JP2021039845A - Functional element, manufacturing method of the same, manufacturing device of the same, control program, and recording medium - Google Patents

Functional element, manufacturing method of the same, manufacturing device of the same, control program, and recording medium Download PDF

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Abstract

To reduce unevenness in the ink film thickness when drying ink by airflow.SOLUTION: A functional element in which a first bank 7a and a second bank 7b are formed on a substrate 6 includes a capacitance unit 30 consisting of the first bank 7a, the second bank 7b, and the substrate. In a cross-section of the capacitance unit 30 viewed from a predetermined direction, a first angle between the first bank 7a and the substrate and a second angle between the second bank 7b and the substrate are different.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、機能素子、および機能素子の製造に関する。 The present invention relates to a functional element and the manufacture of the functional element.

有機EL素子は、EL発光能をもつ有機低分子又は有機高分子で発光層を形成した素子であり、自発光のため視野角が広く、耐衝撃性に優れるなど、ディスプレイ素子として優れた特徴を有している。 An organic EL element is an element in which a light emitting layer is formed of an organic low molecule or an organic polymer having EL light emitting ability, and has excellent features as a display element such as a wide viewing angle due to self-luminous emission and excellent impact resistance. Have.

有機EL素子の製造方法として、真空蒸着法、インクジェット法、印刷法、ディスペンス法などが広く研究されている。中でも、インクジェット法は、真空蒸着法等に比べて製造装置を小型化でき、材料利用効率も優れるため、量産に適した技術であると期待されている。一般に、有機EL素子を製造するには、電極、発光層、中間層などの多数の層を積層する必要があるが、量産性を高めるには、なるべく多くの層をインクジェット法により製造するのが望ましいといえる。 As a method for manufacturing an organic EL element, a vacuum deposition method, an inkjet method, a printing method, a dispensing method and the like have been widely studied. Above all, the inkjet method is expected to be a technology suitable for mass production because the manufacturing apparatus can be downsized and the material utilization efficiency is excellent as compared with the vacuum vapor deposition method and the like. Generally, in order to manufacture an organic EL element, it is necessary to stack a large number of layers such as electrodes, light emitting layers, and intermediate layers, but in order to improve mass productivity, it is recommended to manufacture as many layers as possible by the inkjet method. It can be said that it is desirable.

例えば特許文献1に記載の有機EL素子の製造方法では、有機EL発光素子を含んだインク塗布後の乾燥工程において、水平に配置された基体と対向する位置に排気装置を配置し、揮発した溶媒雰囲気を吸引し排気する方法が提案されている。 For example, in the method for manufacturing an organic EL element described in Patent Document 1, in a drying step after applying an ink containing an organic EL light emitting element, an exhaust device is arranged at a position facing a horizontally arranged substrate and a volatile solvent is used. A method of sucking and exhausting the atmosphere has been proposed.

特開2014−199806号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-199806

図9は特許文献1のような、エアーを吹き付ける乾燥工程を有する製造方法において生じる課題を説明する図である。図9(a)はバンクと基材とからなる容量部にインクを付与した際の図、図9(b)は気流発生装置により気流を発生させ乾燥させている状態である。図9(a)より、気流を発生させる前は、インクの膜厚は均一である。しかしながら図9(b)より、付与されるインクは非常に微量であり、気流をインクに吹き付けると、気流を吹き付ける方向によってはインクの膜厚に偏りが生じてしまう。そして偏りが生じたままインクが乾燥してしまうため、乾燥後のインクの膜厚に偏りが生じ、発光層に膜厚ムラが発生するという課題があった。 FIG. 9 is a diagram for explaining a problem that occurs in a manufacturing method having a drying step of blowing air as in Patent Document 1. FIG. 9A is a diagram when ink is applied to a capacitance portion composed of a bank and a base material, and FIG. 9B is a state in which an airflow is generated by an airflow generator and dried. From FIG. 9A, the film thickness of the ink is uniform before the air flow is generated. However, as shown in FIG. 9B, the amount of ink applied is very small, and when the airflow is blown onto the ink, the film thickness of the ink is uneven depending on the direction in which the airflow is blown. Then, since the ink dries with the bias occurring, there is a problem that the film thickness of the ink after drying is biased and the film thickness unevenness occurs in the light emitting layer.

上記課題を鑑み本発明において、基体に、第1バンクと、第2バンクと、が形成された機能素子であって、前記第1バンクと、前記第2バンクと、前記基体とからなる容量部を備えており、所定の方向から見た前記容量部の断面において、前記第1バンクと前記基体とがなす第1の角度と、前記第2バンクと前記基体とがなす第2の角度とが異なっている、こと特徴とする機能素子を採用した。 In view of the above problems, in the present invention, a functional element in which a first bank and a second bank are formed on a substrate, the capacitance portion including the first bank, the second bank, and the substrate. The first angle formed by the first bank and the substrate and the second angle formed by the second bank and the substrate are formed in a cross section of the capacitance portion when viewed from a predetermined direction. We adopted a functional element that is different.

本発明によれば、気流によりインクを乾燥させる際、インクの膜厚に偏りが生じることを低減することができる。 According to the present invention, when the ink is dried by the air flow, it is possible to reduce the unevenness of the ink film thickness.

実施形態における表示装置100の平面図である。It is a top view of the display device 100 in an embodiment. 実施形態における製造装置1000の模式図である。It is a schematic diagram of the manufacturing apparatus 1000 in an embodiment. 実施形態におけるバンク7の形状を示した図である。It is a figure which showed the shape of the bank 7 in embodiment. 実施形態におけるバンク7の断面図である。It is sectional drawing of the bank 7 in embodiment. 実施形態における容量部30にインク8を付与した際の断面図である。It is sectional drawing when ink 8 is applied to the capacity part 30 in embodiment. 図5の状態から気流4を吹き付けた際の断面図である。It is sectional drawing when the airflow 4 was blown from the state of FIG. 実施形態における機能素子の製造を示した図である。It is a figure which showed the manufacturing of the functional element in an embodiment. 比較例を説明する図である。It is a figure explaining a comparative example. 従来の課題を説明する図である。It is a figure explaining the conventional problem.

以下、添付図面を参照して本発明を実施するための形態につき説明する。なお、以下に示す実施形態はあくまでも一例であり、細部の構成については本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更できる。また、本実施形態で取り上げる数値は参考数値であって本発明を限定するものではない。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments shown below are merely examples, and the detailed configuration can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Further, the numerical values taken up in the present embodiment are reference numerical values and do not limit the present invention.

以下の説明では機能素子としてトップエミッション型の有機EL素子を挙げ、その構造と製造方法を説明するが、本発明の実施形態はこの例に限るものではなく、他の型の有機EL素子や、有機EL素子以外の機能素子、およびその製造方法に適用可能である。 In the following description, a top emission type organic EL element will be mentioned as a functional element, and its structure and manufacturing method will be described. However, the embodiment of the present invention is not limited to this example, and other types of organic EL elements and other types of organic EL elements and It can be applied to functional elements other than organic EL elements and their manufacturing methods.

(第1の実施形態)
図1は、機能素子としての有機EL素子を多数備えた本実施形態にかかる表示装置100の模式的な平面図である。図1ではXYZ座標系のある方向から見たXY平面図である。なお以下の図面において、図中の矢印X、Y、Zは表示装置100全体の座標系を示す。基体6の上面には、赤色発光有機EL素子(R)、緑色発光有機EL素子(G)、青色発光有機EL素子(B)が、表示画素60として規則的に配列形成されている。図示の便宜のため、7×9のRGBトリプレットのみを示しているが、実際には非常に多数の表示画素が基体6に配列形成され得る。また、有機EL素子の発光色は赤色、緑色、青色に限定されるわけではなく、各色の配列規則もこの例に限られるものではない。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a schematic plan view of a display device 100 according to the present embodiment, which includes a large number of organic EL elements as functional elements. FIG. 1 is an XY plan view seen from a certain direction of the XYZ coordinate system. In the following drawings, the arrows X, Y, and Z in the drawing indicate the coordinate system of the entire display device 100. A red light emitting organic EL element (R), a green light emitting organic EL element (G), and a blue light emitting organic EL element (B) are regularly arranged as display pixels 60 on the upper surface of the substrate 6. For convenience of illustration, only 7x9 RGB triplets are shown, but in practice a very large number of display pixels can be arranged on the substrate 6. Further, the emission color of the organic EL element is not limited to red, green, and blue, and the arrangement rule of each color is not limited to this example.

図2は、本実施形態における機能素子としての有機EL素子の製造装置1000を示した概略図である。製造装置1000は、不図示のインク吐出機から吐出された液体のインク8を乾燥させる気流4を吹き出す気流発生装置500を備えている。インク8は上記で述べた発光有機EL素子を含んでおり、表示画素60としての働きを行う。気流発生装置500は、気流4を供給する気流供給経路3、気流4を吹き出す供給口20を備えた気流供給ヘッド2を有している。また気流発生装置500を矢印P方向に移動させるための移動手段1を備えている。 FIG. 2 is a schematic view showing a manufacturing apparatus 1000 for an organic EL element as a functional element in the present embodiment. The manufacturing apparatus 1000 includes an airflow generator 500 that blows out an airflow 4 that dries the liquid ink 8 ejected from an ink ejector (not shown). The ink 8 includes the light emitting organic EL element described above, and functions as a display pixel 60. The airflow generator 500 has an airflow supply head 2 provided with an airflow supply path 3 for supplying the airflow 4 and a supply port 20 for blowing out the airflow 4. Further, a moving means 1 for moving the airflow generator 500 in the direction of the arrow P is provided.

基体6には各発光有機EL素子を含むインク8をそれぞれ隔絶して保持しておくためのバンク7が複数形成されており、図2ではインク8が各バンク7と基体6とで形成される容量部に保持されている状態とする。 A plurality of banks 7 for isolating and holding the ink 8 containing each light emitting organic EL element are formed on the substrate 6, and in FIG. 2, the ink 8 is formed by each bank 7 and the substrate 6. It is assumed that it is held in the capacitance section.

図2より、気流4は、不図示のエアータンクから気流供給経路3を介して供給され、気流供給ヘッド2の供給口20から基体6に向かって、供給口20の中心線Cと基体6の表面とがなす仰角5に沿って吹き付けられる。供給口20は仰角5を可変できるよう、基体6に対する中心線Cの角度を変更する駆動部を備えている。 From FIG. 2, the airflow 4 is supplied from an air tank (not shown) via the airflow supply path 3, and the center line C of the supply port 20 and the base 6 are supplied from the supply port 20 of the airflow supply head 2 toward the base 6. It is sprayed along the elevation angle 5 formed by the surface. The supply port 20 includes a drive unit that changes the angle of the center line C with respect to the substrate 6 so that the elevation angle 5 can be changed.

気流供給経路3は、継手を介して気流供給ヘッド2に配管が接続される。気流4はエアータンクの開閉弁で供給開始及び停止を行い、気流発生装置500の位置あるいは時間で供給開始および停止の制御を行う。気流の供給開始および停止、供給口20の制御はシーケンサやPC等を用いて行うことで所定の位置に気流4を吹き付けることが可能となる。また不図示の流量調整弁をエアータンクに設けることにより、供給量の調整も行える機構とした。 In the airflow supply path 3, a pipe is connected to the airflow supply head 2 via a joint. The airflow 4 is started and stopped by the on-off valve of the air tank, and the supply start and stop is controlled by the position or time of the airflow generator 500. By using a sequencer, a PC, or the like to start and stop the supply of the airflow and control the supply port 20, the airflow 4 can be blown to a predetermined position. In addition, by providing a flow rate adjusting valve (not shown) in the air tank, the supply amount can be adjusted.

移動手段1は、ガイド機構と駆動機構と制御装置で構成される。ガイド機構には直動ガイドやエアスライドが用いられる。駆動機構には、ボールねじとモータの組み合わせや、リニアモータが用いられる。気流発生装置500の位置の制御には、モータにセンサを設けて位置を監視する方法や、シーケンサを用いて位置を制御する方法が用いられる。また、駆動機構にモータを用いていることから、気流発生装置500の移動速度を一定速移動あるいは、位置により変速、停止する制御も可能となる。 The moving means 1 is composed of a guide mechanism, a drive mechanism, and a control device. A linear motion guide or an air slide is used for the guide mechanism. A combination of a ball screw and a motor or a linear motor is used as the drive mechanism. To control the position of the airflow generator 500, a method of monitoring the position by providing a sensor on the motor or a method of controlling the position using a sequencer is used. Further, since the motor is used as the drive mechanism, it is possible to control the moving speed of the airflow generator 500 to move at a constant speed or to shift or stop depending on the position.

本実施形態では気流発生装置500が基体6の平面に対して平行な方向である矢印Pの方向に移動する構成としている。これは基体6が大型である場合、気流発生装置500を移動させた方が好適であるためである。基体6がある程度小型である場合、基体6を移動させても良い。 In the present embodiment, the airflow generator 500 is configured to move in the direction of the arrow P, which is a direction parallel to the plane of the substrate 6. This is because when the substrate 6 is large, it is preferable to move the airflow generator 500. If the substrate 6 is small to some extent, the substrate 6 may be moved.

図3は本実施形態のバンク7の形状を説明する図である。図3(a)はバンク7のXY平面図である。図3(b)はバンク7のYZ平面図であり、図3(a)の線分BBを−Z方向に切断した際の断面図である。図3(c)はバンク7のXZ平面図であり、図3(a)における線分AAを−Z方向に切断した断面図である。図3(b)においてYZ平面におけるバンク7の断面図は長方形の形状としている。図3(c)においてXZ平面におけるバンク7の断面図は台形形状とする。 FIG. 3 is a diagram illustrating the shape of the bank 7 of the present embodiment. FIG. 3A is an XY plan view of the bank 7. FIG. 3B is a YZ plan view of the bank 7, and is a cross-sectional view when the line segment BB of FIG. 3A is cut in the −Z direction. FIG. 3C is an XZ plan view of the bank 7, and is a cross-sectional view of the line segment AA in FIG. 3A cut in the −Z direction. In FIG. 3B, the cross-sectional view of the bank 7 on the YZ plane has a rectangular shape. In FIG. 3C, the cross-sectional view of the bank 7 in the XZ plane has a trapezoidal shape.

図4はバンク7XZ平面の断面の詳細図である。図4において底角である角度αは気流4の上流側、換言すると図2において供給口20に近い側の角度である。また底角である角度βは気流4の下流側、換言すると図2において供給口20から遠い側の角度である。本実施形態では角度αが角度βよりも大きい角度となる形状となるようバンク7を形成している。 FIG. 4 is a detailed cross-sectional view of the bank 7XZ plane. The angle α, which is the base angle in FIG. 4, is the angle on the upstream side of the airflow 4, in other words, the angle on the side close to the supply port 20 in FIG. Further, the angle β, which is the base angle, is the angle on the downstream side of the airflow 4, in other words, the angle on the side far from the supply port 20 in FIG. In the present embodiment, the bank 7 is formed so that the angle α has a shape larger than the angle β.

図5は、各バンク7と基体6で形成される、インク8を保持しておくための容量部30の詳細図である。図5では説明をわかりやすくするため各バンク7を気流発生装置500に近い方をバンク7a、遠い方をバンク7bと呼称する。図4で説明したバンク7の形状により、容量部30において、バンク7aと基体6とがなす角度β’が、バンク7bと基体6とがなす角度α’よりも大きくすることができる。これによりインク8とバンク7aとの界面における張力を、インク8とバンク7bとの界面における張力より大きくすることができる。 FIG. 5 is a detailed view of the capacitance section 30 for holding the ink 8 formed by each bank 7 and the substrate 6. In FIG. 5, for the sake of clarity, the side closer to the airflow generator 500 is referred to as bank 7a, and the side farther from the airflow generator 500 is referred to as bank 7b. Due to the shape of the bank 7 described with reference to FIG. 4, the angle β ′ formed by the bank 7a and the base 6 can be made larger than the angle α ′ formed by the bank 7b and the base 6 in the capacitance portion 30. As a result, the tension at the interface between the ink 8 and the bank 7a can be made larger than the tension at the interface between the ink 8 and the bank 7b.

よってインク8において気流発生装置500に近い方、言い換えると気流4の上流側にインク8の偏りを生じさせることができる。もちろん気流4を吹き付ける方向により、どちらか一方の角度側に偏りを生じてさせても良い。このインク8の偏りをHとする。 Therefore, the ink 8 can be biased closer to the airflow generator 500, in other words, on the upstream side of the airflow 4. Of course, depending on the direction in which the airflow 4 is blown, a bias may be generated on either angle side. Let H be the bias of the ink 8.

図6は図5の状態から、気流発生装置500より気流4を発生させた状態である。仰角5は、90度より大きく、180度より小さくなるように供給口20により制御される。気流4を吹き出した際、気流4は偏りHに最初に吹き付けられる。これにより、インク8が乾燥する前に偏りHが気流4の下流側へ流され、偏りHが解消される。これにより偏りを生じさせることなくインク8を気流4により乾燥させることができ、乾燥後のインク8の膜厚ムラを低減することができる。 FIG. 6 shows a state in which the airflow 4 is generated from the airflow generator 500 from the state of FIG. The elevation angle 5 is controlled by the supply port 20 so as to be larger than 90 degrees and smaller than 180 degrees. When the airflow 4 is blown out, the airflow 4 is first blown to the bias H. As a result, the bias H is flowed to the downstream side of the air flow 4 before the ink 8 dries, and the bias H is eliminated. As a result, the ink 8 can be dried by the air flow 4 without causing bias, and the uneven film thickness of the ink 8 after drying can be reduced.

図7は本実施形態における機能素子の製造方法を示す図である。まず図7(a)より、事前に表面のゴミや酸化膜が除去洗浄された、基体としてのガラス基板13にレジスト材料14を塗布する。レジスト材料には市販の数μm〜100μm程度の膜厚が作成できるように粘度調整されたSiOやPIを用いた。レジスト材料の塗布は、スピンコータやスプレーコータ等が用いられる。ガラス基板13とレジスト材料14の間には、不図示の接続電極、TFT、プラグ、絶縁層が形成されるものとする。 FIG. 7 is a diagram showing a method of manufacturing a functional element according to the present embodiment. First, from FIG. 7A, the resist material 14 is applied to the glass substrate 13 as the substrate, which has been previously cleaned by removing dust and oxide film on the surface. As the resist material, commercially available SiO or PI whose viscosity was adjusted so that a film thickness of about several μm to 100 μm could be formed was used. A spin coater, a spray coater, or the like is used to apply the resist material. It is assumed that a connection electrode (not shown), a TFT, a plug, and an insulating layer (not shown) are formed between the glass substrate 13 and the resist material 14.

レジスト材料14を塗布後、図7(b)より、ガラス基板13とマスク16とのパターンを位置合わせし、レジスト材料14に紫外線15を照射してマスク16のパターンを転写する。紫外線15を照射することで、マスク16によりレジスト材料14は露光領域17と非露光領域18の2つの領域ができる。 After applying the resist material 14, the patterns of the glass substrate 13 and the mask 16 are aligned from FIG. 7B, and the resist material 14 is irradiated with ultraviolet rays 15 to transfer the pattern of the mask 16. By irradiating the ultraviolet light 15, the mask 16 forms two regions, an exposed region 17 and a non-exposed region 18, in the resist material 14.

露光後、図7(c)より、現像により露光領域17を除去し、ベーキング、熱架橋を行うことでバンク7を形成し、容量部30を形成する。露光にはマスクを基板に密着させて露光する密着露光と、露光装置を用いてレンズ光学系による縮小投影ステップ露光やミラー光学系による等倍スキャン露光が用いられる。本実施例では、密着露光を用い、マスクのパターンを、バンク7が図4で述べた形状となるよう設計し露光を行った。マスクは複数用意しデフォーカスさせることでバンク7を所定の形状となるように露光を行ってもよいし、あるいは投影露光を用いてもよい。露光の光源は紫外線を用い、その波長はレジスト材料14の感光波長により決定する。 After the exposure, from FIG. 7C, the exposed region 17 is removed by development, and the bank 7 is formed by baking and thermal cross-linking to form the capacitance portion 30. For exposure, close contact exposure in which a mask is brought into close contact with a substrate, reduced projection step exposure by a lens optical system using an exposure apparatus, and 1x scan exposure by a mirror optical system are used. In this embodiment, close contact exposure was used, and the mask pattern was designed and exposed so that the bank 7 had the shape described in FIG. A plurality of masks may be prepared and defocused to expose the bank 7 so as to have a predetermined shape, or projection exposure may be used. Ultraviolet rays are used as the light source for exposure, and the wavelength thereof is determined by the photosensitive wavelength of the resist material 14.

現像及びベーク後、図7(d)より、インク塗布ヘッド19によりインク8を所定の位置に滴下する。また、図7(d)において、制御装置200はインク塗布ヘッド19の動作を制御する制御部である。制御装置200は、インク塗布ヘッド19の動作を制御するためのコンピュータで、内部には、CPU、ROM、RAM、I/Oポート等を備えている。 After developing and baking, the ink 8 is dropped into a predetermined position by the ink coating head 19 from FIG. 7 (d). Further, in FIG. 7D, the control device 200 is a control unit that controls the operation of the ink coating head 19. The control device 200 is a computer for controlling the operation of the ink coating head 19, and includes a CPU, a ROM, a RAM, an I / O port, and the like inside.

ROMには、インク塗布ヘッド19の基本動作プログラムが記憶されている。機能素子の製造にかかるインクの付与動作をはじめとする各種処理を実行するためのプログラムは、他の動作プログラムと同様にROMに記憶させておくことができる。あるいは、ネットワークを介して外部からRAMにロードしてもよい。あるいは、プログラムを記録したコンピュータにより読み取り可能な記録媒体を介して、RAMにロードしてもよい。 The basic operation program of the ink coating head 19 is stored in the ROM. A program for executing various processes such as an ink applying operation for manufacturing a functional element can be stored in a ROM in the same manner as other operation programs. Alternatively, it may be loaded into the RAM from the outside via the network. Alternatively, the program may be loaded into RAM via a computer-readable recording medium on which the program was recorded.

制御装置200のI/Oポートは外部のコンピュータをはじめとする外部機器やネットワークと接続されている。制御装置200は、例えば製造する機能素子の種類、位置、配列、インクの吐出条件等の機能素子の製造に必要なデータの入出力を、I/Oポートを介して外部のコンピュータとの間で行うことができる。 The I / O port of the control device 200 is connected to an external device such as an external computer or a network. The control device 200 inputs / outputs data necessary for manufacturing the functional elements such as the type, position, arrangement, and ink ejection conditions of the functional elements to be manufactured to and from an external computer via the I / O port. It can be carried out.

制御装置200は、インク塗布ヘッド19、不図示の主走査器、副走査器、等と接続され、電気信号のやりとりを行うことができる。制御装置200は、これら各部の動作を制御し、インク塗布ヘッド19の走査、インク塗布ヘッド19の各ノズルからのインクの吐出、等を含めインクの塗布全般に関する処理を実行する。 The control device 200 is connected to an ink coating head 19, a main scanner (not shown), a sub-scanner, and the like, and can exchange electrical signals. The control device 200 controls the operation of each of these parts, and executes processing related to ink application in general, including scanning of the ink application head 19, ejection of ink from each nozzle of the ink application head 19, and the like.

また、インク8を滴下する前に、容量部30に、例えばAg、Au、Cu、Al、Ni等の導電性微粒子を溶媒に分散した液を塗布し、必要に応じて焼成することで下部電極を形成しておくものとする。 Further, before dropping the ink 8, a liquid in which conductive fine particles such as Ag, Au, Cu, Al, and Ni are dispersed in a solvent is applied to the capacitance portion 30, and if necessary, the lower electrode is fired. Shall be formed.

尚、ノズルから吐出するインクについて説明するならば、例えば発光層を形成する場合であれば、所望の発光色に応じた蛍光性有機化合物若しくは燐光性有機化合物を、キシレン等の有機系溶媒に溶解させた有機溶媒系インクを用いることができる。発光層用の有機溶媒系インクには、ゲスト材料、ホスト材料などの複数の材料が含まれていてもよい。インクに含まれる発光材料としては、高分子材料、中分子材料または低分子材料などが挙げられ、塗布型に用いられ得る発光材料であれば特に限定されない。例えば、ポリフルオレン、ポリフルオレンの共重合体、ポリフェニレンビニレンなどの高分子材料、オリゴフルオレンなどの中分子材料が挙げられる。 To explain the ink ejected from the nozzle, for example, in the case of forming a light emitting layer, a fluorescent organic compound or a phosphorescent organic compound corresponding to a desired emission color is dissolved in an organic solvent such as xylene. An organic solvent-based ink that has been prepared can be used. The organic solvent-based ink for the light emitting layer may contain a plurality of materials such as a guest material and a host material. Examples of the light emitting material contained in the ink include a high molecular weight material, a medium molecular weight material, a low molecular weight material, and the like, and the light emitting material is not particularly limited as long as it can be used for a coating type. Examples thereof include polyfluorene, a copolymer of polyfluorene, a polymer material such as polyphenylene vinylene, and a medium molecular material such as oligofluorene.

また、フルオレン系、ピレン系、フルオランテン系、アントラセン系などの縮合多環化合物、イリジウムを含む金属錯体などの低分子材料も挙げられる。発光層は、好適には、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体などの高分子系材料を含み得る。 Further, low molecular weight materials such as condensed polycyclic compounds such as fluorene type, pyrene type, fluoranthene type and anthracene type, and metal complexes containing iridium can also be mentioned. The light emitting layer may preferably contain a polymer-based material such as a polyparaphenylene vinylene derivative, a polythiophene derivative, a polyparaphenylene derivative, a polysilane derivative, a polyacetylene derivative, a polyfluorene derivative, and a polyvinylcarbazole derivative.

赤色の発光層を形成するには、例えばゲスト材料として赤色燐光発光イリジウム金属錯体を、ホスト材料としてポリフルオレンを含有する赤色発光層用インクを用いる。また、緑色の発光層を形成するには、例えばゲスト材料としてフルオランテン系の縮合多環化合物を、ホスト材料としてのポリフルオレンを含有する緑色発光層用インクを用いる。また、青色の発光層を形成するには、例えばゲスト材料としてピレン系の縮合多環化合物を、ホスト材料としてのオリゴフルオレンを含有する青色発光層用インクを用いる。 To form a red light emitting layer, for example, a red phosphorescent iridium metal complex is used as a guest material, and an ink for a red light emitting layer containing polyfluorene is used as a host material. Further, in order to form a green light emitting layer, for example, a fluoranthene-based condensed polycyclic compound is used as a guest material, and an ink for a green light emitting layer containing polyfluorene as a host material is used. Further, in order to form a blue light emitting layer, for example, a pyrene-based condensed polycyclic compound is used as a guest material, and an ink for a blue light emitting layer containing oligofluorene as a host material is used.

図5で述べたようにインク8は、バンクの形状により偏りが生じた状態で容量部に付与される。 As described in FIG. 5, the ink 8 is applied to the capacitance portion in a state where the ink 8 is biased due to the shape of the bank.

そして図7(e)より、気流発生装置500を用いて気流4によるインク8の乾燥を行う。気流発生装置500も上述した制御装置200に接続されており、移動手段1を用いて走査、供給口20による気流4の制御がなされるものとする。インク8の付与工程と気流4による乾燥工程は3回繰返し行うことで、3色(RGB)塗布を行う。また本実施形態では、例えば赤のインクがすべての容量部30に塗布されたら気流4を吹き付け、次に青のインク、緑のインクというように塗布と乾燥を行うようにした。しかしながら、各インクの1つの容量部30に塗布されたら瞬時に乾燥させるというように、容量部30の1つ1つにおいて塗布と乾燥を繰り返しても良い。以上により、インク8が乾燥する前に偏りが気流4の下流側へ流され、偏りが解消される。これにより偏りを生じさせることなくインク8を気流4により乾燥させることができ、インク8の膜厚ムラが低減された機能素子を製造することができる。 Then, from FIG. 7E, the ink 8 is dried by the airflow 4 using the airflow generator 500. It is assumed that the airflow generator 500 is also connected to the control device 200 described above, and the airflow 4 is controlled by scanning and the supply port 20 using the moving means 1. The ink 8 application step and the air flow 4 drying step are repeated three times to apply three colors (RGB). Further, in the present embodiment, for example, when the red ink is applied to all the capacitance portions 30, the air flow 4 is blown, and then the blue ink, the green ink, and the like are applied and dried. However, the application and drying may be repeated in each of the capacity portions 30, such that the ink is instantly dried after being applied to one capacity portion 30 of each ink. As described above, the bias is flowed to the downstream side of the air flow 4 before the ink 8 dries, and the bias is eliminated. As a result, the ink 8 can be dried by the air flow 4 without causing bias, and a functional element in which the film thickness unevenness of the ink 8 is reduced can be manufactured.

(実施例)
図7で説明した製造方法を用い、実際に機能素子の製造を行った。以下具体的な数値を用いて詳述する。基体6としてのガラス基板13はG8.5世代の2200×2400mmのガラス基板を用いた。レジスト材料14は顔料にカーボンブラックを含む材料を用い、高さ2〜5μm、底部幅10μm、バンク間距離100μmのバンク7を形成した。紫外線15の露光量及び波長は使用するレジスト材料14により異なるが、本実施例では露光量は100mJ/cm、波長350〜450nmとした。
(Example)
The functional element was actually manufactured by using the manufacturing method described with reference to FIG. 7. The details will be described below using specific numerical values. As the glass substrate 13 as the substrate 6, a G8.5 generation 2200 × 2400 mm glass substrate was used. As the resist material 14, a material containing carbon black as a pigment was used to form a bank 7 having a height of 2 to 5 μm, a bottom width of 10 μm, and a bank-to-bank distance of 100 μm. The exposure amount and wavelength of the ultraviolet light 15 differ depending on the resist material 14 used, but in this example, the exposure amount was 100 mJ / cm 2 and the wavelength was 350 to 450 nm.

マスク16は図5で説明した角度β’の方が、角度α’よりも大きい角度となるように、事前に最適なマスク形状を検討し、決定したものを使用した。現像は現像液を使用し100秒間行った。インク塗布ヘッド19はピエゾ素子を用いた方式のインクジェットを用いた。ピエゾ素子に駆動電圧を印加する、ノズルから液滴を吐出される。インク塗布ヘッド19のノズルは約320μm間隔で80個配置した。 As the mask 16, the one determined by examining the optimum mask shape in advance so that the angle β'described in FIG. 5 is larger than the angle α'was used. Development was carried out for 100 seconds using a developing solution. The ink application head 19 used an inkjet of a method using a piezo element. Droplets are ejected from a nozzle that applies a drive voltage to the piezo element. Eighty nozzles of the ink application head 19 were arranged at intervals of about 320 μm.

気流発生装置500の移動速度は気流4との相対速度が0.1m/sとなるように移動速度の設定と気流4の流量の調整を行った。移動速度の設定は、市販のシーケンサとサーボコントローラーを組合わせて構成した。 As for the moving speed of the airflow generator 500, the moving speed was set and the flow rate of the airflow 4 was adjusted so that the relative speed with respect to the airflow 4 was 0.1 m / s. The movement speed was set by combining a commercially available sequencer and a servo controller.

乾燥後のインク付与部の断面観察を行った結果、乾燥前は図5のように上流側のバンクにインクが濡れあがり厚膜となるが、気流を吹き付け乾燥させたことにより、インク膜厚の膜厚分布がほぼ均一な結果となった。 As a result of observing the cross section of the ink-applied portion after drying, the ink wets the bank on the upstream side and becomes a thick film as shown in FIG. 5 before drying. The result was that the film thickness distribution was almost uniform.

(比較例)
図8は比較例として、実施例1で述べた形成方法の中で、気流を吹き付ける際の仰角を、基体の平面に対し平行に吹き付けを実施した際の図である。
(Comparison example)
As a comparative example, FIG. 8 is a diagram in which the elevation angle at the time of blowing the airflow is sprayed parallel to the plane of the substrate in the forming method described in the first embodiment.

乾燥後のインク付与部の断面観察を行った結果、乾燥前は図5のように上流側のバンクにインクが濡れあがり厚膜となる。しかし、気流の吹き付けによるインクの偏りの解消がうまく行われず、気流吹き付け時は不均一な膜厚となる。インク膜厚の膜厚分布が不均一のままとなる結果となった。 As a result of observing the cross section of the ink-applied portion after drying, the ink wets the bank on the upstream side as shown in FIG. 5 and becomes a thick film before drying. However, the unevenness of the ink due to the blowing of the airflow is not well eliminated, and the film thickness becomes uneven when the airflow is blown. The result was that the film thickness distribution of the ink film thickness remained non-uniform.

上述した製造方法の処理手順は具体的には製造装置の制御部により実行されるものとして説明した。上述した機能を実行可能なソフトウェアの制御プログラムおよびそのプログラムを記録した記録媒体は本発明を構成することになる。例えば、制御プログラムを供給するための記録媒体としては、HDD、外部記憶装置、記録ディスク等を用いてもよい。 Specifically, the processing procedure of the above-mentioned manufacturing method has been described as being executed by the control unit of the manufacturing apparatus. A software control program capable of executing the above-mentioned functions and a recording medium on which the program is recorded constitute the present invention. For example, as a recording medium for supplying the control program, an HDD, an external storage device, a recording disk, or the like may be used.

なお本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。また、本発明の実施形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されない。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and many modifications can be made within the technical idea of the present invention. Moreover, the effects described in the embodiments of the present invention merely list the most preferable effects arising from the present invention, and the effects according to the present invention are not limited to those described in the embodiments of the present invention.

1 移動手段
2 気流供給ヘッド
3 気流供給経路
4 気流
5 仰角
6 基体
7 バンク
7a 第1バンク
7b 第2バンク
8 インク
13 ガラス基板
14 レジスト材料
15 紫外線
16 マスク
17 露光領域
18 非露光領域
19 インク塗布ヘッド
20 供給口
30 容量部
60 表示画素
100 表示装置
200 制御装置
500 気流発生装置
1000 製造装置
1 Transportation means 2 Airflow supply head 3 Airflow supply path 4 Airflow 5 Elevation angle 6 Base 7 Bank 7a 1st bank 7b 2nd bank 8 Ink 13 Glass substrate 14 Resist material 15 Ultraviolet rays 16 Mask 17 Exposed area 18 Non-exposed area 19 Ink coating head 20 Supply port 30 Capacity part 60 Display pixel 100 Display device 200 Control device 500 Airflow generator 1000 Manufacturing device

Claims (20)

基体に、第1バンクと、第2バンクと、が形成された機能素子であって、
前記第1バンクと、前記第2バンクと、前記基体とからなる容量部を備えており、
所定の方向から見た前記容量部の断面において、前記第1バンクと前記基体とがなす第1の角度と、前記第2バンクと前記基体とがなす第2の角度とが異なっている、
こと特徴とする機能素子。
A functional element in which a first bank and a second bank are formed on a substrate.
A capacitance portion including the first bank, the second bank, and the substrate is provided.
In the cross section of the capacitance portion viewed from a predetermined direction, the first angle formed by the first bank and the substrate and the second angle formed by the second bank and the substrate are different.
A functional element that is characteristic of this.
請求項1に記載の機能素子において、
前記容量部には、発光材料が付与されており、
前記発光材料は前記第1バンクと前記第2バンクとの間に付与されている、
ことを特徴とする機能素子。
In the functional element according to claim 1,
A light emitting material is applied to the capacitance portion.
The luminescent material is applied between the first bank and the second bank.
A functional element characterized by this.
請求項1または2に記載の機能素子において、
前記所定の方向から見た前記第1バンクおよび前記第2バンクの断面は台形形状であり、
前記断面の底角の大きさが異なっている、
ことを特徴とする機能素子。
In the functional element according to claim 1 or 2.
The cross section of the first bank and the second bank when viewed from the predetermined direction is trapezoidal.
The size of the base angle of the cross section is different,
A functional element characterized by this.
請求項2または3に記載の機能素子において、
前記第1の角度は、前記第2の角度よりも大きく、
前記発光材料が液体の状態で前記容量部に付与された際、当該発光材料において前記第1の角度側に偏りが生じる、
ことを特徴とする機能素子。
In the functional element according to claim 2 or 3,
The first angle is larger than the second angle,
When the light emitting material is applied to the capacitance portion in a liquid state, the light emitting material is biased toward the first angle side.
A functional element characterized by this.
請求項1から4のいずれか1項に記載の機能素子において、
前記所定の方向は、前記基体において前記第1のバンクおよび前記第2バンクが設けられた面と平行な方向である、
ことを特徴とする機能素子。
In the functional element according to any one of claims 1 to 4.
The predetermined direction is a direction parallel to the plane on which the first bank and the second bank are provided on the substrate.
A functional element characterized by this.
請求項2から5のいずれか1項に記載の機能素子において、
前記発光材料は有機化合物である、
ことを特徴とする機能素子。
In the functional element according to any one of claims 2 to 5,
The luminescent material is an organic compound.
A functional element characterized by this.
請求項1から6のいずれか1項に記載の機能素子を用いた表示装置。 A display device using the functional element according to any one of claims 1 to 6. 請求項1から6のいずれか1項に記載の機能素子を用いたディスプレイ。 A display using the functional element according to any one of claims 1 to 6. 機能素子の製造方法であって、
基体に、第1バンクと第2バンクとを形成する形成工程において、
前記第1バンクと前記基体とがなす第1の角度と、前記第2バンクと前記基体とがなす第2の角度とが異なるように、前記第1バンクと前記第2バンクとを形成する、
ことを特徴とする製造方法。
It is a manufacturing method of functional elements.
In the forming step of forming the first bank and the second bank on the substrate,
The first bank and the second bank are formed so that the first angle formed by the first bank and the base is different from the second angle formed by the second bank and the base.
A manufacturing method characterized by that.
請求項9に記載の製造方法において、
前記第1バンクと、前記第2バンクと、前記基体とからなる容量部に発光材料を付与する付与工程をさらに備え、
前記付与工程にて、前記第1バンクと前記第2バンクとの間に前記発光材料が付与される、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 9,
Further comprising an imparting step of imparting a light emitting material to a capacitance portion composed of the first bank, the second bank, and the substrate.
In the applying step, the luminescent material is applied between the first bank and the second bank.
A manufacturing method characterized by that.
請求項9または10に記載の製造方法において、
前記形成工程では、前記所定の方向から見た前記第1バンクおよび前記第2バンクの断面が台形形状となり、前記断面の底角の大きさが異なるように前記第1バンクと前記第2バンクが形成される、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 9 or 10.
In the forming step, the first bank and the second bank have a trapezoidal shape when viewed from the predetermined direction, and the first bank and the second bank have different base angles of the cross sections. It is formed,
A manufacturing method characterized by that.
請求項10または11に記載の製造方法において、
前記形成工程では、前記第1の角度が前記第2の角度より大きくなるように前記第1バンクと前記第2バンクを形成し、
前記付与工程にて、前記発光材料が液体の状態で前記容量部に付与された際、当該発光材料において前記第1の角度側に偏りが生じる、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 10 or 11.
In the forming step, the first bank and the second bank are formed so that the first angle is larger than the second angle.
In the applying step, when the luminescent material is applied to the capacitance portion in a liquid state, the luminescent material is biased on the first angle side.
A manufacturing method characterized by that.
請求項10から12のいずれか1項に記載の製造方法において、
気流発生装置により気流を発生させ、前記発光材料を前記気流により乾燥させる乾燥工程をさらに備え、
前記乾燥工程では、
前記基体に対して前記気流発生装置の気流を吹き付ける角度のうち、仰角が90度より大きく180度より小さい、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to any one of claims 10 to 12,
Further provided with a drying step of generating an air flow by an air flow generator and drying the light emitting material by the air flow.
In the drying step,
Of the angles at which the airflow of the airflow generator is blown onto the substrate, the elevation angle is greater than 90 degrees and smaller than 180 degrees.
A manufacturing method characterized by that.
請求項13に記載の製造方法において、
前記角度は、前記気流発生装置の前記気流の供給口により制御される、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 13,
The angle is controlled by the airflow supply port of the airflow generator.
A manufacturing method characterized by that.
請求項13または14に記載の製造方法において、
前記乾燥工程では、前記基体の全体に前記気流を吹き付ける、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 13 or 14.
In the drying step, the airflow is blown over the entire substrate.
A manufacturing method characterized by that.
請求項13または14に記載の製造方法において、
前記乾燥工程では、前記容量部ごとに前記気流を吹き付ける、
ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 13 or 14.
In the drying step, the airflow is blown for each capacitance portion.
A manufacturing method characterized by that.
請求項12に記載の製造方法において、
気流発生装置により気流を発生させ、前記発光材料を前記気流により乾燥させる乾燥工程をさらに備え、
前記乾燥工程では、前記偏りが生じた側から気流を吹き付ける、ことを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method according to claim 12,
Further provided with a drying step of generating an air flow by an air flow generator and drying the light emitting material by the air flow.
The manufacturing method is characterized in that, in the drying step, an air flow is blown from the side where the bias occurs.
機能素子の製造を行う製造装置であって、
基体に、第1バンクと第2バンクとを形成する際、
前記第1バンクと前記基体とがなす第1の角度と、前記第2バンクと前記基体とがなす第2の角度とが異なるように、前記第1バンクと前記第2バンクとを形成する、
ことを特徴とする製造装置。
A manufacturing device that manufactures functional elements.
When forming the first bank and the second bank on the substrate
The first bank and the second bank are formed so that the first angle formed by the first bank and the base is different from the second angle formed by the second bank and the base.
A manufacturing device characterized by that.
請求項9から17のいずれか1項に記載の製造方法を実行可能な制御プログラム。 A control program capable of executing the manufacturing method according to any one of claims 9 to 17. 請求項19に記載の制御プログラムを記録した、コンピュータで読み取り可能な記録媒体。 A computer-readable recording medium on which the control program according to claim 19 is recorded.
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