JP2021051161A - Filter, eyeglass lens, camera filter, window plate, and sunvisor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、入射角に依存した透過率を有するフィルタ、並びに眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板及びサンバイザに関する。 The present invention relates to filters having transmittance depending on the angle of incidence, as well as spectacle lenses, camera filters, window plates and sun visors.
特開２００７−２７９４２４号公報（特許文献１）に記載されているように、使用者に対してのみ限定的に画像を高い輝度で視認させ得るディスプレイ装置の覗き見防止シートが知られている。
このシートは、第一ルーバー槽１２と、第二ルーバー槽１３と、入射光を指向するプリズム層１１とを含む。第一ルーバー槽１２及び第二ルーバー槽１３は、それぞれ、所定の間隔をおいて互いに平行に延在する複数のルーバーを含む。第一ルーバー槽１２及び第二ルーバー槽１３により、ディスプレイにおける側面方向の光の出射が防止され、側方からの覗き見が防止される。
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-279424 (Patent Document 1), a peep prevention sheet for a display device capable of visually recognizing an image with high brightness only to a user is known.
This sheet includes a
上記のシートでは、ディスプレイ面で考えれば、入射角（ディスプレイ面の垂線に対する光線の角度）が０°及びその近傍である場合に光の透過率が高く、入射角が９０°に近い側面方向である場合に光の透過率が低い。よって、上記のシートは、入射角に依存した透過率を有する（入射角依存性透過率）。
しかし、上記のシートでは、第一ルーバー槽１２及び第二ルーバー槽１３という立体構造が存在するため、他の物体との接触等により毀損されて入射角依存性が損なわれることがある。
又、上記のシートでは、第一ルーバー槽１２及び第二ルーバー槽１３の構造上、透過率の変化パターンは、ある入射角（４５°程度）を境界として急激に変化するものしか形成し得ない。
そこで、本発明の主な目的は、より耐久性に優れたフィルタ、ないしはそのフィルタに属する眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板、サンバイザを提供することである。
又、本発明の別の主な目的は、様々な透過率の変化パターンを具備可能であるフィルタ、ないしはそのフィルタに属する眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板、サンバイザを提供することである。
In the above sheet, when considering the display surface, the light transmittance is high when the incident angle (angle of the light beam with respect to the perpendicular line of the display surface) is 0 ° or its vicinity, and the incident angle is close to 90 ° in the side surface direction. In some cases the light transmittance is low. Therefore, the above-mentioned sheet has a transmittance depending on the incident angle (incident angle-dependent transmittance).
However, since the above sheet has a three-dimensional structure of a
Further, in the above sheet, due to the structure of the
Therefore, a main object of the present invention is to provide a filter having more durability, or a spectacle lens, a camera filter, a window plate, and a sun visor belonging to the filter.
Another main object of the present invention is to provide a filter capable of having various patterns of change in transmittance, or a spectacle lens, a camera filter, a window plate, and a sun visor belonging to the filter.
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、フィルタにおいて、可視域における光の少なくとも一部に係る透過率が、入射角に応じて減少する誘電体多層膜を有していることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明は、上記発明において、前記入射角が０である場合に、無色透明であることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明は、上記発明において、前記入射角が０である場合に、着色されていることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明は、上記発明において、光吸収膜を有していることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明は、眼鏡レンズにおいて、上記発明のフィルタを有していることを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明は、カメラフィルタにおいて、上記発明のフィルタを有していることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明は、窓板において、上記発明のフィルタを有していることを特徴とするものである。
請求項８に記載の発明は、サンバイザにおいて、上記発明のフィルタを有していることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the invention according to
The invention according to
The invention according to
The invention according to
The invention according to
The invention according to
The invention according to
The invention according to
本発明の主な効果は、より耐久性に優れたフィルタ、ないしはそのフィルタに属する眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板、サンバイザが提供されることである。
又、本発明の別の主な効果は、様々な透過率の変化パターンを具備可能であるフィルタ、ないしはそのフィルタに属する眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板、サンバイザが提供されることである。
A main effect of the present invention is to provide a more durable filter, or a spectacle lens, a camera filter, a window plate, and a sun visor belonging to the filter.
Further, another main effect of the present invention is to provide a filter capable of having various patterns of change in transmittance, or a spectacle lens, a camera filter, a window plate, and a sun visor belonging to the filter.
以下、本発明に係る実施の形態の例が、適宜図面に基づいて説明される。尚、本発明の形態は、これらの例に限定されない。
図１に示されるように、本発明に係るフィルタ１は、基材２と、光学多層膜４と、を有する。
Hereinafter, examples of embodiments according to the present invention will be described as appropriate with reference to the drawings. The form of the present invention is not limited to these examples.
As shown in FIG. 1, the
基材２は、透光性を有している。
基材２の材質は、特に限定されず、例えばガラス、あるいは樹脂である。
基材２の形状は、特に限定されず、例えば板状、フィルム状、眼鏡レンズ状である。
The
The material of the
The shape of the
光学多層膜４は、誘電体材料を用いた無機多層膜であり、誘電体多層膜である。
光学多層膜４は、基材２の少なくとも一面における一部又は全部に形成される。
光学多層膜４は、低屈折率層及び高屈折率層を含む。又、光学多層膜４は、更に中屈折率層を含み得る。
高屈折率層及び低屈折率層（並びに中屈折率層）の層数及び材質の選択、並びに各層における厚み（層に係る物理膜厚あるいは光学膜厚）の増減といった設計要素の変更により、光学多層膜４の設計が変更される。
例えば、中屈折率層がこれと光学的に等価である高屈折率層と低屈折率層との組合せにより置換される等、光学多層膜４における一部又は全部の構造は、光学的に等価な他の構造に置換されても良い。
The
The
The
Optical by changing the design elements such as the selection of the number and materials of the high refractive index layer and the low refractive index layer (and the medium refractive index layer), and the increase / decrease in the thickness (physical film thickness or optical film thickness of each layer) The design of the
For example, a part or all of the structure in the
高屈折率層は、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、若しくは酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）又はこれらの二種以上の混合物といった高屈折率材料から形成される。
又、低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化アルミニウムと酸化プラセオジムとの組合せ（Ａｌ２Ｏ３−Ｐｒ２Ｏ３）、酸化アルミニウムと酸化ランタンとの組合せ（Ａｌ２Ｏ３−Ｌａ２Ｏ３）、若しくは酸化アルミニウムと酸化タンタルとの組合せ（Ａｌ２Ｏ３−Ｔａ２Ｏ５）、又はこれらの二種以上の混合物といった低屈折率材料から形成される。
中屈折率層は、例えばＡｌ２Ｏ３、Ｐｒ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３−Ｐｒ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３−Ｌａ２Ｏ３、といった中屈折率材料から形成される。
光学多層膜４の外部あるいは内部に、光吸収膜Ａ等の他の機能を有する膜が組み合わせられても良い。光吸収膜Ａを形成する光吸収膜材料として、例えば、不飽和ニッケル酸化物（ＮｉＯｘ，０＜ｘ＜１）、不飽和チタン酸化物（ＴｉＯｙ，０＜ｙ＜２）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニクロム（ＮｉＣｒ）、ケイ素（Ｓｉ）、若しくはゲルマニウム（Ｇｅ）又はこれらの二種以上の混合物が挙げられる。
The high refractive index layer includes, for example, zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), hafnium oxide (HfO 2 ), lanthanum oxide (HfO 2) It is formed from high refractive index materials such as La 2 O 3 ), or placeodymium oxide (Pr 2 O 3 ) or a mixture of two or more of these.
The low refractive index layer is, for example, a combination of silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum oxide and placeodymium oxide. (Al 2 O 3- Pr 2 O 3 ), a combination of aluminum oxide and lanthanum oxide (Al 2 O 3- La 2 O 3 ), or a combination of aluminum oxide and tantalum oxide (Al 2 O 3- Ta 2 O). It is formed from a low refractive index material such as 5) or a mixture of two or more of these.
The medium refractive index layer is formed from a medium refractive index material such as Al 2 O 3 , Pr 2 O 3 , La 2 O 3 , Al 2 O 3 − Pr 2 O 3 , Al 2 O 3 − La 2 O 3. To.
A film having another function such as the light absorption film A may be combined with the outside or the inside of the
光学多層膜４の低屈折率層及び高屈折率層（並びに中屈折率層）は、真空蒸着法あるいはイオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等により形成される。
光学多層膜４は、基材２における複数の面に形成されても良い。例えば、光学多層膜４は、板状あるいはフィルム状の基材２の表裏両面に形成されても良い。
The low refractive index layer and the high refractive index layer (and the medium refractive index layer) of the
The
光学多層膜４は、光学薄膜フィルタの所定の特性を用いて、可視域における光Ｂの入射角θに依存した透過率を実現する。ここで、可視域は、例えば４００ナノメートル（ｎｍ）以上７８０ｎｍ以下であり、その下限は、３８０ｎｍ、３９０ｎｍ、４１０ｎｍ、４２０ｎｍ、４３０ｎｍあるいは４４０ｎｍ等とされても良いし、その上限は、８００ｎｍ、７９０ｎｍ、７７０ｎｍ、７６０ｎｍ、７５０ｎｍ、７３０ｎｍ、７００ｎｍ、６８０ｎｍ、６５０ｎｍ、あるいは６４０ｎｍ等とされても良い。
光学薄膜フィルタの所定の特性とは、光学薄膜フィルタへの光Ｂの入射角θが増加すると、分光透過率分布が短波長側へシフトする特性である。例えば、θ＝０（垂直入射）において７００ｎｍを境界として、これより短波長側で１００％に近い透過率を持ち、長波長側で０％に近い透過率を持つショートウェーブパスフィルタにおいて、θが増加すると、７００ｎｍより短い波長を境界として、これより短波長側で１００％に近い透過率を持ち、長波長側で０％に近い透過率を持つように、分光透過率分布が短波長側にシフトする。
かような特性は、従来、波長軸（横軸）方向について注目されてきた。これに対し、本発明では、透過率軸（縦軸）方向の変化に注目し、当該変化を制御することで、入射角θに依存した透過率を可視域において有する光学多層膜４ないしフィルタ１を実現する。
The
The predetermined characteristic of the optical thin film filter is a characteristic that the spectral transmittance distribution shifts to the short wavelength side when the incident angle θ of the light B on the optical thin film filter increases. For example, in a short wave path filter having a transmittance of 700 nm as a boundary at θ = 0 (vertical incident), a transmittance close to 100% on the shorter wavelength side, and a transmittance close to 0% on the long wavelength side, θ is When it increases, the spectral transmittance distribution becomes closer to the short wavelength side so that the wavelength shorter than 700 nm is the boundary, the transmittance is close to 100% on the shorter wavelength side, and the transmittance is close to 0% on the long wavelength side. shift.
Conventionally, such characteristics have attracted attention in the wavelength axis (horizontal axis) direction. On the other hand, in the present invention, attention is paid to the change in the transmittance axis (vertical axis) direction, and by controlling the change, the
かような光学多層膜４の基本設計（基本単位）として、それぞれ垂直入射での光学膜厚がλ０／４である高屈折率層及び低屈折率層の組の繰り返し（交互膜）であるＱＷ（Ｑｕａｒｔｅｒ Ｗａｖｅ）積層膜が挙げられる。（）内の構成のｐ回の繰り返しを（）ｐと表し、垂直入射での光学膜厚がλ０／４である高屈折率層をＨ、垂直入射での光学膜厚がλ０／４である低屈折率層をＬと表すと、ＱＷ積層膜は、（ＨＬ）ｐと表される。
ＱＷ積層膜に対する垂直入射光の分光透過率分布では、設計波長、及び設計波長の３分の１・・・（奇数分の１）の波長において、反射帯（１次反射帯，３次反射帯・・・）が形成される。可視域が反射帯間（例えば１次反射帯と３次反射帯との間）となるように設計波長が選択されれば、垂直入射（入射角θ＝０）の光Ｂに対して、可視域での透過率が高くなると共に、入射角θ＞０（斜入射）の光Ｂに対して、反射帯の短波長側へのシフトにより、反射帯が可視域内に入って、可視域での透過率が低下することとなる。
又、斜入射光に対する分光透過率分布において、垂直入射光の分光透過率分布では現れなかった偶数次の反射帯が現れる。これら偶数次の反射帯の少なくとも何れかが可視域に配置されれば、垂直入射光の透過率に対する斜入射光の透過率の低減が実現される。
更に、ＱＷ積層膜の基本構造（層の並び）を維持しながら、高屈折率層の物理膜厚と低屈折率層の物理膜厚との比率を変化させると、偶数次の反射帯が現れる。これら偶数次の反射帯の少なくとも何れかが斜入射光において可視域に配置されれば、垂直入射光の透過率に対する斜入射光の透過率の低減が実現される。
As such a basic design of the optical multilayer film 4 (base unit), is a set of repetitions of each high refractive index layer optical thickness at normal incidence is at lambda 0/4 and a low refractive index layer (alternating film) A QW (Quarter Wave) laminated film can be mentioned. Repeating structure p times in the () () p and represents a high refractive index layer optical thickness at normal incidence is at lambda 0/4 H, an optical film thickness at normal incidence lambda 0/4 When the low refractive index layer is represented by L, the QW laminated film is represented by (HL) p.
In the spectral transmittance distribution of the vertically incident light with respect to the QW laminated film, the reflection band (first-order reflection band, third-order reflection band) at the design wavelength and one-third of the design wavelength ... ...) Is formed. If the design wavelength is selected so that the visible region is between the reflection bands (for example, between the first-order reflection band and the third-order reflection band), it is visible to light B at vertically incident (incident angle θ = 0). As the transmittance in the region increases, the reflection band enters the visible region due to the shift of the reflection band to the short wavelength side for light B with an incident angle θ> 0 (oblique incident), and in the visible region. The transmittance will decrease.
Further, in the spectral transmittance distribution for obliquely incident light, even-order reflection bands that did not appear in the spectral transmittance distribution of vertically incident light appear. If at least one of these even-order reflection bands is arranged in the visible region, the transmittance of obliquely incident light with respect to the transmittance of vertically incident light can be reduced.
Further, when the ratio of the physical film thickness of the high refractive index layer to the physical film thickness of the low refractive index layer is changed while maintaining the basic structure (arrangement of layers) of the QW laminated film, an even-order reflection band appears. .. If at least one of these even-order reflection bands is arranged in the visible region in the obliquely incident light, the transmittance of the obliquely incident light with respect to the transmittance of the vertically incident light can be reduced.
又、別の光学多層膜４の基本単位として、垂直入射での光学膜厚がλ０／４である中屈折率層Ｍを用いた（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑが挙げられる。ここで、２Ｈは、垂直入射での光学膜厚がλ０／４×２＝λ０／２である高屈折率層である。Ｍの少なくとも何れかは、等価なＨ及びＬで置換されても良い。
（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑに対する垂直入射光の分光透過率分布では、設計波長、及び設計波長の５分の１の波長において、反射帯（１次反射帯，５次反射帯）が形成される。（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑは、３次反射帯が形成されないことから、以下３次非形成積層膜と呼ばれる。可視域が１次反射帯と５次反射帯との間となるように設計波長が選択されれば、垂直入射光に対して、可視域での透過率が高くなると共に、斜入射光に対して、１次反射帯の短波長側へのシフトにより、１次反射帯が可視域内に入って、可視域での透過率が低下することとなる。
Further, as the basic unit of another
(LM2HML) In the spectral transmittance distribution of the vertically incident light with respect to q , a reflection band (first-order reflection band, fifth-order reflection band) is formed at the design wavelength and one-fifth of the design wavelength. (LM2HML) q is hereinafter referred to as a tertiary non-formed laminated film because a tertiary reflection band is not formed. If the design wavelength is selected so that the visible region is between the first-order reflection band and the fifth-order reflection band, the transmittance in the visible region is increased with respect to vertically incident light, and the transmittance is increased with respect to oblique incident light. As a result, the primary reflection band shifts to the short wavelength side, so that the primary reflection band enters the visible region and the transmittance in the visible region decreases.
更に、別の光学多層膜４の基本単位として、カットの境界（分光透過率分布が短波長側から長波長側へ急減する部分）が可視域に隣接した赤外線カットフィルタが挙げられる。
かような赤外線カットフィルタでは、垂直入射光は、可視域において透過する。又、斜入射光は、シフトに基づいてカットの境界が可視域に入ることにより、可視域透過率が低減された状態で透過する。
Further, as another basic unit of the
With such an infrared cut filter, vertically incident light is transmitted in the visible region. Further, the obliquely incident light is transmitted in a state where the visible region transmittance is reduced by entering the boundary of the cut into the visible region based on the shift.
かような本発明のフィルタ１は、好適には、眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板、サンバイザ、覗き見防止フィルタである。
眼鏡レンズの場合、垂直入射を主体とする視認及び外観においては透過率が高く、斜め上方から入射する太陽光等の透過率が抑制されて太陽光等の眩しさが軽減される。垂直入射で透過率が９０％以上程度であれば、サングラスのような着色のない外観を具備しながら、太陽光等の眩しさが軽減された眼鏡レンズが提供される。あるいは、着色（減光膜）と組み合わせることにより、太陽光等の眩しさを比較的に多く減光するサングラスが提供される。又、眼鏡レンズを斜めから見た場合に、度の強さによっては縁の像が並ぶことで牛乳瓶の底のように見える（瓶底像が見える）ことがあるところ、本発明に係る光学多層膜４付きの眼鏡レンズにより、瓶底像が見えにくくなる。
カメラフィルタの場合、例えば太陽等の光源が斜め上前方にある逆光において、正面前方からの光の透過が確保されて撮像への影響が抑制された状態で、斜め上の光源によるフレア及びゴーストの少なくとも一方の発生が防止される。
窓板の場合、正面からの景色等の視認性が確保され、斜め上からの直射日光等の透過が抑制されて太陽光等による眩しさが低減される。
サンバイザの場合、例えば車内のフロントガラスの後側で鉛直に立てると、正面からの光の透過が確保されて正面の視認性が確保されつつ、斜め上の太陽光等の透過が抑制されて太陽光等による眩しさが低減される。
覗き見防止フィルタの場合、正面からの視認性を確保しつつ、周囲からの視認性が抑制される。
Such a
In the case of a spectacle lens, the transmittance is high in terms of visual recognition and appearance mainly due to vertical incidence, and the transmittance of sunlight and the like incident from diagonally above is suppressed, and glare of sunlight and the like is reduced. When the transmittance is about 90% or more in vertical incident, a spectacle lens having a non-colored appearance like sunglasses and reduced glare of sunlight or the like is provided. Alternatively, by combining with coloring (dimming film), sunglasses that dimming a relatively large amount of glare such as sunlight are provided. Further, when the spectacle lens is viewed from an angle, depending on the strength of the degree, the images of the edges may be lined up to look like the bottom of a milk bottle (the bottom image of the bottle can be seen). The spectacle lens with the
In the case of a camera filter, for example, in backlight where a light source such as the sun is diagonally upward and forward, flare and ghost caused by the diagonally upward light source are suppressed in a state where light transmission from the front front is ensured and the influence on imaging is suppressed. At least one occurrence is prevented.
In the case of a window plate, visibility of the scenery from the front is ensured, transmission of direct sunlight or the like from diagonally above is suppressed, and glare due to sunlight or the like is reduced.
In the case of a sun visor, for example, if it stands vertically behind the windshield in the car, the transmission of light from the front is ensured and the visibility of the front is ensured, while the transmission of sunlight diagonally above is suppressed and the sun is suppressed. Glare due to light etc. is reduced.
In the case of a peep prevention filter, visibility from the surroundings is suppressed while ensuring visibility from the front.
以上の通り、本発明のフィルタ１は、可視域における光Ｂの少なくとも一部に係る透過率が、入射角θに応じて減少する誘電体多層膜としての光学多層膜４を有している。よって、従来の立体的なルーバーのように他の物体との接触等により立体構造が毀損されることはなく、より耐久性に優れる入射角θに依存した減光量を呈する減光フィルタ１が提供される。又、減光フィルタ１は、光学多層膜４の積層構造を様々に変更することにより、様々な透過率の変化パターンを具備可能である。
又、フィルタ１は、入射角θが０である場合に、無色透明であるようにすれば、正面視で透明でありながら斜方視で減光されるものとなる。
他方、フィルタ１は、入射角θが０である場合に、着色されているようにすれば、正面視で有色でありつつ、斜方視で色みがそのままであるいは変化しつつ色の濃さが更に濃くなるものとなる。
加えて、フィルタ１が、光吸収膜Ａを有していれば、入射角θが０の場合に減光され、更に入射角θに応じてより減光されるものとなる。
As described above, the
Further, if the
On the other hand, when the incident angle θ is 0, if the
In addition, if the
次に、本発明の実施例が示される。
但し、実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
又、本発明の捉え方により、実施例が本発明の範囲外となる実質的な比較例となったり、比較例が本発明の範囲内である実質的な実施例となったりすることがある。同様に、下記の参考例は本発明の範囲内である実質的な実施例となったり本発明の範囲外となる実質的な比較例となったりする。
Next, examples of the present invention are shown.
However, the examples do not limit the scope of the present invention.
Further, depending on the way of thinking of the present invention, the example may be a substantial comparative example outside the scope of the present invention, or the comparative example may be a substantial example within the scope of the present invention. .. Similarly, the following reference examples may be substantial examples within the scope of the present invention or substantial comparative examples outside the scope of the present invention.
［実施例１：ＱＷ積層膜］
実施例１−１〜１−７は、板状の基材２（基板）の片面にＱＷ積層膜が形成されたものである。基板はＢＫ７製であり、透明であって、基板の屈折率ｎＭは、波長５５０ｎｍの光に対して１．５２である。屈折率は、波長５５０ｎｍの光に対するものであり、以下同様である。
実施例１−１のＱＷ積層膜（ＨＬ）ｐは、図２に示される通り、ｐ＝１０であり、基板：（１５１．１１Ｈ，２３１．２９Ｌ）１０，１５１．１１Ｈ，１１５．６５Ｌ：空気、である。ここで、１５１．１１Ｈは、物理膜厚が１５１．１１ｎｍの高屈折率層であり、２３１．２９Ｌは、物理膜厚が２３１．２９ｎｍの低屈折率層であって、以下同様である。図２において、１層目（横軸の“１”）は、基板に最も近い（基板に接する）層を示し、２層目（横軸の“２”）は、基板側から数えて２番目の層を示し、以下同様である。
実施例１−１のＱＷ積層膜の各高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５層であり、その屈折率ｎＨは、２．２５である。
実施例１−１のＱＷ積層膜の各低屈折率層は、ＳｉＯ２層であり、その屈折率ｎＬは、１．４７である。
実施例１−１のＱＷ積層膜の設計波長λ０は、１３６０ｎｍである。
繰り返し要素が１０回繰り返された（ＨＬ）１０の空気側における、１５１．１１Ｈ，１１５．６５Ｌは、透過帯のリップルをより小さくするように調整するためのものである。
[Example 1: QW laminated film]
In Examples 1-1 to 1-7, a QW laminated film is formed on one side of a plate-shaped base material 2 (substrate). Substrate is made of BK7, a transparent, refractive index n M of the substrate is 1.52 with respect to light with a wavelength of 550 nm. The refractive index is for light having a wavelength of 550 nm, and the same applies hereinafter.
The QW laminated film (HL) p of Example 1-1 is p = 10 as shown in FIG. 2, and the substrate: (151.11H, 231.29L) 10 , 151.11H, 115.65L: air. ,. Here, 151.11H is a high refractive index layer having a physical film thickness of 151.11 nm, and 231.29L is a low refractive index layer having a physical film thickness of 231.29 nm, and so on. In FIG. 2, the first layer (“1” on the horizontal axis) indicates the layer closest to the substrate (contacting the substrate), and the second layer (“2” on the horizontal axis) is the second layer counting from the substrate side. The layers of are shown, and so on.
Each high-refractive index layer of the QW laminated film of Example 1-1 is an Nb 2 O 5 layer, and its refractive index n H is 2.25.
Each low refractive index layer of the QW laminated film of Example 1-1 is a SiO 2 layer, and its refractive index n L is 1.47.
The design wavelength λ 0 of the QW laminated film of Example 1-1 is 1360 nm.
151.11H, 115.65L on the air side of (HL) 10 where the repeating element was repeated 10 times is for adjusting to make the ripple of the transmission band smaller.
実施例１−１に対して垂直に入射する（θ＝０°）光Ｂの可視域及び隣接域における分光透過率分布が、図３において実線で示され、図４において点線で示される。
実施例１−１では、λ０＝１３６０ｎｍを含む波長域（１２００〜１５５０ｎｍ）において、透過率が０あるいは０付近となる１次反射帯が形成される。又、実施例１−１では、λ０／３＝４５３．３ｎｍを含む波長域（４４８〜４５５ｎｍ）において、透過率が０あるいは０付近となる３次反射帯が形成される。更に、実施例１−１では、λ０／５＝２７２ｎｍを含む波長域（２７０〜２７４ｎｍ）において、透過率が０あるいは０付近となる５次反射帯が形成される。１次反射帯、３次反射帯及び５次反射帯の各波長域において、分光透過率分布の極小値が存在する。
The spectral transmittance distribution in the visible region and the adjacent region of the light B perpendicularly incident on the embodiment 1-1 (θ = 0 °) is shown by a solid line in FIG. 3 and a dotted line in FIG.
In Example 1-1, a primary reflection band having a transmittance of 0 or near 0 is formed in a wavelength region (1200 to 1550 nm) including λ 0 = 1360 nm. Further, in Example 1-1, a third-order reflection band having a transmittance of 0 or a vicinity of 0 is formed in a wavelength region (448 to 455 nm) including λ 0/3 = 453.3 nm. Further, in Example 1-1, in a wavelength range including λ 0/5 = 272nm (270~274nm ), 5 -order reflection band transmittance is near 0 or 0 is formed. There is a minimum value of the spectral transmittance distribution in each wavelength region of the first-order reflection band, the third-order reflection band, and the fifth-order reflection band.
実施例１−１に対してθ＝４５°で入射する光Ｂの可視域及び隣接域における分光透過率分布が、図３において破線で示される。
４５°斜入射光の分光透過率分布は、垂直入射光の分光透過率分布に対して短波長側にシフトしている。
又、４５°斜入射光の分光透過率分布は、垂直入射光の分光透過率分布では見られない２次反射帯（λ０／２＝６８０ｎｍからシフトした６２０ｎｍ付近，透過率７０％程度）を有しており、２次反射帯の分、実施例１−１における４５°斜入射光の可視域での透過率は、垂直入射光の可視域での透過率より低くなる。
尚、実施例１−１において、入射角θの増加に対して、各反射帯の短波長側へのシフト量が単調増加し、又各反射帯における透過率が単調減少する。
The spectral transmittance distribution in the visible region and the adjacent region of the light B incident at θ = 45 ° with respect to Example 1-1 is shown by a broken line in FIG.
The spectral transmittance distribution of the 45 ° oblique incident light is shifted to the short wavelength side with respect to the spectral transmittance distribution of the vertically incident light.
Further, 45 ° oblique spectral transmittance of the incident light distribution, secondary reflection band not found in the spectral transmittance distribution of the vertical incident light (lambda 0/2 = shifted around 620nm from 680 nm, the transmittance of about 70%) Due to the secondary reflection band, the transmittance of the 45 ° obliquely incident light in the visible region in Example 1-1 is lower than the transmittance of the vertically incident light in the visible region.
In Example 1-1, the amount of shift of each reflection band to the short wavelength side increases monotonically with the increase of the incident angle θ, and the transmittance in each reflection band decreases monotonically.
実施例１−１の構造につき各層の光学膜厚を除いて維持し、各高屈折率層の光学膜厚（ｎＨｄＨ）を１．０５倍すると共に、各低屈折率層の光学膜厚（ｎＬｄＬ）を０．９５倍して、即ち各高屈折率層の光学膜厚と各低屈折率層の光学膜厚との比率を変えて（ｎＨｄＨ：ｎＬｄＬ＝１．０５：０．９５）、実施例１−２が作製された。
実施例１−２の垂直入射光の可視域及び隣接域における分光透過率分布が、図４において破線で示される。実施例１−２の場合、垂直入射光においても、２次反射帯及び４次反射帯が形成されている。実施例１−２に係る斜入射光の分光透過率分布では、２次反射帯及び４次反射帯における透過率の値が下がるところ、２次反射帯は短波長側へのシフト後においても可視域内に有るため、実施例１−２の斜入射光の可視域透過率は、垂直入射光の可視域透過率に対して減少する。
The structure of Example 1-1 is maintained except for the optical film thickness of each layer, the optical film thickness (n H d H ) of each high refractive index layer is multiplied by 1.05, and the optical film of each low refractive index layer is multiplied by 1.05. The thickness (n L d L ) is multiplied by 0.95, that is, the ratio of the optical film thickness of each high refractive index layer to the optical film thickness of each low refractive index layer is changed (n H d H : n L d). L = 1.05: 0.95), Example 1-2 was prepared.
The spectral transmittance distribution of the vertically incident light of Example 1-2 in the visible region and the adjacent region is shown by a broken line in FIG. In the case of Example 1-2, the second-order reflection band and the fourth-order reflection band are formed even in the vertically incident light. In the spectral transmittance distribution of obliquely incident light according to Example 1-2, the value of the transmittance in the second-order reflection band and the fourth-order reflection band decreases, and the second-order reflection band is visible even after shifting to the short wavelength side. Since it is in the region, the visible region transmittance of the obliquely incident light of Example 1-2 is smaller than the visible region transmittance of the vertically incident light.
更に、実施例１−１の構造につき層の数を除いて維持し、層数を異ならせたものとして、実施例１−３（全層数１２）、及び実施例１−４（全層数４２）が作製された。
実施例１−３は、基板：（１５１．１１Ｈ，２３１．２９Ｌ）５，１５１．１１Ｈ，１１５．６５Ｌ：空気、である。
実施例１−４は、基板：（１５１．１１Ｈ，２３１．２９Ｌ）２０，１５１．１１Ｈ，１１５．６５Ｌ：空気、である。
実施例１−１，１−３，１−４に係る４５°斜入射光の可視域及び隣接域における分光透過率分布が、それぞれ図５に示される。層数が多いほど、斜入射時に形成される２次反射帯の透過率が低くなる。
Further, the structure of Example 1-1 was maintained except for the number of layers, and the number of layers was different, in Examples 1-3 (total number of layers 12) and Example 1-4 (total number of layers). 42) was produced.
Examples 1-3 are substrates: (151.11H, 231.29L) 5 , 151.11H, 115.65L: air.
Examples 1-4 are substrates: (151.11H, 231.29L) 20 , 151.11H, 115.65L: air.
The spectral transmittance distributions of the 45 ° oblique incident light according to Examples 1-1, 1-3, and 1-4 in the visible region and the adjacent region are shown in FIG. 5, respectively. The larger the number of layers, the lower the transmittance of the secondary reflection band formed at the time of oblique incidence.
実施例１−１と設計波長λ０を除き同様の構造を有するＱＷ積層膜を、３種（λ０＝１２２０，１０４０，９００）、それぞれ基板の片面に形成することで、実施例１−５，１−６，１−７が形成された。
実施例１−５（λ０＝１２２０）は、基板：（１３５．１９Ｈ，２０７．９Ｌ）１０，１３５．１９Ｈ，１０４Ｌ：空気、である。
実施例１−６（λ０＝１０４０）は、基板：（１１４．６７Ｈ，１７７．０３Ｌ）１０，１１４．６７Ｈ，８８Ｌ：空気、である。
実施例１−７（λ０＝９００）は、基板：（９８．６３Ｈ，１５３．０１Ｌ）１０，９８．６３Ｈ，７６Ｌ：空気、である。
実施例１−１，１−５〜１−７の垂直入射光，４５°斜入射光の可視域及び隣接域における分光透過率分布が、図６，図７において示される。
実施例１−１，１−５〜１−７では、４５°斜入射光において、垂直入射光では見られない２次反射帯（極小値７０％程度）が、それぞれ可視域内である、６２０ｎｍ（６８０ｎｍからのシフト），５５５ｎｍ（６１０ｎｍからのシフト），４７０ｎｍ（５２０ｎｍからのシフト），４１５ｎｍ（４５０ｎｍからのシフト）を中心に生じる。よって、実施例１−１，１−５〜１−７では、斜入射光の可視域透過率は、垂直入射光の可視域透過率に対して、主に２次反射帯の分だけ減少する。
Example 1-5 by forming three types (λ 0 = 1220, 1040, 900) of QW laminated films having the same structure as that of Example 1-1 except for the design wavelength λ 0 on one side of the substrate. , 1-6, 1-7 were formed.
Example 1-5 (λ 0 = 1220) is a substrate: (135.19H, 207.9L) 10 , 135.19H, 104L: air.
Example 1-6 (λ 0 = 1040) is a substrate: (114.67H, 177.03L) 10 , 114.67H, 88L: air.
Example 1-7 (λ 0 = 900) is a substrate: (98.63H, 153.01L) 10 , 98.63H, 76L: air.
The spectral transmittance distributions of the vertically incident light and the 45 ° oblique incident light in the visible region and the adjacent region of Examples 1-1, 1-5 to 1-7 are shown in FIGS. 6 and 7.
In Examples 1-1, 1-5 to 1-7, in the 45 ° oblique incident light, the secondary reflection band (minimum value of about 70%), which is not seen in the vertically incident light, is within the visible region, respectively, at 620 nm ( It occurs mainly at 680 nm (shift from 680 nm), 555 nm (shift from 610 nm), 470 nm (shift from 520 nm), and 415 nm (shift from 450 nm). Therefore, in Examples 1-1, 1-5 to 1-7, the visible region transmittance of the obliquely incident light is reduced mainly by the amount of the secondary reflection band with respect to the visible region transmittance of the vertically incident light. ..
［実施例２：３次非形成積層膜］
実施例２−１〜２−２は、実施例１の基板と同様な基板の片面に、３次非形成積層膜が形成されたものである。
実施例２−１の３次非形成積層膜における各高屈折率層の材質及び各低屈折率層の材質は、何れも実施例１と同じである。実施例２−１の３次非形成積層膜における設計波長λ０は、１３６０ｎｍである。
実施例２−１は、３次非形成積層膜（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑ型の設計で、ｑ＝１０であり、図８に示される通り、基板：（８６．７５Ｌ，１５．２９Ｈ，２３．４４Ｌ，１１１．７１Ｈ，２３．４４Ｌ，１５．２９Ｈ，８６．７５Ｌ）１０：空気、である。３次非形成積層膜の繰り返し要素（ＬＭ２ＨＭＬ）における基板から２〜３層目及び４層目の一部と、基板から４層目の一部及び５〜６層目とは、中屈折率層と光学的に同等になっている。又、Ｌが同じ材質である場合、互いに隣接する要素では、空気側のＬと、次の要素の基板側のＬとが物理的に１つの層となり、実施例２−１の３次非形成積層膜は全６１層となる（図８参照）。
図９に点線で示されるように、実施例２−１において、４５３．３ｎｍ（シフト前）に係る３次反射帯は形成されない。よって、１次反射帯と５次反射帯との間が比較的に広くなり、反射帯の間に可視域が配置され易く、垂直入射光の可視域透過率が比較的に高くされ易い。又、実施例２−１において、斜入射光で偶数次の反射帯が発生し、２次反射帯が可視域内（６５０ｎｍ前後）で発生するので、斜入射光の可視域透過率は、垂直入射光の可視域透過率に対して、主に２次反射帯の分だけ減少する。
[Example 2: Third-order non-formed laminated film]
In Examples 2-1 to 2-2, a tertiary non-formed laminated film is formed on one side of a substrate similar to that of the substrate of Example 1.
The material of each high refractive index layer and the material of each low refractive index layer in the tertiary non-formed laminated film of Example 2-1 are the same as those of Example 1. The design wavelength λ 0 in the tertiary non-formed laminated film of Example 2-1 is 1360 nm.
Example 2-1 is a tertiary non-formed laminated film (LM2HML) q- type design with q = 10, and as shown in FIG. 8, substrates: (86.75L, 15.29H, 23.44L, 111.71H, 23.44L, 15.29H, 86.75L) 10 : Air. A part of the 2nd to 3rd layers and the 4th layer from the substrate and a part of the 4th layer and the 5th to 6th layers from the substrate in the repeating element (LM2HML) of the tertiary non-formed laminated film are medium refractive index layers. Is optically equivalent to. Further, when L is made of the same material, L on the air side and L on the substrate side of the next element physically form one layer in the elements adjacent to each other, and the tertiary non-formation of Example 2-1 is formed. The laminated film has a total of 61 layers (see FIG. 8).
As shown by the dotted line in FIG. 9, in Example 2-1 the tertiary reflection band having a diameter of 453.3 nm (before the shift) is not formed. Therefore, the space between the first-order reflection band and the fifth-order reflection band is relatively wide, the visible region is likely to be arranged between the reflection bands, and the visible region transmittance of the vertically incident light is likely to be relatively high. Further, in Example 2-1 because the obliquely incident light generates an even-order reflection band and the secondary reflection band is generated in the visible region (around 650 nm), the visible region transmittance of the obliquely incident light is vertically incident. It decreases mainly by the amount of the secondary reflection band with respect to the visible transmittance of light.
実施例２−２は、実施例１−２と同様に、実施例２−１の構造につき各層の光学膜厚を除いて維持し、各高屈折率層の光学膜厚を１．０５倍すると共に、各低屈折率層の光学膜厚を０．９５倍して作製された。
実施例２−２の垂直入射光の可視域及び隣接域における分光透過率分布が、図９において破線で示される。実施例２−２の場合も、実施例１−２と同様に、垂直入射光において２次反射帯及び４次反射帯が形成されている。実施例２−２に係る斜入射光の分光透過率分布では、２次反射帯及び４次反射帯における透過率の値が下がるところ、２次反射帯は短波長側へのシフト後においても可視域内に有るため、実施例２−２の斜入射光の可視域透過率は、垂直入射光の可視域透過率に対して減少する。
In Example 2-2, similarly to Example 1-2, the structure of Example 2-1 is maintained except for the optical film thickness of each layer, and the optical film thickness of each high refractive index layer is multiplied by 1.05. At the same time, it was produced by multiplying the optical film thickness of each low refractive index layer by 0.95.
The spectral transmittance distribution of the vertically incident light of Example 2-2 in the visible region and the adjacent region is shown by a broken line in FIG. In the case of the second embodiment as well, the second-order reflection band and the fourth-order reflection band are formed in the vertically incident light as in the case of the first and second embodiments. In the spectral transmittance distribution of obliquely incident light according to Example 2-2, where the transmittance values in the second-order reflection band and the fourth-order reflection band decrease, the second-order reflection band is visible even after shifting to the short wavelength side. Since it is in the region, the visible region transmittance of the obliquely incident light of Example 2-2 is smaller than the visible region transmittance of the vertically incident light.
［実施例３：ＱＷ積層膜及び３次非形成積層膜の組合せ］
実施例３−１〜３−２は、実施例１の基板と同様な基板の片面に、実施例２と同様の材質の３次非形成積層膜が形成されたものである。
実施例３−３〜３−４は、実施例１の基板と同様な基板の片面に、実施例１と同様の材質のＱＷ積層膜が形成されたものである。
実施例３−５は、実施例３−１〜３−４を、実施例１の基板と同様な１つの基板の片面に、順次積層して直列につなげたものである。実施例３−６は、実施例３−５における各層の膜厚を微調整して膜厚最適化を行った状態で、実施例３−５と同様に形成される。実施例３−７は、実施例３−６の構造を参考に層数を減らした設計が採用され、実施例３−６と同様に形成される。
[Example 3: Combination of QW laminated film and tertiary non-formed laminated film]
In Examples 3-1 to 3-2, a tertiary non-formed laminated film made of the same material as in Example 2 is formed on one side of a substrate similar to that in Example 1.
In Examples 3-3 to 3-4, a QW laminated film made of the same material as that of Example 1 is formed on one side of a substrate similar to that of the substrate of Example 1.
In Example 3-5, Examples 3-1 to 3-4 are sequentially laminated on one side of one substrate similar to the substrate of Example 1 and connected in series. Example 3-6 is formed in the same manner as in Example 3-5 in a state where the film thickness of each layer in Example 3-5 is finely adjusted to optimize the film thickness. In Example 3-7, a design in which the number of layers is reduced with reference to the structure of Example 3-6 is adopted, and the same as in Example 3-6 is formed.
実施例３−１は、３次非形成積層膜（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑ型の設計で、λ０＝１３６０でｑ＝１２であり、基板：（８６．７５Ｌ，１５．２９Ｈ，２３．４４Ｌ，１１１．７１Ｈ，２３．４４Ｌ，１５．２９Ｈ，８６．７５Ｌ）１２：空気、である。実施例３−１の３次非形成積層膜は、実施例２−１に対して、繰り返し数ｑが相違するだけである。
実施例３−２は、３次非形成積層膜（ＬＭ２ＨＭＬ）ｑ型の設計で、λ０＝１２２０でｑ＝１０であり、基板：（７５．８Ｌ，１３．５４Ｈ，２０．４８Ｌ，９８．９４Ｈ，２０．４８Ｌ，１３．５４Ｈ，７５．８Ｌ）１０：空気、である。
Example 3-1 is a tertiary non-formed laminated film (LM2HML) q- type design, with λ 0 = 1360 and q = 12, substrates: (86.75L, 15.29H, 23.44L, 111. 71H, 23.44L, 15.29H, 86.75L) 12 : Air. The tertiary non-formed laminated film of Example 3-1 differs only in the number of repetitions q from that of Example 2-1.
Example 3-2 is a tertiary non-formed laminated film (LM2HML) q- type design, with λ 0 = 1220 and q = 10, substrates: (75.8L, 13.54H, 20.48L, 98. 94H, 20.48L, 13.54H, 75.8L) 10 : Air.
実施例３−３のＱＷ積層膜（ＨＬ）ｐは、λ０＝１０４０でｐ＝５であり、基板：（１１４．６７Ｈ，１７３．０３Ｌ）５，１１４．６７Ｈ，８８Ｌ：空気、である。
実施例３−４のＱＷ積層膜（ＨＬ）ｐは、λ０＝９００でｐ＝４であり、基板：（９８．６３Ｈ，１５３．０１Ｌ）４，９８．６３Ｈ，７６Ｌ：空気、である。
The QW laminated film (HL) p of Example 3-3 is λ 0 = 1040, p = 5, and the substrate: (114.67H, 173.03L) 5 , 114.67H, 88L: air.
The QW laminated film (HL) p of Example 3-4 is λ 0 = 900, p = 4, and the substrate: (98.63H, 153.01L) 4 , 98.63H, 76L: air.
実施例３−５は、図１０に示される通り、基板側から順に実施例３−１〜３−４の構造を配置したものであって、全１５３層であり、全物理膜厚は１０．２μｍ（マイクロメートル）である。 In Example 3-5, as shown in FIG. 10, the structures of Examples 3-1 to 3-4 are arranged in order from the substrate side, and the total number of layers is 153, and the total physical film thickness is 10. It is 2 μm (micrometer).
実施例３−６は、図１１に示される通りであって、全１５３層であり、全物理膜厚は１０．１μｍである。実施例３−６の構造は、次の通りである。
基板：５Ｌ，１３．５Ｈ，２９．４３Ｌ，１１４．２４Ｈ，２８．０２Ｌ，１４．５１Ｈ，１８４．２Ｌ，１４．９４Ｈ，２６．５６Ｌ，９９．４２Ｈ，１６．７８Ｌ，１４．２１Ｈ，１７２．５７Ｌ，１９．６４Ｈ，２０．５５Ｌ，１０３．１４Ｈ，１７．７９Ｌ，１８．３４Ｈ，１７４．２８Ｌ，１８．６４Ｈ，１７．４５Ｌ，１００．０６Ｈ，２２．２５Ｌ，１９．６９Ｈ，１９１．０６Ｌ，２０．７６Ｈ，２０．２６Ｌ，８６．４２Ｈ，１９．８９Ｌ，２１．２３Ｈ，１９０．０１Ｌ，２０．１１Ｈ，２２．９１Ｌ，８４．６５Ｈ，１５．０８Ｌ，２３．３１Ｈ，１８４．３３Ｌ，２３．８１Ｈ，２０．１７Ｌ，８２．７５Ｈ，１５．９５Ｌ，２５．７１Ｈ，１８０．２４Ｌ，２２．５８Ｈ，１４．０７Ｌ，９１．６４Ｈ，２３．２１Ｌ，２１．０７Ｈ，１８５．８１Ｌ，１６．７６Ｈ，２０．０８Ｌ，１１０．４Ｈ，２３．３８Ｌ，１６．８３Ｈ，１６８．１８Ｌ，１７．１４Ｈ，２１．４４Ｌ，２１４．１６Ｈ，１９．１５Ｌ，１５．０６Ｈ，１５１．６２Ｌ，１５．１９Ｈ，１５．６５Ｌ，９７．３Ｈ，２５．６３Ｌ，１６．９６Ｈ，１６５．１８Ｌ，１２．３１Ｈ，２４．９４Ｌ，８７．０８Ｈ，１５．４１Ｌ，１７．１１Ｈ，１７７．１５Ｌ，１８．３３Ｈ，２４．８Ｌ，９７．５６Ｈ，８．９Ｌ，１８．０１Ｈ，１６４．３７Ｌ，２１．４５Ｈ，８．５２Ｌ，９２．３８Ｈ，２４．５Ｌ，１９．８Ｈ，１７７．３４Ｌ，２１．１４Ｈ，１４．６１Ｌ，８１．４９Ｈ，２５．９２Ｌ，１５．７５Ｈ，１７０．１５Ｌ，１５．５４Ｈ，２５．３Ｌ，８５．４３Ｈ，１５．６２Ｌ，１６．８１Ｈ，１３７．３２Ｌ，１１．８５Ｈ，２８．２１Ｌ，１１６．１１Ｈ，１７．９３Ｌ，１２．７７Ｈ，１３４．６２Ｌ，６．２１Ｈ，２５．８Ｌ，１１１．７Ｈ，２５．６Ｌ，８．７３Ｈ，１４１．１５Ｌ，８．９５Ｈ，１９．４３Ｌ，１０４．４６Ｈ，３２．５９Ｌ，３．４６Ｈ，１３１．０９Ｌ，１８．０８Ｈ，１１．２５Ｌ，９５．８８Ｈ，２３．８９Ｌ，１１．４６Ｈ，１１４．３９Ｌ，６．３５Ｈ，３２．３３Ｌ，１０４．９８Ｈ，２３．３６Ｌ，９．１７Ｈ，１４４．８３Ｌ，１１．９４Ｈ，２４．６６Ｌ，１１３．４３Ｈ，５４．５８Ｌ，２．５５Ｈ，１１０．１３Ｌ，１１１．６Ｈ，１７７．１６Ｌ，１１３．１８Ｈ，１７３．５４Ｌ，１１０．１８Ｈ，１７２．５８Ｌ，１０６．８４Ｈ，１６７．７１Ｌ，１０７．６Ｈ，１６８．７４Ｌ，１０５．４４Ｈ，１６１．６２Ｌ，９６．９２Ｈ，１５４．３２Ｌ，９６．３４Ｈ，１５０．６Ｌ，９４．４７Ｈ，１５４．６５Ｌ，９４．７９Ｈ，７７．７２Ｌ：空気
Example 3-6 is as shown in FIG. 11, with a total of 153 layers and a total physical film thickness of 10.1 μm. The structure of Example 3-6 is as follows.
Substrate: 5L, 13.5H, 29.43L, 114.24H, 28.02L, 14.51H, 184.2L, 14.94H, 26.56L, 99.42H, 16.78L, 14.21H, 172. 57L, 19.64H, 20.55L, 103.14H, 17.79L, 18.34H, 174.28L, 18.64H, 17.45L, 100.06H, 22.25L, 19.69H, 191.06L, 20.76H, 20.26L, 86.42H, 19.89L, 21.23H, 190.01L, 20.11H, 22.91L, 84.65H, 15.08L, 23.31H, 184.33L, 23. 81H, 20.17L, 82.75H, 15.95L, 25.71H, 180.24L, 22.58H, 14.07L, 91.64H, 23.21L, 21.07H, 185.81L, 16.76H, 20.08L, 110.4H, 23.38L, 16.83H, 168.18L, 17.14H, 21.44L, 214.16H, 19.15L, 15.06H, 151.62L, 15.19H, 15. 65L, 97.3H, 25.63L, 16.96H, 165.18L, 12.31H, 24.94L, 87.08H, 15.41L, 17.11H, 177.15L, 18.33H, 24.8L, 97.56H, 8.9L, 18.01H, 164.37L, 21.45H, 8.52L, 92.38H, 24.5L, 19.8H, 177.34L, 21.14H, 14.61L, 81. 49H, 25.92L, 15.75H, 170.15L, 15.54H, 25.3L, 85.43H, 15.62L, 16.81H, 137.32L, 11.85H, 28.21L, 116.11H, 17.93L, 12.77H, 134.62L, 6.21H, 25.8L, 111.7H, 25.6L, 8.73H, 141.15L, 8.95H, 19.43L, 104.46H, 32. 59L, 3.46H, 131.09L, 18.08H, 11.25L, 95.88H, 23.89L, 11.46H, 114.39L, 6.35H, 32.33L, 104.98H, 23.36L, 9.17H, 144.83L, 11.94H, 24.66L, 113.43H, 54.58L, 2.55H, 110.13L, 111.6H, 177.16L, 113.18H, 173.54L, 110. 18H, 172.58L, 106.84H, 167. 71L, 107.6H, 168.74L, 105.44H, 161.62L, 96.92H, 154.32L, 96.34H, 150.6L, 94.47H, 154.65L, 94.79H, 77.72L: air
実施例３−７は、図１２に示される通りであって、全５３層であり、全物理膜厚は５．３μｍである。実施例３−７の構造は、次の通りである。
基板：５．１１Ｌ，１４．５５Ｈ，３０．６６Ｌ，１２２．２１Ｈ，３１．３Ｌ，１２．４１Ｈ，１５３．０７Ｌ，１５．４６Ｈ，２８．２４Ｌ，１１５．１１Ｈ，１９．７３Ｌ，１２．３Ｈ，１７３．１３Ｌ，１９．８９Ｈ，１９．７４Ｌ，１０１．３Ｈ，１６．９９Ｌ，１９．２３Ｈ，１６５．２７Ｌ，１４．９４Ｈ，１７．１９Ｌ，１０１．７４Ｈ，１７．３１Ｌ，１２．９５Ｈ，１５９．８３Ｌ，２２．８１Ｈ，１４．９１Ｌ，８３．２１Ｈ，２０．８４Ｌ，２２．６Ｈ，１６７．１１Ｌ，９．８２Ｈ，２２．１５Ｌ，７９．３Ｈ，８．８３Ｌ，２２．８５Ｈ，１３２．５８Ｌ，５．１１Ｈ，３５．７８Ｌ，１２０．７２Ｈ，７１．０９Ｌ，５．１１Ｈ，７８．７２Ｌ，１１１Ｈ，１７２．６８Ｌ，１０５．８１Ｈ，１５８．２６Ｌ，９３．８９Ｈ，１４８．６８Ｌ，９０．０２Ｈ，１５０．４４Ｌ，９１．０４Ｈ，７５．９３Ｌ：空気
Example 3-7 is as shown in FIG. 12, with a total of 53 layers and a total physical film thickness of 5.3 μm. The structure of Example 3-7 is as follows.
Substrate: 5.11L, 14.55H, 30.66L, 122.21H, 31.3L, 12.41H, 153.07L, 15.46H, 28.24L, 115.11H, 19.73L, 12.3H, 173.13L, 19.89H, 19.74L, 101.3H, 16.99L, 19.23H, 165.27L, 14.94H, 17.19L, 101.74H, 17.31L, 12.95H, 159. 83L, 22.81H, 14.91L, 83.21H, 20.84L, 22.6H, 167.11L, 9.82H, 22.15L, 79.3H, 8.83L, 22.85H, 132.58L, 5.11H, 35.78L, 120.72H, 71.09L, 5.11H, 78.72L, 111H, 172.68L, 105.81H, 158.26L, 93.89H, 148.68L, 90.02H, 150.44L, 91.04H, 75.93L: Air
実施例３−１〜３−４では、図１３に示される通り、垂直入射光の透過率は可視域全域で９０％以上で平坦になっており、垂直入射光はほぼそのまま透過されて、実施例３−１〜３−４は、垂直入射光に対し無色透明となる。分光透過率分布が可視域全域で９０％以上で平坦であれば、減光の度合が十分に小さく、又可視域における減光の偏りが十分に小さいため、実施例３−１〜３−４は垂直入射光に対し無色透明となる。
又、実施例３−１〜３−４では、図１４（θ＝４５°）に示される通り、それぞれ可視域で２次反射帯が生成され、２次反射帯が斜入射光の可視域透過率の垂直入射光の可視域透過率に対する低下に寄与している。
In Examples 3-1 to 3-4, as shown in FIG. 13, the transmittance of the vertically incident light is flat at 90% or more in the entire visible region, and the vertically incident light is transmitted almost as it is. Examples 3-1 to 3-4 are colorless and transparent with respect to vertically incident light. When the spectral transmittance distribution is flat at 90% or more in the entire visible region, the degree of dimming is sufficiently small and the bias of dimming in the visible region is sufficiently small. Becomes colorless and transparent with respect to vertically incident light.
Further, in Examples 3-1 to 3-4, as shown in FIG. 14 (θ = 45 °), a secondary reflection band is generated in each visible region, and the secondary reflection band transmits obliquely incident light in the visible region. It contributes to the reduction of the rate of vertically incident light with respect to the visible transmittance.
実施例３−５では、垂直入射光（実線）及びθ＝４５°の斜入射光（破線）について図１５に示されるように、斜入射光において可視域の全体にわたり透過率が減少している。
実施例３−６では、垂直入射光及びθ＝１０°，３０°，４５°，５５°の各斜入射光について図１６に示されるように、垂直入射光において可視域の全体にわたり透過率が平坦になっており、斜入射光において可視域の全体にわたり透過率が平坦に減少している。即ち、実施例３−６では、垂直入射光において可視域で均一な透過がなされ、斜入射光において可視域で均一な減光がなされる。ここでの均一性（平坦性）は、層数が有限である現実に鑑みれば、可視域における透過率の最大値と最小値との差が１５％以内であれば充足している。ここでの均一性は、好ましくは、当該差が１２％以内、１０％以内、あるいは８％以内である。以下、均一性につき、特に断りがない限り同様である。又、実施例３−６では、θが大きくなる程、可視域での透過率の平均値が小さくなっている。
実施例３−７では、垂直入射光及びθ＝１０°，３０°，４５°，５５°の各斜入射光について図１７に示されるように、可視域での透過率の平均値の大きさが異なるものの、実施例３−６と同様に平坦な透光及び入射角θに依存する平坦な減光が実現される。
In Example 3-5, as shown in FIG. 15, the transmittance of the vertically incident light (solid line) and the obliquely incident light at θ = 45 ° (broken line) is reduced over the entire visible region in the obliquely incident light. ..
In Example 3-6, the transmittance of the vertically incident light over the entire visible region is increased in the vertically incident light as shown in FIG. 16 for the vertically incident light and each oblique incident light of θ = 10 °, 30 °, 45 °, and 55 °. It is flat, and the transmittance is flatly reduced over the entire visible region in obliquely incident light. That is, in Example 3-6, the vertically incident light is uniformly transmitted in the visible region, and the obliquely incident light is uniformly dimmed in the visible region. Considering the reality that the number of layers is finite, the uniformity (flatness) here is satisfied if the difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance in the visible region is within 15%. The uniformity here is preferably such that the difference is within 12%, within 10%, or within 8%. Hereinafter, the uniformity is the same unless otherwise specified. Further, in Example 3-6, the larger the θ, the smaller the average value of the transmittance in the visible region.
In Example 3-7, as shown in FIG. 17, the magnitude of the average value of the transmittance in the visible region for the vertically incident light and the obliquely incident light of θ = 10 °, 30 °, 45 °, and 55 °. However, as in Example 3-6, flat light transmittance and flat dimming depending on the incident angle θ are realized.
［実施例４：ＱＷ積層膜及び赤外線カットフィルタの組合せ］
実施例４−１は、実施例１−３と同様であり、基板：（１１１．７９Ｈ，１８３．３２Ｌ）６，１１１．７９Ｈ，９１．５Ｌ：空気、である。
実施例４−２は、カットの境界が可視域に隣接した赤外線カットフィルタが、実施例１と同様の基板の片面に形成されたものであり、基板：（２１．５４Ｈ，２１４．３２Ｌ）６，２１．５４Ｈ，１０７．２５Ｌ：空気、である。
実施例４−３は、図１８に示される通り、基板側から順に実施例４−１相当の構造及び４−２の構造を配置したものであって、全２８層である。実施例４−１相当の構造は、（１１１．７９Ｈ，１８３．３２Ｌ）７であり、最も空気側の層（１４層目）の物理膜厚のみが実施例４−１と相違している。
[Example 4: Combination of QW laminated film and infrared cut filter]
Example 4-1 is the same as that of Example 1-3, and the substrate is (111.79H, 183.32L) 6 , 111.79H, 91.5L: air.
In Example 4-2, an infrared cut filter having a cut boundary adjacent to the visible region was formed on one side of a substrate similar to that in Example 1, and the substrate: (21.54H, 214.32L) 6 , 21.54H, 107.25L: Air.
As shown in FIG. 18, Example 4-3 has a structure corresponding to Example 4-1 and a structure of 4-2 arranged in order from the substrate side, and has a total of 28 layers. The structure corresponding to Example 4-1 is (111.79H, 183.32L) 7 , and only the physical film thickness of the most air-side layer (14th layer) is different from that of Example 4-1.
実施例４−４は、実施例４−３における各層の膜厚を微調整して膜厚最適化を行った状態で、実施例４−３と同様に形成される。実施例４−４は、図１９に示される通りであって、全２８層である。実施例４−４の構造は、次の通りである。
基板：１０５．９３Ｈ，１６０．０１Ｌ，９５．５７Ｈ，１５３．０９Ｌ，９８．７８Ｈ，１６４．２１Ｌ，１０８．３Ｈ，１７８．２４Ｌ，１１８．９３Ｈ，１７８．１６Ｌ，１２３．１２Ｈ，１８３．９６Ｌ，１１４．５９Ｈ，２０６．２６Ｌ，１３．８Ｈ，２２１．２２Ｌ，９．６８Ｈ，２１６．３２Ｌ，７．２６Ｈ，２３１．８Ｌ，５Ｈ，３００Ｌ，５Ｈ，７８．７１Ｌ，１２．１７Ｈ，２２８．６Ｌ，１６．６６Ｈ，１１１．２６Ｌ：空気
Example 4-4 is formed in the same manner as in Example 4-3 in a state where the film thickness of each layer in Example 4-3 is finely adjusted to optimize the film thickness. Example 4-4 is as shown in FIG. 19 and has a total of 28 layers. The structure of Example 4-4 is as follows.
Substrate: 105.93H, 160.01L, 95.57H, 153.09L, 98.78H, 164.21L, 108.3H, 178.24L, 118.93H, 178.16L, 123.12H, 183.96L, 114.59H, 206.26L, 13.8H, 221.22L, 9.68H, 216.32L, 7.26H, 231.8L, 5H, 300L, 5H, 78.71L, 12.17H, 228.6L, 16.66H, 111.26L: Air
実施例４−１〜４−２では、図２０に示される通り、垂直入射光の透過率は可視域全域で８５％以上で平坦になっており、垂直入射光は可視域においてほぼそのまま透過されて、実施例４−１〜４−２は、垂直入射光に対し無色透明となる。
又、実施例４−１では、図２１（θ＝４５°）に示される通り、可視域で２次反射帯が生成され、２次反射帯が斜入射光の可視域透過率の垂直入射光の可視域透過率に対する低下に寄与している。尚、図２１における点線は、実施例４−２の垂直入射光に係る分光透過率分布（図２０）を参考のため再掲したものである。
更に、実施例４−２では、図２１に示される通り、カットの境界が可視域に入ってきており、カットの境界より長波長側におけるカット領域が、斜入射光の可視域透過率の低下に寄与している。
In Examples 4-1 to 4-2, as shown in FIG. 20, the transmittance of the vertically incident light is flat at 85% or more in the entire visible region, and the vertically incident light is transmitted almost as it is in the visible region. Therefore, Examples 4-1 to 4-2 are colorless and transparent with respect to vertically incident light.
Further, in Example 4-1 as shown in FIG. 21 (θ = 45 °), a secondary reflection band is generated in the visible region, and the secondary reflection band is a vertically incident light having a visible region transmittance of oblique incident light. Contributes to the decrease in visible transmittance. The dotted line in FIG. 21 is a reprint of the spectral transmittance distribution (FIG. 20) related to the vertically incident light of Example 4-2 for reference.
Further, in Example 4-2, as shown in FIG. 21, the cut boundary is in the visible region, and the cut region on the longer wavelength side than the cut boundary has a decrease in the visible region transmittance of obliquely incident light. Contributes to.
実施例４−３では、垂直入射光（実線）及びθ＝４５°の斜入射光（破線）について図２２に示されるように、斜入射光では、可視域の中波長帯（実施例４−１に係る２次反射帯）、及び長波長帯（実施例４−２に係るカットの境界の長波長側）において、透過率が減少している。
実施例４−４では、垂直入射光及びθ＝１０°，３０°，４５°，５５°の各斜入射光について図２３に示されるように、垂直入射光において可視域の全体にわたり透過率が平坦になっており、斜入射光において可視域の全体にわたり透過率が平坦に減少している。即ち、実施例４−４では、垂直入射光において可視域で均一な透過がなされ、斜入射光において可視域で均一な減光がなされる。又、実施例４−４では、θが大きくなる程、可視域での透過率の平均値が小さくなっている。
In Example 4-3, as shown in FIG. 22 for the vertically incident light (solid line) and the obliquely incident light at θ = 45 ° (broken line), in the obliquely incident light, the medium wavelength band in the visible region (Example 4-3). The transmittance is reduced in the secondary reflection band according to No. 1) and the long wavelength band (the long wavelength side of the cut boundary according to Example 4-2).
In Example 4-4, as shown in FIG. 23 for the vertically incident light and the obliquely incident light of θ = 10 °, 30 °, 45 °, and 55 °, the transmittance of the vertically incident light is increased over the entire visible region. It is flat, and the transmittance is flatly reduced over the entire visible region in obliquely incident light. That is, in Example 4-4, the vertically incident light is uniformly transmitted in the visible region, and the obliquely incident light is uniformly dimmed in the visible region. Further, in Example 4-4, the larger the θ, the smaller the average value of the transmittance in the visible region.
［実施例５：光吸収膜の挿入］
実施例５は、図２４に示される通り、実施例４−４と同様の構造における積層膜の基板側から１層目に、光吸収膜（Ａ）であるＮｉ層を挿入したものであって、次の通りである。実施例５の積層膜における基板側から２層目及び３層目は、Ｎｉ層と実施例４−４と同様の構造とをつなぐ層である。尚、光吸収膜Ａは、Ｎｉ単層ではなく、他の材質に係る単層膜であっても良いし、複数の層を有する積層膜であっても良い。又、光吸収膜Ａは、積層膜の内部、あるいは積層膜の空気側に形成されても良い。
基板：６．３Ａ，１１．８７Ｈ，３４．３３Ｌ，１１４．３６Ｈ，１５５．３７Ｌ，９３．４３Ｈ，１４４．３Ｌ，９７．１７Ｈ，１５０．３３Ｌ，９６．０６Ｈ，１６３Ｌ，９９．８２Ｈ，１７４．１２Ｌ，１０５Ｈ，１６１．７Ｌ，１０９Ｈ，１６９．８５Ｌ，１１８．７２Ｈ，１６６．７５Ｌ，１１６．８９Ｈ，１７６．５Ｌ，１１３．３８Ｈ，１９７．３８Ｌ，１７．２３Ｈ，２０５．９１Ｌ，１３．４３Ｈ，２０１．７４Ｌ，１０．９３Ｈ，２０３．３１Ｌ，１０．１１Ｈ，１９６．７３Ｌ，１４．１８Ｈ，１２．４７Ｌ，９３．２７Ｈ，８６．４５Ｌ：空気
[Example 5: Insertion of light absorption film]
In Example 5, as shown in FIG. 24, the Ni layer, which is the light absorption film (A), is inserted into the first layer from the substrate side of the laminated film having the same structure as in Example 4-4. , Is as follows. The second and third layers from the substrate side in the laminated film of Example 5 are layers connecting the Ni layer and the same structure as in Example 4-4. The light absorption film A may be a single-layer film made of another material instead of a Ni single layer, or may be a laminated film having a plurality of layers. Further, the light absorption film A may be formed inside the laminated film or on the air side of the laminated film.
Substrate: 6.3A, 11.87H, 34.33L, 114.36H, 155.37L, 93.43H, 144.3L, 97.17H, 150.33L, 96.06H, 163L, 99.82H, 174. 12L, 105H, 161.7L, 109H, 169.85L, 118.72H, 166.75L, 116.89H, 176.5L, 113.38H, 197.38L, 17.23H, 205.91L, 13.43H, 201.74L, 10.93H, 203.31L, 10.11H, 196.73L, 14.18H, 12.47L, 93.27H, 86.45L: Air
実施例５では、垂直入射光及びθ＝１０°，３０°，４５°，５５°の各斜入射光について図２５に示されるように、垂直入射光において可視域の全体にわたり透過率が既に７０％程度で平坦に減少されており、斜入射光において可視域の全体にわたり透過率が平坦に更に減少されている。
即ち、実施例５では、垂直入射光においてＮｉ層により可視域で均一な減光がなされ、斜入射光において可視域で更に均一な減光がなされる。又、実施例５では、θが大きくなる程、可視域での透過率の平均値が小さくなっている。
In Example 5, as shown in FIG. 25 for the vertically incident light and the obliquely incident light of θ = 10 °, 30 °, 45 °, and 55 °, the transmittance of the vertically incident light is already 70 over the entire visible region. It is reduced flatly at about%, and the transmittance is further reduced flatly over the entire visible region in obliquely incident light.
That is, in the fifth embodiment, the vertical incident light is uniformly dimmed in the visible region by the Ni layer, and the obliquely incident light is further uniformly dimmed in the visible region. Further, in the fifth embodiment, the larger the θ, the smaller the average value of the transmittance in the visible region.
図２６に、各種の光吸収層（単層の光吸収膜Ａ）の可視域及び隣接域における分光透過率分布が示される。
不飽和金属酸化物であるＮｉＯｘ，ＴｉＯｙの薄膜は、可視域全体にわたり一様に光Ｂを吸収し、一様な減光に寄与する。
金属であるＣｒの薄膜は、可視域のうち５２０ｎｍ付近を中心に光Ｂをより吸収し、５２０ｎｍ付近を中心とした減光に寄与する。尚、５２０ｎｍ付近には、太陽光スペクトルのピークが存在する。
半導体であるＧｅ，Ｓｉの薄膜は、可視域における短波長側の光Ｂをより強く吸収し、短波長側を中心とした減光に寄与する。
これらの特徴を有する光吸収層が目的に合わせて選択され、積層膜に導入されあるいは積層膜と組み合わせられれば、垂直入射光が減光され、斜入射光が入射角θに応じ更に減光されるフィルタ１が、目的に合致した状態で形成される。
FIG. 26 shows the spectral transmittance distributions of various light absorption layers (single layer light absorption film A) in the visible region and the adjacent region.
The thin film of NiO x , TiO y , which is an unsaturated metal oxide, absorbs light B uniformly over the entire visible region and contributes to uniform dimming.
The thin film of Cr, which is a metal, absorbs light B more around 520 nm in the visible region and contributes to dimming around 520 nm. A peak of the sunlight spectrum exists in the vicinity of 520 nm.
The thin films of Ge and Si, which are semiconductors, absorb light B on the short wavelength side in the visible region more strongly and contribute to dimming mainly on the short wavelength side.
When a light absorption layer having these characteristics is selected according to the purpose and introduced into the laminated film or combined with the laminated film, the vertically incident light is dimmed and the obliquely incident light is further dimmed according to the incident angle θ. The
［実施例６：可視域の中波長帯を中心とした入射角依存の減光］
実施例６は、太陽光の可視域におけるスペクトル強度ｆ１（λ）（波長λの関数、以下適宜（λ）が省略される）に基づいて設計された積層膜を、実施例１と同様の基板の片面に形成したものである。
より詳しくは、実施例６の積層膜は、ｆ２＝１／ｆ１に基づいて設計された。ｆ１は、ＪＩＳ Ｃ ８０９４−３（基準太陽光）における可視域及び隣接域（３７０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下）での５ｎｍ毎のデータにつき、５次のフィッティングを行ったフィッティング関数とされた。そして、ｆ２の最小値が８０％となるようにｆ２を定数倍したｆ３（但し１００％を超えた値は１００とする）に対し、入射角θ＝４１．８°における斜入射光の分光透過率分布が可及的に近づくように、積層膜の構造が設計された。即ち、４１．８°斜入射光の分光透過率分布が、基準太陽光の分光放射照度の逆数に比例するｆ３に沿うように、ｆ３をターゲットとして設計された。θ＝４１．８°は、エアマス（Ａｉｒ Ｍａｓｓ，ＡＭ）が１．５となる角度である。ＡＭ１．５は、垂直入射に対して大気を通過する距離が１．５倍であることを表し、標準測定に良く用いられる。尚、ｆ１のフィッティング時の次数は、５から増加あるいは減少されても良い。
実施例６の積層膜の設計に際しては、上述の各実施例の設計が適宜参酌された。
[Example 6: Dimming depending on the incident angle centered on the middle wavelength band in the visible range]
In Example 6, a laminated film designed based on the spectral intensity f 1 (λ) in the visible region of sunlight (a function of wavelength λ, hereinafter (λ) is appropriately omitted) is the same as in Example 1. It is formed on one side of the substrate.
More specifically, the laminated film of Example 6 was designed based on f 2 = 1 / f 1. f 1 was a fitting function in which the fifth-order fitting was performed on the data for each 5 nm in the visible region and the adjacent region (370 nm or more and 780 nm or less) in JIS C 8094-3 (reference sunlight). Then, f 3 was constant multiple of f 2 so that the minimum value of f 2 is 80% (value exceeding However 100% and 100) to, oblique incident light at an incident angle theta = 41.8 ° The structure of the laminated film was designed so that the spectral transmittance distribution of the above was as close as possible. That is, the spectral transmittance distribution of 41.8 ° obliquely incident light, so that along the f 3 which is proportional to the inverse of the spectral irradiance of the standard sunlight, designed to f 3 as a target. θ = 41.8 ° is an angle at which the air mass (Air Mass, AM) is 1.5. AM1.5 means that the distance through the atmosphere is 1.5 times that of vertical incidence, and is often used for standard measurements. Incidentally, the order of the time of fitting of f 1 may be increased or decreased from 5.
In designing the laminated film of Example 6, the design of each of the above-mentioned Examples was appropriately taken into consideration.
かような設計により、実施例６の積層膜は、図２７及び次に示される通り、全４７層のものとなった。実施例６の積層膜の物理膜厚は、４．１μｍである。
基板：１０４．２５Ｌ，９．９７Ｈ，３６．１８Ｌ，１１１．２１Ｈ，１６８．９８Ｌ，１０５．８１Ｈ，１７３．４Ｌ，４４．８９Ｈ，１６．９３Ｌ，３８．７６Ｈ，１８０．４８Ｌ，１１１．７６Ｈ，１７０．２２Ｌ，１１１．３９Ｈ，１７３．９Ｌ，２７．０７Ｈ，９．６３Ｌ，７３．３６Ｈ，２２．４Ｌ，１７．３２Ｈ，１４５．８２Ｌ，７．４４Ｈ，３０．５４Ｌ，１１２．３８Ｈ，１６６．２５Ｌ，１１３．３６Ｈ，３７．３３Ｌ，１０．０１Ｈ，１３６．８９Ｌ，１４．５８Ｈ，３０．４４Ｌ，１１３．６７Ｈ，１６６．６７Ｌ，１２１．３２Ｈ，１９．５７Ｌ，１２３．３２Ｈ，１９３．９Ｌ，１８．８３Ｈ，２１４．４４Ｌ，１６．２７Ｈ，２１５．８９Ｌ，１６．１２Ｈ，２００．０８Ｌ，１８．２Ｈ，７．８５Ｌ，８８．５１Ｈ，８７．２４Ｌ：空気
With such a design, the laminated film of Example 6 has a total of 47 layers as shown in FIG. 27 and the following. The physical film thickness of the laminated film of Example 6 is 4.1 μm.
Substrate: 104.25L, 9.97H, 36.18L, 111.21H, 168.98L, 105.81H, 173.4L, 44.89H, 16.93L, 38.76H, 180.48L, 111.76H, 170.22L, 111.39H, 173.9L, 27.07H, 9.63L, 73.36H, 22.4L, 17.32H, 145.82L, 7.44H, 30.54L, 112.38H, 166. 25L, 113.36H, 37.33L, 10.01H, 136.89L, 14.58H, 30.44L, 113.67H, 166.67L, 121.32H, 19.57L, 123.32H, 193.9L, 18.83H, 214.44L, 16.27H, 215.89L, 16.12H, 200.08L, 18.2H, 7.85L, 88.51H, 87.24L: Air
実施例６では、図２８に示されるように、垂直入射光及びθ＝１０°の斜入射光について、可視域で均一な減光がなされている。又、θ＝４１，８°の斜入射光について、ターゲット関数ｆ３（二点鎖線）に沿うような分布において、即ち太陽光の放射強度が強い５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長域を中心として減少した分布において、更なる減光がなされている。 In Example 6, as shown in FIG. 28, the vertically incident light and the obliquely incident light at θ = 10 ° are uniformly dimmed in the visible region. Further, the oblique incident light θ = 41,8 °, was reduced in distribution along the target function f 3 (two-dot chain line), i.e. around the wavelength range of the radiation intensity is high 500nm or 550nm or less sunlight Further dimming is done in the distribution.
［実施例７：斜入射時における青系反射色の具備］
実施例７は、斜入射の際、青色域で他の波長域より透過率が減少することで、垂直入射の際と異なり、青色に着色された反射光を呈するように設計された積層膜を、実施例１と同様の基板の片面に形成したものである。尚、垂直入射の際に反射光が既に青色であり、斜入射の際に反射光の青色がより濃くなるようにされても良い。又、垂直入射時の反射光は、無色透明以外とされても良く、斜入射時の反射光は、青色以外の他の色とされても良い。垂直入射時の反射光の色、斜入射時の反射光の色とが、同系であっても良いし、互いに異なっていても良い。
実施例７の積層膜の設計に際しては、上述の各実施例の設計が適宜参酌された。特に、ＱＷ積層膜構造の２次反射帯が青色域に生じるように設計された。
[Example 7: Provision of bluish reflection color at the time of oblique incidence]
In Example 7, a laminated film designed to exhibit blue-colored reflected light, unlike the case of vertical incident, is provided because the transmittance in the blue region is lower than that of other wavelength regions during oblique incidence. , It is formed on one side of the same substrate as in Example 1. It should be noted that the reflected light may already be blue at the time of vertical incident, and the blue color of the reflected light may be darker at the time of oblique incident. Further, the reflected light at the time of vertical incident may be other than colorless and transparent, and the reflected light at the time of oblique incident may be a color other than blue. The color of the reflected light at the time of vertical incident and the color of the reflected light at the time of oblique incident may be similar or different from each other.
In designing the laminated film of Example 7, the design of each of the above-mentioned Examples was appropriately taken into consideration. In particular, the secondary reflection band of the QW laminated film structure was designed to occur in the blue region.
かような設計により、実施例７の積層膜は、図２９及び次に示される通り、全２０層のものとなった。実施例７の積層膜の物理膜厚は、２．５μｍである。
基板：９７．９４Ｈ，１５８．４７Ｌ，９３．９３Ｈ，１５０．７９Ｌ，９３．９３Ｈ，１５４．０５Ｌ，９３．９３Ｈ，１５３．５８Ｌ，９３．９３Ｈ，１５６．５５Ｌ，９６．２２Ｈ，１６６．１９Ｌ，１０２．１Ｈ，１７１．６１Ｌ，１０４．３２Ｈ，１６９．８４Ｌ，１０１．６１Ｈ，１６３．７４Ｌ，９５．６５Ｈ，７９．６５Ｌ：空気
With such a design, the laminated film of Example 7 has a total of 20 layers as shown in FIG. 29 and the following. The physical film thickness of the laminated film of Example 7 is 2.5 μm.
Substrate: 97.94H, 158.47L, 93.93H, 150.79L, 93.93H, 154.05L, 93.93H, 153.58L, 93.93H, 156.55L, 96.22H, 166.19L, 102.1H, 171.61L, 104.32H, 169.84L, 101.61H, 163.74L, 95.65H, 79.65L: Air
実施例７では、図３０に示されるように、垂直入射光及びθ＝１０°の斜入射光について、可視域で均一な減光がなされており、反射光が無色透明を呈するものとされている。いる。又、θ＝３０°，４５°，５５°の斜入射光について、青色域で透過率が他の波長域の透過率より更に減少し、反射光が青色を呈するものとされている。そして、実施例７では、θが大きくなる程、青色域での透過率の平均値が小さくなっており、反射色における青色の濃さが濃くなっている。即ち、実施例７は、入射角θに依存した青色の濃さに係る反射色を有する。
実施例７では、正面から見ると透明で、斜めから見ると青系反射色を呈するフィルタ１が提供される。上述の通り、正面から見た場合の色と斜めから見た色とは、様々に変更可能である。
In Example 7, as shown in FIG. 30, the vertically incident light and the obliquely incident light at θ = 10 ° are uniformly dimmed in the visible region, and the reflected light is colorless and transparent. There is. There is. Further, for obliquely incident light at θ = 30 °, 45 °, 55 °, the transmittance in the blue region is further reduced than the transmittance in other wavelength regions, and the reflected light is considered to be blue. Then, in Example 7, as θ becomes larger, the average value of the transmittance in the blue region becomes smaller, and the darkness of blue in the reflected color becomes darker. That is, Example 7 has a reflected color related to the darkness of blue depending on the incident angle θ.
In the seventh embodiment, the
１・・フィルタ、２・・基材、４・・光学多層膜（誘電体多層膜）、Ａ・・光吸収膜、θ・・入射角。 1 ... Filter, 2 ... Base material, 4 ... Optical multilayer film (dielectric multilayer film), A ... Light absorption film, θ ... Incident angle.
Claims (8)
ことを特徴とするフィルタ。 A filter characterized by having a dielectric multilayer film in which the transmittance of at least a part of light in the visible region decreases with an angle of incidence.
ことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ。 The filter according to claim 1, wherein the filter is colorless and transparent when the incident angle is 0.
ことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ。 The filter according to claim 1, wherein the filter is colored when the incident angle is 0.
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３の何れかに記載のフィルタ。 The filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the filter has a light absorbing film.
ことを特徴とする眼鏡レンズ。 An spectacle lens having the filter according to any one of claims 1 to 4.
ことを特徴とするカメラフィルタ。 A camera filter having the filter according to any one of claims 1 to 4.
ことを特徴とする窓板。 A window plate having the filter according to any one of claims 1 to 4.
ことを特徴とするサンバイザ。 A sun visor having the filter according to any one of claims 1 to 4.
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