JP2017181927A

JP2017181927A - Infrared-cut filter

Info

Publication number: JP2017181927A
Application number: JP2016071656A
Authority: JP
Inventors: 藤本　英俊; Hidetoshi Fujimoto; 英俊藤本
Original assignee: Daishinku Corp
Current assignee: Daishinku Corp
Priority date: 2016-03-31
Filing date: 2016-03-31
Publication date: 2017-10-05

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared-cut filter capable of reducing ripples appearing in a transmission band in the visible ray region even for light entering from oblique directions.SOLUTION: An infrared-cut filter 10 includes at least an upper multilayer film 31 provided on the uppermost side, the upper multilayer film 31 comprising alternately laminated high refractive index films 31H and low refractive index films 31L having a refractive index smaller than that of the high refractive index films 31H. An average optical thickness of the low refractive index films 31L is greater than an average optical thickness of the high refractive index films 31H, and a thickness ratio of the average optical thickness of the low refractive index films 31L to the average optical thickness of the high refractive index films 31H is in a range of 1.03 to 1.10.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、近赤外光領域の光を遮断する赤外線カットフィルタに関する。 The present invention relates to an infrared cut filter that blocks light in a near infrared light region.

可視光領域に光の透過帯を有するとともに、近赤外光領域の光を遮断する赤外線カットフィルタとして、人の目の感度特性に近い透過率特性を有するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１には、４００ｎｍ〜５５５ｎｍの波長では、なだらかに漸増するとともに、５５５ｎｍ〜７００ｎｍの波長では、なだらかに漸減する透過率特性が記載されている。また、７００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長の近赤外光領域の光を反射させることが記載されている。 As an infrared cut filter having a light transmission band in the visible light region and blocking light in the near infrared light region, one having a transmittance characteristic close to the sensitivity characteristic of the human eye has been proposed (for example, a patent) Reference 1). Patent Document 1 describes a transmittance characteristic that gradually increases at a wavelength of 400 nm to 555 nm and gradually decreases at a wavelength of 555 nm to 700 nm. It also describes that light in the near-infrared region with a wavelength of 700 nm to 1100 nm is reflected.

特開２００７−８６２８９号公報JP 2007-86289 A

ところで、赤外線カットフィルタに対し、光が垂直方向以外の斜め方向から入射した場合には、可視光領域の透過帯にリップル（透過率の微小な変動）が発生するという問題点がある。そして、このようなリップルに起因して、撮像デバイスで撮像される画像にゴーストやフレアが発生することが懸念される。 By the way, when light is incident on the infrared cut filter from an oblique direction other than the vertical direction, there is a problem that a ripple (a minute fluctuation in transmittance) occurs in the transmission band in the visible light region. There is a concern that ghosts and flares may occur in an image captured by the imaging device due to such ripples.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、光が斜め方向から入射した場合であっても、可視光領域の透過帯に発生するリップルを低減することが可能な赤外線カットフィルタを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such points, and provides an infrared cut filter capable of reducing ripples generated in the transmission band of the visible light region even when light is incident from an oblique direction. The purpose is to do.

本発明は、上述の課題を解決するための手段を以下のように構成している。すなわち、本発明は、可視光領域に光の透過帯を有するとともに、近赤外光領域の光を遮断する赤外線カットフィルタであって、可視光領域の前記透過帯を含む領域の光を透過する上側多層膜を少なくとも備え、前記上側多層膜は、当該赤外線カットフィルタの最も上層側に設けられており、前記上側多層膜は、複数の高屈折率膜と、前記高屈折率膜よりも小さい屈折率を有する複数の低屈折率膜とが、交互に積層された構成になっており、前記低屈折率膜の光学膜厚の平均値が、前記高屈折率膜の光学膜厚の平均値よりも大きく、前記低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、前記高屈折率膜の光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３〜１．１０になっていることを特徴としている。 In the present invention, means for solving the above-described problems are configured as follows. That is, the present invention is an infrared cut filter that has a light transmission band in the visible light region and blocks light in the near infrared light region, and transmits light in a region including the transmission band in the visible light region. The upper multilayer film is provided at least on the uppermost layer side of the infrared cut filter, and the upper multilayer film includes a plurality of high refractive index films and a refractive index smaller than that of the high refractive index film. A plurality of low refractive index films having a refractive index are alternately stacked, and the average optical film thickness of the low refractive index film is greater than the average optical film thickness of the high refractive index film. The film thickness ratio between the average optical film thickness of the low refractive index film and the average optical film thickness of the high refractive index film is 1.03 to 1.10. It is said.

上記構成によれば、上側多層膜の低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値とを異ならせ、両者のバランスを調整することによって、赤外線カットフィルタに対して光が斜め方向から入射した場合であっても、赤外線カットフィルタの可視光領域の透過帯に発生するリップルを低減することができ、赤外線カットフィルタの入射角依存性を低減することができる。これにより、赤外線カットフィルタを用いた撮像デバイスにおいて、撮像される画像にゴーストやフレアが発生することを抑制できる。 According to the above configuration, the average value of the optical film thickness of the low-refractive index film of the upper multilayer film is different from the average value of the optical film thickness of the high-refractive index film, and the balance between the two is adjusted, thereby cutting the infrared rays. Even when light is incident on the filter from an oblique direction, the ripple generated in the transmission band in the visible light region of the infrared cut filter can be reduced, and the incident angle dependency of the infrared cut filter can be reduced. Can do. Thereby, in an imaging device using an infrared cut filter, it is possible to suppress the occurrence of ghost and flare in the captured image.

上記構成の赤外線カットフィルタにおいて、前記上側多層膜よりも下側には、下側多層膜が設けられており、前記下側多層膜は、可視光領域の前記透過帯を含む領域の光を透過する第１下側多層膜と、可視光領域の前記透過帯を含む領域の光を透過し、且つ、近赤外光領域の短波長端から長波長側の領域の光を遮断する第２下側多層膜とを含む構成になっており、前記上側多層膜は、可視光領域の前記透過帯及び前記第２下側多層膜の近赤外光領域の遮断帯を含む領域の光を透過する構成になっていることが好ましい。あるいは、上記構成の赤外線カットフィルタにおいて、前記上側多層膜よりも下側には、下側多層膜が設けられており、前記下側多層膜は、可視光領域の前記透過帯を含む領域の光を透過し、且つ、近赤外光領域の短波長端から長波長側の領域の光を遮断する構成になっており、前記上側多層膜は、可視光領域の前記透過帯を含む領域の光を透過し、且つ、前記下側多層膜が光を遮断する領域の長波長端から、長波長側の領域の光を遮断する構成になっていることが好ましい。 In the infrared cut filter having the above configuration, a lower multilayer film is provided below the upper multilayer film, and the lower multilayer film transmits light in a region including the transmission band in the visible light region. A first lower multilayer film that transmits light in a region including the transmission band in the visible light region, and a second lower film that blocks light in a region on the long wavelength side from the short wavelength end in the near infrared light region. The upper multilayer film transmits light in a region including the transmission band in the visible light region and the cutoff band in the near infrared light region of the second lower multilayer film. It is preferable to have a configuration. Alternatively, in the infrared cut filter having the above-described configuration, a lower multilayer film is provided below the upper multilayer film, and the lower multilayer film includes light in a region including the transmission band in a visible light region. The upper multilayer film is configured to block light in a region including the transmission band in the visible light region. It is preferable that the lower multilayer film is configured to block light in the long wavelength region from the long wavelength end of the region where light is blocked.

このように、上側多層膜の下側に下側多層膜が設けられた赤外線カットフィルタにおいても、上側多層膜の低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値とを異ならせ、両者のバランスを調整することによって、赤外線カットフィルタに対して光が斜め方向から入射した場合であっても、赤外線カットフィルタの可視光領域の透過帯に発生するリップルを低減することができ、赤外線カットフィルタの入射角依存性を低減することができる。 Thus, even in the infrared cut filter in which the lower multilayer film is provided below the upper multilayer film, the average optical film thickness of the low refractive index film of the upper multilayer film and the optical film thickness of the high refractive index film The ripple generated in the transmission band in the visible light region of the infrared cut filter even when light is incident on the infrared cut filter from an oblique direction by adjusting the balance between the two and the average value And the incident angle dependence of the infrared cut filter can be reduced.

上記構成の赤外線カットフィルタにおいて、前記膜厚比が、１．０３〜１．０７になっていることが好ましい。 In the infrared cut filter having the above configuration, it is preferable that the film thickness ratio is 1.03 to 1.07.

上記構成によれば、赤外線カットフィルタを用いた撮像デバイスにおいて、撮像される画像にゴーストやフレアが発生することを効果的に抑制できる。 According to the said structure, it can suppress effectively that a ghost and flare generate | occur | produce in the image imaged in the imaging device using an infrared cut filter.

本発明によれば、光が斜め方向から入射した場合であっても、可視光領域の透過帯に発生するリップルを低減することが可能な赤外線カットフィルタを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a case where light injects from the diagonal direction, the infrared cut filter which can reduce the ripple which generate | occur | produces in the permeation | transmission band of a visible region can be provided.

本発明に係る赤外線カットフィルタを用いた撮像デバイスの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the imaging device using the infrared cut filter which concerns on this invention. 本発明に係る赤外線カットフィルタの概略構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically schematic structure of the infrared cut filter which concerns on this invention. 図２の赤外線カットフィルタのフィルタ特性の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the filter characteristic of the infrared cut filter of FIG. 図２の赤外線カットフィルタの各層の構成の一例を示す表である。It is a table | surface which shows an example of a structure of each layer of the infrared cut filter of FIG. 図２の赤外線カットフィルタにおいて、光の入射角が１５°のときのフィルタ特性の一部を示す図である。In the infrared cut filter of FIG. 2, it is a figure which shows a part of filter characteristic when the incident angle of light is 15 degrees. 図２の赤外線カットフィルタにおいて、光の入射角が３０°のときのフィルタ特性の一部を示す図である。In the infrared cut filter of FIG. 2, it is a figure which shows a part of filter characteristic when the incident angle of light is 30 degrees. 図２の赤外線カットフィルタにおいて、光の入射角が４５°のときのフィルタ特性の一部を示す図である。In the infrared cut filter of FIG. 2, it is a figure which shows a part of filter characteristic when the incident angle of light is 45 degrees. 図２の赤外線カットフィルタにおいて、上側多層膜の膜厚比を変化させたときの可視光領域の透過帯における透過率の最小値を示す図である。In the infrared cut filter of FIG. 2, it is a figure which shows the minimum value of the transmittance | permeability in the transmission band of a visible region when the film thickness ratio of an upper side multilayer film is changed. 本発明の変形例に係る赤外線カットフィルタの概略構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically schematic structure of the infrared cut filter which concerns on the modification of this invention. 図９の赤外線カットフィルタの各層の構成の一例を示す表である。It is a table | surface which shows an example of a structure of each layer of the infrared cut filter of FIG. 図９の赤外線カットフィルタの上側多層膜のフィルタ特性の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the filter characteristic of the upper side multilayer film of the infrared cut filter of FIG. 図９の赤外線カットフィルタの下側多層膜のフィルタ特性の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the filter characteristic of the lower multilayer film of the infrared cut filter of FIG.

以下、本発明に係る赤外線カットフィルタの実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本発明において、可視光領域とは、光の波長が約４００ｎｍ〜約７００ｎｍの領域を言い、また、近赤外光領域とは、光の波長が約７００ｎｍ〜約１０００ｎｍまでの領域を言う。 Hereinafter, embodiments of an infrared cut filter according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the present invention, the visible light region means a region where the wavelength of light is about 400 nm to about 700 nm, and the near infrared light region means a region where the wavelength of light is about 700 nm to about 1000 nm. .

図１は、赤外線カットフィルタ１０を用いた撮像デバイスの概略構成を示す図である。図２は、赤外線カットフィルタ１０の概略構成を模式的に示す図である。図３は、赤外線カットフィルタ１０のフィルタ特性の一例を示す図であって、赤外線カットフィルタ１０に対し光を垂直入射させたときのフィルタ特性を示す。 FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an imaging device using an infrared cut filter 10. FIG. 2 is a diagram schematically showing a schematic configuration of the infrared cut filter 10. FIG. 3 is a diagram showing an example of the filter characteristics of the infrared cut filter 10, and shows the filter characteristics when light is vertically incident on the infrared cut filter 10.

図１に示すように、撮像デバイスにおいて、赤外線カットフィルタ１０は、レンズ８０によって集光された光について、可視光領域の一部の領域の波長の光を透過させ、近赤外光領域の波長の光を遮断（遮光）させ、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子９０に光を入射させる光学フィルタである。赤外線カットフィルタ１０は、図３に示すようなフィルタ特性（透過率波形）を示す光学フィルタであって、図２に示すように、可視光領域の一部の領域の光を透過し、近赤外光領域の光を反射する赤外線カットコート３０が、透光性基板２０上に形成された構成になっている。なお、赤外線カットフィルタ１０は、近赤外光領域の光を遮断するものであれば、可視光領域の一部の領域のみに光の透過帯を有するものであってもよいし、可視光領域の略全域にわたる光の透過帯を有するものであってもよい。 As shown in FIG. 1, in the imaging device, the infrared cut filter 10 transmits light having a wavelength in a partial region of the visible light region with respect to the light collected by the lens 80, and the wavelength in the near infrared light region. Is an optical filter that blocks (blocks) the light and causes the light to enter the image sensor 90 such as a CCD or CMOS. The infrared cut filter 10 is an optical filter having filter characteristics (transmittance waveform) as shown in FIG. 3, and transmits light in a part of the visible light region as shown in FIG. An infrared cut coat 30 that reflects light in the outside light region is formed on the translucent substrate 20. The infrared cut filter 10 may have a light transmission band only in a part of the visible light region as long as it blocks light in the near infrared light region, or may be in the visible light region. It may have a light transmission band over substantially the entire area.

透光性基板２０は、本実施形態では水晶板である。なお、透光性基板２０は水晶板に限られるものではなく、光を透過可能な基板であれば、例えばガラス板であってもよい。また、単板の水晶板、例えば複屈折板であってもよく、複数枚からなる複屈折板であってもよい。また、水晶板とガラス板を組み合わせてもよい。 The translucent substrate 20 is a quartz plate in this embodiment. The translucent substrate 20 is not limited to a quartz plate, and may be, for example, a glass plate as long as it can transmit light. Further, it may be a single crystal plate, for example, a birefringent plate, or a birefringent plate composed of a plurality of sheets. Moreover, you may combine a crystal plate and a glass plate.

赤外線カットコート３０は、赤外線カットフィルタ１０の最も上層側（最も透光性基板２０から遠い側）に設けられる上側多層膜３１と、上側多層膜３１の下側（透光性基板２０に近い側）に設けられる下側多層膜３２とを備えている。下側多層膜３２は、上側多層膜３１の下側に設けられる第１下側多層膜３３と、第１下側多層膜３３の下側に設けられる第２下側多層膜３４とを備えている。言い換えれば、透光性基板２０側から順に、第２下側多層膜３４と、第１下側多層膜３３と、上側多層膜３１とが形成されている。なお、下側多層膜３２については、透光性基板２０側から順に、第１下側多層膜３３と、第２下側多層膜３４とが形成されていてもよい。 The infrared cut coat 30 includes an upper multilayer film 31 provided on the uppermost layer side (the side farthest from the translucent substrate 20) of the infrared cut filter 10 and a lower side (side closer to the translucent substrate 20) of the upper multilayer film 31. ) Provided on the lower multilayer film 32. The lower multilayer film 32 includes a first lower multilayer film 33 provided below the upper multilayer film 31 and a second lower multilayer film 34 provided below the first lower multilayer film 33. Yes. In other words, the second lower multilayer film 34, the first lower multilayer film 33, and the upper multilayer film 31 are formed in order from the translucent substrate 20 side. In addition, about the lower multilayer film 32, the 1st lower multilayer film 33 and the 2nd lower multilayer film 34 may be formed in order from the translucent substrate 20 side.

赤外線カットコート３０の上側多層膜３１は、高屈折率膜３１ＨであるＴｉＯ₂と低屈折率膜３１ＬであるＳｉＯ₂とが交互に複数積層されている。下側多層膜３２（透光性基板２０）側から数えて奇数番目の層が高屈折率膜３１Ｈであり、偶数番目の層が低屈折率膜３１Ｌである。なお、高屈折率膜３１Ｈと低屈折率膜３１Ｌの積層順はこの例に限らず、下側多層膜３２側から数えて奇数番目の層が低屈折率膜３１Ｌであり、偶数番目の層が高屈折率膜３１Ｈであってもよい。上側多層膜３１は、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯及び第１下側多層膜３３の近赤外光領域の遮断帯を含む領域の光を透過する構成になっている。 In the upper multilayer film 31 of the infrared cut coat 30, a plurality of TiO ₂ that is a high refractive index film 31H and SiO ₂ that is a low refractive index film 31L are alternately stacked. The odd-numbered layers counted from the lower multilayer film 32 (translucent substrate 20) side are high-refractive index films 31H, and the even-numbered layers are low-refractive index films 31L. The order in which the high refractive index film 31H and the low refractive index film 31L are stacked is not limited to this example, and the odd-numbered layers counted from the lower multilayer film 32 side are the low-refractive index films 31L, and the even-numbered layers are The high refractive index film 31H may be used. The upper multilayer film 31 is configured to transmit light in a region including a transmission band in the visible light region of the infrared cut filter 10 and a cutoff band in the near infrared light region of the first lower multilayer film 33.

赤外線カットコート３０の第１下側多層膜３３は、高屈折率膜３３ＨであるＴｉＯ₂と低屈折率膜３３ＬであるＳｉＯ₂とが交互に複数積層されている。第２下側多層膜３４（透光性基板２０）側から数えて奇数番目の層が高屈折率膜３３Ｈであり、偶数番目の層が低屈折率膜３３Ｌである。なお、高屈折率膜３３Ｈと低屈折率膜３３Ｌの積層順はこの例に限らず、第２下側多層膜３４側から数えて奇数番目の層が低屈折率膜３３Ｌであり、偶数番目の層が高屈折率膜３３Ｈであってもよい。第１下側多層膜３３は、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯を含む領域の光を透過し、且つ、近赤外光領域の短波長端（７００ｎｍ）から長波長側の領域の光を遮断する構成になっている。 In the first lower multilayer film 33 of the infrared cut coat 30, a plurality of TiO ₂ that is the high refractive index film 33H and SiO ₂ that is the low refractive index film 33L are alternately stacked. The odd-numbered layers counted from the second lower multilayer film 34 (translucent substrate 20) side are high refractive index films 33H, and the even-numbered layers are low refractive index films 33L. The order in which the high refractive index film 33H and the low refractive index film 33L are stacked is not limited to this example, and the odd-numbered layers counted from the second lower multilayer film 34 side are the low-refractive index films 33L. The layer may be a high refractive index film 33H. The first lower multilayer film 33 transmits light in a region including the transmission band of the visible light region of the infrared cut filter 10 and is in a region on the long wavelength side from the short wavelength end (700 nm) of the near infrared light region. It is configured to block light.

赤外線カットコート３０の第２下側多層膜３４は、高屈折率膜３４ＨであるＴｉＯ₂と低屈折率膜３４ＬであるＳｉＯ₂とが交互に複数積層されている。透光性基板２０側から数えて奇数番目の層が高屈折率膜３４Ｈであり、偶数番目の層が低屈折率膜３４Ｌである。なお、高屈折率膜３４Ｈと低屈折率膜３４Ｌの積層順はこの例に限らず、透光性基板２０側から数えて奇数番目の層が低屈折率膜３４Ｌであり、偶数番目の層が高屈折率膜３４Ｈであってもよい。第２下側多層膜３４は、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯を含む領域の光を透過する構成になっている。 In the second lower multilayer film 34 of the infrared cut coat 30, a plurality of TiO ₂ that is a high refractive index film 34H and SiO ₂ that is a low refractive index film 34L are alternately stacked. The odd-numbered layer counted from the translucent substrate 20 side is the high refractive index film 34H, and the even-numbered layer is the low refractive index film 34L. Note that the stacking order of the high refractive index film 34H and the low refractive index film 34L is not limited to this example, and the odd-numbered layers counted from the translucent substrate 20 side are the low-refractive index films 34L, and the even-numbered layers are The high refractive index film 34H may be used. The second lower multilayer film 34 is configured to transmit light in a region including the visible light region transmission band of the infrared cut filter 10.

本実施形態では、赤外線カットコート３０の高屈折率膜３１Ｈ，３３Ｈ，３４Ｈは、ＴｉＯ₂としたがこれに限られず、例えば、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅といった材料でもよい。つまり、高屈折率膜３１Ｈ，３３Ｈ，３４Ｈの材料としては、屈折率が２．０より大きいものが好ましい。また、低屈折率膜３１Ｌ，３３Ｌ，３４ＬについてもＳｉＯ₂に限られず、例えばＭｇＦ₂といった材料でもよい。つまり、低屈折率膜３１Ｌ，３３Ｌ，３４Ｌの材料としては、高屈折率膜３１Ｈ，３３Ｈ，３４Ｈよりも屈折率が小さいものが好ましく、さらに好ましくは屈折率が１．５より小さいものがよい。 In the present embodiment, the high refractive index films 31H, 33H, and 34H of the infrared cut coat 30 are TiO ₂ , but are not limited thereto, and may be materials such as ZrO ₂ , Nb ₂ O ₅ , and Ta ₂ O ₅ , for example. That is, as the material for the high refractive index films 31H, 33H, and 34H, those having a refractive index larger than 2.0 are preferable. Further, the low refractive index films 31L, 33L, and 34L are not limited to SiO ₂ but may be made of a material such as MgF ₂ . That is, the material of the low refractive index films 31L, 33L, and 34L is preferably a material having a refractive index smaller than that of the high refractive index films 31H, 33H, and 34H, and more preferably a material having a refractive index smaller than 1.5.

赤外線カットコート３０の上側多層膜３１の各層（低屈折率膜３１Ｌ及び高屈折率膜３１Ｈ）は、例えば、電子ビーム蒸着、イオンビームアシスト蒸着等の公知の蒸着方法によって交互に形成される。同様に、赤外線カットコート３０の第１下側多層膜３３の各層（低屈折率膜３３Ｌ及び高屈折率膜３３Ｈ）や、第２下側多層膜３４の各層（低屈折率膜３４Ｌ及び高屈折率膜３４Ｈ）も、例えば、電子ビーム蒸着、イオンビームアシスト蒸着等によって交互に形成される。蒸着膜厚は、屈折率と物理膜厚との積である光学膜厚に基づいて設計されており、本実施形態の赤外線カットコート３０の各層の光学膜厚は、例えば、図４に示すように設計されている。なお、光学膜厚Ｎｄと中心波長λとの間には、［Ｎｄ＝λ／４］という関係がある。図４中の中心波長（７２５ｎｍ）は膜厚設計の際の中心波長である。 Each layer (the low refractive index film 31L and the high refractive index film 31H) of the upper multilayer film 31 of the infrared cut coat 30 is alternately formed by a known deposition method such as electron beam deposition or ion beam assisted deposition. Similarly, each layer of the first lower multilayer film 33 (low refractive index film 33L and high refractive index film 33H) of the infrared cut coat 30 and each layer of the second lower multilayer film 34 (low refractive index film 34L and high refractive index). The rate film 34H) is also formed alternately by, for example, electron beam evaporation, ion beam assisted evaporation, or the like. The vapor deposition film thickness is designed based on the optical film thickness that is the product of the refractive index and the physical film thickness. The optical film thickness of each layer of the infrared cut coat 30 of the present embodiment is, for example, as shown in FIG. Designed to. Note that there is a relationship [Nd = λ / 4] between the optical film thickness Nd and the center wavelength λ. The center wavelength (725 nm) in FIG. 4 is the center wavelength when designing the film thickness.

図４のうち、赤外線カットコート３０の上側多層膜３１は、３７層目〜５０層目に対応しており、赤外線カットコート３０の第１下側多層膜３３は、２３層目〜３６層目に対応し、第２下側多層膜３４は、１層目〜２２層目に対応している。上側多層膜３１は、高屈折率膜３１Ｈと低屈折率膜３１Ｌとが交互に合計で１４層積層されている。第１下側多層膜３３は、高屈折率膜３３Ｈと低屈折率膜３３Ｌとが交互に合計で１４層積層されている。第２下側多層膜３４は、高屈折率膜３４Ｈと低屈折率膜３４Ｌとが交互に合計で２２層積層されている。つまり、赤外線カットコート３０は、高屈折率膜３１Ｈ，３３Ｈ，３４Ｈと、低屈折率膜３１Ｌ，３３Ｌ，３４Ｌとが合計で５０層積層され、そのときの総膜厚（物理膜厚）は約４．６μｍになっている。赤外線カットコート３０の層数は、好ましくは、２０層〜６０層とされ、そのときの総膜厚は、好ましくは、２．６μｍ〜６．１μｍとされる。 4, the upper multilayer film 31 of the infrared cut coat 30 corresponds to the 37th to 50th layers, and the first lower multilayer film 33 of the infrared cut coat 30 corresponds to the 23rd to 36th layers. The second lower multilayer film 34 corresponds to the first to 22nd layers. In the upper multilayer film 31, a total of 14 layers of high refractive index films 31H and low refractive index films 31L are alternately stacked. In the first lower multilayer film 33, a total of 14 layers of high refractive index films 33H and low refractive index films 33L are alternately laminated. In the second lower multilayer film 34, a total of 22 layers of high refractive index films 34H and low refractive index films 34L are alternately laminated. That is, the infrared cut coat 30 includes a total of 50 layers of high refractive index films 31H, 33H, and 34H and low refractive index films 31L, 33L, and 34L, and the total film thickness (physical film thickness) at that time is about It is 4.6 μm. The number of layers of the infrared cut coat 30 is preferably 20 to 60 layers, and the total film thickness at that time is preferably 2.6 μm to 6.1 μm.

図４に示すように、赤外線カットコート３０の上側多層膜３１では、最上層（最も透光性基板２０側から遠い層）である５０層目を除き、低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値が、１．４７になっている。また、最下層（最も透光性基板２０側に近い層）である３７層目を除き、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値が、１．４１になっている。赤外線カットコート３０の第１下側多層膜３３では、最上層（最も透光性基板２０から遠い層）である３６層目を除き、低屈折率膜３３Ｌの光学膜厚が、１．２０になっている。また、最下層（最も透光性基板２０側に近い層）である２３層目を除き、高屈折率膜３３Ｈの光学膜厚の平均値が、０．９８になっている。赤外線カットコート３０の第２下側多層膜３４では、最上層（最も透光性基板２０から遠い層）である２２層目を除き、低屈折率膜３４Ｌの光学膜厚が、０．４６になっている。また、最下層（最も透光性基板２０側に近い層）である１層目を除き、高屈折率膜３４Ｈの光学膜厚の平均値が、０．４３になっている。上側多層膜３１の最下層の３７層目及び最上層の５０層目と、第１下側多層膜３３の最下層の２３層目及び最上層の３６層目と、第２下側多層膜３４の最下層の１層目及び最上層の２２層目とは、屈折率の変化が比較的大きい箇所に設けられる調整層になっている。なお、これらの調整層を設けない構成としてもよい。 As shown in FIG. 4, the upper multilayer film 31 of the infrared cut coat 30 has an optical film thickness of the low refractive index film 31L except for the 50th layer which is the uppermost layer (the layer farthest from the translucent substrate 20 side). The average value is 1.47. Moreover, the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is 1.41 except for the 37th layer which is the lowest layer (the layer closest to the translucent substrate 20 side). In the first lower multilayer film 33 of the infrared cut coat 30, the optical film thickness of the low refractive index film 33L is 1.20 except for the 36th layer which is the uppermost layer (the layer farthest from the translucent substrate 20). It has become. Moreover, the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 33H is 0.98 except for the 23rd layer which is the lowest layer (the layer closest to the translucent substrate 20 side). In the second lower multilayer film 34 of the infrared cut coat 30, the optical film thickness of the low refractive index film 34L is 0.46 except for the 22nd layer which is the uppermost layer (the layer farthest from the translucent substrate 20). It has become. Moreover, the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 34H is 0.43 except for the first layer which is the lowest layer (the layer closest to the translucent substrate 20 side). The lowermost 37th layer and the uppermost 50th layer of the upper multilayer film 31, the lowermost 23rd layer and the uppermost 36th layer of the first lower multilayer film 33, and the second lower multilayer film 34. The first layer of the lowermost layer and the 22nd layer of the uppermost layer are adjustment layers provided at locations where the change in refractive index is relatively large. In addition, it is good also as a structure which does not provide these adjustment layers.

本実施形態では、赤外線カットフィルタ１０において、当該赤外線カットフィルタ１０の最も上層側に設けられる上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌ（最上層である５０層目を除く、以下同様）の光学膜厚と、高屈折率膜３１Ｈ（最下層である３７層目を除く、以下同様）の光学膜厚との間には、膜厚差が設けられており、低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値が、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値よりも大きくなっている。そして、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値が、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値よりも、０．１〜０．３だけ大きくなっている。また、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比［低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値／高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値］が、１．０３〜１．１０になっている。なお、低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比は、１．０３〜１．０７であることが好ましい。 In the present embodiment, in the infrared cut filter 10, the optical film of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter 10 (except the 50th layer which is the uppermost layer, the same applies hereinafter). There is a film thickness difference between the thickness and the optical film thickness of the high refractive index film 31H (excluding the 37th layer, which is the lowermost layer, the same applies hereinafter), and the optical film thickness of the low refractive index film 31L. Is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H. The average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 is larger by 0.1 to 0.3 than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H. Further, the ratio of the average optical thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 to the average optical thickness of the high refractive index film 31H [average optical thickness of the low refractive index film 31L] Value / average value of optical film thickness of high refractive index film 31H] is 1.03 to 1.10. The film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is preferably 1.03 to 1.07.

本実施形態では、赤外線カットフィルタ１０の上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚とを異ならせた点を特徴としている。この赤外線カットフィルタ１０によれば、図３に示すようなフィルタ特性が得られる。すなわち、可視光領域に光の透過帯Ａ１を有するとともに、近赤外光領域の光を遮断するフィルタ特性が得られる。図３の例では、可視光領域の透過帯Ａ１における透過率が、略１００％以上になっている。また、７００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外光領域での透過率が、略０％になっている。この赤外線カットフィルタ１０の近赤外光領域の７００ｎｍ〜１０００ｎｍの遮断帯Ｂ１は、第１下側多層膜３３によって得られる。なお、可視光領域の透過帯Ａ１における透過率は、９０％以上であることが好ましい。また、近赤外光領域の遮断帯Ｂ１における透過率は、３％以下であることが好ましい。 The present embodiment is characterized in that the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 of the infrared cut filter 10 is different from the optical film thickness of the high refractive index film 31H. According to the infrared cut filter 10, filter characteristics as shown in FIG. 3 can be obtained. That is, a filter characteristic that has a light transmission band A1 in the visible light region and blocks light in the near-infrared light region is obtained. In the example of FIG. 3, the transmittance in the transmission band A1 in the visible light region is approximately 100% or more. Further, the transmittance in the near-infrared light region of 700 nm to 1000 nm is substantially 0%. A cutoff band B1 of 700 nm to 1000 nm in the near infrared light region of the infrared cut filter 10 is obtained by the first lower multilayer film 33. Note that the transmittance in the transmission band A1 in the visible light region is preferably 90% or more. Moreover, it is preferable that the transmittance | permeability in the cutoff band B1 of a near-infrared light area | region is 3% or less.

本実施形態の赤外線カットフィルタ１０によれば、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値とを異ならせることによって、赤外線カットフィルタ１０の入射角依存性を低減することができる。この点について、図５〜図７を参照して説明する。図５は、赤外線カットフィルタ１０に対する光の入射角α（図１参照）が１５°のときの赤外線カットフィルタ１０のフィルタ特性の一部を示す図である。図６は、赤外線カットフィルタ１０に対する光の入射角αが３０°のときの赤外線カットフィルタ１０のフィルタ特性の一部を示す図である。図７は、赤外線カットフィルタ１０に対する光の入射角αが４５°のときの赤外線カットフィルタ１０のフィルタ特性の一部を示す図である。図５〜図７では、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０のフィルタ特性を実線で示し、比較例の赤外線カットフィルタのフィルタ特性を破線で示す。なお、比較例の赤外線カットフィルタでは、赤外線カットコートの上側多層膜の低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値とが略同じ値になっており、上側多層膜の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比が、略１．００になっている。それ以外の点では、比較例の赤外線カットフィルタは、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０と同様の構成になっている。 According to the infrared cut filter 10 of this embodiment, by making the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 different from the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H, The incident angle dependency of the infrared cut filter 10 can be reduced. This point will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a diagram illustrating a part of the filter characteristics of the infrared cut filter 10 when the incident angle α (see FIG. 1) of the light with respect to the infrared cut filter 10 is 15 °. FIG. 6 is a diagram illustrating a part of the filter characteristics of the infrared cut filter 10 when the incident angle α of light with respect to the infrared cut filter 10 is 30 °. FIG. 7 is a diagram illustrating a part of the filter characteristics of the infrared cut filter 10 when the incident angle α of light with respect to the infrared cut filter 10 is 45 °. 5-7, the filter characteristic of the infrared cut filter 10 of this embodiment is shown with a continuous line, and the filter characteristic of the infrared cut filter of a comparative example is shown with a broken line. In the infrared cut filter of the comparative example, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film of the upper multilayer film of the infrared cut coat and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film are substantially the same value. The film thickness ratio between the average optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film and the average optical film thickness of the high refractive index film 31H is approximately 1.00. In other respects, the infrared cut filter of the comparative example has the same configuration as the infrared cut filter 10 of the present embodiment.

図５〜図７に示すように、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０では、赤外線カットフィルタ１０に対して光が斜め方向から入射すると、可視光領域の透過帯Ａ１にリップルＲ１が発生する。同様に、比較例の赤外線カットフィルタにおいても、光が斜め方向から入射すると、可視光領域の透過帯Ａ１１にリップルＲ１１が発生する。しかし、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０では、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１が、比較例の赤外線カットフィルタよりも低減されている。 As shown in FIGS. 5 to 7, in the infrared cut filter 10 of this embodiment, when light is incident on the infrared cut filter 10 from an oblique direction, a ripple R 1 is generated in the transmission band A 1 in the visible light region. Similarly, in the infrared cut filter of the comparative example, when light is incident from an oblique direction, a ripple R11 is generated in the transmission band A11 in the visible light region. However, in the infrared cut filter 10 of the present embodiment, the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region is reduced compared to the infrared cut filter of the comparative example.

具体的には、光の入射角αが１５°の場合（図５参照）、比較例の赤外線カットフィルタでは、可視光領域の透過帯Ａ１１に最大で略１．５％のリップルＲ１１が発生している。これに対し、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０では、可視光領域の透過帯Ａ１にリップルＲ１は殆ど発生しておらず、リップルＲ１が、比較例の赤外線カットフィルタよりも略１．０％〜略１．５％だけ低減されている。 Specifically, when the incident angle α of light is 15 ° (see FIG. 5), the infrared cut filter of the comparative example generates a ripple R11 of approximately 1.5% at maximum in the transmission band A11 in the visible light region. ing. On the other hand, in the infrared cut filter 10 of the present embodiment, the ripple R1 hardly occurs in the transmission band A1 in the visible light region, and the ripple R1 is approximately 1.0% to that of the infrared cut filter of the comparative example. It is reduced by about 1.5%.

光の入射角αが３０°の場合（図６参照）、比較例の赤外線カットフィルタでは、可視光領域の透過帯Ａ１１に最大で略７．０％のリップルＲ１１が発生している。これに対し、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０では、可視光領域の透過帯Ａ１に最大で略４．０％のリップルＲ１が発生しており、リップルＲ１が、比較例の赤外線カットフィルタよりも略２．０％〜略３．０％だけ低減されている。 When the light incident angle α is 30 ° (see FIG. 6), in the infrared cut filter of the comparative example, a ripple R11 of approximately 7.0% at maximum occurs in the transmission band A11 in the visible light region. On the other hand, in the infrared cut filter 10 of the present embodiment, a ripple R1 of approximately 4.0% at maximum is generated in the transmission band A1 in the visible light region, and the ripple R1 is larger than that of the infrared cut filter of the comparative example. It is reduced by about 2.0% to about 3.0%.

光の入射角αが４５°の場合（図７参照）、比較例の赤外線カットフィルタでは、可視光領域の透過帯Ａ１１に最大で略２３．０％のリップルＲ１１が発生している。これに対し、本実施形態の赤外線カットフィルタ１０では、可視光領域の透過帯Ａ１に最大で略１９．０％のリップルＲ１が発生しており、リップルＲ１が、比較例の赤外線カットフィルタよりも略２．０％〜略６．０％だけ低減されている。 When the incident angle α of light is 45 ° (see FIG. 7), in the infrared cut filter of the comparative example, a ripple R11 of approximately 23.0% at maximum occurs in the transmission band A11 in the visible light region. On the other hand, in the infrared cut filter 10 of the present embodiment, a ripple R1 of approximately 19.0% at maximum is generated in the transmission band A1 in the visible light region, and the ripple R1 is larger than that of the infrared cut filter of the comparative example. It is reduced by about 2.0% to about 6.0%.

そこで、本実施形態では、赤外線カットフィルタ１０において、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚との間に膜厚差を設け、低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値が、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値よりも大きくしている。そして、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比を、１．０３〜１．１０の範囲内の値に設定している。図４に示す例では、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０４になっている。このように、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値とを異ならせ、両者のバランスを調整することによって、図５〜図７に示すように、赤外線カットフィルタ１０に対して光が斜め方向から入射した場合であっても、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１を低減することができ、赤外線カットフィルタ１０の入射角依存性を低減することができる。これにより、赤外線カットフィルタ１０を用いた撮像デバイスにおいて、撮像される画像にゴーストやフレアが発生することを抑制できる。 Therefore, in the present embodiment, in the infrared cut filter 10, a film thickness difference is provided between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 and the optical film thickness of the high refractive index film 31H. The average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H. The film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is within a range of 1.03 to 1.10. Is set to the value of In the example shown in FIG. 4, the film thickness ratio between the average optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 and the average optical film thickness of the high refractive index film 31H is 1.04. ing. In this way, the average value of the optical film thickness of the low-refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 and the average value of the optical film thickness of the high-refractive index film 31H are made different to adjust the balance between the two. As shown in FIGS. 5 to 7, the ripple R 1 generated in the transmission band A 1 in the visible light region of the infrared cut filter 10 is reduced even when light is incident on the infrared cut filter 10 from an oblique direction. The incident angle dependency of the infrared cut filter 10 can be reduced. Thereby, in the imaging device using the infrared cut filter 10, it can suppress that a ghost and flare generate | occur | produce in the image imaged.

ここで、赤外線カットフィルタ１０の上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３未満の場合には、図８に示すように、斜め入射時（入射角αが３０°）に可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１が大きくなる可能性がある。図８は、上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比を変化させたときの可視光領域の透過帯Ａ１（例えば、４５０ｎｍ〜６００ｎｍ）における透過率の最小値を示す図であって、入射角αが０°の垂直入射の場合と、入射角αが３０°の斜め入射の場合を示している。 Here, the film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 of the infrared cut filter 10 and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is less than 1.03. In this case, as shown in FIG. 8, there is a possibility that the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region at the time of oblique incidence (incident angle α is 30 °) becomes large. FIG. 8 shows the visible light region when the film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is changed. It is a figure which shows the minimum value of the transmittance | permeability in transmission band A1 (for example, 450 nm-600 nm), Comprising: The case where the incident angle (alpha) is 0 degree perpendicular | vertical incidence, and the case where the incident angle (alpha) is 30 degrees oblique incidence are shown. Yes.

図８に示すように、例えば、上記膜厚比が１．００の場合、入射角αが３０°のときの透過率が８８．５％となり、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１（例えば、図６参照）が大きくなることが分かる。また、上記膜厚比が１．０２の場合、入射角αが３０°のときの透過率が９３．５％となり、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１が大きくなることが分かる。 As shown in FIG. 8, for example, when the film thickness ratio is 1.00, the transmittance when the incident angle α is 30 ° is 88.5%, and the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region. (For example, refer to FIG. 6) becomes large. It can also be seen that when the film thickness ratio is 1.02, the transmittance when the incident angle α is 30 ° is 93.5%, and the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region increases.

一方、上記膜厚比が、１．１０よりも大きい場合には、図８に示すように、垂直入射時に可視光領域の透過帯Ａ１にリップルＲ１が発生する可能性がある。図８に示すように、例えば、上記膜厚比が１．１１の場合、入射角αが０°のときの透過率が８６．５％となり、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１が大きくなることが分かる。 On the other hand, when the film thickness ratio is larger than 1.10, as shown in FIG. 8, a ripple R1 may occur in the transmission band A1 in the visible light region at the time of vertical incidence. As shown in FIG. 8, for example, when the film thickness ratio is 1.11, the transmittance when the incident angle α is 0 ° is 86.5%, and the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region. It turns out that becomes large.

このため、赤外線カットフィルタ１０の上側多層膜３１の低屈折率膜３１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜３１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比は、１．０３〜１．１０であることが好ましい。なお、上記膜厚比が１．０８の場合、入射角αが０°のときの透過率が９１．３％となっており、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルＲ１を低減する観点からは、上記膜厚比は、１．０３〜１．０７であることがより好ましい。 Therefore, the film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 31L of the upper multilayer film 31 of the infrared cut filter 10 and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 31H is 1.03. It is preferable that it is 1.10. When the film thickness ratio is 1.08, the transmittance when the incident angle α is 0 ° is 91.3%, and the viewpoint of reducing the ripple R1 generated in the transmission band A1 in the visible light region. From the above, the film thickness ratio is more preferably 1.03 to 1.07.

今回開示した実施形態は、すべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。本発明の技術的範囲は、上記した実施形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、本発明の技術的範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。すなわち、赤外線カットフィルタ１０の最も上層側に設けられる上側多層膜の低屈折率膜の光学膜厚の平均値が、高屈折率膜の光学膜厚の平均値よりも大きく、低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３〜１．１０になっている限り、さまざまな変更が可能である。 Embodiment disclosed this time is an illustration in all the points, Comprising: It does not become the basis of limited interpretation. The technical scope of the present invention is not interpreted only by the above-described embodiments, but is defined based on the description of the scope of claims. Further, the technical scope of the present invention includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims. That is, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film of the upper multilayer film provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter 10 is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film. Various changes are possible as long as the film thickness ratio between the average value of the optical film thickness and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film is 1.03 to 1.10.

上記実施形態では、透光性基板２０の一方の表面に上側多層膜３１及び下側多層膜３２（第１、第２下側多層膜３３，３４）を形成したが（図２参照）、これに限らず、透光性基板２０の一方の表面に上側多層膜３１を形成し、他方の表面（裏面）に下側多層膜３２を形成してもよい。 In the above embodiment, the upper multilayer film 31 and the lower multilayer film 32 (first and second lower multilayer films 33 and 34) are formed on one surface of the translucent substrate 20 (see FIG. 2). However, the upper multilayer film 31 may be formed on one surface of the translucent substrate 20 and the lower multilayer film 32 may be formed on the other surface (back surface).

上記実施形態では、赤外線カットフィルタ１０に上側多層膜３１及び下側多層膜３２（第１、第２下側多層膜３３，３４）を設けたが、これに限らず、赤外線カットフィルタ１０に１つまたは２つの多層膜のみを形成する構成としてもよい。あるいは、赤外線カットフィルタ１０に４つ以上の多層膜を形成する構成としてもよい。 In the embodiment described above, the upper multilayer film 31 and the lower multilayer film 32 (first and second lower multilayer films 33, 34) are provided in the infrared cut filter 10. Only one or two multilayer films may be formed. Alternatively, four or more multilayer films may be formed on the infrared cut filter 10.

赤外線カットフィルタ１０に１つの多層膜（上側多層膜）のみを形成する場合、この多層膜を、可視光領域の透過帯を含む領域の光を透過し、且つ、近赤外光領域の短波長端から長波長側の領域の光を遮断する構成とし、さらに、多層膜の低屈折率膜の光学膜厚の平均値が、高屈折率膜の光学膜厚の平均値よりも大きく、低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３〜１．１０（より好ましくは、１．０３〜１．０７）になっている構成とすればよい。 When only one multilayer film (upper multilayer film) is formed on the infrared cut filter 10, the multilayer film transmits light in a region including the visible light region transmission band and has a short wavelength in the near infrared light region. It is configured to block the light in the region on the long wavelength side from the end, and the average value of the optical film thickness of the low refractive index film of the multilayer film is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film, and the low refractive index The film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the refractive index film and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film is 1.03 to 1.10 (more preferably 1.03 to 1.07). What is necessary is just to be the structure.

赤外線カットフィルタ１０に２つの多層膜を形成する変形例について、図９、図１０を参照して説明する。図９は、変形例に係る赤外線カットフィルタ１０の概略構成を模式的に示す図である。図１０は、変形例に係る赤外線カットフィルタ１０の各層の構成の一例を示す表である。 A modification in which two multilayer films are formed on the infrared cut filter 10 will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a diagram schematically illustrating a schematic configuration of the infrared cut filter 10 according to the modification. FIG. 10 is a table showing an example of the configuration of each layer of the infrared cut filter 10 according to the modification.

図９に示すように、可視光領域の一部の領域の光を透過し、近赤外光領域の光を反射する赤外線カットコート４０が、透光性基板２０上に形成された構成になっている。赤外線カットコート４０は、赤外線カットフィルタ１０の最も上層側（最も透光性基板２０から遠い側）に設けられる上側多層膜４１と、上側多層膜４１の下側に設けられる下側多層膜４２とを備えている。つまり、透光性基板２０側から順に、下側多層膜４２と上側多層膜４１とが形成されている。そして、赤外線カットフィルタ１０の最も上層側に設けられる上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値よりも大きく、低屈折率膜の光学膜厚の平均値と、高屈折率膜の光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３〜１．１０（より好ましくは、１．０３〜１．０７）になっている。なお、透光性基板２０の一方の表面に上側多層膜４１を形成し、他方の表面（裏面）に下側多層膜４２を形成してもよい。 As shown in FIG. 9, an infrared cut coat 40 that transmits light in a part of the visible light region and reflects light in the near infrared light region is formed on the translucent substrate 20. ing. The infrared cut coat 40 includes an upper multilayer film 41 provided on the uppermost layer side (the side farthest from the translucent substrate 20) of the infrared cut filter 10, and a lower multilayer film 42 provided on the lower side of the upper multilayer film 41. It has. That is, the lower multilayer film 42 and the upper multilayer film 41 are formed in order from the translucent substrate 20 side. The optical film thickness of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter 10 is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H, and the low refractive index film The film thickness ratio between the average value of the optical film thickness and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film is 1.03 to 1.10 (more preferably 1.03 to 1.07). . The upper multilayer film 41 may be formed on one surface of the translucent substrate 20, and the lower multilayer film 42 may be formed on the other surface (back surface).

赤外線カットコート４０の上側多層膜４１は、高屈折率膜４１ＨであるＴｉＯ₂と低屈折率膜４１ＬであるＳｉＯ₂とが交互に複数積層されている。下側多層膜４２（透光性基板２０）側から数えて奇数番目の層が高屈折率膜４１Ｈであり、偶数番目の層が低屈折率膜４１Ｌである。なお、高屈折率膜４１Ｈと低屈折率膜４１Ｌの積層順はこの例に限らず、下側多層膜４２側から数えて奇数番目の層が低屈折率膜４１Ｌであり、偶数番目の層が高屈折率膜４１Ｈであってもよい。上側多層膜４１は、図１１に示すように、可視光領域の一部の領域の光を透過し、下側多層膜４２が光を遮断する領域（図１２の遮断帯Ｂ４２）の長波長端から、長波長側の領域の光を遮断するフィルタ特性を示す。上側多層膜４１では、垂直入射の場合（図１１の実線で示す）、近赤外光領域の光を遮断する遮断帯Ｂ４１が、近赤外光領域の波長が略８５０ｎｍ〜略１０００ｎｍの領域に設定されている。 Upper multilayer film 41 of the infrared cut coating 40, SiO ₂ and are alternately stacked is the TiO ₂ is a high-refractive-index film 41H low refractive index film 41L. The odd-numbered layers counted from the lower multilayer film 42 (translucent substrate 20) side are high-refractive index films 41H, and the even-numbered layers are low-refractive index films 41L. The order in which the high refractive index film 41H and the low refractive index film 41L are stacked is not limited to this example. The odd-numbered layers counted from the lower multilayer film 42 side are the low-refractive index films 41L, and the even-numbered layers are The high refractive index film 41H may be used. As shown in FIG. 11, the upper multilayer film 41 transmits light in a part of the visible light region, and the long wavelength end of the region (blocking band B42 in FIG. 12) where the lower multilayer film 42 blocks light. Thus, a filter characteristic for blocking light in a long wavelength region is shown. In the upper multilayer film 41, in the case of normal incidence (indicated by a solid line in FIG. 11), a blocking band B41 that blocks light in the near infrared light region is in a region where the wavelength of the near infrared light region is approximately 850 nm to approximately 1000 nm. Is set.

赤外線カットコート４０の下側多層膜４２は、高屈折率膜４２ＨであるＴｉＯ₂と低屈折率膜４２ＬであるＳｉＯ₂とが交互に複数積層されている。透光性基板２０側から数えて奇数番目の層が高屈折率膜４２Ｈであり、偶数番目の層が低屈折率膜４２Ｌである。なお、高屈折率膜４２Ｈと低屈折率膜４２Ｌの積層順はこの例に限らず、透光性基板２０側から数えて奇数番目の層が低屈折率膜４２Ｌであり、偶数番目の層が高屈折率膜４２Ｈであってもよい。下側多層膜４２は、図１２に示すように、可視光領域の一部の領域の光を透過し、近赤外光領域の短波長端（７００ｎｍ）から長波長側の領域の光を遮断するフィルタ特性を示す。下側多層膜４２では、垂直入射の場合（図１２の実線で示す）、近赤外光領域の光を遮断する遮断帯Ｂ４２が、近赤外光領域の波長が略７００ｎｍ〜略８５０ｎｍの領域に設定されている。 In the lower multilayer film 42 of the infrared cut coat 40, a plurality of TiO ₂ that is a high refractive index film 42H and SiO ₂ that is a low refractive index film 42L are alternately stacked. The odd-numbered layers counted from the translucent substrate 20 side are high refractive index films 42H, and the even-numbered layers are low refractive index films 42L. The order in which the high refractive index film 42H and the low refractive index film 42L are stacked is not limited to this example, and the odd-numbered layers counted from the translucent substrate 20 side are the low-refractive index films 42L, and the even-numbered layers are The high refractive index film 42H may be used. As shown in FIG. 12, the lower multilayer film 42 transmits light in a part of the visible light region, and blocks light in the region on the long wavelength side from the short wavelength end (700 nm) of the near infrared light region. The filter characteristics to be performed are shown. In the lower multilayer film 42, in the case of normal incidence (indicated by a solid line in FIG. 12), the cutoff band B42 that blocks light in the near infrared light region has a wavelength in the near infrared light region of approximately 700 nm to approximately 850 nm. Is set to

本変形例の赤外線カットコート４０の各層の光学膜厚は、例えば、図１０に示すように設計されている。図１０中の中心波長（７１０ｎｍ）は膜厚設計の際の中心波長である。図１０のうち、赤外線カットコート４０の上側多層膜４１は、２１層目〜４０層目に対応しており、赤外線カットコート４０の下側多層膜４２は、１層目〜２０層目に対応している。上側多層膜４１は、高屈折率膜４１Ｈと低屈折率膜４１Ｌとが交互に合計で２０層積層されている。下側多層膜４２は、高屈折率膜４２Ｈと低屈折率膜４２Ｌとが交互に合計で２０層積層されている。つまり、赤外線カットコート４０は、高屈折率膜４１Ｈ，４２Ｈと低屈折率膜４１Ｌ，４２Ｌとが合計で４０層積層され、そのときの総膜厚（物理膜厚）は約４．７μｍになっている。 The optical film thickness of each layer of the infrared cut coat 40 of this modification is designed, for example, as shown in FIG. The center wavelength (710 nm) in FIG. 10 is the center wavelength when designing the film thickness. In FIG. 10, the upper multilayer film 41 of the infrared cut coat 40 corresponds to the 21st to 40th layers, and the lower multilayer film 42 of the infrared cut coat 40 corresponds to the 1st to 20th layers. doing. In the upper multilayer film 41, a total of 20 high refractive index films 41H and low refractive index films 41L are alternately stacked. In the lower multilayer film 42, a total of 20 layers of high refractive index films 42H and low refractive index films 42L are alternately laminated. That is, in the infrared cut coat 40, a total of 40 high refractive index films 41H and 42H and low refractive index films 41L and 42L are laminated, and the total film thickness (physical film thickness) at that time is about 4.7 μm. ing.

図１０に示すように、赤外線カットコート４０の上側多層膜４１では、最上層（最も透光性基板２０から遠い層）である４０層目を除き、低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚が、１．３９になっている。また、最下層（最も透光性基板２０側に近い層）である２１層目を除き、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値が、１．３５になっている。赤外線カットコート４０の下側多層膜４２では、最上層（最も透光性基板２０側から遠い層）である２０層目を除き、低屈折率膜４２Ｌの光学膜厚の平均値が、１．１８になっている。また、最下層（最も透光性基板２０側に近い層）である１層目を除き、高屈折率膜４２Ｈの光学膜厚の平均値が、１．０８になっている。上側多層膜４１の最下層の２１層目及び最上層の４０層目と、下側多層膜４２の最下層の１層目及び最上層の２０層目とは、屈折率の変化が比較的大きい箇所に設けられる調整層になっている。なお、これらの調整層を設けない構成としてもよい。 As shown in FIG. 10, in the upper multilayer film 41 of the infrared cut coat 40, the optical film thickness of the low refractive index film 41L is the uppermost layer (the layer farthest from the translucent substrate 20) except for the 40th layer. It is 1.39. Moreover, the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H is 1.35 except for the 21st layer which is the lowest layer (the layer closest to the translucent substrate 20 side). In the lower multilayer film 42 of the infrared cut coat 40, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 42L is 1 except for the 20th layer which is the uppermost layer (the layer farthest from the translucent substrate 20 side). It is 18. Moreover, the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 42H is 1.08 except for the first layer which is the lowest layer (the layer closest to the translucent substrate 20 side). The 21st and 40th layers of the lowermost layer of the upper multilayer film 41 and the first and 20th layers of the lowermost layer of the lower multilayer film 42 have a relatively large change in refractive index. It is the adjustment layer provided in the place. In addition, it is good also as a structure which does not provide these adjustment layers.

そして、赤外線カットフィルタ１０によれば、上記実施形態の図３に示す場合と略同様のフィルタ特性が得られる。すなわち、可視光領域に光の透過帯Ａ１を有するとともに、近赤外光領域の光を遮断するフィルタ特性が得られる。可視光領域の透過帯Ａ１における透過率が、略１００％以上になっている。また、７００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外光領域での透過率が、略０％になっている。赤外線カットフィルタ１０の近赤外光領域の７００ｎｍ〜１０００ｎｍの遮断帯Ｂ１は、上側多層膜４１の近赤外光領域の遮断帯Ｂ４１と、下側多層膜４２の近赤外光領域の遮断帯Ｂ４２との重ね合わせによって得られる。なお、可視光領域の透過帯Ａ１における透過率は、９０％以上であることが好ましい。また、近赤外光領域の遮断帯Ｂ１における透過率は、３％以下であることが好ましい。 And according to the infrared cut filter 10, the filter characteristic substantially the same as the case shown in FIG. 3 of the said embodiment is acquired. That is, a filter characteristic that has a light transmission band A1 in the visible light region and blocks light in the near-infrared light region is obtained. The transmittance in the visible band A1 is approximately 100% or more. Further, the transmittance in the near-infrared light region of 700 nm to 1000 nm is substantially 0%. A cutoff band B1 of 700 nm to 1000 nm in the near-infrared light region of the infrared cut filter 10 is a cutoff band B41 in the near-infrared light region of the upper multilayer film 41 and a cutoff band in the near-infrared light region of the lower multilayer film 42. Obtained by superposition with B42. Note that the transmittance in the transmission band A1 in the visible light region is preferably 90% or more. Moreover, it is preferable that the transmittance | permeability in the cutoff band B1 of a near-infrared light area | region is 3% or less.

本変形例では、赤外線カットフィルタ１０において、当該赤外線カットフィルタ１０の最も上層側に設けられる上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌ（最上層である４０層目を除く、以下同様）の光学膜厚と、高屈折率膜４１Ｈ（最下層である２１層目を除く、以下同様）の光学膜厚との間には、膜厚差が設けられており、低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値が、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値よりも大きくなっている。上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比［低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値／高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値］が、１．０３〜１．１０（より好ましくは、１．０３〜１．０７）になっている。図１０に示す例では、低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比が、１．０３になっている。これにより、上記実施形態の場合と同様に、赤外線カットフィルタ１０に対して光が斜め方向から入射した場合であっても、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯に発生するリップルを低減することができ、赤外線カットフィルタ１０の入射角依存性を低減することができる。 In this modification, in the infrared cut filter 10, the optical film of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter 10 (except for the 40th layer which is the uppermost layer) There is a film thickness difference between the thickness and the optical film thickness of the high-refractive index film 41H (except for the 21st layer, which is the lowermost layer), and the optical film thickness of the low-refractive index film 41L. Is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H. Thickness ratio between the average value of the optical thickness of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 and the average value of the optical thickness of the high refractive index film 41H [average value of optical thickness of the low refractive index film 41L / The average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H] is 1.03-1.10 (more preferably, 1.03-1.07). In the example shown in FIG. 10, the film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 41L and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H is 1.03. As a result, as in the case of the above-described embodiment, even when light is incident on the infrared cut filter 10 from an oblique direction, the ripple generated in the transmission band in the visible light region of the infrared cut filter 10 is reduced. The incident angle dependency of the infrared cut filter 10 can be reduced.

ここで、図１１、図１２によれば、可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルは、赤外線カットフィルタ１０の上側多層膜４１によって主に発生すると考えられる。図１１は、赤外線カットフィルタ１０の上側多層膜４１のフィルタ特性を示す図であり、図１２は、赤外線カットフィルタ１０の下側多層膜４２のフィルタ特性を示す図である。図１１、図１２では、光の入射角αが０°（垂直入射）のときのフィルタ特性を実線で示し、光の入射角αが３０°のときのフィルタ特性を破線で示す。 Here, according to FIGS. 11 and 12, it is considered that the ripple generated in the transmission band A 1 in the visible light region is mainly generated by the upper multilayer film 41 of the infrared cut filter 10. FIG. 11 is a diagram illustrating the filter characteristics of the upper multilayer film 41 of the infrared cut filter 10, and FIG. 12 is a diagram illustrating the filter characteristics of the lower multilayer film 42 of the infrared cut filter 10. In FIGS. 11 and 12, the filter characteristics when the light incident angle α is 0 ° (perpendicular incidence) are indicated by solid lines, and the filter characteristics when the light incident angle α is 30 ° are indicated by broken lines.

図１２に示すように、下側多層膜４２では、光の入射角αが３０°の場合、垂直入射の場合に比べて、透過率波形が短波長側にシフトしているものの、可視光領域の透過帯Ａ４２にリップルは殆ど発生していない。一方、図１１に示すように、上側多層膜４１では、光の入射角αが３０°の場合、垂直入射の場合に比べて、透過率波形が短波長側にシフトしており、さらに、可視光領域の透過帯Ａ４１にリップルＲ４１が発生している。このため、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップル（例えば、図５〜図７参照）は、上側多層膜４１に発生するリップルＲ４１（図１２参照）に起因して発生すると考えられる。 As shown in FIG. 12, in the lower multilayer film 42, when the incident angle α of light is 30 °, the transmittance waveform is shifted to the short wavelength side as compared with the case of vertical incidence, but in the visible light region. There is almost no ripple in the transmission band A42. On the other hand, as shown in FIG. 11, in the upper multilayer film 41, when the incident angle α of light is 30 °, the transmittance waveform is shifted to the short wavelength side compared to the case of vertical incidence, and further visible A ripple R41 is generated in the transmission band A41 in the light region. For this reason, the ripple (see, for example, FIGS. 5 to 7) generated in the transmission band A1 in the visible light region of the infrared cut filter 10 is generated due to the ripple R41 (see FIG. 12) generated in the upper multilayer film 41. It is thought that.

そこで、本変形例では、赤外線カットフィルタ１０において、当該赤外線カットフィルタ１０の最も上層側に設けられる上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚との間に膜厚差を設け、低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値が、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値よりも大きくしている。そして、上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値との膜厚比を、１．０３〜１．１０の範囲内の値に設定している。このように、上側多層膜４１の低屈折率膜４１Ｌの光学膜厚の平均値と、高屈折率膜４１Ｈの光学膜厚の平均値とを異ならせ、両者のバランスを調整することによって、赤外線カットフィルタ１０に対して光が斜め方向から入射した場合であっても、赤外線カットフィルタ１０の可視光領域の透過帯Ａ１に発生するリップルを低減することができ、赤外線カットフィルタ１０の入射角依存性を低減することができる。これにより、赤外線カットフィルタ１０を用いた撮像デバイスにおいて、撮像される画像にゴーストやフレアが発生することを抑制できる。 Therefore, in this modification, in the infrared cut filter 10, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter 10 and the high refractive index film 41H A difference in thickness is provided between the optical film thickness and the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 41L is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H. The film thickness ratio between the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 and the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H is in the range of 1.03 to 1.10. Is set to the value of As described above, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film 41L of the upper multilayer film 41 is different from the average value of the optical film thickness of the high refractive index film 41H, and the balance between the two is adjusted. Even when light is incident on the cut filter 10 from an oblique direction, the ripple generated in the transmission band A1 in the visible light region of the infrared cut filter 10 can be reduced, and the incident angle dependence of the infrared cut filter 10 can be reduced. Can be reduced. Thereby, in the imaging device using the infrared cut filter 10, it can suppress that a ghost and flare generate | occur | produce in the image imaged.

本発明は、光学フィルタに利用可能であり、近赤外光領域の光を遮断する赤外線カットフィルタに好適に利用可能である。 The present invention can be used for an optical filter, and can be suitably used for an infrared cut filter that blocks light in a near-infrared light region.

１０赤外線カットフィルタ
２０透光性基板
３０赤外線カットコート
３１上側多層膜
３１Ｈ高屈折率膜
３１Ｌ低屈折率膜
３２下側多層膜
３３第１下側多層膜
３３Ｈ高屈折率膜
３３Ｌ低屈折率膜
３４第２下側多層膜
３４Ｈ高屈折率膜
３４Ｌ低屈折率膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Infrared cut filter 20 Translucent substrate 30 Infrared cut coat 31 Upper multilayer film 31H High refractive index film 31L Low refractive index film 32 Lower multilayer film 33 1st Lower multilayer film 33H High refractive index film 33L Low refractive index film 34 Second lower multilayer film 34H High refractive index film 34L Low refractive index film

Claims

An infrared cut filter having a light transmission band in the visible light region and blocking light in the near infrared light region,
At least an upper multilayer film that transmits light in a region including the transmission band in the visible light region,
The upper multilayer film is provided on the uppermost layer side of the infrared cut filter,
The upper multilayer film has a configuration in which a plurality of high refractive index films and a plurality of low refractive index films having a refractive index smaller than that of the high refractive index film are alternately stacked. The average value of the optical film thickness of the film is larger than the average value of the optical film thickness of the high refractive index film, the average value of the optical film thickness of the low refractive index film, and the optical film thickness of the high refractive index film. An infrared cut filter characterized in that a film thickness ratio with respect to an average value is 1.03 to 1.10.

The infrared cut filter according to claim 1,
A lower multilayer film is provided below the upper multilayer film,
The lower multilayer film transmits a first lower multilayer film that transmits light in a region including the transmission band in a visible light region, a light in a region including the transmission band in a visible light region, and a near red color A second lower multilayer film that blocks light in a region on the long wavelength side from the short wavelength end of the outside light region,
The upper multilayer film is configured to transmit light in a region including the transmission band in the visible light region and the blocking band in the near infrared light region of the second lower multilayer film. filter.

The infrared cut filter according to claim 1,
A lower multilayer film is provided below the upper multilayer film,
The lower multilayer film is configured to transmit light in a region including the transmission band in the visible light region and block light in a region on the long wavelength side from the short wavelength end of the near infrared light region. ,
The upper multilayer film transmits light in a region including the transmission band in the visible light region, and blocks light in a long wavelength side region from a long wavelength end of a region where the lower multilayer film blocks light. An infrared cut filter characterized by being configured to perform.

The infrared cut filter according to any one of claims 1 to 3,
The infrared cut filter, wherein the film thickness ratio is 1.03 to 1.07.