JP2021036556A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、本発明を実施する上での好適な具体例として示すものであり、技術的に好ましい種々の事項を具体的に例示している部分もあるが、本発明の技術的範囲は、この具体的態様に限定されるものではない。
〔半導体発光素子の構成〕
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体発光素子の構成の一例を示す模式図である。本実施の形態では、半導体発光素子2として、紫外領域の波長の光(例えば、中心波長が300nm以下の深紫外光)を発光する発光ダイオードを例に挙げて説明する。なお、半導体発光素子2は、発光ダイオードに限られず、例えば、レーザダイオード(Laser Diode:LD)でもよい。
図2は、半導体発光素子2のシミュレーションモデルの一例を示す模式図であり、(a)は、側面図であり、(b)は、底面図であり、(c)は、俯瞰図である。図3は、半導体発光素子2から発光した光の受光範囲の一例を示す図である。このシミュレーションでは、図2に示す半導体発光素子2から出射した光が放射状に広がって空気中を伝搬したときに、略半球状の形状を有する受光範囲3で受光する放射束を見積る数値計算を実行する。
発明者らは、上述したシミュレーションモデルを用いて、放射束を計算するシミュレーションを実施した。また、光の波長には、260nm、280nm及び300nmの3種類を用いた。
図4は、シミュレーションの結果の一例を示すグラフ図である。図4に示すグラフの横軸は、側面角度θ(deg)を示し、縦軸は、放射束比を示す。なお、縦軸の放射束比とは、比較例における放射束に対する比率である。
図5は、シミュレーションの結果の一例を示すグラフ図である。この結果は、透明基板21の高さhについて最適化することを目的とし、図4に示す結果1Aで最も光取出し効率が高かった条件において、透明基板21の高さhをパラメータとして変化させて実行したシミュレーションの結果である。このシミュレーションは、側面角度θを63.4degに固定して実施した。図5に示すグラフの横軸は、透明基板21の高さh(mm)を示し、縦軸は、放射束比を示している。
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態では、透明基板21として、サファイア基板に代えてAlN基板を備えている点で第1の実施の形態と相違する。以下、第1の実施の形態と異なる点を中心に説明する。
図6は、シミュレーションの結果の一例を示すグラフ図である。上述した図4と同様に、縦軸の放射束は、略直方体状の形状を有する比較例の発光素子の構成に相当するθ=90degでの放射束の値を基準値(すなわち、放射束比=1)として示す。図6に示されているように、θ=53〜68degの範囲で放射束比が1.7〜1.8となっており、AlN基板を備える場合、θ=53〜68degの範囲で最も放射束が大きく効率よく出射することがわかる。
図7は、シミュレーションの結果の一例を示すグラフ図である。このシミュレーションは、図5に示す結果1Bと同様に、透明基板21の高さhを最適化するために、側面角度θを63.4degに固定して実施した数値計算である。図7のグラフに示されているように、0.6mm<h<0.8mmの範囲で、放射束比が1.0よりも大きくなっている。すなわち、透明基板21の高さhが0.6mmよりも大きく0.8mm未満の範囲で放射束の向上が見込めることがわかる。
図8は、本発明の一変形例に係る半導体発光素子2のシミュレーションモデルの一例を示す模式図であり、(a)は、側面図であり、(b)は、底面図であり、(c)は、俯瞰図である。図9は、ダイシングイメージを示す図である。図8各図及び図9に示すように、加工性を向上させるため、ダイシング用の形状を残してもよい。
図10は、本発明の一変形例に係る半導体発光素子2のシミュレーションモデルの一例を示す模式図であり、(a)は、側面図であり、(b)は、底面図であり、(c)は、俯瞰図である。半導体発光素子2の発光面の形状は、必ずしも円形状のものに限定されるものではなく、例えば、図10各図に示すように、四角形状のものであってもよい。
図11は、本発明の一変形例に係る半導体発光素子2の一例を模式的に示す正面図である。例えば、図11に示すように、正面視において、サファイア基板が円形の形状を有し、当該サファイア基板上に形成された半導体層(すなわち、バッファ層22、nクラッド層23、発光層24、pクラッド層25、コンタクト層26)が円形の形状を有していてもよい。
に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。
次に、以上説明した実施の形態から把握される技術思想について、実施の形態における符号等を援用して記載する。ただし、以下の記載における各符号等は、特許請求の範囲における構成要素を実施の形態に具体的に示した部材等に限定するものではない。
[2]前記側面は、平面上の形状を有している、請求項1に記載の半導体発光素子。
[3]前記外角の大きさは、48deg以上81deg以内の範囲である、前記[2]に記載の半導体発光素子(1)。
[4]前記半導体発光素子(1)の高さは、前記底面(21c)の側面視における幅の半分よりも大きい、前記[1]乃至[3]のいずれか1つに記載の半導体発光素子(1)。
[5]前記透明基板(21)は、サファイア(Al2O3)により形成されている、前記[1]から[4]のいずれか1つに記載の半導体発光素子(1)。
[6]前記透明基板(21)は、窒化アルミニウム(AlN)により形成されている、前記[1]から[4]のいずれか1つに記載の半導体発光素子(1)。
21a 上面
21b 側面
21c 底面
21 透明基板
22 バッファ層
23 nクラッド層
24 発光層
25 pクラッド層
26 コンタクト層
27 アノード側電極部
28 カソード側電極部
3 受光範囲
4 ウエハ
Claims (6)
- 紫外光に対して透光性を備える透明基板と、
前記透明基板上において、nクラッド層、発光層、及びpクラッド層が順次積層された構造を備える半導体層と、を備え、
前記透明基板は、前記半導体層側に位置する底面と該底面と接続する側面とを有し、
前記側面は、前記底面と接続する位置において前記側面と接する面と、前記底面とのなす角の外角が鋭角になるように傾斜している、
半導体発光素子。 - 前記側面は、平面上の形状を有している、
請求項1に記載の半導体発光素子。 - 前記外角の大きさは、48deg以上81deg以内の範囲である、
請求項2に記載の半導体発光素子。 - 前記半導体発光素子の高さは、前記底面の側面視における幅の半分よりも大きい、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体発光素子。 - 前記透明基板は、サファイア(Al2O3)により形成されている、
請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体発光素子。 - 前記透明基板は、窒化アルミニウム(AlN)により形成されている、
請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体発光素子。
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