JP2021063984A - 光学積層体及びそれを用いた液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】外光の反射を抑制するとともに、斜めから視認した際の色味を抑制し得る光学積層体を提供する。【解決手段】λ／４位相差層、透明基材及び偏光子をこの順に備えてなり、前記透明基材は、正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であり、前記透明基材の遅相軸と、前記偏光子の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなる、光学積層体。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体及びそれを用いた液晶表示装置に関する。

電界発光表示素子（以下、ＥＬ素子と略す場合がある。）は、自己発光のため視域が広く、またプラズマ発光素子等に比べて低消費電力であることから、近年、画像表示装置への適用が実用化されつつある。特に、発光材料として有機化合物を用いる有機ＥＬ素子は、無機化合物を用いる無機ＥＬ素子よりも印加電圧を大幅に低減できることから、表示装置としての利用が種々検討されている。

有機ＥＬ素子は、一般的に、透明基板上に第一電極、発光層、および第二電極を順次積層した構造のものが知られており、第一電極として透明電極を使用し、第二電極として金属電極を使用し、発光層からの発光を透明基板側から取り出すボトムエミッション型のものと、第一電極として金属電極を使用し、第二電極として透明電極を使用し、発光層からの発光を第二電極側から取り出すトップエミッション型のものがある。
有機ＥＬ素子は、いずれの型においても発光層の光を効率よく利用するため、金属電極は反射性に優れたものが用いられることが多い。一方、このような金属電極を用いた有機ＥＬ素子は、外光反射が大きく、コントラストが低下する場合があった。また、有機ＥＬ素子を含む表示装置以外の表示装置（例えば、マイクロＬＥＤ表示素子を含む表示装置、表示素子上に抵抗膜式タッチパネルを配置した表示装置）においても、外光反射によるコントラストの低下は問題となっている。

表示装置における外光反射を抑制する手法は、種々検討されている。このような手法の一つとして、位相差板と偏光板とを積層してなる、いわゆる円偏光板を用いることが知られている。

しかし、汎用的な位相差板は、長波長で測定した位相差が短波長で測定した位相差より小さくなるという位相差の波長依存性（位相差の正分散性）を有する。このため、汎用的な位相差板を用いてなる円偏光板は、波長５５０ｎｍ近傍の反射率は十分に低減できるものの、低波長域及び高波長域の反射率の低減が不十分であり、反射光の漏れを生じるという問題がある。

上記の問題を解決する手法として、例えば、λ／４位相差層とλ／２位相差層とを積層してなる位相差板を用いる方法、及び、逆分散特性を有する液晶化合物を用いた位相差板を用いる方法が提案されている（特許文献１等）。逆分散特性とは、長波長で測定した位相差が短波長で測定した位相差より大きくなるという位相差の波長依存性である。

特許文献１等の位相差板フィルムを用いた円偏光板は、正面方向の反射率は十分に低減し得るものである。しかし、特許文献１等の位相差板フィルムを用いた円偏光板は、正面方向に対して斜め方向の反射率の低減が不十分なものであった。

特開平５−１００１１４号公報 特開２００７−１８８０３３号公報

特許文献２には、λ／４位相差層及びλ／２位相差層に加えて、さらにポジティブＣ層を有する楕円偏光板が開示されている。
特許文献２の楕円偏光板は斜め方向の反射率を正面方向の反射率に近づけることができる。しかし、特許文献２の楕円偏光板は、斜めから視認した際に色味が強く感じられるものであった。
斜め方向の色味の問題は、特許文献１も有している問題である。

本発明は、外光の反射を抑制するとともに、斜めから視認した際の色味を抑制する光学積層体及び、及び、これを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

すなわち、本発明は、以下の［１］〜［１０］を提供する。
［１］λ／４位相差層、透明基材及び偏光子をこの順に備えてなり、前記透明基材は、正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であり、前記透明基材の遅相軸と、前記偏光子の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなる、光学積層体。
［２］前記透明基材の面内位相差が４０ｎｍ以上である、［１］に記載の光学積層体。
［３］前記透明基材がポリエステルフィルム又はポリカーボネートフィルムである、［１］又は［２］に記載の光学積層体。
［４］前記λ／４位相差層と前記透明基材との間に、λ／２位相差層を有する、［１］〜［３］の何れかに記載の光学積層体。
［５］全光線透過率が３５％以上８０％以下である、［１］〜［４］の何れかに記載の光学積層体。

［６］下記の測定１から算出される３σΔＸ及び３σΔＹが何れも０．０１９未満である、［１］〜［５］の何れかに記載の光学積層体。
＜測定１＞
波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、前記光学積層体を積層してなるサンプルを作製する。前記サンプルにおいて、前記光学積層体は、透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記アルミ板側を向くように配置する。
前記サンプルの表面に対して、積分球で拡散した光を法線方向から入射し、反射光を測定する。測定された反射光からＸＹＺ表色系のＸ値及びＹ値を算出する。前記測定及び前記算出を、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定した状態で、方位角０度以上３５９．５度以下の範囲で０．５度ずつ実施し、７２０点のＸ値及びＹ値を得る。
７２０点のＸ値の平均値を「Ｘａｖｅ」とする。Ｘａｖｅに対するｎ番目の測定点のＸ値のずれを「ΔＸｎ」とする。７２０点のΔＸｎのバラツキ３σを「３σΔＸ」とする。
７２０点のＹ値の平均値を「Ｙａｖｅ」とする。Ｙａｖｅに対するｎ番目の測定点のＹ値のずれを「ΔＹｎ」とする。７２０点のΔＹｎのバラツキ３σを「３σΔＹ」とする。
［７］下記の測定１から算出される３σΔＸと３σΔＹとの平均が０．０１８未満である、［１］〜［６］の何れかにに記載の光学積層体。
＜測定１＞
波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、前記光学積層体を積層してなるサンプルを作製する。前記サンプルにおいて、前記光学積層体は、透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記アルミ板側を向くように配置する。
前記サンプルの表面に対して、積分球で拡散した光を法線方向から入射し、反射光を測定する。測定された反射光からＸＹＺ表色系のＸ値及びＹ値を算出する。前記測定及び前記算出を、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定した状態で、方位角０度以上３５９．５度以下の範囲で０．５度ずつ実施し、７２０点のＸ値及びＹ値を得る。
７２０点のＸ値の平均値を「Ｘａｖｅ」とする。Ｘａｖｅに対するｎ番目の測定点のＸ値のずれを「ΔＸｎ」とする。７２０点のΔＸｎのバラツキ３σを「３σΔＸ」とする。
７２０点のＹ値の平均値を「Ｙａｖｅ」とする。Ｙａｖｅに対するｎ番目の測定点のＹ値のずれを「ΔＹｎ」とする。７２０点のΔＹｎのバラツキ３σを「３σΔＹ」とする。
［８］有機ＥＬ表示素子の前面用である、［１］〜［７］の何れかに記載の光学積層体。

［９］表示素子上に光学積層体を有する画像表示装置であって、前記光学積層体が［１］〜［７］の何れかに記載の光学積層体であり、かつ、前記光学積層体の透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記表示素子側を向くように配置してなる、画像表示装置。
［１０］前記表示素子が有機ＥＬ表示素子又はマイクロＬＥＤ表示素子である、［９］に記載の画像表示装置。

本発明の光学積層体及び液晶表示装置は、外光の反射を抑制するとともに、斜めから視認した際の色味を抑制することができる。

本発明の光学積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の光学積層体の他の実施形態を示す模式断面図である。

以下、本発明の実施形態を説明する。
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、λ／４位相差層、透明基材及び偏光子をこの順に備えてなり、前記透明基材は、正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であり、前記透明基材の遅相軸と、前記偏光子の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなるものである。

図１及び図２は、本発明の光学積層体（１００）の実施の形態を示す模式断面図である。図１及び図２の光学積層体（１００）は、λ／４位相差層（１０）、透明基材（３０）及び偏光子（４０）をこの順に備えている。また、図２の光学積層体（１００）は、λ／４位相差層（１０）と透明基材（３０）との間にλ／２位相差層（２０）を有し、偏光子（４０）の透明基材（３０）とは反対側に表面保護材（５０）を有している。

本発明の光学積層体による外光反射の抑制の原理を、図１を引用して簡単に説明する。
図１の光学積層体（１００）の偏光子（４０）側から外光が入射すると、偏光子（４０）を通過した外光は直線偏光となる。当該直線偏光はλ／４位相差層（１０）を透過して右回り又は左回りの円偏光となる。表示素子の表面で反射した当該円偏光は、逆回りの円偏光となる。反射光である当該逆回りの円偏光は、λ／４位相差層（１０）を再透過すると、偏光子（４０）を透過しない向きの直線偏光となるため、反射が抑制される。
図２の光学積層体（１００）では、λ／４位相差層（１０）及びλ／２位相差層（２０）により、幅広い波長域を円偏光に変換することができ、外光の反射をより抑制することができる。
以上のように、本発明の光学積層体は、外光の反射を抑制することができる。
なお、上記の原理で外光の反射を抑制するためには、透明基材（３０）の遅相軸と、偏光子（４０）の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなることを要する。透明基材（３０）の遅相軸と、偏光子（４０）の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されていない場合、直線偏光が透明基材（３０）を透過する際に偏光の状態が乱れるためである。
なお、透明基材の面内で遅相軸の方向が均一ではない場合には、透明基材の遅相軸の方向は、透明基材の面内の遅相軸の平均的な方向を意味するものとする。

本明細書において、略平行とは、０度±５度以内を意味し、好ましくは０度±３度以内、より好ましくは０度±１度以内である。
また、本明細書において、略垂直とは、９０度±５度以内を意味し、好ましくは９０度±３度以内、より好ましくは９０度±１度以内である。

本明細書において、面内位相差（Ｒｅ）及び厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は、面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率をｎｙ、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄ（ｎｍ）とした際に、下記式で表すことができる。
面内位相差（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ

本明細書において、面内位相差（Ｒｅ）及び厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍにおける値を意味する。
なお、本明細書において、波長Ｘｎｍにおける面内位相差を「Ｒｅ（Ｘ）」、波長Ｘｎｍにおける厚み方向の位相差を「Ｒｔｈ（Ｘ）」と表記する場合がある。例えば、波長４５０ｎｍにおける面内位相差を「Ｒｅ（４５０）」、波長６５０ｎｍにおける面内位相差を「Ｒｅ（６５０）」と表記する場合がある。

面内位相差（Ｒｅ）及び厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）は、例えば、大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ−１００」、王子計測機器社製の商品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＲ」、「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」、「ＰＡＭ−ＵＨＲ１００」により測定できる。
大塚電子社製の商品名「ＲＥＴＳ−１００」を用いて面内位相差（Ｒｅ）等を測定する場合には、以下の手順（Ａ１）〜（Ａ４）に沿って測定の準備をすることが好ましい。

（Ａ１）まず、ＲＥＴＳ−１００の光源を安定させるため、光源をつけてから６０分以上放置する。その後、回転検光子法を選択するとともに、θモード（角度方向位相差測定およびＲｔｈ算出のモード）選択する。このθモードを選択することにより、ステージは傾斜回転ステージとなる。
（Ａ２）次いで、ＲＥＴＳ−１００に以下の測定条件を入力する。
（測定条件）
・リタデーション測定範囲：回転検光子法
・測定スポット径：φ５ｍｍ
・傾斜角度範囲：０°
・測定波長範囲：４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下
・透明基材の平均屈折率。例えば、ＰＥＴフィルムの場合には、Ｎ＝１．６１７とする。なお、透明基材の平均屈折率Ｎは、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚを元に、（Ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）の式で算出できる。
・厚み：ＳＥＭ又は光学顕微鏡で別途測定した厚み
（Ａ３）次いで、この装置にサンプルを設置せずに、バックグラウンドデータを得る。装置は閉鎖系とし、光源を点灯させる毎にこれを実施する。
（Ａ４）その後、装置内のステージ上にサンプルを設置して、測定する。

本明細書において、面内位相差（Ｒｅ）、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）、全光線透過率及び分光反射率等の各種のパラメータは、特に断りのない限り、１６箇所の測定値の最小値及び最大値を除外した１４箇所の測定値の平均値として算出するものとする。なお、透明基材の配向主軸の角度のバラツキ３σは、１６箇所でそれぞれバラツキ３σを測定し、最小値及び最大値を除外した１４箇所のバラツキ３σを平均化したものをいう。
測定サンプルが四角形の場合には、四角形の外縁から０．５ｃｍの領域を余白として、該余白よりも内側の領域を縦方向及び横方向に５等分した線の交点の１６箇所を中心として測定を行い、その平均値を算出することが好ましい。なお、測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の四角形以外の形状の場合、これらの形状に内接する最大面積の四角形を書き、該四角形に関して、上記手法により１６箇所の測定を行うことが好ましい。
また、本明細書において、各種のパラメータは、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下で測定した値とする。また、各測定の開始前に、対象サンプルを上記雰囲気に３０分以上晒してから測定及び評価を行うものとする。

＜位相差層＞
本発明の光学積層体は、λ／４位相差層を有することを要する。
本発明の光学積層体は、λ／４位相差層に加えてλ／２位相差層を有することが好ましい。λ／４位相差層及びλ／２位相差層を有する場合、λ／２位相差層が透明基材側となるように配置することが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、λ／４位相差層に加えてλ／８位相差層を有することも好ましい。

λ／４位相差層は、面内位相差が１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１１０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、更に好ましくは１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。
λ／２位相差層は、面内位相差が２００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、より好ましくは２２０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下、更に好ましくは２２０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下である。

λ／４位相差層及びλ／２位相差層は、厚み方向の位相差が３０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましい。前述した厚み方向の位相差は、λ／４位相差層とλ／２位相差層とを併用する場合の数値として特に好適である。λ／４位相差層のみを用いる場合、λ／４位相差層の厚み方向の位相差は１２０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましい。

λ／４位相差層及びλ／２位相差層は、正分散性を示すものであってもよいし、逆分散性を示すものであってもよいが、幅広い波長域を円偏光に変換する観点から、逆分散性を示すものが好ましい。
なお、逆分散性とは、透過光の波長が長くなるに従って透過光に与える位相差が増大する特性である。具体的には、波長４５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ５５０）との関係が、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０となる特性である。一方の正分散性は、Ｒｅ４５０＞Ｒｅ５５０となる特性である。

逆分散特性を付与する場合、λ／４位相差層のＲｅ４５０と、λ／４位相差層のＲｅ５５０との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０））は、好ましくは０．９５以下、より好ましくは０．９３以下、更に好ましくは０．９１以下、より更に好ましくは０．８９以下である。また、Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０は、好ましくは０．７８以上、より好ましくは０．８０以上、更に好ましくは０．８２以上である。

逆分散特性を付与する場合、λ／２位相差層のＲｅ４５０と、λ／２位相差層のＲｅ５５０との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０））は、好ましくは０．９５以下、より好ましくは０．９３以下、更に好ましくは０．９１以下、より更に好ましくは０．８９以下である。また、Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０は、好ましくは０．７８以上、より好ましくは０．８０以上、更に好ましくは０．８２以上である。

λ／４位相差層及びλ／２位相差層の厚みは、付与する位相差を考慮して、０．１μｍ以上４０μｍ以下の範囲で適宜調整することができる。

λ／４位相差層及びλ／２位相差層等の位相差層は、例えば、重合性液晶化合物等の液晶性化合物を含む組成物から形成したり、ポリマーフィルムを延伸したりすることにより形成することができる。液晶化合物としては、ネマティック液晶化合物及びスメクティック液晶化合物等の棒状液晶化合物、コレステリック液晶化合物、ディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）等が挙げられる。λ／４位相差層及びλ／２位相差層等の位相差層は、汎用の位相差層を用いることができる。

液晶性化合物を含む組成物から形成する位相差層は支持体上に形成することが好ましい。支持体上に形成した位相差層は、そのまま用いてもよいし、他の部材（例えば、透明基材）に転写して用いてもよい。なお、前記支持体として透明基材を用いてもよい。

λ／４位相差層及びλ／２位相差層の遅相軸と、偏光子の吸収軸とは、以下のようにすることが好ましい。
図１の光学積層体のように、λ／４位相差層を有する場合、λ／４位相差層の遅相軸と、偏光子の吸収軸とがなす角度は４５±５°とすることが好ましく、４５±２°とすることがより好ましい。
図２の光学積層体のように、λ／４位相差層及びλ／２位相差層を用いる場合、各位相差層の配向軸と、偏光子の吸収軸とがなす角度は、λ／４位相差層及びλ／２位相差層の波長分散により異なるが、下記（ｉ）又は（ii）の範囲が好ましい。
（ｉ）第１の例として、λ／２位相差層の遅相軸と、偏光子層の吸収軸とがなす角度は１５±８°であることが好ましく、１５±６°であることがより好ましい。そして、このとき、λ／４位相差層の遅相軸と、偏光子層の吸収軸とのなす角度は７５±１５°であることが好ましく、７５±１３°であることがより好ましい。
（ii）第２の例として、λ／２位相差層の遅相軸と、偏光子層の吸収軸とがなす角度は７５±１５°であることが好ましく、７５±１３°であることがより好ましい。そして、このとき、λ／４位相差層の遅相軸と、偏光子層の吸収軸とのなす角度は１５±８°であることが好ましく、１５±６°であることがより好ましい。

また、図２のように、λ／４位相差層及びλ／２位相差層を用いる場合、λ／４位相差層の面内位相差（Ｒｅ_４）と、λ／２位相差層の面内位相差（Ｒｅ_２）とは、１．８≦Ｒｅ_２／Ｒｅ_４≦２．２を満たすことが好ましく、１．９≦Ｒｅ_２／Ｒｅ_４≦２．１を満たすことがより好ましい。

＜偏光子＞
偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子のいずれを用いてもよい。
ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光子は縦方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光子は縦方向に対して垂直に吸収軸を有する。

偏光子は、偏光度９９．００％以上かつ全光線透過率３５％以上のものが好ましく、より好ましくは偏光度９９．９０％以上かつ全光線透過率３７％以上であり、さらに好ましくは偏光度９９．９５％以上かつ全光線透過率４０％以上である。偏光子の全光線透過率は、６５％以下であることが好ましく、５５％以下であることがより好ましく、４５％以下であることがさらに好ましい。
なお、本明細書において、全光線透過率とは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に規定する全光線透過率をいうものとする。

偏光子の両側の面には保護層を有することが好ましい。
保護層としては、例えば、汎用のプラスチックフィルム等を用いることができる。また、保護層のうち、λ／４位相差層側の保護層としては、後述する透明基材を用いることができる。また、保護層のうち、λ／４位相差層とは反対側の保護層としては、後述する表面保護材を用いることができる。

＜透明基材＞
本発明の光学積層体は、λ／４位相差層と偏光子との間に特定の透明基材を有する。

以下、λ／４位相差層と偏光子との間に特定の透明基材を有することにより、斜めから視認した際の色味を抑制し得る原因を説明する。
まず、従来の円偏光板が、斜め方向において色味が視認される理由を説明する。
位相差層と偏光子とを備えた円偏光板は、「正面方向の反射を抑制すること」及び「視感度の高い５５０ｎｍ近傍の反射を抑制すること」が設計の基本となっているため、「斜め方向の反射の抑制」及び「５５０ｎｍから外れた波長の反射の抑制」が弱点である。かかる弱点を解消する円偏光板として、特許文献１及び２に示すものが提案されているが、前記弱点を完全に解消することは難しい。このため、従来の円偏光板では、斜め方向において５５０ｎｍから外れた波長の色味が視認されることとなる。
一方、本発明の光学積層体は、λ／４位相差層と偏光子との間に特定の透明基材を有する。かかる特定の透明基材は、透明基材の遅相軸と偏光子の吸収軸とが略平行又は略垂直に配置されてなるため、直線偏光に対しては実質的に作用しない。すなわち、偏光子を通過した外光は直線偏光となり、直線偏光のまま透明基材を透過する。このため、透明基材は外光の反射を抑制することを損なわない。
なお、透明基材の配向主軸の方向（正の複屈折性を示す場合、配向主軸の向きが遅相軸の向きとなり、負の複屈折性を示す場合、配向主軸と直交する向きが遅相軸の向きとなる。）は、一軸延伸であっても完全に均一にすることは難しく、僅かなバラツキがある。また、光学積層体の製造時及び加工時において、透明基材の配向主軸の方向に僅かなバラツキを生じる場合がある。透明基材の配向主軸の方向に僅かなバラツキを有する場合、偏光状態が僅かに乱れる。後述するように、かかる配向主軸の僅かなバラツキが斜め方向の色味を目立ちにくくし得る一因であると考えられる。なお、光学積層体の製造時とは、例えば、各部材を貼り合わせる時のことをいう。また、光学積層体の加工時とは、例えば、光学積層体を断裁する時のことをいう。
透明基材を透過した直線偏光はλ／４位相差層（又はλ／２位相差層及びλ／４位相差層）を透過して右回り又は左回りの円偏光となるが、斜め方向の５５０ｎｍを外れた波長域は円偏光の状態から外れやすい。このため、従来の円偏光板では、表示素子の表面で反射した光のうち、斜め方向の５５０ｎｍを外れた波長域は、λ／４位相差層（又はλ／２位相差層及びλ／４位相差層）を再透過した際に直線偏光にならず、偏光子を透過してしまう。
本発明の光学積層体は、λ／４位相差層（又はλ／２位相差層及びλ／４位相差層）を再透過した際に直線偏光とならなかった波長域の光を、特定の透明基材（正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下である透明基材）によって乱すことにより、斜め方向の色味をニュートラル化して目立ちにくくすることができる。なお、直線偏光とならなかった波長域の光が透明基材によって乱れる原因は、前述した特性（正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下）の他に、透明基材の配向主軸の方向の僅かなバラツキが作用していると考えられる。

透明基材は、正の複屈折又は負の複屈折を有することを要する。
かかる要件を満たさない透明基材は、斜め方向の色味の問題を解消できない。例えば、透明基材の厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であったとしても、当該透明基材が正の複屈折又は負の複屈折を有さない場合には、斜め方向の色味の問題は解消できない。
なお、正の複屈折とは、面内の配向主軸の方向の屈折率（ｎ１）と、配向主軸に直交する方向の屈折率（ｎ２）とが、ｎ１＞ｎ２の関係を満たすものをいう。また、負の複屈折とは、ｎ１＜２の関係を満たすものをいう。
正の複屈折又は負の複屈折を有する透明基材としては、正のＡプレート、負のＡプレート、正のＢプレート及び負のＢプレートが挙げられる。
正のＡプレートとは、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚの関係を示すものであり、負のＡプレートとは、ｎｚ≒ｎｘ＞ｎｙの関係を示すものである。また、正のＢプレートとは、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係を示すものであり、負のＢプレートとは、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を示すものである。

透明基材は、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であることを要する。
かかる要件を満たさない透明基材は、斜め方向の色味の問題を解消できない。例えば、透明基材が、正の複屈折又は負の複屈折を有していたとしても、当該透明基材の厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下でない場合には、斜め方向の色味の問題は解消できない。

透明基材の厚み方向の位相差は、５００ｎｍ以上又は−５００ｎｍ以下であることが好ましく、１０００ｎｍ以上又は−１０００ｎｍ以下であることがより好ましく、３０００ｎｍ以上又は−３０００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５０００ｎｍ以上又は−５０００ｎｍ以下であることがよりさらに好ましい。

透明基材の厚み方向の位相差は３００００ｎｍ以下又は−３００００ｎｍ以上であることが好ましく、１５０００ｎｍ以下又は−１５０００ｎｍ以上であることがより好ましく、１００００ｎｍ以下又は−１００００ｎｍ以上であることがさらに好ましく、８０００ｎｍ以下又は−８０００ｎｍ以上であることがよりさらに好ましい。

透明基材の面内位相差は、斜めから視認した際の色味を抑制しやすくする観点から、４０ｎｍ以上であることが好ましく、１２５ｎｍ以上であることがより好ましく、５００ｎｍ以上であることがより好ましく、１０００ｎｍ以上であることがより好ましく、３０００ｎｍ以上であることがより好ましく、５０００ｎｍ以上であることがより好ましい。
透明基材の面内位相差が大きすぎると、透明基材の厚みが増したり、透明基材の耐引裂き性が低下したりする場合がある。このため、透明基材の面内位相差は、５００００ｎｍ以下であることが好ましく、３００００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１００００ｎｍ以下であることがよりさらに好ましい。

透明基材は、配向主軸の角度のバラツキ３σが０．０１以上であることが好ましい。配向主軸の角度のバラツキ３σが０．０１以上であることにより、λ／４位相差層（又はλ／２位相差層及びλ／４位相差層）を再透過した際に直線偏光とならなかった波長域の光を乱しやすくすることができ、ひいては、斜め方向の色味をニュートラル化して目立ちにくくすることができる。
なお、透明基材の配向主軸の角度のバラツキ３σが大きすぎると、光学積層体の外光反射防止性が低下するおそれがある。このため、透明基材の配向主軸の角度のバラツキ３σは、３．００以下であることが好ましく、１．５０以下であることがより好ましい。

透明基材の配向主軸の角度のバラツキ３σは、上述したように１６箇所で測定することが好ましい。各測定箇所において、光軸の角度のバラツキ３σは、各測定箇所を微小領域に分割し、分割した微小領域ごとに測定される光軸の角度に基づき、３σの統計処理をすることにより算出できる。微小領域の面積は１００［μｍ^２］以上５００［μｍ^２］以下とすることが好ましい。また、バラツキ３σの信頼度を高めるため、各測定箇所の分割数（各測定箇所の微小領域の数）は１，０００以上とすることが好ましく、１０，０００以上とすることがより好ましい。

配向主軸の角度のバラツキ３σは、例えば、Ａｘｏｍｅｃｒｉｃｓ社製の商品名「ＡｘｏＳｔｅｐ」を用いて、下記の手順により測定できる。

＜操作手順＞
１．Calibration実行
（１）Measurementタブにて、wavelengthの値を「550」、number to averageの値を「20」に設定し、「Set Axostep」を押す。
（２）Calibrationタブにて、「DarkImage」を押す。さらに「single calibrate」を押す。
（３）Calibration結果がCalibrationResultウインドウに表示される。ここで、Y値(RMS Error値)が3以下である事を確認する。
（４）Baselineを押す。
（５）Measurementタブにて「Measure Once」を押し測定し、結果を保存する。
（６）Parameter to Plotを押し、「TotalRetardance(nm)」を選択する。
（７）Statisticsウインドウを開き「FullGraph」を選択し、Statisticsウインドウ内のMean値が0.0±0.1nmである事を確認する。
２．標準板の測定
（１）標準板「CAL-VIS-1」をステージに置き測定を行う。
（２）Parameter to Plot から「Total Retardance(nm)」を選択し、Mean値が191.6±1.0nmである事を確認する。同時に「RetardanceOrientation（°)」を選択し、Mean値が0.0±0.05°であることを確認する。
３．実測
サンプルをステージに置き測定を行う。実測時は、Measurementタブにて、wavelengthの値を「550」、number to averageの値を「20」に設定する。

上記手順による測定では、１つの測定箇所ごとに、１６０×１２８＝２０，４８０ピクセル分の光軸（配向主軸）の角度が測定される。そして、２０，４８０の光軸の角度から、測定箇所ごとの光軸の角度のバラツキ３σが算出される。なお、１ピクセルの大きさは４３２［μｍ^２］である。

光学積層体において、透明基材は、透明基材の遅相軸と、偏光子の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなることを要する。
かかる要件を満たさない場合、直線偏光が透明基材を透過する際に偏光の状態が乱れ、外光の反射を抑制することができない。
なお、略平行又は略垂直の範囲は上述した通りである。

透明基材は、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、アクリルフィルム、ポリスチレン等のプラスチックフィルムを延伸してなる延伸プラスチックフィルムが好ましい。これらの中でも、面内位相差を大きくしやすいという観点から、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルムを延伸したものが好ましい。
また、透明基材は、正分散性（短波長側に向かうにつれて複屈折率が大きくなる性質）を示すものが好ましい。かかる観点から、透明基材はポリエステルフィルムを延伸したもの（延伸ポリエステルフィルム）が好ましい。
ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）、ポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮフィルム）等が好適である。
また、透明基材は、プラスチックフィルム等の透明支持体上に円盤状液晶化合物等の液晶化合物を含む液晶層を形成したものであってもよい。また、前述したような透明支持体上に形成した液晶層を、他の層（λ／４位相差層、偏光子等）に転写してなるものを透明基材としてもよい。

延伸は、縦一軸延伸、テンター延伸、逐次二軸延伸及び同時二軸延伸等が挙げられる。
透明基材の厚みは、取り扱い性及び薄膜化の観点から、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、１５μｍ以上１００μｍ以下であることがさらに好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下であることがよりさらに好ましい。

＜表面保護材＞
光学積層体は、偏光子の透明基材とは反対側の面に表面保護材を有していてもよい。
表面保護材としては、例えば、プラスチックフィルム及びガラス等の透明支持体が挙げられる。
また、表面保護材は、前記透明支持体に機能層を有するものであってもよい。機能層としては、ハードコート層、防汚層、防眩層及び反射防止層等から選ばれる１種又は２種以上が挙げられる。

＜その他の層＞
光学積層体は、さらにその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、各層を接着するための接着剤層及び帯電防止層等が挙げられる。

＜全光線透過率＞
本発明の光学積層体は、全光線透過率が３５％以上８０％以下であることが好ましく、３７％以上６５％以下であることがより好ましく、４０％以上５５％以下であることがさらに好ましい。
光学積層体の全光線透過率を３５％以上とすることにより、表示素子の視認性を良好にしやすくできる。また、光学積層体の全光線透過率を８０％以下とすることにより、外光の反射を抑制しやすく、さらには、斜めから視認した際の色味を抑制しやすくできる。
全光線透過率は、光学積層体の何れの側から光を入射しても、上記値を示すことが好ましい。

＜３σΔＸ、３σΔＹ＞
本発明の光学積層体は、下記の測定１から算出される３σΔＸ及び３σΔＹが何れも０．０１９未満であることが好ましい。
＜測定１＞
波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、前記光学積層体を積層してなるサンプルを作製する。前記サンプルにおいて、前記光学積層体は、透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記アルミ板側を向くように配置する。
前記サンプルの表面に対して、積分球で拡散した光を法線方向から入射し、反射光を測定する。測定された反射光からＸＹＺ表色系のＸ値及びＹ値を算出する。前記測定及び前記算出を、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定した状態で、方位角０度以上３５９．５度以下の範囲で０．５度ずつ実施し、７２０点のＸ値及びＹ値を得る。
７２０点のＸ値の平均値を「Ｘａｖｅ」とする。Ｘａｖｅに対するｎ番目の測定点のＸ値のずれを「ΔＸｎ」とする。７２０点のΔＸｎのバラツキ３σを「３σΔＸ」とする。
７２０点のＹ値の平均値を「Ｙａｖｅ」とする。Ｙａｖｅに対するｎ番目の測定点のＹ値のずれを「ΔＹｎ」とする。７２０点のΔＹｎのバラツキ３σを「３σΔＹ」とする。

「前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度」とは、言い換えると、「前記サンプルの表面に平行な方向から３０度浮いた角度」である。

３σΔＸ及び３σΔＹを何れも０．０１９未満とすることにより、斜めから視認した際の色味の変化をより抑制することができる。
３σΔＸ及び３σΔＹは、何れも、０．０１８以下であることがより好ましく、０．０１７以下であることがさらに好ましく、０．０１６以下であることがよりさらに好ましい。３σΔＸ及び３σΔＹの下限は制限されないが、何れも、０．００５以上であることが好ましく、０．０１０以上であることがより好ましい。

本発明の光学積層体は、前記測定１から算出される３σΔＸと３σΔＹとの平均が０．０１８未満であることが好ましい。
３σΔＸと３σΔＹとの平均を０．０１８未満とすることにより、斜めから視認した際の色味の変化をより抑制することができる。
３σΔＸと３σΔＹとの平均は、何れも、０．０１７以下であることがより好ましく、０．０１６以下であることがさらに好ましく、０．０１５以下であることがよりさらに好ましい。３σΔＸと３σΔＹとの平均の下限は制限されないが、０．００５以上であることが好ましく、０．０１０以上であることがより好ましい。

前記サンプルにおいて、前記アルミ板と前記光学積層体とは、前記アルミ板と前記光学積層体との間に空気界面が存在しないように積層することが好ましい。このため、前記アルミ板と前記光学積層体とは、接着剤層を介して貼り合わせたり、水を介して水貼りすることが好ましい。

測定１において「波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板」を用いた理由は、有機ＥＬ表示素子及びマイクロＬＥＤ表示素子等の反射率が高い表示素子の代替えのためである。

本明細書において、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均は、ＳＣＩ方式の反射率のことをいう。ＳＣＩは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、ライトトラップを閉じて正反射方向を含む全ての反射光を測定し、該測定値から算出される反射率である。代表的なＳＣＩの測定装置は、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なＳＣＩ及びＳＣＥの測定装置は、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−８度であり、ライトトラップのカバー範囲は１０度である。このような測定装置としては、コニカミノルタ株式会社製の商品名ＣＭ−２００２が挙げられる。

前記測定１は、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定し、方位角を０〜３５９．５度の範囲で０．５度ずつ変動させて実施する。このような測定が可能な装置としては、例えば、ＥＬＤＩＭ社の商品名「Ｅｚ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０」が挙げられる。

＜用途＞
本発明の光学積層体は、例えば、表示素子の前面用の光学積層体として用いることができる。
表示素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子及びマイクロＬＥＤ表示素子等が挙げられる。これらの中でも、有機ＥＬ表示素子及びマイクロＬＥＤ表示素子は、表示素子の反射率が高く、本発明の効果を発揮しやすい点で好ましい。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、表示素子上に光学積層体を有してなり、前記光学積層体が上述した本発明の光学積層体であり、かつ、前記光学積層体の透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記表示素子側を向くように配置してなるものである。

表示素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子及びマイクロＬＥＤ表示素子等が挙げられる。これらの中でも、有機ＥＬ表示素子及びマイクロＬＥＤ表示素子は、表示素子の反射率が高く、本発明の効果を発揮しやすい点で好ましい。

また、表示素子は、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が１０％以上であることが好ましく、１５％以上であることがより好ましく、１７％以上であることがさらに好ましい。かかる表示素子は、本発明の効果を発揮しやすい点で好ましい。
なお、表示素子の分光反射率の平均が大きすぎると、斜めから視認した際の色味を抑制しにくくなる傾向がある。このため、表示素子は、分光反射率の平均が５０％以下であることが好ましく、４０％以下であることがより好ましく、３５％以下であることがさらに好ましく、３０％以下であることがよりさらに好ましい。

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。

１．材料の準備及び作製
１−１．偏光板の準備
下記の偏光板Ａ〜Ｃを準備した。
＜偏光板Ａ＞
ポリビニルアルコール及びヨウ素から形成されてなるヨウ素系偏光子の両面を光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルムで保護してなる偏光板（偏光度９９．９５％、全光線透過率４０．５％）。
＜偏光板Ｂ＞
ポリビニルアルコール及び二色性染料から形成されてなる染料系偏光子の両面を光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルムで保護してなる偏光板（偏光度９９．５％、全光線透過率４３％）。
＜偏光板Ｃ＞
液晶材料及び二色性染料から形成されてなる染料系偏光子の両面を光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルムで保護してなる偏光板（偏光度９０％、全光線透過率４５％）。

１−２．λ／４位相差層の準備
下記のλ／４位相差層Ａ〜Ｊを準備した。
＜λ／４位相差層Ａ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５。
＜λ／４位相差層Ｂ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に逆分散液晶と正分散液晶のミックスからなる重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．００。
＜λ／４位相差層Ｃ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９。
＜λ／４位相差層Ｄ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９０。
＜λ／４位相差層Ｅ＞
シクロオレフィンポリマーからなるλ／４位相差層。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０。
＜λ／４位相差層Ｆ＞
ポリカーボネートポリマーからなるλ／４位相差層。Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１。
＜λ／４位相差層Ｇ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９。
＜λ／４位相差層Ｈ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０。
＜λ／４位相差層Ｉ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／４位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝８０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９。
＜λ／４位相差層Ｊ＞
ポリカーボネートポリマーからなるλ／４位相差層。Ｒｅ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１。

１−３．λ／２位相差層の準備
下記のλ／２位相差層Ａ〜Ｅを準備した。
＜λ／２位相差層Ａ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／２位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝２６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９。
＜λ／２位相差層Ｂ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／２位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝２４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０。
＜λ／２位相差層Ｃ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなるλ／２位相差層を有してなる積層体。Ｒｅ（５５０）＝１６０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９。
＜λ／２位相差層Ｄ＞
シクロオレフィンポリマーからなるλ／２位相差層。Ｒｅ（５５０）＝２７５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０。
＜λ／２位相差層Ｅ＞
ポリカーボネートポリマーからなるλ／２位相差層。Ｒｅ（５５０）＝２４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１。

１−４．透明基材の準備
下記の透明基材Ａ〜Ｉを準備した。
なお、透明基材Ａ〜Ｆ、Ｉは、配向主軸の角度のバラツキ３σが０．０１以上のものであった。
＜透明基材Ａ＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：２５００ｎｍ、面内位相差：５０００ｎｍ。
＜透明基材Ｂ＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：５０００ｎｍ、面内位相差：１００００ｎｍ。
＜透明基材Ｃ＞
ポリエチレンナフタレートフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：７５００ｎｍ、面内位相差：１５０００ｎｍ。
＜透明基材Ｄ＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：２０００ｎｍ、面内位相差：１０００ｎｍ。
＜透明基材Ｅ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶化合物からなる液晶層を有するフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：２５ｎｍ、面内位相差：５０ｎｍ。
＜透明基材Ｆ＞
ポリエチレンナフタレートフィルム、ｎｘ＞ｎｙを満たす正のＡプレート、厚み方向の位相差：５０００ｎｍ、面内位相差：１００００ｎｍ。
＜透明基材Ｇ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上に重合性液晶を垂直に配向させてなる液晶層を有するフィルム、正のＣプレート、厚み方向の位相差：−１０００ｎｍ
＜透明基材Ｈ＞
光学的等方性のトリアセチルセルロースフィルム上にコレステリック液晶層を有するフィルム、負のＣプレート、厚み方向の位相差：１０００ｎｍ
＜透明基材Ｉ＞
トリアセチルセルロースフィルム、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満たす負の２軸フィルム（負のＢプレート）、厚み方向の位相差：２５０ｎｍ、面内位相差：６０ｎｍ。

２．光学積層体の作製
［実施例１］
λ／４位相差層Ａ、透明基材Ａ及び偏光板Ａを接着剤層を介してこの順に積層し、実施例１の光学積層体を得た。偏光子の吸収軸と透明基材の遅相軸との成す角度は９０度とした。また、偏光子の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸との成す角度は４５度とした。

［実施例２〜７、１３〜１７］、［比較例１〜４］
λ／４位相差層、透明基材及び偏光板の材料として表１に記載のものを用い、偏光子の吸収軸と透明基材の遅相軸との成す角度を表１に記載の角度に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜７、１３〜１７及び比較例１〜４の光学積層体を得た。

［実施例８］
λ／４位相差層Ｈ、λ／２位相差層Ｂ、透明基材Ｂ及び偏光板Ａを接着剤層を介してこの順に積層し、実施例８の光学積層体を得た。偏光子の吸収軸と透明基材の遅相軸との成す角度は９０度とした。また、偏光子の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸との成す角度は７５度とした。また、偏光子の吸収軸とλ／２位相差層の遅相軸との成す角度は１５度とした。

［実施例９〜１２］、［比較例５］
λ／４位相差層、λ／２位相差層、透明基材及び偏光板の材料として表１に記載のものを用い、偏光子の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸との成す角度及び偏光子の吸収軸とλ／２位相差層の遅相軸との成す角度を表１に記載の角度に変更した以外は、実施例８と同様にして、実施例９〜１２及び比較例５の光学積層体を得た。

［比較例６〜７］
λ／４位相差層Ｅ及び偏光板Ａを接着剤層を介して積層し、比較例６の光学積層体を得た。また、λ／４位相差層Ｆ及び偏光板Ａを接着剤層を介して積層し、比較例７の光学積層体を得た。偏光子の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸との成す角度は４５度とした。

３．模擬画像表示装置の作製
光学的等方性を有するアクリルフィルム上にアルミ蒸着膜を有してなるアルミ蒸着フィルムを作製した。その際、蒸着膜の厚みを変更し、波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率の平均が２０％、３０％及び４０％の３種類のアルミ蒸着フィルムを作製した。
分光反射率４０％のアルミ蒸着フィルムの蒸着膜側の面と、実施例１の光学積層体のλ／４位相差層側の面とを、接着剤層を介して貼り合せ、実施例１の模擬画像表示装置を得た。
アルミ蒸着フィルムを表１に記載の分光反射率を有するものに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜１７及び比較例１〜７の模擬画像表示装置を得た。

４．測定、評価
実施例及び比較例の模擬画像表示装置の偏光板側から三波長蛍光灯で光を照射し、下記の基準で反射防止性及び斜め方向の色味を評価した。光源は三波長蛍光灯のみとして、模擬画像表示装置上の明るさが３００〜１０００ルクスとなる環境とした。結果を表１及び２に示す。
また、実施例及び比較例の光学積層体に関して、全光線透過率を測定した。結果を表１及び２に示す。
また、一部の実施例及び比較例の光学積層体に関して、３σΔＸ及び３σΔＹを算出した。結果を表２に示す。

４−１．外光の反射防止性
模擬画像表示装置を正面及び斜めから目視した際に、反射防止性の不足による光漏れが気にならないものを３点、どちらとも言えないものを２点、反射防止性の不足による光漏れが気になるものを１点とした。２０人の被験者の平均点を算出し、下記の基準でランク分けした。
＜評価基準＞
Ａ：平均点が２．５以上
Ｂ：平均点が２．０以上２．５未満
Ｃ：平均点が１．５以上２．０未満
Ｄ：平均点が１．５未満

４−２．斜め方向の色味
模擬画像表示装置を斜めから目視した際に、表面の色味が気にならないものを３点、どちらとも言えないものを２点、表面の色味が強く気になるものを１点として、２０人の被験者の平均点を算出し、下記の基準でランク分けした。
＜評価基準＞
Ａ：平均点が２．７以上
Ｂ＋：平均点が２．５以上２．７未満
Ｂ：平均点が２．０以上２．５未満
Ｃ：平均点が１．５以上２．０未満
Ｄ：平均点が１．５未満

４−３．全光線透過率
実施例及び比較例の光学積層体の波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の全光線透過率を測定し、平均値を算出した。測定器は村上色彩社製の商品名「HM-150」を用いた。光入射面は偏光板側とした。

４−４．３σΔＸ、３σΔＹ
波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、実施例１４の光学積層体を積層してなるサンプルを作製した。サンプルに対して明細書本文の記載の測定１を実施し、サンプルの３σΔＸ、３σΔＹを算出した。実施例１４の光学積層体を、実施例１５〜１７の光学積層体、並びに、比較例６の光学積層体に変更して、同様にサンプルの３σΔＸ、３σΔＹを算出した。測定装置はＥＬＤＩＭ社の商品名「Ｅｚ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０」を用いた。

注１：表１及び２中、「角度１」は、偏光子の吸収軸と透明基材の遅相軸とが成す角を意味する。
注２：表１中、「角度２」は、偏光子の吸収軸とλ／２位相差層の遅相軸とが成す角を意味する。
注３：表１及び２中、「角度３」は、偏光子の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸とが成す角を意味する。

表１及び２の結果から、実施例の光学積層体は、外光の反射を抑制し得るとともに、斜めから視認した際の色味を抑制し得ることが確認できる。
また、実施例１３から、透明基材が「正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下」のものであれば、透明基材の面内位相差が低くても斜め方向の色味を抑制し得ることが確認できる。なお、実施例１３と、他の実施例との対比などから、厚み方向の位相差及び面内位相差が大きい方が、斜め方向の色味をより抑制しやすいことが確認できる。

１０：λ／４位相差層
２０：λ／２位相差層
３０：透明基材
４０：偏光子
５０：表面保護材
１００：光学積層体

Claims (10)

1. λ／４位相差層、透明基材及び偏光子をこの順に備えてなり、
   前記透明基材は、正の複屈折又は負の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が１２５ｎｍ以上又は−１２５ｎｍ以下であり、
   前記透明基材の遅相軸と、前記偏光子の吸収軸とが、略平行又は略垂直に配置されてなる、光学積層体。
2. 前記透明基材の面内位相差が４０ｎｍ以上である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記透明基材が、ポリエステルフィルム又はポリカーボネートフィルムである、請求項１又は２に記載の光学積層体。
4. 前記λ／４位相差層と前記透明基材との間に、λ／２位相差層を有する、請求項１〜３の何れか１項に記載の光学積層体。
5. 全光線透過率が３５％以上８０％以下である、請求項１〜４の何れか１項に記載の光学積層体。
6. 下記の測定１から算出される３σΔＸ及び３σΔＹが何れも０．０１９未満である、請求項１〜５の何れか１項に記載の光学積層体。
   ＜測定１＞
   波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、前記光学積層体を積層してなるサンプルを作製する。前記サンプルにおいて、前記光学積層体は、透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記アルミ板側を向くように配置する。
   前記サンプルの表面に対して、積分球で拡散した光を法線方向から入射し、反射光を測定する。測定された反射光からＸＹＺ表色系のＸ値及びＹ値を算出する。前記測定及び前記算出を、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定した状態で、方位角０度以上３５９．５度以下の範囲で０．５度ずつ実施し、７２０点のＸ値及びＹ値を得る。
   ７２０点のＸ値の平均値を「Ｘａｖｅ」とする。Ｘａｖｅに対するｎ番目の測定点のＸ値のずれを「ΔＸｎ」とする。７２０点のΔＸｎのバラツキ３σを「３σΔＸ」とする。
   ７２０点のＹ値の平均値を「Ｙａｖｅ」とする。Ｙａｖｅに対するｎ番目の測定点のＹ値のずれを「ΔＹｎ」とする。７２０点のΔＹｎのバラツキ３σを「３σΔＹ」とする。
7. 下記の測定１から算出される３σΔＸと３σΔＹとの平均が０．０１８未満である、請求項１〜６の何れか１項に記載の光学積層体。
   ＜測定１＞
   波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光反射率の平均が２０％のアルミ板上に、前記光学積層体を積層してなるサンプルを作製する。前記サンプルにおいて、前記光学積層体は、透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記アルミ板側を向くように配置する。
   前記サンプルの表面に対して、積分球で拡散した光を法線方向から入射し、反射光を測定する。測定された反射光からＸＹＺ表色系のＸ値及びＹ値を算出する。前記測定及び前記算出を、仰角を前記サンプルの表面に対する法線から６０度傾いた角度に固定した状態で、方位角０度以上３５９．５度以下の範囲で０．５度ずつ実施し、７２０点のＸ値及びＹ値を得る。
   ７２０点のＸ値の平均値を「Ｘａｖｅ」とする。Ｘａｖｅに対するｎ番目の測定点のＸ値のずれを「ΔＸｎ」とする。７２０点のΔＸｎのバラツキ３σを「３σΔＸ」とする。
   ７２０点のＹ値の平均値を「Ｙａｖｅ」とする。Ｙａｖｅに対するｎ番目の測定点のＹ値のずれを「ΔＹｎ」とする。７２０点のΔＹｎのバラツキ３σを「３σΔＹ」とする。
8. 有機ＥＬ表示素子の前面用である、請求項１〜７の何れか１項に記載の光学積層体。
9. 表示素子上に光学積層体を有する画像表示装置であって、前記光学積層体が請求項１〜７の何れか１項に記載の光学積層体であり、かつ、前記光学積層体の透明基材を基準としたλ／４位相差層側の面が前記表示素子側を向くように配置してなる、画像表示装置。
10. 前記表示素子が有機ＥＬ表示素子又はマイクロＬＥＤ表示素子である、請求項９に記載の画像表示装置。

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