JP2021048029A - Vacuum valve - Google Patents
Vacuum valve Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021048029A JP2021048029A JP2019169319A JP2019169319A JP2021048029A JP 2021048029 A JP2021048029 A JP 2021048029A JP 2019169319 A JP2019169319 A JP 2019169319A JP 2019169319 A JP2019169319 A JP 2019169319A JP 2021048029 A JP2021048029 A JP 2021048029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- arc shield
- vacuum
- side electrode
- vacuum valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 86
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 85
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 84
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 15
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
Description
本発明は、アークシールドを備えた真空バルブに関する。 The present invention relates to a vacuum valve with an arc shield.
従来、真空バルブにおいて、真空容器内の真空度の低下を防ぎ、遮断性能を維持するために、一対の電極の対向表面に厚さ0.2マイクロメートル以上のTi、Zr及びZuH2の内の少なくとも1種を主成分とする薄膜層を形成し、当該薄膜層の少なくとも一部を、電流エージングを施すことで絶縁円筒内面及びアークシールド内面の少なくとも一方に蒸着させる真空バルブの製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, in a vacuum valve, in order to prevent a decrease in the degree of vacuum in the vacuum vessel and maintain the breaking performance, at least of Ti, Zr and ZuH2 having a thickness of 0.2 μm or more on the facing surfaces of the pair of electrodes. A method for manufacturing a vacuum valve has been proposed in which a thin film layer containing one type of main component is formed, and at least a part of the thin film layer is vapor-deposited on at least one of an insulating cylinder inner surface and an arc shield inner surface by applying current aging. (See, for example, Patent Document 1).
しかしながら、上述した特許文献1に記載の真空バルブの製造方法においては、電流エージングによって、電極の対向表面に形成した薄膜層の一部を絶縁円筒等の内面に蒸着させることから、薄膜層の一部を絶縁円筒等の内面に均等に蒸着させることが困難である。このため、真空容器内の真空度の低下を防止することができない事態が発生し得る。
However, in the method for manufacturing a vacuum valve described in
本発明はかかる実情に鑑みてなされたものであり、真空容器内の真空度の低下を確実に防止することができる真空バルブを提供することを目的の1つとする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and one of the objects of the present invention is to provide a vacuum valve capable of surely preventing a decrease in the degree of vacuum in a vacuum container.
本実施形態の真空バルブは、真空絶縁容器と、前記真空絶縁容器内に収納され、接離可能に構成された一対の電極と、前記電極に通電する通電軸と、前記電極を包囲するように配置されたアークシールドと、を有し、前記アークシールドにおける少なくとも前記一対の電極の対向面に対応する一部をチタン、バリウム、マグネシウムのいずれかで構成することを特徴とする。 The vacuum valve of the present embodiment surrounds the vacuum insulating container, a pair of electrodes housed in the vacuum insulating container and configured to be detachable, an energizing shaft that energizes the electrodes, and the electrodes. It has an arranged arc shield, and is characterized in that a part of the arc shield corresponding to at least the facing surfaces of the pair of electrodes is made of titanium, barium, or magnesium.
本実施形態の真空バルブは、真空絶縁容器と、前記真空絶縁容器内に収納され、接離可能に構成された一対の電極と、前記電極に通電する通電軸と、前記電極を包囲するように配置されたアークシールドと、を有し、前記アークシールドにおける少なくとも前記一対の電極の対向面に対応する一部に、チタン、バリウム、マグネシウムのいずれかでメッキ処理を施すことを特徴とする。 The vacuum valve of the present embodiment surrounds the vacuum insulating container, a pair of electrodes housed in the vacuum insulating container and configured to be detachable, an energizing shaft that energizes the electrodes, and the electrodes. It has an arranged arc shield, and at least a part of the arc shield corresponding to the facing surfaces of the pair of electrodes is plated with any of titanium, barium, and magnesium.
本発明によれば、真空容器内の真空度の低下を確実に防止することができる。 According to the present invention, it is possible to surely prevent a decrease in the degree of vacuum in the vacuum container.
(第1の実施の形態)
以下、本発明に係る真空バルブの実施の形態について、図面を参照して説明する。図1及び図2は、本実施の形態に係る真空バルブ1の構成を示す断面図である。なお、図1においては、真空バルブ1が有する一対の電極(後述する固定子電極51、可動子電極52)が閉極した場合について示し、図2においては、真空バルブ1が有する一対の電極が開極した場合について示している。
(First Embodiment)
Hereinafter, embodiments of the vacuum valve according to the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are cross-sectional views showing the configuration of the
図1に示すように、真空バルブ1は、概して筒形状を有する真空絶縁容器2を有している。例えば、真空絶縁容器2は、円筒形状を有し、図1及び図2に示す上下方向の端部に開口部21、22を有している。真空絶縁容器2は、例えば、アルミナセラミックで構成されるが、これに限定されない。真空絶縁容器2の下方に形成された開口部21には、固定側封着金具(以下、「固定側金具」という)31が接合されている。一方、真空絶縁容器2の上方に形成された開口部22には、可動側封着金具(以下、「可動側金具」という)32が接合されている。例えば、これらの固定側金具31及び可動側金具32は、真空絶縁容器2の開口部21、22にろう付け接合される。以下に示す真空バルブ1における構成要素間の接合についても、ろう付け接合が適用可能である。
As shown in FIG. 1, the
固定側金具31には、固定側通電軸41が接合されている。固定側通電軸41は、固定側金具31に貫通して固定されている。可動側金具32の内壁面には、ベローズ6の上端部が接合されている。ベローズ6の下端部は、後述する可動側通電軸42に固定されたベローズカバー7に接合されている。ベローズ6は、薄いステンレス鋼を蛇腹状に形成したもので、真空絶縁容器2の軸方向(図1、図2に示す上下方向)に沿って伸縮する。
A fixed-
可動側金具32及びベローズカバー7に貫通するように、可動側通電軸42が取り付けられている。可動側通電軸42の貫通する部分が、ベローズカバー7に接合されている。例えば、ベローズカバー7は、ステンレス等で形成されるが、これに限定されない。ベローズカバー7は、電流遮断時に発生するアークに伴って生じる金属蒸気がベローズ6に付着するのを防ぐ。これにより、ベローズ6が金属蒸気で汚損されることを防止している。
The movable
固定側通電軸41の端部(上端部)には、固定側電極51が接合されている。可動側通電軸42の端部(下端部)には、可動側電極52が接合されている。真空バルブ1(真空絶縁容器2)の内部で、固定側電極51と可動側電極52とは、対向するように配置されている。真空バルブ1の閉極時には、可動側電極52は、固定側電極51と接触しており(図1参照)、開極時には、可動側電極52は、固定側電極51と離間している(図2参照)。すなわち、固定側電極51及び可動側電極52(一対の電極)は、真空絶縁容器2内に収納され、接離可能に構成されている。
A fixed-
真空絶縁容器2内には、アークシールド8が設けられている。アークシールド8は、概して筒形状を有している。アークシールド8は、固定側電極51及び可動側電極52を包囲するように、真空絶縁容器2内に固定されている。アークシールド8は、電流遮断時に発生するアークに伴って生じる金属蒸気が真空絶縁容器2の内壁面に付着するのを防ぐ。これにより、真空絶縁容器2の内壁面の絶縁耐力が低下することを防止している。
An
第1の実施の形態に係る真空バルブ1において、アークシールド8は、ゲッター作用を有する金属材料で形成されている。ここで、ゲッター作用とは、気体分子を吸着することで排気を行う作用のことをいう。例えば、アークシールド8は、チタン(Ti)、バリウム(Ba)、マグネシウム(Mg)で構成される。ここでは、アークシールド8の全体(筒形状全体)がチタンで構成されるものとする。
In the
アークシールド8は、上下方向の端部に小径部8aを有すると共に、これらの小径部8aの間に大径部8bを有している。大径部8bは、アークシールド8における上下方向の中央部分に配置されている。アークシールド8は、大径部8bが一対の電極(固定側電極51及び可動側電極52)に対応する位置に配置されている。特に、アークシールド8は、固定側電極51と可動側電極52とが接触した際の対向面(固定側電極51の上面511、可動側電極52の下面521)が、アークシールド8の上下方向の中央に位置するように配置されている(図1参照)。
The
このような構成を有する真空バルブ1における開極時の動作について、図1〜図3を参照して説明する。図3は、第1の実施の形態に係る真空バルブ1が有するアークシールド8の周辺の拡大図である。図1に示す閉極状態から図2に示す開極状態に移行する場合、ベローズ6の縮小に伴って可動側通電軸42が引き上げられる。これに伴い、可動側電極52が上方側に移動し、固定側電極51から離間する。
The operation of the
可動側電極52が固定側電極51から離間する際、図示しないアークが発生する。このアークは、固定側電極51と可動側電極52との対向面(固定側電極51の上面511、可動側電極52の下面521)から拡散して発生し、その一部はアークシールド8の内壁面に接触する。アークシールド8にアークが接触すると、アークシールド8を構成するチタンの一部が蒸発し、チタン原子が放出する。或いは、アークから発生した中性粒子及びイオンがアークシールド8の内壁面に衝突することで、アークシールド8の表面からチタン原子が放出する。
When the
アークシールド8から放出されたチタン原子は、固定側電極51や固定側通電軸41の表面、可動側電極52や可動側通電軸42の表面、或いは、アークシールド8の内壁面に付着し、チタン膜を成膜する。このように成膜されたチタン膜は、ゲッター作用を有している。このため、アーク発生に伴って電極材料等から真空絶縁容器2内に放出された気体分子は、このチタン膜により吸着される。このため、アークの発生に伴って発生した気体分子により、真空絶縁容器2内の真空度が低下する事態が防止される。
Titanium atoms emitted from the
このように第1の実施の形態に係る真空バルブ1においては、アークシールド8をチタンで構成することから、開極時に発生するアークを利用してゲッター作用を有するチタン膜を固定側電極51や可動側電極52等の表面に成膜することができる。これにより、このチタン膜で真空絶縁容器2内に放出された気体分子を速やかに吸着することができるので、真空絶縁容器2内の真空度の低下を確実に防止することができる。この結果、真空バルブ1における遮断性能を維持することができる。
As described above, in the
なお、第1の実施の形態では、アークシールド8の全体をチタンで構成する場合について説明しているが、アークシールド8におけるチタンで構成される部分(領域)については、これに限定されず、適宜変更が可能である。アークシールド8におけるチタンで構成される部分(領域)は、一対の電極(固定側電極51及び可動側電極52)の対向面(固定側電極51の上面511、可動側電極52の下面521)に対応する一部を含むことを条件として任意の部分(領域)に設定することができる。ここで、一対の電極の対向面に対応する一部とは、図1に示す閉極した際の対向面と、図2に示す開極した際の対向面との間の部分(領域)をいう。
In the first embodiment, the case where the
例えば、一対の電極の対向面に対応する一部をチタンで構成する態様として、固定側電極51と可動側電極52との対向面に対応する部分(領域)のみをチタンで構成し、その他の部分をステンレス等の金属材料で構成することができる。この場合、アークシールド8における大径部8bをチタンで構成する一方、小径部8aをステンレスで構成し、これらを接合することができる。
For example, as an embodiment in which a part corresponding to the facing surfaces of the pair of electrodes is made of titanium, only the part (region) corresponding to the facing surfaces of the fixed
また、アークシールド8の全体をステンレス等の金属材料で構成し、その一対の電極(固定側電極51及び可動側電極52)の対向面に対応する一部にめっき処理を施すことでチタンめっき部を設けるようにしてもよい。さらに、アークシールド8の内壁面の全体にめっき処理を施すことで、内壁面全体にチタンめっき部を設けるようにしてもよい。なお、めっき処理には、電気めっきや溶融めっきを含む任意のめっき処理を使用することができる。これらのように変更する場合においても、上記と同様の効果を得ることができる。
Further, the
また、第1の実施の形態では、アークシールド8の一部又は全部をチタンで構成する場合について説明している。しかしながら、アークシールド8を形成する材料は、チタンに限定されず、バリウム(Ba)、マグネシウム(Mg)で構成してもよい。これらの金属材料に置換した場合においても、上記と同様の効果を得ることができる。
Further, in the first embodiment, a case where a part or all of the
(第2の実施の形態)
第2の実施の形態に係る真空バルブは、アークシールド8の構成において、第1の実施の形態に係る真空バルブ1と相違する。以下、第2の実施の形態に係る真空バルブの構成について、図4を参照して、第1の実施の形態に係る真空バルブ1との相違点を中心に説明する。図4は、第2の実施の形態に係る真空バルブが有するアークシールド8の周辺の拡大図である。図4において、第1の実施の形態に係る真空バルブ1と共通の構成については、同一の符号を付与し、その説明を省略する。
(Second Embodiment)
The vacuum valve according to the second embodiment is different from the
図4に示すように、第2の実施の形態に係るアークシールド8は、チタン製の筒状体(以下、「チタン筒状体」という)81を有している。チタン筒状体81は、大径部8bの内側に接合(例えば、ろう付け接合)される。この場合、チタン筒状体81は、一対の電極(固定側電極51及び可動側電極52)の対向面に対応する位置に配置される。なお、第2の実施の形態においては、アークシールド8のうち、このチタン筒状体81以外の部分は、例えば、ステンレスで構成することができるが、これに限定されない。
As shown in FIG. 4, the
このように第2の実施の形態に係る真空バルブにおいては、アークシールド8における固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応する一部にチタン筒状体81が接合されている。このため、第1の実施の形態に係るアークシールド8と同様に、開極時に発生するアークを利用してゲッター作用を有するチタン膜を固定側電極51や可動側電極52等の表面に成膜することができる。これにより、このチタン膜で真空絶縁容器2内に放出された気体分子を速やかに吸着することができるので、真空絶縁容器2内の真空度の低下を確実に防止することができる。
As described above, in the vacuum valve according to the second embodiment, the
特に、第2の実施の形態に係る真空バルブにおいては、チタン筒状体81をアークシールド8の一部に接合していることから、第1の実施の形態と比べて、アークシールド8におけるチタンの使用量を低減することができる。これにより、アークシールド8の製造に要するコストを低減することができる。
In particular, in the vacuum valve according to the second embodiment, since the
このようにチタン筒状体81を接合する態様では、チタン筒状体81以外のアークシールド8を複数の部品で構成することが好ましい。例えば、チタン筒状体81以外のアークシールド8を垂直方向、或いは、水平方向に2分割した構成とし、内部にチタン筒状体81を収容した状態で2部品を一体化することは実施の形態として好ましい。この場合には、アークシールド8の製造の際の作業効率を向上することができる。なお、図4では、チタン筒状体81以外のアークシールド8を垂直方向に2分割した例を示している。チタン筒状体81以外のアークシールド8は、大径部8bの下方側部分で上下方向に分割される。
In the embodiment in which the
(第3の実施の形態)
第3の実施の形態に係る真空バルブは、アークシールド8の構成において、第2の実施の形態に係る真空バルブと相違する。以下、第3の実施の形態に係る真空バルブの構成について、図5を参照して、第2の実施の形態に係る真空バルブとの相違点を中心に説明する。図5は、第3の実施の形態に係る真空バルブが有するアークシールド8の周辺の拡大図である。図5において、第1の実施の形態に係る真空バルブ1と共通の構成については、同一の符号を付与し、その説明を省略する。また、図5においては、説明の便宜上、固定側電極51及び可動側電極52等を省略している。
(Third Embodiment)
The vacuum valve according to the third embodiment is different from the vacuum valve according to the second embodiment in the configuration of the
図5に示すように、第3の実施の形態に係るアークシールド8には、大径部8bの内壁面に複数のチタン製の環状体(以下、「チタン環状体」という)82が接合(例えば、ろう付け接合)されている。これらのチタン環状体82は、固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応するように、上下方向(可動側電極52の移動方向)に間隔を空けて配列されている。なお、第3の実施の形態においては、アークシールド8のうち、このチタン環状体82以外の部分は、例えば、ステンレスで構成することができるが、これに限定されない。
As shown in FIG. 5, a plurality of titanium annular bodies (hereinafter referred to as “titanium annular bodies”) 82 are joined to the inner wall surface of the
このように第3の実施の形態に係るアークシールド8においては、固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応する一部にチタン環状体82が接合されている。このため、第1の実施の形態に係るアークシールド8と同様に、開極時に発生するアークを利用してゲッター作用を有するチタン膜を固定側電極51や可動側電極52等の表面に成膜することができる。これにより、このチタン膜で真空絶縁容器2内に放出された気体分子を速やかに吸着することができるので、真空絶縁容器2内の真空度の低下を確実に防止することができる。
As described above, in the
特に、第3の実施の形態に係る真空バルブにおいては、複数のチタン環状体82を可動側電極52の移動方向(図5に示す上下方向)に間隔を空けて大径部8bの内壁面に接合している。言い換えると、第3の実施の形態に係る真空バルブにおいては、アークシールド8に形成されるチタンの部分(領域)が、可動側電極52の移動方向に沿って配列される複数の領域に分割されている。このため、第2の実施の形態と比べて、アークシールド8に用いるチタンの量を低減することができる。これにより、アークシールド8の製造に要するコストを更に低減することができる。
In particular, in the vacuum valve according to the third embodiment, a plurality of titanium
なお、第3の実施の形態に係るアークシールド8においては、チタン環状体82が一定間隔で大径部8bの内壁面に接合される場合について示している。一般に、開極時に発生するアークは、固定側電極51から可動側電極52が離間する位置(すなわち、図2に示す固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応する位置)の周辺に集中しやすい。このため、チタン環状体82間の間隔は、固定側電極51から可動側電極52が離間する位置から離れるに連れて大きくしてもよい。この場合には、真空絶縁容器2内の真空度の低下を防止する作用を維持しつつ、アークシールド8に用いるチタンの量を低減することができる。
The
(第4の実施の形態)
第4の実施の形態に係る真空バルブは、アークシールド8の構成において、第3の実施の形態に係る真空バルブと相違する。以下、第4の実施の形態に係る真空バルブの構成について、図6を参照して、第3の実施の形態に係る真空バルブとの相違点を中心に説明する。図6は、第4の実施の形態に係る真空バルブが有するアークシールド8の周辺の拡大図である。図6において、第1の実施の形態に係る真空バルブ1と共通の構成については、同一の符号を付与し、その説明を省略する。また、図6においては、説明の便宜上、固定側電極51及び可動側電極52等を省略している。
(Fourth Embodiment)
The vacuum valve according to the fourth embodiment is different from the vacuum valve according to the third embodiment in the configuration of the
図6に示すように、第4の実施の形態に係るアークシールド8の内壁面には、複数(ここでは、2つ)のチタン環状体82に加え、複数のチタン製の長尺体(以下、「チタン長尺体」という)83が接合(例えば、ろう付け接合)されている。チタン環状体82は、固定側電極51と可動側電極52との対向面に対応する位置の周辺に配置されている。また、チタン長尺体83は、チタン環状体82の外側(図6に示す上下方向の外側)に配置されている。チタン長尺体83は、チタン環状体82から離れるに連れて、その長さが短く構成されている。第4の実施の形態に係る真空バルブにおいては、アークシールド8のうち、このチタン環状体82及びチタン長尺体83以外の部分は、例えば、ステンレスで構成することができるが、これに限定されない。
As shown in FIG. 6, on the inner wall surface of the
このように第4の実施の形態に係るアークシールド8においては、可動側電極52及び可動側通電軸42の対向面に対応する一部にチタン環状体82及びチタン長尺体83が接合されている。このため、第1の実施の形態に係るアークシールド8と同様に、開極時に発生するアークを利用してゲッター作用を有するチタン膜を固定側電極51や可動側電極52等の表面に成膜することができる。これにより、このチタン膜で真空絶縁容器2内に放出された気体分子を速やかに吸着することができるので、真空絶縁容器2内の真空度の低下を確実に防止することができる。
As described above, in the
特に、第4の実施の形態に係るアークシールド8においては、一部のチタン環状体82に代えて、チタン長尺体83を内壁面に接合している。言い換えると、第4の実施の形態に係るアークシールド8においては、アークシールド8に形成されるチタンの部分(領域)が、固定側電極51から可動側電極52が離間する位置(すなわち、図2に示す固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応する位置)から離れるに連れて小さくなっている。このため、第3の実施の形態と比べて、アークシールド8に用いるチタンの量を低減することができる。これにより、アークシールド8の製造に要するコストを更に低減することができる。
In particular, in the
一般に、閉極時に発生するアークは、固定側電極51から可動側電極52が離間する位置(すなわち、図2に示す固定側電極51及び可動側電極52の対向面に対応する位置)の周辺に集中しやすい。このため、チタン環状体82及びチタン長尺体83間の間隔は、固定側電極51から可動側電極52が離間する位置から離れるに連れて大きくしてもよい。この場合には、真空絶縁容器2内の真空度の低下を防止する作用を維持しつつ、アークシールド8に用いるチタンの量を低減することができる。
Generally, the arc generated at the time of closing is around the position where the
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている構成要素の大きさや形状、機能などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified in various ways. In the above embodiment, the size, shape, function, and the like of the components shown in the accompanying drawings are not limited to this, and can be appropriately changed within the range in which the effects of the present invention are exhibited. In addition, it can be appropriately modified and implemented as long as it does not deviate from the scope of the object of the present invention.
例えば、上記実施の形態においては、アークシールド8の一部をチタン、バリウム、マグネシウムのいずれかで構成し、或いは、アークシールド8の一部にチタン、バリウム、マグネシウムのいずれかでメッキ処理を施す場合について説明している。しかしながら、アークシールド8がゲッター作用を奏することを条件として、アークシールド8の材料、或いは、アークシールド8に対するメッキ材料は、上述した材料を混合してもよい。
For example, in the above embodiment, a part of the
本発明の真空バルブは、真空容器内の真空度の低下を防止することができるという効果を有し、特に、任意の電力施設に設備される真空バルブに適用することができる。 The vacuum valve of the present invention has an effect of being able to prevent a decrease in the degree of vacuum in the vacuum container, and is particularly applicable to a vacuum valve installed in any electric power facility.
1 :真空バルブ
2 :真空絶縁容器
21 :開口部
22 :開口部
31 :固定側金具
32 :可動側金具
41 :固定側通電軸
42 :可動側通電軸
51 :固定側電極
52 :可動側電極
6 :ベローズ
7 :ベローズカバー
8 :アークシールド
8a :小径部
8b :大径部
81 :チタン筒状体
82 :チタン環状体
83 :チタン長尺体
1: Vacuum valve 2: Vacuum insulated container 21: Opening 22: Opening 31: Fixed side metal fitting 32: Movable side metal fitting 41: Fixed side energizing shaft 42: Movable side energizing shaft 51: Fixed side electrode 52: Movable side electrode 6 : Bellows 7: Bellows cover 8:
Claims (6)
前記真空絶縁容器内に収納され、接離可能に構成された一対の電極と、
前記電極に通電する通電軸と、
前記電極を包囲するように配置されたアークシールドと、を有し、
前記アークシールドにおける少なくとも前記一対の電極の対向面に対応する一部をチタン、バリウム、マグネシウムのいずれかで構成することを特徴とする真空バルブ。 Vacuum insulated container and
A pair of electrodes housed in the vacuum insulating container and configured to be detachable,
An energizing shaft that energizes the electrodes and
It has an arc shield arranged so as to surround the electrode.
A vacuum valve characterized in that at least a part of the arc shield corresponding to the facing surfaces of the pair of electrodes is made of titanium, barium, or magnesium.
前記真空絶縁容器内に収納され、接離可能に構成された一対の電極と、
前記電極に通電する通電軸と、
前記電極を包囲するように配置されたアークシールドと、を有し、
前記アークシールドにおける少なくとも前記一対の電極の対向面に対応する一部に、チタン、バリウム、マグネシウムのいずれかでめっき処理を施すことを特徴とする真空バルブ。 Vacuum insulated container and
A pair of electrodes housed in the vacuum insulating container and configured to be detachable,
An energizing shaft that energizes the electrodes and
It has an arc shield arranged so as to surround the electrode.
A vacuum valve characterized in that at least a part of the arc shield corresponding to the facing surfaces of the pair of electrodes is plated with titanium, barium, or magnesium.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019169319A JP2021048029A (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Vacuum valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019169319A JP2021048029A (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Vacuum valve |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021048029A true JP2021048029A (en) | 2021-03-25 |
Family
ID=74878659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019169319A Withdrawn JP2021048029A (en) | 2019-09-18 | 2019-09-18 | Vacuum valve |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021048029A (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49129162A (en) * | 1973-04-18 | 1974-12-11 | ||
JPS5618638U (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-18 | ||
JPS60112241A (en) * | 1983-11-18 | 1985-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum discharge tube and its manufacturing method |
JPH0465041A (en) * | 1990-07-03 | 1992-03-02 | Meidensha Corp | Shield installing structure in vacuum interrupter |
JPH04351819A (en) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Toshiba Corp | Vacuum valve |
JP2004281059A (en) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum valve |
JP2012022812A (en) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Toshiba Corp | Vacuum valve |
JP2013517607A (en) * | 2010-01-20 | 2013-05-16 | シーメンス アクティエンゲゼルシャフト | Vacuum switch tube |
-
2019
- 2019-09-18 JP JP2019169319A patent/JP2021048029A/en not_active Withdrawn
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49129162A (en) * | 1973-04-18 | 1974-12-11 | ||
JPS5618638U (en) * | 1979-07-23 | 1981-02-18 | ||
JPS60112241A (en) * | 1983-11-18 | 1985-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum discharge tube and its manufacturing method |
JPH0465041A (en) * | 1990-07-03 | 1992-03-02 | Meidensha Corp | Shield installing structure in vacuum interrupter |
JPH04351819A (en) * | 1991-05-29 | 1992-12-07 | Toshiba Corp | Vacuum valve |
JP2004281059A (en) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum valve |
JP2013517607A (en) * | 2010-01-20 | 2013-05-16 | シーメンス アクティエンゲゼルシャフト | Vacuum switch tube |
JP2012022812A (en) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Toshiba Corp | Vacuum valve |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO1999028942A1 (en) | X-ray tube | |
CN113678219A (en) | Vacuum valve | |
JP6945528B2 (en) | Maximize the wall thickness of the Cu-Cr floating central shield component by separating the contact gap from the axial position of the central flange. | |
US1281917A (en) | Seal. | |
EP0129080B1 (en) | Vacuum interrupter | |
JP2021048029A (en) | Vacuum valve | |
RU2643737C2 (en) | Method of metalizing ceramics for the ceramic-metal transition and obtaining the ceramic-metal transition itself | |
US5753876A (en) | Clad end seal for vacuum interrupter | |
JP2008204865A (en) | Vacuum valve | |
JP2012146554A (en) | Vacuum valve | |
JP2009245727A (en) | X-ray source | |
TWI741320B (en) | Components for plasma processing equipment | |
US11862417B2 (en) | Vacuum interrupter | |
JP2011096482A (en) | Vacuum valve | |
JP2010282923A (en) | Vacuum valve | |
JP2013048034A (en) | Vacuum valve | |
JP6847783B2 (en) | Vacuum valve manufacturing method | |
JPWO2016006155A1 (en) | Insulator target | |
US8314556B2 (en) | Magnetron | |
JP7304798B2 (en) | vacuum valve | |
JP2007087845A (en) | Vacuum valve | |
US1196474A (en) | Vacuum-tube device. | |
JP7446524B2 (en) | vacuum valve | |
JP2023154158A (en) | vacuum valve | |
JP2011258320A (en) | Vacuum valve |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220810 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230509 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20230718 |