JP2009245727A - X-ray source - Google Patents
X-ray source Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009245727A JP2009245727A JP2008090342A JP2008090342A JP2009245727A JP 2009245727 A JP2009245727 A JP 2009245727A JP 2008090342 A JP2008090342 A JP 2008090342A JP 2008090342 A JP2008090342 A JP 2008090342A JP 2009245727 A JP2009245727 A JP 2009245727A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrodes
- electrostatic lens
- ray source
- insulating plates
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
本発明は、X線を放出するX線源に関する。 The present invention relates to an X-ray source that emits X-rays.
一般的に、特に微小焦点を有するX線源は、マイクロフォーカスX線源として既に製品化がなされており、対象物の微小領域を高分解能で検査する非破壊検査装置などに広く利用されている。このX線源は、電子銃から放出される電子ビームを電磁レンズにより収束させ、ターゲット表面のμmオーダ、またはそれ以下の狭い領域に焦点を持たせて、そこで放出されるX線を、ターゲットを透過させて放出させる構成が採られている(例えば、特許文献1参照。)。 In general, an X-ray source having a micro focus has been already commercialized as a micro focus X-ray source, and is widely used in a nondestructive inspection apparatus for inspecting a micro area of an object with high resolution. . In this X-ray source, an electron beam emitted from an electron gun is converged by an electromagnetic lens and focused on a narrow area of the target surface on the order of μm or less, and the X-ray emitted there A configuration in which light is transmitted through and released is employed (for example, see Patent Document 1).
一定量の電流値で、電子ビームを小さなスポットに収束させるためには、電子銃と電磁レンズとを、マッチングを採って設計することが重要であるが、現在では、様々な工夫を凝らすことによって、0.1μmに迫る微小焦点のX線源が達成されている。 In order to focus the electron beam to a small spot with a certain amount of current value, it is important to design the electron gun and electromagnetic lens by matching, but now, by making various efforts A microfocus X-ray source approaching 0.1 μm has been achieved.
このX線源の本体部であるX線管は、その収束機構(レンズ)として電磁石で構成した磁界レンズ方式と、複数の電極で構成した静電レンズ方式に分類でき、前者は100kVを越える高電圧加速への対応が容易である反面、大型なものとなり、後者は50kV以下の加速電圧で小型なものとなることが特徴として挙げられる。 The X-ray tube which is the main body of this X-ray source can be classified into a magnetic lens system composed of electromagnets and an electrostatic lens system composed of a plurality of electrodes as its focusing mechanism (lens). While it is easy to cope with voltage acceleration, it is large, and the latter is characterized by being small at an acceleration voltage of 50 kV or less.
軟X線のエネルギー領域までのX線を放出させることができる低電圧加速の静電レンズ方式である微小焦点型X線管は、近年、有機系材料を多用するような製品分野、製薬の分野、さらには細胞に至るような軽元素で構成される微小な対象物に対する高分解能検査の要求が高まっていることから、産業ニーズの急速な増加が期待できるものである。 The micro-focus X-ray tube, which is a low-voltage acceleration electrostatic lens system capable of emitting X-rays up to the energy range of soft X-rays, has recently been used in product fields and pharmaceutical fields where organic materials are frequently used. Furthermore, since there is an increasing demand for high-resolution inspections of minute objects composed of light elements that reach cells, industrial demand can be expected to increase rapidly.
電子ビームを収束するための静電レンズを構成する場合、電子ビームが通過する孔を備えた電極を複数枚、絶縁を維持して軸方向に直列に並べたものが必要となる。電極間の絶縁を保つためにはセラミックスなどの絶縁材で形成された円筒型の絶縁筒を使用し、複数の電極間に絶縁筒を配置した段積み構造を採っている。一般的なX線管では、高温でのベーキング処理を施すので、この温度に耐えるため電極と絶縁筒の接着は、ロウ付けなどの接合方法が利用される。 When an electrostatic lens for converging an electron beam is configured, a plurality of electrodes each having a hole through which the electron beam passes are arranged in series in the axial direction while maintaining insulation. In order to maintain insulation between the electrodes, a cylindrical insulating cylinder formed of an insulating material such as ceramics is used, and a stacked structure is adopted in which insulating cylinders are arranged between a plurality of electrodes. Since a general X-ray tube is baked at a high temperature, a bonding method such as brazing is used to bond the electrode and the insulating cylinder in order to withstand this temperature.
電子ビームに対して光学設計どおりの収束性能を発揮するためには、軸方向に段積みされた電極の軸精度と平行度が十分維持された静電レンズを構成することが必要条件となる。そのため、段積み構造の静電レンズの場合には、十分な精度で加工・製造された電極と絶縁筒などの部品を使用すること、軸精度を保障するために電極と絶縁筒が嵌合するような形状とすること、さらに組み立て時には、専用の治具を使用するなどの措置、工夫が必要となる。 In order to exhibit the focusing performance as designed by the optical design with respect to the electron beam, it is necessary to configure an electrostatic lens in which the axial accuracy and parallelism of the electrodes stacked in the axial direction are sufficiently maintained. Therefore, in the case of an electrostatic lens having a stacked structure, it is necessary to use parts such as an electrode and an insulating tube processed and manufactured with sufficient accuracy, and the electrode and the insulating tube are fitted to ensure axial accuracy. It is necessary to take measures and measures such as using a special jig when forming such a shape.
また、電極間に加える電圧は、最大で電子ビームの加速電圧と同等のものとなるため、この電圧に対して空間絶縁破壊、および沿面絶縁破壊を引き起こさないような絶縁距離を有する絶縁筒を備えることが必要となる。
一般に、電子ビームをターゲット表面上で1μm以下のサイズに収束するような微小焦点型X線管の場合には、静電レンズを構成する電極の軸心精度として概ね±10μm程度が求められる。このように、段積み構造の静電レンズでは、上述したように部品の加工精度を高くすることが要求され、これは、加工方法が難しい絶縁筒も同様となる。かかる理由により、絶縁筒の製造コストは非常に高いものとなる。さらに、絶縁筒の長さに対して十分な沿面絶縁距離を確保できない場合には、絶縁筒の内、外壁に凹凸加工を施すことが必要となり、この加工を施すことによって絶縁筒はさらに高価格なものとなる。 In general, in the case of a microfocus X-ray tube that converges an electron beam to a size of 1 μm or less on the target surface, an axial accuracy of the electrodes constituting the electrostatic lens is required to be approximately ± 10 μm. In this way, in the electrostatic lens having a stacked structure, it is required to increase the processing accuracy of the parts as described above, and this also applies to the insulating cylinder that is difficult to process. For this reason, the manufacturing cost of the insulating cylinder is very high. Furthermore, when a sufficient creepage insulation distance cannot be secured with respect to the length of the insulating cylinder, it is necessary to perform uneven processing on the inner and outer walls of the insulating cylinder. It will be something.
また、電極に電子ビームが入射することによって放出されるガスは、絶縁筒と電極間に滞りやすく、すなわちコンダクタンス的に望ましくない構造となっている。これにより、X線管の真空容器の内部で局部的に真空度が劣化し、電子ビームの軌道を安定に維持するのに支障をきたすものとなる。 Further, the gas released when the electron beam is incident on the electrode is likely to stagnate between the insulating cylinder and the electrode, that is, it has an undesired structure in terms of conductance. As a result, the degree of vacuum locally deteriorates inside the vacuum vessel of the X-ray tube, and this hinders the stable maintenance of the electron beam trajectory.
また、段積み構造の静電レンズでは、絶縁筒に挟み込まれている中間の電極への配線に難易性がある。 In addition, in the electrostatic lens having a stacked structure, wiring to the intermediate electrode sandwiched between the insulating cylinders is difficult.
また、電子銃の有する電極についても絶縁筒を用いて支持しており、静電レンズと同様の問題がある。 In addition, the electrode of the electron gun is also supported using an insulating cylinder, and there is a problem similar to that of an electrostatic lens.
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、電極の性能および機能を維持しながら、電極付近でのガスの停滞、電極への配線の難易性、高価格の課題を解決できるX線源を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such points, and while maintaining the performance and function of the electrode, X-rays that can solve the problems of gas stagnation near the electrode, difficulty of wiring to the electrode, and high cost. The purpose is to provide a source.
本発明は、電極を有し、電子ビームを発生する電子銃と、この電子銃が発生する電子ビームを収束する電極を有する静電レンズと、前記電子銃および前記静電レンズの少なくとも一方の電極を挟み込んで保持する複数の絶縁体とを具備しているものである。 The present invention includes an electron gun having an electrode and generating an electron beam, an electrostatic lens having an electrode for converging the electron beam generated by the electron gun, and at least one electrode of the electron gun and the electrostatic lens And a plurality of insulators that sandwich and hold them.
また、本発明は、電極を有し、電子ビームを発生する電子銃と、この電子銃が発生する電子ビームを収束する電極を有する静電レンズと、前記電子銃および前記静電レンズの少なくとも一方の電極を取り付ける電極支持体と、この電極支持体を挟み込んで保持する複数の絶縁体とを具備しているものである。 The present invention also provides an electron gun having an electrode and generating an electron beam, an electrostatic lens having an electrode for converging the electron beam generated by the electron gun, and at least one of the electron gun and the electrostatic lens An electrode support to which the electrode is attached, and a plurality of insulators that sandwich and hold the electrode support.
本発明によれば、複数の絶縁体により電子銃および静電レンズの少なくとも一方の電極を挟み込んで保持するため、電極の性能および機能を維持しながら、電極付近でのガスの停滞、電極への配線の難易性、高価格の課題を解決できる。 According to the present invention, since at least one electrode of the electron gun and the electrostatic lens is sandwiched and held by a plurality of insulators, gas stagnation in the vicinity of the electrode, It can solve the difficulty of wiring and the problem of high price.
また、本発明によれば、複数の絶縁体により電極支持体を挟み込んで保持し、この電極支持体に電子銃および静電レンズの少なくとも一方の電極を取り付けるため、電極の性能および機能を維持しながら、電極付近でのガスの停滞、電極への配線の難易性、高価格の課題を解決でき、さらに、使用可能な電極の自由度が高くなり、収束特性を向上できる。 Further, according to the present invention, the electrode support is sandwiched and held by a plurality of insulators, and at least one electrode of the electron gun and the electrostatic lens is attached to the electrode support, so that the performance and function of the electrode are maintained. However, it is possible to solve the problems of gas stagnation near the electrodes, difficulty in wiring to the electrodes, and high cost, and the degree of freedom of usable electrodes is increased, thereby improving the convergence characteristics.
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1および図2に第1の実施の形態を示す。 1 and 2 show a first embodiment.
X線源11は、微小焦点型X線管であり、内部が真空保持される真空容器12を有し、この真空容器12の一端にX線13を外部に放出するX線放出窓を兼ねたターゲット14が配設されている。
The
真空容器12内には、ターゲット14へ向けて電子ビーム15を発生する電子銃16、この電子ビーム15を収束してターゲット14に入射させる静電レンズ17、これら電子銃16や静電レンズ17と外部とを接続するための絶縁導入端子18などが配設されている。
In the
そして、電子銃16は、電子ビーム15を発生する電子源(エミッタ)21、クロスオーバを形成して目的の電圧で加速する電極としての抑制電極(ウェネルト電極またはサプレッサ電極と称せられる)22、およびこの抑制電極22を真空容器12に支持する絶縁筒23を備えている。抑制電極22は、カップ状で、電子ビーム15が通過する孔24が形成されている。
The
また、静電レンズ17は、金属製の複数の電極31を用いて構成されており、本例では3枚の電極31(第1の電極31a、第2の電極31b、第3の電極31c)を用いた3極構造のレンズ構成を例としている。一般に、中間に配置される第2の電極31bには加速電圧に近い電圧が印加され、第1および第3の電極31a,31cは接地電位またはそれに近い電圧が印加される。これら電極31は、四角形の板状で、中央には電子ビームが通過する孔32が形成されている。
In addition, the
これら電極31は複数の絶縁体として2枚の絶縁板33で挟み込んで保持している。これら絶縁板33は、金属製の電極31とロウ接合するためにセラミックス製で、電極31を挟み込む面に複数本の溝34が形成され、この溝34に3枚の電極31の縁部をロウ材35とともに嵌合して接合固定されている。溝34の数は、電極31の数よりも多く設けられている。なお、図2には、電極31を嵌合する溝34以外の溝34は省略して図示している。また、電極31を挟み込んで保持した絶縁板33は真空容器12側に支持される。
These
3枚の電極31と2枚の絶縁板33との接合時には、電極31の軸精度、平行度を確保するための治具を用いて保持した3枚の電極31に2枚の絶縁板33を接合するため、2枚の絶縁板33は設置精度には寄与せず、単に3枚の電極31の支持および固定の役割を果たすものとなる。そのため、絶縁板33は高い形状精度を必要とせず、安価なものとすることが可能となる。
When joining the three
ロウ材35は、金属製の電極31とセラミックス製の絶縁板33とを直接接合するため、セラミックスの接合面にメタライズ処理を必要としない活性ロウ材を使用するのが好ましい。
Since the brazing
そして、X線源11では、電子銃16内の電子源21から放出された電子ビーム15が、抑制電極22の孔24の近傍で一度クロスオーバを形成して目的の電圧で加速された後、静電レンズ17によって収束作用を受け、ターゲット14の表面で焦点を形成する。X線13は、ターゲット14の焦点部分から発生し、ターゲット14を透過してX線源11外へ放出される。
In the
このように構成されたX線源11の静電レンズ17は、電極31の2枚の絶縁板33が配置される方向とは交差する両側面が開いた構造となるため、電極31に電子ビーム15が入射することによって放出されるガスは電極31間に溜まりにくく、さらに、中間の第2の電極31bの電位を決めるための配線の接続も容易となる。
Since the
したがって、静電レンズ17の電極31を2枚の絶縁板33で挟み込んで保持する構造を採ることにより、電極31の性能および機能を維持しながら、電極31付近でのガスの停滞、電極31への配線の難易性、高価格の課題を解決できる。
Therefore, by adopting a structure in which the
次に、図3に第2の実施の形態を示す。 Next, FIG. 3 shows a second embodiment.
第1の実施の形態の静電レンズ17のように2枚の絶縁板33で電極31を挟み込んで保持する構成を、電子銃16にも適用した例である。
This is an example in which the configuration in which the
電子銃16の抑制電極22を2枚の絶縁板33で挟み込んで保持し、真空容器12側に支持する。抑制電極22の外面には絶縁板33の溝34に嵌合されてロウ材35で接合される板部41が突設されている。真空容器12側にも、絶縁板33の溝34に嵌合されてロウ材35で接合される板部42が突設されている。
The
そして、電子銃16において、抑制電極22の2枚の絶縁板33が配置される方向とは交差する両側面が開いた構造となるため、抑制電極22に電子ビーム15が入射することによって放出されるガスが排出しやすくなって抑制電極22の付近に溜まりにくくすることができる。
Since the
微小焦点型X線管であるX線源11では、その特徴上、電子銃16から放出された電子ビーム15の多くが静電レンズ17に入射する直前でカットされるが、その原因が電子銃16から放出された電子ビーム15が抑制電極22に入射して放出するガスが多くなることが考えられ、ガスを排出しやすくなって抑制電極22の付近に溜まりにくくすることが有効な対処方法となる。
The
このように、ガス放出の対処を向上させたX線源11を提供できる。
In this way, the
次に、図4および図5に第3の実施の形態を示す。 Next, FIGS. 4 and 5 show a third embodiment.
静電レンズ17において、絶縁板33に溝34を形成することにより、電極31間の沿面絶縁距離を増加させることが可能となり、これは電極31間の溝34の数を増やすことによりさらに効果を増大させることができる。
In the
強度の高い静電レンズ17を形成するためには、電極31間に高い電界を形成することが求められるので、沿面絶縁距離を維持するためにむやみに絶縁板33の長さを増加することは電子光学設計上好ましくないものとなる。特に高い電圧で加速された電子ビーム15に対しては、電極31間の距離を変えずに沿面絶縁距離を増加できる溝34の施工方法は、レンズ強度を維持しながらコンパクトにX線源11を構成するうえで効果的なものとなる。
In order to form the high-strength
しかし、沿面距離は、電極31間の絶縁板33の全周方向のパス(放電走破経路)に対して考慮することが必要であり、そのため、絶縁板33の電極31を挟み込む面だけでなく、その裏面と側面にも溝34を連続して形成することが必要となる。
However, it is necessary to consider the creepage distance with respect to the path (discharge path) in the entire circumferential direction of the insulating
これにより、電極間距離を変えることなく、沿面絶縁距離を増加させることができ、強度の高い静電レンズ17を提供することが可能となる。
As a result, the creeping insulation distance can be increased without changing the inter-electrode distance, and the
また、電子銃16の絶縁板33についても同様である。
The same applies to the insulating
このように、高い加速電圧でもコンパクトなサイズを維持したX線源11を提供できる。
Thus, the
次に、図6および図7に第4の実施の形態を示す。 Next, FIGS. 6 and 7 show a fourth embodiment.
2枚の絶縁板33に電極支持体としての電極支持板51を先に接合し、その後、電極支持板51に電極31を接合するという二段階の接合方法を採った構造を特徴とするものである。電極支持板51は、電極31と同じ外形を有し、内側には電極31の外形より少し小さい開口部52が形成されている。
It is characterized by a structure employing a two-step joining method in which an
静電レンズ17の収束性能を高めるためには、それを構成する電極31が平面型だけでは十分でなく、幾つかをカップ状など様々な立体形状を持ったものを適用することが求められる。このような要求に対応するため、立体構造を持った電極31を装着しやすいよう絶縁板33に接続する電極支持板51と電極31とを分離し、順をおって接合、組み立てていける構造を採るものとする。
In order to improve the convergence performance of the
図6および図7には、静電レンズ17の中間の第2の電極31bをカップ状の形状にしたもので、これにより面収差の小さな静電レンズ17を構成することができ、電子ビーム15の収束特性を向上させることができる。
6 and 7, the
このように、収差特性を改善した静電レンズ17や電子銃16を具備し、焦点サイズ性能を向上させたX線源11を提供できる。
As described above, it is possible to provide the
11 X線源
15 電子ビーム
16 電子銃
17 静電レンズ
22 電極としての抑制電極
31 電極
33 絶縁体としての絶縁板
34 溝
51 電極支持体としての電極支持板
11 X-ray source
15 electron beam
16 electron gun
17 Electrostatic lens
22 Suppression electrode as electrode
31 electrodes
33 Insulation plate as an insulator
34 Groove
51 Electrode support plate as electrode support
Claims (5)
この電子銃が発生する電子ビームを収束する電極を有する静電レンズと、
前記電子銃および前記静電レンズの少なくとも一方の電極を挟み込んで保持する複数の絶縁体と
を具備していることを特徴とするX線源。 An electron gun having an electrode and generating an electron beam;
An electrostatic lens having an electrode for converging the electron beam generated by the electron gun;
An X-ray source comprising: a plurality of insulators that sandwich and hold at least one electrode of the electron gun and the electrostatic lens.
この電子銃が発生する電子ビームを収束する電極を有する静電レンズと、
前記電子銃および前記静電レンズの少なくとも一方の電極を取り付ける電極支持体と、
この電極支持体を挟み込んで保持する複数の絶縁体と
を具備していることを特徴とするX線源。 An electron gun having an electrode and generating an electron beam;
An electrostatic lens having an electrode for converging the electron beam generated by the electron gun;
An electrode support to which at least one electrode of the electron gun and the electrostatic lens is attached;
An X-ray source comprising: a plurality of insulators that sandwich and hold the electrode support.
ことを特徴とする請求項1記載のX線源。 The X-ray source according to claim 1, wherein the insulator is provided with a groove for fitting the electrode.
ことを特徴とする請求項2記載のX線源。 The X-ray source according to claim 2, wherein a groove for fitting the electrode support is provided in the insulator.
ことを特徴とする請求項3または4記載のX線源。 The X-ray source according to claim 3 or 4, wherein the groove of the insulator is provided on the entire circumference of the insulator.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008090342A JP2009245727A (en) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | X-ray source |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008090342A JP2009245727A (en) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | X-ray source |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009245727A true JP2009245727A (en) | 2009-10-22 |
Family
ID=41307395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008090342A Withdrawn JP2009245727A (en) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | X-ray source |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009245727A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011134498A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Toshiba Corp | X-ray tube |
KR101084574B1 (en) * | 2010-05-14 | 2011-11-17 | 한국생산기술연구원 | Lens module for high voltage-small size electron beam device |
WO2014017766A1 (en) * | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 경희대학교 산학협력단 | Digital x-ray source |
EP2768010A2 (en) | 2013-02-19 | 2014-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation tube and radiation imaging system using the tube |
-
2008
- 2008-03-31 JP JP2008090342A patent/JP2009245727A/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011134498A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Toshiba Corp | X-ray tube |
KR101084574B1 (en) * | 2010-05-14 | 2011-11-17 | 한국생산기술연구원 | Lens module for high voltage-small size electron beam device |
WO2014017766A1 (en) * | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 경희대학교 산학협력단 | Digital x-ray source |
US9728367B2 (en) | 2012-07-27 | 2017-08-08 | University-Industry Cooperation Group Of Kyung Hee University | Digital X-ray source |
EP2768010A2 (en) | 2013-02-19 | 2014-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation tube and radiation imaging system using the tube |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101868009B1 (en) | Field Emission X-ray Tube and Method of Focusing Electron Beam Using the Same | |
US10559446B2 (en) | Vacuum closed tube and X-ray source including the same | |
JP4504344B2 (en) | X-ray source | |
JP6859450B2 (en) | Multiple reflection time-of-flight mass spectrometer and mass spectroscopic analysis method | |
KR101988538B1 (en) | X-ray generating apparatus | |
US7720199B2 (en) | X-ray tube and X-ray source including same | |
JP6223973B2 (en) | X-ray tube | |
JP2007103318A (en) | X-ray tube | |
KR102188055B1 (en) | X-ray source | |
US7664229B2 (en) | X-ray tube and x-ray source including same | |
JP2009245727A (en) | X-ray source | |
JP2013101879A5 (en) | ||
JP2009026600A (en) | Electron gun, and x-ray source | |
US20090160332A1 (en) | Photomultiplier Tube, Radiation Detecting Device, and Photomultiplier Tube Manufacturing Method | |
CN101536135A (en) | X-rays generator | |
JP5370967B2 (en) | X-ray tube | |
KR102151422B1 (en) | X-ray tube | |
JP4805656B2 (en) | Multi-beam klystron equipment | |
JP2012079449A (en) | Manufacturing method of x-ray tube, and x-ray tube | |
CN111584334B (en) | Insulation structure for ion implantation device | |
JP6571907B1 (en) | Electron gun, X-ray generator, and X-ray imaging device | |
JP6262161B2 (en) | X-ray tube | |
RU2459307C1 (en) | Pulsed x-ray tube | |
CN104658841A (en) | X-Ray Tube | |
JP2018170091A (en) | X-ray tube device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20110607 |