JP2021055104A - Transparent polyimide resin film using polyimide forming composition - Google Patents

Transparent polyimide resin film using polyimide forming composition Download PDF

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Abstract

To provide a transparent polyimide resin film and a transparent substrate that have excellent optical and mechanical properties, so that they can be applied to a flexible display.SOLUTION: Provided is a polyamic acid solution comprising: (a) a diamine mixture including diamine represented by chemical formula 1 and diamine represented by chemical formula 2; (b) a dianhydride mixture including dianhydride represented by chemical formula 3 and dianhydride represented by chemical formula 4; (c) a basic catalyst having the boiling point in the range of 140 to 200°C; and (d) an organic solvent.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フレキシブル表示装置に適用可能なポリアミック酸溶液及びこれを用いて製
造される透明ポリイミド樹脂フィルムに関する。
The present invention relates to a polyamic acid solution applicable to a flexible display device and a transparent polyimide resin film produced using the same.

ポリイミド(Polyimide、PI)樹脂は、不溶不融の超高耐熱性樹脂であって
、電気的、化学的、熱的、及び機械的物性に優れているという長所を有するため、自動車
材料、航空・宇宙船材料などのような耐熱性の先端材料、並びに絶縁コーティング剤、絶
縁膜、半導体、LCD電極保護膜などのような電子材料として広く使用されている。
Polyimide (PI) resin is an insoluble and infusible ultra-high heat resistant resin, and has the advantages of excellent electrical, chemical, thermal, and mechanical properties. It is widely used as a heat-resistant advanced material such as a spacecraft material, and as an electronic material such as an insulating coating agent, an insulating film, a semiconductor, and an LCD electrode protective film.

このようなポリイミド樹脂の合成方法としては、一般に、ジアンヒドリドとジアミンと
を有機溶媒中で重合させてポリアミック酸(Polyamic acid)溶液を製造し
た後、これを熱処理で硬化させてフィルムとして製造する方法、または、化学的にイミド
化(Imidazation)を行った後、浸漬、洗浄、再溶解などの過程を経てフィル
ムとして製造する方法が行われている。
As a method for synthesizing such a polyimide resin, generally, a method of polymerizing dianhydride and diamine in an organic solvent to produce a polyamic acid solution, and then curing the solution by heat treatment to produce a film. Alternatively, a method is carried out in which a film is produced as a film through processes such as immersion, washing, and redissolution after chemically imidization.

まず、ポリアミック酸溶液を熱処理で硬化させてポリイミド樹脂フィルムを製造する方
法は、250〜400℃の高温で数時間加熱する過程を含む。その過程で樹脂の着色が生
じるため、可視光域での透過度及び黄色度が低下してしまい、透明性が要求される光学材
料として使用することが困難である。一方、低温で加熱する場合、ポリイミド樹脂フィル
ムの製造に要する時間が長くなると共にポリアミック酸の低分子量化が生じるため、製造
されるポリイミド樹脂フィルムの強度が低下するという問題点がある。
First, a method for producing a polyimide resin film by curing a polyamic acid solution by heat treatment includes a process of heating at a high temperature of 250 to 400 ° C. for several hours. Since the resin is colored in the process, the transmittance and yellowness in the visible light region are lowered, and it is difficult to use it as an optical material that requires transparency. On the other hand, when the polyimide resin film is heated at a low temperature, the time required for producing the polyimide resin film becomes long and the molecular weight of the polyamic acid is reduced, so that there is a problem that the strength of the produced polyimide resin film is lowered.

また、ポリアミック酸溶液を化学的にイミド化してポリイミド樹脂フィルムを製造する
方法は、ポリアミック酸溶液にキシレンやトルエンなどを加え、ディーン・スターク方法
(Dean Stark Method)でイミド化する過程、または、ポリアミック酸
溶液にピリジンなどの触媒と、無水酢酸などの脱水剤を加え、低温でイミド化する過程を
含む。しかし、前記化学的にイミド化する方法では、別のディーン・スターク装置を設け
る必要があり、または、イミド化後に浸漬、洗浄、乾燥、再溶解などの過程を経る必要が
あるため、工程が複雑で、廃水が多量に発生するという問題点がある。
The method for producing a polyimide resin film by chemically imidizing a polyamic acid solution is a process of adding xylene or toluene to the polyamic acid solution and imidizing by the Dean Stark Method, or polyamic. The process of adding a catalyst such as pyridine and a dehydrating agent such as acetic anhydride to the acid solution and imidizing at a low temperature is included. However, in the method of chemically imidizing, the process is complicated because another Dean-Stark apparatus needs to be provided or a process such as dipping, washing, drying, and redissolving is required after imidization. Therefore, there is a problem that a large amount of wastewater is generated.

従って、比較的簡単な工程によって、高透明性を示し、かつ熱的特性及び機械的特性に
優れた、透明ポリイミド樹脂フィルムを製造するためのポリアミック酸溶液の開発が求め
られている。
Therefore, it is required to develop a polyamic acid solution for producing a transparent polyimide resin film which exhibits high transparency and is excellent in thermal properties and mechanical properties by a relatively simple process.

本発明は、特定の構造を有するジアンヒドリド単量体とジアミン単量体とを採用し、こ
れらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用して一定
温度で硬化することで、低いYI(Yellow Index)及び高い光透過度を実現
し、機械的特性を調節することができる、透明ポリアミック酸溶液及び透明ポリイミドフ
ィルムを製造することを目的としている。
The present invention employs a dianhydride monomer and a diamine monomer having a specific structure, adjusts the content of these to a specific range, and uses a catalyst having a boiling point within the specific range at a constant temperature. It is an object of the present invention to produce a transparent polyamic acid solution and a transparent polyimide film which can realize low YI (Yello Index) and high light transmittance by curing and can adjust mechanical properties.

また、本発明は、LCD及びOLEDのフレキシブル表示装置用プラスチック透明基板
、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、電子ペー
パー用基板材料などに適用可能なポリアミック酸組成物及び透明ポリイミドフィルムを提
供することを目的としている。
Further, the present invention is a polyamic acid composition and a transparent polyimide film applicable to plastic transparent substrates for LCD and OLED flexible display devices, TFT substrates, flexible printed circuit boards, flexible OLED surface lighting substrates, substrate materials for electronic paper, and the like. Is intended to provide.

上述の目的を達成するため、本発明は、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと
下記化学式(2)で示されるジアミンとを含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)
で示されるジアンヒドリドと下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアン
ヒドリド混合物;(c)140〜200℃の範囲の沸点を有する塩基性触媒;及び(d)
有機溶媒;を含むポリアミック酸溶液を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention has a diamine mixture containing (a) a diamine represented by the following chemical formula (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2); (b) the following chemical formula (3).
A dianhydride mixture containing the dianhydride represented by (c) and the dianhydride represented by the following chemical formula (4); (c) a basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200 ° C.; and (d).
A polyamic acid solution containing an organic solvent; is provided.

Figure 2021055104
(前記化学式(1)中、
Aは、単結合、−C(=O)−、−C(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基
からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X及びXのうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、
またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基であり、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC
のアルキル基で置換されることがあり、
mは、0〜2の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (1),
A represents a single bond, -C (= O) -, - C (= O) NH-, and is selected from the group consisting of arylene group C 6 -C 20,
X 1 and X 2 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
However, when A is a single bond, at least one or more of X 1 and X 2 is a halogen.
Alternatively, it is an alkyl group of C 1 to C 6 substituted with a halogen atom.
The arylene groups of C 6 to C 20 are halogen or C 1 to C 20 substituted with a halogen atom.
It may be substituted with an alkyl group of C 6,
m is an integer from 0 to 2. )

Figure 2021055104
(前記化学式(2)中、
Bは、単結合、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換された
〜Cのアルキレン基、−O−、−O−B−O−、−S−、−S(=O)−、−C
(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、またはハロゲ
ン原子で置換されたC〜Cのアルキル基で置換されることがある。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (2),
B represents a single bond, an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - O-B -O -, - S -, -S (= O) 2- , -C
(= O) Selected from the group consisting of allylene groups of NH- and C 6 to C 20.
X 3 and X 4 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
The arylene group C 6 -C 20 is selected from halogen, C 1 -C alkyl group having 6 or it may be substituted with an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom. )

Figure 2021055104
(前記化学式(3)中、
Cは、4価のC〜C20の芳香族環基、及び4価のC〜C40の脂肪族環基からなる
群から選択され、
前記4価のC〜C20の芳香族環基は、それぞれ独立に、C〜Cのアルキル基で置
換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数
個の環同士が、−C(=O)−、−C(=O)NH−、−C(=O)−O−、及び−S(
=O)−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (3),
C is selected from the group consisting of tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups and tetravalent C 4 to C 40 aliphatic ring groups.
The tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups may be independently substituted with C 1 to C 6 alkyl groups, respectively.
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are -C (= O)-, -C (= O) NH-,-. C (= O) -O- and -S (
= O) It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of 2 −. )

Figure 2021055104
(前記化学式(4)中、
Dは、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜C
のアルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、及び−S(=O)−からなる群
から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
nは、1〜3の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (4),
D is, C 1 -C 6 alkylene group, one or more C 1 hydrogens are replaced by halogen atoms as -C
Selected from the group consisting of 6 alkylene groups, −O−, −S−, −C (= O) −, and −S (= O) 2−.
X 5 and X 6 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
n is an integer of 1 to 3. )

また、本発明は、前記ポリアミック酸溶液をイミド化して製造される透明ポリイミド樹
脂フィルムを提供する。
The present invention also provides a transparent polyimide resin film produced by imidizing the polyamic acid solution.

さらに、本発明は、前記透明ポリイミド樹脂フィルムを含む透明基板を提供する。 Furthermore, the present invention provides a transparent substrate containing the transparent polyimide resin film.

本発明によれば、特定の構造を有するジアミン単量体とジアンヒドリド単量体とを採用
し、これらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用す
ることにより、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを同時に有する透明ポリアミ
ック酸溶液及びポリイミド樹脂フィルムを提供することができる。
According to the present invention, by adopting a diamine monomer having a specific structure and a dianhydride monomer, adjusting the content of these to a specific range and using a catalyst having a boiling point within the specific range. , A transparent polyamic acid solution and a polyimide resin film having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. at the same time can be provided.

また、本発明によれば、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを有する前記透明
ポリイミド用組成物を基板に適用することにより、優れた物性と製品信頼性を発揮するフ
レキシブル表示装置用透明基板を提供することができる。
Further, according to the present invention, a flexible display device exhibiting excellent physical properties and product reliability by applying the transparent polyimide composition having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. to a substrate. A transparent substrate for use can be provided.

以下、本発明を詳述する。但し、後述の例は、例示に過ぎず、本発明は、これらの例に
よって制限されるものではなく、本発明の範疇は、後述の特許請求の範囲によって示され
る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the examples described below are merely examples, and the present invention is not limited by these examples, and the scope of the present invention is indicated by the scope of claims described later.

<ポリアミック酸溶液>
本発明に係るポリアミック酸溶液は、高透明性と共に優れた光学特性を保持しながら機
械的特性及び熱的特性の改善されたポリイミド樹脂フィルムを製造するためのものであっ
て、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと下記化学式(2)で示されるジアミン
とを含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと下記化学
式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;(c)140〜20
0℃の範囲の沸点を有する塩基性触媒;及び(d)有機溶媒;を含む。
<Polyamic acid solution>
The polyamic acid solution according to the present invention is for producing a polyimide resin film having improved mechanical properties and thermal properties while maintaining high transparency and excellent optical properties, and (a) the following chemical formula. A diamine mixture containing a diamine represented by (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2); (b) containing a dianehydride represented by the following chemical formula (3) and a dianhydride represented by the following chemical formula (4). Diamine hydride mixture; (c) 140-20
It contains a basic catalyst having a boiling point in the range of 0 ° C.; and (d) an organic solvent;

(a)ジアミン混合物
本発明に係るポリアミック酸溶液は、ジアミン成分として、下記化学式(1)で示され
るジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミンとを含む。
(A) Diamine Mixture The polyamic acid solution according to the present invention contains a diamine represented by the following chemical formula (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2) as a diamine component.

Figure 2021055104
前記化学式(1)中、
Aは、単結合、−C(=O)−、−C(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基
からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X及びXのうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、
またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基であり、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC
のアルキル基で置換されることがあり、
mは、0〜2の整数である。
Figure 2021055104
In the chemical formula (1),
A represents a single bond, -C (= O) -, - C (= O) NH-, and is selected from the group consisting of arylene group C 6 -C 20,
X 1 and X 2 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
However, when A is a single bond, at least one or more of X 1 and X 2 is a halogen.
Alternatively, it is an alkyl group of C 1 to C 6 substituted with a halogen atom.
The arylene groups of C 6 to C 20 are halogen or C 1 to C 20 substituted with a halogen atom.
It may be substituted with an alkyl group of C 6,
m is an integer from 0 to 2.

Figure 2021055104
前記化学式(2)中、
Bは、単結合、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換された
〜Cのアルキレン基、−O−、−O−B−O−、−S−、−S(=O)−、−C
(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、またはハロゲ
ン原子で置換されたC〜Cのアルキル基で置換されることがある。
Figure 2021055104
In the chemical formula (2),
B represents a single bond, an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - O-B -O -, - S -, -S (= O) 2- , -C
(= O) Selected from the group consisting of allylene groups of NH- and C 6 to C 20.
X 3 and X 4 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
The arylene group C 6 -C 20 is selected from halogen, C 1 -C alkyl group having 6 or it may be substituted with an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom.

本発明の好適な一例によれば、前記X及びXは、当業界で周知の電子吸引性基(E
lectron Withdrawing Group、EWG)であることができ、そ
れぞれ独立に、フッ素(F)またはCFであることが好ましい。
According to a preferred example of the present invention, the X 1 and X 4 are a well-known electron-withdrawing groups in the art (E
It can be lectron Withdrawing Group, EWG), preferably fluorine (F) or CF 3 independently of each other.

また、前記Aは、当業界で周知のC〜C20のアリーレン基であることができ、その
具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニレンなどが挙げられる。特に、
前記Aは、次の化学式(5)で示される置換体群から選択されるものであることが好まし
い。
Further, the A can be an arylene group of C 6 to C 20 well known in the art, and specific examples thereof include phenylene, biphenylene, and triphenylene. in particular,
The A is preferably selected from the substituent group represented by the following chemical formula (5).

Figure 2021055104
前記化学式(5)中、*は、前記化学式(1)における連結部位である。また、R〜R
は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、F、及びCFからなる群から
選択される。
Figure 2021055104
In the chemical formula (5), * is a connecting site in the chemical formula (1). Also, R 1 to R
3 is the same as or different from each other and is independently selected from the group consisting of hydrogen, F, and CF 3.

上述の化学式(1)において、フッ素(F)やCFなどの電子吸引性基(EWG)を
少なくとも1つ以上導入することにより、分子鎖間及び分子鎖内電荷移動錯体(Chan
ge Transfer Complex、CTC)の形成を制御することで、ポリイミ
ド樹脂の透明度を向上することができる。
By introducing at least one electron-withdrawing group (EWG) such as fluorine (F) or CF 3 in the above-mentioned chemical formula (1), an intermolecular and intramolecular charge transfer complex (Chan) is introduced.
By controlling the formation of ge Transfer Complex (CTC), the transparency of the polyimide resin can be improved.

本発明において、前記化学式(1)で示されるジアミンとしては、2,2’−ビス(ト
リフルオロメチル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(TFDB)、4−アミノ−N−(
4−アミノフェニル)ベンズアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタノンなどに由来す
る構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。但し、フッ素化ビフ
ェニル構造を含有するジアミンは、ジアンヒドリドとの反応性を調節しながら、高いガラ
ス転移温度及び低い熱膨張性を実現することで、熱的特性を改善することができる。例え
ば、TFDBを使用する場合は、ポリイミド樹脂の透過度及びガラス転移温度を高くする
と共に熱膨張係数を低くすることができる。
In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) includes 2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl-4,4'-diamine (TFDB) and 4-amino-N- (
It can be selected from structures derived from 4-aminophenyl) benzamine, bis (4-aminophenyl) methanone, etc., but is not limited thereto. However, the diamine containing a fluorinated biphenyl structure can improve its thermal properties by achieving a high glass transition temperature and a low thermal expansion while adjusting the reactivity with dianhydride. For example, when TFDB is used, the transmittance of the polyimide resin and the glass transition temperature can be increased and the coefficient of thermal expansion can be decreased.

このような前記化学式(1)で示されるジアミンの含有量は、特に限定されないが、ジ
アミン混合物100モル%に対して、50〜99.9モル%であることができ、好ましく
は、70〜99モル%である。化学式(1)で示されるジアミンを上述の範囲内で含む場
合、単量体中の置換基間電荷移動効果によって、光学特性がより向上することができる。
The content of the diamine represented by the chemical formula (1) is not particularly limited, but can be 50 to 99.9 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture, and is preferably 70 to 99. Mol%. When the diamine represented by the chemical formula (1) is contained within the above range, the optical properties can be further improved due to the charge transfer effect between the substituents in the monomer.

本発明において、前記化学式(2)で示されるジアミンとしては、2,2’−ジメチル
ビフェニル−4,4’−ジアミン(m−Tolidine)、4,4’−オキシジベンゼ
ンアミン(4,4’−ODA)、3,4−オキシジベンゼンアミン(3,4’−ODA)
、3,3’−オキシジベンゼンアミン(3,3’−ODA)、4,4’−オキシ(3−(
トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FODA)、4,4’−(1,4−フェニレン
ビス(オキシ))ビス(3−(トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FAPB)、4
,4’−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’−(
2,2’−(1,4−フェニレン)ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン−2,2−ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’−スルホニルジベンゼンアミン(4
,4’−DDS)、4,4’−(4,4’−(パーフルオロプロパン−2,2−ジイル)
ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンアミン、4,4’−(4,4’
−スルホニルビス(4,1−フェニレン)ビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’
−(1,4−フェニレンビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’−(4,4’−(
プロパン−2,2−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンア
ミン、シクロヘキサン−1,4−ジアミン、4,4’−メチレンジシクロヘキサンアミン
、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキサンアミン)などに由来する構造のう
ちから選択することができるが、これらに制限されない。このような化学式(2)で示さ
れるジアミンは、フェニル、ビフェニル、スルホン基(SO)、シラン基などを含む単
量体であることができる。なお、m−Tolidine、4,4’−ODA、FODA、
FAPB、DABA(4,4'-Diaminobenzanilide)、4,4’−DDS、または4,4’−
(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミンを使用する場合は、ポリ
イミド樹脂の熱的特性が低下することなく、光学特性をより向上することができる。
In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (2) includes 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine (m-Toliline) and 4,4'-oxydibenzeneamine (4,4'). -ODA), 3,4-oxydibenzeneamine (3,4'-ODA)
, 3,3'-oxydibenzeneamine (3,3'-ODA), 4,4'-oxy (3-(
Trifluoromethyl) benzeneamine) (FODA), 4,4'-(1,4-phenylenebis (oxy)) bis (3- (trifluoromethyl) benzeneamine) (FABP), 4
, 4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine, 4,4'-(
2,2'-(1,4-phenylene) bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl) dibenzeneamine, 4,4'-sulfonyldibenzeneamine (1,4'-sulfonyldibenzeneamine ( 4
, 4'-DDS), 4,4'-(4,4'-(perfluoropropane-2,2-diyl))
Bis (4,51-phenylene)) Bis (oxy) dibenzeneamine, 4,4'-(4,4'
-Sulfonyl bis (4,5-phenylene) bis (oxy) dibenzeneamine, 4,4'
-(1,4-phenylenebis (oxy)) dibenzeneamine, 4,4'-(4,4'-(4,4'-(
Propane-2,2-diyl) bis (4,1-phenylene)) bis (oxy) dibenzeneamine, cyclohexane-1,4-diamine, 4,4'-methylenedicyclohexaneamine, 4,4'-methylenebis (4,4'-methylenebis ( It can be selected from structures derived from 2-methylcyclohexaneamine) and the like, but is not limited thereto. The diamine represented by such a chemical formula (2) can be a monomer containing phenyl, biphenyl, a sulfone group (SO 2 ), a silane group and the like. In addition, m-Toldine, 4,4'-ODA, FODA,
FAPB, DABA (4,4'-Diaminobenzanilide), 4,4'-DDS, or 4,4'-
When (perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine is used, the optical characteristics can be further improved without deteriorating the thermal characteristics of the polyimide resin.

このような前記化学式(2)で示されるジアミンの含有量は、特に限定されないが、ジ
アミン混合物100モル%に対して、0.01〜50モル%であることができ、好ましく
は、0.1〜30モル%である。化学式(2)で示されるジアミンを上述の範囲内で含む
場合、光学特性(光透過度及び黄色度)がより向上することができる。
The content of the diamine represented by the chemical formula (2) is not particularly limited, but can be 0.01 to 50 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture, preferably 0.1. ~ 30 mol%. When the diamine represented by the chemical formula (2) is contained within the above range, the optical characteristics (light transmittance and yellowness) can be further improved.

本発明に係る(a)ジアミンは、ポリイミド樹脂の高透明性及び低黄色度を考慮して、
前記化学式(1)で示されるジアミンとして、TFDBを使用すると共に、前記化学式(
2)で示されるジアミンとして、m−Tolidine、4,4’−ODA、FODA、
FAPB、DABA、4,4’−DDS、または4,4’−(パーフルオロプロパン−2
,2’−ジイル)ジベンゼンアミンを混合して使用することが好ましい。
The (a) diamine according to the present invention takes into consideration the high transparency and low yellowness of the polyimide resin.
As the diamine represented by the chemical formula (1), TFDB is used and the chemical formula (1) is used.
As the diamine represented by 2), m-Toliline, 4,4'-ODA, FODA,
FAPB, DABA, 4,4'-DDS, or 4,4'-(perfluoropropane-2)
, 2'-Diyl) Dibenzeneamine is preferably mixed and used.

(b)ジアンヒドリド混合物
本発明に係るポリアミック酸溶液は、ジアンヒドリド成分として、下記化学式(3)で
示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含む。
(B) Diane Hydride Mixture The polyamic acid solution according to the present invention contains diane hydride represented by the following chemical formula (3) and diane hydride represented by the following chemical formula (4) as diane hydride components.

Figure 2021055104
前記化学式(3)中、
Cは、4価のC〜C20の芳香族環基、及び4価のC〜C40の脂肪族環基からなる
群から選択され、
前記4価のC〜C20の芳香族環基は、それぞれ独立に、ハロゲン、C〜Cのアル
キル基、またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基で置換されることがあ
り、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数
個の環同士が、−C(=O)−、−C(=O)NH−、−C(=O)−O−、及び−S(
=O)−からなる群から選択される1種以上の連結基(L)を介して連結されている。
Figure 2021055104
In the chemical formula (3),
C is selected from the group consisting of tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups and tetravalent C 4 to C 40 aliphatic ring groups.
Aromatic cyclic group of the tetravalent C 6 -C 20 are each independently substituted halogen, an alkyl group of C 1 -C 6 alkyl C 1 -C 6 that or substituted with a halogen atom, Sometimes,
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are -C (= O)-, -C (= O) NH-,-. C (= O) -O- and -S (
= O) It is linked via one or more linking groups (L) selected from the group consisting of 2 −.

Figure 2021055104
前記化学式(4)中、
Dは、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜C
のアルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、及び−S(=O)−からなる群
から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
nは、1〜3の整数である。
Figure 2021055104
In the chemical formula (4),
D is, C 1 -C 6 alkylene group, one or more C 1 hydrogens are replaced by halogen atoms as -C
Selected from the group consisting of 6 alkylene groups, −O−, −S−, −C (= O) −, and −S (= O) 2−.
X 5 and X 6 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
n is an integer of 1 to 3.

本発明の好適な一例によれば、前記Cは、当業界で周知の4価の炭化水素環基であり、
前記炭化水素環基としては、例えば、C〜C20の芳香族環基、またはC〜C40
脂肪族環基などが挙げられる。前記Cは、4価の6員芳香族環基、または4価の6員脂環
式環基であることが好ましい。なお、Cが4価の6員芳香族環基である場合、化学式(3
)で示されるジアンヒドリドは、ジアミン構造を含有する芳香族ジアンヒドリドであり、
Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジア
ミン構造を含有する非芳香族ジアンヒドリドであることができる。
According to a preferred example of the present invention, C is a tetravalent hydrocarbon ring group well known in the art.
Examples of the hydrocarbon ring group include aromatic ring groups of C 6 to C 20 and aliphatic ring groups of C 4 to C 40 . The C is preferably a tetravalent 6-membered aromatic ring group or a tetravalent 6-membered alicyclic ring group. When C is a tetravalent 6-membered aromatic ring group, the chemical formula (3)
) Is an aromatic diane hydride containing a diamine structure.
When C is a tetravalent 6-membered aliphatic ring group, the dianhydride represented by the chemical formula (3) can be a non-aromatic dianhydride containing a diamine structure.

前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複
数個の環同士が、−C(=O)−、−C(=O)NH−、−C(=O)−O−、及び−S
(=O)−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are -C (= O)-, -C (= O) NH-,-. C (= O) -O- and -S
(= O) It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of 2-.

例えば、前記Cが4価の6員芳香族環基である場合は、当業界で周知の1つ以上のC
〜C40のアリーレン基、スルホン基、またはアリーレン基とスルホン基とが連結された
形態であることができる。その具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニ
レン、スルホニルジフェニレンなどが挙げられる。特に、前記Cは、次の化学式(6)で
示される置換体群から選択されるものであることが好ましい。
For example, the C if it is a tetravalent six-membered aromatic ring group, one or more well known in the art C 6
~ C 40 can be in the form of an arylene group, a sulfone group, or an arylene group and a sulfone group linked together. Specific examples thereof include phenylene, biphenylene, triphenylene, and sulfonyldiphenylene. In particular, C is preferably selected from the substituent group represented by the following chemical formula (6).

Figure 2021055104
前記化学式(6)中、*は、前記化学式(3)における連結部位であり、R〜Rは、
互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、またはC〜Cのアルキル基である
。好ましくは、それぞれ独立に、水素、またはメチル基であることができる。
Figure 2021055104
In Chemical Formula (6), * is the a linking site in the chemical formula (3), R 4 to R 6 is
They are the same or different from each other, and are independently hydrogen or alkyl groups of C 1 to C 6. Preferably, each can be independently hydrogen or a methyl group.

前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアンヒドリドの間にリジッドな構造
を有するアリーレン基及び/又はスルホン基が導入されることにより、熱や光による分解
が生じることなく外部衝撃に対して安定しているため、これを用いて製造されるポリイミ
ド樹脂の光学特性、熱的特性、機械的特性などが有意に改善される。また、化学式(3)
で示される化合物は、ジアンヒドリドの間にアミド基(−C(=O)−NH−)が導入さ
れることにより、他のジアンヒドリド単量体中の酸素原子と反応して水素結合を形成し、
高分子の主鎖に一定の結合力が発生することで、ポリイミド樹脂の機械的特性及び耐熱特
性が有意に改善される。
The dianhydride represented by the chemical formula (3) is resistant to an external impact without being decomposed by heat or light due to the introduction of an arylene group and / or a sulfone group having a rigid structure between the dianehydrides. Since it is stable, the optical properties, thermal properties, mechanical properties, etc. of the polyimide resin produced by using it are significantly improved. In addition, the chemical formula (3)
The compound represented by is reacted with an oxygen atom in another dianhydride monomer to form a hydrogen bond by introducing an amide group (-C (= O) -NH-) between the dianhydrides. And
By generating a certain binding force in the main chain of the polymer, the mechanical properties and heat resistance properties of the polyimide resin are significantly improved.

また、前記Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化合物の構造中にπ電子が存在しな
いため、電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の高透過度及
び低黄色度の実現に大きな役割を果たすようになる。
Further, when the C is a tetravalent 6-membered aliphatic ring group, since π electrons do not exist in the structure of the compound, the formation of the charge transfer complex (CTC) is controlled to increase the transmittance of the polyimide resin. And will play a major role in achieving low yellowness.

前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドとしては、1,2,3,4−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物(CBDA)、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボ
ン酸二無水物(CHDA)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物
(CPBA)、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二
無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(S−BPDA)
、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)、ピロメ
リット酸二無水物(PMDA)、N,N’−(4,4’−スルホニルビス(4,1−フェ
ニレン))ビス(1,3−ジオキソ−オクタヒドロイソベンゾフラン−5−カルボキサミ
ド)などに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。
Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (3) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (CHDA). , 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride (CPBA), bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2. 2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S-BPDA)
, 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), N, N'-(4,4'-sulfonylbis (4,4') It can be selected from structures derived from 1-phenylene)) bis (1,3-dioxo-octahydroisobenzofuran-5-carboxamide) and the like, but is not limited thereto.

このような化学式(3)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、
ジアンヒドリド混合物100モル%に対して、10〜95モル%であることができ、好ま
しくは、50〜90モル%である。化学式(3)で示されるジアンヒドリドを上述の範囲
内で含む場合、ポリイミド樹脂の高光透過度及び黄色度を保持すると共にポリイミド樹脂
の熱膨張係数を低くすることができる。
The content of dianhydride represented by the chemical formula (3) is not particularly limited, but is not particularly limited.
It can be 10-95 mol%, preferably 50-90 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride mixture. When the dianhydride represented by the chemical formula (3) is contained within the above range, the high light transmittance and yellowness of the polyimide resin can be maintained and the coefficient of thermal expansion of the polyimide resin can be lowered.

また、本発明の好適な一例によれば、前記X及びXは、当業界で周知の電子吸引性
基(EWG)であることができ、それぞれ独立に、フッ素(F)またはCFであること
が好ましい。
Further, according to a preferred example of the present invention, the X 5 and X 6 can be electron-withdrawing groups (EWGs) well known in the art, each independently of fluorine (F) or CF 3 . It is preferable to have.

前記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとしては、5,5’−(パーフルオロプロ
パン−2,2−ジイル)ジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(6−FDA)、5,5’
−オキシジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(ODPA)、5,5’−スルホニルジイ
ソベンゾフラン−1,3−ジオン(DSDA)、ベンゾフェノン−3,3’,4,4’−
テトラカルボン酸二無水物(BTDA)などに由来する構造のうちから選択することがで
きるが、これらに制限されない。なお、6FDAを使用する場合は、分子鎖間及び分子鎖
内電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の透明度を向上する
ことができる。
Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (4) include 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl) diisobenzofuran-1,3-dione (6-FDA), 5,5'.
-Oxydiisobenzofuran-1,3-dione (ODPA), 5,5'-sulfonyldiisobenzofuran-1,3-dione (DSDA), benzophenone-3,3', 4,4'-
It can be selected from structures derived from tetracarboxylic dianhydride (BTDA) and the like, but is not limited thereto. When 6FDA is used, the transparency of the polyimide resin can be improved by controlling the formation of the charge transfer complex (CTC) between the molecular chains and within the molecular chain.

このような化学式(4)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、
ジアンヒドリド100モル%に対して、5〜90モル%であることができ、好ましくは、
10〜50モル%である。
The content of dianhydride represented by the chemical formula (4) is not particularly limited, but is not particularly limited.
It can be 5 to 90 mol%, preferably 5 to 90 mol%, relative to 100 mol% of dianhydride.
It is 10 to 50 mol%.

上述のように、本発明の一例においては、前記ジアミン成分として、化学式(1)で示
されるジアミンと化学式(2)で示されるジアミンとを、ジアンヒドリド成分として、化
学式(3)で示されるジアンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを、混
合して使用するが、この時、(a)ジアミン混合物と(b)ジアンヒドリド混合物とは、
ポリイミド樹脂の黄色度及び機械的特性を改善するため、(a):(b)=1:0.1〜
10の重量比で混合することができる。
As described above, in the example of the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) are used as the diamine component as the diamine component, and the diamine represented by the chemical formula (3). The hydride and the dian hydride represented by the chemical formula (4) are mixed and used. At this time, the (a) diamine mixture and the (b) dian hydride mixture are used.
In order to improve the yellowness and mechanical properties of the polyimide resin, (a): (b) = 1: 0.1-
It can be mixed in a weight ratio of 10.

(c)塩基性触媒
塩基性触媒は、140〜200℃の沸点を有する塩基性触媒であって、例えば、4-tert
-ブチルピリジン、4−エチルピリジン、2−メチルピペラジン、2,6−ジメチルピペ
ラジン、4−tert−ブチルピリジン、2−プロピルピリジン、4−プロピルピリジン
、2,3,5−コリジン、2,5−ルチジン、2,6−ルチジン、2,3−ルチジン、4
−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、3−エチルピリジン、3−ピコリン、2,3
−ジメチルピラジン、2,5−ジメチルピラジンなどが挙げられ、これらは単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。
(C) Basic catalyst The basic catalyst is a basic catalyst having a boiling point of 140 to 200 ° C., for example, 4-tert.
-Butyl pyridine, 4-ethyl pyridine, 2-methyl piperazine, 2,6-dimethyl piperazine, 4-tert-butyl pyridine, 2-propyl pyridine, 4-propyl pyridine, 2,3,5-cholidine, 2,5- Lutidine, 2,6-lutidine, 2,3-lutidine, 4
-Diazabicyclo [2.2.2] octane, 3-ethylpyridine, 3-picoline, 2,3
-Dimethylpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine and the like can be mentioned, and these can be used alone or in admixture of two or more.

なお、塩基性触媒の沸点が140℃未満である場合は、フィルムの形成が困難となる。
一方、沸点が200℃を超えると、本発明の硬化温度で触媒を除去し難くなり、触媒を除
去するために硬化温度を上げる場合は、光学特性を阻害するようになる。
If the boiling point of the basic catalyst is less than 140 ° C., it becomes difficult to form a film.
On the other hand, if the boiling point exceeds 200 ° C., it becomes difficult to remove the catalyst at the curing temperature of the present invention, and when the curing temperature is raised to remove the catalyst, the optical characteristics are impaired.

(d)有機溶媒
前記ポリアミック酸溶液を合成するための溶媒は、当業界で周知のものであれば、特に
限定されない。前記溶媒としては、m−クレゾール、N−メチル−2−ピロリドン(NM
P)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチル
スルホキシド(DMSO)、アセトン、ジエチルアセテート、ジメチルフタレート(DM
P)などの極性溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルムなどの低沸点溶媒、
γ−ブチロラクトンなどの低吸収性溶媒などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
(D) Organic solvent The solvent for synthesizing the polyamic acid solution is not particularly limited as long as it is well known in the art. Examples of the solvent include m-cresol and N-methyl-2-pyrrolidone (NM).
P), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, diethyl acetate, dimethylphthalate (DM)
Polar solvents such as P), low boiling point solvents such as tetrahydrofuran (THF), chloroform, etc.
Examples thereof include low-absorption solvents such as γ-butyrolactone, which can be used alone or in admixture of two or more.

上述のような本発明に係るポリアミック酸溶液において、ジアミン混合物、ジアンヒド
リド混合物、触媒、及び有機溶媒の含有量は、特に限定されないが、ポリアミック酸溶液
の全100重量%に対して、(a)ジアミン混合物が1〜20重量%、(b)ジアンヒド
リド混合物が1〜20重量%、(c)触媒が当業界で周知の含有量、例えば、約0.01
〜20重量、具体的に約0.01〜15重量%、より具体的には、約0.1〜10重量%
、及び(d)有機溶媒が残部であることができる。ここで、ポリアミック酸溶液中におけ
る各成分の含有量が上記の範囲未満である場合は、前記ポリアミック酸溶液の粘度が低く
なりすぎることがあり、その反面、上記の範囲を超える場合は、ポリアミック酸溶液の粘
度が高くなりすぎることがある。従って、本発明に係るポリアミック酸溶液中における各
成分の含有量を上記の範囲内に調節することにより、ポリアミック酸溶液が約1,000
〜500,000cps、好ましくは、約10,000〜200,000cpsの範囲の
粘度を有することができる。また、ポリアミック酸溶液の粘度が上記の範囲内であれば、
ポリアミック酸溶液のコーティングの際に厚さの調節が容易に行われ、コーティングされ
る塗膜の表面が均一に形成されるようになる。
In the polyamic acid solution according to the present invention as described above, the contents of the diamine mixture, the dianhydride mixture, the catalyst, and the organic solvent are not particularly limited, but are (a) with respect to 100% by weight of the total polyamic acid solution. 1-20% by weight of the diamine mixture, (b) 1 to 20% by weight of the dianhydride mixture, (c) the content of the catalyst known in the art, eg, about 0.01.
~ 20% by weight, specifically about 0.01-15% by weight, more specifically about 0.1-10% by weight
, And (d) the organic solvent can be the balance. Here, if the content of each component in the polyamic acid solution is less than the above range, the viscosity of the polyamic acid solution may be too low, and on the other hand, if it exceeds the above range, the polyamic acid The viscosity of the solution may become too high. Therefore, by adjusting the content of each component in the polyamic acid solution according to the present invention within the above range, the polyamic acid solution can be reduced to about 1,000.
It can have a viscosity in the range of ~ 500,000 cps, preferably about 10,000 to 200,000 cps. If the viscosity of the polyamic acid solution is within the above range,
The thickness is easily adjusted during the coating of the polyamic acid solution so that the surface of the coating film to be coated is uniformly formed.

一方、本発明に係るポリアミック酸溶液は、必要に応じて、本発明の目的及び効果を損
なわない範囲内で、可塑剤、酸化防止剤、難燃化剤、分散剤、粘度調節剤、レベリング剤
などの添加剤を少量含むことができる。
On the other hand, the polyamic acid solution according to the present invention is, if necessary, a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, and a leveling agent within a range that does not impair the object and effect of the present invention. It can contain a small amount of additives such as.

上述のような本発明に係るポリアミック酸溶液の溶液重合反応を行うことで、ポリアミ
ック酸が得られる。具体的に、化学式(1)で示されるジアミンと化学式(2)で示され
るジアミンとを有機溶媒に投入して溶解させた後、ここに、化学式(3)で示されるジア
ンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを加えた後、溶液重合反応を行う
と、ポリアミック酸が得られる。この時、反応条件は、特に限定されないが、−20〜8
0℃で1〜12時間(好ましくは、1〜3時間)反応を行うことができる。
A polyamic acid can be obtained by performing a solution polymerization reaction of the polyamic acid solution according to the present invention as described above. Specifically, the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) are added to an organic solvent to dissolve them, and then the dianhydride represented by the chemical formula (3) and the chemical formula (4) are here. ) Is added and then a solution polymerization reaction is carried out to obtain a polyamic acid. At this time, the reaction conditions are not particularly limited, but are -20 to 8
The reaction can be carried out at 0 ° C. for 1 to 12 hours (preferably 1 to 3 hours).

<透明ポリイミド樹脂フィルム>
さらに、本発明は、上述のポリアミック酸溶液をイミド化して製造される透明ポリイミ
ド樹脂フィルムを提供する。
<Transparent polyimide resin film>
Furthermore, the present invention provides a transparent polyimide resin film produced by imidizing the above-mentioned polyamic acid solution.

なお、ポリイミド樹脂は、ランダム共重合体(Random copolymer)や
ブロック共重合体(Block copolymer)の形態であることができる。
The polyimide resin can be in the form of a random copolymer or a block copolymer.

本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、前記ポリアミック酸溶液を用いて製造さ
れるため、光学特性(透明度及び黄色度)と共に改善された機械的特性(弾性率、強度)
を有しながら、優れた熱的特性(熱膨張係数及びガラス転移温度)を期待することができ
る。具体的に、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、波長550nmでの光線透
過率が88%以上であり、波長550nmでの黄色度(Yellow Index、YI
)が5.0以下であり、ヘーズ(Haze)が1.0以下であり、弾性率(Modulu
s)が3〜6GPaであり、機械的強度(Strength)が120〜200MPaで
ある。
Since the transparent polyimide resin film according to the present invention is produced by using the polyamic acid solution, it has improved mechanical properties (elastic modulus, strength) as well as optical properties (transparency and yellowness).
Excellent thermal characteristics (coefficient of thermal expansion and glass transition temperature) can be expected. Specifically, the transparent polyimide resin film according to the present invention has a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm and yellowness (Yellow Index, YI) at a wavelength of 550 nm.
) Is 5.0 or less, Haze is 1.0 or less, and the elastic modulus (Modulu)
s) is 3 to 6 GPa, and the mechanical strength (Strength) is 120 to 200 MPa.

また、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、イミド基を含有するため、耐熱性
、耐化学性、耐摩耗性、及び電気的特性に優れている。
Further, since the transparent polyimide resin film according to the present invention contains an imide group, it is excellent in heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance, and electrical characteristics.

このような透明ポリイミド樹脂フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば、
前記透明ポリアミック酸組成物を、ガラス基板、金属基板または耐熱性高分子基板にコー
ティング(キャスティング)した後、80〜300℃の範囲で徐々に昇温させながら、1
〜12時間、イミド化反応(Imidazation)を行うことで、ポリイミド樹脂フ
ィルムを製造することができる。
The method for producing such a transparent polyimide resin film is not particularly limited, but for example,
After coating (casting) the transparent polyamic acid composition on a glass substrate, a metal substrate, or a heat-resistant polymer substrate, the temperature is gradually raised in the range of 80 to 300 ° C.
A polyimide resin film can be produced by carrying out an imidization reaction for ~ 12 hours.

前記コーティング方法としては、当業界で周知の方法を制限なく使用することができ、
例えば、スピンコート法(Spin coating)、ディップコート法(Dip c
oating)、溶媒キャスト法(Solvent casting)、スロットダイコ
ート法(Slot die coating)、スプレーコート法(Spray coa
ting)などが挙げられる。
As the coating method, a method well known in the art can be used without limitation.
For example, spin coating method, dip coating method (Dip c)
Oating), solvent casting, slot die coating, spray coating
Ting) and the like.

前記透明ポリイミド樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、数百nm〜数十μm
となるように、上述のポリアミック酸組成物を1回以上コーティングして調節することが
できる。
The thickness of the transparent polyimide resin film is not particularly limited, but is several hundred nm to several tens of μm.
The above-mentioned polyamic acid composition can be coated one or more times to prepare the above-mentioned polyamic acid composition.

このような透明ポリイミド樹脂フィルムは、種々の分野で使用可能であり、特に、高透
明性及び耐熱性が要求される有機EL素子(OLED)用ディスプレイ、液晶素子用ディ
スプレイ、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、
電子ペーパー用基板材料のようなフレキシブル表示装置用基板及び保護膜として活用する
ことができる。
Such a transparent polyimide resin film can be used in various fields, and in particular, a display for an organic EL element (OLED), a display for a liquid crystal element, a TFT substrate, and a flexible printing circuit, which are required to have high transparency and heat resistance. Substrate, flexible OLED surface illumination substrate,
It can be used as a substrate for a flexible display device such as a substrate material for electronic paper and a protective film.

以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて詳述するが、本発明は、後述の実施例及び
比較例によって限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the Examples and Comparative Examples described later.

[実施例1]
1−1.ポリアミック酸溶液の製造
1500mlの3口丸底フラスコに、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)64
0.016gを入れた後、フラスコの温度を50℃に昇温させた。次に、フラスコに、2
,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(TFDB)85
.0gを加え、60分経過後、2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミン(m
−Tol)1.743gを加えた。これを1時間攪拌し、TFDB、m−Tolを完全に
溶解させた。次に、フレスコに、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物(CBDA)45.615g、及び5,5’−(パーフルオロプロパン−2,2−ジイ
ル)ジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(6FDA)18.235gをそれぞれ順次加
え、溶解させた。この時、固形分は15%であり、次に、5.5時間攪拌して反応を行っ
た。単量体間反応の完了を、粘度が増加したか否かで確認した後、4−tert−ブチル
ピリジン37gを徐々に加え、4.5時間攪拌した。次に、自然冷却して、ポリアミック
酸溶液(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 1]
1-1. Preparation of polyamic acid solution In a 1500 ml 3-neck round bottom flask, N, N-dimethylacetamide (DMAc) 64
After adding 0.016 g, the temperature of the flask was raised to 50 ° C. Then in the flask, 2
, 2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl-4,4'-diamine (TFDB) 85
.. Add 0 g, and after 60 minutes, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine (m)
-Tol) 1.743 g was added. This was stirred for 1 hour to completely dissolve TFDB and m-Tol. Next, on the fresco, 45.615 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), and 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl) diisobenzofuran-1 , 3-Dione (6FDA) 18.235 g were added in sequence and dissolved. At this time, the solid content was 15%, and then the reaction was carried out with stirring for 5.5 hours. After confirming the completion of the inter-monomeric reaction by checking whether the viscosity increased, 37 g of 4-tert-butylpyridine was gradually added, and the mixture was stirred for 4.5 hours. Next, it was naturally cooled to obtain a polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 85,000 CPs).

1−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−1.で得られたポリアミック酸溶液を、LCD用ガラス板にバーコータ
ー(Bar coater)を用いてコーティングした後、窒素雰囲気下のコンベクショ
ンオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、280℃
で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行った。その結果、
膜厚さが52μmである透明ポリイミド樹脂フィルム(イミド化率:85%以上)が得ら
れた。次に、ガラス板からフィルムを分離して透明ポリイミド樹脂フィルムを得た。
1-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-1. The polyamic acid solution obtained in 1) was coated on a glass plate for LCD using a bar coater, and then in a convection oven under a nitrogen atmosphere at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, and 200 ° C. 1 hour at 280 ° C
For 1 hour, the mixture was dried while gradually raising the temperature stepwise, and an imidization reaction was carried out. resulting in,
A transparent polyimide resin film having a film thickness of 52 μm (imidization rate: 85% or more) was obtained. Next, the film was separated from the glass plate to obtain a transparent polyimide resin film.

[実施例2]
2−1.ポリアミック酸溶液の製造
前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:85
000CPs)を得た。
[Example 2]
2-1. Production of Polyamic Acid Solution 1-1. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 85) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

2−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間
、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミ
ド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した。
2-2. Manufacture of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 320 ° C. for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. Of Example 1, except that the imidization reaction is carried out. Manufactured in the same manner as above.

[実施例3]
3−1.ポリアミック酸溶液の製造
前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:85
000CPs)を得た。
[Example 3]
3-1. Production of Polyamic Acid Solution 1-1. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 85) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

3−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間
、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミ
ド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した。
3-2. Manufacture of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. Of Example 1, except that the imidization reaction is carried out. Manufactured in the same manner as above.

[実施例4]
4−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
を使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25
℃での溶液粘度:79000CPs)を得た。
[Example 4]
4-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (25) in the same manner as
Solution viscosity at ° C .: 79000 CPs) was obtained.

4−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.と同様にして製造した。
4-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Manufactured in the same manner as above.

[実施例5]
5−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−エチルピリジンを使用すること以外は、
前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:820
00CPs)を得た。
[Example 5]
5-1. Preparation of Polyamic Acid Solution Except for the use of 4-ethylpyridine instead of 4-tert-butylpyridine
1-1. Of Example 1 Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 820) in the same manner as above.
00 CPs) was obtained.

5−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例5の5−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透
明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
5-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 5, 5-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例6]
6−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2−メチルピペラジンを使用すること以外は
、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:81
000CPs)を得た。
[Example 6]
6-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that 2-methylpiperazine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 81) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

6−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例6の6−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透
明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
6-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 6, 6-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例7]
7−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:4,4’−ODA:CBDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用す
ること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶
液粘度:122000CPs)を得た。
[Example 7]
7-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: 4,4'-ODA: CBDA: 6FDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 122000 CPs) was obtained in the same manner as above.

7−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例7の7−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透
明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
7-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 7, 7-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例8]
8−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
を使用すること以外は、前記実施例7の7−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25
℃での溶液粘度:118000CPs)を得た。
[Example 8]
8-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 7-1. Of Example 7 above, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (25) in the same manner as
Solution viscosity at ° C .: 118,000 CPs) was obtained.

8−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例8の8−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透
明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
8-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 8, 8-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例9]
9−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は
、前記実施例7の7−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:11
9000CPs)を得た。
[Example 9]
9-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 7-1. Of Example 7 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 11) in the same manner as above.
9000 CPs) was obtained.

9−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例9の9−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透
明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
9-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 9, 9-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例10]
10−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FODA:CHDA:6FDAを9:1:8:2のモル比で使用し、4−t
ert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実
施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:47000C
Ps)を得た。
[Example 10]
10-1. Preparation of polyamic acid solution TFDB: FODA: CHDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 8: 2, 4-t.
1-1. Of Example 1 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of ert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 47,000 C) in the same manner as above.
Ps) was obtained.

10−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例10の10−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
10-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 10-10-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例11]
11−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例10の10−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:47
000CPs)を得た。
[Example 11]
11-1. Production of Polyamic Acid Solution 10-1 of Example 10. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 47) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

11−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例11の11−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブ
ンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間
、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の
1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
11-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 11-11-
1. 1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere using the polyamic acid solution produced in the above, gradually gradually at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, at 200 ° C. for 1 hour, and at 320 ° C. for 1 hour. Except for drying while raising the temperature and performing an imidization reaction, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例12]
12−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例10の10−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:47
000CPs)を得た。
[Example 12]
12-1. Production of Polyamic Acid Solution 10-1 of Example 10. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 47) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

12−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例12の12−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブ
ンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間
、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の
1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
12-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 12, 12-
1. 1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere using the polyamic acid solution produced in the above, gradually gradually at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, at 200 ° C. for 1 hour, and at 350 ° C. for 1 hour. Except for drying while raising the temperature and performing an imidization reaction, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例13]
13−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用し、4
−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前
記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:1120
00CPs)を得た。
[Example 13]
13-1. Preparation of polyamic acid solution TFDB: FODA: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1 and 4
1-1. Of Example 1 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of -tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 1120) in the same manner as
00 CPs) was obtained.

13−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例13の13−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
13-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 13, 13-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例14]
14−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−メトキシピリジンの代わりに4−tert−ブチルピリジンを使用すること以外は
、前記実施例13の13−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
113000CPs)を得た。
[Example 14]
14-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 13-1. Of Example 13 above, except that 4-tert-butylpyridine is used instead of 4-methoxypyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
113000 CPs) was obtained.

14−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例14の14−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
14-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 14, 14-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例15]
15−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−メトキシピリジンの代わりに3−ピコリンを使用すること以外は、前記実施例13
の13−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:110000CP
s)を得た。
[Example 15]
15-1. Preparation of Polyamic Acid Solution Example 13 above, except that 3-picoline is used instead of 4-methoxypyridine.
13-1. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 110,000 CP
s) was obtained.

15−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例15の15−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
15-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 15, 15-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例16]
16−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−メトキシピリジンの代わりに2,3−ルチジンを使用すること以外は、前記実施例
13の13−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:112000
CPs)を得た。
[Example 16]
16-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 13-1 of Example 13 above, except that 2,3-lutidine is used instead of 4-methoxypyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 112000
CPs) were obtained.

16−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例16の16−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
16-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 16-16-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例17]
17−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−メトキシピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は、前記実
施例13の13−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:1190
00CPs)を得た。
[Example 17]
17-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 13-1 of Example 13 above, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-methoxypyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 1190)
00 CPs) was obtained.

17−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例17の17−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
17-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 17- of Example 17 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例18]
18−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FAPB:a−BPDA:ODPAを9:1:7:3のモル比で使用し、4
−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使
用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃で
の溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 18]
18-1. Preparation of polyamic acid solution TFDB: FABP: a-BPDA: ODPA was used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4
1-1. Of Example 1 above, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of -tert-butylpyridine. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 52000 CPs) was obtained in the same manner as above.

18−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例18の18−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
18-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 18- of Example 18 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例19]
19−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例18の18−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:52
000CPs)を得た。
[Example 19]
19-1. Production of Polyamic Acid Solution 18-1 of Example 18. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 52) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

19−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例19の19−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブ
ンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間
、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の
1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
19-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 19- of Example 19 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere using the polyamic acid solution produced in the above, gradually gradually at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, at 200 ° C. for 1 hour, and at 320 ° C. for 1 hour. Except for drying while raising the temperature and performing an imidization reaction, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例20]
20−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例18の18−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:52
000CPs)を得た。
[Example 20]
20-1. Production of Polyamic Acid Solution 18-1 of Example 18. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 52) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

20−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例20の20−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブ
ンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間
、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の
1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
20-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 20- of Example 20 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere using the polyamic acid solution produced in the above, gradually gradually at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, at 200 ° C. for 1 hour, and at 350 ° C. for 1 hour. Except for drying while raising the temperature and performing an imidization reaction, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例21]
21−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:DABA:CBDA:DSDAを8:2:8:2のモル比で使用すること以
外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
83000CPs)を得た。
[Example 21]
21-1. Production of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: DABA: CBDA: DSDA is used in a molar ratio of 8: 2: 8: 2. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
83000 CPs) was obtained.

21−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例21の21−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
21-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 21- of Example 21 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例22]
22−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は
、前記実施例21の21−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
81000CPs)を得た。
[Example 22]
22-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 21-1. Of Example 21 above, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
81000 CPs) was obtained.

22−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例22の22−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
22-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 22-22-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例23]
23−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は
、前記実施例21の21−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
82000CPs)を得た。
[Example 23]
23-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 21-1. Of Example 21 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
82000 CPs) was obtained.

23−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例23の23−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
23-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 23-23-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例24]
24−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:4,4’−DDS:s−BPDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使
用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オク
タンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(
25℃での溶液粘度:61000CPs)を得た。
[Example 24]
24-1. Preparation of Polyamic Acid Solution TFDB: 4,4'-DDS: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4-diazabicyclo [2.2] instead of 4-tert-butylpyridine. .2] 1-1. Of Example 1 above, except that octane is used. Polyamic acid solution (similar to
Solution viscosity at 25 ° C.: 61000 CPs) was obtained.

24−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例24の24−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
24-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 24, 24-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例25]
25−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例24の24−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:61
000CPs)を得た。
[Example 25]
25-1. Production of Polyamic Acid Solution 24-1 of Example 24. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 61) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

25−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例25の25−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブ
ンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間
、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の
1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
25-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 25, 25-
1. 1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere using the polyamic acid solution produced in the above, gradually gradually at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, at 200 ° C. for 1 hour, and at 350 ° C. for 1 hour. Except for drying while raising the temperature and performing an imidization reaction, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例26]
26−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:4,4−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミン:
CBDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジン
の代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様
にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 26]
26-1. Preparation of polyamic acid solution TFDB: 4,4- (perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine:
1-1. Of Example 1 above, except that CBDA: 6FDA is used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 47,000 CPs) was obtained in the same manner as above.

26−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例26の26−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
26-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 26- of Example 26 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例27]
27−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:DSDAを9:1:9:1のモル比で使用するこ
と以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘
度:107000CPs)を得た。
[Example 27]
27-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: FODA: s-BPDA: DSDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 107,000 CPs) was obtained in the same manner as above.

27−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例27の27−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
27-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 27-27-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例28]
28−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:BTDAを9:1:9:1のモル比で使用するこ
と以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘
度:89000CPs)を得た。
[Example 28]
28-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: FODA: s-BPDA: BTDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 89000 CPs) was obtained in the same manner as above.

28−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例28の28−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
28-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 28, 28-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例29]
29−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は
、前記実施例28の28−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
85000CPs)を得た。
[Example 29]
29-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 28-1 of Example 28, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
85,000 CPs) was obtained.

29−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例29の29−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
29-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 29-29-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例30]
30−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
を使用すること以外は、前記実施例28の28−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(
25℃での溶液粘度:87000CPs)を得た。
[Example 30]
30-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 28-1. Of Example 28, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (similar to
Solution viscosity at 25 ° C.: 87,000 CPs) was obtained.

30−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例30の30−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
30-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 30, 30-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例31]
31−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:4,4’−DDS:s−BPDA:6FDAを8:2:7:3のモル比で使
用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オク
タンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(
25℃での溶液粘度:46000CPs)を得た。
[Example 31]
31-1. Preparation of Polyamic Acid Solution TFDB: 4,4'-DDS: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 8: 2: 7: 3 and 4-diazabicyclo [2.2] instead of 4-tert-butylpyridine. .2] 1-1. Of Example 1 above, except that octane is used. Polyamic acid solution (similar to
Solution viscosity at 25 ° C.: 46000 CPs) was obtained.

31−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例31の31−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
31-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 31- of Example 31 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例32]
32−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:4,4’−DDS:ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テ
トラカルボン酸二無水物:6FDAを8:2:7:3のモル比で使用すること以外は、前
記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:3700
0CPs)を得た。
[Example 32]
32-1. Preparation of polyamic acid solution TFDB: 4,4'-DDS: Bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride: 6FDA in moles of 8: 2: 7: 3. Except for the ratio, 1-1. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 3700) in the same manner as
0 CPs) was obtained.

32−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例32の32−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
32-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 32, 32-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例33]
33−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は
、前記実施例32の32−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
35000CPs)を得た。
[Example 33]
33-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 32-1. Of Example 32, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
35,000 CPs) was obtained.

33−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例33の33−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
33-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 33, 33-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例34]
34−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は
、前記実施例32の32−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
35000CPs)を得た。
[Example 34]
34-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 32-1. Of Example 32, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
35,000 CPs) was obtained.

34−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例34の34−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
34-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 34- of Example 34 instead of the polyamic acid solution used in
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例35]
35−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:FODA:ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テ
トラカルボン酸二無水物:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用すること以外は、前
記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:4100
0CPs)を得た。
[Example 35]
35-1. Preparation of Polyamic Acid Solution TFDB: FODA: Bicyclo [2.2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride: 6FDA in molar ratio of 9: 1: 7: 3. 1-1. Of the above-mentioned Example 1 except that it is used in 1. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 4100) in the same manner as above.
0 CPs) was obtained.

35−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例35の35−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
35-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 35, 35-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例36]
36−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
を使用すること以外は、前記実施例35の35−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(
25℃での溶液粘度:41000CPs)を得た。
[Example 36]
36-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 35-1. Of Example 35, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (similar to
Solution viscosity at 25 ° C.: 41000 CPs) was obtained.

36−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例36の36−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
36-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Example 36, 36-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例37]
37−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は
、前記実施例35の35−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:
40000CPs)を得た。
[Example 37]
37-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 35-1. Of Example 35, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.:
40,000 CPs) was obtained.

37−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、実施例37の37−
1.で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にし
て透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
37-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyamic acid solution used in Example 37, 37-
1. 1. Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[比較例1]
1−1.ポリアミック酸溶液の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりにピリジン19.987gを使用すること以外
は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:8
2000CPs)を得た。
[Comparative Example 1]
1-1. Preparation of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Example 1 above, except that 19.987 g of pyridine is used instead of 4-tert-butyl pyridine. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 8) in the same manner as above.
2000 CPs) was obtained.

1−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、比較例1の1−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして製
造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フ
ィルムが得られなかった。
1-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Comparative Example 1, 1-1.
Except for using the polyamic acid solution prepared in Example 1, 1-2. After manufacturing in the same manner as in the above, an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and the film could not be obtained.

[比較例2]
2−1.ポリアミック酸溶液の製造
ピリジンの代わりにイソキノリンを使用すること以外は、前記比較例1の1−1.と同
様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:80000CPs)を得た。
[Comparative Example 2]
2-1. Production of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Comparative Example 1 except that isoquinoline is used instead of pyridine. A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 80,000 CPs) was obtained in the same manner as above.

2−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
比較例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、比較例2の2−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、比較例1の1−2.と同様にして製
造したが、イソキノリンの残量が多すぎて正常なフィルムが得られなかった。
2-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Comparative Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Comparative Example 2, 2-1.
In Comparative Example 1 1-2, except that the polyamic acid solution prepared in 1 was used. However, a normal film could not be obtained because the remaining amount of isoquinoline was too large.

[比較例3]
3−1.ポリアミック酸溶液の製造
TFDB:BTDA:6FDAを10:7:3のモル比で使用すること以外は、前記比較
例1の1−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:73000CP
s)を得た。
[Comparative Example 3]
3-1. Production of Polyamic Acid Solution 1-1. Of Comparative Example 1 except that TFDB: BTDA: 6FDA is used in a molar ratio of 10: 7: 3. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 73000 CP) in the same manner as above.
s) was obtained.

3−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、比較例3の3−1.
で製造されたポリアミック酸溶液を使用する以外は、比較例1の1−2.と同様にして製
造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フ
ィルムが得られなかった。
3-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyamic acid solution used in Comparative Example 3, 3-1.
In Comparative Example 1 1-2, except that the polyamic acid solution prepared in 1 was used. After manufacturing in the same manner as in the above, an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and the film could not be obtained.

[比較例4]
4−1.ポリアミック酸溶液の製造
実施例35の35−1.と同様にしてポリアミック酸溶液(25℃での溶液粘度:73
000CPs)を得た。
[Comparative Example 4]
4-1. Production of Polyamic Acid Solution 35-1 of Example 35. Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 73) in the same manner as above.
000 CPs) was obtained.

4−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリアミック酸溶液の代わりに、 比較例4の4−1
.で製造されたポリアミック酸溶液を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブン
にて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、
段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1
−2.と同様にして製造した。次に、ガラス板からポリイミドフィルムを分離して得た。
4-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 4-1 of Comparative Example 4 instead of the polyamic acid solution used in
.. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyamic acid solution produced in the above, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour,
1 of Example 1 except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature stepwise.
-2. Manufactured in the same manner as above. Next, the polyimide film was separated from the glass plate and obtained.

上述の実施例1〜37及び比較例1〜4において使用される、ジアミン混合物、ジアン
ヒドリド混合物、及び触媒の組成を、次の表1に示す。
The compositions of the diamine mixture, the dianhydride mixture, and the catalyst used in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 described above are shown in Table 1 below.

Figure 2021055104
Figure 2021055104

[実験例1]透明ポリイミド樹脂フィルムの物性評価
上述の実施例1〜37及び比較例1〜4において得られた透明ポリイミド樹脂フィルム
の物性を、以下のような方法で評価し、その結果を表2に示す。
[Experimental Example 1] Evaluation of Physical Properties of Transparent Polyimide Resin Film The physical characteristics of the transparent polyimide resin film obtained in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 described above are evaluated by the following methods, and the results are shown in the table. Shown in 2.

(1)光透過度(T%)の測定
波長550nmにおいて、UV−Vis NIR Spectrophotomete
r(島津製作所製、モデル名:UV−3150)を用いて、ASTM E313−73の
規格によるC光源と視野角2°での測定を行った。
(1) Measurement of light transmittance (T%) UV-Vis NIR Spectrophotomete at a wavelength of 550 nm
Using r (manufactured by Shimadzu Corporation, model name: UV-3150), measurements were performed with a C light source according to the standards of ASTM E313-73 and a viewing angle of 2 °.

(2)黄色度(Yellow Index、YI)の測定
分光測色計(コニカミノルタ社製、モデル名:CM−3700d)を用いて、波長55
0nmでの黄色度を、ASTM E313の規格によって測定した。
(2) Measurement of yellowness (Yellow Index, YI) Wavelength 55 using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, model name: CM-3700d)
The yellowness at 0 nm was measured according to the ASTM E313 standard.

(3)機械的特性の測定
UTM(インストロン社製、モデル名:5942)を用いて、ISO 527−3の規
格によって引張強度(Strength、MPa)及び弾性率(Modulus、GPa
)を測定した。
(3) Measurement of mechanical properties Using UTM (manufactured by Instron, model name: 5942), tensile strength (Strength, MPa) and elastic modulus (Modulus, GPa) according to the ISO 527-3 standard.
) Was measured.

Figure 2021055104
Figure 2021055104

上記の表1及び表2から、得られた透明ポリイミド樹脂フィルムの組成による特性の変
化がわかる。
From Tables 1 and 2 above, changes in characteristics depending on the composition of the obtained transparent polyimide resin film can be seen.

先ず、実施例1〜37の結果から、同一の組成及び同一の触媒を使用する一方で、それ
ぞれ異なる硬化温度を適用する場合、硬化温度が高くなるほど光学特性が劣化し、機械的
特性には大差がないことがわかる。即ち、硬化温度が280℃であるイミド化工程におい
て優れた特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。
First, from the results of Examples 1 to 37, when the same composition and the same catalyst are used, but different curing temperatures are applied, the higher the curing temperature, the more the optical characteristics deteriorate, and the mechanical characteristics differ greatly. It turns out that there is no. That is, it can be seen that a transparent polyimide resin film having excellent properties can be obtained in the imidization step in which the curing temperature is 280 ° C.

また、実施例1及び4〜6の結果から、同一の硬化温度(280℃)で、異なる沸点を
有する触媒を使用する場合、類似する特性を有する透明ポリイミド樹脂が得られることが
わかる。但し、実施例5では、得られたフィルムには部分的な損傷が生じることが確認さ
れる。
Further, from the results of Examples 1 and 4 to 6, it can be seen that when catalysts having different boiling points are used at the same curing temperature (280 ° C.), a transparent polyimide resin having similar characteristics can be obtained. However, in Example 5, it is confirmed that the obtained film is partially damaged.

さらに、実施例7〜37の結果から、140〜200℃の沸点を有する、種々の塩基性
触媒を使用する場合、硬化温度が300以下と比較的低いイミド化工程においても優れた
特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。即ち、製作時におい
て高温工程の改善が可能となることが確認される。
Furthermore, from the results of Examples 7 to 37, when various basic catalysts having a boiling point of 140 to 200 ° C. are used, transparency having excellent properties even in an imidization step in which the curing temperature is relatively low at 300 or less. It can be seen that a polyimide resin film can be obtained. That is, it is confirmed that the high temperature process can be improved at the time of production.

上述のような結果から、組成、硬化温度、触媒の種類を組み合わせることで、光学特性
及び機械的特性を調節することが可能であることが確認される。
From the above results, it is confirmed that the optical properties and the mechanical properties can be adjusted by combining the composition, the curing temperature, and the type of catalyst.

一方、比較例1〜2の結果から、同一の組成で115℃の低い沸点を有するピリジンを
触媒として使用する場合、フィルムが得られておらず(比較例1)、240℃の沸点を有
するイソキノリンを触媒として使用する場合、フィルムは得られているが、触媒の残量が
多すぎることが確認される。このような問題点は、大量生産後のデバイスに適用する場合
、大きなトラブルを招くおそれがあることは言うまでもない。
On the other hand, from the results of Comparative Examples 1 and 2, when pyridine having the same composition and a low boiling point of 115 ° C. was used as a catalyst, no film was obtained (Comparative Example 1), and isoquinoline having a boiling point of 240 ° C. When is used as a catalyst, a film is obtained, but it is confirmed that the remaining amount of the catalyst is too large. Needless to say, such a problem may cause a big trouble when applied to a device after mass production.

また、比較例3〜4の結果から、115℃の沸点を有する触媒を使用する場合、280
℃の低い硬化温度ではフィルムが得られておらず(比較例3)、350℃の硬化温度では
、フィルムが得られているが、部分的な損傷が生じることが確認される(比較例4)。
Further, from the results of Comparative Examples 3 to 4, when a catalyst having a boiling point of 115 ° C. is used, 280.
It is confirmed that a film is not obtained at a low curing temperature of ° C. (Comparative Example 3), and a film is obtained at a curing temperature of 350 ° C., but partial damage occurs (Comparative Example 4). ..

上述のような結果を分析した結果、本発明に係る実施例1〜37の透明ポリイミド樹脂
フィルムは、優れた光学特性を有すると共に、引張強度及び弾性率の上昇など、優れた機
械的特性を有するものであることがわかった。
As a result of analyzing the above results, the transparent polyimide resin films of Examples 1 to 37 according to the present invention have excellent optical properties and also excellent mechanical properties such as an increase in tensile strength and elastic modulus. It turned out to be a thing.

具体的に、実施例1〜37で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムは、透過度88%以
上、黄色度5.0以下、弾性率3〜6GPa、強度120〜60MPaであって、比較例
1〜4で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムに比べて、光透過度が高く、黄色度が低く
、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料として適用可能な条
件を満たしていることがわかった。
Specifically, the transparent polyimide resin films obtained in Examples 1 to 37 have a transparency of 88% or more, a yellowness of 5.0 or less, an elasticity of 3 to 6 GPa, and a strength of 120 to 60 MPa, and are comparative examples 1 to 1. Compared with the transparent polyimide resin film obtained in No. 4, the light transmittance is high, the yellowness is low, and the mechanical properties are excellent, so that the conditions applicable as a material for a flexible display device are satisfied. I understood.

上述のように、本発明に係るポリアミック酸溶液を用いて製造される透明ポリイミド樹
脂フィルムは、製作の際において高温工程が改善されると共に、光透過度が高く、黄色度
が低く、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料、基板または
保護膜として適用可能であることが確認された。

As described above, the transparent polyimide resin film produced by using the polyamic acid solution according to the present invention has an improved high-temperature process at the time of production, has high light transmittance, low yellowness, and is mechanical. It has been confirmed that it can be applied as a material for a flexible display device, a substrate, or a protective film because of its excellent characteristics.

本発明は、フレキシブル表示装置に適用可能な、ポリイミド形成用組成物を用いて製造される透明ポリイミド樹脂フィルムに関する。 The present invention relates to a transparent polyimide resin film produced by using a polyimide-forming composition applicable to a flexible display device.

ポリイミド(Polyimide、PI)樹脂は、不溶不融の超高耐熱性樹脂であって、電気的、化学的、熱的、及び機械的物性に優れているという長所を有するため、自動車材料、航空・宇宙船材料などのような耐熱性の先端材料、並びに絶縁コーティング剤、絶縁膜、半導体、LCD電極保護膜などのような電子材料として広く使用されている。 Polyimide (PI) resin is an insoluble and infusible ultra-high heat resistant resin, and has the advantages of excellent electrical, chemical, thermal, and mechanical properties. It is widely used as a heat-resistant advanced material such as a spacecraft material, and as an electronic material such as an insulating coating agent, an insulating film, a semiconductor, and an LCD electrode protective film.

このようなポリイミド樹脂の合成方法としては、一般に、ジアンヒドリドとジアミンとを有機溶媒中で重合させてポリアミック酸(Polyamic acid)溶液を製造した後、これを熱処理で硬化させてフィルムとして製造する方法、または、化学的にイミド化(Imidazation)を行った後、浸漬、洗浄、再溶解などの過程を経てフィルムとして製造する方法が行われている。 As a method for synthesizing such a polyimide resin, generally, a method of polymerizing dianhydride and diamine in an organic solvent to produce a polyamic acid solution, and then curing the solution by heat treatment to produce a film. Alternatively, a method is carried out in which a film is produced as a film through processes such as immersion, washing, and redissolution after chemically imidization.

まず、ポリアミック酸溶液を熱処理で硬化させてポリイミド樹脂フィルムを製造する方法は、250〜400℃の高温で数時間加熱する過程を含む。その過程で樹脂の着色が生じるため、可視光域での透過度及び黄色度が低下してしまい、透明性が要求される光学材料として使用することが困難である。一方、低温で加熱する場合、ポリイミド樹脂フィルムの製造に要する時間が長くなると共にポリアミック酸の低分子量化が生じるため、製造されるポリイミド樹脂フィルムの強度が低下するという問題点がある。 First, a method for producing a polyimide resin film by curing a polyamic acid solution by heat treatment includes a process of heating at a high temperature of 250 to 400 ° C. for several hours. Since the resin is colored in the process, the transmittance and yellowness in the visible light region are lowered, and it is difficult to use it as an optical material that requires transparency. On the other hand, when the polyimide resin film is heated at a low temperature, the time required for producing the polyimide resin film becomes long and the molecular weight of the polyamic acid is reduced, so that there is a problem that the strength of the produced polyimide resin film is lowered.

また、ポリアミック酸溶液を化学的にイミド化してポリイミド樹脂フィルムを製造する方法は、ポリアミック酸溶液にキシレンやトルエンなどを加え、ディーン・スターク方法(Dean Stark Method)でイミド化する過程、または、ポリアミック酸溶液にピリジンなどの触媒と、無水酢酸などの脱水剤を加え、低温でイミド化する過程を含む。しかし、前記化学的にイミド化する方法では、別のディーン・スターク装置を設ける必要があり、または、イミド化後に浸漬、洗浄、乾燥、再溶解などの過程を経る必要があるため、工程が複雑で、廃水が多量に発生するという問題点がある。 The method for producing a polyimide resin film by chemically imidizing a polyamic acid solution is a process of adding xylene or toluene to the polyamic acid solution and imidizing it by the Dean Stark Method, or polyamic acid. The process of adding a catalyst such as pyridine and a dehydrating agent such as acetic anhydride to the acid solution and imidizing at a low temperature is included. However, in the method of chemically imidizing, the process is complicated because another Dean-Stark apparatus needs to be provided or a process such as dipping, washing, drying, and redissolving is required after imidization. Therefore, there is a problem that a large amount of wastewater is generated.

従って、比較的簡単な工程によって、高透明性を示し、かつ熱的特性及び機械的特性に優れた、透明ポリイミド樹脂フィルムを製造するためのポリアミック酸溶液の開発が求められている。 Therefore, it is required to develop a polyamic acid solution for producing a transparent polyimide resin film which exhibits high transparency and is excellent in thermal properties and mechanical properties by a relatively simple process.

本発明は、特定の構造を有するジアンヒドリド単量体とジアミン単量体とを採用し、これらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用して一定温度で硬化することで、低いYI(Yellow Index)及び高い光透過度を実現し、機械的特性を調節することができる、透明ポリイミドフィルムを製造することを目的としている。 The present invention employs a dianhydride monomer and a diamine monomer having a specific structure, adjusts the content of these to a specific range, and uses a catalyst having a boiling point within the specific range at a constant temperature. It is an object of the present invention to produce a transparent polyimide film which can realize low YI (Yello Index) and high light transmittance by curing and can adjust mechanical properties.

また、本発明は、LCD及びOLEDのフレキシブル表示装置用プラスチック透明基板、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、電子ペーパー用基板材料などに適用可能な透明ポリイミドフィルムを提供することを目的としている。 The present invention also provides a transparent polyimide film applicable to LCD and OLED flexible display device plastic transparent substrates, TFT substrates, flexible printed circuit boards, flexible OLED surface lighting substrates, electronic paper substrate materials, and the like. I am aiming.

上述の目的を達成するため、本発明は、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミン、下記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミンからなる群より選ばれる1種以上のジアミンと、を含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;(c)2−メチルピペラジン、4−tert−ブチルピリジン、及び2,3,5−コリジンからなる群から選択される1種以上である塩基性触媒;及び(d)有機溶媒;を含み、脱水剤を除いたポリイミド形成用組成物をイミド化して製造され、以下の(i)〜(v)の物性条件を満たす、透明ポリイミド樹脂フィルムを提供する。
膜厚さ10μm以下において、
(i)波長550nmでの光透過度が88%以上であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が5.0以下であり、
(iii)ヘーズが1.0以下であり、
(iv)弾性率が3〜6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120〜200MPaの範囲である。
In order to achieve the above object, the present invention has (a) a diamine represented by the following chemical formula (1), a diamine represented by the following chemical formula (2), a diamine represented by the following chemical formula (2A), and 2,2. A diamine mixture containing one or more diamines selected from the group consisting of'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine ; (b) dianhydride represented by the following chemical formula (3) and the following chemical formula (4). A diamine hydride mixture containing the indicated diamine hydride; (c) one or more basic catalysts selected from the group consisting of 2-methylpiperazin, 4-tert-butylpyridine, and 2,3,5-colysine; Provided is a transparent polyimide resin film produced by imidizing a polyimide-forming composition containing (d) an organic solvent; and excluding a dehydrating agent, and satisfying the following physical properties of (i) to (v).
When the film thickness is 10 μm or less
(I) The light transmittance at a wavelength of 550 nm is 88% or more.
(Ii) The yellowness according to the ASTM E313 standard is 5.0 or less.
(Iii) Haze is 1.0 or less,
(Iv) The elastic modulus is in the range of 3 to 6 GPa.
(V) The tensile strength is in the range of 120 to 200 MPa.

Figure 2021055104
(前記化学式(1)中、
Aは、単結合、−C(=O)−、及び−C(=O)NH−、並びにハロゲン、又はハロゲン原子で置換されたC 〜C のアルキル基で置換された〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X及びXのうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基であり
は、0〜2の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (1),
A represents a single bond, -C (= O) -, and -C (= O) NH-, and halogen, or C 6 substituted with an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom -C Selected from a group of 20 Halogen groups,
X 1 and X 2, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Selected from the group consisting of
However, when A is a single bond, at least one or more of X 1 and X 2 is a halogen or an alkyl group of C 1 to C 6 substituted with a halogen atom.
m is an integer from 0 to 2. )

Figure 2021055104
(前記化学式(2)中、
、C 〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキレン基、−O−、−S−、−S(=O)−、−C(=O)NH−、及び 〜C のアルキル基で置換または非置換された〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択される。)
Figure 2021055104
(前記化学式(2A)中、
は、単結合、C 〜C のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC 〜C のアルキレン基、及びC 〜C のアルキル基で置換または非置換されたC 〜C 20 のアリーレン基からなる群から選択され、
及びX は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C 〜C のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC 〜C のアルキル基からなる群から選択される。)
Figure 2021055104
(前記化学式(3)中、
Cは、4価のC〜C20の芳香族環基、及び4価のC〜C20の脂肪族環基からなる群から選択され、
前記4価のC〜C20の芳香族環基は、C〜Cのアルキル基で置換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、−C(=O)NH−、及び−C(=O)−O−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Figure 2021055104
(前記化学式(4)中、
Dは、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、及び−S(=O)−からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択され、
nは、1〜3の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (2),
B 1 represents an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - S -, - S (= O) 2 - , -C (= O) NH-, and is selected from the group consisting of arylene group substituted or unsubstituted C 6 -C 20 alkyl group C 1 -C 6,
X 3 and X 4, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Ru is selected from the group consisting of. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (2A),
B 2 represents a single bond, C 1 -C 6 alkylene group, one or more hydrogens alkylene group C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, and unsubstituted or alkyl group of C 1 -C 6 Selected from the group consisting of substituted C 6 to C 20 allylene groups,
X 3 and X 4, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Selected from the group consisting of. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (3),
C is selected from the group consisting of tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups and tetravalent C 4 to C 20 aliphatic ring groups.
The tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups may be substituted with C 1 to C 6 alkyl groups.
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are −C (= O) NH− and −C (= O) −O. - are connected via one or more linking groups selected either from Ranaru group. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (4),
D is an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - S -, - C (= O) -, and Selected from the group consisting of −S (= O) 2−
X 5 and X 6, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Selected from the group consisting of
n is an integer of 1 to 3. )

さらに、本発明は、前記透明ポリイミド樹脂フィルムを含む透明基板を提供する。 Furthermore, the present invention provides a transparent substrate containing the transparent polyimide resin film.

本発明によれば、特定の構造を有するジアミン単量体とジアンヒドリド単量体とを採用し、これらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用することにより、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを同時に有する透明ポリイミド樹脂フィルムを提供することができる。 According to the present invention, by adopting a diamine monomer having a specific structure and a dianhydride monomer, adjusting the content of these to a specific range and using a catalyst having a boiling point within the specific range. , it is possible to provide a transparent polyimide resin film that Yusuke excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties at the same time.

また、本発明によれば、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを有する前記透明ポリイミド樹脂フィルムを基板に適用することにより、優れた物性と製品信頼性を発揮するフレキシブル表示装置用透明基板を提供することができる。 Further, according to the present invention, for a flexible display device that exhibits excellent physical properties and product reliability by applying the transparent polyimide resin film having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. to a substrate. A transparent substrate can be provided.

以下、本発明を詳述する。但し、後述の例は、例示に過ぎず、本発明は、これらの例によって制限されるものではなく、本発明の範疇は、後述の特許請求の範囲によって示される。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the examples described below are merely examples, and the present invention is not limited by these examples, and the scope of the present invention is indicated by the scope of claims described later.

透明ポリイミド樹脂フィルム
本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、高透明性と共に優れた光学特性を保持しながら機械的特性及び熱的特性の改善されたものであり、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミン、下記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミンからなる群より選ばれる1種以上のジアミンと、を含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;(c)2−メチルピペラジン、4−tert−ブチルピリジン、及び2,3,5−コリジンからなる群から選択される1種以上である塩基性触媒;及び(d)有機溶媒;を含み、脱水剤を除いたポリイミド形成用組成物をイミド化して製造され、以下の(i)〜(v)の物性条件を満たす。
膜厚さ10μm以下において、
(i)波長550nmでの光透過度が88%以上であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が5.0以下であり、
(iii)ヘーズが1.0以下であり、
(iv)弾性率が3〜6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120〜200MPaの範囲である。
< Transparent polyimide resin film >
Diamine transparent polyimide resin film according to the present invention, improved der those with excellent mechanical properties and thermal properties while maintaining the optical properties with high transparency it is, represented by (a) the following chemical formula (1) And one or more diamines selected from the group consisting of the diamine represented by the following chemical formula (2), the diamine represented by the following chemical formula (2A), and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine. Diamine mixture containing (b) a diamine hydride mixture represented by the following chemical formula (3) and a diamine hydride represented by the following chemical formula (4); (c) 2-methylpiperazin, 4-tert-butyl Imidized a polyimide-forming composition containing pyridine and one or more basic catalysts selected from the group consisting of 2,3,5-colysine ; and (d) an organic solvent; and excluding the dehydrating agent. Manufactured and satisfies the following physical property conditions (i) to (v).
When the film thickness is 10 μm or less
(I) The light transmittance at a wavelength of 550 nm is 88% or more.
(Ii) The yellowness according to the ASTM E313 standard is 5.0 or less.
(Iii) Haze is 1.0 or less,
(Iv) The elastic modulus is in the range of 3 to 6 GPa.
(V) The tensile strength is in the range of 120 to 200 MPa.

(a)ジアミン混合物
前記ポリイミド形成用組成物は、ジアミン成分として、下記化学式(1)で示され
るジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミンとを含む。
(A) Diamine mixture
The polyimide-forming composition contains a diamine represented by the following chemical formula (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2) as a diamine component.

Figure 2021055104
(前記化学式(1)中、
Aは、単結合、−C(=O)−、及び−C(=O)NH−、並びにハロゲン、又はハロゲン原子で置換されたC 〜C のアルキル基で置換された〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X及びXのうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基であり
は、0〜2の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (1),
A represents a single bond, -C (= O) -, and -C (= O) NH-, and halogen, or C 6 substituted with an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom -C Selected from a group of 20 Halogen groups,
X 1 and X 2, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Selected from the group consisting of
However, when A is a single bond, at least one or more of X 1 and X 2 is a halogen or an alkyl group of C 1 to C 6 substituted with a halogen atom.
m is an integer from 0 to 2. )

Figure 2021055104
(前記化学式(2)中、
、C 〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキレン基、−O−、−S−、−S(=O)−、−C(=O)NH−、及び 〜C のアルキル基で置換または非置換された〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択される。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (2),
B 1 represents an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - S -, - S (= O) 2 - , -C (= O) NH-, and is selected from the group consisting of arylene group substituted or unsubstituted C 6 -C 20 alkyl group C 1 -C 6,
X 3 and X 4, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Ru is selected from the group consisting of. )

Figure 2021055104
Figure 2021055104
(前記化学式(2A)中、(In the chemical formula (2A),
B 2 は、単結合、CIs a single bond, C 1 〜C~ C 6 のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたCAlkylene group of C with one or more hydrogens substituted with halogen atoms 1 〜C~ C 6 のアルキレン基、及びCAlkylene group, and C 1 〜C~ C 6 のアルキル基で置換または非置換されたCC substituted or unsubstituted with an alkyl group of 6 〜C~ C 2020 のアリーレン基からなる群から選択され、Selected from the group consisting of Alleren groups of
X 3 及びXAnd X 4 は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、CAre the same or different from each other, and independently, hydrogen, halogen, and C. 1 〜C~ C 6 のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたCAlkyl group of C, and one or more hydrogens substituted with halogen atoms 1 〜C~ C 6 のアルキル基からなる群から選択される。)Selected from the group consisting of alkyl groups of. )

本発明の好適な一例によれば、前記X及びXは、当業界で周知の電子吸引性基(Electron Withdrawing Group、EWG)であることができ、それぞれ独立に、フッ素(F)またはCFであることが好ましい。 According to a preferred example of the present invention, the X 1 and X 4 can be electron withdrawing groups (EWG) well known in the art, respectively, independently of fluorine (F) or CF. It is preferably 3.

また、前記Aは、当業界で周知のC〜C20のアリーレン基であることができ、その具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニレンなどが挙げられる。特に、前記Aは、次の化学式(5)で示される置換体群から選択されるものであることが好ましい。 Further, the A can be an arylene group of C 6 to C 20 well known in the art, and specific examples thereof include phenylene, biphenylene, and triphenylene. In particular, it is preferable that A is selected from the substituent group represented by the following chemical formula (5).

Figure 2021055104
前記化学式(5)中、*は、前記化学式(1)における連結部位である。また、R〜Rは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、F、及びCFからなる群から選択される。
Figure 2021055104
In the chemical formula (5), * is a connecting site in the chemical formula (1). Further, R 1 to R 3 are the same as or different from each other, and are independently selected from the group consisting of F and CF 3.

上述の化学式(1)において、フッ素(F)やCFなどの電子吸引性基(EWG)を少なくとも1つ以上導入することにより、分子鎖間及び分子鎖内電荷移動錯体(Change Transfer Complex、CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の透明度を向上することができる。 By introducing at least one electron-withdrawing group (EWG) such as fluorine (F) or CF 3 in the above-mentioned chemical formula (1), an intermolecular and intramolecular charge transfer complex (Change Transfer Complex, CTC) is introduced. ) Can be controlled to improve the transparency of the polyimide resin.

本発明において、前記化学式(1)で示されるジアミンとしては、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(TFDB)、4−アミノ−N−(4−アミノフェニル)ベンズアミン、ビス(4−アミノフェニル)メタノンなどに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。但し、フッ素化ビフェニル構造を含有するジアミンは、ジアンヒドリドとの反応性を調節しながら、高いガラス転移温度及び低い熱膨張性を実現することで、熱的特性を改善することができる。例えば、TFDBを使用する場合は、ポリイミド樹脂の透過度及びガラス転移温度を高くすると共に熱膨張係数を低くすることができる。 In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) includes 2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl-4,4'-diamine (TFDB) and 4-amino-N- (4-aminophenyl). ) It can be selected from structures derived from benzamine, bis (4-aminophenyl) methanone, etc., but is not limited thereto. However, the diamine containing a fluorinated biphenyl structure can improve its thermal properties by achieving a high glass transition temperature and a low thermal expansion while adjusting the reactivity with dianhydride. For example, when TFDB is used, the transmittance of the polyimide resin and the glass transition temperature can be increased and the coefficient of thermal expansion can be decreased.

このような前記化学式(1)で示されるジアミンの含有量は、特に限定されないが、ジアミン混合物100モル%に対して、50〜99.9モル%であることができ、好ましくは、70〜99モル%である。化学式(1)で示されるジアミンを上述の範囲内で含む場合、単量体中の置換基間電荷移動効果によって、光学特性がより向上することができる。 The content of the diamine represented by the chemical formula (1) is not particularly limited, but can be 50 to 99.9 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture, and is preferably 70 to 99. Mol%. When the diamine represented by the chemical formula (1) is contained within the above range, the optical properties can be further improved due to the charge transfer effect between the substituents in the monomer.

本発明において、前記化学式(2)又は前記化学式(2A)で示されるジアミンとしては、4,4’−オキシジベンゼンアミン(4,4’−ODA)、3,4−オキシジベンゼンアミン(3,4’−ODA)、3,3’−オキシジベンゼンアミン(3,3’−ODA)、4,4’−オキシ(3−(トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FODA)、4,4’−(1,4−フェニレンビス(オキシ))ビス(3−(トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FAPB)、4,4’−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’−(2,2’−(1,4−フェニレン)ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2,2−ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’−スルホニルジベンゼンアミン(4,4’−DDS)、4,4’−(4,4’−(パーフルオロプロパン−2,2−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンアミン、4,4’−(4,4’−スルホニルビス(4,1−フェニレン)ビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’−(1,4−フェニレンビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’−(4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンアミンなどに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。このような化学式(2)で示されるジアミンは、フェニル、ビフェニル、スルホン基(SO)、シラン基などを含む単量体であることができる。なお、4,4’−ODA、FODA、FAPB、DABA(4,4'-Diaminobenzanilide)、4,4’−DDS、または4,4’−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミンを使用する場合は、ポリイミド樹脂の熱的特性が低下することなく、光学特性をより向上することができる。 In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (2) or the chemical formula (2A) includes 4,4'-oxydibenzeneamine (4,4'-ODA) and 3,4-oxydibenzeneamine (3). , 4'-ODA), 3,3'-oxydibenzeneamine (3,3'-ODA), 4,4'-oxy (3- (trifluoromethyl) benzeneamine) (FODA), 4,4' -(1,4-Penilinebis (oxy)) bis (3- (trifluoromethyl) benzeneamine) (FABP), 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine, 4 , 4'-(2,2'-(1,4-phenylene) bis (1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl) dibenzeneamine, 4,4'- Sulfonyldibenzeneamine (4,4'-DDS), 4,4'-(4,4'-(perfluoropropane-2,2-diyl) bis (4,1-phenylene)) bis (oxy) dibenzene Amin, 4,4'-(4,4'-sulfonylbis (4,1-phenylene) bis (oxy)) dibenzeneamine, 4,4'-(1,4-phenylenebis (oxy)) dibenzeneamine , 4,4 can be selected from among the '- - (4,4' (propane-2,2-diyl) bis (4,1-phenylene)) bis (oxy) Jibenzen'ami emissions, etc. so derived structures However, the diamine represented by the chemical formula (2) can be a monomer containing phenyl, biphenyl, a sulfone group (SO 2 ), a silane group, and the like. When using'-ODA, FODA, FAPB, DABA (4,4'-Diaminobenzanilide), 4,4'-DDS, or 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine Can further improve the optical properties without deteriorating the thermal properties of the polyimide resin.

前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミン(m−Tolidine)合計含有量は、特に限定されないが、ジアミン混合物100モル%に対して、0.01〜50モル%であることができ、好ましくは、0.1〜30モル%である。前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミン(m−Tolidine)からなる群より選ばれる1種以上のジアミンを上述の範囲内で含む場合、光学特性(光透過度及び黄色度)がより向上することができる。 The total content of the diamine represented by the chemical formula (2) , the diamine represented by the chemical formula (2A) , and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine (m-Tolidine) is not particularly limited. , 0.01 to 50 mol%, preferably 0.1 to 30 mol%, based on 100 mol% of the diamine mixture. One or more selected from the group consisting of the diamine represented by the chemical formula (2), the diamine represented by the chemical formula (2A), and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine (m-Tolidine). When the diamine is contained within the above range, the optical characteristics (light transmittance and yellowness) can be further improved.

本発明に係る(a)ジアミンは、ポリイミド樹脂の高透明性及び低黄色度を考慮して、前記化学式(1)で示されるジアミンとして、TFDBを使用すると共に、前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミン(m−Tolidine)からなる群より選ばれる1種以上のジアミンとして、m−Tolidine、4,4’−ODA、FODA、FAPB、DABA、4,4’−DDS、または4,4’−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミンを混合して使用することが好ましい。 In consideration of the high transparency and low yellowness of the polyimide resin, the diamine (a) according to the present invention uses TFDB as the diamine represented by the chemical formula (1) and is represented by the chemical formula (2). As one or more diamines selected from the group consisting of diamines, diamines represented by the chemical formula (2A), and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamines (m-polyimide) , m-polyimide, 4 , 4'-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4'-DDS, or 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine is preferably mixed and used.

(b)ジアンヒドリド混合物
本発明に係るポリイミド形成用組成物は、ジアンヒドリド成分として、下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含む。
(B) Diane Hydride Mixture The polyimide-forming composition according to the present invention contains diane hydride represented by the following chemical formula (3) and diane hydride represented by the following chemical formula (4) as diane hydride components.

Figure 2021055104
(前記化学式(3)中、
Cは、4価のC〜C20の芳香族環基、及び4価のC〜C20の脂肪族環基からなる群から選択され、
前記4価のC〜C20の芳香族環基は、C〜Cのアルキル基で置換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、−C(=O)NH−、及び−C(=O)−O−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (3),
C is selected from the group consisting of tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups and tetravalent C 4 to C 20 aliphatic ring groups.
The tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups may be substituted with C 1 to C 6 alkyl groups.
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are −C (= O) NH− and −C (= O) −O. - are connected via one or more linking groups selected either from Ranaru group. )

Figure 2021055104
(前記化学式(4)中、
Dは、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、及び−S(=O)−からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基からなる群から選択され、
nは、1〜3の整数である。)
Figure 2021055104
(In the chemical formula (4),
D is an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - S -, - C (= O) -, and Selected from the group consisting of −S (= O) 2−
X 5 and X 6, equal to or different from each other, each independently, hydrogen, halogen, an alkyl group, and one or more hydrogen an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom C 1 -C 6 Selected from the group consisting of
n is an integer of 1 to 3. )

本発明の好適な一例によれば、前記Cは、当業界で周知の4価の炭化水素環基であり、前記炭化水素環基としては、例えば、C〜C20の芳香族環基、またはC〜C40の脂肪族環基などが挙げられる。前記Cは、4価の6員芳香族環基、または4価の6員脂環式環基であることが好ましい。なお、Cが4価の6員芳香族環基である場合、化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアミン構造を含有する芳香族ジアンヒドリドであり、Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアミン構造を含有する非芳香族ジアンヒドリドであることができる。 According to a preferred example of the present invention, C is a tetravalent hydrocarbon ring group well known in the art, and examples of the hydrocarbon ring group include aromatic ring groups C 6 to C 20. Alternatively, C 4 to C 40 aliphatic ring groups and the like can be mentioned. The C is preferably a tetravalent 6-membered aromatic ring group or a tetravalent 6-membered alicyclic ring group. When C is a tetravalent 6-membered aromatic ring group, the dianhydride represented by the chemical formula (3) is an aromatic dianhydride containing a diamine structure, and C is a tetravalent 6-membered aliphatic ring. When it is a group, the dianhydride represented by the chemical formula (3) can be a non-aromatic dianhydride containing a diamine structure.

前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、−C(=O)−、−C(=O)NH−、−C(=O)−O−、及び−S(=O)−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。 The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are -C (= O)-, -C (= O) NH-,-. They are linked via one or more linking groups selected from the group consisting of C (= O) -O- and -S (= O) 2-.

例えば、前記Cが4価の6員芳香族環基である場合は、当業界で周知の1つ以上のC〜C40のアリーレン基、スルホン基、またはアリーレン基とスルホン基とが連結された形態であることができる。その具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニレン、スルホニルジフェニレンなどが挙げられる。特に、前記Cは、次の化学式(6)で示される置換体群から選択されるものであることが好ましい。 For example, when the C is a tetravalent 6-membered aromatic ring group, one or more C 6 to C 40 arylene groups, sulfone groups, or arylene groups and sulfone groups known in the art are linked. Can be in the form of Specific examples thereof include phenylene, biphenylene, triphenylene, and sulfonyldiphenylene. In particular, C is preferably selected from the substituent group represented by the following chemical formula (6).

Figure 2021055104
前記化学式(6)中、*は、前記化学式(3)における連結部位であり、R〜Rは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、またはC〜Cのアルキル基である。好ましくは、それぞれ独立に、水素、またはメチル基であることができる。
Figure 2021055104
In Chemical Formula (6), * is the a linking site in the chemical formula (3), R 4 to R 6, equal to or different from each other, each independently, is hydrogen or an alkyl group of C 1 -C 6, .. Preferably, each can be independently hydrogen or a methyl group.

前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアンヒドリドの間にリジッドな構造を有するアリーレン基及び/又はスルホン基が導入されることにより、熱や光による分解が生じることなく外部衝撃に対して安定しているため、これを用いて製造されるポリイミド樹脂の光学特性、熱的特性、機械的特性などが有意に改善される。また、化学式(3)で示される化合物は、ジアンヒドリドの間にアミド基(−C(=O)−NH−)が導入されることにより、他のジアンヒドリド単量体中の酸素原子と反応して水素結合を形成し、高分子の主鎖に一定の結合力が発生することで、ポリイミド樹脂の機械的特性及び耐熱特性が有意に改善される。 The dianhydride represented by the chemical formula (3) is resistant to an external impact without being decomposed by heat or light due to the introduction of an arylene group and / or a sulfone group having a rigid structure between the dianehydrides. Since it is stable, the optical properties, thermal properties, mechanical properties, etc. of the polyimide resin produced by using it are significantly improved. Further, the compound represented by the chemical formula (3) reacts with an oxygen atom in another dianehydride monomer by introducing an amide group (-C (= O) -NH-) between the dianehydrides. As a result, hydrogen bonds are formed and a certain bonding force is generated in the main chain of the polymer, so that the mechanical properties and heat resistance properties of the polyimide resin are significantly improved.

また、前記Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化合物の構造中にπ電子が存在しないため、電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の高透過度及び低黄色度の実現に大きな役割を果たすようになる。 Further, when the C is a tetravalent 6-membered aliphatic ring group, since π electrons do not exist in the structure of the compound, the formation of the charge transfer complex (CTC) is controlled to increase the transmittance of the polyimide resin. And will play a major role in achieving low yellowness.

前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドとしては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(CHDA)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物(CPBA)、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(S−BPDA)、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、N,N’−(4,4’−スルホニルビス(4,1−フェニレン))ビス(1,3−ジオキソ−オクタヒドロイソベンゾフラン−5−カルボキサミド)などに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。 Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (3) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (CHDA). , 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride (CPBA), bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2. 2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S-BPDA), 2, 3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), N, N'-(4,4'-sulfonylbis (4,1-phenylene) )) It can be selected from structures derived from bis (1,3-dioxo-octahydroisobenzofuran-5-carboxamide) and the like, but is not limited thereto.

このような化学式(3)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、ジアンヒドリド混合物100モル%に対して、10〜95モル%であることができ、好ましくは、50〜90モル%である。化学式(3)で示されるジアンヒドリドを上述の範囲内で含む場合、ポリイミド樹脂の高光透過度及び黄色度を保持すると共にポリイミド樹脂の熱膨張係数を低くすることができる。 The content of the dianhydride represented by the chemical formula (3) is not particularly limited, but can be 10 to 95 mol%, preferably 50 to 90 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride mixture. %. When the dianhydride represented by the chemical formula (3) is contained within the above range, the high light transmittance and yellowness of the polyimide resin can be maintained and the coefficient of thermal expansion of the polyimide resin can be lowered.

また、本発明の好適な一例によれば、前記X及びXは、当業界で周知の電子吸引性基(EWG)であることができ、それぞれ独立に、フッ素(F)またはCFであることが好ましい。 Further, according to a preferred example of the present invention, the X 5 and X 6 can be electron-withdrawing groups (EWGs) well known in the art, each independently of fluorine (F) or CF 3 . It is preferable to have.

前記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとしては、5,5’−(パーフルオロプロパン−2,2−ジイル)ジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(6−FDA)、5,5’−オキシジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(ODPA)、5,5’−スルホニルジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(DSDA)、ベンゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物(BTDA)などに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。なお、6FDAを使用する場合は、分子鎖間及び分子鎖内電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の透明度を向上することができる。 Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (4) include 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl) diisobenzofuran-1,3-dione (6-FDA) and 5,5'-oxy. Diisobenzofuran-1,3-dione (ODPA), 5,5'-sulfonyldiisobenzofuran-1,3-dione (DSDA), benzophenone-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride It can be selected from structures derived from (BTDA) and the like, but is not limited thereto. When 6FDA is used, the transparency of the polyimide resin can be improved by controlling the formation of the charge transfer complex (CTC) between the molecular chains and within the molecular chain.

このような化学式(4)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、ジアンヒドリド100モル%に対して、5〜90モル%であることができ、好ましくは、10〜50モル%である。 The content of the dianhydride represented by the chemical formula (4) is not particularly limited, but can be 5 to 90 mol%, preferably 10 to 50 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride. Is.

上述のように、本発明の一例においては、前記ジアミン成分として、化学式(1)で示されるジアミンと化学式(2)で示されるジアミンとを、ジアンヒドリド成分として、化学式(3)で示されるジアンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを、混合して使用するが、この時、(a)ジアミン混合物と(b)ジアンヒドリド混合物とは、ポリイミド樹脂の黄色度及び機械的特性を改善するため、(a):(b)=1:0.1〜10の重量比で混合することができる。 As described above, in the example of the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) are used as the diamine component as the diamine hydride component, and the diamine represented by the chemical formula (3) is used. The hydride and the dian hydride represented by the chemical formula (4) are mixed and used. At this time, the (a) diamine mixture and the (b) dian hydride mixture improve the yellowness and mechanical properties of the polyimide resin. Therefore, the mixture can be mixed at a weight ratio of (a): (b) = 1: 0.1 to 10.

(c)塩基性触媒
塩基性触媒は、140〜200℃の沸点を有する塩基性触媒であって、例えば、4-tert-ブチルピリジン、4−エチルピリジン、2−メチルピペラジン、2,6−ジメチルピペラジン、4−tert−ブチルピリジン、2−プロピルピリジン、4−プロピルピリジン、2,3,5−コリジン、2,5−ルチジン、2,6−ルチジン、2,3−ルチジン、4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、3−エチルピリジン、3−ピコリン、2,3−ジメチルピラジン、2,5−ジメチルピラジンなどが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(C) Basic catalyst The basic catalyst is a basic catalyst having a boiling point of 140 to 200 ° C., for example, 4-tert-butylpyridine, 4-ethylpyridine, 2-methylpiperazine, 2,6-dimethyl. Piperazine, 4-tert-butylpyridine, 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 2,3,5-cholidine, 2,5-lutidine, 2,6-lutidine, 2,3-lutidine, 4-diazabicyclo [2] .2.2] Octane, 3-ethylpyridine, 3-picoline, 2,3-dimethylpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine, etc., which can be used alone or in admixture of two or more. it can.

なお、塩基性触媒の沸点が140℃未満である場合は、フィルムの形成が困難となる。一方、沸点が200℃を超えると、本発明の硬化温度で触媒を除去し難くなり、触媒を除去するために硬化温度を上げる場合は、光学特性を阻害するようになる。 If the boiling point of the basic catalyst is less than 140 ° C., it becomes difficult to form a film. On the other hand, if the boiling point exceeds 200 ° C., it becomes difficult to remove the catalyst at the curing temperature of the present invention, and when the curing temperature is raised to remove the catalyst, the optical characteristics are impaired.

(d)有機溶媒
前記ポリイミド形成用組成物を合成するための溶媒は、当業界で周知のものであれば、特に限定されない。前記溶媒としては、m−クレゾール、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、ジエチルアセテート、ジメチルフタレート(DMP)などの極性溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルムなどの低沸点溶媒、γ−ブチロラクトンなどの低吸収性溶媒などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(D) Organic solvent The solvent for synthesizing the polyimide-forming composition is not particularly limited as long as it is well known in the art. Examples of the solvent include m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, diethylacetate, and dimethylphthalate (DMP). Examples thereof include a polar solvent, a low boiling solvent such as tetrahydrofuran (THF) and chloroform, and a low absorption solvent such as γ-butyrolactone, which can be used alone or in combination of two or more.

上述のような本発明に係るポリイミド形成用組成物において、ジアミン混合物、ジアンヒドリド混合物、触媒、及び有機溶媒の含有量は、特に限定されないが、ポリイミド形成用組成物の全100重量%に対して、(a)ジアミン混合物が1〜20重量%、(b)ジアンヒドリド混合物が1〜20重量%、(c)触媒が当業界で周知の含有量、例えば、約0.01〜20重量、具体的に約0.01〜15重量%、より具体的には、約0.1〜10重量%、及び(d)有機溶媒が残部であることができる。ここで、ポリイミド形成用組成物中における各成分の含有量が上記の範囲未満である場合は、前記ポリイミド形成用組成物の粘度が低くなりすぎることがあり、その反面、上記の範囲を超える場合は、ポリイミド形成用組成物の粘度が高くなりすぎることがある。従って、本発明に係るポリイミド形成用組成物中における各成分の含有量を上記の範囲内に調節することにより、ポリイミド形成用組成物が約1,000〜500,000cps、好ましくは、約10,000〜200,000cpsの範囲の粘度を有することができる。また、ポリイミド形成用組成物の粘度が上記の範囲内であれば、ポリイミド形成用組成物のコーティングの際に厚さの調節が容易に行われ、コーティングされる塗膜の表面が均一に形成されるようになる。 In the polyimide-forming composition according to the present invention as described above, the contents of the diamine mixture, the dianhydride mixture, the catalyst, and the organic solvent are not particularly limited, but are based on 100% by weight of the total polyimide-forming composition. , (A) 1 to 20% by weight of the diamine mixture, (b) 1 to 20% by weight of the dianhydride mixture, (c) the content of the catalyst known in the art, eg, about 0.01 to 20% by weight, specifically. It can be about 0.01 to 15% by weight, more specifically about 0.1 to 10% by weight, and (d) the organic solvent as the balance. Here, if the content of each component in the polyimide-forming composition is less than the above range, the viscosity of the polyimide-forming composition may be too low, but on the other hand, if it exceeds the above range. May cause the viscosity of the polyimide-forming composition to be too high. Therefore, by adjusting the content of each component in the polyimide-forming composition according to the present invention within the above range, the polyimide-forming composition can be adjusted to about 1,000 to 500,000 cps, preferably about 10, It can have viscosities in the range of 000 to 200,000 cps. Further, when the viscosity of the polyimide-forming composition is within the above range , the thickness can be easily adjusted at the time of coating the polyimide-forming composition, and the surface of the coating film to be coated is uniformly formed. Become so.

一方、本発明に係るポリイミド形成用組成物は、必要に応じて、本発明の目的及び効果を損なわない範囲内で、可塑剤、酸化防止剤、難燃化剤、分散剤、粘度調節剤、レベリング剤などの添加剤を少量含むことができる。 On the other hand, the polyimide-forming composition according to the present invention contains, if necessary, a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, within a range that does not impair the object and effect of the present invention. It can contain a small amount of additives such as leveling agents.

上述のような本発明に係るポリイミド形成用組成物の溶液重合反応を行うことで、ポリアミック酸が得られる。具体的に、化学式(1)で示されるジアミンと化学式(2)で示されるジアミンとを有機溶媒に投入して溶解させた後、ここに、化学式(3)で示されるジアンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを加えた後、溶液重合反応を行うと、ポリアミック酸が得られる。この時、反応条件は、特に限定されないが、−20〜80℃で1〜12時間(好ましくは、1〜3時間)反応を行うことができる。 A polyamic acid can be obtained by carrying out the solution polymerization reaction of the polyimide-forming composition according to the present invention as described above. Specifically, the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) are added to an organic solvent to dissolve them, and then the dianhydride represented by the chemical formula (3) and the chemical formula (4) are here. ) Is added and then a solution polymerization reaction is carried out to obtain a polyamic acid. At this time, the reaction conditions are not particularly limited, but the reaction can be carried out at -20 to 80 ° C. for 1 to 12 hours (preferably 1 to 3 hours).

なお、ポリイミド樹脂は、ランダム共重合体(Random copolymer)やブロック共重合体(Block copolymer)の形態であることができる。 The polyimide resin can be in the form of a random copolymer or a block copolymer.

本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、前記ポリイミド形成用組成物を用いて製造されるため、光学特性(透明度及び黄色度)と共に改善された機械的特性(弾性率、強度)を有しながら、優れた熱的特性(熱膨張係数及びガラス転移温度)を期待することができる。具体的に、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、波長550nmでの光線透過率が88%以上であり、波長550nmでの黄色度(Yellow Index、YI)が5.0以下であり、ヘーズ(Haze)が1.0以下であり、弾性率(Modulus)が3〜6GPaであり、機械的強度(Strength)が120〜200MPaである。 Since the transparent polyimide resin film according to the present invention is produced by using the polyimide-forming composition, it has improved mechanical properties (elastic modulus, strength) as well as optical properties (transparency and yellowness). Excellent thermal properties (coefficient of thermal expansion and glass transition temperature) can be expected. Specifically, the transparent polyimide resin film according to the present invention has a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm, a yellowness (Yellow Index, YI) of 5.0 or less at a wavelength of 550 nm, and a haze (Haze). Haze) is 1.0 or less, the elastic modulus (Modulus) is 3 to 6 GPa, and the mechanical strength (Strength) is 120 to 200 MPa.

また、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、イミド基を含有するため、耐熱性、耐化学性、耐摩耗性、及び電気的特性に優れている。 Further, since the transparent polyimide resin film according to the present invention contains an imide group, it is excellent in heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance, and electrical characteristics.

このような透明ポリイミド樹脂フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば、前記ポリイミド形成用組成物を、ガラス基板、金属基板または耐熱性高分子基板にコーティング(キャスティング)した後、80〜300℃の範囲で徐々に昇温させながら、1〜12時間、イミド化反応(Imidazation)を行うことで、ポリイミド樹脂フィルムを製造することができる。 The method for producing such a transparent polyimide resin film is not particularly limited, but for example, after coating (casting) the polyimide-forming composition on a glass substrate, a metal substrate, or a heat-resistant polymer substrate, the temperature is 80 to 300 ° C. A polyimide resin film can be produced by carrying out an imidization reaction (Imidization) for 1 to 12 hours while gradually raising the temperature in the above range.

前記コーティング方法としては、当業界で周知の方法を制限なく使用することができ、例えば、スピンコート法(Spin coating)、ディップコート法(Dip coating)、溶媒キャスト法(Solvent casting)、スロットダイコート法(Slot die coating)、スプレーコート法(Spray coating)などが挙げられる。 As the coating method, a method well known in the art can be used without limitation, and for example, a spin coating method, a dip coating method, a solvent casting method, and a slot die coating method can be used. (Slot die coating), spray coating method (Spray coating) and the like can be mentioned.

前記透明ポリイミド樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、数百nm〜数十μmとなるように、上述のポリイミド形成用組成物を1回以上コーティングして調節することができる。 The thickness of the transparent polyimide resin film is not particularly limited, but can be adjusted by coating the above-mentioned polyimide-forming composition one or more times so as to have a thickness of several hundred nm to several tens of μm.

このような透明ポリイミド樹脂フィルムは、種々の分野で使用可能であり、特に、高透明性及び耐熱性が要求される有機EL素子(OLED)用ディスプレイ、液晶素子用ディスプレイ、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、電子ペーパー用基板材料のようなフレキシブル表示装置用基板及び保護膜として活用することができる。 Such a transparent polyimide resin film can be used in various fields, and in particular, a display for an organic EL element (OLED), a display for a liquid crystal element, a TFT substrate, and a flexible printing circuit, which are required to have high transparency and heat resistance. It can be used as a substrate for a flexible display device such as a substrate, a flexible OLED surface illumination substrate, a substrate material for electronic paper, and a protective film.

以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて詳述するが、本発明は、後述の実施例及び比較例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the Examples and Comparative Examples described later.

[実施例1]
1−1.ポリイミド形成用組成物の製造
1500mlの3口丸底フラスコに、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)640.016gを入れた後、フラスコの温度を50℃に昇温させた。次に、フラスコに、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−4,4’−ジアミン(TFDB)85.0gを加え、60分経過後、2,2’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジアミン(m−Tol)1.743gを加えた。これを1時間攪拌し、TFDB、m−Tolを完全に溶解させた。次に、フレスコに、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)45.615g、及び5,5’−(パーフルオロプロパン−2,2−ジイル)ジイソベンゾフラン−1,3−ジオン(6FDA)18.235gをそれぞれ順次加え、溶解させた。この時、固形分は15%であり、次に、5.5時間攪拌して反応を行った。単量体間反応の完了を、粘度が増加したか否かで確認した後、4−tert−ブチルピリジン37gを徐々に加え、4.5時間攪拌した。次に、自然冷却して、ポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 1]
1-1. Production of Polyimide Forming Composition After putting 640.016 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) in a 1500 ml three-necked round-bottom flask, the temperature of the flask was raised to 50 ° C. Next, 85.0 g of 2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl-4,4'-diamine (TFDB) was added to the flask, and after 60 minutes, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4 1.743 g of'-diamine (m-Tol) was added. This was stirred for 1 hour to completely dissolve TFDB and m-Tol. Next, on the fresco, 45.615 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), and 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl) diisobenzofuran-1 , 3-Dione (6FDA) 18.235 g were added in sequence and dissolved. At this time, the solid content was 15%, and then the reaction was carried out with stirring for 5.5 hours. After confirming the completion of the inter-monomeric reaction by checking whether the viscosity increased, 37 g of 4-tert-butylpyridine was gradually added, and the mixture was stirred for 4.5 hours. Next, it was naturally cooled to obtain a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 85,000 CPs).

1−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−1.で得られたポリイミド形成用組成物を、LCD用ガラス板にバーコーター(Bar coater)を用いてコーティングした後、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、280℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行った。その結果、膜厚さが52μmである透明ポリイミド樹脂フィルム(イミド化率:85%以上)が得られた。次に、ガラス板からフィルムを分離して透明ポリイミド樹脂フィルムを得た。
1-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-1. The polyimide-forming composition obtained in 1) was coated on a glass plate for LCD using a bar coater, and then in a convection oven under a nitrogen atmosphere at 80 ° C. for 30 minutes and at 150 ° C. for 30 minutes. The imidization reaction was carried out by drying at 200 ° C. for 1 hour and 280 ° C. for 1 hour while gradually increasing the temperature. As a result, a transparent polyimide resin film having a film thickness of 52 μm (imidization rate: 85% or more) was obtained. Next, the film was separated from the glass plate to obtain a transparent polyimide resin film.

[実施例2]
2−1.ポリイミド形成用組成物の製造
前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 2]
2-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 85,000 CPs) was obtained.

2−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した。
2-2. Manufacture of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 320 ° C. for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. Of Example 1, except that the imidization reaction is carried out. Manufactured in the same manner as above.

[実施例3]
3−1.ポリイミド形成用組成物の製造
前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 3]
3-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 85,000 CPs) was obtained.

3−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した。
3-2. Manufacture of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. Of Example 1, except that the imidization reaction is carried out. Manufactured in the same manner as above.

[実施例4]
4−1ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:79000CPs)を得た。
[Example 4]
4-1 Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 79000 CPs) was obtained.

4−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.と同様にして製造した。
4-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Manufactured in the same manner as above.

[実施例5]
5−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−エチルピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Example 5]
5-1. Preparation of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that 4-ethylpyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 82000 CPs) was obtained.

5−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例5の5−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
5-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 5, 5-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例6]
6−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2−メチルピペラジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:81000CPs)を得た。
[Example 6]
6-1. Preparation of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that 2-methylpiperazine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 81000 CPs) was obtained.

6−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例6の6−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
6-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 6, 6-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例7]
7−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’−ODA:CBDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:122000CPs)を得た。
[Example 7]
7-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: 4,4'-ODA: CBDA: 6FDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 122000 CPs) was obtained.

7−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例7の7−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
7-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 7, 7-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例8]
8−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例7の7−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:118000CPs)を得た。
[Example 8]
8-1. Production of Composition for Polyimide Formation 7-1. Of Example 7 above, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 118,000 CPs) was obtained.

8−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例8の8−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
8-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 8, 8-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例9]
9−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例7の7−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:119000CPs)を得た。
[Example 9]
9-1. Production of Composition for Polyimide Formation 7-1. Of Example 7 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 119000 CPs) was obtained.

9−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例9の9−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
9-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 9, 9-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例10]
10−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA: CHDA:6FDAを9:1:8:2のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 10]
10-1. Production of Polyimide Forming Composition The above, except that TFDB: FODA: CHDA: 6FDA is used in a molar ratio of 9: 1: 8: 2 and 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. 1-1 of Example 1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 47,000 CPs) was obtained.

10−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例10の10−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
10-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 10, 10-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例11]
11−1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例10の10−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 11]
11-1. Production of Polyimide Forming Composition 10-1 of Example 10. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 47,000 CPs) was obtained.

11−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例11の11−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
11-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 11, 11-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 320 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例12]
12−1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例10の10−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 12]
12-1. Production of Polyimide Forming Composition 10-1 of Example 10. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 47,000 CPs) was obtained.

12−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例12の12−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
12-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 12, 12-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例13]
13−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:112000CPs)を得た。
[Example 13]
13-1. Production of Polyimide Forming Compositions Except for the use of TFDB: FODA: s-BPDA: 6FDA in a molar ratio of 9: 1: 9: 1 and 4-methoxypyridine instead of 4-tert-butylpyridine. 1-1. Of the first embodiment. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 112000 CPs) was obtained.

13−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例13の13−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
13-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 13, 13-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例14]
14−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−メトキシピリジンの代わりに4−tert−ブチルピリジンを使用すること以外は、前記実施例13の13−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:113000CPs)を得た。
[Example 14]
14-1. Production of Composition for Polyimide Formation 13-1 of Example 13 above, except that 4-tert-butylpyridine is used instead of 4-methoxypyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 113000 CPs) was obtained.

14−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例14の14−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
14-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 14, 14-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例15]
15−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−メトキシピリジンの代わりに3−ピコリンを使用すること以外は、前記実施例13の13−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:110000CPs)を得た。
[Example 15]
15-1. Preparation of Polyimide Forming Composition 13-1. Of Example 13 above, except that 3-picoline is used instead of 4-methoxypyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 110,000 CPs) was obtained.

15−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例15の15−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
15-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 15, 15-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例16]
16−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−メトキシピリジンの代わりに2,3−ルチジンを使用すること以外は、前記実施例13の13−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:112000CPs)を得た。
[Example 16]
16-1. Production of Composition for Polyimide Formation 13-1 of Example 13 above, except that 2,3-lutidine is used instead of 4-methoxypyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 112000 CPs) was obtained.

16−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例16の16−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
16-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. 16-1 of Example 16 instead of the polyimide-forming composition used in. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例17]
17−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−メトキシピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は、前記実施例13の13−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:119000CPs)を得た。
[Example 17]
17-1. Production of Composition for Polyimide Formation 13-1 of Example 13 above, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-methoxypyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 119000 CPs) was obtained.

17−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例17の17−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
17-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 17, 17-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例18]
18−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FAPB:a−BPDA:ODPAを9:1:7:3のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 18]
18-1. Production of Polyimide Forming Compositions TFDB: FABP: a-BPDA: ODPA were used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4-diazabicyclo [2.2.2] instead of 4-tert-butylpyridine. Except for the use of octane, 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 52000 CPs) was obtained.

18−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例18の18−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
18-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 18, 18-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例19]
19−1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例18の18−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 19]
19-1. Production of Polyimide Forming Composition 18-1 of Example 18. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 52000 CPs) was obtained.

19−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例19の19−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
19-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 19, 19-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 320 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例20]
20−1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例18の18−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 20]
20-1. Production of Polyimide Forming Composition 18-1 of Example 18. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 52000 CPs) was obtained.

20−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例20の20−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
20-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 20, 20-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例21]
21−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:DABA:CBDA:DSDAを8:2:8:2のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:83000CPs)を得た。
[Example 21]
21-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: DABA: CBDA: DSDA is used in a molar ratio of 8: 2: 8: 2. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 83000 CPs) was obtained.

21−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例21の21−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
21-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 21, 21-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例22]
22−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は、前記実施例21の21−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:81000CPs)を得た。
[Example 22]
22-1. Production of Composition for Polyimide Formation 21-1 of Example 21 above, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 81000 CPs) was obtained.

22−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例22の22−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
22-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 22, 22-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例23]
23−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例21の21−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Example 23]
23-1. Production of Composition for Polyimide Formation 21-1 of Example 21 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 82000 CPs) was obtained.

23−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例23の23−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
23-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. Instead of the polyimide-forming composition used in Example 23, 23-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例24]
24−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’−DDS:s−BPDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:61000CPs)を得た。
[Example 24]
24-1. Production of Polyimide Forming Composition TFDB: 4,4'-DDS: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4-diazabicyclo [2] instead of 4-tert-butylpyridine. .2.2] Except for the use of octane, 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 61000 CPs) was obtained.

24−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例24の24−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
24-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 24, 24-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例25]
25−1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例24の24−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:61000CPs)を得た。
[Example 25]
25-1. Production of Polyimide Forming Composition 24-1 of Example 24. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 61000 CPs) was obtained.

25−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例25の25−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
25-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 25, 25-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例26]
26−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4−(パーフルオロプロパン−2,2’−ジイル)ジベンゼンアミン:CBDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 26]
26-1. Production of Polyimide Forming Composition TFDB: 4,4- (perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzeneamine: CBDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 7: 3 and 4-tert. 1-1. Of Example 1 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of −butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 47,000 CPs) was obtained.

26−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例26の26−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
26-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 26, 26-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例27]
27−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:DSDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:107000CPs)を得た。
[Example 27]
27-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: FODA: s-BPDA: DSDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 107,000 CPs) was obtained.

27−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例27の27−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
27-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 27, 27-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例28]
28−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s−BPDA:BTDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:89000CPs)を得た。
[Example 28]
28-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that TFDB: FODA: s-BPDA: BTDA is used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 89000 CPs) was obtained.

28−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例28の28−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
28-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 28, 28-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例29]
29−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例28の28−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 29]
29-1. Production of Composition for Polyimide Formation 28-1 of Example 28, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 85,000 CPs) was obtained.

29−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例29の29−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
29-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 29, 29-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例30]
30−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例28の28−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:87000CPs)を得た。
[Example 30]
30-1. Production of Composition for Polyimide Formation 28-1. Of Example 28, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 87,000 CPs) was obtained.

30−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例30の30−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
30-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 30, 30-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例31]
31−1ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’−DDS:s−BPDA:6FDAを8:2:7:3のモル比で使用し、4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:46000CPs)を得た。
[Example 31]
31-1 Production of Polyimide Forming Composition TFDB: 4,4'-DDS: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 8: 2: 7: 3 and 4-tert-butylpyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine. Except for the use of diazabicyclo [2.2.2] octane, 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 46000 CPs) was obtained.

31−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例31の31−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
31-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 31, 31-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例32]
32−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’−DDS:ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物:6FDAを8:2:7:3のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:37000CPs)を得た。
[Example 32]
32-1. Production of Polyimide Forming Composition TFDB: 4,4'-DDS: Bicyclo [2.2.1] Heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride: 6FDA 8: 2: 7: 3 1-1. Of the above-mentioned Example 1 except that it is used in the molar ratio of. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 37,000 CPs) was obtained.

32−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例32の32−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
32-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 32, 32-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例33]
33−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに2,3,5−コリジンを使用すること以外は、前記実施例32の32−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:35000CPs)を得た。
[Example 33]
33-1. Production of Composition for Polyimide Formation 32-1 of Example 32, except that 2,3,5-cholidine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 35,000 CPs) was obtained.

33−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例33の33−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
33-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 33, 33-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例34]
34−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例32の32−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:35000CPs)を得た。
[Example 34]
34-1. Production of Composition for Polyimide Formation 32-1 of Example 32, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 35,000 CPs) was obtained.

34−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例34の34−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
34-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 34, 34-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例35]
35−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:41000CPs)を得た。
[Example 35]
35-1. Production of Polyimide Forming Composition TFDB: FODA: Bicyclo [2.2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride: 6FDA 9: 1: 7: 3 Except for the use in molar ratio, 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 41000 CPs) was obtained.

35−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例35の35−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
35-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 35, 35-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例36]
36−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例35の35−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:41000CPs)を得た。
[Example 36]
36-1. Production of Composition for Polyimide Formation 35-1. Of Example 35, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 41000 CPs) was obtained.

36−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例36の36−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
36-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 36, 36-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[実施例37]
37−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりに4−メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例35の35−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:40000CPs)を得た。
[Example 37]
37-1. Production of Composition for Polyimide Formation 35-1. Of Example 35, except that 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 40,000 CPs) was obtained.

37−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例37の37−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
37-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Example 37, 37-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as in the above.

[比較例1]
1−1.ポリイミド形成用組成物の製造
4−tert−ブチルピリジンの代わりにピリジン19.987gを使用すること以外は、前記実施例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Comparative Example 1]
1-1. Preparation of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Example 1 above, except that 19.987 g of pyridine is used instead of 4-tert-butyl pyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 82000 CPs) was obtained.

1−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例1の1−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フィルムが得られなかった。
1-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Comparative Example 1, 1-1. Except for using the polyimide-forming composition produced in Example 1, 1-2. After manufacturing in the same manner as in the above, an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and the film could not be obtained.

[比較例2]
2−1.ポリイミド形成用組成物の製造
ピリジンの代わりにイソキノリンを使用すること以外は、前記比較例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:80000CPs)を得た。
[Comparative Example 2]
2-1. Production of Composition for Polyimide Formation 1-1. Of Comparative Example 1 except that isoquinoline is used instead of pyridine. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 80,000 CPs) was obtained.

2−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
比較例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例2の2−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、比較例1の1−2.と同様にして製造したが、イソキノリンの残量が多すぎて正常なフィルムが得られなかった。
2-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Comparative Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Comparative Example 2, 2-1. In Comparative Example 1 1-2, except that the polyimide-forming composition produced in the above was used. However, a normal film could not be obtained because the remaining amount of isoquinoline was too large.

[比較例3]
3−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:BTDA:6FDAを10:7:3のモル比で使用すること以外は、前記比較例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:73000CPs)を得た。
[Comparative Example 3]
3-1. Production of Polyimide Forming Composition 1-1. Of Comparative Example 1 except that TFDB: BTDA: 6FDA is used in a molar ratio of 10: 7: 3. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 73000 CPs) was obtained.

3−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例3の3−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、比較例1の1−2.と同様にして製造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フィルムが得られなかった。
3-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Comparative Example 3, 3-1. In Comparative Example 1 1-2, except that the polyimide-forming composition produced in the above was used. After manufacturing in the same manner as in the above, an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and the film could not be obtained.

[比較例4]
4−1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:BTDA:6FDAを10:7:3のモル比で使用すること以外は、前記比較例1の1−1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:73000CPs)を得た。
[Comparative Example 4]
4-1. Production of polyimide-forming composition
Except for the use of TFDB: BTDA: 6FDA in a molar ratio of 10: 7: 3, 1-1. In the same manner as above, a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25 ° C.: 73000 CPs) was obtained.

4−2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1−2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、 比較例4の4−1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1−2.と同様にして製造した。次に、ガラス板からポリイミドフィルムを分離して得た。
4-2. Production of Transparent Polyimide Resin Film 1-2 of Example 1. In place of the polyimide-forming composition used in Comparative Example 4, 4-1. In a convection oven under a nitrogen atmosphere, using the polyimide-forming composition produced in the above stepwise, 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, 350 ° C. for 1 hour, stepwise. Except that the imidization reaction is carried out by drying while gradually raising the temperature, 1-2. Manufactured in the same manner as above. Next, the polyimide film was separated from the glass plate and obtained.

上述の実施例1〜37及び比較例1〜4において使用される、ジアミン混合物、ジアンヒドリド混合物、及び触媒の組成を、次の表1に示す。 The compositions of the diamine mixture, the dianhydride mixture, and the catalyst used in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 described above are shown in Table 1 below.

Figure 2021055104
Figure 2021055104

[実験例1]透明ポリイミド樹脂フィルムの物性評価
上述の実施例1〜37及び比較例1〜4において得られた透明ポリイミド樹脂フィルムの物性を、以下のような方法で評価し、その結果を表2に示す。
[Experimental Example 1] Evaluation of Physical Properties of Transparent Polyimide Resin Film The physical characteristics of the transparent polyimide resin film obtained in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 described above are evaluated by the following methods, and the results are shown in the table. Shown in 2.

(1)光透過度(T%)の測定
波長550nmにおいて、UV−Vis NIR Spectrophotometer(島津製作所製、モデル名:UV−3150)を用いて、ASTM E313−73の規格によるC光源と視野角2°での測定を行った。
(1) Measurement of light transmittance (T%) At a wavelength of 550 nm, using a UV-Vis NIR Spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model name: UV-3150), a C light source and a viewing angle 2 according to the standards of ASTM E313-73. Measurements were made at °.

(2)黄色度(Yellow Index、YI)の測定
分光測色計(コニカミノルタ社製、モデル名:CM−3700d)を用いて、波長550nmでの黄色度を、ASTM E313の規格によって測定した。
(2) Measurement of Yellowness (Yellow Index, YI) Using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, model name: CM-3700d), the yellowness at a wavelength of 550 nm was measured according to the standards of ASTM E313.

(3)機械的特性の測定
UTM(インストロン社製、モデル名:5942)を用いて、ISO 527−3の規格によって引張強度(Strength、MPa)及び弾性率(Modulus、GPa)を測定した。
(3) Measurement of mechanical properties Using UTM (manufactured by Instron, model name: 5942), tensile strength (Strength, MPa) and elastic modulus (Modulus, GPa) were measured according to the ISO 527-3 standard.

Figure 2021055104
Figure 2021055104

上記の表1及び表2から、得られた透明ポリイミド樹脂フィルムの組成による特性の変化がわかる。 From Tables 1 and 2 above, changes in characteristics depending on the composition of the obtained transparent polyimide resin film can be seen.

先ず、実施例1〜37の結果から、同一の組成及び同一の触媒を使用する一方で、それぞれ異なる硬化温度を適用する場合、硬化温度が高くなるほど光学特性が劣化し、機械的特性には大差がないことがわかる。即ち、硬化温度が280℃であるイミド化工程において優れた特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。 First, from the results of Examples 1 to 37, when the same composition and the same catalyst are used, but different curing temperatures are applied, the higher the curing temperature, the more the optical characteristics deteriorate, and the mechanical characteristics differ greatly. It turns out that there is no. That is, it can be seen that a transparent polyimide resin film having excellent properties can be obtained in the imidization step in which the curing temperature is 280 ° C.

また、実施例1及び4〜6の結果から、同一の硬化温度(280℃)で、異なる沸点を有する触媒を使用する場合、類似する特性を有する透明ポリイミド樹脂が得られることがわかる。但し、実施例5では、得られたフィルムには部分的な損傷が生じることが確認される。 Further, from the results of Examples 1 and 4 to 6, it can be seen that when catalysts having different boiling points are used at the same curing temperature (280 ° C.), a transparent polyimide resin having similar characteristics can be obtained. However, in Example 5, it is confirmed that the obtained film is partially damaged.

さらに、実施例7〜37の結果から、140〜200℃の沸点を有する、種々の塩基性触媒を使用する場合、硬化温度が300以下と比較的低いイミド化工程においても優れた特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。即ち、製作時において高温工程の改善が可能となることが確認される。 Furthermore, from the results of Examples 7 to 37, when various basic catalysts having a boiling point of 140 to 200 ° C. are used, transparency having excellent properties even in an imidization step in which the curing temperature is relatively low at 300 or less. It can be seen that a polyimide resin film can be obtained. That is, it is confirmed that the high temperature process can be improved at the time of production.

上述のような結果から、組成、硬化温度、触媒の種類を組み合わせることで、光学特性及び機械的特性を調節することが可能であることが確認される。 From the above results, it is confirmed that the optical properties and the mechanical properties can be adjusted by combining the composition, the curing temperature, and the type of catalyst.

一方、比較例1〜2の結果から、同一の組成で115℃の低い沸点を有するピリジンを触媒として使用する場合、フィルムが得られておらず(比較例1)、240℃の沸点を有するイソキノリンを触媒として使用する場合、フィルムは得られているが、触媒の残量が多すぎることが確認される。このような問題点は、大量生産後のデバイスに適用する場合、大きなトラブルを招くおそれがあることは言うまでもない。 On the other hand, from the results of Comparative Examples 1 and 2, when pyridine having the same composition and a low boiling point of 115 ° C. was used as a catalyst, no film was obtained (Comparative Example 1), and isoquinoline having a boiling point of 240 ° C. When is used as a catalyst, a film is obtained, but it is confirmed that the remaining amount of the catalyst is too large. Needless to say, such a problem may cause a big trouble when applied to a device after mass production.

また、比較例3〜4の結果から、115℃の沸点を有する触媒を使用する場合、280℃の低い硬化温度ではフィルムが得られておらず(比較例3)、350℃の硬化温度では、フィルムが得られているが、部分的な損傷が生じることが確認される(比較例4)。 Further, from the results of Comparative Examples 3 to 4, when a catalyst having a boiling point of 115 ° C. was used, a film was not obtained at a low curing temperature of 280 ° C. (Comparative Example 3), and at a curing temperature of 350 ° C., Although a film has been obtained, it is confirmed that partial damage occurs (Comparative Example 4).

上述のような結果を分析した結果、本発明に係る実施例1〜37の透明ポリイミド樹脂フィルムは、優れた光学特性を有すると共に、引張強度及び弾性率の上昇など、優れた機械的特性を有するものであることがわかった。 As a result of analyzing the above results, the transparent polyimide resin films of Examples 1 to 37 according to the present invention have excellent optical properties and also excellent mechanical properties such as an increase in tensile strength and elastic modulus. It turned out to be a thing.

具体的に、実施例1〜37で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムは、透過度88%以上、黄色度5.0以下、弾性率3〜6GPa、強度120〜60MPaであって、比較例1〜4で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムに比べて、光透過度が高く、黄色度が低く、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料として適用可能な条件を満たしていることがわかった。 Specifically, the transparent polyimide resin films obtained in Examples 1 to 37 have a transparency of 88% or more, a yellowness of 5.0 or less, an elasticity of 3 to 6 GPa, and a strength of 120 to 60 MPa, and are comparative examples 1 to 1. Compared with the transparent polyimide resin film obtained in No. 4, the light transmittance is high, the yellowness is low, and the mechanical properties are excellent, so that the conditions applicable as a material for a flexible display device are satisfied. I understood.

上述のように、本発明に係るポリイミド形成用組成物を用いて製造される透明ポリイミド樹脂フィルムは、製作の際において高温工程が改善されると共に、光透過度が高く、黄色度が低く、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料、基板または保護膜として適用可能であることが確認された。 As described above, the transparent polyimide resin film produced by using the polyimide-forming composition according to the present invention has improved high-temperature steps during production, high light transmittance, low yellowness, and It has been confirmed that it can be applied as a material for a flexible display device, a substrate or a protective film because of its excellent mechanical properties.

Claims (12)

(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミンと
を含むジアミン混合物;
(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジア
ンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;
(c)140〜200℃の範囲の沸点を有する塩基性触媒;及び
(d)有機溶媒;
を含む、ポリアミック酸溶液。
Figure 2021055104
(前記化学式(1)中、
Aは、単結合、−C(=O)−、−C(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基
からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X及びXのうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、
またはハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル基であり、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC
のアルキル基で置換されることがあり、
mは、0〜2の整数である。)
Figure 2021055104
(前記化学式(2)中、
Bは、単結合、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換された
〜Cのアルキレン基、−O−、−O−B−O−、−S−、−S(=O)−、−C
(=O)NH−、及びC〜C20のアリーレン基からなる群から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
前記C〜C20のアリーレン基は、ハロゲン、C〜Cのアルキル基、またはハロゲ
ン原子で置換されたC〜Cのアルキル基で置換されることがある。)
Figure 2021055104
(前記化学式(3)中、
Cは、4価のC〜C20の芳香族環基、及び4価のC〜C20の脂肪族環基からなる
群から選択され、
前記4価のC〜C20の芳香族環基は、C〜Cのアルキル基で置換されることがあ
り、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数
個の環同士が、−C(=O)−、−C(=O)NH−、−C(=O)−O−、及び−S(
=O)−からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Figure 2021055104
(前記化学式(4)中、
Dは、C〜Cのアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜C
のアルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、及び−S(=O)−からなる群
から選択され、
及びXは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C〜C
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC〜Cのアルキル
基からなる群から選択され、
nは、1〜3の整数である。)
(A) A diamine mixture containing a diamine represented by the following chemical formula (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2);
(B) A dianhydride mixture containing the dianhydride represented by the following chemical formula (3) and the dianhydride represented by the following chemical formula (4);
(C) A basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200 ° C.; and (d) an organic solvent;
A polyamic acid solution containing.
Figure 2021055104
(In the chemical formula (1),
A represents a single bond, -C (= O) -, - C (= O) NH-, and is selected from the group consisting of arylene group C 6 -C 20,
X 1 and X 2 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
However, when A is a single bond, at least one or more of X 1 and X 2 is a halogen.
Alternatively, it is an alkyl group of C 1 to C 6 substituted with a halogen atom.
The arylene groups of C 6 to C 20 are halogen or C 1 to C 20 substituted with a halogen atom.
It may be substituted with an alkyl group of C 6,
m is an integer from 0 to 2. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (2),
B represents a single bond, an alkylene group of C 1 -C 6, 1 or more hydrogen is alkylene C 1 -C 6 substituted by a halogen atom, -O -, - O-B -O -, - S -, -S (= O) 2- , -C
(= O) Selected from the group consisting of allylene groups of NH- and C 6 to C 20.
X 3 and X 4 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
The arylene group C 6 -C 20 is selected from halogen, C 1 -C alkyl group having 6 or it may be substituted with an alkyl group of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (3),
C is selected from the group consisting of tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups and tetravalent C 4 to C 20 aliphatic ring groups.
The tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring groups may be substituted with C 1 to C 6 alkyl groups.
The C can be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different from each other, and the plurality of rings are -C (= O)-, -C (= O) NH-,-. C (= O) -O- and -S (
= O) It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of 2 −. )
Figure 2021055104
(In the chemical formula (4),
D is, C 1 -C 6 alkylene group, one or more C 1 hydrogens are replaced by halogen atoms as -C
Selected from the group consisting of 6 alkylene groups, −O−, −S−, −C (= O) −, and −S (= O) 2−.
X 5 and X 6 are the same or different from each other, and are independent of hydrogen, halogen, and C 1 to C.
6 alkyl group and one or more hydrogen, is selected from the group consisting of alkyl groups of C 1 -C 6 substituted by a halogen atom,
n is an integer of 1 to 3. )
前記X〜Xは、それぞれ独立に、FまたはCFである電子吸引性基(EWG)で
ある、請求項1に記載のポリアミック酸溶液。
The polyamic acid solution according to claim 1, wherein X 1 to X 6 are each independently an electron-withdrawing group (EWG) of F or CF 3.
前記Aは、次の化学式(5)で示される置換体群から選択されるものである、請求項1
に記載のポリアミック酸溶液:
Figure 2021055104
(前記化学式(5)中、
*は、前記化学式(1)における連結部位であり、
〜Rは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、F、及びCFからな
る群から選択される。)
The A is selected from the substituent group represented by the following chemical formula (5), claim 1.
Polyamic acid solution described in:
Figure 2021055104
(In the chemical formula (5),
* Indicates the connection site in the chemical formula (1).
R 1 to R 3 are identical or different from each other and are independently selected from the group consisting of hydrogen, F, and CF 3. )
前記Cは、次の化学式(6)で示される置換体群から選択されるものである、請求項1
に記載のポリアミック酸溶液:
Figure 2021055104
(前記化学式(6)中、
*は、前記化学式(3)における連結部位であり、
〜Rは、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、またはC〜Cのア
ルキル基から選択される。)
The C is selected from the substituent group represented by the following chemical formula (6), claim 1.
Polyamic acid solution described in:
Figure 2021055104
(In the chemical formula (6),
* Indicates the connection site in the chemical formula (3).
R 4 to R 6 are the same or different from each other and are independently selected from hydrogen or alkyl groups C 1 to C 6. )
前記塩基性触媒は、4−エチルピリジン、2−メチルピペラジン、2,6−ジメチルピ
ペラジン、4−tert−ブチルピリジン、2−プロピルピリジン、4−プロピルピリジ
ン、2,3,5−コリジン、2,5−ルチジン、2,6−ルチジン、2,3−ルチジン、
4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、3−エチルピリジン、3−ピコリン、2,
3−ジメチルピラジン、及び2,5−ジメチルピラジンからなる群から選択される1種以
上である、請求項1に記載のポリアミック酸溶液。
The basic catalysts are 4-ethylpyridine, 2-methylpiperazine, 2,6-dimethylpiperazine, 4-tert-butylpyridine, 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 2,3,5-cholidine, 2, 5-Lutidine, 2,6-Lutidine, 2,3-Lutidine,
4-Diazabicyclo [2,2,2] octane, 3-ethylpyridine, 3-picoline, 2,
The polyamic acid solution according to claim 1, which is one or more selected from the group consisting of 3-dimethylpyrazine and 2,5-dimethylpyrazine.
前記化学式(1)で示されるジアミンの含有量は、前記ジアミン混合物100モル%に
対して、50〜99.9モル%であり、
前記化学式(2)で示されるジアミンの含有量は、前記ジアミン混合物100モル%に
対して、0.1〜50モル%である、請求項1に記載のポリアミック酸溶液。
The content of the diamine represented by the chemical formula (1) is 50 to 99.9 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture.
The polyamic acid solution according to claim 1, wherein the content of the diamine represented by the chemical formula (2) is 0.1 to 50 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture.
前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドの含有量は、前記ジアンヒドリド混合物1
00モル%に対して、10〜95モル%である、請求項1に記載のポリアミック酸溶液。
The content of dianhydride represented by the chemical formula (3) is the dianhydride mixture 1
The polyamic acid solution according to claim 1, which is 10 to 95 mol% with respect to 00 mol%.
前記(a)ジアミン混合物と(b)ジアンヒドリド混合物との含有比率が、(a):(
b)=1:0.1〜10重量比である、請求項1に記載のポリアミック酸溶液。
The content ratio of the (a) diamine mixture and the (b) dianhydride mixture is (a) :(
b) The polyamic acid solution according to claim 1, wherein the ratio is 1: 0.1 to 10 by weight.
粘度が、1,000〜500,000cpsである、請求項1に記載のポリアミック酸
溶液。
The polyamic acid solution according to claim 1, which has a viscosity of 1,000 to 500,000 cps.
請求項1〜9のうちのいずれか1項に記載のポリアミック酸溶液をイミド化して製造さ
れる、透明ポリイミド樹脂フィルム。
A transparent polyimide resin film produced by imidizing the polyamic acid solution according to any one of claims 1 to 9.
以下の(i)〜(v)の物性条件を満たす、請求項10に記載の透明ポリイミド樹脂フ
ィルム:
(i)膜厚さ10μm以下において、波長550nmでの光透過度が88%以上であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が5.0以下であり、
(iii)ヘーズが1.0以下であり、
(iv)弾性率が3〜6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120〜200MPaの範囲である。
The transparent polyimide resin film according to claim 10, which satisfies the following physical properties of (i) to (v):
(I) When the film thickness is 10 μm or less, the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 88% or more.
(Ii) The yellowness according to the ASTM E313 standard is 5.0 or less.
(Iii) Haze is 1.0 or less,
(Iv) The elastic modulus is in the range of 3 to 6 GPa.
(V) The tensile strength is in the range of 120 to 200 MPa.
請求項10または請求項11に記載の透明ポリイミド樹脂フィルムを含む透明基板。
A transparent substrate comprising the transparent polyimide resin film according to claim 10 or 11.
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