin 100 parts by mass (acrylic urethane resin)
40 parts by mass of azomethine azo compound (black pigment, manufactured by Dainichiseika Kogyo, trade name: Chromofine Black A1103)
・ Appropriate amount of diluting solvent

<プライマー層用塗布液1>
・アクリルポリオール 100部
(大日精化工業株式会社製、商品名:TM−VMAC)
・イソシアネート系化合物 1部
(大日精化工業株式会社製、商品名:RC−3硬化剤)
・希釈溶剤 適量
<Coating liquid for primer layer 1>
・ 100 parts of acrylic polyol (manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., product name: TM-VMAC)
-Isocyanate compound 1 part (manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., trade name: RC-3 curing agent)
・ Appropriate amount of diluting solvent

3.成形用材料の作製
3−1.ラミネートフィルム
厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ハードコート用塗布液1を乾燥後の厚みが4μmとなるように、塗布、乾燥、紫外線照射して、ハードコート層Aを形成した。次いで、ハードコート層A上に、低屈折率層用塗布液1を乾燥後の厚みが175nmとなるように、塗布、乾燥、紫外線照射して、低屈折率層の単層の反射防止層を形成した。次いで、上記積層体1の一方のセパレータを剥がしてポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート層とは反対側の面に貼り合せた後、積層体1のもう一方のセパレータを剥離し、接着層A(粘着層)、基材A(ポリエチレンテレフタレートフィルム)、ハードコート層A及び反射防止層(低屈折率層の単層)をこの順に有する、ラミネートフィルムを得た。
なお、低屈折率層用塗布液1から低屈折率層の屈折率は1.36であった。
3. 3. Preparation of molding material 3-1. Laminate film A hard coat layer A was formed by applying, drying, and irradiating ultraviolet rays on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm so that the thickness of the hard coat coating liquid 1 after drying was 4 μm. Next, the coating liquid 1 for the low refractive index layer 1 is coated, dried, and irradiated with ultraviolet rays on the hard coat layer A so that the thickness after drying is 175 nm to form a single antireflection layer of the low refractive index layer. Formed. Next, one separator of the laminated body 1 is peeled off and bonded to the surface of the polyethylene terephthalate film opposite to the hard coat layer, and then the other separator of the laminated body 1 is peeled off to form an adhesive layer A (adhesive layer). ), The base material A (polyethylene terephthalate film), the hard coat layer A, and the antireflection layer (single layer of the low refractive index layer) in this order.
The refractive index of the low refractive index layer coating liquid 1 to the low refractive index layer was 1.36.

3−2.インサート成形用フィルム
厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを厚み125μmのアクリルフィルムに変更し、接着層A(粘着層)を形成しなかった以外は、3−1と同様にして、インサート成形用フィルムを得た。当該インサート成形用フィルムは、基材A(アクリルフィルム)、ハードコート層A及び反射防止層(低屈折率層の単層)をこの順に有している。
3-2. Insert molding film A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was changed to an acrylic film having a thickness of 125 μm, and an insert molding film was obtained in the same manner as in 3-1 except that an adhesive layer A (adhesive layer) was not formed. .. The insert molding film has a base material A (acrylic film), a hard coat layer A, and an antireflection layer (a single layer of a low refractive index layer) in this order.

3−3.インモールド成形用の転写シート1
厚み50μmの離型性を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(離型基材A)上に、低屈折率層用塗布液1を乾燥後の厚みが175nmとなるように、塗布、乾燥、紫外線照射して、低屈折率層の単層の反射防止層を形成した。次いで、低屈折率層上に、ハードコート用塗布液1を乾燥後の厚みが4μmとなるように、塗布、乾燥、紫外線照射して、ハードコート層Aを形成した。次いで、ハードコート層A上に、接着層(ヒートシール層)用塗布液2を乾燥後の厚みが2μmとなるように、塗布、乾燥して、ヒートシール性を有する接着層Aを形成し、インモールド成形用の転写シート1を得た。
転写シート1は、離型基材A、反射防止層(低屈折率層の単層)、ハードコート層A及び接着層A(ヒートシール層)をこの順に有している。
3-3. Transfer sheet for in-mold molding 1
On a polyethylene terephthalate film (release base material A) having a releasability of 50 μm, the coating liquid 1 for a low refractive index layer was applied, dried, and irradiated with ultraviolet rays so that the thickness after drying was 175 nm. A single antireflection layer of a low refractive index layer was formed. Next, the hard coat layer A was formed by applying, drying, and irradiating ultraviolet rays on the low refractive index layer so that the thickness of the hard coat coating liquid 1 after drying was 4 μm. Next, the coating liquid 2 for the adhesive layer (heat seal layer) is applied and dried on the hard coat layer A so that the thickness after drying is 2 μm to form an adhesive layer A having a heat seal property. A transfer sheet 1 for in-mold molding was obtained.
The transfer sheet 1 has a release base material A, an antireflection layer (single layer of a low refractive index layer), a hard coat layer A, and an adhesive layer A (heat seal layer) in this order.

3−4.インモールド成形用の転写シート2
厚み50μmの離型性を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(離型基材B)上に、ハードコート用塗布液2を乾燥後の厚みが4μmとなるように、塗布、乾燥、電子線照射して、ハードコート層Bを形成した。次いで、ハードコート層B上に、意匠層用塗布液1を網点状(網点直径:30μm、網点の中心同士の間隔:70μm)に塗布、乾燥し、厚み2μmの第一意匠層を形成した。次いで、第一意匠層上に、意匠層用塗布液1をベタ状に塗布、乾燥し、厚み2μmの第二意匠層を形成した。次いで、第二意匠層上に、接着層(ヒートシール層)用塗布液2を乾燥後の厚みが2μmとなるように、塗布、乾燥して、ヒートシール性を有する接着層Bを形成し、インモールド成形用の転写シート2を得た。
転写シート2は、離型基材B、ハードコート層B、意匠層及び接着層B(ヒートシール層)をこの順に有している。
3-4. Transfer sheet for in-mold molding 2
On a polyethylene terephthalate film (release base material B) having a releasability of 50 μm, the hard coat coating liquid 2 is applied, dried, and irradiated with an electron beam so that the thickness after drying becomes 4 μm, and then hardened. A coat layer B was formed. Next, the coating liquid 1 for the design layer was applied onto the hard coat layer B in a halftone dot shape (halftone dot diameter: 30 μm, distance between the centers of the halftone dots: 70 μm) and dried to obtain a second unique craft layer having a thickness of 2 μm. Formed. Next, the coating liquid 1 for the design layer was applied solidly on the first unique design layer and dried to form a second design layer having a thickness of 2 μm. Next, the coating liquid 2 for the adhesive layer (heat seal layer) is applied and dried on the second design layer so that the thickness after drying is 2 μm to form an adhesive layer B having a heat seal property. A transfer sheet 2 for in-mold molding was obtained.
The transfer sheet 2 has a release base material B, a hard coat layer B, a design layer, and an adhesive layer B (heat seal layer) in this order.

3−5.インモールド成形用の転写シート3
意匠層を形成しなかった以外は、3−4と同様にして、インモールド成形用の転写シート3を得た。転写シート3は、離型基材B、ハードコート層B及び接着層B(ヒートシール層)をこの順に有している。
3-5. Transfer sheet for in-mold molding 3
A transfer sheet 3 for in-mold molding was obtained in the same manner as in 3-4 except that the design layer was not formed. The transfer sheet 3 has a release base material B, a hard coat layer B, and an adhesive layer B (heat seal layer) in this order.

3−6.インモールド成形用の転写シート4
意匠層用塗布液1を意匠層用塗布液2に変更し、さらに、第一意匠層及び第二意匠層の厚みを2μmから3μmに変更した以外は、3−4と同様にして、インモールド成形用の転写シート4を得た。転写シート4は、離型基材B、ハードコート層B、意匠層及び接着層B(ヒートシール層)をこの順に有している。
3-6. Transfer sheet for in-mold molding 4
In-mold in the same manner as 3-4, except that the coating liquid 1 for the design layer was changed to the coating liquid 2 for the design layer, and the thicknesses of the first unique design layer and the second design layer were changed from 2 μm to 3 μm. A transfer sheet 4 for molding was obtained. The transfer sheet 4 has a release base material B, a hard coat layer B, a design layer, and an adhesive layer B (heat seal layer) in this order.

4.樹脂パネルの作製
[実施例1]
インモールド成形用金型内に、上記3−4の転写シート2を配置した(転写シート2は、接着層Bが金型の内側を向くように金型内に配置した。)。
次いで、金型を締め、金型内にコア層形成用組成物(ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、アゾメチンアゾ系化合物を30質量部含む組成物。コベストロ社製の商品名「Makrolon AX2675ST、色番号:978001」)を射出注入し、コア層(厚み4.0mm)と、前記転写シート2の接着層B側とを密着させた積層体を得た。
次いで、積層体から離型基材Bを剥離した。
次いで、積層体のコア層が露出した面側に、上記3−1のラミネートフィルムの接着層A側を貼り合わせ、実施例1の樹脂パネルを得た。実施例1の樹脂パネルは、図1に示す層構成を有している。
4. Fabrication of Resin Panel [Example 1]
The transfer sheet 2 of 3-4 was arranged in the in-mold molding mold (the transfer sheet 2 was arranged in the mold so that the adhesive layer B faces the inside of the mold).
Next, the mold is closed, and a composition for forming a core layer in the mold (a composition containing 30 parts by mass of an azomethine azo compound with respect to 100 parts by mass of a polycarbonate resin. Trade name "Makrolon AX2675ST" manufactured by Covestro, color number : 978001 ") was injected and injected to obtain a laminate in which the core layer (thickness 4.0 mm) and the adhesive layer B side of the transfer sheet 2 were in close contact with each other.
Next, the release base material B was peeled off from the laminate.
Next, the adhesive layer A side of the laminate film of 3-1 was bonded to the exposed surface side of the core layer of the laminate to obtain the resin panel of Example 1. The resin panel of Example 1 has the layer structure shown in FIG.

[実施例2]
真空成形型内に上記2−1のインサート成形用フィルムを配置し、真空成形(オフライン予備成形)し、余分な部分をトリミングして成形シート1を得た。
次いで、一対の射出成形(インサート及びインモールド一括成形)用金型の一方の側に、前記成形シート1を配置するとともに、前記金型の他方の側に、上記3−5の転写シート3を配置した(転写シート3は、接着層Bが金型の内側を向くように金型内に配置した。)。
次いで、金型を締め、金型内にコア層形成用組成物(ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、アゾメチンアゾ系化合物を30質量部含む組成物。コベストロ社製の商品名「Makrolon AX2675ST、色番号:978001」)を射出注入し、成形シート1の接着層Aと、コア層(厚み4.0mm)と、転写シート3の接着層Bとを密着させた積層体を得た。
次いで、当該積層体から離型基材Bを剥離し、実施例2の樹脂パネルを得た。実施例2の樹脂パネルは、図2に示す層構成を有している。
[Example 2]
The insert molding film of 2-1 was placed in the vacuum forming mold, vacuum formed (offline preforming), and the excess portion was trimmed to obtain a molded sheet 1.
Next, the molding sheet 1 is arranged on one side of a pair of injection molding (insert and in-mold batch molding) molds, and the transfer sheet 3 of 3-5 is placed on the other side of the mold. (The transfer sheet 3 was arranged in the mold so that the adhesive layer B faces the inside of the mold).
Next, the mold is closed, and a composition for forming a core layer in the mold (a composition containing 30 parts by mass of an azomethine azo compound with respect to 100 parts by mass of a polycarbonate resin. Trade name "Makrolon AX2675ST, color number" manufactured by Covestro Co., Ltd. : 978001 ") was injected and injected to obtain a laminate in which the adhesive layer A of the molded sheet 1, the core layer (thickness 4.0 mm), and the adhesive layer B of the transfer sheet 3 were in close contact with each other.
Next, the release base material B was peeled off from the laminate to obtain a resin panel of Example 2. The resin panel of Example 2 has the layer structure shown in FIG.

[実施例3]
上下一対のインモールド成形用金型の一方の側に、上記3−3の転写シート1を配置するとともに、前記金型の他方の側に、上記3−6の転写シート4を配置した(転写シート1及び転写シート4は、接着層A及び接着層Bがそれぞれ金型の内側を向き、接着層Aと接着層Bとが対向するように金型内に配置する。)。
次いで、金型を締め、金型内にコア層形成用組成物(透明ポリカーボネート樹脂)を射出注入し、転写シート1の接着層Aと、コア層(透明なコア層、厚み4.0mm)と、転写シート4の接着層Bとを密着させた積層体を得た。
次いで、当該積層体から離型基材A及び離型基材Bを剥離し、実施例3の樹脂パネルを得た。実施例3の樹脂パネルは、図3に示す層構成を有している。
[Example 3]
The transfer sheet 1 of 3-3 was arranged on one side of a pair of upper and lower in-mold molding dies, and the transfer sheet 4 of 3-6 was arranged on the other side of the mold (transfer). The sheet 1 and the transfer sheet 4 are arranged in the mold so that the adhesive layer A and the adhesive layer B face the inside of the mold, respectively, and the adhesive layer A and the adhesive layer B face each other.)
Next, the mold is closed, and the composition for forming the core layer (transparent polycarbonate resin) is injected into the mold to form the adhesive layer A of the transfer sheet 1 and the core layer (transparent core layer, thickness 4.0 mm). , A laminated body in which the adhesive layer B of the transfer sheet 4 was in close contact was obtained.
Next, the release base material A and the release base material B were peeled off from the laminate to obtain a resin panel of Example 3. The resin panel of Example 3 has the layer structure shown in FIG.

[実施例4]
ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、アゾメチンアゾ系化合物を30質量部含む組成物(コベストロ社製の商品名「Makrolon AX2675ST、色番号:978001」)が、厚み4.0mmの板状に成形されてなるコア層を準備した。
当該コア層に、上記3−1のラミネートフィルムの接着層A側を貼り合わせ、実施例4の樹脂パネルを得た。実施例4の樹脂パネルは、図6に示す層構成を有している。
[Example 4]
A composition containing 30 parts by mass of an azomethine azo compound (trade name "Makrolon AX2675ST, color number: 978001" manufactured by Covestro Co., Ltd.) with respect to 100 parts by mass of a polycarbonate resin is formed into a plate having a thickness of 4.0 mm. The core layer was prepared.
The adhesive layer A side of the laminate film of 3-1 was bonded to the core layer to obtain a resin panel of Example 4. The resin panel of Example 4 has the layer structure shown in FIG.

[比較例1]
比較例1の樹脂パネルとして、ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、アゾメチンアゾ系化合物を30質量部含む組成物(コベストロ社製の商品名「Makrolon AX2675ST、色番号:978001」)を、厚み4.0mmの板状に成形してなるものを準備した。
[Comparative Example 1]
As the resin panel of Comparative Example 1, a composition containing 30 parts by mass of an azomethine azo compound (trade name "Makrolon AX2675ST, color number: 978001" manufactured by Covestro Co., Ltd.) with respect to 100 parts by mass of a polycarbonate resin was applied with a thickness of 4.0 mm. A plate-shaped product was prepared.

[比較例2]
比較例2の樹脂パネルとして、厚み4.0mmの透明ポリカーボネート樹脂板を準備した。
[Comparative Example 2]
As the resin panel of Comparative Example 2, a transparent polycarbonate resin plate having a thickness of 4.0 mm was prepared.

[比較例3]
コア層形成用組成物からアゾメチンアゾ系化合物を除いた以外は、実施例2と同様にして、比較例3の樹脂パネルを得た。比較例3の樹脂パネルは、コア層がアゾメチンアゾ系化合物を含まず透明である以外は、実施例2の樹脂パネルと同様である。
[Comparative Example 3]
A resin panel of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the azomethine azo compound was removed from the composition for forming the core layer. The resin panel of Comparative Example 3 is the same as the resin panel of Example 2 except that the core layer does not contain an azomethine azo compound and is transparent.

Figure 2021081698
Figure 2021081698

表1から明らかなように、実施例の樹脂パネルは、可視光線透過率を低いレベルに抑制しつつ、赤外線透過率を高いレベルで維持し得るものであり、赤外線センサーの保護カバーとして適用した際に、赤外線センサーを十分に機能させ得るものであることが確認できる。 As is clear from Table 1, the resin panel of the example can maintain the infrared transmittance at a high level while suppressing the visible light transmittance at a low level, and when applied as a protective cover for an infrared sensor. In addition, it can be confirmed that the infrared sensor can function sufficiently.

10:コア層
20:内側層
21:接着層A
22:基材A
23:反射防止層
24:ハードコート層A
30:外側層
31:基材B
32:接着層B
33:意匠層
33A:第一意匠層
33B:第二意匠層
34:プライマー層
35:ハードコート層B
100:樹脂パネル
10: Core layer 20: Inner layer 21: Adhesive layer A
22: Base material A
23: Antireflection layer 24: Hard coat layer A
30: Outer layer 31: Base material B
32: Adhesive layer B
33: Design layer 33A: First unique design layer 33B: Second design layer 34: Primer layer 35: Hard coat layer B
100: Resin panel

Claims (10)

少なくともコア層を有する樹脂パネルであって、前記樹脂パネルは、波長905nmの光線透過率が85%以上であり、可視光線透過率が20%以下である、樹脂パネル。 A resin panel having at least a core layer, wherein the resin panel has a light transmittance of 85% or more and a visible light transmittance of 20% or less at a wavelength of 905 nm. 前記コア層がポリカーボネート樹脂を含む、請求項1に記載の樹脂パネル。 The resin panel according to claim 1, wherein the core layer contains a polycarbonate resin. 前記コア層が、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含む、請求項1又は2に記載の樹脂パネル。 The resin panel according to claim 1 or 2, wherein the core layer contains one or more compounds selected from an azomethine azo compound and a perylene compound. 少なくとも一方の側の表面に反射防止層が配置されてなる、請求項1〜3の何れかに記載の樹脂パネル。 The resin panel according to any one of claims 1 to 3, wherein an antireflection layer is arranged on the surface of at least one side. 前記反射防止層が、表面側に低屈折率層を有し、前記低屈折率層は、屈折率が1.28〜1.40、厚みが120〜250nmである、請求項4に記載の樹脂パネル。 The resin according to claim 4, wherein the antireflection layer has a low refractive index layer on the surface side, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.28 to 1.40 and a thickness of 120 to 250 nm. panel. 前記樹脂パネルが意匠層を有する、請求項1〜5の何れかに記載の樹脂パネル。 The resin panel according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin panel has a design layer. 前記意匠層、前記コア層及び反射防止層をこの順に有し、前記反射防止層が前記樹脂パネルの表面に配置されてなる、請求項6に記載の樹脂パネル。 The resin panel according to claim 6, wherein the design layer, the core layer, and the antireflection layer are provided in this order, and the antireflection layer is arranged on the surface of the resin panel. 前記意匠層として、網点又はメッシュから形成されてなる第一意匠層と、全面ベタの第二意匠層とを有する、請求項6又は7に記載の樹脂パネル。 The resin panel according to claim 6 or 7, wherein the design layer has a first unique design layer formed of halftone dots or mesh and a second design layer that is solid on the entire surface. 前記意匠層が、アゾメチンアゾ系化合物及びペリレン系化合物から選ばれる1以上の化合物を含む、請求項6〜8の何れかに記載の樹脂パネル。 The resin panel according to any one of claims 6 to 8, wherein the design layer contains one or more compounds selected from an azomethine azo compound and a perylene compound. 赤外線発光素子と、赤外線受光素子と、前記赤外線発光素子及び前記赤外線受光素子の前面に配置されてなる保護カバーとを有する赤外線センサーであって、前記保護カバーが請求項1〜9の何れかに記載の樹脂パネルである、赤外線センサー。 An infrared sensor having an infrared light emitting element, an infrared light receiving element, and a protective cover arranged in front of the infrared light emitting element and the infrared light receiving element, wherein the protective cover is any of claims 1 to 9. The infrared sensor, which is the described resin panel.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4303632A1 (en) * 2022-07-07 2024-01-10 Covestro Deutschland AG Lidar window, method for preparing the same, and sensor system

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003098470A (en) * 2001-09-21 2003-04-03 Asahi Glass Co Ltd Headup display device
JP2006018252A (en) * 2004-06-04 2006-01-19 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd Correction method and correction color for defect part of color filter pattern
US20070290172A1 (en) * 2006-06-19 2007-12-20 General Electric Company Infrared transmissive thermoplastic composition, and articles formed therefrom
JP2009017125A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Toyoda Gosei Co Ltd Radio wave transmission cover and manufacturing method thereof
JP2010002704A (en) * 2008-06-20 2010-01-07 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Resin composition for filter
JP2011240593A (en) * 2010-05-18 2011-12-01 Fuji Heavy Ind Ltd Vehicle interior member
JP2016177079A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 Jsr株式会社 Curable composition, cured film, infrared transmission filter, and solid state image pickup device
WO2018052057A1 (en) * 2016-09-15 2018-03-22 豊田合成 株式会社 Near infrared sensor cover
JP2018044991A (en) * 2016-09-12 2018-03-22 大日本印刷株式会社 Infrared transmitting device and optical unit
WO2018098810A1 (en) * 2016-12-02 2018-06-07 中天科技精密材料有限公司 Manufacturing device and method for optical fiber preform
JP2019032351A (en) * 2015-12-25 2019-02-28 Agc株式会社 Optical filter and optical device
JP2019038195A (en) * 2017-08-25 2019-03-14 大日本印刷株式会社 Dark color pattern decorative sheet and decorative member therewith
WO2019065359A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 東レ株式会社 Organic el display device and method for forming pixel division layer and planarizing layer
JP2019057481A (en) * 2017-09-22 2019-04-11 豊田合成株式会社 Cover device for near-infrared light sensor
JP2019126984A (en) * 2018-01-25 2019-08-01 大日本印刷株式会社 Heat-insulating decorative sheet, and decorative member using the same

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003098470A (en) * 2001-09-21 2003-04-03 Asahi Glass Co Ltd Headup display device
JP2006018252A (en) * 2004-06-04 2006-01-19 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd Correction method and correction color for defect part of color filter pattern
US20070290172A1 (en) * 2006-06-19 2007-12-20 General Electric Company Infrared transmissive thermoplastic composition, and articles formed therefrom
JP2009017125A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Toyoda Gosei Co Ltd Radio wave transmission cover and manufacturing method thereof
JP2010002704A (en) * 2008-06-20 2010-01-07 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Resin composition for filter
JP2011240593A (en) * 2010-05-18 2011-12-01 Fuji Heavy Ind Ltd Vehicle interior member
JP2016177079A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 Jsr株式会社 Curable composition, cured film, infrared transmission filter, and solid state image pickup device
JP2019032351A (en) * 2015-12-25 2019-02-28 Agc株式会社 Optical filter and optical device
JP2018044991A (en) * 2016-09-12 2018-03-22 大日本印刷株式会社 Infrared transmitting device and optical unit
WO2018052057A1 (en) * 2016-09-15 2018-03-22 豊田合成 株式会社 Near infrared sensor cover
WO2018098810A1 (en) * 2016-12-02 2018-06-07 中天科技精密材料有限公司 Manufacturing device and method for optical fiber preform
JP2019038195A (en) * 2017-08-25 2019-03-14 大日本印刷株式会社 Dark color pattern decorative sheet and decorative member therewith
JP2019057481A (en) * 2017-09-22 2019-04-11 豊田合成株式会社 Cover device for near-infrared light sensor
WO2019065359A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 東レ株式会社 Organic el display device and method for forming pixel division layer and planarizing layer
JP2019126984A (en) * 2018-01-25 2019-08-01 大日本印刷株式会社 Heat-insulating decorative sheet, and decorative member using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4303632A1 (en) * 2022-07-07 2024-01-10 Covestro Deutschland AG Lidar window, method for preparing the same, and sensor system

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